特許 7406717出願番号 特願 2019-233978
蒸着マスク
出願人 大日本印刷株式会社（識別番号 2897）
2026年 特許公開件数ランキング 29位 492件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 23位 518件（※）
公報発行日 2023年12月28
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7406717 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
蒸着マスク
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
蒸着材料を被蒸着基板に蒸着させる蒸着工程においては、蒸着マスクに向かって飛来した蒸着材料は、貫通孔を通過して被蒸着基板に付着する。この場合、蒸着材料は、被蒸着基板に向けて蒸着マスクの法線方向に沿って移動するだけでなく、蒸着マスクの法線方向に対して傾斜した方向に移動することもある。この場合であっても、蒸着マスクの法線方向に対して傾斜した方向に移動する蒸着材料の進行が遮蔽薄板で妨げられて被蒸着基板に蒸着材料が適切に付着しない、いわゆるシャドーの発生を抑制することが求められている。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本開示の蒸着マスクは、
２以上の第１貫通孔を有するマスク本体と、前記マスク本体上にあり、かつ、平面視において前記第１貫通孔と重なる位置にある第２貫通孔を有する支持体と、を備え、
前記マスク本体は、前記支持体側と反対側にある第１面と、前記支持体側にある第２面とを有し、
平面視において前記第２貫通孔と重なる位置にある２以上の前記第１貫通孔のうち、平面視において最も外周に位置する最外周・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
本開示によれば、シャドーの発生を抑制することのできる蒸着マスクを提供することができる。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
図１は、本開示の第１実施形態を説明するための図であって、蒸着マスク装置を有する蒸着装置を説明するための図である。
【図2】
図２は、図１に示す蒸着装置で製造された有機ＥＬ表示装置の一例を示す断面図である。
【図3】
図３は、蒸着マスクを有する蒸着マスク装置の一例を概略的に示す平面図である。
【図4】
図４は、図３のＩＶ－ＩＶ線に対応する断面において蒸着マスク装置を示す図である。
【図5】
図５は、蒸着マスクのマスク本体の一例を示す平面図である。
【図6】
図６は、蒸着マスクの支持体の一例を示す平面図である。
【図7A】
図７Ａは、蒸着マスク装置の部分平面図であって、図３のＶＩＩＡが付された部分を蒸着マスクの第１面側から見て示す図である。
【図7B】
図７Ｂは、図７ＡのＶＩＩＢが付された部分を拡大して示す図である。
【図8】
図８は、図７ＢのＶＩＩＩ－ＶＩＩＩ線に対応する断面において蒸着マスクを示す図である。
【図9A】
図９Ａは、マスク本体を製造するために用いられるパターン基板の製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図9B】
図９Ｂは、マスク本体を製造するために用いられるパターン基板の製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図9C】
図９Ｃは、マスク本体を製造するために用いられるパターン基板の製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図9D】
図９Ｄは、マスク本体を製造するために用いられるパターン基板の製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図10A】
図１０Ａは、マスク本体の製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図10B】
図１０Ｂは、マスク本体の製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図10C】
図１０Ｃは、マスク本体の製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図10D】
図１０Ｄは、マスク本体の製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図11A】
図１１Ａは、支持体の製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図11B】
図１１Ｂは、支持体の製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図11C】
図１１Ｃは、支持体の製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図11D】
図１１Ｄは、支持体の製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図11E】
図１１Ｅは、支持体の製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図12A】
図１２Ａは、蒸着マスクの製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図12B】
図１２Ｂは、蒸着マスクの製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図12C】
図１２Ｃは、蒸着マスクの製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図13】
図１３は、蒸着マスク装置の製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図14】
図１４は、蒸着マスクの一変形例を示す断面図である。
【図15A】
図１５Ａは、図１４の蒸着マスクのマスク本体の製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図15B】
図１５Ｂは、図１４の蒸着マスクのマスク本体の製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図15C】
図１５Ｃは、図１４の蒸着マスクのマスク本体の製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図15D】
図１５Ｄは、図１４の蒸着マスクのマスク本体の製造方法の一例の一工程を示す図である。
【図16】
図１６は、本開示の第２実施形態を説明するための図であって、蒸着マスクを示す断面図である。
【図17】
図１７は、蒸着マスクの他の変形例を示す断面図である。
【図18】
図１８は、蒸着マスクのさらに他の変形例を示す断面図である。
【図19】
図１９は、蒸着マスクのさらに他の変形例を示す断面図である。
代表図 図1本件の代表的な図
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