特許 7408612 現像装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2023-12-22

(45)【発行日】2024-01-05

(54)【発明の名称】現像装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/027 20060101AFI20231225BHJP

   H01L 21/304 20060101ALI20231225BHJP

   H01L 21/677 20060101ALI20231225BHJP

【ＦＩ】

H01L21/30 569D

H01L21/304 648A

H01L21/304 643B

H01L21/68 A

【請求項の数】 8

(21)【出願番号】P 2021172123

(22)【出願日】2021-10-21

(65)【公開番号】P2023062255

(43)【公開日】2023-05-08

【審査請求日】2022-09-22

(73)【特許権者】

【識別番号】000207551

【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス

(74)【代理人】

【識別番号】100135013

【弁理士】

【氏名又は名称】西田 隆美

(72)【発明者】

【氏名】芳川 典生

(72)【発明者】

【氏名】山下 永二

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 啓悟

(72)【発明者】

【氏名】秋岡 知輝

(72)【発明者】

【氏名】伊吹 征也

【審査官】植木 隆和

(56)【参考文献】

【文献】特開２００８－１７４３６１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１０－２３２４７２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１６－１６７４７５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１７－１００８６１（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／０２７

Ｇ０３Ｆ ７／２０

Ｈ０１Ｌ ２１／６８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板を搬送しつつ現像液により前記基板の上面に形成されたレジスト膜を現像する現像装置であって、
基板を水平な姿勢に支持しつつ、水平方向である搬送方向に基板を搬送する搬送機構と、
前記搬送機構により搬送される基板の上面に前記現像液を供給することにより、基板の上面に前記現像液のパドルを形成する現像液供給部と、
を備え、
前記搬送機構は、
前記搬送方向に間隔をあけて配列された複数の搬送ローラ
を有し、
前記搬送ローラは、外周面に部分的に形成された接触部を、基板の下面に接触させつつ、前記搬送方向に対して直交する水平方向である幅方向に延びる軸を中心として回転することにより、基板を前記搬送方向の下流側へ搬送し、
前記搬送ローラの外周面において、前記軸を中心とする周方向の位置に応じて、前記接触部の前記幅方向の位置が変化する、現像装置。

【請求項2】

請求項１に記載の現像装置であって、
前記接触部は、前記軸を中心とする螺旋状である、現像装置。

【請求項3】

請求項２に記載の現像装置であって、
前記複数の搬送ローラは、
前記接触部が右巻きの螺旋状である複数の右巻き搬送ローラと、
前記接触部が左巻きの螺旋状である複数の左巻き搬送ローラと、
を含み、
前記右巻き搬送ローラと、前記左巻き搬送ローラとが、前記搬送方向に沿って交互に配列されている、現像装置。

【請求項4】

請求項１に記載の現像装置であって、
前記搬送ローラは、前記幅方向に配列された複数の前記接触部を有し、
複数の前記接触部は、それぞれ、前記軸に対して傾斜した楕円状である、現像装置。

【請求項5】

請求項４に記載の現像装置であって、
前記搬送ローラは、
前記軸に沿って延びるシャフトと、
前記シャフトに固定された複数のローラ部材と、
を有し、
前記複数のローラ部材が、それぞれ、前記接触部を有する、現像装置。

【請求項6】

請求項４または請求項５に記載の現像装置であって、
前記複数の搬送ローラは、
複数の第１搬送ローラと、
複数の第２搬送ローラと、
を含み、
前記第１搬送ローラと、前記第２搬送ローラとが、前記搬送方向に沿って交互に配列され、
前記幅方向において、前記第１搬送ローラの前記接触部と、前記第２搬送ローラの前記接触部とが、交互に配列されている、現像装置。

【請求項7】

請求項１から請求項６までのいずれか１項に記載の現像装置であって、
前記現像液供給部は、
前記現像液を吐出するノズル
を有し、
前記搬送機構は、
前記ノズルによる前記現像液の吐出位置から下流側に配置された１つ以上の円筒ローラ
をさらに有し、
前記円筒ローラは、前記幅方向に沿って延びる１本の円筒面を有し、前記円筒面を基板の下面に接触させつつ、前記幅方向に延びる軸を中心として回転することにより、基板を前記搬送方向の下流側へ搬送する、現像装置。

【請求項8】

請求項１から請求項７までのいずれか１項に記載の現像装置であって、
基板の前記幅方向の端部に接触するガイドローラ
をさらに備える、現像装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板を搬送しつつ処理液による処理を行う基板処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、有機ＥＬパネル等の基板の製造工程では、基板を搬送しつつ、基板に対して処理液を供給する処理を行う基板処理装置が使用される。従来の基板処理装置については、例えば、特許文献１に記載されている。特許文献１の基板処理装置は、複数のローラにより、基板を水平な姿勢に支持しつつ搬送する。そして、搬送される基板の上面に現像液を供給することにより、基板の上面に、現像液のパドル（液だまり）を形成する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開２０１６－１６７４７５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

この種の基板処理装置では、ローラに設けられた複数のコロが、基板の下面に接触する。複数のコロは、幅方向（基板の搬送方向に対して直交し、かつ、水平な方向）に間隔をあけて配列されている。このため、基板の下面に、コロが接触する部分と、接触しない部分とが生じる。これにより、基板に、局所的な温度差や、現像液の局所的な流れが生じる。その結果、基板の上面において、搬送方向に延びる筋状の処理ムラが発生する場合がある。

【0005】

このような処理ムラを抑制するためには、例えば、幅方向に延びる円筒状のベタローラを使用することが考えられる。ベタローラを使用すれば、基板の下面の幅方向の全体に、ローラが接触する。このため、搬送方向に延びる筋状の処理ムラを低減できる。

【0006】

ただし、ベタローラを使用すると、基板とローラとの接触面積が増加する。このため、基板の上面においてパドルを形成する処理液の一部が、表面張力によって、ローラの表面へ流出しやすくなる。そうすると、基板の上面に形成される処理液のパドルが薄くなり、現像処理が不均一になる場合がある。

【0007】

また、ローラの表面には、現像液の泡が付着することがあるが、ベタローラを使用する場合、基板とローラとの接触面積が大きいために、その泡が、ローラから基板の上面に乗り上がり易くなる。そうすると、基板の上面において、泡による処理ムラが生じてしまうという問題もある。

【0008】

本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、搬送ローラに起因する筋状の処理ムラを低減し、かつ、基板の上面においてパドルを形成する処理液の一部が搬送ローラの表面へ流出したり、搬送ローラに付着した泡が基板の上面へ乗り上げたりする問題も生じにくい、基板処理装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0009】

本願の第１発明は、基板を搬送しつつ現像液により前記基板の上面に形成されたレジスト膜を現像する現像装置であって、基板を水平な姿勢に支持しつつ、水平方向である搬送方向に基板を搬送する搬送機構と、前記搬送機構により搬送される基板の上面に前記現像液を供給することにより、基板の上面に前記現像液のパドルを形成する現像液供給部と、を備え、前記搬送機構は、前記搬送方向に間隔をあけて配列された複数の搬送ローラを有し、前記搬送ローラは、外周面に部分的に形成された接触部を、基板の下面に接触させつつ、前記搬送方向に対して直交する水平方向である幅方向に延びる軸を中心として回転することにより、基板を前記搬送方向の下流側へ搬送し、前記搬送ローラの外周面において、前記軸を中心とする周方向の位置に応じて、前記接触部の前記幅方向の位置が変化する。

【0010】

本願の第２発明は、第１発明の現像装置であって、前記接触部は、前記軸を中心とする螺旋状である。

【0011】

本願の第３発明は、第２発明の現像装置であって、前記複数の搬送ローラは、前記接触部が右巻きの螺旋状である複数の右巻き搬送ローラと、前記接触部が左巻きの螺旋状である複数の左巻き搬送ローラと、を含み、前記右巻き搬送ローラと、前記左巻き搬送ローラとが、前記搬送方向に沿って交互に配列されている。

【0012】

本願の第４発明は、第１発明の現像装置であって、前記搬送ローラは、前記幅方向に配列された複数の前記接触部を有し、複数の前記接触部は、それぞれ、前記軸に対して傾斜した楕円状である。

【0013】

本願の第５発明は、第４発明の現像装置であって、前記搬送ローラは、前記軸に沿って延びるシャフトと、前記シャフトに固定された複数のローラ部材と、を有し、前記複数のローラ部材が、それぞれ、前記接触部を有する。

【0014】

本願の第６発明は、第４発明または第５発明の現像装置であって、前記複数の搬送ローラは、複数の第１搬送ローラと、複数の第２搬送ローラと、を含み、前記第１搬送ローラと、前記第２搬送ローラとが、前記搬送方向に沿って交互に配列され、前記幅方向において、前記第１搬送ローラの前記接触部と、前記第２搬送ローラの前記接触部とが、交互に配列されている。

【0015】

本願の第７発明は、第１発明から第６発明までのいずれか１発明の現像装置であって、前記現像液供給部は、前記現像液を吐出するノズルを有し、前記搬送機構は、前記ノズルによる前記現像液の吐出位置から下流側に配置された１つ以上の円筒ローラをさらに有し、前記円筒ローラは、前記幅方向に沿って延びる１本の円筒面を有し、前記円筒面を基板の下面に接触させつつ、前記幅方向に延びる軸を中心として回転することにより、基板を前記搬送方向の下流側へ搬送する。

【0016】

本願の第８発明は、第１発明から第７発明までのいずれか１発明の現像装置であって、基板の前記幅方向の端部に接触するガイドローラをさらに備える。

【発明の効果】

【0018】

本願の第１発明～第８発明によれば、基板の下面に対する搬送ローラの接触位置が、搬送ローラの回転に伴い、幅方向に変化する。これにより、搬送ローラに起因する筋状の処理ムラを低減できる。また、搬送ローラの外周面に、基板と接触する接触部が、部分的に形成されている。これにより、基板の下面に対する搬送ローラの接触面積を低減できる。したがって、基板の上面においてパドルを形成する現像液の一部が、搬送ローラの表面へ流出したり、搬送ローラに付着した泡が基板の上面へ乗り上げたりする問題も、生じにくい。

【0019】

特に、本願の第２発明によれば、接触部を、幅方向に切れ目なく形成できる。これにより、接触部が存在しない幅方向の位置を減らすことができる。その結果、搬送ローラに起因する筋状の処理ムラを、より抑制できる。

【0020】

特に、本願の第３発明によれば、基板の下面に対する搬送ローラの接触位置を、より均一化できる。したがって、搬送ローラに起因する筋状の処理ムラを、より抑制できる。

【0021】

特に、本願の第４発明によれば、接触部を螺旋状ではなく、閉じた楕円状とする。これにより、搬送ローラの外周面に、接触部を容易に形成できる。

【0022】

特に、本願の第５発明によれば、接触部を有するローラ部材を複数作製し、それらローラ部材をシャフトに固定することで、搬送ローラを製造できる。これにより、複数の接触部を有する搬送ローラを、容易に製造できる。

【0023】

特に、本願の第６発明によれば、基板の下面に対する搬送ローラの接触位置を、より均一化できる。したがって、搬送ローラに起因する筋状の処理ムラを、より抑制できる。

【0024】

特に、本願の第７発明によれば、現像液の吐出位置の直後に円筒ローラを配置する。当該円筒ローラにより、基板を精度よく水平に支持しつつ、基板の上面に、現像液のパドルを良好に形成できる。

【0025】

特に、本願の第８発明によれば、基板が搬送方向に対して斜めに移動することを抑制できる。

【図面の簡単な説明】

【0026】

【図1】現像装置の側面図である。

【図2】現像装置の上面図である。

【図3】搬送機構の部分上面図である。

【図4】第２実施形態に係る搬送機構の部分上面図である。

【図5】第３実施形態に係る搬送機構の部分上面図である。

【図6】第４実施形態に係る搬送機構の部分上面図である。

【図7】第５実施形態に係る搬送機構の部分上面図である。

【図8】第６実施形態に係る搬送機構の部分上面図である。

【図9】第７実施形態に係る現像装置の上面図である。

【発明を実施するための形態】

【0027】

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。

【0028】

＜１．第１実施形態＞
＜１－１．基板処理装置の構成＞
図１は、本発明に係る基板処理装置の一例となる現像装置１の側面図である。図２は、現像装置１の上面図である。この現像装置１は、有機ＥＬパネルの製造工程において、矩形状の基板９に対して、現像処理を行う装置である。現像装置１は、洗浄、レジスト液の塗布、乾燥、露光、現像等の処理を一貫して行う、いわゆるコータ・デベロッパの一部分として使用される。ただし、現像装置１は、コータ・デベロッパを構成する塗布装置や露光装置とは切り離されて、単独で使用されるものであってもよい。

【0029】

現像装置１に搬入される基板９の上面には、レジスト膜（フォトレジストの膜）が形成されている。また、当該レジスト膜は、前段の露光装置において、部分的に露光されている。現像装置１は、このような基板９を搬送しつつ、基板９の上面に現像液Ｌを供給する。これにより、レジスト膜の露光された部分が溶解（現像）される。

【0030】

図１および図２に示すように、現像装置１は、チャンバ１０、搬送機構２０、処理液供給部３０、および制御部４０を備える。なお、以下では、搬送機構２０による基板９の搬送方向の上流側を単に「上流側」と称し、搬送方向の下流側を単に「下流側」と称する。

【0031】

チャンバ１０は、基板９の搬送方向に沿って延びる、略直方体状の筐体である。チャンバ１０の内部には、基板９に対して現像処理を行うための空間が存在する。なお、チャンバ１０の内部構造を明示するために、図１および図２では、チャンバ１０を断面の状態で示している。チャンバ１０の上流側の端部には、基板９を搬入するための搬入口１１が設けられている。チャンバ１０の下流側の端部には、基板９を搬出するための搬出口１２が設けられている。また、チャンバ１０の底面には、チャンバ１０内で使用された現像液Ｌを外部へ排出するための排液孔１３が設けられている。

【0032】

搬送機構２０は、チャンバ１０内において、基板９を搬送する機構である。搬送機構２０は、基板９を水平な姿勢に支持しつつ、水平方向である搬送方向に沿って、基板９を搬送する。図１および図２に示すように、搬送機構２０は、複数の搬送ローラ２１を有する。複数の搬送ローラ２１は、搬送方向に間隔をあけて配列されている。複数の搬送ローラ２１は、モータ等により構成されるローラ駆動機構２２に、接続されている。ローラ駆動機構２２を動作させると、各搬送ローラ２１は、幅方向（基板９の搬送方向に対して直交し、かつ、水平な方向）に延びる軸を中心として回転する。

【0033】

チャンバ１０内に基板９が搬入されると、複数の搬送ローラ２１は、基板９の下面に接触しつつ、回転する。これにより、基板９が水平な姿勢に支持されつつ、下流側へ搬送される。

【0034】

処理液供給部３０は、搬送機構２０により搬送される基板９の上面に、処理液としての現像液Ｌを供給する機構である。図１に示すように、処理液供給部３０は、ノズル３１、給液配管３２、および給液タンク３３を有する。ノズル３１は、チャンバ１０内に配置されている。また、ノズル３１は、搬送機構２０による基板９の搬送経路の上方に、配置されている。ノズル３１の下端部には、幅方向に延びるスリット状の吐出口が設けられている。吐出口は、搬送機構２０により搬送される基板９の上面と、僅かな隙間を介して、上下方向に対向する。

【0035】

給液配管３２の下流側の端部は、ノズル３１に接続されている。給液配管３２の上流側の端部は、給液タンク３３に接続されている。また、給液配管３２の経路上には、バルブ３４およびポンプ３５が設けられている。給液タンク３３には、供給前の現像液Ｌが貯留されている。現像液Ｌは、例えば、常温の水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）である。ただし、現像液Ｌは、ＴＭＡＨ以外の液体であってもよい。

【0036】

バルブ３４を開放して、ポンプ３５を動作させると、給液タンク３３から給液配管３２を通ってノズル３１へ、現像液Ｌが供給される。そして、ノズル３１の吐出口から、下方へ向けて、現像液Ｌが吐出される。基板９は、現像液Ｌを吐出するノズル３１の下方を通過する。これにより、基板９の上面に、現像液Ｌのパドル（液だまり）が形成される。現像液Ｌは、その表面張力によって、基板９の上面に保持される。

【0037】

制御部４０は、現像装置１の各部を動作制御するためのユニットである。制御部４０は、ＣＰＵ等のプロセッサ、ＲＡＭ等のメモリ、およびハードディスクドライブ等の記憶部を有するコンピュータにより構成される。記憶部には、現像処理を実行するためのコンピュータプログラムおよび各種データが、記憶されている。また、図１および図２中に破線矢印で示したように、制御部４０は、上述したローラ駆動機構２２、バルブ３４、およびポンプ３５と、電気的に接続されている。制御部４０は、コンピュータプログラムに従って動作することにより、上記の各部を動作制御する。これにより、現像装置１における基板９の搬送および現像処理が進行する。

【0038】

＜１－２．搬送機構について＞
続いて、上述した搬送機構２０について、より詳細に説明する。

【0039】

図３は、搬送機構２０の部分上面図である。上述の通り、搬送機構２０は、複数の搬送ローラ２１を有する。図３に示すように、各搬送ローラ２１は、シャフト５１と、シャフト５１に固定されたローラ部材５２とを有する。

【0040】

シャフト５１は、幅方向に延びる軸Ａに沿って配置された、円柱状の部品である。シャフト５１は、ローラ部材５２よりも剛性が高い金属により形成される。シャフト５１の両端部は、チャンバ１０に対して静止したフレームに、ベアリングを介して、回転可能に支持される。また、シャフト５１は、上述したローラ駆動機構２２に接続されている。ローラ駆動機構２２を動作させると、複数のシャフト５１が、それぞれ、幅方向に延びる軸Ａを中心として回転する。

【0041】

ローラ部材５２は、上記の軸Ａに沿って幅方向に延びる、円筒状の部品である。ローラ部材５２は、例えば、シャフト５１よりも剛性が低い樹脂により形成される。シャフト５１は、ローラ部材５２の内側に挿入されている。ローラ部材５２は、シャフト５１の外周面に固定されている。したがって、ローラ駆動機構２２を動作させると、シャフト５１とともにローラ部材５２も、幅方向に延びる軸Ａを中心として回転する。

【0042】

ローラ部材５２は、その外周面に、接触部５３と非接触部５４とを有する。接触部５３は、ローラ部材５２の最外径を構成する。したがって、基板９の搬送時には、接触部５３が、基板９の下面に接触する。本実施形態の接触部５３は、上記の軸Ａを中心とする螺旋状である。接触部５３は、一条の螺旋状であってもよく、複数条の螺旋状であってもよい。接触部５３は、上記の軸Ａを中心とする円筒面の一部分となっている。

【0043】

非接触部５４は、ローラ部材５２の外周面のうち、接触部５３以外の部分である。非接触部５４は、接触部５３よりも内側（軸Ａを中心とする径方向の内側）へ凹んでいる。このため、基板９の搬送時にも、非接触部５４は、基板９の下面に接触しない。すなわち、搬送ローラ２１は、その外周面のうち、部分的に形成された接触部５３のみを、基板９の下面に接触させつつ回転することにより、基板９を下流側へ搬送する。

【0044】

ローラ部材５２の外周面における接触部５３の幅方向の位置は、軸Ａを中心とする周方向の角度位置に応じて、変化する。このため、基板９の下面に対するローラ部材５２の接触位置は、搬送ローラ２１の回転に伴い、幅方向に変化する。このようにすれば、基板９の下面のうち、幅方向の特定の位置のみに、搬送ローラ２１が接触することを防止できる。これにより、幅方向の特定の位置に、現像液Ｌの温度変化や現像液Ｌの流れが集中することを、抑制できる。その結果、基板９の上面に形成されたレジスト膜に、搬送ローラ２１との接触に起因する筋状のムラが生じることを、抑制できる。

【0045】

また、接触部５３は、ローラ部材５２の外周面に、部分的に形成されている。このため、ローラ部材５２の外周面の全体を円筒状の接触部とする場合よりも、基板９との接触面積を低減できる。したがって、基板９の上面においてパドルを形成する現像液Ｌの一部が、表面張力によって、ローラ部材５２の表面へ流出し、それにより、パドルの厚みが減少するという問題が生じにくい。また、ローラ部材５２の外周面に付着した泡が、基板９の上面へ乗り上げるという問題も生じにくい。したがって、基板９の上面に形成される現像液Ｌのパドルを適切な厚みに維持しつつ、レジスト膜を均一に現像することができる。

【0046】

特に、本実施形態のように、接触部５３を螺旋状とすれば、接触部５３を、幅方向に切れ目なく形成できる。したがって、接触部５３が存在しない幅方向の位置を低減できる。これにより、基板９の上面のレジスト膜に、搬送ローラ２１との接触に起因する筋状のムラが生じることを、より抑制できる。

【0047】

また、図３に示すように、本実施形態の搬送機構２０は、複数のガイドローラ２３を有する。各ガイドローラ２３は、上下方向に延びる軸を中心として、回転可能となっている。複数のガイドローラ２３のうち、搬送経路の右側に配置されたガイドローラ２３は、基板９の右側の端縁部に接触する。複数のガイドローラ２３のうち、搬送経路の左側に配置されたガイドローラ２３は、基板９の左側の端縁部に接触する。このように、基板９の幅方向の両端縁部にガイドローラ２３が接触することで、基板９の幅方向の移動を抑制できる。特に、本実施形態では、搬送ローラ２１の接触部５３が螺旋状であるため、搬送ローラ２１から基板９に対して、斜め方向の力がかかりやすい。しかしながら、ガイドローラ２３を設けることで、基板９が斜めに移動することを抑制し、基板９を搬送方向に精度よく搬送できる。

【0048】

＜２．第２実施形態＞
続いて、本発明の第２実施形態について、説明する。なお、以下では、上述した実施形態との相違点を中心に説明する。上述した実施形態と同等の部分については、重複説明を省略する。

【0049】

図４は、第２実施形態に係る搬送機構２０の部分上面図である。図４に示すように、本実施形態では、複数の搬送ローラ２１が、複数の右巻き搬送ローラ２１Ａと、複数の左巻き搬送ローラ２１Ｂとを含む。右巻き搬送ローラ２１Ａは、接触部５３が右巻きの螺旋状となっている。すなわち、右巻き搬送ローラ２１Ａは、幅方向の一端から他端へ向かうにつれて、接触部５３が時計回りの螺旋状に延びる。左巻き搬送ローラ２１Ｂは、接触部５３が左巻きの螺旋状となっている。すなわち、左巻き搬送ローラ２１Ｂは、幅方向の一端から他端へ向かうにつれて、接触部５３が反時計回りの螺旋状に延びる。

【0050】

右巻き搬送ローラ２１Ａと左巻き搬送ローラ２１Ｂとは、搬送方向に沿って、交互に配列されている。このようにすれば、基板９の下面に対する搬送ローラ２１の接触位置を、より均一化できる。したがって、基板９の上面のレジスト膜に、搬送ローラ２１との接触に起因する筋状のムラが生じることを、より抑制できる。

【0051】

＜３．第３実施形態＞
続いて、本発明の第３実施形態について、説明する。なお、以下では、上述した実施形態との相違点を中心に説明する。上述した実施形態と同等の部分については、重複説明を省略する。

【0052】

図５は、第３実施形態に係る搬送機構２０の部分上面図である。図５に示すように、本実施形態では、ローラ部材５２が、連続した螺旋状の接触部５３ではなく、複数の孤立した接触部５３を有する。複数の接触部５３は、幅方向に沿って、等間隔に配列されている。各接触部５３は、幅方向に延びる軸Ａに対して傾斜した楕円状となっている。

【0053】

このような形態でも、ローラ部材５２の外周面における接触部５３の幅方向の位置は、軸Ａを中心とする周方向の角度位置に応じて、変化する。このため、基板９の下面に対するローラ部材５２の接触位置は、搬送ローラ２１の回転に伴い、幅方向に変化する。したがって、基板９の下面のうち、幅方向の特定の位置のみに、搬送ローラ２１が接触することを防止できる。これにより、基板９の上面のレジスト膜に、搬送ローラ２１との接触に起因する筋状のムラが生じることを、抑制できる。

【0054】

また、接触部５３を、閉じた楕円状とすることで、螺旋状の場合よりも、接触部５３の加工が容易となる。すなわち、ローラ部材５２の外周面に、接触部５３を容易に形成できる。したがって、複数の接触部５３を有するローラ部材５２を、容易に製造できる。

【0055】

＜４．第４実施形態＞
続いて、本発明の第４実施形態について、説明する。なお、以下では、上述した実施形態との相違点を中心に説明する。上述した実施形態と同等の部分については、重複説明を省略する。

【0056】

図６は、第４実施形態に係る搬送機構２０の部分上面図である。図６に示すように、本実施形態の搬送ローラ２１は、１本の円筒状のローラ部材５２ではなく、複数のローラ部材５２を有する。複数のローラ部材５２は、幅方向に沿って、等間隔に配列されている。各ローラ部材５２は、シャフト５１の外周面に固定されている。また、各ローラ部材５２は、幅方向に延びる軸Ａに対して傾斜した楕円状の接触部５３を有する。

【0057】

本実施形態の構造では、接触部５３を有する小型のローラ部材５２を多数作製し、それらをシャフト５１に固定することで、搬送ローラ２１を製造できる。これにより、複数の接触部５３を有する搬送ローラ２１を、より容易に製造できる。

【0058】

なお、図６の例では、１つのローラ部材５２が、１つの楕円状の接触部５３を有していた。しかしながら、１つのローラ部材５２が、楕円状の接触部５３を、複数有していてもよい。また、各ローラ部材５２は、螺旋状の接触部５３を有していてもよい。

【0059】

＜５．第５実施形態＞
続いて、本発明の第５実施形態について、説明する。なお、以下では、上述した実施形態との相違点を中心に説明する。上述した実施形態と同等の部分については、重複説明を省略する。

【0060】

図７は、第５実施形態に係る搬送機構２０の部分上面図である。図７に示すように、本実施形態では、複数の搬送ローラ２１が、複数の第１搬送ローラ２１Ｃと、複数の第２搬送ローラ２１Ｄとを含む。第１搬送ローラ２１Ｃおよび第２搬送ローラ２１Ｄは、それぞれ、第４実施形態と同様に、複数のローラ部材５２を有する。複数のローラ部材５２は、幅方向に沿って、等間隔に配列されている。各ローラ部材５２は、幅方向に延びる軸Ａに対して傾斜した楕円状の接触部５３を有する。

【0061】

ただし、本実施形態では、幅方向において、第１搬送ローラ２１Ｃの接触部５３と、第２搬送ローラ２１Ｄの接触部５３とが、交互に配列されている。換言すると、第２搬送ローラ２１Ｄの接触部５３は、第１搬送ローラ２１Ｃの隣り合う接触部５３の間に相当する幅方向の位置に、配置されている。したがって、第１搬送ローラ２１Ｃの接触部５３の幅方向の中心位置と、第２搬送ローラ２１Ｄの接触部５３の幅方向の中心位置とは、軸方向に重ならない。

【0062】

第１搬送ローラ２１Ｃと第２搬送ローラ２１Ｄとは、搬送方向に沿って、交互に配列されている。このようにすれば、基板９の下面に対する搬送ローラ２１の接触位置を、より均一化できる。したがって、基板９の上面のレジスト膜に、搬送ローラ２１との接触に起因する筋状のムラが生じることを、より抑制できる。

【0063】

＜６．第６実施形態＞
続いて、本発明の第６実施形態について、説明する。なお、以下では、上述した実施形態との相違点を中心に説明する。上述した実施形態と同等の部分については、重複説明を省略する。

【0064】

図８は、第６実施形態に係る搬送機構２０の部分上面図である。本実施形態の搬送ローラ２１は、上述した第４実施形態および第５実施形態と同様に、複数のローラ部材５２を有する。ただし、本実施形態では、各ローラ部材５２が、非接触部５４に相当する部分をもたない、楕円形状の板となっている。このようにすれば、各ローラ部材５２の形状が、より単純化される。したがって、複数のローラ部材５２を，より容易に製造できる。

【0065】

＜７．第７実施形態＞
続いて、本発明の第７実施形態について、説明する。なお、以下では、上述した実施形態との相違点を中心に説明する。上述した実施形態と同等の部分については、重複説明を省略する。

【0066】

図９は、第７実施形態に係る現像装置１の上面図である。図９に示すように、本実施形態の搬送機構２０は、複数の搬送ローラ２１と、複数の円筒ローラ（ベタローラ）２４とを有する。複数の円筒ローラ２４は、ノズル３１による現像液Ｌの吐出位置から下流側へ向かう所定範囲の領域に、搬送方向に間隔をあけて配列されている。複数の搬送ローラ２１は、基板９の搬送経路のうち、円筒ローラ２４が配置される上記領域以外の領域に、配置されている。複数の搬送ローラ２１および複数の円筒ローラ２４は、ローラ駆動機構２２に接続されている。このため、ローラ駆動機構２２を動作させると、複数の搬送ローラ２１および複数の円筒ローラ２４は、それぞれ、幅方向に延びる軸Ａを中心として回転する。

【0067】

各円筒ローラ２４のローラ部材の外周面は、幅方向に沿って延びる１本の円筒面となっている。円筒ローラ２４は、その円筒面を、基板９の下面に接触させつつ回転することにより、基板９を下流側へ搬送する。

【0068】

円筒ローラ２４は、基板９との接触面積が小さい搬送ローラ２１よりも、基板９を、精度よく水平に支持できる。本実施形態では、このような円筒ローラ２４が、処理液の吐出位置の直後に配置されている、これにより、基板９を精度よく水平に支持しつつ、基板９の上面に、処理液のパドルを形成できる。

【0069】

なお、図９の例では、ノズル３１による現像液Ｌの吐出位置の直後に、３本の円筒ローラ２４が配置されている。しかしながら、円筒ローラ２４の数は、１～２本であってもよく、４本以上であってもよい。

【0070】

＜８．変形例＞
上記の実施形態では、基板９の上面に処理液としての現像液Ｌを供給する現像装置１について説明した。しかしながら、本発明の基板処理装置は、現像装置１に限定されるものではない。例えば、基板処理装置は、基板の上面に処理液としてのレジスト液を塗布する塗布装置であってもよい。また、基板処理装置は、基板の上面に処理液としてのエッチング液を供給するエッチング装置であってもよい。また、基板処理装置は、基板の上面に処理液としての洗浄液を供給する洗浄装置であってもよい。

【0071】

また、上記の実施形態では、処理対象となる基板９が、有機ＥＬパネル用の基板であった。しかしながら、本発明の基板処理装置において、処理対象となる基板は、液晶パネル用基板、プラズマディスプレイ用基板、太陽電池パネル用基板、光ディスク用基板、半導体ウェハ等の他の基板であってもよい。

【0072】

その他、上記の実施形態および変形例に登場した各要素を、矛盾が生じない範囲で、適宜に組み合わせてもよい。

【符号の説明】

【0073】

１ 現像装置
９ 基板
１０ チャンバ
１３ 排液孔
２０ 搬送機構
２１ 搬送ローラ
２１Ａ 右巻き搬送ローラ
２１Ｂ 左巻き搬送ローラ
２１Ｃ 第１搬送ローラ
２１Ｄ 第２搬送ローラ
２２ ローラ駆動機構
２３ ガイドローラ
２４ 円筒ローラ
３０ 処理液供給部
３１ ノズル
４０ 制御部
５１ シャフト
５２ ローラ部材
５３ 接触部
５４ 非接触部
Ａ 軸
Ｌ 現像液

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】