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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-01-05
(45)【発行日】2024-01-16
(54)【発明の名称】光導波路の製造方法
(51)【国際特許分類】
G02B 6/138 20060101AFI20240109BHJP
G02B 6/132 20060101ALI20240109BHJP
【ＦＩ】
G02B6/138
G02B6/132
【請求項の数】
6
(21)【出願番号】P 2023509868
(86)(22)【出願日】2022-10-20
(86)【国際出願番号】 JP2022039043
(87)【国際公開番号】W WO2023074516
(87)【国際公開日】2023-05-04
【審査請求日】2023-04-10
(31)【優先権主張番号】P 2021176253
(32)【優先日】2021-10-28
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
【早期審査対象出願】
(73)【特許権者】
【識別番号】000002141
【氏名又は名称】住友ベークライト株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100091292
【弁理士】
【氏名又は名称】増田 達哉
(74)【代理人】
【識別番号】100173428
【弁理士】
【氏名又は名称】藤谷 泰之
(74)【代理人】
【識別番号】100091627
【弁理士】
【氏名又は名称】朝比 一夫
(72)【発明者】
【氏名】今井 洋武
(72)【発明者】
【氏名】兼田 幹也
【審査官】大西 孝宣
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２０１２／０８１３７５（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２０１８－０８４６９５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１８－１４１９１０（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１９－０２８１１６（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２００６／０５４５６９（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開２００３－３４４６８４（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２００９／１５４２０６（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１９／０９３４６０（ＷＯ，Ａ１）
【文献】米国特許出願公開第２００３／００３８２５１（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開２０１１－０５３４８３（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｂ ６／１２ － ６／１４
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材と、前記基材に積層されているコア形成層と、を有する露光前積層体を準備する工程と、前記コア形成層に活性放射線を照射し、前記活性放射線の非照射領域に対応するコア部およびマークならびに前記活性放射線の照射領域に対応する側面クラッド部を含むコア層、ならびに、前記コア層を支持する前記基材、を有する露光後積層体を得る工程と、
前記露光後積層体が有する前記コア層にクラッド層を積層し、ワークを得る工程と、
前記ワークから光導波路を切り出す工程と、
を有し、
前記照射領域は、前記コア形成層の外縁に沿って延在し、枠状をなす枠状部分を含み、
前記枠状部分に前記マークを前記非照射領域として形成し、
前記露光前積層体における前記照射領域の面積は、前記コア形成層の全体の５０％以上であり、
前記露光後積層体における前記枠状部分の面積は、前記照射領域のうちの７０％以上であることを特徴とする光導波路の製造方法。
【請求項2】
前記コア形成層は、ポリマーおよびモノマーを含み、前記活性放射線の照射により、前記モノマーが移動して、前記照射領域と前記非照射領域との間に屈折率差を生じさせる請求項１に記載の光導波路の製造方法。
【請求項3】
前記クラッド層の膜厚は、１～２００μｍである請求項１または２に記載の光導波路の製造方法。
【請求項4】
前記ワークは、前記コア層と、
前記コア層を介して積層された２つの前記クラッド層と、
を備え、
前記ワークを得る工程は、
前記露光後積層体が有する前記コア層に前記クラッド層を積層し、第１積層体を得る操作と、
前記第１積層体から前記基材を剥離し、残部を第２積層体とする操作と、
前記第２積層体が有する前記コア層に前記クラッド層を積層し、前記ワークを得る操作と、
を有する請求項１または２に記載の光導波路の製造方法。
【請求項5】
前記ワークは、前記コア層および２つの前記クラッド層を挟むように積層されている第１カバー層および第２カバー層をさらに備える請求項４に記載の光導波路の製造方法。
【請求項6】
前記ワークの膜厚は、５０～３００μｍである請求項１または２に記載の光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光導波路の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献１には、コア層と、コア層を挟んで配置される第１クラッド層および第２クラッド層と、を備える光導波路の製造方法が開示されている。この製造方法は、具体的には、基材に積層形成したコア層に第１クラッド層を積層する工程と、コア層から基材を除去する工程と、コア層の基材を除去した側の面に第２クラッド層を積層する工程と、を有する。
【0003】
また、特許文献１には、塗布法によりコア形成用フィルムを形成する工程と、コア形成用フィルムに対し、選択的に紫外線を照射した後、オーブンで加熱して硬化させ、コア層を得る工程と、を経てコア層が製造されることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】国際公開第２０１２／０８１３７５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明者が鋭意検討した結果、非照射領域の大きさによって、コア層の変形量（反り量）が変わることがわかってきた。コア層の反り量が大きくなると、コア層に第１クラッド層を積層する工程や、コア層から基材を除去する工程等の実施に支障が及ぶ。したがって、光導波路の製造効率を高めるためには、コア層の反り量を抑制することが求められる。
【0006】
本発明の目的は、活性放射線の照射に伴う露光後積層体における反り等の変形を抑制し、製造効率を高め得る光導波路の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
このような目的は、下記（１）～（６）の本発明により達成される。
（１） 基材と、前記基材に積層されているコア形成層と、を有する露光前積層体を準備する工程と、
前記コア形成層に活性放射線を照射し、前記活性放射線の非照射領域に対応するコア部およびマークならびに前記活性放射線の照射領域に対応する側面クラッド部を含むコア層、ならびに、前記コア層を支持する前記基材、を有する露光後積層体を得る工程と、
前記露光後積層体が有する前記コア層にクラッド層を積層し、ワークを得る工程と、
前記ワークから光導波路を切り出す工程と、
を有し、
前記照射領域は、前記コア形成層の外縁に沿って延在し、枠状をなす枠状部分を含み、
前記枠状部分に前記マークを前記非照射領域として形成し、
前記露光前積層体における前記照射領域の面積は、前記コア形成層の全体の５０％以上であり、
前記露光後積層体における前記枠状部分の面積は、前記照射領域のうちの７０％以上であることを特徴とする光導波路の製造方法。
（１） 基材と、前記基材に積層されているコア形成層と、を有する露光前積層体を準備する工程と、
前記コア形成層に活性放射線を照射し、前記活性放射線の非照射領域に対応するコア部およびマークならびに前記活性放射線の照射領域に対応する側面クラッド部を含むコア層、ならびに、前記コア層を支持する前記基材、を有する露光後積層体を得る工程と、
前記露光後積層体が有する前記コア層にクラッド層を積層し、ワークを得る工程と、
前記ワークから光導波路を切り出す工程と、
を有し、
前記照射領域は、前記コア形成層の外縁に沿って延在し、枠状をなす枠状部分を含み、
前記枠状部分に前記マークを前記非照射領域として形成し、
前記露光前積層体における前記照射領域の面積は、前記コア形成層の全体の５０％以上であり、
前記露光後積層体における前記枠状部分の面積は、前記照射領域のうちの７０％以上であることを特徴とする光導波路の製造方法。
【0008】
（２） 前記コア形成層は、ポリマーおよびモノマーを含み、
前記活性放射線の照射により、前記モノマーが移動して、前記照射領域と前記非照射領域との間に屈折率差を生じさせる上記（１）に記載の光導波路の製造方法。
前記活性放射線の照射により、前記モノマーが移動して、前記照射領域と前記非照射領域との間に屈折率差を生じさせる上記（１）に記載の光導波路の製造方法。
【0009】
（３） 前記クラッド層の膜厚は、１～２００μｍである上記（１）または（２）に記載の光導波路の製造方法。
【0010】
（４） 前記ワークは、
前記コア層と、
前記コア層を介して積層された２つの前記クラッド層と、
を備え、
前記ワークを得る工程は、
前記露光後積層体が有する前記コア層に前記クラッド層を積層し、第１積層体を得る操作と、
前記第１積層体から前記基材を剥離し、残部を第２積層体とする操作と、
前記第２積層体が有する前記コア層に前記クラッド層を積層し、前記ワークを得る操作と、
を有する上記（１）ないし（３）のいずれかに記載の光導波路の製造方法。
前記コア層と、
前記コア層を介して積層された２つの前記クラッド層と、
を備え、
前記ワークを得る工程は、
前記露光後積層体が有する前記コア層に前記クラッド層を積層し、第１積層体を得る操作と、
前記第１積層体から前記基材を剥離し、残部を第２積層体とする操作と、
前記第２積層体が有する前記コア層に前記クラッド層を積層し、前記ワークを得る操作と、
を有する上記（１）ないし（３）のいずれかに記載の光導波路の製造方法。
【0011】
（５） 前記ワークは、前記コア層および２つの前記クラッド層を挟むように積層されている第１カバー層および第２カバー層をさらに備える上記（４）に記載の光導波路の製造方法。
【0012】
（６） 前記ワークの膜厚は、５０～３００μｍである上記（１）ないし（５）のいずれかに記載の光導波路の製造方法。
【発明の効果】
【0013】
本発明によれば、活性放射線の照射に伴う露光後積層体における反り等の変形を抑制し、光導波路を効率よく製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【0014】
【発明を実施するための形態】
【0015】
以下、本発明の光導波路の製造方法について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
【0016】
【0017】
なお、本願の各図では、互いに直交する３つの軸として、Ｘ軸、Ｙ軸およびＺ軸を設定し、矢印で示している。また、矢印の先端側を「プラス側」といい、基端側を「マイナス側」という。さらに、Ｚ軸を表す矢印の先端側を「上」といい、基端側を「下」という。
【0018】
１．ワーク
図１に示すワーク１００は、図２に示す光導波路１の製造に用いられる部材であって、シート状をなしており、２個のユニット２００を有している。各ユニット２００は、２個のピース３００を有している。ピース３００からは、１個の光導波路１を切り出すことができる。したがって、ワーク１００は、一度に４個の光導波路１を製造可能な部材である。なお、一度に製造可能な光導波路１の数は、１個以上であれば特に限定されない。また、ユニット２００の数も限定されない。
図１に示すワーク１００は、図２に示す光導波路１の製造に用いられる部材であって、シート状をなしており、２個のユニット２００を有している。各ユニット２００は、２個のピース３００を有している。ピース３００からは、１個の光導波路１を切り出すことができる。したがって、ワーク１００は、一度に４個の光導波路１を製造可能な部材である。なお、一度に製造可能な光導波路１の数は、１個以上であれば特に限定されない。また、ユニット２００の数も限定されない。
【0019】
１．１．構造
図２は、ワーク１００のうち、１つのピース３００近傍を拡大した図である。
図２に示すように、ピース３００は、１３本のコア部１４と、１２本の第１側面クラッド部１５とを有している。これらは、それぞれ長尺状をなし、Ｘ軸に沿って延在するとともに、Ｙ軸に沿って並んでいる。なお、ピース３００が有するコア部１４の数は、特に限定されず、１本以上であればよい。
図２は、ワーク１００のうち、１つのピース３００近傍を拡大した図である。
図２に示すように、ピース３００は、１３本のコア部１４と、１２本の第１側面クラッド部１５とを有している。これらは、それぞれ長尺状をなし、Ｘ軸に沿って延在するとともに、Ｙ軸に沿って並んでいる。なお、ピース３００が有するコア部１４の数は、特に限定されず、１本以上であればよい。
【0020】
各コア部１４のＹ軸方向の少なくとも一方には、第１側面クラッド部１５が隣接している。したがって、第１側面クラッド部１５は、コア部１４同士の間に配置されている。また、これらの周りを囲うように、枠状をなす第２側面クラッド部１７が設けられている。なお、以下の説明では、第１側面クラッド部１５および第２側面クラッド部１７の双方を指して、単に「側面クラッド部」ということがある。
【0021】
コア部１４には、光信号が入射され、Ｙ軸に沿って光信号が伝送される。これにより、コア部１４を介して光通信が可能になる。なお、光導波路１は、照明の用途に用いられてもよい。また、複数のコア部１４のうち、一部に光信号を入射させ、他部には光信号を入射させないように光導波路１を用いてもよい。これにより、他部のコア部１４がダミーとして機能し、一部のコア部１４の伝送効率を高めることができる。
【0022】
ワーク１００は、図３に示すように、第１カバー層１８、第１クラッド層１１、コア層１３、第２クラッド層１２および第２カバー層１９がこの順で積層されている積層構造を備える。積層構造の各層は、Ｘ－Ｙ面に沿って広がっている。ワーク１００は、樹脂フィルムであり、可撓性を有する。なお、図１および図２は、ワーク１００を上方から見た平面図であり、第２カバー層１９および第２クラッド層１２を介してコア層１３を透視した図である。なお、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２の一方は、省略されていてもよい。また、第１カバー層１８および第２カバー層１９のいずれか一方は、省略されていてもよい。さらに、第１クラッド層１１と第１カバー層１８との間、および、第２クラッド層１２と第２カバー層１９との間には、それぞれ任意の中間層が設けられていてもよい。
【0023】
前述したコア部１４、第１側面クラッド部１５および第２側面クラッド部１７は、コア層１３中に設けられている。したがって、コア部１４は、第１側面クラッド部１５および第２側面クラッド部１７と第１クラッド層１１および第２クラッド層１２とで囲まれることになり、内部に光を閉じ込めることができる。
【0024】
コア層１３中におけるコア部１４や側面クラッド部は、構成材料の屈折率差に基づいて形成されている。例えば、コア部１４および側面クラッド部の構成材料を異ならせることでコア層１３中に屈折率の分布を形成することができる。また、コア層１３の構成材料として、主鎖から分岐し、活性放射線の照射により、その分子構造の少なくとも一部が主鎖から離脱し得る離脱性基（離脱性ペンダントグループ）を有しているポリマーを用いる方法を利用することができる。係る方法では、離脱性基の離脱によりポリマーの屈折率が低下するため、ポリマーは、活性放射線の照射の有無によって屈折率差を形成し、コア層１３中に屈折率の分布を形成することができる。コア層１３中に屈折率の分布を形成する方法としては、様々な方法があるが、本実施形態では、コア層１３がポリマーおよびモノマーを含み、モノマーの濃度差またはモノマー由来の構造の濃度差に基づいた屈折率の分布を有している。
【0025】
屈折率の分布とは、屈折率が高い部分と低い部分とが存在することをいう。本実施形態では、ポリマーと、モノマーまたはモノマー由来の構造とで、屈折率が異なっている。そして、本実施形態では、後者の屈折率が前者よりも低い。このため、濃度差に伴って屈折率の分布が形成される。そして、屈折率の分布に対応して、コア層１３中に、コア部１４、第１側面クラッド部１５および第２側面クラッド部１７が形成されている。
【0026】
コア部１４同士のＹ軸方向の幅は、互いに等しくても、互いに異なっていてもよい。また、コア部１４のＹ軸方向の幅と第１側面クラッド部１５の幅とは、互いに等しくても、互いに異なっていてもよい。
【0027】
さらに、コア部１４は、途中で分岐していてもよいし、途中で他のコア部１４と交差していてもよい。
【0028】
ワーク１００のＸ軸方向の全長は、特に限定されないが、１００～３０００ｍｍ程度であるのが好ましく、５００～２０００ｍｍ程度であるのがより好ましい。ワーク１００のＹ軸方向の全幅も、特に限定されないが、１０～５００ｍｍ程度であるのが好ましく、５０～２００ｍｍ程度であるのがより好ましい。
【0029】
コア層１３のＺ軸方向の膜厚は、特に限定されないが、１～２００μｍ程度であるのが好ましく、５～１００μｍ程度であるのがより好ましく、１０～７０μｍ程度であるのがさらに好ましい。これにより、コア層１３に必要とされる光学的特性および機械的強度が確保される。
【0030】
クラッド層である第１クラッド層１１および第２クラッド層１２のＺ軸方向の膜厚は、それぞれ１～２００μｍ程度であるのが好ましく、３～１００μｍ程度であるのがより好ましく、５～５０μｍ程度であるのがさらに好ましい。これにより、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２として十分な膜厚が確保され、これらに必要とされる光学的特性および機械的強度が確保される。また、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２を製造するとき、硬化収縮量が大きくなりすぎるのを抑制することができる。
【0031】
第１カバー層１８は、第１クラッド層１１の下面に積層されている。第２カバー層１９は、第２クラッド層１２の上面に積層されている。これにより、ワーク１００の機械的特性や耐久性を高めることができる。
【0032】
ワーク１００のＺ軸方向の膜厚は、５０～３００μｍであるのが好ましく、６０～２００μｍであるのがより好ましく、７０～１５０μｍであるのがさらに好ましい。これにより、ワーク１００の可撓性を高めつつ、ワーク１００の機械的強度を十分に確保することができる。また、ワーク１００に適度な厚さがあるため、ワーク１００を容易に効率よく製造することができる。
【0033】
１．２．側面クラッド部が占める面積
ワーク１００では、側面クラッド部（第１側面クラッド部１５および第２側面クラッド部１７）が占める面積が、コア層１３の全体の２０％以上になっている。後述する製造方法において説明するように、側面クラッド部は、コア部１４に比べて、製造過程での体積変化が少ない。このため、コア層１３の全体に対して側面クラッド部が占める面積の割合、つまり、側面クラッド部の面積比率が前記範囲内になるようにワーク１００を製造することで、変形（反り）の少ないワーク１００を製造することができる。これにより、ワーク１００から光導波路１を製造するとき、ワーク１００の変形に伴う製造効率の低下を抑制することができる。
ワーク１００では、側面クラッド部（第１側面クラッド部１５および第２側面クラッド部１７）が占める面積が、コア層１３の全体の２０％以上になっている。後述する製造方法において説明するように、側面クラッド部は、コア部１４に比べて、製造過程での体積変化が少ない。このため、コア層１３の全体に対して側面クラッド部が占める面積の割合、つまり、側面クラッド部の面積比率が前記範囲内になるようにワーク１００を製造することで、変形（反り）の少ないワーク１００を製造することができる。これにより、ワーク１００から光導波路１を製造するとき、ワーク１００の変形に伴う製造効率の低下を抑制することができる。
【0034】
１．３．光導波路
図４は、図２に示すワーク１００から切り出された光導波路１の一例を示す平面図である。
図４に示す光導波路１は、９本のコア部１４と、８本の第１側面クラッド部１５と、２本の第２側面クラッド部１７と、を有している。このような光導波路１は、例えば、他の光学部品と接続され、光配線を構築するのに用いられる。
図４は、図２に示すワーク１００から切り出された光導波路１の一例を示す平面図である。
図４に示す光導波路１は、９本のコア部１４と、８本の第１側面クラッド部１５と、２本の第２側面クラッド部１７と、を有している。このような光導波路１は、例えば、他の光学部品と接続され、光配線を構築するのに用いられる。
【0035】
光導波路１の両端部の少なくとも一方には、図示しない光コネクター（フェルール）が装着されていてもよい。光コネクターを介して、光導波路１と他の光学部品とを固定するとともに、光学的に接続することができる。また、光導波路１は、コア部１４を通過する光の光路を変換するミラーを有していてもよい。ミラーを介して光路を変換することにより、コア部１４と、光導波路１の外部に設けられた光学部品と、を光学的に接続することができる。なお、ミラーに代えて屈曲導波路を用いてもよい。
【0036】
２．本実施形態が解決しようとする課題
次に、比較例に係る光導波路の製造方法を説明することにより、本実施形態が解決しようとする課題について説明する。
次に、比較例に係る光導波路の製造方法を説明することにより、本実施形態が解決しようとする課題について説明する。
【0037】
図５は、比較例に係る光導波路の製造方法を説明するための平面図である。図６は、図５のＢ－Ｂ線断面図である。図７ないし図１０は、それぞれ、比較例に係る光導波路の製造方法を説明するための断面図である。なお、図５ないし図１０では、説明の便宜上、本実施形態と同様の構成については、同一の符号を付している。また、図７ないし図１０は、図６のＤ部拡大図に相当する。
【0038】
図５に示すワーク１００Ｘは、側面クラッド部の面積比率が２０％未満になっていること以外、本実施形態におけるワーク１００と同様である。具体的には、図５および図６に示すワーク１００Ｘでは、図２および図３に示すワーク１００と比べて、第２側面クラッド部１７の面積が小さくなっている。これにより、ワーク１００Ｘ全体で側面クラッド部の面積比率が２０％未満という小さな値になっている。このような側面クラッド部の面積比率は、ワーク１００Ｘの製造過程において、部材に反り等の変形が発生する原因となる。以下では、このような課題が生じる理由について説明する。
【0039】
比較例に係る光導波路の製造方法では、まず、図７（ａ）に示すように、基材５００とコア形成層１６０との積層体であるコアフィルム６００（露光前積層体）を用意する。
【0040】
コア形成層１６０の形成方法としては、例えば、ワニス状のコア形成用樹脂組成物を基材５００上に塗布した後、乾燥させる方法、基材５００上に樹脂膜を積層する方法等が挙げられる。
【0041】
コア形成用樹脂組成物としては、例えば、ポリマー、モノマー、重合開始剤等を含む組成物が挙げられる。
【0042】
モノマーとしては、可視光、紫外線、赤外線、レーザー光、電子線、Ｘ線等の活性放射線の照射により、照射領域において反応して反応物を生成する光重合性モノマーが挙げられる。また、モノマーは、活性放射線の照射時において、コア形成層１６０中の膜厚と直交する面内方向に移動可能であり、その結果として得られる図６に示すコア層１３Ｘにおいて、活性放射線Ｒの照射領域３０１と非照射領域３０２との間で屈折率差を生じさせるものであってもよい。
【0043】
次に、図７（ｂ）に示すように、フォトマスク３０３を介して、コア形成層１６０の一部に活性放射線Ｒを照射する。図７（ｂ）には、コア形成層１６０が含むポリマー１３１およびモノマー１３２を図示している。モノマー１３２やモノマー１３２由来の構造は、ポリマー１３１よりも屈折率が低い。
【0044】
活性放射線Ｒを照射した後、コア形成層１６０を加熱する。この加熱により、照射領域３０１に存在する重合開始剤が活性化し、モノマー１３２の反応が進行する。これにより、モノマー１３２の濃度差が生じ、それに伴ってモノマー１３２の移動が生じる。その結果、図８（ｄ）に示すように、照射領域３０１におけるモノマー１３２の濃度が上昇するとともに、非照射領域３０２におけるモノマー１３２の濃度が低下する。これにより、照射領域３０１の屈折率は、モノマー１３２の影響を受けて低くなり、非照射領域３０２の屈折率は、ポリマー１３１の影響を受けて高くなる。その結果、図８（ｅ）に示すように、コア部１４、第１側面クラッド部１５および第２側面クラッド部１７を含むコア層１３Ｘが得られる。そして、基材５００と、その上に形成されたコア層１３Ｘと、を有する露光後積層体６５０Ｘが得られる。
【0045】
ここで、非照射領域３０２に含まれるモノマー１３２の少なくとも一部は、前述したように、非照射領域３０２から照射領域３０１に移動する。そうすると、非照射領域３０２の体積は加熱によって減少（収縮）しやすくなる。また、非照射領域３０２に含まれるモノマー１３２の多くは、重合しないため、加熱によって揮発しやすい。モノマー１３２の揮発も、非照射領域３０２の収縮の原因となる。このような理由から、非照射領域３０２の面積比率が大きいと、コア形成層１６０の体積収縮が大きくなる。その結果、露光後積層体６５０Ｘには、反り等の変形が生じる。この変形は、後述する、露光後積層体６５０Ｘを用いた光導波路１Ｘの製造に悪影響を及ぼす。
【0046】
露光後積層体６５０Ｘを製造した後、図８（ｆ）に示すように、コア層１３Ｘに対し、クラッド形成層１７０および第２カバー層１９の積層体であるクラッドフィルム７０２を積層する。その後、得られた部材を加熱する。これにより、コア層１３Ｘとクラッドフィルム７０２とが接合し、図９（ｇ）に示すように、コア層１３Ｘを覆う第２クラッド層１２が得られる。
【0047】
次に、図９（ｈ）に示すように、コア層１３Ｘから基材５００を剥離する。
次に、図９（ｉ）に示すように、コア層１３Ｘに対し、クラッド形成層１７０および第１カバー層１８の積層体であるクラッドフィルム７０１を積層する。その後、得られた部材を加熱する。これにより、コア層１３Ｘとクラッドフィルム７０１とが接合し、図１０（ｊ）に示すように、コア層１３Ｘを覆う第１クラッド層１１が得られる。以上のようにして、図１０（ｊ）に示すワーク１００Ｘが得られる。
次に、図９（ｉ）に示すように、コア層１３Ｘに対し、クラッド形成層１７０および第１カバー層１８の積層体であるクラッドフィルム７０１を積層する。その後、得られた部材を加熱する。これにより、コア層１３Ｘとクラッドフィルム７０１とが接合し、図１０（ｊ）に示すように、コア層１３Ｘを覆う第１クラッド層１１が得られる。以上のようにして、図１０（ｊ）に示すワーク１００Ｘが得られる。
【0048】
【0049】
以上のような比較例に係る光導波路の製造方法では、前述したように、ワーク１００Ｘにおける側面クラッド部の面積比率が２０％未満になっている。側面クラッド部は、照射領域３０１に対応している。したがって、比較例に係る光導波路の製造方法では、照射領域３０１が占める面積が、コア形成層１６０の全体の２０％未満になっている。この場合、露光後積層体６５０Ｘには、図８（ｅ）に示すような反り等の変形が発生する。この変形は、ワーク１００Ｘの製造に支障を及ぼし、結果的に光導波路１Ｘの製造効率の低下を招く。後述する本実施形態に係る光導波路の製造方法によれば、上記のような課題を解決することができる。
【0050】
３．光導波路の製造方法
次に、実施形態に係る光導波路の製造方法について説明する。
図１１は、実施形態に係る光導波路の製造方法を説明するための工程図である。図１２ないし図１５は、それぞれ、実施形態に係る光導波路の製造方法を説明するための断面図である。なお、図１２ないし図１５は、図３のＣ部拡大図に相当する。
次に、実施形態に係る光導波路の製造方法について説明する。
図１１は、実施形態に係る光導波路の製造方法を説明するための工程図である。図１２ないし図１５は、それぞれ、実施形態に係る光導波路の製造方法を説明するための断面図である。なお、図１２ないし図１５は、図３のＣ部拡大図に相当する。
【0051】
図１１に示す光導波路の製造方法は、部材準備工程Ｓ１０２と、コア層形成工程Ｓ１０４と、クラッド層形成工程Ｓ１０６と、切断工程Ｓ１０８と、を有する。以下、各工程について順次説明する。
【0052】
３．１．部材準備工程
部材準備工程Ｓ１０２は、図１２（ａ）に示すコアフィルム６００を準備する。また、部材準備工程Ｓ１０２では、図１３（ｆ）に示すクラッドフィルム７０２、および、図１４（ｉ）に示すクラッドフィルム７０１を準備する。以下、これらの部材について順次説明する。
部材準備工程Ｓ１０２は、図１２（ａ）に示すコアフィルム６００を準備する。また、部材準備工程Ｓ１０２では、図１３（ｆ）に示すクラッドフィルム７０２、および、図１４（ｉ）に示すクラッドフィルム７０１を準備する。以下、これらの部材について順次説明する。
【0053】
３．１．１．コアフィルム
コアフィルム６００は、図１２（ａ）に示すように、基材５００とコア形成層１６０との積層体である。コアフィルム６００は、フィルム形状であり、枚葉状であっても、巻き取り可能なロール状であってもよい。
コアフィルム６００は、図１２（ａ）に示すように、基材５００とコア形成層１６０との積層体である。コアフィルム６００は、フィルム形状であり、枚葉状であっても、巻き取り可能なロール状であってもよい。
【0054】
コア形成層１６０の形成方法としては、例えば、ワニス状のコア形成用樹脂組成物を基材５００上に塗布した後、乾燥させる方法、基材５００上に樹脂膜を積層する方法等が挙げられる。
【0055】
樹脂組成物を塗布する方法では、例えば、スピンコーター、ダイコーター、コンマコーター、カーテンコーター等の各種コーターを用いて塗布する方法、スクリーン印刷のような印刷方法等が用いられる。
【0056】
樹脂膜を積層する方法では、ワニス状のコア形成用樹脂組成物から作製したフィルム状の樹脂膜を、例えばロールラミネート、真空ロールラミネート、平板ラミネート、真空平板ラミネート、常圧プレス、真空プレス等を用いて積層する方法等が用いられる。
【0057】
３．１．１．１．基材
基材５００には、例えば、樹脂フィルムが用いられる。基材５００の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）のようなフッ素樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー等が挙げられる。
基材５００には、例えば、樹脂フィルムが用いられる。基材５００の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）のようなフッ素樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー等が挙げられる。
【0058】
なお、基材５００には、必要に応じて、コア層１３と基材５００との剥離を容易にする離型処理等が施されていてもよい。
【0059】
３．１．１．２．コア形成用樹脂組成物
上記のコア形成用樹脂組成物としては、例えば、ポリマー、モノマー、重合開始剤等を含む組成物が挙げられる。
上記のコア形成用樹脂組成物としては、例えば、ポリマー、モノマー、重合開始剤等を含む組成物が挙げられる。
【0060】
３．１．１．２．１．ポリマー
ポリマーとしては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ＰＥＴやＰＢＴのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて、ポリマーアロイ、ポリマーブレンド（混合物）、共重合体等として用いられる。
ポリマーとしては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ＰＥＴやＰＢＴのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて、ポリマーアロイ、ポリマーブレンド（混合物）、共重合体等として用いられる。
【0061】
これらの中でも、ポリマーには、アクリル系樹脂、フェノキシ樹脂、または、環状オレフィン系樹脂が好ましく用いられる。
【0062】
アクリル系樹脂としては、例えば、単官能アクリレート、多官能アクリレート、単官能メタクリレート、多官能メタクリレート、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレート、ポリエステルアクリレート、および、尿素アクリレートからなる群から選択される１種以上を含むアクリル化合物の重合体が挙げられる。また、アクリル系樹脂は、ポリエステル骨格、ポリプロピレングリコール骨格、ビスフェノール骨格、フルオレン骨格、トリシクロデカン骨格、ジシクロペンタジエン骨格等を有していてもよい。
【0063】
フェノキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物またはそれらの誘導体、およびビスフェノールＦ、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物またはそれらの誘導体を共重合成分の構成単位として含む化合物が挙げられる。
【0064】
ポリマーの含有量は、例えば、コア形成用樹脂組成物の固形分全体の１５質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、６０質量％以上であることがさらに好ましい。これにより、コア層１３の機械的特性が向上する。また、コア形成用樹脂組成物に含まれるポリマーの含有量は、コア形成用樹脂組成物の固形分全体の９５質量％以下であることが好ましく、９０質量％以下であることがより好ましい。これにより、コア層１３の光学的特性が向上する。
【0065】
コア形成用樹脂組成物の固形分全体とは、組成物中における不揮発分を指し、水や溶媒等の揮発成分を除いた残部を指す。
【0066】
３．１．１．２．２．モノマー
モノマーとしては、分子構造中に重合可能な部位を有する化合物であればよく、特に限定されないが、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ノルボルネン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー、光二量化モノマー等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いられる。
モノマーとしては、分子構造中に重合可能な部位を有する化合物であればよく、特に限定されないが、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ノルボルネン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー、光二量化モノマー等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いられる。
【0067】
これらの中でも、モノマーとしては、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、または、エポキシ系モノマーが好ましく用いられる。
【0068】
アクリル酸（メタクリル酸）系モノマーとしては、例えば、２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレート等が挙げられる。具体的には、例えば、脂肪族（メタ）アクリレート、脂環式（メタ）アクリレート、芳香族（メタ）アクリレート、複素環式（メタ）アクリレート、またはこれらのエトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体等が挙げられる。また、分子内に、ビスフェノール骨格、ウレタン骨格等を有していてもよい。
【0069】
エポキシ系モノマーとしては、例えば、脂環族エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等が挙げられる。
【0070】
モノマーとしては、可視光、紫外線、赤外線、レーザー光、電子線、Ｘ線等の活性放射線の照射により、照射領域において反応して反応物を生成する光重合性モノマーを用いてもよい。また、モノマーは、活性放射線の照射時において、コア形成層１６０中の膜厚と直交する面内方向に移動可能であり、その結果として得られるコア層１３において、活性放射線の照射領域と非照射領域との間で屈折率差を生じさせてもよい。
【0071】
モノマーの含有量は、ポリマー１００質量部に対し、１質量部以上７０質量部以下であることが好ましく、１０質量部以上６０質量部以下であることがより好ましい。これにより、上記の屈折率差の形成、すなわち屈折率変調をより確実に起こすことができる。
【0072】
３．１．１．２．３．重合開始剤
重合開始剤は、モノマーの重合反応または架橋反応の種類に応じて適宜選択される。重合開始剤としては、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、スチレン系モノマー等のラジカル重合開始剤、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー等のカチオン重合開始剤を用いることができる。
重合開始剤は、モノマーの重合反応または架橋反応の種類に応じて適宜選択される。重合開始剤としては、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、スチレン系モノマー等のラジカル重合開始剤、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー等のカチオン重合開始剤を用いることができる。
【0073】
ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類等が挙げられる。具体的には、イルガキュア（Irgacure、登録商標）６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２９５９、イルガキュア１８４（以上、ＩＧＭジャパン合同会社製）等が挙げられる。
【0074】
カチオン重合開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩のようなルイス酸発生型の化合物、ヨードニウム塩、スルホニウム塩のようなブレンステッド酸発生型の化合物等が挙げられる。具体的には、アデカオプトマーＳＰ－１７０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、サンエイドＳＩ－１００Ｌ（三新化学工業株式会社製）、Ｒｈｏｄｏｒｓｉｌ２０７４（ローディアジャパン株式会社製）等が挙げられる。
【0075】
重合開始剤の含有量は、ポリマー１００質量部に対し、０．０１質量部以上５質量部以下であることが好ましく、０．０５質量部以上３質量部以下であることがより好ましい。これにより、コア層１３の光学的特性や機械的特性を低下させることなく、モノマーを速やかに反応させることができる。
【0076】
３．１．１．２．４．その他
コア形成用樹脂組成物は、例えば、架橋剤、増感剤（光増感剤）、触媒前駆体、助触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、劣化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等をさらに含んでいてもよい。
コア形成用樹脂組成物は、例えば、架橋剤、増感剤（光増感剤）、触媒前駆体、助触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、劣化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等をさらに含んでいてもよい。
【0077】
３．１．１．２．５．溶剤
上述した成分を溶剤中に添加し、撹拌することにより、ワニス状のコア形成用樹脂組成物が得られる。得られた組成物は、例えば０．２μｍの孔径を持つＰＴＦＥフィルターによるろ過処理に供されてもよい。また、得られた組成物は、各種混合機による混合処理に供されてもよい。
上述した成分を溶剤中に添加し、撹拌することにより、ワニス状のコア形成用樹脂組成物が得られる。得られた組成物は、例えば０．２μｍの孔径を持つＰＴＦＥフィルターによるろ過処理に供されてもよい。また、得られた組成物は、各種混合機による混合処理に供されてもよい。
【0078】
コア形成用樹脂組成物に含まれる溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、酢酸エチル、シクロヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、セルソルブ系、カルビトール系、アニソール、Ｎ－メチルピロリドン等の有機溶剤が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上の混合物が用いられる。
【0079】
３．１．２．クラッドフィルム
クラッドフィルム７０１は、図１４（ｉ）に示すように、第１カバー層１８とクラッド形成層１７０との積層体である。クラッドフィルム７０２は、図１３（ｆ）に示すように、第２カバー層１９とクラッド形成層１７０との積層体である。クラッドフィルム７０１、７０２は、フィルム形状であり、枚葉状であっても、巻き取り可能なロール状であってもよい。
クラッドフィルム７０１は、図１４（ｉ）に示すように、第１カバー層１８とクラッド形成層１７０との積層体である。クラッドフィルム７０２は、図１３（ｆ）に示すように、第２カバー層１９とクラッド形成層１７０との積層体である。クラッドフィルム７０１、７０２は、フィルム形状であり、枚葉状であっても、巻き取り可能なロール状であってもよい。
【0080】
クラッド形成層１７０の形成方法としては、例えば、ワニス状のクラッド形成用樹脂組成物をカバー層上に塗布した後、乾燥させる方法、カバー層上に樹脂膜を積層する方法等が挙げられる。
【0081】
樹脂組成物を塗布する方法では、例えば、スピンコーター、ダイコーター、コンマコーター、カーテンコーター等の各種コーターを用いて塗布する方法、スクリーン印刷のような印刷方法等が用いられる。
【0082】
樹脂膜を積層する方法では、ワニス状のクラッド形成用樹脂組成物から作製したフィルム状の樹脂膜を、例えばロールラミネート、真空ロールラミネート、平板ラミネート、真空平板ラミネート、常圧プレス、真空プレス等を用いて積層する方法等が用いられる。
【0083】
３．１．２．１．カバー層
第１カバー層１８および第２カバー層１９の膜厚は、特に限定されないが、１～２００μｍ程度であるのが好ましく、３～１００μｍ程度であるのがより好ましく、５～５０μｍ程度であるのがさらに好ましい。各カバー層の膜厚が前記範囲内であれば、第１カバー層１８および第２カバー層１９によってコア層１３等を保護する能力を確保しつつ、ワーク１００が厚くなりすぎることの弊害、例えば製造される光導波路１の可撓性が低下すること等を抑制することができる。
第１カバー層１８および第２カバー層１９の膜厚は、特に限定されないが、１～２００μｍ程度であるのが好ましく、３～１００μｍ程度であるのがより好ましく、５～５０μｍ程度であるのがさらに好ましい。各カバー層の膜厚が前記範囲内であれば、第１カバー層１８および第２カバー層１９によってコア層１３等を保護する能力を確保しつつ、ワーク１００が厚くなりすぎることの弊害、例えば製造される光導波路１の可撓性が低下すること等を抑制することができる。
【0084】
第１カバー層１８および第２カバー層１９の膜厚は、互いに異なっていてもよいが、互いに同じであるのが好ましい。これにより、膜厚の違いに伴う光導波路１の反りを抑制することができる。なお、膜厚が同じとは、膜厚の差が５μｍ以下であることをいう。
【0085】
第１カバー層１８および第２カバー層１９の主材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）のようなフッ素樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー等の各種樹脂を含む材料が挙げられる。
【0086】
第１カバー層１８および第２カバー層１９の主材料は、互いに異なっていてもよいが、互いに同じであるのが好ましい。これにより、主材料の違いに伴う光導波路１の反りを抑制することができる。
【0087】
第１カバー層１８および第２カバー層１９の弾性率は、１～１２ＧＰａであるのが好ましく、２～１１ＧＰａであるのがより好ましく、３～１０ＧＰａであるのがさらに好ましい。なお、上記弾性率は、引張り弾性率とする。
【0088】
３．１．２．２．クラッド形成用樹脂組成物
上記のクラッド形成用樹脂組成物としては、例えば、ポリマー、モノマー、重合開始剤等を含む組成物が挙げられる。
上記のクラッド形成用樹脂組成物としては、例えば、ポリマー、モノマー、重合開始剤等を含む組成物が挙げられる。
【0089】
３．１．２．２．１．ポリマー
ポリマーとしては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ＰＥＴやＰＢＴのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて、ポリマーアロイ、ポリマーブレンド（混合物）、共重合体等として用いられる。
ポリマーとしては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ＰＥＴやＰＢＴのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて、ポリマーアロイ、ポリマーブレンド（混合物）、共重合体等として用いられる。
【0090】
これらの中でも、ポリマーには、アクリル系樹脂、フェノキシ樹脂、または、環状オレフィン系樹脂が好ましく用いられる。
【0091】
アクリル系樹脂としては、例えば、単官能アクリレート、多官能アクリレート、単官能メタクリレート、多官能メタクリレート、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレート、ポリエステルアクリレート、および、尿素アクリレートからなる群から選択される１種以上を含むアクリル化合物の重合体が挙げられる。また、アクリル系樹脂は、ポリエステル骨格、ポリプロピレングリコール骨格、ビスフェノール骨格、フルオレン骨格、トリシクロデカン骨格、ジシクロペンタジエン骨格等を有していてもよい。
【0092】
フェノキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物またはそれらの誘導体、およびビスフェノールＦ、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物またはそれらの誘導体を共重合成分の構成単位として含む化合物が挙げられる。
【0093】
また、ポリマーは、必要に応じて熱硬化性樹脂を含んでもよい。熱硬化性樹脂としては、例えば、アミノ樹脂、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化合物、マレイミド化合物、ベンゾオキサジン化合物、オキサゾリン化合物、カルボジイミド化合物、シクロカーボネート化合物、多官能オキセタン化合物、エピスルフィド樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。
【0094】
ポリマーの含有量は、例えば、クラッド形成用樹脂組成物の固形分全体の１５質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、６０質量％以上であることがさらに好ましい。これにより、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２の機械的特性が向上する。また、クラッド形成用樹脂組成物に含まれるポリマーの含有量は、クラッド形成用樹脂組成物の固形分全体の９５質量％以下であることが好ましく、９０質量％以下であることがより好ましい。これにより、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２の光学的特性が向上する。
【0095】
クラッド形成用樹脂組成物の固形分全体とは、組成物中における不揮発分を指し、水や溶媒等の揮発成分を除いた残部を指す。
【0096】
３．１．２．２．２．モノマー
モノマーとしては、分子構造中に重合可能な部位を有する化合物であればよく、特に限定されないが、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ノルボルネン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー、光二量化モノマー等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いられる。
モノマーとしては、分子構造中に重合可能な部位を有する化合物であればよく、特に限定されないが、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ノルボルネン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー、光二量化モノマー等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いられる。
【0097】
これらの中でも、モノマーとしては、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、または、エポキシ系モノマーが好ましく用いられる。
【0098】
アクリル酸（メタクリル酸）系モノマーとしては、例えば、２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレート等が挙げられる。具体的には、例えば、脂肪族（メタ）アクリレート、脂環式（メタ）アクリレート、芳香族（メタ）アクリレート、複素環式（メタ）アクリレート、またはこれらのエトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体等が挙げられる。また、分子内に、ビスフェノール骨格、ウレタン骨格等を有していてもよい。
【0099】
エポキシ系モノマーとしては、例えば、脂環族エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等が挙げられる。
【0100】
モノマーの含有量は、ポリマー１００質量部に対し、１質量部以上７０質量部以下であることが好ましく、１０質量部以上６０質量部以下であることがより好ましい。
【0101】
３．１．２．２．３．重合開始剤
重合開始剤は、モノマーの重合反応または架橋反応の種類に応じて適宜選択される。重合開始剤としては、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、スチレン系モノマー等のラジカル重合開始剤、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー等のカチオン重合開始剤を用いることができる。
重合開始剤は、モノマーの重合反応または架橋反応の種類に応じて適宜選択される。重合開始剤としては、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、スチレン系モノマー等のラジカル重合開始剤、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー等のカチオン重合開始剤を用いることができる。
【0102】
ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類等が挙げられる。具体的には、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２９５９、イルガキュア１８４（以上、ＩＧＭジャパン合同会社製）等が挙げられる。
【0103】
カチオン重合開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩のようなルイス酸発生型の化合物、ヨードニウム塩、スルホニウム塩のようなブレンステッド酸発生型の化合物等が挙げられる。具体的には、アデカオプトマーＳＰ－１７０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、サンエイドＳＩ－１００Ｌ（三新化学工業株式会社製）、Ｒｈｏｄｏｒｓｉｌ２０７４（ローディアジャパン株式会社製）等が挙げられる。
【0104】
重合開始剤の含有量は、ポリマー１００質量部に対し、０．０１質量部以上５質量部以下であることが好ましく、０．０５質量部以上３質量部以下であることがより好ましい。これにより、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２の光学的特性や機械的特性を低下させることなく、モノマーを速やかに反応させることができる。
【0105】
３．１．２．２．４．その他
クラッド形成用樹脂組成物は、例えば、架橋剤、増感剤（光増感剤）、触媒前駆体、助触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、劣化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等をさらに含んでいてもよい。
クラッド形成用樹脂組成物は、例えば、架橋剤、増感剤（光増感剤）、触媒前駆体、助触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、劣化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等をさらに含んでいてもよい。
【0106】
３．１．２．２．５．溶剤
上述した成分を溶剤中に添加し、撹拌することにより、ワニス状のクラッド形成用樹脂組成物が得られる。得られた組成物は、例えば０．２μｍの孔径を持つＰＴＦＥフィルターによるろ過処理に供されてもよい。また、得られた組成物は、各種混合機による混合処理に供されてもよい。
上述した成分を溶剤中に添加し、撹拌することにより、ワニス状のクラッド形成用樹脂組成物が得られる。得られた組成物は、例えば０．２μｍの孔径を持つＰＴＦＥフィルターによるろ過処理に供されてもよい。また、得られた組成物は、各種混合機による混合処理に供されてもよい。
【0107】
クラッド形成用樹脂組成物に含まれる溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、酢酸エチル、シクロヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、セルソルブ系、カルビトール系、アニソール、Ｎ－メチルピロリドン等の有機溶剤が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上の混合物が用いられる。
【0108】
なお、第１クラッド層１１を形成するためのクラッド形成用樹脂組成物と、第２クラッド層１２を形成するためのクラッド形成用樹脂組成物とは、互いに同じであっても、互いに異なっていてもよい。
【0109】
３．２．コア層形成工程
コア層形成工程Ｓ１０４では、コア形成層１６０からコア層１３を形成する。具体的には、コア形成層１６０の一部に活性放射線Ｒを照射し、非照射領域３０２に対応するコア部１４、ならびに、照射領域３０１に対応する第１側面クラッド部１５および第２側面クラッド部１７、を含むコア層１３を得る。
コア層形成工程Ｓ１０４では、コア形成層１６０からコア層１３を形成する。具体的には、コア形成層１６０の一部に活性放射線Ｒを照射し、非照射領域３０２に対応するコア部１４、ならびに、照射領域３０１に対応する第１側面クラッド部１５および第２側面クラッド部１７、を含むコア層１３を得る。
【0110】
照射領域３０１および非照射領域３０２の設定には、例えば、図１２（ｂ）に示すフォトマスク３０３を用いる方法が用いられる。フォトマスク３０３を介して活性放射線Ｒを照射することにより、フォトマスク３０３のマスクパターンに対応して照射領域３０１および非照射領域３０２を設定することができる。
【0111】
なお、フォトマスク３０３を用いる方法に代えて、直描露光機３０４を用いる方法を採用してもよい。図１２（ｃ）では、活性放射線Ｒを直描露光機３０４により照射している。直描露光機３０４としては、例えば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）のような反射型空間光変調素子、液晶表示素子（ＬＣＤ）のような透過型空間光変調素子といった各種の空間光変調素子を利用して、照射領域を選択し得る露光機が挙げられる。このような直描露光機３０４を用いることにより、フォトマスク３０３を用いることなく、照射領域３０１および非照射領域３０２の設定が可能になる。これにより、フォトマスク３０３を作り変えることなく、照射領域３０１や非照射領域３０２の大きさを調整することができるので、光導波路１の製造コストの低減および効率化を図ることができる。
なお、活性放射線Ｒの照射は、複数回に分けて行うようにしてもよい。
なお、活性放射線Ｒの照射は、複数回に分けて行うようにしてもよい。
【0112】
図１２（ｂ）および図１２（ｃ）には、コア形成層１６０が含むポリマー１３１およびモノマー１３２を図示している。活性放射線Ｒを照射する前のコア形成層１６０では、ポリマー１３１中にモノマー１３２がほぼ均一に分布している。なお、モノマー１３２やモノマー１３２由来の構造は、ポリマー１３１よりも屈折率が低い。
【0113】
活性放射線Ｒを照射した後、コア形成層１６０を加熱する。この加熱により、照射領域３０１に存在する重合開始剤が活性化し、モノマー１３２の反応が進行する。これにより、モノマー１３２の濃度差が生じ、それに伴ってモノマー１３２の移動が生じる。その結果、図１３（ｄ）に示すように、照射領域３０１におけるモノマー１３２の濃度が上昇するとともに、非照射領域３０２におけるモノマー１３２の濃度が低下する。これにより、照射領域３０１の屈折率は、モノマー１３２の影響を受けて低くなり、非照射領域３０２の屈折率は、ポリマー１３１の影響を受けて高くなる。その結果、図１３（ｅ）に示すように、コア部１４、第１側面クラッド部１５および第２側面クラッド部１７を含むコア層１３が得られる。そして、コア層１３と、それを支持する基材５００と、を有する露光後積層体６５０が得られる。
【0114】
コア形成層１６０の加熱条件としては、例えば、加熱温度：１００～２００℃、加熱時間：１０～１８０分が挙げられる。
【0115】
なお、この加熱に伴って、モノマー１３２が揮発したり、ポリマー１３１の分子構造が変化したりすることによって屈折率が変化してもよい。
【0116】
３．３．クラッド層形成工程
クラッド層形成工程Ｓ１０６では、露光後積層体６５０が有するコア層１３に第１クラッド層１１および第２クラッド層１２を積層するとともに、基材５００を剥離する。これにより、ワーク１００を得る。
クラッド層形成工程Ｓ１０６では、露光後積層体６５０が有するコア層１３に第１クラッド層１１および第２クラッド層１２を積層するとともに、基材５００を剥離する。これにより、ワーク１００を得る。
【0117】
本実施形態では、図１３（ｆ）に示すように、クラッドフィルム７０２をコア層１３の上面に積層する。そして、得られた積層体を加熱する。これにより、コア層１３とクラッドフィルム７０２とが接合する。その結果、図１４（ｇ）に示すように、コア層１３を覆う第２クラッド層１２が得られる。これにより、第１積層体６６０を得る。このときの加熱条件としては、例えば、加熱温度：１００～２００℃、加熱時間：１０～１８０分が挙げられる。
【0118】
次に、図１４（ｈ）に示すように、第１積層体６６０のコア層１３から基材５００を剥離する。これにより、第２積層体６７０を得る。その後、図１４（ｉ）に示すように、クラッドフィルム７０１を第２積層体６７０のコア層１３の下面に積層する。そして、得られた積層体を加熱する。これにより、コア層１３とクラッドフィルム７０１とが接合する。その結果、図１５（ｊ）に示すように、コア層１３を覆う第１クラッド層１１が得られる。このときの加熱条件としては、例えば、加熱温度：１００～２００℃、加熱時間：１０～１８０分が挙げられるが、第２クラッド層１２を形成するときの加熱条件よりも、高温または長時間に設定されるのが好ましい。以上のようにして、図１５（ｊ）に示すワーク１００が得られる。
【0119】
３．４．切断工程
切断工程Ｓ１０８では、図１５（ｋ）に示すように、ワーク１００を切断する。切断には、例えば、図１５（ｋ）に示すダイシングブレードＤＢが用いられる。なお、ダイシングブレードＤＢによる切断に代えて、カッティングソー、レーザー、ルーター、超音波カッター、ウォータージェットによる切断や、刃型による打ち抜きを用いてもよい。
切断工程Ｓ１０８では、図１５（ｋ）に示すように、ワーク１００を切断する。切断には、例えば、図１５（ｋ）に示すダイシングブレードＤＢが用いられる。なお、ダイシングブレードＤＢによる切断に代えて、カッティングソー、レーザー、ルーター、超音波カッター、ウォータージェットによる切断や、刃型による打ち抜きを用いてもよい。
【0120】
【0121】
以上のように、本実施形態に係る光導波路の製造方法は、部材準備工程Ｓ１０２と、コア層形成工程Ｓ１０４と、クラッド層形成工程Ｓ１０６と、切断工程Ｓ１０８と、を有する。部材準備工程Ｓ１０２では、基材５００と、基材５００に積層されているコア形成層１６０と、を有するコアフィルム６００（露光前積層体）を準備する。コア層形成工程Ｓ１０４では、コア形成層１６０に活性放射線Ｒを照射し、非照射領域３０２に対応するコア部１４および照射領域３０１に対応する側面クラッド部を含むコア層１３、ならびに、コア層１３を支持する基材５００を有する露光後積層体６５０を得る。クラッド層形成工程Ｓ１０６では、露光後積層体６５０が有するコア層１３にクラッド層である第１クラッド層１１および第２クラッド層１２を積層し、ワーク１００を得る。切断工程Ｓ１０８では、ワーク１００から光導波路１を切り出す。
【0122】
また、照射領域３０１は、コア形成層１６０の外縁に沿って延在し、枠状をなす枠状部分３０１Ｆを含む。さらに、照射領域３０１の面積は、コア形成層１６０の全体の２０％以上である。以下、コア形成層１６０の全体の面積に対する照射領域３０１の面積の割合を、照射領域３０１の面積比率という。
【0123】
このような構成によれば、照射領域３０１の面積比率を２０％以上確保することにより、体積減少が少ない領域を十分に確保することができるので、露光後積層体６５０に反り等の著しい変形が発生するのを抑制することができる。特に、照射領域３０１が枠状部分３０１Ｆを含むことで、露光後積層体６５０の全体の変形を効果的に抑えることができる。これにより、露光後積層体６５０からワーク１００を製造するとき、ワーク１００の製造効率を容易に高めることができる。その結果、高い効率で光導波路１を製造することができる。
【0124】
また、照射領域３０１の面積比率は、好ましくは４０％以上とされ、より好ましくは５０％以上とされる。一方、照射領域３０１の面積比率の上限値は、特に設定されないが、ワーク１００から切り出される光導波路１の製造効率を考慮すれば、８０％以下であるのが好ましく、７５％以下であるのがより好ましい。
【0125】
さらに、枠状部分３０１Ｆは、照射領域３０１のうちの５０％以上であるのが好ましく、７０％以上であるのがより好ましい。これにより、枠状部分３０１Ｆに対応する第２側面クラッド部１７の占有面積が、第１側面クラッド部１５の占有面積に比べて大きくなる。第２側面クラッド部１７は、前述したように露光後積層体６５０の全体の変形を効果的に抑えるのに寄与する。このため、枠状部分３０１Ｆの面積比率が前記範囲内であれば、特に変形が少ない露光後積層体６５０が得られる。
【0126】
また、コア形成層１６０は、ポリマー１３１およびモノマー１３２を含んでいる。コア形成層１６０は、活性放射線Ｒの照射により、モノマー１３２が移動して、照射領域３０１と非照射領域３０２との間に屈折率差を生じさせるように構成されているのが好ましい。
【0127】
このような構成によれば、モノマー１３２の移動や揮発によって、コア形成層１６０内でより大きな屈折率差を形成することができる。これにより、伝送効率に優れたコア部１４を得ることができる。
【0128】
また、ワーク１００は、コア層１３と、２つのクラッド層である第１クラッド層１１および第２クラッド層１２と、を備える。第１クラッド層１１および第２クラッド層１２は、コア層１３を介して積層されている。
【0129】
そして、前述したワーク１００を得る工程、すなわちクラッド層形成工程Ｓ１０６は、露光後積層体６５０が有するコア層１３に第２クラッド層１２を積層し、第１積層体６６０を得る操作と、第１積層体６６０から基材５００を剥離し、残部を第２積層体６７０とする操作と、第２積層体６７０が有するコア層１３に第１クラッド層１１を積層し、ワーク１００を得る操作と、を有する。
【0130】
このような構成によれば、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２でコア層１３を挟んだ構造を有しているため、ワーク１００では、コア層１３と第１クラッド層１１および第２クラッド層１２との屈折率差が安定している。このため、このようなワーク１００を用いることにより、伝送損失が小さい光導波路１を効率よく製造することができる。
【0131】
また、個別に製造したクラッドフィルム７０１、７０２を順次積層して第１クラッド層１１および第２クラッド層１２を製造するというプロセスを採用することができる。これにより、液状組成物を用いた製造工程を用いることなく、多層構造のワーク１００、そして、光導波路１を、効率よく製造することができる。
【0132】
また、本実施形態では、ワーク１００が、第１カバー層１８と第２カバー層１９とをさらに備えている。第１カバー層１８および第２カバー層１９は、コア層１３ならびに第１クラッド層１１および第２クラッド層１２を挟むように積層されている。
【0133】
このような構成によれば、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２を第１カバー層１８および第２カバー層１９で保護することができる。これにより、ワーク１００の耐久性を高めることができる。また、第１カバー層１８は、第１クラッド層１１と積層され、クラッドフィルム７０１としてワーク１００の製造に供される。さらに、第２カバー層１９は、第２クラッド層１２と積層され、クラッドフィルム７０２としてワーク１００の製造に供される。このため、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２をコア層１３に積層するときの操作性の向上が図られる。
【0134】
４．マーク
上述した光導波路の製造方法では、活性放射線Ｒの照射やワーク１００の切断において、ワーク１００と装置との位置合わせが必要となる。図１に示すワーク１００は、この位置合わせに用いる各種マークを有している。
上述した光導波路の製造方法では、活性放射線Ｒの照射やワーク１００の切断において、ワーク１００と装置との位置合わせが必要となる。図１に示すワーク１００は、この位置合わせに用いる各種マークを有している。
【0135】
図２に示すワーク１００は、第２側面クラッド部１７と重なる位置に設けられているマーク８０３を有する。
【0136】
第２側面クラッド部１７は、コア部１４を取り囲む枠状をなしている部分を有しており、マーク８０３はこのような部分に設けられている。このため、マーク８０３は、ワーク１００から光導波路１を切り出すときの位置基準として利用することができる。なお、マーク８０３の利用方法は、これに限定されない。例えば、切り出される前に、ワーク１００に対してミラー等の光路変換部を形成する場合、光導波路１に光学部品を組み付ける場合等にも、マーク８０３を位置基準として利用することができる。
【0137】
【0138】
例えば、図２に示すワーク１００のうち、ユニット２００の外側には、図１６に示すように、マーク８０３としての＋字状のマークが設けられている。また、図２に示すユニット２００の内側には、図１６に示すように、マーク８０３としての同心円状のマークが設けられている。さらに、図２に示すユニット２００の内側で、かつ、ピース３００の幅の中心には、図１６に示すように、マーク８０３としての円形のマークが設けられている。
【0139】
なお、マーク８０３の形状は、図示した形状に限定されず、いかなる形状であってもよい。
【0140】
図１６に示すマーク８０３は、第２側面クラッド部１７よりも屈折率が高い高屈折率部８０４を有する。
【0141】
このような構成によれば、第２側面クラッド部１７を背景としたときのマーク８０３の見え方、例えば光の通り方を異ならせることができる。これにより、マーク８０３の視認性を高めることができる。
【0142】
また、本実施形態では、この高屈折率部８０４の構成材料が、コア部１４と同じ材料になっている。これにより、高屈折率部８０４をコア部１４と同時に製造することが可能になる。このため、高屈折率部８０４を有するマーク８０３は、製造が容易である。
【0143】
さらに、高屈折率部８０４は、活性放射線Ｒの非照射領域３０２に応じて形成可能である。一方、コア部１４も、活性放射線Ｒの非照射領域３０２に対応して形成される。したがって、コア部１４に対するマーク８０３の位置精度は、非照射領域３０２の位置精度と同等であり、非常に高くなる。
【0144】
また、図１に示すワーク１００におけるユニット２００やピース３００の数や配置は、これに限定されない。
【0145】
以上、本発明の光導波路の製造方法を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されない。
【0146】
例えば、本発明の光導波路の製造方法は、前記実施形態に任意の目的の工程を追加してもよい。
【実施例】
【0147】
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
５．露光後積層体の製造
５．１．ポリマーの合成
ヘキシルノルボルネン（ＨｘＮＢ、７．２ｇ、４０．１ｍｍｏｌ）、および、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン（ｄｉＰｈＮＢ、１２．９ｇ、４０．１ｍｍｏｌ）を、ドライボックス内で５００ｍＬバイアル瓶に計量した。その後、５００ｍＬバイアル瓶に脱水トルエン６０ｇと酢酸エチル１１ｇとを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
５．露光後積層体の製造
５．１．ポリマーの合成
ヘキシルノルボルネン（ＨｘＮＢ、７．２ｇ、４０．１ｍｍｏｌ）、および、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン（ｄｉＰｈＮＢ、１２．９ｇ、４０．１ｍｍｏｌ）を、ドライボックス内で５００ｍＬバイアル瓶に計量した。その後、５００ｍＬバイアル瓶に脱水トルエン６０ｇと酢酸エチル１１ｇとを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
【0148】
次に、１００ｍＬバイアル瓶中にＮｉ触媒１．５６ｇ（３．２ｍｍｏｌ）および脱水トルエン１０ｍＬを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。このＮｉ触媒溶液１ｍＬをシリンジで正確に計量し、上記２種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に注入して室温で１時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。
【0149】
次に、１００ｍＬビーカーに無水酢酸９．５ｇ、過酸化水素水１８ｇ（濃度３０％）、イオン交換水３０ｇを加えて撹拌し、過酢酸水溶液を調製した。次に、この水溶液全量を上記反応溶液に加えて１２時間撹拌し、Ｎｉの還元処理を行った。
【0150】
次に、処理が完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールの３０％水溶液を１００ｍＬ加えて激しく撹拌した。静置して完全に二層分離が行われた後、水層を除去した。この水洗プロセスを合計で３回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下し、生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した。その後、沈殿物を６０℃に設定した真空乾燥機中で１２時間加熱乾燥を行うことにより、ポリマーを得た。
【0151】
得られたポリマー中の各構造単位のモル比は、ＮＭＲ測定による同定の結果、ヘキシルノルボルネン構造単位が５０ｍｏｌ％、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が５０ｍｏｌ％であった。
【0152】
５．２．コア形成用樹脂組成物の調製
上記ポリマーの１０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量した後、このガラス容器にメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（ＢＡＳＦ社製、０．０１ｇ）、シクロヘキシルオキセタンモノマー（東亜合成社製、ＣＨＯＸ、２ｇ）、重合開始剤（光酸発生剤）Ｒｈｏｄｏｒｓｉｌ（登録商標） Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、０．０１２５ｇ、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加えて均一に溶解させた。その後、得られた溶解液を０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、ワニス状のコア形成用樹脂組成物を調製した。
上記ポリマーの１０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量した後、このガラス容器にメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（ＢＡＳＦ社製、０．０１ｇ）、シクロヘキシルオキセタンモノマー（東亜合成社製、ＣＨＯＸ、２ｇ）、重合開始剤（光酸発生剤）Ｒｈｏｄｏｒｓｉｌ（登録商標） Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、０．０１２５ｇ、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加えて均一に溶解させた。その後、得られた溶解液を０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、ワニス状のコア形成用樹脂組成物を調製した。
【0153】
５．３．コア形成層の作製
離型処理が施された厚さ１００μｍ、一辺が５０ｍｍの正方形をなす基材（ＰＥＴフィルム）上に、上記コア形成用樹脂組成物を、ドクターブレードにより均一に塗布した後、４０℃の乾燥機に５分間投入した。溶媒を完全に除去して被膜とした。これにより、膜厚４０μｍのコア形成層を備えるコアフィルム（露光前積層体）を得た。
離型処理が施された厚さ１００μｍ、一辺が５０ｍｍの正方形をなす基材（ＰＥＴフィルム）上に、上記コア形成用樹脂組成物を、ドクターブレードにより均一に塗布した後、４０℃の乾燥機に５分間投入した。溶媒を完全に除去して被膜とした。これにより、膜厚４０μｍのコア形成層を備えるコアフィルム（露光前積層体）を得た。
【0154】
５．４．露光処理
５．４．１．照射領域の面積比率を変えた露光処理
コアフィルムに対し、直描露光機により紫外線を照射した。紫外線の積算光量は、１３００ｍＪ／ｃｍ２とした。その後、コアフィルムをオーブンに入れ、加熱温度１６０℃、加熱時間６０分で加熱した。これにより、非照射領域に対応するコア部を含むコア層を得た。そして、コア層と、コア層を支持する基材と、を有する露光後積層体としての試験片Ｅ１を得た。
５．４．１．照射領域の面積比率を変えた露光処理
コアフィルムに対し、直描露光機により紫外線を照射した。紫外線の積算光量は、１３００ｍＪ／ｃｍ２とした。その後、コアフィルムをオーブンに入れ、加熱温度１６０℃、加熱時間６０分で加熱した。これにより、非照射領域に対応するコア部を含むコア層を得た。そして、コア層と、コア層を支持する基材と、を有する露光後積層体としての試験片Ｅ１を得た。
【0155】
図１７は、試験片Ｅ１を製造するときの、紫外線の照射領域および非照射領域のパターンを示す模式図である。図１７では、ドットを付している領域が照射領域であり、ドットを付していない領域が非照射領域である。なお、試験片Ｅ１の製造にあたっては、照射領域の面積比率を５％、１０％、２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、８０％、９０％、９５％の１１段階に変えた。図１７には、代表例として、面積比率が２０％である照射領域のパターンと、面積比率が９５％である照射領域のパターンと、を図示している。
【0156】
５．４．２．照射領域の位置を変えた露光処理
コアフィルムに対し、直描露光機により紫外線を照射した。その後、コアフィルムをオーブンに入れ、加熱温度１６０℃、加熱時間６０分で加熱した。これにより、非照射領域に対応するコア部を含むコア層を得た。そして、コア層と、コア層を支持する基材と、を有する露光後積層体としての試験片Ｅ２、Ｅ３を得た。
コアフィルムに対し、直描露光機により紫外線を照射した。その後、コアフィルムをオーブンに入れ、加熱温度１６０℃、加熱時間６０分で加熱した。これにより、非照射領域に対応するコア部を含むコア層を得た。そして、コア層と、コア層を支持する基材と、を有する露光後積層体としての試験片Ｅ２、Ｅ３を得た。
【0157】
図１８は、試験片Ｅ２、Ｅ３を製造するときの、紫外線の照射領域および非照射領域のパターンを示す模式図である。図１８では、ドットを付している領域が照射領域であり、ドットを付していない領域が非照射領域である。試験片Ｅ２の製造にあたっては、紫外線の照射領域を、コアフィルムの外縁に沿う枠状部分に設定した。一方、試験片Ｅ３の製造にあたっては、紫外線の照射領域を、枠状部分の内側の部分に設定した。なお、試験片Ｅ２、Ｅ３を製造するときの照射領域の面積比率は、いずれも５０％とした。
【0158】
６．試験片Ｅ１の評価
６．１．反りの大きさの測定
製造した各試験片Ｅ１について、以下の測定方法により変形（反り）の程度を測定した。図１９は、反りが発生した試験片Ｅ１について、反りの大きさを測定する方法を示す模式図である。
６．１．反りの大きさの測定
製造した各試験片Ｅ１について、以下の測定方法により変形（反り）の程度を測定した。図１９は、反りが発生した試験片Ｅ１について、反りの大きさを測定する方法を示す模式図である。
【0159】
反りの大きさを測定するには、図１９に示すように、各試験片Ｅ１の一辺９１１を、基台９２に固定する。固定には、例えば粘着テープ９０を用いた。一辺９１１を固定すると、反りの影響により、対辺９１２が基台９２から浮き上った。そこで、対辺９１２と基台９２との離間距離ｄの最大値を、各試験片Ｅ１の反りの大きさとした。
【0160】
６．２．反りの大きさの評価
６．１で測定した反りの大きさと、各試験片Ｅ１を製造するときの照射領域の面積比率と、を直交座標系にプロットした。これにより、図２０に示すグラフを得た。図２０は、各試験片Ｅ１を製造するときの照射領域の面積比率と、各試験片Ｅ１について測定された反りの大きさと、の関係を示すグラフである。
６．１で測定した反りの大きさと、各試験片Ｅ１を製造するときの照射領域の面積比率と、を直交座標系にプロットした。これにより、図２０に示すグラフを得た。図２０は、各試験片Ｅ１を製造するときの照射領域の面積比率と、各試験片Ｅ１について測定された反りの大きさと、の関係を示すグラフである。
【0161】
図２０に示すように、照射領域の面積比率が２０％以上５０％未満の範囲では、照射領域の面積比率の増加に伴って、試験片Ｅ１の反りの大きさが徐々に低下する傾向が認められた。また、照射領域の面積比率が５０％以上の範囲では、試験片Ｅ１の反りが十分に小さく抑えられていた。
【0162】
一方、照射領域の面積比率が２０％未満の範囲では、試験片Ｅ１の反りが著しく、試験片Ｅ１が円筒状に丸まってしまった。このため、反りの大きさを測定することができなかった。また、丸まった試験片Ｅ１は、クラッドフィルムとの積層に供することは困難であった。
【0163】
以上の評価結果から、本発明によれば、照射領域の面積比率を２０％以上にすることで、露光後積層体の反りを抑制可能であることが認められた。
【0164】
７．試験片Ｅ２、Ｅ３の評価
７．１．反りの大きさの測定
６．１と同様にして、試験片Ｅ２、Ｅ３の反りの大きさを測定した。
７．１．反りの大きさの測定
６．１と同様にして、試験片Ｅ２、Ｅ３の反りの大きさを測定した。
【0165】
７．２．反りの大きさの評価
試験片Ｅ２の反りの大きさは、試験片Ｅ３より小さく抑えられていた。したがって、照射領域を外縁に沿った枠状に設定することで、露光後積層体の反りを抑制可能であることが認められた。
試験片Ｅ２の反りの大きさは、試験片Ｅ３より小さく抑えられていた。したがって、照射領域を外縁に沿った枠状に設定することで、露光後積層体の反りを抑制可能であることが認められた。
【産業上の利用可能性】
【0166】
本発明によれば、コア形成層に活性放射線を照射して側面クラッド部が形成される照射領域の面積が、コア形成層の全体の２０％以上である。側面クラッド部は、コア部に比べて、製造過程での体積変化が少ない。このため、コア形成層に活性放射線を照射して得られる露光後積層体のコア層の全体に対して側面クラッド部が占める面積の割合、つまり、側面クラッド部の面積比率が前記範囲内になるようにワークを製造することで、露光後積層体における反り等の変形を抑制し、光導波路を効率よく製造することができる。したがって、本発明は、産業上の利用可能性を有する。
【符号の説明】
【0167】
１ 光導波路
１Ｘ 光導波路
１１ 第１クラッド層
１２ 第２クラッド層
１３ コア層
１３Ｘ コア層
１４ コア部
１５ 第１側面クラッド部
１７ 第２側面クラッド部
１８ 第１カバー層
１９ 第２カバー層
９０ 粘着テープ
９２ 基台
１００ ワーク
１００Ｃ ワーク
１００Ｘ ワーク
１３１ ポリマー
１３２ モノマー
１６０ コア形成層
１７０ クラッド形成層
２００ ユニット
２００Ｃ ユニット
３００ ピース
３０１ 照射領域
３０１Ｆ 枠状部分
３０２ 非照射領域
３０３ フォトマスク
３０４ 直描露光機
５００ 基材
６００ コアフィルム
６５０ 露光後積層体
６５０Ｘ 露光後積層体
６６０ 第１積層体
６７０ 第２積層体
７０１ クラッドフィルム
７０２ クラッドフィルム
８０３ マーク
８０４ 高屈折率部
９１１ 一辺
９１２ 対辺
ＣＬ 切り取り線
ＤＢ ダイシングブレード
Ｅ１ 試験片
Ｅ２ 試験片
Ｅ３ 試験片
Ｒ 活性放射線
Ｓ１０２ 部材準備工程
Ｓ１０４ コア層形成工程
Ｓ１０６ クラッド層形成工程
Ｓ１０８ 切断工程
ｄ 離間距離
１Ｘ 光導波路
１１ 第１クラッド層
１２ 第２クラッド層
１３ コア層
１３Ｘ コア層
１４ コア部
１５ 第１側面クラッド部
１７ 第２側面クラッド部
１８ 第１カバー層
１９ 第２カバー層
９０ 粘着テープ
９２ 基台
１００ ワーク
１００Ｃ ワーク
１００Ｘ ワーク
１３１ ポリマー
１３２ モノマー
１６０ コア形成層
１７０ クラッド形成層
２００ ユニット
２００Ｃ ユニット
３００ ピース
３０１ 照射領域
３０１Ｆ 枠状部分
３０２ 非照射領域
３０３ フォトマスク
３０４ 直描露光機
５００ 基材
６００ コアフィルム
６５０ 露光後積層体
６５０Ｘ 露光後積層体
６６０ 第１積層体
６７０ 第２積層体
７０１ クラッドフィルム
７０２ クラッドフィルム
８０３ マーク
８０４ 高屈折率部
９１１ 一辺
９１２ 対辺
ＣＬ 切り取り線
ＤＢ ダイシングブレード
Ｅ１ 試験片
Ｅ２ 試験片
Ｅ３ 試験片
Ｒ 活性放射線
Ｓ１０２ 部材準備工程
Ｓ１０４ コア層形成工程
Ｓ１０６ クラッド層形成工程
Ｓ１０８ 切断工程
ｄ 離間距離
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
