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▶ ヴィスタゲン セラピューティクス、インコーポレイテッドの特許一覧
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-02-05
(45)【発行日】2024-02-14
(54)【発明の名称】４－クロロキヌレニンおよび中間体の合成
(51)【国際特許分類】
C07C 227/18 20060101AFI20240206BHJP
C07C 229/40 20060101ALI20240206BHJP
C07C 271/22 20060101ALI20240206BHJP
C07C 269/06 20060101ALI20240206BHJP
C07B 61/00 20060101ALN20240206BHJP
【ＦＩ】
C07C227/18
C07C229/40
C07C271/22
C07C269/06
C07B61/00 300
【請求項の数】
16
(21)【出願番号】P 2020542907
(86)(22)【出願日】2019-02-11
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2021-05-20
(86)【国際出願番号】 US2019017448
(87)【国際公開番号】W WO2019157426
(87)【国際公開日】2019-08-15
【審査請求日】2022-02-10
(31)【優先権主張番号】62/628,580
(32)【優先日】2018-02-09
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(73)【特許権者】
【識別番号】515198393
【氏名又は名称】ヴィスタゲン セラピューティクス、インコーポレイテッド
(74)【代理人】
【識別番号】110000855
【氏名又は名称】弁理士法人浅村特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】レビン、ダニエル
(72)【発明者】
【氏名】リーミング、ピーター
(72)【発明者】
【氏名】アイゼンライク、エメリッヒ
(72)【発明者】
【氏名】リュー、シュエジュン、カール
【審査官】神野 将志
(56)【参考文献】
【文献】特表２０１６－５１３７１８（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２０１６－５１３７０９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平０５－０８６０２７（ＪＰ，Ａ）
【文献】J. Chem. Soc., Perkin Trans. 1，1997年，865-870，1997,865-870https://doi.org/10.1039/A606394B
【文献】Organic Syntheses，2005年，Vol. 81，pp. 77-88
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０７Ｃ
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
以下を含む、スキームＩによる４－クロロキヌレニン（８）のエナンチオ特異的調製の方法：【化1】
スキームＩにおいて、式中、
Ｒは、Ｃ１～Ｃ１２アルキル基、Ｃ１～Ｃ１２アルカリール（ａｌｋ－ａｒｙｌ）基、アリール基、またはヘテロアリール基であり、
＊は、全体を通して維持される単一のエナンチオマーまたはエナンチオマーの混合物であってもよい不斉炭素を示し、
ＰＧは、アミノ保護基であり、
Ｔｓは、トシル基であり、
Ｒ１は、ＮＨ２、ＮＨ（ＰＧ）、またはＮＯ２であり、
Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、トリフレート、またはトシレートであり、
スキームＩは、
好適な反応条件下で、保護されたセリンエステル（１）をトルエンスルホニルクロリドと反応させて、前記保護されたセリンエステルをその対応するトシレート（２）に変換する、ステップ１と、
光の非存在下及び不活性雰囲気下、かつ好適な反応条件下において、前記トシレート（２）をヨウ化ナトリウムまたはヨウ化カリウムと反応させて、前記トシル基をヨウ素で置換し、対応するヨード中間体（３）を形成する、ステップ２と、
光の非存在下、かつ好適な反応条件下において、前記ヨード中間体（３）をｉｎ ｓｉｔｕで亜鉛試薬（４）に変換し、好適な反応条件下、パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］の存在下で、かつ連続的な表面下ＣＯ添加および／またはＣＯ圧のいずれかにより持続的な溶存ＣＯ濃度を維持しながら、前記亜鉛試薬（４）を化合物（５）と反応させるカルボニル化反応を介して、保護されたエステル化合物（６）を形成し、
任意選択的に、前記保護されたエステル化合物（６）を精製する、ステップ３と、
光の非存在下、かつ好適な反応条件下において、前記保護されたエステル化合物（６）を脱保護して、いずれの保護基ＰＧを除去し、Ｒ１がＮＯ２である場合は前記ＮＯ２基をＮＨ２基に還元して、エステル（７）を形成し、好適な反応条件下、空気に曝すことなく、光の非存在下、ｐＨを酸性ｐＨに調整して、前記エステル（７）を脱保護して４－クロロキヌレニン（８）を形成し、ここで、保護されたエステル化合物（６）の脱保護、エステル（７）の脱保護およびＮＯ２基のＮＨ２基への還元反応は、単一のステップまたは複数のステップで行われる、ステップ４。
【請求項2】
以下のうちの少なくとも１つをさらに含む、請求項１に記載の方法：ステップ１において、触媒量の４－ジメチルアミノピリジンが存在すること、および任意選択的に、前記トシレート（２）を単離して再結晶化すること、
ステップ２において、前記反応混合物を水に水性クエンチして、前記ヨード中間体（３）を沈殿させること、および任意選択的に、前記ヨード中間体（３）の再結晶化を行うこと、
ステップ３において、前記パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］がテトラキスＰｄ（０）であり、ＣＯ圧が１ｐｓｉｇ～１，０００ｐｓｉｇの範囲であること、ならびに
ステップ４において、ジオキサン中でＨＣｌを使用して、前記保護されたエステル化合物（６）を脱保護して、いずれの保護基ＰＧも除去し、空気または湿気に曝すことなく、光の非存在下で、前記エステル（７）を単離し、別個の脱保護ステップで、１２．０～１２．５のｐＨおよびｐＨを酸性ｐＨに調整して（７）を加水分解して、４－クロロキヌレニン（８）を形成すること。
【請求項3】
ステップ４において、ｐＨを酸性ｐＨに調整して４－クロロキヌレニン（８）を形成する工程が以下のステップを含む、請求項１又は２に記載の方法：水性酸を用いる調整によりｐＨを６．５未満にすることにより、前記４－クロロキヌレニン（８）を遊離酸としてアルカリ性溶液から単離するステップと、
前記単離された遊離酸（８）を２未満のｐＨで水性酸中に溶解するステップと、
ｐＨを４．５～６．５に調整することによって、前記遊離酸（８）を沈殿させるステップと、
前記沈殿した遊離酸（８）を収集するステップと、
前記収集された遊離酸（８）を乾燥させ、
任意選択的に、前記収集された遊離酸（８）を有機溶媒または有機溶媒混合物を使用して粉砕し、前記粉砕された遊離酸（８）を乾燥させるステップ。
【請求項4】
Ｒは、Ｃ１～Ｃ６アルキル基であり、ＰＧは、ＢＯＣ、Ｆｍｏｃ、ベンジル、ベンゾイル、アルキルアミン、アリールアミン、ＴＦＡ、およびＣＢｚから選択されるアミン保護基であり、
Ｘは、Ｉである、請求項１～３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項5】
Ｒは、メチル基であり、ＰＧは、前記アミノ保護基ＢＯＣであり、
Ｘは、Ｉである、請求項４に記載の方法。
【請求項6】
以下を含む、スキームＩＩによるＬ－４－クロロキヌレニン（８ａ）の調製方法：【化2】
スキームＩＩにおいて、式中、Ｔｓは、トシル基であり、
スキームＩＩは、
好適な反応条件下で、ＢＯＣ－Ｌ－セリンメチルエステル（１ａ）を１～２モル当量のトルエンスルホニルクロリドと反応させて、前記ＢＯＣ－Ｌ－セリンメチルエステル（１ａ）をその対応するトシレート（２ａ）に変換する、ステップ１と、
光の非存在下及び不活性雰囲気下、かつ好適な反応条件下において、前記トシレート（２ａ）をヨウ化ナトリウムまたはヨウ化カリウムと反応させて、前記トシル基をヨウ素で置換し、対応するヨード中間体（３ａ）を形成する、ステップ２と、
光の非存在下、かつ好適な反応条件下において、前記ヨード中間体（３ａ）をｉｎ ｓｉｔｕで亜鉛試薬（４ａ）に変換し、パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］の存在下で、かつ連続的な表面下ＣＯ添加および／またはＣＯ圧のいずれかにより持続的な溶存ＣＯ濃度を維持しながら、前記亜鉛試薬（４ａ）を５－クロロ－ヨードアニリン化合物（５ａ）と反応させるカルボニル化反応を介して、ＢＯＣ保護メチルエステル化合物（６ａ）を形成し、
任意選択的に、前記保護されたエステル化合物（６ａ）を精製する、ステップ３と、
光の非存在下、かつ好適な反応条件下において、前記ＢＯＣ保護エステル化合物（６ａ）を脱保護して、前記保護基を除去し、メチルエステル（７ａ）を形成し、空気または湿気に曝さないように注意して、次いで、好適な反応条件下、空気に曝すことなく、光の非存在下で、ｐＨを酸性ｐＨに調整して前記メチルエステル（７ａ）を脱保護して、４－クロロキヌレニン（８ａ）を形成し、ここで、ＯＣ保護エステル化合物（６ａ）の脱保護、およびメチルエステル（７ａ）の脱保護は、単一のステップまたは２つのステップで行われる、ステップ４。
【請求項7】
以下のうちの少なくとも１つをさらに含む、請求項６に記載の方法：ステップ１において、触媒量の４－ジメチルアミノピリジンが存在すること、および任意選択的に、前記トシレート（２ａ）を単離して再結晶化すること、
ステップ２において、前記反応混合物を水中に水性クエンチして、前記ヨード中間体（３ａ）を沈殿させること、および任意選択的に、前記ヨード中間体（３ａ）の再結晶化を行うこと、
ステップ３において、前記パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］がテトラキスＰｄ（０）であり、ＣＯ圧が１ｐｓｉｇ～１，０００ｐｓｉｇの範囲であること、ならびに
ステップ４において、ジオキサン中でＨＣｌを使用して、前記ＢＯＣ保護エステル化合物（６ａ）を脱保護し、前記単離された固体を空気または湿気に曝すことなく、光の非存在下で、前記メチルエステル（７ａ）を単離し、別個の脱保護ステップで、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、およびＬｉＯＨから選択される水性塩基で（７ａ）を加水分解すること。
【請求項8】
ステップ４において、ｐＨを酸性ｐＨに調整してＬ－４－クロロキヌレニン（８ａ）を形成する工程が以下のステップを含む、請求項６または請求項７に記載の方法：水性酸を用いる調整によりｐＨを６．５未満にすることにより、前記Ｌ－４－クロロキヌレニン（８ａ）を遊離酸としてアルカリ性溶液から単離するステップと、
前記単離された遊離酸（８ａ）を２未満のｐＨで水性酸に溶解するステップと、
ｐＨを４．５～６．５に調整することによって、前記遊離酸（８ａ）を沈殿させるステップと、
前記沈殿した遊離酸（８ａ）を収集するステップと、
前記収集した遊離酸（８ａ）を乾燥させ、
任意選択的に、前記収集された遊離酸（８ａ）を有機溶媒または有機溶媒混合物を用いて粉砕し、前記粉砕された遊離酸（８ａ）を乾燥させるステップ。
【請求項9】
以下を含む、化合物３から化合物６を調製する方法：【化3】
式中、
Ｒは、Ｃ１～Ｃ１２アルキル基、Ｃ１～Ｃ１２アルカリール（ａｌｋ－ａｒｙｌ）基、アリール基、またはヘテロアリール基であり、
ＰＧは、アミノ保護基であり、
Ｒ１は、ＮＨ２、ＮＨ（ＰＧ）、またはＮＯ２であり、
Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、トリフレート、またはトシレートであり、
光の非存在下、かつ好適な反応条件下において、前記ヨード中間体（３）をｉｎ ｓｉｔｕで亜鉛試薬（４）に変換するステップと、好適な反応条件下、パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］の存在下で、かつ連続的な表面下ＣＯ添加および／またはＣＯ圧のいずれかにより持続的な溶存ＣＯ濃度を維持しながら、前記亜鉛試薬（４）を化合物（５）と反応させるカルボニル化反応を介して、保護されたエステル化合物（６）を形成し、
任意に、前記保護されたエステル化合物（６）を精製するステップ。
【請求項10】
前記パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］がテトラキスＰｄ（０）であり、ＣＯ圧が１ｐｓｉｇ～１，０００ｐｓｉｇの範囲である、請求項９に記載の方法。
【請求項11】
化合物３ａから化合物６ａを調製する方法であって、【化4】
光の非存在下、かつ好適な反応条件下において、前記ヨード中間体（３ａ）をｉｎ ｓｉｔｕで亜鉛試薬（４ａ）に変換するステップと、パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］の存在下で、かつ連続的な表面下ＣＯ添加および／またはＣＯ圧のいずれかにより持続的な溶存ＣＯ濃度を維持しながら、前記亜鉛試薬（４ａ）を５－クロロ－ヨードアニリン化合物（５ａ）と反応させるカルボニル化反応を介して、ＢＯＣ保護メチルエステル化合物（６ａ）を形成し、
任意選択的に、前記保護されたエステル化合物（６ａ）を精製するステップと、を含む、方法。
【請求項12】
前記パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］がテトラキスＰｄ（０）であり、ＣＯ圧が１ｐｓｉｇ～１，０００ｐｓｉｇの範囲である、請求項１１に記載の方法。
【請求項13】
以下を含む、化合物（６ａ）からＬ－４－クロロキヌレニン（８ａ）を調製する方法：【化7】
光の非存在下、かつ好適な反応条件下において、前記ＢＯＣ保護エステル化合物（６ａ）を脱保護して、前記保護基を除去して、空気または湿気に曝さないように注意してメチルエステル（７ａ）を形成するステップと、
次いで、好適な反応条件下、空気に曝すことなく、光の非存在下で、ｐＨを酸性ｐＨに調整して前記メチルエステル（７ａ）を脱保護して４－クロロキヌレニン（８ａ）を形成するステップと、
を含み、ここで、前記ＢＯＣ保護エステル化合物（６ａ）の脱保護、およびメチルエステル（７ａ）の脱保護は、単一のステップまたは２つのステップで行われる。
【請求項14】
以下を含む、請求項１３に記載の方法：前記脱保護ステップが、
ジオキサン中でＨＣｌを使用して、前記ＢＯＣ保護エステル化合物（６ａ）を脱保護し、前記単離された固体を空気または湿気に曝すことなく、光の非存在下で、前記メチルエステル（７ａ）を単離し、別個の脱保護ステップで、ＬｉＯＨ、ＮａＯＨ、およびＫＯＨから選択される水性塩基で、１２．０～１２．５のｐＨおよびｐＨを酸性ｐＨに調整して（７ａ）を加水分解して、Ｌ－４－クロロキヌレニン（８ａ）を形成すること。
【請求項15】
メチルエステル（７ａ）をから４－クロロキヌレニン（８ａ）を形成するステップにおいて、ｐＨを酸性ｐＨに調整してＬ－４－クロロキヌレニン（８ａ）を形成する工程が以下のステップを含む、請求項１３または請求項１４に記載の方法：水性ＨＣｌで、ｐＨ４．８～６．０にｐＨを調整することによって、アルカリ性溶液から前記遊離酸（８ａ）を単離するステップと、
前記単離された遊離酸（８ａ）を０．５～０．９のｐＨで水性酸に溶解するステップと、
ｐＨ４．８～６．０に、ｐＨを調整することによって、前記遊離酸（８ａ）を沈殿させるステップと、
前記沈殿した遊離酸（８ａ）を収集するステップと、
前記収集した遊離酸（８ａ）を乾燥させるステップ。
【請求項16】
調製された前記Ｌ－４－クロロキヌレニン（８ａ）は、Ｄ－４－クロロキヌレニンのキラル純度が０．５％以下である、請求項６、７または８に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
関連出願の相互参照
本出願は、２０１８年２月９日に出願された米国特許出願第６２／６２８，５８０号の優先権を主張するものであり、その開示は、参照により本明細書に援用される。
本出願は、２０１８年２月９日に出願された米国特許出願第６２／６２８，５８０号の優先権を主張するものであり、その開示は、参照により本明細書に援用される。
【0002】
本発明は、４－クロロキヌレニン化合物のエナンチオ制御合成に関し、具体的には、Ｌ－４－クロロキヌレニンのエナンチオ制御合成に関する。本発明の合成法は、商業量でＬ－４－クロロキヌレニンを生成し、商業製造のために拡張可能である。本発明はまた、本発明の合成における特定の化学中間体に関する。
【背景技術】
【0003】
キヌレン酸は、抗けいれんおよび神経保護の特性を有する代謝関連の脳成分である（Ｓｔｏｎｅ，Ｔ．Ｗ．；Ｐｈａｒｍａｃａｌ．Ｒｅｖ．１９９３，４５，３０９－３７９）。キヌレン酸およびそのキヌレニン前駆体の種々の誘導体の生物学的活性が研究されている（Ｃａｍａｃｈｏ，Ｅ．ｅｔ ａｌ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｒｎ．２００２，４５，２６３－２７４、Ｖａｒａｓｉ，Ｍ．ｅｔ ａｌ．Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｒｎ．１９９６，３１，１１－２１、Ｓａｌｉｔｕｒｏ，Ｆ．Ｇ．ｅｔａｌ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｒｎ．１９９４，３７，３３４－３３６）。キヌレニン化合物は、インビボでキヌレン酸に変換される。米国特許第５，５４７，９９１号には、４，６－二置換トリプトファン誘導体の製造方法およびＮ－メチル－Ｄ－アスパラギン酸（ＮＭＤＡ）のアンタゴニストとしてのそれらの使用が記載されている。
【0004】
一酸化炭素雰囲気下で、ヨードアラニン由来有機亜鉛試薬とヨウ化アリールとのパラジウム（０）触媒反応を介したＬ－キヌレニンの実験室規模の合成が、Ｊａｃｋｓｏｎ，ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｃｈｅｍ Ｓｏｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．１，１９９７，８６５によって報告されている。Ｊａｃｋｓｏｎらが報告した実験手順では、確かに実験室規模でＬ－キヌレニンを提供するものの、手順には問題および制限があり、医薬品グレードの製造における直接的な使用には適していない。例えば、その手順は、許容される生成物純度を達成するのに、高価で低負荷の分取クロマトグラフィーが必要とされるように、副生成物に関して不良な選択性を示す。温度および発熱に関する制御が不十分であるため、スケールアップするには、手順が適しておらず、安全ではない。この合成は、いくつかの置換ヨウ化アリールを伴う効率（収率）の悪化が示されており、気液界面を横切るガス物質移動のような、他の未対処のスケール限定要因が存在する。記載された反応条件は、スケールアップ効率を制限するカルボニル化反応の反応混合物において、十分なＣＯ溶解速度およびＣＯ濃度を可能にするのに必要なＣＯガス物質移動効率を達成するために、低い静的ＣＯ圧力を有し、反応混合物の表面積対体積比が非常に大きい。そのような問題および欠点のため、それに記載された実験室規模での合成は、商業規模での直接的な使用、および経済的で高品質な医薬品活性成分の製造には適していない。
【0005】
Ｌ－４－クロロキヌレニンは、Ｌ－７－クロロキヌレン酸のプロドラッグであり、Ｌ－４－クロロキヌレニンは、投与後、中枢神経系（ＣＮＳ）に容易に到達する。Ｌ－４－クロロキヌレニンは、おそらく、生理学的ｐＨで両性イオンであり、活性化アストロサイト内でＬ－７－クロロキヌレン酸に効率的に変換され、Ｌ－４－クロロキヌレニンの投与後、アストロサイト活性化の結果として、神経細胞損傷または興奮毒性傷害の部位で、Ｌ－７－クロロキヌレン酸の脳内レベルが増加する。前臨床研究では、Ｌ－４－クロロキヌレニンは、ラットで抗けいれん活性を示している。また、この化合物は、ラットの脳内のドーパミン作動性ニューロンの発火頻度およびバースト発火活性を増加させることが見出された。国際特許出願第ＷＯ２０１４／１１６７３９（Ａ１）号およびＷＯ２０１６／１９１３５２（Ａ１）号、ならびにそれらに引用されている参考文献を参照されたい。Ｌ－４－クロロキヌレニンの有益な薬理学的特性および有効性を考慮すると、大きな商業規模で医薬品品質のＬ－４－クロロキヌレニンを製造するプロセスが必要とされる。
【0006】
Ｓａｌｉｔｕｒｏらによって記載されたＬ－４－クロロキヌレニンのエナンチオ選択的な合成を、グラム量のＬ－４－クロロキヌレニンの合成に使用した（Ｓａｌｉｔｕｒｏ，Ｆ．Ｇ．ｅｔ ａｌ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｒｎ．１９９４，３７，３３４－３３６）。この合成は、塩化トリメチルスズ、水素化ナトリウム、およびｔｅｒｔ－ブチルリチウムのような危険性および／または毒性のある試薬を使用すること、ならびに特定の構成要素（ｂｕｉｌｄｉｎｇ ｂｌｏｃｋ）の利用可能性が低いことから、商業的製造規模でのスケールアップには実用的ではない。
【0007】
Ｌ－４－クロロキヌレニンを含む４，６－二置換キヌレニン誘導体のクラスの合成方法、およびＮＭＤＡ受容体に対するアンタゴニストとしてのそれらの使用は、米国特許第５，５４７，９９１号に記載されている。また、これらの化合物を含有する医薬組成物およびそれらの治療的使用も記載されている。
【0008】
４－クロロキヌレニンのラセミ合成は、Ｖａｒａｓａｉ ｅｔ ａｌ．，Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｒｎ．
１９９６，３１，１１－２１に報告されている。しかしながら、それに記載されているジアステレオマー塩の結晶化によるエナンチオマーの分離について、実験は成功せず、また、それに記載されている分取用高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）ついても、難溶解性のために実質的に成功しなかった。
１９９６，３１，１１－２１に報告されている。しかしながら、それに記載されているジアステレオマー塩の結晶化によるエナンチオマーの分離について、実験は成功せず、また、それに記載されている分取用高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）ついても、難溶解性のために実質的に成功しなかった。
【0009】
Ｌ－４－クロロキヌレニンへの２つのエナンチオ選択的な合成経路は、国際特許出願第ＷＯ２０１４／１５２７５２号および第ＷＯ２０１４／１５２８３５号に開示されている。ＷＯ２０１４／１５２７５２は、アニリン出発物質からのＬ－４－クロロキヌレニンの合成を開示している。ＷＯ２０１４／１５２８３５による合成は、インドールアルデヒド出発物質を使用して、酸化的開環ステップを通して進行する。
【0010】
毒性および／または危険性のある試薬、あるいは高価で低収率な精製技術の使用を必要とせず、商業的に入手可能な試薬を使用して商業的に適切なスケールで達成することができる、改良されたＬ－４－クロロキヌレニンの合成が必要とされている。高い化学純度、かつ高いキラル純度で、クロロキヌレニン化合物、特にＬ－４－クロロキヌレニンを生成することができる、大規模製造に好適な合成が必要性とされている。商業的製造規模で安全かつ頑強な操作についても好適である一方、規制要件を満たす医薬品品質の物質の商業製造に好適なＬ－４－クロロキヌレニンの効率的かつ頑強な合成が必要とされている。
【発明の概要】
【0011】
一つの実施形態では、本発明は、以下のスキームＩおよびＩＩに示されるように、４－クロロキヌレニン化合物（８）、特に、Ｌ－４－クロロキヌレニン（８ａ）の全体的なエナンチオ特異的合成に関する。本発明は、安全、効率的、および拡張可能な立体制御製造に好適な改良されたプロセス条件を有するそれらの調製方法に関する。本発明の方法は、以前に報告された合成の限界および欠点を克服する。
【0012】
本発明は、スキームＩによる４－クロロキヌレニン（８）のエナンチオ特異的な調製方法に関し、
スキームＩにおいて、式中、Ｒは、Ｃ１～Ｃ１２アルキル基、Ｃ１～Ｃ１２アルカリール基、アリール基、またはヘテロアリール基であり、＊は、全体を通して維持される単一のエナンチオマーまたはエナンチオマーの混合物であってもよい不斉炭素を示し、ＰＧは、アミノ保護基であり、Ｔｓは、トシル基であり、Ｒ１は、ＮＨ２、ＮＨ（ＰＧ）またはＮＯ２であり、および、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、トリフレートまたはトシレートである。本発明の方法は、以下のステップを有する：
好適な反応条件下で、保護されたセリンエステル（１）をトルエンスルホニルクロリドと反応させて、保護されたセリンエステルをその対応するトシレート（２）に変換する、ステップ１と、
好適な反応条件下、光の非存在下、不活性雰囲気下で、トシレート（２）をヨウ化ナトリウムまたはヨウ化カリウムと反応させて、トシル基をヨウ素で置換し、対応するヨード中間体（３）を形成する、ステップ２と、
好適な反応条件下、光の非存在下で、ヨード中間体（３）をｉｎ ｓｉｔｕで亜鉛試薬（４）に変換し、好適な反応条件下、パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］の存在下で、かつ連続的な表面下ＣＯ添加および／またはＣＯ圧のいずれかにより持続的な溶存ＣＯ濃度を維持しながら、亜鉛試薬（４）を化合物（５）と反応させるカルボニル化反応を介して、保護されたエステル化合物（６）を形成し、
任意選択的に、保護されたエステル化合物（６）を精製する、ステップ３と、
好適な反応条件下、光の非存在下で、保護されたエステル化合物（６）を脱保護して、いずれの保護基ＰＧも除去し、Ｒ１がＮＯ２である場合はＮＯ２基をＮＨ２基に還元して、エステル（７）を形成し、好適な反応条件下、空気に曝すことなく、光の非存在下で、エステル（７）を脱保護（加水分解）して、酸性ｐＨに調整後、４－クロロキヌレニン（８）を形成する、ステップ４と、
を含み、ここで、脱保護および還元反応は、単一のステップまたは複数のステップで行われる。
【化1】
スキームＩにおいて、式中、Ｒは、Ｃ１～Ｃ１２アルキル基、Ｃ１～Ｃ１２アルカリール基、アリール基、またはヘテロアリール基であり、＊は、全体を通して維持される単一のエナンチオマーまたはエナンチオマーの混合物であってもよい不斉炭素を示し、ＰＧは、アミノ保護基であり、Ｔｓは、トシル基であり、Ｒ１は、ＮＨ２、ＮＨ（ＰＧ）またはＮＯ２であり、および、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、トリフレートまたはトシレートである。本発明の方法は、以下のステップを有する：
好適な反応条件下で、保護されたセリンエステル（１）をトルエンスルホニルクロリドと反応させて、保護されたセリンエステルをその対応するトシレート（２）に変換する、ステップ１と、
好適な反応条件下、光の非存在下、不活性雰囲気下で、トシレート（２）をヨウ化ナトリウムまたはヨウ化カリウムと反応させて、トシル基をヨウ素で置換し、対応するヨード中間体（３）を形成する、ステップ２と、
好適な反応条件下、光の非存在下で、ヨード中間体（３）をｉｎ ｓｉｔｕで亜鉛試薬（４）に変換し、好適な反応条件下、パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］の存在下で、かつ連続的な表面下ＣＯ添加および／またはＣＯ圧のいずれかにより持続的な溶存ＣＯ濃度を維持しながら、亜鉛試薬（４）を化合物（５）と反応させるカルボニル化反応を介して、保護されたエステル化合物（６）を形成し、
任意選択的に、保護されたエステル化合物（６）を精製する、ステップ３と、
好適な反応条件下、光の非存在下で、保護されたエステル化合物（６）を脱保護して、いずれの保護基ＰＧも除去し、Ｒ１がＮＯ２である場合はＮＯ２基をＮＨ２基に還元して、エステル（７）を形成し、好適な反応条件下、空気に曝すことなく、光の非存在下で、エステル（７）を脱保護（加水分解）して、酸性ｐＨに調整後、４－クロロキヌレニン（８）を形成する、ステップ４と、
を含み、ここで、脱保護および還元反応は、単一のステップまたは複数のステップで行われる。
【0013】
本発明はまた、スキームＩＩによるＬ－４－クロロキヌレニン（８ａ）の調製方法に関し、
スキームＩＩにおいて、式中、Ｔｓは、トシル基である。本発明の方法は、以下のステップを有する：
好適な反応条件下で、ＢＯＣ－Ｌ－セリンメチルエステル（１ａ）をトルエンスルホニルクロリドと反応させて、ＢＯＣ－Ｌ－セリンメチルエステル（１ａ）をその対応するトシレート（２ａ）に変換する、ステップ１と、
好適な反応条件下、光の非存在下、不活性雰囲気下で、トシレート（２ａ）をヨウ化ナトリウムまたはヨウ化カリウムと反応させて、トシル基をヨウ素で置換し、対応するヨード中間体（３ａ）を形成する、ステップ２と、
好適な反応条件下、光の非存在下で、ヨード中間体（３ａ）をｉｎ ｓｉｔｕで亜鉛試薬（４ａ）に変換し、パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］の存在下で、かつ連続的な表面下ＣＯ添加および／またはＣＯ圧のいずれかにより持続的な溶存ＣＯ濃度を維持しながら、亜鉛試薬（４ａ）を５－クロロ－ヨードアニリン化合物（５ａ）と反応させるカルボニル化反応を介して、ＢＯＣ保護メチルエステル化合物（６ａ）を形成し、
任意選択的に、保護されたエステル化合物（６ａ）を精製する、ステップ３と、
好適な反応条件下、光の非存在下で、ＢＯＣ保護エステル化合物（６ａ）を脱保護して、保護基を除去し、メチルエステル（７ａ）を形成し、単離された固体を空気または湿気に曝さないように注意して、次いで、好適な反応条件下、空気に曝すことなく、光の非存在下で、メチルエステル（７ａ）を脱保護（加水分解）して、酸性ｐＨに調整後、４－クロロキヌレニン（８ａ）を形成する、ステップ４と、
を含み、ここで、脱保護反応は、単一のステップまたは２つのステップで行われる。
【化2】
スキームＩＩにおいて、式中、Ｔｓは、トシル基である。本発明の方法は、以下のステップを有する：
好適な反応条件下で、ＢＯＣ－Ｌ－セリンメチルエステル（１ａ）をトルエンスルホニルクロリドと反応させて、ＢＯＣ－Ｌ－セリンメチルエステル（１ａ）をその対応するトシレート（２ａ）に変換する、ステップ１と、
好適な反応条件下、光の非存在下、不活性雰囲気下で、トシレート（２ａ）をヨウ化ナトリウムまたはヨウ化カリウムと反応させて、トシル基をヨウ素で置換し、対応するヨード中間体（３ａ）を形成する、ステップ２と、
好適な反応条件下、光の非存在下で、ヨード中間体（３ａ）をｉｎ ｓｉｔｕで亜鉛試薬（４ａ）に変換し、パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］の存在下で、かつ連続的な表面下ＣＯ添加および／またはＣＯ圧のいずれかにより持続的な溶存ＣＯ濃度を維持しながら、亜鉛試薬（４ａ）を５－クロロ－ヨードアニリン化合物（５ａ）と反応させるカルボニル化反応を介して、ＢＯＣ保護メチルエステル化合物（６ａ）を形成し、
任意選択的に、保護されたエステル化合物（６ａ）を精製する、ステップ３と、
好適な反応条件下、光の非存在下で、ＢＯＣ保護エステル化合物（６ａ）を脱保護して、保護基を除去し、メチルエステル（７ａ）を形成し、単離された固体を空気または湿気に曝さないように注意して、次いで、好適な反応条件下、空気に曝すことなく、光の非存在下で、メチルエステル（７ａ）を脱保護（加水分解）して、酸性ｐＨに調整後、４－クロロキヌレニン（８ａ）を形成する、ステップ４と、
を含み、ここで、脱保護反応は、単一のステップまたは２つのステップで行われる。
【0014】
本発明の他の実施形態では、スキームＩおよびＩＩに示される方法は、また、
ｐＨ調整として、水性酸を用いて４－クロロキヌレニン（８）／Ｌ－４－クロロキヌレニン（８ａ）を遊離酸としてアルカリ性溶液から単離して、ｐＨを６．５未満にするステップと、
単離された遊離酸（８）／（８ａ）を２未満のｐＨで水性酸に溶解するステップと、
ｐＨを４．５～６．５に調整することによって、遊離酸（８）／（８ａ）を沈殿させるステップと、
沈殿した遊離酸（８）／（８ａ）を収集するステップと、
収集された遊離酸（８）／（８ａ）を乾燥させ、
任意選択的に、収集された遊離酸（８）／（８ａ）を有機溶媒または有機溶媒混合物を用いて粉砕し、粉砕された遊離酸（８）／（８ａ）を乾燥させるステップと、を含んでもよい。
ｐＨ調整として、水性酸を用いて４－クロロキヌレニン（８）／Ｌ－４－クロロキヌレニン（８ａ）を遊離酸としてアルカリ性溶液から単離して、ｐＨを６．５未満にするステップと、
単離された遊離酸（８）／（８ａ）を２未満のｐＨで水性酸に溶解するステップと、
ｐＨを４．５～６．５に調整することによって、遊離酸（８）／（８ａ）を沈殿させるステップと、
沈殿した遊離酸（８）／（８ａ）を収集するステップと、
収集された遊離酸（８）／（８ａ）を乾燥させ、
任意選択的に、収集された遊離酸（８）／（８ａ）を有機溶媒または有機溶媒混合物を用いて粉砕し、粉砕された遊離酸（８）／（８ａ）を乾燥させるステップと、を含んでもよい。
【0015】
本発明の別の実施形態は、化合物３から化合物６を調製する方法に関し
式中、Ｒは、Ｃ１－Ｃ１２アルキル基、Ｃ１－Ｃ１２アルカリール基、アリール基、またはヘテロアリール基であり、＊は、全体を通して維持される単一のエナンチオマーまたはエナンチオマーの混合物であってもよい不斉炭素を示し、ＰＧは、アミノ保護基であり、Ｔｓは、トシル基であり、Ｒ１は、ＮＨ２、ＮＨ（ＰＧ）またはＮＯ２であり、および、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、トリフレートまたはトシレートである。本方法は、以下のステップを有する：好適な反応条件下、光の非存在下で、ヨード中間体（３）をｉｎ ｓｉｔｕで亜鉛試薬（４）に変換するステップと、好適な反応条件下、パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］の存在下で、かつ連続的な表面下ＣＯ添加および／またはＣＯ圧のいずれかにより持続した溶存ＣＯ濃度を維持しながら、亜鉛試薬（４）を化合物（５）と反応させるカルボニル化反応を介して、保護されたエステル化合物（６）を形成し、任意選択的に、保護されたエステル化合物（６）を精製するステップ。
【化3】
式中、Ｒは、Ｃ１－Ｃ１２アルキル基、Ｃ１－Ｃ１２アルカリール基、アリール基、またはヘテロアリール基であり、＊は、全体を通して維持される単一のエナンチオマーまたはエナンチオマーの混合物であってもよい不斉炭素を示し、ＰＧは、アミノ保護基であり、Ｔｓは、トシル基であり、Ｒ１は、ＮＨ２、ＮＨ（ＰＧ）またはＮＯ２であり、および、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、トリフレートまたはトシレートである。本方法は、以下のステップを有する：好適な反応条件下、光の非存在下で、ヨード中間体（３）をｉｎ ｓｉｔｕで亜鉛試薬（４）に変換するステップと、好適な反応条件下、パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］の存在下で、かつ連続的な表面下ＣＯ添加および／またはＣＯ圧のいずれかにより持続した溶存ＣＯ濃度を維持しながら、亜鉛試薬（４）を化合物（５）と反応させるカルボニル化反応を介して、保護されたエステル化合物（６）を形成し、任意選択的に、保護されたエステル化合物（６）を精製するステップ。
【0016】
本発明の別の実施形態は、化合物３ａから化合物６ａを調製する方法に関し、
好適な反応条件下、光の非存在下で、ヨード中間体（３ａ）をｉｎ ｓｉｔｕで亜鉛試薬（４ａ）に変換するステップと、パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］の存在下で、かつ連続的な表面下ＣＯ添加および／またはＣＯ圧のいずれかにより持続的な溶存ＣＯ濃度を維持しながら、亜鉛試薬（４ａ）を５－クロロ－ヨードアニリン化合物（５ａ）と反応させるカルボニル化反応を介して、ＢＯＣ保護メチルエステル化合物（６ａ）を形成し、任意選択的に、保護されたエステル化合物（６ａ）を精製するステップと、を含む。
【化4】
好適な反応条件下、光の非存在下で、ヨード中間体（３ａ）をｉｎ ｓｉｔｕで亜鉛試薬（４ａ）に変換するステップと、パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］の存在下で、かつ連続的な表面下ＣＯ添加および／またはＣＯ圧のいずれかにより持続的な溶存ＣＯ濃度を維持しながら、亜鉛試薬（４ａ）を５－クロロ－ヨードアニリン化合物（５ａ）と反応させるカルボニル化反応を介して、ＢＯＣ保護メチルエステル化合物（６ａ）を形成し、任意選択的に、保護されたエステル化合物（６ａ）を精製するステップと、を含む。
【0017】
別の実施形態では、本発明は、式６ａの合成中間体に関する：
【化5】
【0018】
別の実施形態では、本発明は、式７ａの合成中間体：
およびその酸塩に関する。
【化6】
およびその酸塩に関する。
【0019】
本発明の別の実施形態は、化合物（６ａ）からのＬ－４－クロロキヌレニン（８ａ）の調製方法である
本方法は、
好適な反応条件下、光の非存在下で、ＢＯＣ保護エステル化合物（６ａ）を脱保護して、保護基を除去し、メチルエステル（７ａ）を形成し、単離された固体を空気または湿気に曝さないように注意して、次いで、好適な反応条件下、空気に曝すことなく、光の非存在下で、メチルエステル（７ａ）を脱保護（加水分解）して、酸性ｐＨに調整後、４－クロロキヌレニン（８ａ）を形成し、ここで、脱保護および還元反応は、単一のステップまたは２つのステップで行われる。
【化7】
本方法は、
好適な反応条件下、光の非存在下で、ＢＯＣ保護エステル化合物（６ａ）を脱保護して、保護基を除去し、メチルエステル（７ａ）を形成し、単離された固体を空気または湿気に曝さないように注意して、次いで、好適な反応条件下、空気に曝すことなく、光の非存在下で、メチルエステル（７ａ）を脱保護（加水分解）して、酸性ｐＨに調整後、４－クロロキヌレニン（８ａ）を形成し、ここで、脱保護および還元反応は、単一のステップまたは２つのステップで行われる。
【発明を実施するための形態】
【0020】
本発明は、以下に示されるＬ－４－クロロキヌレニン（８ａ）などの４－クロロキヌレニン化合物（８）、（化学名（Ｓ）－２－アミノ－４－（２－アミノ－４－クロロフェニル）－４－オキソブタン酸とも称される）のエナンチオ特異的合成に関する。
【化8】
【0021】
以下のスキームＩおよびＩＩで繰り返して示されるように、本発明の方法は、４－クロロキヌレニンの調製全体にわたって２－位置でエナンチオ特異性を保持し、高いエナンチオマー純度を有する生成物をもたらす。アスタリスク（＊）は、不斉炭素を示し、単一のエナンチオマー（ＤまたはＬ）またはエナンチオマーの混合物（ＤおよびＬ）であってもよく、本発明の方法を通じて維持される。「エナンチオマー純度」または「キラル純度」は、組成物中の他のエナンチオマーと比較したときの組成物中の１つの特定のエナンチオマーの、全体的なレベルを意味する。いずれかのエナンチオマー以外の組成物の成分は、「エナンチオマー純度」または「キラル純度」の計算において考慮されない。エナンチオマー純度またはキラル純度は、キラルＨＰＬＣ分析を含む様々な技術によって測定することができる。エナンチオ特異性およびキラル純度は、化合物（３）／（３ａ）の調製に使用される出発物質（１）／（１ａ）のキラル純度によって制御され、その後、最終生成物（８）／（８ａ）に転送される。キラル中心は、合成全体を通じて保存される。Ｌ－４－クロロキヌレニン（８ａ）に関して、本発明の方法は、望ましくないＤ－異性体が０．５％以下のキラル純度を達成する。
【0022】
以下のスキームＩは、本発明による４－クロロキヌレニン化合物（８）の一般的かつ全体的なエナンチオ特異的調製を示す。
【化9】
【0023】
スキームＩにおいて、基Ｒは、Ｃ１～Ｃ１２アルキル基、Ｃ１～Ｃ１２アルカリール基、アリール基、またはヘテロアリール基である。アルキル基またはアルカリール基のアルキル部分は、直鎖状または分枝状であり得る。アルカリール基のアルキルまたはアルキル部分は、Ｃ１～Ｃ１２アルキルであり、好ましくはＣ１～Ｃ６アルキルである。例えば、Ｒは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ－ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、および上記の各アルキルの分岐変形であり得る。ＲがＣ１～Ｃ１２アルキル基である場合、最も好ましくはメチルまたはエチルである。ＲがＣ１～Ｃ１２アルカリール基である場合、Ｃ１～Ｃ１２アルキル基（または先ほど論じた好ましいアルキル基のうちの１つ）は、フェニル、ナフチル等のアリール基と結合する。Ｃ１～Ｃ１２アルカリール基は、例えば、ベンジル（ＣＨ２Ｃ６Ｈ５）、エチルフェニル（ＣＨ２ＣＨ２Ｃ６Ｈ５）、メチルナフチル（ＣＨ２Ｃ１０Ｈ９）等であり得る。Ｒに好適なアリール基としては、限定されないが、フェニル、ナフチル等が挙げられる。Ｒに好適なヘテロアリール基としては、限定されないが、フリル、チエニル、ピリジル等が挙げられる。
【0024】
当該技術分野で既知の任意のアミン保護基ＰＧを使用してもよい。好適なアミン保護基としては、限定されないが、アセチル（Ａｃ）、ｔ－ブチルオキシカルボニル（ＢＯＣ）、９－フルオロエニルメチルオキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）、ベンジル、ベンゾイル、カルボキシベンジル（ＣＢｚ）、ｐ－メトキシベンジルカルボニル（ＭＯＺ）等が挙げられる。例えば、Ｉｓｉｄｒｏ－Ｌｉｏｂｅｔ，ｅｔ．Ａｌ．Ｃｈｅｍ Ｒｅｖ．，２００９，１０９（６），２４５５－２５０４．を参照されたい。好ましい保護基としては、ＢＯＣおよびＦｍｏｃが挙げられる。
【0025】
化合物（２）上の基Ｔｓは、トシル基、ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ２である。
【0026】
基Ｘは、限定されないが、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、トリフレート、またはトシレート等の脱離基である。当該技術分野で既知の他の離脱基を使用してもよい。好ましい離脱基は、Ｉである。
スキームＩによる本発明の好ましい方法では、Ｒは、Ｃ１～Ｃ６アルキル基であり、ＰＧは、ＢＯＣ、Ｆｍｏｃ、ベンジル、ベンゾイル、アルキルアミン、アリールアミン、ＴＦＡ、およびＣＢｚから選択されるアミン保護基であり、Ｘは、Ｉである。別の方法では、Ｒは、メチル基であり、ＰＧは、アミノ保護基ＢＯＣであり、Ｘは、Ｉである。
スキームＩによる本発明の好ましい方法では、Ｒは、Ｃ１～Ｃ６アルキル基であり、ＰＧは、ＢＯＣ、Ｆｍｏｃ、ベンジル、ベンゾイル、アルキルアミン、アリールアミン、ＴＦＡ、およびＣＢｚから選択されるアミン保護基であり、Ｘは、Ｉである。別の方法では、Ｒは、メチル基であり、ＰＧは、アミノ保護基ＢＯＣであり、Ｘは、Ｉである。
【0027】
スキームＩＩは、本発明の特定の方法、本発明によるＬ－４－クロロキヌレニン（８ａ）の全体的な合成を示す。スキームＩＩの合成は、スキームＩの好ましい合成である。
【化10】
【0028】
一般に、本発明による４－クロロキヌレニンの調製方法は、スキームＩおよびＩＩに示されるように、以下の合成経路に沿って進行する。ステップ１では、保護されたセリンエステル（１）、例えば、ＢＯＣ－Ｌ－セリンメチルエステル（１ａ）は、まず、その対応するトシレート（２）／（２ａ）に変換される。ステップ２では、トシル基をヨウ素と置換して、ヨード中間体（３）／（３ａ）を形成する。ステップ３として、中間体（３）／（３ａ）のヨード基を、ｉｎ ｓｉｔｕでヨード亜鉛試薬（４）／（４ａ）に変換し、次いで（同ステップの一部として）、Ｌ－４－クロロキヌレニン（８ａ）の完全に保護された形態である保護エステル中間体（６）、例えば、ＢＯＣ保護メチルエステル中間体（６ａ）、を形成するために、一酸化炭素およびパラジウム（０）触媒［Ｐｄ］を使用して、脱離基Ｘを有する５－クロロアニリン化合物（５）、例えば、５－クロロ－２－ヨードアニリン（５ａ）、に結合される。保護されたエステル中間体（６）は、スキームＩまたはスキームＩＩの合成において、次のステップの前に精製してもよい。ステップ４において、脱保護が生じ、中間体（６）を、Ｌ－４－クロロキヌレニン（７）のエステル、例えば、Ｌ－４－クロロキヌレニン（７ａ）のメチルエステルに変換し、次いで、酸性ｐＨに調整後、Ｌ－４－クロロキヌレニン（８）、例えば、Ｌ－４－クロロキヌレニン（８ａ）の酸形態にエステル（７）の変換を行う。ステップ４における脱保護ステップは、当該技術分野で既知のように使用される特定の保護基に適切な反応条件を使用して、逐次的、または平行して行うことができる。
【0029】
本発明の一つの実施形態は、スキームＩによる４－クロロキヌレニン化合物（８）の調製方法である。本発明の別の実施形態は、下に記載のステップ１～４を使用して、スキームＩにより４－クロロキヌレニン（８）を調製する方法である。以下の実施例は、本発明の方法の付加的なステップおよび好ましい実施形態を記載する。
【0030】
スキームＩのステップ１では、好適な反応条件下で、保護されたセリンエステル（１）をトルエンスルホニルクロリドと反応させて、保護されたセリンエステルをその対応するトシレート（２）に変換する。好ましい実施形態では、１～２モル当量のトルエンスルホニルクロリドが、－５０℃～５０℃、－４０℃～４０℃、－３０℃～３０℃、－２０℃～２０℃、－１０℃～１０℃、好ましくは－５℃～５℃の範囲の反応温度で使用され得る。さらに好ましい実施形態では、ステップ１は、触媒量の４－ジメチルアミノピリジンの存在下で行われ、任意選択的に、トシレート（２）を単離して再結晶化することを含む。
【0031】
スキームＩのステップ２では、好適な反応条件下、光の非存在下、不活性雰囲気下で、トシレート（２）をヨウ化ナトリウムまたはヨウ化カリウム、好ましくはヨウ化ナトリウムと反応させて、トシル基をヨウ素で置換し、対応するヨード中間体（３）を形成する。好ましい実施形態では、反応温度は、－２０～６０℃、－１０～５０℃、０～４０℃、より好ましくは１０～３０℃の範囲であってよい。さらに好ましい実施形態では、ステップ２は、０℃～４０℃、０℃～３０℃、０℃～２０℃、より好ましくは０℃～１０℃の範囲の温度で、反応混合物を水中に水性クエンチして、ヨード中間体（３）を沈殿させることを含み、任意選択的に、ヨード中間体（３）を再結晶することを含む。
【0032】
スキームＩのステップ３では、好適な反応条件下、光の非存在下で、ヨード中間体（３）をｉｎ ｓｉｔｕで亜鉛試薬（４）に変換し、好適な反応条件下、パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］の存在下で、かつ連続的な表面下ＣＯ添加および／またはＣＯ圧のいずれかにより持続的な溶存ＣＯ濃度を維持しながら、亜鉛試薬（４）を化合物（５）と反応させるカルボニル化反応を介して、保護されたエステル化合物（６）を形成する。好ましい実施形態では、反応温度は、０～５０℃、１０～４０℃、１５～３５℃、より好ましくは２０～３０℃の範囲であってよい。カップリング反応に使用されるパラジウム（０）触媒を使用することができる。例えば、Ｃｏｌａｃｏｔ，Ｐｌａｔｉｎｕｍ Ｍｅｔａｌｓ Ｒｅｖ．，２０１２，５６，（２），１１０－１１６を参照されたい。Ｐｄ（０）触媒の配位子としては、例えば、ｄｐｐｍ、ｄｐｐｅ、ｄｐｐｐ、ｄｃｐｅ、ＰＰｈ３、Ｐ（シクロヘキシル）３、Ｐ（ｔ－Ｂｕ）３、Ｐ（Ｃ６Ｆ５）３、Ｐ（２，４，６－ＭｅＣ６Ｈ２）３等が挙げられる。好ましいＰｄ（０）触媒としては、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、（［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］またはテトラキスＰｄ（０））およびビス（トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィン）パラジウム（０）が挙げられる。ステップ３の好ましい実施形態では、パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］は、テトラキスＰｄ（０）であり、持続的な溶存ＣＯ濃度は、ＣＯガスの連続的な表面下添加またはＣＯガス圧によって維持される。カルボニル化反応混合物中へのＣＯガスの連続的な表面下添加またはＣＯガス圧による添加は、好ましくは反応混合物の総容量に対して約２～８％（好ましくは約４％）の定常状態の気泡容量を提供する速度で行われる（望ましくない副生成物の形成を軽減する）。好ましいＣＯ圧は、１ｐｓｉｇ～１００ｐｓｉｇの範囲である。ＣＯの連続的な表面下添加で操作するには、１～５ｐｓｉｇのＣＯ圧が好ましい。連続的に維持されたＣＯ加圧を有する閉鎖型加圧反応器で操作するには、２０～１００ｐｓｉｇのＣＯ圧が好ましい（より好ましくは８０～１００ｐｓｉｇ）。ステップ３に続いて、任意選択的なステップで、保護されたエステル化合物（６）を精製してもよい。
【0033】
本発明の別個の実施形態は、化合物３から化合物６を調製する方法である
本発明のこの実施形態では、基Ｒ、ＰＧおよびＲ１は、好ましい実施形態を含む上に記載のものと同じである。この方法は、スキームＩのステップ３についてちょうど記載されたものと同じ方法で達成され、その好ましい実施形態を含む。以下の実施例は、この付加的なステップおよび好ましい実施形態ならびに本発明の他の方法を記載する。
【化11】
本発明のこの実施形態では、基Ｒ、ＰＧおよびＲ１は、好ましい実施形態を含む上に記載のものと同じである。この方法は、スキームＩのステップ３についてちょうど記載されたものと同じ方法で達成され、その好ましい実施形態を含む。以下の実施例は、この付加的なステップおよび好ましい実施形態ならびに本発明の他の方法を記載する。
【0034】
スキームＩのステップ４では、好適な反応条件下、光の非存在下で、保護されたエステル化合物（６）を脱保護して、いずれの保護基ＰＧも除去し、Ｒ１がＮＯ２である場合はＮＯ２基をＮＨ２基に還元して、エステル（７）を形成し、好適な反応条件下、空気に曝すことなく、光の非存在下で、エステル（７）を脱保護（加水分解）して、酸性ｐＨに調整後、４－クロロキヌレニン（８）を形成する。好ましい実施形態では、反応温度は、－２０～６０℃、０℃～５０℃、１０～４０℃、１５～３５℃、より好ましくは２０～３０℃の範囲であってよい。脱保護および還元反応は、単一のステップまたは複数のステップで行われる。好ましい実施形態では、ステップ４は、保護されたエステル化合物（６）を脱保護して、ジオキサン中でＨＣｌを使用して、いずれの保護基ＰＧを除去し、単離された固体を空気または湿気に曝すことなく、光の非存在下で、エステル（７）を、二塩酸塩のような酸塩として単離する。固体状態で敏感な空気または湿気への曝露は、計画外の／意図しない酸加水分解をもたらす可能性がある。次いで、別個の脱保護ステップでは、ｐＨ１０．５～１４．０、１１．０～１３．５、１１．５～１３．０、より好ましくはｐＨ１２．０～１２．５で、（７）を加水分解し、酸性ｐＨに調整後、４－クロロキヌレニン（８）を形成する。（７）の加水分解は、ＬｉＯＨ、ＮａＯＨ、およびＫＯＨから選択される水性塩基、最も好ましくはＬｉＯＨを用いるような、当該技術分野で既知の方法によって達成することができる。その調整は、後述するように、ＨＣｌのような水性酸で、ｐＨ８、７または６．５未満、好ましくはｐＨ４．８～６．０に酸性化してもよい。
【0035】
本発明の別の実施形態では、上記スキームＩＩにより、Ｌ－４－クロロキヌレニン（８ａ）を調製する。本発明の別の実施形態では、以下に記載のステップ１～４を使用して、スキームＩＩにより、Ｌ－４－クロロキヌレニン（８ａ）を調製する方法である。以下の実施例は、本発明の方法の付加的なステップおよび好ましい実施形態を記載する。スキームＩＩに示される本発明の方法では、粗Ｌ－４－クロロキヌレニン（８ａ）に対する全体的な収率は、３２％～３９％であり、これは、全体的な収率が４％～６％である国際特許出願第ＷＯ２０１４／１５２８３５号に報告された合成のような以前の合成に対して有意な改善である。
【0036】
スキームＩＩのステップ１では、好適な反応条件下で、ＢＯＣ－Ｌ－セリンメチルエステル（１ａ）をトルエンスルホニルクロリドと反応させて、ＢＯＣ－Ｌ－セリンメチルエステル（１ａ）をその対応するトシレート（２ａ）に変換する。好ましい実施形態では、１～２モル当量のトルエンスルホニルクロリドが、－５０～５０℃、－４０～４０℃、－３０～３０℃、－２０～２０℃、－１０～１０℃、より好ましくは－５～５℃の範囲の反応温度で使用され得る。さらに好ましい実施形態では、ステップ１は、触媒量の４－ジメチルアミノピリジンの存在下で行われ、任意選択的に、トシレート（２ａ）を単離して再結晶化することを含む。
【0037】
スキームＩＩのステップ２では、好適な反応条件下、光の非存在下、不活性雰囲気下で、トシレート（２ａ）をヨウ化ナトリウムまたはヨウ化カリウム、好ましくはヨウ化ナトリウムと反応させて、トシル基をヨウ素で置換し、対応するヨード中間体（３ａ）を形成する。好ましい実施形態では、反応温度は、－２０～６０℃、－１０～５０℃、０～４０℃、より好ましくは１０～３０℃の範囲であってよい。好ましい実施形態では、ステップ２は、０℃～４０℃、０℃～３０℃、０℃～２０℃、より好ましくは０℃～１０℃の範囲の温度で、反応混合物を水中に水性クエンチして、ヨード中間体（３ａ）を沈殿させることを含み、任意選択的に、ヨード中間体（３ａ）を再結晶することを含む。
【0038】
スキームＩＩのステップ３では、好適な反応条件下、光の非存在下で、ヨード中間体（３ａ）をｉｎ ｓｉｔｕで亜鉛試薬（４ａ）に変換し、パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］の存在下で、かつ連続的な表面下ＣＯ添加および／またはＣＯ圧のいずれかにより持続的な溶存ＣＯ濃度を維持しながら、亜鉛試薬（４ａ）を５－クロロ－ヨードアニリン化合物（５ａ）と反応させるカルボニル化反応を介して、ＢＯＣ保護メチルエステル化合物（６ａ）を形成する。好ましい実施形態では、中間体（３ａ）のｉｎ ｓｉｔｕでの亜鉛試薬（４ａ）への変換は、
０～５０℃、１０～４０℃、１５～３５℃、より好ましくは２３～２７℃の範囲、または２５℃の反応温度で行ってもよく、次いで、カルボニル化反応は、１５～３５℃、より好ましくは２０～２６℃の範囲の反応温度で行ってもよい。カップリング反応に使用されるパラジウム（０）触媒を使用することができる。例えば、Ｃｏｌａｃｏｔ，Ｐｌａｔｉｎｕｍ Ｍｅｔａｌｓ Ｒｅｖ．，２０１２，５６，（２），１１０－１１６を参照されたい。Ｐｄ（０）触媒の配位子としては、例えば、ｄｐｐｍ、ｄｐｐｅ、ｄｐｐｐ、ｄｃｐｅ、ＰＰｈ３、Ｐ（シクロヘキシル）３、Ｐ（ｔ－Ｂｕ）３、Ｐ（Ｃ６Ｆ５）３、Ｐ（２，４，６－ＭｅＣ６Ｈ２）３等が挙げられる。好ましいＰｄ（０）触媒としては、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、（［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］またはテトラキスＰｄ（０））およびビス（トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィン）パラジウム（０）が挙げられる。ステップ３の好ましい実施形態では、パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］は、テトラキスＰｄ（０）であり、持続的な溶存ＣＯ濃度は、ＣＯガスの連続的な表面下添加またはＣＯガス圧によって維持される。カルボニル化反応混合物中へのＣＯガスの連続的な表面下添加またはＣＯガス圧による添加は、好ましくは反応混合物の総容量に対して約２～８％（好ましくは約４％）の定常状態の気泡容量を提供する速度で行われる（望ましくない副生成物の形成を軽減する）。好ましいＣＯ圧は、１ｐｓｉｇ～１００ｐｓｉｇの範囲である。ＣＯの連続的な表面下添加で操作するには、１～５ｐｓｉｇのＣＯ圧が好ましい。連続的に維持されたＣＯ加圧を有する閉鎖型加圧反応器で操作するには、２０～１００ｐｓｉｇのＣＯ圧が好ましい（より好ましくは８０～１００ｐｓｉｇ）。ステップ３に続いて、任意選択的なステップで、保護されたエステル化合物（６ａ）を精製してもよい。
０～５０℃、１０～４０℃、１５～３５℃、より好ましくは２３～２７℃の範囲、または２５℃の反応温度で行ってもよく、次いで、カルボニル化反応は、１５～３５℃、より好ましくは２０～２６℃の範囲の反応温度で行ってもよい。カップリング反応に使用されるパラジウム（０）触媒を使用することができる。例えば、Ｃｏｌａｃｏｔ，Ｐｌａｔｉｎｕｍ Ｍｅｔａｌｓ Ｒｅｖ．，２０１２，５６，（２），１１０－１１６を参照されたい。Ｐｄ（０）触媒の配位子としては、例えば、ｄｐｐｍ、ｄｐｐｅ、ｄｐｐｐ、ｄｃｐｅ、ＰＰｈ３、Ｐ（シクロヘキシル）３、Ｐ（ｔ－Ｂｕ）３、Ｐ（Ｃ６Ｆ５）３、Ｐ（２，４，６－ＭｅＣ６Ｈ２）３等が挙げられる。好ましいＰｄ（０）触媒としては、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、（［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］またはテトラキスＰｄ（０））およびビス（トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィン）パラジウム（０）が挙げられる。ステップ３の好ましい実施形態では、パラジウム（０）触媒［Ｐｄ］は、テトラキスＰｄ（０）であり、持続的な溶存ＣＯ濃度は、ＣＯガスの連続的な表面下添加またはＣＯガス圧によって維持される。カルボニル化反応混合物中へのＣＯガスの連続的な表面下添加またはＣＯガス圧による添加は、好ましくは反応混合物の総容量に対して約２～８％（好ましくは約４％）の定常状態の気泡容量を提供する速度で行われる（望ましくない副生成物の形成を軽減する）。好ましいＣＯ圧は、１ｐｓｉｇ～１００ｐｓｉｇの範囲である。ＣＯの連続的な表面下添加で操作するには、１～５ｐｓｉｇのＣＯ圧が好ましい。連続的に維持されたＣＯ加圧を有する閉鎖型加圧反応器で操作するには、２０～１００ｐｓｉｇのＣＯ圧が好ましい（より好ましくは８０～１００ｐｓｉｇ）。ステップ３に続いて、任意選択的なステップで、保護されたエステル化合物（６ａ）を精製してもよい。
【0039】
本発明の別個の実施形態は、化合物３ａから化合物６ａを調製する方法である
本発明のこの実施形態では、スキームＩＩのステップ３についてちょうど記載されたものと同じ方法で（６ａ）の調整が達成され、その好ましい実施形態を含む。以下の実施例は、この付加的なステップおよび好ましい実施形態ならびに本発明の他の方法を記載する。
【化12】
本発明のこの実施形態では、スキームＩＩのステップ３についてちょうど記載されたものと同じ方法で（６ａ）の調整が達成され、その好ましい実施形態を含む。以下の実施例は、この付加的なステップおよび好ましい実施形態ならびに本発明の他の方法を記載する。
【0040】
スキームＩＩのステップ４では、好適な反応条件下、光の非存在下で、ＢＯＣ保護エステル化合物（６ａ）を脱保護して、保護基を除去し、メチルエステル（７ａ）を形成し、単離された固体を空気または湿気に曝さないように注意して、次いで、好適な反応条件下、空気に曝すことなく、光の非存在下で、メチルエステル（７ａ）を脱保護（加水分解）して、酸性ｐＨに調整後、４－クロロキヌレニン（８ａ）を形成する。好ましい実施形態では、反応温度は、－２０～６０℃、０℃～５０℃、１０～４０℃、１５～３５℃、より好ましくは２０～３０℃の範囲であってよい。脱保護および還元反応は、単一のステップまたは複数のステップで行われる。好ましい実施形態では、ステップ４では、ジオキサン中でＨＣｌを使用して、ＢＯＣ保護メチルエステル化合物（６ａ）を脱保護して、単離された固体を空気または湿気に曝すことなく、光の非存在下で、二塩酸塩のようなメチルエステル（７ａ）を単離する。空気または湿気への曝露は、計画外の／意図しない酸加水分解をもたらす可能性がある。次いで、別個の脱保護ステップでは、ｐＨ１０．５～１４．０、１１．０～１３．５、１１．５～１３．０、より好ましくはｐＨ１２．０～１２．５で、（７ａ）を加水分解し、酸性ｐＨに調整後、４－クロロキヌレニン（８ａ）を形成する。（７）の加水分解は、ＬｉＯＨ、ＮａＯＨ、およびＫＯＨから選択される水性塩基、最も好ましくはＬｉＯＨを用いるような、当該技術分野で既知の方法によって達成することができる。その調整は、後述するように、ＨＣｌのような水性酸で、ｐＨ８、７または６．５未満、好ましくはｐＨ４．８～６．０に酸性化してもよい。
【0041】
本発明の別個の実施形態は、化合物（６ａ）からのＬ－４－クロロキヌレニン（８ａ）の調製方法である。
本発明のこの実施形態では、スキームＩＩのステップ４についてちょうど記載されたものと同じ方法で（８ａ）の調整が達成され、その好ましい実施形態を含む。以下の実施例は、この付加的なステップおよび好ましい実施形態ならびに本発明の他の方法を記載する。
【化13】
本発明のこの実施形態では、スキームＩＩのステップ４についてちょうど記載されたものと同じ方法で（８ａ）の調整が達成され、その好ましい実施形態を含む。以下の実施例は、この付加的なステップおよび好ましい実施形態ならびに本発明の他の方法を記載する。
【0042】
別の実施形態では、本発明はまた、式（６ａ）の化合物に関する。
【化14】
【0043】
別の実施形態では、本発明はまた、式（７ａ）の化合物、
または、その酸付加塩に関する。好ましくは、酸付加塩は、二塩酸塩である。
【化15】
または、その酸付加塩に関する。好ましくは、酸付加塩は、二塩酸塩である。
【0044】
スキームＩまたはスキームＩＩによる本発明の方法は、スキームＩの４－クロロキヌレニン生成物（８）またはスキームＩＩのＬ－４－クロロキヌレニン生成物（８ａ）を精製するためにさらなるステップを含んでもよい。それらの精製ステップは、ｐＨ調整として、水性酸、例えばＨＣｌを用いて、４－クロロキヌレニン（８）／Ｌ－４クロロキヌレニン（８ａ）を遊離酸としてアルカリ性溶液から単離し、ｐＨを８、７または６．５未満のｐＨ、好ましくは４．８～６．０のｐＨにするステップと、単離された遊離酸（８）／（８ａ）を２未満のｐＨ、好ましくは０．５～０．９のｐＨで水性酸中に溶解するステップと、ｐＨを４．５～６．５、好ましくは４．８～６．０のｐＨに調整することによって遊離酸（８）／（８ａ）を沈殿させるステップと、沈殿した遊離酸（８）／（８ａ）を収集するステップと、収集した遊離酸（８）／（８ａ）を乾燥させ、任意選択的に、当該技術分野で既知の有機溶媒または有機溶媒混合物を使用して収集された遊離酸（８）／（８ａ）を粉砕し、粉砕された遊離酸（８）／（８ａ）を乾燥させるステップと、を含んでもよい。遊離酸（８）／（８ａ）を沈殿させることは、当該技術分野で既知のように、アンモニア水等の塩基を添加することによって行われ得る。任意選択的な粉砕ステップにおける有機溶媒は、メタノール／酢酸エチルであり得る。
【0045】
本発明の方法は、４－クロロキヌレニン化合物（８）、特にＬ－４－クロロキヌレニン（８ａ）の安全で、効率的で、拡張可能な立体制御製造に適した改善されたプロセス条件を有し、以前に報告された合成の限界を克服する。本発明の方法では、特にステップ４およびステップ５において、不純物形成を軽減し、制御するためのプロセス条件が開発された。例えば、そのような改善された条件には、以下のものが含まれる（ただし、これらに限定されない）：
●ヨード置換保護アミノ酸の新鮮な調製により、分解を軽減する。
●Ｐｄ触媒の一酸化炭素による事前飽和により、不要な副反応を緩和する。
●一酸化炭素の効率的な導入と存在の維持により、高い一酸化炭素活性とＰｄ触媒への可用性を保証し、連続的な表面下ＣＯ流またはＣＯ圧いずれかを通して不要な副反応を軽減する。
●ヨードアニリンおよび一酸化炭素で事前に配位されたＰｄ触媒への保護アミノ酸亜鉛酸塩の制御された逆添加（ｉｎｖｅｒｓｅ ａｄｄｉｔｉｏｎ）（亜鉛酸塩への芳香族ヨウ化物およびＰｄ触媒の「オールイン」添加を含む従来技術条件とは異なる）。Ｊａｃｋｓｏｎ ｅｔ ａｌ．，ＪＣＳ Ｐｅｒｋｉｎ １，１９９７，８６５を参照されたい。また、ＴＨＦ中のセリン誘導有機亜鉛試薬および新規のエナンチオマーとして純粋なアレン、アセチレンおよびヘテロアリールアミノ酸の合成におけるその使用が記載されているＤｕｎｎ ｅｔ ａｌ．，ＳＹＮＬＥＴＴ，１９９３，４９９を参照のこと。
●試薬の制御された添加により、スケールアップ時の安全性の向上とスケールアップ時の反応選択性の向上および製品品質の向上のため、スケールアップ時の反応温度をより良好に制御するために、反応の速度および発熱の速度を緩和する。
●反応選択性の向上により、低負荷分画クロマトグラフィーの必要性を回避する。
●最終生成物のエステル二塩酸塩を生じさせるアミノＢＯＣ脱保護のための含水ジオキサン中でのＨＣｌの使用、次いで、制御された弱塩基性条件下での別個のエステル加水分解、次いで、Ｌ－４－クロロキヌレン酸（８ａ）などの４－クロロキヌレニン生成物（８）を両性イオン状の中性形態として単離する制御された酸性化による、反応制御、選択性、効率を改善し、副生成物を減らすカップリング後の２ステップ脱保護の採用。これは、先行技術（Ｊａｃｋｓｏｎら）に記載されている（６）～（８）／（６ａ）～（８ａ）の単一酸性二重脱保護を使用する場合に、副生成物形成に対する反応感度の増大を回避し、これはまた、不要な副生成物および他の分解副生成物経路を形成する傾向を増大させる。
●生成物および中間体の光、熱、酸、および塩基に対する感受性の認識により、そのような状態への曝露を軽減することによって、分解を緩和する。
●ヨード置換保護アミノ酸の新鮮な調製により、分解を軽減する。
●Ｐｄ触媒の一酸化炭素による事前飽和により、不要な副反応を緩和する。
●一酸化炭素の効率的な導入と存在の維持により、高い一酸化炭素活性とＰｄ触媒への可用性を保証し、連続的な表面下ＣＯ流またはＣＯ圧いずれかを通して不要な副反応を軽減する。
●ヨードアニリンおよび一酸化炭素で事前に配位されたＰｄ触媒への保護アミノ酸亜鉛酸塩の制御された逆添加（ｉｎｖｅｒｓｅ ａｄｄｉｔｉｏｎ）（亜鉛酸塩への芳香族ヨウ化物およびＰｄ触媒の「オールイン」添加を含む従来技術条件とは異なる）。Ｊａｃｋｓｏｎ ｅｔ ａｌ．，ＪＣＳ Ｐｅｒｋｉｎ １，１９９７，８６５を参照されたい。また、ＴＨＦ中のセリン誘導有機亜鉛試薬および新規のエナンチオマーとして純粋なアレン、アセチレンおよびヘテロアリールアミノ酸の合成におけるその使用が記載されているＤｕｎｎ ｅｔ ａｌ．，ＳＹＮＬＥＴＴ，１９９３，４９９を参照のこと。
●試薬の制御された添加により、スケールアップ時の安全性の向上とスケールアップ時の反応選択性の向上および製品品質の向上のため、スケールアップ時の反応温度をより良好に制御するために、反応の速度および発熱の速度を緩和する。
●反応選択性の向上により、低負荷分画クロマトグラフィーの必要性を回避する。
●最終生成物のエステル二塩酸塩を生じさせるアミノＢＯＣ脱保護のための含水ジオキサン中でのＨＣｌの使用、次いで、制御された弱塩基性条件下での別個のエステル加水分解、次いで、Ｌ－４－クロロキヌレン酸（８ａ）などの４－クロロキヌレニン生成物（８）を両性イオン状の中性形態として単離する制御された酸性化による、反応制御、選択性、効率を改善し、副生成物を減らすカップリング後の２ステップ脱保護の採用。これは、先行技術（Ｊａｃｋｓｏｎら）に記載されている（６）～（８）／（６ａ）～（８ａ）の単一酸性二重脱保護を使用する場合に、副生成物形成に対する反応感度の増大を回避し、これはまた、不要な副生成物および他の分解副生成物経路を形成する傾向を増大させる。
●生成物および中間体の光、熱、酸、および塩基に対する感受性の認識により、そのような状態への曝露を軽減することによって、分解を緩和する。
【実施例】
【0046】
以下の実施例１～５は、本発明のプロセスに従って、かつスキームＩおよびＩＩ（上記）に示されるように、Ｌ－４－クロロキヌレニンの実験室規模および大規模の合成を実証する。実施例１～５はまた、本発明のプロセスの改善についても説明するもので、これらは、個々に、および組み合わせて、本発明のプロセスの実施形態である。生成物Ｌ－４－クロロキヌレニンは、以下に記載の当該技術分野で既知の方法によってさらに精製され得る。
【0047】
実施例１－ステップ１
実施例１．１－ステップ１：実験室規模
２リットルの丸底フラスコに、メカニカルオーバーヘッドスターラーを用いて、ＢＯＣ－Ｌ－セリンメチルエステル（１ａ）（０．９１ｍｏｌ）およびピリジン（８００ｍＬ）を窒素雰囲気下で充填した。０～５℃に冷却後、４－ジメチルアミノピリジン（９１ｍｍｏｌ）をフラスコに充填した。トルエンスルホニルクロリド（１．３６ｍｏｌ）を、４回に分けて合計３０分間かけて充填した。０～５℃で２６時間撹拌した後、０．２５ｍＬの反応混合物を、水（２０ｍＬ）およびジクロロメタン（２０ｍＬ）を使用して抽出した。有機層を蒸発させると、淡黄色の油が残った。次いで、２０ｍｇの油をＣＤＣｌ３に溶解し、１Ｈ ＮＭＲ分光法によって、ＢＯＣ－Ｌ－セリンメチルエステル（１ａ）の対応するトシレート（２ａ）への変換を決定した。反応完了後、反応混合物を、０～５℃の水（３Ｌ）に１時間かけて添加した。次いで、混合物を０～５℃で２時間撹拌し、その間に白色固体が沈殿した。次いで、固体をフリット漏斗を通して濾過し、水（３ｘ４００ｍＬ）ですすぎ、１６時間脱液した。粗固体を、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル（１Ｌ）とともに５Ｌの丸底フラスコに充填した。溶液を４０℃に温め、この時点で全ての固体が溶解した。相分離を行い、下部の水層を排出し、廃棄した。３５～４０℃の温度を維持しながら、水（３０ｍＬ）をフラスコに充填し、５分間撹拌した。攪拌を停止し、下部の水層を排出し、廃棄した。３５～４０℃で、残りの有機層に４５分間かけてヘプタン（２Ｌ）を添加した。ヘプタンを完全に添加後、溶液を０～５℃に冷却し、２時間撹拌した。白色固体を、フリット漏斗を使用して濾過した。フラスコを濾液を使用してすすぎ、次いで、きれいなヘプタン（２ｘ２０ｍＬ）で洗浄した。固体を１時間脱液し、次いで周囲温度で２０時間真空乾燥オーブンに入れ、純粋な生成物２ａを８２％の収率で得た。
【化16】
実施例１．１－ステップ１：実験室規模
２リットルの丸底フラスコに、メカニカルオーバーヘッドスターラーを用いて、ＢＯＣ－Ｌ－セリンメチルエステル（１ａ）（０．９１ｍｏｌ）およびピリジン（８００ｍＬ）を窒素雰囲気下で充填した。０～５℃に冷却後、４－ジメチルアミノピリジン（９１ｍｍｏｌ）をフラスコに充填した。トルエンスルホニルクロリド（１．３６ｍｏｌ）を、４回に分けて合計３０分間かけて充填した。０～５℃で２６時間撹拌した後、０．２５ｍＬの反応混合物を、水（２０ｍＬ）およびジクロロメタン（２０ｍＬ）を使用して抽出した。有機層を蒸発させると、淡黄色の油が残った。次いで、２０ｍｇの油をＣＤＣｌ３に溶解し、１Ｈ ＮＭＲ分光法によって、ＢＯＣ－Ｌ－セリンメチルエステル（１ａ）の対応するトシレート（２ａ）への変換を決定した。反応完了後、反応混合物を、０～５℃の水（３Ｌ）に１時間かけて添加した。次いで、混合物を０～５℃で２時間撹拌し、その間に白色固体が沈殿した。次いで、固体をフリット漏斗を通して濾過し、水（３ｘ４００ｍＬ）ですすぎ、１６時間脱液した。粗固体を、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル（１Ｌ）とともに５Ｌの丸底フラスコに充填した。溶液を４０℃に温め、この時点で全ての固体が溶解した。相分離を行い、下部の水層を排出し、廃棄した。３５～４０℃の温度を維持しながら、水（３０ｍＬ）をフラスコに充填し、５分間撹拌した。攪拌を停止し、下部の水層を排出し、廃棄した。３５～４０℃で、残りの有機層に４５分間かけてヘプタン（２Ｌ）を添加した。ヘプタンを完全に添加後、溶液を０～５℃に冷却し、２時間撹拌した。白色固体を、フリット漏斗を使用して濾過した。フラスコを濾液を使用してすすぎ、次いで、きれいなヘプタン（２ｘ２０ｍＬ）で洗浄した。固体を１時間脱液し、次いで周囲温度で２０時間真空乾燥オーブンに入れ、純粋な生成物２ａを８２％の収率で得た。
【0048】
実施例１．２－ステップ１：大規模
２ａの合成：１ａ（７．００Ｋｇ、３１．９３ｍｏｌ、１．００当量）を、きれいな乾燥した容器中で秤量し、次いで窒素パージされた５０Ｌのガラス反応器（反応器Ａ）に充填した。無水ピリジン（２７．３８Ｋｇ、４容量）を反応器に充填した。一部のピリジンを使用して、１ａに使用される容器をすすぎ、次いで、すすぎ液を反応器に充填した。反応混合物を窒素下で約９分間、約１５℃で撹拌し（目標：１０～３０℃）、その後、１時間４６分かけて－３．４℃に冷却した（目標：－５～０℃）。きれいな乾燥した容器中で予め秤量されたＤＭＡＰ（３９２．０ｇ、３．２０９ｍｏｌ、０．１０当量）を一度に反応器に充填した。反応混合物を、－３．７℃で５分間撹拌した。ＴｓＣｌ（９．１Ｋｇ、１．５当量）を、－５～０℃で１時間３６分かけて４回に分けて充填した。第１のＴｓＣｌ部分（２．２８Ｋｇ）は、５分間かけて反応器に充填した。反応混合物を、４１分間撹拌した。第２のＴｓＣｌ部分（２．２６Ｋｇ）は、４分間かけて反応器に充填した。反応混合物を、２０分間撹拌した。第３のＴｓＣｌ部分（２．２９Ｋｇ）は、２分間かけて反応器に充填した。反応混合物を、１９分間撹拌した。第４の最終ＴｓＣｌ部分（２．２７Ｋｇ）は、５分間かけて反応器に充填した。
２ａの合成：１ａ（７．００Ｋｇ、３１．９３ｍｏｌ、１．００当量）を、きれいな乾燥した容器中で秤量し、次いで窒素パージされた５０Ｌのガラス反応器（反応器Ａ）に充填した。無水ピリジン（２７．３８Ｋｇ、４容量）を反応器に充填した。一部のピリジンを使用して、１ａに使用される容器をすすぎ、次いで、すすぎ液を反応器に充填した。反応混合物を窒素下で約９分間、約１５℃で撹拌し（目標：１０～３０℃）、その後、１時間４６分かけて－３．４℃に冷却した（目標：－５～０℃）。きれいな乾燥した容器中で予め秤量されたＤＭＡＰ（３９２．０ｇ、３．２０９ｍｏｌ、０．１０当量）を一度に反応器に充填した。反応混合物を、－３．７℃で５分間撹拌した。ＴｓＣｌ（９．１Ｋｇ、１．５当量）を、－５～０℃で１時間３６分かけて４回に分けて充填した。第１のＴｓＣｌ部分（２．２８Ｋｇ）は、５分間かけて反応器に充填した。反応混合物を、４１分間撹拌した。第２のＴｓＣｌ部分（２．２６Ｋｇ）は、４分間かけて反応器に充填した。反応混合物を、２０分間撹拌した。第３のＴｓＣｌ部分（２．２９Ｋｇ）は、２分間かけて反応器に充填した。反応混合物を、１９分間撹拌した。第４の最終ＴｓＣｌ部分（２．２７Ｋｇ）は、５分間かけて反応器に充填した。
【0049】
その後、反応混合物を０±５℃で１８時間４１分撹拌し、次いで１Ｈ ＮＭＲで確認した。１ａの１．５％（２ａに対する積分）で、反応が不完全であった。反応物を０±５℃でさらに１時間４４分撹拌し、次いで１Ｈ ＮＭＲによって確認した。結果は、１．４％の１ａを残して（２ａに対する積分）、反応が完了したことを示した。
【0050】
粗２ａの沈殿：必要な総ワークアップ容量（約１５０Ｌ）に基づいて、２つの反応器（５０Ｌおよび１００Ｌ）を使用して、生成物の沈殿を二分して行った。ワークアップ前の総反応容量は約４２Ｌであった。反応容量の３分の１を、沈殿用に５０Ｌ反応器（反応器Ｂ）に移し、反応容量の３分の２を、沈殿用に１００Ｌ反応器（反応器Ｃ）に移すことにした。
【0051】
沈殿＃１：脱イオン（ＤＩ）水（３４．９９Ｋｇ、１ａに対して１５容量）をきれいな容器に秤量し、冷蔵庫で予冷した後、反応器Ｂに充填した。バッチを４．５℃（目標：３～１０℃）に冷却した。反応混合物の一部（約１４Ｌ、バッチの１／３）を、１時間２５分かけて冷水中にゆっくりと移した。最初に、反応混合物を２リットル移し、添加を休止し、クエンチ混合物を４５分間撹拌した。固体沈殿がすぐに観察されたが、油性生成物の一部が冷えた反応器壁に沈殿した（ジャケット温度設定点：１℃）。冷えた壁面での油沈殿を回避するために、ジャケット温度を５℃に上昇させると、バッチ温度が１２．１℃に上昇した。反応混合物の移送を再開し、反応混合物を完全に移した後、予め秤量されたピリジン（１．１４Ｋｇ、移送すすぎ用）を充填した。クエンチしたバッチを１０±２℃で６１分間撹拌した。スラリーをフィルター漏斗に移した。底弁が一部の粘着性固体で閉塞したため、真空吸引管を使用して上部よりバッチを移した。スラリーの濾過に約２時間かかり、ウェットケーキを１０分間脱液した。フィルター漏斗中のウェットケーキを水で洗浄し（４ｘ４．６７ｋｇ、または４ｘ２容量、１ａに対して）、フィルター漏斗に真空を適用することによって１４時間脱液して、８．０９ｋｇの湿状の粗２ａ．を得た。
【0052】
沈殿＃２：ＤＩ水（７０Ｋｇ、１ａに対して１５容量）をきれいな容器に秤量し、冷蔵庫で予冷した後、反応器Ｃに充填した。クエンチ水を６．５℃（目標：３～１０℃）に冷却した。計画された約２８Ｌの全反応混合物の移送のうち、約１４Ｌの反応混合物が、操作者の過誤により、５分間かけて冷水中に移された。クエンチ混合物の底に多量の油層が沈殿し、突然凝固した。沈殿した固体の一部が反応器の底に蓄積し、攪拌器を停止させた。クエンチへのバッチ移送を中止した。反応器Ｃ中のクエンチされた物質を、０～１０℃で５時間沈降させた。
【0053】
反応器Ｃ中の上部の透明な溶液（～４０Ｌ）を反応器Ｂ（以前の沈殿に使用された）に移した。反応器Ａからの残りのクエンチされていない反応混合物（約１４Ｌ）を、２ａの沈殿のために、０～１５℃で４０分間かけて反応器Ｂにゆっくりと移した。得られたスラリーを０～１５℃で１７時間撹拌した。
【0054】
反応器Ｃからのクエンチされたバッチ部分を５℃で２０時間沈降させ、次いでフィルター漏斗に移した。底弁が一部の固体で閉塞したため、真空下で、上部よりバッチを移した。移送中、再利用される濾液を使用して、反応器Ｃをすすいでフィルター漏斗上の生成物ケーキに流した。反応器Ｃからのバッチ移送が完了した後、反応器Ｂからのバッチ部分をフィルター漏斗内のフィルターケーキの上に移した。濾過に６時間を要した。次いで、ウェットケーキを水で洗浄し（４ｘ９．３３Ｋｇ、または４ｘ２容量、１ａに対して）、最終的に真空を適用して１５時間３０分脱液し、２０．３４Ｋｇの湿状の粗２ａを得た。
【0055】
実験室規模の実施例１．１では、水クエンチ／沈殿は良好に機能するが、大規模では、混合条件が慎重に制御されなければ、撹拌不能な混合物が得られる。粗２ａは、均一な沈殿を確保する慎重に制御された添加により、ピリジン中の反応混合物を冷水に加えることによって沈殿させる必要がある。冷水クエンチへの反応混合物の添加は、特に添加開始時に、緩徐で良好に制御されていなければならない。流量制御ポンプを利用すると、反応混合物とクエンチ水を同時に共混合して（約３：１ ｖ／ｖ）、良好に制御された沈殿が得られる。ゆっくり添加しても、反応器の壁に多少の油性沈殿が観測された。すべての油性物質を濾過可能な固体に変換するには、一晩の攪拌で十分であった。粗２ａのクエンチおよび沈殿の後、スラリーを０～１５℃で少なくとも１２時間撹拌すると、容易に移送可能なスラリーが得られる。流量制御ポンプを利用すると、反応混合物とクエンチ水を同時に共混合して（約３：１ ｖ／ｖ）、良好に制御された沈殿が得られる。
【0056】
湿状の粗２ａの精製：固体をスラリー化して移送を容易にするためにＭＴＢＥ（２５．９０Ｋｇ、１ａに対して５容量）を使用し、合わせた湿状の粗２ａ（２８．４３Ｋｇ）を、窒素下で少しずつ反応器Ａに移した。バッチを４５℃に加熱し、４５～４７℃で１８分間撹拌して、透明な溶液（二相性）を得た。底部の水層（約２０Ｌ）を除去した。バッチを水で洗浄し（１．４Ｌ、０．２容量）、下部の水層を除去した。バッチを、４０～５０℃で、真空下（４１９～６３０トル）、１時間４５分還流して、約７５ｍＬの水を除去した（Ｄｅａｎ－Ｓｔａｒｋトラップ採取）。バッチを反応器Ｃに移した。バッチ温度を３０～５０℃に維持しながら、ヘプタン（４７．８８Ｋｇ、１ａに対して１０容量）を６２分間かけて反応器Ｃに添加した。スラリーを３時間かけて０±５℃に冷却し、０±５℃で１２時間４０分撹拌した。バッチを１時間４５分かけてフィルター漏斗に移した。底弁が一部の固体で閉塞したため、真空吸引を使用して上部からバッチを移した。移送中、再利用される濾液を使用して、反応器をすすいでフィルター漏斗上に流した。フィルターケーキを冷ヘプタン（９．５８Ｋｇ、０℃、１ａに対して２容量）で洗浄し、次いで１時間４０分脱液した。湿状のフィルターケーキ（１３．３８９Ｋｇ）を１０個のガラス乾燥トレイに移し、２０～４０℃で７２時間かけて真空下（≦５０トル）で乾燥させ、乾燥した２ａ（９．３８８Ｋｇ、収率７９％）を得た。
【0057】
実施例１．３－ステップ１：２ａの大規模調製
２ａの合成（反応）：１ａ（７．００Ｋｇ、３１．９３ｍｏｌ、１．００当量）を、きれいな乾燥した容器中で秤量し、次いで窒素パージされた５０Ｌのガラス反応器に充填した。無水ピリジン（２７．４０Ｋｇ）を反応器に充填した。反応混合物を窒素下で約２０分間、約２２℃で撹拌し（目標：１０～３０℃）、その後、２時間１分かけて－１．８℃（目標：－５℃～０℃）に冷却した。きれいな乾燥した容器中で予め秤量されたＤＭＡＰ（３９２ｇ、３．２１ｍｏｌ、０．１０当量）を一度に反応器に充填した。反応混合物を－２．７～－３．９℃で１５分間撹拌した。トシルクロリド（ＴｓＣｌ）（９．１０Ｋｇ、１．５当量）を、－５～０℃で２時間５６分かけて４回に分けて充填した。
第１のＴｓＣｌ部分（２．３０Ｋｇ）は、４分間かけて反応器に充填した。反応温度を、１時間４１分かけて－５～０℃に調整した。反応混合物を－５～０℃で２０分間撹拌した。
第２のＴｓＣｌ部分（２．２２Ｋｇ）は、１分間かけて反応器に充填した。反応温度を、１３分かけて－５～０℃に調整した。反応混合物を－５～０℃で１０分間撹拌した。
第３のＴｓＣｌ部分（２．３０Ｋｇ）は、３分間かけて反応器に充填した。反応温度を、５分間かけて－５～０℃に調整した。反応混合物を－５～０℃で１２分間撹拌した。
第４の最終ＴｓＣｌ部分（２．２８Ｋｇ）は、４分間かけて反応器に充填した。反応温度を、１分間かけて－５～０℃に調整した。反応混合物を－５～０℃で１５分間撹拌した。
２ａの合成（反応）：１ａ（７．００Ｋｇ、３１．９３ｍｏｌ、１．００当量）を、きれいな乾燥した容器中で秤量し、次いで窒素パージされた５０Ｌのガラス反応器に充填した。無水ピリジン（２７．４０Ｋｇ）を反応器に充填した。反応混合物を窒素下で約２０分間、約２２℃で撹拌し（目標：１０～３０℃）、その後、２時間１分かけて－１．８℃（目標：－５℃～０℃）に冷却した。きれいな乾燥した容器中で予め秤量されたＤＭＡＰ（３９２ｇ、３．２１ｍｏｌ、０．１０当量）を一度に反応器に充填した。反応混合物を－２．７～－３．９℃で１５分間撹拌した。トシルクロリド（ＴｓＣｌ）（９．１０Ｋｇ、１．５当量）を、－５～０℃で２時間５６分かけて４回に分けて充填した。
第１のＴｓＣｌ部分（２．３０Ｋｇ）は、４分間かけて反応器に充填した。反応温度を、１時間４１分かけて－５～０℃に調整した。反応混合物を－５～０℃で２０分間撹拌した。
第２のＴｓＣｌ部分（２．２２Ｋｇ）は、１分間かけて反応器に充填した。反応温度を、１３分かけて－５～０℃に調整した。反応混合物を－５～０℃で１０分間撹拌した。
第３のＴｓＣｌ部分（２．３０Ｋｇ）は、３分間かけて反応器に充填した。反応温度を、５分間かけて－５～０℃に調整した。反応混合物を－５～０℃で１２分間撹拌した。
第４の最終ＴｓＣｌ部分（２．２８Ｋｇ）は、４分間かけて反応器に充填した。反応温度を、１分間かけて－５～０℃に調整した。反応混合物を－５～０℃で１５分間撹拌した。
【0058】
反応混合物を１３分間かけて－５～５℃に調整し、次いで０±５℃で１６時間２０分撹拌し、次いでサンプリングし、１Ｈ ＮＭＲによって確認した。残っている２ａに対して１ａが０．０２％であり、反応が不完全であった（目標：≦０．０１）。反応物を、０±５℃でさらに１時間３５分撹拌し、次いでサンプリングし、１Ｈ ＮＭＲによって確認した。結果は、残っている２ａに対して１ａが０．０１％であり、反応が完了したことを示した。
【0059】
粗２ａの沈殿（生成物の単離）：このバッチの総算出ワークアップ容量（約１５０Ｌ）に基づいて、バッチレコードにより、２つ反応器（５０Ｌおよび１００Ｌ）で生成物を沈殿する必要があった。総反応容量は約４５Ｌであった。反応容量の３分の２を、沈殿用に１００Ｌ反応器に移し、反応容量の３分の１を、沈殿用に５０Ｌ反応器に移すことにした。
【0060】
１００Ｌ反応器における沈殿＃１（バッチの２／３用）および粗２ａの単離：ＤＩ水（７０．０１Ｋｇ）をきれいなカーボーイ中で秤量して、冷蔵庫で予冷した（６～７℃）。予め冷却したＤＩ水（約３．５Ｌ）をペリスタルティックポンプを介して１００Ｌの反応器に移し、次いでピリジン（１．２７Ｋｇ）を添加した。備考：このステップでの反応器内のＤＩ水およびピリジンの比率は、約１０：３（ｖ／ｖ）である必要がある。混合物を６．８℃（目標：３～１０℃）に調整した。カーボーイ中の予め冷却されたＤＩ水および３０Ｌの反応混合物を全て、バッチ温度を３～１０℃に維持しながら、２台のペリスタルティックポンプを介して、１６７分かけて１００Ｌ反応器に同時に移した。反応混合物の移送ラインを、ピリジン（１．２６Ｋｇ）ですすいだ。バッチを６．６℃（目標：０～１０℃）に調整した。反応混合物を０～１０℃で１７時間撹拌し、９時間かけてフィルター漏斗中で濾過した。フィルター漏斗に真空を適用することによって、フィルターケーキをフィルター漏斗中で３０分間脱液した。次いで、ウェットケーキをＤＩ水（４×９．３３Ｋｇ）で洗浄し、フィルター漏斗に真空を適用することによって、フィルター漏斗中で９時間２９分吸引乾燥させ、粗２ａのウェットケーキを得た（負荷＃１、２１．６５Ｋｇ）。
【0061】
５０Ｌ反応器における沈殿＃２（バッチの１／３用）および粗２ａの単離：ＤＩ水（３５．０１Ｋｇ）をきれいなカーボーイ中で秤量して、冷蔵庫で予冷した（７℃）。予め冷却したＤＩ水（約１．７５Ｌ）をペリスタルティックポンプを介して５０Ｌの反応器に移し、ピリジン（０．５１Ｋｇ）を添加した。備考：このステップでの反応器内のＤＩ水およびピリジンの比率は、約１０：３（ｖ／ｖ）である必要がある。混合物を３．２℃（目標：３～１０℃）に調整した。カーボーイ中の予め冷却されたＤＩ水および１５Ｌの残りの反応混合物（残り全て）を全て、バッチ温度を３～１０℃に維持しながら、２台のペリスタルティックポンプを介して、１１３分かけて５０Ｌ反応器に同時に移した。反応混合物の移送ラインを、ピリジン（０．６３Ｋｇ）ですすいだ。バッチを８．６℃（目標：０～１０℃）に調整した。反応混合物を０～１０℃で１５時間４７分撹拌し、５時間３３分かけてフィルター漏斗中で濾過した。フィルター漏斗に真空を適用することによって、フィルターケーキをフィルター漏斗中で２５分間脱液した。次いで、ウェットケーキをＤＩ水（４ｘ４．６７Ｋｇ、または４ｘ２Ｌ／Ｋｇ １ａインプット）で洗浄し、フィルター漏斗に真空を適用することによって、フィルター漏斗中で１４時間分吸引乾燥させ、粗２ａのウェットケーキを得た（負荷＃２、１０．２０Ｋｇ）。
【0062】
粗２ａの精製（再結晶化）：合わせた湿状の粗２ａ（３１．８５Ｋｇ）を５０Ｌ反応器に移し、窒素下で、ＭＴＢＥ（２５．９１Ｋｇ）を添加した。この混合物を４２～４４℃に加熱し、４４～４５℃で１５分間撹拌して、透明な溶液を得た（二相性、ラグ層は観察されず）。底部の水層（約２４Ｌ）を除去した。バッチを水（２．８Ｌ）で洗浄し、下部の水層を除去した。Ｄｅａｎ－Ｓｔａｒｋトラップを使用して、バッチを３７～４５℃で１時間５０分真空下（４００－５００トル）で還流して、約１５５ｍＬの水を除去した。バッチを１００Ｌの反応器に移した。バッチ温度を４５～４８℃に維持しながら、ｎ－ヘプタン（４７．９０Ｋｇ）を８０分かけて１００Ｌ反応器に添加することによって、溶液を希釈した。スラリーを１４時間４０分かけて１．１３℃（目標：０±５℃）に冷却し、１．１℃（目標：０±５℃）で２時間撹拌した。バッチを１５分間かけてフィルター漏斗に移した。フィルター漏斗に１５分間真空を適用することによって、フィルター漏斗中のフィルターケーキを脱液し、次いで冷ｎ－ヘプタン（９．６０Ｋｇ、０℃）で洗浄し、次いで３時間脱液した。湿状のフィルターケーキを乾燥トレイに移し、２０～４０℃で２４時間かけて真空下（≦５０トル）で乾燥させ、乾燥した２ａ（９．７５Ｋｇ、収率８１．８％）を得た。ＮＭＲ純度（１Ｈ ＮＭＲ）は９９％であり、ＫＦ滴定により０．５９％の残留水分含量を有した。
【0063】
ステップ１での好ましいプロセスパラメータおよび実施形態－２／２ａの調製
以下に列挙するものは、上記スキームＩ、ＩＩ、およびＩＩＩに示されるように、本発明の合成におけるステップ１についての特定の好ましいプロセスパラメータである。当ステップのような特定のステップについて記載される各好ましいプロセスパラメータは、本発明の別個の実施形態である。各ステップにおける好ましいプロセスパラメータは、好ましいプロセスパラメータの各組み合わせがまた本発明の別個の実施形態であるように、他のステップのプロセスパラメータとともに用いられ得る。１つまたは複数のステップにおいて１つまたは複数の好ましいプロセスパラメータを有する本発明による合成もまた、本発明の別の実施形態である。ステップ１の好ましいプロセスパラメータには、以下が含まれるが、これらに限定されない：
●トシルクロリド添加時の反応温度が－５～０℃（温かいと不要なアルケン副生成物につながる）；
●反応完了のための反応温度が－５～５℃（温かいと不要なアルケン副生成物につながる）；
●反応終点における出発物質対生成物の最終モル比が≦０．０１（高いと不要な下流不純物につながる）；
●再結晶温度が最大≦４５℃（温かいと不要なアルケン副生成物につながる）；
●乾燥温度が２０～４０℃（温かいと不要なアルケン副生成物につながる）；
●２／２ａ純度が≧９８％（ＮＭＲ）；
●１／１ａに関してトシルクロリドのモル当量の範囲が１．０～２．０（好ましくは１．５）（少ないと不要な下流不純物につながり、多くても不要な下流不純物につながり得る）；
●反応速度を向上させる触媒としての４－ジメチルアミノピリジンのモル当量（触媒量）の範囲が０．０１～０．２０（好ましくは０．１０）（少量では有効性が低減または排除され、多いと不要な下流不純物につながり得る）；
●トシルクロリド添加中に反応温度を－５～０℃に維持するために必要な、トシルクロリドの制御された添加（速度および／または部分制御）（不要なアルケン副生成物の形成を軽減する）；
●水／ピリジンの最終比率が約１０／３（ｖ／ｖ）である、水／ピリジン混合物からの反応混合物の温度制御された（０～１０℃）沈殿および顆粒化による２／２ａの単離、（不要なアルケン副生成物の形成を軽減する）；および／または
●メチル－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）／ｎ－ヘプタン（０．５～０．６／１．０ ｗ／ｗ、好ましくは約０．５４／１．０ｗ／ｗ）の混合物からの、２／２ａの再結晶化（最終純度の制御を提供する）。
以下に列挙するものは、上記スキームＩ、ＩＩ、およびＩＩＩに示されるように、本発明の合成におけるステップ１についての特定の好ましいプロセスパラメータである。当ステップのような特定のステップについて記載される各好ましいプロセスパラメータは、本発明の別個の実施形態である。各ステップにおける好ましいプロセスパラメータは、好ましいプロセスパラメータの各組み合わせがまた本発明の別個の実施形態であるように、他のステップのプロセスパラメータとともに用いられ得る。１つまたは複数のステップにおいて１つまたは複数の好ましいプロセスパラメータを有する本発明による合成もまた、本発明の別の実施形態である。ステップ１の好ましいプロセスパラメータには、以下が含まれるが、これらに限定されない：
●トシルクロリド添加時の反応温度が－５～０℃（温かいと不要なアルケン副生成物につながる）；
●反応完了のための反応温度が－５～５℃（温かいと不要なアルケン副生成物につながる）；
●反応終点における出発物質対生成物の最終モル比が≦０．０１（高いと不要な下流不純物につながる）；
●再結晶温度が最大≦４５℃（温かいと不要なアルケン副生成物につながる）；
●乾燥温度が２０～４０℃（温かいと不要なアルケン副生成物につながる）；
●２／２ａ純度が≧９８％（ＮＭＲ）；
●１／１ａに関してトシルクロリドのモル当量の範囲が１．０～２．０（好ましくは１．５）（少ないと不要な下流不純物につながり、多くても不要な下流不純物につながり得る）；
●反応速度を向上させる触媒としての４－ジメチルアミノピリジンのモル当量（触媒量）の範囲が０．０１～０．２０（好ましくは０．１０）（少量では有効性が低減または排除され、多いと不要な下流不純物につながり得る）；
●トシルクロリド添加中に反応温度を－５～０℃に維持するために必要な、トシルクロリドの制御された添加（速度および／または部分制御）（不要なアルケン副生成物の形成を軽減する）；
●水／ピリジンの最終比率が約１０／３（ｖ／ｖ）である、水／ピリジン混合物からの反応混合物の温度制御された（０～１０℃）沈殿および顆粒化による２／２ａの単離、（不要なアルケン副生成物の形成を軽減する）；および／または
●メチル－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）／ｎ－ヘプタン（０．５～０．６／１．０ ｗ／ｗ、好ましくは約０．５４／１．０ｗ／ｗ）の混合物からの、２／２ａの再結晶化（最終純度の制御を提供する）。
【0064】
実施例２－ステップ２
実施例２．１－ステップ２：実験室規模
暗中で以下の手順全体を実施した。ホイルで覆われた２リットルの丸底フラスコに、ＢＯＣ－Ｌ－セリンメチルエステル２ａのトシレート（０．４０ｍｏｌ）およびアセトン（８５５ｍＬ）を窒素雰囲気下で充填した。攪拌しながらヨウ化ナトリウム（１．０ｍｏｌ）を一度に添加し、薄層クロマトグラフィーによって反応が完了した時点までの（ヘプタン中３０％の酢酸エチル、ＫＭｎＯ４染色、２ａの消失）２２時間攪拌し続けた。反応混合物を１時間かけて０～５℃の水（３Ｌ）にゆっくりと添加し、その温度で２時間撹拌した。粗固体を、フリット漏斗を使用して濾過し、水（３ｘ５０ｍＬ）で洗浄し、次いで１６時間脱液した。１リットルの丸底フラスコに、粗固体およびヘプタン（２２５ｍＬ）を充填した。混合物を３５～４０℃に温め、この時点で全ての固体が溶解した。相分離を行い、下部の水層を排出し、廃棄した。有機層を－１５℃に冷却し、２時間撹拌した。固体をフリット漏斗を使用して濾過し、濾液で２回、次いで、きれいな０℃のヘプタン（２０ｍＬ）ですすいだ。固体を周囲温度で真空乾燥オーブンで２４時間乾燥させ、純粋なヨード中間体３ａを８０％の収率で得た。
【化17】
実施例２．１－ステップ２：実験室規模
暗中で以下の手順全体を実施した。ホイルで覆われた２リットルの丸底フラスコに、ＢＯＣ－Ｌ－セリンメチルエステル２ａのトシレート（０．４０ｍｏｌ）およびアセトン（８５５ｍＬ）を窒素雰囲気下で充填した。攪拌しながらヨウ化ナトリウム（１．０ｍｏｌ）を一度に添加し、薄層クロマトグラフィーによって反応が完了した時点までの（ヘプタン中３０％の酢酸エチル、ＫＭｎＯ４染色、２ａの消失）２２時間攪拌し続けた。反応混合物を１時間かけて０～５℃の水（３Ｌ）にゆっくりと添加し、その温度で２時間撹拌した。粗固体を、フリット漏斗を使用して濾過し、水（３ｘ５０ｍＬ）で洗浄し、次いで１６時間脱液した。１リットルの丸底フラスコに、粗固体およびヘプタン（２２５ｍＬ）を充填した。混合物を３５～４０℃に温め、この時点で全ての固体が溶解した。相分離を行い、下部の水層を排出し、廃棄した。有機層を－１５℃に冷却し、２時間撹拌した。固体をフリット漏斗を使用して濾過し、濾液で２回、次いで、きれいな０℃のヘプタン（２０ｍＬ）ですすいだ。固体を周囲温度で真空乾燥オーブンで２４時間乾燥させ、純粋なヨード中間体３ａを８０％の収率で得た。
【0065】
実施例２．２－ステップ２：大規模
３ａの合成：２ａ（９．３２Ｋｇ、２４．９６ｍｏｌ、１．００当量）を秤量し、窒素パージされた１００Ｌのガラス反応器（反応器Ａ）に充填した。アセトン（４２．０Ｋｇ、５．７容量）を反応器Ａに充填した。反応混合物を、窒素下、約１５℃（目標：１０～３０℃）で６分間撹拌して、固体を溶解した。反応混合物が感光性であるため、反応器をアルミホイルで覆った。バッチ温度を１０～３０℃に維持しながら、ＮａＩ（９．３６Ｋｇ、２．５０当量）を３０分間かけて反応器Ａに充填した。反応はやや放熱性であった：部分＃１：２ＫｇのＮａＩを一度に添加したとき、温度が２３．４℃から２５．７℃に上昇した（ジャケット温度は２０℃）、部分＃２：２ＫｇのＮａＩを一度に添加したとき、温度が２５．７℃から２７．６℃に上昇した（ジャケット温度は２０℃）。外部冷却（ジャケット温度は２０℃）および残りの部分の添加制御を使用して、プロセス温度を目標範囲内に維持した。反応混合物を２０～３０℃で２１時間３０分撹拌し、次いでＴＬＣによって確認した。ＴＬＣにより、２ａスポットが完全に消失していたことから、反応が完了した。
３ａの合成：２ａ（９．３２Ｋｇ、２４．９６ｍｏｌ、１．００当量）を秤量し、窒素パージされた１００Ｌのガラス反応器（反応器Ａ）に充填した。アセトン（４２．０Ｋｇ、５．７容量）を反応器Ａに充填した。反応混合物を、窒素下、約１５℃（目標：１０～３０℃）で６分間撹拌して、固体を溶解した。反応混合物が感光性であるため、反応器をアルミホイルで覆った。バッチ温度を１０～３０℃に維持しながら、ＮａＩ（９．３６Ｋｇ、２．５０当量）を３０分間かけて反応器Ａに充填した。反応はやや放熱性であった：部分＃１：２ＫｇのＮａＩを一度に添加したとき、温度が２３．４℃から２５．７℃に上昇した（ジャケット温度は２０℃）、部分＃２：２ＫｇのＮａＩを一度に添加したとき、温度が２５．７℃から２７．６℃に上昇した（ジャケット温度は２０℃）。外部冷却（ジャケット温度は２０℃）および残りの部分の添加制御を使用して、プロセス温度を目標範囲内に維持した。反応混合物を２０～３０℃で２１時間３０分撹拌し、次いでＴＬＣによって確認した。ＴＬＣにより、２ａスポットが完全に消失していたことから、反応が完了した。
【0066】
粗３ａの沈殿：必要な総ワークアップ容量（合計約２６０Ｌ）に基づいて、生成物の沈殿を１００Ｌ反応器（各約８７Ｌ、反応器Ａ）で３回に分けて行った。ワークアップ前の反応混合物の総容量は、約６６Ｌであった。反応混合物を、反応器Ａからアルミホイルで覆われた２つの５０Ｌ反応器（反応器Ｂおよび反応器Ｃ）に移した。反応容量の３分の１（約２２Ｌ）を１回の沈殿のために５０Ｌ反応器（反応器Ｂ）に移し、反応容量の３分の２（約４４Ｌ）を２回の沈殿のために別の５０Ｌ反応器（反応器Ｃ）に移した。
【0067】
沈殿＃１および濾過＃１Ａ：ＤＩ水（６２．１０Ｋｇ、２ａに対して２０容量）をきれいな容器に秤量し、冷蔵庫で予冷した後、反応器Ａに充填した。クエンチ水を４．８℃（目標：０～５℃）に冷却した。反応器Ｂ中の反応混合物（約２２Ｌ）を、バッチ温度を０～１０℃に維持しながら、１時間１３分かけて反応器Ａ中の冷水中にゆっくりと移した；全体的な添加速度：約２Ｌ／５分。最初に、反応混合物を２リットル移し、添加を休止し、クエンチ混合物を５分間撹拌した。すぐに固体沈殿が観察された。添加を再開し、添加が完了した後、バッチを５±５℃で８４分間撹拌した。バッチを３３分間かけてフィルター漏斗に円滑に移した。バッチを、フィルター漏斗上で１時間脱液した。
【0068】
沈殿＃２および濾過＃１Ｂ：ＤＩ水（６２．１１Ｋｇ、２ａに対して２０容量）をきれいな容器に秤量し、冷蔵庫で予冷した後、反応器Ａに充填した。クエンチ水を４．５℃（目標：０～５℃）に冷却した。反応混合物（約２２Ｌ、反応器Ｃからのバッチの１／２）を、バッチ温度を０～１０℃に維持しながら、４２分間かけて反応器Ａ中の冷水中にゆっくりと移した；全体的な添加速度：約２Ｌ／４分。最初に、反応混合物を２リットル移し、添加を休止し、クエンチ混合物を５分間撹拌した。すぐに固体沈殿が観察された。添加を再開し、添加が完了した後、バッチを５±５℃で４８分間撹拌した。バッチを１７分間かけて以前の濾過からの漏斗中のフィルターケーキ上に円滑に移した。バッチを１３分間脱液した。フィルター漏斗中のウェットケーキを水で洗浄し（４ｘ３１．１Ｋｇ、または４ｘ５容量、２ａに対して）、フィルター漏斗に真空を適用することによって２時間脱液して、８．９２Ｋｇの湿状の粗３ａを得た。
【0069】
沈殿＃３および濾過＃２：ＤＩ水（６２．１７Ｋｇ、（２ａ）に対して２０容量）をきれいな容器に秤量し、冷蔵庫で予冷した後、反応器Ａに充填した。クエンチ水を２．６℃（目標：０～５℃）に冷却した。反応混合物（約２２Ｌ、反応器Ｃからのバッチの１／２）を、バッチ温度を０～１０℃に維持しながら、１時間かけて反応器Ａ中の冷水中にゆっくりと移した；全体的な添加速度：約２Ｌ／５分。最初に、反応混合物を２リットル移し、添加を休止し、クエンチ混合物を５分間撹拌した。すぐに固体沈殿が観察された。添加を再開し、添加が完了した後、バッチを５±５℃で７１分間撹拌した。
【0070】
バッチを、２５分間かけてフィルター漏斗に円滑に移した。バッチを、１２分間脱液した。フィルター漏斗中のウェットケーキを水で洗浄し（４ｘ１５．５ｋｇ、または４ｘ５容量、２ａに対して）、フィルター漏斗に真空を適用することによって２時間脱液して、３．４９Ｋｇの湿状の粗３ａを得た。
【0071】
粗３ａは、良好に制御された様式で、アセトン反応混合物を冷水に添加することによって沈殿させる必要がある。最初に、約２リットル（合計２２Ｌのうち）の反応混合物を冷水クエンチに添加し、クエンチ混合物を５分間撹拌して、均一なスラリーを形成し、次いで残り（約２０Ｌ）の反応混合物を１時間以上かけて連続的に添加した。得られたスラリーは均一であり、容易に濾過した。
【0072】
湿状の粗３ａの精製：合わせた湿状の粗３ａ（１２．４１Ｋｇ）を窒素下で反応器Ｂに移し、続いてヘプタン（９．５８Ｋｇ、（２Ａ）に対して１．５容量）を移した。バッチを３９．５℃に加熱し、約３９℃で５分間撹拌して、透明な溶液（二相性）を得た。底部の水層（約５Ｌ）を除去した。バッチ（約２０Ｌ）を、１時間１３分かけて２０℃に冷却した。冷却中、約２９℃で３ａの結晶化が起きた。スラリーを１０～２０℃で１時間撹拌し、次いで、１６時間４５分かけて－２２．８℃に冷却した。
【0073】
冷えたバッチを－２０±５℃で２時間２０分撹拌した。バッチを、窒素パージ下で３５分間かけて大きなＰＥ袋に包まれたフィルター漏斗に移した。移送中、再利用される濾液を使用して、反応器をすすいでフィルター漏斗上の生成物ケーキに流した。窒素下で１１分間脱液した後、フィルターケーキを冷ヘプタン（３．１９Ｋｇ、０℃、（２ａ）に対して０．５容量）で洗浄し、次いで窒素下で２時間６分脱液した。湿状のフィルターケーキ（７．７４Ｋｇ）を６個のガラス乾燥トレイに移し、周囲温度で１時間２６分真空オーブン（≦５０トル）で乾燥させ、次いで２０～３０℃（≦５０トル）で７０時間かけて乾燥した（３ａ）を得た（６．８５Ｋｇ、収率８３．３％（６．８５Ｋｇ、収率８３％、ＡＵＣ純度９９．２９％）。乾燥後の最終含水量はわずか０．０１３であった。
【0074】
－２０±５℃のヘプタン中の精製された３ａのスラリーをフィルター漏斗に移送するのが遅かった。ヘプタンの容量が非常に少なかったため（再結晶の場合は１．５容量のみ）、固体が沈降し、反応器から残留した固体を洗い流すために再利用される母液が必要となった。反応器からの残留固体は、フィルター漏斗内へと容易にすすがれた。（３ａ）は感光性であるため、プロセス全体を、可能な限り光の曝露を最小限に抑える必要がある。また、３ａは、空気に非常に敏感であるため、濾過は窒素雰囲気下で行わなければならない。（窒素保護なしでフィルター漏斗に真空を適用してウェットケーキの脱液を行う実験室での実験では、フィルターケーキの上部で（３ａ）が濃く（褐色）なった）。空気露出を最小限に抑えるために、Ｋｉｌｏ Ｌａｂ濾過操作を、一定の窒素パージ下、大型のＰＥバッグ内で行った。
【0075】
実施例２．３－ステップ２：３ａの大規模調製
３ａの合成（反応）：２ａ（９．６９Ｋｇ、２５．９６ｍｏｌ、１．００当量）を秤量し、窒素パージされた１００Ｌのガラス反応器（反応器Ａ）に充填した。アセトン（４３．７０Ｋｇ）を反応器Ａに充填した。反応混合物を、窒素下、約１５℃（目標：１０～３０℃）で１０分間撹拌して、固体を溶解した。反応混合物が感光性であるため、反応器をアルミホイルで覆って、光を除外した。バッチ温度を１０～３０℃に維持しながら、ＮａＩ（９．７３Ｋｇ、２．５０当量）を、２２分間かけて反応器Ａに充填した。反応混合物を、約２５℃（目標：２０～３０℃）で１６時間１５分撹拌し、次いでＴＬＣによって確認した。ＴＬＣで２ａが検出されず、反応が完了した。
３ａの合成（反応）：２ａ（９．６９Ｋｇ、２５．９６ｍｏｌ、１．００当量）を秤量し、窒素パージされた１００Ｌのガラス反応器（反応器Ａ）に充填した。アセトン（４３．７０Ｋｇ）を反応器Ａに充填した。反応混合物を、窒素下、約１５℃（目標：１０～３０℃）で１０分間撹拌して、固体を溶解した。反応混合物が感光性であるため、反応器をアルミホイルで覆って、光を除外した。バッチ温度を１０～３０℃に維持しながら、ＮａＩ（９．７３Ｋｇ、２．５０当量）を、２２分間かけて反応器Ａに充填した。反応混合物を、約２５℃（目標：２０～３０℃）で１６時間１５分撹拌し、次いでＴＬＣによって確認した。ＴＬＣで２ａが検出されず、反応が完了した。
【0076】
粗３ａの沈殿（粗生成物の単離）：必要な総ワークアップ容量（合計約２６８Ｌ）に基づいて、バッチレコードにより、生成物を３回に分けて１００Ｌ反応器で（それぞれ約８９Ｌ、反応器Ａ）沈殿する必要があった。クエンチされる反応混合物の総容量は約６４Ｌであった。反応混合物を、反応器Ａから、光を除外するためにアルミホイルで覆われた２つの５０Ｌ反応器に移した。反応器Ａからの反応混合物の３分の１（約２１Ｌ）を第１の沈殿用に５０Ｌ反応器（反応器Ｂ）に移し、反応器Ａからの反応混合物の３分の２（約４３Ｌ）を第２および第３の沈殿用に別の５０Ｌ反応器（反応器Ｃ）に移した。
【0077】
沈殿＃１および濾過＃１パートＡ：ＤＩ水（６４．６５Ｋｇ）をきれいな容器に秤量し、冷蔵庫で予冷した後、反応器Ａに充填した。バッチを３．５℃（目標：０～５℃）に冷却した。反応器Ｂ中の反応混合物（約２１Ｌ）を、バッチ温度を０～１０℃に維持しながら、３３分間かけて反応器Ａ中の冷水中にゆっくりと移した。沈殿開始時、反応混合物を２リットル移し、流れを停止し、クエンチされた混合物を５分間撹拌した。すぐに固体沈殿が観察された。移送を再開し、完全に移し終えた後、次いで、クエンチされたスラリーを５±５℃で５７分間撹拌した。スラリーを３５分かけてフィルター漏斗に移した。バッチを１時間脱液した。
【0078】
沈殿＃２および濾過＃１パートＢ：ＤＩ水（６４．６５Ｋｇ）をきれいな容器に秤量し、冷蔵庫で予冷した後、反応器Ａに充填した。バッチを３．５℃（目標：０～５℃）に冷却した。反応混合物（約２１Ｌ、反応器Ｃからの容量の１／２）を、バッチ温度を０～１０℃に維持しながら、３２分間かけて反応器Ａ中の冷水中にゆっくりと移した。沈殿開始時、反応混合物を２リットル移し、流れを停止し、クエンチされた混合物を５分間撹拌した。すぐに固体沈殿が観察された。移送を再開し、完全に移送を終えた後、次いで、クエンチされたスラリーを５±５℃で４８分間撹拌した。バッチは、フィルター漏斗の中へと、フィルター漏斗にある以前の濾過からのウェットケーキの上に円滑に移された。フィルター漏斗中の合わせた固体を１０分間脱液した。フィルター漏斗中のウェットケーキを水で洗浄し（４ｘ３２．３ｋｇ）、最後に、フィルター漏斗に真空を適用することによって、２時間３分脱液して、９．８５Ｋｇの湿状の粗３ａを得た。
【0079】
沈殿＃３および濾過＃２：ＤＩ水（６４．６５Ｋｇ）をきれいな容器に秤量し、冷蔵庫で予冷した後、反応器Ａに充填した。バッチを４．０℃（目標：０～５℃）に冷却した。反応混合物（約２１Ｌ、反応器Ｃからのバッチの残りの１／２）を、バッチ温度を０～１０℃に維持しながら、３５分間かけて反応器Ａ中の冷水中にゆっくりと移した。沈殿開始時、反応混合物を２リットル移し、流れを停止し、クエンチされた混合物を５分間撹拌した。すぐに固体沈殿が観察された。移送を再開し、完全に移し終えた後、次いで、クエンチされたスラリーを５±５℃で４２分間撹拌した。バッチを１８分かけてフィルター漏斗に円滑に移した。バッチを１２分間脱液した。フィルター漏斗中のウェットケーキを水で洗浄し（４ｘ１６．２Ｋｇ）、最後に、フィルター漏斗に真空を適用することによって、２時間１０分脱液して、５．９０Ｋｇの湿状の粗３ａを得た。
【0080】
湿状の粗３ａの精製（再結晶化）：合わせた湿状の粗３ａ（１５．７５Ｋｇ）を窒素下で反応器Ｂ（５０Ｌ）に移し、続いてｎ－ヘプタン（９．９５Ｋｇ）を移した。バッチを３５．１℃に加熱し、約３６．０℃で６分間撹拌して、固体を溶解した。２つの透明な相の間にラグ層が観察され、一部の不溶性物質が観察された。バッチを３５～４０℃でインラインフィルター（１０μｍ）を通して濾過し、ラグ層なしの透明な溶液（二相性）を得た。相分離のために１４分間バッチを沈降させた。底部の水層（約８．５Ｌ）を除去した。バッチ（約２０Ｌ）を、１時間３５分かけて３８℃から約２３℃に冷却した。冷却中、２３．２℃で３ａの結晶化が起きた。結晶化の熱により、結晶化中にバッチ温度が２８．８℃に上昇し、次いで６０分間かけて１７．５℃に低下した（最終ジャケット温度は１０℃）。スラリーを１０～２０℃で１時間撹拌し、次いで１４時間かけて－２０．４℃に冷却し、次いで－２０．４℃で２時間２５分撹拌した。濾過を陽圧窒素雰囲気下で行った。
【0081】
バッチを１３分間かけてフィルター漏斗に移した。窒素下で１０分間脱液した後、フィルターケーキを冷ｎ－ヘプタン（３．３２Ｋｇ、０℃）で洗浄し、次いで窒素雰囲気下で２時間４分脱液した。湿状のフィルターケーキ（８．３３Ｋｇ）を乾燥トレイに移し、周囲温度で１時間１５分真空下（≦５０トル）で乾燥させ、次いで２０～３０℃で８８時間かけて乾燥した３ａを得た（６．９４Ｋｇ、収率８１．３％）。３ａの分析により、３ａの純度は９９．２％（ＨＰＬＣによるＡＵＣ）であり、水含量は０．００６％（ＫＦ）であることが示された。
【0082】
ステップ２での好ましいプロセスパラメータおよび実施形態－３／３ａの調製
以下に列挙するものは、上記スキームＩ、ＩＩ、およびＩＩＩに示されるように、本発明の合成におけるステップ２についての特定の好ましいプロセスパラメータである。当ステップのような特定のステップについて記載される各好ましいプロセスパラメータは、本発明の別個の実施形態である。各ステップにおける好ましいプロセスパラメータは、好ましいプロセスパラメータの各組み合わせがまた本発明の別個の実施形態であるように、他のステップのプロセスパラメータとともに用いられ得る。１つまたは複数のステップにおいて１つまたは複数の好ましいプロセスパラメータを有する本発明による合成もまた、本発明の別の実施形態である。ステップ２の好ましいプロセスパラメータには、以下が含まれるが、これらに限定されない：
●反応混合物、生成物溶液、および単離された生成物を光曝露から保護し、光分解を回避する（不要な副生成物形成を軽減する）；
●ＮａＩを反応混合物に添加する間の温度範囲が１０～３０℃（好ましくは１５～２０℃）（不要な副生成物の形成を軽減する）；
●反応温度が２０～３０℃（不要な副生成物の形成を軽減する）；
●反応混合物の水への制御された水性クエンチおよび３／３ａの沈殿のための温度範囲が０～１０℃（不要な副生成物の形成を軽減する）；
●再結晶化時の溶解温度が３０～４０℃（不要な副生成物の形成を軽減する）；
●再結晶時の反応器のジャケット温度が≦５０℃（不要な副生成物の形成を軽減する）；
●最終の単離温度が－２５～－１５℃（制御された純度で高収率）；
●乾燥温度が２０～３０℃（不要な副生成物の形成を軽減する）；
●３／３ａの純度が≧９８．０％ＨＰＬＣ（ＡＵＣ）；
●２ａのインプットに対するＮａＩが、２．０～３．０（好ましくは２．５）モル当量の範囲（少ないと不要な下流の不純物につながり、多いとコストが増加する）；
●反応溶媒としてアセトン（不要な副生成物の形成を軽減する）；および／または
●２／２ａのインプット重量に対して約１／１ｗ／ｗのｎ－ヘプタンからの再結晶化（制御された純度で高収率）。
以下に列挙するものは、上記スキームＩ、ＩＩ、およびＩＩＩに示されるように、本発明の合成におけるステップ２についての特定の好ましいプロセスパラメータである。当ステップのような特定のステップについて記載される各好ましいプロセスパラメータは、本発明の別個の実施形態である。各ステップにおける好ましいプロセスパラメータは、好ましいプロセスパラメータの各組み合わせがまた本発明の別個の実施形態であるように、他のステップのプロセスパラメータとともに用いられ得る。１つまたは複数のステップにおいて１つまたは複数の好ましいプロセスパラメータを有する本発明による合成もまた、本発明の別の実施形態である。ステップ２の好ましいプロセスパラメータには、以下が含まれるが、これらに限定されない：
●反応混合物、生成物溶液、および単離された生成物を光曝露から保護し、光分解を回避する（不要な副生成物形成を軽減する）；
●ＮａＩを反応混合物に添加する間の温度範囲が１０～３０℃（好ましくは１５～２０℃）（不要な副生成物の形成を軽減する）；
●反応温度が２０～３０℃（不要な副生成物の形成を軽減する）；
●反応混合物の水への制御された水性クエンチおよび３／３ａの沈殿のための温度範囲が０～１０℃（不要な副生成物の形成を軽減する）；
●再結晶化時の溶解温度が３０～４０℃（不要な副生成物の形成を軽減する）；
●再結晶時の反応器のジャケット温度が≦５０℃（不要な副生成物の形成を軽減する）；
●最終の単離温度が－２５～－１５℃（制御された純度で高収率）；
●乾燥温度が２０～３０℃（不要な副生成物の形成を軽減する）；
●３／３ａの純度が≧９８．０％ＨＰＬＣ（ＡＵＣ）；
●２ａのインプットに対するＮａＩが、２．０～３．０（好ましくは２．５）モル当量の範囲（少ないと不要な下流の不純物につながり、多いとコストが増加する）；
●反応溶媒としてアセトン（不要な副生成物の形成を軽減する）；および／または
●２／２ａのインプット重量に対して約１／１ｗ／ｗのｎ－ヘプタンからの再結晶化（制御された純度で高収率）。
【0083】
実施例３－ステップ３
実施例３．１－ステップ３：実験室規模
５００ｍＬの丸底フラスコに亜鉛（０．５４ｍｏｌ））、テトラヒドロフラン（３９ｍＬ）、および１，２－ジブロモエタン（２３ｍｍｏｌ）を窒素雰囲気下で充填した。反応混合物を６０℃に温め、６０℃で５分間撹拌した。次いで、反応混合物を３０～３５℃に冷却し、トリメチルシリルクロリド（４．４ｍｍｏｌ）をフラスコに充填した。反応混合物を３０～３５℃で３０分間撹拌した。反応物を２０～２５℃に冷却した後、テトラヒドロフラン（１８０ｍＬ）中のヨード中間体（３ａ）（９１ｍｍｏｌ）を１時間かけてフラスコに充填した。反応混合物を周囲温度で２時間撹拌し、その時点で、これを薄層クロマトグラフィー（ヘプタン中の３０％酢酸エチル、メタノールクエンチ、ＫＭｎＯ４染色、３ａの消失）により完了とした。ポーター・フィッシャー圧力ボトルに、テトラキス（トリフェニルホスフィン）－パラジウム（０）（４．６ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）を窒素雰囲気下で充填した。次いで、窒素を溶液中に通気し、真空を適用した。次いで、一酸化炭素を溶液中に通気し、真空を適用した。次いで、一酸化炭素を真空なしで１５分間反応物に通気した。次いで、ポーター・フィッシャー圧力ボトルに、テトラヒドロフラン（２５ｍＬ）中の５－クロロ－２－ヨードアニリン（５ａ）（９１ｍｍｏｌ）を充填した。５－クロロ－２－ヨードアニリン（５ａ）を添加した後、一酸化炭素の通気を維持しながら、亜鉛試薬（４ａ）を１時間かけて５００ｍＬの丸底フラスコからポーター・フィッシャー圧力ボトルに移した。激しく撹拌しながら、一酸化炭素を反応物にさらに２時間通気した。次いで、通気装置を圧力継手のために切り替え、反応物を一酸化炭素（６ｘ１５ｐｓｉ）でパージし、次いで一酸化炭素下（３～４ｐｓｉ）で２０時間放置した。反応物を窒素雰囲気下に戻した後、反応物を、酢酸エチルを用いて詰めたセライトのパッド（５０％ｗｔ／ｗｔ）を通して濾過した。反応容器を酢酸エチル（３ｘ１００ｍＬ）ですすいだ。水（２００ｍＬ）およびセライト（２０％ｗｔ／ｗｔ）を濾液に加えて、５分間撹拌した。混合物をセライトパッド（５０％ｗｔ／ｗｔ）を通して濾過し、酢酸エチル（１５０ｍＬ）ですすいだ。濾液を分液漏斗に移し、相分離を行った。下部の水層を排出し、廃棄した。水（１５０ｍＬ）を漏斗に充填し、溶液を３分間振盪した。相分離を行い、下部の水層を排出し、廃棄した。有機溶媒を減圧下で除去することで、粗中間体６ａの定量的な収率が明らかになった。
【化18】
実施例３．１－ステップ３：実験室規模
５００ｍＬの丸底フラスコに亜鉛（０．５４ｍｏｌ））、テトラヒドロフラン（３９ｍＬ）、および１，２－ジブロモエタン（２３ｍｍｏｌ）を窒素雰囲気下で充填した。反応混合物を６０℃に温め、６０℃で５分間撹拌した。次いで、反応混合物を３０～３５℃に冷却し、トリメチルシリルクロリド（４．４ｍｍｏｌ）をフラスコに充填した。反応混合物を３０～３５℃で３０分間撹拌した。反応物を２０～２５℃に冷却した後、テトラヒドロフラン（１８０ｍＬ）中のヨード中間体（３ａ）（９１ｍｍｏｌ）を１時間かけてフラスコに充填した。反応混合物を周囲温度で２時間撹拌し、その時点で、これを薄層クロマトグラフィー（ヘプタン中の３０％酢酸エチル、メタノールクエンチ、ＫＭｎＯ４染色、３ａの消失）により完了とした。ポーター・フィッシャー圧力ボトルに、テトラキス（トリフェニルホスフィン）－パラジウム（０）（４．６ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）を窒素雰囲気下で充填した。次いで、窒素を溶液中に通気し、真空を適用した。次いで、一酸化炭素を溶液中に通気し、真空を適用した。次いで、一酸化炭素を真空なしで１５分間反応物に通気した。次いで、ポーター・フィッシャー圧力ボトルに、テトラヒドロフラン（２５ｍＬ）中の５－クロロ－２－ヨードアニリン（５ａ）（９１ｍｍｏｌ）を充填した。５－クロロ－２－ヨードアニリン（５ａ）を添加した後、一酸化炭素の通気を維持しながら、亜鉛試薬（４ａ）を１時間かけて５００ｍＬの丸底フラスコからポーター・フィッシャー圧力ボトルに移した。激しく撹拌しながら、一酸化炭素を反応物にさらに２時間通気した。次いで、通気装置を圧力継手のために切り替え、反応物を一酸化炭素（６ｘ１５ｐｓｉ）でパージし、次いで一酸化炭素下（３～４ｐｓｉ）で２０時間放置した。反応物を窒素雰囲気下に戻した後、反応物を、酢酸エチルを用いて詰めたセライトのパッド（５０％ｗｔ／ｗｔ）を通して濾過した。反応容器を酢酸エチル（３ｘ１００ｍＬ）ですすいだ。水（２００ｍＬ）およびセライト（２０％ｗｔ／ｗｔ）を濾液に加えて、５分間撹拌した。混合物をセライトパッド（５０％ｗｔ／ｗｔ）を通して濾過し、酢酸エチル（１５０ｍＬ）ですすいだ。濾液を分液漏斗に移し、相分離を行った。下部の水層を排出し、廃棄した。水（１５０ｍＬ）を漏斗に充填し、溶液を３分間振盪した。相分離を行い、下部の水層を排出し、廃棄した。有機溶媒を減圧下で除去することで、粗中間体６ａの定量的な収率が明らかになった。
【0084】
粗中間体６ａの精製：粗中間体（６ａ）を５０ｍＬの酢酸エチルで溶解した。この溶液をシリカゲルパッド（３００ｇ）に負荷し、ヘプタン（５００ｍＬ）、５％酢酸エチル／ヘプタン（１．５Ｌ）、１０％酢酸エチル／ヘプタン（１．０Ｌ）、２０％酢酸エチル（４．０Ｌ）でフラッシュした。生成物画分をＨＰＬＣによって分析し、画分（８０％ＡＵＣを超える純度）を合わせた。合わせた生成物溶液を濃縮後、精製中間体（６）（２７．０ｇ、収率８３％、ＡＵＣ純度９５．２％）を得た。
【0085】
実施例３．２－ステップ３：大規模
４ａの合成：（単離されていない中間体）：亜鉛（７．７４ｋｇ、５．９当量）を窒素下で５０Ｌガラス反応器（反応器Ａ）に充填し、続いてＴＨＦ（７．６３ｋｇ、１．３容量）および１，２－ジブロモエタン（０．９４１ｋｇ、０．２５当量）を充填した。バッチを撹拌し、１．５時間かけて１６℃から６１℃に加熱した（目標：６０～６５℃）。バッチを６０～６５℃で７分間撹拌し、次いで６５分間かけて３６．８℃に冷却した。トリメチルシリルクロリド（１０９ｇ、０．０５当量）を１３分間かけて添加した。バッチを３２～３８℃で５８分間撹拌し、次いで、５２分間かけて３６．５℃から２５．８℃に冷却した。（３ａ）（６．６０ｋｇ、１．０当量）を周囲温度でＴＨＦ（２９．３ｋｇ、５．０容量）を有する容器中に溶解した。（３ａ）溶液を、２３±５℃で２時間１０分間かけて反応器Ａ（光を除外するためにアルミホイルで包まれた）に添加した。バッチを２時間２０分間撹拌した。ＴＬＣにより、（３ａ）が完全に消失したことが示された。（４ａ）の合成が完了した。
４ａの合成：（単離されていない中間体）：亜鉛（７．７４ｋｇ、５．９当量）を窒素下で５０Ｌガラス反応器（反応器Ａ）に充填し、続いてＴＨＦ（７．６３ｋｇ、１．３容量）および１，２－ジブロモエタン（０．９４１ｋｇ、０．２５当量）を充填した。バッチを撹拌し、１．５時間かけて１６℃から６１℃に加熱した（目標：６０～６５℃）。バッチを６０～６５℃で７分間撹拌し、次いで６５分間かけて３６．８℃に冷却した。トリメチルシリルクロリド（１０９ｇ、０．０５当量）を１３分間かけて添加した。バッチを３２～３８℃で５８分間撹拌し、次いで、５２分間かけて３６．５℃から２５．８℃に冷却した。（３ａ）（６．６０ｋｇ、１．０当量）を周囲温度でＴＨＦ（２９．３ｋｇ、５．０容量）を有する容器中に溶解した。（３ａ）溶液を、２３±５℃で２時間１０分間かけて反応器Ａ（光を除外するためにアルミホイルで包まれた）に添加した。バッチを２時間２０分間撹拌した。ＴＬＣにより、（３ａ）が完全に消失したことが示された。（４ａ）の合成が完了した。
【0086】
（４ａ）のｉｎ ｓｉｔｕ調製の一環として、亜鉛粉末の活性化が必要である。実験室規模の調製は容易に進行するが、製造規模では亜鉛粉末の懸濁を維持するために、混合のパラメータに注意が必要である。亜鉛粉末の沈降は、不完全な活性化と不完全な反応をもたらす。攪拌器の設定は、反応器／攪拌器の種類、幾何学的形状、および構成について経験的に決定される。
【0087】
（６ａ）の合成：容器中でテトラキス（テトラキス（トリフェニホスフィン）パラジウム（０）、１．１６１ｋｇ、０．０５当量）をＴＨＦ（合計：５．８７ｋｇ、数回のすすぎに使用、１．０容量）を混合し、スラリーを１００Ｌガラス反応器（反応器Ｂ）に移した。反応器Ｂを窒素で４回パージした（真空を用いて反応器Ｂを２００～２５０トルの圧力まで排気し、次いで窒素で真空を大気圧まで開放する）。反応器Ｂを一酸化炭素（ＣＯ）で４回パージした（真空を用いて反応器Ｂを２００～２５０トルの圧力まで排気し、次いでＣＯで真空を大気圧まで開放する）。バッチを、表面下添加を介して、ＣＯで連続的にパージして、反応器Ｂ中のＣＯ流量を４～６ＬＰＭで１０分間維持した。表面下ＣＯ流量を４～６ＬＰＭに維持ながら、ＴＨＦ（４．８７ｋｇ、０．８３容量）に予め溶解した（５ａ）（５．０８ｋｇ、１．０当量）の溶液を、９分間かけて反応器Ｂに添加した。表面下ＣＯ流量を４～６ＬＰＭに維持ながら、（４ａ）反応混合物を、２０～２６℃で６１分間かけて、ペリスタルティックポンプを介して反応器Ａから反応器Ｂに移した。反応器ＡをＴＨＦ（１．７６ｋｇ）ですすぎ、すすぎ液を反応器Ｂに移した。少なくとも２０時間、４～６ＬＰＭの流速での表面下ＣＯ通気によってＣＯ圧を１～３ｐｓｉｇに維持しながら、バッチを少なくとも２０～２６℃で撹拌した。２０時間後のＨＰＬＣ分析は、（６ａ）（対（５ａ）＋（６ａ））が９４．５３％ＡＵＣに達したことを示した。気液界面にわたるＣＯガスの適切な物質移動は、表面積、ガス圧、および混合の組み合わせによって提供される必要がある。４時間後の第２の分析では、（６ａ）（対（５ａ）＋（６ａ））が０．４６％（ＨＰＬＣにより９４．９９％ＡＵＣに）増加したことを示し、これは、反応完了を定義するために指定された目標増加率よりも小さかった（４時間以上の間隔での２つの連続試料にわたる（６ａ）についてのＨＰＬＣ ＡＵＣ増加が１．０％以下）。反応が完全であると判定された。
【0088】
反応後処理（ワークアップ）：反応器Ｂにおける反応が完了した後、一酸化炭素の通気を停止し、システムを真空を用いて２００トル以下の圧力まで排気し、次いで窒素で大気圧にパージした。このパージ処理を３回繰り返した。次いで、バッチを、表面下４～６ＬＰＭで、窒素で４時間パージして、ヘッドスペースでのＣＯレベルが３５ｐｐｍ以下に達した。バッチを１５分間沈降させ、上部液体層を吸引管でデカントし、セライトパッド（４．７ｋｇ、酢酸エチルで事前に湿らせた）を通して４３分間かけて濾過した。酢酸エチル（５９．５２ｋｇ、１０容量）を反応器Ｂに添加して、反応器Ｂ中の固体をすすいだ。バッチのすすぎ液を１５分間撹拌し、２０分間沈降させた。上層を吸引管でデカントし、次いで濾過のためにフィルター漏斗に移した。濾液（約１２０Ｌ）を５５ガロンＨＤＰＥドラム中で合わせ、水（３９．６ｋｇ、６．０容量）を添加し、続いてセライト（２．３ｋｇ）を添加した。ドラム中の混合物をドラム撹拌器で１５分間撹拌した。混合物の半分を、酢酸エチルで予め湿らせたセライトパッド（５．５４ｋｇ）を通して、（洗浄した）反応器Ｂ中に濾過した。非常に遅い濾過が観察された（約４時間）。セライトパッドを酢酸エチル（８．９６ｋｇ、１．５容量）で洗浄し、すすぎ液の濾液を反応器Ｂに移した。反応器Ｂ中の濾過混合物を５分間撹拌し、１０分間沈降させた。底部の水層（約１９Ｌ）を除去し、上部の有機層（約７２Ｌ）を水（１６．５ｋｇ、２．５容量）で洗浄した。下部の水層を除去し、上部の有機層（約６４Ｌ）をきれいな容器に移した。混合物を含むドラム状セライトのあとの半分を、使用済のセライトパッドを介して濾過し、システムを酢酸エチル（８．９３ｋｇ、１．５容量）ですすいだ。非常に遅い濾過および洗浄が観察された（３時間超）。濾過した混合物を反応器Ｂに移し、６分間撹拌し、８時間沈降させた。底部の水層を除去し、上部の有機層（約８２Ｌ）を水（１６．５ｋｇ、２．５容量）で洗浄し、次いで下部の水層を除去した。
【0089】
粗６ａの単離：反応器Ｂ中の有機層（約８２Ｌ）を、反応器Ｂ中で真空濃縮して約３０Ｌにし、次いで、きれいな容器に保管していた保持有機層（約６４Ｌ）を反応器Ｂ中に移した。反応器Ｂから合わせた６ａに富む有機溶液を４つのロータリーエバポレーターフラスコ（Ｒｏｔａ－ｖａｐｏｒ ｆｌａｓｋ）に濃縮して、粗６ａ（油性物質、半固体、合計１１．９８ｋｇ）を得た。４つのロータリーエバポレーターフラスコからの単離された粗（６ａ）を、酢酸エチル（約１０Ｌ）で溶解して、一部不溶性の赤色固体を有する溶液（２０．２５ｋｇ）を得た。次いで、酢酸エチル中の粗６ａ混合物を、シリカゲル精製によって６回に分けて精製した。
【0090】
シリカゲル上の粗６ａの精製（６回の負荷）：酢酸エチル（約２０ｋｇ）に溶解した粗（６ａ）をシリカゲルパッド上に６回負荷して精製した（表１）。各負荷は、１．１ｋｇの３ａインプット（合計６．６ｋｇ）に基づいて計算された。（３ａ）インプットに対するシリカゲル重量は、１０ｗｔ／ｗｔであった。シリカパッドは、ヘプタン中のシリカゲルのスラリーから調製した。粗（６ａ）溶液を薄い均一層に塗布した後、重力流を用いて容量（ｖ／ｖ）ベースの酢酸エチル／ヘプタンの混合物（０％、５％、１０％、２０％および３０％ｖ／ｖ酢酸エチル）で溶出し、生成物の画分を収集することによって精製を行った。分析後、各負荷の合わせた比較的純粋な画分（ＨＰＬＣにより、≧７０％ＡＵＣの６ａを含有する）を活性炭で処理し、セライトパッドを通して濾過した。濾液を濃縮して、精製された６ａを得た。全体の精製結果を、表１にまとめた。表２は、各負荷に使用される溶媒を列挙する。
【表1】
【表2】
【0091】
精製（６ａ）／酢酸エチル溶液の全てを組み合わせて、５．８８ｋｇの６ａを含有する単一の（６ａ）／酢酸エチル生成物溶液（１７．７２ｋｇ）を得た（総収率：８２．２％）。この溶液のＨＰＬＣ分析で、ＨＰＬＣ純度が９５．６８％ＡＵＣであることが示された。
【0092】
実施例３．３－ステップ－３：６ａの調製
４ａの合成：（単離されていない中間体）：反応器Ａ（５０Ｌガラス反応器）をＴＨＦ（約１５Ｌ）で流し、すすぎ液を除去した。次いで、反応器をＴＨＦ（約１０Ｌ）ですすぎ、すすぎ液の含水量を確認した。含水量は０．１％未満であり、反応器が乾燥していることが確認された。
４ａの合成：（単離されていない中間体）：反応器Ａ（５０Ｌガラス反応器）をＴＨＦ（約１５Ｌ）で流し、すすぎ液を除去した。次いで、反応器をＴＨＦ（約１０Ｌ）ですすぎ、すすぎ液の含水量を確認した。含水量は０．１％未満であり、反応器が乾燥していることが確認された。
【0093】
酸化亜鉛をその表面から除去するために、亜鉛粉末を、水中５０％ｗ／ｗのＮａＯＨ溶液を用いて、Ｚｎ金属と水との反応を防いで水素ガスを解放するように十分に希釈した約２：１のＺｎ：ＮａＯＨモル比で処理した。乾燥処理された亜鉛（８．０９Ｋｇ、５．９当量）を、窒素下で反応器Ａ（５０Ｌ）に充填し、続いてＴＨＦ（８．００Ｋｇ）および１，２－ジブロモエタン（０．９８４ｇ）を充填した。攪拌速度を２００ＲＰＭに設定した。バッチを、５４分間かけて２０．４℃から６３．１℃に加熱した（目標：６３～６５℃）。バッチを６３～６５℃で１０分間撹拌し、次いで６８分間かけて３３．１℃に冷却した。バッチ温度を３２～３８℃に維持しながら、トリメチルシリルクロリド（１１４．１ｇ）を２５分間かけて添加した。バッチを３２～３８℃で６０分間撹拌した。必要に応じて攪拌を調整して、亜鉛固体の完全な混合を確保した。バッチを、４５分間かけて３３．４℃から２５．３℃に冷却した。３ａ（６９０ｇ、そのバッチの３ａの１０％：６．９０Ｋｇ）を、周囲温度で反応器Ｂ（５０Ｌ）中のＴＨＦ（３．０７Ｋｇ）と混合した。３ａの混合物を２２．５℃（目標：２０～２６℃）に調整して溶液を得、次いで、ペリスタルティックポンプを介して２３～２７℃で４０分間かけて反応器Ａ（光を除外するためにアルミホイルで覆われた）に添加した。バッチを３０分間撹拌した。ＴＬＣにより、３ａが完全に消失したことが示された。４ａ形成の開始が完了した。
【0094】
残りの３ａ（合計６．９０Ｋｇ）を窒素下で反応器Ｂに充填し、続いてＴＨＦ（２７．６５Ｋｇ）を充填した。混合物を１５．２℃から２０．８℃に調整し、１０分間撹拌して溶液を得た。次いで、この溶液を、ペリスタルティックポンプを介して２３～２８℃で３時間かけて反応器Ａに添加した。バッチを２時間撹拌した。ＴＬＣにより、３ａが完全に消失したことが示された。４ａの形成が完了した。
【0095】
６ａの合成：テトラキスＰｄ（０）（１．２１Ｋｇ）をＴＨＦ（合計：６．１５Ｋｇ）と容器中で混合し、スラリーを１００Ｌのガラス反応器（反応器Ｃ）に移した。反応器Ｃを窒素で４回パージした（反応器を２００～２５０トルまで排気し、次いで窒素で真空を大気圧まで開放する）。反応器Ｃを一酸化炭素（ＣＯ）で４回パージした（反応器Ｃを２００～２５０トルまで排気し、次いでＣＯで真空を大気圧まで開放する）。次いで、バッチを、ＣＯでパージして、反応器Ｃ中のＣＯ流量を４～６ＬＰＭで１０分間維持した。ＣＯ流量を４～６ＬＰＭに維持ながら、ＴＨＦ（５．１０Ｋｇ）に予め溶解した５ａ（５．３４Ｋｇ）の溶液を、ペリスタルティックポンプを介して８分間かけて反応器Ｃに添加した。４ａ反応混合物を、２０～２６℃で２時間かけて、ペリスタルティックポンプを介して反応器Ａから反応器Ｃに移した。反応器ＡをＴＨＦ（１．８４Ｋｇ）ですすぎ、すすぎ液を反応器Ｃに移した。バッチを、少なくとも２０時間４～６ＬＰＭ（１ｐｓｉｇ排気リリーフ弁を介して）の流速でＣＯを通気することによって、ＣＯ圧を１～３ｐｓｉｇに維持しながら、２０～２６℃で撹拌した。２０時間後のＨＰＬＣ分析は、６ａ（対５ａ＋６ａ）がＨＰＬＣにより８５．０４％ＡＵＣに達したことを示した。さらに４時間後の第２のＨＰＬＣ分析では、６ａ（対５ａ＋６ａ）が０．４８％（ＨＰＬＣにより８５．５２％ＡＵＣに）増加したことを示し、これは、反応完了の基準を満たしていた（連続試料間での６ａのＡＵＣ ＨＰＬＣ増加が１．０％未満）。
【0096】
６ａの反応ワークアップ：反応が完了した後、一酸化炭素の通気を停止し、システムを真空を用いて２００～２５０トルの圧力まで排気し、窒素で大気圧にパージした。このパージ処理を４回繰り返した。バッチを窒素で５０分間通気して、ヘッドスペースのＣＯが３５ｐｐｍ以下に達した。バッチを６５分間沈降させ、上部の液体層を吸引管で移し出し、セライトパッド（５．０Ｋｇ、酢酸エチルで事前に湿らせた）を通して２５分間かけて濾過した。酢酸エチル（６２．２５Ｋｇ）を反応器Ｃに添加して、反応器をすすいだ。バッチを２５分間撹拌し、１９分間沈降させた。上層を濾過のためにフィルター漏斗に移した。濾液（約１２０Ｌ）を５５－Ｇドラム中で合わせ、水（４１．４０Ｋｇ）を添加し、続いてセライト（２．３４Ｋｇ）を添加した。ドラム中の混合物を３時間１５分撹拌した。混合物の半分を、酢酸エチルで事前に湿らせたセライトパッド（６．０１Ｋｇ）を通して反応器Ｃ（事前に洗浄済）中に濾過した。セライトパッドを酢酸エチル（９．３５Ｋｇ）で洗浄し、濾液を反応器Ｃに移した。反応器Ｃ中の混合物を６分間撹拌し、１９分間沈降させた。底部の水層（約１９Ｌ）を除去し、上部の有機層（約８３Ｌ）を水（１７．２５Ｋｇ）で洗浄した。得られた有機層（約７２Ｌ）を容器に移した。スラリー状の混合物のあとの半分を、使用済のセライトパッドを介して濾過し、システムを酢酸エチル（９．３５Ｋｇ）ですすいだ。混合物を反応器Ｃに移し、１０分間撹拌し、１０分間沈降させた。底部の水層を除去し、上部の有機層（約８２Ｌ）を水（１７．２５Ｋｇ）で洗浄した。
【0097】
粗６ａの単離：反応器Ｃ中の有機層（約７９Ｌ）を真空濃縮（≦５０℃、≦７５トル）して６２Ｌにし、得られた有機層（約８３Ｌ）をさらに４つのロータリーエバポレーターフラスコ中で濃縮して、粗６ａ（油性固体、合計１１．１０Ｋｇ）を得た。粗６ａを酢酸エチル（約９Ｌ）で溶解し、溶液（１９．４７Ｋｇ）を得た。粗６ａ混合物を、シリカゲルプラグ精製によって６回に分けて精製した。
【0098】
粗６ａの精製：酢酸エチル（約９Ｌ）中に溶解した粗６ａを、シリカゲルプラグ上に６回負荷して精製した。各負荷は、１．１５Ｋｇの３ａインプット（合計６．９ｋｇ）に基づいて計算した。３ａインプットへのシリカゲル負荷は１０．４３Ｘ ｗｔ／ｗｔであった。シリカパッドはｎ－ヘプタンで調製した。酢酸エチル含有量を増加させながら酢酸エチル／ｎ－ヘプタン部分を用いて、６ａを溶出した。画分を回収し、ＨＰＬＣによって分析し、比較的純粋な画分（≧８５％ＨＰＬＣ ＡＵＣ ６ａ）を合わせた。各負荷から合わせた比較的純粋な画分を、活性炭で処理し、セライトパッドを通して濾過した。濾液を濃縮して、精製された６ａ（５．５７Ｋｇ、収率７４．５％、ＨＰＬＣ ＡＵＣ純度９５．６３％）を得た。
【0099】
ステップ３での好ましいプロセスパラメータおよび実施形態－６／６ａの調製
以下に列挙するものは、上記スキームＩ、ＩＩ、およびＩＩＩに示されるように、本発明の合成におけるステップ３についての特定の好ましいプロセスパラメータである。ステップ３のプロセス条件およびパラメータは、高収率のカルボニル化ステップであり、カルボニル化ステップにおいて４－クロロ－２－Ｘ－アニリン（５）または４－クロロ－２－ヨードアニリン（５ａ）を使用し、収率（約７０～７５％）は、置換アリールヨウ化物について公表されている結果を上回っている（Ｊａｃｋｓｏｎ ｅｔ ａｌ．，ＪＣＳ Ｐｅｒｋｉｎ １，１９９７，８６５では１２～２９％）。これらには、６ａ（これ自体も新規の化合物である）を調製するための大規模で高収率なカルボニル化の頑強な条件が含まれる。当ステップのような特定のステップについて記載される各好ましいプロセスパラメータは、本発明の別個の実施形態である。各ステップにおける好ましいプロセスパラメータは、好ましいプロセスパラメータの各組み合わせがまた本発明の別個の実施形態であるように、他のステップのプロセスパラメータとともに用いられ得る。１つまたは複数のステップにおいて１つまたは複数の好ましいプロセスパラメータを有する本発明による合成もまた、本発明の別の実施形態である。ステップ３の好ましいプロセスパラメータには、以下が含まれるが、これらに限定されない：
●３／３ａおよび亜鉛粉末からの本明細書でのヨード亜鉛中間体４／４ａ（Ｊａｃｋｓｏｎ ｅｔ ａｌ．，ＪＣＳ Ｐｅｒｋｉｎ １，１９９７，８６５では６／６ａとしても知られる）の形成のための反応温度の範囲が２３～２７℃（好ましくは約２５℃）（対して、引用された先行技術の参照では３５℃の水浴）（熱分解を最小限に抑えながら好適な反応動態を提供する）；
●光分解を防ぐための、４／４ａ反応混合物の光からの保護（望ましくない副生成物の形成を軽減する）；
●反応混合物を２３～２７℃（好ましくは約２５℃）に維持する速度で、３／３ａ溶液を亜鉛粉末スラリーに制御しながら添加する（熱分解を最小限に抑えながら好適な反応動態を提供する）；
●５／５ａを反応混合物に添加する前にＴＨＦ中のテトラキスＰｄ（０）触媒のスラリーをＣＯガスで予め飽和させる（５／５ａのホモカップリングから望ましくない副生成物の形成を軽減する）；
●４／４ａ混合物の添加中に、同時にテトラキスＰｄ（０）／ＴＨＦ／５またはテトラキスＰｄ（０）／ＴＨＦ／５ａ混合物へＣＯガスを表面下で添加するまたはＣＯガス圧を加える（望ましくない副生成物の形成を軽減する）；
●制御された一定の速度で、４の混合物をテトラキスＰｄ（０）／ＴＨＦ／５混合物に、または４ａ混合物をテトラキスＰｄ（０）／ＴＨＦ／５ａ混合物に添加して、６０分以上（好ましくは約２～３時間）で移し終えるようにする（望ましくない副生成物の形成を軽減する）；
●光分解を防ぐために、４／テトラキスＰｄ（０）／ＴＨＦ／５反応混合物または４ａ／テトラキスＰｄ（０）／ＴＨＦ／５ａ反応混合物を光から保護する（望ましくない副生成物の形成を軽減する）。
●カルボニル化反応の反応温度が２０～２６℃（望ましくない副生成物の形成を軽減する）；および／または
●カルボニル化反応混合物への連続的なＣＯガスの表面下添加またはＣＯガス圧による添加は、反応混合物の総容量に対して約２～８％（好ましくは約４％）の定常状態での気泡容量をもたらす速度である（望ましくない副生成物の形成を軽減する）。
以下に列挙するものは、上記スキームＩ、ＩＩ、およびＩＩＩに示されるように、本発明の合成におけるステップ３についての特定の好ましいプロセスパラメータである。ステップ３のプロセス条件およびパラメータは、高収率のカルボニル化ステップであり、カルボニル化ステップにおいて４－クロロ－２－Ｘ－アニリン（５）または４－クロロ－２－ヨードアニリン（５ａ）を使用し、収率（約７０～７５％）は、置換アリールヨウ化物について公表されている結果を上回っている（Ｊａｃｋｓｏｎ ｅｔ ａｌ．，ＪＣＳ Ｐｅｒｋｉｎ １，１９９７，８６５では１２～２９％）。これらには、６ａ（これ自体も新規の化合物である）を調製するための大規模で高収率なカルボニル化の頑強な条件が含まれる。当ステップのような特定のステップについて記載される各好ましいプロセスパラメータは、本発明の別個の実施形態である。各ステップにおける好ましいプロセスパラメータは、好ましいプロセスパラメータの各組み合わせがまた本発明の別個の実施形態であるように、他のステップのプロセスパラメータとともに用いられ得る。１つまたは複数のステップにおいて１つまたは複数の好ましいプロセスパラメータを有する本発明による合成もまた、本発明の別の実施形態である。ステップ３の好ましいプロセスパラメータには、以下が含まれるが、これらに限定されない：
●３／３ａおよび亜鉛粉末からの本明細書でのヨード亜鉛中間体４／４ａ（Ｊａｃｋｓｏｎ ｅｔ ａｌ．，ＪＣＳ Ｐｅｒｋｉｎ １，１９９７，８６５では６／６ａとしても知られる）の形成のための反応温度の範囲が２３～２７℃（好ましくは約２５℃）（対して、引用された先行技術の参照では３５℃の水浴）（熱分解を最小限に抑えながら好適な反応動態を提供する）；
●光分解を防ぐための、４／４ａ反応混合物の光からの保護（望ましくない副生成物の形成を軽減する）；
●反応混合物を２３～２７℃（好ましくは約２５℃）に維持する速度で、３／３ａ溶液を亜鉛粉末スラリーに制御しながら添加する（熱分解を最小限に抑えながら好適な反応動態を提供する）；
●５／５ａを反応混合物に添加する前にＴＨＦ中のテトラキスＰｄ（０）触媒のスラリーをＣＯガスで予め飽和させる（５／５ａのホモカップリングから望ましくない副生成物の形成を軽減する）；
●４／４ａ混合物の添加中に、同時にテトラキスＰｄ（０）／ＴＨＦ／５またはテトラキスＰｄ（０）／ＴＨＦ／５ａ混合物へＣＯガスを表面下で添加するまたはＣＯガス圧を加える（望ましくない副生成物の形成を軽減する）；
●制御された一定の速度で、４の混合物をテトラキスＰｄ（０）／ＴＨＦ／５混合物に、または４ａ混合物をテトラキスＰｄ（０）／ＴＨＦ／５ａ混合物に添加して、６０分以上（好ましくは約２～３時間）で移し終えるようにする（望ましくない副生成物の形成を軽減する）；
●光分解を防ぐために、４／テトラキスＰｄ（０）／ＴＨＦ／５反応混合物または４ａ／テトラキスＰｄ（０）／ＴＨＦ／５ａ反応混合物を光から保護する（望ましくない副生成物の形成を軽減する）。
●カルボニル化反応の反応温度が２０～２６℃（望ましくない副生成物の形成を軽減する）；および／または
●カルボニル化反応混合物への連続的なＣＯガスの表面下添加またはＣＯガス圧による添加は、反応混合物の総容量に対して約２～８％（好ましくは約４％）の定常状態での気泡容量をもたらす速度である（望ましくない副生成物の形成を軽減する）。
【0100】
ＣＯガスの添加またはＣＯガス圧を制御することは、反応混合物へのＣＯ溶解の動態および溶存ＣＯ濃度の両方から、大規模で高収率のカルボニル化を成功させる。好ましい実施形態において上に記載されたように、ＣＯの制御された表面下ガス添加を維持することで、製造規模で高収率のカルボニル化のために十分な持続的溶存ＣＯ濃度が提供された。あるいは、ガス巻き込み撹拌を備えた加圧反応容器を使用しても、高収率のカルボニル化のために十分な持続的溶存ＣＯ濃度を伴う有効なＣＯガス物質移動が提供され得る。加圧容器はまた、高すぎる、すなわち、所望のカルボニル化反応を阻害してしまうほど高い溶存ＣＯ濃度ももたらし得る。好ましいＣＯ圧は、１ｐｓｉｇ～１００ｐｓｉｇの範囲である。連続的な表面下添加のモードで操作するには、１ｐｓｉｇ～５ｐｓｉｇのＣＯ圧が好ましい（望ましくない副生成物の形成を軽減する）。連続的に維持されたＣＯ加圧を備える閉鎖型加圧反応器で操作するには、２０～１００ｐｓｉｇのＣＯ圧が好ましい（最も好ましくは８０～１００ｐｓｉｇ）（望ましくない副生成物の形成を軽減する）。
【0101】
実施例４－ステップ４
実施例４．１－ステップ４：実験室規模
５００ｍＬの三つ口丸底フラスコに、酢酸メチル（１８０ｍＬ）中の中間体６ａ（１８ｇ、５０．４５ｍｍｏｌ）の溶液を窒素下で充填した。この溶液を１８℃に冷却した。次いで、バッチ温度を１８～２５℃に維持しながら、ジオキサン中の４ＮのＨＣｌ（７５ｍＬ、６当量）を４５分間かけて滴下した。この反応物を攪拌し、ＨＰＬＣによってモニターした。５．５時間後に反応が完了した。得られたスラリーを濾過し、ウェットケーキを酢酸メチル（２ｘ１０ｍＬ）で洗浄し、真空下で一晩乾燥させて、Ｌ－４－クロロキヌレニン二塩酸塩７ａのメチルエステルを得た（１６．６４ｇ、定量的な収率、ＡＵＣ純度９９．０４％）。
【化19】
実施例４．１－ステップ４：実験室規模
５００ｍＬの三つ口丸底フラスコに、酢酸メチル（１８０ｍＬ）中の中間体６ａ（１８ｇ、５０．４５ｍｍｏｌ）の溶液を窒素下で充填した。この溶液を１８℃に冷却した。次いで、バッチ温度を１８～２５℃に維持しながら、ジオキサン中の４ＮのＨＣｌ（７５ｍＬ、６当量）を４５分間かけて滴下した。この反応物を攪拌し、ＨＰＬＣによってモニターした。５．５時間後に反応が完了した。得られたスラリーを濾過し、ウェットケーキを酢酸メチル（２ｘ１０ｍＬ）で洗浄し、真空下で一晩乾燥させて、Ｌ－４－クロロキヌレニン二塩酸塩７ａのメチルエステルを得た（１６．６４ｇ、定量的な収率、ＡＵＣ純度９９．０４％）。
【0102】
実施例４．２－ステップ４：大規模
７ａの合成：ＢＯＣ脱保護反応：酢酸エチル（計３９．５５ｋｇ、合計１０容量）を１００Ｌのガラス反応器（反応器Ａ）に充填し、次いでＤＩ水（２８８ｇ、１当量）を充填した。ジオキサン（２９．５９ｋｇ、７当量）中のＨＣｌ溶液（４Ｎ）を反応器Ａに充填した。バッチを２０～３０℃に調整した。６ａの酢酸エチル溶液（合計：１６．９９ｋｇ、１１．３５ｋｇの酢酸エチル中に５．６４ｋｇの６ａ）を、２０～３０℃で３時間かけて均一の速度（１００ｍＬ／分）で孔径１０μｍのインラインフィルターを介して反応器Ａに添加した。６ａの容器および移送ラインを、必要な酢酸エチルの総容量からの約３Ｌですすぎ、すすぎ液を反応器Ａに移した。６ａの溶液の添加中に、固体が沈殿した。バッチを、２０～３０℃で暗中、窒素下で１６．５時間撹拌し、反応の変換を確認するために試料（均一なスラリー試料）を提示した。結果は、６ａの残りが０．４％ＨＰＬＣ ＡＵＣであり、反応が完了したことを示した（目標：６ａの２．０％以下）。
７ａの合成：ＢＯＣ脱保護反応：酢酸エチル（計３９．５５ｋｇ、合計１０容量）を１００Ｌのガラス反応器（反応器Ａ）に充填し、次いでＤＩ水（２８８ｇ、１当量）を充填した。ジオキサン（２９．５９ｋｇ、７当量）中のＨＣｌ溶液（４Ｎ）を反応器Ａに充填した。バッチを２０～３０℃に調整した。６ａの酢酸エチル溶液（合計：１６．９９ｋｇ、１１．３５ｋｇの酢酸エチル中に５．６４ｋｇの６ａ）を、２０～３０℃で３時間かけて均一の速度（１００ｍＬ／分）で孔径１０μｍのインラインフィルターを介して反応器Ａに添加した。６ａの容器および移送ラインを、必要な酢酸エチルの総容量からの約３Ｌですすぎ、すすぎ液を反応器Ａに移した。６ａの溶液の添加中に、固体が沈殿した。バッチを、２０～３０℃で暗中、窒素下で１６．５時間撹拌し、反応の変換を確認するために試料（均一なスラリー試料）を提示した。結果は、６ａの残りが０．４％ＨＰＬＣ ＡＵＣであり、反応が完了したことを示した（目標：６ａの２．０％以下）。
【0103】
７ａの単離：濾過および洗浄：バッチを、窒素で１５分間パージした４手ＰＥグローブバッグの中で、ＰＥブフナー漏斗上に濾過した。バッチを、１時間かけてペリスタルティックポンプを介して、反応器Ａからフィルター漏斗に移した。ウェットケーキを１５分間脱液し、酢酸エチルで２回洗浄した。第１の洗浄では、酢酸エチル（１０．２ｋｇ）を反応器Ａに充填して反応器をすすぎ、次いでフィルターケーキ上に移した。酢酸エチル（１０．２ｋｇ）洗浄による第２の洗浄を、同様な方法で行った。
【0104】
ウェットケーキを、窒素下で、漏斗に真空を適用することによって、フィルター漏斗中で２時間２０分間乾燥させ、次いで、グローブバッグを使用して６つのガラス乾燥トレイ（１２．７５４ｋｇ）に移して窒素雰囲気を維持した。物質を真空オーブン（≦５０トル）で加熱せずに１５時間３０分乾燥させ、次いで２０～３０℃（≦５０トル）で２４時間４０分乾燥させて、乾燥した７ａ（５．５２ｋｇ）を得た。物質をさらに４時間３５分乾燥させ、５．０８５ｋｇにした（ＬＯＤ：７．９％）。物質をさらに６６時間４５分乾燥させ、４．８５４ｋｇにした（ＬＯＤ：４．５％）。次いで、物質を４時間５分間乾燥させて、４．８４９ｋｇを得た（ＬＯＤ：０．１％；規格に合格：≦０．５％）。最終乾燥物質（４．８２ｋｇ、収率９２．５％）を、二重にｃＧＭＰ認証低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）袋を張ったきれいな容器に荷下ろし、密封前に窒素でパージした。ＨＰＬＣ分析で、純度が９６．３７％ＡＵＣであることが示された。
【0105】
７ａの調製では、プロセス制御で、不純物の形成を回避する。実施例４．１における添加の順序では、許容できないレベルのプロセス不純物を与えることが判明した。これは、実施例４．２において添加の順序を変更し、反応混合物に水を含ませることによって軽減された。このプロセスは窒素保護下で操作され、特に７ａの単離および非常に吸湿性かつ潮解性である単離された固体の取扱いのためには、厳格に湿気を除外する必要がある。７ａは、非常に吸湿性かつ感光性でもあり、光から保護して窒素下で保管する必要がある。基質溶液（酢酸エチル中の６ａ）をジオキサン中の過剰な４ＮのＨＣｌに添加した。また、４ＮのＨＣｌ／ジオキサンは添加された水（６ａに対して最大１モル当量）を意図的に含有した。基質に対する大過剰の酸を維持し、水（ｔ－ブチルカチオンをすべて捕捉するため）を存在させることで、望ましくないｔ－ブチル置換副生成物の形成が軽減された。７ａは、非常に吸湿性（および感光性）であるため、生成物の単離を窒素雰囲気下で行った。この生成のために、濾過を、窒素パージされたプラスチックグローブバック中で行った。この構成で、ウェットケーキの脱液が制限され、フィルターケーキ中に所望レベル以上の残留溶媒が生じ、乾燥時間の延長につながった。
【0106】
実施例４．３－ステップ４ ７ａの調製
７ａの合成：ＢＯＣ脱保護反応：酢酸エチル（計３８．０５Ｋｇ）を１００Ｌのガラス反応器Ａに充填し、次いでＤＩ水（２８４ｇ）を充填した。ジオキサン（２８．７０Ｋｇ、７．０当量）中のＨＣｌ溶液（４Ｎ）を反応器Ａに充填した。バッチを撹拌し、温度を２０～３０℃に調整した。６ａの酢酸エチル溶液（合計：１７．７５Ｋｇ、１２．１８Ｋｇの酢酸エチル中に５．５７Ｋｇの６ａ）を、２０～３０℃で４時間４６分かけて均一の速度（１００ｍＬ／分）で孔径１０μｍのインラインフィルターを介して反応器Ａに添加した。６ａの容器および移送ラインを、約３Ｌの酢酸エチルですすぎ、すすぎ液を反応器Ａに移した。６ａの溶液の添加中に、固体が沈殿した。バッチを、窒素下で光を除外して２０～３０℃で１６時間４２分間撹拌し、反応の変換を確認するために試料（均一のスラリー）を提示した。結果は、６ａの残りが０．３６％ＨＰＬＣ ＡＵＣで反応が完了したことを示した（目標：６ａの２．０％以下）。
７ａの合成：ＢＯＣ脱保護反応：酢酸エチル（計３８．０５Ｋｇ）を１００Ｌのガラス反応器Ａに充填し、次いでＤＩ水（２８４ｇ）を充填した。ジオキサン（２８．７０Ｋｇ、７．０当量）中のＨＣｌ溶液（４Ｎ）を反応器Ａに充填した。バッチを撹拌し、温度を２０～３０℃に調整した。６ａの酢酸エチル溶液（合計：１７．７５Ｋｇ、１２．１８Ｋｇの酢酸エチル中に５．５７Ｋｇの６ａ）を、２０～３０℃で４時間４６分かけて均一の速度（１００ｍＬ／分）で孔径１０μｍのインラインフィルターを介して反応器Ａに添加した。６ａの容器および移送ラインを、約３Ｌの酢酸エチルですすぎ、すすぎ液を反応器Ａに移した。６ａの溶液の添加中に、固体が沈殿した。バッチを、窒素下で光を除外して２０～３０℃で１６時間４２分間撹拌し、反応の変換を確認するために試料（均一のスラリー）を提示した。結果は、６ａの残りが０．３６％ＨＰＬＣ ＡＵＣで反応が完了したことを示した（目標：６ａの２．０％以下）。
【0107】
７ａの単離：濾過および洗浄：バッチを窒素でパージしたグローブバッグ内のフィルター漏斗で濾過した。バッチを３５分間かけてペリスタルティックポンプを介して反応器Ａからフィルター漏斗に移し、ウェットケーキを３０分間脱液化し、次いで酢酸エチルで２回洗浄した。
●最初の洗浄：酢酸エチル（１０．０５Ｋｇ）を反応器Ａに充填して反応器をすすぎ、その後フィルターケーキ上に移した。ウェットケーキを１０分間脱液した。
●第２の洗浄：酢酸エチル（１０．０５Ｋｇ）を反応器Ａに充填して反応器をすすぎ、その後フィルターケーキ上に移した。ウェットケーキを１０分間脱液した。
●最初の洗浄：酢酸エチル（１０．０５Ｋｇ）を反応器Ａに充填して反応器をすすぎ、その後フィルターケーキ上に移した。ウェットケーキを１０分間脱液した。
●第２の洗浄：酢酸エチル（１０．０５Ｋｇ）を反応器Ａに充填して反応器をすすぎ、その後フィルターケーキ上に移した。ウェットケーキを１０分間脱液した。
【0108】
ウェットケーキを陽圧窒素雰囲気下で漏斗に真空を適用してフィルター漏斗内で２５分間乾燥させ、その後ガラス乾燥トレイに移した。物質を真空オーブン（≦５０トル）で加熱せずに１時間５分乾燥させ、次いで２０～３０℃で１１０時間乾燥させた。物質（４．７８Ｋｇ、収率９２．８５％）を、二重にＡＰＩ袋を張ったきれいな容器に荷下ろした。単離された７ａのＨＰＬＣ分析は、純度が９５．８０％ＡＵＣであることを示した。
【0109】
ステップ４での好ましいプロセスパラメータおよび実施形態－７／７ａの調製
ステップ４は、（７／７ａ）の二塩酸塩としての脱保護中間体の脱保護および単離を伴う（７ａ自体がまた、新規化合物である）。以下に列挙するものは、上記スキームＩ、ＩＩ、およびＩＩＩに示されるように、本発明の合成におけるステップ４についての特定の好ましいプロセスパラメータである。当ステップのような特定のステップについて記載される各好ましいプロセスパラメータは、本発明の別個の実施形態である。各ステップにおける好ましいプロセスパラメータは、好ましいプロセスパラメータの各組み合わせがまた本発明の別個の実施形態であるように、他のステップのプロセスパラメータとともに用いられ得る。１つまたは複数のステップにおいて１つまたは複数の好ましいプロセスパラメータを有する本発明による合成もまた、本発明の別の実施形態である。
ステップ４の好ましいプロセスパラメータには、以下が含まれるが、これらに限定されない：
●１，４－ジオキサン中のＨＣｌに６／６ａの溶液を添加する（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●１，４－ジオキサン中のＨＣｌに６／６ａの溶液を制御された定常速度で添加し、２～６時間（好ましくは４～６時間）かけて完全に添加する（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●反応温度が２０～３０℃（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●光分解を防ぐための光曝露からの保護（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●７ａが非常に吸湿性かつ潮解性であるため、単離された７／７ａを空気／湿気曝露から保護する（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）。
●乾燥温度が２０～３０℃（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；および／または
●７／７ａの収率が９５．０％ＨＰＬＣ（ＡＵＣ）以上。
ステップ４は、（７／７ａ）の二塩酸塩としての脱保護中間体の脱保護および単離を伴う（７ａ自体がまた、新規化合物である）。以下に列挙するものは、上記スキームＩ、ＩＩ、およびＩＩＩに示されるように、本発明の合成におけるステップ４についての特定の好ましいプロセスパラメータである。当ステップのような特定のステップについて記載される各好ましいプロセスパラメータは、本発明の別個の実施形態である。各ステップにおける好ましいプロセスパラメータは、好ましいプロセスパラメータの各組み合わせがまた本発明の別個の実施形態であるように、他のステップのプロセスパラメータとともに用いられ得る。１つまたは複数のステップにおいて１つまたは複数の好ましいプロセスパラメータを有する本発明による合成もまた、本発明の別の実施形態である。
ステップ４の好ましいプロセスパラメータには、以下が含まれるが、これらに限定されない：
●１，４－ジオキサン中のＨＣｌに６／６ａの溶液を添加する（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●１，４－ジオキサン中のＨＣｌに６／６ａの溶液を制御された定常速度で添加し、２～６時間（好ましくは４～６時間）かけて完全に添加する（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●反応温度が２０～３０℃（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●光分解を防ぐための光曝露からの保護（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●７ａが非常に吸湿性かつ潮解性であるため、単離された７／７ａを空気／湿気曝露から保護する（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）。
●乾燥温度が２０～３０℃（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；および／または
●７／７ａの収率が９５．０％ＨＰＬＣ（ＡＵＣ）以上。
【0110】
実施例５－ステップ５
実施例５．１－Ｌ－４－クロロキヌレニン（８ａ）の実験室規模の調製２５０ｍＬの丸底フラスコに、Ｌ－４－クロロキヌレニン二塩酸塩（７ａ）（４．０４ｇ、１２．２６ｍｍｏｌ）のメチルエステルおよび水（１０ｍＬ）を充填した。反応混合物を１０分間撹拌して、混濁溶液にした。５．０ＮのＬｉＯＨ水溶液を反応混合物に滴下して、ｐＨ（１１～１３）にし、１０～３０分後に反応を完了した。反応混合物をＭＩＢＫ（５０ｍＬ）で抽出した。ＨＣｌ（１Ｎの水溶液）を添加することによって、水層をｐＨ５～６に酸性化した。スラリーを３０分間撹拌し、濾過した。ウェットケーキを水（２ｘ１０ｍＬ）で洗浄し、真空下２５～３０℃で一晩乾燥させて、Ｌ－４－クロロキヌレニン（８ａ）を得た（２．８１ｇ、収率９４．６％）。
【化20】
実施例５．１－Ｌ－４－クロロキヌレニン（８ａ）の実験室規模の調製２５０ｍＬの丸底フラスコに、Ｌ－４－クロロキヌレニン二塩酸塩（７ａ）（４．０４ｇ、１２．２６ｍｍｏｌ）のメチルエステルおよび水（１０ｍＬ）を充填した。反応混合物を１０分間撹拌して、混濁溶液にした。５．０ＮのＬｉＯＨ水溶液を反応混合物に滴下して、ｐＨ（１１～１３）にし、１０～３０分後に反応を完了した。反応混合物をＭＩＢＫ（５０ｍＬ）で抽出した。ＨＣｌ（１Ｎの水溶液）を添加することによって、水層をｐＨ５～６に酸性化した。スラリーを３０分間撹拌し、濾過した。ウェットケーキを水（２ｘ１０ｍＬ）で洗浄し、真空下２５～３０℃で一晩乾燥させて、Ｌ－４－クロロキヌレニン（８ａ）を得た（２．８１ｇ、収率９４．６％）。
【0111】
実施例５．２－Ｌ－４－クロロキヌレニン（８ａ）の実験室規模の精製Ｌ－４－クロロキヌレニン（８ａ）（２ｇ）を２００ｍＬのメタノールと混合し、次いで濾過した。濾液を、活性炭（０．１ｇ）で周囲温度で１０分間処理した。次いで、混合物をセライトパッドを通して濾過し、メタノール（２０ｍＬ）で洗浄した。濾液を約１０ｍＬに濃縮し、次いで酢酸エチル（３０ｍＬ）を添加した。スラリーを１０分間撹拌し、濾過して、純粋なＬ－４－クロロキヌレニン（８ａ）を得た（０．８ｇ、収率４０％、ＡＵＣ純度９９．９８％）。
【0112】
実施例５．３－Ｌ－４－クロロキヌレニンの大規模調製（８ａ）
７ａの遊離塩基溶液の調製：７ａ（４．７６ｋｇ、１．０当量）を、生成物を光から保護するためにアルミホイルで覆われ窒素パージされた１００Ｌ反応器（反応器Ａ）で、２０～２５℃で水（４７．６１ｋｇ、１０容量）で溶解した。一部の不溶性油性物質が観察された。トルエン（３２．９ｋｇ、１０容量）を反応器に添加した。反応混合物を、濃ＮＨ４ＯＨ溶液（２８～３０％ｗｔ／ｗｔ水中、１．６３ｋｇ）を添加することによって、ｐＨ０．８３（水層）からｐＨ８．４５（水層、目標：ｐＨ８．０～９．０）へとアルカリ性にした。反応混合物を２０～２５℃で１０分間撹拌して、透明な溶液（二相性溶液）を得た。反応混合物を３５分間沈降させて、相を分離した。生成物を光から保護するためにアルミホイルで覆われた５０Ｌの反応器（反応器Ｂ）に、底部の水相（約５２Ｌ）を移した。光を除外するためにアルミホイルで覆われた５０Ｌ反応器（反応器Ｃ）に、上部の有機層（約４２Ｌ）を移した。反応器Ｂからの水溶液を、反応器Ａに戻した。トルエン（２０．６ｋｇ、５容量）を反応器Ａに添加した。反応器Ａ中の反応混合物を１３分間撹拌し、水層のｐＨは８．６０であった（目標：ｐＨ８．０～９．０）。混合物を１７分間沈降させ、相分離を可能にした。底部の水層（約５２Ｌ）を容器（廃棄用）に移し出した。上部の有機層（約２５Ｌ）を反応器Ａに保持した。反応器Ｃからの有機溶液を反応器に移して合わせた（合計：６７Ｌ）。水（９．５３ｋｇ，、２容量）を反応器Ａに添加し、混合物を１２分間撹拌した。反応器Ａ中の混合物を、相分離のために１１分間沈降させた。底部の水層（約１０Ｌ）を廃棄のために容器に移した。７ａに富む有機溶液（７ａの遊離塩基溶液、６７．５Ｌ）を反応器Ａに保持した。
７ａの遊離塩基溶液の調製：７ａ（４．７６ｋｇ、１．０当量）を、生成物を光から保護するためにアルミホイルで覆われ窒素パージされた１００Ｌ反応器（反応器Ａ）で、２０～２５℃で水（４７．６１ｋｇ、１０容量）で溶解した。一部の不溶性油性物質が観察された。トルエン（３２．９ｋｇ、１０容量）を反応器に添加した。反応混合物を、濃ＮＨ４ＯＨ溶液（２８～３０％ｗｔ／ｗｔ水中、１．６３ｋｇ）を添加することによって、ｐＨ０．８３（水層）からｐＨ８．４５（水層、目標：ｐＨ８．０～９．０）へとアルカリ性にした。反応混合物を２０～２５℃で１０分間撹拌して、透明な溶液（二相性溶液）を得た。反応混合物を３５分間沈降させて、相を分離した。生成物を光から保護するためにアルミホイルで覆われた５０Ｌの反応器（反応器Ｂ）に、底部の水相（約５２Ｌ）を移した。光を除外するためにアルミホイルで覆われた５０Ｌ反応器（反応器Ｃ）に、上部の有機層（約４２Ｌ）を移した。反応器Ｂからの水溶液を、反応器Ａに戻した。トルエン（２０．６ｋｇ、５容量）を反応器Ａに添加した。反応器Ａ中の反応混合物を１３分間撹拌し、水層のｐＨは８．６０であった（目標：ｐＨ８．０～９．０）。混合物を１７分間沈降させ、相分離を可能にした。底部の水層（約５２Ｌ）を容器（廃棄用）に移し出した。上部の有機層（約２５Ｌ）を反応器Ａに保持した。反応器Ｃからの有機溶液を反応器に移して合わせた（合計：６７Ｌ）。水（９．５３ｋｇ，、２容量）を反応器Ａに添加し、混合物を１２分間撹拌した。反応器Ａ中の混合物を、相分離のために１１分間沈降させた。底部の水層（約１０Ｌ）を廃棄のために容器に移した。７ａに富む有機溶液（７ａの遊離塩基溶液、６７．５Ｌ）を反応器Ａに保持した。
【0113】
（７ａ）の遊離塩基溶液のＳｉｌｉａＭｅｔＳチオール処理－前半－パートＡ：反応器Ａ中の７ａに富む有機性遊離塩基溶液（約３４Ｌ、全溶液の５０％）の一部を反応器Ｃに移し、ＳｉｌｉＣｙｃｌｅ Ｉｎｃ．のＳｉｌｉａＭｅｔＳチオール（０．８５ｋｇ、０．３ｗｔ／ｗｔ、目標：０．７１ｋｇ）を反応器Ｃに添加した。反応器Ｃをアルミホイルで覆い、混合物を２０～２５℃で１５時間撹拌した。一定分量の混合物（約１０ｍＬ）を取り、０．４５μｍのシリンジフィルターを使用して濾過した。濾液を油（０．５４７０ｇ）に濃縮し、Ｐｄ（限界＜１０ｐｐｍ）およびＺｎ（限界＜５００ｐｐｍ）分析のために提示した。ＩＰＣ結果：Ｐｄ（１．０ｐｐｍ）およびＺｎ（２０ｐｐｍ）。反応混合物をブフナー漏斗中のセライトパッド（０．４３ｋｇ）を通して濾過した。濾液を、孔径０．４μｍのインラインフィルターを介して反応器Ｂに移した。トルエン（２ｘ２．０６ｋｇ、２ｘ０．５容量）を使用して反応器Ｃをすすぎ、次いでセライトフィルターパッドを通して反応器Ｂに入れた。
【0114】
水（１９．０４ｋｇ、４容量）を反応器Ｂに添加し、混合物を２０～２５℃で撹拌した。水層は、２０～２５℃で６ＮのＨＣｌ溶液（１．８６ｋｇ）を添加することによって、ｐＨ８．９５からｐＨ０．７４に調整した。混合物を２０～２５℃で１０分間撹拌し、次いで相分離のために１１分間沈降させた。底部の水層（２２Ｌ、７ａに富む溶液）をきれいな５５ガロンＨＤＰＥドラム中に収集し、後の処理のために保持した。さらなる抽出のために上部の有機相を保持した。
【0115】
７ａの遊離塩基のＳｉｌｉａＭｅｔＳチオール処理－後半－パートＢ：反応器Ａ中の残りの７ａに富む有機性遊離塩基溶液（約３４Ｌ、全溶液の５０％）を反応器Ｃに移し、ＳｉｌｉａＭｅｔＳチオール（０．７１ｋｇ、０．３ｗｔ／ｗｔ）を反応器Ｃに添加した。反応器Ｃをアルミホイルで覆い、混合物を２０～２５℃で約１６．５時間撹拌した。一定量の混合物（約１０ｍＬ）を取り、０．４５μｍのシリンジフィルターを使用して濾過した。濾液を油（０．５５０８ｇ）に濃縮し、Ｐｄ（限界＜１０ｐｐｍ）およびＺｎ（限界＜５００ｐｐｍ）分析のために提示した。ＩＰＣ結果：Ｐｄ（１．０ｐｐｍ）およびＺｎ（１．０ｐｐｍ）。反応混合物を、ブフナー漏斗中のセライトパッド（０．４５ｋｇ）を通して濾過した。濾液を、孔径０．４μｍのインラインフィルターを介して反応器Ａに移した。トルエン（２ｘ２．０６ｋｇ、２ｘ０．５容量）を使用して反応器Ｃをすすぎ、次いでセライトフィルターパッドを通して反応器Ａに入れた。
【0116】
水（１９．０４ｋｇ、４容量）を反応器Ａに添加し、混合物を２０～２５℃で撹拌した。水層は、２０～２５℃で６ＮのＨＣｌ溶液（１．７５ｋｇ）を添加することによって、ｐＨ８．５５からｐＨ０．８１に調整した。混合物を２０～２５℃で１０分間撹拌し、次いで相分離のために１２分間沈降させた。底部の水層（２３Ｌ、（７ａ）に富む溶液）を、パートＡからの７ａに富む酸性溶液とともに、きれいな５５ガロンＨＤＰＥドラム中に収集した。
【0117】
反応器Ｂ中の保持有機相（約３７Ｌ、パートＡから）を反応器Ａに移し、パートＢからの有機相と混合した。合わせた有機溶液（約７３Ｌ）を水（４．７８ｋｇ）と混合した。水層を、６ＮのＨＣｌ（０．２５ｋｇ）を添加することによって、ｐＨ３．９６からｐＨ０．６２に調整した。混合物を２０～２５℃で１０分間撹拌し、次いで相分離のために１０分間沈降させた。底部の水層（４Ｌ、７ａに富む溶液）を反応器Ｂに移した。５５ガロンＨＤＰＥドラムからの保持された（７ａ）に富む酸性溶液（パートＡおよびＢから約４５Ｌ）を反応器Ｂに移した。
【0118】
７ａの加水分解：反応器Ｂ中の酸性７ａ溶液を１０．２℃（５～１５℃）に冷却した。４．５Ｍの水酸化リチウム溶液（７．０６ｋｇ）を、１０～２０℃で３１分間かけて反応器Ｂに添加した。ｐＨが、ｐＨ１．０５からｐＨ１０．９３に増加した。反応混合物のｐＨを、４．５ＭのＨ ＬｉＯＨ（２．１９ｋｇ）を添加することによって、１０～２０℃でｐＨ１２．０～１２．５に調整し、維持した。反応混合物を１０～２０℃で１時間、ｐＨ１２．０～１２．５で維持し、次いで試料をＨＰＬＣ分析に提示した。結果は、反応が完了したことを示した（（７ａ）：０．０％ＨＰＬＣ ＡＵＣが反応混合物中に残存、目標：≦０．５％ＡＵＣ）。反応混合物を、５５分間かけて１０～２５℃で６Ｎ ＨＣｌ（２．５３ｋｇ）をゆっくりと添加することによってクエンチし、時間をかけてｐＨ１２．２０からｐＨ４．８７に調整した（目標ｐＨ：４．８～６．０）。クエンチ中、が約９ｐＨで固体生成物が沈殿し始めた。ｐＨ４．８～６．０のスラリーを１０～２５℃で６５分間撹拌した。スラリーを、約２．５時間かけてＰＥフィルター漏斗を通して濾過した。濾過が非常に遅かった。反応器Ｂを水（２ｘ９．５４ｋｇ、２ｘ２容量）ですすぎ、すすぎ液を用いてフィルターケーキを洗浄した。フィルターケーキの洗浄もまた、非常に遅かった（少なくとも各２時間）。フィルター漏斗中のＡＶ－１０１ウェットケーキを、フィルター漏斗に真空を適用することによって１３時間脱液した。
【0119】
粗半精製８ａの再沈殿：ウェットケーキ（粗８ａ、２１．０９ｋｇ）を水（２３．８３ｋｇ、５容量）をスラリーとして反応器Ａに移し、移送を容易にした。反応器Ａ中のスラリーを、６ＮのＨＣｌ溶液（３．４６ｋｇ）を添加することによって、１０～２５℃でｐＨ５．０２からｐＨ０．６５に酸性化した。この混合物を１５分間撹拌して、全ての固体を溶解した（いくつかの塊をゆっくりと溶解した）。反応器Ａ中の酸性水溶液を、４５分間かけてインラインフィルターカプセル（０．４μｍ、孔径）を通して反応器Ｂ中に濾過し、不溶性物質をすべて除去した。濃水酸化アンモニア（０．８２ｋｇ）を、インラインフィルターカプセル（０．４μｍ、孔径）を通して反応器Ｂに添加した。反応混合物のｐＨが、ｐＨ０．６５からｐＨ１．７７に増加した。希釈したＮＨ４ＯＨ溶液（１０％、３．５ｋｇ）をインラインフィルターカプセル（０．４μｍ、孔径）を通して反応器Ｂに添加し、ｐＨをｐＨ＝５．１５に調整した。混合物を、インラインフィルターカプセル（０．４μｍ、孔径）を通して６ＮのＨＣｌ溶液（必要に応じて約１００ｍＬ）を添加することによって、ｐＨをｐＨ４．８～６．０に維持しながら、１０～２５℃で１時間撹拌した。最終スラリーを２０分間かけてＰＥフィルター漏斗上に濾過した。ウェットケーキを１０分間脱液した。水（２ｘ７．１４ｋｇ、２ｘ２容量）をインラインフィルターカプセル（０．４μｍ、孔径）を通して反応器Ｂに移して、反応器をすすぎ、洗浄液をフィルターケーキに移してすすいだ。最終的な脱液には、２５分を要した。ウェットケーキ（１０．６６９ｋｇ、半精製８ａ）を６つの乾燥トレイに移し、真空オーブン（≦５０トル）で４０時間加熱せずに乾燥させ、次いで２０～３０℃（≦５０トル）で２１時間乾燥させて、９．４８６ｋｇを得た。乾燥を、２０～３０℃でさらに４時間続け、４時間の時間間隔での減量は０．４％であった。このステップの理論的収率８ａ（３．５０ｋｇ）に対する最終重量（９．４８６ｋｇ）に基づいて、半精製８ａは５．９９ｋｇの水を含有した。
【0120】
実施例５．４－Ｌ－４－クロロキヌレニンの大規模精製（８ａ）
半精製８ａ（９．３８ｋｇ）を反応器Ｂに移し、インラインフィルターカプセル（０．４μｍ、孔径）を通して濾過したメタノール（１１．２９ｋｇ、３．０容量）と混合した。酢酸エチル（１２．９２ｋｇ、３．０容量）を、インラインフィルターカプセル（０．４μｍ、孔径）を通して反応器Ｂに添加した。混合物を２０～３０℃で１８時間２０分間撹拌した。スラリーをＰＥブフナーフィルター漏斗上で４５分間かけて濾過した。ウェットケーキを１時間４５分間脱液し、次いで、インラインフィルターカプセル（０．４μｍ、孔径）を通して事前に濾過されたメタノール／酢酸エチル（１／１、ｖ／ｖ、２．２７ｋｇ／２．５８ｋｇ、１．２容量）で洗浄し、反応器Ｂ中で混合した。ウェットケーキを１時間脱液し、次いで濾過した酢酸エチル（２ｘ５．１５ｋｇ、２ｘ２．０容量）で洗浄した。ウェットケーキを５０分間脱液した。試料（約２ｇ、ウェットケーキ）を、ＨＰＬＣによる純度（％ＡＵＣ）分析に提示した。ＨＰＬＣの結果で、純度が９９．８０％ＡＵＣであることが示された。すべての不純物は、０．１％ＨＰＬＣ ＡＵＣ未満に制御された。
半精製８ａ（９．３８ｋｇ）を反応器Ｂに移し、インラインフィルターカプセル（０．４μｍ、孔径）を通して濾過したメタノール（１１．２９ｋｇ、３．０容量）と混合した。酢酸エチル（１２．９２ｋｇ、３．０容量）を、インラインフィルターカプセル（０．４μｍ、孔径）を通して反応器Ｂに添加した。混合物を２０～３０℃で１８時間２０分間撹拌した。スラリーをＰＥブフナーフィルター漏斗上で４５分間かけて濾過した。ウェットケーキを１時間４５分間脱液し、次いで、インラインフィルターカプセル（０．４μｍ、孔径）を通して事前に濾過されたメタノール／酢酸エチル（１／１、ｖ／ｖ、２．２７ｋｇ／２．５８ｋｇ、１．２容量）で洗浄し、反応器Ｂ中で混合した。ウェットケーキを１時間脱液し、次いで濾過した酢酸エチル（２ｘ５．１５ｋｇ、２ｘ２．０容量）で洗浄した。ウェットケーキを５０分間脱液した。試料（約２ｇ、ウェットケーキ）を、ＨＰＬＣによる純度（％ＡＵＣ）分析に提示した。ＨＰＬＣの結果で、純度が９９．８０％ＡＵＣであることが示された。すべての不純物は、０．１％ＨＰＬＣ ＡＵＣ未満に制御された。
【0121】
ウェットケーキ（５．５７７ｋｇ）を６つのガラス乾燥トレイに移し、真空オーブンで加熱せずに１時間１５分（≦５０トル）乾燥させ、次いで２０～３０℃で加熱して（加熱設定点２８～３０℃、≦５０トル）５２時間乾燥させ、２．０４３ｋｇの乾燥物質を得た。物質を２０～３０℃でさらに１６時間乾燥させ、最終ＬＯＤ＝０．０％を得た。残留溶媒の分析のために、試料（１ｇ）を提示した。ＧＣの結果は、５つの残留溶媒が全て、プロセス溶媒（メタノール（ＭｅＯＨ）、酢酸エチル（ＥＴＯＡｃ）、トルエン、アセトンおよびヘプタン）のＩＣＨ Ｑ３Ｃ準拠規格限界を下回っていたことを示した。
【0122】
実施例５．５－ステップ－５：８ａの調製
７ａの遊離塩基溶液の調製および残留金属の軽減：二塩酸塩としての７ａ（４．７７Ｋｇ）を、生成物を光曝露から保護するためにアルミホイルで覆われた１００Ｌ反応器（反応器Ａ）で、２０～２５℃で水（４７．６６Ｋｇ）で溶解した。トルエン（３２．９８Ｋｇ）を反応器に添加した。反応混合物を、濃ＮＨ４ＯＨ溶液（２８～３０％ｗｔ／ｗｔ水中、１．６４ｋｇ）を添加することによって、ｐＨ８．３７（目標：ｐＨ８．０～９．０）に調整した。反応混合物を２０～２５℃で１５分間撹拌して、透明な溶液（二相性）を得た。反応混合物を５３分間沈降させて、相を分離した。下部の水相（約５２Ｌ）を、生成物を光から保護するためにアルミホイルで覆われた５０Ｌ反応器（反応器Ｂ）に移した。上部の有機層（約４１Ｌ）を５０Ｌ反応器（反応器Ｃ）に移した。反応器Ｂからの水溶液を、反応器Ａに戻した。トルエン（２０．６１Ｋｇ）を反応器Ａに添加した。反応器Ａ中の混合物を１３分間撹拌し、水層のｐＨは８．６０であった（目標：ｐＨ８．０～９．０）。混合物を１０分間沈降させ、相分離を可能にした。底部の水層（約５２Ｌ）を容器（廃棄用）に移し出した。反応器Ｃからの有機溶液を反応器Ａに移し、混合した（合計：６５Ｌ）。水（９．５３Ｋｇ）を反応器Ａに添加し、混合物を２２分間撹拌した。反応器Ａ中の混合物を、相分離のために１１分間沈降させた。底部の水層（約１２Ｌ）を廃棄のために容器に移した。反応器Ａで、合計６５Ｌのトルエン中の７ａの遊離塩基溶液が得られた。
７ａの遊離塩基溶液の調製および残留金属の軽減：二塩酸塩としての７ａ（４．７７Ｋｇ）を、生成物を光曝露から保護するためにアルミホイルで覆われた１００Ｌ反応器（反応器Ａ）で、２０～２５℃で水（４７．６６Ｋｇ）で溶解した。トルエン（３２．９８Ｋｇ）を反応器に添加した。反応混合物を、濃ＮＨ４ＯＨ溶液（２８～３０％ｗｔ／ｗｔ水中、１．６４ｋｇ）を添加することによって、ｐＨ８．３７（目標：ｐＨ８．０～９．０）に調整した。反応混合物を２０～２５℃で１５分間撹拌して、透明な溶液（二相性）を得た。反応混合物を５３分間沈降させて、相を分離した。下部の水相（約５２Ｌ）を、生成物を光から保護するためにアルミホイルで覆われた５０Ｌ反応器（反応器Ｂ）に移した。上部の有機層（約４１Ｌ）を５０Ｌ反応器（反応器Ｃ）に移した。反応器Ｂからの水溶液を、反応器Ａに戻した。トルエン（２０．６１Ｋｇ）を反応器Ａに添加した。反応器Ａ中の混合物を１３分間撹拌し、水層のｐＨは８．６０であった（目標：ｐＨ８．０～９．０）。混合物を１０分間沈降させ、相分離を可能にした。底部の水層（約５２Ｌ）を容器（廃棄用）に移し出した。反応器Ｃからの有機溶液を反応器Ａに移し、混合した（合計：６５Ｌ）。水（９．５３Ｋｇ）を反応器Ａに添加し、混合物を２２分間撹拌した。反応器Ａ中の混合物を、相分離のために１１分間沈降させた。底部の水層（約１２Ｌ）を廃棄のために容器に移した。反応器Ａで、合計６５Ｌのトルエン中の７ａの遊離塩基溶液が得られた。
【0123】
７ａの遊離塩基の金属スカベンジャー処理－前半：反応器Ａからの７ａに富む有機溶液（約３３Ｌ、合計約５０％）の一部を反応器Ｂに移し、金属スカベンジャーの、ＳｉｌｉａＭｅｔＳ Ｔｈｉｏｌ（登録商標）（０．７１５Ｋｇ）を反応器Ｂに添加した。反応器Ｂをアルミホイルで覆って光を除去し、混合物を２０～２５℃で１５時間２２分撹拌した。ＩＣＰ／ＭＳにより、試料の残留金属を確認した：Ｐｄ（１．０ｐｐｍ）およびＺｎ（２０ｐｐｍ）。反応混合物を、フィルター漏斗中のセライトパッド（約０．５Ｋｇ）を通して濾過した。濾液を、孔径１０μｍのインラインフィルターを介して反応器Ｃに移した。トルエン（２ｘ２．０６Ｋｇ）を使用して反応器Ｂをすすいで、反応器Ｃ上のセライトフィルターパッドに流した。
【0124】
水（１９．０７Ｋｇ）を反応器Ｃに添加し、混合物を２０～２５℃で撹拌した。水層は、２０～２５℃で６ＮのＨＣｌ溶液（１．８１Ｋｇ）を添加することによって、ｐＨ８．８４からｐＨ０．７５に調整した。混合物を２０～２５℃で２５分間撹拌し、次いで２８分間沈降させた。底部の水層（２２Ｌ、７ａに富む溶液）を、きれいな５５ガロンＨＤＰＥドラム中に収集した。
【0125】
７ａの遊離塩基の金属スカベンジャー処理－後半：反応器Ａ中の残りの７ａに富む有機溶液（約３１Ｌ、合計約５０％）を反応器Ｂに移し、金属スカベンジャーのＳｉｌｉａＭｅｔＳ Ｔｈｉｏｌ（登録商標）（０．７２Ｋｇ）を反応器Ｂに添加した。反応器Ｂをアルミホイルで覆って光を除去し、混合物を２０～２５℃で約１８．３時間撹拌した。ＩＣＰ／ＭＳにより、試料の残留金属を確認した：Ｐｄ（１．０ｐｐｍ）およびＺｎ（１０ｐｐｍ）。反応混合物を、フィルター漏斗中のセライトパッド（０．２５Ｋｇ）を通して濾過した。濾液を、孔径１０μｍのインラインフィルターを介して反応器Ａに移した。トルエン（２ｘ２．０６Ｋｇ）を使用して反応器Ｂをすすいで、反応器Ａ上のセライトフィルターパッドに流した。
【0126】
水（１９．０７Ｋｇ）を反応器Ａに添加し、混合物を２０～２５℃で撹拌した。水層は、２０～２５℃で６ＮのＨＣｌ溶液（１．７４Ｋｇ）を添加することによって、ｐＨ９．０３からｐＨ０．７４に調整した。混合物を２０～２５℃で１９分間撹拌し、次いで２５分間沈降させた。底部の水層（２３Ｌ、７ａに富む溶液）を、きれいな５５ガロンＨＤＰＥドラム中に収集した。
【0127】
反応器Ｂ中の有機溶液（約３５Ｌ）を反応器Ａに移し、混合した。合わせた有機溶液（約７３Ｌ）を水（４．７８Ｋｇ）と混合した。水層を、６ＮのＨＣｌ（０．２５Ｋｇ）を添加することによって、ｐＨ３．９６からｐＨ０．６２に調整した。混合物を２０～２５℃で１０分間撹拌し、次いで１０分間沈降させた。底部の水層（４Ｌ、７ａに富む溶液）を反応器Ｂ（事前に洗浄済）に移した。ＨＤＰＥドラムからの７ａに富む溶液（約４５Ｌ）を反応器Ｂに移した。
【0128】
７ａの加水分解および粗８ａの分離：反応器Ｂ中の７ａの酸性水溶液を１０．５℃（目標：５～１５℃）に冷却した。４．５Ｍの水酸化リチウム溶液（７．０７Ｋｇ）を、１０～２０℃で３１分間かけて反応器Ｂに添加した。ｐＨは、ＬｉＯＨ添加中にｐＨ０．９２からｐＨ１１．０になった。反応混合物のｐＨを、４．５ＭのＨ ＬｉＯＨ（２．４８Ｋｇ）を添加することによって、１０～２０℃でｐＨ１２．０～１２．５に調整した。反応混合物を１時間５分間かけて１０～２０℃でｐＨ１２．０～１２．５で維持し、反応完了の判定のために試料を提示した。ＨＰＬＣの結果は、反応が完了したことを示した（７ａ：未検出、目標：≦０．５％ＡＵＣ）。反応混合物を、７３分間かけて１０～２５℃で６ＮのＨＣｌ（２．６９Ｋｇ）をゆっくりと添加することによってクエンチした。ｐＨを、ｐＨ１２．２０からｐＨ５．３０に調整した（目標ｐＨ：４．８～６．０）。ｐＨの調整中、ｐＨが約９で、固体生成物が沈殿した。ｐＨ４．８～６．０の最終スラリーを１０～２５℃で６５分間撹拌した。スラリーを、フィルター漏斗上で濾過した。反応器Ｂを水（２ｘ９．５０ｋｇ）ですすぎ、すすぎ液をフィルターケーキに移した。フィルター漏斗中のウェットケーキ（８ａ）を、フィルター漏斗に真空を適用することによって１５分間脱液した。
【0129】
粗８ａの再沈殿（精製＃１）：粗８ａ（１１．５０Ｋｇ）のウェットケーキを反応器Ａに移し、続いて水（２３．８５Ｋｇ）に移した。スラリーを、６ＮのＨＣｌ溶液（２．９２Ｋｇ）を添加することによって、１０～２５℃でｐＨ５．６０からｐＨ０．７０に酸性化した。反応混合物を５２分間撹拌して、全ての固体を溶解した。反応器Ａ中の酸性水溶液を、インラインフィルターカプセル（０．４μｍ、孔径）を通して１８分間かけて反応器Ｃ中に濾過した。濃水酸化アンモニウム（０．８２Ｋｇ）を、インラインフィルターカプセル（０．４μｍ、孔径）を通して反応器Ｃ中に添加した。反応混合物のｐＨが、ｐＨ０．７０からｐＨ１．９５に増加した。希釈したＮＨ４ＯＨ溶液（１０％ｗｔ／ｗｔ、２．１６Ｋｇ）をインラインフィルターカプセル（０．４μｍ、孔径）を通して反応器Ｃに添加し、ｐＨをｐＨ５．３０に調整した。混合物を、インラインフィルターカプセル（０．４μｍ、孔径）を通して６ＮのＨＣｌ溶液（必要に応じて約１０５ｍＬ）を、ｐＨを４．８～６．０に維持しながら、１０～２５℃で１時間撹拌した。スラリーを２１分間かけてフィルター漏斗上に濾過した。ウェットケーキを１１分間脱液した。水（２ｘ７．１５Ｋｇ）をインラインフィルターカプセル（０．４μｍ、孔径）を通して反応器Ｃに移して、反応器をすすぎ、フィルターケーキを洗浄した。最終的な脱液には、１５分を要した。８ａ（６．１２Ｋｇ）のウェットケーキを乾燥トレイに移し、真空オーブンで加熱せずに１５時間１７分乾燥させ、次いで２０～３０℃で７２時間乾燥させると、最終重量が３．８２Ｋｇになった。
【0130】
８ａの最終精製：乾燥した８ａ（３．８２Ｋｇ）を反応器Ｃに移し、次いで、インラインフィルターカプセル（０．４μｍ、孔径）を通して濾過したメタノール（１１．３１Ｋｇ）と混合した。酢酸エチル（１２．９２Ｋｇ）を、インラインフィルターカプセル（０．４μｍ、孔径）を通じて反応器Ｃに添加した。混合物を、光曝露から保護して、２０～３０℃で２２時間３０分撹拌した。スラリーをフィルター漏斗上に濾過した。ウェットケーキを１３分間脱液し、次いで、インラインフィルターカプセル（０．４μｍ、孔径）を介して事前に濾過されたメタノール／酢酸エチル（１／１ｖ／ｖ、２．２６Ｋｇ／２．５８Ｋｇ）で洗浄し、反応器Ｃ中で混合した。ウェットケーキを３０分間脱液し、濾過された酢酸エチル（２ｘ５．１６Ｋｇ）で洗浄した。ウェットケーキを６０分間脱液した。ウェットケーキ（３．９９Ｋｇ）を乾燥トレイに移し、真空オーブンで乾燥させた。物質を加熱せずに４時間３０分間真空乾燥（約５０トル）し、次いで２０～３０℃で加熱して２３時間乾燥させた（加熱設定点２５℃）。８ａの固体を機械的に粉砕し、次いで乾燥トレイに戻して、乾燥を続けた。物質を２０～３０℃で６４時間４５分間乾燥させると、ＬＯＤ＝０．４８％に達した（ＬＯＤ目標：≦０．５％）。これらの操作で、８ａ（２．００Ｋｇ、ＨＰＬＣ ＡＵＣ純度９９．３６％）を得ることに成功した。
【0131】
ステップ５での好ましいプロセスパラメータおよび実施形態－８の調製
ステップ５は、残留金属の効果的なパージ／制御ならびにＬ－４－クロロキヌレニン（８ａ）のエステル加水分解、単離および精製を伴う。以下に列挙するものは、上記スキームＩ、ＩＩ、およびＩＩＩに示されるように、本発明の合成におけるステップ５についての特定の好ましいプロセスパラメータである。当ステップのような特定のステップについて記載される各好ましいプロセスパラメータは、本発明の別個の実施形態である。各ステップにおける好ましいプロセスパラメータは、好ましいプロセスパラメータの各組み合わせがまた本発明の別個の実施形態であるように、他のステップのプロセスパラメータとともに用いられ得る。１つまたは複数のステップにおいて１つまたは複数の好ましいプロセスパラメータを有する本発明による合成もまた、本発明の別の実施形態である。ステップ５における残留金属の軽減のための好ましいプロセスパラメータには、以下が含まれるが、これらに限定されない：
●水溶液からトルエンへの７／７ａの抽出には、ｐＨ＝８．０～９．０（プロセス不純物の相分配を提供する）；
●７／７ａ溶液の光曝露からの保護（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；および／ｐｒ
●残留Ｚｎを５００ｐｐｍ未満、および残留Ｐｄを１０ｐｐｍ未満（ＡＰＩ品質の制御）に制御するための、ＳｉｌｉａＭｅｔＳ Ｔｈｉｏｌ（登録商標）（７／７ａ二塩酸塩インプット重量に対して約２０％ｗ／ｗ）による７／７ａの遊離塩基溶液の処理。
ステップ５は、残留金属の効果的なパージ／制御ならびにＬ－４－クロロキヌレニン（８ａ）のエステル加水分解、単離および精製を伴う。以下に列挙するものは、上記スキームＩ、ＩＩ、およびＩＩＩに示されるように、本発明の合成におけるステップ５についての特定の好ましいプロセスパラメータである。当ステップのような特定のステップについて記載される各好ましいプロセスパラメータは、本発明の別個の実施形態である。各ステップにおける好ましいプロセスパラメータは、好ましいプロセスパラメータの各組み合わせがまた本発明の別個の実施形態であるように、他のステップのプロセスパラメータとともに用いられ得る。１つまたは複数のステップにおいて１つまたは複数の好ましいプロセスパラメータを有する本発明による合成もまた、本発明の別の実施形態である。ステップ５における残留金属の軽減のための好ましいプロセスパラメータには、以下が含まれるが、これらに限定されない：
●水溶液からトルエンへの７／７ａの抽出には、ｐＨ＝８．０～９．０（プロセス不純物の相分配を提供する）；
●７／７ａ溶液の光曝露からの保護（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；および／ｐｒ
●残留Ｚｎを５００ｐｐｍ未満、および残留Ｐｄを１０ｐｐｍ未満（ＡＰＩ品質の制御）に制御するための、ＳｉｌｉａＭｅｔＳ Ｔｈｉｏｌ（登録商標）（７／７ａ二塩酸塩インプット重量に対して約２０％ｗ／ｗ）による７／７ａの遊離塩基溶液の処理。
【0132】
ステップ５におけるＬ－４－クロロキヌレニン（８ａ）のエステル加水分解、単離および精製の好ましいプロセスパラメータとして、以下が挙げられるが、これらに限定されない：
●７／７ａ溶液の光分解を防ぐための光曝露からの保護（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●７／７ａ遊離塩基をトルエン溶液からｐＨ＝０．５～０．９で水性酸へ、好ましくはＨＣｌ水溶液を用いて抽出する（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●アルカリ水性条件下で７／７ａの加水分解には、ＬｉＯＨ溶液を用いてｐＨ＝１２．０～１２．５を達成する（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●７／７ａの加水分解による８ａの形成には、ｐＨが１２．０～１２．５（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●７／７ａの加水分解による８ａの形成には、ｐＨが１２．０～１２．５で、温度範囲が１０～２０℃で、光分解を防ぐために光曝露から保護する（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●ｐＨ＝４．８～６．０への制御されたｐＨ調整による８ａの単離；
●水性ＨＣｌを用いたｐＨ＝４．８～６．０への制御されたｐＨ調整による８ａの単離；
●ｐＨ＝０．５～０．９で水性酸中に溶解することによる８ａの精製、次いで、アンモニア水でｐＨ＝４．８～６．０に調整することによるｐＨ制御された沈殿；
●２０～３０℃での湿状の８ａの乾燥（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●メタノール／酢酸エチル１／１ｖ／ｖ中での粉砕による８ａの最終精製；および／または
●２０～３０℃での、８ａの最終的な乾燥（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）。
●７／７ａ溶液の光分解を防ぐための光曝露からの保護（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●７／７ａ遊離塩基をトルエン溶液からｐＨ＝０．５～０．９で水性酸へ、好ましくはＨＣｌ水溶液を用いて抽出する（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●アルカリ水性条件下で７／７ａの加水分解には、ＬｉＯＨ溶液を用いてｐＨ＝１２．０～１２．５を達成する（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●７／７ａの加水分解による８ａの形成には、ｐＨが１２．０～１２．５（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●７／７ａの加水分解による８ａの形成には、ｐＨが１２．０～１２．５で、温度範囲が１０～２０℃で、光分解を防ぐために光曝露から保護する（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●ｐＨ＝４．８～６．０への制御されたｐＨ調整による８ａの単離；
●水性ＨＣｌを用いたｐＨ＝４．８～６．０への制御されたｐＨ調整による８ａの単離；
●ｐＨ＝０．５～０．９で水性酸中に溶解することによる８ａの精製、次いで、アンモニア水でｐＨ＝４．８～６．０に調整することによるｐＨ制御された沈殿；
●２０～３０℃での湿状の８ａの乾燥（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）；
●メタノール／酢酸エチル１／１ｖ／ｖ中での粉砕による８ａの最終精製；および／または
●２０～３０℃での、８ａの最終的な乾燥（不要な副生成物の形成を最小限に抑える）。