(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-01-17
(45)【発行日】2024-01-25
(54)【発明の名称】レーザ装置
(51)【国際特許分類】
H01S 5/02208 20210101AFI20240118BHJP
G02B 6/42 20060101ALI20240118BHJP
【FI】
H01S5/02208
G02B6/42
(21)【出願番号】P 2020064136
(22)【出願日】2020-03-31
【審査請求日】2022-12-26
(73)【特許権者】
【識別番号】000005186
【氏名又は名称】株式会社フジクラ
(74)【代理人】
【識別番号】110000338
【氏名又は名称】弁理士法人 HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
(72)【発明者】
【氏名】葛西 洋平
【審査官】高椋 健司
(56)【参考文献】
【文献】特開2006-308791(JP,A)
【文献】特開2009-166104(JP,A)
【文献】特開2005-317743(JP,A)
【文献】特開2015-155933(JP,A)
【文献】米国特許第08422119(US,B1)
【文献】特開2018-034184(JP,A)
【文献】特開2004-317566(JP,A)
【文献】特開2006-019603(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
H01S 3/00 -3/02
H01S 3/04 -3/0959
H01S 3/10 -3/102
H01S 3/105-3/131
H01S 3/136-3/213
H01S 3/23 -5/50
G02B 6/26 -6/27
G02B 6/30 -6/34
G02B 6/42 -6/43
G02F 1/00 -1/125
G02F 1/21 -7/00
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
少なくとも1つの半導体レーザ素子と、
前記半導体レーザ素子から出力された波長λ1のレーザ光に作用する波長変換素子と、
前記波長変換素子から出力された波長λ1のレーザ光及び波長λ2(λ2<λ1)のレーザ光が入射する光ファイバと、
前記少なくとも1つの半導体レーザ素子が収容された第1筐体と、
前記波長変換素子が収容され、前記光ファイバが引き込まれた第2筐体と、
波長λ1のレーザ光を透過し、且つ、波長λ2のレーザ光を遮断するフィルタ素子であって、前記第1筐体と前記第2筐体とを連通させる開口部を塞ぐように配置されたフィルタ素子と、を備えている、
ことを特徴とするレーザ装置。
【請求項2】
前記第1筐体と前記第2筐体とは、分離可能に構成されている、
ことを特徴とする請求項
1に記載のレーザ装置。
【請求項3】
前記波長変換素子の内部に集光点が形成されるように、波長λ1のレーザ光を集光する集光レンズを更に備えている、
ことを特徴とする請求項1
または2に記載のレーザ装置。
【請求項4】
前記波長変換素子は、非臨界位相整合条件を満たすように配置された複屈折結晶により構成されている、
ことを特徴とする請求項1~
3の何れか一項に記載のレーザ装置。
【請求項5】
前記波長変換素子は、擬似位相整合素子により構成されている、
ことを特徴とする請求項1~
3の何れか一項に記載のレーザ装置。
【請求項6】
波長λ2は、500nm以下である、
ことを特徴とする請求項1~
5の何れか一項に記載のレーザ装置。
【請求項7】
波長λ1は、800nm以上1000nm以下である、
ことを特徴とする請求項1~
6の何れか一項に記載のレーザ装置。
【請求項8】
複数の半導体レーザ素子を備えており、
前記複数の半導体レーザ素子から出力されたレーザ光を空間合成又は偏波合成する、
ことを特徴とする請求項1~
7の何れか一項に記載のレーザ装置。
【請求項9】
前記光ファイバを導波された波長λ1のレーザ光及び波長λ2のレーザ光をワークに照射するための加工ヘッドを更に備えている、
ことを特徴とする請求項1~
8の何れか一項に記載のレーザ装置。
【請求項10】
第1筐体に少なくとも1つの半導体レーザ素子が収容された他のレーザモジュールと併用されるレーザモジュールであって、
前記半導体レーザ素子から出力された波長λ1のレーザ光に作用する波長変換素子と、
前記波長変換素子から出力された波長λ1のレーザ光及び波長λ2(λ2<λ1)のレーザ光が入射する光ファイバと、
前記波長変換素子が収容され、前記光ファイバが引き込まれた第2筐体と、
波長λ1のレーザ光を透過し、且つ、波長λ2のレーザ光を遮断するフィルタ素子であって、前記第1筐体と前記第2筐体とを連通させる開口部を塞ぐように配置されたフィルタ素子と、を備えている、
ことを特徴とするレーザモジュール。
【請求項11】
請求項
10に記載のレーザモジュールと併用されるレーザモジュールであって、
前記第1筐体と、前記半導体レーザ素子と、を備えている、
ことを特徴とするレーザモジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、レーザ装置に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、レーザ装置の短波長化に注目が集まっている。金属その他の材料は、近赤外域から紫外域において、照射するレーザ光の波長が短くなるほど吸収率が高くなるという性質を有している。このため、より短波長のレーザ光を出力するレーザ装置を用いれば、より低出力で材料を加工することが可能になり、熱的影響の少ない綺麗な仕上がりを実現できる。また、照射するレーザ光の波長が短くなるほど、ワークにおける反射損失も小さくなる。このため、短波長のレーザ光を出力するレーザ装置は、省電力化の面でも有利である。
【0003】
レーザ装置の短波長化は、例えば、光源として用いる半導体レーザ素子の短波長化を図ることによって実現される。特許文献1には、光源として400nm帯のレーザ光を出力する青色半導体レーザ素子を用いたレーザ装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、光源として用いる半導体レーザ素子の短波長化を図った従来のレーザ装置には、高出力化が困難であるという問題があった。
【0006】
例えば、特許文献1に記載のレーザ装置において、光源として用いられている青色半導体レーザ素子の出力は、1素子あたり高々数ワット程度である。このため、例えば、kWクラスのレーザ装置を実現するためには、高度なパッケージング技術を用いて多数の青色半導体レーザ素子を搭載することが必要になり、光源の調達コスト及び実装コストが高額になる。
【0007】
本発明の一態様は、上記の問題に鑑みてされたものであり、短波長化及び高出力化の容易性を両立したレーザ装置を実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明の態様1に係るレーザ装置は、少なくとも1つの半導体レーザ素子と、前記半導体レーザ素子から出力された波長λ1のレーザ光に作用する波長変換素子と、前記波長変換素子から出力された波長λ1のレーザ光及び波長λ2(λ2<λ1)のレーザ光が入射する光ファイバと、を備えている。
【0009】
本発明の態様2に係るレーザ装置は、前記半導体レーザ素子が収容された第1筐体と、前記波長変換素子が収容され、前記光ファイバが引き込まれた第2筐体と、波長λ1のレーザ光を透過し、且つ、波長λ2のレーザ光を遮断するフィルタ素子であって、前記第1筐体と前記第2筐体とを連通させる開口部を塞ぐように配置されたフィルタ素子と、を更に備えている。
【0010】
本発明の態様3に係るレーザ装置において、前記第1筐体と第2筐体とは、分離可能に構成されている。
【0011】
本発明の態様4に係るレーザ装置は、前記波長変換素子の内部に集光点が形成されるように、波長λ1のレーザ光を集光する集光レンズを更に備えている。
【0012】
本発明の態様5に係るレーザ装置において、前記波長変換素子は、非臨界位相整合条件を満たすように配置された複屈折結晶により構成されている。
【0013】
本発明の態様6に係るレーザ装置において、前記波長変換素子は、疑似位相整合素子により構成されている。
【0014】
本発明の態様7に係るレーザ装置において、波長λ2は、500nm以下である。
【0015】
本発明の態様8に係るレーザ装置において、波長λ1は、800nm以上1000nm以下である。
【0016】
本発明の態様9に係るレーザ装置は、複数の半導体レーザ素子を備えており、前記複数の半導体レーザ素子から出力されたレーザ光を空間合成又は偏波合成する。
【0017】
本発明の態様10に係るレーザ装置は、前記光ファイバを導波された波長λ1のレーザ光及び波長λ2のレーザ光をワークに照射するための加工ヘッドを更に備えている。
【0018】
本発明の態様11に係るレーザモジュールは、第1筐体に少なくとも1つの半導体レーザ素子が収容された他のレーザモジュールと併用されるレーザモジュールであって、前記半導体レーザ素子から出力された波長λ1のレーザ光に作用する波長変換素子と、前記波長変換素子から出力された波長λ1のレーザ光及び波長λ2(λ2<λ1)のレーザ光が入射する光ファイバと、前記波長変換素子が収容され、前記光ファイバが引き込まれた第2筐体と、を備えている。
【0019】
本発明の態様12に係るレーザモジュールは、本発明の態様11に係るレーザモジュールと併用されるレーザモジュールであって、前記第1筐体と、前記半導体レーザ素子と、を備えている。
【発明の効果】
【0020】
本発明の一態様によれば、短波長化及び高出力化の容易性を両立したレーザ装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【0021】
【
図1】本発明の一態様に係るレーザ装置の構成を示す平面図である。
【
図2】
図1のレーザ装置の一変形例を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【0022】
〔レーザ装置の構成〕
本発明の一実施形態に係るレーザ装置1について、
図1を参照して説明する。
図1は、レーザ装置1の平面図である。
図1においては、蓋を外したレーザ装置1を上面視した様子を示している。以下の説明においては、x軸、y軸、及びz軸を
図1に示すように取った座標系を適宜用いる。
【0023】
レーザ装置1は、
図1に示すように、半導体レーザ素子群LDと、コリメートレンズ群C1と、ミラー群M1と、波長安定化素子Sと、集光レンズL1と、ミラーM2と、フィルタ素子Fと、ミラーM3と、波長変換素子Wと、コリメートレンズC2と、集光レンズL2と、光ファイバOFと、第1筐体B1と、第2筐体B2と、を備えている。ここで、半導体レーザ素子群LDは、少なくとも1つの半導体レーザ素子の集合である。本実施形態においては、8個の半導体レーザ素子LD1~LD8の集合を、半導体レーザ素子群LDとして用いている。また、コリメートレンズ群C1は、少なくとも1つのコリメートレンズの集合である。本実施形態においては、8個のコリメートレンズC11~C18の集合を、コリメートレンズ群C1として用いている。
【0024】
半導体レーザ素子群LD、コリメートレンズ群C1、ミラー群M1、波長安定化素子S、集光レンズL1、ミラーM2、及びフィルタ素子Fは、第1筐体B1に収容されている。半導体レーザ素子群LD、コリメートレンズ群C1、ミラー群M1、波長安定化素子S、集光レンズL1、ミラーM2、フィルタ素子F、及び第1筐体B1は、第1レーザモジュールLM1を構成している。ミラーM3、波長変換素子W、コリメートレンズC2、及び集光レンズL2は、第2筐体B2に収容されており、光ファイバOFは、第2筐体B2に引き込まれている。ミラーM3、波長変換素子W、コリメートレンズC2、集光レンズL2、及び第2筐体B2は、第2レーザモジュールLM2を構成している。第1筐体B1と第2筐体B2とは、分離可能に連結されている。本実施形態においては、第1筐体B1の側壁と第2筐体B2の側壁とが4本のネジにより連結されており、これらのネジを外すことにより分離することができる。尚、第1筐体B1と第2筐体B2とは、短辺の側壁同士がネジにより連結されても良い。また、第1筐体B1の短辺の側壁と第2筐体B2の長辺の側壁、または、第1筐体B1の長辺と第2筐体B2の短辺の側壁がネジにより連結されても良い。また、第1筐体B1の蓋と第2筐体B2の蓋がネジにより連結されても良い。
【0025】
半導体レーザ素子LDi(iは1以上8以下の自然数)は、波長λ1のレーザ光を生成するための構成である。波長λ1は、例えば、800nm以上1000nm以下である。本実施形態においては、活性層がxy平面と平行になるように、かつ、出射端面がzx平面と平行になるように、第1筐体B1の底板上に載置された半導体レーザ素子を、半導体レーザ素子LDiとして用いている。このため、半導体レーザ素子LDiから出力された波長λ1のレーザ光は、y軸正方向に進行するレーザ光であって、x軸正負方向のビーム径が次第に大きくなるレーザ光となる。なお、第1筐体B1の底板には、半導体レーザ素子LDj+1(jは1以上7以下の自然数)の高さが半導体レーザ素子LDjの高さよりも高くなるように段差が設けられている。
【0026】
半導体レーザ素子LDiから出力された波長λ1のレーザ光の光路上には、コリメートレンズC1iが配置されている。コリメートレンズC1iは、半導体レーザ素子LDiから出力された波長λ1のレーザ光をコリメートするための構成である。本実施形態においては、平坦面(入射面)がy軸負方向を向き、湾曲面(出射面)がy軸正方向を向き、xy平面に平行な断面のy軸正方向側の外縁が円弧を描くように、第1筐体B1の底板上に載置された平凸シリンドリカルレンズを、コリメートレンズC1iとして用いている。このため、コリメートレンズC1iを透過した波長λ1のレーザ光は、y軸正方向に進行するレーザ光であって、x軸正負方向のビーム径が一定であるレーザ光となる。なお、コリメートレンズC11~C18は、半導体レーザ素子LD1~LD8と同様、段差が設けられた第1筐体B1の底板上に載置されている。コリメートレンズC1iの載置される段は、半導体レーザ素子LDiの載置される段と同一である。なお、半導体レーザ素子LDiから出力されるレーザ光は、x軸正負方向のビーム径のみならず、z軸正負方向のビーム径も次第に大きくなるレーザ光であり得る。この場合、コリメートレンズC1iの前段又は後段に、レーザ光のz軸正負方向の広がりをコリメートする他のコリメートレンズを更に設けることが好ましい。
【0027】
コリメートレンズC1iを透過した波長λ1のレーザ光の光路上には、ミラーM1iが配置されている。ミラーM1iは、コリメートレンズC1iを透過した波長λ1のレーザ光を反射するための構成である。本実施形態においては、反射面がz軸と平行になり、且つ、y軸と45°を成すように、第1筐体B1の底板上に載置されたミラーを、ミラーM1iとして用いている。このため、ミラーM1iにて反射された波長λ1のレーザ光は、x軸負方向に進行するレーザ光であって、y軸正負方向のビーム径がほぼ一定であるレーザ光となる。なお、ミラーM11~M18は、半導体レーザ素子LD1~LD8及びコリメートレンズC11~C18と同様、段差が設けられた第1筐体B1の底板上に載置されている。ミラーM1iの載置される段は、半導体レーザ素子LDi及びコリメートレンズC1iの載置される段と同一である。なお、第1筐体B1の底板の段差は、ミラーM1iの上端を隣接するミラーM1i+1にて反射されたレーザ光が掠めるように設定されている。これにより、半導体レーザ素子LD1~LD8から出力されたレーザ光を高密度に空間合成することが可能になる。
【0028】
ミラーM11~M18にて反射された波長λ1のレーザ光の光路上には、波長安定化素子Sが配置されている。波長安定化素子Sは、半導体レーザ素子LD1~LD8の外部共振器を構成し、半導体レーザ素子LD1~LD8の発振波長をλ1にロックするための構成である。本実施形態においては、入射面及び出射面がyz平面と平行になるように、第1筐体B1の底板上に載置されたVBG(Volume Bragg Grating)素子を、波長安定化素子Sとして用いている。
【0029】
波長安定化素子Sを透過した波長λ1のレーザ光の光路上には、集光レンズL1が配置されている。集光レンズL1は、波長安定化素子Sを透過した波長λ1のレーザ光を集光するための構成である。本実施形態においては、湾曲面(入射面)がx軸正方向を向き、平坦面(出射面)がx軸負方向を向き、xy平面に平行な断面のx軸正方向側の外縁が円弧を描くように、第1筐体B1の底板上に載置された平凸シリンドリカルレンズを、集光レンズL1として用いている。このため、集光レンズL1を透過した波長λ1のレーザ光は、x軸負方向に進行するレーザ光であって、y軸正負方向のビーム径が次第に小さくなるレーザ光となる。なお、集光レンズL1は、y軸正負方向のビーム径のみならず、z軸正負方向のビーム径が次第に小さくなるように、波長安定化素子Sを透過したレーザ光を二軸集光するものであってもよい。この場合、集光レンズL1は、2つのシリンドリカルレンズを組み合わせることにより実現してもよいし、1つの球面レンズ又は非球面レンズにより実現してもよい。また、この場合、集光レンズL1は、半導体レーザ素子LD1~LD8の各々から出力されたレーザ光を個別に集光する機能に加え、これらのレーザ光からなるレーザ光束を集束する機能も担う。
【0030】
集光レンズL1を透過した波長λ1のレーザ光の光路上には、ミラーM2が配置されている。ミラーM2は、集光レンズL1を透過した波長λ1のレーザ光を反射するための構成である。本実施形態においては、反射面がz軸と平行になり、且つ、x軸と45°を成すように、第1筐体B1の底板上に載置されたミラーを、ミラーM2として用いている。このため、ミラーM2にて反射された波長λ1のレーザ光は、y軸正方向に進行するレーザ光であって、x軸正負方向のビーム径が次第に小さくなるレーザ光となる。なお、集光レンズL1が波長安定化素子Sを透過したレーザ光を二軸集光するものである場合、ミラーM2にて反射された波長λ1のレーザ光は、y軸正方向に進行するレーザ光であって、x軸正負方向及びz軸正負方向のビーム径が次第に小さくなるレーザ光となる。
【0031】
ミラーM2にて反射された波長λ1のレーザ光の光路上には、フィルタ素子Fが配置されている。フィルタ素子Fは、波長λ1のレーザ光を透過すると共に、波長λ2(λ2<λ1)のレーザ光を遮断するための構成である。ここで、波長λ2は、波長λ1のレーザ光を波長変換素子Wに入射させたときに、波長λ1のレーザ光と共に波長変換素子Wから出力されるレーザ光の波長であり、例えば、400nm以上500nm以下である。本実施形態においては、波長λ2と波長λ1との間の波長(例えば、700nm)で透過係数が急峻に立ち上がる(反射係数が急峻に立ち下がる)ハイパスフィルタ素子を、フィルタ素子Fとして用いる。なお、フィルタ素子Fは、第1筐体B1に設けられた開口O1と、開口O1と連通する第2筐体B2に設けられた開口O2とを塞ぐように、第1筐体B1の側壁の内側に固定される。
【0032】
フィルタ素子Fを透過した波長λ1のレーザ光の光路上には、ミラーM3が配置されている。ミラーM3は、フィルタ素子Fを透過した波長λ1のレーザ光を反射するための構成である。本実施形態においては、反射面がz軸と平行になり、且つ、y軸と45°を成すように、第2筐体B2の底板上に載置されたミラーを、ミラーM3として用いている。このため、ミラーM3にて反射された波長λ1のレーザ光は、x軸正方向に進行するレーザ光であって、y軸正負方向のビーム径が次第に小さくなるレーザ光となる。なお、集光レンズL1が波長安定化素子Sを透過したレーザ光を二軸集光するものである場合、ミラーM3にて反射された波長λ1のレーザ光は、x軸正方向に進行するレーザ光であって、y軸正負方向及びz軸正負方向のビーム径が次第に小さくなるレーザ光となる。
【0033】
ミラーM3にて反射されたレーザ光の集光点には、波長変換素子Wが配置されている。波長変換素子Wは、ミラーM3にて反射された波長λ1のレーザ光の一部を、波長λ2のレーザ光に変換する。波長変換素子Wとしては、例えば、二次高調波を発生するSHG(Second Harmonic Generation)素子を用いることができる。本実施形態においては、非臨界位相整合条件を満たすように、第2筐体B2の底板上に載置された複屈折結晶を、波長変換素子Wとして用いている。このため、波長変換素子Wから出力される波長λ1のレーザ光及び波長λ2のレーザ光は、何れも、x軸正方向に進行するレーザ光であって、y軸正負方向のビーム径が次第に大きくなるレーザ光となる。なお、集光レンズL1が波長安定化素子Sを透過したレーザ光を二軸集光するものである場合、波長変換素子Wから出力される波長λ1のレーザ光及び波長λ2のレーザ光は、何れも、x軸正方向に進行するレーザ光であって、y軸正負方向及びz軸正負方向のビーム径が次第に大きくなるレーザ光となる。なお、非臨界位相整合条件を満たすように配置された複屈折結晶の代わりに、擬似位相整合素子、すなわち、コヒーレント長周期で自発分極を周期的に反転させた非線形光学結晶を波長変換素子Wとして用いてもよい。
【0034】
なお、SHG素子として機能する複屈折結晶としては、例えば、KDP(KH2(PO4))結晶、BBO(β-BaB2O4)結晶、LBO(LiB3O5)結晶、CLBO(CsLiB6O10)結晶などが挙げられる。複屈折結晶により波長変換素子Wを構成する場合には、臨界位相整合条件が常に満たされるよう、複屈折結晶の温度を調整するペルチェ素子などの温調機構を併用するとよい。また、SHG素子として機能する擬似位相整合素子としては、例えば、LT(Mg:LiTaO3)結晶、LN(Mg:LiNbO3)結晶、KTP(KTiOPO4)結晶などの非線形光学結晶に電圧印加により分極反転構造を形成したものを用いることができる。
【0035】
波長変換素子Wから出力された波長λ1のレーザ光及び波長λ2のレーザ光の光路上には、コリメートレンズC2が配置されている。コリメートレンズC2は、波長変換素子Wから出力された波長λ1のレーザ光及び波長λ2のレーザ光をコリメートするための構成である。本実施形態においては、平坦面(入射面)がx軸負方向を向き、湾曲面(出射面)がx軸正方向を向き、xy平面に平行な断面のx軸正方向側の外縁が円弧を描くように、第2筐体B2の底板上に載置された平凸シリンドリカルレンズを、コリメートレンズC2として用いている。このため、コリメートレンズC2を透過した波長λ1のレーザ光及び波長λ2のレーザ光は、何れも、x軸正方向に進行するレーザ光であって、y軸正負方向のビーム径が一定であるレーザ光となる。なお、集光レンズL1が波長安定化素子Sを透過したレーザ光を二軸集光するものである場合、波長変換素子Wから出力される波長λ1のレーザ光及び波長λ2のレーザ光は、何れも、x軸正方向に進行するレーザ光であって、y軸正負方向及びz軸正負方向のビーム径が次第に大きくなるレーザ光となる。この場合、コリメートレンズC2の前段又は後段に、レーザ光のz軸正負方向の広がりをコリメートする他のコリメートレンズを更に設けることが好ましい。
【0036】
コリメートレンズC2を透過した波長λ1のレーザ光及び波長λ2のレーザ光の光路上には、集光レンズL2が配置されている。集光レンズL2は、コリメートレンズC2を透過した波長λ1のレーザ光及び波長λ2のレーザ光を集光するための構成である。本実施形態においては、湾曲面(入射面)がx軸負方向を向き、xy平面に平行な断面のx軸負方向側の外縁が円弧を描くように、第2筐体B2の底板上に載置された平凸シリンドリカルレンズを、集光レンズL2として用いている。このため、集光レンズL2を透過した波長λ1のレーザ光及び波長λ2のレーザ光は、何れも、x軸正方向に進行するレーザ光であって、y軸正負方向のビーム径が次第に小さくなるレーザ光となる。なお、集光レンズL2は、y軸正負方向のビーム径のみならず、z軸正負方向のビーム径が次第に小さくなるように、コリメートレンズC2を透過したレーザ光を二軸集光するものであってもよい。この場合、集光レンズL2は、2つのシリンドリカルレンズを組み合わせることにより実現してもよいし、1つの球面レンズ又は非球面レンズにより実現してもよい。また、この場合、集光レンズL2は、半導体レーザ素子LD1~LD8の各々から出力されたレーザ光を個別に集光する機能に加え、これらのレーザ光からなるレーザ光束を集束する機能も担う。
【0037】
集光レンズL2を透過した波長λ1のレーザ光及び波長λ2のレーザ光の集光点には、光ファイバOFの入射端面が配置されている。光ファイバOFは、集光レンズL2を透過したレーザ光を導波するための構成である。本実施形態において光ファイバOFは、入射端面がx軸負方向を向くように、第2筐体B2の底板上に固定されたマウントにフェルールを介して載置されている。
【0038】
なお、本実施形態においては、第1筐体B1の底板に段差を設け、低い方から数えてi番目の段に半導体レーザ素子LDi、コリメートレンズC1i、及びミラーM1iを載置する構成を採用している。これは、半導体レーザ素子LD1~LD8の各々から出力されたレーザ光をz軸方向に沿って並べるためである。しかしながら、半導体レーザ素子LD1~LD8の各々から出力されたレーザ光をz軸方向に沿って並べることは、第1筐体B1の底面に段差を設けずとも実現することができる。例えば、半導体レーザ素子LD1~LD8、コリメートレンズC11~C18、及びミラーM11~M18の各々をマウントに載置し、このマウントの高さを適宜調整することによって、半導体レーザ素子LD1~LD8の各々から出力されたレーザ光をz軸方向に沿って並べることができる。コリメートレンズC11~C18については、マウントを用いずにコリメートレンズC11~C18自体の高さを適宜調整してもよい。また、ミラーM11~M18についても、マウントを用いずにミラーM11~M18自体の高さを適宜調整してもよい。
【0039】
〔レーザ装置の特徴と効果〕
以上のように、本実施形態に係るレーザ装置1は、少なくとも1つの半導体レーザ素子LD1と、半導体レーザ素子LD1から出力された波長λ1のレーザ光に作用する波長変換素子Wと、波長変換素子Wから出力された波長λ1のレーザ光及び波長λ2のレーザ光が入射する光ファイバと、を備えている。上記の構成によれば、半導体レーザ素子LDiから出力されるレーザ光の波長λ1(発振波長、又は、ロック波長)よりも短い波長λ2のレーザ光を光ファイバOFから出力して金属加工等に利用することができる。しかも、波長λ2のレーザ光のみならず、波長λ1のレーザ光も光ファイバOFに入射させているので、波長変換素子Wの変換効率が低い場合でも、十分なパワーのレーザ光を光ファイバOFから出力して金属加工等に利用することができる。
【0040】
また、本実施形態に係るレーザ装置1は、半導体レーザ素子LDiが収容された第1筐体B1と、波長変換素子Wが収容され、光ファイバOFが引き込まれた第2筐体B2と、波長λ1のレーザ光を透過し、且つ、波長λ2のレーザ光を遮断するフィルタ素子Fと、を更に備えている。そして、フィルタ素子Fは、第1筐体B1と第2筐体B2とを連通させる開口部O1,O2を塞ぐように配置されている。上記の構成によれば、第2筐体B2に収容された波長変換素子Wから出力された波長λ2のレーザ光が、迷光として第1筐体B1に入射することを抑制することができる。したがって、半導体レーザ素子LDiなど第1筐体B1に収容された光学部品が、波長λ2のレーザ光によって劣化することを抑制することができる。また、これらの光学部品を第1筐体B1に固定するための接着剤は、波長が短い光ほど吸収し易く、光を吸収して発熱すると劣化が進行する。また、これらの接着剤に波長の短い(1光子あたりのエネルギーが高い)光が入射すると光分解反応による劣化が生じ易くなる。上記の構成によれば、このような接着剤の劣化も抑制することができる。
【0041】
また、本実施形態に係るレーザ装置1においては、第1筐体B1と第2筐体B2とが、分離可能に構成されている。上記の構成によれば、波長λ2のレーザ光によって第2筐体B2に収容された光学部品や接着剤が劣化した場合、それらの光学部品を含む第2レーザモジュールLM2を新しいものに交換することによって、レーザ装置1の機能を容易に回復することができる。
【0042】
また、本実施形態に係るレーザ装置1は、波長変換素子Wの内部に集光点が形成されるように、波長λ1のレーザ光を集光する集光レンズL1を更に備えている。波長変換素子Wに入射する波長λ1のレーザ光のエネルギー密度が高くなるほど、波長変換素子Wの変換効率が高くなる。このため、上記の構成によれば、波長変換素子Wにおいて波長λ2のレーザ光を効率的に生成することができる。
【0043】
また、本実施形態に係るレーザ装置1において、波長変換素子Wは、非臨界位相整合条件を満たすように配置された複屈折結晶により構成することができる。非臨界位相整合条件を満たす複屈折結晶は、ウォークオフ現象を生じないため、短い結晶長で長い相互作用長を稼ぐことができる。このため、上記の構成によれば、レーザ装置1の軽量化が容易である。また、非臨界位相整合条件を満たす複屈折結晶は、基本波と高調波とを同軸出力するので、基本波と高調波とを光ファイバのコアに漏れなく入射させることが容易である。このため、上記の構成によれば、レーザ装置1の高効率化が容易である。また、複屈折結晶は、量産技術が確立されている。このため、上記の構成によれば、レーザ装置1の低コスト化が容易である。なお、波長変換素子Wとして利用する複屈折結晶は、レーザダメージ閾値の高い複屈折結晶であることが好ましい。この場合、レーザ装置1の高出力化が容易になる。
【0044】
また、本実施形態に係るレーザ装置1において、波長変換素子Wは、擬似位相整合素子により構成することができる。擬似位相整合素子は、ウォークオフ現象を生じないため、短い結晶長で長い相互作用長を稼ぐことができる。このため、上記の構成によれば、レーザ装置1の軽量化が容易である。また、擬似位相整合素子は、基本波と高調波とを同軸出力するので、基本波と高調波とを光ファイバのコアに漏れなく入射させることが容易である。このため、上記の構成によれば、レーザ装置1の高効率化が容易である。また、擬似位相整合素子では、基本波の偏光方向と高調波の偏光方向とを一致させることができ、その結果、非線形光学テンソルの最大成分を有効活用することが可能である。このため、上記の構成によれば、レーザ装置1の高出力化が容易である。
【0045】
また、本実施形態に係るレーザ装置1においては、波長λ2を500nm以下とすることができる。上記の構成によれば、CO2レーザ、Yb添加ファイバレーザ、YAGレーザ等のレーザ装置と比べて、金属に対する吸収率が高いレーザ光を出力することができる。
【0046】
また、本実施形態に係るレーザ装置1においては、波長λ1を800nm以上1000nm以下とすることができる。400nm帯に属するレーザ光を出力する場合、従来のレーザ装置によれば、光源として青色半導体レーザを用いる必要があるところ、上記の構成によれば、その必要がない。このため、上記の構成によれば、400nm帯に属するレーザ光を出力する場合であっても、従来のレーザ装置よりもハイパワーなレーザ光を光ファイバOFから出力して金属加工等に利用することが容易になる。
【0047】
また、本実施形態に係るレーザ装置1は、複数の半導体レーザ素子LD1~LD8を備えており、これらの半導体レーザ素子LD1~LD8から出力されたレーザ光を空間合成する。上記の構成によれば、レーザ装置1の高出力化が容易である。また、上記の構成によれば、波長変換素子Wに入力される波長λ1のレーザ光のパワーが高くなる。n次の非線形光学効果によって波長λ2のレーザ光を生成する場合、波長変換素子Wから出力される波長λ2のレーザ光の強度は、波長変換素子Wに入力される波長λ1のレーザ光の強度のn乗に比例する。このため、波長変換素子Wにおける波長変換が非線形光学効果によるものである場合、波長変換の変換効率が高くなり、その結果、レーザ装置1から出力されるレーザ光において、波長λ2のレーザ光の占める割合が大きくなる。したがって、レーザ装置1から出力されるレーザ光のワークに対する吸収率を高くすることができる。
【0048】
なお、本実施形態に係るレーザ装置1は、
図1に示すように、光ファイバOFを導波された波長λ1のレーザ光及び波長λ2のレーザ光をワークに照射するための加工ヘッドHを更に備えていてもよい。上記の構成によれば、半導体レーザ素子LDiから出力されるレーザ光の波長λ1よりも短い波長λ2のレーザ光をワークに照射するレーザ加工機を実現することができる。
【0049】
また、第1レーザモジュールLM1及び第2レーザモジュールLM2は、それぞれ単体で実施することが可能である。特に、第1レーザモジュールLM1よりも寿命の短い第2レーザモジュールLM2は、交換部品として市場に流通させることに適している。
【0050】
また、本実施形態に係るレーザ装置1においては、集光角が十分に小さい(焦点距離が十分に長い)集光レンズL1を用いている。これは、波長変換素子Wに入射する波長λ1のレーザ光の入射角を十分に小さくすることによって、波長変換素子Wにおいて生じ得るウォークオフ現象を抑制するためである。
【0051】
また、本実施形態に係るレーザ装置1においては、第1筐体B1と第2筐体B2とを固定するためのネジを、蓋を開けることなく外部からアクセスすることが困難な第1筐体B1及び第2筐体B2の側壁に設けている。これは、ネジの緩み等によって、第1筐体B1に収容された光学部品と第2筐体B2に収容された光学部品とのアラインメントが狂うことを防ぐためである。
【0052】
また、本実施形態に係るレーザ装置1においては、集光レンズL2の設計及び配置を、波長λ1のレーザ光が漏れなく光ファイバOFのコアに入射するように決定している。レーザ光の集光径は波長に比例するので、波長λ1のレーザ光が漏れなく光ファイバOFのコアに入射するよう集光レンズL2の設計及び配置を決定すれば、波長λ2のレーザ光は漏れなく光ファイバOFのコアに入射するからである。
【0053】
〔レーザ装置の変形例〕
本実施形態に係るレーザ装置1においては、半導体レーザ素子群LDから出力された波長λ1のレーザ光を空間合成する構成が採用されている。しかしながら、本発明は、これに限定されるものではない。例えば、半導体レーサ素子群から出力されたレーザ光を偏波合成する構成を採用することもできる。
【0054】
このようなレーザ装置1の変形例(以下、レーザ装置1’と記載する)について、
図2を参照して説明する。
図2は、本変形例に係るレーザ装置1’の平面図である。
【0055】
レーザ装置1’においては、半導体レーザ素子群LDが2つの半導体レーザ素子LD1~LD2により構成されている。半導体レーザ素子LD1~LD2から出力される波長λ1のレーザ光は、それぞれ、x軸負方向に進行するレーザ光であって、y軸正負方向のビーム径が次第に大きくなるレーザ光となる。
【0056】
また、レーザ装置1’においては、コリメートレンズ群C1が2つのコリメートレンズC11~C12により構成されている。コリメートレンズC11は、半導体レーザ素子LD1から出力された波長λ1のレーザ光の光路上に配置されており、コリメートレンズC12は、半導体レーザ素子LD2から出力された波長λ1のレーザ光の光路上に配置されている。コリメートレンズC11~C12を透過した波長λ1のレーザ光は、それぞれ、x軸負方向に進行するレーザ光であって、y軸正負方向のビーム径が一定であるレーザ光となる。
【0057】
レーザ装置1’は、ミラーM4と、波長板WPと、偏光ビームコンバイナPCと、を備えている。ミラーM4は、コリメートレンズC12を透過した波長λ1のレーザ光の光路上に配置されている。ミラーM4にて反射された波長λ1のレーザ光は、y軸正方向に進行するレーザ光であって、x軸正負方向のビーム径が一定であるレーザ光となる。波長板WPは、コリメートレンズC12を透過した波長λ1のレーザ光の光路上に配置されている。波長板WPは、1/2波長板であり、コリメートレンズC12を透過した波長λ1のレーザ光の偏光方向を90°回転させる。偏光ビームコンバイナPCは、波長板WPを透過した波長λ1のレーザ光の光路と、コリメートレンズC11を透過した波長λ1のレーザ光の光路とが交差する点に配置されている。偏光ビームコンバイナPCは、波長板WPを透過した波長λ1のレーザ光を反射すると共に、コリメートレンズC11を透過した波長λ1のレーザ光を透過する。これにより、半導体レーザ素子LD1から出力された波長λ1のレーザ光と、半導体レーザ素子LD2から出力された波長λ1のレーザ光とが、偏波合成される。
【0058】
以上のように、本変形例に係るレーザ装置1’によれば、半導体レーザ素子LD1~LD2から出力されたレーザ光が偏波合成される。この場合、半導体レーザ素子LD1から出力されたレーザ光と半導体レーザ素子LD2から出力されたレーザ光を、これらのレーザ光の光軸を一致させて波長変換素子Wに入射させることができる。このため、波長変換素子Wとして利用される複屈折結晶を、これらのレーザ光の両方に対して非臨界位相整合条件を満たすように配置することができる。すなわち、本変形例に係るレーザ装置1’によれば、波長変換素子Wを複屈折結晶により構成する場合について、非臨界位相整合条件を破ることなく、半導体レーザ素子L1~LD2の複数化による高出力化を実現することができる。また、上記の構成によれば、波長変換素子Wに入力される波長λ1のレーザ光のパワーが高くなる。n次の非線形光学効果によって波長λ2のレーザ光を生成する場合、波長変換素子Wから出力される波長λ2のレーザ光の強度は、波長変換素子Wに入力される波長λ1のレーザ光の強度のn乗に比例する。このため、波長変換素子Wにおける波長変換が非線形光学効果によるものである場合、波長変換の変換効率が高くなり、その結果、レーザ装置1から出力されるレーザ光において、波長λ2のレーザ光の占める割合が大きくなる。したがって、レーザ装置1から出力されるレーザ光のワークに対する吸収率を高くすることができる。
【0059】
〔付記事項〕
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
【符号の説明】
【0060】
1 レーザ装置
LD 半導体レーザ素子群
LD1~LD8 半導体レーザ素子
C1 コリメートレンズ群
C11~C18 コリメートレンズ
M1 ミラー群
S 波長安定化素子
L1 集光レンズ
M2 ミラー
F フィルタ素子
M3 ミラー
W 波長変換素子
C2 コリメートレンズ
L2 集光レンズ
H 加工ヘッド
B1 第1筐体
B2 第2筐体
LM1 第1レーザモジュール
LM2 第2レーザモジュール