(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-02-08
(45)【発行日】2024-02-19
(54)【発明の名称】アルミニウム箔の表面加工方法
(51)【国際特許分類】
C23F 1/00 20060101AFI20240209BHJP
H01G 9/00 20060101ALI20240209BHJP
【FI】
C23F1/00 102
H01G9/00 290D
(21)【出願番号】P 2019200744
(22)【出願日】2019-11-05
【審査請求日】2022-08-22
(73)【特許権者】
【識別番号】000004606
【氏名又は名称】ニチコン株式会社
(73)【特許権者】
【識別番号】504157024
【氏名又は名称】国立大学法人東北大学
(74)【代理人】
【識別番号】110000475
【氏名又は名称】弁理士法人みのり特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】石川 康幸
(72)【発明者】
【氏名】中坊 徹
(72)【発明者】
【氏名】中川 勝
【審査官】瀧口 博史
(56)【参考文献】
【文献】特開平11-314927(JP,A)
【文献】特開2001-355095(JP,A)
【文献】特開2007-245702(JP,A)
【文献】特開2010-080865(JP,A)
【文献】特開2011-111636(JP,A)
【文献】特開2011-183554(JP,A)
【文献】特開2012-109452(JP,A)
【文献】特開2013-208891(JP,A)
【文献】特開2014-144641(JP,A)
【文献】特開2016-002723(JP,A)
【文献】特開2018-006617(JP,A)
【文献】特表2018-512307(JP,A)
【文献】国際公開第2010/090088(WO,A1)
【文献】国際公開第2011/096368(WO,A1)
【文献】米国特許出願公開第2015/0179348(US,A1)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
B29C 59/02
B32B 15/08 - 15/098
C23F 1/00 - 4/04
H01G 9/00
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
凹凸が設けられたモールド上に
熱可塑性樹脂を溶質とするレジスト材料を塗布して凹凸を有するレジストを形成するレジスト形成工程と、
アルミニウム箔に平滑化処理を施す平滑化処理工程と、
前記レジスト形成工程後に、
前記熱可塑性樹脂により形成された前記レジストを
120℃以上の温度で加熱し、緩衝材越しに
前記平滑化処理が施されたアルミニウム箔に所定の圧力を加えることで、前記レジストに対して前記アルミニウム箔を圧着させるアルミニウム箔圧着工程と、
前記アルミニウム箔圧着工程後に、前記レジストから前記モールドを剥離するモールド剥離工程と、
前記モールド剥離工程後に、前記レジストの凹凸の凹部分に対応した薄膜部を除去する薄膜部除去工程と、
前記薄膜部除去工程後に、前記アルミニウム箔にピットが形成されるようにウェットエッチングを行うエッチング工程とを備える
ことを特徴とするアルミニウム箔の表面加工方法。
【請求項2】
前記モールドとして、樹脂により形成されたフィルムモールドを使用する
ことを特徴とする請求項1に記載のアルミニウム箔の表面加工方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ウェットエッチングによってピットを形成するアルミニウム箔の表面加工方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
従来から、アルミニウム箔の表面加工方法の一形態である電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造工程において、アルミニウム箔の上にレジストを設け、凹凸が設けられたモールドを上方から押し付けることでレジストに凹凸を転写し、ウェットエッチングを行ってアルミニウム箔にピットを形成することが知られている(例えば特許文献1参照)。
【0003】
図6を参照して、従来の電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造工程について説明する。
まず、アルミニウム箔101を用意し(
図6(A)参照)、次いで、アルミニウム箔101にレジスト材料Mを塗布し(
図6(B)参照)、次いで、凹凸が設けられたモールド3をレジスト材料Mに押し付けて凹凸を有するレジスト102を形成し(
図6(C)参照)、次いで、レジスト102からモールド103を剥離する(
図6(D)参照)。そして、レジスト102の凹凸の凹部分に対応した薄膜部Rを除去し、アルミニウム箔101にピットが形成されるようにウェットエッチングを行う。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、アルミニウム箔101の表面が圧延痕等の特有の凹凸を有していることによって、レジスト102の薄膜部Rの厚さにむらが生じるという問題があった。これにより、薄膜部Rを除去した際にレジスト102の開口を均一化できないという不都合があった。
【0006】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、レジストの薄膜部の厚さのむらを低減できるアルミニウム箔の表面加工方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記課題を解決するため、請求項1に記載のアルミニウム箔の表面加工方法は、凹凸が設けられたモールド上に熱可塑性樹脂を溶質とするレジスト材料を塗布して凹凸を有するレジストを形成するレジスト形成工程と、アルミニウム箔に平滑化処理を施す平滑化処理工程と、前記レジスト形成工程後に、前記熱可塑性樹脂により形成された前記レジストを120℃以上の温度で加熱し、緩衝材越しに前記平滑化処理が施されたアルミニウム箔に所定の圧力を加えることで、前記レジストに対して前記アルミニウム箔を圧着させるアルミニウム箔圧着工程と、前記アルミニウム箔圧着工程後に、前記レジストから前記モールドを剥離するモールド剥離工程と、前記モールド剥離工程後に、前記レジストの凹凸の凹部分に対応した薄膜部を除去する薄膜部除去工程と、前記薄膜部除去工程後に、前記アルミニウム箔にピットが形成されるようにウェットエッチングを行うエッチング工程とを備えることを特徴とする。
【0008】
上記構成によれば、モールド上にレジスト材料を塗布することで、アルミニウム箔にレジスト材料を塗布する場合に比べて、レジストの厚さのむらを低減できる。さらに、レジストに対してアルミニウム箔を圧着させるため、アルミニウム箔の表面を平坦化することができる。したがって、表面が平坦化されたアルミニウム箔に厚さのむらが低減されたレジストを設けることができ、レジストの薄膜部の厚さのむらを低減できる。
【0009】
請求項2に記載のアルミニウム箔の表面加工方法は、請求項1に記載の表面加工方法において、前記モールドとして、樹脂により形成されたフィルムモールドを使用することを特徴とする。この構成によれば、レジストからモールドを容易に剥離することができ、かつ、低コストでモールドを形成することができる。
【発明の効果】
【0011】
本発明によれば、レジストの薄膜部の厚さのむらを低減できるアルミニウム箔の表面加工方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【
図1】(A)~(F)は、本発明の一実施形態に係る電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造工程を示す概要図である。
【
図2】(A)~(F)は、実施例においてアルミニウム箔に設けられたレジストの電子顕微鏡写真である。
【
図3】(A)~(F)は、実施例においてピットが形成されたアルミニウム箔の電子顕微鏡写真である。
【
図4】(A)~(F)は、実施例においてアルミニウム箔に形成されたピットの電子顕微鏡写真である。
【
図5】(A)~(C)は、本発明の変形例に係る電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造工程を示す概要図である。
【
図6】(A)~(D)は、従来のアルミニウム電極箔の製造工程を示す概要図である。
【発明を実施するための形態】
【0013】
本発明の一実施形態に係る電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法について説明する。電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法は、アルミニウム箔の表面加工方法の一形態である。
【0014】
まず、
図1(A)に示すように、微細パターンの凹凸が設けられたモールド3を、その凹凸が上方を向くように配置する。モールド3は、樹脂により形成されたフィルムモールドを使用する。
【0015】
次いで、
図1(B)に示すように、モールド3上にレジスト材料Mを塗布し、レジスト材料Mを塗り拡げ、必要に応じてレジスト材料Mに含まれる溶媒を除去し、微細パターンの凹凸を有するレジスト2を形成する(レジスト形成工程)。レジスト材料Mとしては、例えば、熱可塑性樹脂であるポリスチレン(PS)を溶質とするポリスチレン溶液を使用する。
【0016】
次いで、
図1(C)に示すように、レジスト2上にアルミニウム箔1を設ける。このとき、アルミニウム箔1は、圧延痕等の特有の凹凸を有していてもよい。アルミニウム箔1は、平滑化処理が予め施されていることが好ましい。
【0017】
次いで、
図1(D)に示すように、アルミニウム箔1上に緩衝材4を設け、熱可塑性樹脂により形成されたレジスト2を所定の温度(例えば90℃以上)で加熱し、アルミニウム箔1に緩衝材4を所定の圧力(例えば1~10MPa)で押し付け、レジスト2に対してアルミニウム箔1を圧着させる(アルミニウム箔圧着工程)。緩衝材4は、アルミニウム箔圧着工程後にアルミニウム箔1から剥がされる(
図1(E)参照)。
【0018】
次いで、
図1(F)に示すように、レジスト2からモールド3を剥離し(モールド剥離工程)、次いで、レジスト2の凹凸の凹部分に対応した薄膜部Rを除去する(薄膜部除去工程)。そして、アルミニウム箔1にピットが形成されるようにウェットエッチングを行う(エッチング工程)。
【0019】
本実施形態によれば以下の効果が得られる。
(1)モールド3上にレジスト材料Mを塗布することで、アルミニウム箔101にレジスト材料Mを塗布する場合に比べて、レジスト2の厚さのむらを低減できる。さらに、レジスト2に対してアルミニウム箔1を圧着させるため、アルミニウム箔1の表面を平坦化することができる。したがって、表面が平坦化されたアルミニウム箔1に厚さのむらが低減されたレジスト2を設けることができ、レジスト2の薄膜部Rの厚さのむらを低減できる。その結果、レジスト2の開口が均一となるように薄膜部Rを除去することができる。
【0020】
(2)モールド3が樹脂製のフィルムモールドであるため、レジスト2からモールド3を容易に剥離することができる。また、低コストでモールド3を形成することができ、電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造コスト低減を図ることができる。
【0021】
(3)90℃以上で加熱したレジスト2に対してアルミニウム箔1を圧着させることで、アルミニウム箔1とレジスト2との接着強度を高めることができる。また、120℃以上で加熱したレジスト2に対してアルミニウム箔1を圧着させることで、アルミニウム箔1とレジスト2との接着強度をより高めることができる。
【0022】
[電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の試作]
上記実施形態で説明した工程により電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の試作を行った。以下、この試作条件および試作結果について説明する。
【0023】
(実施例1)
アルミニウム箔1としては、厚さ120μmの電解コンデンサ用高純度アルミニウム箔を使用した。また、アルミニウム箔1は、平均粗度が1nm以下となるように表面を平滑化した後、リン酸濃度が2モル毎リットルのリン酸溶液(45℃)に60分間浸漬して表面の加工変性層を除去し、さらに、中性洗剤および超純水を用いて表面に付着した異物や汚れを除去するように洗浄を行った。
【0024】
レジスト2を形成するレジスト材料Mとしては、熱可塑性樹脂である市販の汎用ポリスチレンをアニソールに添加し、スターラーで12時間撹拌して作製した、ポリスチレン濃度が14.1重量%のポリスチレン溶液を使用した。
【0025】
モールド3としては、凸部の径が2μmであり、凸部の高さが2.5μmであり、凸部のピッチが3μmである凹凸が形成された樹脂製のナノインプリント用フィルムモールドを使用した。
【0026】
レジスト形成工程では、モールド3を3000rpmで30秒間回転させるスピンコートにより、モールド3上で厚さ1μmとなるようにレジスト材料Mを塗り拡げ、電気加熱炉により、レジスト材料Mが塗布されたモールド3を80℃で10分間加熱し、レジスト材料Mに含まれる溶媒のアニソールを除去した。
【0027】
アルミニウム箔圧着工程では、レジスト2を90℃で加熱し、5MPaの圧力でレジスト2に対してアルミニウム箔1を押し付け、その状態を3分間維持し、レジスト2にアルミニウム箔1を圧着させた。また、モールド剥離工程では、アルミニウム箔圧着工程後にレジスト2を冷却し、室温でモールド3を剥離した。
【0028】
薄膜部除去工程では、酸素リアクティブイオンエッチング(RIE)により薄膜部Rを除去した。酸素リアクティブイオンエッチングに要する時間は、形成される薄膜部Rの厚さに応じて設定した。また、エッチング工程では、塩酸濃度が6モル毎リットル、硫酸濃度が1モル毎リットルの溶液(55℃)を用いて、ウェットエッチングを行った。
【0029】
(実施例2)
アルミニウム箔圧着工程において、レジスト2を120℃で加熱したことを除いて、実施例1と同じ条件で電解コンデンサ用アルミニウム電極箔を製造した。
【0030】
(実施例3)
アルミニウム箔圧着工程において、レジスト2を140℃で加熱したことを除いて、実施例1と同じ条件で電解コンデンサ用アルミニウム電極箔を製造した。
【0031】
(レジストの観察結果)
モールド剥離工程後かつ薄膜部除去工程前に、実施例1~3のレジスト2の断面を撮影し、レジスト2の厚さ、および、薄膜部Rの厚さを測定した。
図2(A)は、実施例1のレジスト2の断面を示しており、
図2(B)は、その一部を拡大して示している。
図2(C)は、実施例2のレジスト2の断面を示しており、
図2(D)は、その一部を拡大して示している。
図2(E)は、実施例3のレジスト2の断面を示しており、
図2(F)は、その一部を拡大して示している。
【0032】
図2に示すように、実施例1~3のいずれにおいても、薄膜部Rを除いた厚さが約2.5μmのレジスト2が、アルミニウム箔1に設けられていた。また、
図2(B)に示す薄膜部Rは、約0.5μmの厚さを有し、
図2(D)に示す薄膜部Rは、約0.4μmの厚さを有し、
図2(F)に示す薄膜部Rは、約0.3μmの厚さを有していた。薄膜部Rの除去容易性の観点からは薄膜部Rは薄いことが好ましいため、アルミニウム箔圧着工程において、120℃以上で加熱することが好ましく、140℃以上で加熱することがさらに好ましい。
【0033】
(ピットの観察結果)
エッチング工程後に、実施例1~3のアルミニウム箔1の上面を撮影し、アルミニウム箔1に形成されたピットを観察した。
図3(A)は、実施例1のアルミニウム箔1の上面を示しており、
図3(B)は、その一部を拡大して示している。
図3(C)は、実施例2のアルミニウム箔1の上面を示しており、
図3(D)は、その一部を拡大して示している。
図3(E)は、実施例3のアルミニウム箔1の上面を示しており、
図3(F)は、その一部を拡大して示している。
【0034】
また、エッチング工程後に、実施例1~3のアルミニウム箔1の断面を撮影し、アルミニウム箔1に形成されたピットを観察した。
図4(A)は、実施例1のアルミニウム箔1の断面を示しており、
図4(B)は、その一部を拡大して示している。
図4(C)は、実施例2のアルミニウム箔1の断面を示しており、
図4(D)は、その一部を拡大して示している。
図4(E)は、実施例3のアルミニウム箔1の断面を示しており、
図4(F)は、その一部を拡大して示している。
【0035】
図3および
図4に示すように、実施例1~3のいずれにおいても、整列性の有る最大長さが約60μmのピットが、アルミニウム箔1に形成されていた。また、
図3(A),(B)においては、エッチングの開始点が制御されている状況が見受けられ、
図3(E),(F)においても、エッチングの開始点が制御されている状況が見受けられた。
図3(C),(D)においては、レジスト2がアルミニウム箔1上に残っているものの、レジスト2下には整列したエッチングピットが観察され、エッチングの開始点が制御されていることがわかる。
【0036】
本発明は、上記実施例に限定されるものではなく、上記構成を適宜変更することもできる。例えば、上記実施形態を、以下のように変更して実施してもよく、以下の変更を組み合わせて実施してもよい。
【0037】
樹脂に代えて、ニッケル、シリコン、または、石英によりモールド3が形成されていてもよい。すなわち、モールド3の形成材料を適宜変更して実施してもよい。
【0038】
スピンコートに代えて、スリットダイコートまたは小径グラビアコートにより、モールド3上にレジスト材料Mを塗布してもよい。すなわち、レジスト2の形成方法を適宜変更してもよい。
【0039】
酸素リアクティブイオンエッチングに代えて、紫外線オゾン照射または紫外線照射により、薄膜部Rを除去してもよい。すなわち、薄膜部Rの除去方法を適宜変更してもよい。
【0040】
また、上記実施例では、アルミニウム箔1に緩衝材4を押し付けてレジスト2に対してアルミニウム箔1を圧着させていたが(
図1(D)参照)、これに限らず、
図1(C)において、アルミニウム箔1の表面側に緩衝材4を配置し、モールド3を押し付けることでアルミニウム箔1に対してレジスト2を圧着させてもよい。
【0041】
また、上記実施例では、アルミニウム箔1の片面にピットを形成しているが、アルミニウム箔1の両面にレジスト2を形成することで、アルミニウム箔1の両面にピットを形成してもよい。この場合、例えば、凹凸を有する表面にレジスト2が形成されたモールド3(
図1(C)参照)を2つ用意し、
図5(A)に示すように、アルミニウム箔1の両面にレジスト2が対向するようにそれぞれ配置するとともに、
図5(B)に示すように、少なくとも一方のモールド3のレジスト2が形成されていない面に緩衝材4を設け、緩衝材4を押し付けて上下のレジスト2をアルミニウム箔1に同時に圧着させる。このように平坦なモールド3でアルミニウム箔1が挟み込まれることで、アルミニウム箔1が平坦化される。なお、仮にモールド3に反りがある場合は、その材質として柔軟なもの(例えば、樹脂フィルムや、ニッケル等の金属であれば比較的厚みの薄いもの)を用いることで、下側に配置するモールド3を載置する平らな定盤面を基準として下側モールド3、アルミニウム箔1、上側モールド3を順に均すことができる。その後、アルミニウム箔1の両面に圧着されたレジスト2からモールド3をそれぞれ剥離し(
図5(C)参照)、薄膜部Rを除去し、エッチングを行うことで、アルミニウム箔1の両面にピットを形成することができる。
【0042】
また、上記実施例では、本発明を電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法に適用したが、本発明はこれに限らず、アルミニウム箔の表面加工方法の全般に適用することができる。
【符号の説明】
【0043】
1 アルミニウム箔
2 レジスト
3 モールド
4 緩衝材
M レジスト材料
R 薄膜部