特許 7414829 走査モジュール、測距装置および移動プラットフォーム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-01-05

(45)【発行日】2024-01-16

(54)【発明の名称】走査モジュール、測距装置および移動プラットフォーム

(51)【国際特許分類】

   G01S 7/481 20060101AFI20240109BHJP

   G01S 17/10 20200101ALI20240109BHJP

【ＦＩ】

G01S7/481 Z

G01S17/10

【請求項の数】 22

(21)【出願番号】P 2021538104

(86)(22)【出願日】2019-01-09

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2022-02-24

(86)【国際出願番号】 CN2019071055

(87)【国際公開番号】W WO2020142967

(87)【国際公開日】2020-07-16

【審査請求日】2021-06-28

【前置審査】

(73)【特許権者】

【識別番号】513068816

【氏名又は名称】エスゼット ディージェイアイ テクノロジー カンパニー リミテッド

【氏名又は名称原語表記】ＳＺ ＤＪＩ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＣＯ．，ＬＴＤ

【住所又は居所原語表記】６Ｆ，ＨＫＵＳＴ ＳＺ ＩＥＲ Ｂｌｄｇ．ＮＯ．９ Ｙｕｅｘｉｎｇ １ｓｔ Ｒｄ．Ｈｉ－Ｔｅｃｈ Ｐａｒｋ（Ｓｏｕｔｈ），Ｎａｎｓｈａｎ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ Ｓｈｅｎｚｈｅｎ，Ｇｕａｎｇｄｏｎｇ ５１８０５７ Ｃｈｉｎａ

(74)【代理人】

【識別番号】110002000

【氏名又は名称】弁理士法人栄光事務所

(72)【発明者】

【氏名】ワン ハオ

(72)【発明者】

【氏名】フアン フアイ

【審査官】佐藤 宙子

(56)【参考文献】

【文献】特開平０７－０９８３７９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００６－１６２８５７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０００－１６８６９８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１８－０６６５７１（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１３／１８３４３５（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０１Ｓ ７／４８－ ７／５１

Ｇ０１Ｓ １７／００－１７／９５

Ｇ０１Ｃ ３／００－ ３／３２

Ｇ０１Ｂ １１／００－１１／３０

Ｇ０２Ｂ ２６／１０－２６／１２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

収納キャビティが形成されたロータと、前記ロータの内壁上に設けられ前記収納キャビティ内に位置するボスと、を含むロータアセンブリと、
前記ロータアセンブリを駆動してステータアセンブリに対して回転させるために用いられるステータアセンブリと、
前記収納キャビティ内に取り付けられた光学素子であって、前記ロータアセンブリと同期回転し、第１の端と、第２の端と、を含み、前記第１の端と前記第２の端は、それぞれ前記光学素子の径方向における両端に位置し、前記第１の端の厚みは、前記第２の端の厚みよりも大きく、前記第２の端と前記ボスは、対向して前記ロータの回転軸の同じ側に位置し、前記第１の端と前記ボスは、前記回転軸の対向する両側に位置する光学素子と、を含み、
複数の前記ロータアセンブリと、複数の前記ステータアセンブリと、複数の前記光学素子と、を含み、
前記光学素子の各々は、対応する１つの前記ロータアセンブリ上に取り付けられ、前記ステータアセンブリの各々は、対応する１つの前記ロータアセンブリを駆動して前記光学素子を回転させるために用いられ、
前記複数の光学素子のうちの少なくとも１つの光学素子の第１の端に位置する側であって、かつ、光路が通らない位置に複数の切り欠きが形成され、
前記複数の切り欠きは、前記少なくとも１つの光学素子における、前記複数の光学素子の他の光学素子と対向する第１の領域の外側の第２の領域上に設けられた１つの隅切りと、前記少なくとも１つの光学素子に対応する前記ロータアセンブリにおける、前記第２の領域上に設けられた１または複数の切り欠きから構成される、走査モジュール。

【請求項2】

前記第２の端と前記ロータの内壁との間に間隙を形成し、前記ボスが前記間隙内に入る、請求項１に記載の走査モジュール。

【請求項3】

前記光学素子と前記ボスは間隔をあけて設けられる、請求項１に記載の走査モジュール。

【請求項4】

前記ボスの前記光学素子を向いた面は平面であり、前記ボスの前記ロータの内壁と貼着される面は曲面である、請求項１に記載の走査モジュール。

【請求項5】

前記ボスは前記光学素子と同期回転し、前記ボスが前記第２の端と共同で回転する際の前記回転軸に対するトルクは、前記第１の端が回転する際の前記回転軸に対するトルクと等しい、請求項１に記載の走査モジュール。

【請求項6】

前記ボスは、前記ロータと一体成形するか、または前記ボスは、前記ロータと別々に成形し、前記ボスが前記ロータの内壁上に固定される、請求項１に記載の走査モジュール。

【請求項7】

前記ボスの密度は、前記ロータおよび前記光学素子の少なくとも１つの密度よりも大きい、請求項１に記載の走査モジュール。

【請求項8】

前記光学素子には、前記回転軸に対して傾斜した第１の面、および前記第１の面と背を向け合った第２の面が形成され、前記第２の面は、前記回転軸に対して垂直である、請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の走査モジュール。

【請求項9】

前記ボスは、第１の補助面に関して対称であり、前記第１の補助面は、前記回転軸に垂直であり、前記第１の面の中心を通る、請求項８に記載の走査モジュール。

【請求項10】

前記ボスは、第３の補助面に関して対称であり、前記第３の補助面は、前記回転軸、前記第１の端および前記第２の端を通る、請求項８に記載の走査モジュール。

【請求項11】

前記ボスの前記回転軸における投影範囲は、前記光学素子の前記回転軸における投影範囲を覆う、請求項１に記載の走査モジュール。

【請求項12】

複数の前記ロータアセンブリの回転軸が同じである、請求項１に記載の走査モジュール。

【請求項13】

複数の前記ロータアセンブリは、異なる回転速度および回転方向の少なくとも１つで、対応する前記ステータアセンブリに対して回転することができる、請求項１に記載の走査モジュール。

【請求項14】

前記ロータの内壁は、環状構造を呈するか、または１つの環状構造の一部であり、
前記走査モジュールは、前記ロータの内壁外側に位置する位置決めアセンブリをさらに含み、前記位置決めアセンブリは、前記ロータアセンブリを制限して、固定された回転軸を中心として回転させるために用いられ、前記位置決めアセンブリは、前記ロータの内壁外側に巻かれた環状軸受を含むか、前記ステータアセンブリは、前記ロータの内壁外側に巻かれ、環状を呈する巻線を含むかのうちの少なくとも１つである、請求項１に記載の走査モジュール。

【請求項15】

前記ステータアセンブリおよび前記位置決めアセンブリは、並列して前記ロータの内壁外側に巻かれる、請求項１４に記載の走査モジュール。

【請求項16】

前記走査モジュールは、走査ハウジングをさらに含み、前記ステータアセンブリ、前記ロータアセンブリおよび前記位置決めアセンブリは、前記走査ハウジング内に収容され、
前記位置決めアセンブリは、前記ロータの内壁外側と互いに固定された内周構造と、前記走査ハウジングと互いに固定された外周構造と、前記内周構造と前記外周構造との間に位置する転がり体と、を含み、前記転がり体は、それぞれ前記外周構造および前記内周構造と転がり接続するために用いられる、請求項１４または請求項１５に記載の走査モジュール。

【請求項17】

前記光学素子は、プリズムを含む、請求項１に記載の走査モジュール。

【請求項18】

請求項１から請求項１７のいずれか一項に記載の走査モジュールと、
前記走査モジュールにレーザーパルスを発射するために用いられる測距モジュールと、を含み、前記走査モジュールは、前記レーザーパルスの伝送方向を変えた後に出射するために用いられ、測定物から反射して戻って来たレーザーパルスは、前記走査モジュールを経た後、前記測距モジュールに入射し、前記測距モジュールは、反射して戻って来たレーザーパルスに基づき、前記測定物と距離測定装置との間の距離を確定するために用いられる、測距装置。

【請求項19】

前記測距モジュールは、
レーザーパルス列を出射するための光源と、測定器と、を含み、
前記走査モジュールは、前記レーザーパルス列を異なる時間に異なる伝送方向に変えて出射するために用いられ、測定物によって反射されて戻って来たレーザーパルスは、前記走査モジュールを経た後、前記測定器に入射し、
前記測定器は、前記反射されて戻って来たレーザーパルスを電気パルスに変換し、前記電気パルスに基づき、前記測定物と前記距離測定装置との間の距離を確定する、請求項１８に記載の測距装置。

【請求項20】

前記測距モジュールは、光路変更素子と、コリメート素子と、をさらに含み、
前記光路変更素子は、前記コリメート素子の前記走査モジュールと背を向けた側に位置し、前記光源の出射光路および前記測定器の受光光路を合併するために用いられ、
前記コリメート素子は、前記光源からのレーザーパルスをコリメートした後に、前記走査モジュールに投射するために用いられ、前記走査モジュールからの光束を前記測定器に集めるために用いられる、請求項１９に記載の測距装置。

【請求項21】

前記光学素子は、前記光源がレーザーパルスを出射する出射光路上に位置し、前記ステータアセンブリは、前記光学素子を駆動して回転させ、前記光学素子を経る前記レーザーパルスの伝送方向を変える、請求項１９に記載の測距装置。

【請求項22】

移動プラットフォーム本体と、
前記移動プラットフォーム本体上に取り付けられた、請求項１８から請求項２１のいずれか一項に記載の測距装置と、を含む、移動プラットフォーム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本願は、レーザー測量技術分野に関し、特に走査モジュール、測距装置および移動プラットフォームに関する。

【背景技術】

【0002】

機械測距装置は、レーザー発射・受光素子条件の利用効率を高め、高密度高解像度三次元空間走査測距を実現するために、高回転速度のモータによって光路に対して偏向走査を行う必要がある。高速回転するモータは、測距装置で生じる振動を大きくし、従って測距装置の測距精度を低下させる。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0003】

本願の実施形態は、走査モジュール、測距装置および移動プラットフォームを提供する。

【課題を解決するための手段】

【0004】

本願の実施形態は、ロータアセンブリと、ステータアセンブリと、光学素子と、を含む走査モジュールを提供する。前記ロータアセンブリは、収納キャビティが形成されたロータと、前記ロータの内壁上に設けられ前記収納キャビティ内に位置するボスと、を含む。前記ステータアセンブリは、前記ロータアセンブリを駆動して前記ステータアセンブリに対して回転させるために用いられる。前記光学素子は、前記収納キャビティ内に取り付けられ、前記ロータアセンブリと同期回転する。前記光学素子と前記ロータアセンブリは同期回転し、前記光学素子は、第１の端と、第２の端と、を含み、前記第１の端と前記第２の端は、それぞれ前記光学素子の径方向における両端に位置し、前記第１の端の厚みは、前記第２の端の厚みよりも大きく、前記第２の端と前記ボスは、対向して前記ロータの回転軸の同じ側に位置し、前記第１の端と前記ボスは、前記回転軸の対向する両側に位置する。

【0005】

本願の実施形態は、ロータアセンブリと、光学素子と、を含む走査モジュールを提供する。前記ロータアセンブリは、収納キャビティが形成されたロータを含む。前記光学素子は、前記収納キャビティ内に取り付けられ、前記ロータアセンブリと同期回転する。前記光学素子は、第１の端と、第２の端と、を含み、前記第１の端と前記第２の端は、それぞれ前記光学素子の径方向における両端に位置し、前記第１の端の厚みは、前記第２の端の厚みよりも大きく、前記ロータおよび前記光学素子のうちの少なくとも１つの前記第１の端に位置する側に切り欠きが形成されている。

【0006】

本願の実施形態は、第１のロータアセンブリと、第１の光学素子と、第２のロータアセンブリと、第２の光学素子と、を含む走査モジュールを提供する。前記第１のロータアセンブリは、第１の収納キャビティが形成された第１のロータと、前記第１のロータの内壁上に設けられ前記第１の収納キャビティ内に位置する第１のボスと、を含む。前記第１の光学素子は、前記第１の収納キャビティ内に取り付けられる。前記第１の光学素子は、第１の端と、第２の端と、を含み、前記第１の光学素子の第１の端と前記第２の光学素子の第２の端は、それぞれ前記第１の光学素子の径方向における両端に位置し、前記第１の光学素子の第１の端の厚みは、前記第１の光学素子の第２の端の厚みよりも大きく、前記第１の光学素子の第２の端と前記第１のボスは、対向して前記第１のロータの第１の回転軸の同じ側に位置し、前記第１の光学素子の第１の端と前記第１のボスは、前記第１の回転軸の対向する両側に位置する。前記第２のロータアセンブリは、第２の収納キャビティが形成された第２のロータを含む。前記第２の光学素子は、前記第２の収納キャビティ内に取り付けられる。前記第２の光学素子は、第１の端と、第２の端と、を含み、前記第２の光学素子の第１の端と前記第２の光学素子の第２の端は、それぞれ前記第２の光学素子の径方向における両端に位置し、前記第２の光学素子の第１の端の厚みは、前記第２の光学素子の第２の端の厚みよりも大きく、前記第２のロータおよび前記第２の光学素子のうちの少なくとも１つの前記第２の光学素子の第１の端に位置する側に切り欠きが形成されている。

【0007】

本願の実施形態は、上述したいずれかの実施形態の走査モジュールと、測距モジュールと、を含む測距装置を提供する。前記測距モジュールは、前記走査モジュールにレーザーパルスを発射するために用いられ、前記走査モジュールは、前記レーザーパルスの伝送方向を変えた後に出射するために用いられ、測定物から反射して戻って来たレーザーパルスは、前記走査モジュールを経た後、前記測距モジュールに入射し、前記測距モジュールは、反射して戻って来たレーザーパルスに基づき、前記測定物と前記距離測定装置との間の距離を確定するために用いられる。

【0008】

本願の実施形態は、移動プラットフォーム本体と、上述した実施形態の測距装置と、を含む移動プラットフォームを提供し、前記測距装置は、前記移動プラットフォーム本体上に取り付けられる。

【0009】

本願の走査モジュール、測距装置および移動プラットフォームは、ウェッジプリズム自体の重量分布が不均等であるため、ウェッジプリズムを高速回転させるときに走査モジュール全体が揺動しやすく十分に安定しない可能性があるが、本願では、ロータ内にボスを設ける方式によってロータアセンブリの回転時に生じる揺動を低減することにより、ロータアセンブリ全体を回転時にさらに安定させることに有利であり、測距装置の測距精度を高める。

【0010】

本願の実施形態の付加的な態様および利点は、以下の記述において一部を記載し、一部は以下の記述から自明であるか、または本願の実施形態の実施から理解することができる。

【0011】

本願の上述した態様および利点ならびに付加的な態様および利点の少なくとも１つは、以下の図面を参照しながら実施形態の記述から明らかに容易に理解することができる。

【図面の簡単な説明】

【0012】

【図1】本願のいくつかの実施形態の測距装置の部分分解模式図である。

【図2】図１に示す測距装置の部分立体構造模式図である。

【図3】図２に示す測距装置の部分立体分解模式図である。

【図4】図３に示す測距装置の支持フレームの立体模式図である。

【図5】図３に示す測距装置の走査モジュールの立体分解模式図である。

【図6】図３に示す測距装置の部分立体分解模式図である。

【図7】図５に示す走査モジュールの３つの支持ベースの立体分解模式図である。

【図8】図５に示す走査モジュールの３つの支持ベースの別の視角の立体分解模式図である。

【図9】図４に示す走査モジュールの部分構造の断面模式図である。

【図10】図４に示す走査モジュールの部分構造の断面模式図である。

【図11】図１０に示す走査モジュールのＸＩ部分の拡大模式図である。

【図12】図１０に示す走査モジュールのＸＩＩ部分の拡大模式図である。

【図13】いくつかの実施形態の走査モジュールの部分構造の断面模式図である。

【図14】いくつかの実施形態の走査モジュールの部分構造の断面模式図である。

【図15】図９に示す走査モジュールのロータの立体模式図である。

【図16】図９に示す走査モジュールのロータの別の視角の立体模式図である。

【図17】いくつかの実施形態の走査モジュールの光路模式図である。

【図18】いくつかの実施形態の走査モジュールの光路模式図である。

【図19】いくつかの実施形態の走査モジュールの位相角度の模式図である。

【図20】いくつかの実施形態の走査モジュールの光路模式図である。

【図21】図２に示す測距モジュールの平面図である。

【図22】図２１に示す測距モジュールのＸＸＩＩ－ＸＸＩＩ線に沿った断面模式図である。

【図23】図２２に示す測距モジュールにおけるＸＸＩＩＩ部分の拡大模式図である。

【図24】図２２に示す測距モジュールにおけるＸＸＩＶ部分の拡大模式図である。

【図25】本願のいくつかの実施形態の測距装置の測距原理模式図である。

【図26】本願のいくつかの実施形態の測距装置の測距モジュールの回路模式図である。

【図27】本願のいくつかの実施形態の測距装置の別の測距原理模式図である。

【図28】本願のいくつかの実施形態の移動プラットフォームの平面模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0013】

以下、本願の実施形態について詳細に記述する。前記実施形態の例は、図面において示し、始めから終わりまで同一または類似の符号で同一もしくは類似の要素または同一もしくは類似の機能を有する要素を表す。以下、図面を参照しながら記述する実施形態は例示的なものであり、本願について説明するために用いられているにすぎず、本願に対する限定であると理解することはできない。

【0014】

なお、本願の記述において、「中心」、「縦方向」、「横方向」、「長さ」、「幅」、「厚み」、「上」、「下」、「前」、「後ろ」、「左」、「右」、「垂直」、「水平」、「天」、「底」、「内」、「外」、「時計回り」、「反時計回り」などの用語が示す方位または位置関係は、図面で示す方位または位置関係に基づくものであり、本発明の説明に便利なようにし、記述を簡略化するためのものであるにすぎず、それが指す装置または要素が特定の方位、特定の方位構造および操作を有している必要があることを指示するものでも暗示するものでもないため、本発明に対する限定と理解することはできない。また、「第１の」、「第２の」などの用語は、記述の目的のために用いられているにすぎず、相対的な重要性を指示もしくは暗示するもの、または指示する技術的特徴の数を暗示もしくは明示するものと理解することはできない。そのため、「第１の」、「第２の」などと限定された特徴は、１つまたは複数の前記特徴を明示的または暗示的に含むことができる。本願の記述において、「複数の」の意味は、別段の明確で具体的な限定がある場合を除き、２つ以上である。

【0015】

なお、本願の記述において、別段の明確な規定および限定がある場合を除き、「装着」、「つなぐ」、「接続」などの用語は、広義に理解すべきであり、例えば、固定接続であっても、着脱可能な接続であっても、一体化して接続しても、機械的な接続であっても、電気的な接続であっても、互いに通信可能であっても、直接つないでも、中間的な媒体を介して間接的につないでも、２つの要素内部の連通であっても、２つの要素の相互作用関係であってもよい。当業者は、具体的な状況に応じて上記用語の本願における具体的な意味を理解することができる。

【0016】

本願において、別段の明確な規定および限定がある場合を除き、第１の特徴が第２の特徴の「上」または「下」にあるとは、第１および第２の特徴が直接接触していることを含んでも、第２および第２の特徴が直接接触せずにこれらの間の別の特徴を介して接触していることを含んでもよい。さらに、第１の特徴が第２の特徴の「上」、「上方」および「上側」にあるとは、第１の特徴が第２の特徴の真上および斜め上にあることを含み、または、第１の特徴の水平高さが第２の特徴よりも高いことを表すにすぎない。第１の特徴が第２の特徴の「下」、「下方」および「下側」にあるとは、第１の特徴が第２の特徴の真下および斜め下にあることを含み、または、第１の特徴の水平高さが第２の特徴よりも低いことを表すにすぎない。

【0017】

以下の開示は、多くの異なる実施形態または例を提供して、本願の異なる構造の実現に用いる。本願の開示を簡素化するため、以下では特定の例の部材および設置について説明する。当然ながら、これらは例にすぎず、本願を限定することが目的ではない。また、本願は、異なる例において参照数字および参考文字の少なくとも１つを繰り返すことができ、こうした繰り返しは、簡略化し明瞭にすることを目的としており、それ自体が、考察されている各種実施形態および設置の少なくとも１つの間の関係を示しているのではない。また、本願は、各種特定の工程および材料の例を提供しているが、当業者は、他の工程の適用および他の材料の使用のうち少なくとも１つを意識することができる。

【0018】

図９および図１０に示すように、本願の実施形態は、ロータアセンブリ４３３と、ステータアセンブリ４３１と、光学素子４６と、を含む走査モジュール４０を提供する。ロータアセンブリ４３３は、収納キャビティ４３３６が形成されたロータ４３３１と、ロータ４３３１の内壁上に設けられ収納キャビティ４３３６内に位置するボス４３３２と、を含む。ステータアセンブリ４３１は、ロータアセンブリ４３３を駆動してステータアセンブリ４３１に対して回転させるために用いられる。光学素子４６は、収納キャビティ４３３６内に取り付けられ、ロータアセンブリ４３３と同期回転する。光学素子４６とロータアセンブリ４３３は同期回転し、光学素子４６は、第１の端４６１と、第２の端４６２と、を含み、第１の端４６１と第２の端４６２は、それぞれ光学素子４６の径方向における両端に位置し、第１の端４６１の厚みは、第２の端４６２の厚みよりも大きく、第２の端４６２とボス４３３２は、対向してロータ４３３１の回転軸４３３７の同じ側に位置し、第１の端４６１とボス４３３２は、回転軸４３３７の対向する両側に位置する。

【0019】

図９および図１０に示すように、本願の実施形態は、ロータアセンブリ４２３と、光学素子４５と、を含む走査モジュール４０を提供する。ロータアセンブリ４２３は、収納キャビティ４２３５が形成されたロータ４２３１を含む。光学素子４５は、収納キャビティ４２３５内に取り付けられ、ロータアセンブリ４２３と同期回転する。光学素子４５は、第１の端４５１と、第２の端４５２と、を含み、第１の端４５１と第２の端４５２は、それぞれ光学素子４５の径方向における両端に位置し、第１の端４５１の厚みは、第２の端４５２の厚みよりも大きく、ロータ４２３１および光学素子４５のうちの少なくとも１つの第１の端４５１に位置する側に切り欠きが形成されている。

【0020】

図９および図１０に示すように、本願の実施形態は、第１のロータアセンブリ４２３と、第１の光学素子４５と、第２のロータアセンブリ４３３と、第２の光学素子４６と、を含む走査モジュール４０を提供する。第１のロータアセンブリ４２３は、第１の収納キャビティ４２３５が形成された第１のロータ４２３１を含む。第１の光学素子４５は、第１の収納キャビティ４２３５内に取り付けられ、第１の光学素子４５は、第１の端４５１と、第２の端４５２と、を含み、第１の光学素子４５の第１の端４５１と第１の光学素子４５の第２の端４５２は、それぞれ第１の光学素子４５の径方向における両端に位置し、第１の光学素子４５の第１の端４５１の厚みは、第１の光学素子４５の第２の端４５２の厚みよりも大きく、第１のロータ４２３１および第１の光学素子４５のうちの少なくとも１つの第１の光学素子４５の第１の端４５１に位置する側に切り欠きが形成されている。第２のロータアセンブリ４３３は、第２の収納キャビティ４３３６が形成された第２のロータ４３３１と、第２のロータ４３３１の内壁上に設けられ第２の収納キャビティ４３３６内に位置するボス４３３２と、を含む。第２の光学素子４６は、第２の収納キャビティ４３３６内に取り付けられ、第２の光学素子４６は、第１の端４６１と、第２の端４６２と、を含み、第２の光学素子４６の第１の端４６１と第２の光学素子４６の第２の端４６２は、それぞれ第２の光学素子４６の径方向における両端に位置し、第２の光学素子４６の第１の端４６１の厚みは、第２の光学素子４６の第２の端４６２の厚みよりも大きく、第２の光学素子４６の第２の端４６２とボス４３３２は、対向して第２のロータ４３３１の第２の回転軸４３３７の同じ側に位置し、第２の光学素子４６の第１の端４６１とボス４３３２は、第２の回転軸４３３７の対向する両側に位置する。

【0021】

図１および図９に示すように、本願の実施形態は、上述したいずれかの実施形態の走査モジュール４０と、測距モジュール６０と、を含む測距装置１００を提供する。測距モジュール６０は、走査モジュール４０にレーザーパルスを発射するために用いられ、走査モジュール４０は、レーザーパルスの伝送方向を変えた後に出射するために用いられ、測定物から反射して戻って来たレーザーパルスは、走査モジュール４０を経た後、測距モジュール６０に入射し、測距モジュール６０は、反射して戻って来たレーザーパルスに基づき、測定物と測距装置１００との間の距離を確定するために用いられる。

【0022】

本願の走査モジュール４０および測距装置１００は、ウェッジプリズム自体の重量分布が不均等であるため、ウェッジプリズムを高速回転させるとき走査モジュール４０全体が揺動しやすく十分に安定しない可能性があるが、本願では、ロータ４３３１内にボス４３３２を設ける方式によってロータアセンブリ４３３の回転時に生じる揺動を低減することにより、ロータアセンブリ４３３全体を回転時にさらに安定させることに有利である。または、本願は、ロータ４２３１および光学素子４５のうちの少なくとも１つの第１の端４５１に位置する側に切り欠きが形成されている方式によってロータアセンブリ４２３の回転時に生じる揺動を低減することにより、ロータアセンブリ４２３全体を回転時にさらに安定させることに有利であり、すなわち、測距装置１００の振動を無視できるほど少なくし、測距装置１００の測距精度を高める。

【0023】

図１および図２５に示すように、測距装置１００は、台座１０と、カバー２０と、２つの支持フレーム３０と、走査モジュール４０と、複数のフレキシブル接続アセンブリ５０と、測距モジュール６０と、を含む。２つの支持フレーム３０は、いずれも台座１０上の背を向け合った両側に固定される。走査モジュール４０と測距モジュール６０は、間隔をあけて台座１０上に設けられ、２つの支持フレーム３０の間に位置し、支持フレーム３０の各々は、少なくとも２つのフレキシブル接続アセンブリ５０によって走査モジュール４０に接続される。測距モジュール６０は、走査モジュール４０にレーザーパルスを発射するために用いられ、走査モジュール４０は、レーザーパルスの伝送方向を変えた後に出射するために用いられ、測定物から反射して戻って来たレーザーパルスは、走査モジュール４０を経た後、測距モジュール６０に入射し、測距モジュール６０は、反射して戻って来たレーザーパルスに基づき、測定物と測距装置１００との間の距離を確定するために用いられる。測距装置１００は、測距装置１００と測定物との間で光が伝播する時間、すなわち光飛行時間（Ｔｉｍｅ－ｏｆ－Ｆｌｉｇｈｔ，ＴＯＦ）を計測することにより、測定物から測距装置１００までの距離を測定することができる。または、測距装置１００は、例えば、位相シフト（ｐｈａｓｅ ｓｈｉｆｔ）測定に基づく測距方法、または周波数シフト（ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ ｓｈｉｆｔ）測定に基づく測距方法などの他の技術によって測定物から測距装置１００までの距離を測定することもできるが、ここでは限定しない。

【0024】

図２および図３に示すように、台座１０は、台座本体１１と、第１の装着台１２と、第２の装着台１３と、を含み、台座本体１１は、板状構造を呈する。第１の装着台１２および第２の装着台１３は、台座本体１１の頂部１１１上に形成される。第１の装着台１２は、台座本体１１の頂部１１１から突出して形成された装着壁であってもよく、装着壁には、第１の台座装着穴１２１があけられており、第１の台座装着穴１２１の軸線方向は、台座本体１１の頂部１１１に平行である。

【0025】

図２２から図２４に示すように、第２の装着台１３は、台座本体１１の頂部１１１から突出して形成された台座ボスであってもよく、台座ボス上には、台座装着溝１３１が設けられており、台座装着溝１３１の底部には、第２の台座装着穴１３２があけられており、第２の台座装着穴１３２の軸線方向は、台座本体１１の頂部１１１に垂直であり、第２の台座装着穴１３２の軸線方向は、第１の台座装着穴１２１の軸線方向に垂直である。本実施形態の台座本体１１は、矩形板状構造を呈し、第１の装着台１２および第２の装着台１３の数は、いずれも２つであり、２つの第１の装着台１２は、それぞれ台座本体１１の対向する両側に位置し、台座本体１１の対称面に関して対称であり、２つの第２の装着台１３も、それぞれ台座本体１１の対向する両側に位置し、台座本体１１のこの対称面に関して対称である。同じ側の第１の装着台１２および第２の装着台１３は、台座本体１１の長辺に沿って間隔をあけて設けられ、上述した対称面は、台座本体１１の長辺に平行で、台座本体１１の短辺に垂直な面である。

【0026】

図１から図３に示すように、カバー２０は、台座１０上に設けられ、台座１０と共同で収容スペースを形成し、カバー２０は、カバー頂壁２１と、環状のカバー側壁２２と、を含む。具体的には、カバー頂壁２１は、板状構造を呈し、カバー頂壁２１の形状は、台座本体１１の形状に合わせてある。本実施例では、カバー頂壁２１の形状は、台座１０に形状に合わせ、矩形板状構造を呈する。カバー側壁２２は、カバー頂壁２１の１つの面から延在して形成され、カバー側壁２２は、カバー頂壁２１の縁に設けられ、カバー頂壁２１を囲む。カバー側壁２２のカバー頂壁２１とは反対の端は、ネジ接続、係合、接着、溶接などの任意の１種または複数種の方式で結合する方式によって台座１０上に取り付け、台座本体１１の中心を囲むことができる。本実施形態のカバー２０は、締付部材１４によって台座１０上に固定され、さらに具体的には、締付部材１４は、台座１０の底部側から台座本体１１を貫通してカバー側壁２２と結合し、締付部材１４は、ネジとすることができる。

【0027】

カバー側壁２２は、第１のカバー側壁２２１と、第２のカバー側壁２２２と、を含む。第１のカバー側壁２２１と第２のカバー側壁２２２は、カバー頂壁２１の対向する両端に位置する。１つの例において、第１のカバー側壁２２１および第２のカバー側壁２２２は、それぞれカバー頂壁２１の短辺上に設けられる。第１のカバー側壁２２１には、透光領域２２１１が形成され、第１のカバー側壁２２１の透光領域２２１１以外の領域は非透光領域２２１２であり、透光領域２２１１は、測距モジュール６０が発する測距信号を通過させるために用いられる。透光領域２２１１は、プラスチック、樹脂、ガラスなどの光透過率が高い材料により製造することができ、非透光領域２２１２は、銅、アルミニウムなどの熱伝導性で光透過率が低い金属により製造することができる。好ましくは、透光領域２２１１は熱伝導性プラスチックを採用し、光透過の要求を満たすことができるだけでなく、放熱の要求を満たすことができる。１つの例において、この透光領域２２１１は略円形状を呈する。１つの例において、この透光領域２２１１は略矩形状、例えば方形状を呈する。

【0028】

図３および図４に示すように、支持フレーム３０は、台座１０上に取り付けられる。本願の実施形態における支持フレーム３０の数は２つであり、２つの支持フレーム３０は、それぞれ台座１０の対向する両側に取り付けられる。支持フレーム３０の各々は、いずれも固定アーム３１と、接続アーム３３と、結合アーム３２と、を含む。

【0029】

固定アーム３１は、複数の固定部３１０と、第２の結合部３１３と、を含み、固定アーム３１は、複数の固定部３１０によって台座１０上に取り付けられる。本実施形態の固定部３１０の数は２つであり、２つの固定部３１０は、それぞれ第１の固定部３１１および第２の固定部３１２であり、第１の固定部３１１および第２の固定部３１２は、それぞれ固定アーム３１の対向する両端に位置し、第１の固定部３１１および第２の固定部３１２は、いずれも台座１０とリジット接続する。第１の固定部３１１および第２の固定部３１２は、固定部材３６（例えば締付ネジ）によってそれぞれ台座１０の同じ側の第１の装着台１２および第２の装着台１３上に固定される。具体的には、第１の固定部３１１は、台座本体１１上に設けられ、装着壁側に位置し、固定部材３６は、第１の台座装着穴１２１を貫通して第１の固定部３１１と結合し、第１の固定部３１１を第１の装着台１２上に固定する。第２の固定部３１２は、台座装着溝１３１内に設けられ、固定部材３６は、第２の固定部３１２を貫通して第２の台座装着穴１３２と結合し、第２の固定部３１２を第２の装着台１３上に取り付ける。第２の結合部３１３は、第１の固定部３１１と第２の固定部３１２との間に位置し、第２の結合部３１３と台座本体１１の頂部１１１は、間隔があけられ、第２の結合部３１３上には、支持フレーム装着穴が設けられ、第２の結合部３１３に設けられた支持フレーム装着穴は、第２の支持フレーム装着穴３１３１と定義される。

【0030】

接続アーム３３の一端は、第１の固定部３１１上に接続され、接続アーム３３の他端は、台座本体１１とは反対の方向に延在する。

【0031】

結合アーム３２の一端は、接続アーム３３の第１の固定部３１１とは反対の端に接続し、結合アーム３２の他端は、固定アーム３１とは反対側に延在する自由端であり、結合アーム３２は、台座本体１１の頂部１１１に平行である。結合アーム３２の接続アーム３３とは反対の端には、第１の結合部３２１が設けられ、第２の結合部３１３は、第１の結合部３２１よりも台座本体１１側にある。第１の結合部３２１上には、支持フレーム装着穴が設けられ、第１の結合部３２１に設けられた支持フレーム装着穴は、第１の支持フレーム装着穴３２１１と定義される。１つの例において、第１の固定部３１１の中心、第２の固定部３１２の中心、第１の結合部３２１の中心および第２の結合部３１３の中心は、同一平面内に位置する。測距装置１００が外部からの衝撃を受け振動が生じたときに、支持フレーム３０および支持フレーム３０に接続した走査モジュール４０が受ける回転トルクは比較的小さく、このトルクの方向が固定部３１０の中心、第１の結合部３２１の中心および第２の結合部３１３の中心が所在する平面に垂直であることにより、測距装置１００が外部からの衝撃を受けたことによって生じる反転を小さくし、回避することすらできる。

【0032】

図３、図５、図９および図２５に示すように、走査モジュール４０は、支持フレーム３０によって台座１０上に取り付けられ、収容スペース内に収容され、走査モジュール４０と台座１０は、間隔があけられている。走査モジュール４０は、走査ハウジング４１と、第１の駆動装置４２と、第２の駆動装置４３と、第３の駆動装置４４と、第１の光学素子４５と、第２の光学素子４６と、第３の光学素子４７と、コントローラ４９ａと、検出装置４９ｂと、を含む。第１の駆動装置４２は、第１の光学素子４５を駆動して動かし、第１の光学素子４５を経るレーザーパルスの伝送方向を変えるために用いられる。第２の駆動装置４３は、第２の光学素子４６を駆動して動かし、第２の光学素子４６を経るレーザーパルスの伝送方向を変えるために用いられる。第３の駆動装置４４は、第３の光学素子４７を駆動して動かし、第３の光学素子４７を経るレーザーパルスの伝送方向を変えるために用いられる。３つの光学素子（第１の光学素子４５、第２の光学素子４６および第３の光学素子４７）は、互いに協同し合い、光路の伝播方向を変え、走査モジュール４０により大きな視野をもたせるために用いることができる。

【0033】

１つの例において、第１の光学素子４５、第２の光学素子４６および第３の光学素子４７は、レンズ、反射ミラー、プリズム、ガルバノミラー、回折格子、液晶、光フェーズドアレー（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｐｈａｓｅｄ Ａｒｒａｙ）または上述した光学素子の任意の組み合わせを含むことができる。１つの例において、第１の光学素子４５、第２の光学素子４６および第３の光学素子４７のうち少なくとも１つの光学素子は、出光面と入光面が平行でない光屈折素子であり、この光屈折素子が回転するときに、光束を異なる方向に屈折させて出射することができる。１つの例において、この光屈折素子は、楔形プリズムである。

【0034】

１つの例において、少なくとも一部の光学素子（第１の光学素子４５、第２の光学素子４６および第３の光学素子４７）は、動き、例えば、駆動装置（第１の駆動装置４２、第２の駆動装置４３および第３の駆動装置４４）によりこの少なくとも一部の光学素子を駆動して動かし、この動く光学素子は、異なる時間に光束を異なる方向に反射、屈折または回折することができる。いくつかの実施例において、走査モジュール４０の複数の光学素子は、共通の軸の周りを回転または振動することができ、回転または振動する光学素子の各々は、入射光束の伝播方向を絶えず変えるために用いられる。１つの実施例において、走査モジュール４０の複数の光学素子は、異なる回転速度で回転するか、または異なる速度で振動することができる。別の実施例において、走査モジュール４０の少なくとも一部の光学素子は、基本的に同じ回転速度で回転することができる。いくつかの実施例において、走査モジュールの複数の光学素子は、異なる軸の周りを回転してもよい。いくつかの実施例において、走査モジュール４０の複数の光学素子は、同じ方向に回転しても、異なる方向に回転してもよく、同じ方向に振動しても、異なる方向に振動してもよく、ここでは限定しない。

【0035】

第１の駆動装置４２、第２の駆動装置４３および第３の駆動装置４４は、光学素子（第１の光学素子４５、第２の光学素子４６および第３の光学素子４７）の回転、振動、所定の軌跡に沿った循環移動または所定の軌跡に沿った往復移動を駆動することができ、ここでは限定しない。以下、光学素子（第１の光学素子４５、第２の光学素子４６および第３の光学素子４７）がプリズムを含む例によって、例を挙げて記述する。

【0036】

走査ハウジング４１は、走査モジュール４０のケースとすることができ、走査ハウジング４１内は、第１の駆動装置４２、第２の駆動装置４３、第３の駆動装置４４、第１の光学素子４５、第２の光学素子４６、第３の光学素子４７、コントローラ４９ａおよび検出装置４９ｂなどの素子を取り付けるために用いることができる。走査ハウジング４１は、一体の全体構造であってもよく、走査ハウジング４１は、複数の分離構造を組み合わせてなってもよく、例えば、図６から図８に示すように、走査ハウジング４１は、第１の支持ベース４１１、第２の支持ベース４１２および第３の支持ベース４１３のうち少なくとも任意の２つを含むとともに、さらに第１の取り付け部４１４と、第２の取り付け部４１５と、を含んでもよい。例えば、走査ハウジング４１は、第１の取り付け部４１４と、第２の取り付け部４１５と、第１の支持ベース４１１と、第２の支持ベース４１２と、を含むか、または、走査ハウジング４１は、第１の取り付け部４１４と、第２の取り付け部４１５と、第２の支持ベース４１２と、第３の支持ベース４１３と、を含むか、または、走査ハウジング４１は、第１の取り付け部４１４と、第２の取り付け部４１５と、第１の支持ベース４１１と、第３の支持ベース４１３と、を含むか、または、走査ハウジング４１は、第１の取り付け部４１４と、第２の取り付け部４１５と、第１の支持ベース４１１と、第２の支持ベース４１２と、第３の支持ベース４１３と、を含む。以下、走査ハウジング４１が、第１の取り付け部４１４と、第２の取り付け部４１５と、第１の支持ベース４１１と、第２の支持ベース４１２と、第３の支持ベース４１３と、を含むもののみを例として記述する。

【0037】

図５から図８に示すように、第１の支持ベース４１１は、第１の駆動装置４２および第１の光学素子４５を取り付けるために用いることができる。第１の支持ベース４１１は、走査ハウジング４１上の測距モジュール６０から最も遠い１つの支持ベースとすることができる。第１の支持ベース４１１は、第１の支持ベース本体４１１１を含む。第１の支持ベース本体４１１１は、中空の構造とし、中空の部分に第１の収容キャビティ４１１９を形成することができる。本願の実施例では、第１の支持ベース本体４１１１の外輪郭全体が矩形を呈し、中空部分の形状は円形とすることができ、第１の駆動装置４２および第１の光学素子４５は、第１の収容キャビティ４１１９内に取り付けることができる。本願の実施例では、第１の支持ベース本体４１１１は、第１の支持ベース頂面４１１５と、２つの第１の支持ベース側面４１１６と、を含み、２つの第１の支持ベース側面４１１６は、それぞれ第１の支持ベース本体４１１１の背を向け合った両側に位置し、第１の支持ベース頂面４１１５に接続される。第１の支持ベース頂面４１１５には、支持ベース装着溝４１１７が設けられ、支持ベース装着溝４１１７の底面には、ハウジング装着穴が設けられ、支持ベース装着溝４１１７の底面に設けられたハウジング装着穴は、第１のハウジング装着穴４１１８と定義される。

【0038】

第２の支持ベース４１２は、第２の駆動装置４３および第２の光学素子４６を取り付けるために用いることができる。第２の支持ベース４１２は、第１の支持ベース４１１と互いに係合することができ、例えば第２の支持ベース４１２を第１の支持ベース４１１内に覆設し、第２の支持ベース４１２は、第１の支持ベース４１１と同じ軸に設けても、異なる軸に設けてもよい。ここで、第２の支持ベース４１２を第１の支持ベース４１１と同じ軸に設けるとは、第２の支持ベース４１２の中軸線と第１の支持ベース４１１の中軸線とが重なり合うことをいい、異なる軸に設けるとは、第２の支持ベース４１２の中軸線と第１の支持ベース４１１の中軸線とが重なり合わないことをいい、例えば平行に間隔をあけているか、または任意の角度で交わる。第２の支持ベース４１２は、第２の支持ベース本体４１２１および突出部４１２０を有する。１つの例において、突出部４１２０は、第２の支持ベース４１２を支持フレーム３０上に取り付けるために用いることができる。第２の支持ベース本体４１２１は、中空の構造とし、中空の部分に第２の収容キャビティ４１２６を形成することができる。第２の駆動装置４３および第２の光学素子４６は、第２の収容キャビティ４１２６内に取り付けることができる。本願の実施例では、第２の支持ベース本体４１２１は、第２の支持ベース底面４１２１１と、２つの第２の支持ベース側面４１２１２と、を含み、２つの第２の支持ベース側面４１２１２は、それぞれ第２の支持ベース本体４１２１の背を向け合った両側に位置し、第２の支持ベース底面４１２１１に接続され、２つの第２の支持ベース側面４１２１２は、それぞれ２つの第１の支持ベース側面４１１６に対応する。１つの例において、突出部４１２０は、第１の支持ベース本体４１１１の第２の支持ベース底面４１２１１に近い位置に設けることができ、突出部４１２０は、第２の支持ベース側面４１２１２の第２の支持ベース底面４１２１１に近い位置から外に向かって延在して形成されると理解することができる。突出部４１２０には、ハウジング装着穴が設けられ、突出部４１２０に設けられたハウジング装着穴は、第２のハウジング装着穴４１２０１と定義される。

【0039】

第３の支持ベース４１３は、第３の駆動装置４４および第３の光学素子４７を取り付けるために用いることができる。第３の支持ベース４１３は、第２の支持ベース４１２と互いに係合することができ、第３の支持ベース４１３は、第２の支持ベース４１２内に覆設することができ、第３の支持ベース４１３は、第２の支持ベース４１２と同じ軸に設けても、異なる軸に設けてもよい。第３の支持ベース４１３は、第３の支持ベース本体４１３０を含み、第３の支持ベース本体４１３０は、中空の構造とし、中空の部分に第３の収容キャビティ４１３４を形成することができる。第３の駆動装置４４および第３の光学素子４７は、第３の収容キャビティ４１３４内に取り付けることができる。第３の支持ベース４１３と第１の支持ベース４１１は、それぞれ第２の支持ベース４１２の背を向け合った両側に設けることができ、測距モジュール６０から発射された光パルスは、順に第３の支持ベース４１３、第２の支持ベース４１２および第１の支持ベース４１１を通過した後、外部に出る。被測定物から反射した光パルスは、順に第１の支持ベース４１１、第２の支持ベース４１２および第３の支持ベース４１３を通過した後、測距モジュール６０によって受光される。第３の支持ベース本体４１３０は、背を向け合った２つの第３の支持ベース側面４１３３を含む。このとき、第１の支持ベース４１１の背を向け合った両側は、第２の支持ベース４１２に対応する背を向け合った両側および第３の支持ベース４１３に対応する背を向け合った両側に対していずれも突出し、２つの装着スペース４１６を形成する。第３の支持ベース４１３の背を向け合った両側は、第２の支持ベース４１２に対応する背を向け合った両側を超えて出ていなくてもよく、本実施例では、第３の支持ベース４１３の背を向け合った両側は、それぞれ第２の支持ベース４１２に対応する背を向け合った両側と面一である。第３の支持ベース４１３の背を向け合った両側が第２の支持ベース４１２の対応する背を向け合った両側を超えて出ていないことにより、第２の装着台１３を装着スペース４１６内に形成するのに便利である。他の実施形態では、第３の支持ベース４１３の背を向け合った両側が第２の支持ベース４１２の対応する背を向け合った両側を超えて出ていてもよく、これにより、第１の装着台１２を装着スペース４１６内に形成するのに便利である。

【0040】

第１の取り付け部４１４は、第１の支持ベース４１１の台座１０とは反対の端に位置していてもよく、具体的には、第１の取り付け部４１４は、第１の支持ベース本体４１１１の第１の支持ベース頂面４１１５に近い位置にある。第１の取り付け部４１４は、第１の支持ベース４１１を支持フレーム３０上に取り付けるために用いられる。本願の第１の取り付け部４１４は、第１の支持ベース本体４１１１の一部であってもよく、具体的には、第１の取り付け部４１４は、第１の支持ベース本体４１１１上の支持ベース装着溝４１１７および第１のハウジング装着穴４１１８を形成する構造であると理解することができる。他の実施形態では、第１の取り付け部４１４は、第１の支持ベース本体４１１１上に設けられたフランジであってもよく、このフランジには、第１のハウジング装着穴４１１８が設けられる。

【0041】

第２の取り付け部４１５は、第２の支持ベース４１２の台座１０に近い端に位置し、具体的には、第２の取り付け部４１５は、第２の支持ベース本体４１２１の第２の支持ベース底面４１２１１に近い位置にある。第２の装着台１３は、第２の支持ベース４１２を支持フレーム３０上に取り付けるために用いられる。本願の第２の取り付け部４１５は、第２の支持ベース４１２の一部であってもよく、具体的には、第２の取り付け部４１５は、突出部４１２０とすることができる。走査ハウジング４１は、第１の装着台１２および第２の装着台１３によって支持フレーム３０上に取り付けられる。

【0042】

図５、図９および図１０に示すように、第１の駆動装置４２は、走査ハウジング４１内に取り付けられ、具体的には、第１の駆動装置４２は、第１の収容キャビティ４１１９内に取り付けることができる。第１の駆動装置４２は、第１のステータアセンブリ４２１と、第１の位置決めアセンブリ４２２と、第１のロータアセンブリ４２３と、を含む。第１のステータアセンブリ４２１は、第１の支持ベース本体４１１１に相対的に固定することができ、第１のステータアセンブリ４２１は、第１のロータアセンブリ４２３を駆動して回転させるために用いることができ、第１のステータアセンブリ４２１は、第１の巻線本体と、第１の巻線本体上に取り付けられた第１の巻線と、を含む。ここで、第１の巻線本体は、ステータコアとすることができ、第１の巻線は、コイルとすることができる。第１の巻線は、電流の作用の下で特定の磁界を発生させることができ、電流の方向および強度を変えることにより、磁界の方向および強度を変えることができる。第１のステータアセンブリ４２１は、第１のロータアセンブリ４２３上に覆設される。

【0043】

第１のロータアセンブリ４２３は、第１のステータアセンブリ４２１の駆動の下で回転することができる。具体的には、第１のロータアセンブリ４２３は、第１のロータ４２３１を含み、第１のロータ４２３１が第１のステータアセンブリ４２１に対して回転する軸線を第１の回転軸４２３６といい、第１の回転軸４２３６は、物理的な回転軸であっても、仮想的な回転軸であってもよいと理解することができる。第１のロータ４２３１は、第１のヨーク４２３３ａと、第１の磁石４２３３ｂと、を含む。第１の磁石４２３３ｂは、第１のヨーク４２３３ａ上に覆設され、第１のヨーク４２３３ａと第１の巻線との間に位置し、第１の磁石４２３３ｂが生じる磁界は、第１の巻線が生じる磁界と相互作用して作用力を生じ、第１の巻線は固定され動かないため、第１の磁石４２３３ｂは作用力の下で第１のヨーク４２３３ａを動かし回転させる。第１のロータ４２３１は、中空の形状を呈し、第１のロータ４２３１の中空の部分には、第１の収納キャビティ４２３５が形成され、レーザーパルスは、第１の収納キャビティ４２３５を通って走査モジュール４０の中を通ることができる。具体的には、第１の収納キャビティ４２３５は、第１のロータ４２３１の第１の側壁４２３４によって囲まれ、さらに具体的には、本願の実施形態では、第１のヨーク４２３３ａは中空の筒状を呈し、第１のヨーク４２３３ａの中空の部分が第１の収納キャビティ４２３５を形成していてもよく、第１のヨーク４２３３ａの側壁は、第１の収納キャビティ４２３５を囲む側壁とすることができる。当然ながら、他の実施形態では、第１の収納キャビティ４２３５は、第１のヨーク４２３３ａ上に形成されていなくてもよく、第１の磁石４２３３ｂなどの構造上に形成されていてもよく、第１の側壁４２３４は、第１の磁石４２３３ｂなどの構造の側壁であってもよく、ここでは限定しない。第１の側壁４２３４は、環状構造を呈するか、または１つの環状構造の一部である。第１のステータアセンブリ４２１の第１の巻線は、環状を呈して第１の側壁４２３４の外面に巻かれていてもよい。

【0044】

第１の位置決めアセンブリ４２２は、第１の側壁４２３４の外面に位置し、第１の位置決めアセンブリ４２２は、第１のロータアセンブリ４２３を制限して、固定された第１の回転軸４２３６を中心として回転させるために用いられる。第１のステータアセンブリ４２１および第１の位置決めアセンブリ４２２は、並列して第１の側壁４２３４の外面に巻かれる。第１の位置決めアセンブリ４２２は、環状の第１の軸受４２２を含み、第１の軸受４２２は、第１の側壁４２３４の外面に巻かれる。第１の軸受４２２は、第１の内周構造４２２１と、第１の外周構造４２２２と、第１の転がり体４２２３と、を含む。第１の内周構造４２２１と第１の側壁４２３４の外面は、互いに固定される。第１の外周構造４２２２と走査ハウジング４１は互いに固定され、具体的には、第１の外周構造４２２２と第１の支持ベース４１１が互いに固定される。第１の転がり体４２２３は、第１の内周構造４２２１と第１の外周構造４２２２との間に位置し、第１の転がり体４２２３は、それぞれ第１の外周構造４２２２および第１の内周構造４２２１と転がり接続するために用いられる。

【0045】

第１の光学素子４５は、第１の収納キャビティ４２３５内に取り付けられ、具体的には、第１の光学素子４５は、第１の側壁４２３４と係合して取り付けられ、第１のロータ４２３１と固定接続され、第１の光学素子４５は、レーザーパルスの出射および入射光路上に位置する。第１の光学素子４５は、第１の回転軸４２３６の周りで第１のロータ４２３１と同期回転することができる。第１の光学素子４５は、回転時に、第１の光学素子４５を経るレーザーの伝送方向を変えることができる。

【0046】

第２の駆動装置４３は、走査ハウジング４１内に取り付けられ、具体的には、第２の駆動装置４３は、第２の収容キャビティ４１２６内に取り付けることができ、第２の駆動装置４３は、第２のステータアセンブリ４３１と、第２の位置決めアセンブリ４３２と、第２のロータアセンブリ４３３と、を含む。第２のステータアセンブリ４３１は、第２の支持ベース本体４１２１と相対的に固定することができ、第２のステータアセンブリ４３１は、第２のロータアセンブリ４３３を駆動して回転させるために用いることができ、第２のステータアセンブリ４３１は、第２の巻線本体と、第２の巻線本体上に取り付けられた第２の巻線と、を含む。ここで、第２の巻線本体は、ステータコアとすることができ、第２の巻線は、コイルとすることができる。第２の巻線は、電流の作用の下で特定の磁界を発生させることができ、電流の方向および強度を変えることにより、磁界の方向および強度を変えることができる。

【0047】

第２のロータアセンブリ４３３は、第２のステータアセンブリ４３１の駆動の下で回転することができる。具体的には、第２のロータアセンブリ４３３は、第２のロータ４３３１を含み、第２のロータ４３３１が第２のステータアセンブリ４３１に対して回転する軸線を第２の回転軸４３３７といい、第２の回転軸４３３７は、物理的な回転軸であっても、仮想的な回転軸であってもよいと理解することができる。第２のロータ４３３１は、第２のヨーク４３３３と、第２の磁石４３３４と、を含む。第２の磁石４３３４は、第２のヨーク４３３３上に覆設され、第２のヨーク４３３３と第２の巻線との間に位置し、第２の磁石４３３４が生じる磁界は、第２の巻線が生じる磁界と相互作用して作用力を生じ、第２の巻線は固定されて動かないため、第２の磁石４３３４は作用力の下で第２のヨーク４３３３を動かし回転させる。第２のロータ４３３１は、中空の形状を呈し、第２のロータ４３３１の中空の部分には、第２の収納キャビティ４３３６が形成され、レーザーパルスは、第２の収納キャビティ４３３６を通って走査モジュール４０の中を通ることができる。具体的には、第２の収納キャビティ４３３６は、第２のロータ４３３１の第２の側壁４３３５によって囲まれ、さらに具体的には、本願の実施形態では、第２のヨーク４３３３は中空の筒状を呈し、第２のヨーク４３３３の中空の部分が第２の収納キャビティ４３３６を形成していてもよく、第２のヨーク４３３３の側壁は、第２の収納キャビティ４３３６を囲む側壁とすることができる。当然ながら、他の実施形態では、第２の収納キャビティ４３３６は、第２のヨーク４３３３上に形成されていなくてもよく、第２の磁石４３３４などの構造上に形成されていてもよく、第２の側壁４３３５は、第２の磁石４３３４などの構造の側壁であってもよく、ここでは限定しない。第２の側壁４３３５は、環状構造を呈するか、または１つの環状構造の一部である。第２のステータアセンブリ４３１の第２の巻線は、環状を呈して第２の側壁４３３５の外面に巻かれていてもよい。

【0048】

第２の位置決めアセンブリ４３２は、第２のロータ４３３１上に設けられ、第２のステータアセンブリ４３１の第１のロータアセンブリ４２３とは反対側に位置する。第２の位置決めアセンブリ４３２は、第２のロータアセンブリ４３３を制限して、固定された第２の回転軸４３３７を中心として回転させるために用いられる。第２のステータアセンブリ４３１および第２の位置決めアセンブリ４３２は、並列して第２の側壁４３３５の外面に巻かれる。第２の位置決めアセンブリ４３２は、環状の第２の軸受４３２を含み、第２の軸受４３２は、第２の側壁４３３５の外面に巻かれる。第２の軸受４３２は、第２の内周構造４３２１と、第２の外周構造４３２２と、第２の転がり体４３２３と、を含む。第２の内周構造４３２１と第２の側壁４３３５の外面は、互いに固定される。第２の外周構造４３２２と走査ハウジング４１は互いに固定され、具体的には、第２の外周構造４３２２と第２の支持ベース４１２が互いに固定される。第２の転がり体４３２３は、第２の内周構造４３２１と第２の外周構造４３２２との間に位置し、第２の転がり体４３２３は、それぞれ第２の外周構造４３２２および第２の内周構造４３２１と転がり接続するために用いられる。

【0049】

第２の光学素子４６は、第２の収納キャビティ４３３６内に取り付けられ、具体的には、第２の光学素子４６は、第２の側壁４３３５と係合して取り付けられ、第２のロータ４３３１と固定接続され、第２の光学素子４６は、光源の出射光路上およびエコーの入射光路上に位置する。第２の光学素子４６は、第２の回転軸の周りで第２のロータ４３３１と同期回転することができる。第２の光学素子４６は、回転時に、第２の光学素子４６を経るレーザーの伝送方向を変えることができる。

【0050】

第３の駆動装置４４は、走査ハウジング４１内に取り付けられ、具体的には、第３の駆動装置４４は、第３の収容キャビティ４１３４内に取り付けることができる。第３の駆動装置４４は、第３のステータアセンブリ４４１と、第３の位置決めアセンブリ４４２と、第３のロータアセンブリ４４３と、を含む。第３のステータアセンブリ４４１は、第３の支持ベース本体４１３０と相対的に固定することができ、第３のステータアセンブリ４４１は、第３のロータアセンブリ４４３を駆動して回転させるために用いることができ、第３のステータアセンブリ４４１は、第３の巻線本体と、第３の巻線本体上に取り付けられた第３の巻線と、を含む。ここで、第３の巻線本体は、ステータコアとすることができ、第３の巻線は、コイルとすることができる。第３の巻線は、電流の作用の下で特定の磁界を発生させることができ、電流の方向および強度を変えることにより、磁界の方向および強度を変えることができる。

【0051】

第３のロータアセンブリ４４３は、第３のステータアセンブリ４４１の駆動の下で回転することができる。具体的には、第３のロータアセンブリ４４３は、第３のロータ４４３１を含み、第３のロータ４４３１が第３のステータアセンブリ４４１に対して回転する軸線を第３の回転軸４４３７といい、第３の回転軸４４３７は、物理的な回転軸であっても、仮想的な回転軸であってもよいと理解することができる。第３のロータ４４３１は、第３のヨーク４４３３と、第３の磁石４４３４と、を含む。第３の磁石４４３４は、第３のヨーク４４３３上に覆設され、第３のヨーク４４３３と第３の巻線との間に位置し、第３の磁石４４３４が生じる磁界は、第３の巻線が生じる磁界と相互作用して作用力を生じ、第３の巻線は固定されて動かないため、第３の磁石４４３４は作用力の下で第３のヨーク４４３３を動かし回転させる。第３のロータ４４３１は、中空の形状を呈し、第３のロータ４４３１の中空の部分には、第３の収納キャビティ４４３６が形成され、レーザーパルスは、第３の収納キャビティ４４３６を通って走査モジュール４０の中を通ることができる。具体的には、第３の収納キャビティ４４３６は、第３のロータ４４３１の第３の側壁４４３５によって囲まれ、さらに具体的には、本願の実施形態では、第３のヨーク４４３３は中空の筒状を呈し、第３のヨーク４４３３の中空の部分が第３の収納キャビティ４４３６を形成していてもよく、第３のヨーク４４３３の側壁は、第３の収納キャビティ４４３６を囲む側壁とすることができる。当然ながら、他の実施形態では、第３の収納キャビティ４４３６は、第３のヨーク４４３３上に形成されていなくてもよく、第３の磁石４４３４などの構造上に形成されていてもよく、第３の側壁４４３５は、第３の磁石４４３４などの構造の側壁であってもよく、ここでは限定しない。第３の側壁４４３５は、環状構造を呈するか、または１つの環状構造の一部である。第３のステータアセンブリ４４１の第３の巻線は、環状を呈して第３の側壁４４３５の外面に巻かれていてもよい。

【0052】

第３の位置決めアセンブリ４４２は、第３のロータ４４３１上に設けられ、第３の位置決めアセンブリ４４２は、第３のステータアセンブリ４４１の第２のロータアセンブリ４３３に近い側に位置するか、または、第３の位置決めアセンブリ４４２は、第３のステータアセンブリ４４１よりも第２のロータアセンブリ４３３側にある。第３の位置決めアセンブリ４４２は、第３のロータアセンブリ４４３を制限して、固定された第３の回転軸４４３７を中心として回転させるために用いられる。第３のステータアセンブリ４４１および第３の位置決めアセンブリ４４２は、並列して第３の側壁４４３５の外面に巻かれる。第３の位置決めアセンブリ４４２は、環状の第３の軸受４４２を含み、第３の軸受４４２は、第３の側壁４４３５の外面に巻かれる。第３の軸受４４２は、第３の内周構造４４２１と、第３の外周構造４４２２と、第３の転がり体４４２３と、を含む。第３の内周構造４４２１と第３の側壁４４３５の外面は、互いに固定される。第３の外周構造４４２２と走査ハウジング４１は互いに固定され、具体的には、第３の外周構造４４２２と第３の支持ベース４１３が互いに固定される。第３の転がり体４４２３は、第３の内周構造４４２１と第３の外周構造４４２２との間に位置し、第３の転がり体４４２３は、それぞれ第３の外周構造４４２２および第３の内周構造４４２１と転がり接続するために用いられる。

【0053】

第３の光学素子４７は、第３の収納キャビティ４４３６内に取り付けられ、具体的には、第３の光学素子４７は、第３の側壁４４３５と係合して取り付けられ、第３のロータ４４３１と固定接続され、第３の光学素子４７は、レーザーパルスの出射および入射光路上に位置する。第３の光学素子４７は、第３の回転軸４４３７の周りで第３のロータ４４３１と同期回転することができる。第３の光学素子４７は、回転時に、第３の光学素子４７を経るレーザーの伝送方向を変えることができる。

【0054】

図５および図２５に示すように、コントローラ４９ａは駆動装置（第１の駆動装置４２、第２の駆動装置４３、第３の駆動装置４４）に接続され、コントローラ４９ａは、制御コマンドにより駆動装置を制御して光学素子（第１の光学素子４５、第２の光学素子４６、第３の光学素子４７）を駆動し回転させるために用いられる。具体的には、コントローラは、巻線（第１の巻線、第２の巻線、第３の巻線）と接続し、巻線上の電流の大きさおよび方向を制御し、ロータアセンブリ（第１のロータアセンブリ４２３、第２のロータアセンブリ４３３、第３のロータアセンブリ４４３）の回転パラメータ（回転方向、回転角度、回転持続時間など）を制御して、光学素子の回転パラメータを制御する目的を達成するために用いられる。１つの例では、コントローラ４９ａは、電子速度コントローラを含み、コントローラ４９ａは、ＥＳＣ板上に設けることができる。

【0055】

図９に示すように、検出装置４９ｂは、光学素子の回転パラメータを検出するために用いられ、光学素子の回転パラメータは、光学素子の回転方向、回転角度および回転速度などとすることができる。検出装置４９ｂの数は、複数であってもよく、検出装置４９ｂの各々は、格子円盤と、光電スイッチと、を含む。格子円盤は、１つのロータ（第１のロータ４２３１または第２のロータ４３３１または第３のロータ４４３１）に固定接続され、ロータアセンブリ（第１のロータアセンブリ４２３または第２のロータアセンブリ４３３または第３のロータアセンブリ４４３）と同期回転し、光学素子がロータと同期回転することにより、格子円盤が光学素子と同期回転し、格子円盤の回転パラメータを検出して、光学素子の回転パラメータを得ることができると理解することができる。具体的には、格子円盤と光電スイッチの組み合わせにより、格子円盤の回転パラメータを検出することができる。

【0056】

走査ハウジング４１（走査モジュール４０）を２つの支持フレーム３０上に取り付けるとき、２つの支持フレーム３０は、それぞれ２つの第２の支持ベース側面４１２１２の外側に位置し、２つの支持フレーム３０は、それぞれ２つの装着スペース４１６内に取り付けられる。具体的には、２つの支持フレーム３０がいずれも台座１０上に取り付けられ、走査ハウジング４１が２つの支持フレーム３０上に取り付けられているとき、第１の装着台１２および第２の装着台１３は、いずれも装着スペース４１６内に位置し、固定アーム３１、接続アーム３３、第１の補強アーム３４および第２の補強アーム３５は、いずれも装着スペース４１６内に収容され、結合アーム３２は、支持ベース装着溝４１１７内に収容される。走査ハウジング４１は、装着スペース４１６に形成されることにより、支持フレーム３０を装着スペース４１６内に取り付け、測距装置１００の体積を小さくするのに便利である。さらに、第１の支持ベース４１１には、支持ベース装着溝４１１７が設けられ、結合アーム３２を支持ベース装着溝４１１７内に収容し、測距装置１００の体積をさらに小さくすることができる。

【0057】

図２１から図２３に示すように、フレキシブル接続アセンブリ５０は、走査ハウジング４１を支持フレーム３０上に接続するために用いられ、フレキシブル接続アセンブリ５０で走査ハウジング４１と台座１０との間に間隙を有して走査モジュール４０のために振動スペースを提供する。走査モジュール４０は、フレキシブル接続アセンブリ５０によって支持フレーム３０上に取り付けられ、フレキシブル接続アセンブリ５０は、走査モジュール４０と台座１０との間で直接接触しないようにし、これにより、走査モジュール４０の振動が台座１０上に伝わることを少なくし、回避することすらでき、走査モジュール４０の振動が台座１０によって測距モジュール６０上に伝わることを少なくし、回避することすらできる。

【0058】

具体的には、フレキシブル接続アセンブリ５０は、フレキシブル接続部材５１と、締結部材５２と、を含み、走査ハウジング４１および支持フレーム３０は、フレキシブル接続部材５１および締結部材５２によって接続される。具体的には、フレキシブル接続アセンブリ５０の各々は、いずれも、フレキシブルな第１の支持部５１１と、フレキシブルな接続部５１３と、フレキシブルな第２の支持部５１２と、を含む。第１の支持部５１１および第２の支持部５１２は、それぞれ接続部５１３の対向する両端に接続される。フレキシブル接続部材５１には、第１の支持部５１１、接続部５１３および第２の支持部５１２を貫通する貫通穴５１４があけられている。

【0059】

支持フレーム３０の各々は、少なくとも２つのフレキシブル接続アセンブリ５０によって走査ハウジング４１と接続し、少なくとも２つのフレキシブル接続アセンブリ５０は、第１のフレキシブル接続アセンブリ５３と、第２のフレキシブル接続アセンブリ５４と、を含む。

【0060】

図２３および図２４に示すように、第１のフレキシブル接続アセンブリ５３は、支持フレーム３０（第１の結合部３２１）および第１の取り付け部４１４を接続し、具体的には、第１のフレキシブル接続アセンブリ５３の接続部５１３は、第１の支持フレーム装着穴３２１１内に穿設され、第１のフレキシブル接続アセンブリ５３の第１の支持部５１１および第２の支持部５１２は、それぞれ第１の結合部３２１の背を向け合った両側に位置し、第１のフレキシブル接続アセンブリ５３の第２の支持部５１２は、第１の結合部３２１と支持ベース装着溝４１１７の底面との間に位置し、第１のフレキシブル接続アセンブリ５３の締結部材５２は、貫通穴５１４を貫通して第１のハウジング装着穴４１１８の内壁と結合し、第１のフレキシブル接続アセンブリ５３は、支持ベース装着溝４１１７内に収容される。第１の支持部５１１の横断面寸法および第２の支持部５１２の横断面寸法は、いずれも第１の支持フレーム装着穴３２１１の横断面寸法よりも大きく、これにより、第２のフレキシブル接続アセンブリ５４を第１の支持フレーム装着穴３２１１内に取り付けるときに、第１の支持部５１１が締結部材５２の端部と第１の結合部３２１との間に位置し、第１の支持部５１１は、第１の支持ベース４１１で生じ締結部材５２上に伝えられる振動を吸収することができる。第２の支持部５１２は、支持ベース装着溝４１１７の底面と第１の結合部３２１との間に位置することができ、第２の支持部５１２は、第１の支持ベース４１１で生じる振動を吸収し、支持フレーム３０上に伝えられる振動を減少させることができる。接続部５１３の横断面寸法は、第１の支持フレーム装着穴３２１１の横断面寸法よりも大きくても、小さくても、等しくてもよい。

【0061】

第２のフレキシブル接続アセンブリ５４は、支持フレーム３０（第２の結合部３１３）および第２の取り付け部４１５を接続し、具体的には、第２のフレキシブル接続アセンブリ５４の接続部５１３は、第２のハウジング装着穴４１２０１内に穿設され、第２のフレキシブル接続アセンブリ５４の第１の支持部５１１および第２の支持部５１２は、それぞれ突出部４１２０の背を向け合った両側に位置し、第２のフレキシブル接続アセンブリ５４の第１の支持部５１１は、突出部４１２０と第２の結合部３１３との間に位置し、第２のフレキシブル接続アセンブリ５４の締結部材５２は、貫通穴５１４を貫通して第２の支持フレーム装着穴３１３１の内壁と結合する。第１の支持部５１１の横断面寸法および第２の支持部５１２の横断面寸法は、いずれも第２のハウジング装着穴４１２０１の横断面寸法よりも大きく、これにより、第１のフレキシブル接続アセンブリ５３を第２の支持フレーム装着穴３１３１内に取り付けるときに、第１の支持部５１１が突出部４１２０と第２の結合部３１３との間に位置することができ、第１の支持部５１１は、第２の支持ベース４１２で生じる振動を吸収し、支持フレーム３０上に伝えられる振動を減少させることができる。第２の支持部５１２は、締結部材５２の端部と第２の結合部３１３との間に位置し、第２の支持部５１２は、第２の支持ベース４１２で生じ締結部材５２上に伝えられる振動を吸収することができる。接続部５１３の横断面寸法は、第２のハウジング装着穴４１２０１の横断面寸法よりも大きくても、小さくても、等しくてもよい。第１の結合部３２１が支持フレーム３０の台座１０とは反対側に位置し、第２の結合部３１３が支持フレーム３０の台座１０に近い側に位置し、走査ハウジング４１はフレキシブル接続部材５１によって第１の結合部３２１および第２の結合部３１３上に接続されるため、測距装置１００が外部からの衝撃を受け振動が生じたときに、走査ハウジング４１が受ける回転トルクは比較的小さく、このトルクの方向が、支持フレーム３０が所在する平面に垂直であることにより、測距装置１００が外部からの衝撃を受けたことによって生じる反転を小さくし、回避することすらできる。本願の測距装置１００における支持フレーム３０は、台座１０上に固定され、走査モジュール４０は、フレキシブル接続アセンブリ５０によって支持フレーム３０上に取り付けられ、フレキシブル接続アセンブリ５０は、走査モジュール４０と台座１０との間で直接接触しないようにし、走査モジュール４０の振動が台座１０上に伝わることを少なくし、回避することすらできる。

【0062】

図２３に示すように、本実施例では、フレキシブル接続部材５１の貫通穴５１４の軸線を経る面で切られた断面は、エの字形を呈する。フレキシブル接続部材５１は、ゴムガスケットとすることができる。

【0063】

測距モジュール６０は、台座１０上に設けられ、走査モジュール４０と間隔をあけて設けられ、具体的には、測距モジュール６０は、台座１０上にリジット固定され、いくつかの例では、台座１０は一体構造であってもよく、走査モジュール４０と測距モジュール６０は同じ台座１０上に取り付ける。いくつかの例では、台座１０は分離構造であってもよく、測距モジュール６０および走査モジュール４０は台座１０の２つの異なる分離構造上に取り付ける。走査モジュール４０と測距モジュール６０は間隔をあけて設けられるため、走査モジュール４０の振動が測距モジュール６０上に伝わることを少なくし、回避することすらでき、これにより測距装置１００の検出精度を高める。測距モジュール６０が台座１０上にリジット固定されているため、測距モジュール６０に対する走査モジュール４０の振動の影響は小さく、これにより、測距モジュール６０および測距装置１００全体の取り付けの相対的位置の安定性を保証することができ、検出精度をさらに高める。

【0064】

図２５および図２７に示すように、測距モジュール６０は、光源６１と、光路変更素子６２と、コリメート素子６３と、測定器６４と、を含む。測距モジュール６０において、同軸光路を採用してもよく、すなわち、測距モジュール６０から出射するレーザー光束および反射して戻って来るレーザー光束は、測距モジュール６０内で少なくとも一部の光路を共用する。または、測距モジュール６０は、異軸光路を採用してもよく、すなわち、測距モジュール６０から出射する光束および反射して戻って来る光束は、測距モジュール６０内でそれぞれ異なる光路に沿って伝送される。

【0065】

図２５に示すように、以下、測距モジュール６０が１種の同軸光路を採用するものにより光源６１、光路変更素子６２、コリメート素子６３、および測定器６４について説明する。

【0066】

光源６１は、光パルス列を発射するために用いることができ、選択可能に、光源６１から発射される光束は、波長が可視光範囲外にある狭帯域光束である。いくつかの実施例において、光源６１は、レーザーダイオード（Ｌａｓｅｒ ｄｉｏｄｅ）を含んでもよく、レーザーダイオードによってナノ秒レベルのレーザーを発射する。例えば、光源６１から発射されるレーザーパルスは、１０ｎｓ持続する。

【0067】

コリメート素子６３は、光源６１の出光光路上に設けられ、光源６１から発せられるレーザー光束をコリメートするために用いられ、すなわち、光源６１が発するレーザー光束に対してコリメートを行い、光源６１からの光パルスをコリメートした後に走査モジュール４０に投射する。コリメート素子６３は、光源６１と走査モジュール４０との間に位置する。コリメート素子６３は、測定物によって反射され、走査モジュール４０を経たエコーの少なくとも一部を測定器６４に集めるためにさらに用いられる。コリメート素子６３は、コリメートレンズまたは光束をコリメートすることができるその他の素子とすることができる。１つの実施例において、コリメート素子６３上に増透膜がコーティングされ、透過光束の強度を増加することができる。

【0068】

光路変更素子６２は、光源６１の出光光路上に設けられ、光源６１の出射光路および測定器６４の受光光路を合併するために用いられる。具体的には、光路変更素子６２は、コリメート素子６３の走査モジュール４０と背を向け合った側に位置する。光路変更素子６２は、反射ミラーまたはハーフミラーとすることができる。１つの例では、光路変更素子６２は、小反射ミラーであり、光源６１が発するレーザー光束の光路方向を９０度またはその他の角度に変えることができる。

【0069】

測定器６４と光源６１は、コリメート素子６３の同じ側に置かれる。１つの例において、測定器６４とコリメート素子６３は、向き合っている。走査モジュール４０は、光パルス列を異なる時間に異なる伝送方向に変えて出射することができ、測定物によって反射されて戻った光パルスは、走査モジュール４０を経た後、測定器６４に入射することができ、測定器６４は、コリメート素子６３を通った少なくとも一部のエコーを電気信号に変換するために用いられ、電気信号は、具体的には電気パルスとすることができ、測定器６４は、さらに、電気パルスに基づき測定物と測距装置１００との間の距離を確定することができると理解することができる。

【0070】

測距装置１００が動作する際に、光源６１がレーザーパルスを発し、このレーザーパルスは、光路変更素子６２を経た後、コリメート素子６３によってコリメートされ、コリメートされたレーザーパルスは、走査モジュール４０によって伝送方向を変えられた後に出射され、測定物上に投射される。測定物によって反射されて戻って来たレーザーパルスは、走査モジュール４０を経た後、少なくとも一部のエコーがコリメート素子６３によって測定器６４上に集められる。測定器６４は、コリメート素子６３を通った少なくとも一部のエコーを電気信号パルスに変換する。

【0071】

図２５および図２６に示すように、本願の測距装置１００は、発射回路６１１と、受光回路６４１と、サンプリング回路６４２と、演算回路６４３と、を含む。発射回路６１１は、光パルス列（例えばレーザーパルス列）を発射することができる。受光回路６４１は、被測定物によって反射された光パルス列を受光し、この光パルス列に対して光電変換を行い、電気信号を得てから、電気信号を処理した後、サンプリング回路６４２に出力する。サンプリング回路６４２は、電気信号に対してサンプリングを行い、サンプリング結果を得ることができる。演算回路６４３は、サンプリング回路６４２のサンプリング結果に基づき、測距装置１００と被測定物との間の距離を確定することができる。本実施例では、発射回路６１１は、光源６１を含み、測定器６４は、受光回路６４１と、サンプリング回路６４２と、演算回路６４３と、を含む。

【0072】

選択可能に、この測距装置１００は、制御回路６４４をさらに含んでもよく、この制御回路６４４は、他の回路に対する制御を実現することができ、例えば、各回路の動作時間を制御すること、および各回路に対してパラメータ設定などを行うことの少なくとも１つを行う。このとき、測定器６４は、制御回路６４４をさらに含んでもよい。

【0073】

図２６で示した測距装置１００には、１つの発射回路６１１と、１つの受光回路６４１と、１つのサンプリング回路６４２と、１つの演算回路６４３と、が含まれているが、本願の実施例はこれに限定されず、発射回路６１１、受光回路６４１、サンプリング回路６４２、演算回路６４３のうちのいずれかの回路の数は、少なくとも２つであってもよく、同じ方向に、またはそれぞれ異なる方向に少なくとも２つの光束を出射するために用いられる。この少なくとも２つの光路は、同時に出射しても、それぞれ異なる時間に出射してもよいと理解すべきである。１つの例において、この少なくとも２つの発射回路における発光チップは、同じモジュールの中にパッケージされる。例えば、発射回路の各々は、１つのレーザー発射チップを含み、この少なくとも２つの発射回路におけるレーザー発射チップの中のダイは１つにパッケージされ、同じパッケージスペースの中に収容される。

【0074】

図２７を参照しながら、以下、測距モジュール６０が２種目の同軸光路を採用するものにより光源６１、光路変更素子６２、コリメート素子６３、および測定器６４について説明する。このとき、コリメート素子６３の構造および位置は、１種目の同軸光路におけるコリメート素子６３の構造および位置と同じであり、異なる箇所は、光路変更素子６２が大反射ミラーであり、この大反射ミラーが反射面６２１を含み、この大反射ミラーの中央位置に通光穴があけられていることである。測定器６４と光源６１は、依然としてコリメート素子６３の同じ側に置かれているが、前記１種目の同軸光路と比べ、測定器６４と光源６１の位置が入れ替わっており、すなわち、光源６１とコリメート素子６３が向き合っており、測定器６４と反射面６２１が対向し、光路変更素子６２は、光源６１とコリメート素子６３との間に位置する。

【0075】

測距装置１００が動作する際に、光源６１がレーザーパルスを発し、このレーザーパルスは、光路変更素子６２の通光穴を通った後、コリメート素子６３によってコリメートされ、コリメートされたレーザーパルスは、走査モジュール４０によって伝送方向を変えられた後に出射され、測定物上に投射される。測定物によって反射されて戻って来たレーザーパルスは、走査モジュール４０を経た後、少なくとも一部のエコーがコリメート素子６３によって光路変更素子６２の反射面６２１上に集められる。反射面６２１は、この少なくとも一部のエコーを測定器６４上に反射し、測定器６４は、この反射された少なくとも一部のエコーを電気信号パルスに変換する。測距装置１００は、この電気信号パルスの立ち上がりエッジ時間および立ち下がりエッジ時間の少なくとも１つによってレーザーパルス受光時間を確定する。このようにして、測距装置１００がパルス受光時間情報およびパルス発出時間情報を用いて飛行時間を計算することにより、測定物から測距装置１００までの距離を確定することができる。本実施形態では、光路変更素子６２の寸法が比較的大きく、光源６１の視野範囲全体を覆うことができ、エコーが光路変更素子６２によって測定器６４に直接反射されるため、光路変更素子６２自体がエコー光路によって遮られることを回避でき、測定器６４がエコーを測定可能な強度を増加させ、測距精度を高めることができる。

【0076】

図４および図２２に示すように、いくつかの実施形態では、支持フレーム３０は、第１の補強アーム３４をさらに含み、第１の補強アーム３４の一端は、第２の固定部３１２上に接続され、第１の補強アーム３４の他端は、接続アーム３３の第１の固定部３１１とは反対の端に接続され、固定アーム３１、接続アーム３３および第１の補強アーム３４によって共同で囲まれ１つの三角形をなす。他の実施形態では、第１の補強アーム３４の一端は、第２の固定部３１２上に接続され、第１の補強アーム３４の他端は、接続アーム３３の背を向け合った両端の間に接続され、このとき、固定部３１０、第１の補強アーム３４および接続アーム３３の一部によって共同で囲まれ１つの三角形をなす。本実施形態の固定アーム３１、接続アーム３３、結合アーム３２および第１の補強アーム３４は、同一平面内に位置する。本実施形態の支持フレーム３０は、第１の補強アーム３４を設けることによって、支持フレーム３０の強度を増強し、測距装置１００が外部からの衝撃を受けたときに、支持フレーム３０に生じる揺動が比較的小さい。

【0077】

図４および図２２に示すように、いくつかの実施形態では、支持フレーム３０は、第１の補強アーム３４と、第２の補強アーム３５と、をさらに含む。第１の補強アーム３４の一端は、第２の固定部３１２上に接続され、第１の補強アーム３４の他端は、接続アーム３３に接続され、固定アーム３１、接続アーム３３および第１の補強アーム３４によって共同で囲まれ１つの三角形をなす。第２の補強アーム３５は、第１の補強アーム３４および接続アーム３３に接続され、第２の補強アーム３５は、第１の補強アーム３４、固定アーム３１および接続アーム３３によって囲まれた空間内に位置する。本実施形態の固定アーム３１、接続アーム３３、結合アーム３２、第１の補強アーム３４および第２の補強アーム３５は、同一平面内に位置する。本実施形態の支持フレーム３０は、第１の補強アーム３４および第２の補強アーム３５を設けることによって、支持フレーム３０の強度を増強し、測距装置１００が外部からの衝撃を受けたときに、支持フレーム３０に生じる揺動が比較的小さい。

【0078】

図４および図２２に示すように、いくつかの実施形態では、走査ハウジング４１は、互いに接続された第１の支持ベース４１１および第２の支持ベース４１２を含み、支持フレーム３０は、順に接続された固定アーム３１、接続アーム３３および結合アーム３２を含み、固定アーム３１は、台座１０上に固定され、第１の支持ベース４１１および第２の支持ベース４１２の同じ側に位置する。支持フレーム３０の各々は、少なくとも２つのフレキシブル接続アセンブリ５０によって走査ハウジング４１と接続し、少なくとも２つのフレキシブル接続アセンブリ５０は、第１のフレキシブル接続アセンブリ５３と、第２のフレキシブル接続アセンブリ５４と、を含み、第１のフレキシブル接続アセンブリ５３は、結合アーム３２と第１の支持ベース４１１を接続し、第２のフレキシブル接続アセンブリ５４は、固定アーム３１と第２の支持ベース４１２を接続する。このとき、走査ハウジング４１には、装着スペース４１６が形成されていなくてもよい。本実施形態における結合アーム３２の長さは、上述した実施形態における結合アーム３２の長さよりも短くてもよく、これにより、上述した実施形態における支持フレーム３０（支持フレーム３０は、固定アーム３１、接続アーム３３および結合アーム３２のみを含み、支持フレーム３０は、装着スペース４１６内に取り付けられる）に比べ、本実施形態の支持フレーム３０の強度がさらに大きく、これにより、走査モジュール４０の振動に起因して支持フレーム３０で生じる揺動を小さくすることができる。

【0079】

図４および図２２に示すように、いくつかの実施形態では、固定アーム３１は、第１の固定部３１１と、第２の固定部３１２と、第２の結合部３１３と、を含み、第１の固定部３１１および第２の固定部３１２は、固定アーム３１の背を向け合った両端に位置し、いずれも台座１０上に固定され、第１の固定部３１１は、第１の支持ベース４１１の側に位置し、第２の固定部３１２は第２の支持ベース４１２の側に位置し、第２の結合部３１３は第１の固定部３１１と第２の固定部３１２との間に位置し、第２のフレキシブル接続アセンブリ５４は、第２の結合部３１３と第２の支持ベース４１２を接続する。本実施形態における結合アーム３２の長さは、上述した実施形態における結合アーム３２の長さよりも短くてもよく、これにより、上述した実施形態における支持フレーム３０（支持フレーム３０は、固定アーム３１、接続アーム３３および結合アーム３２のみを含み、支持フレーム３０は、装着スペース４１６内に取り付けられる）に比べ、本実施形態の支持フレーム３０の強度がさらに大きく、これにより、走査モジュール４０の振動に起因して支持フレーム３０で生じる揺動を小さくすることができる。

【0080】

図４および図２２に示すように、いくつかの実施形態では、走査ハウジング４１は、互いに接続された第１の支持ベース４１１および第２の支持ベース４１２を含み、支持フレーム３０は、固定アーム３１と、接続アーム３３と、結合アーム３２と、第１の補強アーム３４と、を含む。固定アーム３１、接続アーム３３および結合アーム３２は、順に接続される。固定アーム３１は、台座１０上に固定され、第１の支持ベース４１１および第２の支持ベース４１２の同じ側に位置する。第１の補強アーム３４の一端は、固定アーム３１の接続アーム３３とは反対の端に接続され、第１の補強アーム３４の他端は、接続アーム３３の固定アーム３１とは反対の端に接続される。支持フレーム３０の各々は、少なくとも２つのフレキシブル接続アセンブリ５０によって走査ハウジング４１と接続し、少なくとも２つのフレキシブル接続アセンブリ５０は、第１のフレキシブル接続アセンブリ５３と、第２のフレキシブル接続アセンブリ５４と、を含み、第１のフレキシブル接続アセンブリ５３は、結合アーム３２と第１の支持ベース４１１を接続し、第２のフレキシブル接続アセンブリ５４は、固定アーム３１と第２の支持ベース４１２を接続する。他の実施形態では、第１の補強アーム３４の一端は、固定アーム３１の接続アーム３３とは反対の端に接続され、第１の補強アーム３４の他端は、接続アーム３３の背を向け合った両端の間に接続される。本実施形態における結合アーム３２の長さは、上述した実施形態における結合アーム３２の長さよりも短くてもよく、これにより、上述した実施形態における支持フレーム３０（支持フレーム３０は、固定アーム３１、接続アーム３３、結合アーム３２および第１の補強アーム３４のみを含み、支持フレーム３０は、装着スペース４１６内に取り付けられる）に比べ、本実施形態の支持フレーム３０の強度がさらに大きく、これにより、走査モジュール４０の振動に起因して支持フレーム３０で生じる揺動を小さくすることができる。

【0081】

図４および図２２に示すように、いくつかの実施形態では、走査ハウジング４１は、互いに接続された第１の支持ベース４１１および第２の支持ベース４１２を含み、支持フレーム３０は、固定アーム３１と、接続アーム３３と、結合アーム３２と、第１の補強アーム３４と、第２の補強アーム３５と、を含む。固定アーム３１、接続アーム３３および結合アーム３２は、順に接続される。固定アーム３１は、台座１０上に固定され、第１の支持ベース４１１および第２の支持ベース４１２の同じ側に位置する。第１の補強アーム３４の一端は、固定アーム３１の接続アーム３３とは反対の端に接続され、第１の補強アーム３４の他端は、接続アーム３３上に接続される。第２の補強アーム３５は、第１の補強アーム３４および接続アーム３３を接続し、第２の補強アーム３５は、第１の補強アーム３４および接続アーム３３によって囲まれた空間内に位置する。支持フレーム３０の各々は、少なくとも２つのフレキシブル接続アセンブリ５０によって走査ハウジング４１と接続し、少なくとも２つのフレキシブル接続アセンブリ５０は、第１のフレキシブル接続アセンブリ５３と、第２のフレキシブル接続アセンブリ５４と、を含み、第１のフレキシブル接続アセンブリ５３は、結合アーム３２と第１の支持ベース４１１を接続し、第２のフレキシブル接続アセンブリ５４は、固定アーム３１と第２の支持ベース４１２を接続する。他の実施形態では、第１の補強アーム３４の一端は、固定アーム３１の接続アーム３３とは反対の端に接続され、第１の補強アーム３４の他端は、接続アーム３３の背を向け合った両端の間に接続される。本実施形態における結合アーム３２の長さは、上述した実施形態における結合アーム３２の長さよりも短くてもよく、これにより、上述した実施形態における支持フレーム３０（支持フレーム３０は、固定アーム３１、接続アーム３３、結合アーム３２、第１の補強アーム３４および第２の補強アーム３５のみを含み、支持フレーム３０は、装着スペース４１６内に取り付けられる）に比べ、本実施形態の支持フレーム３０の強度がさらに大きく、これにより、走査モジュール４０の振動に起因して支持フレーム３０で生じる揺動を小さくすることができる。

【0082】

図２１から図２４に示すように、いくつかの実施形態では、フレキシブル接続部材５１は、リミットバンプ５１５をさらに含み、リミットバンプ５１５は、第１の支持部５１１から突出する。フレキシブル接続部材５１は、第２の支持部５１２の一端から支持フレーム装着穴（第１の支持フレーム装着穴３２１１）内またはハウジング装着穴（第２のハウジング装着穴４１２０１）内に取り付けられ、具体的には、フレキシブル接続部材５１を取り付ける際に、フレキシブルな第２の支持部５１２が、引張力の作用の下で弾性変形することができ、第１の支持フレーム装着穴３２１１または第２のハウジング装着穴４１２０１を貫通することができる。フレキシブル接続部材５１にリミットバンプ５１５を設けることにより、フレキシブル接続部材５１を第１の支持フレーム装着穴３２１１内または第２のハウジング装着穴４１２０１内に取り付ける際に、引張力が大きすぎることにより第１の支持部５１１も第１の支持フレーム装着穴３２１１または第２のハウジング装着穴４１２０１を貫通することを回避することができる。

【0083】

本実施例では、フレキシブル接続アセンブリ５０の数は少なくとも４つであり、支持フレーム３０の各々が、少なくとも２つのフレキシブル接続アセンブリ５０によって走査ハウジング４１に接続され、複数の接続点を形成し、複数の接続点は、台座１０上の投影において補助面Ｐ（図２１に示す）を形成する。走査ハウジング４１の重心（または走査モジュール４０の重心）は、補助面Ｐの中心に位置し、走査ハウジング４１の同じ側に位置する複数の接続点は、対角で設けられた２つの接続点を含み、対角で設けられた２つの接続点は接続線Ｌを形成し、接続線Ｌの中点から台座１０までの距離は、重心から台座１０までの距離と同じである。

【0084】

図２１から図２４に示すように、いくつかの実施形態では、支持フレーム３０の各々が、２つのフレキシブル接続アセンブリ５０によって走査ハウジング４１に接続され、２つの接続点を形成し、４つの接続点は、台座１０上の投影において補助面Ｐ（図２１に示す）を形成し、走査ハウジング４１の同じ側に位置する２つの接続点は、対角で設けられ接続線Ｌを形成する。１つの支持フレーム３０と走査ハウジング４１の接続に用いられる２つのフレキシブル接続アセンブリ５０は、第１のフレキシブル接続アセンブリ５３と、第２のフレキシブル接続アセンブリ５４と、を含み、第１のフレキシブル接続アセンブリ５３は、第１の結合部３２１および第１の取り付け部４１４を接続し、第２のフレキシブル接続アセンブリ５４は、第２の結合部３１３および第２の取り付け部４１５を接続する。第１のフレキシブル接続アセンブリ５３と第２のフレキシブル接続アセンブリ５４の中心を結ぶ線は、接続線Ｌを形成する。接続線Ｌの中点から台座１０までの距離が、走査ハウジング４１の重心（または走査モジュール４０の重心）から台座１０までの距離と同じであることにより、台座１０上に伝わる走査モジュール４０の振動をさらに小さくすることができ、測距装置１００が外部からの衝撃を受け振動が生じたときに、走査ハウジング４１が受ける回転トルクは比較的小さく、このトルクの方向が固定部３１０の中心、第１の結合部３２１の中心および第２の結合部３１３の中心が所在する平面に垂直であることにより、測距装置１００が外部からの衝撃を受けたことによって生じる反転を小さくし、回避することすらできる。

【0085】

図２１から図２４に示すように、いくつかの実施形態では、支持フレーム３０の各々が、４つのフレキシブル接続アセンブリ５０によって走査ハウジング４１に接続され、４つの接続点を形成し、８つの接続点は、台座１０上の投影において補助面を形成する。走査ハウジング４１の同じ側に位置する４つの接続点は、２つずつ対向する角に設けられ、２つの対角で設けられる接続点が第１の接続線を形成し、他の２つの対角で設けられる接続点が第２の接続線を形成する。第１の接続線の中点から台座１０までの距離は、重心から前記台座１０までの距離と同じであり、第２の接続線の中点から台座１０までの距離は、重心から台座１０までの距離と同じである。このとき、そのうちの２つのフレキシブル接続アセンブリ５０は、結合アーム３２および第１の支持ベース４１１を接続することができ、他の２つのフレキシブル接続アセンブリ５０は、固定アーム３１および第２の支持ベース４１２を接続する。支持フレーム３０の各々が、４つのフレキシブル接続アセンブリ５０によって走査ハウジング４１と接続されることにより、走査ハウジング４１をより安定して支持フレーム３０上に取り付けることができる。

【0086】

図２１から図２４に示すように、支持フレーム３０の各々で形成される４つの接続点は、第１の接続点と、第２の接続点と、第３の接続点と、第４の接続点と、を含み、第１の接続点および第３の接続点は、支持フレーム３０の台座１０とは反対側に位置し、第２の接続点および第３の接続点は、支持フレーム３０の台座１０に近い側に位置し、第４の接続点は、第２の接続点よりも第１の接続点側にあり、第１の接続点、第３の接続点、第２の接続点、第４の接続点および第１の接続点の順に結んで形成される形状は、矩形または平行四辺形である。このとき、第１の接続点と第２の接続点を結ぶ線は、第１の接続線を形成し、第３の接続点と第４の接続点を結ぶ線は、第２の接続線を形成し、第１の接続線の中点と第２の接続線の中点は重なり合う。支持フレーム３０の各々が、４つのフレキシブル接続アセンブリ５０によって走査ハウジング４１と接続されることにより、走査ハウジング４１をより安定して支持フレーム３０上に取り付けることができる。

【0087】

図７および図８に示すように、いくつかの実施形態では、第１の支持ベース４１１上に第１の位置決め部材４１１２が形成される。第２の支持ベース４１２上には、第２の位置決め部材４１２２が形成される。第１の支持ベース４１１と第２の支持ベース４１２は、互いに接続され、第１の位置決め部材４１１２と第２の位置決め部材４１２２は係合し、第１の回転軸４２３６と第２の回転軸４３３７が所定の距離で平行に間隔をあけるようにする。第１の光学素子４５は、第１の駆動装置４２内に取り付けられ、第１の駆動装置４２は、第１の支持ベース４１１上に取り付けられ、第２の光学素子４６は、第２の駆動装置４３内に取り付けられ、第２の駆動装置４３は、第２の支持ベース４１２上に取り付けられ、第１の位置決め部材４１１２と第２の位置決め部材４１２２の位置決め作用により、第１の光学素子４５と第２の光学素子４６の回転軸の位置にずれが生じにくく、測距装置１００の測距精度は比較的高い。

【0088】

ここで、第１の回転軸４２３６と第２の回転軸４３３７の間隔の所定の距離は、走査モジュール４０の実際の要求に応じて設定することができ、本願の実施例では、第１の回転軸４２３６と第２の回転軸４３３７が重なり合い、すなわち、第１の回転軸４２３６と第２の回転軸４３３７との間の所定の距離はゼロである。第１の位置決め部材４１１２は、第１の支持ベース本体４１１１の第２の支持ベース４１２に近い端に形成することができ、第２の位置決め部材４１２２は、第２の支持ベース本体４１２１の第１の支持ベース４１１に近い端に形成することができ、取り付ける際に、第１の位置決め部材４１１２と第２の位置決め部材４１２２によって第１の支持ベース４１１と第２の支持ベース４１２の取り付け角度を確定することができ、第１の回転軸４２３６と第２の回転軸４３３７が重なり合うときにのみ、第１の支持ベース４１１と第２の支持ベース４１２が正確に係合することができ、すなわち、第１の位置決め部材４１１２と第２の位置決め部材４１２２が正確に係合することができる。

【0089】

第１の支持ベース４１１と第２の支持ベース４１２の形状、結合方式などの違いにより、第１の位置決め部材４１１２と第２の位置決め部材４１２２の具体的な形式は、適宜調整することができ、第１の位置決め部材４１１２と第２の位置決め部材４１２２は、それぞれスナップおよび係合溝であってもよく、第１の位置決め部材４１１２と第２の位置決め部材４１２２は、それぞれ内ネジおよび外ネジなどであってもよい。

【0090】

図８に示す例では、第１の位置決め部材４１１２は、位置決め溝４１１４を含み、第２の位置決め部材４１２２は、位置決め突出４１２７を含み、位置決め突出４１２７は、位置決め溝４１１４内に入り、互いに係合する。位置決め溝４１１４は、第１の収容キャビティ４１１９とつながっていてもよく、位置決め溝４１１４の深さ方向は、第１の回転軸４２３６の方向と同じであり、位置決め突出４１２７は、第２の支持ベース本体４１２１の一端から延在して形成され、位置決め突出４１２７の延在方向は、第２の回転軸４３３７の方向と同じである。

【0091】

具体的には、図７および図８に示すように、位置決め溝４１１４の内壁は、環状または環状の一部を呈し、位置決め突出４１２７は、間隔をあけた複数の位置決めサブ突出４１２７ａを含み、複数の位置決めサブ突出４１２７ａの外壁は、環状または環状の一部をなし、複数の位置決めサブ突出４１２７ａの外壁は、位置決め溝４１１４の内壁に当接する。位置決め溝４１１４の内壁の中軸線は、第１の回転軸４２３６と重なり合ってもよく、複数の位置決めサブ突出４１２７ａの外壁の中軸線は、第２の回転軸４３３７と重なり合ってもよい。複数の位置決めサブ突出４１２７ａは、第２の回転軸４３３７の周方向に等角度で間隔をあけて分布してもよい。第１の位置決め部材４１１２と第２の位置決め部材４１２２を係合した後に揺動が生じにくいよう、複数の位置決めサブ突出４１２７ａの外壁は、位置決め溝４１１４の内壁と締り嵌めしてもよい。

【0092】

図７および図８に示すように、いくつかの実施形態では、第２の位置決め部材４１２２は第２の支持ベース４１２の一端に形成され、第２の支持ベース４１２の他端には、第３の位置決め部材４１２３が形成される。第３の支持ベース４１３上には、第４の位置決め部材４１３１が形成され、第３の位置決め部材４１２３と第４の位置決め部材４１３１は係合し、第２の回転軸４３３７と第３の回転軸４４３７が所定の距離で平行に間隔をあけるようにする。第２の光学素子４６は、第２の駆動装置４３内に取り付けられ、第２の駆動装置４３は、第２の支持ベース４１２上に取り付けられ、第３の光学素子４７は、第３の駆動装置４４内に取り付けられ、第３の駆動装置４４は、第３の支持ベース４１３上に取り付けられ、第３の位置決め部材４１２３と第４の位置決め部材４１３１の位置決め作用により、第２の光学素子４６と第３の光学素子４７の回転軸の位置にずれが生じにくく、測距装置の測距精度は比較的高い。

【0093】

ここで、第２の回転軸４３３７と第３の回転軸４４３７の間隔の所定の距離は、走査モジュール４０の実際の要求に応じて設定することができ、本願の実施例では、第２の回転軸４３３７と第３の回転軸４４３７が重なり合い、すなわち、第２の回転軸４３３７と第３の回転軸４４３７との間の所定の距離はゼロである。また、第１の光学素子４５、第２の光学素子４６および第３の光学素子４７からなる光路受光システムの受光効率が高くなるよう、第１の回転軸４２３６、第２の回転軸４３３７および第３の回転軸４４３７は、いずれも重なり合って設けてもよい。

【0094】

第３の位置決め部材４１２３は、第２の支持ベース本体４１２１の第３の支持ベース４１３に近い端に形成することができ、第４の位置決め部材４１３１は、第３の支持ベース本体４１３０の第２の支持ベース４１２に近い端に形成することができ、取り付ける際に、第３の位置決め部材４１２３と第４の位置決め部材４１３１によって第１の支持ベース４１１と第２の支持ベース４１２の取り付け角度を確定することができ、第２の回転軸４３３７と第３の回転軸４４３７が重なり合うときにのみ、第２の支持ベース４１２と第３の支持ベース４１３が正確に係合することができ、すなわち、第３の位置決め部材４１２３と第４の位置決め部材４１３１が正確に係合することができる。

【0095】

第２の支持ベース４１２と第３の支持ベース４１３の形状、結合方式などの違いにより、第３の位置決め部材４１２３と第４の位置決め部材４１３１の具体的な形式は、適宜調整することができ、第３の位置決め部材４１２３と第４の位置決め部材４１３１は、それぞれスナップおよび係合溝であってもよく、第３の位置決め部材４１２３と第４の位置決め部材４１３１は、それぞれ内ネジおよび外ネジなどであってもよい。

【0096】

図７および図８に示す例では、第３の位置決め部材４１２３は、位置決め溝４１２８を含み、第４の位置決め部材４１３１は、位置決め突起４１３２を含み、位置決め突起４１３２は、位置決め溝４１２８内に入り、互いに係合する。位置決め溝４１２８は、第２の収容キャビティ４１２６とつながっていてもよく、位置決め溝４１２８の深さ方向は、第２の回転軸４３３７の方向と同じであり、位置決め突起４１３２は、第３の支持ベース本体４１３０の一端から延在して形成され、位置決め突起４１３２の延在方向は、第３の回転軸４４３７の方向と同じである。

【0097】

具体的には、図７および図８に示すように、位置決め溝４１２８の内壁は、環状または環状の一部を呈し、位置決め突起４１３２は、間隔をあけた複数の位置決めサブ突起４１３２ａを含み、複数の位置決めサブ突起４１３２ａの外壁は、環状または環状の一部を呈し、複数の位置決めサブ突起４１３２ａの外壁は、位置決め溝４１２８の内壁に当接する。位置決め溝４１２８の内壁の中軸線は、第１の回転軸４２３６と重なり合ってもよく、複数の位置決めサブ突起４１３２ａの外壁の中軸線は、第３の回転軸４４３７と重なり合ってもよい。複数の位置決めサブ突起４１３２ａは、第３の回転軸４４３７の周方向に等角度で間隔をあけて分布してもよい。第３の位置決め部材４１２３と第４の位置決め部材４１３１を係合した後に揺動が生じにくいよう、複数の位置決めサブ突起４１３２ａの外壁は、位置決め溝４１２８の内壁と締り嵌めしてもよい。

【0098】

図７に示すように、いくつかの実施形態では、第１の支持ベース４１１は、支持リング４１１３をさらに含み、第１の支持ベース本体４１１１は、第１の収容キャビティ４１１９を形成し、支持リング４１１３は、第１の支持ベース本体４１１１の内壁から収容キャビティに向けて延在する。上述したように、第１の支持ベース本体４１１１は、中空の構造であり、中空の部分に第１の収容キャビティ４１１９を形成する。第１の収容キャビティ４１１９の体積を増加させるため、通常、第１の支持ベース本体４１１１の内壁を比較的薄く設けるが、これによって、第１の支持ベース本体４１１１の強度が低下し、押圧や衝撃を受けたときに変形が生じやすくなる。支持リング４１１３は、第１の支持ベース本体４１１１の内壁から収容キャビティに向けて延在し、第１の支持ベース４１１全体の強度を増加することができ、第１の支持ベース４１１に変形が生じにくくなる。本願の実施例では、第１の収容キャビティ４１１９は円筒状を呈し、支持リング４１１３も円環状を呈し、支持リング４１１３は、第１の収容キャビティ４１１９の真円度を保証することができる。

【0099】

図５および図７に示すように、いくつかの実施形態では、第１の駆動装置４２は第１の収容キャビティ４１１９内に取り付けられ、第１のステータアセンブリ４２１と第１の位置決めアセンブリ４２２はそれぞれ支持リング４１１３の背を向け合った両側に取り付けられる。第１の駆動装置４２を取り付ける際には、支持リング４１１３の一方の側から第１のステータアセンブリ４２１を第１の収容キャビティ４１１９内に取り付け、支持リング４１１３の他方の側から第１の位置決めアセンブリ４２２を第１の収容キャビティ４１１９内に取り付けることができ、両者を同時に取り付けることができ、支持リング４１１３の同じ側から第１の位置決めアセンブリ４２２および第１のステータアセンブリ４２１を取り付ける必要がなく、取り付け効率が向上する。

【0100】

図６および図９に示すように、いくつかの実施形態では、走査モジュール４０は、プレテンションアセンブリ４８をさらに含む。プレテンションアセンブリ４８は、第１のプレテンション部材４８１と、第２のプレテンション部材４８２と、を含む。第１のプレテンション部材４８１は、第１のロータ４２３１上に固定され、第２のプレテンション部材４８２は、第２の支持ベース４１２上に固定される。第１のプレテンション部材４８１と第２のプレテンション部材４８２は、対向して設けられ、第１のプレテンション部材４８１と第２のプレテンション部材４８２は、第１の軸受４２２の軸方向に沿った相互作用力を生じ、第１の内周構造４２２１と第１の外周構造４２２２が共同で第１の転がり体４２２３に当接するようにする。

【0101】

第２の支持ベース４１２と第１の支持ベース４１１は相対的に固定され、第１の外周構造４２２２と第１の支持ベース４１１は相対的に固定され、すなわち、第１の外周構造４２２２と第２の支持ベース４１２は相対的に固定されると理解することができる。プレテンションアセンブリ４８を設ける前に、第１の内周構造４２２１と第１の転がり体４２２３との間に遊びが存在する可能性があり、遊びによって、第１の内周構造４２２１が回転する際に、第１の内周構造４２２１が第１の軸受４２２の軸方向で跳ね動き、騒音が生じやすくなる。プレテンションアセンブリ４８を設けた後、第１のプレテンション部材４８１と第２のプレテンション部材４８２に生じた相互作用力は、それぞれ第１の内周構造４２２１と第２の支持ベース４１２上に作用し、第１の内周構造４２２１は、相互作用力の作用の下で第１の転がり体４２２３に当接し、第１の軸受４２２の遊びを取り除き、第１の回転軸が安定して回転することを確実にする。

【0102】

具体的には、第１のプレテンション部材４８１と第２のプレテンション部材４８２との間の相互作用力は、相互引力であっても、相互斥力であってもよい。本願の実施例では、第１のプレテンション部材４８１と第２のプレテンション部材４８２は、いずれも強磁性により作製することができ、例えば、いずれも磁石である。磁石の同極を対向させることにより、上述した相互斥力を生成することができ、磁石の異極を対向させることにより、上述した相互引力を生成することができる。

【0103】

図６および図９に示すように、いくつかの実施形態では、第１のプレテンション部材４８１は環状を呈し、第１のプレテンション部材４８１は、第１のロータ４２３１上に覆設される。第１のプレテンション部材４８１は、相互作用力を受けた後、第１のロータ４２３１上に伝えられ、さらに第１の内周構造４２２１上に伝えられる。環状の第１のプレテンション部材４８１が受ける相互作用力は比較的均等であり、第１の内周構造４２２１に傾斜が生じることを回避する。別の例では、第１のプレテンション部材４８１は、複数の第１のサブプレテンション部材を含んでもよく、複数の第１のサブプレテンション部材は、第１のロータ４２３１の周方向に等角度で間隔をあけて設けられる。

【0104】

また、図６および図７に示すように、いくつかの実施形態では、第２のプレテンション部材４８２は、複数の第２のサブプレテンション部材４８２ａを含み、複数の第２のサブプレテンション部材４８２ａは、第２の支持ベース４１２の周方向に等角度で間隔をあけて設けられる。等角度で間隔をあけて設けられる第２のプレテンション部材４８２は、第１のプレテンション部材４８１のために比較的均等な相互作用力を提供することができる。別の例では、第２のプレテンション部材４８２は、環状を呈してもよい。図７に示す例では、第２の支持ベース４１２は、第１の駆動装置４２を向いた第１の端面４１２４を含み、第１の端面４１２４には、収容溝４１２５があけられ、第２のプレテンション部材４８２は、少なくとも一部が収容溝４１２５内に収容される。第２のプレテンション部材４８２は、第２の支持ベース４１２上に固定しやすく、第２のプレテンション部材４８２は、第２の支持ベース４１２から多く突出しすぎて走査モジュール４０の軸方向寸法を増加させることがない。

【0105】

図９に示すように、いくつかの実施形態では、プレテンションアセンブリ４８は、第３のプレテンション部材４８３と、第４のプレテンション部材４８４と、をさらに含む。第３のプレテンション部材４８３は、第２のロータ４３３１上に固定され、第４のプレテンション部材４８４は、第４のロータ上に固定され、第３のプレテンション部材４８３と第４のプレテンション部材４８４は、対向して設けられる。第３のプレテンション部材４８３と第４のプレテンション部材４８４との間に、第２の軸受４３２と第３の軸受４４２の軸方向に沿った相互作用力を生じ、第２の内周構造４３２１と第２の外周構造４３２２が共同で第２の転がり体４３２３に当接し、第３の内周構造４４２１と第３の外周構造４４２２が共同で第３の転がり体４４２３に当接するようにする。

【0106】

第２の外周構造４３２２と第２の支持ベース４１２は互いに固定され、第３の外周構造４４２２と第３の支持ベース４１３は互いに固定され、第２の支持ベース４１２と第３の支持ベース４１３は互いに固定され、第２の外周構造４３２２と第３の外周構造４４２２は互いに固定される。第３のプレテンション部材４８３と第４のプレテンション部材４８４との間の相互作用力は、まずそれぞれ第２のロータ４３３１と第３のロータ４４３１上に作用してから、それぞれ第２の内周構造４３２１と第３の内周構造４４２１上に伝えられ、第２の内周構造４３２１が第２の転がり体４３２３に当接して第２の軸受４３２の遊びを取り除き、第３の内周構造４４２１が第３の転がり体４４２３に当接して第３の軸受４４２の遊びを取り除くようにし、第２の軸受４３２と第３の軸受４４２が安定して回転することを確実にする。

【0107】

具体的には、第３のプレテンション部材４８３と第４のプレテンション部材４８４との間の相互作用力は、相互引力であっても、相互斥力であってもよい。本願の実施例では、第３のプレテンション部材４８３と第４のプレテンション部材４８４は、いずれも強磁性により作製することができ、例えば、いずれも磁石である。磁石の同極を対向させることにより、相互斥力を生成することができ、磁石の異極を対向させることにより、相互引力を生成することができる。第３のプレテンション部材４８３は、環状を呈して第３のロータ４４３１上に覆設することができ、第４のプレテンション部材４８４は、環状を呈して第４のロータ上に覆設することができる。

【0108】

本願の実施例では、第１の軸受４２２、第２の軸受４３２および第３の軸受４４２は、同軸に設けられる。すなわち、第１の回転軸４２３６、第２の回転軸４３３７および第３の回転軸４４３７は、同軸に設けられる。

【0109】

図９に示すように、いくつかの実施形態では、第１の光学素子４５、第２の光学素子４６および第３の光学素子４７は、順に並列して設けられる。走査モジュール４０は、光パルスを受光し、伝播方向を変えた後に光パルスを出射するために用いられ、物体から反射して戻った光パルスを受光するために用いられる。ここで、光パルスの伝播方向を変えた後に出射するプロセスにおいて、光パルスは、順に第３の光学素子４７、第２の光学素子４６および第１の光学素子４５を通る。本願の実施例では、第１の光学素子４５の口径は第３の光学素子４７の口径よりも大きい。

【0110】

３つの光学素子を設けることにより、３つの光学素子を組み合わせ可能な屈折角度が多くなり、第１の光学素子４５の口径は第３の光学素子４７の口径よりも大きく、第１の光学素子４５は、物体から反射して戻った光パルスをさらに多く受光することができ、第２の光学素子４６を通った光パルスは、第１の光学素子４５によってさらに大きな角度に偏り、走査モジュール４０の視野範囲を高めることができる。

【0111】

１つの例において、第１の光学素子４５の口径は第２の光学素子４６の口径よりも大きく、第２の光学素子４６の口径は第３の光学素子４７の口径と等しい。第２の光学素子４６を取り付けた第２の駆動装置４３、および第３の光学素子４７を取り付けた第３の駆動装置４４は、同様に設けることができ、第２の駆動装置４３を取り付けた第２の支持ベース４１２、および第３の駆動装置４４を取り付けた第３の支持ベース４１３の大きさも、似たように、または同じく設けることができる。

【0112】

他の実施例では、第２の光学素子４６の口径が第１の光学素子４５の口径よりも大きく、第２の光学素子４６の口径が第３の光学素子４７の口径よりも大きくてもよい。光パルスは、出射のプロセスにおいて、順に第３の光学素子４７、第２の光学素子４６および第１の光学素子４５を通り、光パルスが屈折可能な範囲は徐々に大きくなり、ロータ（第３のロータ４４３１、第２のロータ４３３１、第１のロータ４２３１）によって遮られない。当然ながら、第１の光学素子４５の口径が第２の光学素子４６の口径と等しく、第２の光学素子４６の口径が第３の光学素子４７の口径よりも大きくてもよい。

【0113】

図９に示すように、いくつかの実施形態では、第２のロータ４３３１は、第１の収納キャビティ４２３５内に入る。具体的には、第２のヨーク４３３３が第の収納キャビティ内に入り、第１の光学素子４５が第１の収納キャビティ４２３５内に取り付けられ、第２のロータ４３３１が形成された第２の収納キャビティ４３３６内に第２の光学素子４６が取り付けられ、第２のロータ４３３１は、第１の収納キャビティ４２３５内に入る。実際には、第２の光学素子４６と第１の光学素子４５を相対的に近づけ、第２の光学素子４６と第１の光学素子４５との間のレーザーの光学的距離を小さくすることができる。図９および図１７に示すように、レーザーを出射するものを例とし、レーザーは、第２の光学素子４６を経た後に屈折し、第２の光学素子４６と第１の光学素子４５は相対的に近いため、同じ屈折角度の下で、レーザーが第１の光学素子４５上に照射される範囲が小さくなり、第１のロータ４２３１上に照射されるレーザーが遮られることが回避され、出光および受光の効率が高まるとともに、さらに、軸方向における走査モジュール４０の寸法を小さくすることができる。１つの例では、第２の光学素子４６は、少なくとも一部が第１の収納キャビティ４２３５内に入り、第２の光学素子４６と第１の光学素子４５を互いに近くし、出光および受光の効率をさらに高める。

【0114】

図９および図１２に示すように、いくつかの実施形態では、第１のロータ４２３１の内壁に、第１の収納キャビティ４２３５が形成され、第１のロータ４２３１は、第２の駆動装置４３から離れた外端４２３９を含み、外端４２３９と第１のロータ４２３１の内壁の交わる箇所に、回避面取り４２３０が形成される。回避面取り４２３０を形成することにより、軸方向における第１のロータ４２３１の長さが短くならず、第１のステータアセンブリ４２１を第１のヨーク４２３３ａの外周面上に設けることができる一方、回避面取り４２３０を形成することは、光線が回避面取り４２３０の中を通ることに有利であり、第１のロータ４２３１の内壁に遮られず、走査モジュール４０の出光および受光の効率を高めることができる。具体的には、回避面取り４２３０の角度αは、範囲を（０，４０］度とすることができ、例えば、１０度、１２度、１５．５度、２３度、３７度、４０度などのこの範囲内の任意の度数であり、これにより、第１のロータ４２３１の強度を大きく弱めることがなく、第１のステータアセンブリ４２１に対して比較的良好な支持作用を有する。

【0115】

これに応じて、物体から反射されて戻ってきた光パルスを受光する過程において、光パルスは、まず第１の光学素子４５を経た後、さらに第２の光学素子４６および第３の光学素子４７を経る。本願の実施例では、第１の光学素子４５、第２の光学素子４６および第３の光学素子４７は、いずれも光屈折素子であり、すなわち、第１の光学素子４５、第２の光学素子４６および第３の光学は、いずれも単独で、通る光に対して屈折作用を生じ、光の元々の伝播方向を変える。

【0116】

本願の実施例では、第１の光学素子４５、第２の光学素子４６および第３の光学素子４７の光軸は、同軸に設けられ、レーザーパルスが屈折された後に第１のロータ４２３１、第２のロータ４３３１または第３のロータ４４３１によって遮られにくくし、走査モジュール４０の出光および入光効率を高める。当然ながら、他の実施例では、第１の光学素子４５、第２の光学素子４６および第３の光学素子４７の光軸は、同軸に設けられなくてもよく、また、さらに反射素子などのデバイスを増設してもよく、ここでは限定しない。

【0117】

１つの例において、第１の光学素子４５と第２の光学素子４６との間の距離は、第２の光学素子４６と第３の光学素子４７との間の距離よりも小さくてもよく、または、第１の光学素子４５と第２の光学素子４６との間の距離は、第２の光学素子４６と第３の光学素子４７との間の距離と等しいか、大きくてもよい。

【0118】

いくつかの実施形態では、走査モジュール４０は、水平方向での視野角が垂直方向での視野角よりも大きく、測距装置が周囲の被測定物の深さ情報を測定しやすいようにする。例えば、走査モジュール４０の水平方向での視野角は［６０度，８０度］の間であり、例えば、６０度、６５度、７０度、７１度、７５度、７５．８度、７８度、８０度などの上記範囲内の任意の角度であり、走査モジュール４０の垂直方向での視野角は、［２５度，３５度］の間にあり、例えば、２５度、２６度、２６．５度、２７．４度、２８度、２９度、３２度、３５度などの任意の上記範囲内の任意の角度である。１つの例では、走査モジュール４０の視野範囲は、長尺状を呈し、例えば、矩形を呈し、矩形の長辺は、水平線または垂直線と平行であってもよく、または、楕円形であり、楕円の長軸は、水平線または垂直線と平行であってもよい。

【0119】

いくつかの実施形態では、第２の駆動装置４３は、回転可能であり、第２の光学素子４６を第２の回転軸４３３７の周りで回転させることができ、第３の駆動装置４４は、回転可能であり、第３の光学素子４７を第３の回転軸４４３７の周りで回転させることができる。第２の駆動装置４３と第３の駆動装置４４は、独立して制御され回転することができ、第２の光学素子４６は第３の光学素子４７と同時に回転し、回転の方向および速度が同じであっても異なっていてもよく、第２の光学素子４６が回転し第３の光学素子４７が回転しなくてもよく、第２の光学素子４６が回転せず第３の光学素子４７が回転してもよいと理解することができる。第２の光学素子４６および第３の光学素子４７の少なくとも１つは、回転中に、光パルスが第２の光学素子４６および第３の光学素子４７の少なくとも１つにより異なる方向に出射するよう変えられる。

【0120】

さらに、第１の駆動装置４２は、回転可能であり、第１の光学素子４５を第１の回転軸４２３６の周りで回転させることができる。第１の駆動装置４２、第２の駆動装置４３および第３の駆動装置４４は、いずれも独立して制御され回転することができ、第２の光学素子４６と第３の光学素子４７の回転速度および方向は、第１の光学素子４５の回転速度および方向に影響を及ぼさない。

【0121】

図１７に示すように、いくつかの実施形態では、第１の光学素子４５の出光面と第１の回転軸４２３６に垂直な平面の夾角は、１０度未満である。また、第３の光学素子４７の出光面と第３の回転軸４４３７に垂直な平面の夾角は、１０度未満である。

【0122】

または、第１の光学素子４５の出光面と第１の回転軸４２３６の夾角は、８０度から９０度の間にある。また、第３の光学素子４７の出光面と第３の回転軸４４３７の夾角は、８０度と９０度の間にある。

【0123】

図１７に示す例では、第１の光学素子４５の出光面は第１の回転軸４２３６と垂直である。第３の光学素子４７の出光面は第３の回転軸４４３７と垂直である。ここで、出光面とは、測距装置がレーザーパルスを出射する際に、レーザーパルスが光学素子を通るときに最後に通る面をいい、例えば、第１の光学素子４５の出光面とは、出射されたレーザーパルスが第１の光学素子４５を通るときに最後に通る面をいう。第１の光学素子４５の出光面は第３の回転軸４４３７と垂直であり、同じ出光面の面積と比べ、第１の光学素子４５の有効受光面積が大きくなる。

【0124】

第１の光学素子４５、第２の光学素子４６および第３の光学素子４７が並列して設けられ、隣接する２つの光学素子の間に対向する面および背を向け合った面が存在すると理解することができる。図１７に示す例では、第２の光学素子４６と第３の光学素子４７の対向する２つの面は平行である。第２の光学素子４６と第３の光学素子４７の対向する２つの面の距離は、［１．５ｍｍ，５ｍｍ］の間にあり、具体的には、１．５ｍｍ、２ｍｍ、２．７ｍｍ、３．４ｍｍ、４ｍｍ、４．９ｍｍ、５ｍｍなどの上記範囲内の任意の値とすることができる。第１の光学素子４５と第２の光学素子４６の対向する２つの面の距離は、［１０ｍｍ，２５ｍｍ］の間にあり、具体的には、１０ｍｍ、１５ｍｍ、１７．３ｍｍ、１７．５ｍｍ、２０ｍｍ、２２．５ｍｍ、２４ｍｍ、２５ｍｍなどの上記範囲内の任意の値とすることができる。第１の光学素子４５と第３の光学素子４７の対向する面は平行でなく、第１の光学素子４５と第３の光学素子４７の対向する面とは、第１の光学素子４５と第３の光学素子４７の互いに近い面をいう。ここで、対向する２つの面の距離とは、対向する２つの面の間、２つの面と各自の光軸の交点との間の距離をいうことができる。

【0125】

第１の光学素子４５、第２の光学素子４６および第３の光学素子４７がいずれも楔形プリズムである場合、第２の光学素子４６と第３の光学素子４７のウェッジ角は、［１９度，２１度］の間にあってもよく、例えば１９度、１９．５度、２０度、２０．５度、２０．８度、２１度などの上記範囲内の任意の値である。第２の光学素子４６と第３の光学素子４７のウェッジ角は等しくてもよく、例えば、いずれも２０度であるか、またはいずれも２１度であるなどであり、第２の光学素子４６と第３の光学素子４７のウェッジ角は、等しくなくてもよく、例えば、第２の光学素子４６のウェッジ角が２０度であり、第３の光学素子４７のウェッジ角が２１度である。第１の光学素子４５のウェッジ角は、［１７度，１９度］の間にあり、例えば１７度、１７．７度、１８度、１８．３度、１８．５度、１９度などの上記範囲内の任意の値である。

【0126】

図１７および図２０に示すように、第３の光学素子４７における第１の光学素子４５とは反対の面は、第３の光学素子４７の光軸と垂直でない。ここで、垂直でないとは、傾斜していると理解することができ、第３の光学素子４７の光軸は、第３の回転軸４４３７と重なり合っていてもよく、第３の光学素子４７における第１の光学素子４５とは反対の面を回避して測距モジュール６０から出射される光を反射させて測定器６４に戻し、測定器６４が受光する光が干渉することを回避することができる。

【0127】

図１８に示すように、いくつかの実施形態では、第２の光学素子４６と第３の光学素子４７の光パルスに対する屈折力の差は１０度未満であり、例えば、屈折力の差は０度、２度、５度、７度、８．３度、１０度などの１０度未満の任意の範囲である。１つの例では、第２の光学素子４６と第３の光学素子４７の光パルスに対する屈折力は同じであり、すなわち、第２の光学素子４６と第３の光学素子４７の光パルスに対する屈折力の差は０度である。ここで、光学素子の屈折力とは、入射光が入光面に垂直な場合に、入射光に対して出射光が屈折する角度をいう。屈折力の差が１０度未満であるとは、入射光が入光面に垂直な場合に、入射光に対する屈折方向は同じであるが、屈折角度の差が１０度未満である、または屈折方向は異なるが、屈折方向の夾角が１０度未満であることをいう。

【0128】

第２の光学素子４６と第３の光学素子４７の材料は、同じであってもよく、第２の光学素子４６と第３の光学素子４７は、いずれも楔形プリズムであってもよく、両者のウェッジ角は同じであってもよい。第２の光学素子４６と第３の光学素子４７の背を向け合った２つの面は、互いに平行であってもよい。

【0129】

第２の光学素子４６と第３の光学素子４７を回転させるとき、第２の光学素子４６と第３の光学素子４７は、等速で逆方向に回転することができ、例えば、第２の光学素子４６が正転し、第３の光学素子４７が同じ速度で逆転するか、または第２の光学素子４６が逆転し、第３の光学素子４７が同じ速度で正転する。

【0130】

いくつかの実施形態では、第２の光学素子４６と第３の光学素子４７が回転する過程において、第２の光学素子４６の位相角度と第３の光学素子４７の位相角度の和が一定値付近で浮動し、浮動範囲は２０度を超えない。ここで、位相角度とは、光屈折素子のゼロ位相と基準方向との間の夾角をいう。図１８および図１９に示すように、前記第２の光学素子４６および第３の光学素子４７の光軸の方向に沿って、基準方向は、方向Ｘによって表すことができ、第２の光学素子４６のゼロ位相は、μ１によって表すことができ、第３の光学素子４７のゼロ位相は、μ２によって表すことができ、第２の光学素子４６の位相角度は、θ１によって表すことができ、第３の光学素子４７の位相角度は、θ２によって表すことができ、第２の光学素子４６の位相角度と第３の光学素子４７の位相角度の和は、θ１＋θ２によって表すことができる。ここで、位相角度の基準方向に形成される反時計回りの方向を正とし、時計回り方向を負とするか、または位相角度の基準方向に形成される時計回り方向を負とするか、反時計回り方向を正とする。

【0131】

１つの例では、第２の光学素子４６と第３の光学素子４７が回転する過程において、第２の光学素子４６の位相角度と第３の光学素子４７の位相角度の和は一定値である。別の例では、上述した基準方向が水平方向であり、第２の光学素子４６の位相角度と第３の光学素子４７の位相角度の和は０度付近で浮動し、走査モジュール４０で水平方向に延在する帯状の視野を走査することができ、測距装置がいくつかの場面にさらに適するようにすることができ、例えば、自動運転車の障害物回避にさらに適するようにすることができる。

【0132】

図９および図１０に示すように、本実施例では、第２のロータ４３３１の径方向寸法が第１のロータ４２３１の径方向寸法よりも小さい。第２のロータ４３３１と第１のロータ４２３１は、同軸に設けられ、すなわち、第２の回転軸４３３７と第１の回転軸４２３６が重なり合う。第２のロータアセンブリ４３３と第１のロータアセンブリ４２３は、同じ回転軸の方向に沿って分布し、第２のロータアセンブリ４３３は、第１のロータアセンブリ４２３における第１の光学素子４５の第１の面４５３を向いた位置にある。

【0133】

第３のロータ４４３１の径方向寸法は、第２のロータ４３３１の径方向寸法と等しく、第３のロータ４４３１の軸方向寸法は、第２のロータ４３３１の軸方向寸法よりも小さくても、等しくても、大きくてもよい。第３のロータ４４３１と第２のロータ４３３１は、同軸に設けられ、すなわち、第３の回転軸４４３７、第２の回転軸４３３７および第１の回転軸４２３６が重なり合う。第３のロータアセンブリ４４３と第２のロータアセンブリ４３３は、同じ回転軸の方向に沿って分布し、第３のロータアセンブリ４４３は、第２のロータアセンブリ４３３における第２の光学素子４６の第２の面４６４を向いた位置にある。

【0134】

図９および図１０に示すように、本願の実施形態では、第１の光学素子４５に、背を向け合った第１の面４５３および第２の面４５４が形成される。第１の面４５３は、第１の回転軸４２３６に対して傾斜し、すなわち、第１の面４５３と第１の回転軸４２３６の夾角は０度または９０度を呈さず、第２の面４５４は第１の回転軸４２３６と垂直であり、すなわち、第２の面４５４と第１の回転軸４２３６の夾角は９０度を呈する。

【0135】

第１の面４５３と第２の面４５４は平行でなく、第１の光学素子４５の厚みは均等でなく、すなわち、第１の光学素子４５の厚みはどこも同じではなく、厚みが大きい位置および厚みが小さい位置が存在すると理解することができる。１つの例では、第１の光学素子４５は、第１の端４５１と、第２の端４５２と、を含み、第１の端４５１と第２の端４５２は、それぞれ第１の光学素子４５の径方向における両端に位置する。第１の光学素子４５の厚みは１つの方向に沿って徐々に大きくなり、第１の端４５１の厚みは、第２の端４５２の厚みよりも大きいか、または、第１の光学素子４５は、ウェッジプリズム（楔形プリズム）であってもよい。

【0136】

各光学素子自体の重量分布が不均等であるため、高速回転時に揺動しやすくなり、十分に安定せず、回転の速度が制限される。この技術的課題を解決するため、本願の実施例のいくつかの実現形態では、走査モジュール４０の重量を低下させる方式、および走査モジュール４０の重量を増加させる方式により、走査モジュール４０の動バランスを改善する。

【0137】

例えば、走査モジュール４０の重量を低下させる方式を採用して走査モジュール４０の動バランスを改善する場合、以下のいくつかの実施例において、第１の光学素子４５および第１のロータ４２３１のうちの少なくとも１つに切り欠きを形成する方式により、走査モジュール４０の動バランスを改善する。

【0138】

次に、第１の光学素子４５と第１のロータ４２３１の切り欠きの位置について説明する。

【0139】

図９および図１０に示すように、１つの例では、切り欠きは、第１の光学素子４５上に設けられた隅切り４５５を含み、隅切り４５５は、第１の端４５１の縁に位置し、隅切り４５５と第１のロータ４２３１の第１の側壁４２３４の内面は、対向し、第１の光学素子４５の第１の光学素子４５の光路とは反対側の位置にあるか、または、隅切り４５５は、第１の光学素子４５において光線が通らない位置にある。このようにして、隅切り４５５によって走査モジュール４０の動バランスを改善した場合も、第１の光学素子４５におけるレーザーの伝送に影響を及ぼさない。

【0140】

図９および図１０に示すように、１つの例では、第１の光学素子４５は、第１の領域と、第２の領域と、を含む。第１の領域と第２の光学素子４６は対向し、第２の領域は、第１の領域から第２の光学素子４６の周縁の外まで延在する。切り欠きは、第１の光学素子４５の第２の領域上に設けられた、第１の端に近い側の隅切り４５５を含む。

【0141】

図９および図１０に示すように、１つの例では、第１のロータ４２３１は、第１のロータ４２３１の第１の回転軸４２３６方向に沿って分布する第３の端４２３７ａおよび第４の端４２３７ｂを含み、第３の端４２３７ａと第４の端４２３７ｂは、背を向け合って設けられ、第１のロータ４２３１の第３の端４２３７ａは、第１の光学素子４５の第２の面４５４に近く、第１のロータ４２３１の第４の端４２３７ｂは、第１の光学素子４５の第１の面４５３に近い。切り欠きは、第１のロータ４２３１の第１の側壁４２３４の内面上に形成された内接溝４２３４ａを含み、内接溝４２３４ａは、第１の光学素子４５の第１の端４５１側に近く、内接溝４２３４ａは、第３の端４２３７ａよりも第４の端４２３７ｂ側にあるか、または、内接溝４２３４ａは、第３の端４２３７ａから第４の端４２３７ｂの方向に向けて延在する。別の例では、内接溝４２３４ａと隅切り４５５は対向し、内接溝４２３４ａの第１の回転軸４２３６における投影範囲は、隅切り４５５の第１の回転軸４２３６における投影範囲を覆う。別の例では、内接溝４２３４ａの数は複数（２個以上）であってもよく、複数の内接溝４２３４ａは、間隔をあけて設けられる。このようにして、面積が大きい単一の内接溝４２３４ａが第１の側壁４２３４の強度に対して大きな影響を及ぼすことを回避することができる。

【0142】

図９および図１３に示すように、１つの例では、第１のロータ４２３１は、第１のロータ４２３１の第１の回転軸４２３６方向に沿って分布する第３の端４２３７ａおよび第４の端４２３７ｂを含み、第３の端４２３７ａと第４の端４２３７ｂは、背を向け合って設けられ、第１のロータ４２３１の第３の端４２３７ａは、第１の光学素子４５の第２の面４５４に近く、第１のロータ４２３１の第４の端４２３７ｂは、第１の光学素子４５の第１の面４５３に近い。切り欠きは、第１のロータ４２３１の第１の側壁４２３４の中央（外面と内面との間）に形成された溝４２３４ｃを含み、すなわち、溝４２３４ｃは、第１の側壁４２３４の内面と外面を貫通しない。溝４２３４ｃは、第１の光学素子４５の第１の端４５１側に近く、溝４２３４ｃは、第３の端４２３７ａよりも第４の端４２３７ｂ側にあるか、または、溝４２３４ｃは、第３の端４２３７ａから第４の端４２３７ｂの方向に向けて延在する。別の例では、溝４２３４ｃの数は複数（２個以上）であってもよく、複数の溝４２３４ｃは、間隔をあけて設けられる。このようにして、面積が大きい単一の溝４２３４ｃが第１の側壁４２３４の強度に対して大きな影響を及ぼすことを回避することができる。

【0143】

図９および図１３に示すように、１つの例では、溝４２３４ｃの第１の回転軸４２３６における投影範囲は、隅切りの第１の回転軸４２３６における投影範囲を覆う。別の例では、溝４２３４ｃの第１の回転軸４２３６における投影範囲は、内接溝４２３４ａの第１の回転軸４２３６における投影範囲を覆う。別の例では、溝４２３４ｃの第１の回転軸４２３６における投影範囲は、隅切りおよび内接溝４２３４ａの第１の回転軸４２３６における投影範囲をいずれも覆う。

【0144】

１つの例では、第１のロータ４２３１は、第１のロータ４２３１の第１の回転軸４２３６方向に沿って分布する第３の端４２３７ａおよび第４の端４２３７ｂを含み、第３の端４２３７ａと第４の端４２３７ｂは、背を向け合って設けられ、第１のロータ４２３１の第３の端４２３７ａは、第１の光学素子４５の第２の面４５４に近く、第１のロータ４２３１の第４の端４２３７ｂは、第１の光学素子４５の第１の面４５３に近い。切り欠きは、第１のロータ４２３１の第１の側壁４２３４の外面上に形成された外接溝４２３４ｂを含み、外接溝４２３４ｂは、第１の光学素子４５の第１の端４５１側に近く、外接溝４２３４ｂは、第４の端４２３７ｂよりも第３の端４２３７ａ側にあるか、または、外接溝４２３４ｂは、第４の端４２３７ｂから第３の端４２３７ａの方向に向けて延在する。別の例では、外接溝４２３４ｂの数は複数（２個以上）であってもよく、複数の外接溝４２３４ｂは、間隔をあけて設けられる。このようにして、面積が大きい単一の外接溝４２３４ｂが第１の側壁４２３４の強度に対して大きな影響を及ぼすことを回避することができる。

【0145】

図１０、図１５および図１６に示すように、１つの例では、第１のロータ４２３１は、第１のロータ４２３１の第１の回転軸４２３６方向に沿って分布する第３の端４２３７ａおよび第４の端４２３７ｂを含み、第３の端４２３７ａと第４の端４２３７ｂは、背を向け合って設けられ、第１のロータ４２３１の第３の端４２３７ａは、第１の光学素子４５の第２の面４５４に近く、第１のロータ４２３１の第４の端４２３７ｂは、第１の光学素子４５の第１の面４５３に近い。第１のロータ４２３１の第１の側壁４２３４の外面上に、径方向に沿って外向きに延在してリブ４２３８が形成され、リブ４２３８は、第１のロータ４２３１の第１の側壁４２３４の周りに設けられ、リブ４２３８は、第３の端４２３７ａよりも第４の端４２３７ｂ側にある。切り欠きは、リブ４２３８上に設けられた開口４２３８ａを含み、開口４２３８ａは、第１の光学素子４５の第１の端４５１側に近い。別の例では、開口４２３８ａの数は複数（２個以上）であってもよく、複数の開口４２３８ａは、間隔をあけて設けられる。このようにして、面積が大きい単一の開口４２３８ａがリブ４２３８の強度に対して大きな影響を及ぼすことを回避することができる。

【0146】

１つの例では、切り欠き（隅切り４５５、内接溝４２３４ａ、外接溝４２３４ｂ、溝４２３４ｃおよび開口４２３８ａ）は、第３の補助面に関して対称であってもよく、第３の補助面は、第１の回転軸４２３６、第１の端および第２の端を通る平面である。

【0147】

このようにして、上記切り欠きの設置は、第１の光学素子４５回転時に、厚みが不均等なために引き起こされる揺動を低下させるのに有利であり、第１のロータアセンブリ４２３全体を回転時にさらに安定させるのに有利である。

【0148】

図２０に示すように、上記切り欠きの位置は、光路が通らない位置であり、光束の伝播に影響を及ぼさず、光学素子の出光および受光効率を低下させないと理解することができる。

【0149】

走査モジュール４０の重量を増加させる方式を採用して走査モジュール４０の動バランスを改善する場合、以下のいくつかの実施例において、第１のロータ４２３１にバンプ４２３２を追加する方式により、走査モジュール４０の動バランスを改善する。

【0150】

図９および図１０に示すように、次に、第１のロータ４２３１とバンプ４２３２の位置について説明する。

【0151】

第１のロータアセンブリ４２３は、バンプ４２３２をさらに含み、バンプ４２３２は、第１のロータアセンブリ４２３回転時の動安定を高めるために用いられる。具体的には、バンプ４２３２は、第１のロータ４２３１の第１の側壁４２３４上に設けられ、第１の収納キャビティ４２３５内に位置し、バンプ４２３２は、第１の側壁４２３４から第１の収納キャビティ４２３５の中心に向けて延在し、バンプ４２３２が第１の収納キャビティ４２３５の中心に向けて延在する高さは、第１の収納キャビティ４２３５の径方向幅の所定の割合よりも低くてもよく、所定の割合は、０．１、０．２２、０．３、０．３３などであってもよく、バンプ４２３２が第１の収納キャビティ４２３５を多く遮りすぎレーザーパルスの伝送光路に影響を及ぼすことを回避する。

【0152】

バンプ４２３２は、第１のロータ４２３１に固定接続されてもよく、これにより、バンプ４２３２が第１のロータ４２３１と同期回転することを実現する。バンプ４２３２は、第１のロータ４２３１と一体成形してもよく、例えば、射出成形などの工程によって一体成形する。バンプ４２３２は、第１のロータ４２３１と別々に成形してもよく、バンプ４２３２と第１のロータ４２３１をそれぞれ成形した後、接着剤でバンプ４２３２を第１の側壁４２３４上に粘着するなど、バンプ４２３２を第１のロータ４２３１の第１の側壁４２３４上に固定し、またはバンプ４２３２を例えばネジなどの締結部材で第１のロータ４２３１の第１の側壁４２３４上に固定する。ここで、バンプ４２３２の第１の側壁４２３４と貼着する面は、曲面である。本願の実施形態では、バンプ４２３２は第１のヨーク４２３３ａと同期回転し、バンプ４２３２は第１のヨーク４２３３ａに固定接続される。

【0153】

図１０および図１１に示すように、１つの例では、バンプ４２３２を第１の収納キャビティ４２３５内に取り付ける際に、バンプ４２３２と第１の光学素子４５は、第１のロータ４２３１の径方向に沿って分布する。このとき、第１の光学素子４５の第１の端４５１は、第１の側壁４２３４の内面と接触してもよく、第２の端４５２と第１の側壁４２３４は間隙を形成し、バンプ４２３２がこの間隙内に入る。このようにして、第２の端４５２とバンプ４２３２は、第１の回転軸４２３６の同じ側に位置し、第１の端４５１とバンプ４２３２は、第１の回転軸４２３６の対向する両側に位置し、第１の光学素子４５と第１のロータアセンブリ４２３が共同で回転する際に、第１の光学素子４５とバンプ４２３２が形成する全体的な回転が安定し、これにより、第１のロータアセンブリ４２３に揺動が生じることを回避し、第１のロータアセンブリ４２３全体が回転する際にさらに安定するのに有利である。別の例では、バンプ４２３２と第１の光学素子４５は間隔をあけ、バンプ４２３２の第１の光学素子４５を向いた面は平面である。別の例では、バンプ４２３２の第１の回転軸４２３６における投影範囲は、第１の光学素子４５の第１の回転軸４２３６における投影範囲を覆う。

【0154】

図１４に示すように、１つの例では、バンプ４２３２を第１の収納キャビティ４２３５内に取り付ける際に、バンプ４２３２と第１の光学素子４５は、第１のロータ４２３１の第１の回転軸４２３６方向に沿って並列に設けられる。このとき、第１の光学素子４５の第１の端４５１および第２の端４５２は、いずれも第１の側壁４２３４の内面と接触してもよく、バンプ４２３２をできる限り第１の光学素子４５に近づけるため、バンプ４２３２は、第１の光学素子４５と接触してもよい。具体的には、バンプ４２３２は、第１の光学素子４５の第１の面４５３が所在する側に位置し、バンプ４２３２は、第１の光学素子４５の第１の面４５３に当接してもよい。第１の光学素子４５を取り付ける際に、第１の面４５３がバンプ４２３２に当接すると、第１の光学素子４５が第１の収納キャビティ４２３５の深さ方向にしっかり取り付けられたと考えることができる。さらに具体的には、バンプ４２３２は、バンプ側壁１２３２ａを含み、バンプ側壁１２３２ａは、第１の面４５３に当接する。別の例では、第１の光学素子４５の第１の回転軸４２３６における投影範囲は、バンプ４２３２の第１の回転軸４２３６における投影範囲を覆う。

【0155】

１つの例では、バンプ４２３２を第１の収納キャビティ４２３５内に取り付ける際に、バンプ４２３２と第１の光学素子４５は、第１のロータ４２３１の第１の回転軸４２３６方向に沿って並列に設けられる。このとき、第１の光学素子４５の第１の端４５１および第２の端４５２は、いずれも第１の側壁４２３４の内面と接触してもよく、バンプ４２３２と第１のロータ４２３１を一体成形する際の工程の流れを簡素化するため、バンプ側壁１２３２ａは、第１の回転軸４２３６に垂直な平板状を呈してもよく、バンプ側壁１２３２ａは、階段状を呈してもよい。バンプ側壁１２３２ａは、さらに、第１の回転軸４２３６に対して傾斜してもよく、すなわち、バンプ側壁１２３２ａは第１の回転軸４２３６に垂直ではなく、別の例では、バンプ側壁１２３２ａの傾斜方向は第１の面４５３の方向と同じであり、バンプ側壁１２３２ａは第１の面４５３に貼着され、バンプ４２３２の釣り合い作用を最大限に発揮できるよう、バンプ側壁１２３２ａと第１の面４５３をできる限り近づけ、バンプ４２３２の高さを小さくすることにより、バンプ４２３２による光路の遮りを小さくする。別の例では、第１の光学素子４５の第１の回転軸４２３６における投影範囲は、バンプ４２３２の第１の回転軸４２３６における投影範囲を覆う。

【0156】

１つの例では、バンプ４２３２は、釣り合いの作用を奏することができ、バンプ４２３２は第１の光学素子４５と同期回転し、バンプ４２３２が第２の端４５２と共同で回転する際の第１の回転軸４２３６に対するトルクは、第１の端４５１が回転する際の第１の回転軸４２３６に対するトルクと等しく、つまり、バンプ４２３２が第２の端４５２と共同で回転する際に生じるトルクは、いずれも第１の光学素子４５の第１の端４５１が回転する際に生じるトルクと相殺され、第１のロータ４２３１の他の位置が回転する際の安定性に影響を及ぼさない。

【0157】

１つの例では、バンプ４２３２は、第３の補助面に関して対称であり、第３の補助面は、第１の回転軸４２３６、第１の端４５１および第２の端４５２を通る平面である。別の例では、バンプ４２３２は、さらに、第１の補助面に関して対称であり、第１の補助面は、第１の回転軸４２３６に垂直で、第１の面４５３の中心を通る平面である。このようにして、バンプ４２３２は、さらに良好に第１の光学素子４５と重量の調整を行うことができる。

【0158】

１つの例では、バンプ４２３２の密度は、第１のロータ４２３１の密度よりも大きく、バンプ４２３２を第１の収納キャビティ４２３５内に設ける際に、同じ質量を保証し、すなわち、同じ釣り合い作用の下で、バンプ４２３２の体積を小さく設けることができ、バンプ４２３２による第１の収納キャビティ４２３５を通るレーザーパルスに対する影響を少なくする。別の例では、バンプ４２３２の密度は、さらに、同じバンプ４２３２の体積でできる限り小さく設計することができるよう、第１の光学素子４５の密度よりも大きくてもよい。

【0159】

このようにして、上記バンプ４２３２の設置は、第１の光学素子４５回転時に、厚みが不均等なために引き起こされる揺動を低下させるのに有利であり、第１のロータアセンブリ４２３全体を回転時にさらに安定させるのに有利である。

【0160】

図１４に示すように、１つの例では、第１のロータ４２３１は、第１のロータ４２３１の第１の回転軸４２３６方向に沿って分布する第３の端４２３７ａおよび第４の端４２３７ｂを含み、第３の端４２３７ａと第４の端４２３７ｂは、背を向け合って設けられ、第１のロータ４２３１の第３の端４２３７ａは、第１の光学素子４５の第２の面４５４に近く、第１のロータ４２３１の第４の端４２３７ｂは、第１の光学素子４５の第１の面４５３に近い。第１のロータ４２３１の第１の側壁４２３４の内面には、回避面取り４２３０が設けられ、回避面取り４２３０は、第３の端４２３７ａ側に近い。このようにして、回避面取り４２３０は、第１の光学素子４５を第１の収納キャビティ４２３５内に取り付けやすくするのに有利なだけでなく、第１の光学素子４５が受光して反射して戻って来るレーザーパルスの角度を増加するのにも有利である。

【0161】

１つの例では、第１のロータ４２３１は、第１のロータ４２３１の第１の回転軸４２３６方向に沿って分布する第３の端４２３７ａおよび第４の端４２３７ｂを含み、第３の端４２３７ａと第４の端４２３７ｂは、背を向け合って設けられ、第１のロータ４２３１の第３の端４２３７ａは、第１の光学素子４５の第２の面４５４に近く、第１のロータ４２３１の第４の端４２３７ｂは、第１の光学素子４５の第１の面４５３に近い。第１のロータ４２３１は、突起４２３４ｄをさらに含み、突起４２３４ｄは、第１のロータ４２３１の第１の側壁４２３４の内面上に設けられ、第３の端４２３７ａ側に近く、第１の端４５１は、突起４２３４ｄ上に取り付けられる。

【0162】

１つの例では、第１の光学素子４５上に増透膜がコーティングされ、増透膜の厚みは、光源から発射されるレーザーパルスの波長と等しく、レーザーパルスが第１の光学素子４５を通るときの損失を低減することができる。

【0163】

図１０に示すように、本願の実施形態では、第２の光学素子４６に、背を向け合った第１の面４６３および第２の面４６４が形成される。第２の光学素子４６の第１の面４６３は、第１の光学素子４５の第１の面４５３を向き、第２の光学素子４６の第１の面４６３は、第２の回転軸４３３７に対して傾斜し、すなわち、第１の面４６３と第２の回転軸４３３７の夾角は、０度または９０度を呈さない。第２の光学素子４６の第２の面４６４と第１の光学素子４５の第１の面４５３は、背を向け合い、第２の光学素子４６の第２の面４６４は、第２の回転軸４３３７に垂直であり、すなわち、第２の面４６４と第２の回転軸４３３７の夾角は９０度を呈するか、または、第２の光学素子４６の第２の面４６４と第１の光学素子４５の第２の面４５４は平行である。

【0164】

第２の光学素子４６の第１の面４６３と第２の面４６４は平行でなく、第２の光学素子４６の厚みは均等でなく、すなわち、第２の光学素子４６の厚みはどこも同じではなく、厚みが大きい位置および厚みが小さい位置が存在すると理解することができる。１つの例では、第２の光学素子４６は、第１の端４６１と、第２の端４６２と、を含み、第１の端４６１と第２の端４６２は、それぞれ第２の光学素子４６の径方向における両端に位置する。第２の光学素子４６の厚みは、１つの方向に沿って徐々に大きくなる。かつ、第１の端４６１の厚みは、第２の端４６２の厚みよりも大きいか、または、第２の光学素子４６は、ウェッジプリズム（楔形プリズム）であってもよい。

【0165】

ウェッジプリズム自体の重量分布が不均等であるため、ウェッジプリズムを高速回転させるときに、走査モジュール４０全体が揺動しやすくなり、十分に安定しない可能性がある。この技術的課題を解決するため、本願の実施例のいくつかの実現形態では、走査モジュール４０の重量を増加する方式により、走査モジュール４０の動バランスを改善する。例えば、第２のロータ４３３１内にボス４３３２を追加する方式によって、走査モジュール４０の動バランスを改善することができる。

【0166】

図１０に示すように、１つの例では、第２のロータアセンブリ４３３は、ボス４３３２をさらに含み、ボス４３３２は、第２のロータ４３３１の第２の側壁４３３５上に設けられ、第２の収納キャビティ４３３６内に位置し、ボス４３３２は、第２のロータアセンブリ４３３回転時の動安定を高めるために用いられる。具体的には、ボス４３３２は、第２の側壁４３３５から第２の収納キャビティ４３３６の中心に向けて延在し、ボス４３３２が第２の収納キャビティ４３３６の中心に向けて延在する高さは、第２の収納キャビティ４３３６の径方向幅の所定の割合よりも低くてもよく、所定の割合は、０．１、０．２２、０．３、０．３３などであってもよく、ボス４３３２が第２の収納キャビティ４３３６を多く遮りすぎレーザーパルスの伝送光路に影響を及ぼすことを回避する。

【0167】

ボス４３３２は、第２のロータ４３３１に固定接続されてもよく、これにより、ボス４３３２が第２のロータ４３３１と同期回転することを実現する。ボス４３３２は、第２のロータ４３３１と一体成形してもよく、例えば、射出成形などの工程によって一体成形する。ボス４３３２は、第２のロータ４３３１と別々に成形してもよく、ボス４３３２と第２のロータ４３３１をそれぞれ成形した後、接着剤でボス４３３２を第２の側壁４３３５上に粘着するなど、ボス４３３２を第２のロータ４３３１の第２の側壁４３３５上に固定し、またはボス４３３２を例えばネジなどの締結部材で第２のロータ４３３１の第２の側壁４３３５上に固定する。ここで、ボス４３３２の第２の側壁４３３５と貼着される面は、曲面である。本願の実施形態では、ボス４３３２は第２のヨーク４３３３と同期回転し、ボス４３３２は第２のヨーク４３３３に固定接続される。

【0168】

図１０に示すように、１つの例では、ボス４３３２を第２の収納キャビティ４３３６内に取り付ける際に、ボス４３３２と第２の光学素子４６は、第２のロータ４３３１の径方向に沿って分布する。このとき、第２の光学素子４６の第１の端４６１は、第２の側壁４３３５の内面と接触してもよく、第２の端４６２と第２の側壁４３３５は間隙を形成し、ボス４３３２がこの間隙内に入る。このようにして、第２の端４６２とボス４３３２は、第２の回転軸４３３７の同じ側に位置し、第１の端４６１とボス４３３２は、第２の回転軸４３３７の対向する両側に位置し、第２の光学素子４６と第２のロータアセンブリ４３３が共同で回転する際に、第２の光学素子４６とボス４３３２が形成する全体的な回転が安定し、これにより、第２のロータアセンブリ４３３に揺動が生じることを回避し、第２のロータアセンブリ４３３全体が回転する際にさらに安定するのに有利である。別の例では、ボス４３３２と第２の光学素子４６は間隔をあけ、ボス４３３２の第２の光学素子４６を向いた面は平面である。別の例では、ボス４３３２の第２の回転軸４３３７における投影範囲は、第２の光学素子４６の第２の回転軸４３３７における投影範囲を覆う。

【0169】

図１４に示すように、１つの例では、ボス４３３２を第２の収納キャビティ４３３６内に取り付ける際に、ボス４３３２と第２の光学素子４６は、第２のロータ４３３１の第２の回転軸４３３７方向に沿って並列に設けられる。このとき、第２の光学素子４６の第１の端４６１および第２の端４６２は、いずれも第２の側壁４３３５の内面と接触してもよく、ボス４３３２をできる限り第２の光学素子４６に近づけるため、ボス４３３２は、第２の光学素子４６と接触してもよい。具体的には、ボス４３３２は、第２の光学素子４６の第１の面４６３が所在する側に位置し、ボス４３３２は、第２の光学素子４６の第１の面４６３に当接してもよい。第２の光学素子４６を取り付ける際に、第１の面４６３がボス４３３２に当接すると、第２の光学素子４６が第２の収納キャビティ４３３６の深さ方向にしっかり取り付けられたと考えることができる。さらに具体的には、ボス４３３２は、ボス側壁１３３２ａを含み、ボス側壁１３３２ａは、第１の面４６３に当接する。別の例では、第２の光学素子４６の第２の回転軸４３３７における投影範囲は、ボス４３３２の第２の回転軸４３３７における投影範囲を覆う。

【0170】

図１４に示すように、１つの例では、ボス４３３２を第２の収納キャビティ４３３６内に取り付ける際に、ボス４３３２と第２の光学素子４６は、第２のロータ４３３１の第２の回転軸４３３７方向に沿って並列に設けられる。このとき、第２の光学素子４６の第１の端４６１および第２の端４６２は、いずれも第２の側壁４３３５の内面と接触してもよく、ボス４３３２と第２のロータ４３３１を一体成形する際の工程の流れを簡素化するため、ボス側壁１３３２ａは、第２の回転軸４３３７と垂直な平板状を呈してもよく、ボス側壁１３３２ａは、階段状を呈してもよい。ボス側壁１３３２ａは、さらに、第２の回転軸４３３７に対して傾斜してもよく、すなわち、ボス側壁１３３２ａは第２の回転軸４３３７に垂直ではなく、別の例では、ボス側壁１３３２ａの傾斜方向は第１の面４６３の方向と同じであり、ボス側壁１３３２ａは第１の面４６３に貼着され、ボス４３３２の釣り合い作用を最大限に発揮できるよう、ボス側壁１３３２ａと第１の面４６３をできる限り近づけ、ボス４３３２の高さを小さくすることにより、ボス４３３２による光路の遮りを小さくする。別の例では、第２の光学素子４６の第２の回転軸４３３７における投影範囲は、ボス４３３２の第２の回転軸４３３７における投影範囲を覆う。

【0171】

１つの例では、ボス４３３２は、釣り合いの作用を奏することができ、ボス４３３２は第２の光学素子４６と同期回転し、ボス４３３２が第２の端４６２と共同で回転する際の第２の回転軸４３３７に対するトルクは、第１の端４６１が回転する際の第２の回転軸４３３７に対するトルクと等しく、つまり、ボス４３３２が第２の端４６２と共同で回転する際に生じるトルクは、いずれも第２の光学素子４６の第１の端４６１が回転する際に生じるトルクと相殺され、第２のロータ４３３１の他の位置が回転する際の安定性に影響を及ぼさない。

【0172】

１つの例では、ボス４３３２は、第３の補助面に関して対称であり、第３の補助面は、第２の回転軸４３３７、第１の端４６１および第２の端４６２を通る平面である。別の例では、ボス４３３２は、さらに、第１の補助面に関して対称であり、第１の補助面は、第２の回転軸４３３７に垂直で、第１の面４６３の中心を通る平面である。このようにして、ボス４３３２は、さらに良好に第２の光学素子４６と重量の調整を行うことができる。

【0173】

１つの例では、ボス４３３２の密度は、第２のロータ４３３１の密度よりも大きく、ボス４３３２を第２の収納キャビティ４３３６内に設ける際に、同じ質量を保証し、すなわち、同じ釣り合い作用の下で、ボス４３３２の体積を小さく設けることができ、ボス４３３２による第２の収納キャビティ４３３６を通るレーザーパルスに対する影響を少なくする。別の例では、ボス４３３２の密度は、さらに、同じボス４３３２の体積でできる限り小さく設計することができるよう、第２の光学素子４６の密度よりも大きくてもよい。

【0174】

このようにして、上記ボス４３３２の設置は、第２の光学素子４６回転時に、厚みが不均等なために引き起こされる揺動を低下させるのに有利であり、第２のロータアセンブリ４３３全体を回転時にさらに安定させるのに有利である。

【0175】

図１０に示すように、１つの例では、第２の光学素子４６上に増透膜がコーティングされ、増透膜の厚みは、光源から発射されるレーザーパルスの波長と等しく、レーザーパルスが第２の光学素子４６を通るときの損失を低減することができる。

【0176】

１つの例では、第２の光学素子４６の口径の大きさは、第１の光学素子４５の口径の大きさの５０％～７０％である。例えば、２つの光学素子（第１の光学素子４５および第２の光学素子４６）の口径の大きさの差は、５０％であってもよく、２つの光学素子（第１の光学素子４５および第２の光学素子４６）の口径の大きさの差は、６０％であってもよい。このようにして、２つの光学素子（第１の光学素子４５および第２の光学素子４６）の口径寸法は、適切な範囲内において光線の伝播に有利である。

【0177】

図１０に示すように、本願の実施形態では、第３の光学素子４７に、背を向け合った第１の面４７３および第２の面４７４が形成される。第３の光学素子４７の第１の面４７３と第２の光学素子４６の第２の面４６４は、背を向け合い、第３の光学素子４７の第１の面４７３は、第３の回転軸４４３７に対して傾斜し、すなわち、第１の面４７３と第３の回転軸４４３７の夾角は、０度または９０度を呈さない。第３の光学素子４７の第２の面４７４と第２の光学素子４６の第２の面４６４は、対向し、第３の光学素子４７の第２の面４７４は、第３の回転軸４４３７に垂直であり、すなわち、第２の面４７４と第３の回転軸４４３７の夾角は９０度を呈するか、または、第３の光学素子４７の第２の面４７４と第２の光学素子４６の第２の面４６４は平行であるか、または、第３の光学素子４７の第２の面４７４、第２の光学素子４６の第２の面４６４および第１の光学素子４５の第２の面４５４の三者は、互いに平行である。

【0178】

第３の光学素子４７の第１の面４７３と第２の面４７４は平行でなく、第３の光学素子４７の厚みは均等でなく、すなわち、第３の光学素子４７の厚みはどこも同じではなく、厚みが大きい位置および厚みが小さい位置が存在すると理解することができる。１つの例では、第３の光学素子４７は、第１の端４７１と、第２の端４７２と、を含み、第１の端４７１と第２の端４７２は、それぞれ第３の光学素子４７の径方向における両端に位置する。第３の光学素子４７の厚みは、１つの方向に沿って徐々に大きくなる。かつ、第１の端４７１の厚みは、第２の端４７２の厚みよりも大きいか、または、第３の光学素子４７は、ウェッジプリズム（楔形プリズム）であってもよい。

【0179】

ウェッジプリズム自体の重量分布が不均等であるため、ウェッジプリズムを高速回転させるときに、走査モジュール４０全体が揺動しやすくなり、十分に安定しない可能性がある。この技術的課題を解決するため、本願の実施例のいくつかの実現形態では、走査モジュール４０の重量を増加する方式により、走査モジュール４０の動バランスを改善する。例えば、第２のロータ４３３１内にボス４３３２を追加する方式によって、走査モジュール４０の動バランスを改善することができる。

【0180】

走査モジュール４０の重量を増加させる方式を採用して走査モジュール４０の動バランスを改善する場合、第３のロータ４４３１内にボス４４３２を追加する方式により、走査モジュール４０の動バランスを改善する。

【0181】

図１０に示すように、１つの例では、第３のロータアセンブリ４４３は、ボス４４３２をさらに含み、ボス４４３２は、第３のロータ４４３１の第３の側壁４４３５上に設けられ、第３の収納キャビティ４４３６内に位置し、ボス４４３２は、第３のロータアセンブリ４４３回転時の動安定を高めるために用いられる。具体的には、ボス４４３２は、第３の側壁４４３５から第３の収納キャビティ４４３６の中心に向けて延在し、ボス４４３２が第３の収納キャビティ４４３６の中心に向けて延在する高さは、第３の収納キャビティ４４３６の径方向幅の所定の割合よりも低くてもよく、所定の割合は、０．１、０．２２、０．３、０．３３などであってもよく、ボス４４３２が第３の収納キャビティ４４３６を多く遮りすぎレーザーパルスの伝送光路に影響を及ぼすことを回避する。

【0182】

ボス４４３２は、第３のロータ４４３１に固定接続されてもよく、これにより、ボス４４３２が第３のロータ４４３１と同期回転することを実現する。ボス４４３２は、第３のロータ４４３１と一体成形してもよく、例えば、射出成形などの工程によって一体成形する。ボス４４３２は、第３のロータ４４３１と別々に成形してもよく、ボス４４３２と第３のロータ４４３１をそれぞれ成形した後、接着剤でボス４４３２を第３の側壁４４３５上に粘着するなど、ボス４４３２を第３のロータ４４３１の第３の側壁４４３５上に固定し、またはボス４４３２を例えばネジなどの締結部材で第３のロータ４４３１の第３の側壁４４３５上に固定する。ここで、ボス４４３２の第３の側壁４４３５と貼着される面は、曲面である。本願の実施形態では、ボス４４３２は第３のヨーク４４３３と同期回転し、ボス４４３２は第３のヨーク４４３３に固定接続される。

【0183】

図１０に示すように、１つの例では、ボス４４３２を第３の収納キャビティ４４３６内に取り付ける際に、ボス４４３２と第３の光学素子４７は、第３のロータ４４３１の径方向に沿って分布する。このとき、第３の光学素子４７の第１の端４７１は、第３の側壁４４３５の内面と接触してもよく、第２の端４７２と第３の側壁４４３５は間隙を形成し、ボス４４３２がこの間隙内に入る。このようにして、第２の端４７２とボス４４３２は、第３の回転軸４４３７の同じ側に位置し、第１の端４７１とボス４４３２は、第３の回転軸４４３７の対向する両側に位置し、第３の光学素子４７と第３のロータアセンブリ４４３が共同で回転する際に、第３の光学素子４７とボス４４３２が形成する全体的な回転が安定し、これにより、第３のロータアセンブリ４４３に揺動が生じることを回避し、第３のロータアセンブリ４４３全体が回転する際にさらに安定するのに有利である。別の例では、ボス４４３２と第３の光学素子４７は間隔をあけ、ボス４４３２の第３の光学素子４７を向いた面は平面である。別の例では、ボス４４３２の第３の回転軸４４３７における投影範囲は、第３の光学素子４７の第３の回転軸４４３７における投影範囲を覆う。

【0184】

図１４に示すように、１つの例では、ボス４４３２を第３の収納キャビティ４４３６内に取り付ける際に、ボス４４３２と第３の光学素子４７は、第３のロータ４４３１の第３の回転軸４４３７方向に沿って並列に設けられる。このとき、第３の光学素子４７の第１の端４７１および第２の端４７２は、いずれも第３の側壁４４３５の内面と接触してもよく、ボス４４３２をできる限り第３の光学素子４７に近づけるため、ボス４４３２は、第３の光学素子４７と接触してもよい。具体的には、ボス４４３２は、第３の光学素子４７の第１の面４７３が所在する側に位置し、ボス４４３２は、第３の光学素子４７の第１の面４７３と当接してもよい。第３の光学素子４７を取り付ける際に、第１の面４７３がボス４４３２と当接すると、第３の光学素子４７が第３の収納キャビティ４４３６の深さ方向にしっかりと取り付けられたと考えることができる。さらに具体的には、ボス４４３２は、ボス側壁１４３２ａを含み、ボス側壁１４３２ａは、第１の面４７３に当接する。別の例では、第３の光学素子４７の第３の回転軸４４３７における投影範囲は、ボス４４３２の第３の回転軸４４３７における投影範囲を覆う。

【0185】

図１４に示すように、１つの例では、ボス４４３２を第３の収納キャビティ４４３６内に取り付ける際に、ボス４４３２と第３の光学素子４７は、第３のロータ４４３１の第３の回転軸４４３７方向に沿って並列に設けられる。このとき、第３の光学素子４７の第１の端４７１および第２の端４７２は、いずれも第３の側壁４４３５の内面と接触してもよく、ボス４４３２と第３のロータ４４３１を一体成形する際の工程の流れを簡素化するため、ボス側壁１４３２ａは、第３の回転軸４４３７と垂直な平板状を呈していてもよく、ボス側壁１４３２ａは、階段状を呈してもよい。ボス側壁１４３２ａは、さらに、第３の回転軸４４３７に対して傾斜してもよく、すなわち、ボス側壁１４３２ａは第３の回転軸４４３７に垂直ではなく、別の例では、ボス側壁１４３２ａの傾斜方向は第１の面４７３の方向と同じであり、ボス側壁１４３２ａは第１の面４７３に貼着され、ボス４４３２の釣り合い作用を最大限に発揮できるよう、ボス側壁１４３２ａと第１の面４７３をできる限り近づけ、ボス４４３２の高さを小さくすることにより、ボス４４３２による光路の遮りを小さくする。別の例では、第３の光学素子４７の第３の回転軸４４３７における投影範囲は、ボス４４３２の第３の回転軸４４３７における投影範囲を覆う。

【0186】

図１４に示すように、１つの例では、ボス４４３２は、釣り合いの作用を奏することができ、ボス４４３２は第３の光学素子４７と同期回転し、ボス４４３２が第２の端４７２と共同で回転する際の第３の回転軸４４３７に対するトルクは、第１の端４７１が回転する際の第３の回転軸４４３７に対するトルクと等しく、つまり、ボス４４３２が第２の端４７２と共同で回転する際に生じるトルクは、いずれも第３の光学素子４７の第１の端４７１が回転する際に生じるトルクと相殺され、第３のロータ４４３１の他の位置が回転する際の安定性に影響を及ぼさない。

【0187】

１つの例では、ボス４４３２は、第３の補助面に関して対称であり、第３の補助面は、第３の回転軸４４３７、第１の端４７１および第２の端４７２を通る平面である。別の例では、ボス４４３２は、さらに、第１の補助面に関して対称であり、第１の補助面は、第３の回転軸４４３７に垂直で、第１の面４７３の中心を通る平面である。このようにして、ボス４４３２は、さらに良好に第３の光学素子４７と重量の調整を行うことができる。

【0188】

図１４に示すように、１つの例では、ボス４４３２の密度は、第３のロータ４４３１の密度よりも大きく、ボス４４３２を第３の収納キャビティ４４３６内に設ける際に、同じ質量を保証し、すなわち、同じ釣り合い作用の下で、ボス４４３２の体積を小さく設けることができ、ボス４４３２による第３の収納キャビティ４４３６を通るレーザーパルスに対する影響を少なくする。別の例では、ボス４４３２の密度は、さらに、同じボス４４３２の体積でできる限り小さく設計することができるよう、第３の光学素子４７の密度よりも大きくてもよい。

【0189】

このようにして、上記ボス４４３２の設置は、第３の光学素子４７回転時に、厚みが不均等なために引き起こされる揺動を低下させるのに有利であり、第３のロータアセンブリ４４３全体を回転時にさらに安定させるのに有利である。

【0190】

１つの例では、第３の光学素子４７上に増透膜がコーティングされ、増透膜の厚みは、光源から発射されるレーザーパルスの波長と等しく、レーザーパルスが第３の光学素子４７を通るときの損失を低減することができる。

【0191】

１つの例では、２つの光学素子（第２の光学素子４６および第３の光学素子４７）の口径の大きさの差は、各口径の大きさの１０％以下であってもよく、例えば、２つの光学素子（第２の光学素子４６および第３の光学素子４７）の口径の大きさは、同じであってもよく、２つの光学素子（第２の光学素子４６および第３の光学素子４７）の口径の大きさの差は、そのうちの１つの光学素子（第２の光学素子４６または第３の光学素子４７）の口径の大きさの１０％に等しくてもよい。

【0192】

図９および図１０に示すように、１つの例では、走査モジュール４０は、第３の駆動装置４４および第３の光学素子４７を含まないが、複数の第２のロータアセンブリ４３３と、複数の第２のステータアセンブリ４３１と、複数の第２の光学素子４６と、を含む。第２の光学素子４６の各々を、対応する１つの第２のロータアセンブリ４３３上に取り付け、第２のステータアセンブリ４３１の各々は、対応する１つの第２のロータアセンブリ４３３を駆動して第２の光学素子４６を回転させるために用いられる。第２のロータアセンブリ４３３の各々、第２のステータアセンブリ４３１の各々、および第２の光学素子４６の各々は、上述したいずれかの実施形態における第２のロータアセンブリ４３３、第２のステータアセンブリ４３１および第２の光学素子４６とすることができ、ここでは具体的に記述しない。ここで、本文における「複数の」とは、いずれも、少なくとも２個、または２個以上であることをいう。レーザー光束は、１つの第２の光学素子４６を経て方向を変えた後、さらに、別の第２の光学素子４６により、再度方向を変え、走査モジュール４０全体でレーザー伝播方向を変える能力を増加させ、比較的大きな空間範囲で走査できるようにし、かつ、異なる第２のロータアセンブリ４３３の回転方向および回転速度の少なくとも１つを設けることにより、レーザー光束で所定の走査形状を走査できるようにする。また、第２のロータアセンブリ４３３の各々が、いずれもボス（１３３２／１４３２）を含み、ボス（１３３２／１４３２）の各々は、対応する第２のロータアセンブリ４３３の第２の側壁４３３５上に固定され、第２のロータアセンブリ４３３回転時の動バランスを高めるために用いられる。

【0193】

複数の第２のロータアセンブリ４３３の第２の回転軸４３３７は、同じであってもよく、複数の第２の光学素子４６は、いずれもこの同じ第２の回転軸４３３７の周りを回転する。複数の第２のロータアセンブリ４３３の第２の回転軸４３３７は、異なっていてもよく、複数の第２の光学素子４６は、異なる第２の回転軸４３３７の周りを回転する。別の例では、複数の第２の光学素子４６は、さらに、同じ方向に振動しても、異なる方向に振動してもよく、ここでは限定しない。

【0194】

複数の第２のロータアセンブリ４３３は、異なる回転速度で、対応する第２のステータアセンブリ４３１に対して回転することができ、複数の第２の光学素子４６を異なる回転速度で回転させる。複数の第２のロータアセンブリ４３３は、異なる回転方向に、対応する第２のステータアセンブリ４３１に対して回転することもでき、複数の第２の光学素子４６を異なる回転方向に回転させる。複数の第２のロータアセンブリ４３３は、大きさが同じで方向が逆の速度で回転する。例えば、少なくとも１つの第２のロータアセンブリ４３３が第２のステータアセンブリ４３１に対して正転し、少なくとも１つの第２のロータアセンブリ４３３が第２のステータアセンブリ４３１に対して逆転する。少なくとも１つの第２のロータアセンブリ４３３が、第１の速度で、第２のステータアセンブリ４３１に対して回転し、少なくとも１つの第２のロータアセンブリ４３３が、第２の速度で、第２のステータアセンブリ４３１に対して回転し、第１の速度と第２の速度は、同じでも異なっていてもよい。

【0195】

１つの例では、第２のロータアセンブリ４３３、第２のステータアセンブリ４３１および第２の光学素子４６の数は、いずれも２つである。２つの第２のロータアセンブリ４３３は、同軸回転し、かつ２つの第２のロータアセンブリ４３３と第１のロータアセンブリ４２３は、いずれも同軸回転する。そのうちの１つの第２の光学素子４６の第１の面４６３は、第１のロータ４２３１の第４の端４２３７ｂを向き、第１の光学素子４５の第１の面４５３と対向し、この第２の光学素子４６の第２の面４５４は、もう１つの光学素子の第２の面４５４を向く。

【0196】

図２８に示すように、本願の実施形態は、さらに、移動プラットフォーム本体２００と、上述したいずれかの実施形態の測距装置１００と、を含む移動プラットフォーム１０００を提供する。移動プラットフォーム１０００は、無人航空機、無人車、無人船などの移動プラットフォームとすることができる。１つの移動プラットフォーム１０００に、１つまたは複数の測距装置１００を配置することができる。測距装置１００は、移動プラットフォーム１０００周囲の環境を測定するために用いることができ、移動プラットフォーム１０００がさらに周囲の環境に基づいて障害物回避、軌跡選択などの操作を行うのに便利である。

【0197】

本明細書の記述において、「ある実施形態」「一実施形態」、「いくつかの実施形態」、「模式的な実施形態」、「例」、「具体例」または「いくつかの例」などの用語を参照した記述は、前記実施形態または例を組み合わせて記述された具体的な特徴、構造、材料または特性が、本願の少なくとも１つの実施形態または例に含まれていることをいう。本明細書において、上記用語の模式的な記述は、必ずしも同じ実施形態または例に対するものではない。さらに、記述された具体的な特徴、構造、材料または特性は、いずれか１つまたは複数の実施形態または例を適切な方式で組み合わせてもよい。

【0198】

また、「第１の」、「第２の」などの用語は、記述の目的のために用いられているにすぎず、相対的な重要性を指示もしくは暗示するもの、または指示する技術的特徴の数を暗示もしくは明示するものと理解することはできない。そのため、「第１の」、「第２の」などと限定された特徴は、少なくとも１つの前記特徴を明示的または暗示的に含むことができる。本願の記述において、「複数の」の意味は、別段の明確で具体的な限定がある場合を除き、少なくとも２つであり、例えば２つ、３つなどである。

【0199】

以上、本願の実施形態をすでに示し記述したが、上述した実施形態は例示的なものであり、本願に対する限定と理解することはできず、当業者は、本願の範囲内で上述した実施形態に対して変更、修正、入れ替えおよび変形を行うことができ、本願の範囲は、特許請求の範囲およびその均等物により限定されると理解することができる。
［項目１］
収納キャビティが形成されたロータと、前記ロータの内壁上に設けられ前記収納キャビティ内に位置するボスと、を含むロータアセンブリと、
前記ロータアセンブリを駆動してステータアセンブリに対して回転させるために用いられるステータアセンブリと、
前記収納キャビティ内に取り付けられた光学素子であって、前記ロータアセンブリと同期回転し、第１の端と、第２の端と、を含み、前記第１の端と前記第２の端は、それぞれ前記光学素子の径方向における両端に位置し、前記第１の端の厚みは、前記第２の端の厚みよりも大きく、前記第２の端と前記ボスは、対向して前記ロータの回転軸の同じ側に位置し、前記第１の端と前記ボスは、前記回転軸の対向する両側に位置する光学素子と、を含む、走査モジュール。
［項目２］
前記第２の端と前記ロータの内壁との間に間隙を形成し、前記ボスが前記間隙内に入る、項目１に記載の走査モジュール。
［項目３］
前記光学素子と前記ボスは間隔をあけて設けられる、項目１に記載の走査モジュール。
［項目４］
前記ボスの前記光学素子を向いた面は平面であり、前記ボスの前記ロータの内壁と貼着される面は曲面である、項目１に記載の走査モジュール。
［項目５］
前記ボスは前記光学素子と同期回転し、前記ボスが前記第２の端と共同で回転する際の前記回転軸に対するトルクは、前記第１の端が回転する際の前記回転軸に対するトルクと等しい、項目１に記載の走査モジュール。
［項目６］
前記ボスは、前記ロータと一体成形するか、または前記ボスは、前記ロータと別々に成形し、前記ボスが前記ロータの内壁上に固定される、項目１に記載の走査モジュール。
［項目７］
前記ボスの密度は、前記ロータおよび前記光学素子の少なくとも１つの密度よりも大きい、項目１に記載の走査モジュール。
［項目８］
前記光学素子には、前記回転軸に対して傾斜した第１の面、および前記第１の面と背を向け合った第２の面が形成され、前記第２の面は、前記回転軸に対して垂直である、項目１から項目７のいずれかに記載の走査モジュール。
［項目９］
前記ボスは、第１の補助面に関して対称であり、前記第１の補助面は、前記回転軸に垂直であり、前記第１の面の中心を通る、項目８に記載の走査モジュール。
［項目１０］
前記ボスは、第２の補助面に関して対称であり、前記第２の補助面は、前記回転軸、前記第１の端および前記第２の端を通る、項目８に記載の走査モジュール。
［項目１１］
前記ボスの前記回転軸における投影範囲は、前記光学素子の前記回転軸における投影範囲を覆う、項目１に記載の走査モジュール。
［項目１２］
前記走査モジュールは、複数の前記ロータアセンブリと、複数の前記ステータアセンブリと、複数の前記光学素子と、を含み、前記光学素子の各々は、対応する１つの前記ロータアセンブリ上に取り付けられ、前記ステータアセンブリの各々は、対応する１つの前記ロータアセンブリを駆動して前記光学素子を回転させるために用いられる、項目１に記載の走査モジュール。
［項目１３］
複数の前記ロータアセンブリの回転軸が同じである、項目１２に記載の走査モジュール。
［項目１４］
複数の前記ロータアセンブリは、異なる回転速度および回転方向の少なくとも１つで、対応する前記ステータアセンブリに対して回転することができる、項目１２に記載の走査モジュール。
［項目１５］
前記ロータの内壁は、環状構造を呈するか、または１つの環状構造の一部であり、
前記走査モジュールは、前記ロータの内壁外側に位置する位置決めアセンブリをさらに含み、前記位置決めアセンブリは、前記ロータアセンブリを制限して、固定された回転軸を中心として回転させるために用いられ、前記位置決めアセンブリは、前記ロータの内壁外側に巻かれた環状軸受を含むか、前記ステータアセンブリは、前記ロータの内壁外側に巻かれ、環状を呈する巻線を含むかのうちの少なくとも１つである、項目１に記載の走査モジュール。
［項目１６］
前記ステータアセンブリおよび前記位置決めアセンブリは、並列して前記ロータの内壁外側に巻かれる、項目１５に記載の走査モジュール。
［項目１７］
前記走査モジュールは、走査ハウジングをさらに含み、前記ステータアセンブリ、前記ロータアセンブリおよび前記位置決めアセンブリは、前記走査ハウジング内に収容され、
前記位置決めアセンブリは、前記ロータの内壁外側と互いに固定された内周構造と、前記走査ハウジングと互いに固定された外周構造と、前記内周構造と前記外周構造との間に位置する転がり体と、を含み、前記転がり体は、それぞれ前記外周構造および前記内周構造と転がり接続するために用いられる、項目１５または項目１６に記載の走査モジュール。
［項目１８］
前記光学素子は、プリズムを含む、項目１に記載の走査モジュール。
［項目１９］
項目１から項目１８のいずれかに記載の走査モジュールと、
前記走査モジュールにレーザーパルスを発射するために用いられる測距モジュールと、を含み、前記走査モジュールは、前記レーザーパルスの伝送方向を変えた後に出射するために用いられ、測定物から反射して戻って来たレーザーパルスは、前記走査モジュールを経た後、前記測距モジュールに入射し、前記測距モジュールは、反射して戻って来たレーザーパルスに基づき、前記測定物と距離測定装置との間の距離を確定するために用いられる、測距装置。
［項目２０］
前記測距モジュールは、
レーザーパルス列を出射するための光源と、測定器と、を含み、
前記走査モジュールは、前記レーザーパルス列を異なる時間に異なる伝送方向に変えて出射するために用いられ、測定物によって反射されて戻って来たレーザーパルスは、前記走査モジュールを経た後、前記測定器に入射し、
前記測定器は、前記反射されて戻って来たレーザーパルスを電気パルスに変換し、前記電気パルスに基づき、前記測定物と前記距離測定装置との間の距離を確定する、項目１９に記載の測距装置。
［項目２１］
前記測距モジュールは、光路変更素子と、コリメート素子と、をさらに含み、
前記光路変更素子は、前記コリメート素子の前記走査モジュールと背を向けた側に位置し、前記光源の出射光路および前記測定器の受光光路を合併するために用いられ、
前記コリメート素子は、前記光源からのレーザーパルスをコリメートした後に、前記走査モジュールに投射するために用いられ、前記走査モジュールからの光束を前記測定器に集めるために用いられる、項目２０に記載の測距装置。
［項目２２］
前記光学素子は、前記光源がレーザーパルスを出射する出射光路上に位置し、前記ステータアセンブリは、前記光学素子を駆動して回転させ、前記光学素子を経る前記レーザーパルスの伝送方向を変える、項目２０に記載の測距装置。
［項目２３］
収納キャビティが形成されたロータを含むロータアセンブリと、
前記収納キャビティ内に取り付けられた光学素子であって、前記ロータアセンブリと同期回転し、第１の端と、第２の端と、を含み、前記第１の端と前記第２の端は、それぞれ前記光学素子の径方向における両端に位置し、前記第１の端の厚みは、前記第２の端の厚みよりも大きく、前記ロータおよび前記光学素子のうちの少なくとも１つの前記第１の端に位置する側に切り欠きが形成されている光学素子と、を含む、走査モジュール。
［項目２４］
前記切り欠きは、前記第１の端の縁に設けられた隅切りを含み、
前記切り欠きは、前記ロータの側壁の内面上に形成された内接溝を含み、前記内接溝は、前記第１の端が所在する側に近く、
前記切り欠きは、前記ロータの側壁の外面上に形成された外接溝を含み、前記外接溝は、前記第１の端が所在する側に近く、
前記切り欠きは、前記ロータの側壁の中央に形成された溝を含み、前記溝は、前記第１の端が所在する側に近く、
前記ロータの側壁の外面上に、径方向に沿って外向きに延在してリブが形成され、前記リブは、前記ロータの側壁の周りに設けられ、前記切り欠きは、リブ上に設けられた開口を含むうちの少なくとも１つである、項目２３に記載の走査モジュール。
［項目２５］
前記切り欠きは、前記第１の端の縁に設けられた隅切りを含み、前記隅切りは、前記ロータの内壁と対向する、項目２３に記載の走査モジュール。
［項目２６］
前記ロータは、前記ロータの回転軸方向に沿って分布した第３の端および第４の端を含み、前記第３の端と前記第４の端は背を向け合って設けられ、前記切り欠きは、前記ロータの側壁の内面上に形成された内接溝を含み、前記内接溝は、前記第３の端よりも前記第４の端側に寄り、前記内接溝は、前記隅切りと対向する、項目２５に記載の走査モジュール。
［項目２７］
前記ロータは、前記ロータの回転軸方向に沿って分布した第３の端および第４の端を含み、前記第３の端と前記第４の端は背を向け合って設けられ、前記切り欠きは、前記ロータの側壁の外面上に形成された外接溝を含み、前記外接溝は、前記第４の端よりも前記第３の端側にある、項目２５に記載の走査モジュール。
［項目２８］
前記ロータは、前記ロータの回転軸方向に沿って分布した第３の端および第４の端を含み、前記第３の端と前記第４の端は背を向け合って設けられ、前記ロータの側壁の外面上に、径方向に沿って外向きに延在してリブが形成され、前記リブは、前記ロータの側壁の周りに設けられ、前記切り欠きは、リブ上に設けられた開口を含み、前記開口は、前記第３の端よりも前記第４の端側に寄る、項目２５に記載の走査モジュール。
［項目２９］
前記切り欠きは、補助面に関して対称であり、前記補助面は、前記ロータの回転軸、前記第１の端および前記第２の端を通る、項目２３から項目２８のいずれかに記載の走査モジュール。
［項目３０］
前記ロータアセンブリは、バンプをさらに含み、前記バンプは、前記第２の端側に近く、前記第２の端と前記ロータの回転軸の同じ側に位置し、前記第１の端と前記バンプは、前記ロータの回転軸の対向する両側に位置する、項目２３から項目２８のいずれかに記載の走査モジュール。
［項目３１］
前記第２の端と前記ロータの内壁との間に間隙を形成し、前記バンプが前記間隙内に入り、前記第２の端と対向するか、または
前記第１の端と前記第２の端は、それぞれ前記ロータの側壁の内面上に取り付けられ、前記光学素子には、前記回転軸に対して傾斜した第１の面が形成され、前記バンプは、前記第１の面に当接する、項目３０に記載の走査モジュール。
［項目３２］
前記ロータは、突起をさらに含み、前記突起は、前記ロータの側壁の内面上に設けられ、前記第１の端は、前記突起上に取り付けられる、項目２３から項目２８のいずれかに記載の走査モジュール。
［項目３３］
前記光学素子には、前記ロータの回転軸に対して傾斜した第１の面および前記第１の面と背を向け合った第２の面が形成され、前記第２の面は、前記ロータの回転軸に対して垂直である、項目２３から項目２８のいずれかに記載の走査モジュール。
［項目３４］
前記走査モジュールは、ステータアセンブリをさらに含み、前記ステータアセンブリは、前記ロータアセンブリを駆動して前記ステータアセンブリに対して回転させるために用いられ、前記ロータの内壁は、環状構造を呈するか、または１つの環状構造の一部であり、
前記走査モジュールは、前記ロータの内壁外側に位置する位置決めアセンブリをさらに含み、前記位置決めアセンブリは、前記ロータアセンブリを制限して、固定された回転軸を中心として回転させるために用いられ、前記位置決めアセンブリは、前記ロータの内壁外側に巻かれた環状軸受を含むか、前記ステータアセンブリは、前記ロータの内壁外側に巻かれ、環状を呈する巻線を含むかのうちの少なくとも１つである、項目２３から項目２８のいずれかに記載の走査モジュール。
［項目３５］
前記ステータアセンブリおよび前記位置決めアセンブリは、並列して前記ロータの内壁外側に巻かれる、項目３４に記載の走査モジュール。
［項目３６］
前記走査モジュールは、走査ハウジングをさらに含み、前記ステータアセンブリ、前記ロータアセンブリおよび前記位置決めアセンブリは、前記走査ハウジング内に収容され、
前記位置決めアセンブリは、前記ロータの内壁外側と互いに固定された内周構造と、前記走査ハウジングと互いに固定された外周構造と、前記内周構造と前記外周構造との間に位置する転がり体と、を含み、前記転がり体は、それぞれ前記外周構造および前記内周構造と転がり接続するために用いられる、項目３４に記載の走査モジュール。
［項目３７］
前記光学素子は、プリズムを含む、項目２３から項目２８のいずれかに記載の走査モジュール。
［項目３８］
項目２３から項目３７のいずれかに記載の走査モジュールと、
前記走査モジュールにレーザーパルスを発射するために用いられる測距モジュールと、を含み、前記走査モジュールは、前記レーザーパルスの伝送方向を変えた後に出射するために用いられ、測定物から反射して戻って来たレーザーパルスは、前記走査モジュールを経た後、前記測距モジュールに入射し、前記測距モジュールは、反射して戻って来たレーザーパルスに基づき、前記測定物と距離測定装置との間の距離を確定するために用いられる、測距装置。
［項目３９］
前記測距モジュールは、
レーザーパルス列を出射するための光源と、測定器と、を含み、
前記走査モジュールは、前記レーザーパルス列を異なる時間に異なる伝送方向に変えて出射するために用いられ、測定物によって反射されて戻って来たレーザーパルスは、前記走査モジュールを経た後、前記測定器に入射し、
前記測定器は、前記反射されて戻って来たレーザーパルスを電気パルスに変換し、前記電気パルスに基づき、前記測定物と前記距離測定装置との間の距離を確定する、項目３８に記載の測距装置。
［項目４０］
前記測距モジュールは、光路変更素子と、コリメート素子と、をさらに含み、
前記光路変更素子は、前記コリメート素子の前記走査モジュールと背を向けた側に位置し、前記光源の出射光路および前記測定器の受光光路を合併するために用いられ、
前記コリメート素子は、前記光源からのレーザーパルスをコリメートした後に、前記走査モジュールに投射するために用いられ、前記走査モジュールからの光束を前記測定器に集めるために用いられる、項目３９に記載の測距装置。
［項目４１］
前記光学素子は、前記光源からレーザーパルスを出射する出射光路上に位置し、前記光学素子は、回転して前記光学素子を経る前記レーザーパルスの伝送方向を変えることができる、項目３９に記載の測距装置。
［項目４２］
第１の収納キャビティが形成された第１のロータを含む第１のロータアセンブリと、
前記第１の収納キャビティ内に取り付けられた第１の光学素子であって、第１の端と、第２の端と、を含み、前記第１の光学素子の第１の端と前記第１の光学素子の第２の端は、それぞれ前記第１の光学素子の径方向における両端に位置し、前記第１の光学素子の第１の端の厚みは、前記第１の光学素子の第２の端の厚みよりも大きく、前記第１のロータおよび前記第１の光学素子のうちの少なくとも１つの前記第１の端に位置する側に切り欠きが形成されている第１の光学素子と、
第２の収納キャビティが形成された第２のロータと、前記第２のロータの内壁上に設けられ前記第２の収納キャビティ内に位置するボスと、を含む第２のロータアセンブリと、
前記第２の収納キャビティ内に取り付けられた第２の光学素子であって、第１の端と、第２の端と、を含み、前記第２の光学素子の第１の端と前記第２の光学素子の第２の端は、それぞれ前記第２の光学素子の径方向における両端に位置し、前記第２の光学素子の第１の端の厚みは、前記第２の光学素子の第２の端の厚みよりも大きく、前記第２の光学素子の第２の端と前記ボスは、対向して前記第２のロータの第２の回転軸の同じ側に位置し、前記第２の光学素子の第１の端と前記ボスは、前記第２の回転軸の対向する両側に位置する第２の光学素子と、を含む、走査モジュール。
［項目４３］
前記第２の光学素子の第２の端と前記第２のロータの内壁との間に間隙を形成し、前記ボスが前記間隙内に入る、項目４２に記載の走査モジュール。
［項目４４］
前記第２の光学素子と前記ボスは間隔をあけて設けられる、項目４２に記載の走査モジュール。
［項目４５］
前記ボスの前記第２の光学素子を向いた面は平面であり、前記ボスの前記第２のロータの内壁と貼着する面は曲面である、項目４２に記載の走査モジュール。
［項目４６］
前記ボスは前記第２の光学素子と同期回転し、前記ボスが前記第２の光学素子の第２の端と共同で回転する際の前記第２の回転軸に対するトルクは、前記第２の光学素子の第１の端が回転する際の前記第２の回転軸に対するトルクと等しい、項目４２に記載の走査モジュール。
［項目４７］
前記ボスは、前記第２のロータと一体成形するか、または前記ボスは、前記第２のロータと別々に成形し、前記ボスが前記第２のロータの内壁上に固定される、項目４２に記載の走査モジュール。
［項目４８］
前記ボスの密度は、前記第２のロータおよび前記第２の光学素子の少なくとも１つの密度よりも大きい、項目４２に記載の走査モジュール。
［項目４９］
前記第２の光学素子には、前記第２の回転軸に対して傾斜した第１の面および前記第２の光学素子の第１の面と背を向け合った第２の面が形成され、前記第２の光学素子の第２の面は、前記第２の回転軸に対して垂直である、項目４２から項目４８のいずれかに記載の走査モジュール。
［項目５０］
前記ボスは、第１の補助面に関して対称であり、前記第１の補助面は、前記第２の回転軸に垂直で、前記第２の光学素子の第１の面の中心を通る、項目４９に記載の走査モジュール。
［項目５１］
前記ボスは、第２の補助面に関して対称であり、前記第２の補助面は、前記第２の回転軸、前記第２の光学素子の第１の端および前記第２の光学素子の第２の端を通る、項目４９に記載の走査モジュール。
［項目５２］
前記ボスの前記第２の回転軸における投影範囲は、前記第２の光学素子の前記第２の回転軸における投影範囲を覆う、項目４２に記載の走査モジュール。
［項目５３］
前記走査モジュールは、複数の前記第２のロータアセンブリと、複数の第２のステータアセンブリと、複数の前記第２の光学素子と、を含み、前記第２の光学素子の各々は、対応する１つの前記第２のロータアセンブリ上に取り付けられ、前記第２のステータアセンブリの各々は、対応する１つの前記第２のロータアセンブリを駆動して前記第２の光学素子を回転させるために用いられる、項目４２に記載の走査モジュール。
［項目５４］
前記第２のロータアセンブリと前記第２の光学素子の数がいずれも２つであり、２つの前記第２の光学素子の口径の大きさの差は、各口径の大きさの１０％以下である、項目５３に記載の走査モジュール。
［項目５５］
２つの前記第２の光学素子の口径が同じである、項目５４に記載の走査モジュール。
［項目５６］
複数の前記第２のロータアセンブリの第２の回転軸が同じである、項目５３に記載の走査モジュール。
［項目５７］
複数の前記第２のロータアセンブリは、異なる回転速度および回転方向の少なくとも１つで、対応する前記第２のステータアセンブリに対して回転することができる、項目５３に記載の走査モジュール。
［項目５８］
前記走査モジュールは、第２のステータアセンブリをさらに含み、前記第２のロータの内壁は、環状構造を呈するか、または１つの環状構造の一部であり、
前記走査モジュールは、前記第２のロータの内壁外側に位置する第２の位置決めアセンブリをさらに含み、前記第２の位置決めアセンブリは、前記第２のロータアセンブリを制限して、固定された第２の回転軸を中心に回転させるために用いられ、前記第２の位置決めアセンブリは、前記第２のロータの内壁外側に巻かれた環状第２の軸受を含むか、前記第２のステータアセンブリは、前記第２のロータの内壁外側に巻かれ、環状を呈する巻線を含むかのうちの少なくとも１つである、項目４２に記載の走査モジュール。
［項目５９］
前記第２のステータアセンブリおよび第２の位置決めアセンブリは、並列して前記第２のロータの内壁外側に巻かれる、項目５８に記載の走査モジュール。
［項目６０］
前記走査モジュールは、走査ハウジングをさらに含み、前記第２のステータアセンブリ、前記第２のロータアセンブリおよび前記第２の位置決めアセンブリは、前記走査ハウジング内に収容され、
前記第２の位置決めアセンブリは、前記第２のロータの内壁外側と互いに固定された第２の内周構造と、前記走査ハウジングと互いに固定された第２の外周構造と、前記第２の内周構造と前記第２の外周構造との間に位置する第２の転がり体と、を含み、前記第２の転がり体は、それぞれ前記第２の外周構造および前記第２の内周構造と転がり接続するために用いられる、項目５８または項目５９に記載の走査モジュール。
［項目６１］
前記第２の光学素子は、プリズムを含む、項目４２に記載の走査モジュール。
［項目６２］
前記切り欠きは、第１の光学素子の前記第１の端の縁に設けられた隅切りを含み、
前記切り欠きは、前記第１のロータの側壁の内面上に形成された内接溝を含み、前記内接溝は、前記第１の光学素子の第１の端が所在する側に近く、
前記切り欠きは、前記第１のロータの側壁の外面上に形成された外接溝を含み、前記外接溝は、前記第１の光学素子の第１の端が所在する側に近く、
前記切り欠きは、前記第１のロータの側壁の中央に形成された溝を含み、前記溝は、第１の光学素子の第１の端が所在する側に近く、
前記第１のロータの側壁の外面上に、径方向に沿って外向きに延在してリブが形成され、前記リブは、前記第１のロータの側壁の周りに設けられ、前記切り欠きは、リブ上に設けられた開口を含むうちの少なくとも１つである、項目４２に記載の走査モジュール。
［項目６３］
前記切り欠きは、前記第１の光学素子の第１の端の縁に設けられた隅切りを含み、前記隅切りは、前記第１のロータの内壁と対向する、項目４２に記載の走査モジュール。
［項目６４］
前記第１のロータは、前記第１のロータの第１の回転軸方向に沿って分布した第３の端および第４の端を含み、前記第３の端と前記第４の端は背を向け合って設けられ、前記切り欠きは、前記第１のロータの側壁の内面上に形成された内接溝を含み、前記内接溝は、前記第３の端よりも前記第４の端側に寄り、前記内接溝は、前記隅切りと対向する、項目６３に記載の走査モジュール。
［項目６５］
前記第１のロータは、前記第１のロータの第１の回転軸方向に沿って分布した第３の端および第４の端を含み、前記第３の端と前記第４の端は背を向け合って設けられ、前記切り欠きは、前記第１のロータの側壁の外面上に形成された外接溝を含み、前記外接溝は、前記第４の端よりも前記第３の端側にある、項目６３に記載の走査モジュール。
［項目６６］
前記第１のロータは、前記第１のロータの第１の回転軸方向に沿って分布した第３の端および第４の端を含み、前記第３の端と前記第４の端は背を向け合って設けられ、前記第１のロータの側壁の外面上に、径方向に沿って外向きに延在してリブが形成され、前記リブは、前記第１のロータの側壁の周りに設けられ、前記切り欠きは、リブ上に設けられた開口を含み、前記開口は、前記第３の端よりも前記第４の端側に寄る、項目６３に記載の走査モジュール。
［項目６７］
前記切り欠きは、前記第３の補助面に関して対称であり、前記第３の補助面は、前記第１の回転軸、前記第１の光学素子の第１の端および前記第１の光学素子の第２の端を通る、項目４２、項目６２から項目６６のいずれかに記載の走査モジュール。
［項目６８］
前記第１の光学素子の第２の端と前記第１のロータの内壁との間に間隙を形成し、前記バンプが前記間隙内に入り、前記第１の光学素子の第２の端と対向するか、または
前記第１の光学素子の第１の端と前記第１の光学素子の第２の端は、それぞれ前記第１のロータの側壁の内面上に取り付けられ、前記第１の光学素子には、前記第１の回転軸に対して傾斜した第１の面が形成され、前記ボスは、前記第１の光学素子の第１の面に当接する、項目６７に記載の走査モジュール。
［項目６９］
前記第１の光学素子は、前記第１の光学素子の第１の面と背を向け合った第２の面をさらに含み、前記第１の光学素子の第２の面は、前記第１の回転軸に対して垂直であり、前記第１の光学素子の第２の面は、光の受光面である、項目６８に記載の走査モジュール。
［項目７０］
前記第１のロータは、突起をさらに含み、前記突起は、前記第１のロータの側壁の内面上に設けられ、前記第１の光学素子の第１の端は、前記突起上に取り付けられる、項目４２、項目６２から項目６６のいずれかに記載の走査モジュール。
［項目７１］
前記第１の光学素子には、前記第１の回転軸に対して傾斜した第１の面および前記第１の光学素子の第１の面と背を向け合った第２の面が形成され、前記第１の光学素子の第２の面は、前記第１の回転軸に対して垂直である、項目４２、項目６２から項目６６のいずれかに記載の走査モジュール。
［項目７２］
前記第２の光学素子には、前記第２の回転軸に対して傾斜した第１の面および前記第２の光学素子の第１の面と背を向け合った第２の面が形成され、前記第２の光学素子の第１の面は、前記第１の光学素子の第１の面と対向する、項目７１に記載の走査モジュール。
［項目７３］
前記第１の光学素子の口径が、前記第２の光学素子の口径よりも大きい、項目４２に記載の走査モジュール。
［項目７４］
前記第２の光学素子の口径の大きさが、前記第１の光学素子の口径の大きさの５０％～７０％である、項目７３に記載の走査モジュール。
［項目７５］
前記切り欠きは、前記第１の光学素子の第１の端の縁に設けられた隅切りを含み、前記隅切りは、前記第１のロータの内壁と対向し、前記隅切りは、前記第１の光学素子の前記第１の光学素子の光路とは反対の位置にある、項目７３に記載の走査モジュール。
［項目７６］
前記第１の光学素子は、前記第２の光学素子と対向する第１の領域と、前記第２の光学素子の周縁の外まで延在した第２の領域と、を含み、
前記切り欠きは、前記第１の光学素子の第２の領域上に設けられた隅切りを含む、項目７３に記載の走査モジュール。
［項目７７］
前記走査モジュールは、第１のステータアセンブリをさらに含み、前記第１のステータアセンブリは、前記第１のロータアセンブリを駆動して前記第１のステータアセンブリに対して回転させるために用いられ、前記第１のロータの内壁は、環状構造を呈するか、または１つの環状構造の一部であり、
前記走査モジュールは、前記第１のロータの内壁外側に位置する第１の位置決めアセンブリをさらに含み、前記第１の位置決めアセンブリは、前記第１のロータアセンブリを制限して、固定された第１の回転軸を中心に回転させるために用いられ、前記第１の位置決めアセンブリは、前記第１のロータの内壁外側に巻かれた環状第１の軸受を含むか、前記第１のステータアセンブリは、前記第１のロータの内壁外側に巻かれ、環状を呈する巻線を含むかのうちの少なくとも１つである、項目４２、項目６２から項目６６のいずれかに記載の走査モジュール。
［項目７８］
前記第１のステータアセンブリおよび前記第１の位置決めアセンブリは、並列して前記第１のロータの内壁外側に巻かれる、項目７７に記載の走査モジュール。
［項目７９］
前記走査モジュールは、走査ハウジングをさらに含み、前記第１のステータアセンブリ、前記第１のロータアセンブリおよび前記第１の位置決めアセンブリは、前記走査ハウジング内に収容され、
前記第１の位置決めアセンブリは、前記第１のロータの内壁外側と互いに固定された第１の内周構造と、前記走査ハウジングと互いに固定された第１の外周構造と、前記第１の内周構造と前記第１の外周構造との間に位置する第１の転がり体と、を含み、前記第１の転がり体は、それぞれ前記第１の外周構造および前記第１の内周構造と転がり接続するために用いられる、項目７７に記載の走査モジュール。
［項目８０］
前記第１の光学素子は、第２のプリズムを含む、項目４２、項目６２から項目６６のいずれかに記載の走査モジュール。
［項目８１］
項目４２から項目８０のいずれかに記載の走査モジュールと、
前記走査モジュールにレーザーパルスを発射するために用いられる測距モジュールと、を含み、前記走査モジュールは、前記レーザーパルスの伝送方向を変えた後に出射するために用いられ、測定物から反射して戻って来たレーザーパルスは、前記走査モジュールを経た後、前記測距モジュールに入射し、前記測距モジュールは、反射して戻って来たレーザーパルスに基づき、前記測定物と距離測定装置との間の距離を確定するために用いられる、測距装置。
［項目８２］
前記測距モジュールは、
レーザーパルス列を出射するための光源と、測定器と、を含み、
前記走査モジュールは、前記レーザーパルス列を異なる時間に異なる伝送方向に変えて出射するために用いられ、測定物によって反射されて戻って来たレーザーパルスは、前記走査モジュールを経た後、前記測定器に入射し、
前記測定器は、前記反射されて戻って来たレーザーパルスを電気パルスに変換し、前記電気パルスに基づき、前記測定物と前記距離測定装置との間の距離を確定する、項目８１に記載の測距装置。
［項目８３］
前記測距モジュールは、光路変更素子と、コリメート素子と、をさらに含み、
前記光路変更素子は、前記コリメート素子の前記走査モジュールと背を向けた側に位置し、前記光源の出射光路および前記測定器の受光光路を合併するために用いられ、
前記コリメート素子は、前記光源からのレーザーパルスをコリメートした後に、前記走査モジュールに投射するために用いられ、前記走査モジュールからの光束を前記測定器に集めるために用いられる、項目８２に記載の測距装置。
［項目８４］
前記第２の光学素子および第１の光学素子は、前記光源がレーザーパルスを出射する出射光路上に位置し、前記第２の光学素子および第１の光学素子は、いずれも回転して前記レーザーパルスの伝送方向を変えることができる、項目８２に記載の測距装置。
［項目８５］
移動プラットフォーム本体と、
前記移動プラットフォーム本体上に取り付けられた、項目１９から項目２２、項目３８から項目４１、項目８１から項目８４のいずれかに記載の測距装置と、を含む、移動プラットフォーム。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図22】

【図23】

【図24】

【図25】

【図26】

【図27】

【図28】