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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-01-11
(45)【発行日】2024-01-19
(54)【発明の名称】研磨プレート
(51)【国際特許分類】
   B24B 37/12 20120101AFI20240112BHJP
   B24B 37/16 20120101ALI20240112BHJP
   B24D 3/00 20060101ALI20240112BHJP
   B24D 7/00 20060101ALI20240112BHJP
   B24D 7/08 20060101ALI20240112BHJP
   H01L 21/304 20060101ALI20240112BHJP
【FI】
B24B37/12 C
B24B37/16
B24D3/00 310F
B24D7/00 P
B24D7/08
H01L21/304 622F
【請求項の数】 6
(21)【出願番号】P 2020117486
(22)【出願日】2020-07-08
(65)【公開番号】P2022014952
(43)【公開日】2022-01-21
【審査請求日】2022-11-28
(73)【特許権者】
【識別番号】398046921
【氏名又は名称】株式会社ナノテム
(74)【代理人】
【識別番号】100095407
【弁理士】
【氏名又は名称】木村 満
(74)【代理人】
【識別番号】100195648
【弁理士】
【氏名又は名称】小林 悠太
(74)【代理人】
【識別番号】100175019
【弁理士】
【氏名又は名称】白井 健朗
(74)【代理人】
【識別番号】100132883
【弁理士】
【氏名又は名称】森川 泰司
(72)【発明者】
【氏名】▲高▼田 篤
(72)【発明者】
【氏名】大橋 恭介
(72)【発明者】
【氏名】▲高▼田 大地
(72)【発明者】
【氏名】▲高▼田 大和
【審査官】須中 栄治
(56)【参考文献】
【文献】特開2017-013221(JP,A)
【文献】特開2003-039334(JP,A)
【文献】国際公開第2019/069847(WO,A1)
【文献】特開2020-049574(JP,A)
【文献】国際公開第2020/189368(WO,A1)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
B24D3/00-99/00
B24B37/00-37/34
H01L21/304
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
ワークを研磨する研磨面に沿って間隔を持って並べられ、前記研磨面に交わる方向に延びる複数の柱部と、
前記複数の柱部と別部材で形成され、前記複数の柱部を保持する保持材と、を備え、
前記複数の柱部は、前記研磨面に沿って隙間なく並べられた仮想的な六角形の各角部に配置され、前記研磨面上に位置する先端面にて前記ワークを研磨し、
前記複数の柱部は、それぞれ、前記研磨面に交わる方向に延び、前記仮想的な六角形の角部を交点として互いに異なる方向であって前記仮想的な六角形の辺に沿う方向に延びる第1~第3板状部を備え
前記複数の柱部の間の前記間隔は、前記仮想的な六角形の辺の中央部に前記第1~第3板状部が形成されないことにより、空けられている、
研磨プレート。
【請求項2】
ワークを研磨する研磨面に沿って並べられ、前記研磨面に交わる方向に延びる複数の柱部と、
前記複数の柱部と別部材で形成され、前記複数の柱部を保持する保持材と、を備え、
前記柱部は、
前記研磨面に交わる方向に延び、前記研磨面に交わる方向から見てそれぞれV字状をなし、それぞれ異なる方向に向けて開口するように配置される3つのV字板材と、
前記3つのV字板材の間のY字状の隙間に設けられ、前記3つのV字板材を接着する接着層と、
前記接着層内に設けられる複数の固定砥粒と、を備える、
磨プレート。
【請求項3】
前記柱部は、前記研磨プレートが回転しているときに遊離砥粒を前記ワークとの間で転がす先端面を備える、
請求項1又は2に記載の研磨プレート。
【請求項4】
前記柱部は、
前記研磨面に交わる方向に延び、前記研磨面に交わる方向から見てそれぞれV字状をなし、それぞれ異なる方向に向けて開口するように配置される3つのV字板材と、
前記3つのV字板材の間のY字状の隙間に設けられ、前記3つのV字板材を接着する接着層と、
前記接着層内に設けられる複数の固定砥粒と、を備え、
前記第1~第3板状部は、前記3つのV字板材、前記接着層及び前記複数の固定砥粒から構成されている、
請求項に記載の研磨プレート。
【請求項5】
前記複数の柱部は、前記研磨面に沿って隙間なく並べられた仮想的な六角形の各角部に配置され、
前記複数の柱部は、それぞれ、前記研磨面に交わる方向に延び、前記仮想的な六角形の角部を交点として互いに異なる方向であって前記仮想的な六角形の辺に沿う方向に延びる第1~第3板状部を備え、
前記第1~第3板状部は、前記3つのV字板材、前記接着層及び前記複数の固定砥粒から構成されている、
請求項に記載の研磨プレート。
【請求項6】
前記研磨面に沿う単位面積あたりの前記柱部の数は前記研磨プレートの径方向の内側に向かうにつれて多くなる、
請求項1からの何れか1項に記載の研磨プレート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、研磨プレートに関する。
【背景技術】
【0002】
例えば、特許文献1に記載の研磨定盤は、断面U字状の溝が同心円に沿って形成される研磨平面を備える。研磨平面に溝が形成されることにより、加工圧を調整することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開平8-25213号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
上記特許文献1に記載の構成においては、加工圧を調整するために研磨平面に溝を形成する加工を行う必要があり、研磨定盤の製造に手間がかかっていた。
【0005】
本発明は、上記実状を鑑みてなされたものであり、加工圧を調整可能としつつ、より簡単に製造することができる研磨プレートを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記目的を達成するため、本発明の第1の観点に係る研磨プレートは、ワークを研磨する研磨面に沿って間隔を持って並べられ、前記研磨面に交わる方向に延びる複数の柱部と、前記複数の柱部と別部材で形成され、前記複数の柱部を保持する保持材と、を備え、前記複数の柱部は、前記研磨面に沿って隙間なく並べられた仮想的な六角形の各角部に配置され、前記研磨面上に位置する先端面にて前記ワークを研磨し、前記複数の柱部は、それぞれ、前記研磨面に交わる方向に延び、前記仮想的な六角形の角部を交点として互いに異なる方向であって前記仮想的な六角形の辺に沿う方向に延びる第1~第3板状部を備え、前記複数の柱部の間の前記間隔は、前記仮想的な六角形の辺の中央部に前記第1~第3板状部が形成されないことにより、空けられている
【0007】
上記目的を達成するため、本発明の第2の観点に係る研磨プレートは、ワークを研磨する研磨面に沿って並べられ、前記研磨面に交わる方向に延びる複数の柱部と、前記複数の柱部と別部材で形成され、前記複数の柱部を保持する保持材と、を備え、前記柱部は、前記研磨面に交わる方向に延び、前記研磨面に交わる方向から見てそれぞれV字状をなし、それぞれ異なる方向に向けて開口するように配置される3つのV字板材と、前記3つのV字板材の間のY字状の隙間に設けられ、前記3つのV字板材を接着する接着層と、前記接着層内に設けられる複数の固定砥粒と、を備える。
【0008】
また、前記柱部は、前記研磨プレートが回転しているときに遊離砥粒を前記ワークとの間で転がす先端面を備える、ようにしてもよい。
【0009】
また、前記柱部は、前記研磨面に交わる方向に延び、前記研磨面に交わる方向から見てそれぞれV字状をなし、それぞれ異なる方向に向けて開口するように配置される3つのV字板材と、前記3つのV字板材の間のY字状の隙間に設けられ、前記3つのV字板材を接着する接着層と、前記接着層内に設けられる複数の固定砥粒と、を備え、前記第1~第3板状部は、前記3つのV字板材、前記接着層及び前記複数の固定砥粒から構成されている、ようにしてもよい。
【0010】
また、前記複数の柱部は、前記研磨面に沿って隙間なく並べられた仮想的な六角形の各角部に配置され、前記複数の柱部は、それぞれ、前記研磨面に交わる方向に延び、前記仮想的な六角形の角部を交点として互いに異なる方向であって前記仮想的な六角形の辺に沿う方向に延びる第1~第3板状部を備え、前記第1~第3板状部は、前記3つのV字板材、前記接着層及び前記複数の固定砥粒から構成されている、ようにしてもよい。
【0013】
また、前記研磨面に沿う単位面積あたりの前記柱部の数は前記研磨プレートの径方向の内側に向かうにつれて多くなる、ようにしてもよい。
【発明の効果】
【0014】
本発明によれば、研磨プレートにおいて、加工圧を調整可能としつつ、より簡単に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【0015】
図1】本発明の第1の実施形態に係る研磨プレートの断面図である。
図2】本発明の第1の実施形態に係る研磨プレートの上面図である。
図3図2の一部を拡大した図である。
図4図3の一部を拡大した図である。
図5図1の範囲Aを拡大した図である。
図6】本発明の第2の実施形態に係る研磨プレートの一部を拡大した上面図である。
図7図6のB-B線の断面図である。
図8】本発明の変形例に係る(a)及び(b)は研磨プレートの一部を拡大した上面図である。
図9】本発明の変形例に係る研磨プレートの一部を拡大した上面図である。
【発明を実施するための形態】
【0016】
(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態に係る研磨プレートについて図面を参照して説明する。
図1に示すように、研磨装置5は、研磨プレート1と、回転軸Oを中心に研磨プレート1を回転させる駆動部6と、ワークWを保持するワーク保持部7と、研磨プレート1に複数の遊離砥粒40を含む液体研磨剤であるスラリー41を供給するスラリー供給部45と、を備える。研磨プレート1は、ワークWを研磨する研磨面10aを有する研磨部10と、研磨部10を保持するホルダー20と、を備える。
ワークWは、例えば、シリコンウエハ、セラミックス、半導体基板、LED(Light Emitting Diode)基板、放熱基板、シリコンカーバイド、アルミナ、サファイア又は金属等である。
【0017】
図1に示すように、ホルダー20は円板状に形成され、研磨部10の裏面から研磨部10を支持する。ホルダー20は、接着剤又はビス等の固定手段により研磨部10の裏面に固定される。ホルダー20は、研磨部10と一体で、駆動部6により回転軸Oを中心に回転させられる。
【0018】
図1及び図2に示すように、研磨部10は、回転軸Oに直交する方向に延びる平板円環状をなす。研磨部10の中心には研磨部10の厚さ方向に沿う回転軸Oが通過する。研磨部10は表裏対称に形成される。
図3に示すように、研磨部10は、複数の柱部11と、複数の柱部11を保持する保持材19と、を備える。複数の柱部11は、それぞれ同一の形状及びサイズの板状に形成される。
各柱部11は、研磨面10aに直交する回転軸Oに沿う方向から見てY字状に形成されている。各柱部11は、銅、錫、鉛、鋳鉄等から選択された単独金属又は混合金属から構成されている。図5に示すように、研磨時には、柱部11の先端面11dには後述する遊離砥粒40が引っ掛かる。柱部11が回転軸Oに沿う板状をなすため、柱部11の先端面11dの面積が大きくなることが抑制される。これにより、研磨面10aが複数の遊離砥粒40を介してワークWを押す加工圧が大きくなり、研磨レートを増やすことができる。
【0019】
図3に示すように、複数の柱部11は、隙間なく並べられた仮想六角形Hxの各角部に配置される。複数の柱部11は、仮想六角形Hxの辺の中央部が省略された形状で形成される。
仮想六角形Hxは研磨部10の周方向C及び径方向Rに沿って並べられる。仮想六角形Hxの面積は径方向Rの内側の列となるにつれて小さくなる。例えば、周方向Cに沿う第1列L1には仮想六角形Hx1が並び、周方向Cに沿う第2列L2には仮想六角形Hx2が並ぶ。第2列L2は、第1列L1に対して径方向Rの内側に隣接して位置する。第2列L2に並ぶ仮想六角形Hx2は、第1列L1に並ぶ仮想六角形Hx1よりも小さい面積を有する。また、第2列L2に並ぶ仮想六角形Hx2は、第1列L1に並ぶ仮想六角形Hx1に対して周方向Cに、仮想六角形Hx1又は仮想六角形Hx2のハニカム径の半分の距離だけずらされている。
また、研磨面10aの単位面積あたりの柱部11の数は径方向Rの内側に向かうにつれて多くなる。言い換えると、複数の柱部11の周方向Cの間隔は径方向Rの内側に向かうにつれて狭くなる。
【0020】
図4に示すように、柱部11は、第1板状部11aと、第2板状部11bと、第3板状部11cと、を備える。第1板状部11aは、径方向Rに沿って延びるとともに、第1板状部11aの厚さ方向が周方向Cに沿う向きに設けられる。各板状部11a,11b,11cは回転軸O(図2参照)に沿って延びる矩形板状をなす。
各板状部11a,11b,11cは、基端部が一点で連結され、基端部から先端部に向けて互いに異なる方向に、すなわち放射線状に延びる。各板状部11a,11b,11cは、等角度間隔、すなわち、120°間隔で配置される。
【0021】
図5に示すように、各板状部11a,11b,11cの板厚H1は、例えば、遊離砥粒40の平均粒径D1の1倍~30倍、好ましくは、2倍~10倍、より好ましくは、3倍~5倍に設定される。一例として、平均粒径D1が30μmである場合、各板状部11a,11b,11cの板厚H1は100μm~300μmに設定される。例えば、平均粒径D1が30μmである場合に、各板状部11a,11b,11cの板厚H1を100μmに設定することにより、研磨時に、柱部11の先端面11dに3つの遊離砥粒40を板厚H1の方向に並べることができる。このように、各板状部11a,11b,11cの板厚H1と平均粒径D1の大小関係により、柱部11の先端面11dに同時に保持可能な遊離砥粒40の数を決めることができる。平均粒径D1は、例えば、レーザー回折散乱方式により測定される。
【0022】
図3に示すように、各板状部11a,11b,11cは仮想六角形Hxの各辺に沿って延びる。仮想六角形Hxの6つの角部には、それぞれ向きの異なる6つの柱部11が配置される。各板状部11a,11b,11cの交点は仮想六角形Hxの角部に一致する。
【0023】
保持材19は、研磨部10の全域にわたって形成され、複数の柱部11を保持する。保持材19は、複数の柱部11と境界面を有するように別部材で形成される。保持材19は各柱部11の周囲に充填される。図5に示すように、各柱部11の先端面11dが露出した状態で各柱部11が保持材19に埋め込まれている。
図1に示すように、保持材19における研磨面10aと反対側の裏面はホルダー20に接着されている。保持材19は、柱部11よりも外力により変形しやすく、かつ研磨時に柱部11よりも摩耗しやすい材質により形成される。保持材19は、例えば、樹脂又はセラミックからなる。保持材19は、流体が通過不能に形成されてもよいし、流体が通過可能な多孔質で形成されていてもよい。
図5に示すように、保持材19のホルダー20と反対側の先端面は、柱部11の先端面11dよりもホルダー20の近くに位置する。このため、保持材19とワークWとの間には空間Spが形成される。空間Spには、複数の遊離砥粒40を含むスラリー41(図1参照)又は切粉が通過可能となる。
【0024】
複数の遊離砥粒40は、例えば、ダイヤモンド又は立方晶窒化ホウ素(CBN)砥粒、若しくはダイヤモンドとCBNの混合である。さらに、これに限らず、遊離砥粒40は、炭化ケイ素(SiC)、又は溶融アルミナ(Al)、若しくはこれらを混合したものであってもよい。
【0025】
次に、研磨装置5によるワークWの研磨方法について説明する。
図1に示すように、ワーク保持部7がワークWを保持した状態で研磨面10aに接触させる。そして、スラリー供給部45がスラリー41を研磨面10aに供給しつつ、駆動部6が研磨プレート1を回転軸Oを中心に回転させる。これにより、図5に示すように、各柱部11の先端面11dが各遊離砥粒40を一時的に保持した後に各遊離砥粒40をワークWとの間で転がす。これにより、ワークWが研磨される。
なお、ワークWを研磨する際、ワーク保持部7がワークWを回転させてもよい。
【0026】
(効果)
以上、説明した第1の実施形態によれば、以下の効果を奏する。
(1)研磨プレート1は、ワークWを研磨する研磨面10aに沿って並べられ、研磨面10aに交わる方向に延びる複数の柱部11と、複数の柱部11と別部材で形成され、複数の柱部11を保持する保持材19と、を備える。柱部11は、研磨面10aに交わる方向に延びる第1板状部11aを備える。
この構成によれば、上記特許文献1に記載の構成と異なって、研磨面10aに溝を形成する加工を行うことなく、柱部11の第1板状部11aの厚さを調整することにより加工圧が調整可能となる。研磨プレート1では、研磨面10aに溝を形成する加工を行う必要がないため、研磨プレート1をより簡単に製造することができる。
また、第1板状部11aが研磨面10aに交わる方向に延びる。よって、研磨により第1板状部11aが研磨面10aに交わる方向に減っていっても研磨プレート1の切れ味が維持される。研磨プレート1の寿命を延ばすことができる。
また、柱部11は、柱部11の先端面11dが保持材19の先端面よりも突出し、柱部11の先端面11dの反対側の後端面が保持材19の後端面と一致するように形成される。
例えば、上記特許文献1に記載の構成では研磨平面が溝の底面に到達するまで摩耗すると有効に研磨することが困難となる。一方で、上記構成によれば、柱部11及び保持材19が摩耗しても研磨を行うことができる。
【0027】
(2)第1板状部11aは、研磨プレート1が回転軸Oを中心に回転しているときにスラリー41に含まれる遊離砥粒40をワークWとの間で転がす先端面11dを備える。
この構成によれば、第1板状部11aの先端面11dの面積を調整することにより、先端面11dとワークWの間に位置する遊離砥粒40の数を調整することができる。これにより、加工圧を調整することができる。
【0028】
(3)柱部11は、第1板状部11aと、第1板状部11aと異なる方向に延び、第1板状部11aに連結される第2板状部11bと、を備える。
この構成によれば、第1板状部11a及び第2板状部11bが異なる方向に延びつつ連結される。このため、柱部11がワークWから受ける力により撓みづらい。よって、単位時間あたりの除去される量である研磨レートを増やすことができる。
【0029】
(4)柱部11は、第1板状部11a及び第2板状部11bと異なる方向に延び、第1板状部11a及び第2板状部11bに連結される第3板状部11cを備える。
この構成によれば、柱部11はワークWから受ける力により撓みづらい。よって、研磨レートを増やすことができる。
【0030】
(5)複数の柱部11は、研磨面10aに沿って隙間なく並べられた仮想六角形Hxの各角部に配置される。第1板状部11a、第2板状部11b及び第3板状部11cは仮想六角形Hxの辺に沿う方向に延びる。
この構成によれば、仮想六角形Hxの各角部に位置する6つの柱部11の向きが異なるように設置される。よって、柱部11は、ワークWから受ける力の方向に関わらず、撓みづらくすることができる。
【0031】
(6)研磨面10aに沿う単位面積あたりの柱部11の数は研磨プレート1の径方向の内側に向かうにつれて多くなる。
研磨部10が回転軸Oを中心に回転すると、研磨部10の径方向Rの外側の部位は、研磨部10の径方向Rの内側の部位よりも高速で回転する。上記構成によれば、単位面積あたりの柱部11の数は研磨部10の径方向の内側に向かうにつれて多くなる。これにより、研磨部10の径方向Rにおける周速差に関わらず、ワークWを均一の研磨レートにて加工することができる。
【0032】
(第2の実施形態)
本発明の第2の実施形態に係る研磨プレートについて図面を参照して説明する。第2の実施形態では、複数の研磨用の固定砥粒が柱部に埋め込まれている点が上記第1の実施形態と異なる。以下、上記第1の実施形態との相違点を中心に説明する。
【0033】
図6に示すように、柱部51は、3つのV字状の板状部52,53,54と、3つの板状部52,53,54の間のY字状の隙間に形成される接着層56と、接着層56内に位置する複数の固定砥粒57と、を備える。板状部52,53,54は、銅、錫、鉛、鋳鉄等から選択された単独金属又は混合金属から構成される。
板状部52は、互いに異なる角度で連結される第1壁部52a及び第2壁部52bにより構成される。板状部53は、互いに異なる角度で連結される第1壁部53a及び第2壁部53bにより構成される。板状部54は、互いに異なる角度で連結される第1壁部54a及び第2壁部54bにより構成される。
第1壁部52a,54aは、互いに対面し、接着層56の第1部分56aを介して互いに接着されている。第2壁部53b,54bは、互いに対面し、接着層56の第2部分56bを介して互いに接着されている。第1壁部53a及び第2壁部52bは、互いに対面し、接着層56の第3部分56cを介して互いに接着されている。
【0034】
板状部52,53,54は、それぞれの角部が柱部51の中心点Cpに近い位置となり、かつ、異なる方向に向けて開口する向きで設置される。板状部52は第1方向F1に向けて開口するV字状をなす。板状部53は第2方向F2に向けて開口するV字状をなす。板状部54は第3方向F3に向けて開口するV字状をなす。第1方向F1、第2方向F2及び第3方向F3は、中心点Cpを中心として互いに120°間隔で互いに異なる角度に設定される。
【0035】
接着層56は、研磨面10aに直交する方向から見てY字状に形成され、板状部52,53,54の間の隙間に形成され、板状部52,53,54を互いに接着する。接着層56内には複数の固定砥粒57が分布する。接着層56は、例えば、エポキシ樹脂又は銀ロウである。
図7に示すように、複数の固定砥粒57は、接着層56内に埋め込まれて、接着層56に沿って1列に並べられている。複数の固定砥粒57は、例えば、ダイヤモンド砥粒、CBN砥粒、SiC、又はAlから選択された単独砥粒又は混合砥粒から構成される。
【0036】
本実施形態では、研磨プレートが回転すると、柱部51の先端に露出する固定砥粒57がワークWに接触することによりワークWが研磨される。研磨時に、板状部52,53,54と接着層56が削れることにより摩耗した固定砥粒57が脱落して新たな固定砥粒57が柱部51の先端に露出する。これにより、研磨プレートの切れ味が維持される。
本実施形態の研磨プレートでは、研磨時にスラリーが供給されなくてもよいし、研磨時にスラリーが供給されてもよい。研磨時にスラリーが供給される場合、図7に示すように、スラリーに含まれる複数の遊離砥粒97が板状部52,53,54の先端面とワークWの間で転がることにより、ワークWが研磨される。この場合、スラリーの遊離砥粒97と柱部51の固定砥粒57の両方によりワークWが研磨される。
【0037】
(効果)
以上、説明した第2の実施形態によれば、以下の効果を奏する。
(1)柱部51は、複数の板状部52,53,54の間に設けられる接着層56と、接着層56内に設けられ、ワークWの研磨に利用される複数の固定砥粒57と、を備える。
この構成によれば、柱部51がその厚さ方向において3層構造となる。図7の例では、この3層構造は、接着層56と第2壁部53b,54bからなる。このため、ワークWから受ける力の方向に関わらず、柱部11を撓みづらくすることができる。
研磨時にスラリーが供給されると、板状部52,53,54の先端面とワークWの間で遊離砥粒97が転がることによる研磨と固定砥粒57による研磨が同時に行われる。遊離砥粒97による研磨は、固定砥粒57による研磨よりも、ワークWを平滑な面とすることができるものの、研磨レートが小さくなる。一方で、固定砥粒57による研磨は、遊離砥粒97による研磨よりも、研磨レートを大きくできるものの、ワークWを平滑な面とすることが難しい。この点、上記構成によれば、固定砥粒57によって深く研磨された部分が遊離砥粒97により平滑化される。よって、研磨レートを大きくしつつ、ワークWを平滑化することができる。
【0038】
(2)柱部51の3つの板状部52,53,54は、研磨面10aに交わる方向から見てそれぞれV字状をなす。3つの板状部52,53,54は、それぞれ異なる方向に向けてV字が開口するように配置される。接着層56は、3つの板状部52,53,54の間のY字状の隙間に設けられ、3つの板状部52,53,54を接着する。
この構成によれば、ワークWから受ける力の方向に関わらず、柱部11を撓みづらくすることができる。
【0039】
なお、本発明は以上の実施形態及び図面によって限定されるものではない。本発明の要旨を変更しない範囲で、適宜、変更(構成要素の削除も含む)を加えることが可能である。以下に、変形の一例を説明する。
【0040】
(変形例)
上記各実施形態においては、複数の柱部11,51は、隙間なく並べられた仮想六角形Hxの各角部に配置されていたが、配置態様はこれに限らず、隙間なく並べられた仮想的な三角形、四角形又は八角形等の多角形の各角部に配置されてもよい。
【0041】
上記各実施形態においては、単位面積あたりの柱部11,51の数は研磨部10の径方向Rの内側に向かうにつれて多く設定されていた。しかしながら、これに限らず、単位面積あたりの柱部11,51の数は径方向Rの内側に向かうにつれて少なく設定されてもよいし、径方向Rに沿って同数に設定されてもよい。
【0042】
上記各実施形態においては、複数の柱部11,51はそれぞれ同一の形状及びサイズで形成されていたが、それぞれ異なる形状又はサイズで形成されてもよい。
上記各実施形態においては、柱部11,51は回転軸に沿って延びていたが、回転軸に対して傾斜して延びていてもよい。
また、研磨面10aは、上記各実施形態の位置に限らず、研磨プレート1の外周面に形成されてもよい。この場合、柱部11,51は研磨プレート1の外周面に配置され、この外周面に交わる方向に延びるように形成されてもよい。
【0043】
上記各実施形態においては、柱部11,51は研磨面10aに交わる方向から見てY字状に形成されていたが、柱部の形状は研磨面10aに交わる方向に延びる板状部を含んでいればこれに限らない。
例えば、図8(a)に示すように、柱部61は、研磨面10aに交わる方向から見てX字状に形成されていてもよい。柱部61は、第1板状部61aと、第1板状部61aに交差する第2板状部61bと、を備える。第1板状部61aの中心位置と第2板状部61bの中心位置が交わる。
また、例えば、図8(b)に示すように、柱部71は、研磨面10aに交わる方向から見てV字状に形成されていてもよい。柱部71は、第1板状部71aと、第1板状部71aに対して角度をなす第2板状部71bと、を備える。第1板状部71aの端部と第2板状部71bの端部が連結される。
さらに、柱部は、研磨面10aに交わる方向から見てN字状、L字状、T字状、Z字状又は十字状に形成されてもよい。
また、図9に示すように、柱部は、径方向Rに沿って延びる平板状の板状部82から構成されてもよい。各板状部82は、板状部82の厚さ方向が周方向Cに沿うように設けられる。
【符号の説明】
【0044】
1…研磨プレート、5…研磨装置、6…駆動部、7…ワーク保持部、10…研磨部、10a…研磨面、11,51,61,71…柱部、11a,61a,71a…第1板状部、11b,61b,71b…第2板状部、11c…第3板状部、11d…先端面、19…保持材、20…ホルダー、40,97…遊離砥粒、41…スラリー、45…スラリー供給部、52,53,54,82…板状部、52a,53a,54a…第1壁部、52b,53b,54b…第2壁部、56…接着層、57…固定砥粒、C…周方向、D1…平均粒径、F1…第1方向、F2…第2方向、F3…第3方向、H1…板厚、L1…第1列、L2…第2列、O…回転軸、R…径方向、W…ワーク、Cp…中心点、Hx,Hx1,Hx2…仮想六角形、Sp…空間
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7
図8
図9