(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2023-12-13
(45)【発行日】2023-12-21
(54)【発明の名称】半導体装置
(51)【国際特許分類】
H01L 29/786 20060101AFI20231214BHJP
G09F 9/30 20060101ALI20231214BHJP
H01L 21/8234 20060101ALI20231214BHJP
H01L 27/06 20060101ALI20231214BHJP
H01L 27/088 20060101ALI20231214BHJP
H01L 21/336 20060101ALI20231214BHJP
H10B 12/00 20230101ALI20231214BHJP
H10B 41/70 20230101ALI20231214BHJP
【ＦＩ】
H01L29/78 617K
G09F9/30 338
H01L27/06 102A
H01L27/088 E
H01L27/088 331E
H01L29/78 618B
H01L29/78 618C
H01L29/78 618E
H01L29/78 619A
H10B12/00 671Z
H10B12/00 801
H10B41/70
【請求項の数】
2
(21)【出願番号】P 2022095643
(22)【出願日】2022-06-14
(62)【分割の表示】P 2021051400の分割
【原出願日】2016-02-17
(65)【公開番号】P2022137038
(43)【公開日】2022-09-21
【審査請求日】2022-06-27
(31)【優先権主張番号】P 2015032252
(32)【優先日】2015-02-20
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000153878
【氏名又は名称】株式会社半導体エネルギー研究所
(72)【発明者】
【氏名】須澤 英臣
(72)【発明者】
【氏名】遠藤 佑太
(72)【発明者】
【氏名】花岡 一哉
【審査官】高橋 優斗
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１５－００５７３２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１１－１１９６８８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１５－０１５４５８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１１－１３９０５５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１５－００５７４０（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００２－０９４０５８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１３－０２１３１７（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０９Ｆ ９／３０
Ｈ０１Ｌ ２１／３３６
Ｈ０１Ｌ ２１／８２３４
Ｈ０１Ｌ ２７／０８８
Ｈ０１Ｌ ２９／７８６
Ｈ１０Ｂ １２／００
Ｈ１０Ｂ ４１／７０
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
第１の絶縁層と、前記第１の絶縁層上の第１の酸化物半導体層と、
前記第１の酸化物半導体層上のソース電極及びドレイン電極と、
前記第１の絶縁層の側面及び前記第１の酸化物半導体層の側面と接する領域を有する第２の絶縁層と、
前記第１の酸化物半導体層上の溝部を有する第３の絶縁層と、
前記溝部の内壁に沿って形成された第２の酸化物半導体層と、
前記溝部の内側において前記第２の酸化物半導体層に接する領域を有するゲート絶縁層と、
前記溝部の内側において前記ゲート絶縁層に接する領域を有するゲート電極と、を有し、
前記溝部の内壁は、前記ソース電極の側面及び前記ドレイン電極の側面と揃っており、
前記第３の絶縁層の膜厚は、前記ソース電極の膜厚及び前記ドレイン電極の膜厚より大きく、
前記第３の絶縁層の上面は、前記ゲート絶縁層、及び前記ゲート電極と同一平面上である半導体装置。
【請求項2】
第１の絶縁層と、前記第１の絶縁層上の第１の酸化物半導体層と、
前記第１の酸化物半導体層上のソース電極及びドレイン電極と、
前記第１の絶縁層の側面及び前記第１の酸化物半導体層の側面と接する領域を有する第２の絶縁層と、
前記第１の酸化物半導体層上の溝部を有する第３の絶縁層と、
前記溝部の内壁に沿って形成されたゲート絶縁層と、
前記溝部の内側において、前記ゲート絶縁層に接する領域を有するゲート電極と、を有し、
前記溝部の内壁は、前記ソース電極の側面及び前記ドレイン電極の側面と揃っており、
前記第３の絶縁層の膜厚は、前記ソース電極の膜厚及び前記ドレイン電極の膜厚より大きく、
前記第３の絶縁層の上面は、前記ゲート絶縁層、及び前記ゲート電極と同一平面上である半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、物、方法、または、製造方法に関する。または、本発明は、プロセス、マシン
、マニュファクチャ、または、組成物（コンポジション・オブ・マター）に関する。特に
、本発明は、例えば、半導体装置、表示装置、発光装置、蓄電装置、撮像装置、それらの
駆動方法、または、それらの製造方法に関する。特に、本発明の一態様は、半導体装置ま
たはその作製方法に関する。
、マニュファクチャ、または、組成物（コンポジション・オブ・マター）に関する。特に
、本発明は、例えば、半導体装置、表示装置、発光装置、蓄電装置、撮像装置、それらの
駆動方法、または、それらの製造方法に関する。特に、本発明の一態様は、半導体装置ま
たはその作製方法に関する。
【0002】
なお、本明細書等において半導体装置とは、半導体特性を利用することで機能しうる装置
全般を指す。トランジスタ、半導体回路は半導体装置の一態様である。また、記憶装置、
表示装置、電子機器は、半導体装置を有する場合がある。
全般を指す。トランジスタ、半導体回路は半導体装置の一態様である。また、記憶装置、
表示装置、電子機器は、半導体装置を有する場合がある。
【背景技術】
【0003】
絶縁表面を有する基板上に形成された半導体膜を用いてトランジスタを構成する技術が注
目されている。当該トランジスタは集積回路（ＩＣ）や画像表示装置（表示装置）のよう
な電子デバイスに広く応用されている。トランジスタに適用可能な半導体薄膜としてシリ
コン系半導体材料が広く知られているが、その他の材料として酸化物半導体が注目されて
いる。
目されている。当該トランジスタは集積回路（ＩＣ）や画像表示装置（表示装置）のよう
な電子デバイスに広く応用されている。トランジスタに適用可能な半導体薄膜としてシリ
コン系半導体材料が広く知られているが、その他の材料として酸化物半導体が注目されて
いる。
【0004】
例えば、トランジスタの活性層として、インジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）、および
亜鉛（Ｚｎ）を含む非晶質酸化物半導体を用いたトランジスタが特許文献１に開示されて
いる。
亜鉛（Ｚｎ）を含む非晶質酸化物半導体を用いたトランジスタが特許文献１に開示されて
いる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【文献】特表平１１－５０５３７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
半導体素子を微細化していく中で、トランジスタ近傍の寄生容量が大きな問題となる。
【0007】
トランジスタ動作において、チャネル近傍（例えば、ソース電極－ドレイン電極間）に寄
生容量が存在する場合、寄生容量の充電に要する時間が必要となり、トランジスタの応答
性、ひいては半導体装置の応答性を低下させてしまう。
生容量が存在する場合、寄生容量の充電に要する時間が必要となり、トランジスタの応答
性、ひいては半導体装置の応答性を低下させてしまう。
【0008】
また、トランジスタを形成する各種工程（特に成膜、加工など）は、微細化が進む度に、
その制御性は困難を増しており、製造工程によるばらつきが、トランジスタ特性、さらに
は信頼性に大きな影響を与えてしまう。
その制御性は困難を増しており、製造工程によるばらつきが、トランジスタ特性、さらに
は信頼性に大きな影響を与えてしまう。
【0009】
また、微細化に伴い、加工に要求される精度も厳しくなってきており、加工の難易度が高
まってきている。
まってきている。
【0010】
したがって、本発明の一態様は、トランジスタ近傍の寄生容量を低減することを目的の一
つとする。または、電気特性が良好な半導体装置を提供することを目的の一つとする。ま
たは、信頼性の高い半導体装置を提供することを目的の一つとする。または、トランジス
タまたは半導体装置の、製造工程に起因した特性のばらつきを低減することを目的の一つ
とする。または、トランジスタの作製工程を安定化させることを目的の一つとする。また
は、酸素欠損の少ない酸化物半導体層を有する半導体装置を提供することを目的の一つと
する。または、簡易な工程で形成することができる半導体装置を提供することを目的の一
つとする。または、酸化物半導体層近傍の界面準位を低減することができる構成の半導体
装置を提供することを目的の一つとする。または、低消費電力の半導体装置を提供するこ
とを目的の一つとする。または、新規な半導体装置などを提供することを目的の一つとす
る。または上記半導体装置の作製方法を提供することを目的の一つとする。
つとする。または、電気特性が良好な半導体装置を提供することを目的の一つとする。ま
たは、信頼性の高い半導体装置を提供することを目的の一つとする。または、トランジス
タまたは半導体装置の、製造工程に起因した特性のばらつきを低減することを目的の一つ
とする。または、トランジスタの作製工程を安定化させることを目的の一つとする。また
は、酸素欠損の少ない酸化物半導体層を有する半導体装置を提供することを目的の一つと
する。または、簡易な工程で形成することができる半導体装置を提供することを目的の一
つとする。または、酸化物半導体層近傍の界面準位を低減することができる構成の半導体
装置を提供することを目的の一つとする。または、低消費電力の半導体装置を提供するこ
とを目的の一つとする。または、新規な半導体装置などを提供することを目的の一つとす
る。または上記半導体装置の作製方法を提供することを目的の一つとする。
【0011】
なお、これらの課題の記載は、他の課題の存在を妨げるものではない。なお、本発明の一
態様は、これらの課題の全てを解決する必要はないものとする。なお、これら以外の課題
は、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図
面、請求項などの記載から、これら以外の課題を抽出することが可能である。
態様は、これらの課題の全てを解決する必要はないものとする。なお、これら以外の課題
は、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図
面、請求項などの記載から、これら以外の課題を抽出することが可能である。
【課題を解決するための手段】
【0012】
本発明の一態様は、第１の絶縁層と、第１の絶縁層上の第１の酸化物層と、第１の酸化物
層上の半導体層と、半導体層上のソース電極層およびドレイン電極層と、第１の絶縁層上
の第２の絶縁層と、第２の絶縁層、ソース電極層、およびドレイン電極層上の第３の絶縁
層と、半導体層上の第２の酸化物層と、第２の酸化物層上のゲート絶縁層と、ゲート絶縁
層上のゲート電極層と、第３の絶縁層、第２の酸化物層と、ゲート絶縁層、およびゲート
電極層上の第４の絶縁層と、を有する。第２の絶縁層は、第１の酸化物層、半導体層、ソ
ース電極層、およびドレイン電極層の側面と接する領域を有する。第２の絶縁層の上面は
、ソース電極層、およびドレイン電極層と同一平面上であって、第２の酸化物層は、第１
の酸化物層、ソース電極層、ドレイン電極層、第２の絶縁層、および第３の絶縁層の側面
と接する領域を有することを特徴とする半導体装置である。
層上の半導体層と、半導体層上のソース電極層およびドレイン電極層と、第１の絶縁層上
の第２の絶縁層と、第２の絶縁層、ソース電極層、およびドレイン電極層上の第３の絶縁
層と、半導体層上の第２の酸化物層と、第２の酸化物層上のゲート絶縁層と、ゲート絶縁
層上のゲート電極層と、第３の絶縁層、第２の酸化物層と、ゲート絶縁層、およびゲート
電極層上の第４の絶縁層と、を有する。第２の絶縁層は、第１の酸化物層、半導体層、ソ
ース電極層、およびドレイン電極層の側面と接する領域を有する。第２の絶縁層の上面は
、ソース電極層、およびドレイン電極層と同一平面上であって、第２の酸化物層は、第１
の酸化物層、ソース電極層、ドレイン電極層、第２の絶縁層、および第３の絶縁層の側面
と接する領域を有することを特徴とする半導体装置である。
【0013】
本発明の別の一態様は、第１の絶縁層を形成し、第１の絶縁層上に第１の酸化物膜を形成
し、第１の酸化物膜上に半導体膜を形成し、半導体膜上に第１の導電膜を形成し、第１の
導電膜上に第１のマスクを形成し、第１のマスクを用いて第１の導電膜の一部をエッチン
グし、第１の導電層を島状に形成し、第１のマスク、および第１の導電層をマスクとして
用いて、第１の酸化物膜および半導体膜の一部をエッチングすることにより、第１の酸化
物層と、半導体層と、を島状に形成し、第１の絶縁層および第１の導電層上に第２の絶縁
膜を形成し、第１の導電層が露出するまで第２の絶縁膜に化学的機械的研磨処理を行うこ
とにより、第２の絶縁層形成し、第１の導電層、および第２の絶縁層上に第３の絶縁膜を
形成し、第３の絶縁膜上に第２のマスクを形成し、第２のマスクを用いて第３の絶縁膜の
一部をエッチングすることにより、ソース電極層と、ドレイン電極層と、および第３の絶
縁層とを形成し、第３の絶縁層、半導体層上に第２の酸化物膜を形成し、第２の酸化物膜
上に第４の絶縁膜を形成し、第４の絶縁膜上に第２の導電膜を形成し、第２の導電膜、第
４の絶縁膜、第２の酸化物膜に化学的機械的研磨処理を行うことにより、第２の酸化物層
、ゲート絶縁層、ゲート電極層を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法である
。
し、第１の酸化物膜上に半導体膜を形成し、半導体膜上に第１の導電膜を形成し、第１の
導電膜上に第１のマスクを形成し、第１のマスクを用いて第１の導電膜の一部をエッチン
グし、第１の導電層を島状に形成し、第１のマスク、および第１の導電層をマスクとして
用いて、第１の酸化物膜および半導体膜の一部をエッチングすることにより、第１の酸化
物層と、半導体層と、を島状に形成し、第１の絶縁層および第１の導電層上に第２の絶縁
膜を形成し、第１の導電層が露出するまで第２の絶縁膜に化学的機械的研磨処理を行うこ
とにより、第２の絶縁層形成し、第１の導電層、および第２の絶縁層上に第３の絶縁膜を
形成し、第３の絶縁膜上に第２のマスクを形成し、第２のマスクを用いて第３の絶縁膜の
一部をエッチングすることにより、ソース電極層と、ドレイン電極層と、および第３の絶
縁層とを形成し、第３の絶縁層、半導体層上に第２の酸化物膜を形成し、第２の酸化物膜
上に第４の絶縁膜を形成し、第４の絶縁膜上に第２の導電膜を形成し、第２の導電膜、第
４の絶縁膜、第２の酸化物膜に化学的機械的研磨処理を行うことにより、第２の酸化物層
、ゲート絶縁層、ゲート電極層を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法である
。
【0014】
また、半導体膜形成後に第１の加熱処理を行い、第３の絶縁層、第２の酸化物層、ゲート
絶縁層、ゲート電極層上に酸素を有する第４の絶縁層を形成し、第４の絶縁層形成時に、
第３の絶縁層と第４の絶縁層との混合層を形成し、かつ同時に混合層または第１の絶縁層
中に酸素を添加し、第２の加熱処理を行い、酸素を半導体層中に拡散させることが好まし
い。
絶縁層、ゲート電極層上に酸素を有する第４の絶縁層を形成し、第４の絶縁層形成時に、
第３の絶縁層と第４の絶縁層との混合層を形成し、かつ同時に混合層または第１の絶縁層
中に酸素を添加し、第２の加熱処理を行い、酸素を半導体層中に拡散させることが好まし
い。
【0015】
また、第３の絶縁膜は、酸素を有する絶縁膜であって、第４の絶縁層は、酸素ガスを用い
てスパッタリング法により形成することが好ましい。
てスパッタリング法により形成することが好ましい。
【0016】
また、第３の絶縁膜は、酸化シリコン膜であって、第４の絶縁層は、酸素ガスを５０体積
％以上用いて、かつ酸化アルミニウムターゲットを用いて、スパッタリング法により形成
することが好ましい。
％以上用いて、かつ酸化アルミニウムターゲットを用いて、スパッタリング法により形成
することが好ましい。
【0017】
また、第２の加熱処理を３００℃以上４５０℃以下で処理することが好ましい。
【0018】
本発明の別の一態様は、第１の絶縁層を形成し、第１の絶縁層上に第１の酸化物膜を形成
し、第１の酸化物膜上に半導体膜を形成し、半導体膜上に第１の導電膜を形成し、第１の
導電膜上に第２の絶縁膜を形成し、第２の絶縁膜上に第１のマスクを形成し、第１のマス
クを用いて、第２の絶縁膜、および第１の導電膜の一部をエッチングし、第１の導電層お
よび第２の絶縁層を形成し、第２の絶縁層および半導体膜上に第２のマスクを形成し、第
２のマスクを用いて、第２の絶縁層、第１の導電層、第１の酸化物膜、および半導体膜の
一部をエッチングすることにより、第１の酸化物層、半導体層、ソース電極層、ドレイン
電極層、および第３の絶縁層を形成し、第１の絶縁層、第３の絶縁層、および半導体層上
に、第２の酸化物膜を形成し、第２の酸化物膜上に第３の絶縁膜を形成し、第３の絶縁膜
上に第２の導電膜を形成し、第２の導電膜上に第３のマスクを形成し、第３のマスクを用
いて、第２の酸化物膜、第３の絶縁膜、および第２の導電膜の一部をエッチングすること
により、第２の酸化物層、ゲート絶縁層、ゲート電極層を形成することを特徴とする半導
体装置の製造方法である。
し、第１の酸化物膜上に半導体膜を形成し、半導体膜上に第１の導電膜を形成し、第１の
導電膜上に第２の絶縁膜を形成し、第２の絶縁膜上に第１のマスクを形成し、第１のマス
クを用いて、第２の絶縁膜、および第１の導電膜の一部をエッチングし、第１の導電層お
よび第２の絶縁層を形成し、第２の絶縁層および半導体膜上に第２のマスクを形成し、第
２のマスクを用いて、第２の絶縁層、第１の導電層、第１の酸化物膜、および半導体膜の
一部をエッチングすることにより、第１の酸化物層、半導体層、ソース電極層、ドレイン
電極層、および第３の絶縁層を形成し、第１の絶縁層、第３の絶縁層、および半導体層上
に、第２の酸化物膜を形成し、第２の酸化物膜上に第３の絶縁膜を形成し、第３の絶縁膜
上に第２の導電膜を形成し、第２の導電膜上に第３のマスクを形成し、第３のマスクを用
いて、第２の酸化物膜、第３の絶縁膜、および第２の導電膜の一部をエッチングすること
により、第２の酸化物層、ゲート絶縁層、ゲート電極層を形成することを特徴とする半導
体装置の製造方法である。
【0019】
また、半導体膜形成後に第１の加熱処理を行い、第１の絶縁層、第３の絶縁層、ゲート電
極層上に酸素を有する第４の絶縁層を形成し、第４の絶縁層形成時に、第１の絶縁層と第
４の絶縁層との第１の混合層、および第３の絶縁層と第４の絶縁層との第２の混合層を有
し、かつ同時に第１の混合層、第２の混合層、第１の絶縁層、または第２の絶縁層中に酸
素を添加し、第２の加熱処理を行い、酸素を半導体層中に拡散させることが好ましい。
極層上に酸素を有する第４の絶縁層を形成し、第４の絶縁層形成時に、第１の絶縁層と第
４の絶縁層との第１の混合層、および第３の絶縁層と第４の絶縁層との第２の混合層を有
し、かつ同時に第１の混合層、第２の混合層、第１の絶縁層、または第２の絶縁層中に酸
素を添加し、第２の加熱処理を行い、酸素を半導体層中に拡散させることが好ましい。
【0020】
また、第１の絶縁膜と、第２の絶縁膜とは、酸素を有する絶縁膜であって、第４の絶縁層
は、酸素ガスを用いてスパッタリング法により形成することが好ましい。
は、酸素ガスを用いてスパッタリング法により形成することが好ましい。
【0021】
また、第１の絶縁膜と、第２の絶縁膜は、酸化シリコン膜であって、第４の絶縁層は、酸
素ガスを５０体積％以上用いて、かつ酸化アルミニウムターゲットを用いて、スパッタリ
ング法により形成することが好ましい。
素ガスを５０体積％以上用いて、かつ酸化アルミニウムターゲットを用いて、スパッタリ
ング法により形成することが好ましい。
【0022】
また、第２の加熱処理を３００℃以上４５０℃以下で処理することが好ましい。
【0023】
本発明の別の一態様は、第１の絶縁層を形成し、第１の絶縁層上に第１の酸化物膜を形成
し、第１の酸化物膜上に半導体膜を形成し、半導体膜上に第１の導電膜を形成し、第１の
導電膜上に第２の絶縁膜を形成し、第２の絶縁膜上に第３の絶縁膜を形成し、第３の絶縁
膜上に第１のマスクを形成し、第１のマスクを用いて、第３の絶縁膜と、第２の絶縁膜と
、第１の導電膜と、半導体膜と、および第１の酸化物膜と、の一部をエッチングすること
により、第１の酸化物層と、半導体層と、第２の絶縁層、第３の絶縁層を島状に形成し、
第１の絶縁層、第３の絶縁層上に、第４の絶縁膜を形成し、第３の絶縁層が露出するまで
第４の絶縁膜に化学的機械的研磨処理を行い、第４の絶縁層を形成し、第４の絶縁層、お
よび第３の絶縁層上に第２のマスクを形成し、第２のマスクを用いて、ソース電極層、ド
レイン電極層、第５の絶縁層、および第６の絶縁層を形成し、第４の絶縁層と、第６の絶
縁層と、および半導体層上に、第２の酸化物膜を形成し、第２の酸化物膜上に第５の絶縁
膜を形成し、第５の絶縁膜上に第２の導電膜を形成し、第２の導電膜、第５の絶縁膜、第
２の酸化物膜に化学的機械的研磨処理を行うことにより、第２の酸化物層、ゲート絶縁層
、ゲート電極層を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法である。
し、第１の酸化物膜上に半導体膜を形成し、半導体膜上に第１の導電膜を形成し、第１の
導電膜上に第２の絶縁膜を形成し、第２の絶縁膜上に第３の絶縁膜を形成し、第３の絶縁
膜上に第１のマスクを形成し、第１のマスクを用いて、第３の絶縁膜と、第２の絶縁膜と
、第１の導電膜と、半導体膜と、および第１の酸化物膜と、の一部をエッチングすること
により、第１の酸化物層と、半導体層と、第２の絶縁層、第３の絶縁層を島状に形成し、
第１の絶縁層、第３の絶縁層上に、第４の絶縁膜を形成し、第３の絶縁層が露出するまで
第４の絶縁膜に化学的機械的研磨処理を行い、第４の絶縁層を形成し、第４の絶縁層、お
よび第３の絶縁層上に第２のマスクを形成し、第２のマスクを用いて、ソース電極層、ド
レイン電極層、第５の絶縁層、および第６の絶縁層を形成し、第４の絶縁層と、第６の絶
縁層と、および半導体層上に、第２の酸化物膜を形成し、第２の酸化物膜上に第５の絶縁
膜を形成し、第５の絶縁膜上に第２の導電膜を形成し、第２の導電膜、第５の絶縁膜、第
２の酸化物膜に化学的機械的研磨処理を行うことにより、第２の酸化物層、ゲート絶縁層
、ゲート電極層を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法である。
【0024】
また、半導体膜形成後に第１の加熱処理を行い、第３の絶縁膜形成時に、第２の絶縁膜と
第３の絶縁膜との混合層を形成し、かつ同時に混合層または第２の絶縁膜中に酸素を添加
し、第４の絶縁層、第６の絶縁層、第２の酸化物層、ゲート絶縁層、ゲート電極層上に第
７の絶縁層を形成し、第７の絶縁層形成時に、第４の絶縁層と第７の絶縁層との混合層を
形成し、かつ同時に混合層または第４の絶縁層中に酸素を添加し、第２の加熱処理を行い
、酸素を半導体層中に拡散させることが好ましい。
第３の絶縁膜との混合層を形成し、かつ同時に混合層または第２の絶縁膜中に酸素を添加
し、第４の絶縁層、第６の絶縁層、第２の酸化物層、ゲート絶縁層、ゲート電極層上に第
７の絶縁層を形成し、第７の絶縁層形成時に、第４の絶縁層と第７の絶縁層との混合層を
形成し、かつ同時に混合層または第４の絶縁層中に酸素を添加し、第２の加熱処理を行い
、酸素を半導体層中に拡散させることが好ましい。
【0025】
また、第２の絶縁膜と、第４の絶縁膜は、酸素を有する絶縁膜であって、第３の絶縁膜と
、第７の絶縁層は、酸素ガスを用いてスパッタリング法により形成することが好ましい。
、第７の絶縁層は、酸素ガスを用いてスパッタリング法により形成することが好ましい。
【0026】
また、第２の絶縁膜と、第４の絶縁膜は、酸化シリコン膜であって、第３の絶縁膜と、第
７の絶縁層は、酸素ガスを５０体積％以上用いて、かつ酸化アルミニウムターゲットを用
いて、スパッタリング法により形成することが好ましい。
７の絶縁層は、酸素ガスを５０体積％以上用いて、かつ酸化アルミニウムターゲットを用
いて、スパッタリング法により形成することが好ましい。
【0027】
また、第２の加熱処理を３００℃以上４５０℃以下で処理することが好ましい。
【0028】
また、半導体装置と、マイクと、スピーカーと、筐体を用いた構成とすることができる。
【発明の効果】
【0029】
本発明の一態様を用いることにより、トランジスタ近傍の寄生容量を低減することができ
る。または、電気特性が良好な半導体装置を提供することができる。または、信頼性の高
い半導体装置を提供することができる。または、トランジスタまたは半導体装置の、製造
工程に起因した特性のばらつきを低減することができる。または、トランジスタの製造工
程を安定化させることができる。または、酸素欠損の少ない酸化物半導体層を有する半導
体装置を提供することができる。または、簡易な工程で形成することができる半導体装置
を提供することができる。または、酸化物半導体層近傍の界面準位を低減することができ
る構成の半導体装置を提供することができる。または、低消費電力の半導体装置を提供す
ることができる。または、新規な半導体装置などを提供することができる。または上記半
導体装置の作製方法を提供することができる。
る。または、電気特性が良好な半導体装置を提供することができる。または、信頼性の高
い半導体装置を提供することができる。または、トランジスタまたは半導体装置の、製造
工程に起因した特性のばらつきを低減することができる。または、トランジスタの製造工
程を安定化させることができる。または、酸素欠損の少ない酸化物半導体層を有する半導
体装置を提供することができる。または、簡易な工程で形成することができる半導体装置
を提供することができる。または、酸化物半導体層近傍の界面準位を低減することができ
る構成の半導体装置を提供することができる。または、低消費電力の半導体装置を提供す
ることができる。または、新規な半導体装置などを提供することができる。または上記半
導体装置の作製方法を提供することができる。
【0030】
なお、これらの効果の記載は、他の効果の存在を妨げるものではない。なお、本発明の一
態様は、必ずしも、これらの効果の全てを有する必要はない。なお、これら以外の効果は
、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図面
、請求項などの記載から、これら以外の効果を抽出することが可能である。
態様は、必ずしも、これらの効果の全てを有する必要はない。なお、これら以外の効果は
、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図面
、請求項などの記載から、これら以外の効果を抽出することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【0031】
【図1】トランジスタを説明する上面図および断面図。
【図2】トランジスタを説明する断面図。
【図3】トランジスタの拡大断面図およびバンド図。
【図4】ＡＬＤ成膜原理を示す模式図。
【図5】ＡＬＤ装置概要図。
【図6】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図7】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図8】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図9】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図10】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図11】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図12】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図13】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図14】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図15】トランジスタを説明する上面図および断面図。
【図16】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図17】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図18】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図19】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図20】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図21】トランジスタの作製方法を説明する断面図。
【図22】トランジスタの作製方法を説明する断面図。
【図23】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図24】トランジスタを説明する上面図および断面図。
【図25】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図26】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図27】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図28】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図29】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図30】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図31】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図32】トランジスタの作製方法を説明する上面図および断面図。
【図33】ＣＡＡＣ－ＯＳの断面におけるＣｓ補正高分解能ＴＥＭ像、およびＣＡＡＣ－ＯＳの断面模式図。
【図34】ＣＡＡＣ－ＯＳの平面におけるＣｓ補正高分解能ＴＥＭ像。
【図35】ＣＡＡＣ－ＯＳおよび単結晶酸化物半導体のＸＲＤによる構造解析を説明する図。
【図36】ＣＡＡＣ－ＯＳの電子回折パターンを示す図。
【図37】Ｉｎ－Ｇａ－Ｚｎ酸化物の電子照射による結晶部の変化を示す図。
【図38】半導体装置の断面図および回路図。
【図39】半導体装置の断面図および回路図。
【図40】撮像装置を示す平面図。
【図41】撮像装置の画素を示す平面図。
【図42】撮像装置を示す断面図。
【図43】撮像装置を示す断面図。
【図44】ＲＦタグの構成例を説明する図。
【図45】ＣＰＵの構成例を説明する図。
【図46】記憶素子の回路図。
【図47】表示装置の構成例を説明する図および画素の回路図。
【図48】表示装置を説明する上面図および断面図。
【図49】表示装置を説明する上面図および断面図。
【図50】表示モジュールを説明する図。
【図51】リードフレーム型のインターポーザを用いたパッケージの断面構造を表す斜視図およびモジュールの構成を示す図。
【図52】電子機器を説明する図。
【図53】電子機器を説明する図。
【図54】電子機器を説明する図。
【図55】電子機器を説明する図。
【発明を実施するための形態】
【0032】
実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定さ
れず、本発明の趣旨およびその範囲から逸脱することなくその形態および詳細を様々に変
更し得ることは当業者であれば容易に理解される。したがって、本発明は以下に示す実施
の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する発明の構成
において、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通
して用い、その繰り返しの説明は省略することがある。なお、図を構成する同じ要素のハ
ッチングを異なる図面間で適宜省略または変更する場合もある。
れず、本発明の趣旨およびその範囲から逸脱することなくその形態および詳細を様々に変
更し得ることは当業者であれば容易に理解される。したがって、本発明は以下に示す実施
の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する発明の構成
において、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通
して用い、その繰り返しの説明は省略することがある。なお、図を構成する同じ要素のハ
ッチングを異なる図面間で適宜省略または変更する場合もある。
【0033】
例えば、本明細書等において、ＸとＹとが接続されている、と明示的に記載されている場
合は、ＸとＹとが電気的に接続されている場合と、ＸとＹとが機能的に接続されている場
合と、ＸとＹとが直接接続されている場合とが、本明細書等に開示されているものとする
。したがって、所定の接続関係、例えば、図または文章に示された接続関係に限定されず
、図または文章に示された接続関係以外のものも、図または文章に記載されているものと
する。
合は、ＸとＹとが電気的に接続されている場合と、ＸとＹとが機能的に接続されている場
合と、ＸとＹとが直接接続されている場合とが、本明細書等に開示されているものとする
。したがって、所定の接続関係、例えば、図または文章に示された接続関係に限定されず
、図または文章に示された接続関係以外のものも、図または文章に記載されているものと
する。
【0034】
ここで、Ｘ、Ｙは、対象物（例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、層
、など）であるとする。
、など）であるとする。
【0035】
ＸとＹとが直接的に接続されている場合の一例としては、ＸとＹとの電気的な接続を可能
とする素子（例えば、スイッチ、トランジスタ、容量素子、インダクタ、抵抗素子、ダイ
オード、表示素子、発光素子、負荷など）が、ＸとＹとの間に接続されていない場合であ
り、ＸとＹとの電気的な接続を可能とする素子（例えば、スイッチ、トランジスタ、容量
素子、インダクタ、抵抗素子、ダイオード、表示素子、発光素子、負荷など）を介さずに
、ＸとＹとが、接続されている場合である。
とする素子（例えば、スイッチ、トランジスタ、容量素子、インダクタ、抵抗素子、ダイ
オード、表示素子、発光素子、負荷など）が、ＸとＹとの間に接続されていない場合であ
り、ＸとＹとの電気的な接続を可能とする素子（例えば、スイッチ、トランジスタ、容量
素子、インダクタ、抵抗素子、ダイオード、表示素子、発光素子、負荷など）を介さずに
、ＸとＹとが、接続されている場合である。
【0036】
ＸとＹとが電気的に接続されている場合の一例としては、ＸとＹとの電気的な接続を可能
とする素子（例えば、スイッチ、トランジスタ、容量素子、インダクタ、抵抗素子、ダイ
オード、表示素子、発光素子、負荷など）が、ＸとＹとの間に１個以上接続されることが
可能である。なお、スイッチは、オンオフが制御される機能を有している。つまり、スイ
ッチは、導通状態（オン状態）、または、非導通状態（オフ状態）になり、電流を流すか
流さないかを制御する機能を有している。または、スイッチは、電流を流す経路を選択し
て切り替える機能を有している。なお、ＸとＹとが電気的に接続されている場合は、Ｘと
Ｙとが直接的に接続されている場合を含むものとする。
とする素子（例えば、スイッチ、トランジスタ、容量素子、インダクタ、抵抗素子、ダイ
オード、表示素子、発光素子、負荷など）が、ＸとＹとの間に１個以上接続されることが
可能である。なお、スイッチは、オンオフが制御される機能を有している。つまり、スイ
ッチは、導通状態（オン状態）、または、非導通状態（オフ状態）になり、電流を流すか
流さないかを制御する機能を有している。または、スイッチは、電流を流す経路を選択し
て切り替える機能を有している。なお、ＸとＹとが電気的に接続されている場合は、Ｘと
Ｙとが直接的に接続されている場合を含むものとする。
【0037】
ＸとＹとが機能的に接続されている場合の一例としては、ＸとＹとの機能的な接続を可能
とする回路（例えば、論理回路（インバータ、ＮＡＮＤ回路、ＮＯＲ回路など）、信号変
換回路（ＤＡ変換回路、ＡＤ変換回路、ガンマ補正回路など）、電位レベル変換回路（電
源回路（昇圧回路、降圧回路など）、信号の電位レベルを変えるレベルシフタ回路など）
、電圧源、電流源、切り替え回路、増幅回路（信号振幅または電流量などを大きく出来る
回路、オペアンプ、差動増幅回路、ソースフォロワ回路、バッファ回路など）、信号生成
回路、記憶回路、制御回路など）が、ＸとＹとの間に１個以上接続されることが可能であ
る。なお、一例として、ＸとＹとの間に別の回路を挟んでいても、Ｘから出力された信号
がＹへ伝達される場合は、ＸとＹとは機能的に接続されているものとする。なお、ＸとＹ
とが機能的に接続されている場合は、ＸとＹとが直接的に接続されている場合と、ＸとＹ
とが電気的に接続されている場合とを含むものとする。
とする回路（例えば、論理回路（インバータ、ＮＡＮＤ回路、ＮＯＲ回路など）、信号変
換回路（ＤＡ変換回路、ＡＤ変換回路、ガンマ補正回路など）、電位レベル変換回路（電
源回路（昇圧回路、降圧回路など）、信号の電位レベルを変えるレベルシフタ回路など）
、電圧源、電流源、切り替え回路、増幅回路（信号振幅または電流量などを大きく出来る
回路、オペアンプ、差動増幅回路、ソースフォロワ回路、バッファ回路など）、信号生成
回路、記憶回路、制御回路など）が、ＸとＹとの間に１個以上接続されることが可能であ
る。なお、一例として、ＸとＹとの間に別の回路を挟んでいても、Ｘから出力された信号
がＹへ伝達される場合は、ＸとＹとは機能的に接続されているものとする。なお、ＸとＹ
とが機能的に接続されている場合は、ＸとＹとが直接的に接続されている場合と、ＸとＹ
とが電気的に接続されている場合とを含むものとする。
【0038】
なお、ＸとＹとが電気的に接続されている、と明示的に記載されている場合は、ＸとＹと
が電気的に接続されている場合（つまり、ＸとＹとの間に別の素子又は別の回路を挟んで
接続されている場合）と、ＸとＹとが機能的に接続されている場合（つまり、ＸとＹとの
間に別の回路を挟んで機能的に接続されている場合）と、ＸとＹとが直接接続されている
場合（つまり、ＸとＹとの間に別の素子又は別の回路を挟まずに接続されている場合）と
が、本明細書等に開示されているものとする。つまり、電気的に接続されている、と明示
的に記載されている場合は、単に、接続されている、とのみ明示的に記載されている場合
と同様な内容が、本明細書等に開示されているものとする。
が電気的に接続されている場合（つまり、ＸとＹとの間に別の素子又は別の回路を挟んで
接続されている場合）と、ＸとＹとが機能的に接続されている場合（つまり、ＸとＹとの
間に別の回路を挟んで機能的に接続されている場合）と、ＸとＹとが直接接続されている
場合（つまり、ＸとＹとの間に別の素子又は別の回路を挟まずに接続されている場合）と
が、本明細書等に開示されているものとする。つまり、電気的に接続されている、と明示
的に記載されている場合は、単に、接続されている、とのみ明示的に記載されている場合
と同様な内容が、本明細書等に開示されているものとする。
【0039】
なお、例えば、トランジスタのソース（又は第１の端子など）が、Ｚ１を介して（又は介
さず）、Ｘと電気的に接続され、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）が、Ｚ
２を介して（又は介さず）、Ｙと電気的に接続されている場合や、トランジスタのソース
（又は第１の端子など）が、Ｚ１の一部と直接的に接続され、Ｚ１の別の一部がＸと直接
的に接続され、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）が、Ｚ２の一部と直接的
に接続され、Ｚ２の別の一部がＹと直接的に接続されている場合では、以下のように表現
することが出来る。
さず）、Ｘと電気的に接続され、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）が、Ｚ
２を介して（又は介さず）、Ｙと電気的に接続されている場合や、トランジスタのソース
（又は第１の端子など）が、Ｚ１の一部と直接的に接続され、Ｚ１の別の一部がＸと直接
的に接続され、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）が、Ｚ２の一部と直接的
に接続され、Ｚ２の別の一部がＹと直接的に接続されている場合では、以下のように表現
することが出来る。
【0040】
例えば、「ＸとＹとトランジスタのソース（又は第１の端子など）とドレイン（又は第２
の端子など）とは、互いに電気的に接続されており、Ｘ、トランジスタのソース（又は第
１の端子など）、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）、Ｙの順序で電気的に
接続されている。」と表現することができる。または、「トランジスタのソース（又は第
１の端子など）は、Ｘと電気的に接続され、トランジスタのドレイン（又は第２の端子な
ど）はＹと電気的に接続され、Ｘ、トランジスタのソース（又は第１の端子など）、トラ
ンジスタのドレイン（又は第２の端子など）、Ｙは、この順序で電気的に接続されている
」と表現することができる。または、「Ｘは、トランジスタのソース（又は第１の端子な
ど）とドレイン（又は第２の端子など）とを介して、Ｙと電気的に接続され、Ｘ、トラン
ジスタのソース（又は第１の端子など）、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など
）、Ｙは、この接続順序で設けられている」と表現することができる。これらの例と同様
な表現方法を用いて、回路構成における接続の順序について規定することにより、トラン
ジスタのソース（又は第１の端子など）と、ドレイン（又は第２の端子など）とを、区別
して、技術的範囲を決定することができる。
の端子など）とは、互いに電気的に接続されており、Ｘ、トランジスタのソース（又は第
１の端子など）、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）、Ｙの順序で電気的に
接続されている。」と表現することができる。または、「トランジスタのソース（又は第
１の端子など）は、Ｘと電気的に接続され、トランジスタのドレイン（又は第２の端子な
ど）はＹと電気的に接続され、Ｘ、トランジスタのソース（又は第１の端子など）、トラ
ンジスタのドレイン（又は第２の端子など）、Ｙは、この順序で電気的に接続されている
」と表現することができる。または、「Ｘは、トランジスタのソース（又は第１の端子な
ど）とドレイン（又は第２の端子など）とを介して、Ｙと電気的に接続され、Ｘ、トラン
ジスタのソース（又は第１の端子など）、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など
）、Ｙは、この接続順序で設けられている」と表現することができる。これらの例と同様
な表現方法を用いて、回路構成における接続の順序について規定することにより、トラン
ジスタのソース（又は第１の端子など）と、ドレイン（又は第２の端子など）とを、区別
して、技術的範囲を決定することができる。
【0041】
または、別の表現方法として、例えば、「トランジスタのソース（又は第１の端子など）
は、少なくとも第１の接続経路を介して、Ｘと電気的に接続され、上記第１の接続経路は
、第２の接続経路を有しておらず、上記第２の接続経路は、トランジスタのソース（又は
第１の端子など）とトランジスタのドレイン（又は第２の端子など）との間の経路であり
、上記第１の接続経路は、Ｚ１を介した経路であり、トランジスタのドレイン（又は第２
の端子など）は、少なくとも第３の接続経路を介して、Ｙと電気的に接続され、上記第３
の接続経路は、上記第２の接続経路を有しておらず、上記第３の接続経路は、Ｚ２を介し
た経路である。」と表現することができる。または、「トランジスタのソース（又は第１
の端子など）は、少なくとも第１の接続経路によって、Ｚ１を介して、Ｘと電気的に接続
され、上記第１の接続経路は、第２の接続経路を有しておらず、上記第２の接続経路は、
トランジスタを介した接続経路を有し、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）
は、少なくとも第３の接続経路によって、Ｚ２を介して、Ｙと電気的に接続され、上記第
３の接続経路は、上記第２の接続経路を有していない。」と表現することができる。また
は、「トランジスタのソース（又は第１の端子など）は、少なくとも第１の電気的パスに
よって、Ｚ１を介して、Ｘと電気的に接続され、上記第１の電気的パスは、第２の電気的
パスを有しておらず、上記第２の電気的パスは、トランジスタのソース（又は第１の端子
など）からトランジスタのドレイン（又は第２の端子など）への電気的パスであり、トラ
ンジスタのドレイン（又は第２の端子など）は、少なくとも第３の電気的パスによって、
Ｚ２を介して、Ｙと電気的に接続され、上記第３の電気的パスは、第４の電気的パスを有
しておらず、上記第４の電気的パスは、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）
からトランジスタのソース（又は第１の端子など）への電気的パスである。」と表現する
ことができる。これらの例と同様な表現方法を用いて、回路構成における接続経路につい
て規定することにより、トランジスタのソース（又は第１の端子など）と、ドレイン（又
は第２の端子など）とを、区別して、技術的範囲を決定することができる。
は、少なくとも第１の接続経路を介して、Ｘと電気的に接続され、上記第１の接続経路は
、第２の接続経路を有しておらず、上記第２の接続経路は、トランジスタのソース（又は
第１の端子など）とトランジスタのドレイン（又は第２の端子など）との間の経路であり
、上記第１の接続経路は、Ｚ１を介した経路であり、トランジスタのドレイン（又は第２
の端子など）は、少なくとも第３の接続経路を介して、Ｙと電気的に接続され、上記第３
の接続経路は、上記第２の接続経路を有しておらず、上記第３の接続経路は、Ｚ２を介し
た経路である。」と表現することができる。または、「トランジスタのソース（又は第１
の端子など）は、少なくとも第１の接続経路によって、Ｚ１を介して、Ｘと電気的に接続
され、上記第１の接続経路は、第２の接続経路を有しておらず、上記第２の接続経路は、
トランジスタを介した接続経路を有し、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）
は、少なくとも第３の接続経路によって、Ｚ２を介して、Ｙと電気的に接続され、上記第
３の接続経路は、上記第２の接続経路を有していない。」と表現することができる。また
は、「トランジスタのソース（又は第１の端子など）は、少なくとも第１の電気的パスに
よって、Ｚ１を介して、Ｘと電気的に接続され、上記第１の電気的パスは、第２の電気的
パスを有しておらず、上記第２の電気的パスは、トランジスタのソース（又は第１の端子
など）からトランジスタのドレイン（又は第２の端子など）への電気的パスであり、トラ
ンジスタのドレイン（又は第２の端子など）は、少なくとも第３の電気的パスによって、
Ｚ２を介して、Ｙと電気的に接続され、上記第３の電気的パスは、第４の電気的パスを有
しておらず、上記第４の電気的パスは、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）
からトランジスタのソース（又は第１の端子など）への電気的パスである。」と表現する
ことができる。これらの例と同様な表現方法を用いて、回路構成における接続経路につい
て規定することにより、トランジスタのソース（又は第１の端子など）と、ドレイン（又
は第２の端子など）とを、区別して、技術的範囲を決定することができる。
【0042】
なお、これらの表現方法は、一例であり、これらの表現方法に限定されない。ここで、Ｘ
、Ｙ、Ｚ１、Ｚ２は、対象物（例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、
層、など）であるとする。
、Ｙ、Ｚ１、Ｚ２は、対象物（例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、
層、など）であるとする。
【0043】
なお、回路図上は独立している構成要素同士が電気的に接続しているように図示されてい
る場合であっても、１つの構成要素が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場合もあ
る。例えば配線の一部が電極としても機能する場合は、一の導電膜が、配線の機能、及び
電極の機能の両方の構成要素の機能を併せ持っている。したがって、本明細書における電
気的に接続とは、このような、一の導電膜が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場
合も、その範疇に含める。
る場合であっても、１つの構成要素が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場合もあ
る。例えば配線の一部が電極としても機能する場合は、一の導電膜が、配線の機能、及び
電極の機能の両方の構成要素の機能を併せ持っている。したがって、本明細書における電
気的に接続とは、このような、一の導電膜が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場
合も、その範疇に含める。
【0044】
＜図面を説明する記載に関する付記＞
本明細書において、「上に」、「下に」などの配置を示す語句は、構成同士の位置関係を
、図面を参照して説明するために、便宜上用いている。また、構成同士の位置関係は、各
構成を描写する方向に応じて適宜変化するものである。従って、明細書で説明した語句に
限定されず、状況に応じて適切に言い換えることができる。
本明細書において、「上に」、「下に」などの配置を示す語句は、構成同士の位置関係を
、図面を参照して説明するために、便宜上用いている。また、構成同士の位置関係は、各
構成を描写する方向に応じて適宜変化するものである。従って、明細書で説明した語句に
限定されず、状況に応じて適切に言い換えることができる。
【0045】
また、「上」や「下」の用語は、構成要素の位置関係が直上又は直下で、かつ、直接接し
ていることを限定するものではない。例えば、「絶縁層Ａ上の電極Ｂ」の表現であれば、
絶縁層Ａの上に電極Ｂが直接接して形成されている必要はなく、絶縁層Ａと電極Ｂとの間
に他の構成要素を含むものを除外しない。
ていることを限定するものではない。例えば、「絶縁層Ａ上の電極Ｂ」の表現であれば、
絶縁層Ａの上に電極Ｂが直接接して形成されている必要はなく、絶縁層Ａと電極Ｂとの間
に他の構成要素を含むものを除外しない。
【0046】
本明細書において、「平行」とは、二つの直線が－１０°以上１０°以下の角度で配置さ
れている状態をいう。したがって、－５°以上５°以下の場合も含まれる。また、「略平
行」とは、二つの直線が－３０°以上３０°以下の角度で配置されている状態をいう。ま
た、「垂直」とは、二つの直線が８０°以上１００°以下の角度で配置されている状態を
いう。したがって、８５°以上９５°以下の場合も含まれる。また、「略垂直」とは、二
つの直線が６０°以上１２０°以下の角度で配置されている状態をいう。
れている状態をいう。したがって、－５°以上５°以下の場合も含まれる。また、「略平
行」とは、二つの直線が－３０°以上３０°以下の角度で配置されている状態をいう。ま
た、「垂直」とは、二つの直線が８０°以上１００°以下の角度で配置されている状態を
いう。したがって、８５°以上９５°以下の場合も含まれる。また、「略垂直」とは、二
つの直線が６０°以上１２０°以下の角度で配置されている状態をいう。
【0047】
また、本明細書において、結晶が三方晶または菱面体晶である場合、六方晶系として表す
。
。
【0048】
また、図面において、大きさ、層の厚さ、又は領域は、説明の便宜上任意の大きさに示し
たものである。よって、必ずしもそのスケールに限定されない。なお図面は明確性を期す
ために模式的に示したものであり、図面に示す形状又は値などに限定されない。
たものである。よって、必ずしもそのスケールに限定されない。なお図面は明確性を期す
ために模式的に示したものであり、図面に示す形状又は値などに限定されない。
【0049】
また、図面において、上面図（平面図、レイアウト図ともいう）や斜視図などにおいて、
図面の明確性を期すために、一部の構成要素の記載を省略している場合がある。
図面の明確性を期すために、一部の構成要素の記載を省略している場合がある。
【0050】
また、「同一」とは、同一の面積を有してよいし、同一の形状を有してもよい。また、基
板面から垂直方向に同じ高さであってもよい。同じ高さは、同一平面と言い換えることが
できる。また、製造工程の関係上、完全に同一の形状、同一平面、同一の高さとならない
ことも想定されるので、略同一であっても同一であると言い換えることができる。
板面から垂直方向に同じ高さであってもよい。同じ高さは、同一平面と言い換えることが
できる。また、製造工程の関係上、完全に同一の形状、同一平面、同一の高さとならない
ことも想定されるので、略同一であっても同一であると言い換えることができる。
【0051】
＜言い換え可能な記載に関する付記＞
本明細書等において、トランジスタの接続関係を説明する際、ソースとドレインとの一方
を、「ソース又はドレインの一方」（又は第１電極、又は第１端子）と表記し、ソースと
ドレインとの他方を「ソース又はドレインの他方」（又は第２電極、又は第２端子）と表
記している。これは、トランジスタのソースとドレインは、トランジスタの構造又は動作
条件等によって変わるためである。なおトランジスタのソースとドレインの呼称について
は、ソース（ドレイン）端子や、ソース（ドレイン）電極等、状況に応じて適切に言い換
えることができる。
本明細書等において、トランジスタの接続関係を説明する際、ソースとドレインとの一方
を、「ソース又はドレインの一方」（又は第１電極、又は第１端子）と表記し、ソースと
ドレインとの他方を「ソース又はドレインの他方」（又は第２電極、又は第２端子）と表
記している。これは、トランジスタのソースとドレインは、トランジスタの構造又は動作
条件等によって変わるためである。なおトランジスタのソースとドレインの呼称について
は、ソース（ドレイン）端子や、ソース（ドレイン）電極等、状況に応じて適切に言い換
えることができる。
【0052】
また、本明細書等において「電極」や「配線」の用語は、これらの構成要素を機能的に限
定するものではない。例えば、「電極」は「配線」の一部として用いられることがあり、
その逆もまた同様である。さらに、「電極」や「配線」の用語は、複数の「電極」や「配
線」が一体となって形成されている場合なども含む。
定するものではない。例えば、「電極」は「配線」の一部として用いられることがあり、
その逆もまた同様である。さらに、「電極」や「配線」の用語は、複数の「電極」や「配
線」が一体となって形成されている場合なども含む。
【0053】
また、本明細書等において、トランジスタとは、ゲートと、ドレインと、ソースとを含む
少なくとも三つの端子を有する素子である。そして、ドレイン（ドレイン端子、ドレイン
領域又はドレイン電極）とソース（ソース端子、ソース領域又はソース電極）の間にチャ
ネル領域を有しており、ドレインとチャネル領域とソースとを介して電流を流すことがで
きるものである。
少なくとも三つの端子を有する素子である。そして、ドレイン（ドレイン端子、ドレイン
領域又はドレイン電極）とソース（ソース端子、ソース領域又はソース電極）の間にチャ
ネル領域を有しており、ドレインとチャネル領域とソースとを介して電流を流すことがで
きるものである。
【0054】
ここで、ソースとドレインとは、トランジスタの構造又は動作条件等によって変わるため
、いずれがソース又はドレインであるかを限定することが困難である。そこで、ソースと
して機能する部分、及びドレインとして機能する部分を、ソース又はドレインと呼ばず、
ソースとドレインとの一方を第１電極と表記し、ソースとドレインとの他方を第２電極と
表記する場合がある。
、いずれがソース又はドレインであるかを限定することが困難である。そこで、ソースと
して機能する部分、及びドレインとして機能する部分を、ソース又はドレインと呼ばず、
ソースとドレインとの一方を第１電極と表記し、ソースとドレインとの他方を第２電極と
表記する場合がある。
【0055】
なお本明細書にて用いる「第１」、「第２」、「第３」という序数詞は、構成要素の混同
を避けるために付したものであり、数的に限定するものではないことを付記する。
を避けるために付したものであり、数的に限定するものではないことを付記する。
【0056】
また、本明細書等では、表示パネルの基板に、例えばＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｐｒｉ
ｎｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔｓ）もしくはＴＣＰ（Ｔａｐｅ Ｃａｒｒｉｅｒ Ｐａｃｋａ
ｇｅ）などが取り付けられたもの、または基板にＣＯＧ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）
方式によりＩＣ（集積回路）が直接実装されものを、表示装置と呼ぶ場合がある。
ｎｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔｓ）もしくはＴＣＰ（Ｔａｐｅ Ｃａｒｒｉｅｒ Ｐａｃｋａ
ｇｅ）などが取り付けられたもの、または基板にＣＯＧ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）
方式によりＩＣ（集積回路）が直接実装されものを、表示装置と呼ぶ場合がある。
【0057】
また、「膜」という言葉と、「層」という言葉とは、場合によっては、または、状況に応
じて、互いに入れ替えることが可能である。例えば、「導電層」という用語を、「導電膜
」という用語に変更することが可能な場合がある。または、例えば、「絶縁膜」という用
語を、「絶縁層」という用語に変更することが可能な場合がある。
じて、互いに入れ替えることが可能である。例えば、「導電層」という用語を、「導電膜
」という用語に変更することが可能な場合がある。または、例えば、「絶縁膜」という用
語を、「絶縁層」という用語に変更することが可能な場合がある。
【0058】
＜語句の定義に関する付記＞
以下では、本明細書等における各語句の定義について説明する。
以下では、本明細書等における各語句の定義について説明する。
【0059】
本明細書において、「トレンチ」、または「溝」という用語を用いた場合、細い帯状の凹
みをいう。
みをいう。
【0060】
また、本明細書において、膜として例えば酸化窒化シリコンを示す場合、ＳｉＯｘＮｙと
記載することがある。このとき、ｘおよびｙは、自然数でもよいし、小数点を有する数で
もよい。
記載することがある。このとき、ｘおよびｙは、自然数でもよいし、小数点を有する数で
もよい。
【0061】
＜接続について＞
本明細書において、ＡとＢとが接続されている、とは、ＡとＢとが直接接続されているも
のの他、電気的に接続されているものを含むものとする。ここで、ＡとＢとが電気的に接
続されているとは、ＡとＢとの間で、何らかの電気的作用を有する対象物が存在するとき
、ＡとＢとの電気信号の授受を可能とするものをいう。
本明細書において、ＡとＢとが接続されている、とは、ＡとＢとが直接接続されているも
のの他、電気的に接続されているものを含むものとする。ここで、ＡとＢとが電気的に接
続されているとは、ＡとＢとの間で、何らかの電気的作用を有する対象物が存在するとき
、ＡとＢとの電気信号の授受を可能とするものをいう。
【0062】
なお、ある一つの実施の形態の中で述べる内容（一部の内容でもよい）は、その実施の形
態で述べる別の内容（一部の内容でもよい）、および／又は、一つ若しくは複数の別の実
施の形態で述べる内容（一部の内容でもよい）に対して、適用、組み合わせ、又は置き換
えなどを行うことが出来る。
態で述べる別の内容（一部の内容でもよい）、および／又は、一つ若しくは複数の別の実
施の形態で述べる内容（一部の内容でもよい）に対して、適用、組み合わせ、又は置き換
えなどを行うことが出来る。
【0063】
なお、実施の形態の中で述べる内容とは、各々の実施の形態において、様々な図を用いて
述べる内容、又は明細書に記載される文章を用いて述べる内容のことである。
述べる内容、又は明細書に記載される文章を用いて述べる内容のことである。
【0064】
なお、ある一つの実施の形態において述べる図（一部でもよい）は、その図の別の部分、
その実施の形態において述べる別の図（一部でもよい）、および／又は、一つ若しくは複
数の別の実施の形態において述べる図（一部でもよい）に対して、組み合わせることによ
り、さらに多くの図を構成させることが出来る。
その実施の形態において述べる別の図（一部でもよい）、および／又は、一つ若しくは複
数の別の実施の形態において述べる図（一部でもよい）に対して、組み合わせることによ
り、さらに多くの図を構成させることが出来る。
【0065】
（実施の形態１）
本実施の形態では、本発明の一態様の半導体装置と、その製造方法について図面を用いて
説明する。
本実施の形態では、本発明の一態様の半導体装置と、その製造方法について図面を用いて
説明する。
【0066】
図１（Ａ）、図１（Ｂ）、図１（Ｃ）は、本発明の一態様のトランジスタ１０の上面図お
よび断面図である。図１（Ａ）は上面図であり、図１（Ｂ）は図１（Ａ）に示す一点鎖線
Ａ１－Ａ２間、図１（Ｃ）はＡ３－Ａ４間の断面図である。なお、図１（Ａ）では、図の
明瞭化のために一部の要素を拡大、縮小、または省略して図示している。また、一点鎖線
Ａ１－Ａ２方向をチャネル長方向、一点鎖線Ａ３－Ａ４方向をチャネル幅方向と呼称する
場合がある。
よび断面図である。図１（Ａ）は上面図であり、図１（Ｂ）は図１（Ａ）に示す一点鎖線
Ａ１－Ａ２間、図１（Ｃ）はＡ３－Ａ４間の断面図である。なお、図１（Ａ）では、図の
明瞭化のために一部の要素を拡大、縮小、または省略して図示している。また、一点鎖線
Ａ１－Ａ２方向をチャネル長方向、一点鎖線Ａ３－Ａ４方向をチャネル幅方向と呼称する
場合がある。
【0067】
トランジスタ１０は、基板１００と、絶縁層１１０と、絶縁体１２１と、半導体層１２２
と、絶縁体１２３と、ソース電極層１３０と、ドレイン電極層１４０と、ゲート絶縁層１
５０と、ゲート電極層１６０と、絶縁層１７５と、絶縁層１７３と、絶縁層１７０とを有
する。トランジスタ１０は、基板１００上に絶縁層１１０を有する。トランジスタ１０は
、絶縁層１１０上に絶縁体１２１を有する。トランジスタ１０は、絶縁体１２１上に半導
体層１２２を有する。トランジスタ１０は、半導体層１２２上にソース電極層１３０、お
よびドレイン電極層１４０を有し、半導体層１２２と電気的に接続する。トランジスタ１
０は、絶縁層１７３を有し、絶縁層１７３は絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２
３、ソース電極層１３０、ドレイン電極層１４０の側面と接する領域を有する。トランジ
スタ１０は、絶縁層１７３、ソース電極層１３０、ドレイン電極層１４０上に絶縁層１７
５を有し、絶縁層１７５は絶縁体１２３の側面と接する領域を有する。トランジスタ１０
は、半導体層１２２上に絶縁体１２３を有し、絶縁体１２３は図１（Ｃ）より、絶縁体１
２１、絶縁層１７３および絶縁層１７５の側面と接する領域を有する。また、絶縁体１２
３は、図１（Ｂ）より、絶縁層１７０の下面、絶縁層１７５、ソース電極層１３０、およ
びドレイン電極層１４０の側面と接する領域を有する。トランジスタ１０は、絶縁体１２
３上にゲート絶縁層１５０を有する。トランジスタ１０は、ゲート絶縁層１５０上にゲー
ト電極層１６０を有する。
と、絶縁体１２３と、ソース電極層１３０と、ドレイン電極層１４０と、ゲート絶縁層１
５０と、ゲート電極層１６０と、絶縁層１７５と、絶縁層１７３と、絶縁層１７０とを有
する。トランジスタ１０は、基板１００上に絶縁層１１０を有する。トランジスタ１０は
、絶縁層１１０上に絶縁体１２１を有する。トランジスタ１０は、絶縁体１２１上に半導
体層１２２を有する。トランジスタ１０は、半導体層１２２上にソース電極層１３０、お
よびドレイン電極層１４０を有し、半導体層１２２と電気的に接続する。トランジスタ１
０は、絶縁層１７３を有し、絶縁層１７３は絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２
３、ソース電極層１３０、ドレイン電極層１４０の側面と接する領域を有する。トランジ
スタ１０は、絶縁層１７３、ソース電極層１３０、ドレイン電極層１４０上に絶縁層１７
５を有し、絶縁層１７５は絶縁体１２３の側面と接する領域を有する。トランジスタ１０
は、半導体層１２２上に絶縁体１２３を有し、絶縁体１２３は図１（Ｃ）より、絶縁体１
２１、絶縁層１７３および絶縁層１７５の側面と接する領域を有する。また、絶縁体１２
３は、図１（Ｂ）より、絶縁層１７０の下面、絶縁層１７５、ソース電極層１３０、およ
びドレイン電極層１４０の側面と接する領域を有する。トランジスタ１０は、絶縁体１２
３上にゲート絶縁層１５０を有する。トランジスタ１０は、ゲート絶縁層１５０上にゲー
ト電極層１６０を有する。
【0068】
＜絶縁体について＞
なお、絶縁体（例えば絶縁体１２１、絶縁体１２３）とは、基本的に絶縁性を有し、ゲー
ト電界又はドレイン電界が強くなった場合に半導体層との界面近傍において電流が流れる
ことのできる層をいう。
なお、絶縁体（例えば絶縁体１２１、絶縁体１２３）とは、基本的に絶縁性を有し、ゲー
ト電界又はドレイン電界が強くなった場合に半導体層との界面近傍において電流が流れる
ことのできる層をいう。
【0069】
また、上記に述べた構造は、半導体層１２２がソース電極層１３０、およびドレイン電極
層１４０とが接する領域ならびに、絶縁体１２３がソース電極層１３０、およびドレイン
電極層１４０とが接する領域を有するため、トランジスタ１０の動作時に絶縁体１２１、
半導体層１２２、および絶縁体１２３内に生じる熱に対して、放熱効果が高い特徴を有す
る。
層１４０とが接する領域ならびに、絶縁体１２３がソース電極層１３０、およびドレイン
電極層１４０とが接する領域を有するため、トランジスタ１０の動作時に絶縁体１２１、
半導体層１２２、および絶縁体１２３内に生じる熱に対して、放熱効果が高い特徴を有す
る。
【0070】
また、トランジスタ１０は、絶縁層１７０を成膜する際に、絶縁層１７５との界面に絶縁
層１７５の材料と絶縁層１７０の材料、または絶縁層１７０成膜時に用いたガスなどを有
した混合層が形成され、該混合層または絶縁層１７５に酸素（過剰酸素、ｅｘＯという）
が添加される。さらに加熱処理を行うことで当該酸素が半導体層１２２まで拡散し、絶縁
体１２１、半導体層１２２中に存在する酸素欠損に対して当該酸素を補填することができ
る。これにより、トランジスタ特性（例えば、閾値、信頼性など）を向上させることがで
きる。
層１７５の材料と絶縁層１７０の材料、または絶縁層１７０成膜時に用いたガスなどを有
した混合層が形成され、該混合層または絶縁層１７５に酸素（過剰酸素、ｅｘＯという）
が添加される。さらに加熱処理を行うことで当該酸素が半導体層１２２まで拡散し、絶縁
体１２１、半導体層１２２中に存在する酸素欠損に対して当該酸素を補填することができ
る。これにより、トランジスタ特性（例えば、閾値、信頼性など）を向上させることがで
きる。
【0071】
なお、絶縁層１７０成膜時に添加される当該過剰酸素は、例えばスパッタリング法による
成膜時に印加された電圧、電力、プラズマ、または基板温度などの影響により、酸素ラジ
カル、酸素イオン、または酸素原子など、様々な状態で存在する。このとき、該過剰酸素
は、安定な状態に比してエネルギーを多く有した状態であり、絶縁層１７５中に入り込む
ことができる。
成膜時に印加された電圧、電力、プラズマ、または基板温度などの影響により、酸素ラジ
カル、酸素イオン、または酸素原子など、様々な状態で存在する。このとき、該過剰酸素
は、安定な状態に比してエネルギーを多く有した状態であり、絶縁層１７５中に入り込む
ことができる。
【0072】
なお、酸素が添加される方法は、上記方法に限定されず、絶縁層１１０成膜時に当該過剰
酸素を有してもよいし、成膜後に別の方法（例えば、イオン注入法、イオンプラズマ浸漬
法など）を用いてもよい。
酸素を有してもよいし、成膜後に別の方法（例えば、イオン注入法、イオンプラズマ浸漬
法など）を用いてもよい。
【0073】
トランジスタ１０は、図１（Ｃ）の一点鎖線Ａ３－Ａ４間の断面図に示すように、チャネ
ル幅方向において、ゲート電極層１６０はゲート絶縁層１５０を介して絶縁体１２１、半
導体層１２２、絶縁体１２３の側面と対向する。即ち、ゲート電極層１６０に電圧が印加
されると、絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３は、チャネル幅方向においてゲ
ート電極層１６０の電界で囲まれる。ゲート電極層１６０の電界で半導体層１２２が囲ま
れるトランジスタの構造を、ｓｕｒｒｏｕｎｄｅｄ ｃｈａｎｎｅｌ（ｓ－ｃｈａｎｎｅ
ｌ）構造とよぶ。また、トランジスタ１０は、溝を用いてセルフアラインでゲート電極層
、ソース電極層、ドレイン電極層を形成することができるため、位置合わせ精度が緩和さ
れ、微細なトランジスタを容易に作製することが可能となる。なお、本実施の形態で示す
このような構造をセルフアライン ｓ－ｃｈａｎｎｅｌ ＦＥＴ（Ｓｅｌｆ Ａｌｉｇｎ
ｓ－ｃｈａｎｎｅｌ ＦＥＴ、ＳＡ ｓ－ｃｈａｎｎｅｌ ＦＥＴ）構造、またはトレ
ンチゲートｓ－ｃｈａｎｎｅｌ ＦＥＴ（Ｔｒｅｎｃｈ ｇａｔｅ ｓ－ｃｈａｎｎｅｌ
ＦＥＴ）構造、またはＴＧＳＡ ｓ－ｃｈａｎｎｅｌ ＦＥＴ（Ｔｒｅｎｃｈ Ｇａｔ
ｅ Ｓｅｌｆ Ａｌｉｇｎ ＦＥＴ）構造、またはＧＬＳＡ ｓ－ｃｈａｎｎｅｌ ＦＥ
Ｔ（Ｇａｔｅ Ｌａｓｔ Ｓｅｌｆ Ａｌｉｇｎ ＦＥＴ）構造と呼ぶ。
ル幅方向において、ゲート電極層１６０はゲート絶縁層１５０を介して絶縁体１２１、半
導体層１２２、絶縁体１２３の側面と対向する。即ち、ゲート電極層１６０に電圧が印加
されると、絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３は、チャネル幅方向においてゲ
ート電極層１６０の電界で囲まれる。ゲート電極層１６０の電界で半導体層１２２が囲ま
れるトランジスタの構造を、ｓｕｒｒｏｕｎｄｅｄ ｃｈａｎｎｅｌ（ｓ－ｃｈａｎｎｅ
ｌ）構造とよぶ。また、トランジスタ１０は、溝を用いてセルフアラインでゲート電極層
、ソース電極層、ドレイン電極層を形成することができるため、位置合わせ精度が緩和さ
れ、微細なトランジスタを容易に作製することが可能となる。なお、本実施の形態で示す
このような構造をセルフアライン ｓ－ｃｈａｎｎｅｌ ＦＥＴ（Ｓｅｌｆ Ａｌｉｇｎ
ｓ－ｃｈａｎｎｅｌ ＦＥＴ、ＳＡ ｓ－ｃｈａｎｎｅｌ ＦＥＴ）構造、またはトレ
ンチゲートｓ－ｃｈａｎｎｅｌ ＦＥＴ（Ｔｒｅｎｃｈ ｇａｔｅ ｓ－ｃｈａｎｎｅｌ
ＦＥＴ）構造、またはＴＧＳＡ ｓ－ｃｈａｎｎｅｌ ＦＥＴ（Ｔｒｅｎｃｈ Ｇａｔ
ｅ Ｓｅｌｆ Ａｌｉｇｎ ＦＥＴ）構造、またはＧＬＳＡ ｓ－ｃｈａｎｎｅｌ ＦＥ
Ｔ（Ｇａｔｅ Ｌａｓｔ Ｓｅｌｆ Ａｌｉｇｎ ＦＥＴ）構造と呼ぶ。
【0074】
ここで、絶縁体１２１と、半導体層１２２と、絶縁体１２３を合わせて半導体層１２０と
した場合、ＴＧＳＡ構造のトランジスタにおいて、オン状態では半導体層１２０の全体（
バルク）にチャネルが形成されるため、オン電流が増大する。一方、オフ状態の場合、半
導体層１２０に形成されるチャネル領域の全領域を空乏化することができるため、オフ電
流をさらに小さくすることができる。
した場合、ＴＧＳＡ構造のトランジスタにおいて、オン状態では半導体層１２０の全体（
バルク）にチャネルが形成されるため、オン電流が増大する。一方、オフ状態の場合、半
導体層１２０に形成されるチャネル領域の全領域を空乏化することができるため、オフ電
流をさらに小さくすることができる。
【0075】
また、トランジスタ１０がＴＧＳＡ構造を有することで、ゲート電極―ソース電極間、ま
たはゲート電極―ドレイン電極間で生じる寄生容量を低減し、トランジスタ１０の遮断周
波数特性が向上するなど、トランジスタ１０を高速応答させることが可能となる。
たはゲート電極―ドレイン電極間で生じる寄生容量を低減し、トランジスタ１０の遮断周
波数特性が向上するなど、トランジスタ１０を高速応答させることが可能となる。
【0076】
また、本実施の形態では後述するように絶縁層１７５となる第２の絶縁膜をソース電極層
１３０、ドレイン電極層１４０が露出するまで平坦化処理を行った後に、絶縁層１７３と
なる第３の絶縁膜を成膜する際に、絶縁層１７３の上面と、ソース電極層１３０およびド
レイン電極層１４０の上面が、基板面と平行な同一平面であることが好ましい。これによ
り、ソース電極層１３０、ドレイン電極層１４０上の絶縁層１７３を基板面内で均一に成
膜することができ、溝部１７４の形成工程（例えば、エッチング処理時間など）を安定さ
せることができる。ひいては、トランジスタ１０を安定して作製することができる。これ
により、トランジスタの形状を安定化させることができ、トランジスタ特性のばらつきを
抑えることができる。
１３０、ドレイン電極層１４０が露出するまで平坦化処理を行った後に、絶縁層１７３と
なる第３の絶縁膜を成膜する際に、絶縁層１７３の上面と、ソース電極層１３０およびド
レイン電極層１４０の上面が、基板面と平行な同一平面であることが好ましい。これによ
り、ソース電極層１３０、ドレイン電極層１４０上の絶縁層１７３を基板面内で均一に成
膜することができ、溝部１７４の形成工程（例えば、エッチング処理時間など）を安定さ
せることができる。ひいては、トランジスタ１０を安定して作製することができる。これ
により、トランジスタの形状を安定化させることができ、トランジスタ特性のばらつきを
抑えることができる。
【0077】
なお、ソース電極層１３０、またはドレイン電極層１４０の上面の位置は、ゲート電極層
１６０の底面の位置よりも低くてもよいし、同じでもよいし、高くてもよい。
１６０の底面の位置よりも低くてもよいし、同じでもよいし、高くてもよい。
【0078】
また、トランジスタ１０はゲート電極層１６０の上面が絶縁層１７５の上面よりも下にあ
ってもよい。また、トランジスタ１０は、ソース電極層１３０およびドレイン電極層１４
０がチャネル長方向において半導体層１２２よりも短い形状を有してもよいし、長い形状
を有してもよい。
ってもよい。また、トランジスタ１０は、ソース電極層１３０およびドレイン電極層１４
０がチャネル長方向において半導体層１２２よりも短い形状を有してもよいし、長い形状
を有してもよい。
【0079】
＜チャネル長について＞
なお、チャネル長とは、例えば、トランジスタの上面図において、半導体（またはトラン
ジスタがオン状態のときに半導体の中で電流の流れる部分）とゲート電極とが重なる領域
、またはチャネルが形成される領域における、ソース（ソース領域またはソース電極）と
ドレイン（ドレイン領域またはドレイン電極）との間の距離をいう。なお、一つのトラン
ジスタにおいて、チャネル長が全ての領域で同じ値をとるとは限らない。即ち、一つのト
ランジスタのチャネル長は、一つの値に定まらない場合がある。そのため、本明細書では
、チャネル長は、チャネルの形成される領域における、いずれか一の値、最大値、最小値
または平均値とする。
なお、チャネル長とは、例えば、トランジスタの上面図において、半導体（またはトラン
ジスタがオン状態のときに半導体の中で電流の流れる部分）とゲート電極とが重なる領域
、またはチャネルが形成される領域における、ソース（ソース領域またはソース電極）と
ドレイン（ドレイン領域またはドレイン電極）との間の距離をいう。なお、一つのトラン
ジスタにおいて、チャネル長が全ての領域で同じ値をとるとは限らない。即ち、一つのト
ランジスタのチャネル長は、一つの値に定まらない場合がある。そのため、本明細書では
、チャネル長は、チャネルの形成される領域における、いずれか一の値、最大値、最小値
または平均値とする。
【0080】
＜チャネル幅について＞
チャネル幅とは、例えば、半導体（またはトランジスタがオン状態のときに半導体の中で
電流の流れる部分）とゲート電極とが重なる領域の長さをいう。なお、一つのトランジス
タにおいて、チャネル幅がすべての領域で同じ値をとるとは限らない。即ち、一つのトラ
ンジスタのチャネル幅は、一つの値に定まらない場合がある。そのため、本明細書では、
チャネル幅は、チャネルの形成される領域における、いずれか一の値、最大値、最小値ま
たは平均値とする。
チャネル幅とは、例えば、半導体（またはトランジスタがオン状態のときに半導体の中で
電流の流れる部分）とゲート電極とが重なる領域の長さをいう。なお、一つのトランジス
タにおいて、チャネル幅がすべての領域で同じ値をとるとは限らない。即ち、一つのトラ
ンジスタのチャネル幅は、一つの値に定まらない場合がある。そのため、本明細書では、
チャネル幅は、チャネルの形成される領域における、いずれか一の値、最大値、最小値ま
たは平均値とする。
【0081】
なお、トランジスタの構造によっては、実際にチャネルの形成される領域におけるチャネ
ル幅（以下、実効的なチャネル幅と呼ぶ。）と、トランジスタの上面図において示される
チャネル幅（以下、見かけ上のチャネル幅と呼ぶ。）と、が異なる場合がある。例えば、
立体的な構造を有するトランジスタでは、実効的なチャネル幅が、トランジスタの上面図
において示される見かけ上のチャネル幅よりも大きくなり、その影響が無視できなくなる
場合がある。例えば、微細かつ三次元チャネルを含有するトランジスタでは、半導体の側
面に形成されるチャネル領域の割合が大きくなる場合がある。その場合は、上面図におい
て示される見かけ上のチャネル幅よりも、実際にチャネルの形成される実効的なチャネル
幅の方が大きくなる。
ル幅（以下、実効的なチャネル幅と呼ぶ。）と、トランジスタの上面図において示される
チャネル幅（以下、見かけ上のチャネル幅と呼ぶ。）と、が異なる場合がある。例えば、
立体的な構造を有するトランジスタでは、実効的なチャネル幅が、トランジスタの上面図
において示される見かけ上のチャネル幅よりも大きくなり、その影響が無視できなくなる
場合がある。例えば、微細かつ三次元チャネルを含有するトランジスタでは、半導体の側
面に形成されるチャネル領域の割合が大きくなる場合がある。その場合は、上面図におい
て示される見かけ上のチャネル幅よりも、実際にチャネルの形成される実効的なチャネル
幅の方が大きくなる。
【0082】
ところで、立体的な構造を有するトランジスタにおいては、実効的なチャネル幅の、実測
による見積もりが困難となる場合がある。例えば、設計値から実効的なチャネル幅を見積
もるためには、半導体の形状が既知という仮定が必要である。したがって、半導体の形状
が正確にわからない場合には、実効的なチャネル幅を正確に測定することは困難である。
による見積もりが困難となる場合がある。例えば、設計値から実効的なチャネル幅を見積
もるためには、半導体の形状が既知という仮定が必要である。したがって、半導体の形状
が正確にわからない場合には、実効的なチャネル幅を正確に測定することは困難である。
【0083】
＜ＳＣＷについて＞
そこで、本明細書では、トランジスタの上面図において、半導体とゲート電極とが重なる
領域における見かけ上のチャネル幅を、「囲い込みチャネル幅（ＳＣＷ：Ｓｕｒｒｏｕｎ
ｄｅｄ Ｃｈａｎｎｅｌ Ｗｉｄｔｈ）」と呼ぶ場合がある。また、本明細書では、単に
チャネル幅と記載した場合には、囲い込みチャネル幅または見かけ上のチャネル幅を指す
場合がある。または、本明細書では、単にチャネル幅と記載した場合には、実効的なチャ
ネル幅を指す場合がある。なお、チャネル長、チャネル幅、実効的なチャネル幅、見かけ
上のチャネル幅、囲い込みチャネル幅などは、断面ＴＥＭ像などを取得して、その画像を
解析することなどによって、値を決定することができる。
そこで、本明細書では、トランジスタの上面図において、半導体とゲート電極とが重なる
領域における見かけ上のチャネル幅を、「囲い込みチャネル幅（ＳＣＷ：Ｓｕｒｒｏｕｎ
ｄｅｄ Ｃｈａｎｎｅｌ Ｗｉｄｔｈ）」と呼ぶ場合がある。また、本明細書では、単に
チャネル幅と記載した場合には、囲い込みチャネル幅または見かけ上のチャネル幅を指す
場合がある。または、本明細書では、単にチャネル幅と記載した場合には、実効的なチャ
ネル幅を指す場合がある。なお、チャネル長、チャネル幅、実効的なチャネル幅、見かけ
上のチャネル幅、囲い込みチャネル幅などは、断面ＴＥＭ像などを取得して、その画像を
解析することなどによって、値を決定することができる。
【0084】
なお、トランジスタの電界効果移動度や、チャネル幅当たりの電流値などを計算して求め
る場合、囲い込みチャネル幅を用いて計算する場合がある。その場合には、実効的なチャ
ネル幅を用いて計算する場合とは異なる値をとる場合がある。
る場合、囲い込みチャネル幅を用いて計算する場合がある。その場合には、実効的なチャ
ネル幅を用いて計算する場合とは異なる値をとる場合がある。
【0085】
＜微細化における特性向上＞
半導体装置を高集積化するにはトランジスタの微細化が必須である。一方、トランジスタ
の微細化によりトランジスタの電気特性が悪化することが知られており、チャネル幅が縮
小するとオン電流が低下する。
半導体装置を高集積化するにはトランジスタの微細化が必須である。一方、トランジスタ
の微細化によりトランジスタの電気特性が悪化することが知られており、チャネル幅が縮
小するとオン電流が低下する。
【0086】
しかしながら、図１に示す本発明の一態様のトランジスタでは、前述したように、チャネ
ルが形成される半導体層１２２を覆うように絶縁体１２３が形成されており、チャネル形
成層とゲート絶縁層が接しない構成となっている。そのため、チャネル形成層とゲート絶
縁層との界面で生じるキャリアの散乱を抑えることができ、トランジスタのオン電流を大
きくすることができる。
ルが形成される半導体層１２２を覆うように絶縁体１２３が形成されており、チャネル形
成層とゲート絶縁層が接しない構成となっている。そのため、チャネル形成層とゲート絶
縁層との界面で生じるキャリアの散乱を抑えることができ、トランジスタのオン電流を大
きくすることができる。
【0087】
また、本発明の一態様のトランジスタでは、チャネルとなる半導体層１２２のチャネル幅
方向を電気的に取り囲むようにゲート電極層１６０が形成されているため、半導体層１２
２に対しては垂直方向からのゲート電界に加えて、側面方向からのゲート電界が印加され
る。すなわち、半導体層１２２の全体にゲート電界が印加されることとなり、電流は半導
体層１２２全体に流れるようになるため、さらにオン電流を高めることができる。
方向を電気的に取り囲むようにゲート電極層１６０が形成されているため、半導体層１２
２に対しては垂直方向からのゲート電界に加えて、側面方向からのゲート電界が印加され
る。すなわち、半導体層１２２の全体にゲート電界が印加されることとなり、電流は半導
体層１２２全体に流れるようになるため、さらにオン電流を高めることができる。
【0088】
また、本発明の一態様のトランジスタは、絶縁体１２３を絶縁体１２１、半導体層１２２
上に形成することで界面準位を形成しにくくする効果や、半導体層１２２を中間に位置す
る層とすることで上下からの不純物混入の影響を排除できる効果などを併せて有する。そ
のため、上述したトランジスタのオン電流の向上に加えて、しきい値電圧の安定化や、Ｓ
値（サブスレッショルド係数）を小さくすることができる。したがって、Ｉｃｕｔ（ゲー
ト電圧ＶＧが０Ｖ時の電流）を下げることができ、消費電力を低減させることができる。
また、トランジスタのしきい値電圧が安定化することから、半導体装置の長期信頼性を向
上させることができる。
上に形成することで界面準位を形成しにくくする効果や、半導体層１２２を中間に位置す
る層とすることで上下からの不純物混入の影響を排除できる効果などを併せて有する。そ
のため、上述したトランジスタのオン電流の向上に加えて、しきい値電圧の安定化や、Ｓ
値（サブスレッショルド係数）を小さくすることができる。したがって、Ｉｃｕｔ（ゲー
ト電圧ＶＧが０Ｖ時の電流）を下げることができ、消費電力を低減させることができる。
また、トランジスタのしきい値電圧が安定化することから、半導体装置の長期信頼性を向
上させることができる。
【0089】
なお、本実施の形態において、チャネルなどにおいて、半導体層１２０（半導体層１２２
）などを用いた場合の例を示したが、本発明の実施形態の一態様は、これに限定されない
。例えば、チャネルやその近傍、ソース領域、ドレイン領域などを、場合によっては、ま
たは、状況に応じて、シリコン（歪シリコン含む）、ゲルマニウム、シリコンゲルマニウ
ム、炭化シリコン、ガリウムヒ素、アルミニウムガリウムヒ素、インジウムリン、窒化ガ
リウム、有機半導体、などを有する材料で形成してもよい。
）などを用いた場合の例を示したが、本発明の実施形態の一態様は、これに限定されない
。例えば、チャネルやその近傍、ソース領域、ドレイン領域などを、場合によっては、ま
たは、状況に応じて、シリコン（歪シリコン含む）、ゲルマニウム、シリコンゲルマニウ
ム、炭化シリコン、ガリウムヒ素、アルミニウムガリウムヒ素、インジウムリン、窒化ガ
リウム、有機半導体、などを有する材料で形成してもよい。
【0090】
＜トランジスタの構成＞
以下に本実施の形態のトランジスタの構成について示す。
以下に本実施の形態のトランジスタの構成について示す。
【0091】
《基板１００》
基板１００には、例えば、ガラス基板、セラミック基板、石英基板、サファイア基板など
を用いることができる。また、シリコンや炭化シリコンからなる単結晶半導体基板、多結
晶半導体基板、シリコンゲルマニウムからなる化合物半導体基板、ＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏ
ｎ Ｏｎ Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）基板などを用いることも可能であり、これらの基板上に
半導体素子が設けられたものを用いてもよい。基板１００は、単なる支持材料に限らず、
他のトランジスタなどのデバイスが形成された基板であってもよい。この場合、トランジ
スタのゲート電極層１６０、ソース電極層１３０、およびドレイン電極層１４０のうち少
なくとも一つは、上記の他のデバイスと電気的に接続されていてもよい。
基板１００には、例えば、ガラス基板、セラミック基板、石英基板、サファイア基板など
を用いることができる。また、シリコンや炭化シリコンからなる単結晶半導体基板、多結
晶半導体基板、シリコンゲルマニウムからなる化合物半導体基板、ＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏ
ｎ Ｏｎ Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）基板などを用いることも可能であり、これらの基板上に
半導体素子が設けられたものを用いてもよい。基板１００は、単なる支持材料に限らず、
他のトランジスタなどのデバイスが形成された基板であってもよい。この場合、トランジ
スタのゲート電極層１６０、ソース電極層１３０、およびドレイン電極層１４０のうち少
なくとも一つは、上記の他のデバイスと電気的に接続されていてもよい。
【0092】
また、基板１００として、可撓性基板を用いてもよい。なお、可撓性基板上にトランジス
タを設ける方法としては、非可撓性の基板上にトランジスタを作製した後、トランジスタ
を剥離し、可撓性基板である基板１００に転置する方法もある。その場合には、非可撓性
基板とトランジスタとの間に剥離層を設けるとよい。なお、基板１００として、繊維を編
みこんだシート、フィルムまたは箔などを用いてもよい。また、基板１００が伸縮性を有
してもよい。また、基板１００は、折り曲げや引っ張りをやめた際に、元の形状に戻る性
質を有してもよい。または、元の形状に戻らない性質を有してもよい。基板１００の厚さ
は、例えば、５μｍ以上７００μｍ以下、好ましくは１０μｍ以上５００μｍ以下、さら
に好ましくは１５μｍ以上３００μｍ以下とする。基板１００を薄くすると、半導体装置
を軽量化することができる。また、基板１００を薄くすることで、ガラスなどを用いた場
合にも伸縮性を有する場合や、折り曲げや引っ張りをやめた際に、元の形状に戻る性質を
有する場合がある。そのため、落下などによって基板１００上の半導体装置に加わる衝撃
などを緩和することができる。即ち、丈夫な半導体装置を提供することができる。
タを設ける方法としては、非可撓性の基板上にトランジスタを作製した後、トランジスタ
を剥離し、可撓性基板である基板１００に転置する方法もある。その場合には、非可撓性
基板とトランジスタとの間に剥離層を設けるとよい。なお、基板１００として、繊維を編
みこんだシート、フィルムまたは箔などを用いてもよい。また、基板１００が伸縮性を有
してもよい。また、基板１００は、折り曲げや引っ張りをやめた際に、元の形状に戻る性
質を有してもよい。または、元の形状に戻らない性質を有してもよい。基板１００の厚さ
は、例えば、５μｍ以上７００μｍ以下、好ましくは１０μｍ以上５００μｍ以下、さら
に好ましくは１５μｍ以上３００μｍ以下とする。基板１００を薄くすると、半導体装置
を軽量化することができる。また、基板１００を薄くすることで、ガラスなどを用いた場
合にも伸縮性を有する場合や、折り曲げや引っ張りをやめた際に、元の形状に戻る性質を
有する場合がある。そのため、落下などによって基板１００上の半導体装置に加わる衝撃
などを緩和することができる。即ち、丈夫な半導体装置を提供することができる。
【0093】
可撓性基板である基板１００としては、例えば、金属、合金、樹脂もしくはガラス、また
はそれらの繊維などを用いることができる。可撓性基板である基板１００は、線膨張率が
低いほど環境による変形が抑制されて好ましい。可撓性基板である基板１００としては、
例えば、線膨張率が１×１０－３／Ｋ以下、５×１０－５／Ｋ以下、または１×１０－５
／Ｋ以下である材質を用いればよい。樹脂としては、例えば、ポリエステル、ポリオレフ
ィン、ポリアミド（ナイロン、アラミドなど）、ポリイミド、ポリカーボネート、アクリ
ル、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）などがある。特に、アラミドは、線膨張率
が低いため、可撓性基板である基板１００として好適である。
はそれらの繊維などを用いることができる。可撓性基板である基板１００は、線膨張率が
低いほど環境による変形が抑制されて好ましい。可撓性基板である基板１００としては、
例えば、線膨張率が１×１０－３／Ｋ以下、５×１０－５／Ｋ以下、または１×１０－５
／Ｋ以下である材質を用いればよい。樹脂としては、例えば、ポリエステル、ポリオレフ
ィン、ポリアミド（ナイロン、アラミドなど）、ポリイミド、ポリカーボネート、アクリ
ル、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）などがある。特に、アラミドは、線膨張率
が低いため、可撓性基板である基板１００として好適である。
【0094】
《絶縁層１１０》
絶縁層１１０は、基板１００からの不純物の拡散を防止する役割を有するほか、半導体層
１２０（半導体層１２２）に酸素を供給する役割を担うことができる。したがって、絶縁
層１１０は酸素を含む絶縁膜であることが好ましく、化学量論組成よりも多い酸素を含む
絶縁膜であることがより好ましい。例えば、ＴＤＳ法にて、酸素原子に換算しての酸素放
出量が１．０×１０１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上である膜とする。なお、上記ＴＤＳ分析
時における膜の表面温度としては１００℃以上７００℃以下、または１００℃以上５００
℃以下の範囲が好ましい。また、上述のように基板１００が他のデバイスが形成された基
板である場合、絶縁層１１０は、層間絶縁膜としての機能も有する。その場合は、表面が
平坦になるようにＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎ
ｇ）法等で平坦化処理を行うことが好ましい。
絶縁層１１０は、基板１００からの不純物の拡散を防止する役割を有するほか、半導体層
１２０（半導体層１２２）に酸素を供給する役割を担うことができる。したがって、絶縁
層１１０は酸素を含む絶縁膜であることが好ましく、化学量論組成よりも多い酸素を含む
絶縁膜であることがより好ましい。例えば、ＴＤＳ法にて、酸素原子に換算しての酸素放
出量が１．０×１０１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上である膜とする。なお、上記ＴＤＳ分析
時における膜の表面温度としては１００℃以上７００℃以下、または１００℃以上５００
℃以下の範囲が好ましい。また、上述のように基板１００が他のデバイスが形成された基
板である場合、絶縁層１１０は、層間絶縁膜としての機能も有する。その場合は、表面が
平坦になるようにＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎ
ｇ）法等で平坦化処理を行うことが好ましい。
【0095】
《絶縁体１２１、１２３、半導体層１２２》
絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３として用いることができる酸化物は
、少なくともインジウム（Ｉｎ）もしくは亜鉛（Ｚｎ）を含むことが好ましい。または、
ＩｎとＺｎの双方を含むことが好ましい。また、該酸化物を半導体として用いたトランジ
スタの電気特性のばらつきを減らすため、それらと共に、スタビライザーを含むことが好
ましい。代表的には、Ｉｎ－Ｇａ酸化物、Ｉｎ－Ｚｎ酸化物、Ｉｎ－Ｍｇ酸化物、Ｚｎ－
Ｍｇ酸化物、Ｉｎ－Ｍ－Ｚｎ酸化物（ＭはＡｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃ
ｅ、Ｍｇ、またはＮｄ）がある。
絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３として用いることができる酸化物は
、少なくともインジウム（Ｉｎ）もしくは亜鉛（Ｚｎ）を含むことが好ましい。または、
ＩｎとＺｎの双方を含むことが好ましい。また、該酸化物を半導体として用いたトランジ
スタの電気特性のばらつきを減らすため、それらと共に、スタビライザーを含むことが好
ましい。代表的には、Ｉｎ－Ｇａ酸化物、Ｉｎ－Ｚｎ酸化物、Ｉｎ－Ｍｇ酸化物、Ｚｎ－
Ｍｇ酸化物、Ｉｎ－Ｍ－Ｚｎ酸化物（ＭはＡｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃ
ｅ、Ｍｇ、またはＮｄ）がある。
【0096】
スタビライザーとしては、ガリウム（Ｇａ）、スズ（Ｓｎ）、ハフニウム（Ｈｆ）、アル
ミニウム（Ａｌ）、またはジルコニウム（Ｚｒ）等がある。また、他のスタビライザーと
しては、ランタノイドである、ランタン（Ｌａ）、セリウム（Ｃｅ）、プラセオジム（Ｐ
ｒ）、ネオジム（Ｎｄ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユウロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（
Ｇｄ）、テルビウム（Ｔｂ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ホルミウム（Ｈｏ）、エルビウ
ム（Ｅｒ）、ツリウム（Ｔｍ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、ルテチウム（Ｌｕ）等がある
。
ミニウム（Ａｌ）、またはジルコニウム（Ｚｒ）等がある。また、他のスタビライザーと
しては、ランタノイドである、ランタン（Ｌａ）、セリウム（Ｃｅ）、プラセオジム（Ｐ
ｒ）、ネオジム（Ｎｄ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユウロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（
Ｇｄ）、テルビウム（Ｔｂ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ホルミウム（Ｈｏ）、エルビウ
ム（Ｅｒ）、ツリウム（Ｔｍ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、ルテチウム（Ｌｕ）等がある
。
【0097】
なお、絶縁体１２３がＩｎ－Ｍ－Ｚｎ酸化物であるとき、ＩｎおよびＭの和を１００ａｔ
ｏｍｉｃ％としたときの、ＩｎとＭの原子の比率は、好ましくは、Ｉｎが２５ａｔｏｍｉ
ｃ％以上、Ｍが７５ａｔｏｍｉｃ％未満、さらに好ましくは、Ｉｎが３４ａｔｏｍｉｃ％
以上、Ｍが６６ａｔｏｍｉｃ％未満とする。
ｏｍｉｃ％としたときの、ＩｎとＭの原子の比率は、好ましくは、Ｉｎが２５ａｔｏｍｉ
ｃ％以上、Ｍが７５ａｔｏｍｉｃ％未満、さらに好ましくは、Ｉｎが３４ａｔｏｍｉｃ％
以上、Ｍが６６ａｔｏｍｉｃ％未満とする。
【0098】
絶縁体１２３中のインジウムやガリウムなどの含有量は、飛行時間型二次イオン質量分析
法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）や、Ｘ線電子分光法（ＸＰＳ）、ＩＣＰ質量分析（ＩＣＰ－ＭＳ
）で比較できる。
法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）や、Ｘ線電子分光法（ＸＰＳ）、ＩＣＰ質量分析（ＩＣＰ－ＭＳ
）で比較できる。
【0099】
半導体層１２２は、エネルギーギャップが２ｅＶ以上、好ましくは２．５ｅＶ以上、より
好ましくは３ｅＶ以上であるため、トランジスタ１０のオフ電流を低減することができる
。
好ましくは３ｅＶ以上であるため、トランジスタ１０のオフ電流を低減することができる
。
【0100】
半導体層１２２の厚さは、３ｎｍ以上２００ｎｍ以下、好ましくは３ｎｍ以上１００ｎｍ
以下、さらに好ましくは３ｎｍ以上５０ｎｍ以下とする。
以下、さらに好ましくは３ｎｍ以上５０ｎｍ以下とする。
【0101】
絶縁体１２１、および絶縁体１２３は、半導体層１２２を構成する元素の一種以上から構
成される酸化物膜である。このため、半導体層１２２と絶縁体１２１、および絶縁体１２
３との界面において、界面散乱が起こりにくい。従って、該界面においてはキャリアの動
きが阻害されないため、トランジスタ１０の電界効果移動度が高くなる。
成される酸化物膜である。このため、半導体層１２２と絶縁体１２１、および絶縁体１２
３との界面において、界面散乱が起こりにくい。従って、該界面においてはキャリアの動
きが阻害されないため、トランジスタ１０の電界効果移動度が高くなる。
【0102】
絶縁体１２１、絶縁体１２３は、代表的には、Ｉｎ－Ｇａ酸化物、Ｉｎ－Ｚｎ酸化物、Ｉ
ｎ－Ｍｇ酸化物、Ｇａ－Ｚｎ酸化物、Ｚｎ－Ｍｇ酸化物、Ｉｎ－Ｍ－Ｚｎ酸化物（ＭはＡ
ｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｍｇ、またはＮｄ）であり、且つ半導体
層１２２よりも伝導帯下端のエネルギー準位が真空準位に近く、代表的には、絶縁体１２
１、絶縁体１２３の伝導帯下端のエネルギー準位と、半導体層１２２の伝導帯下端のエネ
ルギー準位との差が、０．０５ｅＶ以上、０．０７ｅＶ以上、０．１ｅＶ以上、または０
．２ｅＶ以上、且つ２ｅＶ以下、１ｅＶ以下、０．５ｅＶ以下、または０．４ｅＶ以下で
ある。即ち、絶縁体１２１、絶縁体１２３の電子親和力と、半導体層１２２との電子親和
力との差が、０．０５ｅＶ以上、０．０７ｅＶ以上、０．１ｅＶ以上、または０．２ｅＶ
以上、且つ２ｅＶ以下、１ｅＶ以下、０．５ｅＶ以下、または０．４ｅＶ以下である。な
お、電子親和力は、真空準位と伝導帯下端のエネルギー準位との差を示す。
ｎ－Ｍｇ酸化物、Ｇａ－Ｚｎ酸化物、Ｚｎ－Ｍｇ酸化物、Ｉｎ－Ｍ－Ｚｎ酸化物（ＭはＡ
ｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｍｇ、またはＮｄ）であり、且つ半導体
層１２２よりも伝導帯下端のエネルギー準位が真空準位に近く、代表的には、絶縁体１２
１、絶縁体１２３の伝導帯下端のエネルギー準位と、半導体層１２２の伝導帯下端のエネ
ルギー準位との差が、０．０５ｅＶ以上、０．０７ｅＶ以上、０．１ｅＶ以上、または０
．２ｅＶ以上、且つ２ｅＶ以下、１ｅＶ以下、０．５ｅＶ以下、または０．４ｅＶ以下で
ある。即ち、絶縁体１２１、絶縁体１２３の電子親和力と、半導体層１２２との電子親和
力との差が、０．０５ｅＶ以上、０．０７ｅＶ以上、０．１ｅＶ以上、または０．２ｅＶ
以上、且つ２ｅＶ以下、１ｅＶ以下、０．５ｅＶ以下、または０．４ｅＶ以下である。な
お、電子親和力は、真空準位と伝導帯下端のエネルギー準位との差を示す。
【0103】
絶縁体１２１、絶縁体１２３として、Ａｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、
Ｍｇ、またはＮｄを、Ｉｎより高い原子数比で有することで、以下の効果を有する場合が
ある。（１）絶縁体１２１、半導体層１２２および絶縁体１２３のエネルギーギャップを
大きくする。（２）絶縁体１２１、絶縁体１２３の電子親和力を小さくする。（３）外部
からの不純物を遮蔽する。（４）半導体層１２２と比較して、絶縁性が高くなる。（５）
Ａｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｍｇ、またはＮｄは、酸素との結合力
が強い金属元素であるため、Ａｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｍｇ、ま
たはＮｄをＩｎより高い原子数比で有することで、酸素欠損が生じにくくなる。
Ｍｇ、またはＮｄを、Ｉｎより高い原子数比で有することで、以下の効果を有する場合が
ある。（１）絶縁体１２１、半導体層１２２および絶縁体１２３のエネルギーギャップを
大きくする。（２）絶縁体１２１、絶縁体１２３の電子親和力を小さくする。（３）外部
からの不純物を遮蔽する。（４）半導体層１２２と比較して、絶縁性が高くなる。（５）
Ａｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｍｇ、またはＮｄは、酸素との結合力
が強い金属元素であるため、Ａｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｍｇ、ま
たはＮｄをＩｎより高い原子数比で有することで、酸素欠損が生じにくくなる。
【0104】
なお、絶縁体１２１、絶縁体１２３は、半導体層１２２と比較して絶縁性が高いため、ゲ
ート絶縁層と同様の機能を有する。
ート絶縁層と同様の機能を有する。
【0105】
絶縁体１２１、絶縁体１２３がＩｎ－Ｍ－Ｚｎ酸化物であるとき、ＺｎおよびＯを除いて
のＩｎおよびＭの原子数比率は、好ましくは、Ｉｎが５０ａｔｏｍｉｃ％未満、Ｍが５０
ａｔｏｍｉｃ％以上、さらに好ましくは、Ｉｎが２５ａｔｏｍｉｃ％未満、Ｍが７５ａｔ
ｏｍｉｃ％以上とする。
のＩｎおよびＭの原子数比率は、好ましくは、Ｉｎが５０ａｔｏｍｉｃ％未満、Ｍが５０
ａｔｏｍｉｃ％以上、さらに好ましくは、Ｉｎが２５ａｔｏｍｉｃ％未満、Ｍが７５ａｔ
ｏｍｉｃ％以上とする。
【0106】
また、絶縁体１２１、絶縁体１２３がＩｎ－Ｍ－Ｚｎ酸化物（ＭはＡｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ
、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｍｇ、またはＮｄ）の場合、半導体層１２２と比較して、絶
縁体１２１、絶縁体１２３に含まれるＭ（Ａｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃ
ｅ、Ｍｇ、またはＮｄ）の原子数比が高く、代表的には、半導体層１２２に含まれる上記
原子と比較して、１．５倍以上、好ましくは２倍以上、さらに好ましくは３倍以上高い原
子数比である。前述のＭで表した元素はインジウムよりも酸素と強く結合するため、酸素
欠損が絶縁体１２１、絶縁体１２３に生じることを抑制する機能を有する。即ち、絶縁体
１２１、絶縁体１２３は半導体層１２２よりも酸素欠損が生じにくい酸化物膜である。
、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｍｇ、またはＮｄ）の場合、半導体層１２２と比較して、絶
縁体１２１、絶縁体１２３に含まれるＭ（Ａｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃ
ｅ、Ｍｇ、またはＮｄ）の原子数比が高く、代表的には、半導体層１２２に含まれる上記
原子と比較して、１．５倍以上、好ましくは２倍以上、さらに好ましくは３倍以上高い原
子数比である。前述のＭで表した元素はインジウムよりも酸素と強く結合するため、酸素
欠損が絶縁体１２１、絶縁体１２３に生じることを抑制する機能を有する。即ち、絶縁体
１２１、絶縁体１２３は半導体層１２２よりも酸素欠損が生じにくい酸化物膜である。
【0107】
また、半導体層１２２は、絶縁体１２１、絶縁体１２３よりもインジウムの含有量を多く
するとよい。半導体としては、主として重金属のｓ軌道がキャリア伝導に寄与しており、
Ｉｎの含有率を多くすることにより、より多くのｓ軌道が重なるため、ＩｎがＭよりも多
い組成となる酸化物はＩｎがＭと同等または少ない組成となる酸化物と比較して移動度が
高くなる。そのため、半導体層１２２にインジウムの含有量が多い酸化物を用いることで
、高い電界効果移動度のトランジスタを実現することができる。
するとよい。半導体としては、主として重金属のｓ軌道がキャリア伝導に寄与しており、
Ｉｎの含有率を多くすることにより、より多くのｓ軌道が重なるため、ＩｎがＭよりも多
い組成となる酸化物はＩｎがＭと同等または少ない組成となる酸化物と比較して移動度が
高くなる。そのため、半導体層１２２にインジウムの含有量が多い酸化物を用いることで
、高い電界効果移動度のトランジスタを実現することができる。
【0108】
また、半導体層１２２がＩｎ－Ｍ－Ｚｎ酸化物（Ｍは、Ａｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓ
ｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｍｇ、またはＮｄ）の場合、半導体層１２２を成膜するために用いるタ
ーゲットにおいて、金属元素の原子数比をＩｎ：Ｍ：Ｚｎ＝ｘ１：ｙ１：ｚ１とすると、
ｘ１／ｙ１は、１／３以上６以下、さらには１以上６以下であって、ｚ１／ｙ１は、１／
３以上６以下、さらには１以上６以下であることが好ましい。なお、ｚ１／ｙ１を１以上
６以下とすることで、半導体層１２２としてＣＡＡＣ－ＯＳ（Ｃ Ａｘｉｓ Ａｌｉｇｎ
ｅｄ Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）膜が形成さ
れやすくなる。ターゲットの金属元素の原子数比の代表例としては、Ｉｎ：Ｍ：Ｚｎ＝１
：１：１、１：１：１．２、２：１：１．５、２：１：２．３、２：１：３、３：１：２
、４：２：３、４：２：４．１等がある。
ｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｍｇ、またはＮｄ）の場合、半導体層１２２を成膜するために用いるタ
ーゲットにおいて、金属元素の原子数比をＩｎ：Ｍ：Ｚｎ＝ｘ１：ｙ１：ｚ１とすると、
ｘ１／ｙ１は、１／３以上６以下、さらには１以上６以下であって、ｚ１／ｙ１は、１／
３以上６以下、さらには１以上６以下であることが好ましい。なお、ｚ１／ｙ１を１以上
６以下とすることで、半導体層１２２としてＣＡＡＣ－ＯＳ（Ｃ Ａｘｉｓ Ａｌｉｇｎ
ｅｄ Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）膜が形成さ
れやすくなる。ターゲットの金属元素の原子数比の代表例としては、Ｉｎ：Ｍ：Ｚｎ＝１
：１：１、１：１：１．２、２：１：１．５、２：１：２．３、２：１：３、３：１：２
、４：２：３、４：２：４．１等がある。
【0109】
また、絶縁体１２１、絶縁体１２３がＩｎ－Ｍ－Ｚｎ酸化物（Ｍは、Ａｌ、Ｔｉ、Ｇａ、
Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｍｇ、またはＮｄ）の場合、絶縁体１２１、絶縁体１２３
を成膜するために用いるターゲットにおいて、金属元素の原子数比をＩｎ：Ｍ：Ｚｎ＝ｘ
２：ｙ２：ｚ２とすると、ｘ２／ｙ２＜ｘ１／ｙ１であって、ｚ２／ｙ２は、１／３以上
６以下、さらには１以上６以下であることが好ましい。なお、ｚ２／ｙ２を１以上６以下
とすることで、絶縁体１２１、絶縁体１２３としてＣＡＡＣ－ＯＳ膜が形成されやすくな
る。ターゲットの金属元素の原子数比の代表例としては、Ｉｎ：Ｍ：Ｚｎ＝１：３：２、
１：３：４、１：３：６、１：３：８、１：４：４、１：４：５、１：４：６、１：４：
７、１：４：８、１：５：５、１：５：６、１：５：７、１：５：８、１：６：８、１：
６：４、１：９：６等がある。
Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｍｇ、またはＮｄ）の場合、絶縁体１２１、絶縁体１２３
を成膜するために用いるターゲットにおいて、金属元素の原子数比をＩｎ：Ｍ：Ｚｎ＝ｘ
２：ｙ２：ｚ２とすると、ｘ２／ｙ２＜ｘ１／ｙ１であって、ｚ２／ｙ２は、１／３以上
６以下、さらには１以上６以下であることが好ましい。なお、ｚ２／ｙ２を１以上６以下
とすることで、絶縁体１２１、絶縁体１２３としてＣＡＡＣ－ＯＳ膜が形成されやすくな
る。ターゲットの金属元素の原子数比の代表例としては、Ｉｎ：Ｍ：Ｚｎ＝１：３：２、
１：３：４、１：３：６、１：３：８、１：４：４、１：４：５、１：４：６、１：４：
７、１：４：８、１：５：５、１：５：６、１：５：７、１：５：８、１：６：８、１：
６：４、１：９：６等がある。
【0110】
なお、絶縁体１２１、絶縁体１２３の原子数比はそれぞれ、誤差として上記の原子数比の
プラスマイナス４０％の変動を含む。
プラスマイナス４０％の変動を含む。
【0111】
また、絶縁体１２３は、金属酸化物、例えば酸化アルミニウム（ＡｌＯｘ）、酸化ガリウ
ム（ＧａＯｘ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯｘ）、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、酸化ゲルマ
ニウム（ＧｅＯｘ）、または酸化ジルコニア（ＺｒＯｘ）に置き換えることもできるし、
絶縁体１２３上に当該金属酸化物を有することもできる。
ム（ＧａＯｘ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯｘ）、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、酸化ゲルマ
ニウム（ＧｅＯｘ）、または酸化ジルコニア（ＺｒＯｘ）に置き換えることもできるし、
絶縁体１２３上に当該金属酸化物を有することもできる。
【0112】
なお、原子数比はこれらに限られず、必要とする半導体特性に応じて適切な原子数比のも
のを用いればよい。
のを用いればよい。
【0113】
また、絶縁体１２１、絶縁体１２３は同じ組成でもよい。例えば、絶縁体１２１、絶縁体
１２３として、スパッタリング法で用いるターゲットの金属元素の原子数比がＩｎ：Ｇａ
：Ｚｎ＝１：３：２、１：３：４、または１：４：５であるＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ酸化物を用
いてもよい。
１２３として、スパッタリング法で用いるターゲットの金属元素の原子数比がＩｎ：Ｇａ
：Ｚｎ＝１：３：２、１：３：４、または１：４：５であるＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ酸化物を用
いてもよい。
【0114】
または、絶縁体１２１、絶縁体１２３は異なった組成でもよい。例えば、絶縁体１２１と
して、スパッタリング法で用いるターゲットの金属元素の原子数比がＩｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝
１：３：４のＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ酸化物を用い、絶縁体１２３としてターゲットの金属元素
の原子数比がＩｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：３：２のＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ酸化物を用いてもよい。
して、スパッタリング法で用いるターゲットの金属元素の原子数比がＩｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝
１：３：４のＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ酸化物を用い、絶縁体１２３としてターゲットの金属元素
の原子数比がＩｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：３：２のＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ酸化物を用いてもよい。
【0115】
絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３の厚さは、３ｎｍ以上１００ｎｍ以
下、または３ｎｍ以上５０ｎｍ以下とすることが好ましい。
下、または３ｎｍ以上５０ｎｍ以下とすることが好ましい。
【0116】
ここで、半導体層１２２の厚さは、少なくとも絶縁体１２１と比較して、薄く形成しても
よいし、同じとしてもよいし、厚く形成してもよい。たとえば、半導体層１２２を厚くし
た場合、トランジスタのオン電流を高めることができる。また、絶縁体１２１は、半導体
層１２２の界面準位の生成を抑制する効果が失われない程度の厚さであればよい。例えば
、半導体層１２２の厚さは、絶縁体１２１の厚さに対して、１倍よりも大きく、または２
倍以上、または４倍以上、または６倍以上とすることができる。また、トランジスタのオ
ン電流を高める必要のない場合には絶縁体１２１の厚さを半導体層１２２の厚さ以上とし
てもよい。例えば、絶縁層１１０、絶縁層１７０、絶縁層１７３、あるいは絶縁層１７５
が酸素を過剰に有した場合、加熱処理により、該酸素が拡散し、半導体層１２２に含まれ
る酸素欠損量を低減することができ、半導体装置の電気特性を安定させることができる。
よいし、同じとしてもよいし、厚く形成してもよい。たとえば、半導体層１２２を厚くし
た場合、トランジスタのオン電流を高めることができる。また、絶縁体１２１は、半導体
層１２２の界面準位の生成を抑制する効果が失われない程度の厚さであればよい。例えば
、半導体層１２２の厚さは、絶縁体１２１の厚さに対して、１倍よりも大きく、または２
倍以上、または４倍以上、または６倍以上とすることができる。また、トランジスタのオ
ン電流を高める必要のない場合には絶縁体１２１の厚さを半導体層１２２の厚さ以上とし
てもよい。例えば、絶縁層１１０、絶縁層１７０、絶縁層１７３、あるいは絶縁層１７５
が酸素を過剰に有した場合、加熱処理により、該酸素が拡散し、半導体層１２２に含まれ
る酸素欠損量を低減することができ、半導体装置の電気特性を安定させることができる。
【0117】
また、絶縁体１２３も絶縁体１２１と同様に、半導体層１２２の界面準位の生成を抑制す
る効果が失われない程度の厚さであればよい。例えば、絶縁体１２１と同等またはそれ以
下の厚さとすればよい。絶縁体１２３が厚いと、ゲート電極層１６０による電界が半導体
層１２２に届きにくくなる恐れがあるため、絶縁体１２３は薄く形成することが好ましい
。また、絶縁体１２３に含まれる酸素がソース電極層１３０、ドレイン電極層１４０に拡
散し、ソース電極層１３０、ドレイン電極層１４０が酸化するのを防ぐため、絶縁体１２
３の膜厚は薄い方が好ましい。例えば、絶縁体１２３は半導体層１２２の厚さよりも薄く
すればよい。なお、これに限られず、絶縁体１２３の厚さはゲート絶縁層１５０の耐圧を
考慮して、トランジスタを駆動させる電圧に応じて適宜設定すればよい。
る効果が失われない程度の厚さであればよい。例えば、絶縁体１２１と同等またはそれ以
下の厚さとすればよい。絶縁体１２３が厚いと、ゲート電極層１６０による電界が半導体
層１２２に届きにくくなる恐れがあるため、絶縁体１２３は薄く形成することが好ましい
。また、絶縁体１２３に含まれる酸素がソース電極層１３０、ドレイン電極層１４０に拡
散し、ソース電極層１３０、ドレイン電極層１４０が酸化するのを防ぐため、絶縁体１２
３の膜厚は薄い方が好ましい。例えば、絶縁体１２３は半導体層１２２の厚さよりも薄く
すればよい。なお、これに限られず、絶縁体１２３の厚さはゲート絶縁層１５０の耐圧を
考慮して、トランジスタを駆動させる電圧に応じて適宜設定すればよい。
【0118】
絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３、それぞれの組成が異なる場合、界
面は、走査型透過電子顕微鏡ＳＴＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ
Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）を用いて観察することができる場合がある。
面は、走査型透過電子顕微鏡ＳＴＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ
Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）を用いて観察することができる場合がある。
【0119】
＜水素濃度について＞
絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３に含まれる水素は、金属原子と結合
する酸素と反応して水になると共に、酸素が脱離した格子（または酸素が脱離した部分）
に酸素欠損を形成する。当該酸素欠損に水素が入ることで、キャリアである電子が生成さ
れる場合がある。また、水素の一部が金属原子と結合する酸素と結合することで、キャリ
アである電子を生成する場合がある。従って、水素が含まれている酸化物を半導体として
用いたトランジスタはノーマリーオン特性となりやすい。
絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３に含まれる水素は、金属原子と結合
する酸素と反応して水になると共に、酸素が脱離した格子（または酸素が脱離した部分）
に酸素欠損を形成する。当該酸素欠損に水素が入ることで、キャリアである電子が生成さ
れる場合がある。また、水素の一部が金属原子と結合する酸素と結合することで、キャリ
アである電子を生成する場合がある。従って、水素が含まれている酸化物を半導体として
用いたトランジスタはノーマリーオン特性となりやすい。
【0120】
このため、絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３、およびそれぞれの界面におい
て、酸素欠損と共に、水素ができる限り低減されていることが好ましい。例えば、絶縁体
１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３、およびそれぞれの界面において二次イオン質量
分析法（ＳＩＭＳ：Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ
）により得られる水素濃度は、１×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上２×１０２０ａｔｏ
ｍｓ／ｃｍ３以下、好ましくは１×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上５×１０１９ａｔｏ
ｍｓ／ｃｍ３以下、より好ましくは１×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上１×１０１９ａ
ｔｏｍｓ／ｃｍ３以下、さらに好ましくは１×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上５×１０
１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下とすることが望ましい。この結果、トランジスタ１０は、し
きい値電圧がプラスとなる電気特性（ノーマリーオフ特性ともいう。）を有することがで
きる。
て、酸素欠損と共に、水素ができる限り低減されていることが好ましい。例えば、絶縁体
１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３、およびそれぞれの界面において二次イオン質量
分析法（ＳＩＭＳ：Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ
）により得られる水素濃度は、１×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上２×１０２０ａｔｏ
ｍｓ／ｃｍ３以下、好ましくは１×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上５×１０１９ａｔｏ
ｍｓ／ｃｍ３以下、より好ましくは１×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上１×１０１９ａ
ｔｏｍｓ／ｃｍ３以下、さらに好ましくは１×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上５×１０
１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下とすることが望ましい。この結果、トランジスタ１０は、し
きい値電圧がプラスとなる電気特性（ノーマリーオフ特性ともいう。）を有することがで
きる。
【0121】
＜炭素、シリコン濃度について＞
また、絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３、およびそれぞれの界面において、
第１４族元素の一つであるシリコンや炭素が含まれると、絶縁体１２１、半導体層１２２
、および絶縁体１２３において酸素欠損が増加し、ｎ型領域が形成されてしまう。このた
め、絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３、およびそれぞれの界面におけるシリ
コン、および炭素濃度は、低減することが望ましい。例えば、絶縁体１２１、半導体層１
２２、絶縁体１２３、およびそれぞれの界面においてＳＩＭＳにより得られるシリコンや
炭素の濃度は、１×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上１×１０１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以
下、好ましくは１×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上５×１０１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以
下、さらに好ましくは１×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上２×１０１８ａｔｏｍｓ／ｃ
ｍ３以下とすることが望ましい。この結果、トランジスタ１０は、しきい値電圧がプラス
となる電気特性（ノーマリーオフ特性ともいう。）を有する。
また、絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３、およびそれぞれの界面において、
第１４族元素の一つであるシリコンや炭素が含まれると、絶縁体１２１、半導体層１２２
、および絶縁体１２３において酸素欠損が増加し、ｎ型領域が形成されてしまう。このた
め、絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３、およびそれぞれの界面におけるシリ
コン、および炭素濃度は、低減することが望ましい。例えば、絶縁体１２１、半導体層１
２２、絶縁体１２３、およびそれぞれの界面においてＳＩＭＳにより得られるシリコンや
炭素の濃度は、１×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上１×１０１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以
下、好ましくは１×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上５×１０１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以
下、さらに好ましくは１×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上２×１０１８ａｔｏｍｓ／ｃ
ｍ３以下とすることが望ましい。この結果、トランジスタ１０は、しきい値電圧がプラス
となる電気特性（ノーマリーオフ特性ともいう。）を有する。
【0122】
＜アルカリ金属またはアルカリ土類金属の濃度について＞
また、アルカリ金属およびアルカリ土類金属は、酸化物と結合するとキャリアを生成する
場合があり、トランジスタのオフ電流が増大してしまうことがある。このため、絶縁体１
２１、半導体層１２２、絶縁体１２３、およびそれぞれの界面におけるアルカリ金属また
はアルカリ土類金属の濃度を低減することが好ましい。たとえば、絶縁体１２１、半導体
層１２２、絶縁体１２３、およびそれぞれの界面において、ＳＩＭＳにより得られるアル
カリ金属またはアルカリ土類金属の濃度を、１×１０１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下、好ま
しくは２×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下とすることが望ましい。この結果、トランジ
スタ１０は、しきい値電圧がプラスとなる電気特性（ノーマリーオフ特性ともいう。）を
有する。
また、アルカリ金属およびアルカリ土類金属は、酸化物と結合するとキャリアを生成する
場合があり、トランジスタのオフ電流が増大してしまうことがある。このため、絶縁体１
２１、半導体層１２２、絶縁体１２３、およびそれぞれの界面におけるアルカリ金属また
はアルカリ土類金属の濃度を低減することが好ましい。たとえば、絶縁体１２１、半導体
層１２２、絶縁体１２３、およびそれぞれの界面において、ＳＩＭＳにより得られるアル
カリ金属またはアルカリ土類金属の濃度を、１×１０１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下、好ま
しくは２×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下とすることが望ましい。この結果、トランジ
スタ１０は、しきい値電圧がプラスとなる電気特性（ノーマリーオフ特性ともいう。）を
有する。
【0123】
＜窒素濃度について＞
また、絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３、およびそれぞれの界面に窒素が含
まれていると、キャリアである電子が生じ、キャリア密度が増加し、ｎ型領域が形成され
てしまう。この結果、窒素が含まれている酸化物を用いたトランジスタはノーマリーオン
特性となりやすい。従って、絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３およびそれぞ
れの界面において、窒素はできる限り低減されていることが好ましい、例えば、絶縁体１
２１、半導体層１２２、絶縁体１２３、およびそれぞれの界面においてＳＩＭＳにより得
られる窒素濃度は、１×１０１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上５×１０１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ
３以下、好ましくは１×１０１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上５×１０１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ
３以下、より好ましくは１×１０１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上１×１０１８ａｔｏｍｓ／
ｃｍ３以下、さらに好ましくは１×１０１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上５×１０１７ａｔｏ
ｍｓ／ｃｍ３以下にすることが好ましい。この結果、トランジスタ１０は、しきい値電圧
がプラスとなる電気特性（ノーマリーオフ特性ともいう。）を有する。
また、絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３、およびそれぞれの界面に窒素が含
まれていると、キャリアである電子が生じ、キャリア密度が増加し、ｎ型領域が形成され
てしまう。この結果、窒素が含まれている酸化物を用いたトランジスタはノーマリーオン
特性となりやすい。従って、絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３およびそれぞ
れの界面において、窒素はできる限り低減されていることが好ましい、例えば、絶縁体１
２１、半導体層１２２、絶縁体１２３、およびそれぞれの界面においてＳＩＭＳにより得
られる窒素濃度は、１×１０１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上５×１０１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ
３以下、好ましくは１×１０１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上５×１０１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ
３以下、より好ましくは１×１０１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上１×１０１８ａｔｏｍｓ／
ｃｍ３以下、さらに好ましくは１×１０１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上５×１０１７ａｔｏ
ｍｓ／ｃｍ３以下にすることが好ましい。この結果、トランジスタ１０は、しきい値電圧
がプラスとなる電気特性（ノーマリーオフ特性ともいう。）を有する。
【0124】
＜キャリア密度について＞
絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３の不純物を低減することで、絶縁体
１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３のキャリア密度を低減することができる。
このため、絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３は、キャリア密度が１×
１０１５個／ｃｍ３以下、好ましくは１×１０１３個／ｃｍ３以下、さらに好ましくは８
×１０１１個／ｃｍ３未満、より好ましくは１×１０１１個／ｃｍ３未満、最も好ましく
は１×１０１０個／ｃｍ３未満であり、１×１０－９個／ｃｍ３以上とする。
絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３の不純物を低減することで、絶縁体
１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３のキャリア密度を低減することができる。
このため、絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３は、キャリア密度が１×
１０１５個／ｃｍ３以下、好ましくは１×１０１３個／ｃｍ３以下、さらに好ましくは８
×１０１１個／ｃｍ３未満、より好ましくは１×１０１１個／ｃｍ３未満、最も好ましく
は１×１０１０個／ｃｍ３未満であり、１×１０－９個／ｃｍ３以上とする。
【0125】
絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３として、不純物濃度が低く、欠陥準
位密度の低い酸化物膜を用いることで、さらに優れた電気特性を有するトランジスタを作
製することができる。ここでは、不純物濃度が低く、欠陥準位密度の低い（酸素欠損の少
ない）ことを高純度真性または実質的に高純度真性とよぶ。高純度真性または実質的に高
純度真性である酸化物は、キャリア発生源が少ないため、キャリア密度を低くすることが
できる場合がある。従って、当該酸化物膜にチャネル領域が形成されるトランジスタは、
しきい値電圧がプラスとなる電気特性（ノーマリーオフ特性ともいう。）になりやすい。
また、高純度真性または実質的に高純度真性である酸化物膜は、欠陥準位密度が低いため
、トラップ準位密度も低くなる場合がある。また、高純度真性または実質的に高純度真性
である酸化物膜をもちいたトランジスタは、オフ電流が著しく小さく、ソース電極とドレ
イン電極間の電圧（ドレイン電圧）が１Ｖから１０Ｖの範囲において、オフ電流が、半導
体パラメータアナライザの測定限界以下、すなわち１×１０－１３Ａ以下という特性を得
ることができる。従って、当該酸化物膜にチャネル領域が形成されるトランジスタは、電
気特性の変動が小さく、信頼性の高いトランジスタとなる場合がある。
位密度の低い酸化物膜を用いることで、さらに優れた電気特性を有するトランジスタを作
製することができる。ここでは、不純物濃度が低く、欠陥準位密度の低い（酸素欠損の少
ない）ことを高純度真性または実質的に高純度真性とよぶ。高純度真性または実質的に高
純度真性である酸化物は、キャリア発生源が少ないため、キャリア密度を低くすることが
できる場合がある。従って、当該酸化物膜にチャネル領域が形成されるトランジスタは、
しきい値電圧がプラスとなる電気特性（ノーマリーオフ特性ともいう。）になりやすい。
また、高純度真性または実質的に高純度真性である酸化物膜は、欠陥準位密度が低いため
、トラップ準位密度も低くなる場合がある。また、高純度真性または実質的に高純度真性
である酸化物膜をもちいたトランジスタは、オフ電流が著しく小さく、ソース電極とドレ
イン電極間の電圧（ドレイン電圧）が１Ｖから１０Ｖの範囲において、オフ電流が、半導
体パラメータアナライザの測定限界以下、すなわち１×１０－１３Ａ以下という特性を得
ることができる。従って、当該酸化物膜にチャネル領域が形成されるトランジスタは、電
気特性の変動が小さく、信頼性の高いトランジスタとなる場合がある。
【0126】
また、上述のように高純度化された酸化物膜をチャネル形成領域に用いたトランジスタの
オフ電流は極めて小さい。例えば、ソースとドレインとの間の電圧を０．１Ｖ、５Ｖ、ま
たは、１０Ｖ程度とした場合に、トランジスタのチャネル幅で規格化したオフ電流を数ｙ
Ａ／μｍ乃至数ｚＡ／μｍにまで低減することが可能となる。
オフ電流は極めて小さい。例えば、ソースとドレインとの間の電圧を０．１Ｖ、５Ｖ、ま
たは、１０Ｖ程度とした場合に、トランジスタのチャネル幅で規格化したオフ電流を数ｙ
Ａ／μｍ乃至数ｚＡ／μｍにまで低減することが可能となる。
【0127】
絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３は、例えば非単結晶構造でもよい。
非単結晶構造は、例えば、後述するＣＡＡＣ－ＯＳ、多結晶構造、微結晶構造、または非
晶質構造を含む。非単結晶構造において、非晶質構造は最も欠陥準位密度が高く、ＣＡＡ
Ｃ－ＯＳは最も欠陥準位密度が低い。
非単結晶構造は、例えば、後述するＣＡＡＣ－ＯＳ、多結晶構造、微結晶構造、または非
晶質構造を含む。非単結晶構造において、非晶質構造は最も欠陥準位密度が高く、ＣＡＡ
Ｃ－ＯＳは最も欠陥準位密度が低い。
【0128】
絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３は、例えば微結晶構造でもよい。微
結晶構造の絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３は、例えば、１ｎｍ以上
１０ｎｍ未満のサイズの微結晶を膜中に含む。または、微結晶構造の酸化物膜は、例えば
、非晶質相に１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の結晶部を有する混相構造である。
結晶構造の絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３は、例えば、１ｎｍ以上
１０ｎｍ未満のサイズの微結晶を膜中に含む。または、微結晶構造の酸化物膜は、例えば
、非晶質相に１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の結晶部を有する混相構造である。
【0129】
絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３は、例えば非晶質構造でもよい。非
晶質構造の、絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３は、例えば、原子配列
が無秩序であり、結晶成分を有さない。または、非晶質構造の酸化物膜は、例えば、完全
な非晶質構造であり、結晶部を有さない。
晶質構造の、絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３は、例えば、原子配列
が無秩序であり、結晶成分を有さない。または、非晶質構造の酸化物膜は、例えば、完全
な非晶質構造であり、結晶部を有さない。
【0130】
なお、絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３が、ＣＡＡＣ－ＯＳ、微結晶
構造、および非晶質構造の二以上の構造の領域を有する混合膜であってもよい。混合膜と
して、例えば、非晶質構造の領域と、微結晶構造の領域と、ＣＡＡＣ－ＯＳの領域と、を
有する単層構造がある。または、混合膜として、例えば、非晶質構造の領域と、微結晶構
造の領域と、ＣＡＡＣ－ＯＳの領域と、の積層構造がある。
構造、および非晶質構造の二以上の構造の領域を有する混合膜であってもよい。混合膜と
して、例えば、非晶質構造の領域と、微結晶構造の領域と、ＣＡＡＣ－ＯＳの領域と、を
有する単層構造がある。または、混合膜として、例えば、非晶質構造の領域と、微結晶構
造の領域と、ＣＡＡＣ－ＯＳの領域と、の積層構造がある。
【0131】
なお、絶縁体１２１、半導体層１２２、および絶縁体１２３は、例えば、単結晶構造を有
してもよい。
してもよい。
【0132】
半導体層１２２と比較して酸素欠損の生じにくい酸化物膜を半導体層１２２の上下に接し
て設けることで、半導体層１２２における酸素欠損を低減することができる。また、半導
体層１２２は、半導体層１２２を構成する金属元素の一以上を有する絶縁体１２１、絶縁
体１２３と接するため、絶縁体１２１と半導体層１２２との界面、半導体層１２２と絶縁
体１２３との界面における界面準位密度が極めて低い。例えば、絶縁層１１０に酸素を添
加した後、加熱処理を行うことで該酸素が絶縁体１２１を経由して半導体層１２２へ酸素
が移動するが、このときに界面準位において酸素が捕獲されにくく、効率よく絶縁体１２
１に含まれる酸素を半導体層１２２へ移動させることが可能である。この結果、半導体層
１２２に含まれる酸素欠損を低減することが可能である。また、絶縁体１２１にも酸素が
添加されるため、絶縁体１２１の酸素欠損を低減することが可能である。即ち、少なくと
も半導体層１２２の局在準位密度を低減することができる。
て設けることで、半導体層１２２における酸素欠損を低減することができる。また、半導
体層１２２は、半導体層１２２を構成する金属元素の一以上を有する絶縁体１２１、絶縁
体１２３と接するため、絶縁体１２１と半導体層１２２との界面、半導体層１２２と絶縁
体１２３との界面における界面準位密度が極めて低い。例えば、絶縁層１１０に酸素を添
加した後、加熱処理を行うことで該酸素が絶縁体１２１を経由して半導体層１２２へ酸素
が移動するが、このときに界面準位において酸素が捕獲されにくく、効率よく絶縁体１２
１に含まれる酸素を半導体層１２２へ移動させることが可能である。この結果、半導体層
１２２に含まれる酸素欠損を低減することが可能である。また、絶縁体１２１にも酸素が
添加されるため、絶縁体１２１の酸素欠損を低減することが可能である。即ち、少なくと
も半導体層１２２の局在準位密度を低減することができる。
【0133】
また、半導体層１２２が、構成元素の異なる絶縁膜（例えば、酸化シリコン膜を含むゲー
ト絶縁層）と接する場合、界面準位が形成され、該界面準位はチャネルを形成することが
ある。このような場合、しきい値電圧の異なる第２のトランジスタが出現し、トランジス
タの見かけ上のしきい値電圧が変動することがある。しかしながら、半導体層１２２を構
成する金属元素を一種以上含む絶縁体１２１および絶縁体１２３が半導体層１２２と接す
るため、絶縁体１２１と半導体層１２２の界面、および絶縁体１２３と半導体層１２２の
界面に界面準位を形成しにくくなる。
ト絶縁層）と接する場合、界面準位が形成され、該界面準位はチャネルを形成することが
ある。このような場合、しきい値電圧の異なる第２のトランジスタが出現し、トランジス
タの見かけ上のしきい値電圧が変動することがある。しかしながら、半導体層１２２を構
成する金属元素を一種以上含む絶縁体１２１および絶縁体１２３が半導体層１２２と接す
るため、絶縁体１２１と半導体層１２２の界面、および絶縁体１２３と半導体層１２２の
界面に界面準位を形成しにくくなる。
【0134】
また、絶縁体１２１、絶縁体１２３は、それぞれ絶縁層１１０、ゲート絶縁層１５０の構
成元素が半導体層１２２へ混入して、不純物による準位が形成されることを抑制するため
のバリア膜としても機能する。
成元素が半導体層１２２へ混入して、不純物による準位が形成されることを抑制するため
のバリア膜としても機能する。
【0135】
例えば、絶縁層１１０、またはゲート絶縁層１５０として、シリコンを含む絶縁膜を用い
る場合、ゲート絶縁層１５０中のシリコン、または絶縁層１１０と、ゲート絶縁層１５０
中に混入されうる炭素が、絶縁体１２１または絶縁体１２３の中へ界面から数ｎｍ程度ま
で混入することがある。シリコン、炭素等の不純物が半導体層１２２中に入ると不純物準
位を形成し、不純物準位がドナーとなり電子を生成することでｎ型化することがある。
る場合、ゲート絶縁層１５０中のシリコン、または絶縁層１１０と、ゲート絶縁層１５０
中に混入されうる炭素が、絶縁体１２１または絶縁体１２３の中へ界面から数ｎｍ程度ま
で混入することがある。シリコン、炭素等の不純物が半導体層１２２中に入ると不純物準
位を形成し、不純物準位がドナーとなり電子を生成することでｎ型化することがある。
【0136】
しかしながら、絶縁体１２１、絶縁体１２３の膜厚が、数ｎｍよりも厚ければ、混入した
シリコン、炭素等の不純物が半導体層１２２にまで到達しないため、不純物準位の影響は
低減される。
シリコン、炭素等の不純物が半導体層１２２にまで到達しないため、不純物準位の影響は
低減される。
【0137】
よって、絶縁体１２１、絶縁体１２３を設けることにより、トランジスタのしきい値電圧
などの電気特性のばらつきを低減することができる。
などの電気特性のばらつきを低減することができる。
【0138】
また、ゲート絶縁層１５０と半導体層１２２が接して、その界面にチャネルが形成される
場合、該界面で界面散乱が起こり、トランジスタの電界効果移動度が低くなる。しかしな
がら、半導体層１２２を構成する金属元素を一種以上含む絶縁体１２１、絶縁体１２３が
半導体層１２２に接して設けられるため、半導体層１２２と絶縁体１２１、絶縁体１２３
との界面ではキャリアの散乱が起こりにくく、トランジスタの電界効果移動度を高くする
ことができる。
場合、該界面で界面散乱が起こり、トランジスタの電界効果移動度が低くなる。しかしな
がら、半導体層１２２を構成する金属元素を一種以上含む絶縁体１２１、絶縁体１２３が
半導体層１２２に接して設けられるため、半導体層１２２と絶縁体１２１、絶縁体１２３
との界面ではキャリアの散乱が起こりにくく、トランジスタの電界効果移動度を高くする
ことができる。
【0139】
本実施の形態においては、半導体層１２２の酸素欠損量、さらには半導体層１２２に接す
る絶縁体１２１、絶縁体１２３の酸素欠損量を低減することが可能であり、半導体層１２
２の局在準位密度を低減することができる。この結果、本実施の形態に示すトランジスタ
１０は、しきい値電圧の変動が少なく、信頼性が高い特性を有することができる。また、
本実施の形態に示すトランジスタ１０は優れた電気特性を有する。
る絶縁体１２１、絶縁体１２３の酸素欠損量を低減することが可能であり、半導体層１２
２の局在準位密度を低減することができる。この結果、本実施の形態に示すトランジスタ
１０は、しきい値電圧の変動が少なく、信頼性が高い特性を有することができる。また、
本実施の形態に示すトランジスタ１０は優れた電気特性を有する。
【0140】
なお、トランジスタのゲート絶縁層としては、シリコンを含む絶縁膜が多く用いられるた
め、上記理由により酸化物層のチャネルとなる領域は、本発明の一態様のトランジスタの
ようにゲート絶縁層と接しない構造が好ましいということができる。また、ゲート絶縁層
と酸化物層との界面にチャネルが形成される場合、該界面でキャリアの散乱が起こり、ト
ランジスタの電界効果移動度が低くなることがある。このような観点からも、酸化物層の
チャネルとなる領域はゲート絶縁層から離すことが好ましいといえる。
め、上記理由により酸化物層のチャネルとなる領域は、本発明の一態様のトランジスタの
ようにゲート絶縁層と接しない構造が好ましいということができる。また、ゲート絶縁層
と酸化物層との界面にチャネルが形成される場合、該界面でキャリアの散乱が起こり、ト
ランジスタの電界効果移動度が低くなることがある。このような観点からも、酸化物層の
チャネルとなる領域はゲート絶縁層から離すことが好ましいといえる。
【0141】
したがって、半導体層１２０を絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３の積層構造
とすることで、半導体層１２２にチャネルを形成することができ、高い電界効果移動度お
よび安定した電気特性を有したトランジスタを形成することができる。
とすることで、半導体層１２２にチャネルを形成することができ、高い電界効果移動度お
よび安定した電気特性を有したトランジスタを形成することができる。
【0142】
なお、半導体層は必ずしも３層にする必要はなく、単層、２層、４層、さらには５層以上
の構成としてもよい。単層とする場合、本実施の形態に示す、半導体層１２２に相当する
層を用いればよい。
の構成としてもよい。単層とする場合、本実施の形態に示す、半導体層１２２に相当する
層を用いればよい。
【0143】
＜バンド図＞
ここで、バンド図について説明する。バンド図は、理解を容易にするため絶縁層１１０、
絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３、およびゲート絶縁層１５０の伝導帯下端
のエネルギー（Ｅｃ）を示す。
ここで、バンド図について説明する。バンド図は、理解を容易にするため絶縁層１１０、
絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３、およびゲート絶縁層１５０の伝導帯下端
のエネルギー（Ｅｃ）を示す。
【0144】
図３（Ａ）、図３（Ｂ）に示すように、絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３に
おいて、伝導帯下端のエネルギーが連続的に変化する。これは、絶縁体１２１、半導体層
１２２、絶縁体１２３を構成する元素が共通することにより、酸素が相互に拡散しやすい
点からも理解される。したがって、絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３は組成
が異なる膜の積層体ではあるが、物性的に連続であるということもできる。
おいて、伝導帯下端のエネルギーが連続的に変化する。これは、絶縁体１２１、半導体層
１２２、絶縁体１２３を構成する元素が共通することにより、酸素が相互に拡散しやすい
点からも理解される。したがって、絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３は組成
が異なる膜の積層体ではあるが、物性的に連続であるということもできる。
【0145】
主成分を共通として積層された酸化物膜は、各層を単に積層するのではなく連続接合（こ
こでは特に伝導帯下端のエネルギーが各層の間で連続的に変化するＵ字型の井戸（Ｕ Ｓ
ｈａｐｅ Ｗｅｌｌ）構造）が形成されるように作製する。すなわち、各層の界面にトラ
ップ中心や再結合中心のような欠陥準位を形成するような不純物が存在しないように積層
構造を形成する。仮に、積層された多層膜の層間に不純物が混在していると、エネルギー
バンドの連続性が失われ、界面でキャリアがトラップあるいは再結合により消滅してしま
う。
こでは特に伝導帯下端のエネルギーが各層の間で連続的に変化するＵ字型の井戸（Ｕ Ｓ
ｈａｐｅ Ｗｅｌｌ）構造）が形成されるように作製する。すなわち、各層の界面にトラ
ップ中心や再結合中心のような欠陥準位を形成するような不純物が存在しないように積層
構造を形成する。仮に、積層された多層膜の層間に不純物が混在していると、エネルギー
バンドの連続性が失われ、界面でキャリアがトラップあるいは再結合により消滅してしま
う。
【0146】
なお、図３（Ｂ）では、絶縁体１２１と、絶縁体１２３のＥｃが同様である場合について
示したが、それぞれが異なっていてもよい。
示したが、それぞれが異なっていてもよい。
【0147】
図３（Ｂ）より、半導体層１２２がウェル（井戸）となり、トランジスタ１０において、
チャネルが半導体層１２２に形成されることがわかる。なお、半導体層１２２を底として
伝導帯下端のエネルギーが連続的に変化するＵ字型の井戸構造のチャネルを埋め込みチャ
ネルということもできる。
チャネルが半導体層１２２に形成されることがわかる。なお、半導体層１２２を底として
伝導帯下端のエネルギーが連続的に変化するＵ字型の井戸構造のチャネルを埋め込みチャ
ネルということもできる。
【0148】
なお、絶縁体１２１および絶縁体１２３と、酸化シリコン膜などの絶縁膜との界面近傍に
は、不純物や欠陥に起因したトラップ準位が形成され得る。絶縁体１２１、絶縁体１２３
があることにより、半導体層１２２と当該トラップ準位とを遠ざけることができる。ただ
し、絶縁体１２１、または絶縁体１２３のＥｃと、半導体層１２２のＥｃとのエネルギー
差が小さい場合、半導体層１２２の電子が該エネルギー差を越えてトラップ準位に達する
ことがある。マイナスの電荷となる電子がトラップ準位に捕獲されることで、絶縁膜界面
にマイナスの固定電荷が生じ、トランジスタのしきい値電圧はプラス方向にシフトしてし
まう。さらに、トランジスタの長期保存試験において、トラップが固定化されず、特性へ
の変動を起こす懸念がある。
は、不純物や欠陥に起因したトラップ準位が形成され得る。絶縁体１２１、絶縁体１２３
があることにより、半導体層１２２と当該トラップ準位とを遠ざけることができる。ただ
し、絶縁体１２１、または絶縁体１２３のＥｃと、半導体層１２２のＥｃとのエネルギー
差が小さい場合、半導体層１２２の電子が該エネルギー差を越えてトラップ準位に達する
ことがある。マイナスの電荷となる電子がトラップ準位に捕獲されることで、絶縁膜界面
にマイナスの固定電荷が生じ、トランジスタのしきい値電圧はプラス方向にシフトしてし
まう。さらに、トランジスタの長期保存試験において、トラップが固定化されず、特性へ
の変動を起こす懸念がある。
【0149】
したがって、トランジスタのしきい値電圧の変動を低減するには、絶縁体１２１、および
絶縁体１２３のＥｃと、半導体層１２２のＥｃとの間にエネルギー差を設けることが必要
となる。それぞれの当該エネルギー差は、０．１ｅＶ以上が好ましく、０．２ｅＶ以上が
より好ましい。
絶縁体１２３のＥｃと、半導体層１２２のＥｃとの間にエネルギー差を設けることが必要
となる。それぞれの当該エネルギー差は、０．１ｅＶ以上が好ましく、０．２ｅＶ以上が
より好ましい。
【0150】
なお、絶縁体１２１、半導体層１２２、絶縁体１２３には、結晶部が含まれることが好ま
しい。特にｃ軸に配向した結晶を用いることでトランジスタに安定した電気特性を付与す
ることができる。
しい。特にｃ軸に配向した結晶を用いることでトランジスタに安定した電気特性を付与す
ることができる。
【0151】
また、図３（Ｂ）に示すようなバンド図において、絶縁体１２３を設けず、半導体層１２
２とゲート絶縁層１５０の間にＩｎ－Ｇａ酸化物（たとえば、原子数比がＩｎ：Ｇａ＝７
：９３のＩｎ－Ｇａ酸化物）を設けてもよいし、あるいは酸化ガリウムを設けてもよい。
また、絶縁体１２３を有する状態で絶縁体１２３とゲート絶縁層１５０の間にＩｎ－Ｇａ
酸化物を設けてもよいし、あるいは酸化ガリウムを設けてもよい。
２とゲート絶縁層１５０の間にＩｎ－Ｇａ酸化物（たとえば、原子数比がＩｎ：Ｇａ＝７
：９３のＩｎ－Ｇａ酸化物）を設けてもよいし、あるいは酸化ガリウムを設けてもよい。
また、絶縁体１２３を有する状態で絶縁体１２３とゲート絶縁層１５０の間にＩｎ－Ｇａ
酸化物を設けてもよいし、あるいは酸化ガリウムを設けてもよい。
【0152】
半導体層１２２は、絶縁体１２１、および絶縁体１２３よりも電子親和力の大きい酸化物
を用いる。例えば、半導体層１２２として、絶縁体１２１および絶縁体１２３よりも電子
親和力が０．０７ｅＶ以上１．３ｅＶ以下、好ましくは０．１ｅＶ以上０．７ｅＶ以下、
さらに好ましくは０．２ｅＶ以上０．４ｅＶ以下大きい酸化物を用いることができる。
を用いる。例えば、半導体層１２２として、絶縁体１２１および絶縁体１２３よりも電子
親和力が０．０７ｅＶ以上１．３ｅＶ以下、好ましくは０．１ｅＶ以上０．７ｅＶ以下、
さらに好ましくは０．２ｅＶ以上０．４ｅＶ以下大きい酸化物を用いることができる。
【0153】
本実施の形態に示すトランジスタは、半導体層１２２を構成する金属元素を一種以上含ん
でいる絶縁体１２１、絶縁体１２３を有しているため、絶縁体１２１と半導体層１２２と
の界面、および絶縁体１２３と半導体層１２２との界面に界面準位を形成しにくくなる。
よって絶縁体１２１、絶縁体１２３を設けることにより、トランジスタのしきい値電圧な
どの電気特性のばらつきや変動を低減することができる。
でいる絶縁体１２１、絶縁体１２３を有しているため、絶縁体１２１と半導体層１２２と
の界面、および絶縁体１２３と半導体層１２２との界面に界面準位を形成しにくくなる。
よって絶縁体１２１、絶縁体１２３を設けることにより、トランジスタのしきい値電圧な
どの電気特性のばらつきや変動を低減することができる。
【0154】
《ソース電極層１３０、ドレイン電極層１４０》
ソース電極層１３０、ドレイン電極層１４０には、銅（Ｃｕ）、タングステン（Ｗ）、モ
リブデン（Ｍｏ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、マンガン（Ｍｎ）、チタン（Ｔ
ｉ）、タンタル（Ｔａ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、鉛（Ｐｂ）、錫（Ｓｎ）
、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ルテニウム（Ｒｕ）、白金（Ｐｔ）、イリジウム（Ｉ
ｒ）、ストロンチウム（Ｓｒ）などの材料からなる単体、もしくは合金、またはこれらを
主成分とする酸素、窒素、フッ素、シリコン、などの化合物を含む導電層の単層または積
層とすることが好ましい。例えば、積層する場合に、半導体層１２２と接触する下側の導
電層は酸素と結合しやすい材料を有し、上側の導電層には耐酸化性の強い材料を有するこ
とができる。また、耐熱性と導電性を両立するタングステンやモリブデンなどの高融点材
料を用いることが好ましい。また、アルミニウムや銅などの低抵抗導電性材料で形成する
ことが好ましい。さらに、Ｃｕ－Ｍｎ合金を用いると、酸素を含む絶縁体との界面に酸化
マンガンを形成し、酸化マンガンがＣｕの拡散を抑制する機能を持つので好ましい。また
、窒化タンタルを用いた場合、水素、酸素の拡散を抑える効果（バリア性）を有し、また
窒化タンタル自体が酸化しにくい効果を有するので好ましい。
ソース電極層１３０、ドレイン電極層１４０には、銅（Ｃｕ）、タングステン（Ｗ）、モ
リブデン（Ｍｏ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、マンガン（Ｍｎ）、チタン（Ｔ
ｉ）、タンタル（Ｔａ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、鉛（Ｐｂ）、錫（Ｓｎ）
、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ルテニウム（Ｒｕ）、白金（Ｐｔ）、イリジウム（Ｉ
ｒ）、ストロンチウム（Ｓｒ）などの材料からなる単体、もしくは合金、またはこれらを
主成分とする酸素、窒素、フッ素、シリコン、などの化合物を含む導電層の単層または積
層とすることが好ましい。例えば、積層する場合に、半導体層１２２と接触する下側の導
電層は酸素と結合しやすい材料を有し、上側の導電層には耐酸化性の強い材料を有するこ
とができる。また、耐熱性と導電性を両立するタングステンやモリブデンなどの高融点材
料を用いることが好ましい。また、アルミニウムや銅などの低抵抗導電性材料で形成する
ことが好ましい。さらに、Ｃｕ－Ｍｎ合金を用いると、酸素を含む絶縁体との界面に酸化
マンガンを形成し、酸化マンガンがＣｕの拡散を抑制する機能を持つので好ましい。また
、窒化タンタルを用いた場合、水素、酸素の拡散を抑える効果（バリア性）を有し、また
窒化タンタル自体が酸化しにくい効果を有するので好ましい。
【0155】
また、酸素と結合しやすい導電材料と酸化物半導体層を接触させると、酸化物半導体層中
の酸素が、酸素と結合しやすい導電材料側に拡散する現象が起こる。酸化物半導体層のソ
ース電極層またはドレイン電極層と接触した近傍の領域に酸素欠損が発生し、膜中に僅か
に含まれる水素が当該酸素欠損に入り込むことにより当該領域は顕著にｎ型化する。した
がって、ｎ型化した当該領域はトランジスタのソースまたはドレインとして作用させるこ
とができる。
の酸素が、酸素と結合しやすい導電材料側に拡散する現象が起こる。酸化物半導体層のソ
ース電極層またはドレイン電極層と接触した近傍の領域に酸素欠損が発生し、膜中に僅か
に含まれる水素が当該酸素欠損に入り込むことにより当該領域は顕著にｎ型化する。した
がって、ｎ型化した当該領域はトランジスタのソースまたはドレインとして作用させるこ
とができる。
【0156】
たとえば、下側の導電層としてＷを用いて、上側の導電層としてＰｔを用いた積層構造と
することで、接触した酸化物半導体をｎ型にしつつ、絶縁層１７５と接することによる導
電層の酸化を抑えることができる。
することで、接触した酸化物半導体をｎ型にしつつ、絶縁層１７５と接することによる導
電層の酸化を抑えることができる。
【0157】
《ゲート絶縁層１５０》
ゲート絶縁層１５０には、酸素（Ｏ）、窒素（Ｎ）、フッ素（Ｆ）、アルミニウム（Ａｌ
）、マグネシウム（Ｍｇ）、シリコン（Ｓｉ）、ガリウム（Ｇａ）、ゲルマニウム（Ｇｅ
）、イットリウム（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ランタン（Ｌａ）、ネオジム（Ｎｄ）
、ハフニウム（Ｈｆ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）などを有することができる。
例えば、酸化アルミニウム（ＡｌＯｘ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯｘ）、酸化シリコン
（ＳｉＯｘ）、酸化窒化シリコン（ＳｉＯｘＮｙ）、窒化酸化シリコン（ＳｉＮｘＯｙ）
、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）、酸化ガリウム（ＧａＯｘ）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯｘ
）、酸化イットリウム（ＹＯｘ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯｘ）、酸化ランタン（Ｌａ
Ｏｘ）、酸化ネオジム（ＮｄＯｘ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯｘ）および酸化タンタル（
ＴａＯｘ）を一種以上含む絶縁膜を用いることができる。また、ゲート絶縁層１５０は上
記材料の積層であってもよい。なお、ゲート絶縁層１５０に、ランタン（Ｌａ）、窒素、
ジルコニウム（Ｚｒ）などを、不純物として含んでいてもよい。
ゲート絶縁層１５０には、酸素（Ｏ）、窒素（Ｎ）、フッ素（Ｆ）、アルミニウム（Ａｌ
）、マグネシウム（Ｍｇ）、シリコン（Ｓｉ）、ガリウム（Ｇａ）、ゲルマニウム（Ｇｅ
）、イットリウム（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ランタン（Ｌａ）、ネオジム（Ｎｄ）
、ハフニウム（Ｈｆ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）などを有することができる。
例えば、酸化アルミニウム（ＡｌＯｘ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯｘ）、酸化シリコン
（ＳｉＯｘ）、酸化窒化シリコン（ＳｉＯｘＮｙ）、窒化酸化シリコン（ＳｉＮｘＯｙ）
、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）、酸化ガリウム（ＧａＯｘ）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯｘ
）、酸化イットリウム（ＹＯｘ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯｘ）、酸化ランタン（Ｌａ
Ｏｘ）、酸化ネオジム（ＮｄＯｘ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯｘ）および酸化タンタル（
ＴａＯｘ）を一種以上含む絶縁膜を用いることができる。また、ゲート絶縁層１５０は上
記材料の積層であってもよい。なお、ゲート絶縁層１５０に、ランタン（Ｌａ）、窒素、
ジルコニウム（Ｚｒ）などを、不純物として含んでいてもよい。
【0158】
また、ゲート絶縁層１５０の積層構造の一例について説明する。ゲート絶縁層１５０は、
例えば、酸素、窒素、シリコン、ハフニウムなどを有する。具体的には、酸化ハフニウム
、および酸化シリコンまたは酸化窒化シリコンを含むと好ましい。
例えば、酸素、窒素、シリコン、ハフニウムなどを有する。具体的には、酸化ハフニウム
、および酸化シリコンまたは酸化窒化シリコンを含むと好ましい。
【0159】
酸化ハフニウムは、酸化シリコンや酸化窒化シリコンと比べて比誘電率が高い。したがっ
て、酸化シリコンを用いた場合と比べて、ゲート絶縁層１５０の膜厚を大きくできるため
、トンネル電流によるリーク電流を小さくすることができる。即ち、オフ電流の小さいト
ランジスタを実現することができる。さらに、結晶構造を有する酸化ハフニウムは、非晶
質構造を有する酸化ハフニウムと比べて高い比誘電率を備える。したがって、オフ電流の
小さいトランジスタとするためには、結晶構造を有する酸化ハフニウムを用いることが好
ましい。結晶構造の例としては、単斜晶系や立方晶系などが挙げられる。ただし、本発明
の一態様は、これらに限定されない。
て、酸化シリコンを用いた場合と比べて、ゲート絶縁層１５０の膜厚を大きくできるため
、トンネル電流によるリーク電流を小さくすることができる。即ち、オフ電流の小さいト
ランジスタを実現することができる。さらに、結晶構造を有する酸化ハフニウムは、非晶
質構造を有する酸化ハフニウムと比べて高い比誘電率を備える。したがって、オフ電流の
小さいトランジスタとするためには、結晶構造を有する酸化ハフニウムを用いることが好
ましい。結晶構造の例としては、単斜晶系や立方晶系などが挙げられる。ただし、本発明
の一態様は、これらに限定されない。
【0160】
ところで、結晶構造を有する酸化ハフニウムの被形成面は、欠陥に起因した界面準位を有
する場合がある。該界面準位はトラップセンターとして機能する場合がある。そのため、
酸化ハフニウムがトランジスタのチャネル領域に近接して配置されるとき、該界面準位に
よってトランジスタの電気特性が劣化する場合がある。そこで、該界面準位の影響を低減
するために、トランジスタのチャネル領域と酸化ハフニウムとの間に、別の膜を配置する
ことによって互いに離間させることが好ましい場合がある。この膜は、緩衝機能を有する
。緩衝機能を有する膜は、ゲート絶縁層１５０に含まれる膜であってもよいし、酸化物半
導体膜に含まれる膜であってもよい。即ち、緩衝機能を有する膜としては、酸化シリコン
、酸化窒化シリコン、酸化物半導体などを用いることができる。なお、緩衝機能を有する
膜には、たとえば、チャネル領域となる半導体よりもエネルギーギャップの大きい半導体
または絶縁体を用いる。または、緩衝機能を有する膜には、たとえば、チャネル領域とな
る半導体よりも電子親和力の小さい半導体または絶縁体を用いる。または、緩衝機能を有
する膜には、たとえば、チャネル領域となる半導体よりもイオン化エネルギーの大きい半
導体または絶縁体を用いる。
する場合がある。該界面準位はトラップセンターとして機能する場合がある。そのため、
酸化ハフニウムがトランジスタのチャネル領域に近接して配置されるとき、該界面準位に
よってトランジスタの電気特性が劣化する場合がある。そこで、該界面準位の影響を低減
するために、トランジスタのチャネル領域と酸化ハフニウムとの間に、別の膜を配置する
ことによって互いに離間させることが好ましい場合がある。この膜は、緩衝機能を有する
。緩衝機能を有する膜は、ゲート絶縁層１５０に含まれる膜であってもよいし、酸化物半
導体膜に含まれる膜であってもよい。即ち、緩衝機能を有する膜としては、酸化シリコン
、酸化窒化シリコン、酸化物半導体などを用いることができる。なお、緩衝機能を有する
膜には、たとえば、チャネル領域となる半導体よりもエネルギーギャップの大きい半導体
または絶縁体を用いる。または、緩衝機能を有する膜には、たとえば、チャネル領域とな
る半導体よりも電子親和力の小さい半導体または絶縁体を用いる。または、緩衝機能を有
する膜には、たとえば、チャネル領域となる半導体よりもイオン化エネルギーの大きい半
導体または絶縁体を用いる。
【0161】
一方、上述した結晶構造を有する酸化ハフニウムの被形成面における界面準位（トラップ
センター）に電荷をトラップさせることで、トランジスタのしきい値電圧を制御できる場
合がある。該電荷を安定して存在させるためには、たとえば、チャネル領域と酸化ハフニ
ウムとの間に、酸化ハフニウムよりもエネルギーギャップの大きい絶縁体を配置すればよ
い。または、酸化ハフニウムよりも電子親和力の小さい半導体または絶縁体を配置すれば
よい。または、緩衝機能を有する膜には、酸化ハフニウムよりもイオン化エネルギーの大
きい半導体または絶縁体を配置すればよい。このような絶縁体を用いることで、界面準位
にトラップされた電荷の放出が起こりにくくなり、長期間に渡って電荷を保持することが
できる。
センター）に電荷をトラップさせることで、トランジスタのしきい値電圧を制御できる場
合がある。該電荷を安定して存在させるためには、たとえば、チャネル領域と酸化ハフニ
ウムとの間に、酸化ハフニウムよりもエネルギーギャップの大きい絶縁体を配置すればよ
い。または、酸化ハフニウムよりも電子親和力の小さい半導体または絶縁体を配置すれば
よい。または、緩衝機能を有する膜には、酸化ハフニウムよりもイオン化エネルギーの大
きい半導体または絶縁体を配置すればよい。このような絶縁体を用いることで、界面準位
にトラップされた電荷の放出が起こりにくくなり、長期間に渡って電荷を保持することが
できる。
【0162】
そのような絶縁体として、例えば、酸化シリコン、酸化窒化シリコンが挙げられる。ゲー
ト絶縁層１５０内の界面準位に電荷を捕獲させるためには、酸化物半導体膜からゲート電
極層１６０に向かって電子を移動させればよい。具体的な例としては、高い温度（例えば
、１２５℃以上４５０℃以下、代表的には１５０℃以上３００℃以下）の下で、ゲート電
極層１６０の電位をソース電極層１３０やドレイン電極層１４０の電位より高い状態にて
１秒以上、代表的には１分以上維持すればよい。
ト絶縁層１５０内の界面準位に電荷を捕獲させるためには、酸化物半導体膜からゲート電
極層１６０に向かって電子を移動させればよい。具体的な例としては、高い温度（例えば
、１２５℃以上４５０℃以下、代表的には１５０℃以上３００℃以下）の下で、ゲート電
極層１６０の電位をソース電極層１３０やドレイン電極層１４０の電位より高い状態にて
１秒以上、代表的には１分以上維持すればよい。
【0163】
このようにゲート絶縁層１５０などの界面準位に所望の量の電子を捕獲させたトランジス
タは、しきい値電圧がプラス側にシフトする。ゲート電極層１６０の電圧や、電圧を印加
する時間を調整することによって、電子を捕獲させる量（しきい値電圧の変動量）を制御
することができる。なお、電荷を捕獲させることができれば、ゲート絶縁層１５０内でな
くても構わない。同様の構造を有する積層膜を、他の絶縁層に用いても構わない。
タは、しきい値電圧がプラス側にシフトする。ゲート電極層１６０の電圧や、電圧を印加
する時間を調整することによって、電子を捕獲させる量（しきい値電圧の変動量）を制御
することができる。なお、電荷を捕獲させることができれば、ゲート絶縁層１５０内でな
くても構わない。同様の構造を有する積層膜を、他の絶縁層に用いても構わない。
【0164】
《ゲート電極層１６０》
ゲート電極層１６０には、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃ
ｒ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、イットリウム（Ｙ）、ジルコ
ニウム（Ｚｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、ルテニウム（Ｒｕ）、銀（Ａｇ）、タンタル（Ｔ
ａ）およびタングステン（Ｗ）などの導電膜を用いることができる。また、当該ゲート電
極層１６０は、積層とすることができる。また、上記材料の窒化物など、窒素を含んだ導
電膜を用いてもよい。また、窒化タンタルを用いた場合、水素、酸素の拡散を抑える効果
（バリア性）を有し、また窒化タンタル自体が酸化しにくい効果を有するので好ましい。
ゲート電極層１６０には、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃ
ｒ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、イットリウム（Ｙ）、ジルコ
ニウム（Ｚｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、ルテニウム（Ｒｕ）、銀（Ａｇ）、タンタル（Ｔ
ａ）およびタングステン（Ｗ）などの導電膜を用いることができる。また、当該ゲート電
極層１６０は、積層とすることができる。また、上記材料の窒化物など、窒素を含んだ導
電膜を用いてもよい。また、窒化タンタルを用いた場合、水素、酸素の拡散を抑える効果
（バリア性）を有し、また窒化タンタル自体が酸化しにくい効果を有するので好ましい。
【0165】
《絶縁層１７０》
絶縁層１７０には、酸素（Ｏ）、窒素（Ｎ）、フッ素（Ｆ）、アルミニウム（Ａｌ）、マ
グネシウム（Ｍｇ）、シリコン（Ｓｉ）、ガリウム（Ｇａ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、イ
ットリウム（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ランタン（Ｌａ）、ネオジム（Ｎｄ）、ハフ
ニウム（Ｈｆ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）などを有することができる。例えば
、酸化アルミニウム（ＡｌＯｘ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯｘ）、酸化シリコン（Ｓｉ
Ｏｘ）、酸化窒化シリコン（ＳｉＯｘＮｙ）、窒化酸化シリコン（ＳｉＮｘＯｙ）、窒化
シリコン（ＳｉＮｘ）、酸化ガリウム（ＧａＯｘ）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯｘ）、酸
化イットリウム（ＹＯｘ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯｘ）、酸化ランタン（ＬａＯｘ）
、酸化ネオジム（ＮｄＯｘ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯｘ）および酸化タンタル（ＴａＯ
ｘ）を一種以上含む絶縁膜を用いることができる。また、絶縁層１７０は上記材料の積層
であってもよい。
絶縁層１７０には、酸素（Ｏ）、窒素（Ｎ）、フッ素（Ｆ）、アルミニウム（Ａｌ）、マ
グネシウム（Ｍｇ）、シリコン（Ｓｉ）、ガリウム（Ｇａ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、イ
ットリウム（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ランタン（Ｌａ）、ネオジム（Ｎｄ）、ハフ
ニウム（Ｈｆ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）などを有することができる。例えば
、酸化アルミニウム（ＡｌＯｘ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯｘ）、酸化シリコン（Ｓｉ
Ｏｘ）、酸化窒化シリコン（ＳｉＯｘＮｙ）、窒化酸化シリコン（ＳｉＮｘＯｙ）、窒化
シリコン（ＳｉＮｘ）、酸化ガリウム（ＧａＯｘ）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯｘ）、酸
化イットリウム（ＹＯｘ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯｘ）、酸化ランタン（ＬａＯｘ）
、酸化ネオジム（ＮｄＯｘ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯｘ）および酸化タンタル（ＴａＯ
ｘ）を一種以上含む絶縁膜を用いることができる。また、絶縁層１７０は上記材料の積層
であってもよい。
【0166】
また、絶縁層１７０には、Ｉｎ若しくはＺｎを含む酸化物を用いてもよい。代表的には、
Ｉｎ－Ｇａ酸化物、Ｉｎ－Ｚｎ酸化物、Ｉｎ－Ｍｇ酸化物、Ｚｎ－Ｍｇ酸化物、Ｉｎ－Ｍ
－Ｚｎ酸化物（ＭはＡｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｍｇ、またはＮｄ
）がある。
Ｉｎ－Ｇａ酸化物、Ｉｎ－Ｚｎ酸化物、Ｉｎ－Ｍｇ酸化物、Ｚｎ－Ｍｇ酸化物、Ｉｎ－Ｍ
－Ｚｎ酸化物（ＭはＡｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｍｇ、またはＮｄ
）がある。
【0167】
絶縁層１７０には、酸化アルミニウム膜を含むことが好ましい。酸化アルミニウム膜は、
水素、水分などの不純物、および酸素の両方に対して膜を透過させない遮断効果を有する
ことができる。したがって、酸化アルミニウム膜は、トランジスタの作製工程中および作
製後において、トランジスタの電気特性の変動要因となる水素、水分などの不純物の絶縁
体１２１、半導体層１２２への混入防止、主成分材料である酸素の絶縁体１２１、半導体
層１２２からの放出防止、絶縁層１１０からの酸素の不必要な放出防止の効果を有する保
護膜として用いることに適している。
水素、水分などの不純物、および酸素の両方に対して膜を透過させない遮断効果を有する
ことができる。したがって、酸化アルミニウム膜は、トランジスタの作製工程中および作
製後において、トランジスタの電気特性の変動要因となる水素、水分などの不純物の絶縁
体１２１、半導体層１２２への混入防止、主成分材料である酸素の絶縁体１２１、半導体
層１２２からの放出防止、絶縁層１１０からの酸素の不必要な放出防止の効果を有する保
護膜として用いることに適している。
【0168】
また、絶縁層１７０は、酸素供給能力を有する膜とすることが好ましい。絶縁層１７０と
なる絶縁膜１７０ａを成膜する時に、絶縁層１７０と、絶縁層１７５との混合層が形成さ
れ、該混合層または絶縁層１７５に酸素が添加され、その後の加熱処理によって、酸素が
酸化物半導体中に拡散し、酸化物半導体中の酸素欠損に対して、酸素を補填することがで
き、トランジスタ特性（例えば、閾値、信頼性など）を向上させることができる。
なる絶縁膜１７０ａを成膜する時に、絶縁層１７０と、絶縁層１７５との混合層が形成さ
れ、該混合層または絶縁層１７５に酸素が添加され、その後の加熱処理によって、酸素が
酸化物半導体中に拡散し、酸化物半導体中の酸素欠損に対して、酸素を補填することがで
き、トランジスタ特性（例えば、閾値、信頼性など）を向上させることができる。
【0169】
また、絶縁層１７０の上側、あるいは、下側に他の絶縁層を有してもよい。例えば、酸化
マグネシウム、酸化シリコン、酸化窒化シリコン、窒化酸化シリコン、窒化シリコン、酸
化ガリウム、酸化ゲルマニウム、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化ランタン、
酸化ネオジム、酸化ハフニウムおよび酸化タンタルを一種以上含む絶縁膜を用いることが
できる。酸素（Ｏ）、窒素（Ｎ）、フッ素（Ｆ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム
（Ｍｇ）、シリコン（Ｓｉ）、ガリウム（Ｇａ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、イットリウム
（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ランタン（Ｌａ）、ネオジム（Ｎｄ）、ハフニウム（Ｈ
ｆ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）などを有することができる。例えば、酸化アル
ミニウム（ＡｌＯｘ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯｘ）、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、酸
化窒化シリコン（ＳｉＯｘＮｙ）、窒化酸化シリコン（ＳｉＮｘＯｙ）、窒化シリコン（
ＳｉＮｘ）、酸化ガリウム（ＧａＯｘ）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯｘ）、酸化イットリ
ウム（ＹＯｘ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯｘ）、酸化ランタン（ＬａＯｘ）、酸化ネオ
ジム（ＮｄＯｘ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯｘ）および酸化タンタル（ＴａＯｘ）を一種
以上含む絶縁膜を用いることができる。また、該絶縁層は上記材料の積層であってもよい
。該絶縁層は、化学量論組成よりも多くの酸素を有することが好ましい。当該絶縁層から
放出される酸素はゲート絶縁層１５０を経由して半導体層１２０のチャネル形成領域に拡
散させることができることから、チャネル形成領域に形成された酸素欠損に酸素を補填す
ることができる。したがって、安定したトランジスタの電気特性を得ることができる。
マグネシウム、酸化シリコン、酸化窒化シリコン、窒化酸化シリコン、窒化シリコン、酸
化ガリウム、酸化ゲルマニウム、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化ランタン、
酸化ネオジム、酸化ハフニウムおよび酸化タンタルを一種以上含む絶縁膜を用いることが
できる。酸素（Ｏ）、窒素（Ｎ）、フッ素（Ｆ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム
（Ｍｇ）、シリコン（Ｓｉ）、ガリウム（Ｇａ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、イットリウム
（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ランタン（Ｌａ）、ネオジム（Ｎｄ）、ハフニウム（Ｈ
ｆ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）などを有することができる。例えば、酸化アル
ミニウム（ＡｌＯｘ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯｘ）、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、酸
化窒化シリコン（ＳｉＯｘＮｙ）、窒化酸化シリコン（ＳｉＮｘＯｙ）、窒化シリコン（
ＳｉＮｘ）、酸化ガリウム（ＧａＯｘ）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯｘ）、酸化イットリ
ウム（ＹＯｘ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯｘ）、酸化ランタン（ＬａＯｘ）、酸化ネオ
ジム（ＮｄＯｘ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯｘ）および酸化タンタル（ＴａＯｘ）を一種
以上含む絶縁膜を用いることができる。また、該絶縁層は上記材料の積層であってもよい
。該絶縁層は、化学量論組成よりも多くの酸素を有することが好ましい。当該絶縁層から
放出される酸素はゲート絶縁層１５０を経由して半導体層１２０のチャネル形成領域に拡
散させることができることから、チャネル形成領域に形成された酸素欠損に酸素を補填す
ることができる。したがって、安定したトランジスタの電気特性を得ることができる。
【0170】
《絶縁層１７３および絶縁層１７５》
絶縁層１７３および絶縁層１７５には、酸素（Ｏ）、窒素（Ｎ）、フッ素（Ｆ）、アルミ
ニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、シリコン（Ｓｉ）、ガリウム（Ｇａ）、ゲルマ
ニウム（Ｇｅ）、イットリウム（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ランタン（Ｌａ）、ネオ
ジム（Ｎｄ）、ハフニウム（Ｈｆ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）などを有するこ
とができる。例えば、酸化マグネシウム（ＭｇＯｘ）、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、酸化
窒化シリコン（ＳｉＯｘＮｘ）、窒化酸化シリコン（ＳｉＮｘＯｘ）、窒化シリコン（Ｓ
ｉＮｘ）、酸化ガリウム（ＧａＯｘ）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯｘ）、酸化イットリウ
ム（ＹＯｘ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯｘ）、酸化ランタン（ＬａＯｘ）、酸化ネオジ
ム（ＮｄＯｘ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯｘ）および酸化タンタル（ＴａＯｘ）、酸化ア
ルミニウム（ＡｌＯｘ）を一種以上含む絶縁膜を用いることができる。また、絶縁層１７
３および絶縁層１７５は上記材料の積層であってもよい。当該絶縁層は、化学量論組成よ
りも多くの酸素を有することが好ましい。
絶縁層１７３および絶縁層１７５には、酸素（Ｏ）、窒素（Ｎ）、フッ素（Ｆ）、アルミ
ニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、シリコン（Ｓｉ）、ガリウム（Ｇａ）、ゲルマ
ニウム（Ｇｅ）、イットリウム（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ランタン（Ｌａ）、ネオ
ジム（Ｎｄ）、ハフニウム（Ｈｆ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）などを有するこ
とができる。例えば、酸化マグネシウム（ＭｇＯｘ）、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、酸化
窒化シリコン（ＳｉＯｘＮｘ）、窒化酸化シリコン（ＳｉＮｘＯｘ）、窒化シリコン（Ｓ
ｉＮｘ）、酸化ガリウム（ＧａＯｘ）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯｘ）、酸化イットリウ
ム（ＹＯｘ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯｘ）、酸化ランタン（ＬａＯｘ）、酸化ネオジ
ム（ＮｄＯｘ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯｘ）および酸化タンタル（ＴａＯｘ）、酸化ア
ルミニウム（ＡｌＯｘ）を一種以上含む絶縁膜を用いることができる。また、絶縁層１７
３および絶縁層１７５は上記材料の積層であってもよい。当該絶縁層は、化学量論組成よ
りも多くの酸素を有することが好ましい。
【0171】
または、絶縁層１７３および絶縁層１７５は、低誘電率の材料（Ｌｏｗ－ｋ材料）を用い
てもよい。たとえば、数％のフッ素（Ｆ）を導入した酸化シリコン（ＳｉＯＦ）、数％の
炭素（Ｃ）を導入した酸化シリコン（ＳｉＯＣ）、フッ素化シリケートガラス（ＦＳＧ）
、有機シリケートガラス（ＯＳＧ）、水素化シルセスキオキサン（ＨＳＱ）、メチルシル
セスキオキサン（ＭＳＱ）、有機ポリマー、ポリイミド、フッ素樹脂（ポリテトラフルオ
ロエチレン等）、フッ素を添加したアモルファスカーボンなどを用いて形成することがで
きる。絶縁層１７３および絶縁層１７５に、Ｌｏｗ－ｋ材料を用いることで、トランジス
タ１０に係る容量をさらに低減することができる。
てもよい。たとえば、数％のフッ素（Ｆ）を導入した酸化シリコン（ＳｉＯＦ）、数％の
炭素（Ｃ）を導入した酸化シリコン（ＳｉＯＣ）、フッ素化シリケートガラス（ＦＳＧ）
、有機シリケートガラス（ＯＳＧ）、水素化シルセスキオキサン（ＨＳＱ）、メチルシル
セスキオキサン（ＭＳＱ）、有機ポリマー、ポリイミド、フッ素樹脂（ポリテトラフルオ
ロエチレン等）、フッ素を添加したアモルファスカーボンなどを用いて形成することがで
きる。絶縁層１７３および絶縁層１７５に、Ｌｏｗ－ｋ材料を用いることで、トランジス
タ１０に係る容量をさらに低減することができる。
【0172】
＜導電層１６５＞
なお、トランジスタ１０は、図２に示すように絶縁層１１０の下に導電層１６５を有する
ことができ、導電層１６５はボトムゲートとしての機能を有することができる。導電層は
、図２（Ｂ）に示すようにゲート電極層１６０と同電位を与えることができるし、図２（
Ｄ）に示すように異なる電位を与えることができる。導電層１６５には、例えば、銅（Ｃ
ｕ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、
マンガン（Ｍｎ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃ
ｒ）、鉛（Ｐｂ）、錫（Ｓｎ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ルテニウム（Ｒｕ）、
白金（Ｐｔ）、イリジウム（Ｉｒ）、ストロンチウム（Ｓｒ）などの材料からなる単体、
もしくは合金、またはこれらを主成分とする酸素、窒素、フッ素、シリコン、などの化合
物を含む導電層の単層または積層とすることが好ましい。たとえば、導電層１６６には耐
酸化性の強い材料を有することができる。また、導電層１６７には耐熱性と導電性を両立
するタングステンやモリブデンなどの高融点材料を用いることが好ましい。また、アルミ
ニウムや銅などの低抵抗導電性材料で形成することが好ましい。
なお、トランジスタ１０は、図２に示すように絶縁層１１０の下に導電層１６５を有する
ことができ、導電層１６５はボトムゲートとしての機能を有することができる。導電層は
、図２（Ｂ）に示すようにゲート電極層１６０と同電位を与えることができるし、図２（
Ｄ）に示すように異なる電位を与えることができる。導電層１６５には、例えば、銅（Ｃ
ｕ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、
マンガン（Ｍｎ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃ
ｒ）、鉛（Ｐｂ）、錫（Ｓｎ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ルテニウム（Ｒｕ）、
白金（Ｐｔ）、イリジウム（Ｉｒ）、ストロンチウム（Ｓｒ）などの材料からなる単体、
もしくは合金、またはこれらを主成分とする酸素、窒素、フッ素、シリコン、などの化合
物を含む導電層の単層または積層とすることが好ましい。たとえば、導電層１６６には耐
酸化性の強い材料を有することができる。また、導電層１６７には耐熱性と導電性を両立
するタングステンやモリブデンなどの高融点材料を用いることが好ましい。また、アルミ
ニウムや銅などの低抵抗導電性材料で形成することが好ましい。
【0173】
＜トランジスタの製造方法＞
次に、本実施の形態の半導体装置の製造方法について図６乃至図１４を用いて説明する。
なお、上記トランジスタの構成において説明した部分と重複する部分については、省略す
る。また、図６乃至図１４に示すＡ１－Ａ２方向は図１（Ａ）、図１（Ｂ）に示すチャネ
ル長方向と呼称する場合がある。また、図６乃至図１４示すＡ３－Ａ４方向は、図１（Ａ
）および図１（Ｃ）に示すチャネル幅方向と呼称する場合がある。
次に、本実施の形態の半導体装置の製造方法について図６乃至図１４を用いて説明する。
なお、上記トランジスタの構成において説明した部分と重複する部分については、省略す
る。また、図６乃至図１４に示すＡ１－Ａ２方向は図１（Ａ）、図１（Ｂ）に示すチャネ
ル長方向と呼称する場合がある。また、図６乃至図１４示すＡ３－Ａ４方向は、図１（Ａ
）および図１（Ｃ）に示すチャネル幅方向と呼称する場合がある。
【0174】
本実施の形態において、トランジスタを構成する各層（絶縁層、酸化物半導体層、導電層
等）は、スパッタリング法、化学気相堆積（ＣＶＤ）法、真空蒸着法、パルスレーザー堆
積（ＰＬＤ）法を用いて形成することができる。あるいは、塗布法や印刷法で形成するこ
とができる。成膜方法としては、スパッタリング法、プラズマ化学気相堆積（ＰＥＣＶＤ
）法が代表的であるが、熱ＣＶＤ法でもよい。熱ＣＶＤ法の例として、ＭＯＣＶＤ（有機
金属化学堆積）法やＡＬＤ（原子層成膜）法を使ってもよい。
等）は、スパッタリング法、化学気相堆積（ＣＶＤ）法、真空蒸着法、パルスレーザー堆
積（ＰＬＤ）法を用いて形成することができる。あるいは、塗布法や印刷法で形成するこ
とができる。成膜方法としては、スパッタリング法、プラズマ化学気相堆積（ＰＥＣＶＤ
）法が代表的であるが、熱ＣＶＤ法でもよい。熱ＣＶＤ法の例として、ＭＯＣＶＤ（有機
金属化学堆積）法やＡＬＤ（原子層成膜）法を使ってもよい。
【0175】
＜熱ＣＶＤ法＞
熱ＣＶＤ法は、プラズマを使わない成膜方法のため、プラズマダメージにより欠陥が生成
されることが無いという利点を有する。
熱ＣＶＤ法は、プラズマを使わない成膜方法のため、プラズマダメージにより欠陥が生成
されることが無いという利点を有する。
【0176】
また、熱ＣＶＤ法では、原料ガスと酸化剤を同時にチャンバー内に送り、チャンバー内を
大気圧または減圧下とし、基板近傍または基板上で反応させて基板上に堆積させることで
成膜を行ってもよい。
大気圧または減圧下とし、基板近傍または基板上で反応させて基板上に堆積させることで
成膜を行ってもよい。
【0177】
また、ＭＯＣＶＤ法やＡＬＤ法などの熱ＣＶＤ法は、これまでに記載した実施形態に開示
された金属膜、半導体膜、無機絶縁膜など様々な膜を形成することができ、例えば、Ｉｎ
－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ膜を成膜する場合には、トリメチルインジウム、トリメチルガリウム、
およびジメチル亜鉛を用いることができる。なお、トリメチルインジウムの化学式は、Ｉ
ｎ（ＣＨ３）３である。また、トリメチルガリウムの化学式は、Ｇａ（ＣＨ３）３である
。また、ジメチル亜鉛の化学式は、Ｚｎ（ＣＨ３）２である。また、これらの組み合わせ
に限定されず、トリメチルガリウムに代えてトリエチルガリウム（化学式Ｇａ（Ｃ２Ｈ５
）３）を用いることもでき、ジメチル亜鉛に代えてジエチル亜鉛（化学式Ｚｎ（Ｃ２Ｈ５
）２）を用いることもできる。
された金属膜、半導体膜、無機絶縁膜など様々な膜を形成することができ、例えば、Ｉｎ
－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ膜を成膜する場合には、トリメチルインジウム、トリメチルガリウム、
およびジメチル亜鉛を用いることができる。なお、トリメチルインジウムの化学式は、Ｉ
ｎ（ＣＨ３）３である。また、トリメチルガリウムの化学式は、Ｇａ（ＣＨ３）３である
。また、ジメチル亜鉛の化学式は、Ｚｎ（ＣＨ３）２である。また、これらの組み合わせ
に限定されず、トリメチルガリウムに代えてトリエチルガリウム（化学式Ｇａ（Ｃ２Ｈ５
）３）を用いることもでき、ジメチル亜鉛に代えてジエチル亜鉛（化学式Ｚｎ（Ｃ２Ｈ５
）２）を用いることもできる。
【0178】
＜ＡＬＤ法＞
従来のＣＶＤ法を利用した成膜装置は、成膜の際、反応のための原料ガス（プリカーサ）
の１種または複数種がチャンバーに同時に供給される。ＡＬＤ法を利用した成膜装置は、
反応のためのプリカーサが順次にチャンバーに導入され、そのガス導入の順序を繰り返す
ことで成膜を行う。例えば、それぞれのスイッチングバルブ（高速バルブとも呼ぶ）を切
り替えて２種類以上のプリカーサを順番にチャンバーに供給し、複数種のプリカーサが混
ざらないように第１のプリカーサの後に不活性ガス（アルゴン、或いは窒素など）などを
導入し、第２のプリカーサを導入する。また、不活性ガスを導入する代わりに真空排気に
よって第１のプリカーサを排出した後、第２のプリカーサを導入することができる。
従来のＣＶＤ法を利用した成膜装置は、成膜の際、反応のための原料ガス（プリカーサ）
の１種または複数種がチャンバーに同時に供給される。ＡＬＤ法を利用した成膜装置は、
反応のためのプリカーサが順次にチャンバーに導入され、そのガス導入の順序を繰り返す
ことで成膜を行う。例えば、それぞれのスイッチングバルブ（高速バルブとも呼ぶ）を切
り替えて２種類以上のプリカーサを順番にチャンバーに供給し、複数種のプリカーサが混
ざらないように第１のプリカーサの後に不活性ガス（アルゴン、或いは窒素など）などを
導入し、第２のプリカーサを導入する。また、不活性ガスを導入する代わりに真空排気に
よって第１のプリカーサを排出した後、第２のプリカーサを導入することができる。
【0179】
図４（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）にＡＬＤ法の成膜過程を示す。第１のプリカーサ６
０１が基板の表面に吸着して（図４（Ａ）参照）、第１の単一層が成膜される（図４（Ｂ
）参照）。この際、プリカーサ中に含有する金属原子等が基板表面に存在する水酸基と結
合することができる。金属原子にはメチル基やエチル基などのアルキル基が結合していて
もよい。第１のプリカーサ６０１を排気した後に導入される第２のプリカーサ６０２と反
応して（図４（Ｃ）参照）、第２の単一層が第１の単一層上に積層されて薄膜が形成され
る（図４（Ｄ）参照）。例えば、第２のプリカーサとして酸化剤が含まれていた場合には
第１のプリカーサ中に存在する金属原子または当該金属原子と結合したアルキル基と、酸
化剤との間で化学反応がおこり、酸化膜を形成することができる。また、第２のプリカー
サに水素を有するガスが用いられていれば、還元反応により金属膜を形成することができ
る。
０１が基板の表面に吸着して（図４（Ａ）参照）、第１の単一層が成膜される（図４（Ｂ
）参照）。この際、プリカーサ中に含有する金属原子等が基板表面に存在する水酸基と結
合することができる。金属原子にはメチル基やエチル基などのアルキル基が結合していて
もよい。第１のプリカーサ６０１を排気した後に導入される第２のプリカーサ６０２と反
応して（図４（Ｃ）参照）、第２の単一層が第１の単一層上に積層されて薄膜が形成され
る（図４（Ｄ）参照）。例えば、第２のプリカーサとして酸化剤が含まれていた場合には
第１のプリカーサ中に存在する金属原子または当該金属原子と結合したアルキル基と、酸
化剤との間で化学反応がおこり、酸化膜を形成することができる。また、第２のプリカー
サに水素を有するガスが用いられていれば、還元反応により金属膜を形成することができ
る。
【0180】
ＡＬＤ法は表面化学反応に基づいた成膜方法であり、プリカーサが被成膜表面に吸着し、
自己停止機構が作用することで、一層形成される。例えば、トリメチルアルミニウムのよ
うなプリカーサと当該被成膜表面に存在する水酸基（ＯＨ基）が反応する。この時、熱に
よる表面反応のみが起こるため、プリカーサが当該被成膜表面と接触し、熱エネルギーを
介して当該被成膜表面にプリカーサ中の金属原子等が吸着することができる。また、プリ
カーサは、高い蒸気圧を有し、成膜前の段階では熱的安定であり自己分解しない、基板へ
化学吸着が速いなどの特徴を有する。また、プリカーサはガスとして導入されるため、交
互に導入されるプリカーサが十分に拡散する時間を有することができれば、高アスペクト
比の凹凸を有する領域であっても、被覆性よく成膜することができる。
自己停止機構が作用することで、一層形成される。例えば、トリメチルアルミニウムのよ
うなプリカーサと当該被成膜表面に存在する水酸基（ＯＨ基）が反応する。この時、熱に
よる表面反応のみが起こるため、プリカーサが当該被成膜表面と接触し、熱エネルギーを
介して当該被成膜表面にプリカーサ中の金属原子等が吸着することができる。また、プリ
カーサは、高い蒸気圧を有し、成膜前の段階では熱的安定であり自己分解しない、基板へ
化学吸着が速いなどの特徴を有する。また、プリカーサはガスとして導入されるため、交
互に導入されるプリカーサが十分に拡散する時間を有することができれば、高アスペクト
比の凹凸を有する領域であっても、被覆性よく成膜することができる。
【0181】
また、ＡＬＤ法においては、ガス導入順序を制御しつつ、所望の厚さになるまで複数回繰
り返すことで、段差被覆性に優れた薄膜を形成することができる。薄膜の厚さは、繰り返
す回数によって調節することができるため、精密な膜厚調節が可能である。また、排気能
力を高めることで成膜速度を高めることができ、さらに膜中の不純物濃度を低減すること
ができる。
り返すことで、段差被覆性に優れた薄膜を形成することができる。薄膜の厚さは、繰り返
す回数によって調節することができるため、精密な膜厚調節が可能である。また、排気能
力を高めることで成膜速度を高めることができ、さらに膜中の不純物濃度を低減すること
ができる。
【0182】
また、ＡＬＤ法には、熱を用いたＡＬＤ法（熱ＡＬＤ法）、プラズマを用いたＡＬＤ法（
プラズマＡＬＤ法）がある。熱ＡＬＤ法では、熱エネルギーを用いてプリカーサの反応を
行うものであり、プラズマＡＬＤ法はプリカーサの反応をラジカルの状態で行うものであ
る。
プラズマＡＬＤ法）がある。熱ＡＬＤ法では、熱エネルギーを用いてプリカーサの反応を
行うものであり、プラズマＡＬＤ法はプリカーサの反応をラジカルの状態で行うものであ
る。
【0183】
ＡＬＤ法は、極めて薄い膜が精度よく成膜できる。凹凸を有する面に対しても、表面被覆
率が高く、膜密度が高い。
率が高く、膜密度が高い。
【0184】
＜プラズマＡＬＤ＞
また、プラズマＡＬＤ法により成膜することで、熱を用いたＡＬＤ法（熱ＡＬＤ法）に比
べてさらに低温での成膜が可能となる。プラズマＡＬＤ法は、例えば、１００℃以下でも
成膜速度を低下させずに成膜することができる。また、プラズマＡＬＤ法では、Ｎ２をプ
ラズマによりラジカル化することができるため、酸化物のみならず窒化物を成膜すること
ができる。
また、プラズマＡＬＤ法により成膜することで、熱を用いたＡＬＤ法（熱ＡＬＤ法）に比
べてさらに低温での成膜が可能となる。プラズマＡＬＤ法は、例えば、１００℃以下でも
成膜速度を低下させずに成膜することができる。また、プラズマＡＬＤ法では、Ｎ２をプ
ラズマによりラジカル化することができるため、酸化物のみならず窒化物を成膜すること
ができる。
【0185】
また、プラズマＡＬＤでは、酸化剤の酸化力を高めることができる。これによりＡＬＤで
膜形成を行う場合に膜中に残留するプリカーサ、あるいはプリカーサから脱離した有機成
分を低減することができ、また膜中の炭素、塩素、水素などを低減することができ、不純
物濃度の低い膜を有することができる。
膜形成を行う場合に膜中に残留するプリカーサ、あるいはプリカーサから脱離した有機成
分を低減することができ、また膜中の炭素、塩素、水素などを低減することができ、不純
物濃度の低い膜を有することができる。
【0186】
また、プラズマＡＬＤを行う場合には、ラジカル種を発生させ、ＩＣＰ（Ｉｎｄｕｃｔｉ
ｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ）などのように基板から離れた状態でプラズマ
を発生させることもでき、基板あるいは当該保護膜が形成される膜に対するプラズマダメ
ージを抑えることができる。
ｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ）などのように基板から離れた状態でプラズマ
を発生させることもでき、基板あるいは当該保護膜が形成される膜に対するプラズマダメ
ージを抑えることができる。
【0187】
上記より、プラズマＡＬＤ法を用いることで、他の成膜方法に比べて、プロセス温度が下
げることができ、かつ表面被覆率を高めることができ、当該膜を成膜することができる。
これにより、外部からの水、水素の侵入を抑えることができる。したがって、トランジス
タ特性の信頼性向上することができる。
げることができ、かつ表面被覆率を高めることができ、当該膜を成膜することができる。
これにより、外部からの水、水素の侵入を抑えることができる。したがって、トランジス
タ特性の信頼性向上することができる。
【0188】
＜ＡＬＤ装置に関する説明＞
図５（Ａ）にＡＬＤ法を利用する成膜装置の一例を示す。ＡＬＤ法を利用する成膜装置は
、成膜室（チャンバー１７０１）と、原料供給部１７１１ａ、原料供給部１７１１ｂと、
流量制御器である高速バルブ１７１２ａ、高速バルブ１７１２ｂと、原料導入口１７１３
ａ、原料導入口１７１３ｂと、原料排出口１７１４と、排気装置１７１５を有する。チャ
ンバー１７０１内に設置される原料導入口１７１３ａ、１７１３ｂは供給管やバルブを介
して原料供給部１７１１ａ、１７１１ｂとそれぞれ接続されており、原料排出口１７１４
は、排出管やバルブや圧力調整器を介して排気装置１７１５と接続されている。
図５（Ａ）にＡＬＤ法を利用する成膜装置の一例を示す。ＡＬＤ法を利用する成膜装置は
、成膜室（チャンバー１７０１）と、原料供給部１７１１ａ、原料供給部１７１１ｂと、
流量制御器である高速バルブ１７１２ａ、高速バルブ１７１２ｂと、原料導入口１７１３
ａ、原料導入口１７１３ｂと、原料排出口１７１４と、排気装置１７１５を有する。チャ
ンバー１７０１内に設置される原料導入口１７１３ａ、１７１３ｂは供給管やバルブを介
して原料供給部１７１１ａ、１７１１ｂとそれぞれ接続されており、原料排出口１７１４
は、排出管やバルブや圧力調整器を介して排気装置１７１５と接続されている。
【0189】
チャンバー内部にはヒータを備えた基板ホルダ１７１６があり、その基板ホルダ上に被成
膜基板１７００を配置する。
膜基板１７００を配置する。
【0190】
原料供給部１７１１ａ、原料供給部１７１１ｂでは、気化器や加熱手段などによって固体
の原料や液体の原料から原料ガスを形成する。或いは、原料供給部１７１１ａ、原料供給
部１７１１ｂは、原料ガスを供給する構成としてもよい。
の原料や液体の原料から原料ガスを形成する。或いは、原料供給部１７１１ａ、原料供給
部１７１１ｂは、原料ガスを供給する構成としてもよい。
【0191】
また、原料供給部１７１１ａ、原料供給部１７１１ｂを２つ設けている例を示しているが
特に限定されず、３つ以上設けてもよい。また、高速バルブ１７１２ａ、高速バルブ１７
１２ｂは時間で精密に制御することができ、原料ガスと不活性ガスのいずれか一方を供給
する構成となっている。高速バルブ１７１２ａ、１７１２ｂは原料ガスの流量制御器であ
り、且つ、不活性ガスの流量制御器とも言える。
特に限定されず、３つ以上設けてもよい。また、高速バルブ１７１２ａ、高速バルブ１７
１２ｂは時間で精密に制御することができ、原料ガスと不活性ガスのいずれか一方を供給
する構成となっている。高速バルブ１７１２ａ、１７１２ｂは原料ガスの流量制御器であ
り、且つ、不活性ガスの流量制御器とも言える。
【0192】
図５（Ａ）に示す成膜装置では、被成膜基板１７００を基板ホルダ１７１６上に搬入し、
チャンバー１７０１を密閉状態とした後、基板ホルダ１７１６のヒータ加熱により被成膜
基板１７００を所望の温度（例えば、１００℃以上または１５０℃以上）とし、原料ガス
の供給と、排気装置１７１５による排気と、不活性ガスの供給と、排気装置１７１５によ
る排気とを繰りかえすことで薄膜を基板表面に形成する。
チャンバー１７０１を密閉状態とした後、基板ホルダ１７１６のヒータ加熱により被成膜
基板１７００を所望の温度（例えば、１００℃以上または１５０℃以上）とし、原料ガス
の供給と、排気装置１７１５による排気と、不活性ガスの供給と、排気装置１７１５によ
る排気とを繰りかえすことで薄膜を基板表面に形成する。
【0193】
図５（Ａ）に示す成膜装置では、原料供給部１７１１ａ、原料供給部１７１１ｂに用意す
る原料（揮発性有機金属化合物など）を適宜選択することにより、ハフニウム（Ｈｆ）、
アルミニウム（Ａｌ）、タンタル（Ｔａ）、ジルコニウム（Ｚｒ）等から選択された一種
以上の元素を含む酸化物（複合酸化物も含む）を含んで構成される絶縁層を成膜すること
ができる。具体的には、酸化ハフニウムを含んで構成される絶縁層、酸化アルミニウムを
含んで構成される絶縁層、ハフニウムシリケートを含んで構成される絶縁層、又はアルミ
ニウムシリケートを含んで構成される絶縁層などを成膜することができる。また、原料供
給部１７１１ａ、原料供給部１７１１ｂに用意する原料（揮発性有機金属化合物など）を
適宜選択することにより、タングステン層、チタン層などの金属層や、窒化チタン層など
の窒化物層などの薄膜を成膜することもできる。
る原料（揮発性有機金属化合物など）を適宜選択することにより、ハフニウム（Ｈｆ）、
アルミニウム（Ａｌ）、タンタル（Ｔａ）、ジルコニウム（Ｚｒ）等から選択された一種
以上の元素を含む酸化物（複合酸化物も含む）を含んで構成される絶縁層を成膜すること
ができる。具体的には、酸化ハフニウムを含んで構成される絶縁層、酸化アルミニウムを
含んで構成される絶縁層、ハフニウムシリケートを含んで構成される絶縁層、又はアルミ
ニウムシリケートを含んで構成される絶縁層などを成膜することができる。また、原料供
給部１７１１ａ、原料供給部１７１１ｂに用意する原料（揮発性有機金属化合物など）を
適宜選択することにより、タングステン層、チタン層などの金属層や、窒化チタン層など
の窒化物層などの薄膜を成膜することもできる。
【0194】
例えば、ＡＬＤ法を利用する成膜装置により酸化ハフニウム層を形成する場合には、溶媒
とハフニウム前駆体化合物を含む液体（ハフニウムアルコキシドや、テトラキスジメチル
アミドハフニウム（ＴＤＭＡＨ）などのハフニウムアミド）を気化させた原料ガスと、酸
化剤としてオゾン（Ｏ３）の２種類のガスを用いる。この場合、原料供給部１７１１ａか
ら供給する第１の原料ガスがＴＤＭＡＨであり、原料供給部１７１１ｂから供給する第２
の原料ガスがオゾンとなる。なお、テトラキスジメチルアミドハフニウムの化学式はＨｆ
［Ｎ（ＣＨ３）２］４である。また、他の材料としては、テトラキス（エチルメチルアミ
ド）ハフニウムなどがある。なお、窒素は電荷捕獲準位を消失させる機能を有する。した
がって、原料ガスが窒素を含むことで、電荷捕獲準位密度の低い酸化ハフニウムを成膜す
ることができる。
とハフニウム前駆体化合物を含む液体（ハフニウムアルコキシドや、テトラキスジメチル
アミドハフニウム（ＴＤＭＡＨ）などのハフニウムアミド）を気化させた原料ガスと、酸
化剤としてオゾン（Ｏ３）の２種類のガスを用いる。この場合、原料供給部１７１１ａか
ら供給する第１の原料ガスがＴＤＭＡＨであり、原料供給部１７１１ｂから供給する第２
の原料ガスがオゾンとなる。なお、テトラキスジメチルアミドハフニウムの化学式はＨｆ
［Ｎ（ＣＨ３）２］４である。また、他の材料としては、テトラキス（エチルメチルアミ
ド）ハフニウムなどがある。なお、窒素は電荷捕獲準位を消失させる機能を有する。した
がって、原料ガスが窒素を含むことで、電荷捕獲準位密度の低い酸化ハフニウムを成膜す
ることができる。
【0195】
例えば、ＡＬＤ法を利用する成膜装置により酸化アルミニウム層を形成する場合には、溶
媒とアルミニウム前駆体化合物を含む液体（ＴＭＡなど）を気化させた原料ガスと、酸化
剤としてＨ２Ｏの２種類のガスを用いる。この場合、原料供給部１７１１ａから供給する
第１の原料ガスがＴＭＡであり、原料供給部１７１１ｂから供給する第２の原料ガスがＨ
２Ｏとなる。なお、トリメチルアルミニウムの化学式はＡｌ（ＣＨ３）３である。また、
他の材料液としては、トリス（ジメチルアミド）アルミニウム、トリイソブチルアルミニ
ウム、アルミニウムトリス（２，２，６，６－テトラメチル－３，５－ヘプタンジオナー
ト）などがある。
媒とアルミニウム前駆体化合物を含む液体（ＴＭＡなど）を気化させた原料ガスと、酸化
剤としてＨ２Ｏの２種類のガスを用いる。この場合、原料供給部１７１１ａから供給する
第１の原料ガスがＴＭＡであり、原料供給部１７１１ｂから供給する第２の原料ガスがＨ
２Ｏとなる。なお、トリメチルアルミニウムの化学式はＡｌ（ＣＨ３）３である。また、
他の材料液としては、トリス（ジメチルアミド）アルミニウム、トリイソブチルアルミニ
ウム、アルミニウムトリス（２，２，６，６－テトラメチル－３，５－ヘプタンジオナー
ト）などがある。
【0196】
例えば、ＡＬＤを利用する成膜装置により酸化シリコン膜を形成する場合には、ヘキサク
ロロジシランを被成膜面に吸着させ、吸着物に含まれる塩素を除去し、酸化性ガス（Ｏ２
、一酸化二窒素）のラジカルを供給して吸着物と反応させる。
ロロジシランを被成膜面に吸着させ、吸着物に含まれる塩素を除去し、酸化性ガス（Ｏ２
、一酸化二窒素）のラジカルを供給して吸着物と反応させる。
【0197】
例えば、ＡＬＤを利用する成膜装置によりタングステン膜を成膜する場合には、ＷＦ６ガ
スとＢ２Ｈ６ガスを順次繰り返し導入して初期タングステン膜を形成し、その後、ＷＦ６
ガスとＨ２ガスを順次繰り返し導入してタングステン膜を形成する。なお、Ｂ２Ｈ６ガス
に代えてＳｉＨ４ガスを用いてもよい。
スとＢ２Ｈ６ガスを順次繰り返し導入して初期タングステン膜を形成し、その後、ＷＦ６
ガスとＨ２ガスを順次繰り返し導入してタングステン膜を形成する。なお、Ｂ２Ｈ６ガス
に代えてＳｉＨ４ガスを用いてもよい。
【0198】
例えば、ＡＬＤを利用する成膜装置により酸化物半導体膜、例えばＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ
膜を成膜する場合には、Ｉｎ（ＣＨ３）３ガスとＯ３ガスを順次繰り返し導入してＩｎ－
Ｏ層を形成し、その後、Ｇａ（ＣＨ３）３ガスとＯ３ガスを順次繰り返し導入してＧａＯ
層を形成し、更にその後Ｚｎ（ＣＨ３）２ガスとＯ３ガスを順次繰り返し導入してＺｎＯ
層を形成する。なお、これらの層の順番はこの例に限らない。また、これらのガスを混ぜ
てＩｎ－Ｇａ－Ｏ層やＩｎ－Ｚｎ－Ｏ層、Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ層などの混合化合物層を形成し
ても良い。なお、Ｏ３ガスに変えてＡｒ等の不活性ガスでバブリングして得られたＨ２Ｏ
ガスを用いても良いが、Ｈを含まないＯ３ガスを用いる方が好ましい。また、Ｉｎ（ＣＨ
３）３ガスにかえて、Ｉｎ（Ｃ２Ｈ５）３ガスを用いても良い。また、Ｇａ（ＣＨ３）３
ガスにかえて、Ｇａ（Ｃ２Ｈ５）３ガスを用いても良い。また、Ｚｎ（ＣＨ３）２ガスを
用いても良い。
膜を成膜する場合には、Ｉｎ（ＣＨ３）３ガスとＯ３ガスを順次繰り返し導入してＩｎ－
Ｏ層を形成し、その後、Ｇａ（ＣＨ３）３ガスとＯ３ガスを順次繰り返し導入してＧａＯ
層を形成し、更にその後Ｚｎ（ＣＨ３）２ガスとＯ３ガスを順次繰り返し導入してＺｎＯ
層を形成する。なお、これらの層の順番はこの例に限らない。また、これらのガスを混ぜ
てＩｎ－Ｇａ－Ｏ層やＩｎ－Ｚｎ－Ｏ層、Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ層などの混合化合物層を形成し
ても良い。なお、Ｏ３ガスに変えてＡｒ等の不活性ガスでバブリングして得られたＨ２Ｏ
ガスを用いても良いが、Ｈを含まないＯ３ガスを用いる方が好ましい。また、Ｉｎ（ＣＨ
３）３ガスにかえて、Ｉｎ（Ｃ２Ｈ５）３ガスを用いても良い。また、Ｇａ（ＣＨ３）３
ガスにかえて、Ｇａ（Ｃ２Ｈ５）３ガスを用いても良い。また、Ｚｎ（ＣＨ３）２ガスを
用いても良い。
【0199】
【0200】
図５（Ｂ）に示す製造装置は、積層膜を大気に触れることなく連続成膜することができ、
不純物の混入防止やスループット向上を図っている。
不純物の混入防止やスループット向上を図っている。
【0201】
図５（Ｂ）に示す製造装置は、ロード室１７０２、搬送室１７２０、前処理室１７０３、
成膜室であるチャンバー１７０１、アンロード室１７０６を少なくとも有する。なお、製
造装置のチャンバー（ロード室、処理室、搬送室、成膜室、アンロード室などを含む）は
、水分の付着などを防ぐため、露点が管理された不活性ガス（窒素ガス等）を充填させて
おくことが好ましく、望ましくは減圧を維持させる。
成膜室であるチャンバー１７０１、アンロード室１７０６を少なくとも有する。なお、製
造装置のチャンバー（ロード室、処理室、搬送室、成膜室、アンロード室などを含む）は
、水分の付着などを防ぐため、露点が管理された不活性ガス（窒素ガス等）を充填させて
おくことが好ましく、望ましくは減圧を維持させる。
【0202】
また、チャンバー１７０４、１７０５は、チャンバー１７０１と同じＡＬＤ法を利用する
成膜装置としてもよいし、プラズマＣＶＤ法を利用する成膜装置としてもよいし、スパッ
タリング法を利用する成膜装置としてもよいし、有機金属気相成長法（ＭＯＣＶＤ：Ｍｅ
ｔａｌ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法を
利用する成膜装置としてもよい。
成膜装置としてもよいし、プラズマＣＶＤ法を利用する成膜装置としてもよいし、スパッ
タリング法を利用する成膜装置としてもよいし、有機金属気相成長法（ＭＯＣＶＤ：Ｍｅ
ｔａｌ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法を
利用する成膜装置としてもよい。
【0203】
例えば、チャンバー１７０４としてプラズマＣＶＤ法を利用する成膜装置とし、チャンバ
ー１７０５としてＭＯＣＶＤ法を利用する成膜装置とし、積層膜を成膜する一例を以下に
示す。
ー１７０５としてＭＯＣＶＤ法を利用する成膜装置とし、積層膜を成膜する一例を以下に
示す。
【0204】
図５（Ｂ）では搬送室１７２０の上面図が六角形の例を示しているが、積層膜の層数に応
じて、それ以上の多角形としてより多くのチャンバーと連結させた製造装置としてもよい
。また、図５（Ｂ）では基板の上面形状を矩形で示しているが、特に限定されない。また
、図５（Ｂ）では枚葉式の例を示したが、複数枚の基板を一度に成膜するバッチ式の成膜
装置としてもよい。
じて、それ以上の多角形としてより多くのチャンバーと連結させた製造装置としてもよい
。また、図５（Ｂ）では基板の上面形状を矩形で示しているが、特に限定されない。また
、図５（Ｂ）では枚葉式の例を示したが、複数枚の基板を一度に成膜するバッチ式の成膜
装置としてもよい。
【0205】
＜絶縁層１１０の形成＞
まず、基板１００上に絶縁層１１０を成膜する。絶縁層１１０は、プラズマＣＶＤ法、熱
ＣＶＤ法（ＭＯＣＶＤ法、ＡＬＤ法）、またはスパッタ法等により、例えば、酸化アルミ
ニウム、酸化マグネシウム、酸化シリコン、酸化窒化シリコン、酸化ガリウム、酸化ゲル
マニウム、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化ランタン、酸化ネオジム、酸化ハ
フニウムおよび酸化タンタルなどの酸化物絶縁膜、窒化シリコン、窒化酸化シリコン、窒
化アルミニウム、窒化酸化アルミニウムなどの窒化物絶縁膜、またはこれらの混合材料を
用いて形成することができる。また、上記材料の積層であってもよく、後に絶縁体１２１
となる第１の絶縁体膜と接する積層の上層は半導体層１２２への酸素の供給源となりえる
過剰な酸素を含む材料で形成することが好ましい。
まず、基板１００上に絶縁層１１０を成膜する。絶縁層１１０は、プラズマＣＶＤ法、熱
ＣＶＤ法（ＭＯＣＶＤ法、ＡＬＤ法）、またはスパッタ法等により、例えば、酸化アルミ
ニウム、酸化マグネシウム、酸化シリコン、酸化窒化シリコン、酸化ガリウム、酸化ゲル
マニウム、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化ランタン、酸化ネオジム、酸化ハ
フニウムおよび酸化タンタルなどの酸化物絶縁膜、窒化シリコン、窒化酸化シリコン、窒
化アルミニウム、窒化酸化アルミニウムなどの窒化物絶縁膜、またはこれらの混合材料を
用いて形成することができる。また、上記材料の積層であってもよく、後に絶縁体１２１
となる第１の絶縁体膜と接する積層の上層は半導体層１２２への酸素の供給源となりえる
過剰な酸素を含む材料で形成することが好ましい。
【0206】
例えば、絶縁層１１０としてプラズマＣＶＤ法により厚さ１００ｎｍの酸化窒化シリコン
膜を用いることができる。
膜を用いることができる。
【0207】
次に、第１の加熱処理を行って、絶縁層１１０に含まれる水、水素等を脱離させてもよい
。この結果、絶縁層１１０に含まれる水、水素等の濃度を低減することが可能であり、加
熱処理によって、後に形成される第１の酸化物半導体膜への水、水素等の拡散量を低減す
ることができる。
。この結果、絶縁層１１０に含まれる水、水素等の濃度を低減することが可能であり、加
熱処理によって、後に形成される第１の酸化物半導体膜への水、水素等の拡散量を低減す
ることができる。
【0208】
＜第１の絶縁体膜、半導体膜の形成＞
続いて、絶縁層１１０上に後に絶縁体１２１となる第１の絶縁体膜、後に半導体層１２２
となる半導体膜を成膜する。第１の絶縁体膜、半導体膜は、スパッタ法、ＭＯＣＶＤ法、
ＰＬＤ法などにより形成することができ、スパッタ法を用いて形成することがより好まし
い。スパッタ法としては、ＲＦスパッタ法、ＤＣスパッタ法、ＡＣスパッタ法等を用いる
ことができる。また、スパッタ法において、対向ターゲット方式（対向電極方式、気相ス
パッタ方式、ＶＤＳＰ（Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ Ｓｐａｔｔｅｒｉｎｇ）方
式ともいう）により形成することにより、成膜時のプラズマダメージを低減することがで
きる。
続いて、絶縁層１１０上に後に絶縁体１２１となる第１の絶縁体膜、後に半導体層１２２
となる半導体膜を成膜する。第１の絶縁体膜、半導体膜は、スパッタ法、ＭＯＣＶＤ法、
ＰＬＤ法などにより形成することができ、スパッタ法を用いて形成することがより好まし
い。スパッタ法としては、ＲＦスパッタ法、ＤＣスパッタ法、ＡＣスパッタ法等を用いる
ことができる。また、スパッタ法において、対向ターゲット方式（対向電極方式、気相ス
パッタ方式、ＶＤＳＰ（Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ Ｓｐａｔｔｅｒｉｎｇ）方
式ともいう）により形成することにより、成膜時のプラズマダメージを低減することがで
きる。
【0209】
例えば、第１の絶縁体膜をスパッタ法により形成する場合、スパッタ装置における各チャ
ンバーは、酸化物半導体にとって不純物となる水等を可能な限り除去すべく、クライオポ
ンプのような吸着式の真空排気ポンプを用いて高真空化（５×１０－７Ｐａ乃至１×１０
－４Ｐａ程度まで）できること、かつ、成膜される基板を１００℃以上、好ましくは４０
０℃以上に加熱できることが好ましい。または、ターボ分子ポンプとコールドトラップを
組み合わせて排気系からチャンバー内に炭素成分や水分等を含む気体が逆流しないように
しておくことが好ましい。また、ターボ分子ポンプとクライオポンプを組み合わせた排気
系を用いてもよい。
ンバーは、酸化物半導体にとって不純物となる水等を可能な限り除去すべく、クライオポ
ンプのような吸着式の真空排気ポンプを用いて高真空化（５×１０－７Ｐａ乃至１×１０
－４Ｐａ程度まで）できること、かつ、成膜される基板を１００℃以上、好ましくは４０
０℃以上に加熱できることが好ましい。または、ターボ分子ポンプとコールドトラップを
組み合わせて排気系からチャンバー内に炭素成分や水分等を含む気体が逆流しないように
しておくことが好ましい。また、ターボ分子ポンプとクライオポンプを組み合わせた排気
系を用いてもよい。
【0210】
高純度真性酸化物半導体を得るためには、チャンバー内を高真空排気するのみならずスパ
ッタガスも高純度化することが好ましい。スパッタガスとして用いる酸素ガスやアルゴン
ガスは、露点が－４０℃以下、好ましくは－８０℃以下、より好ましくは－１００℃以下
にまで高純度化したガスを用いることで酸化物半導体膜に水分等が取り込まれることを可
能な限り防ぐことができる。
ッタガスも高純度化することが好ましい。スパッタガスとして用いる酸素ガスやアルゴン
ガスは、露点が－４０℃以下、好ましくは－８０℃以下、より好ましくは－１００℃以下
にまで高純度化したガスを用いることで酸化物半導体膜に水分等が取り込まれることを可
能な限り防ぐことができる。
【0211】
スパッタリングガスは、希ガス（代表的にはアルゴン）、酸素ガス、希ガスおよび酸素ガ
スの混合ガスを適宜用いる。なお、希ガスおよび酸素ガスの混合ガスの場合、希ガスに対
して酸素のガス比を高めることが好ましい。
スの混合ガスを適宜用いる。なお、希ガスおよび酸素ガスの混合ガスの場合、希ガスに対
して酸素のガス比を高めることが好ましい。
【0212】
なお、酸化物半導体膜を形成する際に、例えば、スパッタリング法を用いる場合、基板温
度を１５０℃以上７５０℃以下、好ましくは１５０℃以上４５０℃以下、さらに好ましく
は２００℃以上４２０℃以下として、酸化物半導体膜を成膜することで、ＣＡＡＣ－ＯＳ
膜を形成することができる。
度を１５０℃以上７５０℃以下、好ましくは１５０℃以上４５０℃以下、さらに好ましく
は２００℃以上４２０℃以下として、酸化物半導体膜を成膜することで、ＣＡＡＣ－ＯＳ
膜を形成することができる。
【0213】
第１の絶縁体膜は、半導体膜よりも電子親和力が小さくなるように材料を選択することが
できる。
できる。
【0214】
また、半導体膜は、第１の絶縁体膜、第２の絶縁体膜よりもインジウムの含有量を多く有
してもよい。酸化物半導体では主として重金属のｓ軌道がキャリア伝導に寄与しており、
Ｉｎの含有率を多くすることにより、より多くのｓ軌道が重なるため、ＩｎがＧａよりも
多い組成となる酸化物はＩｎがＧａと同等または少ない組成となる酸化物と比較して移動
度が高くなる。そのため、半導体層１２２にインジウムの含有量が多い酸化物を用いるこ
とで、高い移動度のトランジスタを実現することができる。
してもよい。酸化物半導体では主として重金属のｓ軌道がキャリア伝導に寄与しており、
Ｉｎの含有率を多くすることにより、より多くのｓ軌道が重なるため、ＩｎがＧａよりも
多い組成となる酸化物はＩｎがＧａと同等または少ない組成となる酸化物と比較して移動
度が高くなる。そのため、半導体層１２２にインジウムの含有量が多い酸化物を用いるこ
とで、高い移動度のトランジスタを実現することができる。
【0215】
また、第１の絶縁体膜、半導体膜において、例えばスパッタ法により成膜する場合、マル
チチャンバー方式のスパッタ装置を用いることで、第１の絶縁体膜と半導体膜は大気に露
出することなく連続成膜することができる。その場合、第１の絶縁体膜と半導体膜の界面
には余計な不純物などが入り込むことを抑えることができ、界面準位を低減することがで
きる。この結果として、トランジスタの電気特性、とりわけ信頼性試験において特性を安
定化させることができる。
チチャンバー方式のスパッタ装置を用いることで、第１の絶縁体膜と半導体膜は大気に露
出することなく連続成膜することができる。その場合、第１の絶縁体膜と半導体膜の界面
には余計な不純物などが入り込むことを抑えることができ、界面準位を低減することがで
きる。この結果として、トランジスタの電気特性、とりわけ信頼性試験において特性を安
定化させることができる。
【0216】
また、当該半導体膜中にダメージがあった場合に、第１の絶縁体膜があることにより主要
な電導パスとなる半導体膜をダメージ部から遠ざけることができ、結果としてトランジス
タの電気特性、とりわけ信頼性試験において特性を安定化させることができる。
な電導パスとなる半導体膜をダメージ部から遠ざけることができ、結果としてトランジス
タの電気特性、とりわけ信頼性試験において特性を安定化させることができる。
【0217】
例えば、第１の絶縁体膜として、スパッタリング法により、Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：３：
４（原子数比）のターゲットを用いて厚さ２０ｎｍ成膜した酸化物半導体膜を用いること
ができる。また、半導体膜として、スパッタリング法により、Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：１
：１（原子数比）のターゲットを用いて厚さ１５ｎｍ成膜した酸化物半導体膜を用いるこ
とができる。
４（原子数比）のターゲットを用いて厚さ２０ｎｍ成膜した酸化物半導体膜を用いること
ができる。また、半導体膜として、スパッタリング法により、Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：１
：１（原子数比）のターゲットを用いて厚さ１５ｎｍ成膜した酸化物半導体膜を用いるこ
とができる。
【0218】
また、第１の絶縁体膜、半導体膜成膜後に第２の加熱処理を行うことが好ましい。第２の
加熱処理を行うことで、半導体膜の酸素欠損量を低減することができる。
加熱処理を行うことで、半導体膜の酸素欠損量を低減することができる。
【0219】
第２の加熱処理の温度は、２５０℃以上基板歪み点未満、好ましくは３００℃以上６５０
℃以下、更に好ましくは３５０℃以上５５０℃以下とする。
℃以下、更に好ましくは３５０℃以上５５０℃以下とする。
【0220】
第２の加熱処理は、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン、クリプトン等の希ガス、ま
たは窒素を含む不活性ガス雰囲気で行う。または、不活性ガス雰囲気で加熱した後、酸素
雰囲気または乾燥空気（露点が－８０℃以下、好ましくは－１００℃以下、好ましくは－
１２０℃以下である空気）雰囲気で加熱してもよい。または減圧状態で行えばよい。なお
、上記乾燥空気の他、不活性ガスおよび酸素ガスに水素、水などが含まれないことが好ま
しく、代表的には露点が－８０℃以下、好ましくは－１００℃以下であることが好ましい
。処理時間は３分から２４時間とする。
たは窒素を含む不活性ガス雰囲気で行う。または、不活性ガス雰囲気で加熱した後、酸素
雰囲気または乾燥空気（露点が－８０℃以下、好ましくは－１００℃以下、好ましくは－
１２０℃以下である空気）雰囲気で加熱してもよい。または減圧状態で行えばよい。なお
、上記乾燥空気の他、不活性ガスおよび酸素ガスに水素、水などが含まれないことが好ま
しく、代表的には露点が－８０℃以下、好ましくは－１００℃以下であることが好ましい
。処理時間は３分から２４時間とする。
【0221】
なお、第２の加熱処理において、電気炉の代わりに、抵抗発熱体などの発熱体からの熱伝
導または熱輻射によって、被処理物を加熱する装置を用いてもよい。例えば、ＧＲＴＡ（
Ｇａｓ Ｒａｐｉｄ Ｔｈｅｒｍａｌ Ａｎｎｅａｌ）装置、ＬＲＴＡ（Ｌａｍｐ Ｒａ
ｐｉｄ Ｔｈｅｒｍａｌ Ａｎｎｅａｌ）装置等のＲＴＡ（Ｒａｐｉｄ Ｔｈｅｒｍａｌ
Ａｎｎｅａｌ）装置を用いることができる。ＬＲＴＡ装置は、ハロゲンランプ、メタル
ハライドランプ、キセノンアークランプ、カーボンアークランプ、高圧ナトリウムランプ
、高圧水銀ランプなどのランプから発する光（電磁波）の輻射により、被処理物を加熱す
る装置である。ＧＲＴＡ装置は、高温のガスを用いて第２の加熱処理を行う装置である。
高温のガスには、アルゴンなどの希ガス、または窒素のような、不活性ガスが用いられる
。
導または熱輻射によって、被処理物を加熱する装置を用いてもよい。例えば、ＧＲＴＡ（
Ｇａｓ Ｒａｐｉｄ Ｔｈｅｒｍａｌ Ａｎｎｅａｌ）装置、ＬＲＴＡ（Ｌａｍｐ Ｒａ
ｐｉｄ Ｔｈｅｒｍａｌ Ａｎｎｅａｌ）装置等のＲＴＡ（Ｒａｐｉｄ Ｔｈｅｒｍａｌ
Ａｎｎｅａｌ）装置を用いることができる。ＬＲＴＡ装置は、ハロゲンランプ、メタル
ハライドランプ、キセノンアークランプ、カーボンアークランプ、高圧ナトリウムランプ
、高圧水銀ランプなどのランプから発する光（電磁波）の輻射により、被処理物を加熱す
る装置である。ＧＲＴＡ装置は、高温のガスを用いて第２の加熱処理を行う装置である。
高温のガスには、アルゴンなどの希ガス、または窒素のような、不活性ガスが用いられる
。
【0222】
なお、第２の加熱処理は、後述する絶縁体１２１、半導体層１２２を形成するエッチング
の後に行ってもよい。
の後に行ってもよい。
【0223】
例えば、窒素雰囲気において、４５０℃で１時間の加熱処理を行った後、酸素雰囲気にお
いて、４５０℃で１時間の加熱処理を行うことができる。
いて、４５０℃で１時間の加熱処理を行うことができる。
【0224】
以上の工程により、半導体膜の酸素欠損の低減、また水素、水などの不純物を低減するこ
とができる。また、局在準位密度が低減された半導体膜を形成することができる。
とができる。また、局在準位密度が低減された半導体膜を形成することができる。
【0225】
＜第１の導電膜の形成＞
次に、半導体膜上にソース電極層１３０、ドレイン電極層１４０となる第１の導電膜を形
成する。第１の導電膜は、スパッタリング法、化学気相堆積（ＣＶＤ）法（有機金属化学
堆積（ＭＯＣＶＤ）法、メタル化学気相堆積法、原子層成膜（ＡＬＤ）法あるいはプラズ
マ化学気相堆積（ＰＥＣＶＤ）法を含む。）、蒸着法、パルスレーザー堆積（ＰＬＤ）法
等を用いて形成することができる。
次に、半導体膜上にソース電極層１３０、ドレイン電極層１４０となる第１の導電膜を形
成する。第１の導電膜は、スパッタリング法、化学気相堆積（ＣＶＤ）法（有機金属化学
堆積（ＭＯＣＶＤ）法、メタル化学気相堆積法、原子層成膜（ＡＬＤ）法あるいはプラズ
マ化学気相堆積（ＰＥＣＶＤ）法を含む。）、蒸着法、パルスレーザー堆積（ＰＬＤ）法
等を用いて形成することができる。
【0226】
第１の導電膜の材料は、銅（Ｃｕ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、金（Ａ
ｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、マンガン（Ｍｎ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、
ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、鉛（Ｐｂ）、錫（Ｓｎ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（
Ｃｏ）、ルテニウム（Ｒｕ）、白金（Ｐｔ）、イリジウム（Ｉｒ）、ストロンチウム（Ｓ
ｒ）などの材料からなる単体、もしくは合金、またはこれらを主成分とする化合物を含む
導電膜の単層または積層とすることが好ましい。例えば、積層する場合に、半導体層１２
２と接触する下側の導電層は酸素と結合しやすい材料を有し、上側の導電層には耐酸化性
の強い材料を有することができる。また、耐熱性と導電性を両立するタングステン（Ｗ）
やモリブデン（Ｍｏ）などの高融点材料を用いることが好ましい。また、アルミニウム（
Ａｌ）や銅（Ｃｕ）などの低抵抗導電性材料で形成することが好ましい。さらに、Ｃｕ－
Ｍｎ合金を用いると、酸素を含む絶縁体との界面に酸化マンガンを含む膜を形成し、酸化
マンガンがＣｕの拡散を抑制する機能を持つので好ましい。
ｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、マンガン（Ｍｎ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、
ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、鉛（Ｐｂ）、錫（Ｓｎ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（
Ｃｏ）、ルテニウム（Ｒｕ）、白金（Ｐｔ）、イリジウム（Ｉｒ）、ストロンチウム（Ｓ
ｒ）などの材料からなる単体、もしくは合金、またはこれらを主成分とする化合物を含む
導電膜の単層または積層とすることが好ましい。例えば、積層する場合に、半導体層１２
２と接触する下側の導電層は酸素と結合しやすい材料を有し、上側の導電層には耐酸化性
の強い材料を有することができる。また、耐熱性と導電性を両立するタングステン（Ｗ）
やモリブデン（Ｍｏ）などの高融点材料を用いることが好ましい。また、アルミニウム（
Ａｌ）や銅（Ｃｕ）などの低抵抗導電性材料で形成することが好ましい。さらに、Ｃｕ－
Ｍｎ合金を用いると、酸素を含む絶縁体との界面に酸化マンガンを含む膜を形成し、酸化
マンガンがＣｕの拡散を抑制する機能を持つので好ましい。
【0227】
例えば、厚さ２０乃至１００ｎｍのタングステン膜をスパッタリング法により第１の導電
膜として形成することができる。
膜として形成することができる。
【0228】
なお、後の工程で第１の導電膜を加工して形成される導電層１３０ｂは、この後の工程に
おいて、ハードマスクとしての機能と、ソース電極層、ドレイン電極層の機能を有するこ
とができ、追加の成膜工程が不要であるため、半導体製造工程の短縮を図ることができる
。
おいて、ハードマスクとしての機能と、ソース電極層、ドレイン電極層の機能を有するこ
とができ、追加の成膜工程が不要であるため、半導体製造工程の短縮を図ることができる
。
【0229】
＜絶縁体１２１、半導体層１２２の形成＞
次に、リソグラフィ工程によりレジストマスクを形成し、当該レジストマスクを用いて、
第１の導電膜を選択的部分的にエッチングし、導電層１３０ｂを形成する。続いて、導電
層１３０ｂ上のレジストを除去後、導電層１３０ｂをハードマスクとして、半導体膜、第
１の酸化物半導体膜をそれぞれ選択的にエッチングし、半導体層１２２、絶縁体１２１を
島状に形成することができる（図６参照）。なお、エッチング方法としては、ドライエッ
チング法を用いることができる。なお、導電層１３０ｂをハードマスクとして用いて半導
体膜、第１の絶縁体膜をエッチングすることで、レジストマスクのみを用いた場合と比比
較してエッチング後の酸化物半導体層のエッジラフネスを低減することができる。
次に、リソグラフィ工程によりレジストマスクを形成し、当該レジストマスクを用いて、
第１の導電膜を選択的部分的にエッチングし、導電層１３０ｂを形成する。続いて、導電
層１３０ｂ上のレジストを除去後、導電層１３０ｂをハードマスクとして、半導体膜、第
１の酸化物半導体膜をそれぞれ選択的にエッチングし、半導体層１２２、絶縁体１２１を
島状に形成することができる（図６参照）。なお、エッチング方法としては、ドライエッ
チング法を用いることができる。なお、導電層１３０ｂをハードマスクとして用いて半導
体膜、第１の絶縁体膜をエッチングすることで、レジストマスクのみを用いた場合と比比
較してエッチング後の酸化物半導体層のエッジラフネスを低減することができる。
【0230】
例えば、エッチングガスとして、メタンガス、アルゴンガスを用い、レジストマスクおよ
びハードマスクを用いて第１の酸化物半導体膜、半導体膜選択的にエッチングすることに
より、絶縁体１２１、半導体層１２２を形成することができる。なお、このとき絶縁層１
１０が一部エッチングされてもよい。
びハードマスクを用いて第１の酸化物半導体膜、半導体膜選択的にエッチングすることに
より、絶縁体１２１、半導体層１２２を形成することができる。なお、このとき絶縁層１
１０が一部エッチングされてもよい。
【0231】
＜絶縁膜の成膜＞
次に、絶縁層１１０、導電層１３０ｂ上に絶縁層１７３となる絶縁膜１７３ａを成膜する
（図７参照）。絶縁膜１７３ａは、プラズマＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法（ＭＯＣＶＤ法、ＡＬ
Ｄ法）、スパッタ法、またはスピンコーティング法等により、例えば、酸化アルミニウム
（ＡｌＯｘ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯｘ）、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、酸化窒化シ
リコン（ＳｉＯｘＮｙ）、酸化ガリウム（ＧａＯｘ）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯｘ）、
酸化イットリウム（ＹＯｘ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯｘ）、酸化ランタン（ＬａＯｘ
）、酸化ネオジム（ＮｄＯｘ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯｘ）および酸化タンタル（Ｔａ
Ｏｘ）などの酸化物絶縁膜、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）、窒化酸化シリコン（ＳｉＮｘＯ
ｙ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮｘ）、窒化酸化アルミニウム（ＡｌＮｘＯｙ）などの窒
化物絶縁膜、またはこれらの混合材料を用いて形成することができる。また、上記材料の
積層であってもよい。
次に、絶縁層１１０、導電層１３０ｂ上に絶縁層１７３となる絶縁膜１７３ａを成膜する
（図７参照）。絶縁膜１７３ａは、プラズマＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法（ＭＯＣＶＤ法、ＡＬ
Ｄ法）、スパッタ法、またはスピンコーティング法等により、例えば、酸化アルミニウム
（ＡｌＯｘ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯｘ）、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、酸化窒化シ
リコン（ＳｉＯｘＮｙ）、酸化ガリウム（ＧａＯｘ）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯｘ）、
酸化イットリウム（ＹＯｘ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯｘ）、酸化ランタン（ＬａＯｘ
）、酸化ネオジム（ＮｄＯｘ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯｘ）および酸化タンタル（Ｔａ
Ｏｘ）などの酸化物絶縁膜、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）、窒化酸化シリコン（ＳｉＮｘＯ
ｙ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮｘ）、窒化酸化アルミニウム（ＡｌＮｘＯｙ）などの窒
化物絶縁膜、またはこれらの混合材料を用いて形成することができる。また、上記材料の
積層であってもよい。
【0232】
または、絶縁膜１７３ａは、低誘電率の材料（Ｌｏｗ－ｋ材料）を用いてもよい。たとえ
ば、数％のフッ素（Ｆ）を導入した酸化シリコン（ＳｉＯＦ）、数％の炭素（Ｃ）を導入
した酸化シリコン（ＳｉＯＣ）、フッ素化シリケートガラス（ＦＳＧ）、有機シリケート
ガラス（ＯＳＧ）、水素化シルセスキオキサン（ＨＳＱ）、メチルシルセスキオキサン（
ＭＳＱ）、有機ポリマー、フッ素樹脂（ポリテトラフルオロエチレン）、ポリイミド、フ
ッ素を添加したアモルファスカーボンなどを用いて形成することができる。
ば、数％のフッ素（Ｆ）を導入した酸化シリコン（ＳｉＯＦ）、数％の炭素（Ｃ）を導入
した酸化シリコン（ＳｉＯＣ）、フッ素化シリケートガラス（ＦＳＧ）、有機シリケート
ガラス（ＯＳＧ）、水素化シルセスキオキサン（ＨＳＱ）、メチルシルセスキオキサン（
ＭＳＱ）、有機ポリマー、フッ素樹脂（ポリテトラフルオロエチレン）、ポリイミド、フ
ッ素を添加したアモルファスカーボンなどを用いて形成することができる。
【0233】
なお、第２の加熱処理は、絶縁膜１７３ａ成膜後に行ってもよい。
【0234】
＜第２の絶縁膜の平坦化＞
次に、導電層１３０ｂが露出するまで絶縁膜１７３ａの平坦化処理を行い、絶縁層１７３
を形成する（図８参照）。平坦化処理は、ＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃ
ａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）法などを用いて行うことができる。これにより、後述する基
板面内の導電層１３０ｂ上の絶縁膜１７５ａの膜厚を均一にすることができる。
次に、導電層１３０ｂが露出するまで絶縁膜１７３ａの平坦化処理を行い、絶縁層１７３
を形成する（図８参照）。平坦化処理は、ＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃ
ａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）法などを用いて行うことができる。これにより、後述する基
板面内の導電層１３０ｂ上の絶縁膜１７５ａの膜厚を均一にすることができる。
【0235】
なお、第２の加熱処理は、絶縁膜１７３ａを平坦化した後に行ってもよい。
【0236】
【0237】
絶縁膜１７５ａは、絶縁膜１７３ａと同様の材料、方法を用いて成膜することができる。
【0238】
＜溝部の形成＞
次に、絶縁膜１７５ａ上にリソグラフィ工程によりレジストマスク１７６を形成する（図
１０参照）。なお、絶縁膜１７５ａ上に有機膜を塗布してから、あるいは、レジスト上に
有機膜を塗布してからリソグラフィ工程を行ってもよい。当該有機膜は、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、乳酸エチルなど、を有しており、露光時の反射防止膜（ＢＡ
ＲＣ、Ｂｏｔｔｏｍ Ａｎｔｉ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ Ｃｏａｔｉｎｇ）としての機能
を有するほか、レジストと膜との密着性の向上、解像性の向上させることができる。
次に、絶縁膜１７５ａ上にリソグラフィ工程によりレジストマスク１７６を形成する（図
１０参照）。なお、絶縁膜１７５ａ上に有機膜を塗布してから、あるいは、レジスト上に
有機膜を塗布してからリソグラフィ工程を行ってもよい。当該有機膜は、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、乳酸エチルなど、を有しており、露光時の反射防止膜（ＢＡ
ＲＣ、Ｂｏｔｔｏｍ Ａｎｔｉ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ Ｃｏａｔｉｎｇ）としての機能
を有するほか、レジストと膜との密着性の向上、解像性の向上させることができる。
【0239】
なお、チャネル長が極めて短いトランジスタを形成する場合は、少なくともソース電極層
１３０、ドレイン電極層１４０となる導電層１３０ｂを分断する領域において、電子ビー
ム露光、液浸露光、ＥＵＶ（ＥＵＶ：Ｅｘｔｒｅｍｅ Ｕｌｔｒａ－ ｖｉｏｌｅｔ）露
光などの細線加工に適した方法を用いてレジストマスク加工を行い、エッチング工程によ
って当該領域をエッチングすればよい。なお、電子ビーム露光でレジストマスクを形成す
る場合、当該レジストマスクとしては、ポジ型レジストを用いれば、露光領域を最小限に
することができ、スループットを向上させることができる。このような方法を用いれば、
チャネル長を１００ｎｍ以下、さらには３０ｎｍ以下とするトランジスタを形成すること
ができる。または、Ｘ線等を用いた露光技術によって微細な加工を行ってもよい。
１３０、ドレイン電極層１４０となる導電層１３０ｂを分断する領域において、電子ビー
ム露光、液浸露光、ＥＵＶ（ＥＵＶ：Ｅｘｔｒｅｍｅ Ｕｌｔｒａ－ ｖｉｏｌｅｔ）露
光などの細線加工に適した方法を用いてレジストマスク加工を行い、エッチング工程によ
って当該領域をエッチングすればよい。なお、電子ビーム露光でレジストマスクを形成す
る場合、当該レジストマスクとしては、ポジ型レジストを用いれば、露光領域を最小限に
することができ、スループットを向上させることができる。このような方法を用いれば、
チャネル長を１００ｎｍ以下、さらには３０ｎｍ以下とするトランジスタを形成すること
ができる。または、Ｘ線等を用いた露光技術によって微細な加工を行ってもよい。
【0240】
当該レジストマスクを用いて、絶縁膜１７５ａをドライエッチング法により一部をエッチ
ングより加工処理を行う。これにより、絶縁層１７５が形成されると同時に溝部１７４が
形成される。
ングより加工処理を行う。これにより、絶縁層１７５が形成されると同時に溝部１７４が
形成される。
【0241】
続いて、露出した導電層１３０ｂを分断する形で一部をエッチングし、ソース電極層１３
０、ドレイン電極層１４０を形成することができる（図１１参照）。
０、ドレイン電極層１４０を形成することができる（図１１参照）。
【0242】
なお、ソース電極層１３０、ドレイン電極層１４０を形成した後、エッチング残渣を除去
するため、洗浄処理を行ってもよい。この洗浄処理を行うことで、ソース電極層１３０、
ドレイン電極層１４０の短絡を抑制することができる。当該洗浄処理は、ＴＭＡＨ（Ｔｅ
ｔｒａｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ Ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）溶液などのアルカリ性の溶
液、希釈したフッ化水素酸、シュウ酸、リン酸などの酸性の溶液を用いて行うことができ
る。なお、洗浄処理により、半導体層１２２の一部がエッチングされ、半導体層１２２に
凹部が形成される。
するため、洗浄処理を行ってもよい。この洗浄処理を行うことで、ソース電極層１３０、
ドレイン電極層１４０の短絡を抑制することができる。当該洗浄処理は、ＴＭＡＨ（Ｔｅ
ｔｒａｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ Ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）溶液などのアルカリ性の溶
液、希釈したフッ化水素酸、シュウ酸、リン酸などの酸性の溶液を用いて行うことができ
る。なお、洗浄処理により、半導体層１２２の一部がエッチングされ、半導体層１２２に
凹部が形成される。
【0243】
例えば、絶縁膜１７３ａとして形成した酸化窒化シリコン膜を平坦化後、当該酸化窒化シ
リコン膜上にリソグラフィ法によりレジストマスクを形成し、当該レジストマスクと、炭
素、フッ素を有するガスとを用いてドライエッチングすることにより酸化窒化シリコンの
開口処理を行い、塩素、フッ素系のガスを用いて導電層１３０ｂをドライエッチングする
ことにより、ソース電極層１３０、ドレイン電極層１４０を形成することができる。
リコン膜上にリソグラフィ法によりレジストマスクを形成し、当該レジストマスクと、炭
素、フッ素を有するガスとを用いてドライエッチングすることにより酸化窒化シリコンの
開口処理を行い、塩素、フッ素系のガスを用いて導電層１３０ｂをドライエッチングする
ことにより、ソース電極層１３０、ドレイン電極層１４０を形成することができる。
【0244】
＜第２の絶縁体膜１２３ａの形成＞
次に、半導体層１２２、絶縁層１７５上に絶縁体１２３として用いられる第２の絶縁体膜
１２３ａを成膜する。第２の絶縁体膜１２３ａは、第１の絶縁体膜と同様の方法で成膜す
ることができ、第２の絶縁体膜１２３ａは、半導体膜よりも電子親和力が小さくなるよう
に材料を選択することができる。
次に、半導体層１２２、絶縁層１７５上に絶縁体１２３として用いられる第２の絶縁体膜
１２３ａを成膜する。第２の絶縁体膜１２３ａは、第１の絶縁体膜と同様の方法で成膜す
ることができ、第２の絶縁体膜１２３ａは、半導体膜よりも電子親和力が小さくなるよう
に材料を選択することができる。
【0245】
例えば、第２の絶縁体膜１２３ａとして、スパッタリング法により、Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝
１：３：２（原子数比）のターゲットを用いて厚さ５ｎｍ成膜した酸化物半導体膜を用い
ることができる。
１：３：２（原子数比）のターゲットを用いて厚さ５ｎｍ成膜した酸化物半導体膜を用い
ることができる。
【0246】
＜絶縁膜１５０ａの形成＞
次に、第２の絶縁体膜１２３ａ上にゲート絶縁層１５０となる絶縁膜１５０ａを形成する
。絶縁膜１５０ａには、例えば、酸化アルミニウム（ＡｌＯｘ）、酸化マグネシウム（Ｍ
ｇＯｘ）、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、酸化窒化シリコン（ＳｉＯｘＮｙ）、窒化酸化シ
リコン、窒化シリコン、酸化ガリウム、酸化ゲルマニウム、酸化イットリウム、酸化ジル
コニウム、酸化ランタン、酸化ネオジム、酸化ハフニウムおよび酸化タンタルなどを用い
ることができる。なお、絶縁膜１５０ａは、上記材料の積層であってもよい。絶縁膜１５
０ａは、スパッタ法、ＣＶＤ法（プラズマＣＶＤ法、ＭＯＣＶＤ法、ＡＬＤ法など）、Ｍ
ＢＥ法、などを用いて形成することができる。また、絶縁膜１５０ａは、絶縁層１１０と
同様の方法を適宜用いて絶縁膜を形成することができる。
次に、第２の絶縁体膜１２３ａ上にゲート絶縁層１５０となる絶縁膜１５０ａを形成する
。絶縁膜１５０ａには、例えば、酸化アルミニウム（ＡｌＯｘ）、酸化マグネシウム（Ｍ
ｇＯｘ）、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、酸化窒化シリコン（ＳｉＯｘＮｙ）、窒化酸化シ
リコン、窒化シリコン、酸化ガリウム、酸化ゲルマニウム、酸化イットリウム、酸化ジル
コニウム、酸化ランタン、酸化ネオジム、酸化ハフニウムおよび酸化タンタルなどを用い
ることができる。なお、絶縁膜１５０ａは、上記材料の積層であってもよい。絶縁膜１５
０ａは、スパッタ法、ＣＶＤ法（プラズマＣＶＤ法、ＭＯＣＶＤ法、ＡＬＤ法など）、Ｍ
ＢＥ法、などを用いて形成することができる。また、絶縁膜１５０ａは、絶縁層１１０と
同様の方法を適宜用いて絶縁膜を形成することができる。
【0247】
例えば、絶縁膜１５０ａとしてプラズマＣＶＤ法により酸化窒化シリコンを１０ｎｍ形成
することができる。
することができる。
【0248】
＜導電膜１６０ａの形成＞
次に、絶縁膜１５０ａ上にゲート電極層１６０となる導電膜１６０ａを成膜する（（図１
２参照）。導電膜１６０ａとしては、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、
クロム（Ｃｒ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、イットリウム（Ｙ
）、ジルコニウム（Ｚｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、ルテニウム（Ｒｕ）、銀（Ａｇ）、金
（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、またはこれらを主成
分とする合金材料を用いることができる。導電膜１６０ａは、スパッタ法やＣＶＤ法（プ
ラズマＣＶＤ法、ＭＯＣＶＤ法、ＡＬＤ法など）、ＭＢＥ法、蒸着法、めっき法などによ
り形成することができる。また、導電膜１６０ａとしては、窒素を含んだ導電膜を用いて
もよく、上記導電膜と窒素を含んだ導電膜の積層を用いてもよい。また、導電膜１６０ａ
は、単層でもよいし、積層でもよい。
次に、絶縁膜１５０ａ上にゲート電極層１６０となる導電膜１６０ａを成膜する（（図１
２参照）。導電膜１６０ａとしては、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、
クロム（Ｃｒ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、イットリウム（Ｙ
）、ジルコニウム（Ｚｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、ルテニウム（Ｒｕ）、銀（Ａｇ）、金
（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、またはこれらを主成
分とする合金材料を用いることができる。導電膜１６０ａは、スパッタ法やＣＶＤ法（プ
ラズマＣＶＤ法、ＭＯＣＶＤ法、ＡＬＤ法など）、ＭＢＥ法、蒸着法、めっき法などによ
り形成することができる。また、導電膜１６０ａとしては、窒素を含んだ導電膜を用いて
もよく、上記導電膜と窒素を含んだ導電膜の積層を用いてもよい。また、導電膜１６０ａ
は、単層でもよいし、積層でもよい。
【0249】
例えば、窒化チタンをＡＬＤ法により厚さ１０ｎｍ形成し、タングステンをメタルＣＶＤ
法により厚さ１５０ｎｍ形成した積層構造を用いることができる。
法により厚さ１５０ｎｍ形成した積層構造を用いることができる。
【0250】
＜平坦化処理＞
次に、平坦化処理を行う。平坦化処理は、ＣＭＰ法、ドライエッチング法などを用いて行
うことができる。平坦化処理は、絶縁膜１５０ａが露出した時点で終了してもよいし、第
２の絶縁体膜１２３ａが露出した時点で終了してもよいし、絶縁層１７５が露出した時点
で終了してもよい。これにより、ゲート電極層１６０、ゲート絶縁層１５０、絶縁体１２
３を形成することができる（図１３参照）。
次に、平坦化処理を行う。平坦化処理は、ＣＭＰ法、ドライエッチング法などを用いて行
うことができる。平坦化処理は、絶縁膜１５０ａが露出した時点で終了してもよいし、第
２の絶縁体膜１２３ａが露出した時点で終了してもよいし、絶縁層１７５が露出した時点
で終了してもよい。これにより、ゲート電極層１６０、ゲート絶縁層１５０、絶縁体１２
３を形成することができる（図１３参照）。
【0251】
なお、平坦化された絶縁層１７５上に第２の絶縁体膜１２３ａ、または絶縁膜１５０ａを
有している場合には、新たにレジストマスクを用いて加工してもよい。第２の絶縁体膜１
２３ａ、または絶縁膜１５０ａ上にリソグラフィ工程によりレジストマスクを形成する。
当該マスクは、ゲート電極層１６０の上面部よりも広い面積を有しており、当該マスクに
より絶縁膜１５０ａと、第２の絶縁体膜１２３ａを選択的にエッチングし、ゲート絶縁層
１５０、絶縁体１２３を形成することができる。
有している場合には、新たにレジストマスクを用いて加工してもよい。第２の絶縁体膜１
２３ａ、または絶縁膜１５０ａ上にリソグラフィ工程によりレジストマスクを形成する。
当該マスクは、ゲート電極層１６０の上面部よりも広い面積を有しており、当該マスクに
より絶縁膜１５０ａと、第２の絶縁体膜１２３ａを選択的にエッチングし、ゲート絶縁層
１５０、絶縁体１２３を形成することができる。
【0252】
トランジスタ１０においては、酸素欠損が生じにくい絶縁体１２３を設けることにより、
チャネル幅方向における絶縁体１２３の側面からの酸素の脱離が抑制され、酸素欠損の生
成を抑制することができる。その結果、電気的特性が向上され、信頼性の高いトランジス
タを実現できる。
チャネル幅方向における絶縁体１２３の側面からの酸素の脱離が抑制され、酸素欠損の生
成を抑制することができる。その結果、電気的特性が向上され、信頼性の高いトランジス
タを実現できる。
【0253】
＜絶縁層１７０の成膜＞
次に、絶縁層１７３、絶縁体１２３、ゲート絶縁層１５０、およびゲート電極層１６０上
に絶縁層１７０を成膜する。
次に、絶縁層１７３、絶縁体１２３、ゲート絶縁層１５０、およびゲート電極層１６０上
に絶縁層１７０を成膜する。
【0254】
絶縁層１７０は、プラズマＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法（ＭＯＣＶＤ法、ＡＬＤ法）、またはス
パッタ法等により、例えば、酸化アルミニウム（ＡｌＯｘ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ
ｘ）、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、酸化窒化シリコン（ＳｉＯｘＮｙ）、酸化ガリウム（
ＧａＯｘ）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯｘ）、酸化イットリウム（ＹＯｘ）、酸化ジルコ
ニウム（ＺｒＯｘ）、酸化ランタン（ＬａＯｘ）、酸化ネオジム（ＮｄＯｘ）、酸化ハフ
ニウム（ＨｆＯｘ）および酸化タンタル（ＴａＯｘ）などの酸化物絶縁膜、窒化シリコン
（ＳｉＮｘ）、窒化酸化シリコン（ＳｉＮｘＯｙ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮｘ）、窒
化酸化アルミニウム（ＡｌＮｘＯｙ）などの窒化物絶縁膜、またはこれらの混合材料を用
いて形成することができる。また、上記材料の積層であってもよい。また、絶縁層１７０
には、Ｉｎ若しくはＺｎを含む酸化物を用いてもよい。代表的には、Ｉｎ－Ｇａ酸化物、
Ｉｎ－Ｚｎ酸化物、Ｉｎ－Ｍｇ酸化物、Ｚｎ－Ｍｇ酸化物、Ｉｎ－Ｍ－Ｚｎ酸化物（Ｍは
Ａｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｍｇ、またはＮｄ）がある。
パッタ法等により、例えば、酸化アルミニウム（ＡｌＯｘ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ
ｘ）、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、酸化窒化シリコン（ＳｉＯｘＮｙ）、酸化ガリウム（
ＧａＯｘ）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯｘ）、酸化イットリウム（ＹＯｘ）、酸化ジルコ
ニウム（ＺｒＯｘ）、酸化ランタン（ＬａＯｘ）、酸化ネオジム（ＮｄＯｘ）、酸化ハフ
ニウム（ＨｆＯｘ）および酸化タンタル（ＴａＯｘ）などの酸化物絶縁膜、窒化シリコン
（ＳｉＮｘ）、窒化酸化シリコン（ＳｉＮｘＯｙ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮｘ）、窒
化酸化アルミニウム（ＡｌＮｘＯｙ）などの窒化物絶縁膜、またはこれらの混合材料を用
いて形成することができる。また、上記材料の積層であってもよい。また、絶縁層１７０
には、Ｉｎ若しくはＺｎを含む酸化物を用いてもよい。代表的には、Ｉｎ－Ｇａ酸化物、
Ｉｎ－Ｚｎ酸化物、Ｉｎ－Ｍｇ酸化物、Ｚｎ－Ｍｇ酸化物、Ｉｎ－Ｍ－Ｚｎ酸化物（Ｍは
Ａｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｍｇ、またはＮｄ）がある。
【0255】
なお、絶縁層１７０としては、スパッタリング法により酸化アルミニウム膜を成膜するこ
とが望ましい。また、スパッタリング用ターゲットとして、酸化アルミニウムを用いるこ
とが望ましい。また、成膜時に用いるガスとして、酸素ガスを有することが望ましい。
とが望ましい。また、スパッタリング用ターゲットとして、酸化アルミニウムを用いるこ
とが望ましい。また、成膜時に用いるガスとして、酸素ガスを有することが望ましい。
【0256】
該酸化アルミニウム膜を成膜する際に、絶縁層１７３との界面に混合層１７１が形成され
る。
る。
【0257】
例えば、絶縁層１７０成膜時に用いる酸素ガスは、スパッタリング法による成膜時に印加
された電圧、電力、プラズマ、基板温度などの影響により、酸素ラジカル、酸素イオン、
酸素原子など、様々な状態で存在し、かつ安定な状態に比してエネルギーの高い状態を有
する。このとき、酸素（過剰酸素、ｅｘＯという）１７２が絶縁層１７３、あるいは混合
層１７１中に添加される。
された電圧、電力、プラズマ、基板温度などの影響により、酸素ラジカル、酸素イオン、
酸素原子など、様々な状態で存在し、かつ安定な状態に比してエネルギーの高い状態を有
する。このとき、酸素（過剰酸素、ｅｘＯという）１７２が絶縁層１７３、あるいは混合
層１７１中に添加される。
【0258】
＜酸素の添加＞
また、トランジスタ１０を作製する上で、上記方法に限定されず、酸素を添加する処理を
別途行ってもよい。当該酸素を添加する処理は、絶縁層１１０に行ってもよいし、第１の
酸化物半導体膜、前述した第２の絶縁体膜１２３ａに対して行ってもよい。添加する酸素
として、酸素ラジカル、酸素原子、酸素原子イオン、酸素分子イオン等のいずれか一以上
を用いる。また、酸素を添加する方法としては、イオンドーピング法、イオン注入法、プ
ラズマ浸漬イオン注入法等がある。
また、トランジスタ１０を作製する上で、上記方法に限定されず、酸素を添加する処理を
別途行ってもよい。当該酸素を添加する処理は、絶縁層１１０に行ってもよいし、第１の
酸化物半導体膜、前述した第２の絶縁体膜１２３ａに対して行ってもよい。添加する酸素
として、酸素ラジカル、酸素原子、酸素原子イオン、酸素分子イオン等のいずれか一以上
を用いる。また、酸素を添加する方法としては、イオンドーピング法、イオン注入法、プ
ラズマ浸漬イオン注入法等がある。
【0259】
なお、酸素を添加する方法としてイオン注入法を用いる場合、酸素原子イオンを用いても
よいし、酸素分子イオンを用いてもよい。酸素分子イオンを用いると、添加される膜への
ダメージを低減することが可能である。酸素分子イオンは、当該酸素が添加される膜表面
で分離し、酸素原子イオンとなって添加される。酸素分子から酸素原子に分離するために
エネルギーが使用されるため、酸素分子イオンを当該酸素が添加される膜に添加した場合
における酸素原子イオンあたりのエネルギーは、酸素原子イオンを当該酸素が添加される
膜に添加した場合と比較して低い。このため、当該酸素が添加される膜へのダメージを低
減できる。
よいし、酸素分子イオンを用いてもよい。酸素分子イオンを用いると、添加される膜への
ダメージを低減することが可能である。酸素分子イオンは、当該酸素が添加される膜表面
で分離し、酸素原子イオンとなって添加される。酸素分子から酸素原子に分離するために
エネルギーが使用されるため、酸素分子イオンを当該酸素が添加される膜に添加した場合
における酸素原子イオンあたりのエネルギーは、酸素原子イオンを当該酸素が添加される
膜に添加した場合と比較して低い。このため、当該酸素が添加される膜へのダメージを低
減できる。
【0260】
また、酸素分子イオンを注入する場合は、酸素原子イオンを注入する場合と比較して、酸
素原子イオンあたりのエネルギーが低い。このため、酸素分子イオンを用いて注入するこ
とで、加速電圧を高めることが可能であり、スループットを高めることが可能である。ま
た、酸素分子イオンを用いて注入することで、酸素原子イオンを用いた場合と比較して、
同量の酸素原子イオンを添加するためのドーズ量を半分にすることが可能である。この結
果、製造工程のスループットを高めることができる。
素原子イオンあたりのエネルギーが低い。このため、酸素分子イオンを用いて注入するこ
とで、加速電圧を高めることが可能であり、スループットを高めることが可能である。ま
た、酸素分子イオンを用いて注入することで、酸素原子イオンを用いた場合と比較して、
同量の酸素原子イオンを添加するためのドーズ量を半分にすることが可能である。この結
果、製造工程のスループットを高めることができる。
【0261】
また、当該酸素が添加される膜に酸素を添加する場合、当該酸素が添加される膜に酸素原
子イオンの濃度プロファイルのピークが位置するような条件を用いて、当該酸素が添加さ
れる膜に酸素を添加することが好ましい。この結果、酸素原子イオンを注入する場合に比
べて、注入時の加速電圧を下げることができ、当該酸素が添加される膜のダメージを低減
することが可能である。即ち、当該酸素が添加される膜の欠陥量を低減することができ、
トランジスタの電気特性の変動を抑制することが可能である。この結果、当該酸素が添加
される膜へのダメージを低減することが可能であり、トランジスタの電気特性の変動を抑
制することができる。
子イオンの濃度プロファイルのピークが位置するような条件を用いて、当該酸素が添加さ
れる膜に酸素を添加することが好ましい。この結果、酸素原子イオンを注入する場合に比
べて、注入時の加速電圧を下げることができ、当該酸素が添加される膜のダメージを低減
することが可能である。即ち、当該酸素が添加される膜の欠陥量を低減することができ、
トランジスタの電気特性の変動を抑制することが可能である。この結果、当該酸素が添加
される膜へのダメージを低減することが可能であり、トランジスタの電気特性の変動を抑
制することができる。
【0262】
また、酸素を有する雰囲気で発生させたプラズマに当該酸素が添加される膜を曝すプラズ
マ処理（プラズマ浸漬イオン注入法）により、当該酸素が添加される膜に酸素を添加して
もよい。酸素を有する雰囲気としては、酸素、オゾン、一酸化二窒素、二酸化窒素等の酸
化性気体を有する雰囲気がある。なお、基板１００側にバイアスを印加した状態で発生し
たプラズマに当該酸素が添加される膜を曝すことで、当該酸素が添加される膜への酸素添
加量を増加させることが可能であり好ましい。このようなプラズマ処理を行う装置の一例
として、アッシング装置がある。
マ処理（プラズマ浸漬イオン注入法）により、当該酸素が添加される膜に酸素を添加して
もよい。酸素を有する雰囲気としては、酸素、オゾン、一酸化二窒素、二酸化窒素等の酸
化性気体を有する雰囲気がある。なお、基板１００側にバイアスを印加した状態で発生し
たプラズマに当該酸素が添加される膜を曝すことで、当該酸素が添加される膜への酸素添
加量を増加させることが可能であり好ましい。このようなプラズマ処理を行う装置の一例
として、アッシング装置がある。
【0263】
例えば、加速電圧を５ｋＶとし、ドーズ量が１×１０１６／ｃｍ２の酸素分子イオンをイ
オン注入法により第１の酸化物半導体膜に添加することができる。
オン注入法により第１の酸化物半導体膜に添加することができる。
【0264】
以上の工程、および後の加熱処理を組み合わせて処理することで半導体層１２２の酸素欠
損量を低減することができる。なお、酸素が添加された膜は、酸素が添加される前の膜と
比較して、膜密度が低くなる。
損量を低減することができる。なお、酸素が添加された膜は、酸素が添加される前の膜と
比較して、膜密度が低くなる。
【0265】
次に、第３の加熱処理を行ってもよい。第３の加熱処理は、代表的には、１５０℃以上基
板歪み点未満、好ましくは２５０℃以上５００℃以下、更に好ましくは３００℃以上４５
０℃以下とすることができる。当該加熱処理により、添加された酸素１７２が拡散し、半
導体層１２２まで移動し、半導体層１２２中に存在する酸素欠損に対して酸素を補填する
ことができる（図１４参照）。
板歪み点未満、好ましくは２５０℃以上５００℃以下、更に好ましくは３００℃以上４５
０℃以下とすることができる。当該加熱処理により、添加された酸素１７２が拡散し、半
導体層１２２まで移動し、半導体層１２２中に存在する酸素欠損に対して酸素を補填する
ことができる（図１４参照）。
【0266】
例えば、スパッタリング法により、酸化アルミニウム（ＡｌＯｘ）ターゲットを用いて、
スパッタリング時のガスとして酸素ガスを５０体積％含有させて、絶縁層１７０を成膜す
ることができる。厚さは２０ｎｍ乃至４０ｎｍとすることができる。また、第３の加熱処
理として、酸素雰囲気下４００℃で１時間加熱処理することができる。
スパッタリング時のガスとして酸素ガスを５０体積％含有させて、絶縁層１７０を成膜す
ることができる。厚さは２０ｎｍ乃至４０ｎｍとすることができる。また、第３の加熱処
理として、酸素雰囲気下４００℃で１時間加熱処理することができる。
【0267】
以上の工程により、半導体膜の局在準位密度が低減され、優れた電気特性を有するトラン
ジスタを作製することができる。また、経時変化やストレス試験による電気特性の変動の
少ない、信頼性の高いトランジスタを作製することができる。
ジスタを作製することができる。また、経時変化やストレス試験による電気特性の変動の
少ない、信頼性の高いトランジスタを作製することができる。
【0268】
（実施の形態２）
本実施の形態では、実施の形態１で説明したトランジスタ１０とは構造の異なるトランジ
スタ１１、およびトランジスタ１２の作製方法について説明する。
本実施の形態では、実施の形態１で説明したトランジスタ１０とは構造の異なるトランジ
スタ１１、およびトランジスタ１２の作製方法について説明する。
【0269】
【0270】
図１５（Ａ）、図１５（Ｂ）、図１５（Ｃ）は、トランジスタ１１の上面図および断面図
である。図１５（Ａ）はトランジスタ１１の上面図であり、図１５（Ｂ）は、図１５（Ａ
）の一点鎖線Ａ１－Ａ２間、図１５（Ｃ）はＡ３－Ａ４間の断面図である。
である。図１５（Ａ）はトランジスタ１１の上面図であり、図１５（Ｂ）は、図１５（Ａ
）の一点鎖線Ａ１－Ａ２間、図１５（Ｃ）はＡ３－Ａ４間の断面図である。
【0271】
トランジスタ１１は、絶縁層１７０が絶縁体１２１、半導体層１２２、ソース電極層１３
０、ドレイン電極層１４０および絶縁層１７５の側面と接する領域を有する点でトランジ
スタ１０と異なる。
０、ドレイン電極層１４０および絶縁層１７５の側面と接する領域を有する点でトランジ
スタ１０と異なる。
【0272】
また、トランジスタ１１は、後述するように絶縁体１２１、半導体層１２２、ソース電極
層１３０、ドレイン電極層１４０、絶縁層１７５を同一の工程で形成する点、および各工
程において平坦化処理を行わない点で、トランジスタ１０の製造方法と異なる。
層１３０、ドレイン電極層１４０、絶縁層１７５を同一の工程で形成する点、および各工
程において平坦化処理を行わない点で、トランジスタ１０の製造方法と異なる。
【0273】
【0274】
図１６（Ａ）、図１６（Ｂ）に示すように、絶縁層１１０、絶縁体１２１となる第１の絶
縁体膜１２１ａ、半導体層１２２となる半導体膜１２２ａ、ソース電極層１３０およびド
レイン電極層１４０となる導電膜１３０ａ、および絶縁層１７５となる絶縁膜１７５ａを
成膜し、絶縁膜１７５ａ上にリソグラフィ法を用いてレジストマスク１７６を形成する。
縁体膜１２１ａ、半導体層１２２となる半導体膜１２２ａ、ソース電極層１３０およびド
レイン電極層１４０となる導電膜１３０ａ、および絶縁層１７５となる絶縁膜１７５ａを
成膜し、絶縁膜１７５ａ上にリソグラフィ法を用いてレジストマスク１７６を形成する。
【0275】
次に、レジストマスク１７６を用いて絶縁膜１７５ａおよび導電膜１３０ａの一部をエッ
チングし、溝部１７４、絶縁層１７５ｂ、導電層１３０ｂを形成する（図１７参照）。
チングし、溝部１７４、絶縁層１７５ｂ、導電層１３０ｂを形成する（図１７参照）。
【0276】
次に、レジストマスクを用いて絶縁層１７５ｂ、導電層１３０ｂ、半導体膜１２２ａ、第
１の絶縁体膜１２１ａを一部エッチングし、絶縁体１２１、半導体層１２２、ソース電極
層１３０、ドレイン電極層１４０、絶縁層１７５を形成する（図１８参照）。
１の絶縁体膜１２１ａを一部エッチングし、絶縁体１２１、半導体層１２２、ソース電極
層１３０、ドレイン電極層１４０、絶縁層１７５を形成する（図１８参照）。
【0277】
次に、絶縁体１２３となる第２の絶縁体膜１２３ａ、ゲート絶縁層１５０となる絶縁膜１
５０ａ、ゲート電極層１６０となる導電膜１６０ａを順次成膜する（図１９参照）。
５０ａ、ゲート電極層１６０となる導電膜１６０ａを順次成膜する（図１９参照）。
【0278】
次に、リソグラフィ法を用いて形成したレジストマスクを用いて、導電膜１６０ａ、絶縁
膜１５０ａ、第２の絶縁体膜１２３ａの一部をそれぞれエッチングし、絶縁体１２３、ゲ
ート絶縁層１５０、ゲート電極層１６０を形成する（図２０参照）。
膜１５０ａ、第２の絶縁体膜１２３ａの一部をそれぞれエッチングし、絶縁体１２３、ゲ
ート絶縁層１５０、ゲート電極層１６０を形成する（図２０参照）。
【0279】
なお、絶縁体１２３、ゲート絶縁層１５０、ゲート電極層１６０は、一括で形成しなくて
もよい。図２１、図２２に示すように、絶縁膜１５０ａをエッチングせずに絶縁体１２３
、ゲート電極層１６０を形成してもよい。また、絶縁体１２３の端部と、ゲート絶縁層１
５０およびゲート電極層１６０の端部が重ならないように形成してもよい。
もよい。図２１、図２２に示すように、絶縁膜１５０ａをエッチングせずに絶縁体１２３
、ゲート電極層１６０を形成してもよい。また、絶縁体１２３の端部と、ゲート絶縁層１
５０およびゲート電極層１６０の端部が重ならないように形成してもよい。
【0280】
次に絶縁層１７０を形成し、加熱処理を行うことで、酸素１７２を半導体層１２２まで拡
散させ、半導体層１２２中の酸素欠損を低減させることができる（図２３参照）。
散させ、半導体層１２２中の酸素欠損を低減させることができる（図２３参照）。
【0281】
以上の工程により、トランジスタ１１を作製することができる。
【0282】
トランジスタ１１の作製方法では、絶縁層１７５となる絶縁膜１７５ａをソース電極層１
３０、ドレイン電極層１４０となる導電膜１３０ａを加工する前に成膜することができる
ので、絶縁膜１７５ａの膜厚は基板面内で一様とすることができ、溝部１７４形成時のエ
ッチング処理時間を安定させることができる。これにより、トランジスタ１１を安定して
作製することができ、トランジスタの形状を安定化させることができる。したがって、ト
ランジスタ特性を安定させることができる。
３０、ドレイン電極層１４０となる導電膜１３０ａを加工する前に成膜することができる
ので、絶縁膜１７５ａの膜厚は基板面内で一様とすることができ、溝部１７４形成時のエ
ッチング処理時間を安定させることができる。これにより、トランジスタ１１を安定して
作製することができ、トランジスタの形状を安定化させることができる。したがって、ト
ランジスタ特性を安定させることができる。
【0283】
【0284】
図２４（Ａ）、図２４（Ｂ）、図２４（Ｃ）は、トランジスタ１２の上面図および断面図
である。図２４（Ａ）はトランジスタ１２の上面図であり、図２４（Ｂ）は、図２４（Ａ
）の一点鎖線Ａ１－Ａ２間、図２４（Ｃ）はＡ３－Ａ４間の断面図である。
である。図２４（Ａ）はトランジスタ１２の上面図であり、図２４（Ｂ）は、図２４（Ａ
）の一点鎖線Ａ１－Ａ２間、図２４（Ｃ）はＡ３－Ａ４間の断面図である。
【0285】
トランジスタ１２は、絶縁層１７７を有している点で、トランジスタ１０と異なる。
【0286】
また、後述するように、絶縁体１２１となる第１の絶縁体膜１２１ａ、半導体層１２２と
なる半導体膜１２２ａ、ソース電極層１３０およびドレイン電極層１４０となる導電膜１
３０ａ、絶縁層１７５となる絶縁膜１７５ａ、および絶縁層１７７となる絶縁膜１７７ａ
の各膜を加工する前に成膜する点で、トランジスタ１０の製造方法と異なる。
なる半導体膜１２２ａ、ソース電極層１３０およびドレイン電極層１４０となる導電膜１
３０ａ、絶縁層１７５となる絶縁膜１７５ａ、および絶縁層１７７となる絶縁膜１７７ａ
の各膜を加工する前に成膜する点で、トランジスタ１０の製造方法と異なる。
【0287】
【0288】
絶縁層１１０上に絶縁体１２１となる第１の絶縁体膜１２１ａ、半導体層１２２となる半
導体膜１２２ａ、ソース電極層１３０およびドレイン電極層１４０となる導電膜１３０ａ
、絶縁層１７５となる絶縁膜１７５ａ、および絶縁層１７７となる絶縁膜１７７ａの各膜
を加工する前に順次成膜する（図２５参照）。
導体膜１２２ａ、ソース電極層１３０およびドレイン電極層１４０となる導電膜１３０ａ
、絶縁層１７５となる絶縁膜１７５ａ、および絶縁層１７７となる絶縁膜１７７ａの各膜
を加工する前に順次成膜する（図２５参照）。
【0289】
なお、絶縁層１７７は、絶縁層１７０と同様の材料および同様の方法で形成することがで
きる。
きる。
【0290】
次に、レジストマスクを用いて絶縁膜１７７ａ、絶縁膜１７５ａ、導電膜１３０ａ、半導
体膜１２２ａ、第１の絶縁体膜１２１ａの一部をエッチングし、絶縁体１２１、半導体層
１２２、導電層１３０ｂ、絶縁層１７５ｂ、絶縁層１７１ｂを形成する（図２６参照）。
なお、このとき絶縁層１１０が一部エッチングされてもよい。
体膜１２２ａ、第１の絶縁体膜１２１ａの一部をエッチングし、絶縁体１２１、半導体層
１２２、導電層１３０ｂ、絶縁層１７５ｂ、絶縁層１７１ｂを形成する（図２６参照）。
なお、このとき絶縁層１１０が一部エッチングされてもよい。
【0291】
次に、絶縁層１７３となる絶縁膜１７３ａを形成する（図２７参照）。絶縁膜１７３ａは
、プラズマＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法（ＭＯＣＶＤ法、ＡＬＤ法）、スパッタ法、またはスピ
ンコーティング法等により形成することができる。
、プラズマＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法（ＭＯＣＶＤ法、ＡＬＤ法）、スパッタ法、またはスピ
ンコーティング法等により形成することができる。
【0292】
次に、絶縁膜１７３ａに対して、絶縁層１７１ｂが露出するまでＣＭＰによる平坦化処理
を行い、絶縁層１７３を形成する（図２８参照）。なお、絶縁層１７１ｂは絶縁層１７３
と同一のＣＭＰ処理条件において研磨される速度が低い、すなわちストッパ―としての機
能を有することが好ましい。
を行い、絶縁層１７３を形成する（図２８参照）。なお、絶縁層１７１ｂは絶縁層１７３
と同一のＣＭＰ処理条件において研磨される速度が低い、すなわちストッパ―としての機
能を有することが好ましい。
【0293】
次に、絶縁層１７３、および絶縁層１７１ｂ上にリソグラフィ法によりレジストマスクを
形成し、さらに絶縁層１７１ｂをハードマスクとして用い、半導体層１２２が露出するま
で導電層１３０ｂを一部選択的にエッチングする。これにより、ソース電極層１３０と、
ドレイン電極層１４０、および絶縁層１７５を形成する（図２９参照）。
形成し、さらに絶縁層１７１ｂをハードマスクとして用い、半導体層１２２が露出するま
で導電層１３０ｂを一部選択的にエッチングする。これにより、ソース電極層１３０と、
ドレイン電極層１４０、および絶縁層１７５を形成する（図２９参照）。
【0294】
次に、第２の絶縁体膜１２３ａ、絶縁膜１５０ａ、導電膜１６０ａを順次成膜する（図３
０参照）。
０参照）。
【0295】
【0296】
次に、絶縁層１７０を形成し、加熱処理を行うことで、酸素１７２を半導体層１２２まで
拡散させ、半導体層１２２中の酸素欠損を低減させることができる（図３２参照）。
拡散させ、半導体層１２２中の酸素欠損を低減させることができる（図３２参照）。
【0297】
以上の工程により、トランジスタ１２を作製することができる。
【0298】
トランジスタ１２の作製方法では、絶縁層１７５となる絶縁膜１７５ａをソース電極層１
３０、ドレイン電極層１４０となる導電膜１３０ａを加工する前に成膜することができる
ので、絶縁膜１７５ａの膜厚は基板面内で一様とすることができ、溝部１７４形成時のエ
ッチング処理時間を安定させることができる。これにより、トランジスタ１２を安定して
作製することができ、トランジスタの形状を安定化させることができる。したがって、ト
ランジスタ特性（例えば、閾値、信頼性など）も安定させることができる。
３０、ドレイン電極層１４０となる導電膜１３０ａを加工する前に成膜することができる
ので、絶縁膜１７５ａの膜厚は基板面内で一様とすることができ、溝部１７４形成時のエ
ッチング処理時間を安定させることができる。これにより、トランジスタ１２を安定して
作製することができ、トランジスタの形状を安定化させることができる。したがって、ト
ランジスタ特性（例えば、閾値、信頼性など）も安定させることができる。
【0299】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
。
。
【0300】
（実施の形態３）
＜酸化物半導体の構造＞
本実施の形態では、酸化物半導体の構造について説明する。
＜酸化物半導体の構造＞
本実施の形態では、酸化物半導体の構造について説明する。
【0301】
酸化物半導体は、単結晶酸化物半導体と、それ以外の非単結晶酸化物半導体とに分けられ
る。非単結晶酸化物半導体としては、ＣＡＡＣ－ＯＳ（Ｃ Ａｘｉｓ Ａｌｉｇｎｅｄ
Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）、多結晶酸化物半
導体、ｎｃ－ＯＳ（ｎａｎｏｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕ
ｃｔｏｒ）、擬似非晶質酸化物半導体（ａ－ｌｉｋｅ ＯＳ：ａｍｏｒｐｈｏｕｓ ｌｉ
ｋｅ Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）、非晶質酸化物半導体などがある。
る。非単結晶酸化物半導体としては、ＣＡＡＣ－ＯＳ（Ｃ Ａｘｉｓ Ａｌｉｇｎｅｄ
Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）、多結晶酸化物半
導体、ｎｃ－ＯＳ（ｎａｎｏｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕ
ｃｔｏｒ）、擬似非晶質酸化物半導体（ａ－ｌｉｋｅ ＯＳ：ａｍｏｒｐｈｏｕｓ ｌｉ
ｋｅ Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）、非晶質酸化物半導体などがある。
【0302】
また別の観点では、酸化物半導体は、非晶質酸化物半導体と、それ以外の結晶性酸化物半
導体とに分けられる。結晶性酸化物半導体としては、単結晶酸化物半導体、ＣＡＡＣ－Ｏ
Ｓ、多結晶酸化物半導体、ｎｃ－ＯＳなどがある。
導体とに分けられる。結晶性酸化物半導体としては、単結晶酸化物半導体、ＣＡＡＣ－Ｏ
Ｓ、多結晶酸化物半導体、ｎｃ－ＯＳなどがある。
【0303】
非晶質構造の定義としては、一般に、準安定状態で固定化していないこと、等方的であっ
て不均質構造を持たないことなどが知られている。また、結合角度が柔軟であり、短距離
秩序性は有するが、長距離秩序性を有さない構造と言い換えることもできる。
て不均質構造を持たないことなどが知られている。また、結合角度が柔軟であり、短距離
秩序性は有するが、長距離秩序性を有さない構造と言い換えることもできる。
【0304】
逆の見方をすると、本質的に安定な酸化物半導体の場合、完全な非晶質（ｃｏｍｐｌｅｔ
ｅｌｙ ａｍｏｒｐｈｏｕｓ）酸化物半導体と呼ぶことはできない。また、等方的でない
（例えば、微小な領域において周期構造を有する）酸化物半導体を、完全な非晶質酸化物
半導体と呼ぶことはできない。ただし、ａ－ｌｉｋｅ ＯＳは、微小な領域において周期
構造を有するものの、鬆（ボイドともいう。）を有し、不安定な構造である。そのため、
物性的には非晶質酸化物半導体に近いといえる。
ｅｌｙ ａｍｏｒｐｈｏｕｓ）酸化物半導体と呼ぶことはできない。また、等方的でない
（例えば、微小な領域において周期構造を有する）酸化物半導体を、完全な非晶質酸化物
半導体と呼ぶことはできない。ただし、ａ－ｌｉｋｅ ＯＳは、微小な領域において周期
構造を有するものの、鬆（ボイドともいう。）を有し、不安定な構造である。そのため、
物性的には非晶質酸化物半導体に近いといえる。
【0305】
＜ＣＡＡＣ－ＯＳ＞
まずは、ＣＡＡＣ－ＯＳについて説明する。
まずは、ＣＡＡＣ－ＯＳについて説明する。
【0306】
ＣＡＡＣ－ＯＳは、ｃ軸配向した複数の結晶部（ペレットともいう。）を有する酸化物半
導体の一つである。
導体の一つである。
【0307】
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ：Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏ
ｓｃｏｐｅ）によって、ＣＡＡＣ－ＯＳの明視野像と回折パターンとの複合解析像（高分
解能ＴＥＭ像ともいう。）を観察すると、複数のペレットを確認することができる。一方
、高分解能ＴＥＭ像ではペレット同士の境界、即ち結晶粒界（グレインバウンダリーとも
いう。）を明確に確認することができない。そのため、ＣＡＡＣ－ＯＳは、結晶粒界に起
因する電子移動度の低下が起こりにくいといえる。
ｓｃｏｐｅ）によって、ＣＡＡＣ－ＯＳの明視野像と回折パターンとの複合解析像（高分
解能ＴＥＭ像ともいう。）を観察すると、複数のペレットを確認することができる。一方
、高分解能ＴＥＭ像ではペレット同士の境界、即ち結晶粒界（グレインバウンダリーとも
いう。）を明確に確認することができない。そのため、ＣＡＡＣ－ＯＳは、結晶粒界に起
因する電子移動度の低下が起こりにくいといえる。
【0308】
以下では、ＴＥＭによって観察したＣＡＡＣ－ＯＳについて説明する。図３３（Ａ）に、
試料面と略平行な方向から観察したＣＡＡＣ－ＯＳの断面の高分解能ＴＥＭ像を示す。高
分解能ＴＥＭ像の観察には、球面収差補正（Ｓｐｈｅｒｉｃａｌ Ａｂｅｒｒａｔｉｏｎ
Ｃｏｒｒｅｃｔｏｒ）機能を用いた。球面収差補正機能を用いた高分解能ＴＥＭ像を、
特にＣｓ補正高分解能ＴＥＭ像と呼ぶ。Ｃｓ補正高分解能ＴＥＭ像の取得は、例えば、日
本電子株式会社製原子分解能分析電子顕微鏡ＪＥＭ－ＡＲＭ２００Ｆなどによって行うこ
とができる。
試料面と略平行な方向から観察したＣＡＡＣ－ＯＳの断面の高分解能ＴＥＭ像を示す。高
分解能ＴＥＭ像の観察には、球面収差補正（Ｓｐｈｅｒｉｃａｌ Ａｂｅｒｒａｔｉｏｎ
Ｃｏｒｒｅｃｔｏｒ）機能を用いた。球面収差補正機能を用いた高分解能ＴＥＭ像を、
特にＣｓ補正高分解能ＴＥＭ像と呼ぶ。Ｃｓ補正高分解能ＴＥＭ像の取得は、例えば、日
本電子株式会社製原子分解能分析電子顕微鏡ＪＥＭ－ＡＲＭ２００Ｆなどによって行うこ
とができる。
【0309】
図３３（Ａ）の領域（１）を拡大したＣｓ補正高分解能ＴＥＭ像を図３３（Ｂ）に示す。
図３３（Ｂ）より、ペレットにおいて、金属原子が層状に配列していることを確認できる
。金属原子の各層の配列は、ＣＡＡＣ－ＯＳの膜を形成する面（被形成面ともいう。）ま
たは上面の凹凸を反映しており、ＣＡＡＣ－ＯＳの被形成面または上面と平行となる。
図３３（Ｂ）より、ペレットにおいて、金属原子が層状に配列していることを確認できる
。金属原子の各層の配列は、ＣＡＡＣ－ＯＳの膜を形成する面（被形成面ともいう。）ま
たは上面の凹凸を反映しており、ＣＡＡＣ－ＯＳの被形成面または上面と平行となる。
【0310】
図３３（Ｂ）に示すように、ＣＡＡＣ－ＯＳは特徴的な原子配列を有する。図３３（Ｃ）
は、特徴的な原子配列を、補助線で示したものである。図３３（Ｂ）および図３３（Ｃ）
より、ペレット一つの大きさは１ｎｍ以上のものや、３ｎｍ以上のものがあり、ペレット
とペレットとの傾きにより生じる隙間の大きさは０．８ｎｍ程度であることがわかる。し
たがって、ペレットを、ナノ結晶（ｎｃ：ｎａｎｏｃｒｙｓｔａｌ）と呼ぶこともできる
。また、ＣＡＡＣ－ＯＳを、ＣＡＮＣ（Ｃ－Ａｘｉｓ Ａｌｉｇｎｅｄ ｎａｎｏｃｒｙ
ｓｔａｌｓ）を有する酸化物半導体と呼ぶこともできる。
は、特徴的な原子配列を、補助線で示したものである。図３３（Ｂ）および図３３（Ｃ）
より、ペレット一つの大きさは１ｎｍ以上のものや、３ｎｍ以上のものがあり、ペレット
とペレットとの傾きにより生じる隙間の大きさは０．８ｎｍ程度であることがわかる。し
たがって、ペレットを、ナノ結晶（ｎｃ：ｎａｎｏｃｒｙｓｔａｌ）と呼ぶこともできる
。また、ＣＡＡＣ－ＯＳを、ＣＡＮＣ（Ｃ－Ａｘｉｓ Ａｌｉｇｎｅｄ ｎａｎｏｃｒｙ
ｓｔａｌｓ）を有する酸化物半導体と呼ぶこともできる。
【0311】
ここで、Ｃｓ補正高分解能ＴＥＭ像をもとに、基板５１２０上のＣＡＡＣ－ＯＳのペレッ
ト５１００の配置を模式的に示すと、レンガまたはブロックが積み重なったような構造と
なる（図３３（Ｄ）参照。）。図３３（Ｃ）で観察されたペレットとペレットとの間で傾
きが生じている箇所は、図３３（Ｄ）に示す領域５１６１に相当する。
ト５１００の配置を模式的に示すと、レンガまたはブロックが積み重なったような構造と
なる（図３３（Ｄ）参照。）。図３３（Ｃ）で観察されたペレットとペレットとの間で傾
きが生じている箇所は、図３３（Ｄ）に示す領域５１６１に相当する。
【0312】
また、図３４（Ａ）に、試料面と略垂直な方向から観察したＣＡＡＣ－ＯＳの平面のＣｓ
補正高分解能ＴＥＭ像を示す。図３４（Ａ）の領域（１）、領域（２）および領域（３）
を拡大したＣｓ補正高分解能ＴＥＭ像を、それぞれ図３４（Ｂ）、図３４（Ｃ）および図
３４（Ｄ）に示す。図３４（Ｂ）、図３４（Ｃ）および図３４（Ｄ）より、ペレットは、
金属原子が三角形状、四角形状または六角形状に配列していることを確認できる。しかし
ながら、異なるペレット間で、金属原子の配列に規則性は見られない。
補正高分解能ＴＥＭ像を示す。図３４（Ａ）の領域（１）、領域（２）および領域（３）
を拡大したＣｓ補正高分解能ＴＥＭ像を、それぞれ図３４（Ｂ）、図３４（Ｃ）および図
３４（Ｄ）に示す。図３４（Ｂ）、図３４（Ｃ）および図３４（Ｄ）より、ペレットは、
金属原子が三角形状、四角形状または六角形状に配列していることを確認できる。しかし
ながら、異なるペレット間で、金属原子の配列に規則性は見られない。
【0313】
次に、Ｘ線回折（ＸＲＤ：Ｘ－Ｒａｙ Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）によって解析したＣＡ
ＡＣ－ＯＳについて説明する。例えば、ＩｎＧａＺｎＯ４の結晶を有するＣＡＡＣ－ＯＳ
に対し、ｏｕｔ－ｏｆ－ｐｌａｎｅ法による構造解析を行うと、図３５（Ａ）に示すよう
に回折角（２θ）が３１°近傍にピークが現れる場合がある。このピークは、ＩｎＧａＺ
ｎＯ４の結晶の（００９）面に帰属されることから、ＣＡＡＣ－ＯＳの結晶がｃ軸配向性
を有し、ｃ軸が被形成面または上面に略垂直な方向を向いていることが確認できる。
ＡＣ－ＯＳについて説明する。例えば、ＩｎＧａＺｎＯ４の結晶を有するＣＡＡＣ－ＯＳ
に対し、ｏｕｔ－ｏｆ－ｐｌａｎｅ法による構造解析を行うと、図３５（Ａ）に示すよう
に回折角（２θ）が３１°近傍にピークが現れる場合がある。このピークは、ＩｎＧａＺ
ｎＯ４の結晶の（００９）面に帰属されることから、ＣＡＡＣ－ＯＳの結晶がｃ軸配向性
を有し、ｃ軸が被形成面または上面に略垂直な方向を向いていることが確認できる。
【0314】
なお、ＣＡＡＣ－ＯＳのｏｕｔ－ｏｆ－ｐｌａｎｅ法による構造解析では、２θが３１°
近傍のピークの他に、２θが３６°近傍にもピークが現れる場合がある。２θが３６°近
傍のピークは、ＣＡＡＣ－ＯＳ中の一部に、ｃ軸配向性を有さない結晶が含まれることを
示している。より好ましいＣＡＡＣ－ＯＳは、ｏｕｔ－ｏｆ－ｐｌａｎｅ法による構造解
析では、２θが３１°近傍にピークを示し、２θが３６°近傍にピークを示さない。
近傍のピークの他に、２θが３６°近傍にもピークが現れる場合がある。２θが３６°近
傍のピークは、ＣＡＡＣ－ＯＳ中の一部に、ｃ軸配向性を有さない結晶が含まれることを
示している。より好ましいＣＡＡＣ－ＯＳは、ｏｕｔ－ｏｆ－ｐｌａｎｅ法による構造解
析では、２θが３１°近傍にピークを示し、２θが３６°近傍にピークを示さない。
【0315】
一方、ＣＡＡＣ－ＯＳに対し、ｃ軸に略垂直な方向からＸ線を入射させるｉｎ－ｐｌａｎ
ｅ法による構造解析を行うと、２θが５６°近傍にピークが現れる。このピークは、Ｉｎ
ＧａＺｎＯ４の結晶の（１１０）面に帰属される。ＣＡＡＣ－ＯＳの場合は、２θを５６
°近傍に固定し、試料面の法線ベクトルを軸（φ軸）として試料を回転させながら分析（
φスキャン）を行っても、図３５（Ｂ）に示すように明瞭なピークは現れない。これに対
し、ＩｎＧａＺｎＯ４の単結晶酸化物半導体であれば、２θを５６°近傍に固定してφス
キャンした場合、図３５（Ｃ）に示すように（１１０）面と等価な結晶面に帰属されるピ
ークが６本観察される。したがって、ＸＲＤを用いた構造解析から、ＣＡＡＣ－ＯＳは、
ａ軸およびｂ軸の配向が不規則であることが確認できる。
ｅ法による構造解析を行うと、２θが５６°近傍にピークが現れる。このピークは、Ｉｎ
ＧａＺｎＯ４の結晶の（１１０）面に帰属される。ＣＡＡＣ－ＯＳの場合は、２θを５６
°近傍に固定し、試料面の法線ベクトルを軸（φ軸）として試料を回転させながら分析（
φスキャン）を行っても、図３５（Ｂ）に示すように明瞭なピークは現れない。これに対
し、ＩｎＧａＺｎＯ４の単結晶酸化物半導体であれば、２θを５６°近傍に固定してφス
キャンした場合、図３５（Ｃ）に示すように（１１０）面と等価な結晶面に帰属されるピ
ークが６本観察される。したがって、ＸＲＤを用いた構造解析から、ＣＡＡＣ－ＯＳは、
ａ軸およびｂ軸の配向が不規則であることが確認できる。
【0316】
次に、電子回折によって解析したＣＡＡＣ－ＯＳについて説明する。例えば、ＩｎＧａＺ
ｎＯ４の結晶を有するＣＡＡＣ－ＯＳに対し、試料面に平行にプローブ径が３００ｎｍの
電子線を入射させると、図３６（Ａ）に示すような回折パターン（制限視野透過電子回折
パターンともいう。）が現れる場合がある。この回折パターンには、ＩｎＧａＺｎＯ４の
結晶の（００９）面に起因するスポットが含まれる。したがって、電子回折によっても、
ＣＡＡＣ－ＯＳに含まれるペレットがｃ軸配向性を有し、ｃ軸が被形成面または上面に略
垂直な方向を向いていることがわかる。一方、同じ試料に対し、試料面に垂直にプローブ
径が３００ｎｍの電子線を入射させたときの回折パターンを図３６（Ｂ）に示す。図３６
（Ｂ）より、リング状の回折パターンが確認される。したがって、電子回折によっても、
ＣＡＡＣ－ＯＳに含まれるペレットのａ軸およびｂ軸は配向性を有さないことがわかる。
なお、図３６（Ｂ）における第１リングは、ＩｎＧａＺｎＯ４の結晶の（０１０）面およ
び（１００）面などに起因すると考えられる。また、図３６（Ｂ）における第２リングは
（１１０）面などに起因すると考えられる。
ｎＯ４の結晶を有するＣＡＡＣ－ＯＳに対し、試料面に平行にプローブ径が３００ｎｍの
電子線を入射させると、図３６（Ａ）に示すような回折パターン（制限視野透過電子回折
パターンともいう。）が現れる場合がある。この回折パターンには、ＩｎＧａＺｎＯ４の
結晶の（００９）面に起因するスポットが含まれる。したがって、電子回折によっても、
ＣＡＡＣ－ＯＳに含まれるペレットがｃ軸配向性を有し、ｃ軸が被形成面または上面に略
垂直な方向を向いていることがわかる。一方、同じ試料に対し、試料面に垂直にプローブ
径が３００ｎｍの電子線を入射させたときの回折パターンを図３６（Ｂ）に示す。図３６
（Ｂ）より、リング状の回折パターンが確認される。したがって、電子回折によっても、
ＣＡＡＣ－ＯＳに含まれるペレットのａ軸およびｂ軸は配向性を有さないことがわかる。
なお、図３６（Ｂ）における第１リングは、ＩｎＧａＺｎＯ４の結晶の（０１０）面およ
び（１００）面などに起因すると考えられる。また、図３６（Ｂ）における第２リングは
（１１０）面などに起因すると考えられる。
【0317】
上述したように、ＣＡＡＣ－ＯＳは結晶性の高い酸化物半導体である。酸化物半導体の結
晶性は不純物の混入や欠陥の生成などによって低下する場合があるため、逆の見方をする
とＣＡＡＣ－ＯＳは不純物や欠陥（酸素欠損など）の少ない酸化物半導体ともいえる。
晶性は不純物の混入や欠陥の生成などによって低下する場合があるため、逆の見方をする
とＣＡＡＣ－ＯＳは不純物や欠陥（酸素欠損など）の少ない酸化物半導体ともいえる。
【0318】
なお、不純物は、酸化物半導体の主成分以外の元素で、水素、炭素、シリコン、遷移金属
元素などがある。例えば、シリコンなどの、酸化物半導体を構成する金属元素よりも酸素
との結合力の強い元素は、酸化物半導体から酸素を奪うことで酸化物半導体の原子配列を
乱し、結晶性を低下させる要因となる。また、鉄やニッケルなどの重金属、アルゴン、二
酸化炭素などは、原子半径（または分子半径）が大きいため、酸化物半導体の原子配列を
乱し、結晶性を低下させる要因となる。
元素などがある。例えば、シリコンなどの、酸化物半導体を構成する金属元素よりも酸素
との結合力の強い元素は、酸化物半導体から酸素を奪うことで酸化物半導体の原子配列を
乱し、結晶性を低下させる要因となる。また、鉄やニッケルなどの重金属、アルゴン、二
酸化炭素などは、原子半径（または分子半径）が大きいため、酸化物半導体の原子配列を
乱し、結晶性を低下させる要因となる。
【0319】
酸化物半導体が不純物や欠陥を有する場合、光や熱などによって特性が変動する場合があ
る。例えば、酸化物半導体に含まれる不純物は、キャリアトラップとなる場合や、キャリ
ア発生源となる場合がある。また、酸化物半導体中の酸素欠損は、キャリアトラップとな
る場合や、水素を捕獲することによってキャリア発生源となる場合がある。
る。例えば、酸化物半導体に含まれる不純物は、キャリアトラップとなる場合や、キャリ
ア発生源となる場合がある。また、酸化物半導体中の酸素欠損は、キャリアトラップとな
る場合や、水素を捕獲することによってキャリア発生源となる場合がある。
【0320】
不純物および酸素欠損の少ないＣＡＡＣ－ＯＳは、キャリア密度の低い酸化物半導体であ
る。具体的には、８×１０１１／ｃｍ３未満、好ましくは１×１０１１／ｃｍ３未満、さ
らに好ましくは１×１０１０／ｃｍ３未満であり、１×１０－９／ｃｍ３以上のキャリア
密度の酸化物半導体とすることができる。そのような酸化物半導体を、高純度真性または
実質的に高純度真性な酸化物半導体と呼ぶ。ＣＡＡＣ－ＯＳは、不純物濃度が低く、欠陥
準位密度が低い。即ち、安定な特性を有する酸化物半導体であるといえる。
る。具体的には、８×１０１１／ｃｍ３未満、好ましくは１×１０１１／ｃｍ３未満、さ
らに好ましくは１×１０１０／ｃｍ３未満であり、１×１０－９／ｃｍ３以上のキャリア
密度の酸化物半導体とすることができる。そのような酸化物半導体を、高純度真性または
実質的に高純度真性な酸化物半導体と呼ぶ。ＣＡＡＣ－ＯＳは、不純物濃度が低く、欠陥
準位密度が低い。即ち、安定な特性を有する酸化物半導体であるといえる。
【0321】
＜ｎｃ－ＯＳ＞
次に、ｎｃ－ＯＳについて説明する。
次に、ｎｃ－ＯＳについて説明する。
【0322】
ｎｃ－ＯＳは、高分解能ＴＥＭ像において、結晶部を確認することのできる領域と、明確
な結晶部を確認することのできない領域と、を有する。ｎｃ－ＯＳに含まれる結晶部は、
１ｎｍ以上１０ｎｍ以下、または１ｎｍ以上３ｎｍ以下の大きさであることが多い。なお
、結晶部の大きさが１０ｎｍより大きく１００ｎｍ以下である酸化物半導体を微結晶酸化
物半導体と呼ぶことがある。ｎｃ－ＯＳは、例えば、高分解能ＴＥＭ像では、結晶粒界を
明確に確認できない場合がある。なお、ナノ結晶は、ＣＡＡＣ－ＯＳにおけるペレットと
起源を同じくする可能性がある。そのため、以下ではｎｃ－ＯＳの結晶部をペレットと呼
ぶ場合がある。
な結晶部を確認することのできない領域と、を有する。ｎｃ－ＯＳに含まれる結晶部は、
１ｎｍ以上１０ｎｍ以下、または１ｎｍ以上３ｎｍ以下の大きさであることが多い。なお
、結晶部の大きさが１０ｎｍより大きく１００ｎｍ以下である酸化物半導体を微結晶酸化
物半導体と呼ぶことがある。ｎｃ－ＯＳは、例えば、高分解能ＴＥＭ像では、結晶粒界を
明確に確認できない場合がある。なお、ナノ結晶は、ＣＡＡＣ－ＯＳにおけるペレットと
起源を同じくする可能性がある。そのため、以下ではｎｃ－ＯＳの結晶部をペレットと呼
ぶ場合がある。
【0323】
ｎｃ－ＯＳは、微小な領域（例えば、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の領域、特に１ｎｍ以上３
ｎｍ以下の領域）において原子配列に周期性を有する。また、ｎｃ－ＯＳは、異なるペレ
ット間で結晶方位に規則性が見られない。そのため、膜全体で配向性が見られない。した
がって、ｎｃ－ＯＳは、分析方法によっては、ａ－ｌｉｋｅ ＯＳや非晶質酸化物半導体
と区別が付かない場合がある。例えば、ｎｃ－ＯＳに対し、ペレットよりも大きい径のＸ
線を用いた場合、ｏｕｔ－ｏｆ－ｐｌａｎｅ法による解析では、結晶面を示すピークは検
出されない。また、ｎｃ－ＯＳに対し、ペレットよりも大きいプローブ径（例えば５０ｎ
ｍ以上）の電子線を用いる電子回折を行うと、ハローパターンのような回折パターンが観
測される。一方、ｎｃ－ＯＳに対し、ペレットの大きさと近いかペレットより小さいプロ
ーブ径の電子線を用いるナノビーム電子回折を行うと、スポットが観測される。また、ｎ
ｃ－ＯＳに対しナノビーム電子回折を行うと、円を描くように（リング状に）輝度の高い
領域が観測される場合がある。さらに、リング状の領域内に複数のスポットが観測される
場合がある。
ｎｍ以下の領域）において原子配列に周期性を有する。また、ｎｃ－ＯＳは、異なるペレ
ット間で結晶方位に規則性が見られない。そのため、膜全体で配向性が見られない。した
がって、ｎｃ－ＯＳは、分析方法によっては、ａ－ｌｉｋｅ ＯＳや非晶質酸化物半導体
と区別が付かない場合がある。例えば、ｎｃ－ＯＳに対し、ペレットよりも大きい径のＸ
線を用いた場合、ｏｕｔ－ｏｆ－ｐｌａｎｅ法による解析では、結晶面を示すピークは検
出されない。また、ｎｃ－ＯＳに対し、ペレットよりも大きいプローブ径（例えば５０ｎ
ｍ以上）の電子線を用いる電子回折を行うと、ハローパターンのような回折パターンが観
測される。一方、ｎｃ－ＯＳに対し、ペレットの大きさと近いかペレットより小さいプロ
ーブ径の電子線を用いるナノビーム電子回折を行うと、スポットが観測される。また、ｎ
ｃ－ＯＳに対しナノビーム電子回折を行うと、円を描くように（リング状に）輝度の高い
領域が観測される場合がある。さらに、リング状の領域内に複数のスポットが観測される
場合がある。
【0324】
このように、ペレット（ナノ結晶）間では結晶方位が規則性を有さないことから、ｎｃ－
ＯＳを、ＲＡＮＣ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｌｉｇｎｅｄ ｎａｎｏｃｒｙｓｔａｌｓ）を有す
る酸化物半導体、またはＮＡＮＣ（Ｎｏｎ－Ａｌｉｇｎｅｄ ｎａｎｏｃｒｙｓｔａｌｓ
）を有する酸化物半導体と呼ぶこともできる。
ＯＳを、ＲＡＮＣ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｌｉｇｎｅｄ ｎａｎｏｃｒｙｓｔａｌｓ）を有す
る酸化物半導体、またはＮＡＮＣ（Ｎｏｎ－Ａｌｉｇｎｅｄ ｎａｎｏｃｒｙｓｔａｌｓ
）を有する酸化物半導体と呼ぶこともできる。
【0325】
ｎｃ－ＯＳは、非晶質酸化物半導体よりも規則性の高い酸化物半導体である。そのため、
ｎｃ－ＯＳは、ａ－ｌｉｋｅ ＯＳや非晶質酸化物半導体よりも欠陥準位密度が低くなる
。ただし、ｎｃ－ＯＳは、異なるペレット間で結晶方位に規則性が見られない。そのため
、ｎｃ－ＯＳは、ＣＡＡＣ－ＯＳと比べて欠陥準位密度が高くなる。
ｎｃ－ＯＳは、ａ－ｌｉｋｅ ＯＳや非晶質酸化物半導体よりも欠陥準位密度が低くなる
。ただし、ｎｃ－ＯＳは、異なるペレット間で結晶方位に規則性が見られない。そのため
、ｎｃ－ＯＳは、ＣＡＡＣ－ＯＳと比べて欠陥準位密度が高くなる。
【0326】
＜ａ－ｌｉｋｅ ＯＳ＞
ａ－ｌｉｋｅ ＯＳは、ｎｃ－ＯＳと非晶質酸化物半導体との間の構造を有する酸化物半
導体である。
ａ－ｌｉｋｅ ＯＳは、ｎｃ－ＯＳと非晶質酸化物半導体との間の構造を有する酸化物半
導体である。
【0327】
ａ－ｌｉｋｅ ＯＳは、高分解能ＴＥＭ像において鬆が観察される場合がある。また、高
分解能ＴＥＭ像において、明確に結晶部を確認することのできる領域と、結晶部を確認す
ることのできない領域と、を有する。
分解能ＴＥＭ像において、明確に結晶部を確認することのできる領域と、結晶部を確認す
ることのできない領域と、を有する。
【0328】
鬆を有するため、ａ－ｌｉｋｅ ＯＳは、不安定な構造である。以下では、ａ－ｌｉｋｅ
ＯＳが、ＣＡＡＣ－ＯＳおよびｎｃ－ＯＳと比べて不安定な構造であることを示すため
、電子照射による構造の変化を示す。
ＯＳが、ＣＡＡＣ－ＯＳおよびｎｃ－ＯＳと比べて不安定な構造であることを示すため
、電子照射による構造の変化を示す。
【0329】
電子照射を行う試料として、ａ－ｌｉｋｅ ＯＳ（試料Ａと表記する。）、ｎｃ－ＯＳ（
試料Ｂと表記する。）およびＣＡＡＣ－ＯＳ（試料Ｃと表記する。）を準備する。いずれ
の試料もＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ酸化物である。
試料Ｂと表記する。）およびＣＡＡＣ－ＯＳ（試料Ｃと表記する。）を準備する。いずれ
の試料もＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ酸化物である。
【0330】
まず、各試料の高分解能断面ＴＥＭ像を取得する。高分解能断面ＴＥＭ像により、各試料
は、いずれも結晶部を有することがわかる。
は、いずれも結晶部を有することがわかる。
【0331】
なお、どの部分を一つの結晶部と見なすかの判定は、以下のように行えばよい。例えば、
ＩｎＧａＺｎＯ４の結晶の単位格子は、Ｉｎ－Ｏ層を３層有し、またＧａ－Ｚｎ－Ｏ層を
６層有する、計９層がｃ軸方向に層状に重なった構造を有することが知られている。これ
らの近接する層同士の間隔は、（００９）面の格子面間隔（ｄ値ともいう。）と同程度で
あり、結晶構造解析からその値は０．２９ｎｍと求められている。したがって、格子縞の
間隔が０．２８ｎｍ以上０．３０ｎｍ以下である箇所を、ＩｎＧａＺｎＯ４の結晶部と見
なすことができる。なお、格子縞は、ＩｎＧａＺｎＯ４の結晶のａ－ｂ面に対応する。
ＩｎＧａＺｎＯ４の結晶の単位格子は、Ｉｎ－Ｏ層を３層有し、またＧａ－Ｚｎ－Ｏ層を
６層有する、計９層がｃ軸方向に層状に重なった構造を有することが知られている。これ
らの近接する層同士の間隔は、（００９）面の格子面間隔（ｄ値ともいう。）と同程度で
あり、結晶構造解析からその値は０．２９ｎｍと求められている。したがって、格子縞の
間隔が０．２８ｎｍ以上０．３０ｎｍ以下である箇所を、ＩｎＧａＺｎＯ４の結晶部と見
なすことができる。なお、格子縞は、ＩｎＧａＺｎＯ４の結晶のａ－ｂ面に対応する。
【0332】
図３７は、各試料の結晶部（２２箇所から４５箇所）の平均の大きさを調査した例である
。ただし、上述した格子縞の長さを結晶部の大きさとしている。図３７より、ａ－ｌｉｋ
ｅ ＯＳは、電子の累積照射量に応じて結晶部が大きくなっていくことがわかる。具体的
には、図３７中に（１）で示すように、ＴＥＭによる観察初期においては１．２ｎｍ程度
の大きさだった結晶部（初期核ともいう。）が、累積照射量が４．２×１０８ｅ－／ｎｍ
２においては２．６ｎｍ程度の大きさまで成長していることがわかる。一方、ｎｃ－ＯＳ
およびＣＡＡＣ－ＯＳは、電子照射開始時から電子の累積照射量が４．２×１０８ｅ－／
ｎｍ２までの範囲で、結晶部の大きさに変化が見られないことがわかる。具体的には、図
３７中の（２）および（３）で示すように、電子の累積照射量によらず、ｎｃ－ＯＳおよ
びＣＡＡＣ－ＯＳの結晶部の大きさは、それぞれ１．４ｎｍ程度および２．１ｎｍ程度で
あることがわかる。
。ただし、上述した格子縞の長さを結晶部の大きさとしている。図３７より、ａ－ｌｉｋ
ｅ ＯＳは、電子の累積照射量に応じて結晶部が大きくなっていくことがわかる。具体的
には、図３７中に（１）で示すように、ＴＥＭによる観察初期においては１．２ｎｍ程度
の大きさだった結晶部（初期核ともいう。）が、累積照射量が４．２×１０８ｅ－／ｎｍ
２においては２．６ｎｍ程度の大きさまで成長していることがわかる。一方、ｎｃ－ＯＳ
およびＣＡＡＣ－ＯＳは、電子照射開始時から電子の累積照射量が４．２×１０８ｅ－／
ｎｍ２までの範囲で、結晶部の大きさに変化が見られないことがわかる。具体的には、図
３７中の（２）および（３）で示すように、電子の累積照射量によらず、ｎｃ－ＯＳおよ
びＣＡＡＣ－ＯＳの結晶部の大きさは、それぞれ１．４ｎｍ程度および２．１ｎｍ程度で
あることがわかる。
【0333】
このように、ａ－ｌｉｋｅ ＯＳは、電子照射によって結晶部の成長が見られる場合があ
る。一方、ｎｃ－ＯＳおよびＣＡＡＣ－ＯＳは、電子照射による結晶部の成長がほとんど
見られないことがわかる。即ち、ａ－ｌｉｋｅ ＯＳは、ｎｃ－ＯＳおよびＣＡＡＣ－Ｏ
Ｓと比べて、不安定な構造であることがわかる。
る。一方、ｎｃ－ＯＳおよびＣＡＡＣ－ＯＳは、電子照射による結晶部の成長がほとんど
見られないことがわかる。即ち、ａ－ｌｉｋｅ ＯＳは、ｎｃ－ＯＳおよびＣＡＡＣ－Ｏ
Ｓと比べて、不安定な構造であることがわかる。
【0334】
また、鬆を有するため、ａ－ｌｉｋｅ ＯＳは、ｎｃ－ＯＳおよびＣＡＡＣ－ＯＳと比べ
て密度の低い構造である。具体的には、ａ－ｌｉｋｅ ＯＳの密度は、同じ組成の単結晶
の密度の７８．６％以上９２．３％未満となる。また、ｎｃ－ＯＳの密度およびＣＡＡＣ
－ＯＳの密度は、同じ組成の単結晶の密度の９２．３％以上１００％未満となる。単結晶
の密度の７８％未満となる酸化物半導体は、成膜すること自体が困難である。
て密度の低い構造である。具体的には、ａ－ｌｉｋｅ ＯＳの密度は、同じ組成の単結晶
の密度の７８．６％以上９２．３％未満となる。また、ｎｃ－ＯＳの密度およびＣＡＡＣ
－ＯＳの密度は、同じ組成の単結晶の密度の９２．３％以上１００％未満となる。単結晶
の密度の７８％未満となる酸化物半導体は、成膜すること自体が困難である。
【0335】
例えば、Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：１：１［原子数比］を満たす酸化物半導体において、菱
面体晶構造を有する単結晶ＩｎＧａＺｎＯ４の密度は６．３５７ｇ／ｃｍ３となる。よっ
て、例えば、Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：１：１［原子数比］を満たす酸化物半導体において
、ａ－ｌｉｋｅ ＯＳの密度は５．０ｇ／ｃｍ３以上５．９ｇ／ｃｍ３未満となる。また
、例えば、Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：１：１［原子数比］を満たす酸化物半導体において、
ｎｃ－ＯＳの密度およびＣＡＡＣ－ＯＳの密度は５．９ｇ／ｃｍ３以上６．３ｇ／ｃｍ３
未満となる。
面体晶構造を有する単結晶ＩｎＧａＺｎＯ４の密度は６．３５７ｇ／ｃｍ３となる。よっ
て、例えば、Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：１：１［原子数比］を満たす酸化物半導体において
、ａ－ｌｉｋｅ ＯＳの密度は５．０ｇ／ｃｍ３以上５．９ｇ／ｃｍ３未満となる。また
、例えば、Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：１：１［原子数比］を満たす酸化物半導体において、
ｎｃ－ＯＳの密度およびＣＡＡＣ－ＯＳの密度は５．９ｇ／ｃｍ３以上６．３ｇ／ｃｍ３
未満となる。
【0336】
なお、同じ組成の単結晶が存在しない場合がある。その場合、任意の割合で組成の異なる
単結晶を組み合わせることにより、所望の組成における単結晶に相当する密度を見積もる
ことができる。所望の組成の単結晶に相当する密度は、組成の異なる単結晶を組み合わせ
る割合に対して、加重平均を用いて見積もればよい。ただし、密度は、可能な限り少ない
種類の単結晶を組み合わせて見積もることが好ましい。
単結晶を組み合わせることにより、所望の組成における単結晶に相当する密度を見積もる
ことができる。所望の組成の単結晶に相当する密度は、組成の異なる単結晶を組み合わせ
る割合に対して、加重平均を用いて見積もればよい。ただし、密度は、可能な限り少ない
種類の単結晶を組み合わせて見積もることが好ましい。
【0337】
以上のように、酸化物半導体は、様々な構造をとり、それぞれが様々な特性を有する。な
お、酸化物半導体は、例えば、非晶質酸化物半導体、ａ－ｌｉｋｅ ＯＳ、ｎｃ－ＯＳ、
ＣＡＡＣ－ＯＳのうち、二種以上を有する積層膜であってもよい。
お、酸化物半導体は、例えば、非晶質酸化物半導体、ａ－ｌｉｋｅ ＯＳ、ｎｃ－ＯＳ、
ＣＡＡＣ－ＯＳのうち、二種以上を有する積層膜であってもよい。
【0338】
（実施の形態４）
本実施の形態では、本発明の一態様のトランジスタを利用した回路の一例について図面を
参照して説明する。
本実施の形態では、本発明の一態様のトランジスタを利用した回路の一例について図面を
参照して説明する。
【0339】
＜断面構造＞
図３８（Ａ）に本発明の一態様の半導体装置の断面図を示す。図３８（Ａ）において、Ｘ
１－Ｘ２方向はチャネル長方向、Ｙ１－Ｙ２方向はチャネル幅方向を示す。図３８（Ａ）
に示す半導体装置は、下部に第１の半導体材料を用いたトランジスタ２２００を有し、上
部に第２の半導体材料を用いたトランジスタ２１００を有している。図３８（Ａ）では、
第２の半導体材料を用いたトランジスタ２１００として、先の実施の形態で例示したトラ
ンジスタを適用した例を示している。なお、一点鎖線より左側がトランジスタのチャネル
長方向の断面、右側がチャネル幅方向の断面である。
図３８（Ａ）に本発明の一態様の半導体装置の断面図を示す。図３８（Ａ）において、Ｘ
１－Ｘ２方向はチャネル長方向、Ｙ１－Ｙ２方向はチャネル幅方向を示す。図３８（Ａ）
に示す半導体装置は、下部に第１の半導体材料を用いたトランジスタ２２００を有し、上
部に第２の半導体材料を用いたトランジスタ２１００を有している。図３８（Ａ）では、
第２の半導体材料を用いたトランジスタ２１００として、先の実施の形態で例示したトラ
ンジスタを適用した例を示している。なお、一点鎖線より左側がトランジスタのチャネル
長方向の断面、右側がチャネル幅方向の断面である。
【0340】
第１の半導体材料と第２の半導体材料は異なる禁制帯幅を持つ材料とすることが好ましい
。例えば、第１の半導体材料を酸化物半導体以外の半導体材料（シリコン（歪シリコン含
む）、ゲルマニウム、シリコンゲルマニウム、炭化シリコン、ヒ化ガリウム、ヒ化アルミ
ニウムガリウム、リン化インジウム、窒化ガリウム、有機半導体など）とし、第２の半導
体材料を酸化物半導体とすることができる。酸化物半導体以外の材料として単結晶シリコ
ンなどを用いたトランジスタは、高速動作が容易である。一方で、酸化物半導体を用いた
トランジスタは、先の実施の形態で例示したトランジスタを適用することで、優れたサブ
スレッショルド特性が得られ、微細なトランジスタとすることが可能である。また、スイ
ッチ速度が速いため高速動作が可能であり、オフ電流が低いためリーク電流が小さい。
。例えば、第１の半導体材料を酸化物半導体以外の半導体材料（シリコン（歪シリコン含
む）、ゲルマニウム、シリコンゲルマニウム、炭化シリコン、ヒ化ガリウム、ヒ化アルミ
ニウムガリウム、リン化インジウム、窒化ガリウム、有機半導体など）とし、第２の半導
体材料を酸化物半導体とすることができる。酸化物半導体以外の材料として単結晶シリコ
ンなどを用いたトランジスタは、高速動作が容易である。一方で、酸化物半導体を用いた
トランジスタは、先の実施の形態で例示したトランジスタを適用することで、優れたサブ
スレッショルド特性が得られ、微細なトランジスタとすることが可能である。また、スイ
ッチ速度が速いため高速動作が可能であり、オフ電流が低いためリーク電流が小さい。
【0341】
トランジスタ２２００は、ｎチャネル型のトランジスタまたはｐチャネル型のトランジス
タのいずれであってもよく、回路によって適切なトランジスタを用いればよい。また、酸
化物半導体を用いた本発明の一態様のトランジスタを用いるほかは、用いる材料や構造な
ど、半導体装置の具体的な構成をここで示すものに限定する必要はない。
タのいずれであってもよく、回路によって適切なトランジスタを用いればよい。また、酸
化物半導体を用いた本発明の一態様のトランジスタを用いるほかは、用いる材料や構造な
ど、半導体装置の具体的な構成をここで示すものに限定する必要はない。
【0342】
図３８（Ａ）に示す構成では、トランジスタ２２００の上部に、絶縁体２２０１、絶縁体
２２０７を介してトランジスタ２１００が設けられている。また、トランジスタ２２００
とトランジスタ２１００の間には、複数の配線２２０２が設けられている。また、各種絶
縁体に埋め込まれた複数のプラグ２２０３により、上層と下層にそれぞれ設けられた配線
や電極が電気的に接続されている。また、トランジスタ２１００を覆う絶縁体２２０４と
、絶縁体２２０４上に配線２２０５と、が設けられている。
２２０７を介してトランジスタ２１００が設けられている。また、トランジスタ２２００
とトランジスタ２１００の間には、複数の配線２２０２が設けられている。また、各種絶
縁体に埋め込まれた複数のプラグ２２０３により、上層と下層にそれぞれ設けられた配線
や電極が電気的に接続されている。また、トランジスタ２１００を覆う絶縁体２２０４と
、絶縁体２２０４上に配線２２０５と、が設けられている。
【0343】
このように、２種類のトランジスタを積層することにより、回路の占有面積が低減され、
より高密度に複数の回路を配置することができる。
より高密度に複数の回路を配置することができる。
【0344】
ここで、下層に設けられるトランジスタ２２００にシリコン系半導体材料を用いた場合、
トランジスタ２２００の半導体膜の近傍に設けられる絶縁体中の水素はシリコンのダング
リングボンドを終端し、トランジスタ２２００の信頼性を向上させる効果がある。一方、
上層に設けられるトランジスタ２１００に酸化物半導体を用いた場合、トランジスタ２１
００の半導体膜の近傍に設けられる絶縁体中の水素は、酸化物半導体中にキャリアを生成
する要因の一つとなるため、トランジスタ２１００の信頼性を低下させる要因となる場合
がある。したがって、シリコン系半導体材料を用いたトランジスタ２２００の上層に酸化
物半導体を用いたトランジスタ２１００を積層して設ける場合、これらの間に水素の拡散
を防止する機能を有する絶縁体２２０７を設けることは特に効果的である。絶縁体２２０
７により、下層に水素を閉じ込めることでトランジスタ２２００の信頼性が向上すること
に加え、下層から上層に水素が拡散することが抑制されることでトランジスタ２１００の
信頼性も同時に向上させることができる。
トランジスタ２２００の半導体膜の近傍に設けられる絶縁体中の水素はシリコンのダング
リングボンドを終端し、トランジスタ２２００の信頼性を向上させる効果がある。一方、
上層に設けられるトランジスタ２１００に酸化物半導体を用いた場合、トランジスタ２１
００の半導体膜の近傍に設けられる絶縁体中の水素は、酸化物半導体中にキャリアを生成
する要因の一つとなるため、トランジスタ２１００の信頼性を低下させる要因となる場合
がある。したがって、シリコン系半導体材料を用いたトランジスタ２２００の上層に酸化
物半導体を用いたトランジスタ２１００を積層して設ける場合、これらの間に水素の拡散
を防止する機能を有する絶縁体２２０７を設けることは特に効果的である。絶縁体２２０
７により、下層に水素を閉じ込めることでトランジスタ２２００の信頼性が向上すること
に加え、下層から上層に水素が拡散することが抑制されることでトランジスタ２１００の
信頼性も同時に向上させることができる。
【0345】
絶縁体２２０７としては、例えば酸化アルミニウム、酸化窒化アルミニウム、酸化ガリウ
ム、酸化窒化ガリウム、酸化イットリウム、酸化窒化イットリウム、酸化ハフニウム、酸
化窒化ハフニウム、イットリア安定化ジルコニア（ＹＳＺ）等を用いることができる。
ム、酸化窒化ガリウム、酸化イットリウム、酸化窒化イットリウム、酸化ハフニウム、酸
化窒化ハフニウム、イットリア安定化ジルコニア（ＹＳＺ）等を用いることができる。
【0346】
また、酸化物半導体膜を含んで構成されるトランジスタ２１００を覆うように、トランジ
スタ２１００上に水素の拡散を防止する機能を有するブロック膜を形成することが好まし
い。当該ブロック膜としては、絶縁体２２０７と同様の材料を用いることができ、特に酸
化アルミニウム膜を適用することが好ましい。酸化アルミニウム膜は、水素、水分などの
不純物および酸素の双方に対して膜を透過させない遮断（ブロッキング）効果が高い。し
たがって、トランジスタ２１００を覆う当該ブロック膜として酸化アルミニウム膜を用い
ることで、トランジスタ２１００に含まれる酸化物半導体膜からの酸素の脱離を防止する
とともに、酸化物半導体膜への水および水素の混入を防止することができる。なお、当該
ブロック膜は、絶縁体２２０４を積層にすることで用いてもよいし、絶縁体２２０４の下
側に設けてもよい。
スタ２１００上に水素の拡散を防止する機能を有するブロック膜を形成することが好まし
い。当該ブロック膜としては、絶縁体２２０７と同様の材料を用いることができ、特に酸
化アルミニウム膜を適用することが好ましい。酸化アルミニウム膜は、水素、水分などの
不純物および酸素の双方に対して膜を透過させない遮断（ブロッキング）効果が高い。し
たがって、トランジスタ２１００を覆う当該ブロック膜として酸化アルミニウム膜を用い
ることで、トランジスタ２１００に含まれる酸化物半導体膜からの酸素の脱離を防止する
とともに、酸化物半導体膜への水および水素の混入を防止することができる。なお、当該
ブロック膜は、絶縁体２２０４を積層にすることで用いてもよいし、絶縁体２２０４の下
側に設けてもよい。
【0347】
なお、トランジスタ２２００は、プレーナ型のトランジスタだけでなく、様々なタイプの
トランジスタとすることができる。例えば、ＦＩＮ（フィン）型、ＴＲＩ－ＧＡＴＥ（ト
ライゲート）型などのトランジスタなどとすることができる。その場合の断面図の例を、
図３８（Ｄ）に示す。半導体基板２２１１の上に、絶縁体２２１２が設けられている。半
導体基板２２１１は、先端の細い凸部（フィンともいう）を有する。なお、凸部の上には
、絶縁体が設けられていてもよい。その絶縁体は、凸部を形成するときに、半導体基板２
２１１がエッチングされないようにするためのマスクとして機能するものである。なお、
凸部は、先端が細くなくてもよく、例えば、略直方体の凸部であってもよいし、先端が太
い凸部であってもよい。半導体基板２２１１の凸部の上には、ゲート絶縁体２２１４が設
けられ、その上には、ゲート電極２２１３が設けられている。半導体基板２２１１には、
ソース領域およびドレイン領域２２１５が形成されている。なお、ここでは、半導体基板
２２１１が、凸部を有する例を示したが、本発明の一態様に係る半導体装置は、これに限
定されない。例えば、ＳＯＩ基板を加工して、凸部を有する半導体領域を形成しても構わ
ない。
トランジスタとすることができる。例えば、ＦＩＮ（フィン）型、ＴＲＩ－ＧＡＴＥ（ト
ライゲート）型などのトランジスタなどとすることができる。その場合の断面図の例を、
図３８（Ｄ）に示す。半導体基板２２１１の上に、絶縁体２２１２が設けられている。半
導体基板２２１１は、先端の細い凸部（フィンともいう）を有する。なお、凸部の上には
、絶縁体が設けられていてもよい。その絶縁体は、凸部を形成するときに、半導体基板２
２１１がエッチングされないようにするためのマスクとして機能するものである。なお、
凸部は、先端が細くなくてもよく、例えば、略直方体の凸部であってもよいし、先端が太
い凸部であってもよい。半導体基板２２１１の凸部の上には、ゲート絶縁体２２１４が設
けられ、その上には、ゲート電極２２１３が設けられている。半導体基板２２１１には、
ソース領域およびドレイン領域２２１５が形成されている。なお、ここでは、半導体基板
２２１１が、凸部を有する例を示したが、本発明の一態様に係る半導体装置は、これに限
定されない。例えば、ＳＯＩ基板を加工して、凸部を有する半導体領域を形成しても構わ
ない。
【0348】
＜回路構成例＞
上記構成において、トランジスタ２１００やトランジスタ２２００の電極を適宜接続する
ことにより、様々な回路を構成することができる。以下では、本発明の一態様の半導体装
置を用いることにより実現できる回路構成の例を説明する。
上記構成において、トランジスタ２１００やトランジスタ２２００の電極を適宜接続する
ことにより、様々な回路を構成することができる。以下では、本発明の一態様の半導体装
置を用いることにより実現できる回路構成の例を説明する。
【0349】
＜ＣＭＯＳインバータ回路＞
図３８（Ｂ）に示す回路図は、ｐチャネル型のトランジスタ２２００とｎチャネル型のト
ランジスタ２１００を直列に接続し、且つそれぞれのゲートを接続した、いわゆるＣＭＯ
Ｓインバータの構成を示している。
図３８（Ｂ）に示す回路図は、ｐチャネル型のトランジスタ２２００とｎチャネル型のト
ランジスタ２１００を直列に接続し、且つそれぞれのゲートを接続した、いわゆるＣＭＯ
Ｓインバータの構成を示している。
【0350】
＜ＣＭＯＳアナログスイッチ＞
また、図３８（Ｃ）に示す回路図は、トランジスタ２１００とトランジスタ２２００のそ
れぞれのソースとドレインを接続した構成を示している。このような構成とすることで、
いわゆるＣＭＯＳアナログスイッチとして機能させることができる。
また、図３８（Ｃ）に示す回路図は、トランジスタ２１００とトランジスタ２２００のそ
れぞれのソースとドレインを接続した構成を示している。このような構成とすることで、
いわゆるＣＭＯＳアナログスイッチとして機能させることができる。
【0351】
【0352】
図３９（Ａ）に示す半導体装置は、第１の半導体材料を用いたトランジスタ３２００と第
２の半導体材料を用いたトランジスタ３３００、および容量素子３４００を有している。
なお、トランジスタ３３００としては、実施の形態１乃至２で説明したトランジスタを用
いることができる。
２の半導体材料を用いたトランジスタ３３００、および容量素子３４００を有している。
なお、トランジスタ３３００としては、実施の形態１乃至２で説明したトランジスタを用
いることができる。
【0353】
【0354】
トランジスタ３３００は、酸化物半導体を有する半導体層にチャネルが形成されるトラン
ジスタである。トランジスタ３３００は、オフ電流が小さいため、これを用いることによ
り長期にわたり記憶内容を保持することが可能である。つまり、リフレッシュ動作を必要
としない、或いは、リフレッシュ動作の頻度が極めて少ない半導体記憶装置とすることが
可能となるため、消費電力を十分に低減することができる。
ジスタである。トランジスタ３３００は、オフ電流が小さいため、これを用いることによ
り長期にわたり記憶内容を保持することが可能である。つまり、リフレッシュ動作を必要
としない、或いは、リフレッシュ動作の頻度が極めて少ない半導体記憶装置とすることが
可能となるため、消費電力を十分に低減することができる。
【0355】
図３９（Ａ）において、第１の配線３００１はトランジスタ３２００のソース電極と電気
的に接続され、第２の配線３００２はトランジスタ３２００のドレイン電極と電気的に接
続されている。また、第３の配線３００３はトランジスタ３３００のソース電極またはド
レイン電極の一方と電気的に接続され、第４の配線３００４はトランジスタ３３００のゲ
ート電極と電気的に接続されている。そして、トランジスタ３２００のゲート電極は、ト
ランジスタ３３００のソース電極またはドレイン電極の他方、および容量素子３４００の
電極の一方と電気的に接続され、第５の配線３００５は容量素子３４００の電極の他方と
電気的に接続されている。
的に接続され、第２の配線３００２はトランジスタ３２００のドレイン電極と電気的に接
続されている。また、第３の配線３００３はトランジスタ３３００のソース電極またはド
レイン電極の一方と電気的に接続され、第４の配線３００４はトランジスタ３３００のゲ
ート電極と電気的に接続されている。そして、トランジスタ３２００のゲート電極は、ト
ランジスタ３３００のソース電極またはドレイン電極の他方、および容量素子３４００の
電極の一方と電気的に接続され、第５の配線３００５は容量素子３４００の電極の他方と
電気的に接続されている。
【0356】
【0357】
情報の書き込みおよび保持について説明する。まず、第４の配線３００４の電位を、トラ
ンジスタ３３００がオン状態となる電位にして、トランジスタ３３００をオン状態とする
。これにより、第３の配線３００３の電位が、トランジスタ３２００のゲート電極、およ
び容量素子３４００に与えられる。すなわち、トランジスタ３２００のゲート電極には、
所定の電荷が与えられる（書き込み）。ここでは、異なる二つの電位レベルを与える電荷
（以下Ｌｏｗレベル電荷、Ｈｉｇｈレベル電荷という）のいずれかが与えられるものとす
る。その後、第４の配線３００４の電位を、トランジスタ３３００がオフ状態となる電位
にして、トランジスタ３３００をオフ状態とすることにより、トランジスタ３２００のゲ
ート電極に与えられた電荷が保持される（保持）。
ンジスタ３３００がオン状態となる電位にして、トランジスタ３３００をオン状態とする
。これにより、第３の配線３００３の電位が、トランジスタ３２００のゲート電極、およ
び容量素子３４００に与えられる。すなわち、トランジスタ３２００のゲート電極には、
所定の電荷が与えられる（書き込み）。ここでは、異なる二つの電位レベルを与える電荷
（以下Ｌｏｗレベル電荷、Ｈｉｇｈレベル電荷という）のいずれかが与えられるものとす
る。その後、第４の配線３００４の電位を、トランジスタ３３００がオフ状態となる電位
にして、トランジスタ３３００をオフ状態とすることにより、トランジスタ３２００のゲ
ート電極に与えられた電荷が保持される（保持）。
【0358】
トランジスタ３３００のオフ電流は極めて小さいため、トランジスタ３２００のゲートの
電荷は長時間にわたって保持される。
電荷は長時間にわたって保持される。
【0359】
次に情報の読み出しについて説明する。第１の配線３００１に所定の電位（定電位）を与
えた状態で、第５の配線３００５に適切な電位（読み出し電位）を与えると、トランジス
タ３２００のゲート電極に保持された電荷量に応じて、第２の配線３００２は異なる電位
をとる。一般に、トランジスタ３２００をｎチャネル型とすると、トランジスタ３２００
のゲート電極にＨｉｇｈレベル電荷が与えられている場合の見かけのしきい値Ｖｔｈ＿Ｈ
は、トランジスタ３２００のゲート電極にＬｏｗレベル電荷が与えられている場合の見か
けのしきい値Ｖｔｈ＿Ｌより低くなるためである。ここで、見かけのしきい値電圧とは、
トランジスタ３２００を「オン状態」とするために必要な第５の配線３００５の電位をい
うものとする。したがって、第５の配線３００５の電位をＶｔｈ＿ＨとＶｔｈ＿Ｌの間の
電位Ｖ０とすることにより、トランジスタ３２００のゲート電極に与えられた電荷を判別
できる。例えば、書き込みにおいて、Ｈｉｇｈレベル電荷が与えられていた場合には、第
５の配線３００５の電位がＶ０（＞Ｖｔｈ＿Ｈ）となれば、トランジスタ３２００は「オ
ン状態」となる。Ｌｏｗレベル電荷が与えられていた場合には、第５の配線３００５の電
位がＶ０（＜Ｖｔｈ＿Ｌ）となっても、トランジスタ３２００は「オフ状態」のままであ
る。このため、第２の配線３００２の電位を判別することで、保持されている情報を読み
出すことができる。
えた状態で、第５の配線３００５に適切な電位（読み出し電位）を与えると、トランジス
タ３２００のゲート電極に保持された電荷量に応じて、第２の配線３００２は異なる電位
をとる。一般に、トランジスタ３２００をｎチャネル型とすると、トランジスタ３２００
のゲート電極にＨｉｇｈレベル電荷が与えられている場合の見かけのしきい値Ｖｔｈ＿Ｈ
は、トランジスタ３２００のゲート電極にＬｏｗレベル電荷が与えられている場合の見か
けのしきい値Ｖｔｈ＿Ｌより低くなるためである。ここで、見かけのしきい値電圧とは、
トランジスタ３２００を「オン状態」とするために必要な第５の配線３００５の電位をい
うものとする。したがって、第５の配線３００５の電位をＶｔｈ＿ＨとＶｔｈ＿Ｌの間の
電位Ｖ０とすることにより、トランジスタ３２００のゲート電極に与えられた電荷を判別
できる。例えば、書き込みにおいて、Ｈｉｇｈレベル電荷が与えられていた場合には、第
５の配線３００５の電位がＶ０（＞Ｖｔｈ＿Ｈ）となれば、トランジスタ３２００は「オ
ン状態」となる。Ｌｏｗレベル電荷が与えられていた場合には、第５の配線３００５の電
位がＶ０（＜Ｖｔｈ＿Ｌ）となっても、トランジスタ３２００は「オフ状態」のままであ
る。このため、第２の配線３００２の電位を判別することで、保持されている情報を読み
出すことができる。
【0360】
なお、メモリセルをアレイ状に配置して用いる場合、所望のメモリセルの情報のみを読み
出せることが必要になる。例えば、情報を読み出さないメモリセルにおいては、ゲート電
極の状態にかかわらずトランジスタ３２００が「オフ状態」となるような電位、つまり、
Ｖｔｈ＿Ｈより小さい電位を第５の配線３００５に与えることで所望のメモリセルの情報
のみを読み出せる構成とすればよい。または、情報を読み出さないメモリセルにおいては
、ゲート電極の状態にかかわらずトランジスタ３２００が「オン状態」となるような電位
、つまり、Ｖｔｈ＿Ｌより大きい電位を第５の配線３００５に与えることで所望のメモリ
セルの情報のみを読み出せる構成とすればよい。
出せることが必要になる。例えば、情報を読み出さないメモリセルにおいては、ゲート電
極の状態にかかわらずトランジスタ３２００が「オフ状態」となるような電位、つまり、
Ｖｔｈ＿Ｈより小さい電位を第５の配線３００５に与えることで所望のメモリセルの情報
のみを読み出せる構成とすればよい。または、情報を読み出さないメモリセルにおいては
、ゲート電極の状態にかかわらずトランジスタ３２００が「オン状態」となるような電位
、つまり、Ｖｔｈ＿Ｌより大きい電位を第５の配線３００５に与えることで所望のメモリ
セルの情報のみを読み出せる構成とすればよい。
【0361】
【0362】
次に、情報の読み出しについて説明する。トランジスタ３３００がオン状態となると、浮
遊状態である第３の配線３００３と容量素子３４００とが導通し、第３の配線３００３と
容量素子３４００の間で電荷が再分配される。その結果、第３の配線３００３の電位が変
化する。第３の配線３００３の電位の変化量は、容量素子３４００の電極の一方の電位（
あるいは容量素子３４００に蓄積された電荷）によって、異なる値をとる。
遊状態である第３の配線３００３と容量素子３４００とが導通し、第３の配線３００３と
容量素子３４００の間で電荷が再分配される。その結果、第３の配線３００３の電位が変
化する。第３の配線３００３の電位の変化量は、容量素子３４００の電極の一方の電位（
あるいは容量素子３４００に蓄積された電荷）によって、異なる値をとる。
【0363】
例えば、容量素子３４００の電極の一方の電位をＶ、容量素子３４００の容量をＣ、第３
の配線３００３が有する容量成分をＣＢ、電荷が再分配される前の第３の配線３００３の
電位をＶＢ０とすると、電荷が再分配された後の第３の配線３００３の電位は、（ＣＢ×
ＶＢ０＋Ｃ×Ｖ）／（ＣＢ＋Ｃ）となる。したがって、メモリセルの状態として、容量素
子３４００の電極の一方の電位がＶ１とＶ０（Ｖ１＞Ｖ０）の２状態をとるとすると、電
位Ｖ１を保持している場合の第３の配線３００３の電位（＝（ＣＢ×ＶＢ０＋Ｃ×Ｖ１）
／（ＣＢ＋Ｃ））は、電位Ｖ０を保持している場合の第３の配線３００３の電位（＝（Ｃ
Ｂ×ＶＢ０＋Ｃ×Ｖ０）／（ＣＢ＋Ｃ））よりも高くなることがわかる。
の配線３００３が有する容量成分をＣＢ、電荷が再分配される前の第３の配線３００３の
電位をＶＢ０とすると、電荷が再分配された後の第３の配線３００３の電位は、（ＣＢ×
ＶＢ０＋Ｃ×Ｖ）／（ＣＢ＋Ｃ）となる。したがって、メモリセルの状態として、容量素
子３４００の電極の一方の電位がＶ１とＶ０（Ｖ１＞Ｖ０）の２状態をとるとすると、電
位Ｖ１を保持している場合の第３の配線３００３の電位（＝（ＣＢ×ＶＢ０＋Ｃ×Ｖ１）
／（ＣＢ＋Ｃ））は、電位Ｖ０を保持している場合の第３の配線３００３の電位（＝（Ｃ
Ｂ×ＶＢ０＋Ｃ×Ｖ０）／（ＣＢ＋Ｃ））よりも高くなることがわかる。
【0364】
そして、第３の配線３００３の電位を所定の電位と比較することで、情報を読み出すこと
ができる。
ができる。
【0365】
この場合、メモリセルを駆動させるための駆動回路に上記第１の半導体材料が適用された
トランジスタを用い、トランジスタ３３００として第２の半導体材料が適用されたトラン
ジスタを駆動回路上に積層して設ける構成とすればよい。
トランジスタを用い、トランジスタ３３００として第２の半導体材料が適用されたトラン
ジスタを駆動回路上に積層して設ける構成とすればよい。
【0366】
本実施の形態に示す半導体装置では、チャネル形成領域に酸化物半導体を用いたオフ電流
の極めて小さいトランジスタを適用することで、極めて長期にわたり記憶内容を保持する
ことが可能である。つまり、リフレッシュ動作が不要となるか、または、リフレッシュ動
作の頻度を極めて低くすることが可能となるため、消費電力を十分に低減することができ
る。また、電力の供給がない場合（ただし、電位は固定されていることが望ましい）であ
っても、長期にわたって記憶内容を保持することが可能である。
の極めて小さいトランジスタを適用することで、極めて長期にわたり記憶内容を保持する
ことが可能である。つまり、リフレッシュ動作が不要となるか、または、リフレッシュ動
作の頻度を極めて低くすることが可能となるため、消費電力を十分に低減することができ
る。また、電力の供給がない場合（ただし、電位は固定されていることが望ましい）であ
っても、長期にわたって記憶内容を保持することが可能である。
【0367】
また、本実施の形態に示す半導体装置では、情報の書き込みに高い電圧を必要とせず、素
子の劣化の問題もない。例えば、従来の不揮発性メモリのように、フローティングゲート
への電子の注入や、フローティングゲートからの電子の引き抜きを行う必要がないため、
ゲート絶縁層の劣化といった問題が全く生じない。すなわち、開示する発明に係る半導体
装置では、従来の不揮発性メモリで問題となっている書き換え可能回数に制限はなく、信
頼性が飛躍的に向上する。さらに、トランジスタのオン状態、オフ状態によって、情報の
書き込みが行われるため、高速な動作も容易に実現しうる。
子の劣化の問題もない。例えば、従来の不揮発性メモリのように、フローティングゲート
への電子の注入や、フローティングゲートからの電子の引き抜きを行う必要がないため、
ゲート絶縁層の劣化といった問題が全く生じない。すなわち、開示する発明に係る半導体
装置では、従来の不揮発性メモリで問題となっている書き換え可能回数に制限はなく、信
頼性が飛躍的に向上する。さらに、トランジスタのオン状態、オフ状態によって、情報の
書き込みが行われるため、高速な動作も容易に実現しうる。
【0368】
なお、本明細書等においては、能動素子（トランジスタ、ダイオードなど）、受動素子（
容量素子、抵抗素子など）などが有するすべての端子について、その接続先を特定しなく
ても、当業者であれば、発明の一態様を構成することは可能な場合がある。つまり、接続
先を特定しなくても、発明の一態様が明確であると言える。そして、接続先が特定された
内容が、本明細書等に記載されている場合、接続先を特定しない発明の一態様が、本明細
書等に記載されていると判断することが可能な場合がある。特に、端子の接続先として複
数のケースが考えられる場合には、その端子の接続先を特定の箇所に限定する必要はない
。したがって、能動素子（トランジスタ、ダイオードなど）、受動素子（容量素子、抵抗
素子など）などが有する一部の端子についてのみ、その接続先を特定することによって、
発明の一態様を構成することが可能な場合がある。
容量素子、抵抗素子など）などが有するすべての端子について、その接続先を特定しなく
ても、当業者であれば、発明の一態様を構成することは可能な場合がある。つまり、接続
先を特定しなくても、発明の一態様が明確であると言える。そして、接続先が特定された
内容が、本明細書等に記載されている場合、接続先を特定しない発明の一態様が、本明細
書等に記載されていると判断することが可能な場合がある。特に、端子の接続先として複
数のケースが考えられる場合には、その端子の接続先を特定の箇所に限定する必要はない
。したがって、能動素子（トランジスタ、ダイオードなど）、受動素子（容量素子、抵抗
素子など）などが有する一部の端子についてのみ、その接続先を特定することによって、
発明の一態様を構成することが可能な場合がある。
【0369】
なお、本明細書等においては、ある回路について、少なくとも接続先を特定すれば、当業
者であれば、発明を特定することが可能な場合がある。または、ある回路について、少な
くとも機能を特定すれば、当業者であれば、発明を特定することが可能な場合がある。つ
まり、機能を特定すれば、発明の一態様が明確であると言える。そして、機能が特定され
た発明の一態様が、本明細書等に記載されていると判断することが可能な場合がある。し
たがって、ある回路について、機能を特定しなくても、接続先を特定すれば、発明の一態
様として開示されているものであり、発明の一態様を構成することが可能である。または
、ある回路について、接続先を特定しなくても、機能を特定すれば、発明の一態様として
開示されているものであり、発明の一態様を構成することが可能である。
者であれば、発明を特定することが可能な場合がある。または、ある回路について、少な
くとも機能を特定すれば、当業者であれば、発明を特定することが可能な場合がある。つ
まり、機能を特定すれば、発明の一態様が明確であると言える。そして、機能が特定され
た発明の一態様が、本明細書等に記載されていると判断することが可能な場合がある。し
たがって、ある回路について、機能を特定しなくても、接続先を特定すれば、発明の一態
様として開示されているものであり、発明の一態様を構成することが可能である。または
、ある回路について、接続先を特定しなくても、機能を特定すれば、発明の一態様として
開示されているものであり、発明の一態様を構成することが可能である。
【0370】
なお、本明細書等においては、ある一つの実施の形態において述べる図または文章におい
て、その一部分を取り出して、発明の一態様を構成することは可能である。したがって、
ある部分を述べる図または文章が記載されている場合、その一部分の図または文章を取り
出した内容も、発明の一態様として開示されているものであり、発明の一態様を構成する
ことが可能であるものとする。そのため、例えば、能動素子（トランジスタ、ダイオード
など）、配線、受動素子（容量素子、抵抗素子など）、導電層、絶縁層、半導体層、有機
材料、無機材料、部品、装置、動作方法、製造方法などが単数または複数記載された図面
または文章において、その一部分を取り出して、発明の一態様を構成することが可能であ
るものとする。例えば、Ｎ個（Ｎは整数）の回路素子（トランジスタ、容量素子等）を有
して構成される回路図から、Ｍ個（Ｍは整数で、Ｍ＜Ｎ）の回路素子（トランジスタ、容
量素子等）を抜き出して、発明の一態様を構成することは可能である。別の例としては、
Ｎ個（Ｎは整数）の層を有して構成される断面図から、Ｍ個（Ｍは整数で、Ｍ＜Ｎ）の層
を抜き出して、発明の一態様を構成することは可能である。さらに別の例としては、Ｎ個
（Ｎは整数）の要素を有して構成されるフローチャートから、Ｍ個（Ｍは整数で、Ｍ＜Ｎ
）の要素を抜き出して、発明の一態様を構成することは可能である。
て、その一部分を取り出して、発明の一態様を構成することは可能である。したがって、
ある部分を述べる図または文章が記載されている場合、その一部分の図または文章を取り
出した内容も、発明の一態様として開示されているものであり、発明の一態様を構成する
ことが可能であるものとする。そのため、例えば、能動素子（トランジスタ、ダイオード
など）、配線、受動素子（容量素子、抵抗素子など）、導電層、絶縁層、半導体層、有機
材料、無機材料、部品、装置、動作方法、製造方法などが単数または複数記載された図面
または文章において、その一部分を取り出して、発明の一態様を構成することが可能であ
るものとする。例えば、Ｎ個（Ｎは整数）の回路素子（トランジスタ、容量素子等）を有
して構成される回路図から、Ｍ個（Ｍは整数で、Ｍ＜Ｎ）の回路素子（トランジスタ、容
量素子等）を抜き出して、発明の一態様を構成することは可能である。別の例としては、
Ｎ個（Ｎは整数）の層を有して構成される断面図から、Ｍ個（Ｍは整数で、Ｍ＜Ｎ）の層
を抜き出して、発明の一態様を構成することは可能である。さらに別の例としては、Ｎ個
（Ｎは整数）の要素を有して構成されるフローチャートから、Ｍ個（Ｍは整数で、Ｍ＜Ｎ
）の要素を抜き出して、発明の一態様を構成することは可能である。
【0371】
＜撮像装置＞
以下では、本発明の一態様に係る撮像装置について説明する。
以下では、本発明の一態様に係る撮像装置について説明する。
【0372】
図４０（Ａ）は、本発明の一態様に係る撮像装置２００の例を示す平面図である。撮像装
置２００は、画素部２１０と、画素部２１０を駆動するための周辺回路２６０と、周辺回
路２７０、周辺回路２８０と、周辺回路２９０と、を有する。画素部２１０は、ｐ行ｑ列
（ｐおよびｑは２以上の整数）のマトリクス状に配置された複数の画素２１１を有する。
周辺回路２６０、周辺回路２７０、周辺回路２８０および周辺回路２９０は、それぞれ複
数の画素２１１に接続し、複数の画素２１１を駆動するための信号を供給する機能を有す
る。なお、本明細書等において、周辺回路２６０、周辺回路２７０、周辺回路２８０およ
び周辺回路２９０などの全てを指して「周辺回路」または「駆動回路」と呼ぶ場合がある
。例えば、周辺回路２６０は周辺回路の一部といえる。
置２００は、画素部２１０と、画素部２１０を駆動するための周辺回路２６０と、周辺回
路２７０、周辺回路２８０と、周辺回路２９０と、を有する。画素部２１０は、ｐ行ｑ列
（ｐおよびｑは２以上の整数）のマトリクス状に配置された複数の画素２１１を有する。
周辺回路２６０、周辺回路２７０、周辺回路２８０および周辺回路２９０は、それぞれ複
数の画素２１１に接続し、複数の画素２１１を駆動するための信号を供給する機能を有す
る。なお、本明細書等において、周辺回路２６０、周辺回路２７０、周辺回路２８０およ
び周辺回路２９０などの全てを指して「周辺回路」または「駆動回路」と呼ぶ場合がある
。例えば、周辺回路２６０は周辺回路の一部といえる。
【0373】
また、撮像装置２００は、光源２９１を有することが好ましい。光源２９１は、検出光Ｐ
１を放射することができる。
１を放射することができる。
【0374】
また、周辺回路は、少なくとも、論理回路、スイッチ、バッファ、増幅回路、または変換
回路の１つを有する。また、周辺回路は、画素部２１０を形成する基板上に形成してもよ
い。また、周辺回路の一部または全部にＩＣチップ等の半導体装置を用いてもよい。なお
、周辺回路は、周辺回路２６０、周辺回路２７０、周辺回路２８０および周辺回路２９０
のいずれか一以上を省略してもよい。
回路の１つを有する。また、周辺回路は、画素部２１０を形成する基板上に形成してもよ
い。また、周辺回路の一部または全部にＩＣチップ等の半導体装置を用いてもよい。なお
、周辺回路は、周辺回路２６０、周辺回路２７０、周辺回路２８０および周辺回路２９０
のいずれか一以上を省略してもよい。
【0375】
また、図４０（Ｂ）に示すように、撮像装置２００が有する画素部２１０において、画素
２１１を傾けて配置してもよい。画素２１１を傾けて配置することにより、行方向および
列方向の画素間隔（ピッチ）を短くすることができる。これにより、撮像装置２００にお
ける撮像の品質をより高めることができる。
２１１を傾けて配置してもよい。画素２１１を傾けて配置することにより、行方向および
列方向の画素間隔（ピッチ）を短くすることができる。これにより、撮像装置２００にお
ける撮像の品質をより高めることができる。
【0376】
＜画素の構成例１＞
撮像装置２００が有する１つの画素２１１を複数の副画素２１２で構成し、それぞれの副
画素２１２に特定の波長帯域の光を透過するフィルタ（カラーフィルタ）を組み合わせる
ことで、カラー画像表示を実現するための情報を取得することができる。
撮像装置２００が有する１つの画素２１１を複数の副画素２１２で構成し、それぞれの副
画素２１２に特定の波長帯域の光を透過するフィルタ（カラーフィルタ）を組み合わせる
ことで、カラー画像表示を実現するための情報を取得することができる。
【0377】
図４１（Ａ）は、カラー画像を取得するための画素２１１の一例を示す平面図である。図
４１（Ａ）に示す画素２１１は、赤（Ｒ）の波長帯域の光を透過するカラーフィルタが設
けられた副画素２１２（以下、「副画素２１２Ｒ」ともいう）、緑（Ｇ）の波長帯域の光
を透過するカラーフィルタが設けられた副画素２１２（以下、「副画素２１２Ｇ」ともい
う）および青（Ｂ）の波長帯域の光を透過するカラーフィルタが設けられた副画素２１２
（以下、「副画素２１２Ｂ」ともいう）を有する。副画素２１２は、フォトセンサとして
機能させることができる。
４１（Ａ）に示す画素２１１は、赤（Ｒ）の波長帯域の光を透過するカラーフィルタが設
けられた副画素２１２（以下、「副画素２１２Ｒ」ともいう）、緑（Ｇ）の波長帯域の光
を透過するカラーフィルタが設けられた副画素２１２（以下、「副画素２１２Ｇ」ともい
う）および青（Ｂ）の波長帯域の光を透過するカラーフィルタが設けられた副画素２１２
（以下、「副画素２１２Ｂ」ともいう）を有する。副画素２１２は、フォトセンサとして
機能させることができる。
【0378】
副画素２１２（副画素２１２Ｒ、副画素２１２Ｇ、および副画素２１２Ｂ）は、配線２３
１、配線２４７、配線２４８、配線２４９、配線２５０と電気的に接続される。また、副
画素２１２Ｒ、副画素２１２Ｇ、および副画素２１２Ｂは、それぞれが独立した配線２５
３に接続している。また、本明細書等において、例えばｎ行目（ｎは１以上ｐ以下の整数
）の画素２１１に接続された配線２４８および配線２４９を、それぞれ配線２４８［ｎ］
および配線２４９［ｎ］と記載する。また、例えばｍ列目（ｍは１以上ｑ以下の整数）の
画素２１１に接続された配線２５３を、配線２５３［ｍ］と記載する。なお、図４１（Ａ
）において、ｍ列目の画素２１１が有する副画素２１２Ｒに接続する配線２５３を配線２
５３［ｍ］Ｒ、副画素２１２Ｇに接続する配線２５３を配線２５３［ｍ］Ｇ、および副画
素２１２Ｂに接続する配線２５３を配線２５３［ｍ］Ｂと記載している。副画素２１２は
、上記配線を介して周辺回路と電気的に接続される。
１、配線２４７、配線２４８、配線２４９、配線２５０と電気的に接続される。また、副
画素２１２Ｒ、副画素２１２Ｇ、および副画素２１２Ｂは、それぞれが独立した配線２５
３に接続している。また、本明細書等において、例えばｎ行目（ｎは１以上ｐ以下の整数
）の画素２１１に接続された配線２４８および配線２４９を、それぞれ配線２４８［ｎ］
および配線２４９［ｎ］と記載する。また、例えばｍ列目（ｍは１以上ｑ以下の整数）の
画素２１１に接続された配線２５３を、配線２５３［ｍ］と記載する。なお、図４１（Ａ
）において、ｍ列目の画素２１１が有する副画素２１２Ｒに接続する配線２５３を配線２
５３［ｍ］Ｒ、副画素２１２Ｇに接続する配線２５３を配線２５３［ｍ］Ｇ、および副画
素２１２Ｂに接続する配線２５３を配線２５３［ｍ］Ｂと記載している。副画素２１２は
、上記配線を介して周辺回路と電気的に接続される。
【0379】
また、撮像装置２００は、隣接する画素２１１の、同じ波長帯域の光を透過するカラーフ
ィルタが設けられた副画素２１２同士がスイッチを介して電気的に接続する構成を有する
。図４１（Ｂ）に、ｎ行ｍ列に配置された画素２１１が有する副画素２１２と、該画素２
１１に隣接するｎ＋１行ｍ列に配置された画素２１１が有する副画素２１２の接続例を示
す。図４１（Ｂ）において、ｎ行ｍ列に配置された副画素２１２Ｒと、ｎ＋１行ｍ列に配
置された副画素２１２Ｒがスイッチ２０１を介して接続されている。また、ｎ行ｍ列に配
置された副画素２１２Ｇと、ｎ＋１行ｍ列に配置された副画素２１２Ｇがスイッチ２０２
を介して接続されている。また、ｎ行ｍ列に配置された副画素２１２Ｂと、ｎ＋１行ｍ列
に配置された副画素２１２Ｂがスイッチ２０３を介して接続されている。
ィルタが設けられた副画素２１２同士がスイッチを介して電気的に接続する構成を有する
。図４１（Ｂ）に、ｎ行ｍ列に配置された画素２１１が有する副画素２１２と、該画素２
１１に隣接するｎ＋１行ｍ列に配置された画素２１１が有する副画素２１２の接続例を示
す。図４１（Ｂ）において、ｎ行ｍ列に配置された副画素２１２Ｒと、ｎ＋１行ｍ列に配
置された副画素２１２Ｒがスイッチ２０１を介して接続されている。また、ｎ行ｍ列に配
置された副画素２１２Ｇと、ｎ＋１行ｍ列に配置された副画素２１２Ｇがスイッチ２０２
を介して接続されている。また、ｎ行ｍ列に配置された副画素２１２Ｂと、ｎ＋１行ｍ列
に配置された副画素２１２Ｂがスイッチ２０３を介して接続されている。
【0380】
なお、副画素２１２に用いるカラーフィルタは、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）に限定さ
れず、それぞれシアン（Ｃ）、黄（Ｙ）およびマゼンダ（Ｍ）の光を透過するカラーフィ
ルタを用いてもよい。１つの画素２１１に３種類の異なる波長帯域の光を検出する副画素
２１２を設けることで、フルカラー画像を取得することができる。
れず、それぞれシアン（Ｃ）、黄（Ｙ）およびマゼンダ（Ｍ）の光を透過するカラーフィ
ルタを用いてもよい。１つの画素２１１に３種類の異なる波長帯域の光を検出する副画素
２１２を設けることで、フルカラー画像を取得することができる。
【0381】
または、それぞれ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の光を透過するカラーフィルタが設
けられた副画素２１２に加えて、黄（Ｙ）の光を透過するカラーフィルタが設けられた副
画素２１２を有する画素２１１を用いてもよい。または、それぞれシアン（Ｃ）、黄（Ｙ
）およびマゼンダ（Ｍ）の光を透過するカラーフィルタが設けられた副画素２１２に加え
て、青（Ｂ）の光を透過するカラーフィルタが設けられた副画素２１２を有する画素２１
１を用いてもよい。１つの画素２１１に４種類の異なる波長帯域の光を検出する副画素２
１２を設けることで、取得した画像の色の再現性をさらに高めることができる。
けられた副画素２１２に加えて、黄（Ｙ）の光を透過するカラーフィルタが設けられた副
画素２１２を有する画素２１１を用いてもよい。または、それぞれシアン（Ｃ）、黄（Ｙ
）およびマゼンダ（Ｍ）の光を透過するカラーフィルタが設けられた副画素２１２に加え
て、青（Ｂ）の光を透過するカラーフィルタが設けられた副画素２１２を有する画素２１
１を用いてもよい。１つの画素２１１に４種類の異なる波長帯域の光を検出する副画素２
１２を設けることで、取得した画像の色の再現性をさらに高めることができる。
【0382】
また、例えば、図４１（Ａ）において、赤の波長帯域を検出する副画素２１２、緑の波長
帯域を検出する副画素２１２、および青の波長帯域を検出する副画素２１２の画素数比（
または受光面積比）は、１：１：１でなくても構わない。例えば、画素数比（受光面積比
）を赤：緑：青＝１：２：１とするＢａｙｅｒ配列としてもよい。または、画素数比（受
光面積比）を赤：緑：青＝１：６：１としてもよい。
帯域を検出する副画素２１２、および青の波長帯域を検出する副画素２１２の画素数比（
または受光面積比）は、１：１：１でなくても構わない。例えば、画素数比（受光面積比
）を赤：緑：青＝１：２：１とするＢａｙｅｒ配列としてもよい。または、画素数比（受
光面積比）を赤：緑：青＝１：６：１としてもよい。
【0383】
なお、画素２１１に設ける副画素２１２は１つでもよいが、２つ以上が好ましい。例えば
、同じ波長帯域を検出する副画素２１２を２つ以上設けることで、冗長性を高め、撮像装
置２００の信頼性を高めることができる。
、同じ波長帯域を検出する副画素２１２を２つ以上設けることで、冗長性を高め、撮像装
置２００の信頼性を高めることができる。
【0384】
また、可視光を吸収または反射して、赤外光を透過するＩＲ（ＩＲ：Ｉｎｆｒａｒｅｄ）
フィルタを用いることで、赤外光を検出する撮像装置２００を実現することができる。
フィルタを用いることで、赤外光を検出する撮像装置２００を実現することができる。
【0385】
また、ＮＤ（ＮＤ：Ｎｅｕｔｒａｌ Ｄｅｎｓｉｔｙ）フィルタ（減光フィルタ）を用い
ることで、光電変換素子（受光素子）に大光量光が入射した時に生じる出力飽和すること
を防ぐことができる。減光量の異なるＮＤフィルタを組み合わせて用いることで、撮像装
置のダイナミックレンジを大きくすることができる。
ることで、光電変換素子（受光素子）に大光量光が入射した時に生じる出力飽和すること
を防ぐことができる。減光量の異なるＮＤフィルタを組み合わせて用いることで、撮像装
置のダイナミックレンジを大きくすることができる。
【0386】
また、前述したフィルタ以外に、画素２１１にレンズを設けてもよい。ここで、図４２の
断面図を用いて、画素２１１、フィルタ２５４、レンズ２５５の配置例を説明する。レン
ズ２５５を設けることで、光電変換素子が入射光を効率よく受光することができる。具体
的には、図４２（Ａ）に示すように、画素２１１に形成したレンズ２５５、フィルタ２５
４（フィルタ２５４Ｒ、フィルタ２５４Ｇおよびフィルタ２５４Ｂ）、および画素回路２
３０等を通して光２５６を光電変換素子２２０に入射させる構造とすることができる。
断面図を用いて、画素２１１、フィルタ２５４、レンズ２５５の配置例を説明する。レン
ズ２５５を設けることで、光電変換素子が入射光を効率よく受光することができる。具体
的には、図４２（Ａ）に示すように、画素２１１に形成したレンズ２５５、フィルタ２５
４（フィルタ２５４Ｒ、フィルタ２５４Ｇおよびフィルタ２５４Ｂ）、および画素回路２
３０等を通して光２５６を光電変換素子２２０に入射させる構造とすることができる。
【0387】
ただし、一点鎖線で囲んだ領域に示すように、矢印で示す光２５６の一部が配線２５７の
一部によって遮光されてしまうことがある。したがって、図４２（Ｂ）に示すように光電
変換素子２２０側にレンズ２５５およびフィルタ２５４を配置して、光電変換素子２２０
が光２５６を効率良く受光させる構造が好ましい。光電変換素子２２０側から光２５６を
光電変換素子２２０に入射させることで、検出感度の高い撮像装置２００を提供すること
ができる。
一部によって遮光されてしまうことがある。したがって、図４２（Ｂ）に示すように光電
変換素子２２０側にレンズ２５５およびフィルタ２５４を配置して、光電変換素子２２０
が光２５６を効率良く受光させる構造が好ましい。光電変換素子２２０側から光２５６を
光電変換素子２２０に入射させることで、検出感度の高い撮像装置２００を提供すること
ができる。
【0388】
図４２に示す光電変換素子２２０として、ｐｎ型接合またはｐｉｎ型の接合が形成された
光電変換素子を用いてもよい。
光電変換素子を用いてもよい。
【0389】
また、光電変換素子２２０を、放射線を吸収して電荷を発生させる機能を有する物質を用
いて形成してもよい。放射線を吸収して電荷を発生させる機能を有する物質としては、セ
レン、ヨウ化鉛、ヨウ化水銀、ヒ化ガリウム、テルル化カドミウム、カドミウム亜鉛合金
等がある。
いて形成してもよい。放射線を吸収して電荷を発生させる機能を有する物質としては、セ
レン、ヨウ化鉛、ヨウ化水銀、ヒ化ガリウム、テルル化カドミウム、カドミウム亜鉛合金
等がある。
【0390】
例えば、光電変換素子２２０にセレンを用いると、可視光や、紫外光、赤外光に加えて、
Ｘ線や、ガンマ線といった幅広い波長帯域にわたって光吸収係数を有する光電変換素子２
２０を実現できる。
Ｘ線や、ガンマ線といった幅広い波長帯域にわたって光吸収係数を有する光電変換素子２
２０を実現できる。
【0391】
ここで、撮像装置２００が有する１つの画素２１１は、図４１に示す副画素２１２に加え
て、第１のフィルタを有する副画素２１２を有してもよい。
て、第１のフィルタを有する副画素２１２を有してもよい。
【0392】
＜画素の構成例２＞
以下では、シリコンを用いたトランジスタと、酸化物半導体を用いたトランジスタと、を
用いて画素を構成する一例について説明する。
以下では、シリコンを用いたトランジスタと、酸化物半導体を用いたトランジスタと、を
用いて画素を構成する一例について説明する。
【0393】
【0394】
図４３（Ａ）に示す撮像装置は、シリコン基板３００に設けられたシリコンを用いたトラ
ンジスタ３５１、トランジスタ３５１上に積層して配置された酸化物半導体を用いたトラ
ンジスタ３５２およびトランジスタ３５３、ならびにシリコン基板３００に設けられた、
アノード３６１と、カソード３６２を有するフォトダイオード３６０を含む。各トランジ
スタおよびフォトダイオード３６０は、種々のプラグ３７０および配線３７１と電気的な
接続を有する。また、フォトダイオード３６０のアノード３６１は、低抵抗領域３６３を
介してプラグ３７０と電気的に接続を有する。
ンジスタ３５１、トランジスタ３５１上に積層して配置された酸化物半導体を用いたトラ
ンジスタ３５２およびトランジスタ３５３、ならびにシリコン基板３００に設けられた、
アノード３６１と、カソード３６２を有するフォトダイオード３６０を含む。各トランジ
スタおよびフォトダイオード３６０は、種々のプラグ３７０および配線３７１と電気的な
接続を有する。また、フォトダイオード３６０のアノード３６１は、低抵抗領域３６３を
介してプラグ３７０と電気的に接続を有する。
【0395】
また撮像装置は、シリコン基板３００に設けられたトランジスタ３５１およびフォトダイ
オード３６０を有する層３１０と、層３１０と接して設けられ、配線３７１を有する層３
２０と、層３２０と接して設けられ、トランジスタ３５２およびトランジスタ３５３を有
する層３３０と、層３３０と接して設けられ、配線３７２および配線３７３を有する層３
４０を備えている。
オード３６０を有する層３１０と、層３１０と接して設けられ、配線３７１を有する層３
２０と、層３２０と接して設けられ、トランジスタ３５２およびトランジスタ３５３を有
する層３３０と、層３３０と接して設けられ、配線３７２および配線３７３を有する層３
４０を備えている。
【0396】
なお、図４３（Ａ）の断面図の一例では、シリコン基板３００において、トランジスタ３
５１が形成された面とは逆側の面にフォトダイオード３６０の受光面を有する構成とする
。該構成とすることで、各種トランジスタや配線などの影響を受けずに光路を確保するこ
とができる。そのため、高開口率の画素を形成することができる。なお、フォトダイオー
ド３６０の受光面をトランジスタ３５１が形成された面と同じとすることもできる。
５１が形成された面とは逆側の面にフォトダイオード３６０の受光面を有する構成とする
。該構成とすることで、各種トランジスタや配線などの影響を受けずに光路を確保するこ
とができる。そのため、高開口率の画素を形成することができる。なお、フォトダイオー
ド３６０の受光面をトランジスタ３５１が形成された面と同じとすることもできる。
【0397】
なお、酸化物半導体を用いたトランジスタのみを用いて画素を構成する場合には、層３１
０を、酸化物半導体を用いたトランジスタを有する層とすればよい。または層３１０を省
略し、酸化物半導体を用いたトランジスタのみで画素を構成してもよい。
０を、酸化物半導体を用いたトランジスタを有する層とすればよい。または層３１０を省
略し、酸化物半導体を用いたトランジスタのみで画素を構成してもよい。
【0398】
また、図４３（Ａ）の断面図において、層３１０に設けるフォトダイオード３６０と、層
３３０に設けるトランジスタとを重なるように形成することができる。そうすると、画素
の集積度を高めることができる。すなわち、撮像装置の解像度を高めることができる。
３３０に設けるトランジスタとを重なるように形成することができる。そうすると、画素
の集積度を高めることができる。すなわち、撮像装置の解像度を高めることができる。
【0399】
また、図４３（Ｂ）は、撮像装置は層３４０側にフォトダイオード３６５をトランジスタ
の上に配置した構造とすることができる。図４３（Ｂ）において、例えば層３１０には、
シリコン用いたトランジスタ３５１と、トランジスタ３５２を有し、層３２０には配線３
７１を有し、層３３０には酸化物半導体を用いたトランジスタ３５２、トランジスタ３５
３を有し、層３４０にはフォトダイオード３６５有しており、フォトダイオード３６５は
半導体層３６６、半導体層３６７、半導体層３６８で構成されており、配線３７３と、プ
ラグ３７０を介した配線３７４と電気的に接続している。
の上に配置した構造とすることができる。図４３（Ｂ）において、例えば層３１０には、
シリコン用いたトランジスタ３５１と、トランジスタ３５２を有し、層３２０には配線３
７１を有し、層３３０には酸化物半導体を用いたトランジスタ３５２、トランジスタ３５
３を有し、層３４０にはフォトダイオード３６５有しており、フォトダイオード３６５は
半導体層３６６、半導体層３６７、半導体層３６８で構成されており、配線３７３と、プ
ラグ３７０を介した配線３７４と電気的に接続している。
【0400】
図４３（Ｂ）に示す素子構成とすることで、開口率を広くすることができる。
【0401】
また、フォトダイオード３６５には、非晶質シリコン膜や微結晶シリコン膜などを用いた
ｐｉｎ型ダイオード素子などを用いてもよい。フォトダイオード３６５は、ｎ型の半導体
層３６８、ｉ型の半導体層３６７、およびｐ型の半導体層３６６が順に積層された構成を
有している。ｉ型の半導体層３６７には非晶質シリコンを用いることが好ましい。また、
ｐ型の半導体層３６６およびｎ型の半導体層３６８には、それぞれの導電型を付与するド
ーパントを含む非晶質シリコンまたは微結晶シリコンなどを用いることができる。非晶質
シリコンを光電変換層とするフォトダイオード３６５は可視光の波長領域における感度が
高く、微弱な可視光を検知しやすい。
ｐｉｎ型ダイオード素子などを用いてもよい。フォトダイオード３６５は、ｎ型の半導体
層３６８、ｉ型の半導体層３６７、およびｐ型の半導体層３６６が順に積層された構成を
有している。ｉ型の半導体層３６７には非晶質シリコンを用いることが好ましい。また、
ｐ型の半導体層３６６およびｎ型の半導体層３６８には、それぞれの導電型を付与するド
ーパントを含む非晶質シリコンまたは微結晶シリコンなどを用いることができる。非晶質
シリコンを光電変換層とするフォトダイオード３６５は可視光の波長領域における感度が
高く、微弱な可視光を検知しやすい。
【0402】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
。
。
【0403】
【0404】
本実施の形態におけるＲＦタグは、内部に記憶回路を有し、記憶回路に必要な情報を記憶
し、非接触手段、例えば無線通信を用いて外部と情報の授受を行うものである。このよう
な特徴から、ＲＦタグは、物品などの個体情報を読み取ることにより物品の識別を行う個
体認証システムなどに用いることが可能である。なお、これらの用途に用いるためには極
めて高い信頼性が要求される。
し、非接触手段、例えば無線通信を用いて外部と情報の授受を行うものである。このよう
な特徴から、ＲＦタグは、物品などの個体情報を読み取ることにより物品の識別を行う個
体認証システムなどに用いることが可能である。なお、これらの用途に用いるためには極
めて高い信頼性が要求される。
【0405】
【0406】
図４４に示すようにＲＦタグ８００は、通信器８０１（質問器、リーダ／ライタなどとも
いう）に接続されたアンテナ８０２から送信される無線信号８０３を受信するアンテナ８
０４を有する。またＲＦタグ８００は、整流回路８０５、定電圧回路８０６、復調回路８
０７、変調回路８０８、論理回路８０９、記憶回路８１０、ＲＯＭ８１１を有している。
なお、復調回路８０７に含まれる整流作用を示すトランジスタに逆方向電流を十分に抑制
することが可能な材料、例えば、酸化物半導体、が用いられた構成としてもよい。これに
より、逆方向電流に起因する整流作用の低下を抑制し、復調回路の出力が飽和することを
防止できる。つまり、復調回路の入力に対する復調回路の出力を線形に近づけることがで
きる。なお、データの伝送形式は、一対のコイルを対向配置して相互誘導によって交信を
行う電磁結合方式、誘導電磁界によって交信する電磁誘導方式、電波を利用して交信する
電波方式の３つに大別される。本実施の形態に示すＲＦタグ８００は、そのいずれの方式
に用いることも可能である。
いう）に接続されたアンテナ８０２から送信される無線信号８０３を受信するアンテナ８
０４を有する。またＲＦタグ８００は、整流回路８０５、定電圧回路８０６、復調回路８
０７、変調回路８０８、論理回路８０９、記憶回路８１０、ＲＯＭ８１１を有している。
なお、復調回路８０７に含まれる整流作用を示すトランジスタに逆方向電流を十分に抑制
することが可能な材料、例えば、酸化物半導体、が用いられた構成としてもよい。これに
より、逆方向電流に起因する整流作用の低下を抑制し、復調回路の出力が飽和することを
防止できる。つまり、復調回路の入力に対する復調回路の出力を線形に近づけることがで
きる。なお、データの伝送形式は、一対のコイルを対向配置して相互誘導によって交信を
行う電磁結合方式、誘導電磁界によって交信する電磁誘導方式、電波を利用して交信する
電波方式の３つに大別される。本実施の形態に示すＲＦタグ８００は、そのいずれの方式
に用いることも可能である。
【0407】
次に各回路の構成について説明する。アンテナ８０４は、通信器８０１に接続されたアン
テナ８０２との間で無線信号８０３の送受信を行うためのものである。また、整流回路８
０５は、アンテナ８０４で無線信号を受信することにより生成される入力交流信号を整流
、例えば、半波２倍圧整流し、後段に設けられた容量素子により、整流された信号を平滑
化することで入力電位を生成するための回路である。なお、整流回路８０５の入力側また
は出力側には、リミッタ回路を設けてもよい。リミッタ回路とは、入力交流信号の振幅が
大きく、内部生成電圧が大きい場合に、ある電力以上の電力を後段の回路に入力しないよ
うに制御するための回路である。
テナ８０２との間で無線信号８０３の送受信を行うためのものである。また、整流回路８
０５は、アンテナ８０４で無線信号を受信することにより生成される入力交流信号を整流
、例えば、半波２倍圧整流し、後段に設けられた容量素子により、整流された信号を平滑
化することで入力電位を生成するための回路である。なお、整流回路８０５の入力側また
は出力側には、リミッタ回路を設けてもよい。リミッタ回路とは、入力交流信号の振幅が
大きく、内部生成電圧が大きい場合に、ある電力以上の電力を後段の回路に入力しないよ
うに制御するための回路である。
【0408】
定電圧回路８０６は、入力電位から安定した電源電圧を生成し、各回路に供給するための
回路である。なお、定電圧回路８０６は、内部にリセット信号生成回路を有していてもよ
い。リセット信号生成回路は、安定した電源電圧の立ち上がりを利用して、論理回路８０
９のリセット信号を生成するための回路である。
回路である。なお、定電圧回路８０６は、内部にリセット信号生成回路を有していてもよ
い。リセット信号生成回路は、安定した電源電圧の立ち上がりを利用して、論理回路８０
９のリセット信号を生成するための回路である。
【0409】
復調回路８０７は、入力交流信号を包絡線検出することにより復調し、復調信号を生成す
るための回路である。また、変調回路８０８は、アンテナ８０４より出力するデータに応
じて変調を行うための回路である。
るための回路である。また、変調回路８０８は、アンテナ８０４より出力するデータに応
じて変調を行うための回路である。
【0410】
論理回路８０９は復調信号を解析し、処理を行うための回路である。記憶回路８１０は、
入力された情報を保持する回路であり、ロウデコーダ、カラムデコーダ、記憶領域などを
有する。また、ＲＯＭ８１１は、固有番号（ＩＤ）などを格納し、処理に応じて出力を行
うための回路である。
入力された情報を保持する回路であり、ロウデコーダ、カラムデコーダ、記憶領域などを
有する。また、ＲＯＭ８１１は、固有番号（ＩＤ）などを格納し、処理に応じて出力を行
うための回路である。
【0411】
なお、上述の各回路は、適宜、取捨することができる。
【0412】
ここで、先の実施の形態で説明したトランジスタを、記憶回路８１０に用いることができ
る。本発明の一態様のトランジスタは、電源が遮断された状態であっても情報を保持でき
るため、ＲＦタグに好適に用いることができる。さらに本発明の一態様の記憶回路は、デ
ータの書き込みに必要な電力（電圧）が従来の不揮発性メモリに比べて著しく小さいため
、データの読み出し時と書込み時の最大通信距離の差を生じさせないことも可能である。
さらに、データの書き込み時に電力が不足し、誤動作または誤書込みが生じることを抑制
することができる。
る。本発明の一態様のトランジスタは、電源が遮断された状態であっても情報を保持でき
るため、ＲＦタグに好適に用いることができる。さらに本発明の一態様の記憶回路は、デ
ータの書き込みに必要な電力（電圧）が従来の不揮発性メモリに比べて著しく小さいため
、データの読み出し時と書込み時の最大通信距離の差を生じさせないことも可能である。
さらに、データの書き込み時に電力が不足し、誤動作または誤書込みが生じることを抑制
することができる。
【0413】
また、本発明の一態様の記憶回路は、不揮発性のメモリとして用いることが可能であるた
め、ＲＯＭ８１１に適用することもできる。その場合には、生産者がＲＯＭ８１１にデー
タを書き込むためのコマンドを別途用意し、ユーザが自由に書き換えできないようにして
おくことが好ましい。生産者が出荷前に固有番号を書込んだのちに製品を出荷することで
、作製したＲＦタグすべてについて固有番号を付与するのではなく、出荷する良品にのみ
固有番号を割り当てることが可能となり、出荷後の製品の固有番号が不連続になることが
なく出荷後の製品に対応した顧客管理が容易となる。
め、ＲＯＭ８１１に適用することもできる。その場合には、生産者がＲＯＭ８１１にデー
タを書き込むためのコマンドを別途用意し、ユーザが自由に書き換えできないようにして
おくことが好ましい。生産者が出荷前に固有番号を書込んだのちに製品を出荷することで
、作製したＲＦタグすべてについて固有番号を付与するのではなく、出荷する良品にのみ
固有番号を割り当てることが可能となり、出荷後の製品の固有番号が不連続になることが
なく出荷後の製品に対応した顧客管理が容易となる。
【0414】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
。
。
【0415】
（実施の形態６）
本実施の形態では、先の実施の形態で説明した記憶装置を含むＣＰＵについて説明する。
本実施の形態では、先の実施の形態で説明した記憶装置を含むＣＰＵについて説明する。
【0416】
図４５は、先の実施の形態で説明したトランジスタを少なくとも一部に用いたＣＰＵの一
例の構成を示すブロック図である。
例の構成を示すブロック図である。
【0417】
＜ＣＰＵ＞
図４５に示すＣＰＵは、基板１１９０上に、ＡＬＵ１１９１（ＡＬＵ：Ａｒｉｔｈｍｅｔ
ｉｃ ｌｏｇｉｃ ｕｎｉｔ、演算回路）、ＡＬＵコントローラ１１９２、インストラク
ションデコーダ１１９３、インタラプトコントローラ１１９４、タイミングコントローラ
１１９５、レジスタ１１９６、レジスタコントローラ１１９７、バスインターフェース１
１９８、書き換え可能なＲＯＭ１１９９、およびＲＯＭインターフェース１１８９を有し
ている。基板１１９０は、半導体基板、ＳＯＩ基板、ガラス基板などを用いる。ＲＯＭ１
１９９およびＲＯＭインターフェース１１８９は、別チップに設けてもよい。もちろん、
図４５に示すＣＰＵは、その構成を簡略化して示した一例にすぎず、実際のＣＰＵはその
用途によって多種多様な構成を有している。例えば、図４５に示すＣＰＵまたは演算回路
を含む構成を一つのコアとし、当該コアを複数含み、それぞれのコアが並列で動作するよ
うな構成としてもよい。また、ＣＰＵが内部演算回路やデータバスで扱えるビット数は、
例えば８ビット、１６ビット、３２ビット、６４ビットなどとすることができる。
図４５に示すＣＰＵは、基板１１９０上に、ＡＬＵ１１９１（ＡＬＵ：Ａｒｉｔｈｍｅｔ
ｉｃ ｌｏｇｉｃ ｕｎｉｔ、演算回路）、ＡＬＵコントローラ１１９２、インストラク
ションデコーダ１１９３、インタラプトコントローラ１１９４、タイミングコントローラ
１１９５、レジスタ１１９６、レジスタコントローラ１１９７、バスインターフェース１
１９８、書き換え可能なＲＯＭ１１９９、およびＲＯＭインターフェース１１８９を有し
ている。基板１１９０は、半導体基板、ＳＯＩ基板、ガラス基板などを用いる。ＲＯＭ１
１９９およびＲＯＭインターフェース１１８９は、別チップに設けてもよい。もちろん、
図４５に示すＣＰＵは、その構成を簡略化して示した一例にすぎず、実際のＣＰＵはその
用途によって多種多様な構成を有している。例えば、図４５に示すＣＰＵまたは演算回路
を含む構成を一つのコアとし、当該コアを複数含み、それぞれのコアが並列で動作するよ
うな構成としてもよい。また、ＣＰＵが内部演算回路やデータバスで扱えるビット数は、
例えば８ビット、１６ビット、３２ビット、６４ビットなどとすることができる。
【0418】
バスインターフェース１１９８を介してＣＰＵに入力された命令は、インストラクション
デコーダ１１９３に入力され、デコードされた後、ＡＬＵコントローラ１１９２、インタ
ラプトコントローラ１１９４、レジスタコントローラ１１９７、タイミングコントローラ
１１９５に入力される。
デコーダ１１９３に入力され、デコードされた後、ＡＬＵコントローラ１１９２、インタ
ラプトコントローラ１１９４、レジスタコントローラ１１９７、タイミングコントローラ
１１９５に入力される。
【0419】
ＡＬＵコントローラ１１９２、インタラプトコントローラ１１９４、レジスタコントロー
ラ１１９７、タイミングコントローラ１１９５は、デコードされた命令に基づき、各種制
御を行う。具体的にＡＬＵコントローラ１１９２は、ＡＬＵ１１９１の動作を制御するた
めの信号を生成する。また、インタラプトコントローラ１１９４は、ＣＰＵのプログラム
実行中に、外部の入出力装置や、周辺回路からの割り込み要求を、その優先度やマスク状
態から判断し、処理する。レジスタコントローラ１１９７は、レジスタ１１９６のアドレ
スを生成し、ＣＰＵの状態に応じてレジスタ１１９６の読み出しや書き込みを行う。
ラ１１９７、タイミングコントローラ１１９５は、デコードされた命令に基づき、各種制
御を行う。具体的にＡＬＵコントローラ１１９２は、ＡＬＵ１１９１の動作を制御するた
めの信号を生成する。また、インタラプトコントローラ１１９４は、ＣＰＵのプログラム
実行中に、外部の入出力装置や、周辺回路からの割り込み要求を、その優先度やマスク状
態から判断し、処理する。レジスタコントローラ１１９７は、レジスタ１１９６のアドレ
スを生成し、ＣＰＵの状態に応じてレジスタ１１９６の読み出しや書き込みを行う。
【0420】
また、タイミングコントローラ１１９５は、ＡＬＵ１１９１、ＡＬＵコントローラ１１９
２、インストラクションデコーダ１１９３、インタラプトコントローラ１１９４、および
レジスタコントローラ１１９７の動作のタイミングを制御する信号を生成する。例えばタ
イミングコントローラ１１９５は、基準クロック信号を元に、内部クロック信号を生成す
る内部クロック生成部を備えており、内部クロック信号を上記各種回路に供給する。
２、インストラクションデコーダ１１９３、インタラプトコントローラ１１９４、および
レジスタコントローラ１１９７の動作のタイミングを制御する信号を生成する。例えばタ
イミングコントローラ１１９５は、基準クロック信号を元に、内部クロック信号を生成す
る内部クロック生成部を備えており、内部クロック信号を上記各種回路に供給する。
【0421】
【0422】
図４５に示すＣＰＵにおいて、レジスタコントローラ１１９７は、ＡＬＵ１１９１からの
指示に従い、レジスタ１１９６における保持動作の選択を行う。すなわち、レジスタ１１
９６が有するメモリセルにおいて、フリップフロップによるデータの保持を行うか、容量
素子によるデータの保持を行うかを、選択する。フリップフロップによるデータの保持が
選択されている場合、レジスタ１１９６内のメモリセルへの、電源電圧の供給が行われる
。容量素子におけるデータの保持が選択されている場合、容量素子へのデータの書き換え
が行われ、レジスタ１１９６内のメモリセルへの電源電圧の供給を停止することができる
。
指示に従い、レジスタ１１９６における保持動作の選択を行う。すなわち、レジスタ１１
９６が有するメモリセルにおいて、フリップフロップによるデータの保持を行うか、容量
素子によるデータの保持を行うかを、選択する。フリップフロップによるデータの保持が
選択されている場合、レジスタ１１９６内のメモリセルへの、電源電圧の供給が行われる
。容量素子におけるデータの保持が選択されている場合、容量素子へのデータの書き換え
が行われ、レジスタ１１９６内のメモリセルへの電源電圧の供給を停止することができる
。
【0423】
＜記録回路＞
図４６は、レジスタ１１９６として用いることのできる記憶素子の回路図の一例である。
記憶素子１２００は、電源遮断で記憶データが揮発する回路１２０１と、電源遮断で記憶
データが揮発しない回路１２０２と、スイッチ１２０３と、スイッチ１２０４と、論理素
子１２０６と、容量素子１２０７と、選択機能を有する回路１２２０と、を有する。回路
１２０２は、容量素子１２０８と、トランジスタ１２０９と、トランジスタ１２１０と、
を有する。なお、記憶素子１２００は、必要に応じて、ダイオード、抵抗素子、インダク
タなどのその他の素子をさらに有していても良い。
図４６は、レジスタ１１９６として用いることのできる記憶素子の回路図の一例である。
記憶素子１２００は、電源遮断で記憶データが揮発する回路１２０１と、電源遮断で記憶
データが揮発しない回路１２０２と、スイッチ１２０３と、スイッチ１２０４と、論理素
子１２０６と、容量素子１２０７と、選択機能を有する回路１２２０と、を有する。回路
１２０２は、容量素子１２０８と、トランジスタ１２０９と、トランジスタ１２１０と、
を有する。なお、記憶素子１２００は、必要に応じて、ダイオード、抵抗素子、インダク
タなどのその他の素子をさらに有していても良い。
【0424】
ここで、回路１２０２には、先の実施の形態で説明した記憶装置を用いることができる。
記憶素子１２００への電源電圧の供給が停止した際、回路１２０２のトランジスタ１２０
９のゲートには接地電位（０Ｖ）、またはトランジスタ１２０９がオフする電位が入力さ
れ続ける構成とする。例えば、トランジスタ１２０９の第１ゲートが抵抗等の負荷を介し
て接地される構成とする。
記憶素子１２００への電源電圧の供給が停止した際、回路１２０２のトランジスタ１２０
９のゲートには接地電位（０Ｖ）、またはトランジスタ１２０９がオフする電位が入力さ
れ続ける構成とする。例えば、トランジスタ１２０９の第１ゲートが抵抗等の負荷を介し
て接地される構成とする。
【0425】
スイッチ１２０３は、一導電型（例えば、ｎチャネル型）のトランジスタ１２１３を用い
て構成され、スイッチ１２０４は、一導電型とは逆の導電型（例えば、ｐチャネル型）の
トランジスタ１２１４を用いて構成した例を示す。ここで、スイッチ１２０３の第１の端
子はトランジスタ１２１３のソース電極とドレイン電極の一方に対応し、スイッチ１２０
３の第２の端子はトランジスタ１２１３のソース電極とドレイン電極の他方に対応し、ス
イッチ１２０３はトランジスタ１２１３のゲートに入力される制御信号ＲＤによって、第
１の端子と第２の端子の間の導通または非導通（つまり、トランジスタ１２１３のオン状
態またはオフ状態）が選択される。スイッチ１２０４の第１の端子はトランジスタ１２１
４のソース電極とドレイン電極の一方に対応し、スイッチ１２０４の第２の端子はトラン
ジスタ１２１４のソース電極とドレイン電極の他方に対応し、スイッチ１２０４はトラン
ジスタ１２１４のゲートに入力される制御信号ＲＤによって、第１の端子と第２の端子の
間の導通または非導通（つまり、トランジスタ１２１４のオン状態またはオフ状態）が選
択される。
て構成され、スイッチ１２０４は、一導電型とは逆の導電型（例えば、ｐチャネル型）の
トランジスタ１２１４を用いて構成した例を示す。ここで、スイッチ１２０３の第１の端
子はトランジスタ１２１３のソース電極とドレイン電極の一方に対応し、スイッチ１２０
３の第２の端子はトランジスタ１２１３のソース電極とドレイン電極の他方に対応し、ス
イッチ１２０３はトランジスタ１２１３のゲートに入力される制御信号ＲＤによって、第
１の端子と第２の端子の間の導通または非導通（つまり、トランジスタ１２１３のオン状
態またはオフ状態）が選択される。スイッチ１２０４の第１の端子はトランジスタ１２１
４のソース電極とドレイン電極の一方に対応し、スイッチ１２０４の第２の端子はトラン
ジスタ１２１４のソース電極とドレイン電極の他方に対応し、スイッチ１２０４はトラン
ジスタ１２１４のゲートに入力される制御信号ＲＤによって、第１の端子と第２の端子の
間の導通または非導通（つまり、トランジスタ１２１４のオン状態またはオフ状態）が選
択される。
【0426】
トランジスタ１２０９のソース電極とドレイン電極の一方は、容量素子１２０８の一対の
電極のうちの一方、およびトランジスタ１２１０のゲートと電気的に接続される。ここで
、接続部分をノードＭ２とする。トランジスタ１２１０のソース電極とドレイン電極の一
方は、低電源電位を供給することのできる配線（例えばＧＮＤ線）に電気的に接続され、
他方は、スイッチ１２０３の第１の端子（トランジスタ１２１３のソース電極とドレイン
電極の一方）と電気的に接続される。スイッチ１２０３の第２の端子（トランジスタ１２
１３のソース電極とドレイン電極の他方）はスイッチ１２０４の第１の端子（トランジス
タ１２１４のソース電極とドレイン電極の一方）と電気的に接続される。スイッチ１２０
４の第２の端子（トランジスタ１２１４のソース電極とドレイン電極の他方）は電源電位
ＶＤＤを供給することのできる配線と電気的に接続される。スイッチ１２０３の第２の端
子（トランジスタ１２１３のソース電極とドレイン電極の他方）と、スイッチ１２０４の
第１の端子（トランジスタ１２１４のソース電極とドレイン電極の一方）と、論理素子１
２０６の入力端子と、容量素子１２０７の一対の電極のうちの一方と、は電気的に接続さ
れる。ここで、接続部分をノードＭ１とする。容量素子１２０７の一対の電極のうちの他
方は、一定の電位が入力される構成とすることができる。例えば、低電源電位（ＧＮＤ等
）または高電源電位（ＶＤＤ等）が入力される構成とすることができる。容量素子１２０
７の一対の電極のうちの他方は、低電源電位を供給することのできる配線（例えばＧＮＤ
線）と電気的に接続される。容量素子１２０８の一対の電極のうちの他方は、一定の電位
が入力される構成とすることができる。例えば、低電源電位（ＧＮＤ等）または高電源電
位（ＶＤＤ等）が入力される構成とすることができる。容量素子１２０８の一対の電極の
うちの他方は、低電源電位を供給することのできる配線（例えばＧＮＤ線）と電気的に接
続される。
電極のうちの一方、およびトランジスタ１２１０のゲートと電気的に接続される。ここで
、接続部分をノードＭ２とする。トランジスタ１２１０のソース電極とドレイン電極の一
方は、低電源電位を供給することのできる配線（例えばＧＮＤ線）に電気的に接続され、
他方は、スイッチ１２０３の第１の端子（トランジスタ１２１３のソース電極とドレイン
電極の一方）と電気的に接続される。スイッチ１２０３の第２の端子（トランジスタ１２
１３のソース電極とドレイン電極の他方）はスイッチ１２０４の第１の端子（トランジス
タ１２１４のソース電極とドレイン電極の一方）と電気的に接続される。スイッチ１２０
４の第２の端子（トランジスタ１２１４のソース電極とドレイン電極の他方）は電源電位
ＶＤＤを供給することのできる配線と電気的に接続される。スイッチ１２０３の第２の端
子（トランジスタ１２１３のソース電極とドレイン電極の他方）と、スイッチ１２０４の
第１の端子（トランジスタ１２１４のソース電極とドレイン電極の一方）と、論理素子１
２０６の入力端子と、容量素子１２０７の一対の電極のうちの一方と、は電気的に接続さ
れる。ここで、接続部分をノードＭ１とする。容量素子１２０７の一対の電極のうちの他
方は、一定の電位が入力される構成とすることができる。例えば、低電源電位（ＧＮＤ等
）または高電源電位（ＶＤＤ等）が入力される構成とすることができる。容量素子１２０
７の一対の電極のうちの他方は、低電源電位を供給することのできる配線（例えばＧＮＤ
線）と電気的に接続される。容量素子１２０８の一対の電極のうちの他方は、一定の電位
が入力される構成とすることができる。例えば、低電源電位（ＧＮＤ等）または高電源電
位（ＶＤＤ等）が入力される構成とすることができる。容量素子１２０８の一対の電極の
うちの他方は、低電源電位を供給することのできる配線（例えばＧＮＤ線）と電気的に接
続される。
【0427】
なお、容量素子１２０７および容量素子１２０８は、トランジスタや配線の寄生容量等を
積極的に利用することによって省略することも可能である。
積極的に利用することによって省略することも可能である。
【0428】
トランジスタ１２０９の第１ゲート（第１のゲート電極）には、制御信号ＷＥが入力され
る。スイッチ１２０３およびスイッチ１２０４は、制御信号ＷＥとは異なる制御信号ＲＤ
によって第１の端子と第２の端子の間の導通状態または非導通状態を選択され、一方のス
イッチの第１の端子と第２の端子の間が導通状態のとき他方のスイッチの第１の端子と第
２の端子の間は非導通状態となる。
る。スイッチ１２０３およびスイッチ１２０４は、制御信号ＷＥとは異なる制御信号ＲＤ
によって第１の端子と第２の端子の間の導通状態または非導通状態を選択され、一方のス
イッチの第１の端子と第２の端子の間が導通状態のとき他方のスイッチの第１の端子と第
２の端子の間は非導通状態となる。
【0429】
なお、図４６におけるトランジスタ１２０９では第２ゲート（第２のゲート電極：バック
ゲート）を有する構成を図示している。第１ゲートには制御信号ＷＥを入力し、第２ゲー
トには制御信号ＷＥ２を入力することができる。制御信号ＷＥ２は、一定の電位の信号と
すればよい。当該一定の電位には、例えば、接地電位ＧＮＤやトランジスタ１２０９のソ
ース電極の電位よりも小さい電位などが選ばれる。このとき、制御信号ＷＥ２は、トラン
ジスタ１２０９のしきい値電圧を制御するための電位信号であり、ゲート電圧ＶＧが０Ｖ
時の電流をより低減することができる。また、制御信号ＷＥ２は、制御信号ＷＥと同じ電
位信号であってもよい。なお、トランジスタ１２０９としては、第２ゲートを有さないト
ランジスタを用いることもできる。
ゲート）を有する構成を図示している。第１ゲートには制御信号ＷＥを入力し、第２ゲー
トには制御信号ＷＥ２を入力することができる。制御信号ＷＥ２は、一定の電位の信号と
すればよい。当該一定の電位には、例えば、接地電位ＧＮＤやトランジスタ１２０９のソ
ース電極の電位よりも小さい電位などが選ばれる。このとき、制御信号ＷＥ２は、トラン
ジスタ１２０９のしきい値電圧を制御するための電位信号であり、ゲート電圧ＶＧが０Ｖ
時の電流をより低減することができる。また、制御信号ＷＥ２は、制御信号ＷＥと同じ電
位信号であってもよい。なお、トランジスタ１２０９としては、第２ゲートを有さないト
ランジスタを用いることもできる。
【0430】
トランジスタ１２０９のソース電極とドレイン電極の他方には、回路１２０１に保持され
たデータに対応する信号が入力される。図４６では、回路１２０１から出力された信号が
、トランジスタ１２０９のソース電極とドレイン電極の他方に入力される例を示した。ス
イッチ１２０３の第２の端子（トランジスタ１２１３のソース電極とドレイン電極の他方
）から出力される信号は、論理素子１２０６によってその論理値が反転された反転信号と
なり、回路１２２０を介して回路１２０１に入力される。
たデータに対応する信号が入力される。図４６では、回路１２０１から出力された信号が
、トランジスタ１２０９のソース電極とドレイン電極の他方に入力される例を示した。ス
イッチ１２０３の第２の端子（トランジスタ１２１３のソース電極とドレイン電極の他方
）から出力される信号は、論理素子１２０６によってその論理値が反転された反転信号と
なり、回路１２２０を介して回路１２０１に入力される。
【0431】
なお、図４６では、スイッチ１２０３の第２の端子（トランジスタ１２１３のソース電極
とドレイン電極の他方）から出力される信号は、論理素子１２０６および回路１２２０を
介して回路１２０１に入力する例を示したがこれに限定されない。スイッチ１２０３の第
２の端子（トランジスタ１２１３のソース電極とドレイン電極の他方）から出力される信
号が、論理値を反転させられることなく、回路１２０１に入力されてもよい。例えば、回
路１２０１内に、入力端子から入力された信号の論理値が反転した信号が保持されるノー
ドが存在する場合に、スイッチ１２０３の第２の端子（トランジスタ１２１３のソース電
極とドレイン電極の他方）から出力される信号を当該ノードに入力することができる。
とドレイン電極の他方）から出力される信号は、論理素子１２０６および回路１２２０を
介して回路１２０１に入力する例を示したがこれに限定されない。スイッチ１２０３の第
２の端子（トランジスタ１２１３のソース電極とドレイン電極の他方）から出力される信
号が、論理値を反転させられることなく、回路１２０１に入力されてもよい。例えば、回
路１２０１内に、入力端子から入力された信号の論理値が反転した信号が保持されるノー
ドが存在する場合に、スイッチ１２０３の第２の端子（トランジスタ１２１３のソース電
極とドレイン電極の他方）から出力される信号を当該ノードに入力することができる。
【0432】
また、図４６において、記憶素子１２００に用いられるトランジスタのうち、トランジス
タ１２０９以外のトランジスタは、酸化物半導体以外の半導体でなる層または基板１１９
０にチャネルが形成されるトランジスタとすることができる。例えば、シリコン層または
シリコン基板にチャネルが形成されるトランジスタとすることができる。また、記憶素子
１２００に用いられるトランジスタ全てを、チャネルが酸化物半導体層で形成されるトラ
ンジスタとすることもできる。または、記憶素子１２００は、トランジスタ１２０９以外
にも、チャネルが酸化物半導体層で形成されるトランジスタを含んでいてもよく、残りの
トランジスタは酸化物半導体以外の半導体でなる層または基板１１９０にチャネルが形成
されるトランジスタとすることもできる。
タ１２０９以外のトランジスタは、酸化物半導体以外の半導体でなる層または基板１１９
０にチャネルが形成されるトランジスタとすることができる。例えば、シリコン層または
シリコン基板にチャネルが形成されるトランジスタとすることができる。また、記憶素子
１２００に用いられるトランジスタ全てを、チャネルが酸化物半導体層で形成されるトラ
ンジスタとすることもできる。または、記憶素子１２００は、トランジスタ１２０９以外
にも、チャネルが酸化物半導体層で形成されるトランジスタを含んでいてもよく、残りの
トランジスタは酸化物半導体以外の半導体でなる層または基板１１９０にチャネルが形成
されるトランジスタとすることもできる。
【0433】
【0434】
本発明の一態様における半導体装置では、記憶素子１２００に電源電圧が供給されない間
は、回路１２０１に記憶されていたデータを、回路１２０２に設けられた容量素子１２０
８によって保持することができる。
は、回路１２０１に記憶されていたデータを、回路１２０２に設けられた容量素子１２０
８によって保持することができる。
【0435】
また、酸化物半導体層にチャネルが形成されるトランジスタはオフ電流が極めて小さい。
例えば、酸化物半導体層にチャネルが形成されるトランジスタのオフ電流は、結晶性を有
するシリコンにチャネルが形成されるトランジスタのオフ電流に比べて著しく低い。その
ため、当該トランジスタをトランジスタ１２０９として用いることによって、記憶素子１
２００に電源電圧が供給されない間も容量素子１２０８に保持された信号は長期間にわた
り保たれる。こうして、記憶素子１２００は電源電圧の供給が停止した間も記憶内容（デ
ータ）を保持することが可能である。
例えば、酸化物半導体層にチャネルが形成されるトランジスタのオフ電流は、結晶性を有
するシリコンにチャネルが形成されるトランジスタのオフ電流に比べて著しく低い。その
ため、当該トランジスタをトランジスタ１２０９として用いることによって、記憶素子１
２００に電源電圧が供給されない間も容量素子１２０８に保持された信号は長期間にわた
り保たれる。こうして、記憶素子１２００は電源電圧の供給が停止した間も記憶内容（デ
ータ）を保持することが可能である。
【0436】
また、スイッチ１２０３およびスイッチ１２０４を設けることによって、プリチャージ動
作を行うことを特徴とする記憶素子であるため、電源電圧供給再開後に、回路１２０１が
元のデータを保持しなおすまでの時間を短くすることができる。
作を行うことを特徴とする記憶素子であるため、電源電圧供給再開後に、回路１２０１が
元のデータを保持しなおすまでの時間を短くすることができる。
【0437】
また、回路１２０２において、容量素子１２０８によって保持された信号はトランジスタ
１２１０のゲートに入力される。そのため、記憶素子１２００への電源電圧の供給が再開
された後、容量素子１２０８によって保持された信号を、トランジスタ１２１０の状態（
オン状態、またはオフ状態）に変換して、回路１２０２から読み出すことができる。それ
故、容量素子１２０８に保持された信号に対応する電位が多少変動していても、元の信号
を正確に読み出すことが可能である。
１２１０のゲートに入力される。そのため、記憶素子１２００への電源電圧の供給が再開
された後、容量素子１２０８によって保持された信号を、トランジスタ１２１０の状態（
オン状態、またはオフ状態）に変換して、回路１２０２から読み出すことができる。それ
故、容量素子１２０８に保持された信号に対応する電位が多少変動していても、元の信号
を正確に読み出すことが可能である。
【0438】
このような記憶素子１２００を、プロセッサが有するレジスタやキャッシュメモリなどの
記憶装置に用いることで、電源電圧の供給停止による記憶装置内のデータの消失を防ぐこ
とができる。また、電源電圧の供給を再開した後、短時間で電源供給停止前の状態に復帰
することができる。よって、プロセッサ全体、もしくはプロセッサを構成する一つ、また
は複数の論理回路において、短い時間でも電源停止を行うことができるため、消費電力を
抑えることができる。
記憶装置に用いることで、電源電圧の供給停止による記憶装置内のデータの消失を防ぐこ
とができる。また、電源電圧の供給を再開した後、短時間で電源供給停止前の状態に復帰
することができる。よって、プロセッサ全体、もしくはプロセッサを構成する一つ、また
は複数の論理回路において、短い時間でも電源停止を行うことができるため、消費電力を
抑えることができる。
【0439】
本実施の形態では、記憶素子１２００をＣＰＵに用いる例として説明したが、記憶素子１
２００は、ＤＳＰ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｓｉｇｎａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ）、カスタムＬ
ＳＩ、ＰＬＤ（Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｌｏｇｉｃ Ｄｅｖｉｃｅ）等のＬＳＩ、Ｒ
Ｆ（Ｒａｄｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）タグにも応用可能である。
２００は、ＤＳＰ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｓｉｇｎａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ）、カスタムＬ
ＳＩ、ＰＬＤ（Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｌｏｇｉｃ Ｄｅｖｉｃｅ）等のＬＳＩ、Ｒ
Ｆ（Ｒａｄｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）タグにも応用可能である。
【0440】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
。
。
【0441】
（実施の形態７）
本実施の形態では、本発明の一態様のトランジスタを利用した表示装置の構成例について
説明する。
本実施の形態では、本発明の一態様のトランジスタを利用した表示装置の構成例について
説明する。
【0442】
＜表示装置回路構成例＞
図４７（Ａ）は、本発明の一態様の表示装置の上面図であり、図４７（Ｂ）は、本発明の
一態様の表示装置の画素に液晶素子を適用する場合に用いることができる画素回路を説明
するための回路図である。また、図４７（Ｃ）は、本発明の一態様の表示装置の画素に有
機ＥＬ素子を適用する場合に用いることができる画素回路を説明するための回路図である
。
図４７（Ａ）は、本発明の一態様の表示装置の上面図であり、図４７（Ｂ）は、本発明の
一態様の表示装置の画素に液晶素子を適用する場合に用いることができる画素回路を説明
するための回路図である。また、図４７（Ｃ）は、本発明の一態様の表示装置の画素に有
機ＥＬ素子を適用する場合に用いることができる画素回路を説明するための回路図である
。
【0443】
画素部に配置するトランジスタは、実施の形態１乃至３に従って形成することができる。
また、当該トランジスタはｎチャネル型とすることが容易なので、駆動回路のうち、ｎチ
ャネル型トランジスタで構成することができる駆動回路の一部を画素部のトランジスタと
同一基板上に形成する。このように、画素部や駆動回路に上記実施の形態に示すトランジ
スタを用いることにより、信頼性の高い表示装置を提供することができる。
また、当該トランジスタはｎチャネル型とすることが容易なので、駆動回路のうち、ｎチ
ャネル型トランジスタで構成することができる駆動回路の一部を画素部のトランジスタと
同一基板上に形成する。このように、画素部や駆動回路に上記実施の形態に示すトランジ
スタを用いることにより、信頼性の高い表示装置を提供することができる。
【0444】
アクティブマトリクス型表示装置の上面図の一例を図４７（Ａ）に示す。表示装置の基板
７００上には、画素部７０１、第１の走査線駆動回路７０２、第２の走査線駆動回路７０
３、信号線駆動回路７０４を有する。画素部７０１には、複数の信号線が信号線駆動回路
７０４から延伸して配置され、複数の走査線が第１の走査線駆動回路７０２、および第２
の走査線駆動回路７０３から延伸して配置されている。なお走査線と信号線との交差領域
には、各々、表示素子を有する画素がマトリクス状に設けられている。また、表示装置の
基板７００はＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｐｒｉｎｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）等の接続部
を介して、タイミング制御回路（コントローラ、制御ＩＣともいう）に接続されている。
７００上には、画素部７０１、第１の走査線駆動回路７０２、第２の走査線駆動回路７０
３、信号線駆動回路７０４を有する。画素部７０１には、複数の信号線が信号線駆動回路
７０４から延伸して配置され、複数の走査線が第１の走査線駆動回路７０２、および第２
の走査線駆動回路７０３から延伸して配置されている。なお走査線と信号線との交差領域
には、各々、表示素子を有する画素がマトリクス状に設けられている。また、表示装置の
基板７００はＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｐｒｉｎｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）等の接続部
を介して、タイミング制御回路（コントローラ、制御ＩＣともいう）に接続されている。
【0445】
図４７（Ａ）では、第１の走査線駆動回路７０２、第２の走査線駆動回路７０３、信号線
駆動回路７０４は、画素部７０１と同じ基板７００上に形成される。そのため、外部に設
ける駆動回路等の部品の数が減るので、コストの低減を図ることができる。また、基板７
００の外部に駆動回路を設けた場合、配線を延伸させる必要が生じ、配線間の接続数が増
える。同じ基板７００上に駆動回路を設けた場合、その配線間の接続数を減らすことがで
き、信頼性の向上、または歩留まりの向上を図ることができる。なお、第１の走査線駆動
回路７０２、第２の走査線駆動回路７０３、信号線駆動回路７０４のいずれかが基板７０
０上に実装された構成や基板７００の外部に設けられた構成としてもよい。
駆動回路７０４は、画素部７０１と同じ基板７００上に形成される。そのため、外部に設
ける駆動回路等の部品の数が減るので、コストの低減を図ることができる。また、基板７
００の外部に駆動回路を設けた場合、配線を延伸させる必要が生じ、配線間の接続数が増
える。同じ基板７００上に駆動回路を設けた場合、その配線間の接続数を減らすことがで
き、信頼性の向上、または歩留まりの向上を図ることができる。なお、第１の走査線駆動
回路７０２、第２の走査線駆動回路７０３、信号線駆動回路７０４のいずれかが基板７０
０上に実装された構成や基板７００の外部に設けられた構成としてもよい。
【0446】
【0447】
この画素回路は、一つの画素に複数の画素電極層を有する構成に適用できる。それぞれの
画素電極層は異なるトランジスタに接続され、各トランジスタは異なるゲート信号で駆動
できるように構成されている。これにより、マルチドメイン設計された画素の個々の画素
電極層に印加する信号を、独立して制御できる。
画素電極層は異なるトランジスタに接続され、各トランジスタは異なるゲート信号で駆動
できるように構成されている。これにより、マルチドメイン設計された画素の個々の画素
電極層に印加する信号を、独立して制御できる。
【0448】
トランジスタ７１６の走査線７１２と、トランジスタ７１７の走査線７１３には、異なる
ゲート信号を与えることができるように分離されている。一方、信号線７１４は、トラン
ジスタ７１６とトランジスタ７１７で共通に用いられている。トランジスタ７１６とトラ
ンジスタ７１７は実施の形態１乃至３で説明するトランジスタを適宜用いることができる
。これにより、信頼性の高い液晶表示装置を提供することができる。
ゲート信号を与えることができるように分離されている。一方、信号線７１４は、トラン
ジスタ７１６とトランジスタ７１７で共通に用いられている。トランジスタ７１６とトラ
ンジスタ７１７は実施の形態１乃至３で説明するトランジスタを適宜用いることができる
。これにより、信頼性の高い液晶表示装置を提供することができる。
【0449】
また、トランジスタ７１６には、第１の画素電極層が電気的に接続され、トランジスタ７
１７には、第２の画素電極層が電気的に接続される。第１の画素電極層と第２の画素電極
層とは、それぞれ分離されている。なお、第１の画素電極層及び第２の画素電極層の形状
としては、特に限定は無い。例えば、第１の画素電極層は、Ｖ字状とすればよい。
１７には、第２の画素電極層が電気的に接続される。第１の画素電極層と第２の画素電極
層とは、それぞれ分離されている。なお、第１の画素電極層及び第２の画素電極層の形状
としては、特に限定は無い。例えば、第１の画素電極層は、Ｖ字状とすればよい。
【0450】
トランジスタ７１６のゲート電極は走査線７１２と接続され、トランジスタ７１７のゲー
ト電極は走査線７１３と接続されている。走査線７１２と走査線７１３に異なるゲート信
号を与えてトランジスタ７１６とトランジスタ７１７の動作タイミングを異ならせ、液晶
の配向を制御できる。
ト電極は走査線７１３と接続されている。走査線７１２と走査線７１３に異なるゲート信
号を与えてトランジスタ７１６とトランジスタ７１７の動作タイミングを異ならせ、液晶
の配向を制御できる。
【0451】
また、容量配線７１０と、誘電体として機能するゲート絶縁層と、第１の画素電極層また
は第２の画素電極層と電気的に接続する容量電極とで保持容量を形成してもよい。
は第２の画素電極層と電気的に接続する容量電極とで保持容量を形成してもよい。
【0452】
マルチドメイン設計では、一画素に第１の液晶素子７１８と第２の液晶素子７１９を備え
る。第１の液晶素子７１８は第１の画素電極層と対向電極層とその間の液晶層とで構成さ
れ、第２の液晶素子７１９は第２の画素電極層と対向電極層とその間の液晶層とで構成さ
れる。
る。第１の液晶素子７１８は第１の画素電極層と対向電極層とその間の液晶層とで構成さ
れ、第２の液晶素子７１９は第２の画素電極層と対向電極層とその間の液晶層とで構成さ
れる。
【0453】
【0454】
図４８（Ａ）、および図４８（Ｂ）は液晶表示装置の上面図および断面図の一例である。
なお、図４８（Ａ）では表示装置２０、表示領域２１、周辺回路２２、およびＦＰＣ（フ
レキシブルプリント基板）４２を有する代表的な構成を図示している。
なお、図４８（Ａ）では表示装置２０、表示領域２１、周辺回路２２、およびＦＰＣ（フ
レキシブルプリント基板）４２を有する代表的な構成を図示している。
【0455】
【0456】
表示装置２０は、トランジスタ１１の他、導電層１９０、導電層１９５、絶縁層４２０、
液晶層４９０、液晶素子８０、容量素子６０、絶縁層４３０、スペーサ４４０、着色層４
６０、接着層４７０、導電層４８０、遮光層４１８、基板４００、接着層４７３、接着層
４７４、接着層４７５、接着層４７６、偏光板１０３、偏光板４０３、保護基板１０５、
保護基板４０２、異方性導電層５１０を有する。
液晶層４９０、液晶素子８０、容量素子６０、絶縁層４３０、スペーサ４４０、着色層４
６０、接着層４７０、導電層４８０、遮光層４１８、基板４００、接着層４７３、接着層
４７４、接着層４７５、接着層４７６、偏光板１０３、偏光板４０３、保護基板１０５、
保護基板４０２、異方性導電層５１０を有する。
【0457】
【0458】
有機ＥＬ素子は、発光素子に電圧を印加することにより、一対の電極の一方から電子が、
他方から正孔がそれぞれ発光性の有機化合物を含む層に注入され、電流が流れる。そして
、電子および正孔が再結合することにより、発光性の有機化合物が励起状態を形成し、そ
の励起状態が基底状態に戻る際に発光する。このようなメカニズムから、このような発光
素子は、電流励起型の発光素子と呼ばれる。
他方から正孔がそれぞれ発光性の有機化合物を含む層に注入され、電流が流れる。そして
、電子および正孔が再結合することにより、発光性の有機化合物が励起状態を形成し、そ
の励起状態が基底状態に戻る際に発光する。このようなメカニズムから、このような発光
素子は、電流励起型の発光素子と呼ばれる。
【0459】
【0460】
適用可能な画素回路の構成およびデジタル時間階調駆動を適用した場合の画素の動作につ
いて説明する。
いて説明する。
【0461】
画素７２０は、スイッチング用トランジスタ７２１、駆動用トランジスタ７２２、発光素
子７２４および容量素子７２３を有している。スイッチング用トランジスタ７２１は、ゲ
ート電極層が走査線７２６に接続され、第１電極（ソース電極層およびドレイン電極層の
一方）が信号線７２５に接続され、第２電極（ソース電極層およびドレイン電極層の他方
）が駆動用トランジスタ７２２のゲート電極層に接続されている。駆動用トランジスタ７
２２は、ゲート電極層が容量素子７２３を介して電源線７２７に接続され、第１電極が電
源線７２７に接続され、第２電極が発光素子７２４の第１電極（画素電極）に接続されて
いる。発光素子７２４の第２電極は共通電極７２８に相当する。共通電極７２８は、同一
基板上に形成される共通電位線と電気的に接続される。
子７２４および容量素子７２３を有している。スイッチング用トランジスタ７２１は、ゲ
ート電極層が走査線７２６に接続され、第１電極（ソース電極層およびドレイン電極層の
一方）が信号線７２５に接続され、第２電極（ソース電極層およびドレイン電極層の他方
）が駆動用トランジスタ７２２のゲート電極層に接続されている。駆動用トランジスタ７
２２は、ゲート電極層が容量素子７２３を介して電源線７２７に接続され、第１電極が電
源線７２７に接続され、第２電極が発光素子７２４の第１電極（画素電極）に接続されて
いる。発光素子７２４の第２電極は共通電極７２８に相当する。共通電極７２８は、同一
基板上に形成される共通電位線と電気的に接続される。
【0462】
スイッチング用トランジスタ７２１および駆動用トランジスタ７２２には実施の形態１乃
至３で説明するトランジスタを適宜用いることができる。これにより、信頼性の高い有機
ＥＬ表示装置を提供することができる。
至３で説明するトランジスタを適宜用いることができる。これにより、信頼性の高い有機
ＥＬ表示装置を提供することができる。
【0463】
発光素子７２４の第２電極（共通電極７２８）の電位は低電源電位に設定する。なお、低
電源電位とは、電源線７２７に供給される高電源電位より低い電位であり、例えばＧＮＤ
、０Ｖなどを低電源電位として設定することができる。発光素子７２４の順方向のしきい
値電圧以上となるように高電源電位と低電源電位を設定し、その電位差を発光素子７２４
に印加することにより、発光素子７２４に電流を流して発光させる。なお、発光素子７２
４の順方向電圧とは、所望の輝度とする場合の電圧を指しており、少なくとも順方向しき
い値電圧を含む。
電源電位とは、電源線７２７に供給される高電源電位より低い電位であり、例えばＧＮＤ
、０Ｖなどを低電源電位として設定することができる。発光素子７２４の順方向のしきい
値電圧以上となるように高電源電位と低電源電位を設定し、その電位差を発光素子７２４
に印加することにより、発光素子７２４に電流を流して発光させる。なお、発光素子７２
４の順方向電圧とは、所望の輝度とする場合の電圧を指しており、少なくとも順方向しき
い値電圧を含む。
【0464】
なお、容量素子７２３は駆動用トランジスタ７２２のゲート容量を代用することにより省
略できる。
略できる。
【0465】
次に、駆動用トランジスタ７２２に入力する信号について説明する。電圧入力電圧駆動方
式の場合、駆動用トランジスタ７２２が十分にオンするか、オフするかの二つの状態とな
るようなビデオ信号を、駆動用トランジスタ７２２に入力する。なお、駆動用トランジス
タ７２２を線形領域で動作させるために、電源線７２７の電圧よりも高い電圧を駆動用ト
ランジスタ７２２のゲート電極層にかける。また、信号線７２５には、電源線電圧に駆動
用トランジスタ７２２の閾値電圧Ｖｔｈを加えた値以上の電圧をかける。
式の場合、駆動用トランジスタ７２２が十分にオンするか、オフするかの二つの状態とな
るようなビデオ信号を、駆動用トランジスタ７２２に入力する。なお、駆動用トランジス
タ７２２を線形領域で動作させるために、電源線７２７の電圧よりも高い電圧を駆動用ト
ランジスタ７２２のゲート電極層にかける。また、信号線７２５には、電源線電圧に駆動
用トランジスタ７２２の閾値電圧Ｖｔｈを加えた値以上の電圧をかける。
【0466】
アナログ階調駆動を行う場合、駆動用トランジスタ７２２のゲート電極層に発光素子７２
４の順方向電圧に駆動用トランジスタ７２２のしきい値電圧Ｖｔｈを加えた値以上の電圧
をかける。なお、駆動用トランジスタ７２２が飽和領域で動作するようにビデオ信号を入
力し、発光素子７２４に電流を流す。また、駆動用トランジスタ７２２を飽和領域で動作
させるために、電源線７２７の電位を、駆動用トランジスタ７２２のゲート電位より高く
する。ビデオ信号をアナログとすることで、発光素子７２４にビデオ信号に応じた電流を
流し、アナログ階調駆動を行うことができる。
４の順方向電圧に駆動用トランジスタ７２２のしきい値電圧Ｖｔｈを加えた値以上の電圧
をかける。なお、駆動用トランジスタ７２２が飽和領域で動作するようにビデオ信号を入
力し、発光素子７２４に電流を流す。また、駆動用トランジスタ７２２を飽和領域で動作
させるために、電源線７２７の電位を、駆動用トランジスタ７２２のゲート電位より高く
する。ビデオ信号をアナログとすることで、発光素子７２４にビデオ信号に応じた電流を
流し、アナログ階調駆動を行うことができる。
【0467】
【0468】
図４７で例示した回路に上記実施の形態で例示したトランジスタを適用する場合、低電位
側にソース電極（第１の電極）、高電位側にドレイン電極（第２の電極）がそれぞれ電気
的に接続される構成とする。さらに、制御回路等により第１のゲート電極の電位を制御し
、第２のゲート電極には図示しない配線によりソース電極に与える電位よりも低い電位を
印加するなど、上記で例示した電位を入力可能な構成とすればよい。
側にソース電極（第１の電極）、高電位側にドレイン電極（第２の電極）がそれぞれ電気
的に接続される構成とする。さらに、制御回路等により第１のゲート電極の電位を制御し
、第２のゲート電極には図示しない配線によりソース電極に与える電位よりも低い電位を
印加するなど、上記で例示した電位を入力可能な構成とすればよい。
【0469】
図４９（Ａ）、および図４９（Ｂ）は発光装置の上面図および断面図の一例である。なお
、図４９（Ａ）では発光装置２４、表示領域２１、周辺回路２２、およびＦＰＣ（フレキ
シブルプリント基板）４２を有する代表的な構成を図示している。
、図４９（Ａ）では発光装置２４、表示領域２１、周辺回路２２、およびＦＰＣ（フレキ
シブルプリント基板）４２を有する代表的な構成を図示している。
【0470】
【0471】
発光装置２４は、トランジスタ１１の他、導電層１９０、導電層１９５、導電層４１０、
光学調整層５３０、ＥＬ層４５０、発光素子７０、容量素子６０、スペーサ４４０、着色
層４６０、接着層４７０、導電層４８０、遮光層４１８、基板４００、異方性導電層５１
０を有する。
光学調整層５３０、ＥＬ層４５０、発光素子７０、容量素子６０、スペーサ４４０、着色
層４６０、接着層４７０、導電層４８０、遮光層４１８、基板４００、異方性導電層５１
０を有する。
【0472】
例えば、本明細書等において、表示素子、表示素子を有する装置である表示装置、発光素
子、および発光素子を有する装置である発光装置は、様々な形態を用いること、または様
々な素子を有することができる。表示素子、表示装置、発光素子または発光装置は、例え
ば、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子（有機物および無機物を含むＥＬ素子、有機
ＥＬ素子、無機ＥＬ素子）、ＬＥＤ（白色ＬＥＤ、赤色ＬＥＤ、緑色ＬＥＤ、青色ＬＥＤ
など）、トランジスタ（電流に応じて発光するトランジスタ）、電子放出素子、液晶素子
、電子インク、電気泳動素子、グレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）、プラズマディス
プレイ（ＰＤＰ）、ＭＥＭＳ（マイクロ・エレクトロ・メカニカル・システム）、デジタ
ルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）、ＤＭＳ（デジタル・マイクロ・シャッター）、Ｍ
ＩＲＡＳＯＬ（登録商標）、ＩＭＯＤ（インターフェアレンス・モジュレーション）素子
、エレクトロウェッティング素子、圧電セラミックディスプレイ、カーボンナノチューブ
を用いた表示素子などの少なくとも一つを有している。これらの他にも、電気的または磁
気的作用により、コントラスト、輝度、反射率、透過率などが変化する表示媒体を有して
いても良い。ＥＬ素子を用いた表示装置の一例としては、ＥＬディスプレイなどがある。
電子放出素子を用いた表示装置の一例としては、フィールドエミッションディスプレイ（
ＦＥＤ）またはＳＥＤ方式平面型ディスプレイ（ＳＥＤ：Ｓｕｒｆａｃｅ－ｃｏｎｄｕｃ
ｔｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ－ｅｍｉｔｔｅｒ Ｄｉｓｐｌａｙ）などがある。液晶素子
を用いた表示装置の一例としては、液晶ディスプレイ（透過型液晶ディスプレイ、半透過
型液晶ディスプレイ、反射型液晶ディスプレイ、直視型液晶ディスプレイ、投射型液晶デ
ィスプレイ）などがある。電子インクまたは電気泳動素子を用いた表示装置の一例として
は、電子ペーパーなどがある。
子、および発光素子を有する装置である発光装置は、様々な形態を用いること、または様
々な素子を有することができる。表示素子、表示装置、発光素子または発光装置は、例え
ば、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子（有機物および無機物を含むＥＬ素子、有機
ＥＬ素子、無機ＥＬ素子）、ＬＥＤ（白色ＬＥＤ、赤色ＬＥＤ、緑色ＬＥＤ、青色ＬＥＤ
など）、トランジスタ（電流に応じて発光するトランジスタ）、電子放出素子、液晶素子
、電子インク、電気泳動素子、グレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）、プラズマディス
プレイ（ＰＤＰ）、ＭＥＭＳ（マイクロ・エレクトロ・メカニカル・システム）、デジタ
ルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）、ＤＭＳ（デジタル・マイクロ・シャッター）、Ｍ
ＩＲＡＳＯＬ（登録商標）、ＩＭＯＤ（インターフェアレンス・モジュレーション）素子
、エレクトロウェッティング素子、圧電セラミックディスプレイ、カーボンナノチューブ
を用いた表示素子などの少なくとも一つを有している。これらの他にも、電気的または磁
気的作用により、コントラスト、輝度、反射率、透過率などが変化する表示媒体を有して
いても良い。ＥＬ素子を用いた表示装置の一例としては、ＥＬディスプレイなどがある。
電子放出素子を用いた表示装置の一例としては、フィールドエミッションディスプレイ（
ＦＥＤ）またはＳＥＤ方式平面型ディスプレイ（ＳＥＤ：Ｓｕｒｆａｃｅ－ｃｏｎｄｕｃ
ｔｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ－ｅｍｉｔｔｅｒ Ｄｉｓｐｌａｙ）などがある。液晶素子
を用いた表示装置の一例としては、液晶ディスプレイ（透過型液晶ディスプレイ、半透過
型液晶ディスプレイ、反射型液晶ディスプレイ、直視型液晶ディスプレイ、投射型液晶デ
ィスプレイ）などがある。電子インクまたは電気泳動素子を用いた表示装置の一例として
は、電子ペーパーなどがある。
【0473】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
。
。
【0474】
（実施の形態８）
本実施の形態では、本発明の一態様の半導体装置を適用した表示モジュールについて、図
５０を用いて説明を行う。
本実施の形態では、本発明の一態様の半導体装置を適用した表示モジュールについて、図
５０を用いて説明を行う。
【0475】
＜表示モジュール＞
図５０に示す表示モジュール６０００は、上部カバー６００１と下部カバー６００２との
間に、ＦＰＣ６００３に接続されたタッチパネル６００４、ＦＰＣ６００５に接続された
表示パネル６００６、バックライトユニット６００７、フレーム６００９、プリント基板
６０１０、バッテリー６０１１を有する。なお、バックライトユニット６００７、バッテ
リー６０１１、タッチパネル６００４などは、設けられない場合もある。
図５０に示す表示モジュール６０００は、上部カバー６００１と下部カバー６００２との
間に、ＦＰＣ６００３に接続されたタッチパネル６００４、ＦＰＣ６００５に接続された
表示パネル６００６、バックライトユニット６００７、フレーム６００９、プリント基板
６０１０、バッテリー６０１１を有する。なお、バックライトユニット６００７、バッテ
リー６０１１、タッチパネル６００４などは、設けられない場合もある。
【0476】
本発明の一態様の半導体装置は、例えば、表示パネル６００６であったり、プリント基板
に実装された集積回路に用いることができる。
に実装された集積回路に用いることができる。
【0477】
上部カバー６００１および下部カバー６００２は、タッチパネル６００４および表示パネ
ル６００６のサイズに合わせて、形状や寸法を適宜変更することができる。
ル６００６のサイズに合わせて、形状や寸法を適宜変更することができる。
【0478】
タッチパネル６００４は、抵抗膜方式または静電容量方式のタッチパネルを表示パネル６
００６に重畳して用いることができる。また、表示パネル６００６の対向基板（封止基板
）に、タッチパネル機能を持たせるようにすることも可能である。または、表示パネル６
００６の各画素内に光センサを設け、光学式のタッチパネル機能を付加することも可能で
ある。または、表示パネル６００６の各画素内にタッチセンサ用電極を設け、静電容量方
式のタッチパネル機能を付加することも可能である。
００６に重畳して用いることができる。また、表示パネル６００６の対向基板（封止基板
）に、タッチパネル機能を持たせるようにすることも可能である。または、表示パネル６
００６の各画素内に光センサを設け、光学式のタッチパネル機能を付加することも可能で
ある。または、表示パネル６００６の各画素内にタッチセンサ用電極を設け、静電容量方
式のタッチパネル機能を付加することも可能である。
【0479】
バックライトユニット６００７は、光源６００８を有する。光源６００８をバックライト
ユニット６００７の端部に設け、光拡散板を用いる構成としてもよい。
ユニット６００７の端部に設け、光拡散板を用いる構成としてもよい。
【0480】
フレーム６００９は、表示パネル６００６の保護機能の他、プリント基板６０１０から発
生する電磁波を遮断するための電磁シールドとしての機能を有する。またフレーム６００
９は、放熱板としての機能を有していてもよい。
生する電磁波を遮断するための電磁シールドとしての機能を有する。またフレーム６００
９は、放熱板としての機能を有していてもよい。
【0481】
プリント基板６０１０は、電源回路、ビデオ信号およびクロック信号を出力するための信
号処理回路を有する。電源回路に電力を供給する電源としては、外部の商用電源であって
も良いし、別途設けたバッテリー６０１１であってもよい。なお、商用電源を用いる場合
には、バッテリー６０１１を省略することができる。
号処理回路を有する。電源回路に電力を供給する電源としては、外部の商用電源であって
も良いし、別途設けたバッテリー６０１１であってもよい。なお、商用電源を用いる場合
には、バッテリー６０１１を省略することができる。
【0482】
また、表示モジュール６０００には、偏光板、位相差板、プリズムシートなどの部材を追
加して設けてもよい。
加して設けてもよい。
【0483】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
。
。
【0484】
（実施の形態９）
本実施の形態では、本発明の一態様に係る半導体装置の使用例について説明する。
本実施の形態では、本発明の一態様に係る半導体装置の使用例について説明する。
【0485】
＜リードフレーム型のインターポーザを用いたパッケージ＞
図５１（Ａ）に、リードフレーム型のインターポーザを用いたパッケージの断面構造を表
す斜視図を示す。図５１（Ａ）に示すパッケージは、本発明の一態様に係る半導体装置に
相当するチップ２７５１が、ワイヤボンディング法により、インターポーザ２７５０上の
端子２７５２と接続されている。端子２７５２は、インターポーザ２７５０のチップ２７
５１がマウントされている面上に配置されている。そしてチップ２７５１はモールド樹脂
２７５３によって封止されていてもよいが、各端子２７５２の一部が露出した状態で封止
されるようにする。
図５１（Ａ）に、リードフレーム型のインターポーザを用いたパッケージの断面構造を表
す斜視図を示す。図５１（Ａ）に示すパッケージは、本発明の一態様に係る半導体装置に
相当するチップ２７５１が、ワイヤボンディング法により、インターポーザ２７５０上の
端子２７５２と接続されている。端子２７５２は、インターポーザ２７５０のチップ２７
５１がマウントされている面上に配置されている。そしてチップ２７５１はモールド樹脂
２７５３によって封止されていてもよいが、各端子２７５２の一部が露出した状態で封止
されるようにする。
【0486】
パッケージが回路基板に実装されている電子機器（携帯電話）のモジュールの構成を、図
５１（Ｂ）に示す。図５１（Ｂ）に示す携帯電話のモジュールは、プリント配線基板２８
０１に、パッケージ２８０２と、バッテリー２８０４とが実装されている。また、表示素
子が設けられたパネル２８００に、プリント配線基板２８０１がＦＰＣ２８０３によって
実装されている。
５１（Ｂ）に示す。図５１（Ｂ）に示す携帯電話のモジュールは、プリント配線基板２８
０１に、パッケージ２８０２と、バッテリー２８０４とが実装されている。また、表示素
子が設けられたパネル２８００に、プリント配線基板２８０１がＦＰＣ２８０３によって
実装されている。
【0487】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
。
。
【0488】
（実施の形態１０）
本実施の形態では、本発明の一態様の電子機器及び照明装置について、図面を用いて説明
する。
本実施の形態では、本発明の一態様の電子機器及び照明装置について、図面を用いて説明
する。
【0489】
＜電子機器＞
本発明の一態様の半導体装置を用いて、電子機器や照明装置を作製できる。また、本発明
の一態様の半導体装置を用いて、信頼性の高い電子機器や照明装置を作製できる。また本
発明の一態様の半導体装置を用いて、タッチセンサの検出感度が向上した電子機器や照明
装置を作製できる。
本発明の一態様の半導体装置を用いて、電子機器や照明装置を作製できる。また、本発明
の一態様の半導体装置を用いて、信頼性の高い電子機器や照明装置を作製できる。また本
発明の一態様の半導体装置を用いて、タッチセンサの検出感度が向上した電子機器や照明
装置を作製できる。
【0490】
電子機器としては、例えば、テレビジョン装置（テレビ、又はテレビジョン受信機ともい
う）、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ等のカメラ
、デジタルフォトフレーム、携帯電話機（携帯電話、携帯電話装置ともいう）、携帯型ゲ
ーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの大型ゲーム機などが挙げられる
。
う）、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ等のカメラ
、デジタルフォトフレーム、携帯電話機（携帯電話、携帯電話装置ともいう）、携帯型ゲ
ーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの大型ゲーム機などが挙げられる
。
【0491】
また、本発明の一態様の電子機器又は照明装置は可撓性を有する場合、家屋やビルの内壁
もしくは外壁、又は、自動車の内装もしくは外装の曲面に沿って組み込むことも可能であ
る。
もしくは外壁、又は、自動車の内装もしくは外装の曲面に沿って組み込むことも可能であ
る。
【0492】
また、本発明の一態様の電子機器は、二次電池を有していてもよく、非接触電力伝送を用
いて、二次電池を充電することができると好ましい。
いて、二次電池を充電することができると好ましい。
【0493】
二次電池としては、例えば、ゲル状電解質を用いるリチウムポリマー電池（リチウムイオ
ンポリマー電池）等のリチウムイオン二次電池、ニッケル水素電池、ニカド電池、有機ラ
ジカル電池、鉛蓄電池、空気二次電池、ニッケル亜鉛電池、銀亜鉛電池などが挙げられる
。
ンポリマー電池）等のリチウムイオン二次電池、ニッケル水素電池、ニカド電池、有機ラ
ジカル電池、鉛蓄電池、空気二次電池、ニッケル亜鉛電池、銀亜鉛電池などが挙げられる
。
【0494】
本発明の一態様の電子機器は、アンテナを有していてもよい。アンテナで信号を受信する
ことで、表示部で映像や情報等の表示を行うことができる。また、電子機器が二次電池を
有する場合、アンテナを、非接触電力伝送に用いてもよい。
ことで、表示部で映像や情報等の表示を行うことができる。また、電子機器が二次電池を
有する場合、アンテナを、非接触電力伝送に用いてもよい。
【0495】
図５２（Ａ）は携帯型ゲーム機であり、筐体７１０１、筐体７１０２、表示部７１０３、
表示部７１０４、マイク７１０５、スピーカー７１０６、操作キー７１０７、スタイラス
７１０８等を有する。本発明の一態様に係る半導体装置は、筐体７１０１に内蔵されてい
る集積回路、ＣＰＵなどに用いることができる。表示部７１０３または表示部７１０４に
本発明の一態様に係る表示装置を用いることで、ユーザーの使用感に優れ、品質の低下が
起こりにくい携帯型ゲーム機を提供することができる。なお、図５２（Ａ）に示した携帯
型ゲーム機は、２つの表示部７１０３と表示部７１０４とを有しているが、携帯型ゲーム
機が有する表示部の数は、これに限定されない。
表示部７１０４、マイク７１０５、スピーカー７１０６、操作キー７１０７、スタイラス
７１０８等を有する。本発明の一態様に係る半導体装置は、筐体７１０１に内蔵されてい
る集積回路、ＣＰＵなどに用いることができる。表示部７１０３または表示部７１０４に
本発明の一態様に係る表示装置を用いることで、ユーザーの使用感に優れ、品質の低下が
起こりにくい携帯型ゲーム機を提供することができる。なお、図５２（Ａ）に示した携帯
型ゲーム機は、２つの表示部７１０３と表示部７１０４とを有しているが、携帯型ゲーム
機が有する表示部の数は、これに限定されない。
【0496】
図５２（Ｂ）は、スマートウオッチであり、筐体７３０２、表示部７３０４、操作ボタン
７３１１、７３１２、接続端子７３１３、バンド７３２１、留め金７３２２、等を有する
。本発明の一態様に係る半導体装置は筐体７３０２に内蔵されているメモリ、ＣＰＵなど
に用いることができる。
７３１１、７３１２、接続端子７３１３、バンド７３２１、留め金７３２２、等を有する
。本発明の一態様に係る半導体装置は筐体７３０２に内蔵されているメモリ、ＣＰＵなど
に用いることができる。
【0497】
図５２（Ｃ）は、携帯情報端末であり、筐体７５０１に組み込まれた表示部７５０２の他
、操作ボタン７５０３、外部接続ポート７５０４、スピーカー７５０５、マイク７５０６
などを備えている。本発明の一態様に係る半導体装置は、筐体７５０１に内蔵されている
モバイル用メモリ、ＣＰＵなどに用いることができる。なお、表示部７５０２は、非常に
高精細とすることができるため、中小型でありながらフルハイビジョン、４ｋ、または８
ｋなど、様々な表示を行うことができ、非常に鮮明な画像を得ることができる。
、操作ボタン７５０３、外部接続ポート７５０４、スピーカー７５０５、マイク７５０６
などを備えている。本発明の一態様に係る半導体装置は、筐体７５０１に内蔵されている
モバイル用メモリ、ＣＰＵなどに用いることができる。なお、表示部７５０２は、非常に
高精細とすることができるため、中小型でありながらフルハイビジョン、４ｋ、または８
ｋなど、様々な表示を行うことができ、非常に鮮明な画像を得ることができる。
【0498】
図５２（Ｄ）はビデオカメラであり、第１筐体７７０１、第２筐体７７０２、表示部７７
０３、操作キー７７０４、レンズ７７０５、接続部７７０６等を有する。操作キー７７０
４およびレンズ７７０５は第１筐体７７０１に設けられており、表示部７７０３は第２筐
体７７０２に設けられている。そして、第１筐体７７０１と第２筐体７７０２とは、接続
部７７０６により接続されており、第１筐体７７０１と第２筐体７７０２の間の角度は、
接続部７７０６により変更が可能である。表示部７７０３における映像を、接続部７７０
６における第１筐体７７０１と第２筐体７７０２との間の角度に従って切り替える構成と
しても良い。レンズ７７０５の焦点となる位置には本発明の一態様の撮像装置を備えるこ
とができる。本発明の一態様に係る半導体装置は、第１筐体７７０１に内蔵されている集
積回路、ＣＰＵなどに用いることができる。
０３、操作キー７７０４、レンズ７７０５、接続部７７０６等を有する。操作キー７７０
４およびレンズ７７０５は第１筐体７７０１に設けられており、表示部７７０３は第２筐
体７７０２に設けられている。そして、第１筐体７７０１と第２筐体７７０２とは、接続
部７７０６により接続されており、第１筐体７７０１と第２筐体７７０２の間の角度は、
接続部７７０６により変更が可能である。表示部７７０３における映像を、接続部７７０
６における第１筐体７７０１と第２筐体７７０２との間の角度に従って切り替える構成と
しても良い。レンズ７７０５の焦点となる位置には本発明の一態様の撮像装置を備えるこ
とができる。本発明の一態様に係る半導体装置は、第１筐体７７０１に内蔵されている集
積回路、ＣＰＵなどに用いることができる。
【0499】
【0500】
図５３（Ａ）はノート型パーソナルコンピュータであり、筐体８１２１、表示部８１２２
、キーボード８１２３、ポインティングデバイス８１２４等を有する。本発明の一態様に
係る半導体装置は、筐体８１２１内に内蔵されているＣＰＵや、メモリに適用することが
できる。なお、表示部８１２２は、非常に高精細とすることができるため、中小型であり
ながら８ｋの表示を行うことができ、非常に鮮明な画像を得ることができる。
、キーボード８１２３、ポインティングデバイス８１２４等を有する。本発明の一態様に
係る半導体装置は、筐体８１２１内に内蔵されているＣＰＵや、メモリに適用することが
できる。なお、表示部８１２２は、非常に高精細とすることができるため、中小型であり
ながら８ｋの表示を行うことができ、非常に鮮明な画像を得ることができる。
【0501】
図５３（Ｂ）に自動車９７００の外観を示す。図５３（Ｃ）に自動車９７００の運転席を
示す。自動車９７００は、車体９７０１、車輪９７０２、ダッシュボード９７０３、ライ
ト９７０４等を有する。本発明の一態様の半導体装置は、自動車９７００の表示部、およ
び制御用の集積回路に用いることができる。例えば、図５３（Ｃ）に示す表示部９７１０
乃至表示部９７１５に本発明の一態様の表示装置、または半導体装置を設けることができ
る。
示す。自動車９７００は、車体９７０１、車輪９７０２、ダッシュボード９７０３、ライ
ト９７０４等を有する。本発明の一態様の半導体装置は、自動車９７００の表示部、およ
び制御用の集積回路に用いることができる。例えば、図５３（Ｃ）に示す表示部９７１０
乃至表示部９７１５に本発明の一態様の表示装置、または半導体装置を設けることができ
る。
【0502】
表示部９７１０と表示部９７１１は、自動車のフロントガラスに設けられた表示装置、ま
たは入出力装置である。本発明の一態様の表示装置、または入出力装置は、表示装置、ま
たは入出力装置が有する電極を、透光性を有する導電性材料で作製することによって、反
対側が透けて見える、いわゆるシースルー状態の表示装置、または入出力装置とすること
ができる。シースルー状態の表示装置、または入出力装置であれば、自動車９７００の運
転時にも視界の妨げになることがない。よって、本発明の一態様の表示装置、または入出
力装置を自動車９７００のフロントガラスに設置することができる。なお、表示装置、ま
たは入出力装置に、表示装置、または入出力装置を駆動するためのトランジスタなどを設
ける場合には、有機半導体材料を用いた有機トランジスタや、酸化物半導体を用いたトラ
ンジスタなど、透光性を有するトランジスタを用いるとよい。
たは入出力装置である。本発明の一態様の表示装置、または入出力装置は、表示装置、ま
たは入出力装置が有する電極を、透光性を有する導電性材料で作製することによって、反
対側が透けて見える、いわゆるシースルー状態の表示装置、または入出力装置とすること
ができる。シースルー状態の表示装置、または入出力装置であれば、自動車９７００の運
転時にも視界の妨げになることがない。よって、本発明の一態様の表示装置、または入出
力装置を自動車９７００のフロントガラスに設置することができる。なお、表示装置、ま
たは入出力装置に、表示装置、または入出力装置を駆動するためのトランジスタなどを設
ける場合には、有機半導体材料を用いた有機トランジスタや、酸化物半導体を用いたトラ
ンジスタなど、透光性を有するトランジスタを用いるとよい。
【0503】
表示部９７１２はピラー部分に設けられた表示装置である。例えば、車体に設けられた撮
像手段からの映像を表示部９７１２に映し出すことによって、ピラーで遮られた視界を補
完することができる。表示部９７１３はダッシュボード部分に設けられた表示装置である
。例えば、車体に設けられた撮像手段からの映像を表示部９７１３に映し出すことによっ
て、ダッシュボードで遮られた視界を補完することができる。すなわち、車体の外側に設
けられた撮像手段からの映像を映し出すことによって、死角を補い、安全性を高めること
ができる。また、見えない部分を補完する映像を映すことによって、より自然に違和感な
く安全確認を行うことができる。
像手段からの映像を表示部９７１２に映し出すことによって、ピラーで遮られた視界を補
完することができる。表示部９７１３はダッシュボード部分に設けられた表示装置である
。例えば、車体に設けられた撮像手段からの映像を表示部９７１３に映し出すことによっ
て、ダッシュボードで遮られた視界を補完することができる。すなわち、車体の外側に設
けられた撮像手段からの映像を映し出すことによって、死角を補い、安全性を高めること
ができる。また、見えない部分を補完する映像を映すことによって、より自然に違和感な
く安全確認を行うことができる。
【0504】
また、図５３（Ｄ）は、運転席と助手席にベンチシートを採用した自動車の室内を示して
いる。表示部９７２１は、ドア部に設けられた表示装置、または入出力装置である。例え
ば、車体に設けられた撮像手段からの映像を表示部９７２１に映し出すことによって、ド
アで遮られた視界を補完することができる。また、表示部９７２２は、ハンドルに設けら
れた表示装置である。表示部９７２３は、ベンチシートの座面の中央部に設けられた表示
装置である。なお、表示装置を座面や背もたれ部分などに設置して、当該表示装置を、当
該表示装置の発熱を熱源としたシートヒーターとして利用することもできる。
いる。表示部９７２１は、ドア部に設けられた表示装置、または入出力装置である。例え
ば、車体に設けられた撮像手段からの映像を表示部９７２１に映し出すことによって、ド
アで遮られた視界を補完することができる。また、表示部９７２２は、ハンドルに設けら
れた表示装置である。表示部９７２３は、ベンチシートの座面の中央部に設けられた表示
装置である。なお、表示装置を座面や背もたれ部分などに設置して、当該表示装置を、当
該表示装置の発熱を熱源としたシートヒーターとして利用することもできる。
【0505】
表示部９７１４、表示部９７１５、または表示部９７２２はナビゲーション情報、スピー
ドメーターやタコメーター、走行距離、給油量、ギア状態、エアコンの設定など、その他
様々な情報を提供することができる。また、表示部に表示される表示項目やレイアウトな
どは、使用者の好みに合わせて適宜変更することができる。なお、上記情報は、表示部９
７１０乃至表示部９７１３、表示部９７２１、表示部９７２３にも表示することができる
。また、表示部９７１０乃至表示部９７１５、表示部９７２１乃至表示部９７２３は照明
装置として用いることも可能である。また、表示部９７１０乃至表示部９７１５、表示部
９７２１乃至表示部９７２３は加熱装置として用いることも可能である。
ドメーターやタコメーター、走行距離、給油量、ギア状態、エアコンの設定など、その他
様々な情報を提供することができる。また、表示部に表示される表示項目やレイアウトな
どは、使用者の好みに合わせて適宜変更することができる。なお、上記情報は、表示部９
７１０乃至表示部９７１３、表示部９７２１、表示部９７２３にも表示することができる
。また、表示部９７１０乃至表示部９７１５、表示部９７２１乃至表示部９７２３は照明
装置として用いることも可能である。また、表示部９７１０乃至表示部９７１５、表示部
９７２１乃至表示部９７２３は加熱装置として用いることも可能である。
【0506】
また、図５４（Ａ）に、カメラ８０００の外観を示す。カメラ８０００は、筐体８００１
、表示部８００２、操作ボタン８００３、シャッターボタン８００４、結合部８００５等
を有する。またカメラ８０００には、レンズ８００６を取り付けることができる。
、表示部８００２、操作ボタン８００３、シャッターボタン８００４、結合部８００５等
を有する。またカメラ８０００には、レンズ８００６を取り付けることができる。
【0507】
結合部８００５は、電極を有し、後述するファインダー８１００のほか、ストロボ装置等
を接続することができる。
を接続することができる。
【0508】
ここではカメラ８０００として、レンズ８００６を筐体８００１から取り外して交換する
ことが可能な構成としたが、レンズ８００６と筐体８００１が一体となっていてもよい。
ことが可能な構成としたが、レンズ８００６と筐体８００１が一体となっていてもよい。
【0509】
シャッターボタン８００４を押すことにより、撮像することができる。また、表示部８０
０２はタッチパネルとしての機能を有し、表示部８００２をタッチすることにより撮像す
ることも可能である。
０２はタッチパネルとしての機能を有し、表示部８００２をタッチすることにより撮像す
ることも可能である。
【0510】
表示部８００２に、本発明の一態様の表示装置、または半導体装置を適用することができ
る。
る。
【0511】
図５４（Ｂ）には、カメラ８０００にファインダー８１００を取り付けた場合の例を示し
ている。
ている。
【0512】
ファインダー８１００は、筐体８１０１、表示部８１０２、ボタン８１０３等を有する。
【0513】
筐体８１０１には、カメラ８０００の結合部８００５と係合する結合部を有しており、フ
ァインダー８１００をカメラ８０００に取り付けることができる。また当該結合部には電
極を有し、当該電極を介してカメラ８０００から受信した映像等を表示部８１０２に表示
させることができる。
ァインダー８１００をカメラ８０００に取り付けることができる。また当該結合部には電
極を有し、当該電極を介してカメラ８０００から受信した映像等を表示部８１０２に表示
させることができる。
【0514】
ボタン８１０３は、電源ボタンとしての機能を有する。ボタン８１０３により、表示部８
１０２の表示のオン・オフを切り替えることができる。
１０２の表示のオン・オフを切り替えることができる。
【0515】
筐体８１０１の中にある、集積回路、イメージセンサに本発明の一態様の半導体装置を適
用することができる。
用することができる。
【0516】
なお、図５４（Ａ）（Ｂ）では、カメラ８０００とファインダー８１００とを別の電子機
器とし、これらを脱着可能な構成としたが、カメラ８０００の筐体８００１に、本発明の
一態様の表示装置、または入出力装置を備えるファインダーが内蔵されていてもよい。
器とし、これらを脱着可能な構成としたが、カメラ８０００の筐体８００１に、本発明の
一態様の表示装置、または入出力装置を備えるファインダーが内蔵されていてもよい。
【0517】
また、図５４（Ｃ）には、ヘッドマウントディスプレイ８２００の外観を示している。
【0518】
ヘッドマウントディスプレイ８２００は、装着部８２０１、レンズ８２０２、本体８２０
３、表示部８２０４、ケーブル８２０５等を有している。また装着部８２０１には、バッ
テリ８２０６が内蔵されている。
３、表示部８２０４、ケーブル８２０５等を有している。また装着部８２０１には、バッ
テリ８２０６が内蔵されている。
【0519】
ケーブル８２０５は、バッテリ８２０６から本体８２０３に電力を供給する。本体８２０
３は無線受信機等を備え、受信した画像データ等の映像情報を表示部８２０４に表示させ
ることができる。また、本体８２０３に設けられたカメラで使用者の眼球やまぶたの動き
を捉え、その情報をもとに使用者の視点の座標を算出することにより、使用者の視点を入
力手段として用いることができる。
３は無線受信機等を備え、受信した画像データ等の映像情報を表示部８２０４に表示させ
ることができる。また、本体８２０３に設けられたカメラで使用者の眼球やまぶたの動き
を捉え、その情報をもとに使用者の視点の座標を算出することにより、使用者の視点を入
力手段として用いることができる。
【0520】
また、装着部８２０１には、使用者に触れる位置に複数の電極が設けられていてもよい。
本体８２０３は使用者の眼球の動きに伴って電極に流れる電流を検知することにより、使
用者の視点を認識する機能を有していてもよい。また、当該電極に流れる電流を検知する
ことにより、使用者の脈拍をモニタする機能を有していてもよい。また、装着部８２０１
には、温度センサ、圧力センサ、加速度センサ等の各種センサを有していてもよく、使用
者の生体情報を表示部８２０４に表示する機能を有していてもよい。また、使用者の頭部
の動きなどを検出し、表示部８２０４に表示する映像をその動きに合わせて変化させても
よい。
本体８２０３は使用者の眼球の動きに伴って電極に流れる電流を検知することにより、使
用者の視点を認識する機能を有していてもよい。また、当該電極に流れる電流を検知する
ことにより、使用者の脈拍をモニタする機能を有していてもよい。また、装着部８２０１
には、温度センサ、圧力センサ、加速度センサ等の各種センサを有していてもよく、使用
者の生体情報を表示部８２０４に表示する機能を有していてもよい。また、使用者の頭部
の動きなどを検出し、表示部８２０４に表示する映像をその動きに合わせて変化させても
よい。
【0521】
本体８２０３の内部の集積回路に、本発明の一態様の半導体装置を適用することができる
。
。
【0522】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
。
。
【0523】
【0524】
＜ＲＦタグの使用例＞
ＲＦタグの用途は広範にわたるが、例えば、紙幣、硬貨、有価証券類、無記名債券類、証
書類（運転免許証や住民票等、図５５（Ａ）参照）、乗り物類（自転車等、図５５（Ｂ）
参照）、包装用容器類（包装紙やボトル等、図５５（Ｃ）参照）、記録媒体（ＤＶＤやビ
デオテープ等、図５５（Ｄ）参照）、身の回り品（鞄や眼鏡等）、食品類、植物類、動物
類、人体、衣類、生活用品類、薬品や薬剤を含む医療品、または電子機器（液晶表示装置
、ＥＬ表示装置、テレビジョン装置、または携帯電話）等の物品、若しくは各物品に取り
付ける荷札（図５５（Ｅ）、図５５（Ｆ）参照）等に設けて使用することができる。
ＲＦタグの用途は広範にわたるが、例えば、紙幣、硬貨、有価証券類、無記名債券類、証
書類（運転免許証や住民票等、図５５（Ａ）参照）、乗り物類（自転車等、図５５（Ｂ）
参照）、包装用容器類（包装紙やボトル等、図５５（Ｃ）参照）、記録媒体（ＤＶＤやビ
デオテープ等、図５５（Ｄ）参照）、身の回り品（鞄や眼鏡等）、食品類、植物類、動物
類、人体、衣類、生活用品類、薬品や薬剤を含む医療品、または電子機器（液晶表示装置
、ＥＬ表示装置、テレビジョン装置、または携帯電話）等の物品、若しくは各物品に取り
付ける荷札（図５５（Ｅ）、図５５（Ｆ）参照）等に設けて使用することができる。
【0525】
本発明の一態様に係るＲＦタグ４０００は、表面に貼る、または埋め込むことにより、物
品に固定される。例えば、本であれば紙に埋め込み、有機樹脂からなるパッケージであれ
ば当該有機樹脂の内部に埋め込み、各物品に固定される。本発明の一態様に係るＲＦタグ
４０００は、小型、薄型、軽量を実現するため、物品に固定した後もその物品自体のデザ
イン性を損なうことがない。また、紙幣、硬貨、有価証券類、無記名債券類、または証書
類等に本発明の一態様に係るＲＦタグ４０００を設けることにより、認証機能を設けるこ
とができ、この認証機能を活用すれば、偽造を防止することができる。また、包装用容器
類、記録媒体、身の回り品、食品類、衣類、生活用品類、または電子機器等に本発明の一
態様に係るＲＦタグを取り付けることにより、検品システム等のシステムの効率化を図る
ことができる。また、乗り物類であっても、本発明の一態様に係るＲＦタグを取り付ける
ことにより、盗難などに対するセキュリティ性を高めることができる。
品に固定される。例えば、本であれば紙に埋め込み、有機樹脂からなるパッケージであれ
ば当該有機樹脂の内部に埋め込み、各物品に固定される。本発明の一態様に係るＲＦタグ
４０００は、小型、薄型、軽量を実現するため、物品に固定した後もその物品自体のデザ
イン性を損なうことがない。また、紙幣、硬貨、有価証券類、無記名債券類、または証書
類等に本発明の一態様に係るＲＦタグ４０００を設けることにより、認証機能を設けるこ
とができ、この認証機能を活用すれば、偽造を防止することができる。また、包装用容器
類、記録媒体、身の回り品、食品類、衣類、生活用品類、または電子機器等に本発明の一
態様に係るＲＦタグを取り付けることにより、検品システム等のシステムの効率化を図る
ことができる。また、乗り物類であっても、本発明の一態様に係るＲＦタグを取り付ける
ことにより、盗難などに対するセキュリティ性を高めることができる。
【0526】
以上のように、本発明の一態様に係わる半導体装置を用いたＲＦタグを、本実施の形態に
挙げた各用途に用いることにより、情報の書込みや読み出しを含む動作電力を低減できる
ため、最大通信距離を長くとることが可能となる。また、電力が遮断された状態であって
も情報を極めて長い期間保持可能であるため、書き込みや読み出しの頻度が低い用途にも
好適に用いることができる。
挙げた各用途に用いることにより、情報の書込みや読み出しを含む動作電力を低減できる
ため、最大通信距離を長くとることが可能となる。また、電力が遮断された状態であって
も情報を極めて長い期間保持可能であるため、書き込みや読み出しの頻度が低い用途にも
好適に用いることができる。
【0527】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる
。
。
【符号の説明】
【0528】
１０ トランジスタ
１１ トランジスタ
１２ トランジスタ
２０ 表示装置
２１ 表示領域
２２ 周辺回路
２４ 発光装置
６０ 容量素子
７０ 発光素子
８０ 液晶素子
１００ 基板
１０３ 偏光板
１０５ 保護基板
１１０ 絶縁層
１２０ 半導体層
１２１ 絶縁体
１２１ａ 絶縁体膜
１２２ 半導体層
１２２ａ 半導体膜
１２３ 絶縁体
１２３ａ 絶縁体膜
１３０ ソース電極層
１３０ａ 導電膜
１３０ｂ 導電層
１４０ ドレイン電極層
１５０ ゲート絶縁層
１５０ａ 絶縁膜
１６０ ゲート電極層
１６０ａ 導電膜
１６５ 導電層
１６６ 導電層
１６７ 導電層
１７０ 絶縁層
１７０ａ 絶縁膜
１７１ 混合層
１７１ｂ 絶縁層
１７２ 酸素
１７３ 絶縁層
１７３ａ 絶縁膜
１７４ 溝部
１７５ 絶縁層
１７５ａ 絶縁膜
１７５ｂ 絶縁層
１７６ レジストマスク
１７７ 絶縁層
１７７ａ 絶縁膜
１９０ 導電層
１９５ 導電層
２００ 撮像装置
２０１ スイッチ
２０２ スイッチ
２０３ スイッチ
２１０ 画素部
２１１ 画素
２１２ 副画素
２１２Ｂ 副画素
２１２Ｇ 副画素
２１２Ｒ 副画素
２２０ 光電変換素子
２３０ 画素回路
２３１ 配線
２４７ 配線
２４８ 配線
２４９ 配線
２５０ 配線
２５３ 配線
２５４ フィルタ
２５４Ｂ フィルタ
２５４Ｇ フィルタ
２５４Ｒ フィルタ
２５５ レンズ
２５６ 光
２５７ 配線
２６０ 周辺回路
２７０ 周辺回路
２８０ 周辺回路
２９０ 周辺回路
２９１ 光源
３００ シリコン基板
３１０ 層
３２０ 層
３３０ 層
３４０ 層
３５１ トランジスタ
３５２ トランジスタ
３５３ トランジスタ
３６０ フォトダイオード
３６１ アノード
３６２ カソード
３６３ 低抵抗領域
３６５ フォトダイオード
３６６ 半導体層
３６７ 半導体層
３６８ 半導体層
３７０ プラグ
３７１ 配線
３７２ 配線
３７３ 配線
３７４ 配線
４００ 基板
４０２ 保護基板
４０３ 偏光板
４１０ 導電層
４１８ 遮光層
４２０ 絶縁層
４３０ 絶縁層
４４０ スペーサ
４５０ ＥＬ層
４６０ 着色層
４７０ 接着層
４７３ 接着層
４７４ 接着層
４７５ 接着層
４７６ 接着層
４８０ 導電層
４９０ 液晶層
５１０ 異方性導電層
５３０ 光学調整層
６０１ プリカーサ
６０２ プリカーサ
７００ 基板
７０１ 画素部
７０２ 走査線駆動回路
７０３ 走査線駆動回路
７０４ 信号線駆動回路
７１０ 容量配線
７１２ 走査線
７１３ 走査線
７１４ 信号線
７１６ トランジスタ
７１７ トランジスタ
７１８ 液晶素子
７１９ 液晶素子
７２０ 画素
７２１ スイッチング用トランジスタ
７２２ 駆動用トランジスタ
７２３ 容量素子
７２４ 発光素子
７２５ 信号線
７２６ 走査線
７２７ 電源線
７２８ 共通電極
８００ ＲＦタグ
８０１ 通信器
８０２ アンテナ
８０３ 無線信号
８０４ アンテナ
８０５ 整流回路
８０６ 定電圧回路
８０７ 復調回路
８０８ 変調回路
８０９ 論理回路
８１０ 記憶回路
８１１ ＲＯＭ
１１８９ ＲＯＭインターフェース
１１９０ 基板
１１９１ ＡＬＵ
１１９２ ＡＬＵコントローラ
１１９３ インストラクションデコーダ
１１９４ インタラプトコントローラ
１１９５ タイミングコントローラ
１１９６ レジスタ
１１９７ レジスタコントローラ
１１９８ バスインターフェース
１１９９ ＲＯＭ
１２００ 記憶素子
１２０１ 回路
１２０２ 回路
１２０３ スイッチ
１２０４ スイッチ
１２０６ 論理素子
１２０７ 容量素子
１２０８ 容量素子
１２０９ トランジスタ
１２１０ トランジスタ
１２１３ トランジスタ
１２１４ トランジスタ
１２２０ 回路
１７００ 被成膜基板
１７０１ チャンバー
１７０２ ロード室
１７０３ 前処理室
１７０４ チャンバー
１７０５ チャンバー
１７０６ アンロード室
１７１１ａ 原料供給部
１７１１ｂ 原料供給部
１７１２ａ 高速バルブ
１７１２ｂ 高速バルブ
１７１３ａ 原料導入口
１７１３ｂ 原料導入口
１７１４ 原料排出口
１７１５ 排気装置
１７１６ 基板ホルダ
１７２０ 搬送室
２１００ トランジスタ
２２００ トランジスタ
２２０１ 絶縁体
２２０２ 配線
２２０３ プラグ
２２０４ 絶縁体
２２０５ 配線
２２０７ 絶縁体
２２１１ 半導体基板
２２１２ 絶縁体
２２１３ ゲート電極
２２１４ ゲート絶縁体
２２１５ ソース領域およびドレイン領域
２７５０ インターポーザ
２７５１ チップ
２７５２ 端子
２７５３ モールド樹脂
２８００ パネル
２８０１ プリント配線基板
２８０２ パッケージ
２８０３ ＦＰＣ
２８０４ バッテリー
３００１ 配線
３００２ 配線
３００３ 配線
３００４ 配線
３００５ 配線
３２００ トランジスタ
３３００ トランジスタ
３４００ 容量素子
４０００ ＲＦタグ
５１００ ペレット
５１２０ 基板
５１６１ 領域
６０００ 表示モジュール
６００１ 上部カバー
６００２ 下部カバー
６００３ ＦＰＣ
６００４ タッチパネル
６００５ ＦＰＣ
６００６ 表示パネル
６００７ バックライトユニット
６００８ 光源
６００９ フレーム
６０１０ プリント基板
６０１１ バッテリー
７１０１ 筐体
７１０２ 筐体
７１０３ 表示部
７１０４ 表示部
７１０５ マイク
７１０６ スピーカー
７１０７ 操作キー
７１０８ スタイラス
７３０２ 筐体
７３０４ 表示部
７３１１ 操作ボタン
７３１２ 操作ボタン
７３１３ 接続端子
７３２１ バンド
７３２２ 留め金
７５０１ 筐体
７５０２ 表示部
７５０３ 操作ボタン
７５０４ 外部接続ポート
７５０５ スピーカー
７５０６ マイク
７７０１ 筐体
７７０２ 筐体
７７０３ 表示部
７７０４ 操作キー
７７０５ レンズ
７７０６ 接続部
７９２１ 電柱
７９２２ 表示部
８０００ カメラ
８００１ 筐体
８００２ 表示部
８００３ 操作ボタン
８００４ シャッターボタン
８００５ 結合部
８００６ レンズ
８１００ ファインダー
８１０１ 筐体
８１０２ 表示部
８１０３ ボタン
８１２１ 筐体
８１２２ 表示部
８１２３ キーボード
８１２４ ポインティングデバイス
８２００ ヘッドマウントディスプレイ
８２０１ 装着部
８２０２ レンズ
８２０３ 本体
８２０４ 表示部
８２０５ ケーブル
８２０６ バッテリ
９７００ 自動車
９７０１ 車体
９７０２ 車輪
９７０３ ダッシュボード
９７０４ ライト
９７１０ 表示部
９７１１ 表示部
９７１２ 表示部
９７１３ 表示部
９７１４ 表示部
９７１５ 表示部
９７２１ 表示部
９７２２ 表示部
９７２３ 表示部
１１ トランジスタ
１２ トランジスタ
２０ 表示装置
２１ 表示領域
２２ 周辺回路
２４ 発光装置
６０ 容量素子
７０ 発光素子
８０ 液晶素子
１００ 基板
１０３ 偏光板
１０５ 保護基板
１１０ 絶縁層
１２０ 半導体層
１２１ 絶縁体
１２１ａ 絶縁体膜
１２２ 半導体層
１２２ａ 半導体膜
１２３ 絶縁体
１２３ａ 絶縁体膜
１３０ ソース電極層
１３０ａ 導電膜
１３０ｂ 導電層
１４０ ドレイン電極層
１５０ ゲート絶縁層
１５０ａ 絶縁膜
１６０ ゲート電極層
１６０ａ 導電膜
１６５ 導電層
１６６ 導電層
１６７ 導電層
１７０ 絶縁層
１７０ａ 絶縁膜
１７１ 混合層
１７１ｂ 絶縁層
１７２ 酸素
１７３ 絶縁層
１７３ａ 絶縁膜
１７４ 溝部
１７５ 絶縁層
１７５ａ 絶縁膜
１７５ｂ 絶縁層
１７６ レジストマスク
１７７ 絶縁層
１７７ａ 絶縁膜
１９０ 導電層
１９５ 導電層
２００ 撮像装置
２０１ スイッチ
２０２ スイッチ
２０３ スイッチ
２１０ 画素部
２１１ 画素
２１２ 副画素
２１２Ｂ 副画素
２１２Ｇ 副画素
２１２Ｒ 副画素
２２０ 光電変換素子
２３０ 画素回路
２３１ 配線
２４７ 配線
２４８ 配線
２４９ 配線
２５０ 配線
２５３ 配線
２５４ フィルタ
２５４Ｂ フィルタ
２５４Ｇ フィルタ
２５４Ｒ フィルタ
２５５ レンズ
２５６ 光
２５７ 配線
２６０ 周辺回路
２７０ 周辺回路
２８０ 周辺回路
２９０ 周辺回路
２９１ 光源
３００ シリコン基板
３１０ 層
３２０ 層
３３０ 層
３４０ 層
３５１ トランジスタ
３５２ トランジスタ
３５３ トランジスタ
３６０ フォトダイオード
３６１ アノード
３６２ カソード
３６３ 低抵抗領域
３６５ フォトダイオード
３６６ 半導体層
３６７ 半導体層
３６８ 半導体層
３７０ プラグ
３７１ 配線
３７２ 配線
３７３ 配線
３７４ 配線
４００ 基板
４０２ 保護基板
４０３ 偏光板
４１０ 導電層
４１８ 遮光層
４２０ 絶縁層
４３０ 絶縁層
４４０ スペーサ
４５０ ＥＬ層
４６０ 着色層
４７０ 接着層
４７３ 接着層
４７４ 接着層
４７５ 接着層
４７６ 接着層
４８０ 導電層
４９０ 液晶層
５１０ 異方性導電層
５３０ 光学調整層
６０１ プリカーサ
６０２ プリカーサ
７００ 基板
７０１ 画素部
７０２ 走査線駆動回路
７０３ 走査線駆動回路
７０４ 信号線駆動回路
７１０ 容量配線
７１２ 走査線
７１３ 走査線
７１４ 信号線
７１６ トランジスタ
７１７ トランジスタ
７１８ 液晶素子
７１９ 液晶素子
７２０ 画素
７２１ スイッチング用トランジスタ
７２２ 駆動用トランジスタ
７２３ 容量素子
７２４ 発光素子
７２５ 信号線
７２６ 走査線
７２７ 電源線
７２８ 共通電極
８００ ＲＦタグ
８０１ 通信器
８０２ アンテナ
８０３ 無線信号
８０４ アンテナ
８０５ 整流回路
８０６ 定電圧回路
８０７ 復調回路
８０８ 変調回路
８０９ 論理回路
８１０ 記憶回路
８１１ ＲＯＭ
１１８９ ＲＯＭインターフェース
１１９０ 基板
１１９１ ＡＬＵ
１１９２ ＡＬＵコントローラ
１１９３ インストラクションデコーダ
１１９４ インタラプトコントローラ
１１９５ タイミングコントローラ
１１９６ レジスタ
１１９７ レジスタコントローラ
１１９８ バスインターフェース
１１９９ ＲＯＭ
１２００ 記憶素子
１２０１ 回路
１２０２ 回路
１２０３ スイッチ
１２０４ スイッチ
１２０６ 論理素子
１２０７ 容量素子
１２０８ 容量素子
１２０９ トランジスタ
１２１０ トランジスタ
１２１３ トランジスタ
１２１４ トランジスタ
１２２０ 回路
１７００ 被成膜基板
１７０１ チャンバー
１７０２ ロード室
１７０３ 前処理室
１７０４ チャンバー
１７０５ チャンバー
１７０６ アンロード室
１７１１ａ 原料供給部
１７１１ｂ 原料供給部
１７１２ａ 高速バルブ
１７１２ｂ 高速バルブ
１７１３ａ 原料導入口
１７１３ｂ 原料導入口
１７１４ 原料排出口
１７１５ 排気装置
１７１６ 基板ホルダ
１７２０ 搬送室
２１００ トランジスタ
２２００ トランジスタ
２２０１ 絶縁体
２２０２ 配線
２２０３ プラグ
２２０４ 絶縁体
２２０５ 配線
２２０７ 絶縁体
２２１１ 半導体基板
２２１２ 絶縁体
２２１３ ゲート電極
２２１４ ゲート絶縁体
２２１５ ソース領域およびドレイン領域
２７５０ インターポーザ
２７５１ チップ
２７５２ 端子
２７５３ モールド樹脂
２８００ パネル
２８０１ プリント配線基板
２８０２ パッケージ
２８０３ ＦＰＣ
２８０４ バッテリー
３００１ 配線
３００２ 配線
３００３ 配線
３００４ 配線
３００５ 配線
３２００ トランジスタ
３３００ トランジスタ
３４００ 容量素子
４０００ ＲＦタグ
５１００ ペレット
５１２０ 基板
５１６１ 領域
６０００ 表示モジュール
６００１ 上部カバー
６００２ 下部カバー
６００３ ＦＰＣ
６００４ タッチパネル
６００５ ＦＰＣ
６００６ 表示パネル
６００７ バックライトユニット
６００８ 光源
６００９ フレーム
６０１０ プリント基板
６０１１ バッテリー
７１０１ 筐体
７１０２ 筐体
７１０３ 表示部
７１０４ 表示部
７１０５ マイク
７１０６ スピーカー
７１０７ 操作キー
７１０８ スタイラス
７３０２ 筐体
７３０４ 表示部
７３１１ 操作ボタン
７３１２ 操作ボタン
７３１３ 接続端子
７３２１ バンド
７３２２ 留め金
７５０１ 筐体
７５０２ 表示部
７５０３ 操作ボタン
７５０４ 外部接続ポート
７５０５ スピーカー
７５０６ マイク
７７０１ 筐体
７７０２ 筐体
７７０３ 表示部
７７０４ 操作キー
７７０５ レンズ
７７０６ 接続部
７９２１ 電柱
７９２２ 表示部
８０００ カメラ
８００１ 筐体
８００２ 表示部
８００３ 操作ボタン
８００４ シャッターボタン
８００５ 結合部
８００６ レンズ
８１００ ファインダー
８１０１ 筐体
８１０２ 表示部
８１０３ ボタン
８１２１ 筐体
８１２２ 表示部
８１２３ キーボード
８１２４ ポインティングデバイス
８２００ ヘッドマウントディスプレイ
８２０１ 装着部
８２０２ レンズ
８２０３ 本体
８２０４ 表示部
８２０５ ケーブル
８２０６ バッテリ
９７００ 自動車
９７０１ 車体
９７０２ 車輪
９７０３ ダッシュボード
９７０４ ライト
９７１０ 表示部
９７１１ 表示部
９７１２ 表示部
９７１３ 表示部
９７１４ 表示部
９７１５ 表示部
９７２１ 表示部
９７２２ 表示部
９７２３ 表示部
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
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【図29】
【図30】
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【図33】
【図34】
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【図53】
【図54】
【図55】