特許 7414570 保持装置、およびリソグラフィ装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-01-05

(45)【発行日】2024-01-16

(54)【発明の名称】保持装置、およびリソグラフィ装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/683 20060101AFI20240109BHJP

   G03F 7/20 20060101ALI20240109BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 P

G03F7/20 521

【請求項の数】 13

(21)【出願番号】P 2020023663

(22)【出願日】2020-02-14

(65)【公開番号】P2021129050

(43)【公開日】2021-09-02

【審査請求日】2023-01-27

(73)【特許権者】

【識別番号】000001007

【氏名又は名称】キヤノン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110003281

【氏名又は名称】弁理士法人大塚国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】新美 哲平

(72)【発明者】

【氏名】石井 智裕

【審査官】内田 正和

(56)【参考文献】

【文献】国際公開第２０１５／１９４２５５（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開平８－６６８８７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００３－１４５３７７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平４－３５９５３９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／６８３

Ｇ０３Ｆ ７／２０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

真空吸引によって物体を保持する保持装置であって、
前記物体が載置される保持面の上に形成された第１吸引部および第２吸引部を有する保持部と、
前記第１吸引部と真空源とを接続し気体が流通する第１流路と、
前記第２吸引部と前記真空源とを接続し気体が流通する第２流路と、
前記第１流路から分岐して気体が流通する第３流路と、
前記第２流路から分岐して気体が流通する第４流路と、
第５流路と、
前記真空源と接続して気体が流通する第６流路と、
前記第５流路に配置され、前記第５流路内の圧力または気体流量を計測する計測部と、
前記第３流路と前記第５流路とを接続し、前記第３流路から前記第５流路へ向かう気体の流れを制限する第１制限部と、
前記第４流路と前記第５流路とを接続し、前記第４流路から前記第５流路へ向かう気体の流れを制限する第２制限部と、
前記第５流路と前記第６流路とを接続し、前記第５流路から前記第６流路へ向かう気体の流れを制限する第３制限部と、
を有することを特徴とする保持装置。

【請求項2】

前記第１流路内に圧力損失を与える第１圧力損失発生部と、
前記第２流路内に圧力損失を与える第２圧力損失発生部と、
を更に有することを特徴とする請求項１に記載の保持装置。

【請求項3】

前記第１圧力損失発生部による圧力損失量および前記第２圧力損失発生部による圧力損失量は、前記真空源によって前記第１流路および前記第２流路内の気体吸引が行われている間に前記第６流路から前記第５流路へ流入する気体の量が前記計測部の公差範囲内に相当する量になるように設定されている、ことを特徴とする請求項２に記載の保持装置。

【請求項4】

前記第１圧力損失発生部は、前記第１流路における前記第１吸引部から前記真空源に向かう気体の流れに対して圧力損失を増加させるように配置された絞り弁であり、
前記第２圧力損失発生部は、前記第２流路における前記第２吸引部から前記真空源に向かう気体の流れに対して圧力損失を増加させるように配置された絞り弁である、
ことを特徴とする請求項２または３に記載の保持装置。

【請求項5】

前記第１圧力損失発生部は、前記第１流路における前記第１吸引部から前記真空源に向かう気体の流れに対して圧力損失を増加させるように配置された落下防止弁であり、
前記第２圧力損失発生部は、前記第２流路における前記第２吸引部から前記真空源に向かう気体の流れに対して圧力損失を増加させるように配置された落下防止弁である、
ことを特徴とする請求項２または３に記載の保持装置。

【請求項6】

前記第１圧力損失発生部および前記第２圧力損失発生部は、前記真空源によって前記第１流路および前記第２流路内の気体吸引が行われている間に前記第６流路から前記第５流路へ流入する気体の量が前記計測部の公差範囲内に相当する量になるような、径および長さを持つ流路を含む、ことを特徴とする請求項３に記載の保持装置。

【請求項7】

前記第１圧力損失発生部によって前記第１流路内に与えられる圧力損失の量と、前記第２圧力損失発生部によって前記第２流路内に与えられる圧力損失の量が異なる、ことを特徴とする請求項２乃至６のいずれか１項に記載の保持装置。

【請求項8】

前記計測部が配置されている前記第５流路の真空状態を解除する真空開放機構を更に有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の保持装置。

【請求項9】

前記第１制限部は、前記第５流路から前記第３流路へ向かう気体の流れを許容し前記第３流路から前記第５流路へ向かう気体の流れを制限する逆止弁であり、
前記第２制限部は、前記第５流路から前記第４流路へ向かう気体の流れを許容し前記第４流路から前記第５流路へ向かう気体の流れを制限する逆止弁であり、
前記第３制限部は、前記第６流路から前記第５流路へ向かう気体の流れを許容し前記第５流路から前記第６流路へ向かう気体の流れを制限する逆止弁である、
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の保持装置。

【請求項10】

前記第１制限部は、前記第３流路から前記第５流路へ向かう気体の流れを調整するスピードコントローラであり、
前記第２制限部は、前記第４流路から前記第５流路へ向かう気体の流れを調整するスピードコントローラであり、
前記第３制限部は、前記第５流路から前記第６流路へ向かう気体の流れを調整するスピードコントローラである、
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の保持装置。

【請求項11】

前記保持面に対して昇降する複数のリフトピンを有し、
前記複数のリフトピンのそれぞれは、前記物体を載置する載置面と、前記載置面に連通された吸引孔とを有し、
前記第１吸引部および前記第２吸引部はそれぞれ、前記複数のリフトピンのうちの１つ以上のリフトピンを含み、
前記第１吸引部における前記吸引孔が前記第１流路に連通され、前記第２吸引部における前記吸引孔が前記第２流路に連通される、
ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の保持装置。

【請求項12】

前記保持面は、前記物体を吸着するための複数の吸着溝を有し、前記複数の吸着溝のそれぞれは吸引孔に連通されており、
前記第１吸引部および前記第２吸引部はそれぞれ、前記複数の吸着溝のうちの１つ以上の吸着溝を含み、
前記第１吸引部における前記吸引孔が前記第１流路に連通され、前記第２吸引部における前記吸引孔が前記第２流路に連通される、
ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の保持装置。

【請求項13】

基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持する、請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の保持装置を有することを特徴とするリソグラフィ装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、保持装置、およびリソグラフィ装置に関する。

【背景技術】

【0002】

基板にパターンを形成するリソグラフィ装置は、原版または基板等の物体を保持するための保持装置を有する。保持装置において、原版または基板を保持する方式としては、真空吸引方式と静電吸着方式がある。

【0003】

リソグラフィ装置の安定した運用のためには、以下のようなことを確実に確認することが必要である。
（ａ）物体が正しく保持装置に設置されていること。
（ｂ）装置がいったんシャットダウンされた後、再度立ち上げられた時に、物体が保持装置から取り除かれ、手作業等で物体が保持装置上に置かれる等されていないこと。

【0004】

本明細書において、保持装置上に物体が載置されていることを「在荷 (load presence)」という。従来、在荷の確認は、例えば、光電変換素子を用いたフォトスイッチや接触スイッチ等の検出スイッチを用いて行われる。しかし、設置スペースの制約から、そのような検出スイッチを配置できない場合がある。その場合、真空吸引方式の保持装置においては、吸引孔の圧力を検出して在荷を確認する方法がとられる。特許文献１は、複数の吸引孔のそれぞれに対して圧力センサを配置した構成を開示している。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【文献】特開２０１１－１４６６６３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

保持装置は、一般に、搭載面に対して物体を載置または浮上させる際に出没する複数の支持ピンを備える。複数の支持ピンのそれぞれの物体との当接部（すなわちピンの先端部）に、吸引孔が設けられる。従来、支持ピンの本数は３本が標準的であったが、近年は物体の大型化が進んでおり、物体の撓みを防止するため、支持ピンの本数を４本以上とする構成が増えている。

【0007】

しかし、支持ピンの本数を４本以上とすると、いずれかの吸引孔で吸着不良が起こりやすく、従来の在荷確認手法では、複数の吸引孔に１つでも吸着不良があると、在荷なしと誤検知されてしまう。そこで、特許文献１のように、吸引孔ごとに圧力センサを設置することも考えられるが、コスト増大および設置スペース増大が問題となりうる。

【0008】

本発明は、物体が載置されていることの検知性能の点で有利な技術を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0009】

本発明の一側面によれば、真空吸引によって物体を保持する保持装置であって、前記物体が載置される保持面の上に形成された第１吸引部および第２吸引部を有する保持部と、前記第１吸引部と真空源とを接続し気体が流通する第１流路と、前記第２吸引部と前記真空源とを接続し気体が流通する第２流路と、前記第１流路から分岐して気体が流通する第３流路と、前記第２流路から分岐して気体が流通する第４流路と、第５流路と、前記真空源と接続して気体が流通する第６流路と、前記第５流路に配置され、前記第５流路内の圧力または気体流量を計測する計測部と、前記第３流路と前記第５流路とを接続し、前記第３流路から前記第５流路へ向かう気体の流れを制限する第１制限部と、前記第４流路と前記第５流路とを接続し、前記第４流路から前記第５流路へ向かう気体の流れを制限する第２制限部と、前記第５流路と前記第６流路とを接続し、前記第５流路から前記第６流路へ向かう気体の流れを制限する第３制限部と、を有することを特徴とする保持装置が提供される。

【発明の効果】

【0010】

本発明によれば、物体が載置されていることの検知性能の点で有利な技術を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】保持装置の構成を示す図。

【図2】リフトピンの構成を示す図。

【図3】露光装置の構成を示す図。

【図4】在荷確認時の保持装置における気体の流れを説明する図。

【図5】在荷確認時の保持装置における気体の流れを説明する図。

【図6】保持装置の構成を示す図。

【図7】在荷確認時の保持装置における気体の流れを説明する図。

【図8】在荷確認時の保持装置における気体の流れを説明する図。

【図9】チャックの保持面の構成例を示す平面図。

【図10】保持装置の構成を示す図。

【発明を実施するための形態】

【0012】

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。

【0013】

＜第１実施形態＞
本発明に係る保持装置は、真空吸引によって物体を保持する装置であって、例えば、原版のパターンを基板に形成するリソグラフィ装置に適用されうるものである。以下では、保持装置がリソグラフィ装置の一例である露光装置に適用された例を説明する。ただし、リソグラフィ装置は露光装置に限らず、他のリソグラフィ装置であってもよい。例えば、リソグラフィ装置は、荷電粒子線で基板（の上の感光剤）に描画を行う描画装置であってもよい。あるいは、リソグラフィ装置は、基板上のインプリント材を型で成形して基板にパターンを形成するインプリント装置であってもよい。

【0014】

図３は、本発明の保持装置が適用される、リソグラフィ装置の一例である露光装置３００の概略図である。本明細書および図面においては、水平面をＸＹ平面とするＸＹＺ座標系において方向が示される。一般には、基板Ｗはその表面が水平面（ＸＹ平面）と平行になるように基板ステージの上に置かれる。よって以下では、基板Ｗの表面に沿う平面内で互いに直交する方向をＸ軸およびＹ軸とし、Ｘ軸およびＹ軸に垂直な方向をＺ軸とする。また、以下では、ＸＹＺ座標系におけるＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸にそれぞれ平行な方向をＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向という。

【0015】

露光装置３００は、半導体デバイスの回路パターンが形成された原版であるレチクル３０３を用いて、その回路パターン基板Ｗに転写する装置である。露光装置３００は、例えば、投影光学系３０６と基板Ｗとの間に液体を介在させずに基板Ｗを露光する露光装置でありうる。あるいは、露光装置３００は、投影光学系３０６と基板Ｗとの間に液体を介在させて基板Ｗを露光する液浸露光装置であってもよい。

【0016】

照明光学系３０２は、光源３０１からの光を調整してレチクル３０３を照明する。投影光学系３０６は、照明されたレチクル３０３に形成されているパターンの像を基板Ｗに投影する。レチクルステージ３０４は、レチクル３０３を保持してＸ軸方向に移動しうる。基板ステージ３１３は、物体である基板Ｗを保持する保持装置Ｈを支持し、リニアモータ等の駆動機構（不図示）によって、保持装置Ｈ（すなわち基板Ｗ）を移動させる。

【0017】

露光装置３００は、レチクルステージ３０４と基板ステージ３１３とによってレチクル３０３と基板Ｗを相対的に走査させながら、基板Ｗ上のレジストにパターンを形成する。干渉計３１４は、レチクルステージ３０４に配置されたミラー３０５にレーザ光を照射しその反射光を受光することにより、レチクル３０３の位置を検出する。干渉計３１１は、基板ステージ３１３に配置されたミラー３１２にレーザ光を照射しその反射光を受光することにより、基板Ｗの位置を検出する。検出系３０７は、基板Ｗに形成されているアライメントマーク（不図示）や基板ステージ３１３上に設けられた基準マーク（不図示）を検出する。

【0018】

制御部３１０は、レチクルステージ３０４、基板ステージ３１３、検出系３０７、干渉計３０４、干渉計３１１、および保持装置Ｈと接続されており、これらを統括的に制御する。例えば、露光処理時には、検出系３０７の検出結果に基づいてパターンの形成位置を決定し、干渉計３１４および干渉計３１１から得られる位置情報に基づいてレチクルステージ３０４、基板ステージ３１３を制御する。

【0019】

保持装置Ｈは、基板の保持部であるチャック３０８と、基板Ｗの搬入及び搬出時に基板Ｗを支持する複数のリフトピン３０と、複数のリフトピン３０を支持する支持部３０９とを有する。複数のリフトピン３０は、チャック３０８の上面（基板の保持面）に対して昇降可能である。支持部３０９は、複数のリフトピン３０を昇降させる昇降機構（不図示）を有する。基板搬送ハンドより基板Ｗが搬入される際、複数のリフトピン３０はその上端がチャック３０８の上面よりも上になるように上昇移動し、基板搬送ハンドより基板Ｗを受け取る。制御部３１０は、基板搬送ハンドから複数のリフトピン３０上へ基板Ｗが受け渡された際、基板が複数のリフトピン３０上に正常に載置されたかを確認する在荷確認を行う。在荷確認により基板が正常に載置されたことが確認されると、複数のリフトピン３０はその上端がチャック３０８の上面より下になるように下降移動し、これにより基板はチャック３０８の載置面に置かれる。なお、ここでは、複数のリフトピン３０がチャック３０８の載置面に対して昇降する構成であるとしたが、複数のリフトピン３０は固定でチャック３０８が昇降する構成としてもよい。

【0020】

図１は保持装置Ｈの具体的な構成例を示す図である。また、図２はリフトピン３０の構造を示す図であり、その上部には図１におけるリフトピン３０の拡大側面図が示され、下部にはリフトピン３０の上端面を表す平面図が示されている。

【0021】

複数のリフトピン３０は、チャック３０８の保持面３０８ａの上で基板Ｗを真空吸引によって保持することができる。図２に示すように、リフトピン３０はその上端に、基板Ｗを載置する載置面３１を有する。また、リフトピン３０には載置面３１に連通された中空部が形成されており、この中空部は基板Ｗを真空吸引するための吸引孔３２として機能する。

【0022】

複数のリフトピン３０は、複数のセクションに分割されうる。各セクションの吸引孔は１つの系統にまとめられて真空装置（真空源）と接続される。図１の例では、複数のリフトピン３０は、セクションＡ（第１吸引部）とセクションＢ（第２吸引部）に分割される。言い換えると、セクションＡおよびセクションＢはそれぞれ、複数のリフトピン３０のうちの１つ以上のリフトピンを含む。なお、セクションに分割する理由は、多数のリフトピンの中から吸着異常を特定する工数を減らすためである。よって、本発明はセクションに分割することは必須ではない。セクションの分割をしない場合には、各リフトピン（各吸引孔）が各吸引部を構成する。

【0023】

セクションＡにおける吸引孔３２のそれぞれは、気体が流通する流路３３Ａと接続され、それぞれの流路３３Ａは第１流路１に合流され、第１流路１は接続ポートＶａを介して真空装置Ｖと接続される。同様に、セクションＢにおける吸引孔３２のそれぞれは気体が流通する流路３３Ｂと接続され、それぞれの流路３３Ｂは第２流路２に合流され、第２流路２は接続ポートＶａを介して真空装置Ｖと接続される。

【0024】

また、保持装置Ｈは、第１流路１から分岐して気体が流通する第３流路３と、第２流路２から分岐して気体が流通する第４流路４と、第３流路３と第４流路４とをつなぐ第５流路５とを有する。

【0025】

第３流路３の終端と第５流路５の一端とは、第１制限部１１を介して接続される。第１制限部１１は、第３流路３から第５流路５へ向かう気体の流れを制限する。第１制限部１１としては、例えば、第５流路５から第３流路３へ向かう気体の流れを許容し第３流路３から第５流路５へ向かう気体の流れを阻止する逆止弁が使用されうる。

【0026】

第４流路４の終端と第５流路５の他端とは、第２制限部１２を介して接続される。第２制限部１２は、第４流路４から第５流路５へ向かう気体の流れを制限する。第２制限部１２としては、例えば、第５流路５から第４流路４へ向かう気体の流れを許容し第４流路４から第５流路５へ向かう気体の流れを阻止する逆止弁が使用されうる。

【0027】

また、保持装置Ｈは、接続ポートＶａを介して真空装置Ｖと接続される第６流路６を有し、第５流路５と第６流路６とが、第３制限部１３を介して接続される。第３制限部１３は、第５流路５から第６流路６へ向かう気体の流れを制限する。第３制限部１３としては、例えば、第６流路６から第５流路５へ向かう気体の流れを許容し第５流路５から第６流路６へ向かう気体の流れを阻止する逆止弁が使用されうる。

【0028】

なお、第１制限部１１には、逆止弁のかわりに、第３流路３から第５流路５へ向かう気体の流れを調整するスピードコントローラが使用されてもよい。また、第２制限部１２にも、第４流路４から第５流路５へ向かう気体の流れを調整するスピードコントローラが使用されてもよい。同様に、第３制限部１３にも、第５流路５から第６流路６へ向かう気体の流れを調整するスピードコントローラが使用されてもよい。

【0029】

第５流路５には、第５流路内の圧力または気体流量を計測する計測部８が配置される。計測部８は、第５流路５内の圧力を計測する圧力計であってもよいし、第５流路５内の気体流量を計測する気体流量計であってもよい。計測部８での計測結果は、処理部９に伝送される。処理部９は、ＣＰＵおよびメモリを備えるコンピュータによって構成されうる。なお、処理部９は、露光装置３００における制御部３１０（図３）によって実現されてもよい。

【0030】

第１流路１、第２流路２、第６流路６はそれぞれ、接続ポートＶａに接続される。図１の例において、第１流路１と第２流路２と第６流路６とは合流されたのち、接続ポートＶａに接続されている。この場合、第１流路１と第２流路２と第６流路６との合流は、例えば十字継手を用いて行われうる。

【0031】

接続ポートＶａは、第１流路１、第２流路２、第６流路６を、真空装置Ｖに連通するか大気開放口Ｖｂに連通するかを選択的に切り換え可能な真空開放機構としての切換弁７を含みうる。切換弁７は例えば電磁切換弁でありうるが、その他の切換機構が用いられてもよい。切換弁７の制御は処理部９によって行われうる。複数のリフトピン３０上の基板Ｗの在荷確認を行う際、および、基板Ｗが複数のリフトピン３０上に存在すると判定されている際に、切換弁７は真空装置Ｖ側に切り換えられる。これにより、基板Ｗが不図示の搬送ハンドにより搬出された後、複数のリフトピン３０上に基板Ｗがないと判定されると、切換弁７は大気開放口Ｖｂ側に切り換えられ、第６流路６を介して、計測部８が配置されている第５流路５の真空状態が解除される。

【0032】

また、第１流路１には、第１流路内に圧力損失を与える第１圧力損失発生部２１が配置される。同様に、第２流路２には、第２流路内に圧力損失を与える第２圧力損失発生部２２が配置される。真空装置Ｖによって第１流路１内の気体吸引が行われている間、第１圧力損失発生部２１で圧力損失が発生することにより、第１圧力損失発生部２１と真空装置Ｖとの間の第１流路１内の圧力は外気圧に対して負圧となる。また、真空装置Ｖによって第２流路２内の気体吸引が行われている間、第２圧力損失発生部２２で圧力損失が発生することにより、第２圧力損失発生部２２と真空装置Ｖとの間の第２流路２内の圧力は外気圧に対して負圧となる。このため、真空装置Ｖによって第１流路１および第２流路２内の気体吸引が行われている間に第６流路６から第３制限部１３を介して計測部８が配置されている第５流路５に気体が流入することを防止できる。もっとも、このときに第６流路６から第５流路５への気体の流入を完全に阻止する必要はなく、計測部８によって検知しえない量、すなわち計測部８の公差範囲（計測誤差範囲）内に相当する量での気体の流入は許容されうる。よって、第１圧力損失発生部２１および第２圧力損失発生部２２での圧力損失量は、真空装置Ｖによる第１流路１内および第２流路２内の気体吸引中に第６流路６から第５流路５へ流入する気体の量が計測部８の公差範囲内に相当する量になるように設定される。

【0033】

第１圧力損失発生部２１は、第１流路１におけるリフトピン３０側から真空装置Ｖ側に向かう気体の流れに対して圧力損失を増加させるように配置された絞り弁でありうる。また、第２圧力損失発生部２２は、第２流路２におけるリフトピン３０側から真空装置Ｖ側に向かう気体の流れに対して圧力損失を増加させるように配置された絞り弁でありうる。これらの絞り弁のかわりに、同様の機能を備える落下防止弁が使用されてもよい。

【0034】

あるいは、第１圧力損失発生部２１および第２圧力損失発生部２２は、圧力損失が増加するように、それぞれ第１流路１の径よりも小さい径の流路および第２流路２の径よりも小さい径の流路によって構成されてもよい。あるいは、第１圧力損失発生部２１および第２圧力損失発生部２２は、それぞれ、所定の圧力損失を発生させるだけの長さを持つ流路によって構成されてもよい。また、そのような流路は迷路状に複数箇所で折り曲げられたラビリンス構造を有するように形成されてもよい。このように、第１圧力損失発生部２１は、真空装置Ｖによる第１流路１内の気体吸引中に第６流路６から第５流路５へ流入する気体の量が計測部８の公差範囲内に相当する量になるような、径および長さを持つ流路を有する構造としてもよい。同様に、第２圧力損失発生部２２は、真空装置Ｖによる第２流路２内の気体吸引中に第６流路６から第５流路５へ流入する気体の量が計測部８の公差範囲内に相当する量になるような、径および長さを持つ流路を有する構造としてもよい。

【0035】

基板Ｗを複数のリフトピン３０によって支持する際、基板Ｗの撓み等のために基板Ｗがいずれかのリフトピン３０の載置面３１と接触しない場合がありうる。その場合、基板Ｗと接触していないリフトピン３０の載置面３１に連通されている吸引孔３２から外気が進入しうる。しかし、本実施形態の構成によれば、第１制限部１１、第２制限部１２、第３制限部１３の働きにより、その外気は計測部８が配置されている第５流路５には流入しない。そのため、基板Ｗがいずれかの載置面３１と接触せず、いずれかのリフトピン３０が吸着不良となっても、計測部８は負圧を検知することができ、処理部９は、基板Ｗの在荷確認を正確に行うことができる。

【0036】

また、本実施形態の構成によれば、セクションごとに計測部を設ける必要はなく、１つの計測部で在荷確認を行うことができる。したがって、設置スペースおよびコストの点においても有利である。

【0037】

ここで、複数のリフトピン３０の載置面３１の全てが基板Ｗと接触し、全てのリフトピン３０で正常に吸着ができた場合を想定する。この場合、セクションＡに関しては、流路３３Ａには外気の進入はないため、流路３３Ａ内の気体は第１流路１を介して真空装置Ｖへ流れ、流路３３Ａ内の圧力は外気圧に対して負圧となる。第１制限部１１は－Ｘ方向への流れは自由流となるよう構成されているため、第５流路５内の流体は、第１制限部１１を通り、第１流路１へと流れうる。

【0038】

また、セクションＢに関しては、流路３３Ｂには外気の進入はないため、流路３３Ｂ内の流体は第２流路２を介して真空装置Ｖへ流れ、流路３３Ｂ内の圧力は外気圧に対して負圧となる。第２制限部１２はＸ方向への流れは自由流となるよう構成されているため、第５流路５内の流体は、第２制限部１２を通り、第２流路２へと流れうる。

【0039】

以上より、第５流路５内の圧力は負圧となり、計測部８は負圧を検知し、処理部９は在荷ありと判定することができる。

【0040】

次に、複数のリフトピン３０の載置面３１のうちのいずれかが基板Ｗと接触せず、いずれかのリフトピン３０で吸着不良が発生しその吸引孔３２から外気が進入している状態に想定する。この状態を図４に示す。図４では、セクションＡにおけるリフトピン３０で吸着不良が発生している。この場合、当該リフトピンの吸着孔３２と連通している流路３３Ａに外気が進入するため、第１流路１内の圧力は外気圧と同等の圧力となる。第１制限部１１は、＋Ｘ方向の気体の流れを制限するように構成されているため、進入した外気は第１制限部１１を通って第５流路５へ流れ込むことはない。そのため、進入した外気は、第１圧力損失発生部２１を通過し真空装置Ｖへと流れる。このとき、第１圧力損失発生部２１は進入した外気に対して圧力損失を与えるため、第１圧力損失発生部２１より下流の第１流路１内の圧力は外気圧に対して負圧となる。

【0041】

一方、流路３３Ｂには、外気の進入はないため、流路３３Ｂ中の気体は第２流路２を通って真空装置Ｖへと流れ、第２流路２内の圧力は外気圧に対して負圧となる。第２制限部１２は、＋Ｘ方向の気体の流れは自由流であるため、第５流路５内の気体は第２流路２へ流れ、第５流路５内の圧力は負圧となる。したがって、計測部８は負圧を検知し、処理部９は在荷ありと判定することができる。

【0042】

次に、複数のリフトピン３０上に基板Ｗが存在しないとき、または、複数のリフトピン３０の載置面３１の全てが基板Ｗと接触しなかった場合を想定する。この状態を図５に示す。この場合、全てのセクションで吸引孔３２が開放されるため、流路３３Ａ、第１流路１、流路３３Ｂ、第２流路２内の圧力は外気圧と同等となる。そのため、第５流路５内の気体は第１流路１および第２流路２へは流れない。このとき、第１圧力損失発生部２１が、進入した外気に対して圧力損失を与えるため、第１圧力損失発生部２１より下流の第１流路１内の圧力は外気圧に対して負圧となる。同様に、第２圧力損失発生部２２が、進入した外気に対して圧力損失を与えるため、第２圧力損失発生部２２より下流の第２流路２内の圧力は外気圧に対して負圧となる。しかし、第３制限部１３は－Ｚ方向の気体の流れを制限するように構成されているため、第５流路５内の気体は第６流路６へは流れず、第５流路５内の圧力は外気圧に近い値となる。したがって、計測部８は外気圧に近い値を検知し、処理部９は在荷なしと判定することができる。

【0043】

以上のように、本実施形態によれば、基板がいずれかの吸引孔と接触せずその吸引孔で吸着不良が発生した場合でも、該吸引孔から進入した外気が計測部８へ流入することが防止される。そのため、計測部８はいずれかの吸引孔で吸着不良があっても負圧を検出することができるため、基板が載置されているにもかかわらず在荷なしと誤検知されることを防ぐことができる。

【0044】

＜第２実施形態＞
図６は、第２実施形態における保持装置Ｈの構成を示す図である。この構成は、第１実施形態に係る図１と概ね同様の構成であるが、第２実施形態では、第１圧力損失発生部２１と第２圧力損失発生部２２とで、通過する気体に与える圧力損失が異なる点に特徴がある。

【0045】

例えば、図７に示すように、セクションＡにおけるリフトピン３０で吸着不良が発生し、外気が進入した場合を想定する。この場合、外気圧をP_o、第１圧力損失発生部２１での圧力損失をP_a-drop、第２圧力損失発生部２２での圧力損失をP_b-dropとすると、検出される圧力P_Aは、次式により表される。
P_A＝P_o－P_a-drop＋P_b-drop＋P_A-Loss
ただし、P_A-Lossは流路内での圧力損失を表している。

【0046】

次に、図８に示すように、セクションＢにおけるリフトピン３０で吸着不良が発生し、外気が進入した場合を想定する。この場合、外気圧をP_o、第１圧力損失発生部２１での圧力損失をP_a-drop、第２圧力損失発生部２２での圧力損失をP_b-dropとすると、検出される圧力P_Bは、次式により表される。
P_B＝P_o－P_b-drop＋P_a-drop＋P_B-Loss
ただし、P_B-Lossは流路内での圧力損失を表している。

【0047】

このように、図６における第１圧力損失発生部２１と第２圧力損失発生部２２とで、通過する気体に与える圧力損失の量が異なるようにしたので、吸着不良が発生したセクションが異なれば検出される圧力値も異なる。そのため、事前に各セクションでの吸着不良時における圧力値を記録しておくことで、吸着不良が発生した際に、吸着不良が発生したセクションを特定することが可能となる。

【0048】

なお、本実施形態では、セクションの数を２とした場合について説明したが、セクションの数が増加しても、各セクションに接続される圧力損失発生部の圧力損失を異なるものにしておけば、吸着不良が発生したセクションを特定することが可能である。そのため、吸着不良が発生したセクションに応じて、リフトピン３０が保持面３０８ａへ基板Ｗを受け渡す際のリフトピン３０の駆動加速度を変更することで、受け渡しの際に生じる基板Ｗの位置ずれを低減するといった対処をとることができる。

【0049】

＜第３実施形態＞
上述した第１および第２実施形態においては、複数のリフトピン３０によって基板Ｗを支持する際の在荷確認を行う構成を示した。第３実施形態では、チャック３０８の保持面３０８ａ上の基板Ｗの在荷確認を行う構成を示す。図９は、第３実施形態における、チャック３０８の保持面３０８ａの構成例を示す平面図である。保持面３０８ａは、基板Ｗを吸着するための、区分けされた複数の吸着溝８０１を有し、複数の吸着溝８０１それぞれの内部には少なくとも１つの吸引孔３２が連通している。よって本実施形態では、各吸着溝が各吸引部を構成する。

【0050】

図１０は、第３実施形態における保持装置Ｈの構成例を示す図である。リフトピンではなく吸着溝８０１の吸引孔３２が流路３３Ａまたは流路３３Ｂと接続されること以外は、図１と同じ構成である。図１０の例においては、セクションＡ（第１吸引部）およびセクションＢ（第２吸引部）はそれぞれ、複数の吸着溝８０１のうちの１つ以上の吸着溝を含む。セクションＡにおける吸引孔３２は流路３３Ａを介して第１流路１に連通され、セクションＢにおける吸引孔３２は流路３３Ｂを介して第２流路２に連通される。

【0051】

よって、この構成によっても、第１実施形態と同様に、基板Ｗの在荷確認を正確に行うことができる。もちろん、第２実施形態と同様の構成を適用することも可能である。

【0052】

発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。

【符号の説明】

【0053】

１：第１流路、２：第２流路、３：第３流路、４：第４流路、５：第５流路、６：第６流路、８：計測部、９：処理部、１１：第１制限部、１２：第２制限部、１３：第３制限部、３０：リフトピン、３０８：チャック（保持部）、３０８ａ：保持面、Ｖ：真空装置、Ｗ：基板

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】