特許 7428754 基板処理装置および方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-01-29

(45)【発行日】2024-02-06

(54)【発明の名称】基板処理装置および方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/02 20060101AFI20240130BHJP

   H01L 21/304 20060101ALI20240130BHJP

   B08B 3/02 20060101ALI20240130BHJP

【ＦＩ】

H01L21/02 D

H01L21/304 643B

H01L21/304 648A

H01L21/304 648L

B08B3/02 C

【請求項の数】 19

(21)【出願番号】P 2022113748

(22)【出願日】2022-07-15

(65)【公開番号】P2023031252

(43)【公開日】2023-03-08

【審査請求日】2022-07-15

(31)【優先権主張番号】10-2021-0111466

(32)【優先日】2021-08-24

(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR

(73)【特許権者】

【識別番号】598123150

【氏名又は名称】セメス株式会社

【氏名又は名称原語表記】ＳＥＭＥＳ ＣＯ．， ＬＴＤ．

【住所又は居所原語表記】７７，４ｓａｎｄａｎ ５－ｇｉｌ，Ｊｉｋｓａｎ－ｅｕｐ，Ｓｅｏｂｕｋ－ｇｕ，Ｃｈｅｏｎａｎ－ｓｉ，Ｃｈｕｎｇｃｈｅｏｎｇｎａｍ－ｄｏ，３３１－８１４ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｋｏｒｅａ

(74)【代理人】

【識別番号】110000671

【氏名又は名称】ＩＢＣ一番町弁理士法人

(72)【発明者】

【氏名】シン チェ ヨン

(72)【発明者】

【氏名】キム キ ウン

【審査官】平野 崇

(56)【参考文献】

【文献】特開２００９－１７２５２０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００３－３０５４１４（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／０２

Ｈ０１Ｌ ２１／３０４

Ｈ０１Ｌ ２１／６７

Ｂ０８Ｂ ３／０２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１方向に隣接して配置された第１処理バスと第２処理バスと、
前記第１処理バスと前記第２処理バスの間に配置され、基板が通過するための出入口が形成された第１隔壁と、
前記第１処理バスと前記第２処理バス内に設けられ、前記基板を移動させる移送ユニットと、
前記第１処理バス内に設けられ、前記基板に薬液を提供する薬液供給ユニットと、
前記第１処理バスと前記第２処理バスの間に配置されて前記第１隔壁と連結され、前記第１方向と異なる第２方向に沿って配置された多数の排気孔を含み、前記第１処理バス内のミストを排気する第１排気ユニットを含み、
前記第１排気ユニットは前記第２方向に沿って長く設けられたボディと、前記ボディの一端と連結された排気連結管を含み、前記排気連結管と前記ボディは、前記第１方向および前記第２方向によって定義される平面上で互いにオーバーラップしない、基板処理装置。

【請求項2】

前記多数の排気孔は第１排気孔と第２排気孔を含み、前記第１排気孔は第２排気孔より前記排気連結管に近く、前記第２排気孔のサイズは前記第１排気孔のサイズより大きい、請求項１に記載の基板処理装置。

【請求項3】

前記第２排気孔の第２方向の幅は、前記第１排気孔の第２方向の幅より大きい、請求項２に記載の基板処理装置。

【請求項4】

第１方向に隣接して配置された第１処理バスと第２処理バスと、
前記第１処理バスと前記第２処理バスの間に配置され、基板が通過するための出入口が形成された第１隔壁と、
前記第１処理バスと前記第２処理バス内に設けられ、前記基板を移動させる移送ユニットと、
前記第１処理バス内に設けられ、前記基板に薬液を提供する薬液供給ユニットと、
前記第１処理バスと前記第２処理バスの間に配置されて前記第１隔壁と連結され、前記第１方向と異なる第２方向に沿って配置された多数の排気孔を含み、前記第１処理バス内のミストを排気する第１排気ユニットを含み、
前記第１排気ユニットは、前記第１処理バスに向かって前記第１隔壁より突出した第１側壁と、前記第１側壁と前記第１隔壁を連結する第１連結壁を含み、前記多数の排気孔は前記第１側壁に設けられた、基板処理装置。

【請求項5】

前記第１排気ユニットは、前記第２処理バスに向かって前記第１隔壁より突出した第２側壁と、前記第２側壁と前記第１隔壁を連結する第２連結壁をさらに含み、
前記第２側壁には前記第２処理バス内のミストを排気するための多数の排気孔が設けられる、請求項４に記載の基板処理装置。

【請求項6】

前記第１連結壁と前記第１隔壁は鈍角をなす、請求項４に記載の基板処理装置。

【請求項7】

前記排気孔と前記第１連結壁の間の距離は、１ｍｍより大きく１０ｍｍより小さい、請求項４に記載の基板処理装置。

【請求項8】

前記第１側壁に、前記排気孔のサイズを調節するための排気カバーがさらに設けられた、請求項４に記載の基板処理装置。

【請求項9】

前記第１隔壁にはＬ字形状のドロップ防止構造物を含み、前記第１連結壁に沿って流れ落ちる薬液を受ける、請求項４に記載の基板処理装置。

【請求項10】

前記ドロップ防止構造物は前記第１隔壁と直接連結された受け部と、前記受け部と直接連結されて前記流れ落ちる薬液を収容するための収容壁を含み、前記受け部と前記第１隔壁は鈍角をなす、請求項９に記載の基板処理装置。

【請求項11】

前記ドロップ防止構造物は第２方向に沿って長く配置され、前記受け部は傾いている、請求項１０に記載の基板処理装置。

【請求項12】

前記第１隔壁に設けられ、前記出入口のサイズを調節できるカバーをさらに含む、請求項１に記載の基板処理装置。

【請求項13】

前記第１隔壁は前記出入口を基準として上部に位置する上部隔壁と、下部に位置する下部隔壁を含み、前記カバーは前記上部隔壁に設けられた第１カバーと、前記下部隔壁に設けられた第２カバーを含む、請求項１２に記載の基板処理装置。

【請求項14】

第１方向に隣接して配置された第１処理バスと第２処理バスと、
前記第１処理バスと前記第２処理バスの間に配置され、基板が通過するための出入口が形成された第１隔壁と、
前記第１処理バスと前記第２処理バス内に設けられ、前記基板を移動させる移送ユニットと、
前記第１処理バス内に設けられ、前記基板に薬液を提供する薬液供給ユニットと、
前記第１処理バスと前記第２処理バスの間に配置されて前記第１隔壁と連結され、前記第１方向と異なる第２方向に沿って配置された多数の排気孔を含み、前記第１処理バス内のミストを排気する第１排気ユニットと、
前記第２処理バスの一面に配置された補助排気孔と、を含む、基板処理装置。

【請求項15】

第３処理バスをさらに含み、前記第１方向に前記第２処理バス、前記第１処理バスおよび前記第３処理バスの順に配置され、
前記第１処理バスと前記第３処理バスの間に配置され、前記基板が通過するための出入口が形成された第２隔壁と、
前記第１処理バスと前記第３処理バスの間に配置されて前記第２隔壁と連結され、前記第１方向と異なる第３方向に沿って配置された多数の排気孔を含み、前記第１処理バス内のミストを排気する第２排気ユニットをさらに含む、請求項１に記載の基板処理装置。

【請求項16】

第１方向に隣接して配置された第１処理バスと第２処理バスと、
前記第１処理バスと前記第２処理バスの間に配置され、基板が通過するための出入口が形成された第１隔壁と、
前記第１処理バスと前記第２処理バス内に設けられ、前記基板を移動させる移送ユニットと、
前記第１処理バス内に設けられ、前記基板に薬液を提供する薬液供給ユニットと、
前記第１処理バスと前記第２処理バスの間に配置されて前記第１隔壁と連結された第１排気ユニットを含み、
前記第１排気ユニットは、前記第１方向と異なる第２方向に沿って長く設けられたボディと、前記ボディに形成された多数の排気孔を含み、
前記ボディは、前記第１処理バスに向かって前記第１隔壁より突出し、前記多数の排気孔が形成された第１側壁と、前記第１側壁と前記第１隔壁を連結する第１連結壁を含み、
前記第１連結壁と前記第１隔壁は鈍角をなす、基板処理装置。

【請求項17】

前記第１排気ユニットは、前記ボディの一端と連結された排気連結管をさらに含み、前記多数の排気孔は前記第２方向に沿って配置された第１排気孔と第２排気孔を含み、前記第１排気孔は第２排気孔より前記排気連結管に近く、前記第２排気孔のサイズは前記第１排気孔のサイズより大きい、請求項１６に記載の基板処理装置。

【請求項18】

前記第１隔壁にはＬ字形状のドロップ防止構造物を含み、前記第１連結壁に沿って流れ落ちる薬液を受ける、請求項１６に記載の基板処理装置。

【請求項19】

第１方向に隣接して配置された第１処理バスと第２処理バスと、前記第１処理バスと前記第２処理バスの間に配置され、基板が通過するための出入口が形成された第１隔壁、前記第１処理バスと前記第２処理バスの間に配置されて前記第１隔壁と連結された第１排気ユニットを含み、前記第１隔壁に設けられるＬ字形状のドロップ防止構造物を含み、前記第１排気ユニットは前記第１方向と異なる第２方向に沿って長く設けられたボディと、前記ボディに形成された多数の排気孔を含み、前記ボディは前記第１処理バスに向かって前記第１隔壁より突出し、前記多数の排気孔が形成された第１側壁と、前記第１側壁と前記第１隔壁を連結する第１連結壁を含む基板処理装置を提供し、
前記多数の排気孔を通じて第１処理バス内の薬液ミストが排気し、
前記第１側壁に付いた薬液は前記第１連結壁および前記第１隔壁に沿って流れ落ちて前記ドロップ防止構造物に入ることを含む、基板処理方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は基板処理装置および方法に関する。

【背景技術】

【0002】

基板処理装置はウエハまたはディスプレイ用基板を処理する装置である。例えば、ディスプレイ用基板を処理する装置は順次隣接して配置された多数の処理バスを含む。ディスプレイ用基板が多数の処理バスを通過しながら、ディスプレイ用基板に洗浄液、エッチング液、現像液など多様な薬液が噴射されることができる。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0003】

一方、処理バスには噴射された薬液を外部に排気するための排気システムが適用されている。排気システムが最適化されていないと噴射された薬液が処理バス内でミスト（ｍｉｓｔ）形態で動き回り、ミスト形態の薬液がディスプレイ用基板に再安着して工程不良の原因となる恐れがある。

【0004】

本発明が解決しようとする課題は、処理バス内のミストを制御して工程不良を最小化させ得る基板処理装置を提供することにある。

【0005】

本発明が解決しようとする他の課題は、処理バス内のミストを制御して工程不良を最小化させ得る基板処理方法を提供することにある。

【0006】

本発明の課題は、以上で言及した課題に制限されず、言及されていないまた他の課題は以下の記載から当業者に明確に理解されることができる。

【課題を解決するための手段】

【0007】

前記課題を達成するための本発明の基板処理装置の一面（ａｓｐｅｃｔ）は、第１方向に隣接して配置された第１処理バスと第２処理バスと、前記第１処理バスと前記第２処理バスの間に配置され、基板が通過するための出入口が形成された第１隔壁と、前記第１処理バスと前記第２処理バス内に設けられ、前記基板を移動させる移送ユニットと、前記第１処理バス内に設けられ、前記基板に薬液を提供する薬液供給ユニットと、前記第１処理バスと前記第２処理バスの間に配置されて前記第１隔壁と連結され、前記第１方向と異なる第２方向に沿って配置された多数の排気孔を含み、前記第１処理バス内のミストを排気する第１排気ユニットを含む。

【0008】

前記課題を達成するための本発明の基板処理装置の他の面は、第１方向に隣接して配置された第１処理バスと第２処理バスと、前記第１処理バスと前記第２処理バスの間に配置され、基板が通過するための出入口が形成された第１隔壁と、前記第１処理バスと前記第２処理バス内に設けられ、前記基板を移動させる移送ユニットと、前記第１処理バス内に設けられ、前記基板に薬液を提供する薬液供給ユニットと、前記第１処理バスと前記第２処理バスの間に配置されて前記第１隔壁と連結された第１排気ユニットを含み、前記第１排気ユニットは、前記第１方向と異なる第２方向に沿って長く設けられたボディと、前記ボディに形成された多数の排気孔を含み、前記ボディは、前記第１処理バスに向かって前記第１隔壁より突出し、前記多数の排気孔が形成された第１側壁と、前記第１側壁と前記第１隔壁を連結する第１連結壁を含み、前記第１連結壁と前記第１隔壁は鈍角をなし得る。

【0009】

前記課題を達成するための本発明の基板処理装置のまた他の面は、第１方向に隣接して配置された第１処理バスと第２処理バスと、前記第１処理バスと前記第２処理バスの間に配置され、基板が通過するための出入口が形成された第１隔壁と、前記第１処理バスと前記第２処理バス内に設けられ、前記基板を移動させる移送ユニットと、前記第１処理バス内に設けられ、前記基板に薬液を提供する薬液供給ユニットと、前記第１隔壁の前記出入口の上側に設けられ、前記第１隔壁に沿って流れ落ちる薬液を受けるＬ字形状のドロップ防止構造物を含み得る。

【0010】

前記他の課題を達成するための本発明の基板処理方法の一面は、第１方向に隣接して配置された第１処理バスと第２処理バスと、前記第１処理バスと前記第２処理バスの間に配置され、基板が通過するための出入口が形成された第１隔壁、前記第１処理バスと前記第２処理バスの間に配置されて前記第１隔壁と連結された第１排気ユニットを含み、前記第１隔壁に設けられるＬ字形状のドロップ防止構造物を含み、前記第１排気ユニットは前記第１方向と異なる第２方向に沿って長く設けられたボディと、前記ボディに形成された多数の排気孔を含み、前記ボディは前記第１処理バスに向かって前記第１隔壁より突出し、前記多数の排気孔が形成された第１側壁と、前記第１側壁と前記第１隔壁を連結する第１連結壁を含む基板処理装置を提供し、前記多数の排気孔を通じて第１処理バス内の薬液ミストが排気し、前記第１側壁に付いた薬液は前記第１連結壁および前記第１隔壁に沿って流れ落ちて前記ドロップ防止構造物に入ることを含み得る。

【0011】

その他実施形態の具体的な内容は詳細な説明および図面に含まれている。

【図面の簡単な説明】

【0012】

【図1】本発明の第１実施形態による基板処理装置を説明するための図である。

【図2】図１のＡ領域を説明するための拡大図である。

【図3】図１の第１処理バスと、第１排気ユニットおよび第２排気ユニットの間の関係を説明するための斜視図である。

【図4】図１の第１排気ユニットの構造を説明するための正面図である。

【図5】図２のＢ領域を説明するための拡大図である。

【図6】図１のドロップ防止構造物を説明するための正面図である。

【図7】本発明の第１実施形態による基板処理装置の動作を説明するための図である。

【図8】本発明の第２実施形態による基板処理装置を説明するための図である。

【図9】本発明の第３実施形態による基板処理装置を説明するための図である。

【図10】本発明の第３実施形態による基板処理装置を説明するための図である。

【図11】本発明の第４実施形態による基板処理装置を説明するための図である。

【発明を実施するための形態】

【0013】

以下、添付する図面を参照して本発明の好ましい実施形態を詳細に説明する。本発明の利点および特徴、並びにこれらを達成する方法は添付する図面と共に詳細に後述する実施形態を参照すると明確になる。しかし、本発明は以下に開示される実施形態に限定されるものではなく互いに異なる多様な形態で実現することができ、本実施形態は単に本発明の開示を完全にし、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供するものであり、本発明は請求項の範疇によってのみ定義される。明細書全体にわたって同一参照符号は同一構成要素を指すものとする。

【0014】

空間的に相対的な用語である「下（ｂｅｌｏｗ）」、「下（ｂｅｎｅａｔｈ）」、「下部（ｌｏｗｅｒ）」、「上（ａｂｏｖｅ）」、「上部（ｕｐｐｅｒ）」などは図面に示されているように一つの素子または構成要素と他の素子または構成要素との相関関係を容易に記述するために使用される。空間的に相対的な用語は図面に示されている方向に加えて使用時または動作時に素子の互いに異なる方向を含む用語として理解されなければならない。例えば、図面に示されている素子をひっくり返す場合、他の素子の「下（ｂｅｌｏｗ）」または「下（ｂｅｎｅａｔｈ）」と記述された素子は他の素子の「上（ａｂｏｖｅ）」に置かれ得る。したがって、例示的な用語の「下」は下と上の方向をすべて含むことができる。素子は他の方向に配向されてもよく、そのため空間的に相対的な用語は配向によって解釈されることができる。

【0015】

第１、第２などが多様な素子、構成要素および／またはセクションを叙述するために使われるが、これらの素子、構成要素および／またはセクションはこれらの用語によって制限されないのはもちろんである。これらの用語は単に一つの素子、構成要素またはセクションを他の素子、構成要素またはセクションと区別するために使用する。したがって、以下で言及される第１素子、第１構成要素または第１セクションは本発明の技術的思想内で第２素子、第２構成要素または第２セクションであり得るのはもちろんである。

【0016】

本明細書で使用された用語は実施形態を説明するためのものであり、本発明を制限しようとするものではない。本明細書で、単数形は文面で特記しない限り、複数形も含む。明細書で使用される「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」および／または「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」は言及された構成要素、段階、動作および／または素子は一つ以上の他の構成要素、段階、動作および／または素子の存在または追加を排除しない。

【0017】

他に定義のない限り、本明細書で使用されるすべての用語（技術的および科学的用語を含む）は本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に共通して理解される意味として使用される。また、一般に用いられる辞典に定義されている用語は明白に特に定義されていない限り理想的にまたは過度に解釈されない。

【0018】

以下、添付する図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明し、添付図面を参照して説明するにあたり図面符号に関係なく同一であるかまたは対応する構成要素は同じ参照番号を付与し、これに係る重複する説明は省略する。

【0019】

図１は本発明の第１実施形態による基板処理装置を説明するための図である。図２は図１のＡ領域を説明するための拡大図である。図３は図１の第１処理バスと、第１排気ユニットおよび第２排気ユニットの間の関係を説明するための斜視図である。図４は図１の第１排気ユニットの構造を説明するための正面図である。図５は図２のＢ領域を説明するための拡大図である。図６は図１のドロップ防止構造物を説明するための正面図である。図７は本発明の第１実施形態による基板処理装置の動作を説明するための図である。

【0020】

まず図１を参照すると、本発明の第１実施形態による基板処理装置１は第１処理バス１０１、第２処理バス１０２、第３処理バス１０３、第４処理バス１０４、第５処理バス１０５、移送ユニット１１０、第１薬液供給ユニット１２０、第１排気ユニット２１０、第２排気ユニット３１０等を含む。

【0021】

第１方向Ｘに隣接して、第５処理バス１０５、第４処理バス１０４、第２処理バス１０２、第１処理バス１０１、第３処理バス１０３の順に配置される。

【0022】

隣接する処理バス１０１～１０５の間には隔壁２５０，３５０，２５０ａが配置され、隔壁２５０，３５０，２５０ａによって処理バス１０１～１０５が区分される。例えば、第１処理バス１０１と第２処理バス１０２の間に、第１隔壁２５０が設けられ、第１処理バス１０１と第３処理バス１０３の間に、第２隔壁３５０が設けられ、第２処理バス１０２と第４処理バス１０４の間に第３隔壁２５０ａが設けられる。隔壁２５０，３５０，３５０ａには基板が通過するための出入口（図２の２９９参照）が形成されている。

【0023】

移送ユニット１１０は多数の処理バス１０１～１０５内に設けられ、基板を移送させる。図示するように、移送ユニット１１０は一定間隔に配置されたローラを含み、各ローラは移送シャフト（ｔｒａｎｓｆｅｒ ｓｈａｆｔ）と連結される。移送シャフトの回転によりローラが回転し、ローラ上で基板が移送される。移送ユニット１１０はローラに限定されない。例えば、移送ユニット１１０はエアーフローティングシステムを含むこともできる。

【0024】

第１薬液供給ユニット１２０は第１処理バス１０１内に設けられ、基板に薬液を供給する。第１薬液供給ユニット１２０は薬液（例えば、純水（ｄｅｉｏｎｉｚｅｄ ｗａｔｅｒ））を強い圧力で基板に供給する。第１薬液供給ユニット１２０は純水の打力により基板上に存在するパーティクルを除去するようにすることができる。

【0025】

第２薬液供給ユニット１３１ａ，１３１ｂは第２処理バス１０２内に設けられる。第２薬液供給ユニット１３１ａ，１３１ｂは基板の上面および下面に薬液を噴射して、基板がウエット（ｗｅｔｔｉｎｇ）された状態を維持するようにする。

【0026】

同様に、第３薬液供給ユニット１３２ａ，１３２ｂは第３処理バス１０３内に設けられ、基板の上面と下面に薬液を噴射する。

【0027】

第４薬液供給ユニット１４０は第４処理バス１０４内に設けられ、基板をプレウェッティング（ｐｒｅ－ｗｅｔｔｉｎｇ）する。

【0028】

エアカーテン１５０は第５処理バス１０５の入口に設けられ、処理バス１０１～１０５内の空間と外部を遮断する。第５処理バス１０５の天井にはファンフィルタユニット（ＦＦＵ，Ｆａｎ Ｆｉｌｔｅｒ Ｕｎｉｔ，１９９）が設けられている。ファンフィルタユニット１９９の内部にはファンと共に高性能フィルタが設けられ、清浄空気を処理バス１０１～１０５内に供給する。

【0029】

第２処理バス１０２の一面には第２処理バス１０２内のミストを除去するための補助排気孔１０２ａが形成される。第４処理バス１０４の一面には第４処理バス１０４内のミストを除去するための補助排気孔１０４ａが形成され得る。

【0030】

ここで、図１および図２を参照すると、第１排気ユニット２１０は第１処理バス１０１と第２処理バス１０２の間に配置され、第１隔壁２５０と連結される。
第１排気ユニット２１０は第２方向Ｙに沿って長く設けられたボディ２２０，２３０を含み、ボディ２２０，２３０の一端と連結された排気連結管（図３の２２９参照）を含む。

【0031】

ボディ２２０，２３０は側壁２２１，２３１と連結壁２２２，２３２を含み、側壁２２１，２３１と連結壁２２２，２３２により内部空間が定義される。第１側壁２２１は第１処理バス１０１に向かって第１隔壁２５０より突出する。第２側壁２３１は第２処理バス１０２に向かって第１隔壁２５０より突出する。第１連結壁２２２は第１側壁２２１と第１隔壁２５０を連結して、第２連結壁２３２は第２側壁２３１と第１隔壁２５０を連結する。

【0032】

第１側壁２２１には排気孔２２５が設けられ、排気孔２２５を通じて第１処理バス１０１内のミストが吸い込まれる。第２側壁２３１にも排気孔２３５が設けられ、排気孔２３５を通じて第２処理バス１０２内のミストが吸い込まれる。

【0033】

また、第１隔壁２５０にはＬ字形状のドロップ防止構造物２８０が形成される。ドロップ防止構造物２８０は第１連結壁２２２および第１隔壁２５０に沿って流れ落ちる薬液を受ける（ｒｅｃｅｉｖｅ）。ドロップ防止構造物２８０は出入口２９９の上側に配置され、出入口２９９を通過する基板に薬液が落ちることを防止することができる。

【0034】

ここで、図５を参照すると、このようなドロップ防止構造物２８０は第１隔壁２５０と直接連結された受け部２８１と、受け部２８１と直接連結されて流れ落ちる薬液を収容するための収容壁２８２を含む。図５に示すように、受け部２８１と第１隔壁２５０がなす角（θ２）は鈍角であり得る。収容壁２８２に薬液が付いても、前記薬液が直接下に落ちず、鈍角を有する受け部２８１に沿って流れるようにする。このようにすることで薬液が落ちても薬液が有する位置エネルギを最小化することができる。

【0035】

ここで図６を参照すると、ドロップ防止構造物２８０は第２方向Ｙに沿って長く配置され、ドロップ防止構造物２８０（特に、受け部２８１）が傾いている（角度（θ３）参照）。図６に図示するように、ドロップ防止構造物２８０（特に、受け部２８１）の延長方向と出入口２９９の延長方向がなす角（θ３）は鋭角であり得る。受け部２８１に集まった薬液は傾いた受け部２８１に沿って第１処理バス１０１の外部に除去され得る。

【0036】

再び図２を参照すると、一方、第１連結壁２２２と第１隔壁２５０の間の角度（θ１）は鈍角であり得る。排気孔２２５と第１連結壁２２２の間の第１側壁２２１に付いた薬液が第１連結壁２２２および第１隔壁２５０に沿って流れ、ドロップ防止構造物２８０に容易に集まるようにするためである。

【0037】

第１連結壁２２２と第１隔壁２５０の間の角度（θ１）が鈍角ではない場合は、第１側壁２２１に付いた薬液が、重力によって下方に直接落ち得る。このように落ちる薬液が基板に直接落ちると不良の原因となる恐れがある。

【0038】

ここで、排気孔２２５と第１連結壁２２２の間の距離ｄは１ｍｍより大きく１０ｍｍより小さい。距離ｄは排気孔２２５の最下側のエッジ（ｅｄｇｅ）と、第１連結壁２２２の最上側のエッジの間の距離であり得る。距離ｄが１０ｍｍより大きいと、排気孔２２５と第１連結壁２２２の間の第１側壁２２１に付いた薬液が第１連結壁２２２に沿って流れず、重力によって下方に直接落ち得る。距離ｄを最小化することによって、第１側壁２２１に付いた薬液が第１連結壁２２２に安定的に誘導されることができる。また、第１側壁２２１に排気孔２２５を形成する工程を安定的にするために、距離ｄを１ｍｍより大きくする。

【0039】

ここで、図３および図４を参照すると、ボディ２２０は第２方向Ｙに沿って長く設けられ、ボディ２２０の一端には排気連結管２２９が設けられる。図示するように、排気連結管２２９とボディ２２０は、第１方向Ｘおよび第２方向Ｙにより定義される平面上で互いにオーバーラップしない。

【0040】

ボディ２２０（または第１側壁２２１）には多数の排気孔２２５１，２２５２，２２５３，２２５４が形成される。図示するように、第２方向Ｙに沿って第１排気孔２２５１、第２排気孔２２５２、第３排気孔２２５３、第４排気孔２２５４が順に配置される。

【0041】

第１排気孔２２５１は排気連結管２２９に最も近く、第４排気孔２２５４は排気連結管２２９から最も遠い。

【0042】

第１排気孔２２５１、第２排気孔２２５２、第３排気孔２２５３、第４排気孔２２５４を通じて、第１処理バス１０１のミストＰ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４が吸い込まれる。ボディ２２０，２３０の内部空間に入ってミストは、排気連結管２２９を通過して外部に排気する。

【0043】

ここで、排気連結管２２９は一側に片寄っているので、多数の排気孔２２５１，２２５２，２２５３，２２５４での圧力が異なる。したがって、多数の排気孔２２５１，２２５２，２２５３，２２５４での圧力を実質的に同様にするように、排気連結管２２９から遠くなるほど排気孔２２５１，２２５２，２２５３，２２５４のサイズが大きくなる。例えば、第２排気孔２２５２のサイズは第１排気孔２２５１のサイズより大きく、第３排気孔２２５３のサイズは第２排気孔２２５２のサイズより大きく、第４排気孔２２５４のサイズは第３排気孔２２５３のサイズより大きくてもよい。

【0044】

排気孔２２５１，２２５２，２２５３，２２５４の高さが同じであれば、排気孔２２５１，２２５２，２２５３，２２５４の幅が異なってもよい。すなわち、排気連結管２２９から遠くなるほど排気孔２２５１，２２５２，２２５３，２２５４の幅が大きくなってもよい。例えば、第２排気孔２２５２の幅Ｗ２は第１排気孔２２５１の幅Ｗ１より大きく、第３排気孔２２５３の幅Ｗ３は第２排気孔２２５２の幅Ｗ２より大きく、第４排気孔２２５４の幅Ｗ４は第３排気孔２２５３の幅Ｗ３より大きくてもよい。

【0045】

一方、前述したように、第２隔壁３５０が第１処理バス１０１と第３処理バス１０３の間に配置され、基板が通過するための出入口が形成されている。

【0046】

第２排気ユニット３１０は第１処理バス１０１と第３処理バス１０３の間に配置されて第２隔壁３５０と連結され、第２方向Ｙに沿って配置された多数の排気孔３２５１，３２５２，３２５３，３２５４を含み、第１処理バス１０１内のミストＰ５，Ｐ６，Ｐ７，Ｐ８を排気することができる。

【0047】

ここで図５を参照すると、第１隔壁２５０には、出入口２９９のサイズを調節できるカバー２５８が設けられる。

【0048】

第１隔壁２５０は出入口２９９を基準として上部に位置する上部隔壁２５０ａと、下部に位置する下部隔壁２５０ｂを含む。カバー２５８は上部隔壁２５０ａに設けられた第１カバー２５８ａと、下部隔壁２５０ｂに設けられた第２カバー２５８ｂを含む。

【0049】

ここで図３および図７を参照して、本発明の第１実施形態による基板処理装置１の動作を整理すると、次のとおりである。

【0050】

図３および図７を参照すると、第１処理バス１０１内で発生したミストは第１側壁２２１の前面に設けられた第１排気ユニット２１０の多数の排気孔２２５１，２２５２，２２５３，２２５４を通じて、ボディ２１０の内部空間に吸い込まれる。ボディ２１０の内部空間に沿って排気連結管２２９を介して外部に排気する。

【0051】

また、第１側壁２２１に付いた薬液Ｂ１は、第１連結壁２２２に沿って移動して（薬液Ｂ２を参照）、第１隔壁２５０に沿って移動してドロップ防止構造物２８０内に入る（薬液Ｂ３を参照）。

【0052】

前述したように、第１処理バス１０１内にミストを制御して工程不良を最小化することができる。

【0053】

図８は本発明の第２実施形態による基板処理装置を説明するための図である。説明の便宜上、図１ないし図７を用いて説明した内容と異なる点を中心に説明する。

【0054】

図８を参照すると、本発明の第２実施形態による基板処理装置で、例えば、第２排気孔２２５２のサイズは第１排気孔２２５１のサイズと同じであり、第３排気孔２２５３のサイズは第２排気孔２２５２のサイズより大きく、第４排気孔２２５４のサイズは第３排気孔２２５３のサイズと同じであってもよい。

【0055】

排気孔２２５１，２２５２，２２５３，２２５４の高さが同じである場合、排気孔２２５１，２２５２，２２５３，２２５４の幅が異なるように制御されることができる。例えば、第２排気孔２２５２の幅Ｗ２は第１排気孔２２５１の幅Ｗ１と同じであり、第３排気孔２２５３の幅Ｗ３は第２排気孔２２５２の幅Ｗ２より大きく、第４排気孔２２５４の幅Ｗ４は第３排気孔２２５３の幅Ｗ３と同じであってもよい。

【0056】

図９は本発明の第３実施形態による基板処理装置を説明するための図である。説明の便宜上、図１ないし図７を用いて説明した内容と異なる点を中心に説明する。

【0057】

図９を参照すると、本発明の第３実施形態による基板処理装置で、第１側壁に、排気孔２２５３，２２５４のサイズを調節するための排気カバー２２５３ａ，２２５４ａが設けられる。

【0058】

排気カバー２２５３ａ，２２５４ａを一方向に移動させて、排気孔２２５３，２２５４のサイズを調節することができる（図面符号Ｈ１，Ｈ２参照）。例えば、各排気孔２２５３，２２５４での圧力を実質的に同様にするように、排気カバー２２５３ａ，２２５４ａを調節して排気孔２２５３，２２５４のサイズを調節する。

【0059】

図１０は本発明の第３実施形態による基板処理装置を説明するための図である。説明の便宜上、図１ないし図７を用いて説明した内容と異なる点を中心に説明する。

【0060】

図１０を参照すると、本発明の第３実施形態による基板処理装置で、第１排気ユニット２１０は第１隔壁２５０の一側にのみ設けられ、第１処理バス１０１で発生したミストを排気する。第１排気ユニット２１０は第２処理バス１０２で発生したミストを排気しなくてもよい。

【0061】

同様に、第２排気ユニット３１０は第２隔壁３５０の一側にのみ設けられ、第１処理バス１０１で発生したミストを排気する。第２排気ユニット３１０は第３処理バス１０３で発生したミストを排気しなくてもよい。

【0062】

図１１は本発明の第４実施形態による基板処理装置を説明するための図である。説明の便宜上、図１ないし図７を用いて説明した内容と異なる点を中心に説明する。

【0063】

図１１を参照すると、本発明の第４実施形態による基板処理装置で、第１隔壁２５０には、出入口２９９のサイズを調節できるカバー２５８ａが設けられる。第１隔壁２５０は出入口２９９を基準として上部に位置する上部隔壁２５０ａと、下部に位置する下部隔壁２５０ｂを含む。カバー２５８ａは上部隔壁２５０ａにのみ設けられる。

【0064】

以上、添付する図面を参照して本発明の実施形態について説明したが、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者は本発明がその技術的思想や必須の特徴を変更せず他の具体的な形態で実施できることを理解することができる。したがって、上記一実施形態はすべての面で例示的なものであり、限定的なものではないと理解しなければならない。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】