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特許7420729エンボス構造をコーティングの表面に転写する方法、および前記コーティングを含むコンポジット
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-01-15
(45)【発行日】2024-01-23
(54)【発明の名称】エンボス構造をコーティングの表面に転写する方法、および前記コーティングを含むコンポジット
(51)【国際特許分類】
C09D 4/02 20060101AFI20240116BHJP
C09D 7/63 20180101ALI20240116BHJP
B29C 43/46 20060101ALI20240116BHJP
B29C 59/02 20060101ALI20240116BHJP
【ＦＩ】
C09D4/02
C09D7/63
B29C43/46
B29C59/02 Z
B29C59/02 B
【請求項の数】
16
(21)【出願番号】P 2020552373
(86)(22)【出願日】2019-03-28
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2021-08-10
(86)【国際出願番号】 EP2019057923
(87)【国際公開番号】W WO2019185833
(87)【国際公開日】2019-10-03
【審査請求日】2022-03-10
(31)【優先権主張番号】18164689.4
(32)【優先日】2018-03-28
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(73)【特許権者】
【識別番号】390008981
【氏名又は名称】ビーエーエスエフ コーティングス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
【氏名又は名称原語表記】ＢＡＳＦ Ｃｏａｔｉｎｇｓ ＧｍｂＨ
【住所又は居所原語表記】Ｇｌａｓｕｒｉｔｓｔｒａｓｓｅ １， Ｄ－４８１６５ Ｍｕｅｎｓｔｅｒ，Ｇｅｒｍａｎｙ
(74)【代理人】
【識別番号】100100354
【弁理士】
【氏名又は名称】江藤 聡明
(72)【発明者】
【氏名】キュス，ヤン－ベルント
(72)【発明者】
【氏名】ピオンテク，ズザンネ
(72)【発明者】
【氏名】エクスナー，イェルク
(72)【発明者】
【氏名】レンツ，イェルク
(72)【発明者】
【氏名】クライネ－ブライ，ビルギット
(72)【発明者】
【氏名】シッパー，ヴィルフリート
(72)【発明者】
【氏名】フォン デア アー，ロベルト
(72)【発明者】
【氏名】ベルクマン，フランク
(72)【発明者】
【氏名】ロレンツ，ミヒャエル
(72)【発明者】
【氏名】クラッベンボルグ，スヴェン オレ
(72)【発明者】
【氏名】デュンネヴァルト，イェルク
【審査官】井上 恵理
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１６－００７７６７（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１４／１６３１９８（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特表２０１０－５２５９６８（ＪＰ，Ａ）
【文献】国際公開第２０１３／１８７５２８（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特表２０１８－５０５２８８（ＪＰ，Ａ）
【文献】LEITGEB, Markus et al.，Multilength Scale Patterning of Functional Layers by Roll-to-Roll Ultraviolet-Light-Assisted Nanoimprint Lithography，ACS Nano，2016年，10, 5，p.4926-4941
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０９Ｄ
Ｂ２９Ｃ ４３／４６
Ｂ２９Ｃ ５９／０２
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材（Ｆ１）および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）を使用する、エンボス構造をコーティング（Ｂ２）の表面の少なくとも一部に転写する方法であって、コーティング（Ｂ２）、およびコンポジット（Ｆ１Ｂ１）のコーティング（Ｂ１）が、互いに鏡像であるエンボス構造を有しており、少なくとも工程（１）および（２）、すなわち、
（１） 基材（Ｆ１）および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｂ１Ｆ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の少なくとも一部に、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）を塗布して、コンポジット（Ｂ２ａＢ１Ｆ１）を得る工程と、
（２） 塗布したコーティング用組成物（Ｂ２ａ）を少なくとも一部硬化させて、基材（Ｆ１）、少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）、および少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ２）からなるコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
を含み、
工程（１）において使用するコンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）を生成するために使用したコーティング用組成物（Ｂ１ａ）が、放射線硬化性コーティング用組成物であり、
コーティング用組成物（Ｂ１ａ）が、
４０～９５質量％の範囲の量の少なくとも１種の構成成分（ａ）と、
０．０１～５質量％の範囲の量の、構成成分（ｂ）としての少なくとも１種の添加剤と、
０．０１～１５質量％の範囲の量の、構成成分（ｃ）としての少なくとも１種の光開始剤と、
０～４５質量％の範囲の量の、少なくとも１個の炭素二重結合を含む少なくとも１種の構成成分（ｄ）と
を含み、
（ｉ）構成成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）が、互いにそれぞれ異なっており、（ｉｉ）構成成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）の明記した量がそれぞれ、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の総質量に対するものであり、（ｉｉｉ）コーティング用組成物（Ｂ１ａ）に存在するすべての構成成分の量が合計１００質量％になり、
構成成分（ａ）が、それぞれ互いに異なるまたは少なくとも一部が同一である、式（Ｉ）
【化1】
基Ｒ１は、各場合において互いに独立して、Ｃ２～Ｃ８アルキレン基であり、
基Ｒ ２は、各場合において互いに独立して、Ｈまたはメチルであり、
パラメーターｍはそれぞれ、互いに独立して、１～１５の範囲の整数パラメーターであるが、ただし、パラメーターｍは、構成成分（ａ）内の式（Ｉ）の構造単位の少なくとも１個において、少なくとも２である）
の少なくとも３個の構造単位を含む、
方法。
【請求項2】
（３）コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）からコーティング（Ｂ２）を除去して、工程（１）において使用したコンポジット（Ｂ１Ｆ１）を復元する工程であり、その表面でコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）内のコーティング（Ｂ１）に既に面しているコーティング（Ｂ２）が、工程（１）において使用され、この工程で復元されるコンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の鏡像を有する、工程を、さらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項3】
工程（３）におけるコーティング（Ｂ２）が、コンポジット（Ｂ１Ｆ１）のさらなる復元を伴って、コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）から剥離することによって、独立フィルムとして得られる、請求項２に記載の方法。
【請求項4】
コーティング（Ｂ２）が、工程（３）において、段階（３ａ）、（３ｂ）および（３ｃ）により３段階で、具体的には（３ａ） コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）の表面の少なくとも一部に、コーティング（Ｂ２）を有する側で、接着剤（Ｋ）を塗布して、コンポジット（ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３ｂ） 段階（３ａ）の後に得られたコンポジット（ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）に、接着剤（Ｋ）を有するその表面の少なくとも一部に、基材（Ｆ２）を適用するまたはその反対を行い、コンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３ｃ） コンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）からコンポジット（Ｂ１Ｆ１）を剥離して、コンポジット（Ｆ２ＫＢ２）を得る工程であり、このコンポジットのコーティング（Ｂ２）が、その表面に、コンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の鏡像を少なくとも部分的に有する工程と
によって、コンポジット（Ｂ２ＫＦ２）の形態で得られる、請求項２または３に記載の方法。
【請求項5】
コーティング（Ｂ２）が、段階（３ｃ）の後に得られたコンポジット（Ｆ２ＫＢ２）から剥離することによって、独立フィルムとして得られる、請求項４に記載の方法。
【請求項6】
工程（１）において使用されるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）の少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）が、マイクロメートルおよび／またはナノメートルの範囲のエンボスを有する、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項7】
工程（１）において使用するコンポジット（Ｂ１Ｆ１）が、フィルムウェブ（Ｆ１）、およびそれに塗布されて、少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジットである、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項8】
工程（１）に使用され、工程（３）の後に復元したコンポジット（Ｂ１Ｆ１）が、再使用可能であり、少なくとも１個のエンボス構造を転写するために繰り返し使用することができる、請求項２から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項9】
工程（１）において使用され、基材（Ｆ１）および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）が、工程（４）～（７）、具体的には、（４） 放射線硬化性コーティング用組成物（Ｂ１ａ）を基材（Ｆ１）の表面の少なくとも一部に塗布する工程と、
（５） 少なくとも１個のエンボス用ダイ（ｐ１）を有する少なくとも１個のエンボス用器具（Ｐ１）によって、基材（Ｆ１）の表面に少なくとも一部塗布された、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）を少なくとも一部エンボスする工程と、
（６） 基材（Ｆ１）の表面の少なくとも一部に塗布されておりかつ少なくとも一部がエンボスされているコーティング用組成物（Ｂ１ａ）を放射線硬化により少なくとも一部硬化して、基材（Ｆ１）、および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）を得る工程であり、少なくとも一部の硬化の時間全体を通じて、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）が、少なくとも１個のエンボス用器具（Ｐ１）の少なくとも１個のエンボス用ダイ（ｐ１）に接触している工程と、
（７）エンボス用器具（Ｐ１）からコンポジット（Ｆ１Ｂ１）を除去する工程と
によって少なくとも得ることができる、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項10】
コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の総質量に対して、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の固体含有量が９０質量％以上である、請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項11】
パラメーターｍが、構成成分（ａ）である式（Ｉ）の少なくとも３個の構造単位のそれぞれにおいて、少なくとも２である、請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項12】
構成成分（ａ）における式（Ｉ）の構造単位に存在する、エーテルセグメント－［Ｏ－Ｒ１］ｍ－の割合が、構成成分（ａ）の総質量に対して、少なくとも３５質量％である、請求項１から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項13】
前記コーティング用組成物（Ｂ１ａ）が、チオールを含まない、請求項１から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項14】
基材（Ｆ１）、少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）、および（Ｂ１）に塗布された少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ２）からなるコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）であって、コーティング（Ｂ１）が、基材（Ｆ１）の表面の少なくとも一部に塗布されて、少なくとも一部がエンボスされたコーティング用組成物（Ｂ１ａ）を、放射線硬化により少なくとも一部を硬化させることによって生成可能であり、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）が、放射線硬化性コーティング用組成物であり、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）が、
４０～９５質量％の範囲の量の少なくとも１種の構成成分（ａ）と、
０．０１～５質量％の範囲の量の、構成成分（ｂ）としての少なくとも１種の添加剤と、
０．０１～１５質量％の範囲の量の、構成成分（ｃ）としての少なくとも１種の光開始剤と、
０～４５質量％の範囲の量の、少なくとも１個の炭素二重結合を含む、少なくとも１種の構成成分（ｄ）と
を含み、
（ｉ）構成成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）は、互いにそれぞれ異なっており、（ｉｉ）構成成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）の明記した量はそれぞれ、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の総質量に対するものであり、（ｉｉｉ）コーティング用組成物（Ｂ１ａ）に存在するすべての構成成分の量が合計１００質量％になり、
構成成分（ａ）が、それぞれ互いに異なるまたは少なくとも一部が同一である、式（Ｉ）
【化2】
基Ｒ１は、各場合において互いに独立して、Ｃ２～Ｃ８アルキレン基であり、
基Ｒ２は、各場合において互いに独立して、Ｈまたはメチルであり、
パラメーターｍはそれぞれ、互いに独立して、１～１５の範囲の整数パラメーターであるが、ただし、パラメーターｍは、構成成分（ａ）内の式（Ｉ）の構造単位の少なくとも１個において、少なくとも２である）
の少なくとも３個の構造単位を含む、
コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）。
【請求項15】
前記コーティング用組成物（Ｂ１ａ）が、チオールを含まない、請求項１４に記載のコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）。
【請求項16】
独立フィルムの形態の、その表面の１つに少なくとも一部エンボスしたコーティング（Ｂ２）を生成するため、または基材（Ｆ２）、少なくとも１種の接着剤（Ｋ）およびコーティング（Ｂ２）からなるコンポジット（Ｂ２ＫＦ２）を生成するための、請求項１４または１５に記載のコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）を使用する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、基材（Ｆ１）および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）を使用する、エンボス構造（ｅｍｂｏｓｓｅｄ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）をコーティング（Ｂ２）の表面の少なくとも一部に転写する方法であって、コーティング（Ｂ２）、およびコンポジット（Ｆ１Ｂ１）のコーティング（Ｂ１）が、互いに鏡像であるエンボス構造を有しており、方法が少なくとも工程（１）および（２）ならびにまた、任意に（３）を含む、方法；コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）；ならびにまた、独立フィルムの形態の少なくとも一部がエンボスされたコーティング（Ｂ２）、または基材（Ｆ２）、少なくとも１種の接着剤（Ｋ）およびコーティング（Ｂ２）からなるコンポジット（Ｂ２ＫＦ２）を生成するための、このようなコンポジットを使用する方法に関する。
【背景技術】
【0002】
産業における多数の用途において、近年、構造的特徴がマイクロメートルの範囲またはさらにはナノメートルの範囲である構造を表面に有するワークピースを提供することが慣例となっている。このような構造はまた、マイクロ構造（マイクロメートルの範囲のフィーチャを有する構造）またはナノ構造（ナノメートルの範囲のフィーチャを有する構造）とも称される。このような構造を使用して、例えば、材料表面の光学的質、生体工学的質および／または触覚的質に影響を及ぼす。この種の構造はまた、エンボス（ｅｍｂｏｓｓｍｅｎｔ）またはエンボス構造とも呼ばれる。
【0003】
この場合、一般的な方法の１つは、これらの構造をコーティング材料に転写することである。コーティング材料への構造の転写は、この場合、エンボス操作を用いて実現されることが多く、エンボス表面または転写表面に、ネガ形態で形成されることになるマイクロ構造および／またはナノ構造を含むダイを、コーティング材料に接触させるようにして、圧印する。次に、この構造が恒久的に形成されて、ワークピースの表面に維持されるようにするために、コーティング材料を、通常、その場で硬化させる。
【0004】
しかし、先行技術から公知のこれらの方法に伴う欠点は、ロールツーロールまたはロールツープレート加工などの、広いサイズ範囲で高度なモデル化精度を伴う連続方法は、ホイルおよびフィルム（金属、プラスチック、紙）またはプレート（金属、プラスチック、ガラス）のエンボスのみに好適である。表面が完全に平坦でないか、または構成成分が大きすぎるために、エンボス用機械を使用することができないとすぐに、公知の方法を使用して、構成成分の表面を構造化することができない。しかし、これらの方法は、非連続的方法であり、ネガ構造を有するダイに限定されることを含み、モールドから構成成分を取り出すために離型剤を必要とし、特に、アスペクト比が０．５超の周期的な構造の場合、非常に低いモデル化精度となることを特徴とするので、液状プラスチックペレットなどの個々の構成成分材料が、例えば、構造化されたモールドに入れられて硬化され、硬化後に、これらの構成成分の表面がモールド表面のダイのポジ部を有する、このような問題を解決するための先行技術から公知のインモールド法は、欠点がある。
【0005】
上記の直接エンボス法は、航空機の翼、風力タービン翼または建築用上塗り要素などの大型部品に利用することができないので、例えば、この場合、その表面に、ナノメートル構造またはマイクロメートル構造を有するフィルムに構成成分を積層させるか、または接着して接合させる試みが行われることが多い。しかし、フィルムは、迅速に黄色くなる傾向があるので、フィルムの積層は、多数の欠点を伴い、これにより、表面の外観を大きく損なう。構成成分の質量は、担体物質としてフィルムの使用によって増加し、これは、特に軽量の構造物には欠点となる。またフィルムは、例えば、大気の酸素および液体に対して一層大きなバリアとなる。後者は、特に、構成成分から古いコーティング材料を取り除くために特定の液体を使用する修復操作では妨げとなる。大気中の酸素に対する一層大きなバリアにより、特に、建築用上塗り要素の場合、モールドを開発が生じることがある。
【0006】
ＥＰ１３０４２３５（Ａ１）は、担体フィルムによって、構造化したコーティング層を生成する方法を記載しており、剥離特性を有する構造化した担体フィルムおよびコーティング層からなる積層コンポジットを生成している。ＤＥ１０２００５０１７１７０（Ａ１）は、担体フィルム、およびその上に堆積された構造層を備える転写フィルムを記載している。この構造層が硬化した後に、構造を提供しようとする目標表面に接着して接合することができる。ＵＳ２００７／０２１８２５５Ａ１は、装飾用ガラスに使用することができる構造化フィルムを生成する方法を記載している。
【0007】
ＵＳ２０１０／０２７９０７５（Ａ１）は、構造化した担体フィルムを使用することによって、構成成分にマイクロ構造化表面を生成する方法を記載している。しかし、この方法の欠点は、構造層を適用する前に、剥離層でマイクロ構造化フィルムを最初にコーティングすることである。これは、作業の追加工程を必要とし、また、モデル化の質に非常に負の影響を及ぼす。エンボスの個々の構造要素間の距離が、剥離層によって不利に低減されるので、マイクロ構造の精密な相補転写は不可能である。
【0008】
ＷＯ２０１５／１５４８６６Ａ１は、構造化表面を備えた基材を生成するための方法に関する。その例では、第一に、第１のＵＶ硬化コーティング剤を基材に塗布し、硬化する。次に、この上に第２のＵＶ硬化性コーティング剤であるエンボス用ワニスとして硬化済みコーティング剤を塗布し、これをエンボスして、マイクロ構造を生成し、続いて硬化させる。
【0009】
ＤＥ１０２００７０６２１２３（Ａ１）は、例えば、ＵＶ－架橋性エンボス用ワニスなどのエンボス用ワニスを担体フィルムに塗布するため、マイクロメートル範囲でエンボス用ワニスを構造化するため、およびフィルムに塗布したエンボス用ワニスを硬化して、エンボスしたフィルムを得て、そのマイクロ構造を、続いて、エンボスした表面の金属の堆積によって、言い換えると、フィルムを金属化することによってモデル化するための方法を記載している。しかし、その後の金属化によるこのようなモデル化の欠点は、その結果生じる、モデル化の質の望ましくない低下である。
【0010】
最後に、ＥＰ２１４６８０５Ｂ１は、ざらつきのある表面を有する材料を生成する方法を記載している。この方法は、硬化性コーティングを有する基材を用意する工程、前記コーティングをエンボス用のテクスチャリング媒体（ｔｅｘｔｕｒｉｎｇ ｍｅｄｉｕｍ）に接触させる工程、次に、この方法でエンボスしたコーティングを硬化させて、テクスチャリング媒体から基材を取り出す工程を含む。テクスチャリング媒体は、２０％～５０％のアクリルオリゴマー、１５％～３５％の一官能性モノマー、および２０％～５０％の多官能性モノマーを含有する表面層を含む。ＷＯ２０１６／０９０３９５（Ａ１）およびＡＣＳ Ｎａｎｏ Ｊｏｕｒｎａｌ、２０１６年、１０巻、４９２６～４９４１頁は、各場合において明確な教示と共に、テクスチャリング媒体の表面層を生成するために、テクスチャリング媒体の比較的硬質なダイの生成を可能にするためには、各場合において、三エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰ（ＥＯ）３ＴＡ）の部数を多く使用する必要があるという、類似の方法を記載している。さらに、ＷＯ２０１６／０９０３９５（Ａ１）によれば、表面層を生成するために使用されるコーティング用組成物は、例えば、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）などの少なくとも２個のチオール基を有する構造単位を必然的に含まなければならない。しかし、このような組成物は、保管時に十分な安定性を必ずしも有していないため、およびこのような組成物から生成したコーティングは、適切な耐候安定性が欠如しているので、対応するコーティング材料組成物におけるこのようなチオールの使用は、欠点があることが多い。さらなる要因は、有害臭であることであり、これはチオールの使用に起因し、このことは、当然ながら、同様に望ましいものではない。
【0011】
特に、ＥＰ２１４６８０５（Ｂ１）、ＷＯ２０１６／０９０３９５（Ａ１）およびＡＣＳ Ｎａｎｏ Ｊｏｕｒｎａｌ、２０１６年、１０巻、４９２６～４９４１頁に記載されている方法などの先行技術から公知のエンボス方法は、特に、マイクロメートル範囲および／またはナノメートル範囲のエンボス、すなわち、マイクロ構造および／またはナノ構造を転写すること、特に、このような転写の場合に、モデル化の精度が許容されない程度にまで低下させずに行うことは、必ずしも十分には可能でない。さらに、上で観察されたように、先行技術から公知の方法は、特に、大型構成成分および／または非平面形状を有する構成成分に、さらに十分な耐候安定性にとって重要であり、したがってその外観が不利に影響を受けないナノ構造化および／またはマイクロ構造化コーティングフィルムを設けるには必ずしも好適ではない。同時に、エンボスは、必ずしも適切に複製されるとは限らない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0012】
【文献】ＥＰ１３０４２３５（Ａ１）
【文献】ＤＥ１０２００５０１７１７０（Ａ１）
【文献】ＵＳ２００７／０２１８２５５Ａ１
【文献】ＵＳ２０１０／０２７９０７５（Ａ１）
【文献】ＷＯ２０１５／１５４８６６（Ａ１）
【文献】ＤＥ１０２００７０６２１２３（Ａ１）
【文献】ＥＰ２１４６８０５（Ｂ１）
【文献】ＷＯ２０１６／０９０３９５（Ａ１）
【非特許文献】
【0013】
【文献】ＡＣＳ Ｎａｎｏ Ｊｏｕｒｎａｌ、２０１６年、１０巻、４９２６～４９４１頁
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0014】
したがって、上記の欠点を有さないエンボス構造を転写する方法が必要である。
【0015】
したがって、本発明により対処される課題は、十分なモデル化精度を伴って、とりわけマイクロ構造および／またはナノ構造などのエンボス構造の転写を可能にし、特に、エンボス構造を転写するため、非常に大規模で再使用可能なエンボス用ダイの生成を可能にする、および／またはこの種のエンボス用ダイを使用して実施することができる、エンボス構造をコーティングに転写する方法を提供することである。本発明のさらなる目的は、特に大型構成成分および／または非平面形状を有する構成成分にでさえ、この種のエンボス構造を含むコーティングを提供することができる方法であって、前記コーティングが、さらに、十分な耐候安定性、したがって、その光学的、生体工学的および／または触覚的外観に及ぼす有害的影響がないことによって、さらに区別される方法を提供することである。同時に、各場合において、特に、本方法が、例えば不適切な接着性などの、使用されるコーティングおよびコーティング用組成物の部分に関する望ましくないまたは不適切な特性によって引き起こされるいかなる欠点も特徴とすることなく、転写されることになるエンボス構造をかなり高い程度に複製することが可能となる。
【課題を解決するための手段】
【0016】
この課題は、本特許の特許請求の範囲において権利請求されている主題によって、およびさらに本発明のこれ以降の説明に記載されているそのような主題の好ましい実施形態によって解決される。
【0017】
したがって、本発明の第１の主題は、基材（Ｆ１）と少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）とからなるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）を使用する、エンボス構造をコーティング（Ｂ２）の表面の少なくとも一部に転写する方法であって、コーティング（Ｂ２）、およびコンポジット（Ｆ１Ｂ１）のコーティング（Ｂ１）が、互いに鏡像であるエンボス構造を有しており、少なくとも工程（１）および（２）ならびにまた任意に（３）、具体的には、
（１） 基材（Ｆ１）および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｂ１Ｆ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の少なくとも一部に、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）を塗布して、コンポジット（Ｂ２ａＢ１Ｆ１）を得る工程と、
（２） 塗布したコーティング用組成物（Ｂ２ａ）を少なくとも一部硬化させて、基材（Ｆ１）、少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）、および少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ２）からなるコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３） 任意に、コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）からコーティング（Ｂ２）を除去して、工程（１）において使用したコンポジット（Ｂ１Ｆ１）を復元する工程であり、コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）内のコーティング（Ｂ１）に既に面しているその表面のコーティング（Ｂ２）が、工程（１）において使用され、この工程で復元されるコンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の鏡像を有する、工程と
を含み、
工程（１）において使用し、工程（３）において復元したコンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）を生成するために使用したコーティング用組成物（Ｂ１ａ）が、放射線硬化性コーティング用組成物であり、
コーティング用組成物（Ｂ１ａ）が、
４０～９５質量%の範囲の量の少なくとも１種の構成成分（ａ）と、
０．０１～５質量%の範囲の量の、構成成分（ｂ）としての少なくとも１種の添加剤と、
０．０１～１５質量%の範囲の量の、構成成分（ｃ）としての少なくとも１種の光開始剤と、
０～４５質量%の範囲の量の少なくとも１個の炭素二重結合を含む、少なくとも１種の構成成分（ｄ）と
を含み、
（ｉ）構成成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）が、互いにそれぞれ異なっており、（ｉｉ）構成成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）の明記した量がそれぞれ、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の総質量に対するものであり、（ｉｉｉ）コーティング用組成物（Ｂ１ａ）に存在するすべての構成成分の量が合計１００質量%になり、
構成成分（ａ）が、それぞれ互いに異なるまたは少なくとも一部が同一である、式（Ｉ）
（式中、
基Ｒ１は、各場合において互いに独立して、Ｃ２～Ｃ８アルキレン基であり、
基Ｒ２は、各場合において互いに独立して、Ｈまたはメチルであり、
パラメーターｍはそれぞれ、互いに独立して、１～１５の範囲の整数パラメーターであるが、ただし、パラメーターｍは、構成成分（ａ）内の式（Ｉ）の構造単位の少なくとも１個において、少なくとも２である）
の少なくとも３個の構造単位を含む、
方法に関する。
（１） 基材（Ｆ１）および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｂ１Ｆ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の少なくとも一部に、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）を塗布して、コンポジット（Ｂ２ａＢ１Ｆ１）を得る工程と、
（２） 塗布したコーティング用組成物（Ｂ２ａ）を少なくとも一部硬化させて、基材（Ｆ１）、少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）、および少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ２）からなるコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３） 任意に、コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）からコーティング（Ｂ２）を除去して、工程（１）において使用したコンポジット（Ｂ１Ｆ１）を復元する工程であり、コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）内のコーティング（Ｂ１）に既に面しているその表面のコーティング（Ｂ２）が、工程（１）において使用され、この工程で復元されるコンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の鏡像を有する、工程と
を含み、
工程（１）において使用し、工程（３）において復元したコンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）を生成するために使用したコーティング用組成物（Ｂ１ａ）が、放射線硬化性コーティング用組成物であり、
コーティング用組成物（Ｂ１ａ）が、
４０～９５質量%の範囲の量の少なくとも１種の構成成分（ａ）と、
０．０１～５質量%の範囲の量の、構成成分（ｂ）としての少なくとも１種の添加剤と、
０．０１～１５質量%の範囲の量の、構成成分（ｃ）としての少なくとも１種の光開始剤と、
０～４５質量%の範囲の量の少なくとも１個の炭素二重結合を含む、少なくとも１種の構成成分（ｄ）と
を含み、
（ｉ）構成成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）が、互いにそれぞれ異なっており、（ｉｉ）構成成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）の明記した量がそれぞれ、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の総質量に対するものであり、（ｉｉｉ）コーティング用組成物（Ｂ１ａ）に存在するすべての構成成分の量が合計１００質量%になり、
構成成分（ａ）が、それぞれ互いに異なるまたは少なくとも一部が同一である、式（Ｉ）
【化1】
基Ｒ１は、各場合において互いに独立して、Ｃ２～Ｃ８アルキレン基であり、
基Ｒ２は、各場合において互いに独立して、Ｈまたはメチルであり、
パラメーターｍはそれぞれ、互いに独立して、１～１５の範囲の整数パラメーターであるが、ただし、パラメーターｍは、構成成分（ａ）内の式（Ｉ）の構造単位の少なくとも１個において、少なくとも２である）
の少なくとも３個の構造単位を含む、
方法に関する。
【0018】
好ましくは、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の構成成分（ａ）における、それぞれ互いに異なる、または少なくとも一部が同じ式（Ｉ）である少なくとも３個の構造単位におけるパラメーターｍは、各場合において少なくとも２である。
【0019】
本発明の方法は、エンボス構造、より詳細にはマイクロ構造および／またはナノ構造を非常に高度のモデル化精度でコーティング（Ｂ２）に転写することを可能にし、その結果、エンボス中に、調節した深さが失われず、モデル化が、詳細には、１０ｎｍ～１０００μｍの構造幅の範囲、および０．１ｎｍ～１０００μｍの構造深さの範囲の高い精度で行われることを驚くべきことに見いだした。この文脈では、本発明の方法により、放射線硬化性コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の基材（Ｆ１）へのコーティングによって得ることが可能なコンポジット（Ｆ１Ｂ１）を用いて、非常に高度のモデル化精度および高度なレベルの複製の成功率でエンボス構造を転写することが可能となることを特に驚くべきことに見いだした。
【0020】
放射線硬化性コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の好ましくは移動する基材（Ｆ１）へのコーティングによって得ることが可能な、使用したコンポジット（Ｆ１Ｂ１）のコーティング（Ｂ１）は、高い二重結合の転化にとって重要であるので、本発明の方法は、かなり有利に適用することができることを驚くべきことにさらに見いだした。その結果、本発明の方法の工程（３）におけるコーティング（Ｂ２）とコンポジットとの間に効果的な分離が可能となる。基材（Ｆ１）上のコーティング（Ｂ１）は、非常に良好な接着によって区別されるので、本発明の方法は、かなり有利に適用することができることをさらに驚くべきことに見いだした。
【0021】
本発明の方法を使用することにより、特に、一層大型の構成成分および／または非平面形状を有する構成成分に、このようなエンボス構造を有するコーティングを設けること、またはこのようなエンボス構造を有するコーティングを前記構成成分に転写することが可能となるということをさらに驚くべきことに見いだした。このようなエンボス構造が設けられた得られたコーティング（Ｂ２）は、十分な耐候安定性によって区別され、したがって、その光学的、生体工学的および／または触覚的外観に関して悪影響を与えないことを、さらに驚くべきことに見いだした。さらに、本発明の方法により、このようなエンボス構造を有するコーティング（Ｂ２）を、基材とコーティングとの間に存在する１つもしくは複数のさらなる層または任意にコーティングしたフィルムを何ら必要とすることなく、大型構成成分、および／または非平面形状を有する構成成分などのこのような基材に直接、塗布または接合させることが可能となる。
【0022】
さらに、工程（１）において使用したコーティング用組成物（Ｂ２ａ）が、ＵＶ照射によって硬化性コーティング用組成物などの放射線硬化性コーティング用組成物である場合、この組成物は、硬化を生じさせるため、ＵＶ照射が、例えば、１２５μｍの厚さのＰＥＴフィルム（Ｆ１）、および最大で１５０μｍの厚のコーティング（Ｂ１）を構成することができるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）を貫通しなければならないという事実があるにも関わらず、迅速な過程速度でさえも、工程（２）において少なくとも一部がまたは完全に硬化することを驚くべきことに見いだした。さら驚くべきことは、コーティング（Ｂ２）は、本方法の工程（３）において、コンポジット（Ｆ１Ｂ１）から容易に分離することができることである。特に驚くべきことは、少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）の特定の構成のために、任意の慣用的な放射線硬化したコーティング（Ｂ２）に関して、このような良好な剥離効果が実現することである。
【0023】
工程（１）において使用したコーティング用組成物（Ｂ２ａ）が、物理的に乾燥性の、熱硬化性および／または化学硬化性コーティング用組成物である場合、工程（１）における（Ｂ２ａ）の塗布時の、コーティング（Ｂ１）のエンボス構造は、この場合、（Ｂ２ａ）におけるこれらの場合に通常、存在する溶媒の蒸発により、大きく収縮する可能性があることを示唆し、通常、一層、乏しいモデル化精度をもたらすという事実があるにも関わらず、良好なモデル化精度で転写されることをさらに驚くべきことに見いだした。しかし、現在の場合、このことは、驚くべきことに見いだされなかった。この場合、さらに、本方法の任意の工程（３）において、コーティング（Ｂ２）は、コンポジット（Ｆ１Ｂ１）から容易に分離することが可能なことがやはり驚くべきことである。特に驚くべきことは、少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）の特定の構成のために、任意の慣用的な物理的に乾燥させ、熱硬化し、および／または化学的に硬化したコーティング（Ｂ２）に関して、このような良好な剥離効果が実現することである。
【0024】
マイクロ構造および／またはナノ構造などの、エンボス構造を転写するために、工程（１）における本発明の方法において使用することができるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）は、再使用可能であることを驚くべきことにさらに見いだし、このことは、経済的状況では有利である。驚くべきことに、さらに、コンポジット（Ｆ１Ｂ１）は、再使用可能であり、したがっていくつかの回数、利用可能であるばかりではなく、工業的な大規模で迅速かつ安価に生成することができる。
【0025】
本発明のさらなる主題はまた、基材（Ｆ１）、少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）、および（Ｂ１）に塗布されて少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ２）からなるコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）であって、コーティング（Ｂ１）が、基材（Ｆ１）の表面の少なくとも一部に塗布されて、少なくとも一部がエンボスされたコーティング用組成物（Ｂ１ａ）を、放射線硬化により少なくとも一部を硬化させることによって生成可能であり、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）が、放射線硬化性コーティング用組成物であり、
コーティング用組成物（Ｂ１ａ）が、
４０～９５質量%の範囲の量の少なくとも１種の構成成分（ａ）と、
０．０１～５質量%の範囲の量の、構成成分（ｂ）としての少なくとも１種の添加剤と、
０．０１～１５質量%の範囲の量の、構成成分（ｃ）としての少なくとも１種の光開始剤と
０～４５質量%の範囲の量の、少なくとも１個の炭素二重結合を含む、少なくとも１種の構成成分（ｄ）と、
を含み、
（ｉ）構成成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）が、互いにそれぞれ異なっており、（ｉｉ）構成成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）の明記した量がそれぞれ、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の総質量に対するものであり、（ｉｉｉ）コーティング用組成物（Ｂ１ａ）に存在するすべての構成成分の量が合計１００質量%になり、
構成成分（ａ）が、それぞれ互いに異なるまたは少なくとも一部が同一である、式（Ｉ）
（式中、
基Ｒ１は、各場合において互いに独立して、Ｃ２～Ｃ８アルキレン基であり、
基Ｒ２は、各場合において互いに独立して、Ｈまたはメチルであり、
パラメーターｍはそれぞれ、互いに独立して、１～１５の範囲の整数パラメーターであるが、ただし、パラメーターｍは、構成成分（ａ）内の式（Ｉ）の構造単位の少なくとも１個において、少なくとも２である）
の少なくとも３個の構造単位を含む、
コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）である。
コーティング用組成物（Ｂ１ａ）が、
４０～９５質量%の範囲の量の少なくとも１種の構成成分（ａ）と、
０．０１～５質量%の範囲の量の、構成成分（ｂ）としての少なくとも１種の添加剤と、
０．０１～１５質量%の範囲の量の、構成成分（ｃ）としての少なくとも１種の光開始剤と
０～４５質量%の範囲の量の、少なくとも１個の炭素二重結合を含む、少なくとも１種の構成成分（ｄ）と、
を含み、
（ｉ）構成成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）が、互いにそれぞれ異なっており、（ｉｉ）構成成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）の明記した量がそれぞれ、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の総質量に対するものであり、（ｉｉｉ）コーティング用組成物（Ｂ１ａ）に存在するすべての構成成分の量が合計１００質量%になり、
構成成分（ａ）が、それぞれ互いに異なるまたは少なくとも一部が同一である、式（Ｉ）
【化2】
基Ｒ１は、各場合において互いに独立して、Ｃ２～Ｃ８アルキレン基であり、
基Ｒ２は、各場合において互いに独立して、Ｈまたはメチルであり、
パラメーターｍはそれぞれ、互いに独立して、１～１５の範囲の整数パラメーターであるが、ただし、パラメーターｍは、構成成分（ａ）内の式（Ｉ）の構造単位の少なくとも１個において、少なくとも２である）
の少なくとも３個の構造単位を含む、
コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）である。
【0026】
好ましくは、本コンポジットは、方法工程（１）および（２）によって得られる。
【0027】
本発明のさらなる主題はさらに、独立フィルムの形態の、その表面の１つに少なくとも一部エンボスしたコーティング（Ｂ２）を生成するため、または基材（Ｆ２）、少なくとも１種の接着剤（Ｋ）およびコーティング（Ｂ２）からなるコンポジット（Ｂ２ＫＦ２）を生成するための、本発明のコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）を使用する方法である。このコンポジット（Ｂ２ＫＦ２）は、好ましくは、方法段階（３ａ）、（３ｂ）および（３ｃ）を横断的に行うことによって、具体的には、
（３ａ） コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）の表面の少なくとも一部に、コーティング（Ｂ２）を有する側で、接着剤（Ｋ）を塗布して、コンポジット（ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３ｂ） 段階（３ａ）の後に得られたコンポジット（ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）に、接着剤（Ｋ）を有するその表面の少なくとも一部に、基材（Ｆ２）を適用するまたはその反対を行い、コンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３ｃ） コンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）からコンポジット（Ｂ１Ｆ１）を剥離して、コンポジット（Ｆ２ＫＢ２）を得る工程であり、このコンポジットのコーティング（Ｂ２）が、その表面に、コンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の鏡像を少なくとも部分的に有する工程と
によって得られる。
（３ａ） コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）の表面の少なくとも一部に、コーティング（Ｂ２）を有する側で、接着剤（Ｋ）を塗布して、コンポジット（ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３ｂ） 段階（３ａ）の後に得られたコンポジット（ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）に、接着剤（Ｋ）を有するその表面の少なくとも一部に、基材（Ｆ２）を適用するまたはその反対を行い、コンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３ｃ） コンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）からコンポジット（Ｂ１Ｆ１）を剥離して、コンポジット（Ｆ２ＫＢ２）を得る工程であり、このコンポジットのコーティング（Ｂ２）が、その表面に、コンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の鏡像を少なくとも部分的に有する工程と
によって得られる。
【図面の簡単な説明】
【0028】
【発明を実施するための形態】
【0029】
包括的記載
用語「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」は、本発明による、例えば、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）、および本発明の方法、およびその方法工程などにより使用されるコーティング用組成物に関連する本発明の意味では、好ましくは、「からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｏｆ）」という定義を有する。例えば、本発明により使用されるコーティング用組成物（Ｂ１ａ）に関すると、構成成分（ａ）および（ｂ）およびまた（ｃ）ならびに任意に（ｄ）に加えて、以下に特定される、および本発明により使用されるコーティング用組成物（Ｂ１ａ）中に任意に存在する１種または複数の他の構成成分をその組成物中に含ませることもさらに可能である。構成成分はすべて、以下に特定されているその好ましい実施形態にそれぞれ存在してもよい。本発明の方法に関すると、工程（１）および（２）ならびにまた任意に（３）に加えて、例えば、工程（３ａ）、（３ｂ）および（３ｃ）および（４）～（７）などのさらに任意の方法工程を有してもよい。
用語「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」は、本発明による、例えば、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）、および本発明の方法、およびその方法工程などにより使用されるコーティング用組成物に関連する本発明の意味では、好ましくは、「からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｏｆ）」という定義を有する。例えば、本発明により使用されるコーティング用組成物（Ｂ１ａ）に関すると、構成成分（ａ）および（ｂ）およびまた（ｃ）ならびに任意に（ｄ）に加えて、以下に特定される、および本発明により使用されるコーティング用組成物（Ｂ１ａ）中に任意に存在する１種または複数の他の構成成分をその組成物中に含ませることもさらに可能である。構成成分はすべて、以下に特定されているその好ましい実施形態にそれぞれ存在してもよい。本発明の方法に関すると、工程（１）および（２）ならびにまた任意に（３）に加えて、例えば、工程（３ａ）、（３ｂ）および（３ｃ）および（４）～（７）などのさらに任意の方法工程を有してもよい。
【0030】
少なくとも工程（１）および（２）および任意に（３）を含む、エンボス構造を転写する本発明の方法
本発明の第１の主題は、上で観察された通り、基材（Ｆ１）および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｂ１Ｆ１）を使用する、エンボス構造をコーティング（Ｂ２）の少なくとも一部に転写する方法であって、コーティング（Ｂ２）、およびコンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）が、互いに鏡像であるエンボス構造を有しており、少なくとも工程（１）および（２）ならびにまた、任意に（３）を含む、方法である。
本発明の第１の主題は、上で観察された通り、基材（Ｆ１）および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｂ１Ｆ１）を使用する、エンボス構造をコーティング（Ｂ２）の少なくとも一部に転写する方法であって、コーティング（Ｂ２）、およびコンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）が、互いに鏡像であるエンボス構造を有しており、少なくとも工程（１）および（２）ならびにまた、任意に（３）を含む、方法である。
【0031】
本発明の方法は、好ましくは連続法である。
【0032】
一方で、方法工程（１）～（３）を行った後、工程（１）において使用したコンポジット（Ｂ１Ｆ１）は、復元される、すなわち回収されて、好ましくは再使用され得る、すなわち本方法に再度、使用され得る。一方、コーティング（Ｂ２）が得られ、このコーティング（Ｂ２）は、コンポジット（Ｆ１Ｂ１Ｂ２）内のコーティング（Ｂ１）に既に面しているその表面に、工程（１）において使用し、次に復元させたコンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の鏡像を有する。
【0033】
任意の工程（３）によれば、（Ｂ２）は、コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）内のコーティング（Ｂ２）からコンポジット（Ｂ１Ｆ１）を剥離することにより、またはその反対で独立フィルムとして得ることができる。これにより、コンポジット（Ｂ１Ｆ１）か復元する。
【0034】
コーティング（Ｂ２）は好ましくは、工程（３）において、段階（３ａ）、（３ｂ）および（３ｃ）により３段階で、具体的には、
（３ａ） コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）の表面の少なくとも一部に、コーティング（Ｂ２）を有す側で、接着剤（Ｋ）を塗布して、コンポジット（ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３ｂ） 段階（３ａ）の後に得られたコンポジット（ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）に、接着剤（Ｋ）を有するその表面の少なくとも一部に、基材（Ｆ２）を適用するまたはその反対を行い、コンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３ｃ） コンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）からコンポジット（Ｂ１Ｆ１）を剥離して、コンポジット（Ｆ２ＫＢ２）を得る工程であり、このコンポジットのコーティング（Ｂ２）が、その表面に、コンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の鏡像を少なくとも部分的に有する工程と
によって、コンポジット（Ｂ２ＫＦ２）の形態で、得られる。
（３ａ） コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）の表面の少なくとも一部に、コーティング（Ｂ２）を有す側で、接着剤（Ｋ）を塗布して、コンポジット（ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３ｂ） 段階（３ａ）の後に得られたコンポジット（ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）に、接着剤（Ｋ）を有するその表面の少なくとも一部に、基材（Ｆ２）を適用するまたはその反対を行い、コンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３ｃ） コンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）からコンポジット（Ｂ１Ｆ１）を剥離して、コンポジット（Ｆ２ＫＢ２）を得る工程であり、このコンポジットのコーティング（Ｂ２）が、その表面に、コンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の鏡像を少なくとも部分的に有する工程と
によって、コンポジット（Ｂ２ＫＦ２）の形態で、得られる。
【0035】
次に、コーティング（Ｂ２）は、段階（３ｃ）の後に得られたコンポジット（Ｆ２ＫＢ２）から剥離することによって、独立フィルムとして、次に、得ることができる。
【0036】
したがって、コンポジット（Ｆ２ＫＢ２）の形態で任意に存在するコーティング（Ｂ２）を生成するために、本発明の方法の工程（１）～（３）を行う。
【0037】
所望のエンボス構造は、好ましくは放射線硬化性コーティング用組成物（Ｂ２ａ）を、方法工程（１）による基材（Ｆ１）および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｂ１Ｆ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の少なくとも一部に、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）に、または工程（２）の実施後にコーティング（Ｂ２）に塗布することによって転写される。
【0038】
用語「エンボスする」とは、工程（１）の後にコーティング用組成物（Ｂ２ａ）または工程（２）の後のコーティング（Ｂ２）の表面の少なくとも一部に、エンボス構造を少なくとも部分的に設けることを指す。この場合、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）またはコーティング（Ｂ２）の少なくともある領域に、エンボス構造が設けられる。好ましくは、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）またはコーティング（Ｂ２）の領域全体に、エンボス構造が設けられる。類似の注釈が、工程（１）においてエンボス用ダイとして使用され、基材（Ｆ１）および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなる、少なくとも一部がエンボスされたコンポジット（Ｂ１Ｆ１）であって、であって、以下に記載した工程（４）～（７）により生成することができるコンポジット（Ｂ１Ｆ１）に関する用語「エンボスする」に関連して該当する。
【0039】
コンポジット（Ｂ１Ｆ１）および（Ｂ２ＫＦ２）およびコーティング（Ｂ２）のエンボス構造は、好ましくは、および各場合において互いに独立して、繰り返しおよび／または規則的配列パターンに基づいている。構造は、各場合において、連続的な溝構造として、他には複数の好ましくは繰り返された個々のエンボス構造などの連続的なエンボス構造であってもよい。この場合、それぞれの個々のエンボス構造は、次に、エンボス構造のエンボス高さを画定する、多かれ少なかれ強力な目立ったリッジ（エンボス隆起）を有する溝構造に好ましくは基づくことができる。好ましくは繰り返される個々のエンボス構造のリッジの個々の形状によれば、平面図は、様々な、例えば、好ましくは、屈曲状、のこぎり歯状、六角形、ダイヤモンド形状、ひし形状、平方四辺形（ｐａｒａｌｌｅｌｏｇｒａｍｍａｔｉｃａｌ）、ハニカム形状、円筒形、点状、星形形状、ロープ形状、網状、多角形、好ましくは三角形、正方形、より好ましくは長方形および正方形、五角形、六角形、七角形および八角形、ワイヤー形状、楕円形、長円形および格子形状のパターンなどの、複数の好ましくは繰り返される個々のエンボス構造を示してもよく（それらのそれぞれは異なる）、少なくとも２つのパターンは、互いに重ね合わせることがやはり可能である。個々のエンボス構造のリッジはまた、湾曲状、すなわち凸構造および／または凹構造を有してもよい。
【0040】
個々のエンボス構造は、リッジの幅などのその幅によって、言い換えるとその構造幅によって、およびエンボスの高さによって、言い換えるとその構造高さ（または、構造深さ）によって記載されてもよい。リッジの幅などの構造幅は、最大で１センチメートルの長さを有してもよいが、好ましくは、１０ｎｍ～１ｍｍの範囲で位置する。構造高さは、好ましくは、０．１ｎｍ～１ｍｍの範囲で位置する。しかし、好ましくは、個々のエンボス構造は、マイクロ構造および／またはナノ構造を表す。ここで、マイクロ構造は、マイクロメートルの範囲の特徴部を有する構造（構造幅および構造高さの両方に関して）である。ここで、ナノ構造は、ナノメートルの範囲の特徴部を有する構造（構造幅および構造高さの両方に関して）である。マイクロ構造およびナノ構造は、この場合、ナノメートルの範囲の構造幅、およびマイクロメートル範囲の構造高さを有する、またはその逆である構造である。用語「構造高さ」および「構造深さ」は、この場合、相互交換可能である。
【0041】
個々のエンボス構造の構造幅は、好ましくは１０ｎｍ～５００μｍの範囲、より好ましくは２５ｎｍ～４００μｍの範囲、非常に好ましくは５０ｎｍ～２５０μｍの範囲、より詳細には１００ｎｍ～１００μｍの範囲に位置する。個々のエンボス構造の構造高さは、好ましくは１０ｎｍ～５００μｍの範囲、より好ましくは２５ｎｍ～４００μｍの範囲、非常に好ましくは５０ｎｍ～３００μｍの範囲、より詳細には１００ｎｍ～２００μｍの範囲に位置する。これは、コンポジット（Ｆ１Ｂ１）およびコンポジット（Ｂ２ＫＦ２）およびコーティング（Ｂ２）のエンボス構造の場合にその通りとなる。
【0042】
個々のエンボス構造の構造幅および構造高さは、この場合、表面を機械的に走査することによって決定する。この場合、エンボス高さは、試料のウェブ幅の上に均質に分布した線上の１０個以上の点で測定され、走査機器は、エンボス構造を圧縮しないことを確実にするよう気を付ける。構造高さの決定は、モデル化の精度の決定であり、以下に記載されている方法に従って、走査型力顕微鏡法により行われる。
【0043】
工程（１）
本発明の方法の工程（１）は、基材（Ｆ１）および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｂ１Ｆ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の少なくとも一部に、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）を塗布して、コンポジット（Ｂ２ａＢ１Ｆ１）を得ることを実現する。
本発明の方法の工程（１）は、基材（Ｆ１）および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｂ１Ｆ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の少なくとも一部に、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）を塗布して、コンポジット（Ｂ２ａＢ１Ｆ１）を得ることを実現する。
【0044】
工程（１）において使用される、コンポジット（Ｆ１Ｂ１）の少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）は、好ましくは、マイクロメートルおよび／またはナノメートルの範囲のエンボスを有する。
【0045】
（Ｂ１）で少なくとも一部がコーティングされている基材（Ｆ１）は、そこに塗布される、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）またはコーティング（Ｂ２）のための担体物質となる。
【0046】
基材（Ｆ１）、またはコーティングされている基材を使用する場合、基材（Ｆ１）の表面に位置する層は、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリエステル（ポリカーボネートおよびポリ酢酸ビニル、好ましくはＰＢＴおよびＰＥＴなどのポリエステルを含む）、ポリアミド、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、やはりまたポリブタジエンなど）、ポリアクリロニトリル、ポリアセタール、ポリアクリロニトリル－エチレン－プロピレン－ジエン－スチレンコポリマー（Ａ－ＥＰＤＭ）、ポリエーテルイミド、フェノール樹脂、ウレア樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン（ＴＰＵを含む）、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテル、ポリビニルアルコールおよびそれらの混合物からなる群からより詳細には選択される少なくとも１種の熱可塑性ポリマーから好ましくはなる。特に、好ましい基材、またはその表面の層は、例えば、ＰＰ（ポリプロピレン）などのポリオレフィンであり、これは、代替として、アイソタクチック、シンジオタクチックまたはアタクチックであってもよく、代替として、単軸延伸または二軸延伸により方向性があるまたは方向性がない、ＳＡＮ（スチレン－アクリロニトリルコポリマー）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）、ＰＢＴ（ポリ（ブチレンテレフタレート））、ＰＡ（ポリアミド）、ＡＳＡ（アクリロニトリル－スチレン－アクリルエステルコポリマー）およびＡＢＳ（アクリロニトリル－ブタジエン－スチレンコポリマー）、およびさらにそれらの物理混合物（ブレンド）であってもよい。特に、ＰＰ、ＳＡＮ、ＡＢＳ、ＡＳＡ、やはりまたＡＢＳまたはＡＳＡとＰＡまたはＰＢＴまたはＰＣとのブレンドが好ましい。とりわけ、ＰＥＴ、ＰＢＴ、ＰＰ、ＰＥおよびポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、または耐衝撃性改質ＰＭＭＡが好ましい。基材（Ｆ１）に対する材料として使用するため、ポリエステルがとりわけ好ましく、ＰＥＴが最も好ましい。代替として、基材（Ｆ１）自体（任意に、そこに塗布される少なくとも１種の上述のポリマーの層が存在する場合でも）は、ガラス、セラミック、金属、紙および／または布地などの様々な材料から作製されてもよい。その場合、基材（Ｆ１）は、好ましくはプレートであり、例えば、ロールツープレートエンボス装置に使用されてもよい。
【0047】
基材（Ｆ１）の厚さは、好ましくは、２μｍ～５ｍｍである。特に、２５～１０００μｍ、より詳細には５０～３００μｍの層の厚さが好ましい。
【0048】
基材（Ｆ１）は、好ましくはフィルム、より好ましくはフィルムウェブ、非常に好ましくは連続フィルムウェブである。その場合、基材（Ｆ１）は、好ましくはロールツーロールエンボス装置に使用されてもよい。コーティング（Ｂ１）の厚さは、好ましくは０．１～５００μｍ、より好ましくは１～３００μｍである。
【0049】
本発明の意味では、用語「連続フィルム」または「連続フィルムウェブ」とは、１００ｍ～１０ｋｍの長さを有するフィルムを好ましくは指す。
【0050】
工程（１）が、行われる場合（および好ましくは、同様に、本方法の工程（２）および（３）を行う場合）、使用されるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）は、好ましくは動かされ、したがって、移動性コンポジットとなる。工程（１）の実施の間、コンポジット（Ｆ１Ｂ１）は、コンベヤベルトなどの輸送デバイスによって好ましくは動かされる。したがって、工程（１）を行うために使用される対応する装置は、このような輸送デバイスを好ましくは含む。工程（１）を実施するために使用される対応する装置は、コンポジット（Ｆ１Ｂ１）の表面の少なくとも一部に、好ましくは放射線硬化性コーティング用組成物（Ｂ２ａ）を塗布するための手段をさらに備える。
【0051】
工程（１）によって、コンポジット（Ｆ１Ｂ１）から転写される望ましい（鏡像）エンボス構造は、好ましくは放射線硬化性コーティング用組成物（Ｂ２ａ）を基材（Ｆ１）および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の少なくとも一部に塗布することによって、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）に、および工程（２）の実施後にコーティング（Ｂ２）に転写される。したがって、コンポジット（Ｆ１Ｂ１）は、（Ｂ２ａ）または（Ｂ２）のための担体物質として機能するだけではなく、エンボス用ダイとしてもさらに機能する。
【0052】
工程（１）におけるエンボス用ダイとして使用されるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）は、好ましくは再使用可能であり、好ましくは本発明の方法において少なくとも１個のエンボス構造を転写するために繰り返し使用することができる。工程（１）により、マイクロ構造および／またはナノ構造がエンボス構造としてコーティング用組成物（Ｂ２ａ）に、および工程（２）の実施後にコーティング（Ｂ２）に転写される。
【0053】
コンポジット（Ｆ１Ｂ１）は、少なくとも一部がエンボスされておりかつ完全に硬化したコーティング（Ｂ１）を有する、フィルムウェブ（Ｆ１）を好ましくは含む。特に好ましくは、基材（Ｆ１）は、少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）を有する連続フィルムウェブであり、こうして、コンポジット（Ｆ１Ｂ１）は連続エンボス用ダイとなる。
【0054】
エンボス用ダイとして使用されるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）は、「ネガ構造（ネガ形態）」、すなわち、本発明の方法の工程（１）において、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）に、および工程（２）の実施後に、コーティング（Ｂ２）に転写される、エンボス構造の鏡像を有する。
【0055】
工程（１）を実施するために使用される対応する装置は、基材（Ｆ１）および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の少なくとも一部に、好ましくは放射線硬化性コーティング用組成物（Ｂ２ａ）を塗布するための手段を備える。さらに、使用される装置は、（Ｂ１）により少なくとも一部がコーティングされている連続フィルムウェブの形態で好ましくは使用される基材（Ｆ１）に、言い換えると、放射線硬化性コーティング用組成物（Ｂ２ａ）の塗布後に対応するコンポジット（Ｆ１Ｂ１）に、圧力を印加するため、またはこうして塗布したコーティング用組成物（Ｂ２ａ）をプレスするための、少なくとも１個のロールを備えるロール機構またはグリッドロール機構などの手段を好ましくは有しており、この手段は、放射線硬化性コーティング用組成物（Ｂ２ａ）を塗布するための手段の好ましくは下流（コンポジット（Ｆ１Ｂ１）の運搬方向に見る）に位置する。
【0056】
上記の通り、プレスするまたは圧力を印加するための好適な手段は、少なくとも１個のロールを備えるロール機構またはグリッドロール機構である。グリッドロール機構は、この場合、例えば、鋼製ロール、またはニッケル製ロールとしての金属製ロール、またはそうでない場合、石英をベースとするロールもしくは少なくとも１種のプラスチックによりコーティングされているロールを備える。
【0057】
工程（１）に使用されるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）であって、基材（Ｆ１）および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）は以下、「マスター基材」または「マスターフィルム」とも称される。基材（Ｆ１）が、フィルムである場合、対応するマスターフィルムは、「マスターフィルム」と呼ばれる。基材（Ｆ１）が、フィルムウェブである場合、対応するマスターフィルムは、「マスターフィルムウェブ」と呼ばれる。マスターフィルム上のコーティング（Ｂ１）はまた、本明細書のこれ以降、「少なくとも一部が硬化したマスターコーティング」または「マスターコーティング層」とも称され、硬化したマスターコーティングを生成するために使用されるコーティング用組成物（Ｂ１ａ）は、「マスターコーティング」と称される。コンポジット（Ｆ１Ｂ１）における（Ｆ１）と（Ｂ１）との間に、さらなる（コーティング）層が好ましくは存在しない。しかし、コンポジット（Ｆ１Ｂ１）の（Ｆ１）と（Ｂ１）との間に存在する少なくとも１つの接着促進層が存在することがやはり可能であり、この層は、この場合、ＵＶ照射に好ましくは透過性である。
【0058】
エンボス用ダイ（Ｆ１Ｂ１）として使用されるコンポジットは、使用されるコーティング用組成物（Ｂ２ａ）を用いて工程（１）を行う前に、任意に事前処理され得る。このような事前処理は、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）による、エンボス用ダイの湿潤を含むか、または好ましくは湿潤である。
【0059】
工程（２）
本発明の方法の工程（２）により、塗布したコーティング用組成物（Ｂ２ａ）を少なくとも一部硬化させて、基材（Ｆ１）、少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）、および少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ２）からなるコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）を得ることが実現される。コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）は以下、「転写用基材」とも称される。（Ｆ１）がフィルムである場合、コンポジットは、それ対応して、転写フィルムとなる。
本発明の方法の工程（２）により、塗布したコーティング用組成物（Ｂ２ａ）を少なくとも一部硬化させて、基材（Ｆ１）、少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）、および少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ２）からなるコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）を得ることが実現される。コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）は以下、「転写用基材」とも称される。（Ｆ１）がフィルムである場合、コンポジットは、それ対応して、転写フィルムとなる。
【0060】
好ましくは、工程（２）における少なくとも一部の硬化の期間全体を通して、コンポジット（Ｆ１Ｂ１）に圧力を印加する、または塗布したコーティング用組成物（Ｂ２ａ）をプレスするための、工程（１）に使用される手段は、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）および／または形成するコーティング（Ｂ２）と接触している。
【0061】
したがって、工程（１）および（２）は、好ましくは、同時に行われる。その場合、とりわけ放射線硬化性コーティング用組成物がコーティング用組成物（Ｂ２ａ）として使用される場合、工程（２）における硬化は、工程（１）の実施の間に、好ましくはその場で行われる。代替的に、およびとりわけ、使用されるコーティング用組成物（Ｂ２ａ）が、熱硬化性および／または化学硬化性コーティング用組成物である場合、工程（１）および（２）は、互いの後に一時的に行われる。
【0062】
したがって、工程（２）を実施するために使用される対応する装置は、硬化性照射によりコーティング用組成物（Ｂ２ａ）に照射するための少なくとも１個の照射線源を好ましくは備える。コーティング用組成物（Ｂ２ａ）は、好ましくはＵＶ硬化性コーティング用組成物であるので、使用される硬化性照射は、好ましくは、ＵＶ照射である。コーティング用組成物（Ｂ２ａ）が、放射線硬化性ではない場合、好ましくは化学硬化性である。その場合、工程（２）における硬化は、例えば、好適な熱放射源の使用によって熱的に行われる。同様に、当然ながら、組合せ硬化、すなわち、熱硬化およびＵＶ照射による硬化が可能である。
【0063】
放射線硬化に好適な照射線源の例には、低圧、中圧および高圧水銀放射体、やはりまた蛍光灯、パルス放射体、ハロゲン化金属放射体（ハロゲンランプ）、レーザー、ＬＥＤ、およびさらには電子フラッシュ設備（これは、光開始剤を使用しないで放射線硬化が可能である）、またはエキシマ放射体が含まれる。放射線硬化は、高エネルギー照射、すなわちＵＶ照射または日光への曝露により、または高エネルギー電子による照射によって行われる。ＵＶ硬化の場合に架橋させるために通常、十分な放射線量は、８０～３０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲にある。当然ながら、硬化のために２個以上の照射線源、例えば、２～４個を使用することも可能である。これらの線源は、それぞれ、異なる波長範囲でやはり発光することができる。
【0064】
工程（２）における少なくとも一部の硬化は、基材として使用されるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）による照射によって好ましくは行われる。
【0065】
任意の工程（３）
本発明の方法における任意の工程（３）により、コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）からコーティング（Ｂ２）を除去して、工程（１）において使用したコンポジット（Ｂ１Ｆ１）の復元をもたらし、コーティング（Ｂ２）は、コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）内のコーティング（Ｂ１）に既に面しているその表面に、工程（１）において使用され、この工程で復元されるコンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の鏡像を有する。
本発明の方法における任意の工程（３）により、コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）からコーティング（Ｂ２）を除去して、工程（１）において使用したコンポジット（Ｂ１Ｆ１）の復元をもたらし、コーティング（Ｂ２）は、コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）内のコーティング（Ｂ１）に既に面しているその表面に、工程（１）において使用され、この工程で復元されるコンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の鏡像を有する。
【0066】
コーティング（Ｂ２）は、コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）内のコーティング（Ｂ２）からコンポジット（Ｂ１Ｆ１）を剥離することにより、またはその反対で独立フィルムとして好ましくは得られる。コンポジット（Ｂ１Ｆ１）は、本方法で復元される。
【0067】
コーティング（Ｂ２）は好ましくは、工程（３）において、段階（３ａ）、（３ｂ）および（３ｃ）により３段階で、具体的には、
（３ａ） コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）の表面の少なくとも一部に、コーティング（Ｂ２）を有する側で、接着剤（Ｋ）を塗布して、コンポジット（ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３ｂ） 段階（３ａ）の後に得られたコンポジット（ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）に、接着剤（Ｋ）を有するその表面の少なくとも一部に、基材（Ｆ２）を適用するまたはその反対を行い、コンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３ｃ） コンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）からコンポジット（Ｂ１Ｆ１）を剥離して、コンポジット（Ｆ２ＫＢ２）を得る工程であり、このコンポジットのコーティング（Ｂ２）が、その表面に、コンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の鏡像を少なくとも部分的に有する工程と
によって、コンポジット（Ｂ２ＫＦ２）の形態で、得られる。
（３ａ） コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）の表面の少なくとも一部に、コーティング（Ｂ２）を有する側で、接着剤（Ｋ）を塗布して、コンポジット（ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３ｂ） 段階（３ａ）の後に得られたコンポジット（ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）に、接着剤（Ｋ）を有するその表面の少なくとも一部に、基材（Ｆ２）を適用するまたはその反対を行い、コンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３ｃ） コンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）からコンポジット（Ｂ１Ｆ１）を剥離して、コンポジット（Ｆ２ＫＢ２）を得る工程であり、このコンポジットのコーティング（Ｂ２）が、その表面に、コンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の鏡像を少なくとも部分的に有する工程と
によって、コンポジット（Ｂ２ＫＦ２）の形態で、得られる。
【0068】
次に、コーティング（Ｂ２）は、段階（３ｃ）の後に得られたコンポジット（Ｆ２ＫＢ２）から剥離することによって、独立フィルムとして、次に、得ることができる。
【0069】
この場合に使用される接着剤（Ｋ）は、ポリアクリレートまたはポリアクリレートをベースとする接着剤などの、好ましくは少なくとも１種の積層用接着剤である。基材（Ｆ２）として、基材（Ｆ１）に関連して既に上で特定したものと同じ材料を使用することが可能である。したがって、基材（Ｆ１）を記載する際に使用される好ましい実施形態はすべて、基材（Ｆ２）と類似して有効である。使用される基材（Ｆ２）は、好ましくは、金属製基材、より詳細には非平面形状を有する構成成分などの構成成分である。前記構成成分は、その表面の少なくとも１つの表面に少なくとも１つのコーティング層または複数の層のコーティングを有するコーティングされた構成成分であってもよく、これは、コンポジット（ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）に塗布されることになる。接着剤（Ｋ）として、接着剤が使用されてもよく、これは、それ自体、多層構造の一部である。このような接着剤（Ｋ）の例は、中間層としてポリマー層（ＰＳ）を有し、これは、次に、その表面のそれぞれの表面に接着剤層（ＫＳ）を有する、対応する構造である。接着剤層（ＫＳ）は、それぞれ、ポリアクリレートまたはポリアクリレートをベースとする接着剤であってもよい。原理的に、任意のタイプのポリマーを使用して、ポリマー層（ＰＳ）を調製することができる。このようなポリマーの例は、ポリ（メタ）アクリレート、ポリエステル（ＰＥＴおよび／またはＰＢＴなど）、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリアミドおよび／またはポリオレフィンである。特に、ＰＥＴなどのポリエステルを使用することができる。ポリマー層（ＰＳ）は、インライナーである。ポリマー層の層厚さは、５～５５μｍ、好ましくは６～５０μｍ、より好ましくは７～４０μｍ、特に８～３０μｍの範囲にあってもよい。接着剤層（ＫＳ）はそれぞれ、最初に、取り扱いがより優れているため、シリコーンペーパーなどの剥離ライナーを有していてもよい。しかし、本発明による方法における接着剤（Ｋ）として使用する前に、この剥離ライナーが取り除かれる。
【0070】
コンポジット（Ｆ１Ｂ１）を生成するための本発明の方法の任意の工程（４）～（７）
本方法の工程（１）に使用されるコンポジット（Ｂ１Ｆ１）であって、基材（Ｆ１）および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｂ１Ｆ１）は、本発明のこれ以降、一層詳細に指定されている工程（４）～（７）によって好ましくは少なくとも得ることができる。図１は、以下のこの図の記載からやはり明白な通り、本発明の方法の工程（４）～（７）の例示的実例を提示している。
本方法の工程（１）に使用されるコンポジット（Ｂ１Ｆ１）であって、基材（Ｆ１）および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｂ１Ｆ１）は、本発明のこれ以降、一層詳細に指定されている工程（４）～（７）によって好ましくは少なくとも得ることができる。図１は、以下のこの図の記載からやはり明白な通り、本発明の方法の工程（４）～（７）の例示的実例を提示している。
【0071】
工程（４）
本発明の方法の工程（４）により、放射線硬化性コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の基材（Ｆ１）の表面の少なくとも一部への塗布が実現する。基材（Ｆ１）は、そこに塗布される、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）またはコーティング（Ｂ１）のための担体物質を構成する。基材（Ｆ１）は、コーティングされていてもよい。基材（Ｆ１）は、好ましくはフィルム、より好ましくはフィルムウェブ、非常に好ましくは連続フィルムウェブである。基材（Ｆ１）の好ましい材料は、ポリエステル、より詳細にはＰＥＴである。基材（Ｆ１）の厚さは、好ましくは、２μｍ～５ｍｍである。特に、２５～１０００μｍ、より詳細には５０～３００μｍの層の厚さが好ましい。
本発明の方法の工程（４）により、放射線硬化性コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の基材（Ｆ１）の表面の少なくとも一部への塗布が実現する。基材（Ｆ１）は、そこに塗布される、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）またはコーティング（Ｂ１）のための担体物質を構成する。基材（Ｆ１）は、コーティングされていてもよい。基材（Ｆ１）は、好ましくはフィルム、より好ましくはフィルムウェブ、非常に好ましくは連続フィルムウェブである。基材（Ｆ１）の好ましい材料は、ポリエステル、より詳細にはＰＥＴである。基材（Ｆ１）の厚さは、好ましくは、２μｍ～５ｍｍである。特に、２５～１０００μｍ、より詳細には５０～３００μｍの層の厚さが好ましい。
【0072】
工程（４）の実施中（および好ましくは、本方法の工程（５）、（６）および（７）の実施中も同様）、基材（Ｆ１）は、好ましくは動かされ、したがって、移動性基材となる。工程（４）の実施中、基材（Ｆ１）は、コンベヤベルトなどの輸送デバイスによって好ましくは動かされる。したがって、工程（４）を実施するために使用される対応する装置は、この種の輸送デバイスを好ましくは備える。工程（４）を実施するために使用される対応する装置は、基材（Ｆ１）の表面の少なくとも一部に、好ましくは放射線硬化性コーティング用組成物（Ｂ１ａ）を塗布するための手段をさらに備える。
【0073】
工程（５）
本発明の方法の工程（５）により、少なくとも１個のエンボス用ダイ（ｐ１）を有する少なくとも１個のエンボス用器具（Ｐ１）によって、基材（Ｆ１）の表面に少なくとも一部塗布された、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の少なくとも一部のエンボスがもたらされる。少なくとも一部のエンボスは、エンボス構造を基材（Ｆ１）に塗布されたコーティング用組成物（Ｂ１ａ）の表面に少なくとも一部転写する。用語「エンボス」は、上で既に定義されている。したがって、エンボスとは、（Ｂ１ａ）または（Ｂ１）に関連すると、コンポジット（Ｆ１Ｂ１ａ）の部分として、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）にエンボス構造を少なくとも一部設けることを指す。この場合、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の少なくともある領域に、エンボス構造が設けられる。好ましくは、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の領域全体に、コンポジット（Ｆ１Ｂ１ａ）の部分として、エンボス構造が設けられる。工程（５）の実施中に、エンボス用器具（Ｐ１）は、塗布されたコーティング用組成物（Ｂ１ａ）に好ましくは圧力が印加されるか、または少なくとも一部がプレスされる。
本発明の方法の工程（５）により、少なくとも１個のエンボス用ダイ（ｐ１）を有する少なくとも１個のエンボス用器具（Ｐ１）によって、基材（Ｆ１）の表面に少なくとも一部塗布された、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の少なくとも一部のエンボスがもたらされる。少なくとも一部のエンボスは、エンボス構造を基材（Ｆ１）に塗布されたコーティング用組成物（Ｂ１ａ）の表面に少なくとも一部転写する。用語「エンボス」は、上で既に定義されている。したがって、エンボスとは、（Ｂ１ａ）または（Ｂ１）に関連すると、コンポジット（Ｆ１Ｂ１ａ）の部分として、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）にエンボス構造を少なくとも一部設けることを指す。この場合、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の少なくともある領域に、エンボス構造が設けられる。好ましくは、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の領域全体に、コンポジット（Ｆ１Ｂ１ａ）の部分として、エンボス構造が設けられる。工程（５）の実施中に、エンボス用器具（Ｐ１）は、塗布されたコーティング用組成物（Ｂ１ａ）に好ましくは圧力が印加されるか、または少なくとも一部がプレスされる。
【0074】
工程（５）は、エンボス構造として、マイクロ構造および／またはナノ構造をコーティング用組成物（Ｂ１ａ）に転写する。
【0075】
したがって、工程（５）を実施するために使用される対応する装置は、少なくとも１個のエンボス用器具（Ｐ１）によって、基材（Ｆ１）の表面に少なくとも一部が塗布されたコーティング用組成物（Ｂ１ａ）を少なくとも一部エンボスするための手段を備える。使用される装置は、放射線硬化性コーティング用組成物（Ｂ１ａ）を（Ｆ１）に塗布した後に、好ましくは連続フィルムウェブの形態で使用される、基材（Ｆ１）表面にプレスする手段（Ｐ１）をさらに備えており、この手段は、基材（Ｆ１）の運搬の方向から見て、放射線硬化性コーティング用組成物（Ｂ１ａ）を塗布する手段の好ましくは下流に位置する。
【0076】
本発明の方法の工程（５）による少なくとも一部のエンボスは、エンボス用器具（Ｐ１）によって行われる。（Ｐ１）は、好ましくは、エンボス用カレンダーであってもよく、これは、グリッド塗布機構部、より好ましくはグリッドロール機構部を好ましくは備える。このカレンダーは、ある間隔で、高さ方向に互いに上に好ましくは配列された、逆方向回転式ロールまたは同方向回転式ロールを有しており、エンボス構造を提供しようとするコンポジット（Ｆ１Ｂ１ａ）がロールに供給され、案内されて、形成するロールニップを通り、このニップ幅は、可変的に調節可能である。グリッドロール機構部は、この場合、例えば、鋼製ロール、またはニッケル製ロール（少量のリンが混合されたニッケルから作製されたロールを含む）としての金属製ロール、または他には、石英をベースとするロールもしくは少なくとも１種のプラスチックによりコーティングされているロールとしての第１のロール、および第２のロールを備える。第１のロール（エンボス用ロール）は、ここでは、エンボス用器具（Ｐ１）として機能し、コンポジット（Ｆ１Ｂ１ａ）の表面にエンボスされ、次に、対応するネガ構造となる、エンボス構造のポジ形態を含む。これは、転じて、本方法の工程（１）において、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）に転写されることになるポジ構造に相当する。エンボス用器具（Ｐ１）は、エンボス用ダイとして、ＵＶコーティングなどの構造化コーティングをそれ自体、有してもよい。第２のロールは、圧印ロールまたはプレスロールとして働く。エンボスされる構造のネガ形態は、慣用的かつ当業者に公知の方法に準拠し、エンボス用器具（Ｐ１）で生成される。構造および材料に応じて、特定の方法が、特に、有利となることがある。本発明によれば、これは、エンボス用器具（Ｐ１）として働くエンボス用ロール、およびエンボス用ダイ（ｐ１）を備えることによって、好ましくは実現される。例えば、（Ｂ１ａ）により少なくとも一部がコーティングされているフィルムウェブの形態の、エンボスされるコンポジット（Ｆ１Ｂ１ａ）は、加圧ロールによって回転方向と反対に動かされる。互いにある距離で配設されている逆方向回転式ロールによって形成されるロールニップの点において、工程（５）に従いエンボスが行われる。エンボス用ダイ（ｐ１）を有する第１のロールは、この場合、このエンボス用ロールに対向する第２のロールによって案内される、コンポジット（Ｆ１Ｂ１ａ）をエンボスするよう働き、第２のロールは、第１のエンボス用ロールに対して、エンボス構造を提供しようとするコンポジット（Ｆ１Ｂ１ａ）をプレスする。必要に応じて、工程（５）は、例えば、３０～１００℃、または最大で８０℃として高温で行われてもよい。この場合、エンボスするためのコンポジット（Ｆ１Ｂ１ａ）を加熱ロール機構部にまず通し、次いで、上記の実際のエンボス手順の前に、任意に赤外光の照射が行われる。エンボス後に、コンポジット（Ｆ１Ｂ１ａ）は、次にエンボスされるが、冷却するために、冷却ロール機構部に任意に通される。代替的に、工程（５）はまた、冷却と共に行われてもよい。この場合、エンボスするためのコンポジット（Ｆ１Ｂ１ａ）は、上記の実際のエンボス手順が行われる前に、まず冷却ロール機構部に通す。使用されるエンボス用器具（Ｐ１）はまた、従来の加圧シリンダーであってもよく、これは、コンポジット（Ｆ１Ｂ１ａ）の表面にエンボスされることになるエンボス構造のネガ形態を有する。このシリンダーは、少なくとも一部をエンボスするため、コンポジット（Ｆ１Ｂ１ａ）にプレスされ得る。
【0077】
工程（５）による少なくとも一部のエンボスのために使用されるエンボス用器具（Ｐ１）の少なくとも１個のエンボス用ダイ（ｐ１）は、「ポジ構造」（「ポジ形態」）を有しており、すなわち、それは、本発明の方法の工程（３）の実施後に得られるコーティング（Ｂ２）によって示されるエンボス構造を有する。エンボス用器具（Ｐ１）は、好ましくは、金属製エンボス用器具であり、より好ましくはニッケルから作製されている。したがって、エンボス用ダイ（ｐ１）は、好ましくは金属製であり、より好ましくはニッケルから作製されており、より詳細には、リンを少量含有するニッケルから作製されている。さらに、少なくとも１種のプラスチックによりコーティングされているロールが使用されてもよい。しかし、代替的に、例えば、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）などの柔らかい物質もまた、生成（ｐ１）に使用されてもよい。（Ｆ１）に塗布されたコーティング用組成物（Ｂ１ａ）は、工程（５）が実施された後、マイクロ構造および／またはナノ構造などの、転写されることになるエンボス構造のネガ形態を示す。
【0078】
使用されるエンボス用器具のエンボス用ダイは、使用されるコーティング用組成物（Ｂ１ａ）を用いて工程（５）を行う前に、任意に事前処理され得る。このような事前処理は、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）を用いるエンボス用ダイの湿潤を含むか、または好ましくはその湿潤である。
【0079】
工程（６）
本発明の方法の工程（６）により、基材（Ｆ１）の表面の少なくとも一部に塗布されておりかつ少なくとも一部がエンボスされているコーティング用組成物（Ｂ１ａ）を少なくとも一部硬化して、基材（Ｆ１）、および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）を得ることが実現する。硬化期間の全体を通じて、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）は、少なくとも１個のエンボス用器具（Ｐ１）の少なくとも１個のエンボス用ダイ（ｐ１）に接触している。
本発明の方法の工程（６）により、基材（Ｆ１）の表面の少なくとも一部に塗布されておりかつ少なくとも一部がエンボスされているコーティング用組成物（Ｂ１ａ）を少なくとも一部硬化して、基材（Ｆ１）、および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）を得ることが実現する。硬化期間の全体を通じて、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）は、少なくとも１個のエンボス用器具（Ｐ１）の少なくとも１個のエンボス用ダイ（ｐ１）に接触している。
【0080】
工程（５）および（６）は、好ましくは、同時に行われる。その場合、工程（６）による硬化は、工程（５）の実施中に、好ましくはその場で行われる。
【0081】
したがって、工程（６）を実施するために使用される対応する装置は、硬化性照射、好ましくはＵＶ照射を放射線硬化性コーティング用組成物（Ｂ１ａ）に照射するための少なくとも１個の照射線源を好ましくは備える。
【0082】
放射線硬化に好適な照射線源の例には、低圧、中圧および高圧水銀放射体、やはりまた蛍光灯、パルス放射体、ハロゲン化金属放射体（ハロゲンランプ）、レーザー、ＬＥＤ、およびさらには電子フラッシュ設備（これは、光開始剤を使用しないで放射線硬化が可能となる）、またはエキシマ放射体が含まれる。放射線硬化は、高エネルギー放射線、すなわちＵＶ照射または日光への曝露により、または高エネルギー電子による照射によって行われる。ＵＶ硬化の場合に架橋させるために通常、十分な放射線量は、８０～３０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲にある。当然ながら、硬化のために２個以上の照射線源、例えば、２～４個を使用することも可能である。これらの線源は、それぞれ、異なる波長範囲でやはり発光することができる。
【0083】
工程（６）における硬化は、基材（Ｆ１）を通過する照射によって好ましくは行われる。その場合、基材（Ｆ１）の透過性は、使用される放射線に対する、使用される少なくとも１種の光開始剤の透過性と調和するのが有利である。したがって、例えば、基材（Ｆ１）としてのＰＥＴ材料、故に例えばＰＥＴフィルムが、３００ｎｍ未満の波長を有する放射線に透過性である。このような照射を用いてラジカルを生成する光開始剤は、例えば、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、エチル２，４，６－トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネートおよびビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドを含む。
【0084】
工程（７）
本発明の方法の工程（７）により、エンボス用器具（Ｐ１）からコンポジット（Ｆ１Ｂ１）の除去がもたらされ、そうして、所望の生成物、すなわち、基材（Ｆ１）および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）を生成する。
本発明の方法の工程（７）により、エンボス用器具（Ｐ１）からコンポジット（Ｆ１Ｂ１）の除去がもたらされ、そうして、所望の生成物、すなわち、基材（Ｆ１）および少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）からなるコンポジット（Ｆ１Ｂ１）を生成する。
【0085】
図１は、コンポジット（Ｆ１Ｂ１）を生成するための、すなわちマスターフィルムを生成するための本発明の方法の工程（４）～（７）を実施するために使用され得る装置であって、工程（４）～（７）に関連する本発明の方法の例示的実例に使用される、装置の側面図を概略的に示している。この装置によって、エンボス用器具（Ｐ１）によって、マイクロ構造および／またはナノ構造などの構造を（Ｂ１ａ）によりコーティングされている基材（Ｆ１）に転写すること、および硬化後、コンポジット（Ｆ１Ｂ１）（図１では、マスターフィルムウェブ（８）と称される）を生成することが可能であり、これは、マスターフィルムとして使用することができる。
【0086】
図１に示されているマスター転写装置（３０）は、転写原理に従い操作され、所望のネガ構造は、ここでは、マスタープレスシリンダー（１７）である構造化プレスシリンダーまたはプレスロールから、コンポジット（Ｆ１Ｂ１ａ）に対応するマスターフィルムウェブ（８ｂ）に塗布された、まだ硬化していないコーティング層に直接、エンボスされ、このコーティング層は、次に、その上に塗布された構造と共に少なくとも一部が硬化され、硬化は、発光ユニット（３）によりその場で行われて、コンポジット（Ｆ１Ｂ１）に対応するマスターフィルムウェブ（８）が得られる。この方法では、基材（Ｆ１）として使用されるフィルムウェブ（８ａ）は、担体物質、言い換えると、塗布したマスターコーティングのない純粋なフィルムしか含んでいないフィルムウェブローラー（１８）から引き出され、様々な偏向ローラーシステムおよびウェブテンションシステムにより案内されて、装置のエンボス領域（１）に導入される。そこで、フィルムウェブ（８ａ）は、加圧ロール（４）とマスタープレスシリンダー（１７）との間の領域に入り、プレス領域の外側で、まだ硬化していないマスターコーティング層（コーティング用組成物Ｂ１ａに対応する）と共に、コーティング塗布デバイス（２７）に供給される。コーティングのこのような塗布は、本発明の方法の工程（４）に相当する。まだ硬化していないマスターコーティング層と一緒にマスターフィルムウェブ（８ｂ）が、マスタープレスシリンダー（１７）の外側表面の区域に沿って動くエンボス領域（１）では、マスタープレスシリンダー（１７）の外側表面にエンボスされたマイクロ構造および／またはナノ構造が、ネガ画像として、マスターフィルムウェブ（８ｂ）のマスターコーティング層に導入されて転写される。これは、本発明の方法の工程（５）に相当する。次に、未硬化のコーティング用組成物（Ｂ１ａ）を含むマスターフィルムウェブ（８ｂ）は、本発明の方法の工程（６）に従って硬化される。硬化は、ここで、例えば、ＵＶ－ＬＥＤから形成されるユニットによるものとして、ＵＶ照射によって、発光ユニット（３）による照射によってその場で少なくとも一部が行われる。結果として生じるマスターフィルム（８）、言い換えると、コンポジット（Ｆ１Ｂ１）は、次いで、本発明の方法の工程（７）に準拠して、マスタープレスシリンダー（１７）の外側表面から採取され、こうして完成したマスターフィルムウェブ（８）が、フィルムウェブローラー（１９）に巻き取られる。次に、フィルムウェブローラー（１９）は、その上に塗布されたマスターコーティング層、ならびにその中にエンボスされたマイクロ構造および／またはナノ構造のネガ画像と共に完成したマスターフィルムウェブ（８）を含む。このフィルムウェブローラー（１９）は取り除かれて、次に、本発明の方法の工程（１）～（３）を実施するための装置に使用することができる。
【0087】
本発明により使用されるコーティング用組成物（Ｂ１ａ）および（Ｂ２ａ）
コーティング用組成物（Ｂ１ａ）
コーティング用組成物（Ｂ１ａ）は、放射線硬化性コーティング用組成物である。用語「放射線硬化性（ｒａｄｉａｔｉｏｎ－ｃｕｒａｂｌｅ）」および「放射線硬化性（ｒａｄｉａｔｉｏｎ ｃｕｒｉｎｇ）」は、ここでは、相互交換可能である。用語「放射線硬化性」とは、電磁波照射および／または微粒子照射による重合性化合物のラジカル重合を好ましくは指し、例は、λ＝４００超～１２００ｎｍ、好ましくは７００～９００ｎｍの波長範囲の（Ｎ）ＩＲ光、ならびに／またはλ＝１００～４００ｎｍ、好ましくはλ＝２００～４００ｎｍ、より好ましくはλ＝２５０～４００ｎｍの波長範囲のＵＶ光、ならびに／または１５０～３００ｋｅＶの範囲およびより好ましくは、少なくとも８０、好ましくは８０～３０００ｍＪ／ｃｍ２の放射線量の電子線照射である。放射線硬化は、特に好ましくは、ＵＶ照射を使用して行われる。コーティング用組成物（Ｂ１ａ）は、好適な照射線源の使用により硬化されてもよい。したがって、（Ｂ１ａ）は、好ましくはＵＶ照射硬化性コーティング用組成物である。
コーティング用組成物（Ｂ１ａ）
コーティング用組成物（Ｂ１ａ）は、放射線硬化性コーティング用組成物である。用語「放射線硬化性（ｒａｄｉａｔｉｏｎ－ｃｕｒａｂｌｅ）」および「放射線硬化性（ｒａｄｉａｔｉｏｎ ｃｕｒｉｎｇ）」は、ここでは、相互交換可能である。用語「放射線硬化性」とは、電磁波照射および／または微粒子照射による重合性化合物のラジカル重合を好ましくは指し、例は、λ＝４００超～１２００ｎｍ、好ましくは７００～９００ｎｍの波長範囲の（Ｎ）ＩＲ光、ならびに／またはλ＝１００～４００ｎｍ、好ましくはλ＝２００～４００ｎｍ、より好ましくはλ＝２５０～４００ｎｍの波長範囲のＵＶ光、ならびに／または１５０～３００ｋｅＶの範囲およびより好ましくは、少なくとも８０、好ましくは８０～３０００ｍＪ／ｃｍ２の放射線量の電子線照射である。放射線硬化は、特に好ましくは、ＵＶ照射を使用して行われる。コーティング用組成物（Ｂ１ａ）は、好適な照射線源の使用により硬化されてもよい。したがって、（Ｂ１ａ）は、好ましくはＵＶ照射硬化性コーティング用組成物である。
【0088】
コーティング用組成物（Ｂ１ａ）は、各場合において、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の総質量に対して、
４０～９５質量%の範囲、好ましくは４５質量%以上～９０質量%の範囲、より好ましくは５５～８５質量%などの５０質量%超の範囲、非常に好ましくは５５または６０～８０質量%の範囲の量の少なくとも１種の構成成分（ａ）と、
０．０１～５質量%の範囲、好ましくは０．０５～４．５質量%の範囲、より好ましくは０．１～４質量%の範囲、非常に好ましくは０．２または０．５～３質量%の範囲の量の構成成分（ｂ）としての少なくとも１種の添加剤と、
０．０１～１５質量%の範囲、好ましくは０．１～１２質量%の範囲、より好ましくは０．５～１０質量%の範囲の量の構成成分（ｃ）としての少なくとも１種の光開始剤と、
０～４５質量%の範囲、好ましくは０～４０質量%の範囲、より好ましくは０～３５質量%の範囲、非常に好ましくは０～３０質量%の範囲の量の、少なくとも１個の炭素二重結合を有する、少なくとも１種の構成成分（ｄ）と
を含む。
４０～９５質量%の範囲、好ましくは４５質量%以上～９０質量%の範囲、より好ましくは５５～８５質量%などの５０質量%超の範囲、非常に好ましくは５５または６０～８０質量%の範囲の量の少なくとも１種の構成成分（ａ）と、
０．０１～５質量%の範囲、好ましくは０．０５～４．５質量%の範囲、より好ましくは０．１～４質量%の範囲、非常に好ましくは０．２または０．５～３質量%の範囲の量の構成成分（ｂ）としての少なくとも１種の添加剤と、
０．０１～１５質量%の範囲、好ましくは０．１～１２質量%の範囲、より好ましくは０．５～１０質量%の範囲の量の構成成分（ｃ）としての少なくとも１種の光開始剤と、
０～４５質量%の範囲、好ましくは０～４０質量%の範囲、より好ましくは０～３５質量%の範囲、非常に好ましくは０～３０質量%の範囲の量の、少なくとも１個の炭素二重結合を有する、少なくとも１種の構成成分（ｄ）と
を含む。
【0089】
したがって、本発明により使用されるコーティング用組成物（Ｂ１ａ）における構成成分（ｄ）の存在は、それぞれ上で示されている下限値が０質量%であることから明白な通り、単に任意のものに過ぎない。好ましくは、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）は、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の総質量に対して、最大で３０質量%の量で構成成分（ｄ）を含む。
【0090】
構成成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）は、それぞれ、互いに異なる。構成成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）の明記した量は、各場合において、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の総質量に対するものである。コーティング用組成物（Ｂ１ａ）中に存在する構成成分すべての量、すなわち構成成分（ａ）、（ｂ）および（ｃ）ならびに任意に（ｄ）、ならびにまた、（Ｂ１ａ）に任意に存在するさらなる構成成分の量は、合計１００質量%である。
【0091】
構成成分（ａ）は、各場合において互いに異なるまたは少なくとも一部が同一の、式（Ｉ）
（式中、
基Ｒ１は、各場合において互いに独立して、Ｃ２～Ｃ８アルキレン基であり、
基Ｒ２は、各場合において互いに独立して、Ｈまたはメチルであり、
パラメーターｍは、それぞれ互いに独立して、１～１５の範囲、好ましくは１～１０の範囲、より好ましくは１～８または２～８の範囲、非常に好ましくは１～６または２～６の範囲、より詳細には１～４または２～４の範囲の整数パラメーターであるが、ただし、式（Ｉ）の構造単位の少なくとも１個において、パラメーターｍは、少なくとも２、好ましくは少なくとも３であることを）
の少なくとも３個の構造単位を有する。
【化3】
基Ｒ１は、各場合において互いに独立して、Ｃ２～Ｃ８アルキレン基であり、
基Ｒ２は、各場合において互いに独立して、Ｈまたはメチルであり、
パラメーターｍは、それぞれ互いに独立して、１～１５の範囲、好ましくは１～１０の範囲、より好ましくは１～８または２～８の範囲、非常に好ましくは１～６または２～６の範囲、より詳細には１～４または２～４の範囲の整数パラメーターであるが、ただし、式（Ｉ）の構造単位の少なくとも１個において、パラメーターｍは、少なくとも２、好ましくは少なくとも３であることを）
の少なくとも３個の構造単位を有する。
【0092】
構成成分（ａ）は、好ましくは、式（Ｉ）と同一の少なくとも３個の構造単位を有する。
【0093】
記号
は、ここでは、構成成分（ａ）である上位構造に対する個々のラジカルの結合を表し、言い換えると、例えば、構成成分（ａ）の上位構造に対する式（Ｉ）の構造単位内の基－［Ｏ－Ｒ１］ｍ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ（Ｒ２）＝ＣＨ２の結合を表す。この結合は、構造－［Ｏ－Ｒ１］ｍ－の酸素原子の、上位ラジカルの炭素原子への連結を介して好ましくは起こる。同様の注釈は、式（Ｉ）の他の構造単位に関して該当する。式（Ｉ）の少なくとも３個の構造単位のすべてが、単一構成成分、すなわち構成成分（ａ）内で組み合わされるのが明白である。
【化4】
【0094】
構成成分（ａ）は、好ましくは、式（Ｉ）である構造単位を正確に３個有する。その場合、構成成分（ａ）は、正確に３個の官能性（メタ）アクリル基を有する。代替的に、式（Ｉ）の構造単位はまた、それぞれ、構成成分（ａ）の部分として、３回を超えて存在してもよい。その場合、例えば構成成分（ａ）は、例えば４個、５個または６個の（メタ）アクリル基として、３個を超える官能性（メタ）アクリル基を有してもよい。
【0095】
上述の基Ｒ１は、互いにそれぞれ独立して、Ｃ２～Ｃ８アルキレン基、好ましくはＣ２～Ｃ６アルキレン基、より好ましくはＣ２～Ｃ４アルキレン基、非常に好ましくは、互いにそれぞれ独立して、エチレン基および／またはプロピレン基、とりわけ好ましくはエチレンである。特に、基Ｒ１はすべて、エチレンである。プロピレン基として好適なものは、各場合において、基Ｒ１であり、これは、構造－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－または構造－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２－または構造－ＣＨ２－ＣＨ（ＣＨ３）－を有する。しかし、特に、好ましいのは、各場合において、プロピレン構造－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－である。
【0096】
パラメーターｍは、各場合において互いに独立して、１～１５の範囲の整数である。構成成分（ａ）は、少なくとも３個の式（Ｉ）である構造単位を有するので、およびパラメーターｍは、式（Ｉ）である構造単位の少なくとも１個において、少なくとも２となるので、構成成分（ａ）は、合計で一般式「－Ｏ－Ｒ１－」であるエーテル基を少なくとも４個含む。
【0097】
好ましくは、構成成分（ａ）の合計は、一般式「－Ｏ－Ｒ１－」であるエーテル基を少なくとも５個、より好ましくは少なくとも６個、有する。構成成分（ａ）内の一般式「－Ｏ－Ｒ１－」のエーテル基の数は、好ましくは４～１８の範囲、より好ましくは５～１５の範囲、非常に好ましくは６～１２の範囲で位置する。
【0098】
構成成分（ａ）の式（Ｉ）の構造単位中に存在するエーテルセグメント－［Ｏ－Ｒ１］ｍの割合は、各場合において、構成成分（ａ）の総質量に対して、合計で、好ましくは少なくとも３５質量%、より好ましくは少なくとも３８質量%、非常に好ましくは少なくとも４０質量%、さらにより好ましくは少なくとも４２質量%、より詳細には少なくとも４５質量%である。
【0099】
構成成分（ａ）は、好ましくは、３００～２０００ｇ／ｍｏｌ、より好ましくは３５０～１５００ｇ／ｍｏｌ、より詳細には４００～１０００ｇ／ｍｏｌの範囲の分子量（Ｍｎ）を有する。
【0100】
特に、構成成分（ａ）として使用するのに好ましいものは、一般式（ＩＶａ）および／または（ＩＶｂ）のうちの少なくとも１つの化合物
（式中、各場合において互いに独立して、
Ｒ１およびＲ２、やはりまたｍは、上で明記されているその好ましい実施形態を含めた、構造単位（Ｉ）に関連して、上で示されている定義を有し、
Ｒ３は、Ｈ、Ｃ１～Ｃ８アルキル、ＯＨまたはＯ－Ｃ１～８アルキルであり、より好ましくは、Ｃ１～Ｃ４アルキル、ＯＨまたはＯ－Ｃ１～４アルキルであり、非常に好ましくは、Ｃ１～Ｃ４アルキルもしくはＯＨであるか、または
Ｒ３は、基－［Ｏ－Ｒ１］ｍ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ（Ｒ２）＝ＣＨ２であり、Ｒ１、Ｒ２およびｍは、上で明記されているその好ましい実施形態を含めた、構造単位（Ｉ）に関連して、上で明記されている定義を有する）
である。
【化5】
Ｒ１およびＲ２、やはりまたｍは、上で明記されているその好ましい実施形態を含めた、構造単位（Ｉ）に関連して、上で示されている定義を有し、
Ｒ３は、Ｈ、Ｃ１～Ｃ８アルキル、ＯＨまたはＯ－Ｃ１～８アルキルであり、より好ましくは、Ｃ１～Ｃ４アルキル、ＯＨまたはＯ－Ｃ１～４アルキルであり、非常に好ましくは、Ｃ１～Ｃ４アルキルもしくはＯＨであるか、または
Ｒ３は、基－［Ｏ－Ｒ１］ｍ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ（Ｒ２）＝ＣＨ２であり、Ｒ１、Ｒ２およびｍは、上で明記されているその好ましい実施形態を含めた、構造単位（Ｉ）に関連して、上で明記されている定義を有する）
である。
【0101】
一般式（ＩＶａ）である少なくとも１つの化合物の構成成分（ａ）として使用することが非常に特に好ましく、式中、
基Ｒ１は、それぞれ互いに独立して、Ｃ２～Ｃ８アルキレン基であり、
基Ｒ２は、それぞれ互いに独立して、Ｈまたはメチルであり、
パラメーターｍは、各場合において互いに独立して、１～１５の範囲、好ましくは１～１０の範囲、より好ましくは１～８または２～８の範囲、非常に好ましくは１～６または２～６の範囲、より詳細には１～４または２～４の範囲の整数パラメーターであるが、ただし、式（Ｉ）である構造単位の少なくとも１個、および好ましくはすべてにおいて、パラメーターｍは、少なくとも２である。
基Ｒ１は、それぞれ互いに独立して、Ｃ２～Ｃ８アルキレン基であり、
基Ｒ２は、それぞれ互いに独立して、Ｈまたはメチルであり、
パラメーターｍは、各場合において互いに独立して、１～１５の範囲、好ましくは１～１０の範囲、より好ましくは１～８または２～８の範囲、非常に好ましくは１～６または２～６の範囲、より詳細には１～４または２～４の範囲の整数パラメーターであるが、ただし、式（Ｉ）である構造単位の少なくとも１個、および好ましくはすべてにおいて、パラメーターｍは、少なくとも２である。
【0102】
Ｒ３は、Ｃ１～Ｃ８アルキル、ＯＨまたはＯ－Ｃ１～８アルキル、より好ましくは、Ｃ１～Ｃ４アルキル、ＯＨまたはＯ－Ｃ１～４アルキル、非常に好ましくは、Ｃ１～Ｃ４アルキルまたはＯＨである。
【0103】
構成成分（ａ）として使用するのにとりわけ好ましいものは、エトキシ化、プロポキシ化またはエトキシ化とプロポキシ化との混じりなどの合計で４倍～２０倍のアルコキシ化または４倍～１２倍のアルコキシ化がされているネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタンまたはペンタエリスリトールの（メタ）アクリレート、より詳細には、もっぱらエトキシ化、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタンまたはペンタエリスリトールである。最も好ましいものは、それに応じたアルコキシ化トリメチロールプロパンに由来する、対応する（メタ）アクリレートである。これらの種類の製品は、市販されており、例えば、Ｓａｒｔｏｍｅｒ（登録商標）ＳＲ４９９およびＳａｒｔｏｍｅｒ（登録商標）ＳＲ５０２、やはりまたＳａｒｔｏｍｅｒ（登録商標）ＳＲ４１５およびＳａｒｔｏｍｅｒ（登録商標）ＳＲ９０３５、やはりまたＳａｒｔｏｍｅｒ（登録商標）ＳＲ５０１という名称で販売されている。本発明の意味では、用語「（メタ）アクリル」または「（メタ）アクリレート」は、それぞれ、メタアクリルだけではなく、アクリルも包含し、メタアクリレートだけではなくアクリレートも包含する。
【0104】
任意の構成成分（ｄ）に加えて、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）は、（メタ）アクリル基などのエチレン性不飽和基をちょうど１つだけ、またはちょうど２つだけしか有していない構成成分を好ましくは含有しない。したがって、（Ｂ１ａ）は、構成成分（ｄ）を有していない場合、（Ｂ１ａ）は、（メタ）アクリル基などのエチレン性不飽和基を正確に１つだけ、または正確に２つだけしか有していない構成成分を好ましくは含有しない。
【0105】
構成成分（ｂ）は、添加剤である。添加剤の概念は、例えば、Ｒｏｅｍｐｐ Ｌｅｘｉｋｏｎ、「Ｌａｃｋｅ ｕｎｄ Ｄｒｕｃｋｆａｒｂｅｎ」、Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ、１９９８年、１３頁から、当業者に公知である。使用される好ましい構成成分（ｂ）は、少なくとも１つのレオロジー添加剤である。この用語は同様に、例えば、Ｒｏｅｍｐｐ Ｌｅｘｉｋｏｎ、「Ｌａｃｋｅ ｕｎｄ Ｄｒｕｃｋｆａｒｂｅｎ」、Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ、１９９８年、４９７頁から、当業者に公知である。用語「レオロジー添加剤（ｒｈｅｏｌｏｇｙ ａｄｄｉｔｉｖｅ）」、「レオロジー添加剤（ｒｈｅｏｌｏｇｉｃａｌ ａｄｄｉｔｉｖｅ）」および「レオロジー助剤」は、ここでは、相互交換可能である。構成成分（ｂ）として使用される添加剤は、流動制御剤、界面活性剤などの表面活性剤、湿潤剤および分散剤、さらにまた増粘剤、チキソトロープ剤、可塑剤、潤滑および粘着防止添加剤、ならびにそれらの混合物からなる群から好ましくは選択される。これらの用語は同様に、例えば、Ｒｏｅｍｐｐ Ｌｅｘｉｋｏｎ、「Ｌａｃｋｅ ｕｎｄ Ｄｒｕｃｋｆａｒｂｅｎ」、Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ、１９９８年から、当業者に公知である。流動制御剤は、粘度および／または表面張力を低下させることにより、コーティング用組成物が、均一に流れ出すフィルムを形成する一助となる構成成分である。湿潤剤および分散剤は、表面張力、または一般に界面張力を低下させる構成成分である。潤滑および粘着防止添加剤は、相互の他着（粘着）を低減する構成成分である。
【0106】
市販の添加剤の例は、Ｅｆｋａ（登録商標）ＳＬ３２５９、Ｂｙｋ（登録商標）３７７、Ｔｅｇｏ（登録商標）Ｒａｄ２５００、Ｔｅｇｏ（登録商標）Ｒａｄ２８００、Ｂｙｋ（登録商標）３９４、Ｂｙｋ－ＳＩＬＣＬＥＡＮ３７１０、Ｓｉｌｉｘａｎ（登録商標）Ａ２５０、Ｎｏｖｅｃ ＦＣ４４３０およびＮｏｖｅｃ ＦＣ ４４３２という製品である。
【0107】
添加剤（ｂ）として使用するのに好ましいものは、少なくとも１種のポリ（メタ）アクリレート、ならびに／または少なくとも１種のオリゴシロキサンおよび／もしくはポリシロキサンなどの少なくとも１種のシロキサン、フッ素含有のポリエステル、好ましくは脂肪族ポリエステルなどの少なくとも１種のフッ素含有ポリマーである。特に、構成成分（ｂ）として好ましいものは、シロキサンである。使用にとりわけ好ましいものは、シリコーン（メタ）アクリレートである。
【0108】
（Ｎ）ＩＲおよび／またはＵＶ光による硬化の場合、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）は、構成成分（ｃ）として少なくとも１種の光開始剤を含む。この光開始剤は、照射波長の光によって、ラジカルに分解することができ、次に、ラジカル重合を開始することが可能となる。電子線照射による硬化の場合、反対に、このような光開始剤の存在を必要としない。コーティング用組成物（Ｂ１ａ）は、構成成分（ｃ）として、照射波長の光によって、ラジカルに分解することができ、次に、ラジカル重合を開始することが可能となる、少なくとも１種の光開始剤を好ましくは含む。
【0109】
ＵＶ光開始剤などの光開始剤は、当業者に公知である。企図されているものの例には、ホスフィンオキシド、ベンゾフェノン、α－ヒドロキシアルキルアリールケトン、チオキサントン、アントラキノン、アセトフェノン、ベンゾインおよびベンゾインエーテル、ケタール、イミダゾールまたはフェニルグリオキシル酸、ならびにそれらの混合物が含まれる。
【0110】
ホスフィンオキシドは、例えば、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、エチル２，４，６－トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネートまたはビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルホスフィンオキシドとしての、例えばモノアシルホスフィンオキシドまたはビスアシルホスフィンオキシドである。ベンゾフェノン系は、例えば、ベンゾフェノン、４－アミノベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４－フェニルベンゾフェノン、４－クロロベンゾフェノン、Ｍｉｃｈｌｅｒ’ｓケトン、ｏ－メトキシベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾフェノン、４－メチルベンゾフェノン、２，４－ジメチルベンゾフェノン、４－イソプロピルベンゾフェノン、２－クロロベンゾフェノン、２，２’－ジクロロベンゾフェノン、４－メトキシベンゾフェノン、４－プロポキシベンゾフェノンまたは４－ブトキシベンゾフェノンである。α－ヒドロキシアルキルアリールケトン系は、例えば、１－ベンゾイルシクロヘキサン－１－オール（１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）、２－ヒドロキシ－２，２－ジメチルアセトフェノン（２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン）、１－ヒドロキシアセトフェノン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、または共重合形態の、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－（４－イソプロペン－２－イルフェニル）プロパン－１－オンを含有するポリマーである。キサントン系およびチオキサントン系は、例えば、１０－チオキサチエノン、チオキサンテン－９－オン、キサンテン－９－オン、２，４－ジメチルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジイソプロピルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントンまたはクロロキサンテノンである。アントラキノン系は、例えば、β－メチルアントラキノン、ｔｅｒｔ－ブチルアントラキノン、アントラキノンカルボン酸エステル、ベンズ［ｄｅ］アントラセン－７－オン、ベンズ［ａ］アントラセン－７，１２－ジオン、２－メチルアントラキノン、２－エチルアントラキノン、２－ｔｅｒｔ－ブチルアントラキノン、１－クロロアントラキノンまたは２－アミルアントラキノンである。アセトフェノン系は、例えば、アセトフェノン、アセトナフトキノン、バレロフェノン、ヘキサノフェノン、α－フェニルブチロフェノン、ｐ－モルホリノプロピオフェノン、ジベンゾスベロン、４－モルホリノベンゾフェノン、ｐ－ジアセチルベンゼン、４’－メトキシアセトフェノン、α－テトラロン、９－アセチルフェナントレン、２－アセチルフェナントレン、３－アセチルフェナントレン、３－アセチルインドール、９－フルオレノン、１－インダノン、１，３，４－トリアセチルベンゼン、１－アセトナフトン、２－アセトナフトン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、２，２－ジエトキシ－２－フェニルアセトフェノン、１，１－ジクロロアセトフェノン、１－ヒドロキシアセトフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノプロパン－１－オン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－２－オンまたは２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オンである。ベンゾイン系およびベンゾインエーテル系は、例えば、４－モルホリノデオキシベンゾイン、ベンゾイン、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインテトラヒドロピラニルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルまたは７Ｈ－ベンゾインメチルエーテルである。ケタール系は、例えば、アセトフェノンジメチルケタール、２，２－ジエトキシアセトフェノン、またはベンジル（ｂｅｎｚｉｌ）ジメチルケタールなどのベンジルケタール系である。同様に使用することができる光開始剤は、例えば、ベンズアルデヒド、メチルエチルケトン、１－ナフトアルデヒド、トリフェニルホスフィン、トリ－ｏ－トリルホスフィンまたは２，３－ブタンジオンである。典型的な混合物は、例えば、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－２－オンと１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルホスフィンオキシドと２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、ベンゾフェノンと１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルホスフィンオキシドと１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドと２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、２，４，６－トリメチルベンゾフェノンと４－メチルベンゾフェノンまたは２，４，６－トリメチルベンゾフェノン、ならびに４－メチルベンゾフェノンと２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドを含む。
【0111】
これらの光開始剤の中で好ましいものは、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、エチル２，４，６－トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネート、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、ベンゾフェノン、１－ベンゾイルシクロヘキサン－１－オール、２－ヒドロキシ－２，２－ジメチルアセトフェノンおよび２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノンである。したがって、好ましくは、少なくとも１種のこのような光開始剤が、構成成分（ｃ）として使用される。構成成分（ｃ）は、構成成分（ａ）、（ｂ）および（ｄ）とは異なる。市販の光開始剤は、例えば、ＢＡＳＦ ＳＥ製のＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）５００、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）ＴＰＯ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）ＴＰＯ－ＬおよびＬｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＴＰＯ、やはりまたＤａｒｏｃｕｒｅ（登録商標）１１７３という製品である。
【0112】
上記の通り、少なくとも１種の構成成分（ｄ）の使用は、任意のものに過ぎない。構成成分（ｄ）は、少なくとも１個の、好ましくは末端炭素二重結合を有する。これは、好ましくは、（メタ）アクリル基である。構成成分（ｄ）は、例えば、１個、または２個、または３個、または他にはそれより多い（メタ）アクリル基などの、１個または２個のエチレン性不飽和基を好ましくは有する。２種以上の異なる構成成分（ｄ）を使用することもやはり可能である。
【0113】
構成成分（ｄ）の例は、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，２－プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３－プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５－ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，８－オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，１－、１，２－、１，３－および１，４－シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，２－、１，３－または１，４－シクロヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタまたはヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリまたはテトラ（メタ）アクリレート、グリセリルジまたはトリ（メタ）アクリレート、やはりまた例えばソルビトール、マンニトール、ジグリセロール、トレイトール、エリスリトール、アドニトール（リビトール）、アラビトール（リキシトール）、キシリトール、ズルシトール（ガラクチトール）、マルチトールまたはイソマルトなどの糖アルコールのジおよびポリ（メタ）アクリレート、２－フェノキシエチル（メタ）アクリレート、エチルジグリコール（メタ）アクリレート、４－ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンホルマールモノ（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２－（２－エトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレートやはりまたラウリル、ステアリル、イソデシル、オクチルおよびデシル（メタ）アクリレート、α，β－エチレン性不飽和カルボン酸、好ましくは（メタ）アクリル酸と１～２０個の炭素原子を有するアルコールと、好ましくは任意に、１～２０個の炭素原子を有するヒドロキシ置換アルカノールとのエステル、例えば、メチル（メタ）アクリル酸エステル、エチル（メタ）アクリル酸エステル、ｎ－ブチル（メタ）アクリル酸エステル、２－エチルヘキシル（メタ）アクリル酸エステル、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートまたは４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートなどの一、二および／または三官能性（メタ）アクリルエステルである。
【0114】
とりわけ好ましい構成成分（ｄ）は、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレートおよび１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、やはりまたトリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートである。
【0115】
構成成分（ｄ）として、さらにまたは代替的に、少なくとも１種のポリエステル、ポリエーテル、カーボネート、エポキシド、ポリ（メタ）アクリレート、および／またはウレタン（メタ）アクリレート、および／または不飽和ポリエステル樹脂を使用することもやはり可能である。
【0116】
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、ポリイソシアネートと、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートおよび任意にジオール、ポリオール、ジアミン、ポリアミンまたはジチオールまたはポリチオールなどの鎖延長剤との反応によって得ることができる。乳化剤を添加しない水中で分散性のウレタン（メタ）アクリレートは、イオン性および／または非イオン性親水性基をさらに含み、例えば、これらは、ヒドロキシカルボン酸などの合成構成成分によりウレタンに導入される。このようなウレタン（メタ）アクリレートは、合成構成成分として以下：
（ａ） 例えば、２種の構成成分のコーティング材料に関連して上で記載したポリイソシアネートのうちの少なくとも１種としての、少なくとも１種の有機脂肪族、芳香族もしくは脂環式ジまたはポリイソシアネートと、
（ｂ） ポリアクリレートポリオールおよび少なくとも１種のラジカル重合性不飽和基に関連して、上で記載した、少なくとも１個のイソシアネート反応性基を有する少なくとも１種の化合物、好ましくはヒドロキシルを有するモノマーの１種と、
（ｃ） 任意に、ポリエステロールに関連して、上で記載されている、例えば多価アルコールのうちの１種として、少なくとも２個のイソシアネート反応性基を有する少なくとも１種の化合物と
を本質的に含む。
（ａ） 例えば、２種の構成成分のコーティング材料に関連して上で記載したポリイソシアネートのうちの少なくとも１種としての、少なくとも１種の有機脂肪族、芳香族もしくは脂環式ジまたはポリイソシアネートと、
（ｂ） ポリアクリレートポリオールおよび少なくとも１種のラジカル重合性不飽和基に関連して、上で記載した、少なくとも１個のイソシアネート反応性基を有する少なくとも１種の化合物、好ましくはヒドロキシルを有するモノマーの１種と、
（ｃ） 任意に、ポリエステロールに関連して、上で記載されている、例えば多価アルコールのうちの１種として、少なくとも２個のイソシアネート反応性基を有する少なくとも１種の化合物と
を本質的に含む。
【0117】
ウレタン（メタ）アクリレートは、２００～２００００、より詳細には５００～１００００、非常に好ましくは６００～３０００ｇ／ｍｏｌ（テトラヒドロフランおよび標準品としてポリスチレンを使用するゲル浸透クロマトグラフィーによって決定）の数平均モル質量Ｍｎを好ましくは有する。ウレタン（メタ）アクリレートは、１０００ｇのウレタン（メタ）アクリレートあたり、好ましくは１～５、より好ましくは２～４ｍｏｌの（メタ）アクリル基を含有する。
【0118】
エポキシド（メタ）アクリレートは、エポキシドと（メタ）アクリル酸との反応によって得ることができる。企図されるエポキシドの例には、エポキシ化オレフィン、芳香族グリシジルエーテルまたは脂肪族グリシジルエーテル、好ましくは芳香族または脂肪族グリシジルエーテルのものが含まれる。可能なエポキシド化オレフィンの例には、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、イソブチレンオキシド、１－ブテンオキシド、２－ブテンオキシド、ビニルオキシラン、スチレンオキシドまたはエピクロロヒドリンが含まれる。エチレンオキシド、プロピレンオキシド、イソブチレンオキシド、ビニルオキシラン、スチレンオキシドまたはエピクロロヒドリンが好ましく、エチレンオキシド、プロピレンオキシドまたはエピクロロヒドリンが、特に好ましく、エチレンオキシドおよびエピクロロヒドリンがとりわけ好ましい。芳香族グリシジルエーテルは、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＢジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、ヒドロキノンジグリシジルエーテル、フェノール／ジシクロペンタジエンのアルキル化生成物、例えば、２，５－ビス［（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］オクタヒドロ－４，７－メタノ－５Ｈ－インデン、トリス［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］メタン異性体、フェノールをベースとするエポキシノボラックおよびクレゾールをベースとするエポキシノボラックである。脂肪族グリシジルエーテルは、例えば、１，４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、１，１，２，２－テトラキス［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］エタン、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテル（α，ω－ビス（２，３－エポキシプロポキシ）ポリ（オキシプロピレン））（および水素化ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル（２，２－ビス［４－（２，３－エポキシプロポキシ）シクロヘキシル］プロパン））である。エポキシド（メタ）アクリレートは、２００～２００００、より好ましくは２００～１００００ｇ／ｍｏｌ、非常に好ましくは２５０～３０００ｇ／ｍｏｌの数平均モル質量Ｍｎを好ましくは有する。（メタ）アクリル基の量は、１０００ｇのエポキシド（メタ）アクリレートあたり、好ましくは１～５個、より好ましくは２～４個である（標準品としてポリスチレンおよび溶離液としてテトラヒドロフランを使用するゲル浸透クロマトグラフィーによって決定）。
【0119】
（メタ）アクリレート化したポリ（メタ）アクリレートは、α，β－エチレン性不飽和カルボン酸、好ましくは（メタ）アクリル酸、より好ましくはアクリル酸のポリアクリレートポリオール（ポリ（メタ）アクリレートポリオールを（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる）との対応するエステルである。ポリアクリレートポリオールは、例えば、二構成成分のコーティング材料に関連して上で記載したものであってもよい。
【0120】
様々な官能基を有するカーボネート（メタ）アクリレートが入手可能である。カーボネート（メタ）アクリレートの数平均分子量Ｍｎは、好ましくは、３０００ｇ／ｍｏｌ未満、より好ましくは１５００ｇ／ｍｏｌ未満、非常に好ましくは８００ｇ／ｍｏｌ未満である（標準品としてポリスチレンおよびテトラヒドロフラン溶媒を使用するゲル浸透クロマトグラフィーによって決定）。カーボネート（メタ）アクリレートは、例えば、ＥＰ００９２２６９Ａ１に記載されている通り、炭酸エステルと多価アルコール、好ましくは二価アルコール（ジオール、例えばヘキサンジオール）とのエステル交換、およびその後に遊離ＯＨ基を（メタ）アクリル酸でエステル化する、または他には（メタ）アクリルエステルとのエステル交換による単純な方法で得ることができる。それらは、例えば、ホスゲン、ウレア誘導体と多価アルコール、二価アルコールとの反応によって得ることもできる。同様に、明記したジオールまたはポリオールの１種と炭酸エステルとやはりまたヒドロキシル含有（メタ）アクリレートとの反応生成物などの、ポリカーボネートポリオールの（メタ）アクリレートが考えられる。好適な炭酸エステルの例は、エチレン、１，２－または１，３－プロピレンカーボネート、ジメチル、ジエチルまたはジブチルカーボネートである。好適なヒドロキシル含有（メタ）アクリレートの例は、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－または３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセリルモノおよびジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンモノおよびジ（メタ）アクリレート、やはりまたペンタエリスリトールモノ、ジおよびトリ（メタ）アクリレートである。好ましくは、カーボネート（メタ）アクリレートは、脂肪族カーボネート（メタ）アクリレートである。
【0121】
不飽和ポリエステル樹脂は、以下の構成成分：
（ａ１） マレイン酸またはその誘導体と、
（ａ２） 少なくとも１種の環式ジカルボン酸またはその誘導体と、
（ａ３） 少なくとも１つ種脂肪族または脂環式ジオールと
から好ましくは合成される。
（ａ１） マレイン酸またはその誘導体と、
（ａ２） 少なくとも１種の環式ジカルボン酸またはその誘導体と、
（ａ３） 少なくとも１つ種脂肪族または脂環式ジオールと
から好ましくは合成される。
【0122】
誘導体は、ここでは、好ましくは、
－ モノマー形態または他にはポリマー形態の適切な無水物、
－ モノアルキルまたはジアルキルエステル、好ましくはモノもしくはジ－Ｃ１～Ｃ４アルキルエステル、より好ましくはモノメチルもしくはジメチルエステル、または対応するモノエチルもしくはジエチルエステル
－ さらに、モノビニルおよびジビニルエステル、ならびにまたは
－ 混合型エステル、好ましくは異なるＣ１～Ｃ４アルキル構成成分を有する混合型エステル、より好ましくは混合型メチルエチルエステル
を指す。
－ モノマー形態または他にはポリマー形態の適切な無水物、
－ モノアルキルまたはジアルキルエステル、好ましくはモノもしくはジ－Ｃ１～Ｃ４アルキルエステル、より好ましくはモノメチルもしくはジメチルエステル、または対応するモノエチルもしくはジエチルエステル
－ さらに、モノビニルおよびジビニルエステル、ならびにまたは
－ 混合型エステル、好ましくは異なるＣ１～Ｃ４アルキル構成成分を有する混合型エステル、より好ましくは混合型メチルエチルエステル
を指す。
【0123】
（Ｂ１ａ）が、構成成分（ｄ）を含む場合、その構成成分は、好ましくは少なくとも１種のウレタン（メタ）アクリレートである。
【0124】
コーティング用組成物（Ｂ１ａ）は、例えば、充填剤、顔料、例えば、ペルオキソ二硫酸カリウム、ジベンゾイルペルオキシド、シクロヘキサノンペルオキシド、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシド、アゾビスイソブチロニトリル、シクロヘキシルスルホニルアセチルペルオキシド、ジイソプロピル過カーボネート、ｔｅｒｔ－ブチルペルオクトエートまたはベンゾピナコール、クメンヒドロペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ｔｅｒｔ－ブチルペルベンゾエート、シリル化ピナコールなどの熱活性開始剤、２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－Ｎ－オキシルおよび４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－Ｎ－オキシルなどのヒドロキシル含有アミンＮ－オキシド、および有機溶媒、やはりまた安定化剤などの、構成成分（ａ）～（ｄ）とは異なる、少なくとも１種のさらなる構成成分（ｅ）を含んでもよい。しかし、好ましくは、（Ｂ１ａ）中に、有機溶媒は含まれない。構成成分（ｅ）は、各場合において、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の総質量に対して、（Ｂ１ａ）中に０～１５質量%の範囲、好ましくは０～１２質量%の範囲、より好ましくは０～１０質量%の範囲の量で存在してもよい。
【0125】
コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の固体含有量は、各場合において、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の総質量に対して、好ましくは８０質量%以上、より好ましくは９０質量%以上、非常に好ましくは９５質量%以上、より詳細には９８以上または９９質量%以上、最も好ましくは１００質量%である。固体含有量は、ここでは、以下に記載されている方法によって決定する。
【0126】
コーティング用組成物（Ｂ１ａ）は、好ましくはチオールを含まず、とりわけトリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）を含まない。
【0127】
（Ｂ１ａ）から得られる少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）の二重結合の転化率は、好ましくは少なくとも７０％、より好ましくは少なくとも７５％、さらにより好ましくは少なくとも８０％、非常に好ましくは少なくとも８５％、より詳細には少なくとも９０％である。
【0128】
コーティング用組成物（Ｂ２ａ）
任意の種類のコーティング用組成物が、本発明の方法の工程（１）におけるコーティング用組成物（Ｂ２ａ）として使用されてもよい。コーティング用組成物（Ｂ２ａ）は、物理的に乾燥性の、熱硬化性、化学硬化性および／または放射線硬化性なコーティング用組成物（Ｂ２ａ）であってもよい。好ましくは、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）は、化学硬化性、熱硬化性および／または放射線硬化性コーティング用組成物、より好ましくは放射線硬化性コーティング用組成物である。したがって、工程（３）による少なくとも一部の硬化は、放射線硬化によって好ましくは行われる。コーティング用組成物（Ｂ２ａ）は、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）と同じであってもよい。しかし、好ましくは、（Ｂ２ａ）は、（Ｂ１ａ）とは異なる。（Ｂ２ａ）は、（Ｂ１ａ）の調製にやはり使用される、類似しているが同じではない構成成分（ａ）～（ｅ）から好ましくは構成されるが、（Ｂ１ａ）に関連するその量条件は、（Ｂ２ａ）に適用する必要はない。
任意の種類のコーティング用組成物が、本発明の方法の工程（１）におけるコーティング用組成物（Ｂ２ａ）として使用されてもよい。コーティング用組成物（Ｂ２ａ）は、物理的に乾燥性の、熱硬化性、化学硬化性および／または放射線硬化性なコーティング用組成物（Ｂ２ａ）であってもよい。好ましくは、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）は、化学硬化性、熱硬化性および／または放射線硬化性コーティング用組成物、より好ましくは放射線硬化性コーティング用組成物である。したがって、工程（３）による少なくとも一部の硬化は、放射線硬化によって好ましくは行われる。コーティング用組成物（Ｂ２ａ）は、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）と同じであってもよい。しかし、好ましくは、（Ｂ２ａ）は、（Ｂ１ａ）とは異なる。（Ｂ２ａ）は、（Ｂ１ａ）の調製にやはり使用される、類似しているが同じではない構成成分（ａ）～（ｅ）から好ましくは構成されるが、（Ｂ１ａ）に関連するその量条件は、（Ｂ２ａ）に適用する必要はない。
【0129】
物理的乾燥は、この場合、溶媒を単純に蒸発させて、コーティング（Ｂ２）を形成させることを好ましくは指す。熱硬化は、ここでは、室温より高い温度（２３℃超）に起因する硬化機構を好ましくは必然的に伴う。これは、例えば、高温で分解する開始剤からのラジカルまたはイオン、好ましくはラジカルの形成とすることができ、その結果、ラジカル重合またはイオン重合が開始される。このような熱活性化可能な開始剤の例は、８０℃において、１００時間未満の半減期を有するものである。化学的硬化は、例えば、－ＯＨ基と－ＣＯＯＨ基との反応などの重縮合、または重付加（ＮＣＯ基と－ＯＨ基またはアミノ基との反応）の方法で、少なくとも２種の異なる、および相互に相補反応性の官能基の反応を好ましくは指す。
【0130】
コーティング用組成物（Ｂ２ａ）が、物理的に乾燥性の、熱硬化性および／または化学硬化性コーティング用組成物である場合、それは、結合剤として、当業者に公知の少なくとも１種の慣用的なポリマーを使用して調製される。次に、この結合剤は、好ましくは、架橋性官能基を有する。当業者に公知の任意の慣用的な架橋性官能基が、この文脈において好適である。より詳細には、架橋性官能基は、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボン酸基、イソシアネート、ポリイソシアネートおよびエポキシドからなる群から選択される。ポリマーは、好ましくは－２０℃～２５０℃または１８℃～２００℃の温度範囲において、好ましくは発熱的または吸熱的に硬化性または架橋性である。とりわけ、ポリマーとして好適なものは、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレア、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ（メタ）アクリレート、エポキシ樹脂、フェノール－ホルムアルデヒド樹脂、メラミン－ホルムアルデヒド樹脂からなる群から選択される少なくとも１種のポリマーである。これらのポリマーは、特に、ＯＨ官能性であってもよい。その場合、それらは、一般用語「ポリオール」によって含まれてもよい。このようなポリオールは、例えば、ポリアクリレートポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリウレタンポリオール、ポリウレアポリオール、ポリエステル－ポリアクリレートポリオール、ポリエステル－ポリウレタンポリオール、ポリウレタン－ポリアクリレートポリオール、ポリウレタン修飾アルキド樹脂、脂肪酸修飾ポリエステル－ポリウレタンポリオール、やはりまた明記したポリオールの混合物であってもよい。ポリアクリレートポリオール、ポリエステルポリオールおよびポリエーテルポリオールが好ましい。
【0131】
ここで、イソシアネートおよび／またはオリゴマー化イソシアネート基、非常に好ましくは少なくとも１種の対応するポリウレタンおよび／または少なくとも１種の対応するポリウレア（例えば、「ポリアスパラギン酸結合剤」と呼ばれるもの）の関与により硬化する少なくとも１種のポリマーを使用することが可能である。ポリアスパラギン酸結合剤は、アミノ官能性化合物、とりわけ二級アミンとイソシアネートとの反応から変換される構成成分である。少なくとも１種のポリウレタンを使用する場合、とりわけ、好適なものは、ポリオールなどのヒドロキシル含有構成成分と少なくとも１種のポリイソシアネート（芳香族および脂肪族イソシアネート、ジ、トリおよび／またはポリイソシアネート）との間の重付加反応によって調製可能なポリウレタンをベースとする樹脂である。慣用的に、ここでは、ポリオール中のＯＨ基とポリイソシアネート中のＮＣＯ基との化学量論反応が必要である。しかし、ポリイソシアネートは「過剰架橋」または「架橋不足」となり得る量でポリオール構成成分に添加することができるので、使用されることになる化学量論比はまた、様々となり得る。エポキシ樹脂、すなわちエポキシドをベースとする樹脂が使用される場合、好適なものは、好ましくはエポキシドをベースとする樹脂であり、これは、官能基として、分子内に末端エポキシド基とヒドロキシル基を有するグリシジルエーテルから調製される。これらは、好ましくは、ビスフェノールＡとエピクロロヒドリンと、および／またはビスフェノールＦとエピクロロヒドリンとの反応生成物、ならびにそれらの混合物であり、これらはまた、反応性希釈剤の存在下で使用される。このようなエポキシドをベースとする樹脂の硬化または架橋は、エポキシド環のエポキシド基の重合によって、硬化剤として他の反応性化合物の付加反応の形態の、化学量論量でのエポキシド基との重付加反応（したがって、この場合、エポキシド基あたり活性水素が１当量存在する必要がある（すなわち、エポキシド当量あたり１個のＨ活性当量が硬化に必要である））、またはエポキシド基およびヒドロキシル基による重縮合によって慣用的に行われる。好適な硬化剤の例は、ポリアミン、とりわけ、（ヘテロ）脂肪族、（ヘテロ）芳香族および（ヘテロ）脂環式ポリアミン、ポリアミドアミン、ポリアミノアミド、やはりまたポリカルボン酸およびそれらの無水物である。
【0132】
「放射線硬化」の概念は、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）に関連して上で既に記載されている。コーティング用組成物（Ｂ２ａ）は、照射線源の使用によって、好ましくはＵＶ照射を使用することによって、硬化されてもよい。したがって、好ましくは、（Ｂ２ａ）は、ＵＶ照射硬化性コーティング用組成物である。
【0133】
したがって、（Ｂ２ａ）は、不飽和炭素二重結合、より好ましくは（メタ）アクリル基を好ましくは有する。この目的のため、コーティング用組成物（Ｂ２）は、（Ｂ１ａ）に関連して上で特定されている構成成分、ならびに、特に、ポリエステル、ポリエーテル、カーボネート、エポキシド、ポリ（メタ）アクリレートおよび／またはウレタン（メタ）アクリレートおよび／または少なくとも１種の不飽和ポリエステル樹脂、ならびに／または一、二および／または三官能性（メタ）アクリルエステルなどの（Ｂ１ａ）の構成成分（ａ）および（ｄ）に含まれ得る構成成分のいずれかを含んでもよい。
【0134】
（Ｎ）ＩＲおよび／またはＵＶ光による硬化時に、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）は、照射波長の光によってラジカルに分解することが可能であり、次に、これらのラジカルがラジカル重合を開始することができる、少なくとも１種の光開始剤を好ましくは含む。電子線照射による硬化の場合、対照的に、このような光開始剤の存在は必要ではない。光開始剤として、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の構成成分（ｃ）に関連して、上で明記されているものと同じ量で同じ構成成分を使用することが可能である。
【0135】
さらに、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）は、少なくとも１種のさらなる添加剤を含んでもよい。そのような場合、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の構成成分（ｂ）および（ｅ）に関連して、上で特定されているものと同じ量で同じ構成成分を使用することが可能である。
【0136】
コーティング用組成物（Ｂ２ａ）として使用されるコーティング用組成物は、より好ましくは（メタ）アクリル基を有するものである。好ましくは、このコーティング用組成物（Ｂ２ａ）は、少なくとも１種のウレタン（メタ）アクリレートを含む。好ましくは、さらに、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）は、少なくとも１種の光開始剤を含む。
【0137】
本発明のコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）
本発明のさらなる主題は、さらに、基材（Ｆ１）、少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）、および（Ｂ１）に塗布されて少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ２）からなるコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）であって、コーティング（Ｂ１）が、基材（Ｆ１）の表面の少なくとも一部に塗布されて、少なくとも一部がエンボスされたコーティング用組成物（Ｂ１ａ）を、放射線硬化により少なくとも一部を硬化させることによって生成可能であり、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）が、放射線硬化性コーティング用組成物であり、
コーティング用組成物（Ｂ１ａ）が、
４０～９５質量%の範囲の量の少なくとも１種の構成成分（ａ）と、
０．０１～５質量%の範囲の量の、構成成分（ｂ）としての少なくとも１種の添加剤と、
０．０１～１５質量%の範囲の量の、構成成分（ｃ）としての少なくとも１種の光開始剤と、
０～４５質量%の範囲の量の少なくとも１個の炭素二重結合を含む、少なくとも１種の構成成分（ｄ）と
を含み、
（ｉ）構成成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）が、互いにそれぞれ異なっており、（ｉｉ）構成成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）の明記した量はそれぞれ、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の総質量に対するものであり、（ｉｉｉ）コーティング用組成物（Ｂ１ａ）に存在するすべての構成成分の量が合計１００質量%になり、
構成成分（ａ）が、そのそれぞれが、それぞれ互いに異なるまたは少なくとも一部が同一である、式（Ｉ）
（式中、
基Ｒ１は、各場合において互いに独立して、Ｃ２～Ｃ８アルキレン基であり、
基Ｒ２は、各場合において互いに独立して、Ｈまたはメチルであり、
パラメーターｍはそれぞれ、互いに独立して、１～１５の範囲の整数パラメーターであるが、ただし、パラメーターｍは、構成成分（ａ）内の式（Ｉ）の構造単位の少なくとも１個において、少なくとも２である）
の少なくとも３個の構造単位を含む、
コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）である。
本発明のさらなる主題は、さらに、基材（Ｆ１）、少なくとも一部がエンボスされておりかつ少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ１）、および（Ｂ１）に塗布されて少なくとも一部が硬化したコーティング（Ｂ２）からなるコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）であって、コーティング（Ｂ１）が、基材（Ｆ１）の表面の少なくとも一部に塗布されて、少なくとも一部がエンボスされたコーティング用組成物（Ｂ１ａ）を、放射線硬化により少なくとも一部を硬化させることによって生成可能であり、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）が、放射線硬化性コーティング用組成物であり、
コーティング用組成物（Ｂ１ａ）が、
４０～９５質量%の範囲の量の少なくとも１種の構成成分（ａ）と、
０．０１～５質量%の範囲の量の、構成成分（ｂ）としての少なくとも１種の添加剤と、
０．０１～１５質量%の範囲の量の、構成成分（ｃ）としての少なくとも１種の光開始剤と、
０～４５質量%の範囲の量の少なくとも１個の炭素二重結合を含む、少なくとも１種の構成成分（ｄ）と
を含み、
（ｉ）構成成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）が、互いにそれぞれ異なっており、（ｉｉ）構成成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）の明記した量はそれぞれ、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）の総質量に対するものであり、（ｉｉｉ）コーティング用組成物（Ｂ１ａ）に存在するすべての構成成分の量が合計１００質量%になり、
構成成分（ａ）が、そのそれぞれが、それぞれ互いに異なるまたは少なくとも一部が同一である、式（Ｉ）
【化6】
基Ｒ１は、各場合において互いに独立して、Ｃ２～Ｃ８アルキレン基であり、
基Ｒ２は、各場合において互いに独立して、Ｈまたはメチルであり、
パラメーターｍはそれぞれ、互いに独立して、１～１５の範囲の整数パラメーターであるが、ただし、パラメーターｍは、構成成分（ａ）内の式（Ｉ）の構造単位の少なくとも１個において、少なくとも２である）
の少なくとも３個の構造単位を含む、
コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）である。
【0138】
本発明の方法に関連して、とりわけ、その中に使用されているコーティング用組成物（Ｂ１ａ）および（Ｂ２ａ）、ならびに基材（Ｆ１）さらにまたコーティング（Ｂ１）および（Ｂ２）に関連して、本明細書の上に記載されている好ましい実施形態はすべて、本発明のコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）に関連する好ましい実施形態でもある。
【0139】
このコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）のコンポジット（Ｂ１Ｆ１）は、上記の方法工程（４）～（７）の実施によって好ましくは得ることができる。
【0140】
コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）は、上記の方法工程（１）および（２）の実施によって好ましくは得ることができる。
【0141】
基材（Ｆ１）は、好ましくはフィルムウェブ、より好ましくは連続フィルムウェブである。
【0142】
使用
本発明のさらなる主題は、独立フィルムの形態の、その表面の１つに少なくとも一部エンボスしたコーティング（Ｂ２）を生成するため、または基材（Ｆ２）、少なくとも１種の接着剤（Ｋ）およびコーティング（Ｂ２）からなるコンポジット（Ｂ２ＫＦ２）を生成するための、本発明のコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）を使用する方法である。このコンポジット（Ｂ２ＫＦ２）は、好ましくは、方法段階（３ａ）、（３ｂ）および（３ｃ）を横断的に行うことによって、具体的には、
（３ａ） コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）の表面の少なくとも一部に、コーティング（Ｂ２）を有する側で、接着剤（Ｋ）を塗布して、コンポジット（ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３ｂ） 段階（３ａ）の後に得られたコンポジット（ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）に、接着剤（Ｋ）を有するその表面の少なくとも一部に、基材（Ｆ２）を適用するまたはその反対を行い、コンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３ｃ） コンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）からコンポジット（Ｂ１Ｆ１）を剥離して、コンポジット（Ｆ２ＫＢ２）を得る工程であり、このコンポジットのコーティング（Ｂ２）が、その表面に、コンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の鏡像を少なくとも部分的に有する工程と
によって得られる。
本発明のさらなる主題は、独立フィルムの形態の、その表面の１つに少なくとも一部エンボスしたコーティング（Ｂ２）を生成するため、または基材（Ｆ２）、少なくとも１種の接着剤（Ｋ）およびコーティング（Ｂ２）からなるコンポジット（Ｂ２ＫＦ２）を生成するための、本発明のコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）を使用する方法である。このコンポジット（Ｂ２ＫＦ２）は、好ましくは、方法段階（３ａ）、（３ｂ）および（３ｃ）を横断的に行うことによって、具体的には、
（３ａ） コンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）の表面の少なくとも一部に、コーティング（Ｂ２）を有する側で、接着剤（Ｋ）を塗布して、コンポジット（ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３ｂ） 段階（３ａ）の後に得られたコンポジット（ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）に、接着剤（Ｋ）を有するその表面の少なくとも一部に、基材（Ｆ２）を適用するまたはその反対を行い、コンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を得る工程と、
（３ｃ） コンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）からコンポジット（Ｂ１Ｆ１）を剥離して、コンポジット（Ｆ２ＫＢ２）を得る工程であり、このコンポジットのコーティング（Ｂ２）が、その表面に、コンポジット（Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ１）の少なくとも一部がエンボスされた表面の鏡像を少なくとも部分的に有する工程と
によって得られる。
【0143】
本発明の方法、ならびに本発明のコンポジット（Ｆ１Ｂ１）および（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）に関連して本明細書の上に記載されている好ましい実施形態はすべて、上述の使用に関連する好ましい実施形態でもある。
【0144】
コーティング用組成物（Ｂ２ａ）は、ここでは、好ましくは放射線硬化性コーティング用組成物である。
【0145】
決定方法
１．不揮発性画分の決定
不揮発性画分（固体または固体含有量）は、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ３２５１（日付：２００８年６月）に準拠して決定する。本方法は、事前に乾燥したアルミニウム製トレイに試料１ｇを秤量して１２５℃で６０分間、乾燥キャビネット中で試料を乾燥する工程と、この試料をデシケータ中で冷却する工程と、次にこれを再秤量する工程とを含む。使用した試料の総量に対する残留物が、不揮発性画分に相当する。
１．不揮発性画分の決定
不揮発性画分（固体または固体含有量）は、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ３２５１（日付：２００８年６月）に準拠して決定する。本方法は、事前に乾燥したアルミニウム製トレイに試料１ｇを秤量して１２５℃で６０分間、乾燥キャビネット中で試料を乾燥する工程と、この試料をデシケータ中で冷却する工程と、次にこれを再秤量する工程とを含む。使用した試料の総量に対する残留物が、不揮発性画分に相当する。
【0146】
２．モデル化精度の決定
モデル化精度は、市販の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により、および市販のカンチレバーを使用して求める。したがって、ＡＦＭによって、例えば、１４０ｎｍの深さ、および例えば４３０ｎｍの周期を有するエンボス用器具Ｐ１の明確な格子構造などの格子構造の表面トポグラフィーと、例えば、エンボス後のマスターフィルム（Ｂ１Ｆ１）の表面トポグラフィーとを比較することが可能となる。この場合、エンボス用器具は、基準点を定義するため、特定の部位において、故意に損傷を与える。この基準点によって、この参照の同じ領域および複製の同じ領域を検討すること、および互いに比較することが可能となる。モデル化精度は、例えば、エンボス用器具Ｐ１からマスターフィルム（Ｂ１Ｆ１）になどの、特定の参照構造がどれほど正確に転写され得るかと定義する。例えば、エンボス用器具Ｐ１の検討領域が、１４０ｎｍの深さを有する格子構造をフィーチャした場合、この参照深さを、マスターフィルム（Ｂ１Ｆ１）に対して求めた構造の対応する高さと比較する。変化率は、ここでは、モデル化精度に相当し、以下の通り定義される：
モデル化精度は、市販の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により、および市販のカンチレバーを使用して求める。したがって、ＡＦＭによって、例えば、１４０ｎｍの深さ、および例えば４３０ｎｍの周期を有するエンボス用器具Ｐ１の明確な格子構造などの格子構造の表面トポグラフィーと、例えば、エンボス後のマスターフィルム（Ｂ１Ｆ１）の表面トポグラフィーとを比較することが可能となる。この場合、エンボス用器具は、基準点を定義するため、特定の部位において、故意に損傷を与える。この基準点によって、この参照の同じ領域および複製の同じ領域を検討すること、および互いに比較することが可能となる。モデル化精度は、例えば、エンボス用器具Ｐ１からマスターフィルム（Ｂ１Ｆ１）になどの、特定の参照構造がどれほど正確に転写され得るかと定義する。例えば、エンボス用器具Ｐ１の検討領域が、１４０ｎｍの深さを有する格子構造をフィーチャした場合、この参照深さを、マスターフィルム（Ｂ１Ｆ１）に対して求めた構造の対応する高さと比較する。変化率は、ここでは、モデル化精度に相当し、以下の通り定義される：
【数1】
【0147】
Δｈは、ここでは、変化率に相当し、ｈｍは、マスターフィルムの検討領域における構造の高さに相当し、ｈｒは、エンボス用器具の検討領域の構造の対応する深さに相当する。この変化率、言い換えると、モデル化精度はまた、「収縮」とも称される。Δｈの値が小さいほど、モデル化精度は良好となる。
【0148】
３．流動時間の決定
流動時間は、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ２４３１（日付：２０１２年３月）に準拠して決定する。本方法は、室温（２０℃）において、４ｍｍのフローカップ（４番）により流動時間を求めることを含む。
流動時間は、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ２４３１（日付：２０１２年３月）に準拠して決定する。本方法は、室温（２０℃）において、４ｍｍのフローカップ（４番）により流動時間を求めることを含む。
【0149】
４．二重結合の転化率の決定
二重結合の転化率（ＤＢ転化率）は、検討下にある試料の硬化後に、ＡＴＲ－ＩＲ分光法によって求める。ＡＴＲ－ＩＲ分光法の技法を用いて、基材を含む円形の反射結晶が接触している部位でＩＲスペクトルを記録する。接触部位は、約２００μｍの直径を有しており、使用する反射結晶は、ゲルマニウム結晶である。
二重結合の転化率（ＤＢ転化率）は、検討下にある試料の硬化後に、ＡＴＲ－ＩＲ分光法によって求める。ＡＴＲ－ＩＲ分光法の技法を用いて、基材を含む円形の反射結晶が接触している部位でＩＲスペクトルを記録する。接触部位は、約２００μｍの直径を有しており、使用する反射結晶は、ゲルマニウム結晶である。
【0150】
二重結合の転化率を計算するために使用する出発原料は、試料の対応する湿潤試験体を含む。ＤＢ転化率は、８１０ｃｍ－１のバンドの強度の低下により算出する。規格化に使用するバンドは、１７３０ｃｍ－１におけるエステルのバンドである。二重結合転化率は、以下の式：
（式中、Ｉ８１０ｃｍ－１は、８１０ｃｍ－１における、硬化した層の規格化強度であり、ＩＲｅｆ－８１０ｃｍ－１は、８１０ｃｍ－１における、対応する湿潤試験体の規格化強度である）
によって算出する。二重結合の転化率が９０％以上であれば十分と分類する。
【数2】
によって算出する。二重結合の転化率が９０％以上であれば十分と分類する。
【0151】
５．接着性の決定
接着性は、クロスカット試験により、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ２４０９（日付：２０１３年６月）に準拠して決定する。この試験では、二連の決定で、基材への検討下にあるコーティング層の接着性を試験する。２ｍｍの裁断間隔を有するＢｙｋ Ｇａｒｄｎｅｒ製のクロスカット試験器を手作業で使用する。続いて、Ｔｅｓａテープ４６５１番を損傷領域にプレスし、それを剥離して、層間剥離した領域を除去する。評価は、０（層間剥離は最小限）～５（層間剥離は非常に高い）の範囲の特性値に基づいて行う。少なくとも３．５の平均値があれば、十分と分類する。
接着性は、クロスカット試験により、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ２４０９（日付：２０１３年６月）に準拠して決定する。この試験では、二連の決定で、基材への検討下にあるコーティング層の接着性を試験する。２ｍｍの裁断間隔を有するＢｙｋ Ｇａｒｄｎｅｒ製のクロスカット試験器を手作業で使用する。続いて、Ｔｅｓａテープ４６５１番を損傷領域にプレスし、それを剥離して、層間剥離した領域を除去する。評価は、０（層間剥離は最小限）～５（層間剥離は非常に高い）の範囲の特性値に基づいて行う。少なくとも３．５の平均値があれば、十分と分類する。
【0152】
６．複製の成功の判定
複製の成功は、目視により判定し、首尾よく複製した領域の百分率を確定する。この範囲は、ここでは、首尾よく複製した領域が０％～１００％の間に収まる。領域の１００％が複製されていない場合、これは、対応する領域の断片をエンボス用ダイから除去することができなかったこと、言い換えると、Ｂ１Ｆ１の形態にあるコーティングＢ１は、エンボス用器具Ｐ１に一部、付着したままであること、またはコーティングＢ２は、マスターフィルムＢ１Ｆ１に一部、付着したままであることを意味する。
複製の成功は、目視により判定し、首尾よく複製した領域の百分率を確定する。この範囲は、ここでは、首尾よく複製した領域が０％～１００％の間に収まる。領域の１００％が複製されていない場合、これは、対応する領域の断片をエンボス用ダイから除去することができなかったこと、言い換えると、Ｂ１Ｆ１の形態にあるコーティングＢ１は、エンボス用器具Ｐ１に一部、付着したままであること、またはコーティングＢ２は、マスターフィルムＢ１Ｆ１に一部、付着したままであることを意味する。
【実施例】
【0153】
本発明の実施例および比較例
以下の本発明の実施例および比較例は、本発明を例示する働きをするが、いかなる制限も課すものとして解釈されるべきではない。
以下の本発明の実施例および比較例は、本発明を例示する働きをするが、いかなる制限も課すものとして解釈されるべきではない。
【0154】
特に示さない限り、部での量は質量部であり、百分率での量は、各場合において、質量百分率である。
【0155】
１．使用される成分および物質
Ｈｏｓｔａｐｈａｎ（登録商標）ＧＮ － １２５μｍの層厚さを有する市販のＰＥＴフィルム
Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＵＡ９０３３（Ｌ ＵＡ９０３３） － 構成成分（ｄ）として使用可能な、ＢＡＳＦ ＳＥ製の脂肪族ウレタンアクリレート
ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ） － 構成成分（ｄ）として使用可能
Ｓａｒｔｏｍｅｒ（登録商標）３９５（ＳＲ３９５） － 構成成分（ｄ）として使用可能な、Ｓａｒｔｏｍｅｒ製のイソデシルアクリレート
Ｓａｒｔｏｍｅｒ（登録商標）５０２（ＳＲ５０２） － 構成成分（ａ）として使用可能な、Ｓａｒｔｏｍｅｒ製の９倍エトキシ化を有するＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート）
Ｓａｒｔｏｍｅｒ（登録商標）４９９（ＳＲ４９９） － 構成成分（ａ）として使用可能な、Ｓａｒｔｏｍｅｒ製の６倍エトキシ化を有するＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート）
Ｓａｒｔｏｍｅｒ（登録商標）４５４（ＳＲ４５４） － 比較構成成分（ａ）として使用可能な、Ｓａｒｔｏｍｅｒ製の３倍エトキシ化を有するＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート）
ＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート） － 比較構成成分（ａ）として使用可能
ＧＰＴＡ（グリセリルプロポキシトリアクリレート） － 比較構成成分（ａ）として使用可能な、３倍プロポキシ化を有するグリセリルトリアクリレート
Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４（Ｉ－１８４） － 構成成分（ｃ）として使用可能な、ＢＡＳＦ ＳＥ製の市販光開始剤
Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）ＴＰＯ－Ｌ（Ｉ－ＴＰＯ－Ｌ） － 構成成分（ｃ）として使用可能な、ＢＡＳＦ ＳＥ製の市販光開始剤
Ｔｅｇｏ（登録商標）Ｒａｄ２５００（ＴＲ２５００） － 構成成分（ｂ）として使用可能な、Ｅｖｏｎｉｋ製の潤滑および粘着防止添加剤（シリコーンアクリレート）
Ｂｙｋ－ＳＩＬＣＬＥＡＮ３７１０（ＢＳ３７１０） － 構成成分（ｂ）として使用可能（ｅｍｐｌｏｙａｖｌｅ）なＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ ＧｍｂＨ製の表面添加剤（ポリエーテル修飾アクリル官能性ポリジメチルシロキサン）
Ｈｏｓｔａｐｈａｎ（登録商標）ＧＮ － １２５μｍの層厚さを有する市販のＰＥＴフィルム
Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＵＡ９０３３（Ｌ ＵＡ９０３３） － 構成成分（ｄ）として使用可能な、ＢＡＳＦ ＳＥ製の脂肪族ウレタンアクリレート
ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ） － 構成成分（ｄ）として使用可能
Ｓａｒｔｏｍｅｒ（登録商標）３９５（ＳＲ３９５） － 構成成分（ｄ）として使用可能な、Ｓａｒｔｏｍｅｒ製のイソデシルアクリレート
Ｓａｒｔｏｍｅｒ（登録商標）５０２（ＳＲ５０２） － 構成成分（ａ）として使用可能な、Ｓａｒｔｏｍｅｒ製の９倍エトキシ化を有するＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート）
Ｓａｒｔｏｍｅｒ（登録商標）４９９（ＳＲ４９９） － 構成成分（ａ）として使用可能な、Ｓａｒｔｏｍｅｒ製の６倍エトキシ化を有するＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート）
Ｓａｒｔｏｍｅｒ（登録商標）４５４（ＳＲ４５４） － 比較構成成分（ａ）として使用可能な、Ｓａｒｔｏｍｅｒ製の３倍エトキシ化を有するＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート）
ＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート） － 比較構成成分（ａ）として使用可能
ＧＰＴＡ（グリセリルプロポキシトリアクリレート） － 比較構成成分（ａ）として使用可能な、３倍プロポキシ化を有するグリセリルトリアクリレート
Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４（Ｉ－１８４） － 構成成分（ｃ）として使用可能な、ＢＡＳＦ ＳＥ製の市販光開始剤
Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）ＴＰＯ－Ｌ（Ｉ－ＴＰＯ－Ｌ） － 構成成分（ｃ）として使用可能な、ＢＡＳＦ ＳＥ製の市販光開始剤
Ｔｅｇｏ（登録商標）Ｒａｄ２５００（ＴＲ２５００） － 構成成分（ｂ）として使用可能な、Ｅｖｏｎｉｋ製の潤滑および粘着防止添加剤（シリコーンアクリレート）
Ｂｙｋ－ＳＩＬＣＬＥＡＮ３７１０（ＢＳ３７１０） － 構成成分（ｂ）として使用可能（ｅｍｐｌｏｙａｖｌｅ）なＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ ＧｍｂＨ製の表面添加剤（ポリエーテル修飾アクリル官能性ポリジメチルシロキサン）
【0156】
２．実施例
２．１ コーティング用組成物（Ｂ１ａ）および対応する比較コーティング用組成物の生成
コーティング用組成物は、以下の表１ａおよび１ｂに準拠して生成した。コーティング用組成物Ｅ１ａ～Ｅ３ａ、およびＥ４ａ～Ｅ６ａは、本発明のものである。コーティング用組成物Ｖ１ａ～Ｖ５ａは、比較コーティング用組成物である。Ｅ１ａ～Ｅ３ａおよびＶ１ａ～Ｖ５ａの生成の場合、室温（２０℃）で確定した流動時間は、２６～１７２秒の範囲にある。
２．１ コーティング用組成物（Ｂ１ａ）および対応する比較コーティング用組成物の生成
コーティング用組成物は、以下の表１ａおよび１ｂに準拠して生成した。コーティング用組成物Ｅ１ａ～Ｅ３ａ、およびＥ４ａ～Ｅ６ａは、本発明のものである。コーティング用組成物Ｖ１ａ～Ｖ５ａは、比較コーティング用組成物である。Ｅ１ａ～Ｅ３ａおよびＶ１ａ～Ｖ５ａの生成の場合、室温（２０℃）で確定した流動時間は、２６～１７２秒の範囲にある。
【0157】
【表1】
【0158】
【表2】
【0159】
２．２ Ｅ１ａ～Ｅ３ａおよびＶ１ａ～Ｖ５ａ、ならびにＥ４ａ～Ｅ６ａを使用したマスターフィルム（Ｂ１Ｆ１）の生成
所望のポジ構造を有するニッケル製エンボス用器具Ｐ１を備える、ロールツープレートエンボス装置を使用して、いくつかの異なるマスターフィルムを生成する。この目的のために、上記のコーティング用組成物Ｅ１ａ～Ｅ３ａおよびＶ１ａ～Ｖ５ａ、ならびにＥ４ａ～Ｅ６ａの１つをそれぞれ、Ｐ１に適用し、ＰＥＴフィルム（Ｆ１）をその上から塗布する（Ｈｏｓｔａｐｈａｎ（登録商標）ＧＮ）。次に、フィルムおよび個々のコーティング用組成物から生じた積層をプレスロールの下に通し、エンボス装置が個々の積層のコーティング用組成物と接触している間も依然として、コーティング用組成物は、ＵＶ－ＬＥＤランプによって少なくとも一部、硬化している。この場合、使用したランプは、Ｅａｓｙｔｅｃ製の３６５ｎｍ、６Ｗ ＵＶ－ＬＥＤランプである（ランプ出力１００％、２ｍ／分、２回通す）。続いて、Ｐ１と比較するとネガ構造となるフィルムと共に、少なくとも一部が硬化したコーティングをエンボス装置から分離して、構造化フィルム（マスターフィルム）を得る。続いて、このマスターフィルムを、ＵＶＡランプで後露光する（Ｐａｎａｃｏｌ－Ｅｌｏｓａｌ ＵＶ Ｆ－９００）。
所望のポジ構造を有するニッケル製エンボス用器具Ｐ１を備える、ロールツープレートエンボス装置を使用して、いくつかの異なるマスターフィルムを生成する。この目的のために、上記のコーティング用組成物Ｅ１ａ～Ｅ３ａおよびＶ１ａ～Ｖ５ａ、ならびにＥ４ａ～Ｅ６ａの１つをそれぞれ、Ｐ１に適用し、ＰＥＴフィルム（Ｆ１）をその上から塗布する（Ｈｏｓｔａｐｈａｎ（登録商標）ＧＮ）。次に、フィルムおよび個々のコーティング用組成物から生じた積層をプレスロールの下に通し、エンボス装置が個々の積層のコーティング用組成物と接触している間も依然として、コーティング用組成物は、ＵＶ－ＬＥＤランプによって少なくとも一部、硬化している。この場合、使用したランプは、Ｅａｓｙｔｅｃ製の３６５ｎｍ、６Ｗ ＵＶ－ＬＥＤランプである（ランプ出力１００％、２ｍ／分、２回通す）。続いて、Ｐ１と比較するとネガ構造となるフィルムと共に、少なくとも一部が硬化したコーティングをエンボス装置から分離して、構造化フィルム（マスターフィルム）を得る。続いて、このマスターフィルムを、ＵＶＡランプで後露光する（Ｐａｎａｃｏｌ－Ｅｌｏｓａｌ ＵＶ Ｆ－９００）。
【0160】
さらに、所望のポジ構造を有する、ニッケルからなるエンボス用器具Ｐ１を有するロールツーロールエンボス装置を使用することによってマスターフィルムを生成する。この目的のため、上記のコーティング用組成物Ｅ１ａをＰＥＴフィルム（Ｆ１）（Ｈｏｓｔａｐｈａｎ（登録商標）ＧＮ）に塗布し、プレスロールにより、エンボス用器具Ｐ１の上に通す。エンボス装置がコーティング用組成物に接触している間でさえも、ＵＶ－ＬＥＤランプによって、コーティング用組成物の少なくとも一部の硬化を行う。Ｅａｓｙｔｅｃ製の３６５ｎｍ、６Ｗ ＵＶ－ＬＥＤランプ（ランプ出力１００％、５ｍ／分）を使用する。続いて、フィルムと共に少なくとも一部が硬化したコーティングを、Ｐ１との比較によりネガ構造を有するエンボス装置から分離し、構造化フィルム（マスターフィルム）を得る。続いて、このマスターフィルムを、ＵＶＡランプで後露光する（Ｐａｎａｃｏｌ－Ｅｌｏｓａｌ ＵＶ Ｆ－９００）。
【0161】
２．３ 生成したマスターフィルム
項目２．２に記載されている方法で、ポジ構造の性質に従い、そのエンボスのさらに異なる様々な一連のマスターフィルムを得る（Ｅ１Ｆ１～Ｅ３Ｆ１およびＶ１Ｆ１～Ｖ５Ｆ１、ならびにＥ４Ｆ１～Ｅ６Ｆ１）。この場合、以下を具体的に有する、様々なポジ構造
・ ナノ構造（４３０ｎｍの周期および１４０ｎｍの深さを有する格子構造。使用したＰＥＴフィルムに、個々のコーティング用組成物を５～１０μｍの間の層厚さで塗布する）
・ マイクロ構造Ｍ１（幅および高さが３３μｍ、ならびに構造間の間隔が３５μｍを有する二次元三角形構造。使用したＰＥＴフィルムに、個々のコーティング用組成物を２０μｍの層厚さで塗布する）
・ マイクロ構造Ａ（幅４５μｍおよび高さ１３μｍを有する連続二次元三角形構造。使用したＰＥＴフィルムに、個々のコーティング用組成物を２０μｍの層厚さで塗布する）、または
・ マイクロ構造Ｂ（高さ８０μｍおよび両構造間の空間が１１５μｍを有する二次元三角形構造。使用したＰＥＴフィルムに、個々のコーティング用組成物を１１０μｍの層厚さで塗布する）
を有する、ニッケル製のエンボス装置を使用した。
項目２．２に記載されている方法で、ポジ構造の性質に従い、そのエンボスのさらに異なる様々な一連のマスターフィルムを得る（Ｅ１Ｆ１～Ｅ３Ｆ１およびＶ１Ｆ１～Ｖ５Ｆ１、ならびにＥ４Ｆ１～Ｅ６Ｆ１）。この場合、以下を具体的に有する、様々なポジ構造
・ ナノ構造（４３０ｎｍの周期および１４０ｎｍの深さを有する格子構造。使用したＰＥＴフィルムに、個々のコーティング用組成物を５～１０μｍの間の層厚さで塗布する）
・ マイクロ構造Ｍ１（幅および高さが３３μｍ、ならびに構造間の間隔が３５μｍを有する二次元三角形構造。使用したＰＥＴフィルムに、個々のコーティング用組成物を２０μｍの層厚さで塗布する）
・ マイクロ構造Ａ（幅４５μｍおよび高さ１３μｍを有する連続二次元三角形構造。使用したＰＥＴフィルムに、個々のコーティング用組成物を２０μｍの層厚さで塗布する）、または
・ マイクロ構造Ｂ（高さ８０μｍおよび両構造間の空間が１１５μｍを有する二次元三角形構造。使用したＰＥＴフィルムに、個々のコーティング用組成物を１１０μｍの層厚さで塗布する）
を有する、ニッケル製のエンボス装置を使用した。
【0162】
モデル化精度、二重結合の転化率および接着性を決定するためにナノ構造を有するマスターフィルムを使用する。マイクロ構造Ｍ１を有するマスターフィルムを複製の成功率を決定するために使用する。項目２．４を参照のこと。項目２．５～２．７において以下に記載されている転写フィルムの生成にも使用する。マイクロ構造ＡまたはＢを有するマスターフィルムを、以下の項目２．８において記載した転写フィルムの生成に使用する。これらのマスターフィルムを生成するため、各場合において、コーティング用組成物Ｅ１ａを使用して、それに対応して、マイクロ構造ＡまたはＢを有するマスターフィルムＥ１Ｆ１を得る。
【0163】
２．４．マスターフィルムに関する検討
以下の表２に、実施した検討を要約する。これらの検討は、それぞれ、上記の方法に従い行った。表内の記号「－」は、特定の検討を実施しなかったことを表す。
以下の表２に、実施した検討を要約する。これらの検討は、それぞれ、上記の方法に従い行った。表内の記号「－」は、特定の検討を実施しなかったことを表す。
【0164】
【表3】
【0165】
データは、Ｖ２Ｆ１、Ｖ３Ｆ１およびＶ５Ｆ１の場合において、十分なＤＢ転化率を実現しないこと（ＤＢ転化率＜９０）を示している。ＤＢ転化率が低すぎる場合、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）、および同様に後のコーティング用組成物（Ｂ２ａ）の両方をエンボスする際に問題が生じる恐れがある。反対に、マスターフィルムＥ１Ｆ１、Ｅ２Ｆ１およびＥ３Ｆ１は、少なくとも９０％のＤＢ転化率であることを示している。
【0166】
Ｖ１Ｆ１およびＶ４Ｆ１の場合、ＤＢ転化率は、実際に＞９０％であるが、これらのマスターフィルムの場合に実現する接着性は、まさにＶ３Ｆ１およびＶ５Ｆ１と同様に、不適切である（クロスカット試験は、評点５と評価された）。ＰＥＴフィルムへのマスターコーティングの接着性が不十分である場合、コーティング用組成物（Ｂ１ａ）、および同様に後のコーティング用組成物（Ｂ２ａ）の両方をエンボスする間に問題が発生する恐れがある。反対に、マスターフィルムＥ１Ｆ１、Ｅ２Ｆ１およびＥ３Ｆ１はすべて、良好から十分な接着特性を示している。
【0167】
このデータは、Ｖ２Ｆ１、Ｖ３Ｆ１およびＶ５Ｆ１の場合、個々のコーティングＶ２、Ｖ３およびＶ５の１５％が、エンボス用器具から除去することができなかったので、複製の成功率の評価では、わずか８５％の値しか得られないことをさらに示している。反対に、検討したマスターフィルムＥ１Ｆ１およびＥ２Ｆ１は、複製の成功率が１００％であることを示している。
【0168】
Ｖ５Ｆ１とは別に、検討したスターフィルムはすべて、非常に低い収縮値が一貫して得られているので、十分なモデル化精度を示す。Ｖ５Ｆ１の場合だけ、２９％の収縮が得られ、これは許容されるものではない。
【0169】
まとめると、マスターフィルムＥ１Ｆ１、Ｅ２Ｆ１およびＥ３Ｆ１のみが、検討した特性（ＤＢ転化率、接着性、モデル化精度および複製の成功率）のすべてに関して、良好な結果をもたらすと明言することができる。
【0170】
２．５．転写フィルムの生成：
次に、マイクロ構造を用いてそれぞれ得られたマスターフィルムをそれぞれ、ロールツープレートエンボス装置に使用し、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）を２０μｍの湿潤層厚さで、個々のマスターフィルムの構造化表面に塗布する。マスターフィルムおよびコーティング用組成物（Ｂ２ａ）の得られた積層にＴＡＣフィルムを裏打ちし、酸素から保護する。次いでマスターフィルムを含んで得られた積層、そこに塗布したコーティング用組成物（Ｂ２ａ）、およびこのコーティング用組成物に塗布したＴＡＣフィルムを次に、ＵＶ－ＬＥＤランプによるコーティング用組成物（Ｂ２ａ）の少なくとも一部の硬化と同時の方法で、プレスロールの下に通す。この場合、使用したランプは、Ｅａｓｙｔｅｃ製の３６５ｎｍ、６Ｗ ＵＶ－ＬＥＤランプである（ランプ出力１００％、２ｍ／分、２回通す）。この方法では、ＴＡＣフィルムを除去した後に、転写フィルム積層としてコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）が得られる。
次に、マイクロ構造を用いてそれぞれ得られたマスターフィルムをそれぞれ、ロールツープレートエンボス装置に使用し、コーティング用組成物（Ｂ２ａ）を２０μｍの湿潤層厚さで、個々のマスターフィルムの構造化表面に塗布する。マスターフィルムおよびコーティング用組成物（Ｂ２ａ）の得られた積層にＴＡＣフィルムを裏打ちし、酸素から保護する。次いでマスターフィルムを含んで得られた積層、そこに塗布したコーティング用組成物（Ｂ２ａ）、およびこのコーティング用組成物に塗布したＴＡＣフィルムを次に、ＵＶ－ＬＥＤランプによるコーティング用組成物（Ｂ２ａ）の少なくとも一部の硬化と同時の方法で、プレスロールの下に通す。この場合、使用したランプは、Ｅａｓｙｔｅｃ製の３６５ｎｍ、６Ｗ ＵＶ－ＬＥＤランプである（ランプ出力１００％、２ｍ／分、２回通す）。この方法では、ＴＡＣフィルムを除去した後に、転写フィルム積層としてコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）が得られる。
【0171】
使用したコーティング用組成物（Ｂ２ａ）は、市販の放射線硬化性コーティング用組成物であり、これは、少なくとも１種のウレタンアクリレート、少なくとも１種の光開始剤、やはりまた市販の添加剤を含む。
【0172】
２．６ 接合したコンポジットおよび独立構造化フィルムの生成：
次に、コーティングした鋼製プレートに、積層フィルム（ＡＴＰ製のマウント積層フィルムＳ－４７０５ ＷＳＡ １２０Ｐ。ポリアクリレート）によって、転写フィルム（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ２）の非構造化したコーティング面を接着させる。使用した積層フィルムは、意図しない他着から保護するため、各場合において、シリコーンペーパーを最初に片側に裏打ちした接着フィルムＫからなる。この目的の場合、シリコーンペーパーを最初に、両面の一方から剥離し、このシリコーンペーパーの剥離方向に対して平行に、ゴムローラーを用いてＢ２に接着フィルムをプレスすることによって、今曝露したその接着側で、接着フィルムを転写フィルム（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ２）のコーティング面にあてる。同様に、次に、シリコーンペーパーをもう一方の側から剥離し、シリコーンペーパーの剥離方向に対して平行に、ゴムローラーを使用して、基材Ｆ２としての鋼製プレートの表面に、今曝露した最終的な接着面によって接着フィルムをプレスする。得られたコンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を、最初に、５０℃で１２時間、保管する。この保管の後に、個々のマスターフィルム（Ｂ１Ｆ１）を前述のコンポジットから剥離し、マスターフィルムだけでなくコンポジットも（Ｆ２ＫＢ２）も得る。
次に、コーティングした鋼製プレートに、積層フィルム（ＡＴＰ製のマウント積層フィルムＳ－４７０５ ＷＳＡ １２０Ｐ。ポリアクリレート）によって、転写フィルム（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ２）の非構造化したコーティング面を接着させる。使用した積層フィルムは、意図しない他着から保護するため、各場合において、シリコーンペーパーを最初に片側に裏打ちした接着フィルムＫからなる。この目的の場合、シリコーンペーパーを最初に、両面の一方から剥離し、このシリコーンペーパーの剥離方向に対して平行に、ゴムローラーを用いてＢ２に接着フィルムをプレスすることによって、今曝露したその接着側で、接着フィルムを転写フィルム（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）のコーティング（Ｂ２）のコーティング面にあてる。同様に、次に、シリコーンペーパーをもう一方の側から剥離し、シリコーンペーパーの剥離方向に対して平行に、ゴムローラーを使用して、基材Ｆ２としての鋼製プレートの表面に、今曝露した最終的な接着面によって接着フィルムをプレスする。得られたコンポジット（Ｆ２ＫＢ２Ｂ１Ｆ１）を、最初に、５０℃で１２時間、保管する。この保管の後に、個々のマスターフィルム（Ｂ１Ｆ１）を前述のコンポジットから剥離し、マスターフィルムだけでなくコンポジットも（Ｆ２ＫＢ２）も得る。
【0173】
独立構造化フィルムを得るため、接合した鋼製プレート（Ｆ２ＫＢ２）からコーティング（Ｂ２）を分離することができる。
【0174】
２．７ 接合したコンポジット（Ｆ２ＫＢ２）または独立構造化フィルム（Ｂ２）に関する検討
以下の表３は、エンボスするために使用した特定のマスターフィルムを考慮して、得られた転写フィルムに行った複製の成功率の検討結果を要約している。表内の記号「－」は、特定の検討を実施しなかったことを表す。
以下の表３は、エンボスするために使用した特定のマスターフィルムを考慮して、得られた転写フィルムに行った複製の成功率の検討結果を要約している。表内の記号「－」は、特定の検討を実施しなかったことを表す。
【0175】
【表4】
【0176】
データは、Ｖ３Ｆ１およびＶ４Ｆ１を使用した場合、複製は不適切なだけであることを示している。同様に、Ｖ１Ｆ１およびＶ５Ｆ１を使用すると、これらの場合では、コーティングＢ２の部分は、個々のマスターフィルムのコーティングＶ１およびＶ５から除去することができなかったので、複製の成功率を評価した場合、１００％未満の値しか得られない。反対に、検討したマスターフィルムＥ１Ｆ１～Ｅ３Ｆ１およびＥ５Ｆ１およびＥ６Ｆ１を使用した場合、１００％の複製の成功率が達成される。
【0177】
２．８ さらなる転写フィルムの生成：
熱硬化性コーティング用組成物（Ｂ２ａ）を、２００μｍの湿潤層厚さで、マイクロ構造ＡまたはＢの１つを有する、個々のマスターフィルムＥ１Ｆ１の構造化した表面に塗布する。室温（２３℃）で１０分間のフラッシュオフタイムの後に、８０℃のオーブン温度のＨｅｒａｅｕｓ製の市販オーブン中（４５分間）、こうして得られたマスターフィルムおよびコーティング用組成物（Ｂ２ａ）の積層の少なくとも一部の硬化を行う。こうして、転写フィルムとしてのコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）を積層として得る。
熱硬化性コーティング用組成物（Ｂ２ａ）を、２００μｍの湿潤層厚さで、マイクロ構造ＡまたはＢの１つを有する、個々のマスターフィルムＥ１Ｆ１の構造化した表面に塗布する。室温（２３℃）で１０分間のフラッシュオフタイムの後に、８０℃のオーブン温度のＨｅｒａｅｕｓ製の市販オーブン中（４５分間）、こうして得られたマスターフィルムおよびコーティング用組成物（Ｂ２ａ）の積層の少なくとも一部の硬化を行う。こうして、転写フィルムとしてのコンポジット（Ｂ２Ｂ１Ｆ１）を積層として得る。
【0178】
使用した熱硬化性コーティング用組成物（Ｂ２ａ）は、市販の熱硬化性２Ｋコーティング用組成物である。構成成分１と構成成分２との間の混合比は、２：１である。構成成分１は、少なくとも１種のポリオールおよび市販の添加剤を含む。構成成分２は、少なくとも１種のポリイソシアネートおよび市販の添加剤を含む。
【0179】
こうして得られた転写フィルムから、項目２．６に記載した手順によってコンポジット（Ｆ２ＫＢ２）を得る。
【0180】
以下の表４は、エンボスするために使用した各マスターフィルムを考慮して、得られた転写フィルムに行った試験の、複製の成功率の結果を要約している。
【0181】
【表5】
【0182】
これらのデータは、検討したマスターフィルムＥ１Ｆ１を使用した場合、熱硬化性コーティング用組成物をコーティング用組成物（Ｂ２ａ）として使用した場合でさえも、１００％の複製の成功率が実現することを示している。
【図1】