特許 7422524 ステージ装置、露光装置、および物品製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-01-18

(45)【発行日】2024-01-26

(54)【発明の名称】ステージ装置、露光装置、および物品製造方法

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20240119BHJP

   H01L 21/68 20060101ALI20240119BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 521

H01L21/68 K

【請求項の数】 10

(21)【出願番号】P 2019212528

(22)【出願日】2019-11-25

(65)【公開番号】P2021085910

(43)【公開日】2021-06-03

【審査請求日】2022-11-17

(73)【特許権者】

【識別番号】000001007

【氏名又は名称】キヤノン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110003281

【氏名又は名称】弁理士法人大塚国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】藤田 浩之

【審査官】植木 隆和

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１０－１０８９８３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１２－２３４１０８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１７－１７３１４０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／０２７

Ｇ０３Ｆ ７／２０

Ｈ０１Ｌ ２１／６８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

案内面を有するベース部と、
物体を保持して前記ベース部の前記案内面の上で該案内面に沿って第１方向に移動する第１可動部と、
用力線の一端側を接続して前記第１可動部に固定される第１接続部と、
前記用力線の他端側を接続する第２接続部と、
前記第２接続部を保持して、前記ベース部の前記案内面の上で該案内面に沿って前記第１方向とは異なる第２方向に移動する第２可動部と、
前記第１可動部および前記第２可動部の駆動を制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記第１可動部が前記第１方向に往復駆動する間の前記用力線の変形量が小さくなるように、前記第１可動部による前記往復駆動の駆動条件に応じて、前記第２方向における前記第２接続部の目標位置を決定し、該決定された目標位置に基づき前記第２可動部の駆動を制御する
ことを特徴とするステージ装置。

【請求項2】

前記用力線の位置を検出するセンサを有し、
前記制御部は、前記センサにより検出された、前記第１可動部が前記第１方向に往復駆動する間の前記用力線の駆動振幅を最小にする前記第２方向における前記第２接続部の位置を前記目標位置として決定することを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。

【請求項3】

前記第２方向は、前記案内面に沿う前記第１方向と交差する方向であることを特徴とする請求項１または２に記載のステージ装置。

【請求項4】

前記第２方向は、前記案内面と直交する軸周りの回転方向であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のステージ装置。

【請求項5】

前記用力線の、前記案内面に沿う前記第１方向と直交する方向の可動範囲を制限する規制部材を更に有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のステージ装置。

【請求項6】

前記用力線は、可撓性を有するフレキシブルフラットケーブルであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のステージ装置。

【請求項7】

案内面を有するベース部と、
物体を保持して前記ベース部の前記案内面の上で該案内面に沿って移動する第１可動部と、
用力線の一端側を接続して前記第１可動部に固定される第１接続部と、
前記用力線の他端側を接続する第２接続部と、
前記第２接続部を保持して前記ベース部の前記案内面の上で該案内面に沿って移動する第２可動部と、
前記第１可動部および前記第２可動部の駆動を制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記第１可動部が前記案内面に沿って往復駆動する間の前記用力線の変形量が小さくなるように、前記第１可動部による前記往復駆動の駆動条件に応じて、前記第２接続部の目標位置を決定し、該決定された目標位置に基づき前記第２可動部の駆動を制御する、ことを特徴とするステージ装置。

【請求項8】

前記物体は、露光装置に用いられる原版または基板であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のステージ装置。

【請求項9】

請求項８に記載のステージ装置を備えることを特徴とする露光装置。

【請求項10】

請求項９に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記露光された基板を現像する工程と、
を含み、前記現像された基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ステージ装置、露光装置、および物品製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体デバイスや液晶パネル等の製造工程であるリソグラフィ工程においては、原版に形成されているパターンを投影光学系を介して基板に転写する露光装置が使用される。露光装置では、原版および基板はそれぞれステージに保持されてステージとともに高速で移動する。移動するステージには、原版や基板の真空吸着に使用される真空配管、各種駆動機構への電源供給ケーブル等、各種の用力線が接続される。一般に、用力線はＵ字状に折り返されて、その一端はステージの固定部に接続され、他端はステージの可動部に接続される。このように接続された用力線は、ステージの移動に伴って移動する。

【0003】

このとき、用力線のＵ字状の折り返し部は、ステージの移動によって変形するため、用力線の耐久性が低下しうる。これに対し、特許文献１には、用力ケーブルの直線部において、用力ケーブルの延在する方向と交差する方向に関する断面に湾曲部を設け、これにより曲げに対する抵抗力を大きくする構成が開示されている。また、特許文献２には、フラットチューブを上下にＵ字状に折り返し、上側を＋Ｘ方向に移動させる場合、下側を－Ｘ方向に同量移動させることにより、Ｕ字状の折り返し部の形状を一定にすることが記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特開２００６－１３４９２１号公報

【文献】特表２０１３－５０９６９２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかし、露光装置には、生産性向上を目的として、ますますの高速化が求められており、そのため、露光装置におけるステージの速度や加速度が高められている。そのため、ステージの移動に伴って変形を繰り返す用力線の耐久性を更に向上させることが必要になっている。

【0006】

本発明は、例えば、用力線の耐久性の点で有利なステージ装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の一側面によれば、案内面を有するベース部と、物体を保持して前記ベース部の前記案内面の上で該案内面に沿って第１方向に移動する第１可動部と、用力線の一端側を接続して前記第１可動部に固定される第１接続部と、前記用力線の他端側を接続する第２接続部と、前記第２接続部を保持して、前記ベース部の前記案内面の上で該案内面に沿って前記第１方向とは異なる第２方向に移動する第２可動部と、前記第１可動部および前記第２可動部の駆動を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記第１可動部が前記第１方向に往復駆動する間の前記用力線の変形量が小さくなるように、前記第１可動部による前記往復駆動の駆動条件に応じて、前記第２方向における前記第２接続部の目標位置を決定し、該決定された目標位置に基づき前記第２可動部の駆動を制御することを特徴とするステージ装置が提供される。

【発明の効果】

【0008】

本発明によれば、例えば、用力線の耐久性の点で有利なステージ装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】露光装置の構成を示す図。

【図2】原版ステージ装置の構成を示す図。

【図3】原版ステージ可動部の移動に伴う接続部ステージの移動を説明する図。

【図4】露光処理のフローチャート。

【図5】用力線の位置を計測するための構成を説明する図。

【図6】図５の変形例を示す図。

【図7】用力線の第２接続部の構成例を説明する図。

【図8】規制部材の配置の効果を説明する図。

【図9】規制部材を有する原版ステージ装置の構成を示す図。

【図10】規制部材を有する基板ステージ装置の構成を示す図。

【図11】第２接続部の移動タイミングの例を説明する図。

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。

【0011】

＜第１実施形態＞
本発明は、物体を保持して移動可能なステージ装置に関する。対象とする物体は、例えば、露光装置に用いられる原版、基板等でありうる。図１は、本発明のステージ装置が適用される露光装置１００の構成を示す図である。本明細書および図面においては、水平面をＸＹ平面とするＸＹＺ座標系において方向が示される。一般には、被露光基板である基板１０７はその表面が水平面（ＸＹ平面）と平行になるように基板ステージ上に置かれる。よって以下では、基板１０７の表面に沿う平面内で互いに直交する方向をＸ軸およびＹ軸とし、Ｘ軸およびＹ軸に垂直な方向をＺ軸とする。また、以下では、ＸＹＺ座標系におけるＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸にそれぞれ平行な方向をＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向という。

【0012】

光源１０１から不図示の照明光学系を通して導かれる露光光が、原版１０２（レチクル、マスク）上に照射される。原版１０２を通った露光光は、鏡筒定盤１０５によって支持された鏡筒１０６の中の投影光学系を通って基板１０７に照射される。原版１０２は、原版ステージ可動部１０３によって保持される。原版ステージ可動部１０３は、ベース部１０４の上面に形成さた案内面に沿って移動可能である。例えば走査露光時には、ベース部１０４の案内面上でＹ方向に往復駆動しうる。原版ステージ可動部１０３およびベース部１０４を含む原版ステージ装置の構成については後述する。基板１０７は、基板ステージ可動部１０８によって保持される。基板ステージ可動部１０８は、定盤１０９の上の平面に沿って移動する。基板ステージ可動部１０８は、定盤１０９上をＸ、Ｙ方向にそれぞれ往復駆動しうる。制御部２１１は、露光装置の各部と有線または無線で接続され、露光装置の各部を制御する。制御部２１１は、ＣＰＵおよびメモリを含むコンピュータによって実現されうる。また、制御部２１１には、露光条件等を入力する入力部２１５が接続されており、制御部２１１は、入力部２１５から入力された露光条件に従って露光を制御する。入力部２１５は、ユーザ操作によって露光条件等を入力するための操作部を含みうる。

【0013】

図２は、実施形態における原版ステージ装置の構成を示す図である。原版１０２を保持する原版ステージ可動部１０３（第１可動部）は、ベース部１０４の案内面Ｐの上で該案内面に沿ってＹ方向（第１方向）に移動する。例えば、原版ステージ可動部１０３は、走査露光時において、案内面Ｐに沿ってＹ方向に往復移動（スキャン駆動）しうる。なお、ベース部１０４における原版１０２の移動範囲には、原版１０２を透過した光が通過する開口部Ｑが形成されている。原版ステージ可動部１０３の駆動はアクチュエータ２１２によって行われ、原版ステージ可動部１０３の位置は位置センサ２１３を用いて計測される。ステージドライバ２１４は、制御部２１１からの指令に従い、位置センサ２１３からの計測信号に基づいてアクチュエータ２１２を駆動する。

【0014】

原版ステージ可動部１０３とベース部１０４とは、用力線２０１によって接続されている。本明細書において、用力線とは、用力を供給するための配線または配管の総称である。用力線２０１は、原版１０２の真空吸着に使用される真空配管、原版ステージ可動部１０３を摺動可能にするエアベアリングに使用される圧縮空気配管、各駆動機構への電源供給ケーブル、各種センサの信号線等の少なくともいずれかを含みうる。用力線２０１は、例えば、可撓性を有するフレキシブルフラットケーブルの形態で提供されうる。

【0015】

原版ステージ可動部１０３には、用力線２０１の一端側を接続する第１接続部２０３が固定されている。用力線２０１の他端側は、第２接続部２０２に接続される。このとき、用力線２０１は、図示の如く、Ｕ字状に折り返された状態で第１接続部２０３と第２接続部２０２とに接続される。用力線２０１の第１接続部２０３から先は、用力線２０４として複数の用力線に分岐され、原版ステージ可動部１０３上を引き回される。また、用力線２０１の第２接続部２０２から先は、用力線２０５として、用力供給部２１０に接続される。用力供給部２１０は、制御部２１１からの指令に従い用力を供給する。

【0016】

第２接続部２０２は、接続部ステージ２０８（第２可動部）を介してベース部１０４上に配置されている。接続部ステージ２０８（すなわち第２接続部２０２）は、第２接続部２０２を保持して、ベース部１０４の案内面Ｐ上で案内面Ｐに沿ってＹ方向とは異なる第２方向に移動可能である。案内面Ｐに沿う、Ｙ方向とは異なる第２方向とは、例えば、案内面Ｐに沿う、Ｙ方向と交差する方向（例えばＸ方向）でありうる。接続部ステージ２０８の駆動は、アクチュエータ２０６によって行われ、第２接続部２０２の位置は位置センサ２０７を用いて計測される。接続部ドライバ２０９は、制御部２１１からの指令に従い、位置センサ２０７からの計測信号に基づいてアクチュエータ２０６を駆動する。

【0017】

露光装置には、生産性向上を目的として、ますますの高速化が求められており、近年、露光装置におけるステージの速度や加速度が高められている。そのため、例えば走査露光時のステージの往復移動の周波数（すなわち用力線の揺れの周波数）が用力線の固有周波数に近い値になりうる。ステージの往復移動の周波数が用力線の固有周波数に近くなると、用力線の揺れ幅が大きくなって用力線の曲げ量が大きくなり、用力線の耐久性が低下しうる。そこで本実施形態では、制御部２１１は、原版ステージ可動部１０３をスキャン駆動させる際に、スキャン駆動の周波数と用力線２０１の固有周波数とが一致しないように接続部ステージ２０８の第２方向（例えばＸ方向）における位置を制御する。

【0018】

図３、図４を用いて、実施形態における原版ステージ装置の用力線２０１の制御について説明する。図３は、原版ステージ可動部の移動に伴う接続部ステージの移動を説明する図であり、図４は、露光処理のフローチャートである。

【0019】

図３には、第１接続部２０３と第２接続部２０２との間の距離Ａ１が示されている。実施形態において、距離Ａ１は、原版ステージ可動部１０３を駆動させたときの用力線２０１の変形量が小さくなる値に設定される。距離Ａ１（すなわち接続部ステージ２０８の位置）は、露光装置を使用する際の原版ステージ可動部１０３の駆動条件（以下「ステージ駆動プロファイル」という。）に応じて決定される。例えば、制御部２１１のメモリには、ステージ駆動プロファイルと距離Ａ１（または距離Ａ１に対応する接続部ステージ２０８の位置）との間の予め得られた対応関係が記憶されている。この対応関係がテーブルとしてメモリに記憶されていてもよい。ステージ駆動プロファイルは、例えば、スキャン画角、ステージ移動の速度、加速度、ジャーク、セトリング、露光光スリット幅、ウェイト時間、改行等の少なくともいずれかが含まれる。ここで、改行とは、基板ステージの駆動において、行列状のショット領域を順次露光する際に行が変わる場合に、原版ステージの駆動に停止動作が加わる条件をいう。

【0020】

ステップＳ３０１で、例えば入力部２１５を介して、露光ジョブの条件が入力される。
ステップＳ３０２で、制御部２１１は、入力されたジョブ条件に応じたステージ駆動プロファイルをメモリから読み出す。
ステップＳ３０３で、制御部２１１は、メモリ内のテーブルを参照して、ステージ駆動プロファイルに対応する距離Ａ１を決定する。
ステップＳ３０４で、制御部２１１は、第１接続部２０３の位置からステップＳ３０３で決定された距離Ａ１離れた位置を第２接続部２０２の目標位置を決定し、接続部ドライバ２０９にこの目標位置を指令値として出力する。
ステップＳ３０６で、接続部ドライバ２０９は、位置センサ２０７を用いて第２接続部２０２のＸ方向における現在位置を計測し、第２接続部２０２が目標位置に来るように接続部ステージ２０８をＸ方向に移動させる。
第２接続部２０２の移動が完了すると、ステップＳ３０７で、制御部２１１は、ステップＳ３０２で読み出したステージ駆動プロファイルに従って露光処理を実行する。露光処理を終え、ジョブが完了すれば（Ｓ３０９でＹＥＳ）し、本処理は終了する。

【0021】

次に、図５を参照して、ステージ駆動プロファイルに応じた距離Ａ１の決定方法について説明する。図５では、図２に対し、用力線２０１の位置を検出する位置センサ５０２が追加されている。原版ステージ可動部１０３をＹ方向に駆動させると、位置センサ５０２によって用力線２０１の位置の変化が計測される。用力線２０１は、原版ステージ可動部１０３のＹ方向の往復駆動の周期（スキャン周期）と同じ周期で変化する。ここで、第２接続部２０２をアクチュエータ２０６によって移動させて距離Ａ１を変化させると、位置センサ５０２によって検出される値の振幅は変化する。特に、原版ステージ可動部１０３の往復駆動の周波数（スキャン周波数）と用力線２０１の固有周波数とが一致するとき、位置センサ５０２によって検出される値の振幅は最大となる。このときの用力線２０１の駆動振幅が最も小さくなるときの接続部間の距離が距離Ａ１として決定される。決定された距離Ａ１とそのときのステージ駆動プロファイルとが対応付けられてテーブルに記述される。このようにして、制御部２１１のメモリに格納されている全てのステージ駆動プロファイルに対して距離Ａ１を決定することにより、ステージ駆動プロファイルと距離Ａ１との対応関係が記述されたテーブルが作成される。

【0022】

次に、図６を参照して、ステージ駆動プロファイルに応じた接続部間の距離Ａ１の他の決定方法について説明する。図６では、図５に対し、位置センサ５０２の代わりに、加速度計６０１および加速度計アンプ６０２が構成されている。加速度計６０１を用いることでも、ステージ駆動プロファイルと距離Ａ１との対応関係を求めることができる。

【0023】

以上の実施形態によれば、露光処理の実行前に、接続部間の距離が、ステージ駆動プロファイルに応じた距離Ａ１に設定されるので、露光処理時における用力線２０１の変形量を小さくすることができ、用力線２０１の耐久性の低下を防ぐことができる。

【0024】

なお、上述の図２、図３～６に示した例では、接続部ステージ２０８はベース部１０４上をＸ方向に移動可能に構成され、接続部間の距離が距離Ａ１になるように接続部ステージ２０８をＸ方向に移動させるようにした。しかし、原版ステージ可動部１０３のスキャン周波数と用力線２０１の固有周波数とが一致しないようにするためには、接続部ステージ２０８をＹ方向に移動させるようにしてもよい。

【0025】

＜第２実施形態＞
図７は、第２実施形態における第２接続部の構成例を示す図である。第１実施形態では、接続部ステージ２０８（すなわち第２接続部２０２）は、ベース部１０４の案内面Ｐ上で案内面Ｐに沿ってＹ方向と交差する方向（例えばＸ方向）に移動可能に構成されていた。これに対し図７では、第２接続部２０２の、案内面Ｐと直交するＺ軸周りの回転方向を調整する。第２接続部２０２のＺ軸周りの回転駆動は、アクチュエータ８０１によって行われる。なお、アクチュエータ８０１は第２接続部２０２を直接駆動するように構成されていてもよいし、接続部ステージ２０８のＺ軸周りの回転方向を調整するように構成されていてもよい。

【0026】

第２接続部２０２をＺ軸周りに回転させることによって用力線２０１を変形させることができる。これによって、用力線２０１の固有周波数を変えることが可能である。

【0027】

したがって、本実施形態では、用力線２０１の固有周波数と原版ステージ可動部１０３のスキャン周波数とが一致しないように、第２接続部２０２のＺ軸周りの回転角度Ａ３を変化させる。これにより、用力線２０１の変形量を小さくすることができ、用力線２０１の耐久性の低下を防ぐことができる。

【0028】

＜第３実施形態＞
第３実施形態では、用力線２０１のＸ方向への動きを規制する規制部材が使用される。図８（ａ）は、そのような規制部材がない場合の、第１接続部２０３をＹ方向に往復駆動させたときの用力線２０１の挙動の例を示している。図８（ａ）において、第１接続部２０３が停止しているときの用力線２０１は実線で示され、第１接続部２０３がＹ方向に往復運動しているときの用力線２０１は破線で示されている。また、第１接続部２０３が停止しているときの第１接続部２０３と第２接続部２０２との間のＸ方向における最大幅をＬ１とする。第１接続部２０３がＹ方向に往復駆動しているときの用力線２０１の第１接続部２０３と第２接続部２０２との間のＸ方向における最大幅をＬ２とする。

【0029】

これに対し、図８（ｂ）は、規制部材がある場合の、第１接続部２０３をＹ方向に往復駆動させたときの用力線２０１の挙動の例を示している。図８（ｂ）においても、図８（ａ）と同様、第１接続部２０３が停止しているときの用力線２０１は実線で示され、第１接続部２０３がＹ方向に往復駆動しているときの用力線２０１は破線で示されている。第２接続部２０２には、Ｙ方向に延在する規制部材９０１が取り付けられており、第１接続部２０３には、Ｙ方向に延在する規制部材９０２が取り付けられている。ここで、規制部材９０１と規制部材９０２との間の距離はＬ１とされている。これにより、用力線２０１のＸ方向における可動範囲はＬ１に制限される。

【0030】

規制部材がない場合にはＬ２＞Ｌ１となる。すなわち、用力線２０１のＸ方向における変形量は、接続部間の距離よりも大きくなる。このため、用力線２０１を収容するスペースが大型化する。一方、図８（ｂ）に示すように規制部材９０１，９０２を配置した場合は、用力線の最大幅がＬ１より大きくなることはなくなるため、用力線２０１の収容スペースの大型化を防ぐことができる。

【0031】

図９は、規制部材９０１，９０２を有する原版ステージ装置の構成を示す図である。図９では、第１接続部２０３に規制部材９０１が配置され、第２接続部２０２に規制部材９０２が配置されている。なお、図９では、図２に示されているその他の構成要素の図示は省略されているが、図２と同様に動作しうる。よって規制部材９０１，９０２が配置されている場合には、用力線２０１の収容スペースを抑えつつ、第１接続部２０３のＹ方向の移動に伴う用力線２０１の変形を小さくして、用力線２０１の耐久性の低下を防ぐことができる。

【0032】

＜第４実施形態＞
次に、規制部材を有する基板ステージ装置について説明する。基板ステージ装置は、Ｘ、Ｙの２軸駆動の装置であるが、ここでは、第２接続部２０２をＸ方向に駆動する部分について説明する。

【0033】

図１０において、Ｘ－Ｙ平面に沿って延在する案内面Ｓを有する定盤１０９には、Ｙ方向に延びる、第１ガイド１１０８ａと、第２ガイド１１０８ｂが、少なくとも基板ステージのＸ方向の駆動ストローク以上の距離を隔てて配置されている。第１ガイド１１０８ａおよび第２ガイド１１０８ｂにはそれぞれ、第１スライダ１１０９ａおよび第２スライダ１１０９ｂが保持されてる。第１スライダ１１０９ａおよび第２スライダ１１０９ｂはそれぞれ、第１ガイド１１０８ａおよび第２ガイド１１０８ｂに沿ってＹ方向に移動可能である。

【0034】

第１スライダ１１０９ａと第２スライダ１１０９ｂとの間にはビーム１１１０が懸架され、ビーム１１１０の上にはＹ可動体１１０３が搭載されている。よって、Ｙ可動体１１０３は、ビーム１１１０のＹ方向への移動に伴ってＹ方向に移動可能である。

【0035】

Ｙ可動体１１０３の上にはＸ可動体１１０２がＸ方向に移動可能に配置されている。Ｙ可動体１１０３およびＸ可動体１１０２によって、図１の基板ステージ可動部１０８が構成されている。Ｘ可動体１１０２は、不図示のアクチュエータと変位計によってＸ方向の位置制御が可能なものとなっている。Ｘ可動体１１０２の上には、基板１０７が搭載されうる。

【0036】

Ｘ可動体１１０２には、用力線２０１を接続する第１接続部２０３が取り付けられている。Ｙ可動体１１０３には、アクチュエータ１１０４を介して用力線２０１を接続する第２接続部２０２が取り付けられている。アクチュエータ１１０４は、第２接続部２０２をＺ方向に駆動する。

【0037】

第１接続部２０３と第２接続部２０２は、用力線２０１をＵ字形状に折り返された形で保持している。また、第１接続部２０３には、規制部材９０２が取り付けられている。規制部材９０２は、用力線２０１のＺ方向への変形を規制している。Ｙ可動体１１０３には、変位計１１０５が取り付けられており、第２接続部２０２との間のＺ方向の距離を計測することができる。

【0038】

また、Ｙ可動体１１０３には、アクチュエータ１１０４および変位計１１０５が接続される接続部ドライバ１１０７が取り付けられている。接続部ドライバ１１０７は、図１０には不図示の制御部２１１からの指令により、変位計１１０５による計測値に基づいてアクチュエータ１１０４を駆動する。

【0039】

このように、基板ステージ装置についても、用力線２０１の保持構成を上記の原版ステージ装置と同様に適用できる。したがって、基板ステージ装置についても、図４に示したフローチャートと同様の手順で、用力線２０１の変形量を抑制することができる。

【0040】

＜第５実施形態＞
次に、図１１を参照して、複数のステージ駆動プロファイルが連続的に切り替えられたときの、第２接続部２０２の移動タイミングについて説明する。

【0041】

ステージ駆動プロファイルは、同じ基板内であっても、ショット領域の配列における改行前後で随時変更されうる。したがって、図１１のように、それぞれのステージ駆動プロファイルの変更時において、第２接続部２０２が変更後のステージ駆動プロファイルに応じて決定された位置に移動した後、露光処理が開始される。

【0042】

＜第６実施形態＞
上述の各実施形態では、ステージ駆動プロファイルに対応した接続部間の距離Ａ１をあらかじめ求めておき、露光時にその条件を読み出すことで第２接続部２０２を移動させるようにした。ただし、用力線２０１の位置計測部や、用力線２０１の加速度検出部を露光装置内に組み込むことで、露光中にリアルタイムで距離Ａ１を求め、第２接続部２０２を移動させるようにしてもよい。

【0043】

＜物品製造方法の実施形態＞
本発明の実施形態に係る物品製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。

【0044】

発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。

【符号の説明】

【0045】

１０２：原版、１０３：原版ステージ可動部、１０４：ベース部、２０１：用力線、２０２：第２接続部、２０３：第１接続部、２０６：アクチュエータ、２０７：位置センサ、２０８：接続部ステージ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】