特許7419343低粒子プラズマエッチング用の方法および装置

発明の名称　低粒子プラズマエッチング用の方法および装置

出願人　エヴァテック・アーゲー　（識別番号 518031387）

　　　　特許公開件数ランキング 13870 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 3848 位（1件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-7419343

公報発行日　2024年1月22

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7419343

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