特許 7430264出願番号特願 2022-536746
半導体処理装置及び半導体処理装置の誘電体窓洗浄方法

出願人ベイジン・ナウラ・マイクロエレクトロニクス・イクイップメント・カンパニー・リミテッド（識別番号 520266443）

2026年特許公開件数ランキング 27965位 0件（※）

2026年特許取得件数ランキング 22987位 1件（※）

公報発行日　2024年2月9

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7430264　ログイン済みの方はこのURLへ

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※ 共同出願を含む

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[0001]一般に半導体処理分野に関し、より詳細には、半導体処理装置及び半導体処理装置の誘電体窓洗浄方法

【図1】 [0024]図１は、本開示のいくつかの実施形態による、半導体処理装置の概略構造図である。

【図2】 [0025]図２は、本開示のいくつかの実施形態による、インピーダンス調節アセンブリの概略構造図である。

【図3】 [0026]図３は、本開示のいくつかの実施形態による、別のインピーダンス調節アセンブリの概略構造図である。

【図4】 [0027]図４は、本開示のいくつかの実施形態による、洗浄電極の概略構造図である。

【図5】 [0028]図５は、本開示のいくつかの実施形態による、半導体処理装置の誘電体窓洗浄方法の概略フローチャートである。

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