特許7407479レジスト残渣除去液及びこれを用いる導体パターン付き基板材の形成方法

発明の名称　レジスト残渣除去液及びこれを用いる導体パターン付き基板材の形成方法

出願人　メルテックス株式会社　（識別番号 593174641）

　　　　特許公開件数ランキング 1219 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 1250 位（0件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7407479

公報発行日　2024年1月4

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7407479

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