特許7406719IP Force 特許公報全文掲載

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本実施の形態は、蒸着マスク及びその製造方法、蒸着マスク装置及びその製造方法、中間体、蒸着方法、並びに有機ＥＬ表示装置の製造方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

ところで、このような蒸着マスクを製造する際、強度を高めるため、蒸着マスクの中間体を支持体に積層して補強することが提案されている。この場合、中間体を支持体の開口部に精度よく接合することが求められる。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示の蒸着マスクは、マスク本体と、前記マスク本体に接合された支持体と、を備え、前記マスク本体は、第１アラインメントマークを有し、前記支持体は、第２アラインメントマークを有し、前記第１アラインメントマークと前記第２アラインメントマークとは、平面視で互いに重なる位置に設けられるとともに、いずれか一方が他方よりも大きい。

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示によれば、蒸着マスクの中間体を支持体に精度良く接合することができる。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 図１は、蒸着マスク装置を有する蒸着装置及びこの蒸着装置を用いた蒸着方法を説明するための図である。
【図2】 図２は、図１に示す蒸着装置で製造された有機ＥＬ表示装置の一例を示す断面図である。
【図3】 図３は、第１の実施の形態による蒸着マスクを有する蒸着マスク装置の一例を概略的に示す平面図である。
【図4】 図４は、第１の実施の形態による蒸着マスク装置を示す断面図（図３のIV－IV線断面図）である。
【図5】 図５は、第１の実施の形態による蒸着マスク装置のマスク本体を示す部分拡大図（図３のＶ部拡大図）である。
【図6】 図６は、第１の実施の形態による蒸着マスク装置を示す部分断面図（図５のVI－VI線断面図）である。
【図7】 図７は、第１の実施の形態によるマスク本体を示す断面図（図５のVII－VII線断面図）である。
【図8】 図８（ａ）－（ｃ）は、めっき処理によってマスク本体を製造するために用いられるパターン基板を製造する方法を示す図である。
【図9】 図９（ａ）－（ｄ）は、マスク本体をめっき処理によって製造する方法を示す図である。
【図10】 図１０は、蒸着マスクの製造方法を示す図である。
【図11】 図１１は、蒸着マスクのマスク本体と支持体とを位置決めする際の第１アラインメントマーク及び第２アラインメントマークを示す断面図である。
【図12】 図１２（ａ）（ｂ）は、蒸着マスクのマスク本体と支持体とを位置決めする際の第１アラインメントマーク及び第２アラインメントマークを示す平面図である。
【図13】 図１３（ａ）－（ｃ）は、蒸着マスク装置の製造方法の一例を示す図である。
【図14】 図１４（ａ）（ｂ）は、有機ＥＬ基板に蒸着材料を蒸着させる工程を示す図である。
【図15】 図１５は、有機ＥＬ基板に蒸着材料を蒸着させる工程を示す図である。
【図16】 図１６は、第１の実施の形態による第１アラインメントマーク及び第２アラインメントマークの第１の変形例を示す図である。
【図17】 図１７は、第１の実施の形態による第１アラインメントマーク及び第２アラインメントマークの第２の変形例を示す図である。
【図18】 図１８は、第１の実施の形態による第１アラインメントマーク及び第２アラインメントマークの第３の変形例を示す図である。
【図19】 図１９は、第１の実施の形態による第１アラインメントマーク及び第２アラインメントマークの第４の変形例を示す図である。
【図20】 図２０は、第１の実施の形態による第１アラインメントマーク及び第２アラインメントマークの第５の変形例を示す図である。
【図21】 図２１（ａ）－（ｅ）は、第１の実施の形態におけるマスク本体の製造方法の変形例を示す断面図である。
【図22】 図２２は、第２の実施の形態による蒸着マスクを示す平面図である。
【図23】 図２３は、第２の実施の形態による蒸着マスクを示す断面図（図２２のXXIII－XXIII線断面図）である。
【図24】 図２４は、第２の実施の形態による蒸着マスクを示す部分拡大図（図２２のXXIV部拡大図）である。
【図25】 図２５は、第２の実施の形態による蒸着マスクを示す部分断面図（図２４のXXV－XXV線断面図）である。
【図26】 図２６（ａ）－（ｈ）は、第２の実施の形態による蒸着マスクの製造方法を示す断面図である。
【図27】 図２７は、蒸着マスクの製造中における第１アラインメントマーク及び第２アラインメントマークを示す断面図である。
【図28】 図２８は、第２の実施の形態による第１アラインメントマーク及び第２アラインメントマークの第１の変形例を示す図である。
【図29】 図２９は、第２の実施の形態による第１アラインメントマーク及び第２アラインメントマークの第２の変形例を示す図である。
【図30】 図３０は、第２の実施の形態による第１アラインメントマーク及び第２アラインメントマークの第３の変形例を示す図である。
【図31】 図３１は、第２の実施の形態による第１アラインメントマーク及び第２アラインメントマークの第４の変形例を示す図である。
【図32】 図３２（ａ）－（ｈ）は、第２の実施の形態による蒸着マスクの製造方法の変形例を示す断面図である。
【図33】 図３３は、支持体の一変形例を示す断面図である。
【図34】 図３４は、支持体の一変形例を示す断面図である。
【図35】 図３５は、支持体の一変形例を示す断面図である。
【図36】 図３６は、支持体の一変形例を示す断面図である。
【図37】 図３７は、支持体の一変形例を示す断面図である。
【図38】 図３８は、支持体の一変形例を示す断面図である。
【図39】 図３９は、支持体の一変形例を示す断面図である。
【図40】 図４０は、支持体の一変形例を示す断面図である。

代表図 図1本件の代表的な図

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