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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-01-09
(45)【発行日】2024-01-17
(54)【発明の名称】光学部品形成組成物、及びその硬化物
(51)【国際特許分類】
G02B 1/04 20060101AFI20240110BHJP
【ＦＩ】
G02B1/04
【請求項の数】
10
(21)【出願番号】P 2020515599
(86)(22)【出願日】2019-04-26
(86)【国際出願番号】 JP2019017906
(87)【国際公開番号】W WO2019208763
(87)【国際公開日】2019-10-31
【審査請求日】2022-03-18
(31)【優先権主張番号】P 2018086027
(32)【優先日】2018-04-27
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000004466
【氏名又は名称】三菱瓦斯化学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100079108
【弁理士】
【氏名又は名称】稲葉 良幸
(74)【代理人】
【識別番号】100109346
【弁理士】
【氏名又は名称】大貫 敏史
(74)【代理人】
【識別番号】100134120
【弁理士】
【氏名又は名称】内藤 和彦
(72)【発明者】
【氏名】佐藤 隆
(72)【発明者】
【氏名】越後 雅敏
【審査官】岩村 貴
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２０１７／１８８４５２（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特開昭５９－０２８１４９（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１７／０２４２３３６（ＵＳ，Ａ１）
【文献】米国特許出願公開第２０１７／０２４２３３７（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開昭６３－０６８１６１（ＪＰ，Ａ）
【文献】Journal of Materials Science: Materials in Electronics，ドイツ，2006年，Volume 17, issue 9，p.723-733
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０２Ｂ １／０４
ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記式（１）で表わされる化合物を含有する光学部品形成組成物。［ＬxＴｅ（ＯＲ1）y］ （１）
（上記式（１）中、Ｌは、アセチルアセトナート、２，２－ジメチル－３，５－ヘキサンジオン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、及びメタクリル酸のいずれかであり、Ｒ1は、水素原子、置換又は無置換の炭素数１～２０の直鎖状又は炭素数３～２０の分岐状若しくは環状のアルキル基、置換又は無置換の炭素数６～２０のアリール基、置換又は無置換の炭素数２～２０のアルケニル基、及び置換又は無置換の炭素数２～２０のアルキニル基のいずれかであり、ｘは、０～６の整数であり、ｙは、１～６の整数であり、ｘとｙの合計は、１～６であり、ｘが２以上である場合、複数のＬは同一でも異なっていてもよく、ｙが２以上である場合、複数のＲ1は同一でも異なっていてもよい。）
【請求項2】
上記式（１）で表わされる化合物において、ｘが１～６の整数である、請求項１に記載の光学部品形成組成物。
【請求項3】
上記式（１）で表わされる化合物において、Ｒ1が、置換又は無置換の炭素数１～６の直鎖状又は炭素数３～６の分岐状若しくは環状のアルキル基である、請求項１又は２に記載の光学部品形成組成物。
【請求項4】
溶媒をさらに含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学部品形成組成物。
【請求項5】
酸発生剤をさらに含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の光学部品形成組成物。
【請求項6】
酸架橋剤をさらに含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の光学部品形成組成物。
【請求項7】
酸拡散制御剤をさらに含む、請求項１～６のいずれか１項に記載の光学部品形成組成物。
【請求項8】
重合開始剤をさらに含む、請求項１～７のいずれか１項に記載の光学部品形成組成物。
【請求項9】
下記式（１）で表わされる化合物と、酸発生剤、酸架橋剤、酸拡散制御剤及び重合開始剤からなる群より選択される少なくとも１種と、
を含有する光学部品形成組成物。
［ＬxＴｅ（ＯＲ1）y］ （１）
（上記式（１）中、Ｌは、ＯＲ1以外の配位子であり、Ｒ1は、水素原子、置換又は無置換の炭素数１～２０の直鎖状又は炭素数３～２０の分岐状若しくは環状のアルキル基、置換又は無置換の炭素数６～２０のアリール基、置換又は無置換の炭素数２～２０のアルケニル基、及び置換又は無置換の炭素数２～２０のアルキニル基のいずれかであり、ｘは、０～６の整数であり、ｙは、１～６の整数であり、ｘとｙの合計は、１～６であり、ｘが２以上である場合、複数のＬは同一でも異なっていてもよく、ｙが２以上である場合、複数のＲ1は同一でも異なっていてもよい。）
【請求項10】
請求項１～９のいずれか１項に記載の光学部品形成組成物を硬化して得られる、光学部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光学部品形成組成物、及びその硬化物に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、光学部品形成組成物として、様々なものが提案されている。このような光学部品形成組成物としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂又はアントラセン誘導体を含む組成物が挙げられる（例えば、下記特許文献１～４参照）。一方、非特許文献１～３には、テルル含有のポリマーが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開２０１６－１２０６１号公報
【文献】特開２０１５－１７４８７７号公報
【文献】特開２０１４－７３９８６号公報
【文献】特開２０１０－１３８３９３号公報
【非特許文献】
【0004】
【文献】Ｃｈｅｍ． Ｌｅｔｔ．，４０，７６２－７６４（２０１１）
【文献】Ａｎｇｅｗ． Ｃｈｅｍ． Ｉｎｔ． Ｅｄ． ４９， １０１４０ － １０１４４ （２０１０）．
【文献】Ｏｒｇ． Ｌｅｔｔ．， １１， １４８７ － １４９０ （２００９）．
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、従来数多くの光学部材向け組成物が提案されているにもかかわらず、保存安定性、構造体形成能（膜形成能）、耐熱性、透明性及び屈折率を高い次元で両立させたものはなく、新たな材料の開発が求められている。さらに、非特許文献１～３にはテルル含有のポリマーが開示されているが、テルル含有のポリマーを光学部品形成組成物として適用することについて開示されていない。
【0006】
そこで、本発明の目的は、光学特性に優れる光学部品形成組成物及びその硬化物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
すなわち、本発明は以下のとおりである。
[１]
下記式（１）で表わされる化合物を含有する光学部品形成組成物。
［ＬｘＴｅ（ＯＲ１）ｙ］ （１）
（上記式（１）中、Ｌは、ＯＲ１以外の配位子であり、Ｒ１は、水素原子、置換又は無置換の炭素数１～２０の直鎖状又は炭素数３～２０の分岐状若しくは環状のアルキル基、置換又は無置換の炭素数６～２０のアリール基、置換又は無置換の炭素数２～２０のアルケニル基、及び置換又は無置換の炭素数２～２０のアルキニル基のいずれかであり、ｘは、０～６の整数であり、ｙは、０～６の整数であり、ｘとｙの合計は、１～６であり、ｘが２以上である場合、複数のＬは同一でも異なっていてもよく、ｙが２以上である場合、複数のＲ１は同一でも異なっていてもよい。）
[２]
上記式（１）で表わされる化合物において、ｘが１～６の整数である、[１]の光学部品形成組成物。
[３]
上記式（１）で表わされる化合物において、ｙが１～６の整数である、[１]又は[２]の光学部品形成組成物。
[４]
上記式（１）で表わされる化合物において、Ｒ１が、置換又は無置換の炭素数１～６の直鎖状又は炭素数３～６の分岐状若しくは環状のアルキル基である、[１]～[３]のいずれかの光学部品形成組成物。
[５]
上記式（１）で表わされる化合物において、Ｌが、二座以上の配位子である、[１]～[４]のいずれかの光学部品形成組成物。
[６]
上記式（１）で表わされる化合物において、Ｌがアセチルアセトナート、２，２－ジメチル－３，５－ヘキサンジオン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、及びメタクリル酸のいずれかである、[１]～[５]のいずれかの光学部品形成組成物。
[７]
溶媒をさらに含む、[１]～[６]のいずれかの光学部品形成組成物。
[８]
酸発生剤をさらに含む、[１]～[７]のいずれかの光学部品形成組成物。
[９]
酸架橋剤をさらに含む、[１]～[８]のいずれかの光学部品形成組成物。
[１０]
酸拡散制御剤をさらに含む、[１]～[９]のいずれかの光学部品形成組成物。
［１１］
重合開始剤をさらに含む、[１]～[１０]のいずれかの光学部品形成組成物。
[１２]
[１]～[１１]のいずれかの光学部品形成組成物を用いて得られる硬化物。
[１]
下記式（１）で表わされる化合物を含有する光学部品形成組成物。
［ＬｘＴｅ（ＯＲ１）ｙ］ （１）
（上記式（１）中、Ｌは、ＯＲ１以外の配位子であり、Ｒ１は、水素原子、置換又は無置換の炭素数１～２０の直鎖状又は炭素数３～２０の分岐状若しくは環状のアルキル基、置換又は無置換の炭素数６～２０のアリール基、置換又は無置換の炭素数２～２０のアルケニル基、及び置換又は無置換の炭素数２～２０のアルキニル基のいずれかであり、ｘは、０～６の整数であり、ｙは、０～６の整数であり、ｘとｙの合計は、１～６であり、ｘが２以上である場合、複数のＬは同一でも異なっていてもよく、ｙが２以上である場合、複数のＲ１は同一でも異なっていてもよい。）
[２]
上記式（１）で表わされる化合物において、ｘが１～６の整数である、[１]の光学部品形成組成物。
[３]
上記式（１）で表わされる化合物において、ｙが１～６の整数である、[１]又は[２]の光学部品形成組成物。
[４]
上記式（１）で表わされる化合物において、Ｒ１が、置換又は無置換の炭素数１～６の直鎖状又は炭素数３～６の分岐状若しくは環状のアルキル基である、[１]～[３]のいずれかの光学部品形成組成物。
[５]
上記式（１）で表わされる化合物において、Ｌが、二座以上の配位子である、[１]～[４]のいずれかの光学部品形成組成物。
[６]
上記式（１）で表わされる化合物において、Ｌがアセチルアセトナート、２，２－ジメチル－３，５－ヘキサンジオン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、及びメタクリル酸のいずれかである、[１]～[５]のいずれかの光学部品形成組成物。
[７]
溶媒をさらに含む、[１]～[６]のいずれかの光学部品形成組成物。
[８]
酸発生剤をさらに含む、[１]～[７]のいずれかの光学部品形成組成物。
[９]
酸架橋剤をさらに含む、[１]～[８]のいずれかの光学部品形成組成物。
[１０]
酸拡散制御剤をさらに含む、[１]～[９]のいずれかの光学部品形成組成物。
［１１］
重合開始剤をさらに含む、[１]～[１０]のいずれかの光学部品形成組成物。
[１２]
[１]～[１１]のいずれかの光学部品形成組成物を用いて得られる硬化物。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、光学特性に優れる光学部品形成組成物及びその硬化物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、本発明の実施の形態（以下、「本実施形態」と称する。）について説明する。なお、本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明は、本実施形態のみに限定されない。
【0010】
［光学部品形成組成物］
本実施形態の光学部品形成組成物は、下記式（１）で表される化合物（「テルル含有化合物」ともいう。）を含有する光学部品形成組成物である。本実施形態の光学部品形成組成物は、テルルを含有することにより、高屈折率及び高透明性を有し、さらには優れた保存安定性、及び構造体形成能（膜形成能）を有する。また、本実施形態の光学部品形成組成物を硬化して得られる硬化物は、低温から高温までの広範囲の熱処理によって着色が抑制されるとともに、高屈折率、及び高透明性を有する。本実施形態の光学部品形成組成物は、高い耐熱性を有する。
本実施形態の光学部品形成組成物は、下記式（１）で表される化合物（「テルル含有化合物」ともいう。）を含有する光学部品形成組成物である。本実施形態の光学部品形成組成物は、テルルを含有することにより、高屈折率及び高透明性を有し、さらには優れた保存安定性、及び構造体形成能（膜形成能）を有する。また、本実施形態の光学部品形成組成物を硬化して得られる硬化物は、低温から高温までの広範囲の熱処理によって着色が抑制されるとともに、高屈折率、及び高透明性を有する。本実施形態の光学部品形成組成物は、高い耐熱性を有する。
【0011】
＜テルル含有化合物＞
本実施形態における、テルル含有化合物は、下記式（１）で表わされる化合物である。
［ＬｘＴｅ（ＯＲ１）ｙ］ （１）
本実施形態における、テルル含有化合物は、下記式（１）で表わされる化合物である。
［ＬｘＴｅ（ＯＲ１）ｙ］ （１）
【0012】
式（１）中、Ｌは、ＯＲ１以外の配位子であり、Ｒ１は、水素原子、置換又は無置換の炭素数１～２０の直鎖状又は炭素数３～２０の分岐状若しくは環状のアルキル基、置換又は無置換の炭素数６～２０のアリール基、置換又は無置換の炭素数２～２０のアルケニル基、及び置換又は無置換の炭素数２～２０のアルキニル基のいずれかであり、ｘは、０～６の整数であり、ｙは、０～６の整数であり、ｘとｙの合計は、１～６であり、ｘが２以上である場合、複数のＬは同一でも異なっていてもよく、ｙが２以上である場合、複数のＲ１は同一でも異なっていてもよい。
【0013】
Ｒ１としては、水素原子、置換又は無置換の炭素数１～２０の直鎖状又は炭素数３～２０の分岐状若しくは環状アルキル基、置換又は無置換の炭素数６～２０のアリール基、置換又は無置換の炭素数２～２０のアルケニル基、及び置換又は無置換の炭素数２～２０のアルキニル基のいずれかが挙げられる。Ｒ１が複数ある場合、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【0014】
Ｒ１の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、イコシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シクロイコシル基、ノルボルニル基、アダマンチル基、フェニル基、ナフチル基、アントラセン基、ピレニル基、ビフェニル基、ヘプタセン基、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、エチニル基 、プロアリル基、イコシニル基、パルギル基が挙げられる。これらの基は、異性体を包含する概念であり、例えば、ブチル基は、ｎ－ブチル基に限らず、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、又はｔｅｒｔ－ブチル基であってもよい。また、これらの基は、炭素数２０を超えない範囲で置換基を有していてもよく、置換基としては、カルボキシル基、アクリル基、及びメタクリル基、並びにこれらの基を含有する基からなる群より選ばれる１種の官能基が挙げられる。
【0015】
これらの中でも、Ｒ１は、硬化性、及び溶解性の観点から、炭素数１～６の直鎖状又は炭素数３～６の分岐状若しくは環状アルキル基であることが好ましく、炭素数１～４の直鎖状又は炭素数３～４の分岐状若しくは環状アルキル基であることがより好ましい。置換基を有する場合、置換基としては、カルボキシル基、カルボキシル基を含有する基、アクリレート基及びメタクリレート基からなる群より選ばれる１種以上であることが好ましく、アクリレート基及びメタクリレート基からなる群より選ばれる１種以上であることがより好ましい。
【0016】
Ｌは、ＯＲ１以外の配位子であり、単座配位子であってもよく、二座以上の多座配位子であってもよい。Ｌが複数ある場合、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【0017】
単座配位子の具体例としては、アクリレート、メタクリレート、アミン、クロロ、シアノ、チオシアノ、イソチオシアナノ、ニトロ、ニトリト、トリフェニルホスフィン、ピリジン、シクロペンテン等が挙げられる。多座配位子の具体例としては、例えば、エチレンジアミン、アセチルアセトナート、２，２－ジメチル－３，５－ヘキサンジオン、ジエチレントリアミン、アクリル酸、メタクリル酸、エチレンジアミン四酢酸等が挙げられる。
【0018】
Ｌは、平坦化性の観点から、二座以上の多座配位子であることが好ましく、アセチルアセトナート、２，２－ジメチル－３，５－ヘキサンジオン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、及びメタクリル酸のいずれかであることがより好ましく、アセチルアセトナート、２，２－ジメチル－３，５－ヘキサンジオン、及びメタクリル酸のいずれかであることがさらに好ましい。
【0019】
ｘは、０～６の整数であり、ｙは、０～６の整数であり、ｘ＋ｙは、１～６である。ｘは、安全溶媒に対する溶解性の観点から、１～６の整数であることが好ましく、１～４の整数であることがより好ましく、1又は２であることがさらに好ましい。ｙは、硬化性及び耐熱性の観点から、１～６の整数であることが好ましく、１～４の整数であることがより好ましく、２～４の整数であることがさらに好ましい。
【0020】
テルル含有化合物は、好ましくは下記式（１－１）、下記式（１－２）、又は下記式（１－３）で表される化合物である。
［Ｔｅ（ＯＲ１）４］ （１－１）
（式（１－１）中、Ｒ１は、式（１）のものと同定義である。）
（式（１－２）中、Ｒ１は、式（１）のものと同定義であり、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、及びＲ７は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に水素原子、置換又は無置換の炭素数１～２０の直鎖状又は炭素数３～２０の分岐状若しくは環状のアルキル基、置換又は無置換の炭素数６～２０のアリール基、置換又は無置換の炭素数２～２０のアルケニル基、又は、置換又は無置換の炭素数２～２０のアルキニル基である。）
（式（１－３）中、Ｒ１は、式（１）のものと同定義であり、Ｒ９、及びＲ１１は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に水素原子、又はメチル基であり、Ｒ８、及びＲ１０は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に水素原子、置換又は無置換の炭素数１～２０の直鎖状又は炭素数３～２０の分岐状若しくは環状のアルキル基、置換又は無置換の炭素数６～２０のアリール基、置換又は無置換の炭素数２～２０のアルケニル基、又は、置換又は無置換の炭素数２～２０のアルキニル基である。）
［Ｔｅ（ＯＲ１）４］ （１－１）
（式（１－１）中、Ｒ１は、式（１）のものと同定義である。）
【化1】
【化2】
【0021】
本実施形態におけるテルル含有化合物としては、特に限定されないが、以下の化合物が挙げられる。これらの中でも、式（ＴＯＸ－１）、式（ＴＯＸ－２）、式（ＴＯＸ－３）、又は式（ＴＯＸ－４）で表される化合物が好ましい。
【0022】
Ｔｅ（ＯＥｔ）４ （ＴＯＸ－１）
【0023】
【化3】
【0024】
【化4】
【0025】
【化5】
【0026】
【化6】
【0027】
【化7】
【0028】
【化8】
【0029】
【化9】
【0030】
（テルル含有化合物の製造方法）
本実施形態に係るテルル含有化合物は、例えば、以下の方法により得られる。すなわち、金属テルル、又は二酸化テルルを塩素ガス流通下で５００℃程度に加熱させることにより、四塩化テルルを得る。次に、得られた四塩化テルルと、ナトリウムアルコキシドとを無触媒で、氷冷下で反応させることにより、式（１）において、ｘが０であり、ｙが１以上であるアルコキシテルル化合物を得ることができる。例えば、上述の式（ＴＯＸ－１）で表される化合物（テトラエトキシテルル（ＩＶ））は、四塩化テルルと、エタノールとを反応させることにより得られる。また、金属テルルを陽極に用いた電気分解によってもテルル含有化合物を得ることができる。
本実施形態に係るテルル含有化合物は、例えば、以下の方法により得られる。すなわち、金属テルル、又は二酸化テルルを塩素ガス流通下で５００℃程度に加熱させることにより、四塩化テルルを得る。次に、得られた四塩化テルルと、ナトリウムアルコキシドとを無触媒で、氷冷下で反応させることにより、式（１）において、ｘが０であり、ｙが１以上であるアルコキシテルル化合物を得ることができる。例えば、上述の式（ＴＯＸ－１）で表される化合物（テトラエトキシテルル（ＩＶ））は、四塩化テルルと、エタノールとを反応させることにより得られる。また、金属テルルを陽極に用いた電気分解によってもテルル含有化合物を得ることができる。
【0031】
本実施形態において、ＯＲ１以外の配位子であるＬは、各種の方法で得ることができる。例えば、テトラヒドロフラン等の有機溶媒に溶解させたアルコキシテルル化合物又は金属テルルと、テトラヒドロフラン等の有機溶媒に溶解させた配位子であるＬとを混合撹拌し、有機溶媒を除去することにより、Ｌが配位したテルル含有化合物を得ることができる。具体例を以下に示す。すなわち、アルコキシテルル化合物として、テトラエトキシテルル（ＩＶ）（上述の式（ＴＯＸ－１）で表される化合物）を用いる場合、攪拌機、冷却管及びビュレットを備えた内容積１００ｍＬの容器に、２０ｍＬのテトラヒドロフランに溶解させた式（ＴＯＸ－１）で表されるテトラエトキシテルル（ＩＶ）１．０ｇを入れ、５ｍＬのテトラヒドロフランに溶解させたアセチルアセトン０．６ｇをさらに加え、１時間還流し、溶媒を減圧下で除去することにより、上述の式（ＴＯＸ－２）で表される化合物を得ることができる。
その他、例えば、亜テルル酸ナトリウム水溶液とカルボン酸を撹拌することにより、カルボキシラートが配位したテルル含有化合物を容易に生成する。
その他、例えば、亜テルル酸ナトリウム水溶液とカルボン酸を撹拌することにより、カルボキシラートが配位したテルル含有化合物を容易に生成する。
【0032】
（テルル含有化合物の精製方法）
本実施形態のテルル含有化合物は、以下の工程を含む精製方法によって精製することができる。精製方法は、テルル含有化合物を、水と任意に混和しない有機溶媒を含む溶媒に溶解させて溶液（Ａ）を得る工程と、得られた溶液（Ａ）と酸性の水溶液とを接触させて、前記テルル含有化合物中の不純物を抽出する第一抽出工程と、を含む。本実施形態の精製方法によれば、上述した特定の構造を有する化合物に不純物として含まれうる種々の金属の含有量を効果的に低減することができる。
本実施形態のテルル含有化合物は、以下の工程を含む精製方法によって精製することができる。精製方法は、テルル含有化合物を、水と任意に混和しない有機溶媒を含む溶媒に溶解させて溶液（Ａ）を得る工程と、得られた溶液（Ａ）と酸性の水溶液とを接触させて、前記テルル含有化合物中の不純物を抽出する第一抽出工程と、を含む。本実施形態の精製方法によれば、上述した特定の構造を有する化合物に不純物として含まれうる種々の金属の含有量を効果的に低減することができる。
【0033】
テルル含有化合物を含む溶液（Ａ）に含まれる金属分を水相に移行させたのち、有機相と水相とを分離して金属含有量の低減された、テルル含有化合物を得ることができる。
【0034】
本実施形態の精製方法で使用するテルル含有化合物は単独でもよいが、２種以上混合することもできる。また、テルル含有化合物は、各種界面活性剤、各種架橋剤、各種酸発生剤、各種安定剤と共に本実施形態の製造方法に適用されてもよい。
【0035】
本実施形態の精製方法で使用される「水と任意に混和しない有機溶媒」とは、水に対し任意の割合で均一に混ざり合わない有機溶媒を意味する。このような有機溶媒としては、特に限定されないが、半導体製造プロセスに安全に適用できる有機溶媒が好ましく、具体的には、室温下における水への溶解度が３０％未満である有機溶媒であり、より好ましくは２０％未満であり、特に好ましくは１０％未満である有機溶媒が好ましい。当該有機溶媒の使用量は、使用するテルル含有化合物１００質量部に対して、１～１００質量部であることが好ましい。
【0036】
水と任意に混和しない有機溶媒の具体例としては、以下に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類；酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソアミル等のエステル類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン（ＣＨＮ）、シクロペンタノン、２－ヘプタノン、２－ペンタノン等のケトン類；エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルアセテート類；ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタン等の脂肪族炭化水素類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。これらの中でも、トルエン、２－ヘプタノン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸エチル等からなる群より選ばれる１種以上の有機溶媒が好ましく、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートがより好ましく、メチルイソブチルケトン、酢酸エチルがよりさらに好ましい。メチルイソブチルケトン、酢酸エチル等はテルル含有化合物の飽和溶解度が比較的高く、沸点が比較的低いことから、工業的に溶媒を留去する場合や乾燥により除去する工程での負荷を低減することが可能となる。これらの有機溶媒はそれぞれ単独で用いることもできるし、また２種以上を混合して用いることもできる。
【0037】
本実施形態の精製方法で使用される酸性の水溶液としては、一般に知られる有機系化合物若しくは無機系化合物を水に溶解させた水溶液の中から適宜選択される。酸性の水溶液は、以下に限定されないが、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の鉱酸を水に溶解させた鉱酸水溶液、又は、酢酸、プロピオン酸、蓚酸、マロン酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、クエン酸、メタンスルホン酸、フェノールスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸を水に溶解させた有機酸水溶液が挙げられる。これら酸性の水溶液は、それぞれ単独で用いることもできるし、また２種以上を組み合わせて用いることもできる。これら酸性の水溶液の中でも、塩酸、硫酸、硝酸及びリン酸からなる群より選ばれる１種以上の鉱酸水溶液、又は、酢酸、プロピオン酸、蓚酸、マロン酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、クエン酸、メタンスルホン酸、フェノールスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸及びトリフルオロ酢酸からなる群より選ばれる１種以上の有機酸水溶液であることが好ましく、硫酸、硝酸、及び酢酸、蓚酸、酒石酸、クエン酸等のカルボン酸の水溶液がより好ましく、硫酸、蓚酸、酒石酸、クエン酸の水溶液がさらに好ましく、蓚酸の水溶液がよりさらに好ましい。蓚酸、酒石酸、クエン酸等の多価カルボン酸は金属イオンに配位し、キレート効果が生じるために、より効果的に金属を除去できる傾向にあるものと考えられる。また、ここで用いる水は、本実施形態の精製方法の目的に沿って、金属含有量の少ない水、例えばイオン交換水等を用いることが好ましい。
【0038】
本実施形態の精製方法で使用する酸性の水溶液のｐＨは特に限定されないが、テルル含有化合物への影響を考慮し、水溶液の酸性度を調整することが好ましい。通常、酸性の水溶液のｐＨ範囲は０～５程度であり、好ましくは０～３である。
【0039】
本実施形態の精製方法で使用する酸性の水溶液の使用量は特に限定されないが、金属除去のための抽出回数を低減する観点及び全体の液量を考慮して操作性を確保する観点から、当該使用量を調整することが好ましい。前記観点から、酸性の水溶液の使用量は、前記溶液（Ａ）１００質量％に対して、好ましくは１０～２００質量％であり、より好ましくは２０～１００質量％である。
【0040】
本実施形態の精製方法においては、前記のような酸性の水溶液と、上述のテルル含有化合物から選ばれる１種以上及び水と任意に混和しない有機溶媒を含む溶液（Ａ）とを接触させることにより、溶液（Ａ）中の前記化合物から金属分を抽出することができる。
【0041】
水と任意に混和する有機溶媒を含むと、テルル含有化合物の仕込み量を増加させることができ、また分液性が向上し、高い釜効率で精製を行うことができる傾向にある。水と任意に混和する有機溶媒を加える方法は特に限定されない。例えば、予め有機溶媒を含む溶液に加える方法、予め水又は酸性の水溶液に加える方法、有機溶媒を含む溶液と水又は酸性の水溶液とを接触させた後に加える方法のいずれでもよい。これらの中でも、予め有機溶媒を含む溶液に加える方法が操作の作業性や仕込み量の管理のし易さの点で好ましい。
【0042】
本実施形態の精製方法で使用される水と任意に混和する有機溶媒としては、特に限定されないが、半導体製造プロセスに安全に適用できる有機溶媒が好ましい。水と任意に混和する有機溶媒の使用量は、溶液相と水相とが分離する範囲であれば特に限定されないが、テルル含有化合物１００質量部に対して、０．１～１００質量部であることが好ましく、０．１～５０質量部であることがより好ましく、０．１～２０質量部であることがさらに好ましい。
【0043】
本実施形態の精製方法において使用される水と任意に混和する有機溶媒の具体例としては、以下に限定されないが、テトラヒドロフラン、１，３－ジオキソラン等のエーテル類；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類；アセトン、Ｎ－メチルピロリドン等のケトン類；エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類等の脂肪族炭化水素類が挙げられる。これらの中でも、Ｎ－メチルピロリドン、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が好ましく、Ｎ－メチルピロリドン、プロピレングリコールモノメチルエーテルがより好ましい。これらの溶媒はそれぞれ単独で用いることもできるし、また２種以上を混合して用いることもできる。
【0044】
本実施形態の精製方法において、溶液（Ａ）と酸性の水溶液との接触の際、すなわち、抽出処理を行う際の温度は、好ましくは２０～９０℃であり、より好ましくは３０～８０℃の範囲である。抽出操作は、特に限定されないが、例えば、溶液（Ａ）と酸性の水溶液とを、撹拌等により、よく混合させた後、得られた混合溶液を静置することにより行われる。これにより、テルル含有化合物から選ばれる１種以上と、有機溶媒とを含む溶液（Ａ）に含まれていた金属分が水相に移行する。また、本操作により、溶液（Ａ）の酸性度が低下し、テルル含有化合物の変質を抑制することができる。
【0045】
前記混合溶液の静置により、テルル含有化合物から選ばれる１種以上と有機溶媒を含む溶液相と、水相とに分離するので、デカンテーション等によりテルル含有化合物から選ばれる１種以上と有機溶媒とを含む溶液相を回収することができる。混合溶液を静置する時間は特に限定されないが、有機溶媒を含む溶液相と水相との分離をより良好にする観点から、当該静置する時間を調整することが好ましい。通常、静置する時間は１分間以上であり、好ましくは１０分間以上であり、より好ましくは３０分間以上である。また、抽出処理は１回だけでもかまわないが、混合、静置、分離という操作を複数回繰り返して行うのも有効である。
【0046】
本実施形態の精製方法において、前記第一抽出工程後、前記化合物を含む溶液相を、さらに水に接触させて、前記化合物中の不純物を抽出する工程（第二抽出工程）を含むことが好ましい。具体的には、例えば、酸性の水溶液を用いて前記抽出処理を行った後に、該水溶液から抽出され、回収されたテルル含有化合物から選ばれる１種以上と有機溶媒を含む溶液相を、さらに水による抽出処理に供することが好ましい。前記の水による抽出処理は、特に限定されないが、例えば、前記溶液相と水とを、撹拌等により、よく混合させたあと、得られた混合溶液を、静置することにより行うことができる。当該静置後の混合溶液は、テルル含有化合物から選ばれる１種以上と有機溶媒とを含む溶液相と、水相とに分離するのでデカンテーション等によりテルル含有化合物から選ばれる１種以上と有機溶媒とを含む溶液相を回収することができる。また、ここで用いられる水は、本実施形態の目的に沿って、金属含有量の少ない水、例えばイオン交換水等であることが好ましい。抽出処理は１回だけでもかまわないが、混合、静置、分離という操作を複数回繰り返して行うのも有効である。また、抽出処理における両者の使用割合や、温度、時間等の条件は特に限定されないが、先の酸性の水溶液との接触処理の場合と同様で構わない。
【0047】
こうして得られたテルル含有化合物から選ばれる１種以上と有機溶媒を含む溶液に混入しうる水分については、減圧蒸留等の操作を施すことにより容易に除去できる。また、必要により前記溶液に有機溶媒を加え、テルル含有化合物の濃度を任意の濃度に調整することができる。
【0048】
得られたテルル含有化合物から選ばれる１種以上と有機溶媒を含む溶液から、前記テルル含有化合物から選ばれる１種以上を単離する方法は、特に限定されず、減圧除去、再沈殿による分離、及びそれらの組み合わせ等、公知の方法で行うことができる。必要に応じて、濃縮操作、ろ過操作、遠心分離操作、乾燥操作等の公知の処理を行うことができる。
【0049】
（光学部品形成組成物の物性等）
本実施形態の光学部品形成組成物は、スピンコート等公知の方法によってアモルファス膜を形成することができる。
本実施形態の光学部品形成組成物は、スピンコート等公知の方法によってアモルファス膜を形成することができる。
【0050】
（光学部品形成組成物の他の成分）
本実施形態の光学部品形成組成物は、テルル含有化合物を固形成分として含有する。本実施形態の光学部品形成組成物は、テルル含有化合物から選ばれる２種類以上を含有してもよい。
本実施形態の光学部品形成組成物は、テルル含有化合物を固形成分として含有する。本実施形態の光学部品形成組成物は、テルル含有化合物から選ばれる２種類以上を含有してもよい。
【0051】
テルル含有化合物の含有量は、塗布性及び品質安定性の観点から、光学部品形成用組成物の固形分１００質量％中、０．１～１００質量％であることが好ましく、１０～５０質量％であることがより好ましく、２０～４０質量％であることがさらに好ましい。
【0052】
テルル含有化合物の含有量は、塗布性及び品質安定性の観点から、光学部品形成用組成物の全質量中、０．１～３０質量％であることが好ましく、０．５～１５質量％であることがより好ましく、１．０～１０質量％であることがさらに好ましい。
【0053】
＜溶媒＞
本実施形態の光学部品形成組成物は、テルル含有化合物以外に、さらに溶媒を含有することが好ましい。本実施形態の光学部品形成組成物で使用される溶媒としては、特に限定されないが、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ－プロピル、乳酸ｎ－ブチル、乳酸ｎ－アミル等の乳酸エステル類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸ｎ－アミル、酢酸ｎ－ヘキシル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル等の脂肪族カルボン酸エステル類；３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、３－メトキシ－２－メチルプロピオン酸メチル、３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、３－メトキシ－３－メチルプロピオン酸ブチル、３－メトキシ－３－メチル酪酸ブチル、アセト酢酸メチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン、４－ヘプタノン、シクロペンタノン（ＣＰＮ）、シクロヘキサノン（ＣＨＮ）等のケトン類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；γ－ラクトン等のラクトン類等が挙げられる。これらの溶媒は、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いられる。
本実施形態の光学部品形成組成物は、テルル含有化合物以外に、さらに溶媒を含有することが好ましい。本実施形態の光学部品形成組成物で使用される溶媒としては、特に限定されないが、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ－プロピル、乳酸ｎ－ブチル、乳酸ｎ－アミル等の乳酸エステル類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸ｎ－アミル、酢酸ｎ－ヘキシル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル等の脂肪族カルボン酸エステル類；３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、３－メトキシ－２－メチルプロピオン酸メチル、３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、３－メトキシ－３－メチルプロピオン酸ブチル、３－メトキシ－３－メチル酪酸ブチル、アセト酢酸メチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン、４－ヘプタノン、シクロペンタノン（ＣＰＮ）、シクロヘキサノン（ＣＨＮ）等のケトン類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；γ－ラクトン等のラクトン類等が挙げられる。これらの溶媒は、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【0054】
本実施形態の光学部品形成組成物で使用される溶媒は、安全溶媒であることが好ましく、より好ましくは、ＰＧＭＥＡ、ＰＧＭＥ、ＣＨＮ、ＣＰＮ、２－ヘプタノン、アニソール、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル及び乳酸エチルから選ばれる少なくとも一種であり、さらに好ましくはＰＧＭＥＡ、ＰＧＭＥ及びＣＨＮから選ばれる少なくとも一種である。
【0055】
本実施形態の光学部品形成組成物において、固形成分の量と溶媒の量との関係は、特に限定されないが、固形成分及び溶媒の合計に対して、固形成分１～８０質量％及び溶媒２０～９９質量％であることが好ましく、より好ましくは固形成分１～５０質量％及び溶媒５０～９９質量％、さらに好ましくは固形成分２～４０質量％及び溶媒６０～９８質量％であり、特に好ましくは固形成分２～１０質量％及び溶媒９０～９８質量％である。
【0056】
本実施形態の光学部品形成組成物は、他の固形成分として、酸発生剤（Ｃ）、酸架橋剤（Ｇ）、酸拡散制御剤（Ｅ）及びその他の成分（Ｆ）からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有してもよい。
【0057】
本実施形態の光学部品形成組成物において、テルル含有化合物の含有量は、特に限定されないが、固形成分の全質量（テルル含有化合物、後述する樹脂、酸発生剤（Ｃ）、酸架橋剤（Ｇ）、酸拡散制御剤（Ｅ）及びその他の成分（Ｆ）などの任意に使用される固形成分の総和、以下同様）の１０～９９質量％であることが好ましく、より好ましくは２０～９０質量％、さらに好ましくは２０～８０質量％、特に好ましくは２５～６０質量％である。
なお、テルル含有化合物を２種類以上含有する場合、前記含有量は、２種類以上のテルル含有化合物の合計量である。
なお、テルル含有化合物を２種類以上含有する場合、前記含有量は、２種類以上のテルル含有化合物の合計量である。
【0058】
＜酸発生剤（Ｃ）＞
本実施形態の光学部品形成組成物は、熱により直接的又は間接的に酸を発生する酸発生剤（Ｃ）を一種以上含有することが好ましい。この場合、本実施形態の光学部品形成組成物において、酸発生剤（Ｃ）の含有量は、固形成分の全質量の０．００１～４９質量％が好ましく、１～４０質量％がより好ましく、３～３０質量％がさらに好ましく、１０～２５質量％が特に好ましい。前記含有量の範囲内で酸発生剤（Ｃ）を使用することにより、一層高屈折率が得られる。
本実施形態の光学部品形成組成物は、熱により直接的又は間接的に酸を発生する酸発生剤（Ｃ）を一種以上含有することが好ましい。この場合、本実施形態の光学部品形成組成物において、酸発生剤（Ｃ）の含有量は、固形成分の全質量の０．００１～４９質量％が好ましく、１～４０質量％がより好ましく、３～３０質量％がさらに好ましく、１０～２５質量％が特に好ましい。前記含有量の範囲内で酸発生剤（Ｃ）を使用することにより、一層高屈折率が得られる。
【0059】
本実施形態の光学部品形成組成物では、系内に酸が発生すれば、酸の発生方法は限定されない。ｇ線、ｉ線などの紫外線の代わりにエキシマレーザーを使用すれば、より微細加工が可能であるし、また高エネルギー線として電子線、極端紫外線、Ｘ線、イオンビームを使用すればさらに微細加工が可能である。
【0060】
前記酸発生剤（Ｃ）は、特に限定されず、下記式（８－１）～（８－８）で示される化合物からなる群から選択される少なくとも一種類であることが好ましい。
【0061】
【化10】
【0062】
前記式（８－１）で示される化合物は、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムノナフルオロ－ｎ－ブタンスルホネート、ジフェニルトリルスルホニウムノナフルオロ－ｎ－ブタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムパーフルオロ－ｎ－オクタンスルホネート、ジフェニル－４－メチルフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジ－２，４，６－トリメチルフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニル－４－ｔ－ブトキシフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニル－４－ｔ－ブトキシフェニルスルホニウムノナフルオロ－ｎ－ブタンスルホネート、ジフェニル－４－ヒドロキシフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４－フルオロフェニル）－４－ヒドロキシフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニル－４－ヒドロキシフェニルスルホニウムノナフルオロ－ｎ－ブタンスルホネート、ビス（４－ヒドロキシフェニル）－フェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリ（４－メトキシフェニル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリ（４－フルオロフェニル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムｐ－トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウムベンゼンスルホネート、ジフェニル－２，４，６－トリメチルフェニル－ｐ－トルエンスルホネート、ジフェニル－２，４，６－トリメチルフェニルスルホニウム－２－トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ジフェニル－２，４，６－トリメチルフェニルスルホニウム－４－トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ジフェニル－２，４，６－トリメチルフェニルスルホニウム－２，４－ジフルオロベンゼンスルホネート、ジフェニル－２，４，６－トリメチルフェニルスルホニウムヘキサフルオロベンゼンスルホネート、ジフェニルナフチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニル－４－ヒドロキシフェニルスルホニウム－ｐ－トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウム１０－カンファースルホネート、ジフェニル－４－ヒドロキシフェニルスルホニウム１０－カンファースルホネート及びシクロ（１，３－パーフルオロプロパンジスルホン）イミデートからなる群から選択される少なくとも一種類であることが好ましい。
【0063】
【化11】
【0064】
前記式（８－２）で示される化合物は、ビス（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムノナフルオロ－ｎ－ブタンスルホネート、ビス（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロ－ｎ－オクタンスルホネート、ビス（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウム ｐ－トルエンスルホネート、ビス（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムベンゼンスルホネート、ビス（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウム－２－トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ビス（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウム－４－トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ビス（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウム－２，４－ジフルオロベンゼンスルホネート、ビス（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロベンゼンスルホネート、ビス（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウム１０－カンファースルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムノナフルオロ－ｎ－ブタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムパーフルオロ－ｎ－オクタンスルホネート、ジフェニルヨードニウム ｐ－トルエンスルホネート、ジフェニルヨードニウムベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウム１０－カンファースルホネート、ジフェニルヨードニウム－２－トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウム－４－トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウム－２，４－ジフルオロベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウムへキサフルオロベンゼンスルホネート、ジ（４－トリフルオロメチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジ（４－トリフルオロメチルフェニル）ヨードニウムノナフルオロ－ｎ－ブタンスルホネート、ジ（４－トリフルオロメチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロ－ｎ－オクタンスルホネート、ジ（４－トリフルオロメチルフェニル）ヨードニウム ｐ－トルエンスルホネート、ジ（４－トリフルオロメチルフェニル）ヨードニウムベンゼンスルホネート及びジ（４－トリフルオロメチルフェニル）ヨードニウム１０－カンファースルホネートからなる群から選択される少なくとも一種類であることが好ましい。
【0065】
【化12】
【0066】
前記式（８－３）で示される化合物は、Ｎ－（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ－（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ－（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ－（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］へプト－５－エン－２，３－ジカルボキシイミド、Ｎ－（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ナフチルイミド、Ｎ－（１０－カンファースルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ－（１０－カンファースルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ－（１０－カンファースルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ－（１０－カンファースルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］へプト－５－エン－２，３－ジカルボキシイミド、Ｎ－（１０－カンファースルホニルオキシ）ナフチルイミド、Ｎ－（ｎ－オクタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］へプト－５－エン－２，３－ジカルボキシイミド、Ｎ－（ｎ－オクタンスルホニルオキシ）ナフチルイミド、Ｎ－（ｐ－トルエンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト－５－エン－２，３－ジカルボキシイミド、Ｎ－（ｐ－トルエンスルホニルオキシ）ナフチルイミド、Ｎ－（２－トリフルオロメチルベンゼンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］へプト－５－エン－２，３－ジカルボキシイミド、Ｎ－（２－トリフルオロメチルベンゼンスルホニルオキシ）ナフチルイミド、Ｎ－（４－トリフルオロメチルベンゼンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］へプト－５－エン－２，３－ジカルボキシイミド、Ｎ－（４－トリフルオロメチルベンゼンスルホニルオキシ）ナフチルイミド、Ｎ－（パーフルオロベンゼンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト－５－エン－２，３－ジカルボキシイミド、Ｎ－（パーフルオロベンゼンスルホニルオキシ）ナフチルイミド、Ｎ－（１－ナフタレンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト－５－エン－２，３－ジカルボキシイミド、Ｎ－（１－ナフタレンスルホニルオキシ）ナフチルイミド、Ｎ－（ノナフルオロ－ｎ－ブタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト－５－エン－２，３－ジカルボキシイミド、Ｎ－（ノナフルオロ－ｎ－ブタンスルホニルオキシ）ナフチルイミド、Ｎ－（パーフルオロ－ｎ－オクタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］へプト－５－エン－２，３－ジカルボキシイミド及びＮ－（パーフルオロ－ｎ－オクタンスルホニルオキシ）ナフチルイミドからなる群から選択される少なくとも一種類であることが好ましい。
【0067】
【化13】
【0068】
前記式（８－４）で示される化合物は、ジフェニルジスルフォン、ジ（４－メチルフェニル）ジスルフォン、ジナフチルジスルフォン、ジ（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ジスルフォン、ジ（４－ヒドロキシフェニル）ジスルフォン、ジ（３－ヒドロキシナフチル）ジスルフォン、ジ（４－フルオロフェニル）ジスルフォン、ジ（２－フルオロフェニル）ジスルフォン及びジ（４－トルフルオロメチルフェニル）ジスルフォンからなる群から選択される少なくとも一種類であることが好ましい。
【0069】
【化14】
【0070】
前記式（８－５）で示される化合物は、α－（メチルスルホニルオキシイミノ）－フェニルアセトニトリル、α－（メチルスルホニルオキシイミノ）－４－メトキシフェニルアセトニトリル、α－（トリフルオロメチルスルホニルオキシイミノ）－フェニルアセトニトリル、α－（トリフルオロメチルスルホニルオキシイミノ）－４－メトキシフェニルアセトニトリル、α－（エチルスルホニルオキシイミノ）－４－メトキシフェニルアセトニトリル、α－（プロピルスルホニルオキシイミノ）－４－メチルフェニルアセトニトリル及びα－（メチルスルホニルオキシイミノ）－４－ブロモフェニルアセトニトリルからなる群から選択される少なくとも一種類であることが好ましい。
【0071】
【化15】
【0072】
式（８－６）中、Ｒ18は、各々同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に、１以上の塩素原子及び１以上の臭素原子を有するハロゲン化アルキル基である。ハロゲン化アルキル基の炭素数は１～５が好ましい。
【0073】
【化16】
【0074】
【化17】
【0075】
式（８－７）及び（８－８）中、Ｒ19及びＲ20はそれぞれ独立に、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基等の炭素数１～３のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等の炭素数１～３のアルコキシル基；又はフェニル基、トルイル基、ナフチル基等アリール基；好ましくは、炭素数６～１０のアリール基である。Ｌ19及びＬ20はそれぞれ独立に１，２－ナフトキノンジアジド基を有する有機基である。１，２－ナフトキノンジアジド基を有する有機基としては、具体的には、１，２－ナフトキノンジアジド－４－スルホニル基、１，２－ナフトキノンジアジド－５－スルホニル基、１，２－ナフトキノンジアジド－６－スルホニル基等の１，２－キノンジアジドスルホニル基を好ましいものとして挙げることができる。特に、１，２－ナフトキノンジアジド－４－スルホニル基及び１，２－ナフトキノンジアジド－５－スルホニル基が好ましい。ｓ1はそれぞれ独立して、１～３の整数、ｓ2はそれぞれ独立して、０～４の整数、かつ１≦ｓ1＋ｓ2≦５である。Ｊ19は単結合、炭素数１～４のポリメチレン基、シクロアルキレン基、フェニレン基、下記式（８－７－１）で表わされる基、カルボニル基、エステル基、アミド基又はエーテル基であり、Ｙ19は水素原子、アルキル基又はアリール基であり、Ｘ20は、それぞれ独立に下記式（８－８－１）で示される基である。
【0076】
【化18】
【0077】
【化19】
【0078】
その他の酸発生剤として、ビス（ｐ－トルエンスルホニル）ジアゾメタン、ビス（２，４－ジメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｔｅｒｔ－ブチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｎ－ブチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（イソブチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（イソプロピルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｎ－プロピルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（イソプロピルスルホニル）ジアゾメタン、１、３－ビス（シクロヘキシルスルホニルアゾメチルスルホニル）プロパン、１、４－ビス（フェニルスルホニルアゾメチルスルホニル）ブタン、１、６－ビス（フェニルスルホニルアゾメチルスルホニル）ヘキサン、１、１０－ビス（シクロヘキシルスルホニルアゾメチルスルホニル）デカン等のビススルホニルジアゾメタン類；２－（４－メトキシフェニル）－４，６－（ビストリクロロメチル）－１，３，５－トリアジン、２－（４－メトキシナフチル）－４，６－（ビストリクロロメチル）－１，３，５－トリアジン、トリス（２，３－ジブロモプロピル）－１，３，５－トリアジン、トリス（２，３－ジブロモプロピル）イソシアヌレート等のハロゲン含有トリアジン誘導体等が挙げられる。
【0079】
前記酸発生剤のうち、本実施形態の光学部品形成組成物に用いられる酸発生剤（Ｃ）としては、芳香環を有する酸発生剤が好ましく、式（８－１）又は（８－２）で示される酸発生剤がより好ましい。式（８－１）又は（８－２）のＸ-が、アリール基若しくはハロゲン置換アリール基を有するスルホン酸イオンを有する酸発生剤がさらに好ましく、アリール基を有するスルホン酸イオンを有する酸発生剤が特に好ましく、ジフェニルトリメチルフェニルスルホニウム ｐ－トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウム ｐ－トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウム ノナフルオロメタンスルホナートが特に好ましい。該酸発生剤を用いることで、ラインエッジラフネスを低減することができる。前記酸発生剤（Ｃ）は、単独で又は２種以上を使用することができる。
【0080】
＜酸架橋剤（Ｇ）＞
本実施形態の光学部品形成組成物は、構造体の強度を増す為の添加剤として使用する場合に、酸架橋剤（Ｇ）を一種以上含むことが好ましい。酸架橋剤（Ｇ）とは、酸発生剤（Ｃ）から発生した酸の存在下で、前記式（Ａ－１）で表される化合物を分子内又は分子間架橋し得る化合物である。このような酸架橋剤（Ｇ）は、特に限定されないが、例えばテルル含有化合物を架橋し得る１種以上の基（以下、「架橋性基」という。）を有する化合物を挙げることができる。
本実施形態の光学部品形成組成物は、構造体の強度を増す為の添加剤として使用する場合に、酸架橋剤（Ｇ）を一種以上含むことが好ましい。酸架橋剤（Ｇ）とは、酸発生剤（Ｃ）から発生した酸の存在下で、前記式（Ａ－１）で表される化合物を分子内又は分子間架橋し得る化合物である。このような酸架橋剤（Ｇ）は、特に限定されないが、例えばテルル含有化合物を架橋し得る１種以上の基（以下、「架橋性基」という。）を有する化合物を挙げることができる。
【0081】
このような架橋性基の具体例としては、特に限定されないが、例えば（ｉ）ヒドロキシ（炭素数１～６のアルキル基）、炭素数１～６のアルコキシ（炭素数１～６のアルキル基）、アセトキシ（炭素数１～６のアルキル基）等のヒドロキシアルキル基又はそれらから誘導される基；（ｉｉ）ホルミル基、カルボキシ（炭素数１～６のアルキル基）等のカルボニル基又はそれらから誘導される基；（ｉｉｉ）ジメチルアミノメチル基、ジエチルアミノメチル基、ジメチロールアミノメチル基、ジエチロールアミノメチル基、モルホリノメチル基等の含窒素基含有基；（ｉｖ）グリシジルエーテル基、グリシジルエステル基、グリシジルアミノ基等のグリシジル基含有基；（ｖ）ベンジルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基等の、炭素数１～６のアリルオキシ（炭素数１～６のアルキル基）、炭素数１～６のアラルキルオキシ（炭素数１～６のアルキル基）等の芳香族基から誘導される基；（ｖｉ）ビニル基、イソプロペニル基等の重合性多重結合含有基等を挙げることができる。酸架橋剤（Ｇ）の架橋性基としては、ヒドロキシアルキル基、及びアルコキシアルキル基等が好ましく、特にアルコキシメチル基が好ましい。
【0082】
前記架橋性基を有する酸架橋剤（Ｇ）としては、公知のものが使用でき、特に限定されないが、例えば、国際公開第２０１３／０２４７７８号の段落００９６～０１２３に記載されている化合物が挙げられる。これらの架橋性基含有化合物は、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【0083】
前記酸架橋剤（Ｇ３）としては、遊離のα－ヒドロキシイソプロピル基を２以上有する化合物が好ましく、α－ヒドロキシイソプロピル基を２以上有する前記ベンゼン系化合物（１）、α－ヒドロキシイソプロピル基を２以上有する前記ジフェニル系化合物（２）、α－ヒドロキシイソプロピル基を２個以上有する前記ナフタレン系化合物（３）がさらに好ましく、α－ヒドロキシイソプロピル基を２個以上有するα－ヒドロキシイソプロピルビフェニル類、α－ヒドロキシイソプロピル基を２個以上有するナフタレン系化合物（３）が特に好ましい。
【0084】
前記酸架橋剤（Ｇ３）は、通常、１，３－ジアセチルベンゼン等のアセチル基含有化合物に、ＣＨ3ＭｇＢｒ等のグリニヤール試薬を反応させてメチル化した後、加水分解する方法や、１，３－ジイソプロピルベンゼン等のイソプロピル基含有化合物を酸素等で酸化して過酸化物を生成させた後、還元する方法により得ることができる。
【0085】
本実施形態の光学部品形成組成物において、酸架橋剤（Ｇ）の含有量は、固形成分の全質量の０．５～４９質量％が好ましく、０．５～４０質量％がより好ましく、１～３０質量％がさらに好ましく、２～２０質量％が特に好ましい。前記酸架橋剤（Ｇ）の含有割合を０．５質量％以上とすると、光学部品形成組成物の有機溶媒に対する溶解性の抑制効果を向上させることができるので好ましく、一方、４９質量％以下とすると、光学部品形成組成物としての耐熱性の低下を抑制できることから好ましい。
【0086】
また、前記酸架橋剤（Ｇ）中の前記酸架橋剤（Ｇ１）、酸架橋剤（Ｇ２）、及び酸架橋剤（Ｇ３）から選ばれる少なくとも１種の化合物の含有量も特に限定はなく、光学部品形成組成物を形成する際に使用される基板の種類等によって種々の範囲とすることができる。
【0087】
全酸架橋剤成分において、前記アルコキシメチル化メラミン化合物及び／又は式（１２－１）～式（１２－３）で表される化合物の含有量は、特に限定されず、好ましくは５０～９９質量％、より好ましくは６０～９９質量％、さらに好ましくは７０～９８質量％、特に好ましくは８０～９７質量％である。アルコキシメチル化メラミン化合物及び／又は式（１２－１）～式（１２－３）で表される化合物を全酸架橋剤成分の５０質量％以上とすることにより、解像度を一層向上させることができるので好ましく、９９質量％以下とすることにより、構造体の形状を良好とし易いので好ましい。
【0088】
＜酸拡散制御剤（Ｅ）＞
本実施形態の光学部品形成組成物は、酸発生剤から生じた酸の光学部品形成組成物中における拡散を制御して、好ましくない化学反応を阻止する作用等を有する酸拡散制御剤（Ｅ）を含有してもよい。この様な酸拡散制御剤（Ｅ）を使用することにより、光学部品形成組成物の貯蔵安定性が向上する。また解像度が一層向上するとともに、加熱後の引き置き時間の変動による構造体の線幅変化を抑えることができ、プロセス安定性に極めて優れたものとなる。このような酸拡散制御剤（Ｅ）は、特に限定されず、例えば、窒素原子含有塩基性化合物、塩基性スルホニウム化合物、塩基性ヨードニウム化合物等の放射線分解性塩基性化合物が挙げられる。酸拡散制御剤（Ｅ）は、単独で又は２種以上を使用することができる。
本実施形態の光学部品形成組成物は、酸発生剤から生じた酸の光学部品形成組成物中における拡散を制御して、好ましくない化学反応を阻止する作用等を有する酸拡散制御剤（Ｅ）を含有してもよい。この様な酸拡散制御剤（Ｅ）を使用することにより、光学部品形成組成物の貯蔵安定性が向上する。また解像度が一層向上するとともに、加熱後の引き置き時間の変動による構造体の線幅変化を抑えることができ、プロセス安定性に極めて優れたものとなる。このような酸拡散制御剤（Ｅ）は、特に限定されず、例えば、窒素原子含有塩基性化合物、塩基性スルホニウム化合物、塩基性ヨードニウム化合物等の放射線分解性塩基性化合物が挙げられる。酸拡散制御剤（Ｅ）は、単独で又は２種以上を使用することができる。
【0089】
前記酸拡散制御剤としては、特に限定されず、例えば、含窒素有機化合物や、露光により分解する塩基性化合物等が挙げられる。前記含窒素有機化合物としては、特に限定されず、例えば、下記式（１４）で示される化合物が挙げられる。
【0090】
【化20】
【0091】
前記式（１４）で示される化合物（以下、「含窒素化合物（Ｉ）」という。）、同一分子内に窒素原子を２個有するジアミノ化合物（以下、「含窒素化合物（ＩＩ）」という。）、窒素原子を３個以上有するポリアミノ化合物や重合体（以下、「含窒素化合物（ＩＩＩ）」という。）、アミド基含有化合物、ウレア化合物、及び含窒素複素環式化合物等を挙げることができる。なお、酸拡散制御剤（Ｅ）は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【0092】
前記式（１４）中、Ｒ61、Ｒ62及びＲ63は相互に独立に水素原子、直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。また、前記アルキル基、アリール基又はアラルキル基は、非置換でもよく、ヒドロキシル基等で置換されていてもよい。ここで、前記直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基は、特に限定されず、例えば、炭素数１～１５、好ましくは１～１０のものが挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ－ヘキシル基、テキシル基、ｎ－へプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－エチルヘキシル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基等が挙げられる。また、前記アリール基としては、炭素数６～１２のものが挙げられ、具体的には、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、１－ナフチル基等が挙げられる。更に、前記アラルキル基は、特に限定されず、炭素数７～１９、好ましくは７～１３のものが挙げられ、具体的には、ベンジル基、α－メチルベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基等が挙げられる。
【0093】
前記含窒素化合物（Ｉ）は、特に限定されず、具体的には、例えば、国際公開ＷＯ２０１７／１８８４５２号に記載のもの等を挙げることができる。
【0094】
前記含窒素化合物（ＩＩ）は、特に限定されず、具体的には、例えば、国際公開ＷＯ２０１７／１８８４５２号に記載のもの等を挙げることができる。
【0095】
前記含窒素化合物（ＩＩＩ）は、特に限定されず、具体的には、例えば、国際公開ＷＯ２０１７／１８８４５２号に記載のもの等を挙げることができる。
【0096】
前記アミド基含有化合物は、特に限定されず、具体的には、例えば、国際公開ＷＯ２０１７／１８８４５２号に記載のもの等を挙げることができる。
【0097】
前記ウレア化合物は、特に限定されず、具体的には、例えば、国際公開ＷＯ２０１７／１８８４５２号に記載のもの等を挙げることができる。
【0098】
前記含窒素複素環式化合物は、特に限定されず、具体的には、例えば、国際公開ＷＯ２０１７／１８８４５２号に記載のもの等を挙げることができる。
【0099】
また、前記放射線分解性塩基性化合物は、特に限定されず、例えば、下記式（１５－１）で示されるスルホニウム化合物、又は下記式（１５－２）で示されるヨードニウム化合物が挙げられる。
【0100】
【化21】
【0101】
【化22】
【0102】
前記式（１５－１）及び（１５－２）中、Ｒ71、Ｒ72、Ｒ73、Ｒ74及びＲ75は相互に独立に水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシル基、ヒドロキシル基又はハロゲン原子を示す。Ｚ-はＨＯ-、Ｒ－ＣＯＯ-（ここで、Ｒは炭素数１～６のアルキル基、炭素数６～１１のアリール基若しくは炭素数７～１２のアルカリール基を示す。）又は下記式（１５－３）で示されるアニオンを示す。
【0103】
【化23】
【0104】
前記放射線分解性塩基性化合物として具体的には、特に限定されず、例えば、国際公開ＷＯ２０１７／１８８４５２号に記載のもの等が挙げられる。
【0105】
酸拡散制御剤（Ｅ）の含有量は、固形成分の全質量の０．００１～４９質量％が好ましく、０．０１～１０質量％がより好ましく、０．０１～５質量％がさらに好ましく、０．０１～３質量％が特に好ましい。酸拡散制御剤（Ｅ）の含有量が前記範囲内であると、解像度の低下、光部品形状、寸法精度等の劣化を一層抑制できる。また、酸拡散制御剤（Ｅ）の含有量が１０質量％以下であると、感度、硬化性等の低下を防ぐことができる。またこのような酸拡散制御剤を使用することにより、光学部品形成組成物の貯蔵安定性が向上し、また解像度、光部品形状、寸法精度が向上するため、プロセス安定性に極めて優れたものとなる。
【0106】
＜重合開始剤（Ｉ）＞
本実施形態の光学部品形成組成物は、硬化性の向上の観点から、重合開始剤（Ｉ）を含有することが好ましい。
本実施形態の光学部品形成組成物は、硬化性の向上の観点から、重合開始剤（Ｉ）を含有することが好ましい。
【0107】
本実施形態の光学部品形成組成物に含有できる重合開始剤は露光により前記テルル含有化合物、及び後述の樹脂から選ばれる１つ以上の成分の重合反応を開始させるものであれば限定されず、公知の重合開始剤を含有することができる。重合開始剤としては、限定されるものではないが、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、光アニオン重合開始剤を挙げることができ、反応性の観点から、光ラジカル重合開始剤が好ましい。
【0108】
光ラジカル重合開始剤としては、限定されるものではないが、アルキルフェノン系、アシルフォスシンオキサイド系、オキシフェニル酢酸エステル系を挙げることができ、反応性の観点から、アルキルフェノン系が好ましく、容易入手性の観点から、１－ヒドロキシシクロヘキシル－フェニルケトン（ＢＡＳＦ社製品名イルガキュア１８４）、２，２-ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン（ＢＡＳＦ社製品名：イルガキュア６５１）、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパノン（ＢＡＳＦ社製品名：イルガキュア１１７３）が好ましい。
【0109】
本実施形態の組成物中、重合開始剤の含有量は、テルル含有化合物、及び樹脂の全質量１００質量部に対して、０．１～２０質量部が好ましく、０．３～２０質量部がより好ましく、１～１０質量部がさらに好ましい。
【0110】
＜その他の任意成分（Ｆ）＞
本実施形態の光学部品形成組成物には、本実施形態の目的を阻害しない範囲で、必要に応じて、その他の任意成分（Ｆ）として、溶解促進剤、溶解制御剤、増感剤、界面活性剤及び有機カルボン酸又はリンのオキソ酸若しくはその誘導体等の各種添加剤を１種又は２種以上添加することができる。
本実施形態の光学部品形成組成物には、本実施形態の目的を阻害しない範囲で、必要に応じて、その他の任意成分（Ｆ）として、溶解促進剤、溶解制御剤、増感剤、界面活性剤及び有機カルボン酸又はリンのオキソ酸若しくはその誘導体等の各種添加剤を１種又は２種以上添加することができる。
【0111】
（溶解促進剤）
低分子量溶解促進剤は、テルル含有化合物の現像液に対する溶解性が低すぎる場合に、その溶解性を高めて、現像時の前記化合物の溶解速度を適度に増大させる作用を有する成分であり、本発明の効果を損なわない範囲で使用することができる。前記溶解促進剤としては、例えば、低分子量のフェノール性化合物を挙げることができ、例えば、ビスフェノール類、トリス（ヒドロキシフェニル）メタン等を挙げることができる。これらの溶解促進剤は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。溶解促進剤の含有量は、使用するテルル含有化合物の種類に応じて適宜調節されるが、固形成分の全質量の０～４９質量％が好ましく、０～５質量％がより好ましく、０～１質量％がさらに好ましく、０質量％が特に好ましい。
低分子量溶解促進剤は、テルル含有化合物の現像液に対する溶解性が低すぎる場合に、その溶解性を高めて、現像時の前記化合物の溶解速度を適度に増大させる作用を有する成分であり、本発明の効果を損なわない範囲で使用することができる。前記溶解促進剤としては、例えば、低分子量のフェノール性化合物を挙げることができ、例えば、ビスフェノール類、トリス（ヒドロキシフェニル）メタン等を挙げることができる。これらの溶解促進剤は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。溶解促進剤の含有量は、使用するテルル含有化合物の種類に応じて適宜調節されるが、固形成分の全質量の０～４９質量％が好ましく、０～５質量％がより好ましく、０～１質量％がさらに好ましく、０質量％が特に好ましい。
【0112】
（溶解制御剤）
溶解制御剤は、テルル含有化合物が現像液に対する溶解性が高すぎる場合に、その溶解性を制御して現像時の溶解速度を適度に減少させる作用を有する成分である。このような溶解制御剤としては、光学部品の焼成、加熱、現像等の工程において化学変化しないものが好ましい。
溶解制御剤は、テルル含有化合物が現像液に対する溶解性が高すぎる場合に、その溶解性を制御して現像時の溶解速度を適度に減少させる作用を有する成分である。このような溶解制御剤としては、光学部品の焼成、加熱、現像等の工程において化学変化しないものが好ましい。
【0113】
溶解制御剤は、特に限定されず、例えば、フェナントレン、アントラセン、アセナフテン等の芳香族炭化水素類；アセトフェノン、ベンゾフェノン、フェニルナフチルケトン等のケトン類；メチルフェニルスルホン、ジフェニルスルホン、ジナフチルスルホン等のスルホン類等を挙げることができる。これらの溶解制御剤は、単独で又は２種以上を使用することができる。
溶解制御剤の含有量は、特に限定されず、使用するテルル含有化合物の種類に応じて適宜調節されるが、固形成分の全質量の０～４９質量％が好ましく、０～５質量％がより好ましく、０～１質量％がさらに好ましく、０質量％が特に好ましい。
溶解制御剤の含有量は、特に限定されず、使用するテルル含有化合物の種類に応じて適宜調節されるが、固形成分の全質量の０～４９質量％が好ましく、０～５質量％がより好ましく、０～１質量％がさらに好ましく、０質量％が特に好ましい。
【0114】
（増感剤）
増感剤は、照射された放射線のエネルギーを吸収して、そのエネルギーを酸発生剤（Ｃ）に伝達し、それにより酸の生成量を増加する作用を有し、光部品形成組成物の見掛けの硬化性を向上させる成分である。このような増感剤は、特に限定されず、例えば、ベンゾフェノン類、ビアセチル類、ピレン類、フェノチアジン類、フルオレン類等を挙げることができる。これらの増感剤は、単独で又は２種以上を使用することができる。増感剤の含有量は、使用するテルル含有化合物の種類に応じて適宜調節されるが、固形成分の全質量の０～４９質量％が好ましく、０～５質量％がより好ましく、０～１質量％がさらに好ましく、０質量％が特に好ましい。
増感剤は、照射された放射線のエネルギーを吸収して、そのエネルギーを酸発生剤（Ｃ）に伝達し、それにより酸の生成量を増加する作用を有し、光部品形成組成物の見掛けの硬化性を向上させる成分である。このような増感剤は、特に限定されず、例えば、ベンゾフェノン類、ビアセチル類、ピレン類、フェノチアジン類、フルオレン類等を挙げることができる。これらの増感剤は、単独で又は２種以上を使用することができる。増感剤の含有量は、使用するテルル含有化合物の種類に応じて適宜調節されるが、固形成分の全質量の０～４９質量％が好ましく、０～５質量％がより好ましく、０～１質量％がさらに好ましく、０質量％が特に好ましい。
【0115】
（界面活性剤）
界面活性剤は、本実施形態の光学部品形成組成物の塗布性やストリエーション等を改良する作用を有する成分である。このような界面活性剤は、特に限定されず、アニオン系、カチオン系、ノニオン系或いは両性のいずれでもよい。好ましい界面活性剤はノニオン系界面活性剤である。ノニオン系界面活性剤は、光学部品形成組成物の製造に用いる溶媒との親和性がよく、より効果がある。ノニオン系界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレン高級アルキルエーテル類、ポリオキシエチレン高級アルキルフェニルエーテル類、ポリエチレングリコールの高級脂肪酸ジエステル類等が挙げられるが、特に限定はされない。市販品としては、以下商品名で、エフトップ（ジェムコ社製）、メガファック（大日本インキ化学工業社製）、フロラード（住友スリーエム社製）、アサヒガード、サーフロン（以上、旭硝子社製）、ペポール（東邦化学工業社製）、ＫＰ（信越化学工業社製）、ポリフロー（共栄社油脂化学工業社製）等を挙げることができる。界面活性剤の含有量は、特に限定されず、使用するテルル含有化合物の種類に応じて適宜調節されるが、固形成分の全質量の０～４９質量％が好ましく、０～５質量％がより好ましく、０～１質量％がさらに好ましく、０質量％が特に好ましい。
界面活性剤は、本実施形態の光学部品形成組成物の塗布性やストリエーション等を改良する作用を有する成分である。このような界面活性剤は、特に限定されず、アニオン系、カチオン系、ノニオン系或いは両性のいずれでもよい。好ましい界面活性剤はノニオン系界面活性剤である。ノニオン系界面活性剤は、光学部品形成組成物の製造に用いる溶媒との親和性がよく、より効果がある。ノニオン系界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレン高級アルキルエーテル類、ポリオキシエチレン高級アルキルフェニルエーテル類、ポリエチレングリコールの高級脂肪酸ジエステル類等が挙げられるが、特に限定はされない。市販品としては、以下商品名で、エフトップ（ジェムコ社製）、メガファック（大日本インキ化学工業社製）、フロラード（住友スリーエム社製）、アサヒガード、サーフロン（以上、旭硝子社製）、ペポール（東邦化学工業社製）、ＫＰ（信越化学工業社製）、ポリフロー（共栄社油脂化学工業社製）等を挙げることができる。界面活性剤の含有量は、特に限定されず、使用するテルル含有化合物の種類に応じて適宜調節されるが、固形成分の全質量の０～４９質量％が好ましく、０～５質量％がより好ましく、０～１質量％がさらに好ましく、０質量％が特に好ましい。
【0116】
（有機カルボン酸又はリンのオキソ酸若しくはその誘導体）
本実施形態の光学部品形成組成物は、硬化性劣化防止又は構造体、引き置き安定性等の向上の目的で、さらに任意の成分として、有機カルボン酸又はリンのオキソ酸若しくはその誘導体を含有してもよい。なお、酸拡散制御剤と併用することもできるし、単独で用いてもよい。有機カルボン酸としては、特に限定されず、例えば、マロン酸、クエン酸、リンゴ酸、コハク酸、安息香酸、サリチル酸などが好適である。リンのオキソ酸若しくはその誘導体としては、リン酸、リン酸ジ－ｎ－ブチルエステル、リン酸ジフェニルエステルなどのリン酸又はそれらのエステルなどの誘導体；ホスホン酸、ホスホン酸ジメチルエステル、ホスホン酸ジ－ｎ－ブチルエステル、フェニルホスホン酸、ホスホン酸ジフェニルエステル、ホスホン酸ジベンジルエステルなどのホスホン酸又はそれらのエステルなどの誘導体；ホスフィン酸、フェニルホスフィン酸などのホスフィン酸及びそれらのエステルなどの誘導体が挙げられ、これらの中で特にホスホン酸が好ましい。
本実施形態の光学部品形成組成物は、硬化性劣化防止又は構造体、引き置き安定性等の向上の目的で、さらに任意の成分として、有機カルボン酸又はリンのオキソ酸若しくはその誘導体を含有してもよい。なお、酸拡散制御剤と併用することもできるし、単独で用いてもよい。有機カルボン酸としては、特に限定されず、例えば、マロン酸、クエン酸、リンゴ酸、コハク酸、安息香酸、サリチル酸などが好適である。リンのオキソ酸若しくはその誘導体としては、リン酸、リン酸ジ－ｎ－ブチルエステル、リン酸ジフェニルエステルなどのリン酸又はそれらのエステルなどの誘導体；ホスホン酸、ホスホン酸ジメチルエステル、ホスホン酸ジ－ｎ－ブチルエステル、フェニルホスホン酸、ホスホン酸ジフェニルエステル、ホスホン酸ジベンジルエステルなどのホスホン酸又はそれらのエステルなどの誘導体；ホスフィン酸、フェニルホスフィン酸などのホスフィン酸及びそれらのエステルなどの誘導体が挙げられ、これらの中で特にホスホン酸が好ましい。
【0117】
有機カルボン酸又はリンのオキソ酸若しくはその誘導体は、単独で又は２種以上を使用することができる。有機カルボン酸又はリンのオキソ酸若しくはその誘導体の含有量は、使用するテルル含有化合物の種類に応じて適宜調節されるが、固形成分の全質量の０～４９質量％が好ましく、０～５質量％がより好ましく、０～１質量％がさらに好ましく、０質量％が特に好ましい。
【0118】
（その他添加剤）
さらに、本実施形態の光学部品形成組成物には、本発明の目的を阻害しない範囲で、必要に応じて、前記溶解制御剤、増感剤、及び界面活性剤以外の添加剤を１種又は２種以上含有できる。そのような添加剤としては、特に限定されず、例えば、染料、顔料、及び接着助剤等が挙げられる。例えば、染料又は顔料を含有すると、露光部の潜像を可視化させて、露光時のハレーションの影響を緩和できるので好ましい。また、接着助剤を含有すると、基板との接着性を改善することができるので好ましい。さらに、他の添加剤としては、特に限定されず、例えば、ハレーション防止剤、保存安定剤、消泡剤、形状改良剤等、具体的には４－ヒドロキシ－４’－メチルカルコン等を挙げることができる。
さらに、本実施形態の光学部品形成組成物には、本発明の目的を阻害しない範囲で、必要に応じて、前記溶解制御剤、増感剤、及び界面活性剤以外の添加剤を１種又は２種以上含有できる。そのような添加剤としては、特に限定されず、例えば、染料、顔料、及び接着助剤等が挙げられる。例えば、染料又は顔料を含有すると、露光部の潜像を可視化させて、露光時のハレーションの影響を緩和できるので好ましい。また、接着助剤を含有すると、基板との接着性を改善することができるので好ましい。さらに、他の添加剤としては、特に限定されず、例えば、ハレーション防止剤、保存安定剤、消泡剤、形状改良剤等、具体的には４－ヒドロキシ－４’－メチルカルコン等を挙げることができる。
【0119】
任意成分（Ｆ）の合計含有量は、固形成分の全質量の０～４９質量％が好ましく、０～５質量％がより好ましく、０～１質量％がさらに好ましく、０質量％が特に好ましい。
【0120】
本実施形態の光学部品形成組成物において、テルル含有化合物、後述する樹脂、酸架橋剤（Ｇ）、酸発生剤（Ｃ）、酸拡散制御剤（Ｅ）、重合開始剤（Ｉ）、任意成分（Ｆ）の含有量は、固形物基準の質量％で、好ましくは１０～９９／０．１～５０／０．１～５０／０．０１～５／０～５／０～２０、より好ましくは２０～９０／１～５０／１～５０／０．１～５／０～５／０～１０、さらに好ましくは２０～８０／５～４０／５～４０／０．５～４／０～４／０～５、特に好ましくは２０～６０／１０～３０／１０～３０／１～３／０～３／０～３である。
各成分の含有割合は、その総和が１００質量％になるように各範囲から選ばれる。前記含有割合にすると、感度、解像度、現像性等の性能に一層優れる。
各成分の含有割合は、その総和が１００質量％になるように各範囲から選ばれる。前記含有割合にすると、感度、解像度、現像性等の性能に一層優れる。
【0121】
本実施形態の光学部品形成組成物の調製方法は、特に限定されず、例えば、使用時に各成分を溶媒に溶解して均一溶液とし、その後、必要に応じて、例えば孔径０．２μｍ程度のフィルター等でろ過する方法等が挙げられる。
【0122】
＜樹脂＞
本実施形態の光学部品形成組成物において、前記テルル含有化合物以外に、リソグラフィー用材料（特にレジスト材料）等の光部品形成用材料として用いられる樹脂を含有してもよい。本明細書にいう「樹脂」は、前記テルル含有化合物、後述する溶媒、酸発生剤、酸架橋剤、酸拡散制御剤、重合開始剤、及びその他の成分を除く膜形成成分をいい、低分子量の化合物も包含する概念をいう。
本実施形態の光学部品形成組成物において、前記テルル含有化合物以外に、リソグラフィー用材料（特にレジスト材料）等の光部品形成用材料として用いられる樹脂を含有してもよい。本明細書にいう「樹脂」は、前記テルル含有化合物、後述する溶媒、酸発生剤、酸架橋剤、酸拡散制御剤、重合開始剤、及びその他の成分を除く膜形成成分をいい、低分子量の化合物も包含する概念をいう。
【0123】
樹脂としては、特に限定されず、例えば、ナフトール樹脂、キシレンホルムアルデヒド樹脂がフェノール類（例えば、フェノール、ナフトールなど）により変性した変性樹脂、ナフタレンホルムアルデヒド樹脂がフェノール類（例えば、フェノール、ナフトールなど）により変性した変性樹脂、ジシクロペンタジエン樹脂、ノボラック樹脂、ポリビニルフェノール類、ポリアクリル酸、ポリビニルアルコール、スチレン－無水マレイン酸樹脂、及びアクリル酸、ビニルアルコール、又はビニルフェノールを単量体単位として含む重合体又はこれらの誘導体などが挙げられる。これらの樹脂は、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、樹脂は、本発明の作用効果をより有効かつ確実に奏する観点から、ナフトール樹脂、キシレンホルムアルデヒド樹脂のナフトール変性樹脂、及びナフタレンホルムアルデヒド樹脂のフェノール変性樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、ナフタレンホルムアルデヒド樹脂のフェノール変性樹脂であることがより好ましい。
【0124】
樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は、３００～５，０００が好ましく、３００～３，０００が好ましく、５００～２，０００がさらに好ましい。
樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５００～２０，０００が好ましく、８００～１０，０００がより好ましく、１，０００～８，０００がさらに好ましい。
樹脂の分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．０～５．０が好ましく、１．２～４．０がより好ましく、１．５～３．０がさらに好ましい。
上述の数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）及び分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）分析により、ポリスチレン換算にて求めることができる。これらの測定方法は、より具体的には、実施例に記載の方法による。
樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５００～２０，０００が好ましく、８００～１０，０００がより好ましく、１，０００～８，０００がさらに好ましい。
樹脂の分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．０～５．０が好ましく、１．２～４．０がより好ましく、１．５～３．０がさらに好ましい。
上述の数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）及び分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）分析により、ポリスチレン換算にて求めることができる。これらの測定方法は、より具体的には、実施例に記載の方法による。
【0125】
樹脂の含有量は、特に限定されず、本実施形態のテルル含有化合物の総量１００質量部に対して、１０００質量部以下が好ましく、より好ましくは５００質量部以下、さらに好ましくは２００質量部以下、特に好ましくは１００質量部以下である。また、樹脂が含まれる場合、樹脂の含有量は、特に限定されず、本実施形態のテルル含有化合物の総量１００質量部に対して、１０質量部以上が好ましく、より好ましくは３０質量部以上、さらに好ましくは５０質量部以上、特に好ましくは８０質量部以上である。
【0126】
また本実施形態の硬化物は、光学部品形成組成物を硬化して得られ、各種樹脂として使用することができる。これらの硬化物は、高融点、高屈折率及び高透明性といった様々な特性を付与する高汎用性の材料として様々な用途に用いることができる。なお、当該硬化物は、前記の組成物を光照射、加熱等の各組成に対応した公知の方法を用いることによって得ることができる。
【0127】
これらの硬化物は、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等の各種合成樹脂として、さらには、機能性を活かしてレンズ、光学シート等の光学部品として用いることができる。
【実施例】
【0128】
以下、実施例を挙げて、本実施形態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に限定はされない。以下に、実施例における化合物の測定方法及び光学部品性能等の評価方法を示す。
【0129】
［測定法］
（１）化合物の構造
化合物の構造は、Ｂｒｕｋｅｒ．Ｉｎｃ社製「Ａｄｖａｎｃｅ６００ＩＩ ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ」を用いて、以下の条件で、１Ｈ－ＮＭＲ測定により確認した。
周波数：４００ＭＨｚ
溶媒：ｄ６－ＤＭＳＯ（後述の製造例４以外）
内部標準：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）
測定温度：２３℃
（１）化合物の構造
化合物の構造は、Ｂｒｕｋｅｒ．Ｉｎｃ社製「Ａｄｖａｎｃｅ６００ＩＩ ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ」を用いて、以下の条件で、１Ｈ－ＮＭＲ測定により確認した。
周波数：４００ＭＨｚ
溶媒：ｄ６－ＤＭＳＯ（後述の製造例４以外）
内部標準：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）
測定温度：２３℃
【0130】
（２）Ｍｎ、Ｍｗ及びＭｗ／Ｍｎ
Ｍｎ、Ｍｗ及びＭｗ／Ｍｎは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）分析により、以下の測定条件にてポリスチレン換算にて求めた。
装置：昭和電工（株）製「Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ－１０１型」
カラム：昭和電工（株）製「ＫＦ－８０Ｍ」×３
溶離液：テトラヒドロフラン（以下「ＴＨＦ」ともいう）
流速：１ｍＬ／ｍｉｎ
温度：４０℃
Ｍｎ、Ｍｗ及びＭｗ／Ｍｎは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）分析により、以下の測定条件にてポリスチレン換算にて求めた。
装置：昭和電工（株）製「Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ－１０１型」
カラム：昭和電工（株）製「ＫＦ－８０Ｍ」×３
溶離液：テトラヒドロフラン（以下「ＴＨＦ」ともいう）
流速：１ｍＬ／ｍｉｎ
温度：４０℃
【0131】
［評価方法］
（１）化合物の有機溶媒への溶解性
化合物の有機溶媒への溶解度について、化合物のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに対する溶解性を測定した。当該溶解性は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートへの溶解量を用いて以下の基準に従って評価した。なお、溶解量の測定は２３℃にて、化合物を試験管に精秤し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを所定の濃度となるよう加え、超音波洗浄機にて３０分間超音波をかけ、その後の液の状態を目視にて観察し、完全に溶解した溶解量の濃度を基準として評価した。
Ａ：５．０質量％≦溶解量
Ｂ：３．０質量％≦溶解量＜５．０質量％
Ｃ： 溶解量＜３．０質量％
（１）化合物の有機溶媒への溶解性
化合物の有機溶媒への溶解度について、化合物のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに対する溶解性を測定した。当該溶解性は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートへの溶解量を用いて以下の基準に従って評価した。なお、溶解量の測定は２３℃にて、化合物を試験管に精秤し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを所定の濃度となるよう加え、超音波洗浄機にて３０分間超音波をかけ、その後の液の状態を目視にて観察し、完全に溶解した溶解量の濃度を基準として評価した。
Ａ：５．０質量％≦溶解量
Ｂ：３．０質量％≦溶解量＜５．０質量％
Ｃ： 溶解量＜３．０質量％
【0132】
（２）光学部品形成組成物の保存安定性及び薄膜形成
化合物を含む光学部品形成組成物の保存安定性は、光学部品形成組成物を調製後、２３℃にて３日間静置し、析出の有無を目視にて観察することにより評価した。３日間静置後の光学部品形成組成物において、均一溶液であり析出がない場合には「Ａ」、析出が認められた場合は「Ｃ」と評価した。また、均一状態の光学部品形成組成物を清浄なシリコンウェハー上に回転塗布した後、１１０℃のオーブン中でプレベーク（ｐｒｅｂａｋｅ：ＰＢ）して、厚さ１μｍの光学部品形成膜を形成した。調製した光学部品形成組成物について、膜形成が良好な場合には「Ａ」、形成した膜に欠陥がある場合には「Ｃ」と評価した。
化合物を含む光学部品形成組成物の保存安定性は、光学部品形成組成物を調製後、２３℃にて３日間静置し、析出の有無を目視にて観察することにより評価した。３日間静置後の光学部品形成組成物において、均一溶液であり析出がない場合には「Ａ」、析出が認められた場合は「Ｃ」と評価した。また、均一状態の光学部品形成組成物を清浄なシリコンウェハー上に回転塗布した後、１１０℃のオーブン中でプレベーク（ｐｒｅｂａｋｅ：ＰＢ）して、厚さ１μｍの光学部品形成膜を形成した。調製した光学部品形成組成物について、膜形成が良好な場合には「Ａ」、形成した膜に欠陥がある場合には「Ｃ」と評価した。
【0133】
（３）屈折率及び透明性
均一な光学部品形成組成物を清浄なシリコンウェハー上に回転塗布した後、１１０℃のオーブン中でプレベークして、厚さ１μｍの膜を形成した。その膜につき、ジェー・エー・ウーラム製多入射角分光エリプソメーター「Ｍ－２０００ＤＩ－ＹＫ」にて、２５℃における屈折率（λ＝５８９．３ｎｍ）を測定した。調製した膜について、屈折率が１．８以上の場合には「Ａ」、１．６以上１．８未満の場合には「Ｂ」、１．６未満の場合には「Ｃ」と評価した。また透明性（λ＝６３２．８ｎｍ）が９０％以上の場合には「Ａ」、９０％未満の場合には「Ｃ」と評価した。
均一な光学部品形成組成物を清浄なシリコンウェハー上に回転塗布した後、１１０℃のオーブン中でプレベークして、厚さ１μｍの膜を形成した。その膜につき、ジェー・エー・ウーラム製多入射角分光エリプソメーター「Ｍ－２０００ＤＩ－ＹＫ」にて、２５℃における屈折率（λ＝５８９．３ｎｍ）を測定した。調製した膜について、屈折率が１．８以上の場合には「Ａ」、１．６以上１．８未満の場合には「Ｂ」、１．６未満の場合には「Ｃ」と評価した。また透明性（λ＝６３２．８ｎｍ）が９０％以上の場合には「Ａ」、９０％未満の場合には「Ｃ」と評価した。
【0134】
［製造例１］ＣＲ－１の合成
ジムロート冷却管、温度計及び攪拌翼を備えた、底抜きが可能な内容積１０Ｌの四つ口フラスコを準備した。この四つ口フラスコに、窒素気流中、１，５－ジメチルナフタレン１．０９ｋｇ（７ｍｏｌ、三菱ガス化学（株）製）、４０質量％ホルマリン水溶液２．１ｋｇ（ホルムアルデヒドとして２８ｍｏｌ、三菱ガス化学（株）製）及び９８質量％硫酸（関東化学(株)製）０．９７ｍＬを仕込み、常圧下、１００℃で還流させながら７時間反応させた。その後、希釈溶媒としてエチルベンゼン（和光純薬工業（株）製、試薬特級）１．８ｋｇを反応液に加え、静置後、下相の水相を除去した。さらに、中和及び水洗を行い、エチルベンゼン及び未反応の１，５－ジメチルナフタレンを減圧下で留去することにより、淡褐色固体のジメチルナフタレンホルムアルデヒド樹脂１．２５ｋｇを得た。得られたジメチルナフタレンホルムアルデヒド樹脂の分子量は、Ｍｎ：５６２、Ｍｗ：１１６８、Ｍｗ／Ｍｎ：２．０８であった。
ジムロート冷却管、温度計及び攪拌翼を備えた、底抜きが可能な内容積１０Ｌの四つ口フラスコを準備した。この四つ口フラスコに、窒素気流中、１，５－ジメチルナフタレン１．０９ｋｇ（７ｍｏｌ、三菱ガス化学（株）製）、４０質量％ホルマリン水溶液２．１ｋｇ（ホルムアルデヒドとして２８ｍｏｌ、三菱ガス化学（株）製）及び９８質量％硫酸（関東化学(株)製）０．９７ｍＬを仕込み、常圧下、１００℃で還流させながら７時間反応させた。その後、希釈溶媒としてエチルベンゼン（和光純薬工業（株）製、試薬特級）１．８ｋｇを反応液に加え、静置後、下相の水相を除去した。さらに、中和及び水洗を行い、エチルベンゼン及び未反応の１，５－ジメチルナフタレンを減圧下で留去することにより、淡褐色固体のジメチルナフタレンホルムアルデヒド樹脂１．２５ｋｇを得た。得られたジメチルナフタレンホルムアルデヒド樹脂の分子量は、Ｍｎ：５６２、Ｍｗ：１１６８、Ｍｗ／Ｍｎ：２．０８であった。
【0135】
続いて、ジムロート冷却管、温度計及び攪拌翼を備えた内容積０．５Ｌの四つ口フラスコを準備した。この四つ口フラスコに、窒素気流下で、上述のようにして得られたジメチルナフタレンホルムアルデヒド樹脂１００ｇ（０．５１ｍｏｌ）とパラトルエンスルホン酸０．０５ｇとを仕込み、１９０℃まで昇温させて２時間加熱した後、攪拌した。その後さらに、１－ナフトール５２．０ｇ（０．３６ｍｏｌ）を加え、さらに２２０℃まで昇温させて２時間反応させた。溶媒希釈後、中和及び水洗を行い、溶媒を減圧下で除去することにより、黒褐色固体の変性樹脂（ＣＲ－１）１２６．１ｇを得た。得られた樹脂（ＣＲ－１）は、Ｍｎ：８８５、Ｍｗ：２２２０、Ｍｗ／Ｍｎ:２．５１であった。また、得られた樹脂（ＣＲ－１）のＰＧＭＥＡへの溶解性を上述の測定方法によって評価した結果、５質量％以上（評価Ａ）であると評価された。
【0136】
［製造例２］ＴＯＸ－２の合成
攪拌機、冷却管、及びビュレットを備えた内容積１００ｍＬの容器に、２０ｍＬのテトラヒドロフランに溶解させたテトラエトキシテルル（ＩＶ）（アルファエイサー(株)製品、純度８５％）１．０ｇ（２．８ｍｍｏｌ）を入れ、５ｍＬのテトラヒドロフランに溶解させたアセチルアセトン０．６ｇ（６．０ｍｍｏｌ）をさらに加えた。１時間還流させた後、溶媒を減圧留去することにより、以下の式（ＴＯＸ－２）で表される化合物０．６ｇを得た。
攪拌機、冷却管、及びビュレットを備えた内容積１００ｍＬの容器に、２０ｍＬのテトラヒドロフランに溶解させたテトラエトキシテルル（ＩＶ）（アルファエイサー(株)製品、純度８５％）１．０ｇ（２．８ｍｍｏｌ）を入れ、５ｍＬのテトラヒドロフランに溶解させたアセチルアセトン０．６ｇ（６．０ｍｍｏｌ）をさらに加えた。１時間還流させた後、溶媒を減圧留去することにより、以下の式（ＴＯＸ－２）で表される化合物０．６ｇを得た。
【0137】
反応前後の１Ｈ－ＮＭＲのケミカルシフトから、式（ＴＯＸ－２）で表される化合物が得られていることを確認した。
【0138】
【表1】
【0139】
【化24】
【0140】
［製造例３］ＴＯＸ－３の合成
攪拌機、冷却管、及びビュレットを備えた内容積１００ｍＬの容器に、２０ｍＬのテトラヒドロフランに溶解させたテトラエトキシテルル（ＩＶ）（アルファエイサー(株)製品、純度８５％）１．０ｇ（２．８ｍｍｏｌ）を入れ、５ｍＬのテトラヒドロフランに溶解させた２，２－ジメチル－３，５－ヘキサンジオン０．８ｇ（５．６ｍｍｏｌ）をさらに加えた。１時間還流させた後、溶媒を減圧留去することにより、以下の式（ＴＯＸ－３）で表される化合物０．７ｇを得た。
攪拌機、冷却管、及びビュレットを備えた内容積１００ｍＬの容器に、２０ｍＬのテトラヒドロフランに溶解させたテトラエトキシテルル（ＩＶ）（アルファエイサー(株)製品、純度８５％）１．０ｇ（２．８ｍｍｏｌ）を入れ、５ｍＬのテトラヒドロフランに溶解させた２，２－ジメチル－３，５－ヘキサンジオン０．８ｇ（５．６ｍｍｏｌ）をさらに加えた。１時間還流させた後、溶媒を減圧留去することにより、以下の式（ＴＯＸ－３）で表される化合物０．７ｇを得た。
【0141】
反応前後の１Ｈ－ＮＭＲのケミカルシフトから、式（ＴＯＸ－３）で表される化合物が得られていることを確認した。
【0142】
【表2】
【0143】
【化25】
【0144】
［製造例４］ＴＯＸ－４の合成
攪拌機、冷却管、及びビュレットを備えた内容積１００ｍＬの容器に、２０ｍＬのテトラヒドロフランに溶解させたテトラエトキシテルル（ＩＶ）（アルファエイサー(株)製品、純度８５％）１．０ｇ（２．８ｍｍｏｌ）を入れ、さらにメタクリル酸０．５ｇ（５．８ｍｍｏｌ）をさらに加えた。１時間還流させた後、溶媒を減圧留去することにより、以下の式（ＴＯＸ－４）で表される化合物０．５ｇを得た。
攪拌機、冷却管、及びビュレットを備えた内容積１００ｍＬの容器に、２０ｍＬのテトラヒドロフランに溶解させたテトラエトキシテルル（ＩＶ）（アルファエイサー(株)製品、純度８５％）１．０ｇ（２．８ｍｍｏｌ）を入れ、さらにメタクリル酸０．５ｇ（５．８ｍｍｏｌ）をさらに加えた。１時間還流させた後、溶媒を減圧留去することにより、以下の式（ＴＯＸ－４）で表される化合物０．５ｇを得た。
【0145】
反応前後の１Ｈ－ＮＭＲのケミカルシフト（溶媒：重クロロホルム）から、式（ＴＯＸ－４）で表される化合物が得られていることを確認した。
【0146】
【表3】
【0147】
【化26】
【0148】
［実施例１～８、比較例１］
（光学部品形成組成物の調製）
前記製造例１～４で合成した化合物を用いて、下記表４に示す配合で光学部品形成組成物を調製した。なお、表４中の光学部品形成組成物の各成分のうち、酸発生剤（Ｃ）、酸架橋剤（Ｇ）、酸拡散制御剤（Ｅ）及び溶媒（Ｓ－１）については、以下のものを用いた。
〔酸発生剤（Ｃ）〕
Ｐ－１：トリフェニルスルホニウム トリフルオロメタンスルホネート（みどり化学（株）製）
〔酸架橋剤（Ｇ）〕
Ｇ－１：ＭＸ－２７０（（株）三和ケミカル社製）
〔酸拡散制御剤（Ｅ）〕
Ｑ－１：トリオクチルアミン（東京化成工業（株）製）
〔重合開始剤（Ｉ）〕
Ｉ－１：イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製）
〔溶媒〕
Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（東京化成工業（株）製）
（光学部品形成組成物の調製）
前記製造例１～４で合成した化合物を用いて、下記表４に示す配合で光学部品形成組成物を調製した。なお、表４中の光学部品形成組成物の各成分のうち、酸発生剤（Ｃ）、酸架橋剤（Ｇ）、酸拡散制御剤（Ｅ）及び溶媒（Ｓ－１）については、以下のものを用いた。
〔酸発生剤（Ｃ）〕
Ｐ－１：トリフェニルスルホニウム トリフルオロメタンスルホネート（みどり化学（株）製）
〔酸架橋剤（Ｇ）〕
Ｇ－１：ＭＸ－２７０（（株）三和ケミカル社製）
〔酸拡散制御剤（Ｅ）〕
Ｑ－１：トリオクチルアミン（東京化成工業（株）製）
〔重合開始剤（Ｉ）〕
Ｉ－１：イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製）
〔溶媒〕
Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（東京化成工業（株）製）
【0149】
上述の測定方法により、得られた光学部品形成組成物の「保存安定性」を評価した。また、均一状態の光学部品形成組成物を用いて「膜形成」を評価した。得られた結果を表４に示す。実施例１、及び実施例５に使用したＴＯＸ－１を以下に示す。
【0150】
Ｔｅ（ＯＥｔ）４ （ＴＯＸ－１）
【0151】
【表4】
【0152】
表４から分かるように実施例１～８で用いた化合物は溶解性が良好であることが確認できた。
また、保存安定性評価について、実施例１～８で得られた光学部品形成組成物は析出が無く保存安定性が良好であることを確認した（評価：Ａ）。
また、保存安定性評価について、実施例１～８で得られた光学部品形成組成物は析出が無く保存安定性が良好であることを確認した（評価：Ａ）。
【0153】
前記測定方法に従って、膜形成について評価したところ実施例１～８で得られた光学部品形成組成物は、優れた膜を形成することができた。
【0154】
前記結果から、テルル含有化合物は、有機溶媒に対する溶解性が高く、テルル含有化合物を含む光学部品形成組成物は、保存安定性が良好で、膜形成が可能であり、高屈折率及び高透過率を付与できることがわかった。上述した本発明の要件を満たす限り、実施例に記載した化合物以外の化合物も同様の効果を示す。
【産業上の利用可能性】
【0155】
本発明の光学部品形成組成物は、特定の構造を有し、有機溶媒に対する溶解性が高い化合物を含み、保存安定性が良好で、膜形成が可能であり、かつ、高屈折率の構造体を付与できる。したがって、本発明は、高屈折率な光学部品形成組成物が使用される光学部品分野等において有用である。