特許7402426IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

蒸着マスク

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

精細度を高めることができる蒸着マスクを提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示による蒸着マスクは、第１開口列を有する支持体と、支持体に積層され、２つ以上の貫通孔を有するマスク本体と、を備えている。平面視で、第１方向に沿う支持体の長さよりも、第１方向に直交する第２方向に沿う支持体の長さが短くなっている。第１開口列は、第２方向に整列された、各々が平面視で２つ以上の貫通孔と重なる２つ以上の支持体開口で構成されている。第２方向における支持体の中間位置を通る第１方向に沿っ・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示によれば、精細度を高めることができる。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本開示の実施形態による蒸着マスクを備えた蒸着装置を示す図である。
【図2】 本開示の実施形態による蒸着マスクを示す平面図である。
【図3】 図２のＡ－Ａ線に沿った断面を模式的に示す図である。
【図4】 図２の支持体を示す平面図である。
【図5】 図２のマスク本体を模式的に示す平面図である。
【図6A】 本開示の実施形態による蒸着マスクの製造方法において、支持基板に形成されたマスク本体を準備する準備工程を示す図である。
【図6B】 本開示の実施形態による蒸着マスクの製造方法において、マスク本体に支持体を積層させる積層工程を示す図である。
【図6C】 本開示の実施形態による蒸着マスクの製造方法において、マスク本体を支持体に接合する接合工程を示す図である。
【図6D】 本開示の実施形態による蒸着マスクの製造方法において、支持基板から蒸着マスクを分離させる分離工程を示す図である。
【図7】 本開示の実施形態において、蒸着マスクを用いて作製された蒸着基板を示す断面図である。
【図8】 図４の支持体の変形例を示す平面図である。
【図9】 図２の蒸着マスクの変形例を示す平面図である。
【図10】 図９の支持体を示す平面図である。
【図11】 図３のマスク本体の変形例を示す断面図である。

代表図 図1本件の代表的な図

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