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特許7428437密閉箱室の指定流路を有する二層密閉構造及びその密閉方法
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-01-29
(45)【発行日】2024-02-06
(54)【発明の名称】密閉箱室の指定流路を有する二層密閉構造及びその密閉方法
(51)【国際特許分類】
   F24F 7/06 20060101AFI20240130BHJP
   F24F 7/007 20060101ALI20240130BHJP
【FI】
F24F7/06 B
F24F7/007 B
【請求項の数】 4
(21)【出願番号】P 2022567699
(86)(22)【出願日】2020-11-13
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2023-03-14
(86)【国際出願番号】 CN2020128631
(87)【国際公開番号】W WO2021143332
(87)【国際公開日】2021-07-22
【審査請求日】2022-07-13
(31)【優先権主張番号】202010060996.0
(32)【優先日】2020-01-19
(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN
(73)【特許権者】
【識別番号】522281383
【氏名又は名称】フーナン ユニバーシティ
【氏名又は名称原語表記】HUNAN UNIVERSITY
【住所又は居所原語表記】No.1 Lushannan Road, Changsha, Hunan, CHINA
(74)【代理人】
【識別番号】110002952
【氏名又は名称】弁理士法人鷲田国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】ジアン チャオ
(72)【発明者】
【氏名】マオ ジエンチョン
(72)【発明者】
【氏名】リウ ジアン
(72)【発明者】
【氏名】ソン ゾンフア
(72)【発明者】
【氏名】ティエン ワンイー
【審査官】杉山 健一
(56)【参考文献】
【文献】実開昭63-122638(JP,U)
【文献】特開2009-002609(JP,A)
【文献】特許第2636855(JP,B2)
【文献】特開平08-261536(JP,A)
【文献】特開平10-296042(JP,A)
【文献】特開2005-296889(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
F24F 7/06
F24F 7/007
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
密閉ハウジング(1)、循環浄化システム(2)、接続部品(3)、制御・検出装置(4)、気流ガイド構造(5)、及びガス制御構造(6)を含む密閉箱室の指定流路を有する二層密閉構造であって、
前記密閉ハウジング(1)は、八面体であり、八面体の各面には、内層鋼板と外層鋼板があり、内層鋼板と外層鋼板はいずれも、小鋼板で突合せ溶接されてなり、内層密閉ハウジング(11)は内層鋼板からなり、外層密閉ハウジング(12)は外層鋼板からなり、内層密閉ハウジング(11)と外層密閉ハウジング(12)との間の隙間は、ジャケットを形成し、
前記循環浄化システム(2)は、密閉ハウジング(1)の外にあり、内箱体循環浄化システムとジャケット循環浄化システムを含み、内層密閉ハウジング内のガスは、内箱体循環浄化システムを介して循環流動し、ジャケット内のガスは、ジャケット循環浄化システムを介して循環流動し、
接続部品(3)は、内部と外部を接続する接続部品(31)と外部接続部品(32)を含み、内部と外部を接続する接続部品(31)は、内層密閉ハウジング(11)と外層密閉ハウジング(12)を貫通し、それぞれ内層密閉ハウジング(11)と外層密閉ハウジング(12)に固定接続されており、その接続方式は、溶接であり、外部接続部品(32)は、外層密閉ハウジング(12)のみを貫通して外層密閉ハウジング(12)に固定接続されており、その接続方式は、溶接であり、
前記制御・検出装置(4)は、ジャケットガス検出装置(41)、内箱体ガス検出装置(42)、内箱体ガス圧力制御装置(43)及びジャケットガス圧力制御装置(44)を含み、内箱体ガス検出装置(42)と内箱体ガス圧力制御装置(43)は、内層密閉ハウジング(11)の内部に取り付けられ、内箱体ガス検出装置(42)は、内箱体内のガスの温度、濃度、及び圧力を検出し、内箱体ガス圧力制御装置(43)は、内箱体ガス検出装置(42)によって検出されたデータに応じて内箱体のガス圧力を目標値に調整し、それを維持し、ジャケットガス検出装置(41)とジャケットガス圧力制御装置(44)は、ジャケット内に取り付けられ、ジャケットガス検出装置(41)は、ジャケット内のガスの温度、濃度、及び圧力を検出し、ジャケットガス圧力制御装置(44)は、ジャケットガス検出装置(41)によって検出されたデータに応じてジャケットのガス圧力を目標値に調整し、それを維持し、
内箱体ガス検出装置(42)と内箱体ガス圧力制御装置(43)から引き出された信号線とケーブルは、内部と外部を接続する接続部品(31)から内層密閉ハウジング(11)と外層密閉ハウジング(12)を通過し、ジャケットガス検出装置(41)とジャケットガス圧力制御装置(44)から引き出された信号線とケーブルは、外部接続部品(31)から外層密閉ハウジング(12)を通過し、
前記気流ガイド構造(5)は、ガスの流動をガイドするために使用され、
前記ガス制御構造(6)は、ガスの流入と流出を制御するために使用され
前記内箱体循環浄化システムは、内箱体吸気口(21)、第1点検口(22)、接続管(23)、第1フローバルブ(24)、第1ファン(25)、第1ガス浄化装置(26)、及び内箱体排気口(27)を含み、内箱体吸気口(21)は、内層密閉ハウジング(11)と外層密閉ハウジング(12)を介して内箱体と連通し、内箱体吸気口(21)は、内層密閉ハウジング(11)に接続されており、内箱体吸気口(21)は、外層密閉ハウジング(12)に接続されており、内箱体排気口(27)は、外層密閉ハウジング(12)と内層密閉ハウジング(11)を通過してジャケットと連通し、内箱体排気口(27)は、内層密閉ハウジング(11)に接続されており、内箱体排気口(27)は、外層密閉ハウジング(12)に接続されており、内箱体吸気口(21)と内箱体排気口(27)は、接続管(23)を介して接続されており、接続管(23)には、第1点検口(22)、第1フローバルブ(24)、第1ファン(25)及び第1ガス浄化装置(26)が取り付けられ、
前記ジャケット循環浄化システムは、ジャケット吸気口(28)、第2点検口(29)、接続管(23)、第2フローバルブ(210)、第2ファン(211)、第2ガス浄化装置(212)、及びジャケット排気口(213)を含み、ジャケット吸気口(28)は、外層密閉ハウジング(12)を介してのみジャケットと連通し、ジャケット吸気口(28)は、外層密閉ハウジング(12)に接続されており、ジャケット排気口(213)は、外層密閉ハウジング(12)を通過してジャケットと連通し、ジャケット排気口(29)は、外層密閉ハウジングに接続されており、ジャケット吸気口(28)とジャケット排気口(213)の間は、接続管(23)を介して接続されており、接続管(23)には、第2点検口(29)、第2フローバルブ(210)、第2ファン(211)、及び第2ガス浄化装置(212)が取り付けられることを特徴とする、密閉箱室の指定流路を有する二層密閉構造。
【請求項2】
複数のモジュールを接合して密閉箱体の1つの面を形成し、各モジュールには、モジュール出口とモジュール入口があり、気流ガイド構造(5)は、気流ガイド接続板(51)、気流ガイド孔(52)、及び気流ガイド管(53)を含み、気流ガイド接続板(51)は、単一モジュールのジャケット内に取り付けられ、対応するモジュールの内層密閉ハウジングと外層密閉ハウジングを接続し、その接続方式は、溶接であり、気流ガイド孔(52)は、気流ガイド板の特定の位置に開けられ、単一モジュールの指定流路の機能を実現し、気流ガイド管(53)は、2つのモジュールの間に取り付けられることを特徴とする、請求項1に記載の密閉箱室の指定流路を有する二層密閉構造。
【請求項3】
前記ガス制御構造(6)は、ガス制御排気口弁板(61)、ガス制御排気口(62)、モジュール出口弁板(63)、気流ガイド口(64)、気流ガイド口弁板(65)、モジュール入口弁板(66)、ガス制御吸気口(67)、及びガス制御吸気口弁板(68)を含み、
ガス制御排気口(62)は、モジュール出口の上方に取り付けられ、その取り付け方式は、溶接であり、
気流ガイド口(64)は、モジュール入口の上方に取り付けられ、その取り付け方式は、溶接であり、
ガス制御吸気口(67)は、モジュール入口の上方に取り付けられ、その取り付け方式は、溶接であり、
ガス制御排気口弁板(61)は、ガス制御排気口(62)に取り付けられ、ガス制御排気口を伸縮自在に開閉することができ、
モジュール出口弁板(63)は、モジュール出口に取り付けられ、モジュール出口を伸縮自在に開閉することができ、
気流ガイド口弁板(65)は、気流ガイド口(64)に取り付けられ、気流ガイド口(64)を伸縮自在に開閉することができ、
モジュール入口弁板(66)は、モジュール入口に取り付けられ、モジュール入口を伸縮自在に開閉することができ、
ガス制御吸気口弁板(68)は、ガス制御吸気口(67)に取り付けられ、ガス制御吸気口を伸縮自在に開閉することができることを特徴とする、請求項に記載の密閉箱室の指定流路を有する二層密閉構造。
【請求項4】
内箱体循環浄化システムとジャケット循環浄化システムにおける第1点検口(22)と第2点検口(29)を開き、それぞれ濃度99.99%の第1ガスと濃度99.99%の第2ガスを導入し、同時に第1ファン(25)と第2ファン(211)は作動し、内箱体とジャケットのガス洗浄作業を開始するステップ1と、
ガスを洗浄しながら、内箱体ガス圧力制御装置(43)、ジャケットガス圧力制御装置(44)、内箱体ガス検出装置(42)、及びジャケットガス検出装置(41)を開き、内箱体内とジャケット内のガスの圧力、濃度、及び温度を検出し、検出されたデータに応じて内箱体ガス圧力制御装置(43)とジャケットガス圧力制御装置(44)を調整し、圧力勾配を設定するステップ2と、
内箱体ガス検出装置(42)とジャケットガス検出装置(41)はガスの濃度が指定値に達したことを検出した後、点検口(22)を閉じ、ガス洗浄作業を停止し、それにより密閉箱室内とジャケット内のガスを第1ファン(25)の作用下でそれぞれ自己循環して浄化されるステップ3と、
内箱体ガス検出装置(42)又はジャケットガス検出装置(41)は目標ガス濃度が指標値よりも低いことを検出した後、点検口(22)を開き、高濃度の目標ガスを導入し、目標ガス濃度が指標値よりも高くなった後、点検口(22)を閉じて循環浄化システムを自己循環させるステップ4と、
局所ジャケットガス検出装置(41)は目標ガス濃度が指標値よりも低いことを検出した後、モジュール出口弁板(63)を閉じ、ガス制御排気口弁板(61)を開き、濃度が指標値よりも低い目標ガスをガス制御排気口(62)から排出すると同時に、気流ガイド口弁板(65)を閉じ、ガス制御吸気口弁板(68)を開き、高濃度の目標ガスをガス制御吸気口(67)から次のモジュールに導入するステップ5と、
ジャケット内の目標ガス濃度が指標値よりも高い場合は、前のモジュールのモジュール出口弁板(63)を開き、前のモジュールのガス制御排気口弁板(61)を閉じ、このモジュールのモジュール入口弁板(66)を閉じ、その気流ガイド口弁板(65)を開き、このモジュールのモジュール出口弁板(63)を閉じ、次のモジュールの気流ガイド口弁板(65)を開き、次のモジュールのモジュール入口弁板(66)を開き、次のモジュールのガス制御吸気口弁板(68)を閉じ、前のモジュールの入口から入ってきたガスをこのモジュールの気流ガイド口(64)から次のモジュールの気流ガイド口(64)に流出させ、次に、現在のモジュールと次のモジュールを連通するステップ6と、
さまざまな目標ガス濃度に応じて、ステップ(4)からステップ(6)を何度も使用して、箱室内とジャケット内の目標ガス濃度とその均一性を制御するステップ7と、を含むことを特徴とする、請求項1~のいずれか一項に記載の指定流路を有する二層密閉構造のための密閉方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、密閉技術分野に関し、特に、密閉箱室の指定流路を有する二層密閉構造及びその密閉方法に関する。
【0002】
[関連出願]
本出願は、2020年1月19日に提出された、発明名称「密閉箱室の指定流路を有する二層密閉構造及びその密閉方法」の中国発明特許出願202010060996.0の優先権を主張する。
【背景技術】
【0003】
現在、従来の密閉箱室が高度な、又は超高度な密閉の要件を満たすことは、めったになく、製造レベルだけで密閉レベルの向上を達成することは、困難であり、これから問題が発生する。
【0004】
密閉箱室の場合、各密閉箱室の内部毎には特別な環境があり、内部の特定の環境指標が一定の需要値に達するように維持する必要があり、密閉箱室の密閉レベルが需要レベルに達していない場合は、密閉箱室の内部環境に対する、密閉箱室の外部の不純物ガスは、さまざまな方式で箱体の内部に入り、漏れ点における不純物ガスの含有量が高く、他の部分での不純物ガスの含有量が比較的少ないため、入る量は、密閉箱室内の許容荷重を超え、密閉箱室内の作業に大きな影響を与え、密閉箱室内の作業環境と雰囲気、及びジャケットの均一性を確保するために、密閉箱室の密閉レベルを向上させ、密閉箱室のジャケット内でのガスの均一性を確保する必要がある。
【発明の概要】
【0005】
本発明の目的は、密閉箱室の密閉性能とジャケットガスの均一性を向上させ、単位時間あたりに密閉箱室に入る外部の不純物ガスの量を減らし、単位時間あたりに密閉箱室の外部に漏れる内部ガスの量を減らすことであり、本発明は、密閉箱室の指定流路を有する二層密閉構造及びその密閉方法を提供する。
【0006】
本発明の技術的解決手段は、密閉ハウジング、循環浄化システム、接続部品、制御・検出装置、気流ガイド構造、及びガス制御構造を含む、密閉箱室の指定流路を有する二層密閉構造を提供することであり、その特徴は、以下のとおりである。
【0007】
前記密閉ハウジングは、八面体であり、八面体の各面には、内層鋼板と外層鋼板があり、内層鋼板と外層鋼板はいずれも、小鋼板で突合せ溶接されてなり、
前記循環浄化システムは、内箱体循環浄化システムとジャケット循環浄化システムを含み、内層密閉ハウジング内のガスは、内箱体循環浄化システムを介して循環流動し、ジャケット内のガスは、ジャケット循環浄化システムを介して循環流動し、
接続部品は、内部と外部を接続する接続部品と外部接続部品を含み、内部と外部を接続する接続部品は、内層密閉ハウジングと外層密閉ハウジングを貫通し、それぞれ内層密閉ハウジングと外層密閉ハウジングに固定接続されており、外部接続部品は、外層密閉ハウジングのみを貫通して外層密閉ハウジングに固定接続されており、
前記気流ガイド構造は、ガスの流動をガイドするために使用され、
前記ガス制御構造は、ガスの流入と流出を制御するために使用される。
【0008】
本発明は、以下のステップを含む、指定流路を有する二層密閉構造のための密閉方法をさらに提供する。
【0009】
ステップ1:内箱体循環浄化システムとジャケット循環浄化システムにおける第1点検口と第2点検口を開き、それぞれ濃度99.99%の第1ガスと濃度99.99%の第2ガスを導入し、同時に第1ファンと第2ファンが作動し、内箱体とジャケットのガス洗浄作業を開始する。
【0010】
ステップ2:ガスを洗浄しながら、内箱体ガス圧力制御装置、ジャケットガス圧力制御装置、内箱体ガス検出装置、及びジャケットガス検出装置を開き、内箱体内とジャケット内でのガスの圧力、濃度、及び温度を検出し、検出されたデータに応じて内箱体ガス圧力制御装置とジャケットガス圧力制御装置を調整し、圧力勾配を設定する。
【0011】
ステップ3:内箱体ガス検出装置とジャケットガス検出装置は、ガスの濃度が指定値に達したことを検出した後、点検口を閉じ、ガス洗浄作業を停止し、それにより密閉箱室内とジャケット内のガスは、それぞれ第1ファンの作用下で自己循環して浄化される。
【0012】
ステップ4:内箱体ガス検出装置又はジャケットガス検出装置は目標ガス濃度が指標値よりも低いことを検出した後、点検口を開き、高濃度の目標ガスを導入し、目標ガス濃度が指標値よりも高くなった後、点検口を閉じ、循環浄化システムを自己循環させる。
【0013】
ステップ5:局所ジャケットガス検出装置は目標ガス濃度が指標値よりも低いことを検出した後、モジュール出口弁板を閉じ、ガス制御排気口弁板を開き、濃度が指標値よりも低い目標ガスをガス制御排気口から排出すると同時に、気流ガイド口弁板を閉じ、ガス制御吸気口弁板を開き、高濃度の目標ガスをガス制御吸気口から次のモジュールに導入する。
【0014】
ステップ6:ジャケット内の目標ガス濃度が指標値よりも高い場合は、前のモジュールのモジュール出口弁板を開き、前のモジュールのガス制御排気口弁板を閉じ、このモジュールのモジュール入口弁板を閉じ、その気流ガイド口弁板を開き、このモジュールのモジュール出口弁板を閉じ、次のモジュールの気流ガイド口弁板を開き、次のモジュールのモジュール入口弁板を開き、次のモジュールのガス制御吸気口弁板を閉じ、前のモジュールの入口から入ってきたガスをこのモジュールの気流ガイド口から次のモジュールの気流ガイド口に流出させ、次に、現在のモジュールと次のモジュールを連通する。
【0015】
ステップ7:さまざまな目標ガス濃度に応じて、ステップ4からステップ6を使用して、箱室内とジャケット内の目標ガスの濃度とその均一性を制御する。
【0016】
本発明の有益な効果は、次のとおりである。
【0017】
本発明は、指定流路を有する二層構造を採用し、内層ハウジングと外層ハウジングとの間の隙間(ジャケット)の遷移効果、気流ガイド構造の均一ガス作用、圧力勾配のガス流れ方向の誘導作用を通じて、内層ハウジングと外層ハウジングの密閉レベルが要件を満たしていない場合、全体として必要な密閉レベルを達成することを実現することができ、内部のガスデッドゾーンは、少ない。
【図面の簡単な説明】
【0018】
図1】本発明の具体的な実施例における密閉箱室のガス環境の概略図である。
図2】本発明の具体的な実施例における指定流路を有する二層密閉箱室の構造図(正面図)の概略図である。
図3】本発明の具体的な実施例における指定流路を有する二層密閉箱室の構造図(不等角投影図)の概略図である。
図4】本発明の具体的な実施例における単一モジュールの指定流路の気流ガイド構造の概略図である。
図5】本発明の具体的な実施例における単一モジュールの指定流路の気流ガイド構造(外板が取り除かれた不等角投影図)の概略図である。
図6】本発明の具体的な実施例における2つのモジュールの概略的な不等角投影図である。
図7】本発明の具体的な実施例における2つのモジュール間のガス制御構造の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【0019】
以下、本発明の内容及び利点について、特定の実施形態及び明細書の図面を参照して、さらに詳細に説明するが、本発明の特定の実施形態は、これに限定されるものではない。
【0020】
図2~7に示すように、この実施例は、密閉ハウジング1、循環浄化システム2、接続部品3、制御・検出装置4、気流ガイド構造5、及びガス制御構造6を含む、密閉箱室の指定流路を有する二層密閉構造を提供する。
【0021】
密閉ハウジング1全体は、平面視正六角形の八面体であり、各面には、内層鋼板と外層鋼板があり、内層鋼板と外層鋼板は、小鋼板で突合せ溶接されてなり、ジャケット自体の空間が狭いため、内層密閉ハウジングの密閉性能を優先的に確保し、施工時には、内層鋼板の溶接シームの品質を優先的に満たすため、溶接時には、内層鋼板は、両面溶接シームを採用し、外層鋼板は、片面溶接シームを採用し、溶接形態は、内層の小鋼板と内層の小鋼板を溶接し、外層の小鋼板と外層の小鋼板を溶接することであり、外層鋼板間の溶接は、片面開先溶接であり、内層鋼板間の溶接は、両面開先溶接である。
【0022】
図2に示すように、前記循環浄化システム2は、内箱体循環浄化システムとジャケット循環浄化システムを含み、内層密閉ハウジング内のガスは、内箱体循環浄化システムを介して循環流動し、ジャケット内のガスは、ジャケット循環浄化システムを介して循環流動する。
【0023】
前記内箱体循環浄化システムは、内箱体吸気口21、第1点検口22、接続管23、第1フローバルブ24、第1ファン25、第1ガス浄化装置26、及び内箱体排気口27を含む。
【0024】
ここで、内箱体吸気口21は、内層密閉ハウジング11と外層密閉ハウジング12を介して内箱体と連通し、内箱体吸気口21と内層密閉ハウジング11は、両面すみ肉溶接の形式で接続されており、内箱体吸気口21と外層密閉ハウジング12の間は、片面すみ肉溶接の形式で接続されており、内箱体排気口27は、外層密閉ハウジング12と内層密閉ハウジング11を通過してジャケットと連通し、ジャケットは、内層ハウジングと外層ハウジングとの間の空間であり、内箱体排気口27と内層密閉ハウジング11の間は、両面すみ肉溶接の形式で接続されており、内箱体排気口27と外層密閉ハウジング12は、片面すみ肉溶接の形式で接続されている。内箱体吸気口21と内箱体排気口27の間は、接続管23で接続されており、接続管23には、第1点検口22、第1フローバルブ24、第1ファン25、及び第1ガス浄化装置26が取り付けられ、その取り付け方法は、溶接である。
【0025】
図2に示すように、前記ジャケット循環浄化システムは、ジャケット吸気口28、第2点検口29、接続管23、第2フローバルブ210、第2ファン211、第2ガス浄化装置212、ジャケット排気口213を含み、ジャケット吸気口28は、外層密閉ハウジング12を介してのみジャケットと連通し、ジャケット吸気口28と外層密閉ハウジング12の間は、片面すみ肉溶接の形式で接続されており、ジャケット内に突き出ている長さがジャケット厚さの1/4であり、ジャケット排気口213は、外層密閉ハウジング12を通過してジャケットと連通し、ジャケット排気口29と外層密閉ハウジング12の間は、片面すみ肉溶接の形式で接続されている。ジャケット吸気口28とジャケット排気口213の間は、接続管23で接続されており、接続管23には、第2点検口29、第2フローバルブ210、第2ファン211、及び第2ガス浄化装置212が取り付けられ、その取り付け方式は、溶接である。
【0026】
図2に示すように、前記接続部品3は、内部と外部を接続する接続部品31と外部接続部品32を含み、内部と外部を接続する接続部品31は、内層密閉ハウジング11と外層密閉ハウジング12を貫通し、内層密閉ハウジング11と外層密閉ハウジング12にそれぞれ固定接続されており、その接続方式は、溶接であり、内箱体ガス検出装置42と内箱体ガス圧力制御装置43から引き出された信号線とケーブルは、内部と外部を接続する接続部品31から内層密閉ハウジング11と外層密閉ハウジング12を通過し、その読み取りと制御はいずれも、密閉ハウジング1の外部で実行される。外部接続部品32は、外層密閉ハウジング12のみを貫通し、外層密閉ハウジング12に固定接続されており、その接続方式は、溶接であり、ジャケットガス検出装置41とジャケットガス圧力制御装置44から引き出された信号線とケーブルは、外部接続部品31から外層密閉ハウジング12を通過し、その読み取りと制御はいずれも、密閉ハウジング1の外部で実行される。
【0027】
箱室を密閉するときに、連通後の配管が密閉されており、ガスは、点検口からのみ外部に漏れる可能性があり、点検口は、ガスを洗浄しないときや、内部ガスを交換するときに、常に閉じられており、ガスを洗浄及び交換するときにのみ開いているため、連通後にガスが漏れることはない。
【0028】
外層ハウジングと内層ハウジングとの間の接続は、気流ガイド接続板51によって接続されており、気流ガイド接続板の高さは、内層ハウジングと外層ハウジングとの間の距離である。
【0029】
前記制御・検出装置4は、ジャケットガス検出装置41、内箱体ガス検出装置42、内箱体ガス圧力制御装置43及びジャケットガス圧力制御装置44を含み、内箱体ガス検出装置42及び内箱体ガス圧力制御装置43は、内層密閉ハウジング11の内部に取り付けられ、内箱体ガス検出装置42は、内箱体内のガスの温度、濃度及び圧力を検出し、内箱体ガス圧力制御装置43は、内箱体ガス検出装置42によって検出されたデータに応じて内箱体ガス圧力を目標値に調整し、それを維持し、ジャケットガス検出装置41とジャケットガス圧力制御装置44は、ジャケット内に取り付けられ、ジャケットガス検出装置41は、ジャケット内のガスの温度、濃度、及び圧力を検出する。
【0030】
図2に示すように、ジャケットガス圧力制御装置44は、ジャケットガス検出装置41によって検出されたデータに応じてジャケットガス圧力を目標値に調整し、それを維持する。
【0031】
図4~6に示すように、前記気流ガイド構造5は、気流ガイド接続板51、気流ガイド孔52、及び気流ガイド管53を含み、気流ガイド接続板51は、単一モジュールのジャケット内に取り付けられ、このモジュールの内層ハウジングと外層ハウジングを接続し、その接続方式は、溶接であり、複数のモジュールを接合して密閉箱体の1つの面を形成し、密閉箱体は、8つの面で構成され、各面には、内層ハウジング、外層ハウジング及びジャケットがあり、各モジュールには、吸気口と排気口があり、ここで言及されている面は、ハウジングの一部にすぎず、8つの面があり、ハウジングの構成部分であり、各面は、いくつかのモジュールで構成され、1つのモジュールを図5に示しており、ここで、気流ガイド孔52は、気流ガイド板の特定位置に開けられ、単一モジュールの指定流路の機能を実現し、単一モジュールの吸気口から入ってきたガスは、図4のチャネルを通ってモジュールの排気口に流れ、この流路を使用すると、ガスの洗浄及び循環中に、モジュールのすべての部分をより細かく処理し、単一モジュールの流体デッドゾーンを減らし、ガス循環交換率を高めることができ、気流ガイド管53は、2つのモジュールの間に取り付けられ、前のモジュールの気流ガイド口とこのモジュールの気流ガイド口とを連通し、その取り付け方式は、溶接であり、特定のモジュール及び特定の状況下では、モジュールに導入されたガスは、モジュールを通過することなく、気流ガイド管53を介して次のモジュールに直接導かれることができるため、ガスの洗浄及び交換の効率を大幅に向上させることができる。
【0032】
特定のモジュールとは、このモジュールの内層ハウジングと外層ハウジングに、溶接シームがなく、接続部品などが取り付けられることによる漏れが発生する場所がないというものであり、特定の場合とは、このモジュールのジャケット内のジャケットガス検出装置41によって検出された気圧、濃度、温度などのデータが指定された目標値に適合しているというものである。
【0033】
図6~7に示すように、前記ガス制御構造6は、ガス制御排気口弁板61、ガス制御排気口62、モジュール出口弁板63、気流ガイド口64、気流ガイド口弁板65、モジュール入口弁板66、ガス制御吸気口67、及びガス制御吸気口弁板68を含む。
【0034】
ガス制御排気口62は、モジュール出口の上方に取り付けられ、その取り付け方式は、溶接であり、
気流ガイド口64は、モジュール入口の上方に取り付けられ、その取り付け方式は、溶接であり、
ガス制御吸気口67は、モジュール入口の上方に取り付けられ、その取り付け方式は、溶接であり、
ガス制御排気口弁板61は、ガス制御排気口62に取り付けられ、ガス制御排気口を伸縮自在に開閉することができ、
モジュール出口弁板63は、モジュール出口に取り付けられ、モジュール出口を伸縮自在に開閉することができ、
気流ガイド口弁板65は、気流ガイド口64に取り付けられ、気流ガイド口64を伸縮自在に開閉することができ、
モジュール入口弁板66は、モジュール入口に取り付けられ、モジュール入口を伸縮自在に開閉することができ、
ガス制御吸気口弁板68は、ガス制御吸気口67に取り付けられ、ガス制御吸気口を伸縮自在に開閉することができる。
【0035】
図2に示すように、外層密閉ハウジング12の底板は、密閉ハウジング1全体の重量を支え、それを厚くする必要があり、密閉箱体の容積が大きいように求められる場合は、実際の生産ではまるごとの大鋼板がないため、小鋼板を接合する必要があり、前記内層密閉ハウジング11と外層密閉ハウジング12の間は、接続部品と気流ガイド接続板によって溶接固定され、内層密閉ハウジング11と外層密閉ハウジング12との間の隙間は、ジャケットを形成する。
【0036】
内箱体とジャケットの吸気口と排気口の取り付け高さは、目標ガスの質量により異なり、目標ガスの質量が空気の質量よりも大きい場合は、吸気口を底面に近い高さに設置し、排気口を頂面に近い高さに設置し、目標ガスの質量が空気の質量よりも小さい場合は、吸気口を頂面に近い高さに設置し、排気口を底面に近い高さに設置する。箱室は、初期に質量が空気の質量よりも重い/よりも軽い目標ガスを使用し、後期に質量が空気の質量よりも軽い/よりも重い別の目標ガスに切り替える場合は、ファンでブローバックすることで同じ効果を達成することができる。目標ガスが重すぎる場合は、吸気口を箱室の下方に近い位置に配置し、排気口を箱室の上方に近い位置に配置する必要があり、ガスを洗浄する段階では、重い目標ガスを使用して、高い位置の排気口から内部の元の空気を押し出し、目標ガスが非常に軽い場合は、吸気口と排気口の取り付け高さを交換し、低い位置の排気口から空気を押し出す。吸気口と排気口の取り付け高さを交換しない場合は、ファンで直接ブローバックすることで、同じ効果を達成することもできる。
【0037】
上記に基づいて、本発明は、以下のステップを含む、密閉箱室のための密閉方法を提案する。
【0038】
ステップ1:内箱体循環浄化システムとジャケット循環浄化システムにおける第1点検口22と第2点検口29を開き、濃度99.99%の第1ガスと濃度99.99%の第2ガスをそれぞれ導入し、同時に、第1ファン25及び第2ファン211が作動し、内箱体とジャケットのガス洗浄作業を開始する。
【0039】
ステップ2:ガスを洗浄しながら、内箱体ガス圧力制御装置43、ジャケットガス圧力制御装置44、内箱体ガス検出装置42、及びジャケットガス検出装置41を開き、内箱体内とジャケット内でのガスの圧力、濃度、及び温度を検出し、検出されたデータに応じて、内箱体ガス圧力制御装置43とジャケットガス圧力制御装置44を調整し、圧力勾配を設定する。
【0040】
ガス圧力制御装置を利用して、P1、P2、及びP3間の大きさ関係を調整し、圧力勾配を形成し、ここで、P1は密閉箱内の気圧強度であり、P2はジャケット内の気圧強度であり、P3は密閉箱外の気圧強度である。
【0041】
ステップ3:内箱体ガス検出装置42とジャケットガス検出装置41はガスの濃度が指定値に達したことを検出した後、点検口22を閉じ、ガス洗浄作業を停止し、それにより密閉箱室内とジャケット内のガスは、それぞれファン25の作用下で自己循環して浄化される。
【0042】
ステップ4:内箱体ガス検出装置42又はジャケットガス検出装置41の大部分は目標ガス濃度が指標値よりも低いことを検出した後、点検口22を開き、高濃度の目標ガスを導入し、目標ガス濃度が指標値よりも高くなった後、点検口22を閉じて、循環浄化システムを自己循環させ、このように繰り返す。
【0043】
ステップ5:局所ジャケットガス検出装置41は目標ガス濃度が指標値よりも低いことを検出した後、モジュール出口弁板63を閉じ、ガス制御排気口弁板61を開き、濃度が指標値よりも低い目標ガスをガス制御排気口62から排出すると同時に、気流ガイド口弁板65を閉じ、ガス制御吸気口弁板68を開き、ガス制御吸気口67から高濃度の目標ガスを次のモジュールに導入する。
【0044】
ステップ6:単一モジュール内に接続部品3、及びプレート接合部を溶接する必要がある場所がなく、そのジャケット内の目標ガス濃度が指標値よりも高い場合は、前のモジュールのモジュール出口弁板63を開き、前のモジュールのガス制御排気口弁板61を閉じ、このモジュールのモジュール入口弁板66を閉じ、その気流ガイド口弁板65を開き、このモジュールのモジュール出口弁板63を閉じ、次のモジュールの気流ガイド口弁板65を開き、次のモジュールのモジュール入口弁板66を開き、次のモジュールのガス制御吸気口弁板68を閉じて、前のモジュールの入口から入ってきたガスをこのモジュールの気流ガイド口64から次のモジュールの気流ガイド口64に流出させ、次に、このモジュールと次のモジュールを連通する。
【0045】
ステップ7:さまざまな目標ガス濃度に応じて、ステップ4、5、6を何度も使用して箱室内とジャケット内の目標ガス濃度とその均一性を制御することができる。ステップ4、5、6を使用しても依然として密閉性能の要件を満たすことができない場合は、第1フローバルブ24と第2フローバルブ210を調整して、流量を増大させ、第1ファン25と第2ファン211の風速を増加させ、ガスの洗浄と交換の速度を向上させることができる。内箱体内とジャケット内の目標ガス濃度が指標値よりもはるかに高い場合は、経済的な原則を考慮し、ガスの洗浄と交換の速度を優先的に下げる。
【0046】
密閉箱室内のガス圧力勾配は、次のように設定される。
【0047】
任意選択的に、内箱体ガス圧力制御装置43及びジャケットガス圧力制御装置44により、ガス圧力強度をP2>P3>P1に調整し、P1は密閉箱室内の気圧強度であり、P2はジャケット内の気圧強度であり、P3は密閉箱外の気圧強度であり、気圧強度の関係により、ジャケット内の第2ガスは、密閉箱室外の第3ガスと密閉箱室内の第1ガスに拡散する。したがって、内部の第1ガスは、密閉箱室の外部に漏れることはなく、密閉箱室外の第3ガスも密閉箱室内に漏れることはない。
【0048】
任意選択的に、内箱体ガス圧力制御装置43及びジャケットガス圧力制御装置44により、ガス圧力強度をP2=P3>P1に調整すると、第3ガスと第2ガスが互いに混ざり合い、第2ガスが第3ガスと一緒に第1ガスに漏れるが、内部の第1ガスが第3ガスに漏れることはない。
【0049】
任意選択的に、内箱体ガス圧力制御装置43及びジャケットガス圧力制御装置44により、ガス圧力強度をP3>P2>P1に調整すると、第3ガスが最初に第2ガスに拡散し、次に第3ガスが第2ガスと一緒に第1ガスに拡散するが、内部の第1ガスが第3ガスに漏れることはない。
【0050】
任意選択的に、内箱体ガス圧力制御装置43及びジャケットガス圧力制御装置44により、ガス圧力強度をP3>P1>P2に調整すると、第3ガスと第1ガスが両方とも第2ガスに拡散し、内部の第1ガスが密閉箱外に漏れることはく、密閉箱外の第3ガスも密閉箱内に漏れることはない。
【0051】
上記のいくつかの形態では、循環浄化システム2を作動させ、内箱体循環浄化システム及びジャケット循環浄化システムは、内箱体内とジャケット内のガスを循環流動させるようにそれぞれ同時に制御する。ガスデッドゾーンの発生は、ガス循環浄化システム2の連続的なガス供給、及び気流ガイド構造5とガス制御構造6の作用によって回避される。上記のいくつかの形態では、第2ガスの成分を変更し、第2ガスが配置されているジャケットのガスも第1ガスとして設定することにより、内箱体内の目標第1ガスが第3ガスに漏れず、第3ガスが目標第1ガスに漏れることができないという効果をさらに強化することもできる。
【0052】
なお、以上は本発明の好ましい実施例に過ぎず、本発明を限定するものではなく、前記実施例を参照して本発明を詳細に説明したが、当業者にとって、依然として前記各実施例に記載された技術的解決手段を修正したり、技術的特徴の一部を同等に置換したりすることができる。本発明の精神及び原則の範囲内で行われた修正、同等の置換、及び改善などはいずれも、本発明の保護範囲に含まれるものとする。
【符号の説明】
【0053】
1-密閉ハウジング、2-循環浄化システム、3-接続部品、4-制御・検出装置、5-気流ガイド構造、6-ガス制御構造、11-内層密閉ハウジング、12-外層密閉ハウジング、21-内箱体吸気口、22-第1点検口、23-接続管、24-第1フローバルブ、25-第1ファン、26-第1ガス浄化装置、27-内箱体排気口、28-ジャケット吸気口、29-第2点検口、210-第2フローバルブ、211-第2ファン、212-第2ガス浄化装置、213-ジャケット排気口、31-内部と外部を接続する接続部品、32-外部接続部品、41-ジャケットガス検出装置、42-内箱体ガス検出装置、43-内箱体ガス圧力制御装置、44-ジャケットガス圧力制御装置、51-気流ガイド接続板、52-気流ガイド孔、53-気流ガイド管、61-ガス制御排気口弁板、62-ガス制御排気口、63-モジュール出口弁板、64-気流ガイド口、65-気流ガイド口弁板、66-モジュール入口弁板、67-ガス制御吸気口、68-ガス制御吸気口弁板。
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7