特許7406441IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

製造不良要因探索方法、及び製造不良要因探索装置

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、製造ラインを構成する各工程において同一の作業を複数の製造装置で分担している場合、同一の作業を行う個々の製造装置が、共通の製造監視データの項目において異なる値を示してしまい、ばらつき生成因子と成り得る。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本願は、課題の少なくとも一部を解決する手段を複数含んでいるが、その例を挙げるならば、以下の通りである。

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明によれば、不良品に対して感度が高い製造監視データの項目を高精度で探索することができる。

した以外の課題、構成、及び効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 図1は、本発明の一製造不良要因探索装置の構成例を示す図である。
【図2】 図2は、製造条件監視データ不良要因項目探索処理の一例を説明するフローチャートである。
【図3】 図3は、製造条件監視データ不良要因項目探索処理に用いるデータテーブルの一例を示す図である。
【図4】 図4は、不良感度指標の計算方法を説明するための図であり、図4(A)は不良品の統計分布、図4(B)は良品の統計分布、図4(C)は不良率関数をそれぞれ示す図である。
【図5】 図5は、製造条件監視データ不良要因項目探索処理による探索結果画面の表示例を示す図である。
【図6】 図6は、製造属性項目要素探索処理の一例を説明するフローチャートである。
【図7】 図7は、製造属性項目要素探索処理に用いるデータテーブルの一例を示す図である。
【図8】 図8は、製造属性項目要素探索処理による探索結果画面の表示例を示す図である。
【図9】 図9は、変形例を説明するための図であり、図9(A)は不良品の2次元頻度分布、図9(B)は不良品の2次元分解成分関数、図9(C)は良品の2次元頻度分布、図9(D)は良品の2次元分解成分関数をそれぞれ示す図である。

代表図 図1本件の代表的な図

2・・・ネットワーク、3・・・製造実行システム、4・・・製造ライン、4a・・・投入工程、4b・・・製品製造工程、4c・・・中間製品検査工程、4d・・・最終製品検査工程、10・・・製造不良要因探索装置、11・・・処理部、111・・・統括部、112・・・前処理部、113・・・混合分布関数推定部、114・・・成分分解部、115・・・不良感度指標計算部、116・・・成分責任率関数計算部、117・・・画面生成部、12・・・通信部、13・・・入力部、14・・・表示部、15・・・記憶部、151・・・製造監視データ、151a・・・製造条件監視データ、151b・・・中間製品検査データ、151c・・・製造属性使用要素履歴データ、152・・・最終製品検査データ、153・・・計算仕様データ、154・・・計算結果データ、300・・・データテーブル、301・・・製品番号フィールド、302・・・製造条件監視データ項目フィールド、303・・・最終製品検査結果フィールド、500・・・探索結果画面、510・・・要因候補リスト領域、510a・・・選択ボタン、510b・・・スクロールボタン、511a・・・選択ボタン、512・・・選択項目領域、513・・・不良感度指標領域、515~517・・・統計分布領域、700・・・データテーブル、701・・・製品番号フィールド、702・・・製造条件監視データ項目フィールド、703・・・製造属性項目フィールド、704・・・最終製品検査結果フィールド、800・・・探索結果画面、810・・・要因候補リスト領域、810a・・・選択ボタン、810b・・・スクロールボタン、811・・・選択項目領域、812・・・製造属性項目選択領域、813・・・不良品責任数領域

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