知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-01-19
(45)【発行日】2024-01-29
(54)【発明の名称】バナジウムに基づく選択的触媒還元触媒
(51)【国際特許分類】
B01J 23/888 20060101AFI20240122BHJP
B01D 53/94 20060101ALI20240122BHJP
B01J 35/57 20240101ALI20240122BHJP
B01J 37/02 20060101ALI20240122BHJP
B01J 37/08 20060101ALI20240122BHJP
【ＦＩ】
B01J23/888 A ZAB
B01D53/94 222
B01D53/94 228
B01D53/94 241
B01J35/04 301E
B01J35/04 301J
B01J37/02 301B
B01J37/08
【請求項の数】
14
(21)【出願番号】P 2021505709
(86)(22)【出願日】2019-07-30
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2021-12-02
(86)【国際出願番号】 EP2019070473
(87)【国際公開番号】W WO2020025604
(87)【国際公開日】2020-02-06
【審査請求日】2022-07-26
(31)【優先権主張番号】18186280.6
(32)【優先日】2018-07-30
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(73)【特許権者】
【識別番号】505470786
【氏名又は名称】ビーエーエスエフ コーポレーション
(74)【代理人】
【識別番号】100100354
【弁理士】
【氏名又は名称】江藤 聡明
(72)【発明者】
【氏名】ヒュンネケス，エドガー フィクトール
(72)【発明者】
【氏名】パチェット，ジョセフ エー
(72)【発明者】
【氏名】コルデス，ペトラ
(72)【発明者】
【氏名】ベアード，ケヴィン デビッド
(72)【発明者】
【氏名】ベッカー，ヤン マルティン
【審査官】森坂 英昭
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２０１７／１０１４４９（ＷＯ，Ａ１）
【文献】特表２０１５－５３０９２１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００８－２９６１００（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００４－１３８０２２（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｂ０１Ｊ ２１／００ － ３８／７４
Ｂ０１Ｄ ５３／９４
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
ディーゼルエンジンの排ガスを処理するための選択的触媒還元触媒であって、（ｉ）流通基材であって、入口端、出口端、前記入口端から前記出口端へと延びる基材軸長さ、及び前記流通基材を通って延びる前記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材；
（ｉｉ）前記基材の前記内壁の表面上に配置されたコーティングであって、前記表面が、前記通路と前記内壁の間の界面を規定しており、前記コーティングが、チタニアを含む酸化物材料上に担持されたバナジウム酸化物を含み、及び更にバナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物を含む、コーティング、
を含み、且つ
バナジウム酸化物が、Ｖ ２ Ｏ ５ として計算して、触媒中に、（ｌｖ１）／（ｇ／ｉｎ ３ ）の積載量で存在し、前記混合酸化物のバナジウムが、Ｖ ２ Ｏ ５ として計算して、触媒中に、（ｌｖ２）／（ｇ／ｉｎ ３ ）の積載量で存在し、比（ｌｖ１）：（ｌｖ２）が、０．１：１～３：１の範囲、であることを特徴とする選択的触媒還元触媒。
【請求項2】
前記酸化物材料が更に、１種以上の酸化物、好ましくはセリウム酸化物、マグネシウム酸化物、ニオビウム酸化物、シリコン酸化物、及びタングステン酸化物の１種以上、より好ましくは、セリウム酸化物、シリコン酸化物、及びタングステン酸化物の１種以上、より好ましくは、シリコン酸化物、及びタングステン酸化物の１種以上を含むことを特徴とする請求項１に記載の選択的触媒還元触媒。
【請求項3】
前記酸化物材料の７５～１００質量％、好ましくは８０～９９質量％、より好ましくは８５～９５質量％が、チタニアで構成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の選択的触媒還元触媒。
【請求項4】
前記混合酸化物が、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物、好ましくは、鉄、エルビウム、ビスマス、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物、より好ましくは鉄及びアンチモンの１種以上との混合酸化物、より好ましくは鉄との混合酸化物であり、この場合、前記酸化物はバナジウムと鉄との混合酸化物であることを特徴とする請求項１～３の何れか１項に記載の選択的触媒還元触媒。
【請求項5】
比（ｌｖ１）：（ｌｖ２）が、０．１：１～２：１の範囲、好ましくは０．２：１～１．５：１の範囲、より好ましくは、０．２：１～１．３：１の範囲であることを特徴とする請求項１～４の何れか１項に記載の選択的触媒還元触媒。
【請求項6】
前記コーティング中に含まれるバナジウムの量が、バナジウムをＶ２Ｏ５として計算して、前記コーティングの合計質量に対して、２．５～８質量％の範囲、より好ましくは３～７質量％の範囲、より好ましくは３．５～６．５質量％の範囲であることを特徴とする請求項１～５の何れか１項に記載の選択的触媒還元触媒。
【請求項7】
触媒中に、前記酸化物材料が、１～８ｇ／ｉｎ３の範囲、好ましくは１．５～５ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは２～４．５ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは３～４．５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在することを特徴とする請求項１～６の何れか１項に記載の選択的触媒還元触媒。
【請求項8】
前記コーティングが更に、酸化物バインダーを含み、該酸化物バインダーは好ましくは、ジルコニア、アルミナ、チタニア、シリカ、及び混合酸化物であってＺｒ、Ａｌ、Ｔｉ及びＳｉの２種以上を含む混合酸化物の１種以上を含み、前記酸化物バインダーはより好ましくは、アルミナ及びシリカの１種以上を含み、より好ましくはシリカを含み、より好ましくは、触媒中で、前記コーティングは前記酸化物バインダーを、０．０２～０．５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは０．０５～０．４ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは０．１～０．３ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で含むことを特徴とする請求項１～７の何れか１項に記載の選択的触媒還元触媒。
【請求項9】
触媒中で、前記コーティングは、１．５～１０ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、好ましくは２～８ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは２．５～６．５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは、３．５～６ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在することを特徴とする請求項１～８の何れか１項に記載の選択的触媒還元触媒。
【請求項10】
（ｉｉ）に従うコーティングが、２つ以上のコートを含み、該２つ以上のコートは好ましくは、同じ化学組成を有することを特徴とする請求項１～９の何れか１項に記載の選択的触媒還元触媒。
【請求項11】
選択的触媒還元触媒、好ましくは請求項１～１０の何れか１項に記載の選択的触媒還元触媒を製造するための方法であって、（ａ）流通基材であって、入口端、出口端、前記入口端から前記出口端へと延びる基材軸長さ、及び前記流通基材を通って延びる前記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材を準備する工程；
（ｂ）バナジウム酸化物の溶液、チタニアを含む酸化物材料の粉、水、バナジウムと鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物の粉、及び好ましくは酸化物バインダーを含むスラリーを準備する工程；
（ｃ）（ｂ）で得られたスラリーを（ａ）に従う流通基材の内壁の表面上に配置し、スラリー処理された基材を得る工程であって、前記表面が、前記通路と前記内壁の間の界面を規定している工程；
（ｄ）任意に、（ｃ）で得られたスラリー処理された基材を乾燥する工程；
（ｅ）（ｃ）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ）で得られた乾燥された、スラリー処理された基材をか焼し、被覆された基材を得る工程；
及び任意に、
（ｃ’）（ｂ）で得られたスラリーを、（ｅ）で得られた基材上に配置されたコーティングの表面に配置する工程；
（ｄ’）任意に、（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材を乾燥させる工程；
（ｅ’）（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ’）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材をか焼する工程；
を含み、（ｅ）又は（ｅ’）から選択的触媒還元触媒が得られることを特徴とする方法。
【請求項12】
工程（ｂ）が、（ｂ．１）前記バナジウム酸化物の溶液、水、前記チタニアを含む酸化物材料の粉、及び好ましくは有機分散剤を混合してスラリーを得る工程；
（ｂ．２）（ｂ．１）で得られたスラリーの水相のｐＨを、６～８の範囲の値、好ましくは６．５～７．５の範囲の値に、及び好ましくは水酸化アンモニウム溶液を加えることによって調整する工程；
（ｂ．３）バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物の粉を（ｂ．２）で得られたスラリーに加える工程；
（ｂ．４）好ましくは、酸化物バインダーを、（ｂ．３）で得られた混合物に加え、最終的なスラリーを得る工程；
を含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項13】
ディーゼルエンジンから排出される排ガス流を処理するための排ガス処理システムであって、請求項１～１０の何れか１項に記載の、第１の選択的触媒還元触媒と、ディーゼル酸化触媒、アンモニア酸化触媒、第２の選択的触媒還元触媒、フィルター、好ましくは触媒化煤フィルターの１つ以上とを含むことを特徴とする排ガス処理システム。
【請求項14】
窒素酸化物の選択的触媒還元を行うための方法であって、前記窒素酸化物が、排ガス流内に含まれており、及び（１）排ガス流、好ましくはディーゼルエンジンからの排ガス流を供給する工程；
（２）（１）で供給された排ガス流を、請求項１～１０の何れか1項に記載の選択的触媒還元触媒を通して通過させる工程；
を含むことを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ディーゼルエンジンの排ガス処理用の選択的触媒還元触媒、及び上記触媒の製造方法に関する。本発明は更に、上述した方法によって得られた、又は得ることが可能な選択的触媒還元触媒、及び本発明の選択的触媒還元触媒を含む排ガス処理システムに関する。
【背景技術】
【0002】
バナジウムに基づく選択的触媒還元触媒は、ＮＯｘ減少用に広く使用されている。バナジウムに基づく選択的触媒還元（ＳＣＲ）触媒の不利な点の一つにＮＯオンリー条件下での低温脱ＮＯｘ性能が挙げられ、これは最近のＣｕゼオライトに基づくＳＣＲ触媒が、しばしばより良好なＮＯｘ変換を提供している。例えば、特許文献１（ＥＰ１１４５７６２）には、チタニアに担持されたバナジア選択的触媒還元触媒を調製するための方法が開示されている。この方法は、メタバナジン酸アンモニウム溶液中にチタニアを分散させることを含んでいる。特許文献１（ＥＰ１１４５７６２）の触媒は、高い温度、すなわち５５０℃を超える温度でのみ高いＮＯｘ変換を示す。
【0003】
低温脱ＮＯｘは、如何なるＮＯｘ低減触媒にとっても最も重要な性能基準の一つであり、及び従って、この特性は最大限のものとされなければならない。低温脱ＮＯｘを増すバナジウムに基づくＳＣＲ触媒にとっての典型的な進路は、バナジア(vanadia)の積載量を増加させることである（ドライゲインの増加によるか、又はより高いバナジア濃度による）。前者には限界が有り、後者ではエイジングの間に熱安定性が低減する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】ＥＰ１１４５７６２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
従って、本発明の目的は、高いＮＯｘ変換を示す一方で、その熱安定性を維持するか、又は増加させる選択触媒還元触媒を提供することにあった。驚くべきことに、本発明に従うバナジウムベースの選択的触媒還元触媒は、高いＮＯｘ変換を達成する一方で、その熱安定性を維持するか、又は増加させることが可能であることが分かった。
【課題を解決するための手段】
【0006】
従って、本発明は、ディーゼルエンジンの排ガスを処理するための選択的触媒還元触媒であって、
（ｉ）流通基材であって、入口端、出口端、前記入口端から前記出口端へと延びる基材軸長さ、及び前記流通基材を通って延びる上記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材；
（ｉｉ）前記基材の前記内壁の表面上に配置されたコーティングであって、前記表面が、前記通路と前記内壁の間の界面（インターフェース）を規定しており、前記コーティングが、チタニアを含む酸化物材料上に担持されたバナジウム酸化物を含み、及び更にバナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物を含む、コーティング、
を含む選択的触媒還元触媒に関する。
（ｉ）流通基材であって、入口端、出口端、前記入口端から前記出口端へと延びる基材軸長さ、及び前記流通基材を通って延びる上記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材；
（ｉｉ）前記基材の前記内壁の表面上に配置されたコーティングであって、前記表面が、前記通路と前記内壁の間の界面（インターフェース）を規定しており、前記コーティングが、チタニアを含む酸化物材料上に担持されたバナジウム酸化物を含み、及び更にバナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物を含む、コーティング、
を含む選択的触媒還元触媒に関する。
【発明を実施するための形態】
【0007】
好ましくは、酸化物材料上に担持されたバナジウム酸化物は、酸化バナジウム（ＩＩ）、酸化バナジウム（ＩＩＩ）、酸化バナジウム（ＩＶ）、及び酸化バナジウム（Ｖ）の１種以上であり、より好ましくは、酸化バナジウム（ＩＶ）、及び酸化バナジウム（Ｖ）の１種以上である。
【0008】
好ましくは、酸化物材料は更に、１種以上の酸化物、より好ましくはセリウム酸化物、マグネシウム酸化物、ニオビウム酸化物、シリコン酸化物、及びタングステン酸化物の１種以上、より好ましくは、セリウム酸化物、シリコン酸化物、及びタングステン酸化物の１種以上、より好ましくは、シリコン酸化物、及びタングステン酸化物の１種以上を含む。
【0009】
より好ましくは、１種以上の酸化物、より好ましくはタングステン酸化物、又はより好ましくはタングステン酸化物及びシリコン酸化物は、チタニア上に含浸される。
【0010】
好ましくは、酸化物材料の７５～１００質量％、より好ましくは８０～９９質量％、より好ましくは８５～９５質量％が、チタニアで構成される。
【0011】
好ましくは、酸化物材料の９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、チタニアとタングステン酸化物で構成され、より好ましくは酸化物材料の８０～９９質量％、より好ましくは８５～９５質量％がチタニアで構成され、及び酸化物材料の１～２０質量％、より好ましくは５～１５質量％が、タングステン酸化物で構成される。
【0012】
この替わりに、酸化物材料の９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、チタニア、タングステン酸化物、及びシリコン酸化物から構成され、ここでより好ましくは、酸化物材料の８０～９８質量％、より好ましくは８３～９３質量％がチタニアで構成され、及び酸化物材料の１～２０質量％、より好ましくは５～１２質量％がタングステン酸化物で構成され、及び酸化物材料の１～１５質量％、より好ましくは２～８質量％がシリコン酸化物で構成される。
【0013】
従って、本発明は好ましくは、ディーゼルエンジンの排ガスを処理するための選択的触媒還元触媒であって、
（ｉ）流通基材であって、入口端、出口端、上記入口端から上記出口端へと延びる基材軸長さ、及び上記流通基材を通って延びる上記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材；
（ｉｉ）上記基材の上記内壁の表面上に配置されたコーティングであって、上記表面が、上記通路と上記内壁の間の界面（インターフェース）を規定しており、上記コーティングが、チタニアを含む酸化物材料上に担持されたバナジウム酸化物を含み、該バナジウム酸化物は、バナジウム（ＩＶ）酸化物及びバナジウム（Ｖ）酸化物の１種以上であり、及び上記酸化物材料の８５～９５質量％がチタニアで構成され、及び更に、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物を含む、コーティング、
を含む選択的触媒還元触媒に関する。
（ｉ）流通基材であって、入口端、出口端、上記入口端から上記出口端へと延びる基材軸長さ、及び上記流通基材を通って延びる上記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材；
（ｉｉ）上記基材の上記内壁の表面上に配置されたコーティングであって、上記表面が、上記通路と上記内壁の間の界面（インターフェース）を規定しており、上記コーティングが、チタニアを含む酸化物材料上に担持されたバナジウム酸化物を含み、該バナジウム酸化物は、バナジウム（ＩＶ）酸化物及びバナジウム（Ｖ）酸化物の１種以上であり、及び上記酸化物材料の８５～９５質量％がチタニアで構成され、及び更に、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物を含む、コーティング、
を含む選択的触媒還元触媒に関する。
【0014】
本発明に関し、好ましくはコーティングの８０～９５質量％、より好ましくは８０～９０質量％が酸化物材料で構成される。
【0015】
混合酸化物に関し、混合酸化物中のバナジウムは、バナジウム（ＩＶ）及びバナジウム（Ｖ）の１種以上であることが好ましい。
混合酸化物に関し、好ましくは混合酸化物は、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上、より好ましくは鉄、エルビウム、ビスマス、及びアンチモンの１種以上、より好ましくは鉄及びアンチモンの１種以上との混合酸化物である。混合酸化物は、より好ましくは、バナジウム及び鉄の混合酸化物である。従って、コーティングがバナジウム及び鉄の混合酸化物を含むことが好ましい。
混合酸化物に関し、好ましくは混合酸化物は、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上、より好ましくは鉄、エルビウム、ビスマス、及びアンチモンの１種以上、より好ましくは鉄及びアンチモンの１種以上との混合酸化物である。混合酸化物は、より好ましくは、バナジウム及び鉄の混合酸化物である。従って、コーティングがバナジウム及び鉄の混合酸化物を含むことが好ましい。
【0016】
好ましくは、バナジウム酸化物が、Ｖ２Ｏ５として計算して、触媒中に、（ｌｖ１）／（ｇ／ｉｎ３）の積載量で存在し、上記混合酸化物のバナジウムが、Ｖ２Ｏ５として計算して、触媒中に、（ｌｖ２）／（ｇ／ｉｎ３）の積載量で存在し、比（ｌｖ１）：（ｌｖ２）が、０．１：１～３：１の範囲であり、より好ましくは０．１：１～２：１の範囲、より好ましくは０．２：１～１．５：１の範囲である。より好ましくは、比（ｌｖ１）：（ｌｖ２）は、０．２：１～１．３：１の範囲である。
【0017】
従って、本発明は好ましくは、ディーゼルエンジンの排ガスを処理するための選択的触媒還元触媒であって、
（ｉ）流通基材であって、入口端、出口端、上記入口端から上記出口端へと延びる基材軸長さ、及び上記流通基材を通って延びる上記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材；
（ｉｉ）上記基材の上記内壁の表面上に配置されたコーティングであって、上記表面が、上記通路と上記内壁の間の界面（インターフェース）を規定しており、上記コーティングが、チタニアを含む酸化物材料上に担持されたバナジウム酸化物を含み、及び更にバナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物を含み、
上記バナジウム酸化物が、Ｖ２Ｏ５として計算して、触媒中に、（ｌｖ１）／（ｇ／ｉｎ３）の積載量で存在し、上記混合酸化物のバナジウムが、Ｖ２Ｏ５として計算して、触媒中に、（ｌｖ２）／（ｇ／ｉｎ３）の積載量で存在し、比（ｌｖ１）：（ｌｖ２）が、０．１：１～３：１の範囲、より好ましくは０．１：１～２：１の範囲である選択的触媒還元触媒に関する。
（ｉ）流通基材であって、入口端、出口端、上記入口端から上記出口端へと延びる基材軸長さ、及び上記流通基材を通って延びる上記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材；
（ｉｉ）上記基材の上記内壁の表面上に配置されたコーティングであって、上記表面が、上記通路と上記内壁の間の界面（インターフェース）を規定しており、上記コーティングが、チタニアを含む酸化物材料上に担持されたバナジウム酸化物を含み、及び更にバナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物を含み、
上記バナジウム酸化物が、Ｖ２Ｏ５として計算して、触媒中に、（ｌｖ１）／（ｇ／ｉｎ３）の積載量で存在し、上記混合酸化物のバナジウムが、Ｖ２Ｏ５として計算して、触媒中に、（ｌｖ２）／（ｇ／ｉｎ３）の積載量で存在し、比（ｌｖ１）：（ｌｖ２）が、０．１：１～３：１の範囲、より好ましくは０．１：１～２：１の範囲である選択的触媒還元触媒に関する。
【0018】
本発明に従えば、好ましくは、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物中で、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上の、バナジウムに対するモル比、Ｘ：Ｖは、１：１．５～１．５：１の範囲であり、より好ましくは１：１．２～１．２：１の範囲、より好ましくは１：１．１～１．１：１の範囲である。より好ましくは、バナジウム及び鉄の混合酸化物中で、鉄のバナジウムに対するモル比は、１：１．５～１．５：１の範囲、より好ましくは１：１．２～１．２：１の範囲、より好ましくは１：１．１～１．１：１の範囲である。
【0019】
好ましくは、コーティング中に含まれるバナジウムの量は、Ｖ２Ｏ５として計算して、コーティングの合計質量に基づいて、２．５～８質量％の範囲、より好ましくは３～７質量％の範囲、より好ましくは３．５～６．５質量％の範囲である。本発明において、バナジウムの量は、バナジウム酸化物からのバナジウム、及び混合酸化物からのバナジウムの量を表している。
【0020】
本発明に従えば、好ましくは、触媒中に、バナジウム酸化物は、０．０２～０．５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは０．０３～０．２ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは０．０４～０．１５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在する。
【0021】
好ましくは、酸化物材料は触媒中に、１～８ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは１．５～５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは２～４．５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは３～４．５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在する。
【0022】
従ってより好ましくは、触媒中に、バナジウム酸化物は、０．０２～０．５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在し、及び酸化物材料は、１．５～５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在する。
【0023】
好ましくは、触媒中に、混合酸化物は、０．０５～１ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在し、より好ましくは、０．０８～０．７ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在し、より好ましくは、０．１～０．５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在する。
【0024】
好ましくは、コーティングは更に、酸化物バインダーを含み、該酸化物バインダーはより好ましくは、ジルコニア、アルミナ、チタニア、シリカ、及びＺｒ、Ａｌ、Ｔｉ及びＳｉの２種以上を含む混合酸化物の１種以上を含む。上記酸化物バインダーはより好ましくは、アルミナ及びシリカの１種以上を含み、より好ましくはシリカを含む。より好ましくは、触媒中で、コーティングは酸化物バインダーを、０．０２～０．５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは０．０５～０．４ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは０．１～０．３ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で含む。
【0025】
好ましくは、コーティングの９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、バナジウム酸化物、チタニアを含む酸化物材料、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物、及び好ましくは上記に定義した酸化物バインダーで構成される。より好ましくは、コーティングの９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、バナジウム酸化物、チタニアを含む酸化物材料、バナジウム及び鉄の混合酸化物及びシリカを含む酸化物バインダーで構成される。
【0026】
好ましくは、触媒中に、コーティングは、１．５～１０ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは２～８ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは２．５～６．５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは３～６ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは３．５～６ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在する。
【0027】
好ましくは、９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％のバナジウム酸化物（酸化バナジウム）が、バナジウムと酸素で構成される。バナジウム酸化物がバナジウムと酸素で構成されることが好ましい。
【0028】
好ましくは、コーティングの０～０．００１質量％、より好ましくは０～０．０００１質量％、より好ましくは０～０．００００１質量％が、ゼオライト材料で構成される。より好ましくは、コーティングはゼオライト材料を含まない。
【0029】
好ましくは、コーティングの０～０．００１質量％、より好ましくは０～０．０００１質量％、より好ましくは０～０．００００１質量％が、パラジウム及び白金で構成され、より好ましくはパラジウム、白金、及びロジウムで構成され、より好ましくはパラジウム、白金、ロジウム、イリジウム、オスミウムで構成され、より好ましくは貴金属で構成される。より好ましくは、コーティングは貴金属を含まない。
【0030】
好ましくは、コーティングは、基材軸長さの９５～１００％、より好ましくは９８～１００％、より好ましくは９９～１００％を覆う。
【0031】
基材に関し、触媒の流通基材がセラミック又は金属性物質を含むことが好ましい。
【0032】
基材に関し、好ましくは、触媒の流通基材がセラミック物質を含み、セラミック物質から構成されることがより好ましく、ここでセラミック物質は、より好ましくは、アルミナ、シリカ、シリケート、アルミノシリケートの１種以上を含み、より好ましくはこれら１種以上で構成され、より好ましくはコージライト、又はムライト、アルミノチタネート、シリコンカーバイド、ジルコニア、マグネシア、より好ましくはスピネル、及びチタニア、より好ましくはシリコンカーバイド及びコージライトの１種以上、より好ましくはコージライトを含むか、これらで構成される。この替わりに、好ましくは、触媒の流通基材は、金属性物質を含み、より好ましくは金属性物質で構成され、ここで金属性物質は好ましくは酸素と、鉄、クロミウム、及びアルミニウムの１種以上とを含み、より好ましくはこれらから構成される。
【0033】
好ましくは、触媒の９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、流通基材及びコーティングで構成される。
【0034】
本願発明について、好ましくは、（ｉｉ）に従うコーティングは、２つ以上のコートを含み、より好ましくは２つのコートで構成される。より好ましくは、２つ以上のコートは、同じ化学組成を有する。
【0035】
本発明は更に、選択的触媒還元触媒、好ましくは本発明に従う選択的触媒還元触媒を製造するための方法であって、
（ａ）流通基材であって、入口端、出口端、前記入口端から前記出口端へと延びる基材軸長さ、及び前記流通基材を通って延びる前記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材を準備する工程；
（ｂ）バナジウム酸化物の溶液、チタニアを含む酸化物材料の粉、水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物、及び好ましくは酸化物バインダー、より好ましくは上記に定義した酸化物バインダーを含むスラリーを準備する工程；
（ｃ）（ｂ）で得られたスラリーを（ａ）に従う流通基材の内壁の表面上に配置する工程であって、前記表面が、前記通路と前記内壁の間の界面（インターフェース）を規定しており、スラリー処理された基材を得る工程；
（ｄ）任意に、（ｃ）で得られたスラリー処理された基材を乾燥する工程；
（ｅ）（ｃ）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ）で得られた乾燥された、スラリー処理された基材をか焼し、被覆された基材を得る工程；
及び任意に、
（ｃ’）（ｂ）で得られたスラリーを、（ｅ）で得られた基材上に配置されたコーティングの表面に配置する工程；
（ｄ’）任意に、（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材を乾燥させる工程；
（ｅ’）（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ’）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材をか焼する工程；
を含み、（ｅ）又は（ｅ’）から選択的触媒還元触媒が得られる方法に関する。
（ｂ）に関し、好ましくは、工程（ｂ）が、
（ｂ．１）バナジウム酸化物の溶液、水、チタニアを含む酸化物材料の粉、及び好ましくは有機分散剤を混合してスラリーを得る工程；
（ｂ．２）（ｂ．１）で得られたスラリーの水相のｐＨを、６～８の範囲の値、好ましくは６．５～７．５の範囲の値に、及び好ましくは水酸化アンモニウム溶液を加えることによって調整する工程；
（ｂ．３）バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物の粉を（ｂ．２）で得られたスラリーに加える工程；
（ｂ．４）より好ましくは、酸化物バインダーを、（ｂ．３）で得られた混合物に加え、最終的なスラリーを得る工程；
を含む。
（ａ）流通基材であって、入口端、出口端、前記入口端から前記出口端へと延びる基材軸長さ、及び前記流通基材を通って延びる前記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材を準備する工程；
（ｂ）バナジウム酸化物の溶液、チタニアを含む酸化物材料の粉、水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物、及び好ましくは酸化物バインダー、より好ましくは上記に定義した酸化物バインダーを含むスラリーを準備する工程；
（ｃ）（ｂ）で得られたスラリーを（ａ）に従う流通基材の内壁の表面上に配置する工程であって、前記表面が、前記通路と前記内壁の間の界面（インターフェース）を規定しており、スラリー処理された基材を得る工程；
（ｄ）任意に、（ｃ）で得られたスラリー処理された基材を乾燥する工程；
（ｅ）（ｃ）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ）で得られた乾燥された、スラリー処理された基材をか焼し、被覆された基材を得る工程；
及び任意に、
（ｃ’）（ｂ）で得られたスラリーを、（ｅ）で得られた基材上に配置されたコーティングの表面に配置する工程；
（ｄ’）任意に、（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材を乾燥させる工程；
（ｅ’）（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ’）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材をか焼する工程；
を含み、（ｅ）又は（ｅ’）から選択的触媒還元触媒が得られる方法に関する。
（ｂ）に関し、好ましくは、工程（ｂ）が、
（ｂ．１）バナジウム酸化物の溶液、水、チタニアを含む酸化物材料の粉、及び好ましくは有機分散剤を混合してスラリーを得る工程；
（ｂ．２）（ｂ．１）で得られたスラリーの水相のｐＨを、６～８の範囲の値、好ましくは６．５～７．５の範囲の値に、及び好ましくは水酸化アンモニウム溶液を加えることによって調整する工程；
（ｂ．３）バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物の粉を（ｂ．２）で得られたスラリーに加える工程；
（ｂ．４）より好ましくは、酸化物バインダーを、（ｂ．３）で得られた混合物に加え、最終的なスラリーを得る工程；
を含む。
【0036】
工程（ｃ）に関し、この工程では、スラリーを、好ましくは基材の軸長さの９５～１００％、より好ましくは９８～１００％、より好ましくは９９～１００％にわたって配置する。
【0037】
本発明に従えば、工程（ｃ）に従うスラリーの配置は、好ましくは基材をスプレーがけ（噴霧）又は浸漬させることによって行われる。
【0038】
工程（ｄ）に従えば、工程（ｃ）で得られたスラリー処理された基材は気体雰囲気中で、９０～１６０℃の範囲の温度で、より好ましくは１１０～１３０℃の温度範囲で乾燥される。
【0039】
工程（ｄ）に従えば、好ましくは、工程（ｃ）で得られたスラリー処理された基材は、気体雰囲気中で、１０～３０分の範囲の期間、乾燥される。
【0040】
好ましくは、工程（ｄ）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材は水分含有量が、０～３０％の範囲、より好ましくは５～２５％の範囲、より好ましくは１５～２０％の範囲である。
【0041】
工程（ｄ）に関し、気体雰囲気は、空気、リーン空気(lean air)及び酸素の１種以上、より好ましくは空気を含むことが好ましく、空気、リーン空気及び酸素の１種以上、より好ましくは空気であることがより好ましい。
【0042】
工程（ｅ）に関し、工程（ｃ）で得られたスラリー処理された基材、又は工程（ｄ）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材は、好ましくは、気体雰囲気中で、３００～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度でか焼される。
【0043】
工程（ｅ）に従えば、好ましくは、工程（ｃ）で得られたスラリー処理された基材、又は工程（ｄ）で得られた、その上に配置されたコーティングを有する基材は、２～６時間の範囲の期間、より好ましくは３～５時間の範囲の期間、気体雰囲気中でか焼される。
【0044】
工程（ｅ）に関し、気体雰囲気が、空気、リーン空気、及び酸素の１種以上、より好ましくは空気を含むことが好ましく、より好ましくは空気、リーン空気、及び酸素の１種以上、より好ましくは空気である。
【0045】
従って、本願発明は好ましくは、選択的触媒還元触媒、好ましくは本発明に従う選択的触媒還元触媒を製造するための方法であって、
（ａ）流通基材であって、入口端、出口端、前記入口端から上記出口端へと延びる基材軸長さ、及び上記流通基材を通って延びる前記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材を準備する工程；
（ｂ）バナジウム酸化物の溶液、チタニアを含む酸化物材料の粉、水、バナジウムと鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物、及び好ましくは酸化物バインダーを含むスラリーを準備する工程；
を含み、工程（ｂ）が、
（ｂ．１）バナジウム酸化物の溶液、水、チタニアを含む酸化物材料の粉、及び好ましくは有機分散剤を混合してスラリーを得る工程；
（ｂ．２）（ｂ．１）で得られたスラリーの水相のｐＨを、６～８の範囲の値、より好ましくは６．５～７．５の範囲の値に、及びより好ましくは水酸化アンモニウム溶液を加えることによって調整する工程；
（ｂ．３）バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物の粉を（ｂ．２）で得られたスラリーに加える工程；
（ｂ．４）好ましくは、酸化物バインダーを、（ｂ．３）で得られた混合物に加え、最終的なスラリーを得る工程；
を含み、更に上記方法は、
（ｃ）（ｂ．３）、より好ましくは（ｂ．４）で得られたスラリーを、スプレーがけ（噴霧）、又は浸漬によって、（ａ）に従う流通基材の内壁の表面上に配置し、スラリー処理された基材を得る工程（ここで上記表面が、上記通路と上記内壁の間の界面を規定している）；
（ｄ）任意に、（ｃ）で得られたスラリー処理された基材を乾燥する工程；
（ｅ）（ｃ）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ）で得られた乾燥された、スラリー処理された基材を、気体雰囲気中で、３００～６００℃の範囲の温度でか焼し、被覆された基材を得る工程；
及び任意に、
（ｃ’）（ｂ）で得られたスラリーを、（ｅ）で得られた基材上に配置されたコーティングの表面に配置する工程；
（ｄ’）任意に、（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材を乾燥させる工程；
（ｅ’）（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ’）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材をか焼する工程；
を含み、（ｅ）又は（ｅ’）から選択的触媒還元触媒が得られる方法に関する。
（ａ）流通基材であって、入口端、出口端、前記入口端から上記出口端へと延びる基材軸長さ、及び上記流通基材を通って延びる前記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材を準備する工程；
（ｂ）バナジウム酸化物の溶液、チタニアを含む酸化物材料の粉、水、バナジウムと鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物、及び好ましくは酸化物バインダーを含むスラリーを準備する工程；
を含み、工程（ｂ）が、
（ｂ．１）バナジウム酸化物の溶液、水、チタニアを含む酸化物材料の粉、及び好ましくは有機分散剤を混合してスラリーを得る工程；
（ｂ．２）（ｂ．１）で得られたスラリーの水相のｐＨを、６～８の範囲の値、より好ましくは６．５～７．５の範囲の値に、及びより好ましくは水酸化アンモニウム溶液を加えることによって調整する工程；
（ｂ．３）バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物の粉を（ｂ．２）で得られたスラリーに加える工程；
（ｂ．４）好ましくは、酸化物バインダーを、（ｂ．３）で得られた混合物に加え、最終的なスラリーを得る工程；
を含み、更に上記方法は、
（ｃ）（ｂ．３）、より好ましくは（ｂ．４）で得られたスラリーを、スプレーがけ（噴霧）、又は浸漬によって、（ａ）に従う流通基材の内壁の表面上に配置し、スラリー処理された基材を得る工程（ここで上記表面が、上記通路と上記内壁の間の界面を規定している）；
（ｄ）任意に、（ｃ）で得られたスラリー処理された基材を乾燥する工程；
（ｅ）（ｃ）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ）で得られた乾燥された、スラリー処理された基材を、気体雰囲気中で、３００～６００℃の範囲の温度でか焼し、被覆された基材を得る工程；
及び任意に、
（ｃ’）（ｂ）で得られたスラリーを、（ｅ）で得られた基材上に配置されたコーティングの表面に配置する工程；
（ｄ’）任意に、（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材を乾燥させる工程；
（ｅ’）（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ’）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材をか焼する工程；
を含み、（ｅ）又は（ｅ’）から選択的触媒還元触媒が得られる方法に関する。
【0046】
本願発明において、工程（ｃ’）では、好ましくは基材軸長さの９５～１００％、好ましくは９８～１００％、より好ましくは９９～１００％にスラリーが配置されることを含む。
【0047】
本願発明に従えば、工程（ｃ’）に従うスラリーの配置は、好ましくは、基材へのスプレーがけ（噴霧）又は基材を浸漬させることによって行われる。。
工程（ｄ’）に従えば、好ましくは、工程（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材は、気体雰囲気中で、９０～１６０℃の範囲の温度、より好ましくは１１０～１５０℃の範囲の温度で乾燥される。
工程（ｄ’）に従えば、好ましくは、工程（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材は、気体雰囲気中で、９０～１６０℃の範囲の温度、より好ましくは１１０～１５０℃の範囲の温度で乾燥される。
【0048】
工程（ｄ’）に従えば、好ましくは、工程（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材は、気体雰囲気中で、１０～３０分間の期間にわたり乾燥される。
【0049】
好ましくは、工程（ｄ’）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材は、水分含有量が０～３０％の範囲、より好ましくは５～２５％の範囲、より好ましくは１５～２０％の範囲である。
【0050】
工程（ｄ’）に関し、気体雰囲気が、空気、リーン空気、及び酸素の１種以上、より好ましくは空気を含むことが好ましく、より好ましくは空気、リーン空気、及び酸素の１種以上、より好ましくは空気である。
【0051】
工程（ｅ’）に従えば、好ましくは、工程（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材、又は工程（ｄ’）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材は、気体雰囲気中で、３００～６００℃の範囲の温度、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度でか焼される。
【0052】
工程（ｅ’）に従えば、好ましくは、工程（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材、又は工程（ｄ’）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材は、２～６時間の範囲、より好ましくは３～５時間の範囲の期間、気体雰囲気内で、か焼される。
【0053】
工程（ｅ’）に関し、気体雰囲気が、空気、リーン空気、及び酸素の１種以上、より好ましくは空気を含むことが好ましく、より好ましくは空気、リーン空気、及び酸素の１種以上、より好ましくは空気である。
【0054】
上記方法は、特に好ましくは、
（ａ）流通基材であって、入口端、出口端、上記入口端から上記出口端へと延びる基材軸長さ、及び上記流通基材を通って延びる上記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材を準備する工程；
（ｂ）バナジウム酸化物の溶液、チタニアを含む酸化物材料の粉、水、バナジウムと鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物、及び好ましくは酸化物バインダー、より好ましくは上記に定義した酸化物バインダーを含むスラリーを準備する工程；
（ｃ）（ｂ）で得られたスラリーを（ａ）に従う流通基材の内壁の表面上に配置する工程であって、上記表面が、上記通路と上記内壁の間の界面（インターフェース）を規定しており、スラリー処理された基材を得る工程；
（ｄ）任意に、（ｃ）で得られたスラリー処理された基材を乾燥する工程；
（ｅ）（ｃ）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ）で得られた乾燥された、スラリー処理された基材をか焼し、被覆された基材を得る工程；
及び任意に、
（ｃ’）（ｂ）で得られたスラリーを、（ｅ）で得られた基材上に配置されたコーティングの表面に配置する工程；
（ｄ’）任意に、（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材を乾燥させる工程；
（ｅ’）（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ’）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材をか焼する工程；
からなり、（ｅ）又は（ｅ’）から選択的触媒還元触媒が得られる。
（ａ）流通基材であって、入口端、出口端、上記入口端から上記出口端へと延びる基材軸長さ、及び上記流通基材を通って延びる上記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材を準備する工程；
（ｂ）バナジウム酸化物の溶液、チタニアを含む酸化物材料の粉、水、バナジウムと鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物、及び好ましくは酸化物バインダー、より好ましくは上記に定義した酸化物バインダーを含むスラリーを準備する工程；
（ｃ）（ｂ）で得られたスラリーを（ａ）に従う流通基材の内壁の表面上に配置する工程であって、上記表面が、上記通路と上記内壁の間の界面（インターフェース）を規定しており、スラリー処理された基材を得る工程；
（ｄ）任意に、（ｃ）で得られたスラリー処理された基材を乾燥する工程；
（ｅ）（ｃ）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ）で得られた乾燥された、スラリー処理された基材をか焼し、被覆された基材を得る工程；
及び任意に、
（ｃ’）（ｂ）で得られたスラリーを、（ｅ）で得られた基材上に配置されたコーティングの表面に配置する工程；
（ｄ’）任意に、（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材を乾燥させる工程；
（ｅ’）（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ’）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材をか焼する工程；
からなり、（ｅ）又は（ｅ’）から選択的触媒還元触媒が得られる。
【0055】
本発明は更に、選択的触媒還元触媒、好ましくは本発明に従う方法によって得ることができる、又は得られた、本発明に従う選択的触媒還元触媒に関する。
【0056】
本発明は更に、ディーゼルエンジンから排出される排ガス流を処理するためのガス処理システムであって、本発明に従う第１の選択的触媒還元触媒、及びディーゼル酸化触媒、アンモニア酸化触媒、第２の選択的触媒還元触媒、フィルター、好ましくは触媒化煤フィルターの１つ以上を含む排ガス処理システムに関する。
【0057】
本発明の第１の局面に従えば、好ましくは、本発明に従う第１の選択的触媒還元触媒が、入口端、出口端を含み、上記第１の選択的触媒還元触媒の入口端が、ディーゼルエンジンの下流で、及び流体的に連結されており、及び上記システムが更に、
入口端及び出口端を有するアンモニア酸化触媒；
入口端及び出口端を有するディーゼル酸化触媒；
入口端及び出口端を有するフィルター、好ましくは触媒化煤フィルターを含み、
第１の選択的触媒還元触媒の出口端が、アンモニア酸化触媒の入口端の上流に配置され、アンモニア酸化触媒の出口端が、ディーゼル酸化触媒の入口端の上流に配置され、及びディーゼル酸化触媒の出口端が、フィルターの入口端の上流に配置される。
入口端及び出口端を有するアンモニア酸化触媒；
入口端及び出口端を有するディーゼル酸化触媒；
入口端及び出口端を有するフィルター、好ましくは触媒化煤フィルターを含み、
第１の選択的触媒還元触媒の出口端が、アンモニア酸化触媒の入口端の上流に配置され、アンモニア酸化触媒の出口端が、ディーゼル酸化触媒の入口端の上流に配置され、及びディーゼル酸化触媒の出口端が、フィルターの入口端の上流に配置される。
【0058】
本発明の第１の局面に従えば、好ましくは、このシステムは更に、フィルターの出口端の下流に、入口端及び出口端を有する第２の選択的触媒還元触媒、より好ましくは本発明に従う選択的触媒還元触媒、及び入口端及び出口端を有する第２のアンモニア酸化触媒を含み、ここで、第２のアンモニア酸化触媒の入口端は、第２の選択的触媒還元触媒の出口端の下流に配置される。
【0059】
本発明の第２の局面に従えば、好ましくは、システムは、入口端及び出口端を通するディーゼル酸化触媒を含み、ディーゼル酸化触媒の入口端は、ディーゼルエンジンと、及び下流で流体的に結合しており、及び更に、入口端及び出口端を有するフィルター、好ましくは触媒化煤フィルター（ここで、フィルターの入口端は、ディーゼル酸化触媒の下流に配置される）を含み、ここで本発明に従う第１の選択的触媒還元触媒が、入口端及び出口端を有し、上記第１の選択的触媒還元触媒の入口端が、フィルターの出口端の下流に配置される。
【0060】
本発明の第２の局面に従えば、好ましくは、排ガス処理システムは更に、入口端及び出口端を有するアンモニア酸化触媒を含み、ここでアンモニア酸化触媒の入口端は、第１の選択的触媒還元触媒の出口端の下流に配置される。
【0061】
本発明において、好ましくは、上記システムは、１つ以上の流体注入器を含み、各流体注入器は、選択的触媒還元触媒の上流に配置されており、ここで流体はより好ましくは、尿素(urea)である。
【0062】
本発明は更に、本発明に従う選択的触媒還元触媒を、排ガス中に含まれる、より好ましくはディーゼルエンジンからの排ガス中に含まれる窒素酸化物の選択的触媒還元のために使用する方法に関する。
【0063】
本発明は更に、窒素酸化物の選択的触媒還元の方法であって、窒素酸化物は排ガス流中に含まれており、及び上記方法は、
（１）排ガス流を、好ましくはディーゼルエンジンから供給する工程；
（２）（１）で供給された排ガスを、本発明に従う選択的触媒還元触媒に通す工程、
を含む。
（１）排ガス流を、好ましくはディーゼルエンジンから供給する工程；
（２）（１）で供給された排ガスを、本発明に従う選択的触媒還元触媒に通す工程、
を含む。
【0064】
本発明を、以下の実施形態及び記載した従属性(dependency)と参照性(back-reference)から得られる実施形態の組合せによって説明する。特に、実施形態の範囲が記載された各場合において、例えば、「実施形態１～４の何れか１つに記載の選択的触媒還元触媒」等の記載に関し、この範囲の各実施形態は、この技術分野の当業者にとって、明確に開示されていることを意味することが注記され、すなわちこの記載は、この技術分野の当業者にとって、「実施形態１、２、３及び４の何れか１つに記載の選択的触媒還元触媒」と同義であることが注記される。更に以下の実施形態の記載は、保護範囲を決定する請求項の記載ではないが、しかし本発明の一般的な及び好ましい局面に向けられた記載の適切な構成部分を表していることが、注記される。
【0065】
『実施形態１』
ディーゼルエンジンの排ガスを処理するための選択的触媒還元触媒であって、
（ｉ）流通基材であって、入口端、出口端、上記入口端から上記出口端へと延びる基材軸長さ、及び上記流通基材を通って延びる上記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材；
（ｉｉ）上記基材の上記内壁の表面上に配置されたコーティングであって、上記表面が、上記通路と上記内壁の間の界面（インターフェース）を規定しており、上記コーティングが、チタニアを含む酸化物材料上に担持されたバナジウム酸化物を含み、及び更にバナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物を含む、コーティング、
を含む選択的触媒還元触媒。
ディーゼルエンジンの排ガスを処理するための選択的触媒還元触媒であって、
（ｉ）流通基材であって、入口端、出口端、上記入口端から上記出口端へと延びる基材軸長さ、及び上記流通基材を通って延びる上記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材；
（ｉｉ）上記基材の上記内壁の表面上に配置されたコーティングであって、上記表面が、上記通路と上記内壁の間の界面（インターフェース）を規定しており、上記コーティングが、チタニアを含む酸化物材料上に担持されたバナジウム酸化物を含み、及び更にバナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物を含む、コーティング、
を含む選択的触媒還元触媒。
【0066】
『実施形態２』
上記酸化物材料上に担持されたバナジウム酸化物が、酸化バナジウム（ＩＩ）、酸化バナジウム（ＩＩＩ）、酸化バナジウム（ＩＶ）、及び酸化バナジウム（Ｖ）の１種以上、好ましくは酸化バナジウム（ＩＶ）、及び酸化バナジウム（Ｖ）の１種以上である、実施形態１に記載の選択的触媒還元触媒。
上記酸化物材料上に担持されたバナジウム酸化物が、酸化バナジウム（ＩＩ）、酸化バナジウム（ＩＩＩ）、酸化バナジウム（ＩＶ）、及び酸化バナジウム（Ｖ）の１種以上、好ましくは酸化バナジウム（ＩＶ）、及び酸化バナジウム（Ｖ）の１種以上である、実施形態１に記載の選択的触媒還元触媒。
【0067】
『実施形態３』
上記酸化物材料が更に、１種以上の酸化物、好ましくはセリウム酸化物、マグネシウム酸化物、ニオビウム酸化物、シリコン酸化物、及びタングステン酸化物の１種以上、好ましくは、セリウム酸化物、シリコン酸化物、及びタングステン酸化物の１種以上、より好ましくは、シリコン酸化物、及びタングステン酸化物の１種以上を含む、実施形態１又は２に記載の選択的触媒還元触媒。
上記酸化物材料が更に、１種以上の酸化物、好ましくはセリウム酸化物、マグネシウム酸化物、ニオビウム酸化物、シリコン酸化物、及びタングステン酸化物の１種以上、好ましくは、セリウム酸化物、シリコン酸化物、及びタングステン酸化物の１種以上、より好ましくは、シリコン酸化物、及びタングステン酸化物の１種以上を含む、実施形態１又は２に記載の選択的触媒還元触媒。
【0068】
『実施形態４』
１種以上の酸化物、好ましくはタングステン酸化物又は好ましくはタングステン酸化物及びシリコン酸化物が、チタニア上に含浸されている、実施形態３に記載の選択的触媒還元触媒。
１種以上の酸化物、好ましくはタングステン酸化物又は好ましくはタングステン酸化物及びシリコン酸化物が、チタニア上に含浸されている、実施形態３に記載の選択的触媒還元触媒。
【0069】
『実施形態５』
前記酸化物材料の７５～１００質量％、好ましくは８０～９９質量％、より好ましくは８５～９５質量％が、チタニアで構成されている実施形態１～４の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
前記酸化物材料の７５～１００質量％、好ましくは８０～９９質量％、より好ましくは８５～９５質量％が、チタニアで構成されている実施形態１～４の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0070】
『実施形態６』
酸化物材料の９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、チタニアとタングステン酸化物で構成され、より好ましくは酸化物材料の８０～９９質量％、より好ましくは８５～９５質量％がチタニアで構成され、及び酸化物材料の１～２０質量％、より好ましくは５～１５質量％が、タングステン酸化物で構成されている実施形態１～５の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
酸化物材料の９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、チタニアとタングステン酸化物で構成され、より好ましくは酸化物材料の８０～９９質量％、より好ましくは８５～９５質量％がチタニアで構成され、及び酸化物材料の１～２０質量％、より好ましくは５～１５質量％が、タングステン酸化物で構成されている実施形態１～５の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0071】
『実施形態７』
酸化物材料の９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、チタニア、タングステン酸化物、及びシリコン酸化物から構成され、ここでより好ましくは、酸化物材料の８０～９８質量％、より好ましくは８３～９３質量％がチタニアで構成され、及び酸化物材料の１～２０質量％、より好ましくは５～１２質量％がタングステン酸化物で構成され、及び酸化物材料の１～１５質量％、より好ましくは２～８質量％がシリコン酸化物で構成されている実施形態１～５の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
酸化物材料の９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、チタニア、タングステン酸化物、及びシリコン酸化物から構成され、ここでより好ましくは、酸化物材料の８０～９８質量％、より好ましくは８３～９３質量％がチタニアで構成され、及び酸化物材料の１～２０質量％、より好ましくは５～１２質量％がタングステン酸化物で構成され、及び酸化物材料の１～１５質量％、より好ましくは２～８質量％がシリコン酸化物で構成されている実施形態１～５の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0072】
『実施形態８』
コーティングの８０～９５質量％、好ましくは８０～９０質量％が酸化物材料で構成されている実施形態１～７の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
コーティングの８０～９５質量％、好ましくは８０～９０質量％が酸化物材料で構成されている実施形態１～７の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0073】
『実施形態９』
混合酸化物のバナジウムが、バナジウム（ＩＶ）及びバナジウム（Ｖ）の１種以上である実施形態１～８の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
混合酸化物のバナジウムが、バナジウム（ＩＶ）及びバナジウム（Ｖ）の１種以上である実施形態１～８の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0074】
『実施形態１０』
上記混合酸化物が、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物、好ましくは、鉄、エルビウム、ビスマス、及びアンチモンの１種以上、より好ましくは鉄及びアンチモンの１種以上、より好ましくは鉄との混合酸化物である実施形態１～９の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
上記混合酸化物が、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物、好ましくは、鉄、エルビウム、ビスマス、及びアンチモンの１種以上、より好ましくは鉄及びアンチモンの１種以上、より好ましくは鉄との混合酸化物である実施形態１～９の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0075】
『実施形態１１』
上記コーティングが、バナジウムと鉄との混合酸化物を含む実施形態１０に記載の選択的触媒還元触媒。
上記コーティングが、バナジウムと鉄との混合酸化物を含む実施形態１０に記載の選択的触媒還元触媒。
【0076】
『実施形態１２』
バナジウム酸化物が、Ｖ２Ｏ５として計算して、触媒中に、（ｌｖ１）／（ｇ／ｉｎ３）の積載量で存在し、前記混合酸化物のバナジウムが、Ｖ２Ｏ５として計算して、触媒中に、（ｌｖ２）／（ｇ／ｉｎ３）の積載量で存在し、比（ｌｖ１）：（ｌｖ２）が、０．１：１～３：１の範囲、好ましくは０．１：１～２：１の範囲、より好ましくは０．２：１～１．５：１の範囲、より好ましくは、０．２：１～１．３：１の範囲である実施形態１～１１の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
バナジウム酸化物が、Ｖ２Ｏ５として計算して、触媒中に、（ｌｖ１）／（ｇ／ｉｎ３）の積載量で存在し、前記混合酸化物のバナジウムが、Ｖ２Ｏ５として計算して、触媒中に、（ｌｖ２）／（ｇ／ｉｎ３）の積載量で存在し、比（ｌｖ１）：（ｌｖ２）が、０．１：１～３：１の範囲、好ましくは０．１：１～２：１の範囲、より好ましくは０．２：１～１．５：１の範囲、より好ましくは、０．２：１～１．３：１の範囲である実施形態１～１１の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0077】
『実施形態１３』
バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物中で、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上の、バナジウムに対するモル比、Ｘ：Ｖは、１：１．５～１．５：１の範囲であり、好ましくは１：１．２～１．２：１の範囲、より好ましくは１：１．１～１．１：１の範囲である実施形態１～１２の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物中で、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上の、バナジウムに対するモル比、Ｘ：Ｖは、１：１．５～１．５：１の範囲であり、好ましくは１：１．２～１．２：１の範囲、より好ましくは１：１．１～１．１：１の範囲である実施形態１～１２の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0078】
『実施形態１４』
上記コーティング中に含まれるバナジウムの量が、バナジウムをＶ２Ｏ５として計算して、上記コーティングの合計質量に対して、２．５～８質量％の範囲、より好ましくは３～７質量％の範囲、より好ましくは３．５～６．５質量％である実施形態１～１３の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
上記コーティング中に含まれるバナジウムの量が、バナジウムをＶ２Ｏ５として計算して、上記コーティングの合計質量に対して、２．５～８質量％の範囲、より好ましくは３～７質量％の範囲、より好ましくは３．５～６．５質量％である実施形態１～１３の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0079】
『実施形態１５』
触媒中に、バナジウム酸化物が、０．０２～０．５ｇ／ｉｎ３の範囲、好ましくは０．０３～０．２ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは０．０４～０．１５ｇ／ｉｎ３の範囲で存在する実施形態１～１４の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
触媒中に、バナジウム酸化物が、０．０２～０．５ｇ／ｉｎ３の範囲、好ましくは０．０３～０．２ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは０．０４～０．１５ｇ／ｉｎ３の範囲で存在する実施形態１～１４の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0080】
『実施形態１６』
触媒中に、上記酸化物材料が、１～８ｇ／ｉｎ３の範囲、好ましくは１．５～５ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは２～４．５ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは３～４．５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在する実施形態１～１５の何れか１の実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
触媒中に、上記酸化物材料が、１～８ｇ／ｉｎ３の範囲、好ましくは１．５～５ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは２～４．５ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは３～４．５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在する実施形態１～１５の何れか１の実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0081】
『実施形態１７』
触媒中に、混合酸化物は、０．０５～１ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在し、好ましくは、０．０８～０．７ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在し、より好ましくは、０．１～０．５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在する実施形態１～１６の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
触媒中に、混合酸化物は、０．０５～１ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在し、好ましくは、０．０８～０．７ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在し、より好ましくは、０．１～０．５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在する実施形態１～１６の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0082】
『実施形態１８』
上記コーティングが更に、酸化物バインダーを含み、該酸化物バインダーは好ましくは、ジルコニア、アルミナ、チタニア、シリカ、及びＺｒ、Ａｌ、Ｔｉ及びＳｉの２種以上を含む混合酸化物の１種以上を含み、前記酸化物バインダーはより好ましくは、アルミナ及びシリカの１種以上を含み、より好ましくはシリカを含む実施形態１～１７の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
上記コーティングが更に、酸化物バインダーを含み、該酸化物バインダーは好ましくは、ジルコニア、アルミナ、チタニア、シリカ、及びＺｒ、Ａｌ、Ｔｉ及びＳｉの２種以上を含む混合酸化物の１種以上を含み、前記酸化物バインダーはより好ましくは、アルミナ及びシリカの１種以上を含み、より好ましくはシリカを含む実施形態１～１７の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0083】
『実施形態１９』
触媒中で、コーティングは酸化物バインダーを、０．０２～０．５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、好ましくは０．０５～０．４ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは０．１～０．３ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で含む実施形態１８に記載の選択的触媒還元触媒。
触媒中で、コーティングは酸化物バインダーを、０．０２～０．５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、好ましくは０．０５～０．４ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは０．１～０．３ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で含む実施形態１８に記載の選択的触媒還元触媒。
【0084】
『実施形態２０』
コーティングの９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、バナジウム酸化物で構成され、上記酸化物材料がチタニア、バナジウムと鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物、及び好ましくは実施形態１８又は１９に記載の酸化物バインダーを含む実施形態１～１９の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
コーティングの９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、バナジウム酸化物で構成され、上記酸化物材料がチタニア、バナジウムと鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物、及び好ましくは実施形態１８又は１９に記載の酸化物バインダーを含む実施形態１～１９の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0085】
『実施形態２１』
触媒中で、前記コーティングは、１．５～１０ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、好ましくは２～８ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは２．５～６．５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは、３～６ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは、３．５～６ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在する実施形態１～２０の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
触媒中で、前記コーティングは、１．５～１０ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、好ましくは２～８ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは２．５～６．５ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは、３～６ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量、より好ましくは、３．５～６ｇ／ｉｎ３の範囲の積載量で存在する実施形態１～２０の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0086】
『実施形態２２』
９９～１００質量％、好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％のバナジウム酸化物が、バナジウムと酸素で構成される実施形態１～２１の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
９９～１００質量％、好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％のバナジウム酸化物が、バナジウムと酸素で構成される実施形態１～２１の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0087】
『実施形態２３』
バナジウム酸化物が、バナジウムと酸素から成る実施形態１～２２の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
バナジウム酸化物が、バナジウムと酸素から成る実施形態１～２２の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0088】
『実施形態２４』
コーティングの０～０．００１質量％、好ましくは０～０．０００１質量％、より好ましくは０～０．００００１質量％が、ゼオライト材料で構成される実施形態１～２３の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
コーティングの０～０．００１質量％、好ましくは０～０．０００１質量％、より好ましくは０～０．００００１質量％が、ゼオライト材料で構成される実施形態１～２３の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0089】
『実施形態２５』
コーティングがゼオライト材料を含まない実施形態２４に記載の選択的触媒還元触媒。
コーティングがゼオライト材料を含まない実施形態２４に記載の選択的触媒還元触媒。
【0090】
『実施形態２６』
コーティングの０～０．００１質量％、好ましくは０～０．０００１質量％、より好ましくは０～０．００００１質量％が、パラジウム及び白金で構成され、好ましくはパラジウム、白金、及びロジウムで構成され、より好ましくはパラジウム、白金、ロジウム、イリジウム、及びオスミウムで構成され、より好ましくは貴金属で構成される実施形態１～２５の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
コーティングの０～０．００１質量％、好ましくは０～０．０００１質量％、より好ましくは０～０．００００１質量％が、パラジウム及び白金で構成され、好ましくはパラジウム、白金、及びロジウムで構成され、より好ましくはパラジウム、白金、ロジウム、イリジウム、及びオスミウムで構成され、より好ましくは貴金属で構成される実施形態１～２５の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0091】
『実施形態２７』
コーティングは貴金属を含まない実施形態２６に記載の選択的触媒還元触媒。
コーティングは貴金属を含まない実施形態２６に記載の選択的触媒還元触媒。
【0092】
『実施形態２８』
コーティングが、基材軸長さの９５～１００％、好ましくは９８～１００％、より好ましくは９９～１００％を覆う実施形態１～２７の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
コーティングが、基材軸長さの９５～１００％、好ましくは９８～１００％、より好ましくは９９～１００％を覆う実施形態１～２７の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0093】
『実施形態２９』
触媒の流通基材がセラミック又は金属性物質を含む実施形態１～２８の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
触媒の流通基材がセラミック又は金属性物質を含む実施形態１～２８の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0094】
『実施形態３０』
触媒の流通基材がセラミック物質を含み、好ましくはセラミック物質から成り、セラミック物質は、好ましくはアルミナ、シリカ、シリケート、アルミノシリケートの１種以上を含み、より好ましくはこれら１種以上で構成され、好ましくはコージライト、又はムライト、アルミノチタネート、シリコンカーバイド、ジルコニア、マグネシア、好ましくはスピネル、及びチタニア、より好ましくはシリコンカーバイド及びコージライトの１種以上、より好ましくはコージライトを含むか、これらで構成され、又は触媒の流通基材は、金属性物質を含み、より好ましくは金属性物質で構成され、ここで金属性物質は好ましくは酸素と、鉄、クロミウム、及びアルミニウムの１種以上とを含み、より好ましくはこれらから構成される実施形態１～２９の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
触媒の流通基材がセラミック物質を含み、好ましくはセラミック物質から成り、セラミック物質は、好ましくはアルミナ、シリカ、シリケート、アルミノシリケートの１種以上を含み、より好ましくはこれら１種以上で構成され、好ましくはコージライト、又はムライト、アルミノチタネート、シリコンカーバイド、ジルコニア、マグネシア、好ましくはスピネル、及びチタニア、より好ましくはシリコンカーバイド及びコージライトの１種以上、より好ましくはコージライトを含むか、これらで構成され、又は触媒の流通基材は、金属性物質を含み、より好ましくは金属性物質で構成され、ここで金属性物質は好ましくは酸素と、鉄、クロミウム、及びアルミニウムの１種以上とを含み、より好ましくはこれらから構成される実施形態１～２９の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0095】
『実施形態３１』
触媒の９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、流通基材及びコーティングで構成される実施形態１～３０の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
触媒の９８～１００質量％、好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％、より好ましくは９９．９～１００質量％が、流通基材及びコーティングで構成される実施形態１～３０の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0096】
『実施形態３２』
（ｉｉ）に従うコーティングが、２つ以上のコートを含み、好ましくは２つのコートから構成される実施形態１～３１の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
（ｉｉ）に従うコーティングが、２つ以上のコートを含み、好ましくは２つのコートから構成される実施形態１～３１の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0097】
『実施形態３３』
上記２つ以上のコートは、同じ化学組成を有する実施形態３２に記載の選択的触媒還元触媒。
上記２つ以上のコートは、同じ化学組成を有する実施形態３２に記載の選択的触媒還元触媒。
【0098】
『実施形態３４』
選択的触媒還元触媒、好ましくは実施形態１～３３の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒を製造するための方法であって、
（ａ）流通基材であって、入口端、出口端、上記入口端から上記出口端へと延びる基材軸長さ、及び上記流通基材を通って延びる前記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材を準備する工程；
（ｂ）バナジウム酸化物の溶液、チタニアを含む酸化物材料の粉、水、バナジウムと鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物を含むスラリーを準備する工程；
（ｃ）（ｂ）で得られたスラリーを（ａ）に従う流通基材の内壁の表面上に配置する工程であって、上記表面が、前記通路と前記内壁の間の界面（インターフェース）を規定しており、スラリー処理された基材を得る工程；
（ｄ）任意に、（ｃ）で得られたスラリー処理された基材を乾燥する工程；
（ｅ）（ｃ）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ）で得られた乾燥された、スラリー処理された基材をか焼し、被覆された基材を得る工程；
及び任意に、
（ｃ’）（ｂ）で得られたスラリーを、（ｅ）で得られた基材上に配置されたコーティングの表面に配置する工程；
（ｄ’）任意に、（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材を乾燥させる工程；
（ｅ’）（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ’）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材をか焼する工程；
を含み、（ｅ）又は（ｅ’）から選択的触媒還元触媒が得られる方法。
選択的触媒還元触媒、好ましくは実施形態１～３３の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒を製造するための方法であって、
（ａ）流通基材であって、入口端、出口端、上記入口端から上記出口端へと延びる基材軸長さ、及び上記流通基材を通って延びる前記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材を準備する工程；
（ｂ）バナジウム酸化物の溶液、チタニアを含む酸化物材料の粉、水、バナジウムと鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物を含むスラリーを準備する工程；
（ｃ）（ｂ）で得られたスラリーを（ａ）に従う流通基材の内壁の表面上に配置する工程であって、上記表面が、前記通路と前記内壁の間の界面（インターフェース）を規定しており、スラリー処理された基材を得る工程；
（ｄ）任意に、（ｃ）で得られたスラリー処理された基材を乾燥する工程；
（ｅ）（ｃ）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ）で得られた乾燥された、スラリー処理された基材をか焼し、被覆された基材を得る工程；
及び任意に、
（ｃ’）（ｂ）で得られたスラリーを、（ｅ）で得られた基材上に配置されたコーティングの表面に配置する工程；
（ｄ’）任意に、（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材を乾燥させる工程；
（ｅ’）（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ’）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材をか焼する工程；
を含み、（ｅ）又は（ｅ’）から選択的触媒還元触媒が得られる方法。
【0099】
『実施形態３５』
工程（ｂ）が、
（ｂ．１）バナジウム酸化物の溶液、水、チタニアを含む酸化物材料の粉、及び好ましくは有機分散剤を混合してスラリーを得る工程；
（ｂ．２）（ｂ．１）で得られたスラリーの水相のｐＨを、６～８の範囲の値、好ましくは６．５～７．５の範囲の値に、及び好ましくは水酸化アンモニウム溶液を加えることによって調整する工程；
（ｂ．３）バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物の粉を（ｂ．２）で得られたスラリーに加える工程；
（ｂ．４）好ましくは、酸化物バインダーを、（ｂ．３）で得られた混合物に加え、最終的なスラリーを得る工程；
を含む実施形態３４に記載の方法。
工程（ｂ）が、
（ｂ．１）バナジウム酸化物の溶液、水、チタニアを含む酸化物材料の粉、及び好ましくは有機分散剤を混合してスラリーを得る工程；
（ｂ．２）（ｂ．１）で得られたスラリーの水相のｐＨを、６～８の範囲の値、好ましくは６．５～７．５の範囲の値に、及び好ましくは水酸化アンモニウム溶液を加えることによって調整する工程；
（ｂ．３）バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物の粉を（ｂ．２）で得られたスラリーに加える工程；
（ｂ．４）好ましくは、酸化物バインダーを、（ｂ．３）で得られた混合物に加え、最終的なスラリーを得る工程；
を含む実施形態３４に記載の方法。
【0100】
『実施形態３６』
工程（ｃ）が、基材軸長さの９５～１００％、好ましくは９８～１００％、より好ましくは９９～１００％に渡り配置されることを含む実施形態３４又は３５に記載の方法。
工程（ｃ）が、基材軸長さの９５～１００％、好ましくは９８～１００％、より好ましくは９９～１００％に渡り配置されることを含む実施形態３４又は３５に記載の方法。
【0101】
『実施形態３７』
工程（ｃ）に従うスラリーの配置が基材へのスプレーがけ（噴霧）、又は基材を浸漬させることによって行われる実施形態３４～３６の何れか１つの実施形態に記載の方法。
工程（ｃ）に従うスラリーの配置が基材へのスプレーがけ（噴霧）、又は基材を浸漬させることによって行われる実施形態３４～３６の何れか１つの実施形態に記載の方法。
【0102】
『実施形態３８』
工程（ｄ）に従い、工程（ｃ）で得られたスラリー処理された基材が、気体雰囲気中で、９０～１６０℃の範囲の温度で、好ましくは１１０～１３０℃の温度範囲で乾燥される実施形態３４～３７の何れか１つの実施形態に記載の方法。
工程（ｄ）に従い、工程（ｃ）で得られたスラリー処理された基材が、気体雰囲気中で、９０～１６０℃の範囲の温度で、好ましくは１１０～１３０℃の温度範囲で乾燥される実施形態３４～３７の何れか１つの実施形態に記載の方法。
【0103】
『実施形態３９』
工程（ｄ）に従い、工程（ｃ）で得られたスラリー処理された基材は、気体雰囲気中で、１０～３０分の範囲の期間、乾燥される実施形態３４～３８の何れか１つの実施形態に記載の方法。
工程（ｄ）に従い、工程（ｃ）で得られたスラリー処理された基材は、気体雰囲気中で、１０～３０分の範囲の期間、乾燥される実施形態３４～３８の何れか１つの実施形態に記載の方法。
【0104】
『実施形態４０』
工程（ｄ）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材は、水分含有量が、０～３０％の範囲、好ましくは５～２５％の範囲、より好ましくは１５～２０％の範囲である実施形態３４～３９の何れか１つの実施形態に記載の方法。
工程（ｄ）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材は、水分含有量が、０～３０％の範囲、好ましくは５～２５％の範囲、より好ましくは１５～２０％の範囲である実施形態３４～３９の何れか１つの実施形態に記載の方法。
【0105】
『実施形態４１』
気体雰囲気は、空気、リーン空気(lean air)及び酸素の１種以上、より好ましくは空気を含み、好ましくは空気、リーン空気、及び酸素の１種以上、より好ましくは空気である実施形態３８～４０の何れか１つの実施形態に記載の方法。
気体雰囲気は、空気、リーン空気(lean air)及び酸素の１種以上、より好ましくは空気を含み、好ましくは空気、リーン空気、及び酸素の１種以上、より好ましくは空気である実施形態３８～４０の何れか１つの実施形態に記載の方法。
【0106】
『実施形態４２』
工程（ｅ）に従い、工程（ｃ）で得られたスラリー処理された基材、又は工程（ｄ）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材は、気体雰囲気中で、３００～６００℃の範囲の温度、好ましくは４００～５００℃の範囲の温度でか焼される実施形態３４～４１の何れか１つの実施形態に記載の方法。
工程（ｅ）に従い、工程（ｃ）で得られたスラリー処理された基材、又は工程（ｄ）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材は、気体雰囲気中で、３００～６００℃の範囲の温度、好ましくは４００～５００℃の範囲の温度でか焼される実施形態３４～４１の何れか１つの実施形態に記載の方法。
【0107】
『実施形態４３』
工程（ｅ）に従い、工程（ｃ）で得られたスラリー処理された基材、又は工程（ｄ）で得られた、その上に配置されたコーティングを有する基材は、２～６時間の範囲の期間、好ましくは３～５時間の範囲で気体雰囲気中でか焼される実施形態３４～４２の何れか１つの実施形態に記載の方法。
工程（ｅ）に従い、工程（ｃ）で得られたスラリー処理された基材、又は工程（ｄ）で得られた、その上に配置されたコーティングを有する基材は、２～６時間の範囲の期間、好ましくは３～５時間の範囲で気体雰囲気中でか焼される実施形態３４～４２の何れか１つの実施形態に記載の方法。
【0108】
『実施形態４４』
気体雰囲気は、空気、リーン空気及び酸素の１種以上、より好ましくは空気を含み、好ましくは空気、リーン空気、及び酸素の１種以上、より好ましくは空気である実施形態４２又は４３に記載の方法。
気体雰囲気は、空気、リーン空気及び酸素の１種以上、より好ましくは空気を含み、好ましくは空気、リーン空気、及び酸素の１種以上、より好ましくは空気である実施形態４２又は４３に記載の方法。
【0109】
『実施形態４５』
工程（ｃ’）が、基材軸長さの９５～１００％、好ましくは９８～１００％、より好ましくは９９～１００％にスラリーが配置されることを含む実施形態３４～４４の何れか１つの実施形態に記載の方法。
工程（ｃ’）が、基材軸長さの９５～１００％、好ましくは９８～１００％、より好ましくは９９～１００％にスラリーが配置されることを含む実施形態３４～４４の何れか１つの実施形態に記載の方法。
【0110】
『実施形態４６』
工程（ｃ’）に従うスラリーの配置は、基材をスプレーがけ（噴霧）又は浸漬させることによって行われる実施形態３４～４５の何れか１つの実施形態に記載の方法。
工程（ｃ’）に従うスラリーの配置は、基材をスプレーがけ（噴霧）又は浸漬させることによって行われる実施形態３４～４５の何れか１つの実施形態に記載の方法。
【0111】
『実施形態４７』
工程（ｄ’）に従い、工程（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材は、気体雰囲気中で、９０～１６０℃の範囲の温度、好ましくは１１０～１５０℃の範囲の温度で乾燥される実施形態３４～４６の何れか１つの実施形態に記載の方法。
工程（ｄ’）に従い、工程（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材は、気体雰囲気中で、９０～１６０℃の範囲の温度、好ましくは１１０～１５０℃の範囲の温度で乾燥される実施形態３４～４６の何れか１つの実施形態に記載の方法。
【0112】
『実施形態４８』
工程（ｄ’）に従い、工程（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材は、気体雰囲気中で、１０～３０分間の範囲の期間にわたり乾燥される実施形態３４～４７の何れか１つの実施形態に記載の方法。
工程（ｄ’）に従い、工程（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材は、気体雰囲気中で、１０～３０分間の範囲の期間にわたり乾燥される実施形態３４～４７の何れか１つの実施形態に記載の方法。
【0113】
『実施形態４９』
工程（ｄ’）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材は、水分含有量が０～３０％の範囲、好ましくは５～２５％の範囲、より好ましくは１５～２０％の範囲である実施形態３４～４８の何れか１つの実施形態に記載の方法。
工程（ｄ’）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材は、水分含有量が０～３０％の範囲、好ましくは５～２５％の範囲、より好ましくは１５～２０％の範囲である実施形態３４～４８の何れか１つの実施形態に記載の方法。
【0114】
『実施形態５０』
気体雰囲気は、空気、リーン空気及び酸素の１種以上、より好ましくは空気を含み、好ましくは空気、リーン空気、及び酸素の１種以上、より好ましくは空気である実施形態４７～４９の何れか１つの実施形態に記載の方法。
気体雰囲気は、空気、リーン空気及び酸素の１種以上、より好ましくは空気を含み、好ましくは空気、リーン空気、及び酸素の１種以上、より好ましくは空気である実施形態４７～４９の何れか１つの実施形態に記載の方法。
【0115】
『実施形態５１』
工程（ｅ’）に従い、工程（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材、又は工程（ｄ’）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材は、気体雰囲気中で、３００～６００℃の範囲の温度、好ましくは４００～５００℃の範囲の温度でか焼される実施形態３４～５０の何れか１つの実施形態に記載の方法。
工程（ｅ’）に従い、工程（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材、又は工程（ｄ’）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材は、気体雰囲気中で、３００～６００℃の範囲の温度、好ましくは４００～５００℃の範囲の温度でか焼される実施形態３４～５０の何れか１つの実施形態に記載の方法。
【0116】
『実施形態５２』
工程（ｅ’）に従い、工程（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材、又は工程（ｄ’）で得られた、乾燥されたスラリー処理された基材は、２～６時間の範囲の期間、好ましくは３～５時間の範囲の期間、気体雰囲気中でか焼される実施形態３４～５１の何れか１つの実施形態に記載の方法。
工程（ｅ’）に従い、工程（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材、又は工程（ｄ’）で得られた、乾燥されたスラリー処理された基材は、２～６時間の範囲の期間、好ましくは３～５時間の範囲の期間、気体雰囲気中でか焼される実施形態３４～５１の何れか１つの実施形態に記載の方法。
【0117】
『実施形態５３』
気体雰囲気が、空気、リーン空気、及び酸素の１種以上、より好ましくは空気を含み、好ましくは空気、リーン空気、及び酸素の１種以上、より好ましくは空気である実施形態５１又は５２に記載の方法。
気体雰囲気が、空気、リーン空気、及び酸素の１種以上、より好ましくは空気を含み、好ましくは空気、リーン空気、及び酸素の１種以上、より好ましくは空気である実施形態５１又は５２に記載の方法。
【0118】
『実施形態５４』
（ａ）流通基材であって、入口端、出口端、上記入口端から上記出口端へと延びる基材軸長さ、及び上記流通基材を通って延びる上記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材を準備する工程；
（ｂ）バナジウム酸化物の溶液、チタニアを含む酸化物材料の粉、水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物の粉、及び好ましくは酸化物バインダーを含むスラリーを準備する工程；
（ｃ）（ｂ）で得られたスラリーを（ａ）に従う流通基材の内壁の表面上に配置する工程であって、上記表面が、上記通路と上記内壁の間の界面（インターフェース）を規定しており、スラリー処理された基材を得る工程；
（ｄ）任意に、（ｃ）で得られたスラリー処理された基材を乾燥する工程；
（ｅ）（ｃ）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ）で得られた乾燥された、スラリー処理された基材をか焼し、被覆された基材を得る工程；
及び任意に、
（ｃ’）（ｂ）で得られたスラリーを、（ｅ）で得られた基材上に配置されたコーティングの表面に配置する工程；
（ｄ’）任意に、（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材を乾燥させる工程；
（ｅ’）（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ’）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材をか焼する工程；
から構成され、（ｅ）又は（ｅ’）から選択的触媒還元触媒が得られる実施形態３４～５３の何れか１つの実施形態に記載の方法。
（ａ）流通基材であって、入口端、出口端、上記入口端から上記出口端へと延びる基材軸長さ、及び上記流通基材を通って延びる上記流通基材の内壁によって規定される複数の通路を含む流通基材を準備する工程；
（ｂ）バナジウム酸化物の溶液、チタニアを含む酸化物材料の粉、水、バナジウムと、鉄、エルビウム、ビスマス、セリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、ホルミウム、ランタン、ルテチウム、ネオジム、プラセオジム、プロメチウム、サマリウム、スカンジウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、及びアンチモンの１種以上との混合酸化物の粉、及び好ましくは酸化物バインダーを含むスラリーを準備する工程；
（ｃ）（ｂ）で得られたスラリーを（ａ）に従う流通基材の内壁の表面上に配置する工程であって、上記表面が、上記通路と上記内壁の間の界面（インターフェース）を規定しており、スラリー処理された基材を得る工程；
（ｄ）任意に、（ｃ）で得られたスラリー処理された基材を乾燥する工程；
（ｅ）（ｃ）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ）で得られた乾燥された、スラリー処理された基材をか焼し、被覆された基材を得る工程；
及び任意に、
（ｃ’）（ｂ）で得られたスラリーを、（ｅ）で得られた基材上に配置されたコーティングの表面に配置する工程；
（ｄ’）任意に、（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材を乾燥させる工程；
（ｅ’）（ｃ’）で得られたスラリー処理された基材、又は（ｄ’）で得られた乾燥されたスラリー処理された基材をか焼する工程；
から構成され、（ｅ）又は（ｅ’）から選択的触媒還元触媒が得られる実施形態３４～５３の何れか１つの実施形態に記載の方法。
【0119】
『実施形態５５』
実施形態３４～５４の何れか１つの実施形態に記載の記載の方法によって得ることが可能な、又は得られた選択的触媒還元触媒、好ましくは実施形態１～３３の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
実施形態３４～５４の何れか１つの実施形態に記載の記載の方法によって得ることが可能な、又は得られた選択的触媒還元触媒、好ましくは実施形態１～３３の何れか１つの実施形態に記載の選択的触媒還元触媒。
【0120】
『実施形態５６』
ディーゼルエンジンから排出される排ガス流を処理するためのガス処理システムであって、実施形態１～３３及び５５の何れか１つの実施形態に記載の、第１の選択的触媒還元触媒、及びディーゼル酸化触媒、アンモニア酸化触媒、第２の選択的触媒還元触媒、フィルター、好ましくは触媒化煤フィルターの１つ以上を含む排ガス処理システム。
ディーゼルエンジンから排出される排ガス流を処理するためのガス処理システムであって、実施形態１～３３及び５５の何れか１つの実施形態に記載の、第１の選択的触媒還元触媒、及びディーゼル酸化触媒、アンモニア酸化触媒、第２の選択的触媒還元触媒、フィルター、好ましくは触媒化煤フィルターの１つ以上を含む排ガス処理システム。
【0121】
『実施形態５７』
実施形態１～３３及び５５の何れか１つの実施形態に従う第１の選択的触媒還元触媒が、入口端及び出口端を含み、上記第１の選択的触媒還元触媒の入口端が、ディーゼルエンジンの下流で、及び流体的に連結されており、及び上記システムが更に、
入口端及び出口端を有するアンモニア酸化触媒；
入口端及び出口端を有するディーゼル酸化触媒；
入口端及び出口端を有するフィルター、好ましくは触媒化煤フィルターを含み、
第１の選択的触媒還元触媒の出口端が、アンモニア酸化触媒の入口端の上流に配置され、アンモニア酸化触媒の出口端が、ディーゼル酸化触媒の入口端の上流に配置され、及びディーゼル酸化触媒の出口端が、フィルターの入口端の上流に配置される、実施形態５６に記載の排ガス処理システム。
実施形態１～３３及び５５の何れか１つの実施形態に従う第１の選択的触媒還元触媒が、入口端及び出口端を含み、上記第１の選択的触媒還元触媒の入口端が、ディーゼルエンジンの下流で、及び流体的に連結されており、及び上記システムが更に、
入口端及び出口端を有するアンモニア酸化触媒；
入口端及び出口端を有するディーゼル酸化触媒；
入口端及び出口端を有するフィルター、好ましくは触媒化煤フィルターを含み、
第１の選択的触媒還元触媒の出口端が、アンモニア酸化触媒の入口端の上流に配置され、アンモニア酸化触媒の出口端が、ディーゼル酸化触媒の入口端の上流に配置され、及びディーゼル酸化触媒の出口端が、フィルターの入口端の上流に配置される、実施形態５６に記載の排ガス処理システム。
【0122】
『実施形態５８』
フィルターの出口端の下流に、入口端及び出口端を有する第２の選択的触媒還元触媒、好ましくは実施形態１～３３及び５５の何れか１つの実施形態に従う選択的触媒還元触媒、及び入口端及び出口端を有する第２のアンモニア酸化触媒を含み、ここで、第２のアンモニア酸化触媒の入口端は、第２の選択的触媒還元触媒の出口端の下流に配置される実施形態５７に記載の排ガス処理システム。
フィルターの出口端の下流に、入口端及び出口端を有する第２の選択的触媒還元触媒、好ましくは実施形態１～３３及び５５の何れか１つの実施形態に従う選択的触媒還元触媒、及び入口端及び出口端を有する第２のアンモニア酸化触媒を含み、ここで、第２のアンモニア酸化触媒の入口端は、第２の選択的触媒還元触媒の出口端の下流に配置される実施形態５７に記載の排ガス処理システム。
【0123】
『実施形態５９』
入口端及び出口端を通するディーゼル酸化触媒を含み、ディーゼル酸化触媒の入口端は、ディーゼルエンジンと、及び下流で流体的に結合しており、及び更に、入口端及び出口端を有するフィルター、好ましくは触媒化煤フィルター（ここで、フィルターの入口端は、ディーゼル酸化触媒の下流に配置される）を含み、ここで実施形態１～３３及び５５の何れか１つの実施形態に従う第１の選択的触媒還元触媒が、入口端及び出口端を有し、上記第１の選択的触媒還元触媒の入口端が、フィルターの出口端の下流に配置される実施形態５６に記載の排ガス処理システム。
入口端及び出口端を通するディーゼル酸化触媒を含み、ディーゼル酸化触媒の入口端は、ディーゼルエンジンと、及び下流で流体的に結合しており、及び更に、入口端及び出口端を有するフィルター、好ましくは触媒化煤フィルター（ここで、フィルターの入口端は、ディーゼル酸化触媒の下流に配置される）を含み、ここで実施形態１～３３及び５５の何れか１つの実施形態に従う第１の選択的触媒還元触媒が、入口端及び出口端を有し、上記第１の選択的触媒還元触媒の入口端が、フィルターの出口端の下流に配置される実施形態５６に記載の排ガス処理システム。
【0124】
『実施形態６０』
入口端及び出口端を有するアンモニア酸化触媒を含み、ここでアンモニア酸化触媒の入口端は、第１の選択的触媒還元触媒の出口端の下流に配置される実施形態５９に記載の排ガス処理システム。
入口端及び出口端を有するアンモニア酸化触媒を含み、ここでアンモニア酸化触媒の入口端は、第１の選択的触媒還元触媒の出口端の下流に配置される実施形態５９に記載の排ガス処理システム。
【0125】
『実施形態６１』
１つ以上の流体注入器を更に含み、各流体注入器は、選択的触媒還元触媒の上流に配置されており、ここで流体はより好ましくは、尿素(urea)である実施形態５６～６０の何れか１つの実施形態に記載の排ガス処理システム。
１つ以上の流体注入器を更に含み、各流体注入器は、選択的触媒還元触媒の上流に配置されており、ここで流体はより好ましくは、尿素(urea)である実施形態５６～６０の何れか１つの実施形態に記載の排ガス処理システム。
【0126】
『実施形態６２』
実施形態１～３３及び５５の何れか１つの実施形態に従う選択的触媒還元触媒を、排ガス中に含まれる、好ましくはディーゼルエンジンからの排ガス中に含まれる窒素酸化物の選択的触媒還元のために使用する方法。
実施形態１～３３及び５５の何れか１つの実施形態に従う選択的触媒還元触媒を、排ガス中に含まれる、好ましくはディーゼルエンジンからの排ガス中に含まれる窒素酸化物の選択的触媒還元のために使用する方法。
【0127】
『実施形態６３』
窒素酸化物の選択的触媒還元の方法であって、窒素酸化物は排ガス流中に含まれており、及び
（１）排ガス流を、好ましくはディーゼルエンジンから供給する工程；
（２）（１）で供給された排ガスを、実施形態１～３３及び５５の何れか１つの実施形態に従う選択的触媒還元触媒に通す工程、
を含む方法。
窒素酸化物の選択的触媒還元の方法であって、窒素酸化物は排ガス流中に含まれており、及び
（１）排ガス流を、好ましくはディーゼルエンジンから供給する工程；
（２）（１）で供給された排ガスを、実施形態１～３３及び５５の何れか１つの実施形態に従う選択的触媒還元触媒に通す工程、
を含む方法。
【0128】
本発明について、「内壁の表面」という用語は、壁の「むき出しの」又は「裸の」又は「ブランクな」表面、すなわち（表面を汚していても良い、不可避な不純物は別にして、）壁の材料から成る未処理の状態の壁の表面と理解されるべきである。
【0129】
更に、本発明について、「Ｘが、Ａ、Ｂ及びＣの１つ以上である」（ここで、Ｘは与えられた特徴であり、及びＡ、Ｂ及びＣのそれぞれは、上記特徴の特定的な具現化構成である）という記載は、Ｘが、Ａ、又はＢ、又はＣ、又はＡ及びＢ又はＡ及びＣ、又はＢ及びＣ、又はＡ及びＢ及びＣという構成を開示しているものと理解される。この点に関し、この技術分野の当業者は、上述した抽象的な記載を具体例に変換することが可能であることが注記され、上記具体例は例えば、Ｘが化学的な元素であり、Ａ、Ｂ及びＣが具体的な元素、例えばＬｉ、Ｎａ、及びＫであり、又はＸが温度であり、及びＡ、Ｂ及びＣが具体的な温度、例えば１０℃、２０℃、及び３０℃である場合である。この点において、この技術分野の当業者は、上記記載を、上記特徴の具体化をより非特定化したように拡張することが可能であり、例えば、「Ｘが、Ａ及びＢの１つ以上である」は、ＸがＡ、又はＢ、又はＡ及びＢの何れかを開示しており、又は上記特徴の具体化をより特定化したように拡張することが可能であり、例えば「Ｘが、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤの１つ以上である」は、Ｘが、Ａ、又はＢ、又はＣ、又はＤ、又はＡ及びＢ、又はＡ及びＣ、又はＡ及びＤ、又はＢ及びＣ、又はＢ及びＤ、又はＣ及びＤ、又はＡ及びＢ及びＣ、又はＡ及びＢ及びＤ、又はＢ及びＣ及びＤ、又はＡ及びＢ及びＣ及びＤの何れかを開示していることが更に注記される。
【0130】
本発明を以下の参照例、比較例、及び実施例を使用して更に説明する。
【実施例】
【0131】
参照例１:ＤＶ９０値の決定
Ｓｙｍｐａｔｅｃ ＨＥＬＯＳ装置を使用して、粒子径分布を静的光散乱法によって決定したが、試料の光学濃度は、５～１０％の範囲であった。
Ｓｙｍｐａｔｅｃ ＨＥＬＯＳ装置を使用して、粒子径分布を静的光散乱法によって決定したが、試料の光学濃度は、５～１０％の範囲であった。
【0132】
参照例２:ＢＥＴ比表面積の測定
ＢＥＴ比表面積を、ＤＩＮ６６１３１又はＤＩＮ ＩＳＯ９２７７に従い、液体窒素を使用して測定した。
ＢＥＴ比表面積を、ＤＩＮ６６１３１又はＤＩＮ ＩＳＯ９２７７に従い、液体窒素を使用して測定した。
【0133】
参照例３:共通の被覆方法
流通基材を１つ以上のコーティングで被覆するために、流通基材を与えられた一部分のスラリー中に、基材の特定の長さだけ垂直に浸漬した。この方法で、ウォッシュコートが流通基材の壁と接触した。試料を特定の期間、通常１～１０秒スラリー中に維持した。スラリーを基材中に引き込むために、真空状態を施した。次に基材をスラリーから取り出し、そして反転させ、過剰なスラリーを基材から流出させ、そして次に圧縮空気を（スラリーが侵入する方向に対して）吹きかけることによって除去した。
流通基材を１つ以上のコーティングで被覆するために、流通基材を与えられた一部分のスラリー中に、基材の特定の長さだけ垂直に浸漬した。この方法で、ウォッシュコートが流通基材の壁と接触した。試料を特定の期間、通常１～１０秒スラリー中に維持した。スラリーを基材中に引き込むために、真空状態を施した。次に基材をスラリーから取り出し、そして反転させ、過剰なスラリーを基材から流出させ、そして次に圧縮空気を（スラリーが侵入する方向に対して）吹きかけることによって除去した。
【0134】
実施例１：バナジウムベースのＳＣＲ触媒（二重のバナジウム源）
固体含有量が１１質量％の水性シュウ酸塩バナジウム（バナジウムオキサレート）混合物を蒸留水に加え、混合物の最終的な固体含有量を３質量％とした。使用したシュウ酸塩バナジウム混合物の量は、（シュウ酸塩バナジウムからの）バナジウム酸化物が、Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼した後の触媒中に、コーティングの１％の最終的な積載量の積載で存在するように計算した。この希釈したシュウ酸塩バナジウム混合物に、チタニア粉（ＴｉＯ２９０質量％及び１０質量％のＷＯ３、ＢＥＴ表面積が９０ｍ２／ｇ、Ｄｖ９０が２～８．６マイクロメーター）を加え、か焼後の触媒中のチタニア＋タングステン酸化物の最終的な積載量を３．８８ｇ／ｉｎ３とした。
固体含有量が１１質量％の水性シュウ酸塩バナジウム（バナジウムオキサレート）混合物を蒸留水に加え、混合物の最終的な固体含有量を３質量％とした。使用したシュウ酸塩バナジウム混合物の量は、（シュウ酸塩バナジウムからの）バナジウム酸化物が、Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼した後の触媒中に、コーティングの１％の最終的な積載量の積載で存在するように計算した。この希釈したシュウ酸塩バナジウム混合物に、チタニア粉（ＴｉＯ２９０質量％及び１０質量％のＷＯ３、ＢＥＴ表面積が９０ｍ２／ｇ、Ｄｖ９０が２～８．６マイクロメーター）を加え、か焼後の触媒中のチタニア＋タングステン酸化物の最終的な積載量を３．８８ｇ／ｉｎ３とした。
【0135】
更に、固体含有量が３９質量％及びｐＨが８の有機分散剤（アクリルポリマー）混合物を混合物中に加えた。分散剤混合物の量は、か焼後の触媒中のコーティングの合計質量の５質量％として計算された。得られた混合物を数分間にわたり攪拌し、及び水酸化アンモニウムを加えることによってｐＨを約７．０に調整した。更に、固体含有量が４５．３質量％のスラリーを得るために、蒸留水を加えた。
【0136】
スラリーを５分間混合した後、鉄バナジウム酸塩（Ｆｅ：Ｖのモル比が１：１のＦｅＶＯ４）粉をスラリーに加えた。使用した鉄バナジウム酸塩の量は、（鉄バナジウム酸塩からの）バナジウムが、Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼後の触媒中のコーティングの、４％の最終積載の積載量で存在するように計算された（ＦｅＶＯ４の積載量は、か焼後の触媒中コーティングの最終積載量の８．３９％であった）。その後、水性コロイド状シリカ（固体含有量４０質量％）を、か焼後の触媒中の最終的なＳｉＯ２積載量が０．１９ｇ／ｉｎ３になる量で蒸留水と一緒にスラリーに加え、最終的なスラリー固体含有量を４３質量％とした。
【0137】
参照例３に記載した方法に従う未被覆のハニカムコージライトモノリス基材（直径：２６．６７ｃｍ（１０．５インチ）×長さ：１５．２４ｃｍ（６インチ）シリンダー形状基材であって、１平方センチメートル当たり、４００／（２．５４）２のセルを有し、及び０．１ミリメートル（４ｍｉｌ）の壁厚を有するもの）の全長に亘って、最終的なスラリーの一部分を配置した。被覆した基材を１１０℃～１３０℃の温度で合計３０分間、段階的に乾燥し（８０％までの水を除去）、及び空気中で４時間か焼し、か焼中約３０分は４５０℃であった。最終的なスラリーの残りの部分を、被覆した基材の全長に亘って配置し、１１０℃～１３０℃の温度で合計３０分間、段階的に乾燥し（８０％までの水を除去）、及び空気中で４時間か焼し、か焼中約３０分は４５０℃であったが、触媒中のコーティングの最終積載量は４．５ｇ／ｉｎ３で、これは３．８８ｇ／ｉｎ３のチタニア＋タングステン酸化物、０．０４５ｇ／ｉｎ３のバナジウム（シュウ酸塩バナジウムからのＶ２Ｏ５として計算）０．３７７ｇ／ｉｎ３のＦｅＶＯ４（Ｖ２Ｏ５として計算した０．１８ｇ／ｉｎ３のバナジウム）、０．１９ｇ／ｉｎ３のＳｉＯ２を含んでいた。
【0138】
比較例１： バナジウムベースのＳＣＲ触媒（単一バナジウム源）
固体成分が３９質量％及びｐＨが８の有機分散剤（アクリルポリマー）混合物を、蒸留水に加え、そして５分間混合した。分散剤混合物の量はか焼後の触媒中のコーティングの合計質量の５質量％として計算された。その後、チタニア粉（ＴｉＯ２９０質量％及び１０質量％のＷＯ３、ＢＥＴ表面積が９０ｍ２／ｇ、Ｄｖ９０が２～８．６マイクロメーター）を混合物に加え、スラリーを形成するのに、か焼後の触媒中のチタニア＋タングステン酸化物の最終的な積載量を３．８４ｇ／ｉｎ３とした。スラリーを更に数分間にわたり攪拌し、及び水酸化アンモニウム溶液を加えることによってｐＨを約７．０に調整した。一旦ｐＨが約７になった時、鉄バナジウム酸塩（Ｆｅ：Ｖのモル比が１：１のＦｅＶＯ４）粉をスラリーに加えた。使用した鉄バナジウム酸塩(iron vanadate)の量は、（鉄バナジウム酸塩からの）バナジウム酸化物が、Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼後の触媒中のコーティングの、５％の最終積載の積載量で存在するように計算された（ＦｅＶＯ４の積載量は、か焼後の触媒中コーティングの最終積載量の１０．４８％であった）。
固体成分が３９質量％及びｐＨが８の有機分散剤（アクリルポリマー）混合物を、蒸留水に加え、そして５分間混合した。分散剤混合物の量はか焼後の触媒中のコーティングの合計質量の５質量％として計算された。その後、チタニア粉（ＴｉＯ２９０質量％及び１０質量％のＷＯ３、ＢＥＴ表面積が９０ｍ２／ｇ、Ｄｖ９０が２～８．６マイクロメーター）を混合物に加え、スラリーを形成するのに、か焼後の触媒中のチタニア＋タングステン酸化物の最終的な積載量を３．８４ｇ／ｉｎ３とした。スラリーを更に数分間にわたり攪拌し、及び水酸化アンモニウム溶液を加えることによってｐＨを約７．０に調整した。一旦ｐＨが約７になった時、鉄バナジウム酸塩（Ｆｅ：Ｖのモル比が１：１のＦｅＶＯ４）粉をスラリーに加えた。使用した鉄バナジウム酸塩(iron vanadate)の量は、（鉄バナジウム酸塩からの）バナジウム酸化物が、Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼後の触媒中のコーティングの、５％の最終積載の積載量で存在するように計算された（ＦｅＶＯ４の積載量は、か焼後の触媒中コーティングの最終積載量の１０．４８％であった）。
【0139】
その後、最終的なＳｉＯ２積載量が、か焼後の触媒中の最終的なチタニア＋タングステン酸化物積載量の５％となるように、水性コロイド状シリカ（固体含有量４０質量％）を追加的な蒸留水と一緒にスラリーに加え、４３質量％の最終的なスラリー固体含有量を得た。ｐＨをチェックし、及び水酸化アンモニウム溶液を加えることによって７．０に再調整した。
【0140】
参照例３に記載した方法に従う未被覆のハニカムコージライトモノリス基材（直径：２６．６７ｃｍ（１０．５インチ）×長さ：１５．２４ｃｍ（６インチ）シリンダー形状基材であって、１平方センチメートル当たり、４００／（２．５４）２のセルを有し、及び０．１０ミリメートル（４ｍｉｌ）の壁厚を有するもの）の全長に亘って、最終的なスラリーの一部分を配置した。被覆した基材を１１０℃～１３０℃の温度で合計３０分間、段階的に乾燥し（８０％までの水を除去）、及び空気中で４時間か焼し、か焼中約３０分は４５０℃であった。最終的なスラリーの残りの部分を、被覆した基材の全長に亘って配置し、１１０℃～１３０℃の温度で合計３０分間、段階的に乾燥し（８０％までの水を除去）、及び空気中で４時間か焼し、か焼中約３０分は４５０℃であったが、コーティングの最終積載量は４．５ｇ／ｉｎ３で、これは３．８４ｇ／ｉｎ３のチタニア＋タングステン酸化物、０．４７ｇ／ｉｎ３のＦｅＶＯ４、０．１９ｇ／ｉｎ３のＳｉＯ２を含んでいた。
【0141】
比較例２： バナジウムベースのＳＣＲ触媒（単一バナジウム源）
比較例２の触媒を、比較例１の触媒のように調製したが、異なる点は、鉄バナジウム酸塩の量は、ＦｅＶＯ４の積載量が、か焼後の触媒中、コーティングの最終的な積載量の８．３８％であるように計算されたことである（Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼後の触媒中のコーティングの最終的な積載量の４％の（鉄バナジウム酸塩からの）バナジウム積載量を含む）。従って、か焼後の触媒中のコーティングの最終的な積載量は、４．５ｇ／ｉｎ３で、これは３．９３ｇ／ｉｎ３のチタニア＋タングステン酸化物、０．３８ｇ／ｉｎ３のＦｅＶＯ４、０．１９６ｇ／ｉｎ３のＳｉＯ２を含んでいた。
比較例２の触媒を、比較例１の触媒のように調製したが、異なる点は、鉄バナジウム酸塩の量は、ＦｅＶＯ４の積載量が、か焼後の触媒中、コーティングの最終的な積載量の８．３８％であるように計算されたことである（Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼後の触媒中のコーティングの最終的な積載量の４％の（鉄バナジウム酸塩からの）バナジウム積載量を含む）。従って、か焼後の触媒中のコーティングの最終的な積載量は、４．５ｇ／ｉｎ３で、これは３．９３ｇ／ｉｎ３のチタニア＋タングステン酸化物、０．３８ｇ／ｉｎ３のＦｅＶＯ４、０．１９６ｇ／ｉｎ３のＳｉＯ２を含んでいた。
【0142】
比較例３： バナジウムベースのＳＣＲ触媒（単一バナジウム源）
比較例３の触媒を、比較例１の触媒のように調製したが、異なる点は、鉄バナジウム酸塩の量は、ＦｅＶＯ４の積載量が、か焼後の触媒中、コーティングの最終的な積載量の１２．５８％であるように計算されたことであり（Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼後の触媒中のコーティングの最終的な積載量の６％の（鉄バナジウム酸塩からの）バナジウム積載量を含む）、及び使用された水性コロイド状シリカは、最終的なＳｉＯ２積載量が、か焼後の触媒中で７．５％のチタニア＋タングステン酸化物積載量を示すように加えられたことである。従って、か焼後の触媒中のコーティングの最終的な積載量は、４．５ｇ／ｉｎ３で、これは３．６６ｇ／ｉｎ３のチタニア＋タングステン酸化物、０．５７ｇ／ｉｎ３のＦｅＶＯ４、０．２７ｇ／ｉｎ３のＳｉＯ２を含んでいた。
比較例３の触媒を、比較例１の触媒のように調製したが、異なる点は、鉄バナジウム酸塩の量は、ＦｅＶＯ４の積載量が、か焼後の触媒中、コーティングの最終的な積載量の１２．５８％であるように計算されたことであり（Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼後の触媒中のコーティングの最終的な積載量の６％の（鉄バナジウム酸塩からの）バナジウム積載量を含む）、及び使用された水性コロイド状シリカは、最終的なＳｉＯ２積載量が、か焼後の触媒中で７．５％のチタニア＋タングステン酸化物積載量を示すように加えられたことである。従って、か焼後の触媒中のコーティングの最終的な積載量は、４．５ｇ／ｉｎ３で、これは３．６６ｇ／ｉｎ３のチタニア＋タングステン酸化物、０．５７ｇ／ｉｎ３のＦｅＶＯ４、０．２７ｇ／ｉｎ３のＳｉＯ２を含んでいた。
【0143】
実施例２： 実施例１の触媒、及び比較例１～３の触媒の使用－脱ＮＯｘ
実施例１の触媒、及び比較例１～３の触媒のＮＯｘ変換における性能を、新鮮な状態、及びエイジした条件（オーブン中、５５０℃で５０時間エイジング）下で、種々の温度、すなわち２００、２４０、３７５、４５０及び５００℃で測定した（ガス時空速度（ＧＨＳＶ）：２００、２４０、３７５、４５０℃で４００００ｈ－１、及びＧＨＳＶ：５００℃で８００００ｈ－１）。試験の間、アドブルー溶液(ad-blue solution)（ＩＳＯ２２２４１に記載された３２．５％ウレア及び６７．５％脱イオン水の混合物）を、完全な混合及び均一な分布を流れ全体にわたって確保するのに十分なＳＣＲ触媒の上流側で、排ガス中に投入した。投入したアドブルーの量は、得られたＮＨ３モル流対計算したＮＯｘモル流の標準化した理論混合比（ＮＳＲ）に基づいて計算した。アドブルーの投入は、０．０から出発して、ＳＣＲ触媒入口温度に基づき、段階的に調節した。５００℃で、ＮＳＲを０．０～１．０～１．１に調節した。４５０℃、３７５℃、及び２４０℃で、ＮＳＲを０．０～０．４～０．６～０．８～１．０～１．１に調節した。２００℃で、ＮＳＲを０．０～０．８～１．０～１．１に調節した。全ての場合において、次のロードポイント／温度に運ぶ前に、触媒をＮＨ３でパージした。最大脱ＮＯｘ値を以下の表１に示す。
実施例１の触媒、及び比較例１～３の触媒のＮＯｘ変換における性能を、新鮮な状態、及びエイジした条件（オーブン中、５５０℃で５０時間エイジング）下で、種々の温度、すなわち２００、２４０、３７５、４５０及び５００℃で測定した（ガス時空速度（ＧＨＳＶ）：２００、２４０、３７５、４５０℃で４００００ｈ－１、及びＧＨＳＶ：５００℃で８００００ｈ－１）。試験の間、アドブルー溶液(ad-blue solution)（ＩＳＯ２２２４１に記載された３２．５％ウレア及び６７．５％脱イオン水の混合物）を、完全な混合及び均一な分布を流れ全体にわたって確保するのに十分なＳＣＲ触媒の上流側で、排ガス中に投入した。投入したアドブルーの量は、得られたＮＨ３モル流対計算したＮＯｘモル流の標準化した理論混合比（ＮＳＲ）に基づいて計算した。アドブルーの投入は、０．０から出発して、ＳＣＲ触媒入口温度に基づき、段階的に調節した。５００℃で、ＮＳＲを０．０～１．０～１．１に調節した。４５０℃、３７５℃、及び２４０℃で、ＮＳＲを０．０～０．４～０．６～０．８～１．０～１．１に調節した。２００℃で、ＮＳＲを０．０～０．８～１．０～１．１に調節した。全ての場合において、次のロードポイント／温度に運ぶ前に、触媒をＮＨ３でパージした。最大脱ＮＯｘ値を以下の表１に示す。
【0144】
【表1】
【0145】
表１から理解されるように、実施例１の触媒（二重源－５％バナジウム）は、低温で、２００及び２４０℃で、新鮮な状態、及びエイジした条件下で、比較例１の触媒（単一源－４％バナジウム）と比較して、比較例２の触媒（単一源－５％バナジウム）と比較して、及び比較例３の触媒（単一源－６％バナジウム）と比較して、改良されたＮＯｘ変換を示した。更に、実施例１の触媒は、新鮮な状態、及びエイジした条件下で、より高い温度で良好なＮＯｘ変換（８２～９８％）を示し、上記性能は、従来技術を代表する比較例の触媒の性能に相当するものであった。従って、この実施例は、バナジウムの二重源を有するバナジウム含有選択的触媒還元触媒は、低温脱ＮＯｘの増加を可能にし、この一方で、高温すなわち、５００℃以下での優れた性能を維持することを実証している。この実施例は更に、本発明の触媒は、従来技術を代表する触媒（比較例１～３）と比較して、改良された熱的安定性を有していることを実証している。
【0146】
実施例３：バナジウムベースのＳＣＲ触媒（二重のバナジウム源）
固体含有量が１１質量％の水性シュウ酸塩バナジウム（バナジウムオキサレート）混合物を蒸留水に加え、混合物の最終的な固体含有量を３質量％とした。使用したシュウ酸塩バナジウムの量は、（シュウ酸塩バナジウムからの）バナジウム酸化物が、Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼した後の触媒中に、コーティングの２％の最終的な積載量の積載で存在するように計算した。このシュウ酸塩バナジウム混合物に、チタニア粉（ＴｉＯ２９０質量％及び１０質量％のＷＯ３、ＢＥＴ表面積が９０ｍ２／ｇ、Ｄｖ９０が２～８．６マイクロメーター）を加え、か焼後の触媒中のチタニア＋タングステン酸化物の最終的な積載量を３．８４ｇ／ｉｎ３とした。
固体含有量が１１質量％の水性シュウ酸塩バナジウム（バナジウムオキサレート）混合物を蒸留水に加え、混合物の最終的な固体含有量を３質量％とした。使用したシュウ酸塩バナジウムの量は、（シュウ酸塩バナジウムからの）バナジウム酸化物が、Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼した後の触媒中に、コーティングの２％の最終的な積載量の積載で存在するように計算した。このシュウ酸塩バナジウム混合物に、チタニア粉（ＴｉＯ２９０質量％及び１０質量％のＷＯ３、ＢＥＴ表面積が９０ｍ２／ｇ、Ｄｖ９０が２～８．６マイクロメーター）を加え、か焼後の触媒中のチタニア＋タングステン酸化物の最終的な積載量を３．８４ｇ／ｉｎ３とした。
【0147】
更に、固体含有量が３９質量％及びｐＨが８の有機分散剤（アクリルポリマー）混合物を混合物中に加えた。分散剤混合物の量は、か焼後の触媒中のコーティングの合計質量の５質量％として計算された。得られた混合物を数分間にわたり攪拌し、及び水酸化アンモニウム溶液を加えることによってｐＨを約７．０に調整した。更に、固体含有量が４５．３質量％のスラリーを得るために、蒸留水を加えた。
【0148】
スラリーを５分間混合した後、鉄バナジウム酸塩（Ｆｅ：Ｖのモル比が１：１のＦｅＶＯ４）粉をスラリーに加えた。使用した鉄バナジウム酸塩の量は、（鉄バナジウム酸塩からの）バナジウムが、Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼後の触媒中のコーティングの、４％の最終積載の積載量で存在するように計算された（ＦｅＶＯ４の積載量は、か焼後の触媒中コーティングの最終積載量の８．３９％であった）。その後、水性コロイド状シリカ（固体含有量４０質量％）を、触媒中のか焼後の最終的なＳｉＯ２積載量が０．１９ｇ／ｉｎ３になる量で追加的な蒸留水と一緒にスラリーに加え、最終的なスラリー固体含有量を４３質量％とした。
【0149】
参照例３に記載した方法に従う未被覆のハニカムコージライトモノリス基材（直径：２６．６７ｃｍ（１０．５インチ）×長さ：１５．２４ｃｍ（６インチ）シリンダー形状基材であって、１平方センチメートル当たり、４００／（２．５４）２のセルを有し、及び０．１０ミリメートル（４ｍｉｌ）の壁厚を有するもの）の全長に亘って、最終的なスラリーの一部分を配置した。被覆した基材を１１０℃～１３０℃の温度で合計３０分間、段階的に乾燥し（８０％までの水を除去）、及び空気中で４時間か焼し、か焼中約３０分は４５０℃であった。最終的なスラリーの残りの部分を、被覆した基材の全長に亘って配置し、１１０℃～１３０℃の温度で合計３０分間、段階的に乾燥し（８０％までの水を除去）、及び空気中で４時間か焼し、か焼中約３０分は４５０℃であったが、触媒中のコーティングの最終積載量は４．５ｇ／ｉｎ３で、これは３．８４ｇ／ｉｎ３のチタニア＋タングステン酸化物、０．０９ｇ／ｉｎ３のバナジウム（シュウ酸塩バナジウムからのＶ２Ｏ５として計算）０．３８ｇ／ｉｎ３のＦｅＶＯ４（Ｖ２Ｏ５として計算した０．１８ｇ／ｉｎ３のバナジウムを含む）、０．１９ｇ／ｉｎ３のＳｉＯ２を含んでいた。
【0150】
実施例４：バナジウムベースのＳＣＲ触媒（二重のバナジウム源）
固体含有量が１１質量％の水性シュウ酸塩バナジウム混合物を蒸留水に加え、混合物の最終的な固体含有量を３．０質量％とした。使用したシュウ酸塩バナジウムの量は、（シュウ酸塩バナジウムからの）バナジウム酸化物が、Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼した後の触媒中に、コーティングの２．５％の最終的な積載量の積載で存在するように計算した。この希釈したシュウ酸塩バナジウム混合物に、チタニア粉（ＴｉＯ２９０質量％及び１０質量％のＷＯ３、ＢＥＴ表面積が９０ｍ２／ｇ、Ｄｖ９０が２～８．６マイクロメーター）を加え、か焼後の触媒中のチタニア＋タングステン酸化物の最終的な積載量を４．０ｇ／ｉｎ３とした。
固体含有量が１１質量％の水性シュウ酸塩バナジウム混合物を蒸留水に加え、混合物の最終的な固体含有量を３．０質量％とした。使用したシュウ酸塩バナジウムの量は、（シュウ酸塩バナジウムからの）バナジウム酸化物が、Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼した後の触媒中に、コーティングの２．５％の最終的な積載量の積載で存在するように計算した。この希釈したシュウ酸塩バナジウム混合物に、チタニア粉（ＴｉＯ２９０質量％及び１０質量％のＷＯ３、ＢＥＴ表面積が９０ｍ２／ｇ、Ｄｖ９０が２～８．６マイクロメーター）を加え、か焼後の触媒中のチタニア＋タングステン酸化物の最終的な積載量を４．０ｇ／ｉｎ３とした。
【0151】
更に、固体含有量が３９質量％及びｐＨが８のアクリルベースの有機分散剤（アクリルポリマー）混合物を混合物中に加えた。分散剤混合物の量は、か焼後の触媒中のコーティングの最終積載量の５質量％として計算された。得られた混合物を数分間にわたり攪拌し、及び水酸化アンモニウム溶液を加えることによってｐＨを約７．０に調整した。更に、固体含有量が４５質量％のスラリーを得るために、蒸留水を加えた。
【0152】
スラリーを５分間混合した後、鉄バナジウム酸塩（Ｆｅ：Ｖのモル比が１：１のＦｅＶＯ４）粉をスラリーに加えた。使用した鉄バナジウム酸塩の量は、（鉄バナジウム酸塩からの）バナジウムが、Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼後の触媒中のコーティングの、２％の最終積載の積載量で存在するように計算された（ＦｅＶＯ４の積載量は、か焼後の触媒中コーティングの最終積載量の４．１９％であった）。その後、水性コロイド状シリカ（固体含有量４０質量％）を、触媒中のか焼後の最終的なＳｉＯ２積載量が０．２ｇ／ｉｎ３になる量で追加的な蒸留水と一緒にスラリーに加え、最終的なスラリー固体含有量を４３質量％とした。
【0153】
参照例３に記載した方法に従う未被覆のハニカムコージライトモノリス基材（直径：２６．６７ｃｍ（１０．５インチ）×長さ：１５．２４ｃｍ（６インチ）シリンダー形状基材であって、１平方センチメートル当たり、４００／（２．５４）２のセルを有し、及び０．１０ミリメートル（４ｍｉｌ）の壁厚を有するもの）の全長に亘って、最終的なスラリーの一部分を配置した。被覆した基材を１１０℃～１３０℃の温度で合計３０分間、段階的に乾燥し（８０％までの水を除去）、及び空気中で４時間か焼し、か焼中約３０分は４５０℃であった。最終的なスラリーの残りの部分を、被覆した基材の全長に亘って配置し、１１０℃～１３０℃の温度で合計３０分間、段階的に乾燥し（８０％までの水を除去）、及び空気中で４時間か焼し、か焼中約３０分は４５０℃であったが、触媒中のコーティングの最終積載量は４．５ｇ／ｉｎ３で、これは４．００ｇ／ｉｎ３のチタニア＋タングステン酸化物、０．１１ｇ／ｉｎ３のバナジウム（シュウ酸塩バナジウムからのＶ２Ｏ５として計算）、０．１９ｇ／ｉｎ３のＦｅＶＯ４（Ｖ２Ｏ５として計算した０．０９ｇ／ｉｎ３のバナジウムを含む）、０．２ｇ／ｉｎ３のＳｉＯ２を含んでいた。
【0154】
比較例４：本発明に従うものではないバナジウムベースのＳＣＲ触媒（単一バナジウム源）
固体含有量が１１質量％の水性シュウ酸塩バナジウム混合物を蒸留水に加え、混合物の最終的な固体含有量を３．１質量％とした。使用したシュウ酸塩バナジウムの量は、バナジウム酸化物が、Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼した後の触媒中に、４％の最終的なコーティング積載量の積載で存在するように計算した。固体含有量が３９質量％、及びｐＨが８のアクリルベースの有機分散剤（アクリルポリマー）混合物を加え、混合物とした。分散剤混合物の量は、か焼した後の触媒中コーティングの合計質量の５質量％として計算した。
固体含有量が１１質量％の水性シュウ酸塩バナジウム混合物を蒸留水に加え、混合物の最終的な固体含有量を３．１質量％とした。使用したシュウ酸塩バナジウムの量は、バナジウム酸化物が、Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼した後の触媒中に、４％の最終的なコーティング積載量の積載で存在するように計算した。固体含有量が３９質量％、及びｐＨが８のアクリルベースの有機分散剤（アクリルポリマー）混合物を加え、混合物とした。分散剤混合物の量は、か焼した後の触媒中コーティングの合計質量の５質量％として計算した。
【0155】
チタニア粉（ＴｉＯ２８７質量％及び８質量％のＷＯ３及び５質量％のＳｉＯ２、ＢＥＴ表面積が８５ｍ２／ｇ、Ｄｖ９０が２．５マイクロメーター）を得られた混合物に加え、スラリーを形成した。か焼後の触媒中のチタニア＋タングステン酸化物＋シリカの最終的な積載量は、４．１１ｇ／ｉｎ３であった。スラリーのｐＨを、水酸化アンモニウム溶液を使用して約７．０に調整した。追加的な蒸留水を加え、スラリーの固体含有量を４０．６質量％にした。第２の有機ベースの分散剤（有機ポリマー）混合物をスラリーに加えたが、このものは固体含有量が３１質量％であった。この第２の分散剤混合物を、３．２２質量％の触媒の合計での最終的な固体積載量で加えた。最後に、水性コロイド状シリカ（固体含有量４０質量％）を、追加的な蒸留水と一緒にスラリーに加え、最終的なスラリー固体含有量を３９質量％とした。使用したコロイド状シリカの量は、（コロイド状シリカからの）最終的なＳｉＯ２積載量が、か焼後の触媒中のチタニア＋タングステン酸化物＋シリカの最終的な積載量の５％であるように計算された。得られたスラリーの水性相のｐＨをチェックし、及び水酸化アンモニウムを加えることによって、約７のｐＨに調節した。
【0156】
参照例３に記載した方法に従う未被覆のハニカムコージライトモノリス基材（直径：２６．６７ｃｍ（１０．５インチ）×長さ：１５．２４ｃｍ（６インチ）シリンダー形状基材であって、１平方センチメートル当たり、４００／（２．５４）２のセルを有し、及び０．１０ミリメートル（４ｍｉｌ）の壁厚を有するもの）の全長に亘って、最終的なスラリーの一部分を配置した。被覆した基材を１１０℃～１３０℃の温度で合計３０分間、段階的に乾燥し（８０％までの水を除去）、及び空気中で４時間か焼し、か焼中約３０分は４５０℃であった。最終的なスラリーの残りの部分を、被覆した基材の全長に亘って配置し、１１０℃～１３０℃の温度で合計３０分間、段階的に乾燥し（８０％までの水を除去）、及び空気中で４時間か焼し、か焼中約３０分は４５０℃であったが、触媒中のコーティングの最終積載量は４．５ｇ／ｉｎ３で、これは４．１１ｇ／ｉｎ３のチタニア担持ＷＯ３及びＳｉＯ２、０．１８ｇ／ｉｎ３のバナジウム（Ｖ２Ｏ５として計算）、０．２１ｇ／ｉｎ３のＳｉＯ２（コロイド状シリカからのもの）を含んでいた。
【0157】
実施例５：バナジウムベースのＳＣＲ触媒（二重のバナジウム源）
固体含有量が１１質量％の水性シュウ酸塩バナジウム溶液を蒸留水に加え、混合物の最終的な固体含有量を３質量％とした。使用したシュウ酸塩バナジウムの量は、（シュウ酸塩バナジウムからの）バナジウム酸化物が、Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼した後の触媒中に、コーティングの２．５％の最終的な積載量の積載で存在するように計算した。この希釈したシュウ酸塩バナジウム混合物に、チタニア粉（ＴｉＯ２８７質量％及び８質量％のＷＯ３及び５質量％のＳｉＯ２、ＢＥＴ表面積が８５ｍ２／ｇ、Ｄｖ９０が２．５マイクロメーター）を加え、か焼後の触媒中のチタニア＋タングステン酸化物＋シリカの最終的な積載量を３．８２ｇ／ｉｎ３とした。
固体含有量が１１質量％の水性シュウ酸塩バナジウム溶液を蒸留水に加え、混合物の最終的な固体含有量を３質量％とした。使用したシュウ酸塩バナジウムの量は、（シュウ酸塩バナジウムからの）バナジウム酸化物が、Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼した後の触媒中に、コーティングの２．５％の最終的な積載量の積載で存在するように計算した。この希釈したシュウ酸塩バナジウム混合物に、チタニア粉（ＴｉＯ２８７質量％及び８質量％のＷＯ３及び５質量％のＳｉＯ２、ＢＥＴ表面積が８５ｍ２／ｇ、Ｄｖ９０が２．５マイクロメーター）を加え、か焼後の触媒中のチタニア＋タングステン酸化物＋シリカの最終的な積載量を３．８２ｇ／ｉｎ３とした。
【0158】
更に、固体含有量が３９質量％のアクリルベースの有機分散剤（アクリルポリマー）混合物を得られた混合物中に加えた。分散剤混合物の量は、か焼後の触媒中のコーティングの合計質量の５質量％として計算された。得られた混合物を数分間にわたり攪拌し、及び水酸化アンモニウム溶液を加えることによってｐＨを約７．０に調整した。更に、固体含有量が４０．４質量％のスラリーを得るために、蒸留水を加えた。
【0159】
スラリーを５分間混合した後、鉄バナジウム酸塩（Ｆｅ：Ｖのモル比が１：１のＦｅＶＯ４）粉をスラリーに加えた。使用した鉄バナジウム酸塩の量は、（鉄バナジウム酸塩からの）バナジウムが、Ｖ２Ｏ５として計算して、か焼後の触媒中のコーティングの、４％の最終積載の積載量で存在するように計算された（ＦｅＶＯ４の積載量は、ＦｅＶＯ４として計算して、か焼後の触媒中コーティングの最終積載量の８．３９％であった）。その後、水性コロイド状シリカ（固体含有量４０質量％）を、触媒中のか焼後の（コロイド状シリカからの）最終的なＳｉＯ２積載量が０．１９ｇ／ｉｎ３になる量で、追加的な蒸留水と一緒にスラリーに加え、最終的なスラリー固体含有量を４０質量％とした。
【0160】
参照例３に記載した方法に従う未被覆のハニカムコージライトモノリス基材（直径：２６．６７ｃｍ（１０．５インチ）×長さ：１５．２４ｃｍ（６インチ）シリンダー形状基材であって、１平方センチメートル当たり、４００／（２．５４）２のセルを有し、及び０．１０ミリメートル（４ｍｉｌ）の壁厚を有するもの）の全長に亘って、最終的なスラリーの一部分を配置した。被覆した基材を１１０℃～１３０℃の温度で合計３０分間、段階的に乾燥し（８０％までの水を除去）、及び空気中で４時間か焼し、か焼中約３０分は４５０℃であったが、触媒中のコーティングの最終積載量は４．５ｇ／ｉｎ３で、これは３．８２ｇ／ｉｎ３のチタニア＋タングステン酸化物＋シリカ、０．１１ｇ／ｉｎ３のバナジウム（シュウ酸塩バナジウムからのＶ２Ｏ５として計算）、０．３８ｇ／ｉｎ３のＦｅＶＯ４（Ｖ２Ｏ５として計算した０．１８ｇ／ｉｎ３のバナジウムを含む）、０．１９ｇ／ｉｎ３のＳｉＯ２（コロイド状シリカからのもの）を含んでいた。
【0161】
実施例６ 実施例３及び４の触媒及び比較例２、３及び４の触媒の使用－脱ＮＯｘ
実施例３及び４及び比較例２、３及び４の新鮮（フレッシュ）な触媒のＮＯｘ変換における性能を異なる温度、すなわち２００、２４０、３７５、４５０及び５００℃で測定した（ガス時空速度（ＧＨＳＶ）：２００、２４０、３７５及び４５０℃で４００００ｈ－１、及びＧＨＳＶ：５００℃で８００００ｈ－１）。試験の間、アドブルー溶液（ＩＳＯ２２２４１に記載された３２．５％ウレア及び６７．５％脱イオン水の混合物）を、完全な混合及び均一な分布を流れ全体にわたって確保するのに十分なＳＣＲ触媒の上流側で、排ガス中に投入した。投入したアドブルーの量は、得られたＮＨ３モル流対計算したＮＯｘモル流の標準化した理論混合比（ＮＳＲ）に基づいて計算した。アドブルーの投入は、０．０から出発して、ＳＣＲ触媒入口温度に基づき、段階的に調節した。５００℃で、ＮＳＲを０．０～１．０～１．１に調節した。４５０℃、３７５℃、及び２４０℃で、ＮＳＲを０．０～０．４～０．６～０．８～１．０～１．１に調節した。２００℃で、ＮＳＲを０．０～０．８～１．０～１．１に調節した。全ての場合において、次のロードポイント／温度に運ぶ前に、触媒をＮＨ３でパージした。最大脱ＮＯｘ値のみを以下の表２に示す。
実施例３及び４及び比較例２、３及び４の新鮮（フレッシュ）な触媒のＮＯｘ変換における性能を異なる温度、すなわち２００、２４０、３７５、４５０及び５００℃で測定した（ガス時空速度（ＧＨＳＶ）：２００、２４０、３７５及び４５０℃で４００００ｈ－１、及びＧＨＳＶ：５００℃で８００００ｈ－１）。試験の間、アドブルー溶液（ＩＳＯ２２２４１に記載された３２．５％ウレア及び６７．５％脱イオン水の混合物）を、完全な混合及び均一な分布を流れ全体にわたって確保するのに十分なＳＣＲ触媒の上流側で、排ガス中に投入した。投入したアドブルーの量は、得られたＮＨ３モル流対計算したＮＯｘモル流の標準化した理論混合比（ＮＳＲ）に基づいて計算した。アドブルーの投入は、０．０から出発して、ＳＣＲ触媒入口温度に基づき、段階的に調節した。５００℃で、ＮＳＲを０．０～１．０～１．１に調節した。４５０℃、３７５℃、及び２４０℃で、ＮＳＲを０．０～０．４～０．６～０．８～１．０～１．１に調節した。２００℃で、ＮＳＲを０．０～０．８～１．０～１．１に調節した。全ての場合において、次のロードポイント／温度に運ぶ前に、触媒をＮＨ３でパージした。最大脱ＮＯｘ値のみを以下の表２に示す。
【0162】
【表2】
【0163】
表１から理解されるように、比較例２（単一バナジウム源－５％バナジウム酸化物）、比較例３（単一バナジウム源－６％バナジウム酸化物）及び比較例４（単一バナジウム源－４％バナジウム酸化物）の触媒と比較して、実施例３の触媒（二重バナジウム源－６％バナジウム酸化物）及び実施例４の触媒（二重バナジウム源－４．５％バナジウム酸化物）は、低温、２００及び２４０℃での改良されたＮＯｘ変換を示す。更に、実施例３及び４の触媒は、良好なＮＯｘ変換（８９～９８％）を示し、上記性能は、従来技術を代表する比較例の触媒のものに匹敵するか、それ以上であった。従って、この実施例は、バナジウムの二重源を有するバナジウム含有選択触媒還元触媒は、低温での脱ＮＯｘを増加することを可能とする一方で、より高い温度、すなわち５００℃までの温度での優れた性能を維持することを実証している。