(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-01-05
(45)【発行日】2024-01-16
(54)【発明の名称】基板処理の装置および方法
(51)【国際特許分類】
B08B 3/12 20060101AFI20240109BHJP
H01L 21/304 20060101ALI20240109BHJP
【ＦＩ】
B08B3/12 Z
H01L21/304 643B
H01L21/304 643D
【請求項の数】
9
(21)【出願番号】P 2022076453
(22)【出願日】2022-05-06
(65)【公開番号】P2023037560
(43)【公開日】2023-03-15
【審査請求日】2022-05-06
(31)【優先権主張番号】10-2021-0117867
(32)【優先日】2021-09-03
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(73)【特許権者】
【識別番号】598123150
【氏名又は名称】セメス株式会社
【氏名又は名称原語表記】ＳＥＭＥＳ ＣＯ．， ＬＴＤ．
【住所又は居所原語表記】７７，４ｓａｎｄａｎ ５－ｇｉｌ，Ｊｉｋｓａｎ－ｅｕｐ，Ｓｅｏｂｕｋ－ｇｕ，Ｃｈｅｏｎａｎ－ｓｉ，Ｃｈｕｎｇｃｈｅｏｎｇｎａｍ－ｄｏ，３３１－８１４ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｋｏｒｅａ
(74)【代理人】
【識別番号】110000671
【氏名又は名称】ＩＢＣ一番町弁理士法人
(72)【発明者】
【氏名】オム，スン フン
(72)【発明者】
【氏名】リ，スン ホ
(72)【発明者】
【氏名】チャン，チュ ヨン
【審査官】宮部 愛子
(56)【参考文献】
【文献】特開２００１－１７０５８４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２０１４－５２５９９８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００１－２８６８３３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平１０－２９６２００（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平１０－１６３１５３（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｂ０８Ｂ ３／１２
Ｈ０１Ｌ ２１／３０４
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
所定方向の第１側から第２側に向けて移動される基板の一面を洗浄する基板処理装置であって、洗浄液を貯蔵し、上面に第１開口部が形成された第１バスと、
前記第１バス内に設置され、前記第１開口部により露出した前記洗浄液の表面に向かって超音波を提供して前記洗浄液の表面から突出した第１水幕を形成する第１超音波発振器と、
前記第１バスの前記第２側に位置し、洗浄液を貯蔵し上面に第２開口部が形成された第２バスと、
前記第２バス内に設置され、前記第２開口部により露出した前記洗浄液の表面に向かって超音波を提供して、前記洗浄液の表面から突出した第２水幕を形成する第２超音波発振器と、を含み、
前記基板が前記第１バスに浸漬されず、前記基板の一面が前記第１開口部に隣接して配置され前記基板の前記一面が前記第１水幕によって洗浄され、その後、
前記基板が前記第２バスに浸漬されず、前記基板の前記一面が前記第２開口部に隣接して配置され前記基板の前記一面が前記第２水幕によって洗浄され、
前記第１超音波発振器の第１周波数は、２０ｋＨｚから４００ｋＨｚの範囲内であり、
前記第２超音波発振器の第２周波数は、７００ｋＨｚから１．２ＭＨｚの範囲内であり、
前記第１バスおよび前記第２バスそれぞれにおいて、前記第１側に位置した第１側壁の第１高さは、前記第２側に位置した第２側壁の第２高さより低く、
前記第１バスおよび前記第２バスそれぞれにおいて、バス内に洗浄液を供給する供給口は、前記第２側壁に設置され、バスから洗浄液が排出される排出口は、前記第１側壁に設置される、基板処理装置。
【請求項2】
所定方向の第１側から第２側に向けて移動される基板の一面を洗浄する基板処理装置であって、洗浄液を貯蔵し、上面に第１開口部が形成された第１バスと、
前記第１バス内に設置され、前記第１開口部により露出した前記洗浄液の表面に向かって超音波を提供して前記洗浄液の表面から突出した第１水幕を形成する第１超音波発振器と、
前記第１バス内において、前記第１超音波発振器よりも前記第２側に設置され、前記第１開口部により露出した前記洗浄液の表面に向かって超音波を提供して、前記洗浄液の表面から突出した第２水幕を形成する第２超音波発振器と、を含み、
前記基板が前記第１バスに浸漬されず、前記基板の一面が前記第１開口部に隣接して配置され前記基板の前記一面が前記第１水幕によって洗浄され、その後、前記一面が前記第２水幕によって洗浄され、
前記第１超音波発振器の第１周波数は、２０ｋＨｚから４００ｋＨｚの範囲内であり、
前記第２超音波発振器の第２周波数は、７００ｋＨｚから１．２ＭＨｚの範囲内であり、
前記第１側に位置した前記第１バスの第１側壁の第１高さは、前記第２側に位置した前記第１バスの第２側壁の第２高さより低く、
前記第１バス内に洗浄液を供給する供給口は、前記第２側壁に設置され、
前記第１バスから洗浄液が排出される排出口は、前記第１側壁に設置される、基板処理装置。
【請求項3】
前記第１、第２水幕の高さは、前記第１高さと前記第２高さの間の差より大きい、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項4】
前記基板の洗浄が進められる間、前記供給口を介して洗浄液が持続的に供給される、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項5】
前記第１バス上に配置された気体供給器をさらに含み、前記第１バスと前記気体供給器の間に前記基板が配置され、前記基板の他面が前記気体供給器に向き、
前記気体供給器は前記基板の他面に気体を供給して、前記基板の他面の汚染を防止する、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項6】
前記気体供給器は円筒型で配置されたボディと、前記ボディの側面に多数の気体排出口が形成され、各気体排出口は前記ボディの長さ方向に延長される、請求項５に記載の基板処理装置。
【請求項7】
前記第１超音波発振器は多数であり、多数の第１超音波発振器は前記所定方向に直交する方向に一列に配置され、および、前記第２超音波発振器は多数であり、多数の第２超音波発振器は前記所定方向に直交する方向に一列に配置された請求項１または請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項8】
前記第１超音波発振器は多数であり、前記多数の第１超音波発振器は「＜」形状に配置され、前記「＜」形状の頂点が第２側に向かうように配置された、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項9】
前記第１超音波発振器の超音波により形成された前記第１水幕では、キャビテーション現象をおこして、前記基板の前記一面の洗浄を行い、前記第２超音波発振器の超音波により形成された前記第２水幕では、キャビテーション現象をおこさずに、前記基板の前記一面の洗浄を行う、請求項１または請求項２に記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、基板処理の装置および方法に関する。
【背景技術】
【0002】
インクジェット印刷装備は、弾着精度計測のためにテスト用フィルムにインクを吐出する。使用されたテスト用フィルムは廃棄されるので多くの費用が発生する。したがって、テスト用フィルムを洗浄してテスト用フィルムを繰り返し再使用でき作業性が改善された連続洗浄装置の開発が必要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】韓国公開特許第２００１－００５７０４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明が解決しようとする課題は、作業性が改善された基板処理装置を提供することである。
【0005】
本発明が解決しようとする他の課題は、作業性が改善された基板処理方法を提供することである。
【0006】
本発明の課題は上で言及した課題に制限されず、言及されていないまた他の課題は以下の記載から当業者に明確に理解されることができる。
【課題を解決するための手段】
【0007】
前記課題を達成するための本発明の基板処理装置の一面（ａｓｐｅｃｔ）は、洗浄液を貯蔵し、上面に第１開口部が形成された第１バス、および,前記第１バス内に設置され、前記第１開口部により露出した前記洗浄液の表面に向かって超音波を提供して前記洗浄液の表面から突出した水幕を形成する第１超音波発振器を含み、基板が前記バスに浸漬されず、前記基板の一面が前記第１開口部に隣接して配置され前記基板の一面が前記水幕によって洗浄される。
【0008】
前記の課題を達成するための本発明の基板処理装置の他の面は、洗浄液を貯蔵し、上面に第１開口部が形成された第１バスと、前記第１バス内に設置され、前記第１開口部により露出した前記洗浄液の表面に向かって第１周波数の超音波を提供して前記洗浄液の表面から突出した第１水幕を形成する第１超音波発振器と、前記第１バスの一側に配置され、洗浄液を貯蔵し、上面に第２開口部が形成された第２バスと、前記第２バス内に設置され、前記第２開口部により露出した前記洗浄液の表面に向かって前記第１周波数より大きい第２周波数の超音波を提供して前記洗浄液の表面から突出した第２水幕を形成する第２超音波発振器を含み、ロール形態に巻かれた基板が巻出しされながら前記第１バスの上側と前記第２バスの上側を順に通過し、前記基板が前記第１バスおよび第２バスに浸漬されず、前記基板の一面が前記第１開口部および第２開口部に隣接して通過しながら、前記基板の一面が前記第１水幕および第２水幕により洗浄され、前記第１バスは前記第２バスに対向しない第１側壁と前記第２バスに対向する第２側壁を含み、前記第２側壁の第２高さが、前記第１側壁の第１高さより高い。
【0009】
前記の課題を達成するための本発明の基板処理方法の他の面は,洗浄液を貯蔵し上面に開口部が形成されたバスと、前記バス内に設置された超音波発振器を含む基板処理装置が提供され、前記超音波発振器は前記開口部により露出した前記洗浄液の表面に向かって超音波を提供して前記洗浄液の表面から突出した水幕を形成し、ロール形態に巻かれた基板が巻出されながら前記基板の一面が前記バスの開口部に隣接して通過し、前記基板は前記バスに浸漬されず、前記基板の一面が前記水幕によって洗浄されることを含む。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【図1】本発明の第１実施形態による基板処理装置を説明するための概念図である。
【図4】本発明の第２実施形態による基板処理装置で使用される洗浄部を説明するための図である。
【図5】本発明の第３実施形態による基板処理装置で使用される洗浄部を説明するための図である。
【図6】本発明の第４実施形態による基板処理装置で使用される洗浄部を説明するための図である。
【図7】本発明の第５実施形態による基板処理装置で使用される洗浄部を説明するための図である。
【図8】本発明の第６実施形態による基板処理装置で使用される洗浄部を説明するための図である。
【図9】本発明の第７実施形態による基板処理装置で使用される洗浄部を説明するための図である。
【図10】本発明の第８実施形態による基板処理装置で使用される洗浄部を説明するための概念図である。
【図11】本発明の第９実施形態による基板処理装置で使用される洗浄部を説明するための概念図である。
【図13】本発明のいくつかの実施形態による基板処理方法を説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下、添付する図面を参照して本発明の好ましい実施形態を詳細に説明する。本発明の利点および特徴、並びにこれらを達成する方法は、添付する図面と共に詳細に後述する実施形態を参照すれば明確になる。しかし、本発明は以下に開示される実施形態に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態で具現されることができ、本実施形態は単に本発明の開示を完全にし、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものであり、本発明は請求項の範疇によってのみ定義されるものである。明細書全体にわたって同一の参照符号は、同一の構成要素を指すものである。
【0012】
空間的に相対的な用語である「下（ｂｅｌｏｗ）」、「下（ｂｅｎｅａｔｈ）」、「下部（ｌｏｗｅｒ）」、「上（ａｂｏｖｅ）」、「上部（ｕｐｐｅｒ）」などは、図面に示されているように、一つの素子または構成要素と他の素子または構成要素との相関関係を容易に記述するために使用される。空間的に相対的な用語は、図面に示されている方向に加えて、使用時または動作時の素子の互いに異なる方向を含む用語として理解されなければならない。例えば、図面に示されている素子を裏返した場合、他の素子の「下（ｂｅｌｏｗ）」または、「下（ｂｅｎｅａｔｈ）」と記述された素子は、他の素子の「上（ａｂｏｖｅ）」に置かれ得る。したがって、例示的な用語の「下」は、下と上の方向を両方含み得る。素子は他の方向に配向されてもよく、このため空間的に相対的な用語は配向によって解釈されることができる。
【0013】
第１、第２などが多様な素子、構成要素および／またはセクションを叙述するために使用されるが、これらの素子、構成要素および／またはセクションは、これらの用語によって制限されないことはもちろんである。これらの用語は単に一つの素子、構成要素またはセクションを、他の素子、構成要素またはセクションと区別するために使用するものである。したがって、以下で言及される第１素子、第１構成要素または第１セクションは、本発明の技術的思想内で第２素子、第２構成要素または第２セクションでもあり得るのはもちろんである。
【0014】
以下、添付する図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。添付図面を参照して説明するにおいて、図面符号に関係なく同一であるかまたは対応する構成要素は同じ参照番号を付与し、これについての重複する説明は省略する。
【0015】
図１は、本発明の第１実施形態による基板処理装置を説明するための概念図である。図２は、図１に示す洗浄部を説明するための図である。図３は、図２の洗浄部内での多数の第１超音波発振器の配置を説明するための図である。
【0016】
まず図１を参照すると、本発明の第１実施形態による基板処理装置は、基板１０、ヘッド５０、洗浄部１００などを含む。
【0017】
基板１０は、多数の駆動ロール２０によって一方向に回転することができる。これにより基板１０は移動方向ＤＲに沿って移動することができる。図面では、移動方向ＤＲは第１側（図２のＲ方向）から第２側（図２のＬ方向）に移動する方向で示した。基板１０はフレキシブル基板であって、例えばロール形態に巻かれたフィルムであり得るが、これに限定されない。例えば基板１０は、駆動ロール２０によって一方向に回転するベルト上に固定／配置された基板（ガラス基板、シリコン基板など）でもあり得る。
【0018】
ヘッド５０は、駆動ロール２０によって回転する基板１０の上側（図２のＵ方向）に配置され、基板１０の一面上にインク５１を吐出する。
【0019】
洗浄部１００は、駆動ロール２０によって回転する基板１０の下側（図２のＤ方向）に配置され、吐出されたインク５１によって基板１０の一面上に形成された弾着群５２を洗浄する。1は、超音波の発振によって生成された水幕を用いて弾着群５２を洗浄する。
【0020】
ここで図２を参照すると、洗浄部１００は、第１バス１１０、第１超音波発振器１２０、洗浄液供給部１４０、洗浄液排出部１５０などを含む。
【0021】
第１バス１１０は洗浄液を貯蔵し、上面には第１開口部１１０ａが形成される。洗浄液は弾着群５２を洗浄するための多様な薬液が可能であり、例えば、ＤＩＷ（Ｄｅ－ｉｏｎｉｚｅｄ Ｗａｔｅｒ）であり得るが、これに限定されない。
【0022】
第１バス１１０内には第１超音波発振器１２０が設置されている。
【0023】
第１超音波発振器１２０は、第１開口部１１０ａにより露出した洗浄液の表面１３０に向かって超音波を提供して、洗浄液の表面１３０から突出した水幕１３１を形成する。
【0024】
第１超音波発振器１２０の発振出力を調節することにより、突出した水幕１３１の高さＨ０を調節することができる。本発明の第１実施形態による基板処理装置において、突出した水幕１３１の高さＨ０は、例えば、洗浄液の表面１３０から約１０ｍｍないし１５ｍｍであり得るがこれに限定されない。
【0025】
第１超音波発振器１２０の発振周波数を調節することにより、洗浄するターゲット物質を変更することができる。
【0026】
例えば、発振周波数はウルトラソニック（ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃ）とメガソニック（ｍｅｇａｓｏｎｉｃ）に区分できる。
【0027】
ウルトラソニックは数十ないし数百ｋＨｚの範囲、例えば、２０ｋＨｚないし４００ｋＨｚの範囲であり得る。ウルトラソニックは、キャビテーション現象を利用した洗浄を可能にする。ウルトラソニックを洗浄液内に印加すると、洗浄液内で気泡が弾けながら被洗浄物の異物を破壊または隔離させることができる。
【0028】
メガソニックは数ＭＨｚ、例えば、７００ｋＨｚないし１．２ＭＨｚの範囲であり得る。メガソニックを用いると、サブミクロン（ｓｕｂ－ｍｉｃｒｏｎ）サイズの異物を除去することができる。メガソニックはウルトラソニックと違ってキャビテーション現象を起こさず、粒子加速度を増大させて被洗浄物の異物を剥離させる。
【0029】
ウルトラソニックは、相対的に大きい異物（例えば、数μｍ）を除去し、メガソニックは相対的に小さい異物（例えば、１μｍ以下）を除去することができる。
【0030】
第１超音波発振器１２０は、ターゲット物質のサイズを考慮して、適切な範囲の発振周波数を有する超音波を生成する。
【0031】
基板１０は、第１バス１１０内に浸漬されず、基板１０の一面が第１開口部１１０ａに隣接して通過する。基板１０の一面が第１超音波発振器１２０により形成された突出した水幕１３１によって洗浄される。
【0032】
図３は、第１バス１１０を上から見た平面図である。図示されたように、基板１０が移動方向ＤＲに沿って（例えば、第１側Ｒから第２側Ｌへ）移動することができる。第１バス１１０内には多数の第１超音波発振器１２０が設置されることができ、多数の第１超音波発振器１２０は、第１バス１１０内で、前記基板１０の幅方向と並んで配置されることができる。図面では、多数の第１超音波発振器１２０が前方Ｆから後方Ｂ方向に一列に配置されたものとして示しているが、これに限定されない。多数の第１超音波発振器１２０が基板１０の幅方向と並んで配置されることにより、基板１０の全面の異物（すなわち、弾着群５２を含む）を効率的に洗浄することができる。
【0033】
再び図２を参照すると、第１バス１１０には洗浄液を供給する供給口１４１と、洗浄液が排出される排出口１５１を含む。
【0034】
供給口１４１は洗浄液供給部１４０と連結される。具体的に図示していないが、洗浄液供給部１４０は洗浄液を貯蔵する貯蔵タンク、貯蔵タンクから洗浄液を供給するためのポンプ、および／または供給する洗浄液の量を調節するためのバルブなどを含むことができる。
【0035】
排出口１５１は洗浄液排出部１５０と連結される。具体的に図示していないが、洗浄液排出部１５０は、排出された洗浄液を保管するための貯蔵タンクおよび／または排出された洗浄液をリサイクリングするためのリサイクラーなどを含むことができる。
【0036】
特に、基板１０が第１側Ｒから第２側Ｌに移動する際、供給口１４１は、第１バス１１０の側壁のうち第２側Ｌに位置する第２側壁１１０Ｌに位置する。また、排出口１５１は、第１バス１１０の側壁のうち第１側Ｒに位置する第１側壁１１０Ｒに位置する。また、第１バス１１０において供給口１４１の高さは、排出口１５１の高さより低く位置する。また、基板１０の洗浄が進められる間、供給口１４１を介して洗浄液が持続的に供給される。このような供給口１４１の位置および洗浄液の供給方式によって、第１バス１１０内で洗浄液は第２側Ｌから第１側Ｒに流れるようになる。
【0037】
すなわち、基板１０は第１側Ｒから第２側Ｌに移動し、洗浄液は第２側Ｌから第１側Ｒに流れる。こうすることにより、洗浄された基板１０の一面が再汚染することを防止することができる。なぜなら、突出した水幕１３１によって基板１０の一面から離脱した異物が洗浄液の表面１３０に落ちても、前記異物が再び基板１０の一面に着かず第１側Ｒの排出口１５１を介して排出されることができる。
【0038】
【0039】
図４を参照すると、洗浄部１０１の第１バス１１０の上面は傾いている。したがって、上面に設置された第１開口部１１０ａも傾くことができる。
【0040】
具体的には、基板１０が第１側Ｒから第２側Ｌに移動する際、第１バス１１０の側壁のうち、第１側Ｒに位置する第１側壁１１０Ｒの第１高さＨ１は、第２側Ｌに位置する第２側壁１１０Ｌの第２高さＨ２より低い。
【0041】
基板１０の一面は第２側壁１１０Ｌと衝突せず（すなわち、接触せず）、第１バス１１０の第１開口部１１０ａに隣接して通過しなければならない。ここで、水幕１３１の高さＨ０は十分に高く、基板１０の一面を洗浄できなければならない。このために、水幕１３１の高さＨ０は、第１高さＨ１と第２高さＨ２間の差より大きくてもよい（すなわち、Ｈ０＞Ｈ２－Ｈ１）。
【0042】
第１バス１１０がこのような構造（すなわち、Ｈ２＞Ｈ１）を有するので、洗浄された基板１０の一面が再汚染されることが防止できる。洗浄液供給部１４０が洗浄液を持続的に十分に供給すると、洗浄液が排出口１５１だけでなく第１バス１１０の側壁を越えて流れることがあり得る。しかし、第２側壁１１０Ｌの第２高さＨ２が第１側壁１１０Ｒの第１高さＨ１より高いので、洗浄液は第２側壁１１０Ｌ方向にはあふれず第１側壁１１０Ｒ方向にあふれるようになる。
【0043】
基板１０が第１側Ｒから第２側Ｌに移動するので、突出した水幕１３１に接触する前の基板１０の部分（すなわち、第１側Ｒに位置する基板１０）は未洗浄状態であり、突出した水幕１３１に接触した後の基板１０の部分（すなわち、第２側Ｌに位置する基板１０）は洗浄された状態である。もし、洗浄液が第２側壁１１０Ｌ方向にあふれることになれば、洗浄された基板１０が再汚染される可能性がある。したがって、洗浄液が第１側壁１１０Ｒ方向だけにあふれるように誘導して、洗浄された基板１０の再汚染を防止することができる。
【0044】
【0045】
図５を参照すると、洗浄部１０２は第１バス１１０と、第１バス１１０を囲む補助バス１６０を含む。
【0046】
前述したように、第１側Ｒに位置する第１側壁１１０Ｒの第１高さＨ１は、第２側Ｌに位置する第２側壁１１０Ｌの第２高さＨ２より低い。ここで、洗浄液供給部１４０が洗浄液を持続的に十分に供給すると、洗浄液は第２側壁１１０Ｌ方向にはあふれず第１側壁１１０Ｒ方向にあふれることになる。
【0047】
補助バス１６０は、第１バス１１０を囲むように形成され、第１バス１１０からあふれる洗浄液を一時的に貯蔵する。補助バス１６０の第１側Ｒには排出口１６１が設置される。排出口１６１は洗浄液排出部１５０と連結される。
【0048】
【0049】
図６を参照すると、基板１０の移動方向ＤＲ１は傾いている。移動方向ＤＲ１の傾いた程度と、第１開口部１１０ａの傾いた程度は実質的に同一であり得る。基板１０の移動方向ＤＲが平らでなくても、基板１０が第２側壁１１０Ｌと衝突しない範囲内で、第１バス１１０を自由に位置変更および設置して使用することができる。
【0050】
図７は、本発明の第５実施形態による基板処理装置で使用される洗浄部を説明するための図である。
【0051】
図７を参照すると、基板１０が移動方向ＤＲに沿って（例えば、第１側Ｒから第２側Ｌに）移動する。
【0052】
第１バス１１０内には多数の第１超音波発振器１２０が設置されることができ、多数の第１超音波発振器１２０は「＜」形状に配置され、「＜」形状の頂点（１２０ａを参照）が第２側Ｌに向かうように配置されることができる。
【0053】
このように配置され、基板１０が第１側Ｒから第２側Ｌに移動すると、基板１０の中心から基板１０の縁へ順に洗浄される。すなわち、「＜」形状の頂点に位置した第１超音波発振器１２０ａによって基板１０の中心から洗浄され始める。基板１０が第２側Ｌに少し移動すると、第１超音波発振器１２０ｂにより基板１０が洗浄される。このような方式で、基板１０が第２側Ｌに完全に移動すると、「＜」形状の一番終わりに位置した第１超音波発振器１２０ｃによって基板１０の縁が洗浄される。
【0054】
【0055】
【0056】
第１超音波発振器１２０と第２超音波発振器１２１は、互いに異なるサイズの異物を除去することができる。第１超音波発振器１２０は相対的に大きいサイズの異物を除去するために、ウルトラソニックを生成することができる。第２超音波発振器１２１は相対的に小さいサイズの異物を除去するために、メガソニックを生成することができる。
【0057】
図８に示すように、多数の第１超音波発振器１２０が前方Ｆから後方Ｂ方向に一列に配置される。多数の第２超音波発振器１２１も前方Ｆから後方Ｂ方向に一列に配置される。第１超音波発振器１２０による列と、第２超音波発振器１２１による列は、一定距離Ｇ１だけ離隔することができる。
【0058】
図９に示すように、第１バス１１０内には、多数の第１超音波発振器１２０と多数の第２超音波発振器１２１は互いにジグザグに配列されることができる。
【0059】
図１０は、本発明の第８実施形態による基板処理装置で使用される洗浄部を説明するための概念図である。
【0060】
図１０を参照すると、本発明の第８実施形態による基板処理装置は、連続で配置された第１洗浄部１０１と第２洗浄部２０１を含む。
【0061】
第１バス１１０は洗浄液を貯蔵し、上面に第１開口部１１０ａが形成される。基板１０が第１側Ｒから第２側Ｌに移動する際、第１バス１１０の側壁のうち、第１側Ｒに位置する第１側壁１１０Ｒの第１高さＨ１は、第２側Ｌに位置する第２側壁１１０Ｌの第２高さＨ２より低い。
【0062】
第１超音波発振器１２０は第１バス１１０内に設置され、第１開口部１１０ａにより露出した洗浄液の表面に向かって第１周波数の超音波を提供する。第１周波数の超音波によって洗浄液の表面から突出した第１水幕１３１を形成する。
【0063】
第２バス２１０は第１バス１１０の一側に配置される。基板１０の移動方向ＤＲを基準として見るとき、第２バス２１０は第１バス１１０より後方に配置される。第２バス２１０は洗浄液を貯蔵し、上面に第２開口部２１０ａが形成される。
【0064】
基板１０が第１側Ｒから第２側Ｌに移動する際、第２バス２１０の側壁のうち、第１側Ｒに位置する第３側壁２１０Ｒの第３高さＨ１１は、第２側Ｌに位置する第４側壁２１０Ｌの第４高さＨ１２より低い。
【0065】
第２超音波発振器１２１は第２バス２１０内に設置され、第２開口部２１０ａにより露出した洗浄液の表面に向かって第１周波数より大きい第２周波数の超音波を提供する。第２周波数の超音波によって洗浄液の表面から突出した第２水幕２３１を形成する。
【0066】
ロール形態に巻かれた基板１０が巻出されながら第１バス１１０の上側と第２バス２１０の上側を順に通過するが、基板１０が第１バス１１０および第２バス２１０に浸漬されない。基板１０の一面が第１開口部１１０ａおよび第２開口部２１０ａに隣接して通過しながら、基板１０の一面が突出した第１水幕１３１および第２水幕２３１により洗浄される。
【0067】
第１周波数の超音波は、例えばウルトラソニックであり得る。第２周波数の超音波は例えばメガソニックであり得る。したがって、第１周波数の超音波によって相対的に大きい異物（例えば、数μｍ）を除去し、第２周波数の超音波によって相対的に小さい異物（例えば、１μｍ以下）を除去する。多様な発振周波数を使用する第１洗浄部１０１と第２洗浄部２０１を連続的に配置することにより、多様な大きさの異物を除去することができるため、洗浄効率を高めることができる。
【0068】
基板の洗浄が進められる間、第１バス１１０の供給口を介して洗浄液が持続的に供給され、第１側壁１１０Ｒにあふれるようになる。第２バス２１０の供給口を介して洗浄液が持続的に供給され、第３側壁２１０Ｒにあふれることになる。
【0069】
前述したような第１バス１１０および第２バス２１０の構造および洗浄液の供給方法のため、洗浄された基板１０の一面が再汚染されることが防止できる。
【0070】
【0071】
図１１を参照すると、本発明の第９実施形態による基板処理装置で、第１バス１１０上に配置された気体供給器１９０をさらに含む。第１バス１１０と気体供給器１９０の間に基板１０が配置され、基板１０の他面（すなわち、突出した水幕１３により洗浄される一面の反対側の面）が気体供給器１９０に向く。
【0072】
気体供給器１９０は、基板１０の他面に気体を供給して、基板１０の他面の汚染を防止することができる。気体供給器１９０は、正の圧力を有する気体を供給することができる。
【0073】
気体供給器１９０の形状は多様であり得る。図示するように、気体供給器１９０はエアーナイフ（ａｉｒ ｋｎｉｆｅ）形態であり得る。
【0074】
【0075】
図１２を参照すると、気体供給器１９１は円筒型で配置されたボディ１９２と、ボディ１９２の側面に多数の気体排出口１９３を含み、各気体排出口１９３はボディ１９２の長さ方向に延長される。
【0076】
各気体排出口１９３は、互いに異なる方向に正の圧力を有する気体を供給することができる（図面符号ａ１、ａ２、ａ３を参照）。したがって、基板の多様な領域に気体を供給することができ、基板の他面に汚染が発生することが防止できる。また、基板はフレキシブル基板（すなわち、ロール形態に巻かれたフィルム）の場合、基板が曲がっている領域上に気体供給器１９１が形成されることもできる。このような場合にも、気体供給器１９１は多様な方向に気体を供給することができるため、汚染防止の効率を上げることができる。
【0077】
図１３は、本発明のいくつかの実施形態による基板処理方法を説明するためのフローチャートである。
【0078】
図２および図１３を参照すると、まず基板処理装置が提供される（Ｓ３１０）。基板処理装置は洗浄液を貯蔵し、上面に開口部１１０ａが形成された第１バス１１０と、バス１１０内に設置された第１超音波発振器１２０を含む。
【0079】
次に、第１超音波発振器１２０は、開口部１１０ａにより露出した洗浄液の表面に向かって超音波を提供して、洗浄液の表面１３０から突出した水幕１３１を形成する。
【0080】
次に、ロール形態に巻かれた基板１０が巻出されながら基板１０の一面が第１バス１１０の開口部１１０ａに隣接して通過するが、基板１０は第１バス１１０に浸漬されず、基板１０の一面が水幕１３１により洗浄される。
【0081】
以上と添付する図面を参照して本発明の実施形態について説明したが、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者は、本発明がその技術的思想や必須の特徴を変更せず異なる具体的な形態で実施できることを理解することができる。したがって、上記一実施形態は、全ての面で例示的なものであり、限定的なものではないと理解しなければならない。
【符号の説明】
【0082】
１０ 基板
２０ 駆動ロール
５０ ヘッド
１００ 洗浄部
１１０ 第１バス
１２０ 第１超音波発振器
１３０ 表面
１３１ 水幕
１４０ 洗浄液供給部
１５０ 洗浄液排出部
２０ 駆動ロール
５０ ヘッド
１００ 洗浄部
１１０ 第１バス
１２０ 第１超音波発振器
１３０ 表面
１３１ 水幕
１４０ 洗浄液供給部
１５０ 洗浄液排出部
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
