特許 7433350 レチクル保持システム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-02-08

(45)【発行日】2024-02-19

(54)【発明の名称】レチクル保持システム

(51)【国際特許分類】

   G03F 1/66 20120101AFI20240209BHJP

【ＦＩ】

G03F1/66

【請求項の数】 21

(21)【出願番号】P 2022016977

(22)【出願日】2022-02-07

(62)【分割の表示】P 2020508509の分割

【原出願日】2019-10-28

(65)【公開番号】P2022051846

(43)【公開日】2022-04-01

【審査請求日】2022-02-07

(31)【優先権主張番号】62/751,736

(32)【優先日】2018-10-29

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

【前置審査】

(73)【特許権者】

【識別番号】506017182

【氏名又は名称】家登精密工業股▲ふん▼有限公司

【氏名又は名称原語表記】ＧＵＤＥＮＧ ＰＲＥＣＩＳＩＯＮ ＩＮＤＵＳＴＲＩＡＬ ＣＯ．，ＬＴＤ

(74)【代理人】

【識別番号】100094569

【弁理士】

【氏名又は名称】田中 伸一郎

(74)【代理人】

【識別番号】100103610

【弁理士】

【氏名又は名称】▲吉▼田 和彦

(74)【代理人】

【識別番号】100109070

【弁理士】

【氏名又は名称】須田 洋之

(74)【代理人】

【識別番号】100098475

【弁理士】

【氏名又は名称】倉澤 伊知郎

(74)【代理人】

【識別番号】100130937

【弁理士】

【氏名又は名称】山本 泰史

(74)【代理人】

【識別番号】100144451

【弁理士】

【氏名又は名称】鈴木 博子

(72)【発明者】

【氏名】林 書弘

(72)【発明者】

【氏名】荘 家和

(72)【発明者】

【氏名】邱 銘乾

(72)【発明者】

【氏名】薛 新民

【審査官】今井 彰

(56)【参考文献】

【文献】国際公開第２００８／００７５２１（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２０１３－１６７７９５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００７－３２９４３９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１３－０５４２１８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００６－１５３８９９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０３Ｆ １／００－１／８６、７／２０－７／２４、９／００－９／０２

Ｈ０１Ｌ ２１／６８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

第一の識別構成要素を備えるレチクルを内部に受け入れるように構成された内側ポッドであって、
周縁領域に囲まれたレチクル格納領域を有する内側基体であって、前記レチクル格納領域内に画定された第一の観測可能区域を有する前記内側基体と、
前記内側基体の前記周縁領域と係合して前記レチクルを格納するための内部を画定するように構成された内側カバーと
を含む前記内側ポッドと、
前記内側ポッドを内部に受け入れるように構成された外側ポッドであって、
前記内側ポッドを受け入れると、前記内側ポッドの前記第一の観測可能区域と観測可能に位置合わせされる第二の観測可能区域を有する外側基体と、
前記外側基体と係合し前記内側ポッドを覆うように構成された外側カバーと
を含む前記外側ポッドと
を含み、
前記第一の観測可能区域には二つの内側光学部材が前記第一の識別構成要素を外部から前記二つの内側光学部材の一方を通して観測可能にするように配置され、前記第一の識別構成要素を観測するための前記二つの内側光学部材の一方の面積が他方の面積より小さく、前記第二の観測可能区域には外部から前記内側ポッドを観測可能にするように前記二つの内側光学部材を覆う外側光学部材が配置され、前記外側光学部材は、その幾何学的中心が前記外側基体の幾何学的中心及び前記二つの内側光学部材の幾何学的中心から投影的に離れるように配置されており、前記二つの内側光学部材は、投影的に前記外側光学部材と重なり、前記外側光学部材の平面プロファイルには、一つまたは複数の円弧状の箇所が含まれる、
レチクル保持システム。

【請求項2】

前記レチクルはペリクルを有し、前記第一の観測可能区域には前記二つの内側光学部材が前記第一の識別構成要素と前記ペリクルの一部との観測をそれぞれ可能にするように配置され、前記第二の観測可能区域には、前記外側光学部材が、その幾何学的中心が前記外側基体の幾何学的中心及び前記二つの内側光学部材の幾何学的中心のそれぞれから投影的に離れるように配置されており、前記二つの内側光学部材のいずれもが投影的に前記外側光学部材と重なる、
請求項１に記載のレチクル保持システム。

【請求項3】

第一の識別構成要素を備えるレチクルを内部に受け入れるように構成された内側ポッドであって、
周縁領域に囲まれたレチクル格納領域を有する内側基体であって、前記レチクル格納領域内に画定された第一の観測可能区域を有する前記内側基体と、
前記内側基体の前記周縁領域と係合して前記レチクルを格納するための内部を画定するように構成された内側カバーと
を含む前記内側ポッドと、
前記内側ポッドを内部に受け入れるように構成された外側ポッドであって、
前記内側ポッドを受け入れると、前記内側ポッドの前記第一の観測可能区域と観測可能に位置合わせされる第二の観測可能区域を有する外側基体と、
前記外側基体と係合し前記内側ポッドを覆うように構成された外側カバーと
を含む前記外側ポッドと
を含み、
前記第一の観測可能区域には二つの内側光学部材が前記第一の識別構成要素を外部から前記二つの内側光学部材の一方を通して観測可能にするように配置され、前記第二の観測可能区域には外部から前記内側ポッドを観測可能にするように前記二つの内側光学部材を覆う外側光学部材が配置され、前記外側光学部材は、その幾何学的中心が前記外側基体の幾何学的中心及び前記二つの内側光学部材の幾何学的中心から投影的に離れるように配置されており、前記二つの内側光学部材は前記外側光学部材よりも面積が小さく構成されている、
レチクル保持システム。

【請求項4】

前記レチクルはペリクルを有し、前記第一の観測可能区域には前記二つの内側光学部材が前記第一の識別構成要素と前記ペリクルの一部との観測をそれぞれ可能にするように配置され、前記第二の観測可能区域には、前記外側光学部材が、その幾何学的中心が前記外側基体の幾何学的中心及び前記二つの内側光学部材の幾何学的中心のそれぞれから投影的に離れるように配置されており、前記二つの内側光学部材は前記外側光学部材よりも総面積が小さく構成されている、
請求項３に記載のレチクル保持システム。

【請求項5】

前記二つの内側光学部材は観測可能に前記外側光学部材に全体が覆われる、
請求項３または４に記載のレチクル保持システム。

【請求項6】

第一の識別構成要素を備えるレチクルを内部に受け入れるように構成された内側ポッドであって、
周縁領域に囲まれたレチクル格納領域を有する内側基体であって、前記レチクル格納領域内に画定された第一の観測可能区域を有する前記内側基体と、
前記内側基体の前記周縁領域と係合して前記レチクルを格納するための内部を画定するように構成された内側カバーと
を含む前記内側ポッドと、
前記内側ポッドを内部に受け入れるように構成された外側ポッドであって、
前記内側ポッドを受け入れると、前記内側ポッドの前記第一の観測可能区域と観測可能に位置合わせされる第二の観測可能区域を有する外側基体と、
前記外側基体と係合し前記内側ポッドを覆うように構成された外側カバーと
を含む前記外側ポッドと
を含み、
前記第一の観測可能区域には二つの内側光学部材が前記第一の識別構成要素を外部から前記二つの内側光学部材の一方を通して観測可能にするように配置され、前記第一の識別構成要素を観測するための前記二つの内側光学部材の一方の面積が他方の面積より小さく、前記第二の観測可能区域には外部から前記内側ポッドを観測可能にするように前記二つの内側光学部材を覆う外側光学部材が配置され、前記外側光学部材は、その幾何学的中心が前記外側基体の幾何学的中心及び前記二つの内側光学部材の幾何学的中心から投影的に離れるように配置され、前記二つの内側光学部材は、投影的に前記外側光学部材と重なる、
レチクル保持システム。

【請求項7】

前記レチクルはペリクルを有し、前記第一の観測可能区域には前記二つの内側光学部材が前記第一の識別構成要素と前記ペリクルの一部との観測をそれぞれ可能にするように配置され、前記第二の観測可能区域には、前記外側光学部材が、その幾何学的中心が前記外側基体の幾何学的中心及び前記二つの内側光学部材の幾何学的中心のそれぞれから投影的に離れるように配置されており、前記二つの内側光学部材のいずれもが投影的に前記外側光学部材と重なる、
請求項６に記載のレチクル保持システム。

【請求項8】

第一の識別構成要素を備えるレチクルを内部に受け入れるように構成された内側ポッドであって、
周縁領域に囲まれたレチクル格納領域を有する内側基体であって、前記レチクル格納領域内に画定された第一の観測可能区域を有する前記内側基体と、
前記内側基体の前記周縁領域と係合して前記レチクルを格納するための内部を画定するように構成された内側カバーと
を含む前記内側ポッドと、
前記内側ポッドを内部に受け入れるように構成された外側ポッドであって、
前記内側ポッドを受け入れると、前記内側ポッドの前記第一の観測可能区域と観測可能に位置合わせされる第二の観測可能区域を有する外側基体と、
前記外側基体と係合し前記内側ポッドを覆うように構成された外側カバーと
を含む前記外側ポッドと
を含み、
前記第一の観測可能区域には二つの内側光学部材が前記第一の識別構成要素を外部から前記二つの内側光学部材の一方を通して観測可能にするように配置され、前記第二の観測可能区域には外部から前記内側ポッドを観測可能にするように前記二つの内側光学部材を覆う外側光学部材が配置され、前記二つの内側光学部材は投影的に前記外側光学部材と重なり、前記外側基体は対称軸を有し、前記外側光学部材の幾何学的中心から前記対称軸までの距離は、前記外側基体の長さ及び／又は幅の３０％より小さく、前記レチクルにはペリクルが設けられており、前記ペリクルが第二の識別構成要素を有し、前記内側基体が第三の識別構成要素を有し、前記内側光学部材が前記第一の識別構成要素と前記第二の識別構成要素を覆い、前記外側光学部材が前記第一の識別構成要素、前記第二の識別構成要素及び前記第三の識別構成要素を覆う、
レチクル保持システム。

【請求項9】

前記レチクルはペリクルを有し、前記第一の観測可能区域には前記二つの内側光学部材が前記第一の識別構成要素と前記ペリクルの一部との観測をそれぞれ可能にするように配置され、前記二つの内側光学部材のいずれもが投影的に前記外側光学部材と重なる、
請求項８に記載のレチクル保持システム。

【請求項10】

第一の識別構成要素を備えるレチクルを内部に受け入れるように構成された内側ポッドであって、
周縁領域に囲まれたレチクル格納領域を有する内側基体であって、前記レチクル格納領域内に画定された第一の観測可能区域を有する前記内側基体と、
前記内側基体の前記周縁領域と係合して前記レチクルを格納するための内部を画定するように構成された内側カバーと
を含む前記内側ポッドと、
前記内側ポッドを内部に受け入れるように構成された外側ポッドであって、
前記内側ポッドを受け入れると、前記内側ポッドの前記第一の観測可能区域と観測可能に位置合わせされる第二の観測可能区域を有する外側基体と、
前記外側基体と係合し前記内側ポッドを覆うように構成された外側カバーと
を含む前記外側ポッドと
を含み、
前記第一の観測可能区域には二つの内側光学部材が前記第一の識別構成要素を外部から前記二つの内側光学部材の一方を通して観測可能にするように配置され、前記第二の観測可能区域には外部から前記内側ポッドを観測可能にするように前記二つの内側光学部材を覆う外側光学部材が配置され、前記二つの内側光学部材は投影的に前記外側光学部材と重なり、前記外側基体は対称軸を有し、前記外側光学部材の幾何学的中心から前記対称軸までの距離は、前記外側基体の長さ及び／又は幅の１０％より大きく、前記レチクルにはペリクルが設けられており、前記ペリクルが第二の識別構成要素を有し、前記内側基体が第三の識別構成要素を有し、前記内側光学部材が前記第一の識別構成要素と前記第二の識別構成要素を覆い、前記外側光学部材が前記第一の識別構成要素、前記第二の識別構成要素及び前記第三の識別構成要素を覆う、
レチクル保持システム。

【請求項11】

前記レチクルはペリクルを有し、前記第一の観測可能区域には前記二つの内側光学部材が前記第一の識別構成要素と前記ペリクルの一部との観測をそれぞれ可能にするように配置され、前記二つの内側光学部材のいずれもが投影的に前記外側光学部材と重なる、
請求項１０に記載のレチクル保持システム。

【請求項12】

第一の識別構成要素を備えるレチクルを内部に受け入れるように構成された内側ポッドであって、
周縁領域に囲まれたレチクル格納領域を有する内側基体であって、前記レチクル格納領域内に画定された第一の観測可能区域を有する前記内側基体と、
前記内側基体の前記周縁領域と係合して前記レチクルを格納するための内部を画定するように構成された内側カバーと
を含む前記内側ポッドと、
前記内側ポッドを内部に受け入れるように構成された外側ポッドであって、
前記内側ポッドを受け入れると、前記内側ポッドの前記第一の観測可能区域と観測可能に位置合わせされる第二の観測可能区域を有する外側基体と、
前記外側基体と係合し前記内側ポッドを覆うように構成された外側カバーと
を含む前記外側ポッドと
を含み、
前記第一の観測可能区域には二つの内側光学部材が配置され、前記第二の観測可能区域には前記二つの内側光学部材を覆う外側光学部材が配置され、前記レチクルの前記第一の識別構成要素は前記外側光学部材と前記二つの内側光学部材の一方を通る光走査によって確認可能であり、前記レチクルにはペリクルが設けられており、前記ペリクルが第二の識別構成要素を有し、前記内側基体が第三の識別構成要素を有し、前記内側光学部材が前記第一の識別構成要素と前記第二の識別構成要素を覆い、前記外側光学部材が前記第一の識別構成要素、前記第二の識別構成要素及び前記第三の識別構成要素を覆う、
レチクル保持システム。

【請求項13】

前記レチクルはペリクルを有し、前記第一の観測可能区域には前記二つの内側光学部材が配置され、前記第二の観測可能区域には前記外側光学部材が配置され、前記レチクルの前記第一の識別構成要素と前記ペリクルの一部が前記外側光学部材と前記二つの内側光学部材を通る光走査によって確認可能である、
請求項１２に記載のレチクル保持システム。

【請求項14】

前記第二の観測可能区域は前記第一の観測可能区域と観測可能に位置合わせされ、前記レチクルの前記第一の識別構成要素は前記外側光学部材と前記二つの内側光学部材の一方を通る光走査によって確認可能である、
請求項１、３、６、８、１０のいずれか一項に記載のレチクル保持システム。

【請求項15】

前記内側基体の底側に第三の識別構成要素が設けられ、前記内側基体の第三の識別構成要素は前記外側光学部材を通る光走査によって確認可能である、
請求項１、３、６、８、１０、１２のいずれか一項に記載のレチクル保持システム。

【請求項16】

前記第二の観測可能区域は前記第一の観測可能区域と観測可能に位置合わせされ、前記レチクルの前記第一の識別構成要素と前記ペリクルの一部は前記外側光学部材と前記二つの内側光学部材を通る光走査によって確認可能である、
請求項２、４、７、９、１１のいずれか一項に記載のレチクル保持システム。

【請求項17】

前記レチクルは第二の識別構成要素を更に有し、前記内側光学部材は前記第二の識別構成要素と前記ペリクルを観測可能にするように配置され、前記第二の観測可能区域は前記第一の観測可能区域と観測可能に位置合わせされ、前記レチクルの前記第一の識別構成要素と前記第二の識別構成要素は前記外側光学部材と前記二つの内側光学部材を通る光走査によって確認可能である、
請求項２、４、７、９、１１、１３のいずれか一項に記載のレチクル保持システム。

【請求項18】

前記レチクルは第二の識別構成要素を更に有し、前記二つの内側光学部材のうち面積の大きい方は、これを通して前記ペリクルの一部と前記第二の識別構成要素を観測可能に構成されており、前記第二の観測可能区域は前記第一の観測可能区域と観測可能に位置合わせされ、前記レチクルの前記ペリクルの一部と前記第二の識別構成要素は前記外側光学部材と前記二つの内側光学部材のうち面積の大きい方を通る光走査によって確認可能である、
請求項２、４、７、９、１１、１３のいずれか一項に記載のレチクル保持システム。

【請求項19】

前記内側光学部材は、６００ｎｍから９５０ｎｍの間の範囲の波長に対して前記外側光学部材より低い反射率値を有する、
請求項１２或いは１３に記載のレチクル保持システム。

【請求項20】

前記外側光学部材は、６００ｎｍから９５０ｎｍの間の範囲の波長に対して反射率値が１５％より小さい、
請求項１２或いは１３に記載のレチクル保持システム。

【請求項21】

前記外側光学部材の透過率値は、６００ｎｍから９５０ｎｍの間の範囲の波長に対して８０％より大きい、
請求項１２或いは１３に記載のレチクル保持システム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

関連出願の記載
本出願は、ここで参照によって本明細書に取り込まれ、本明細書の一部となる２０１８年１０月２９日出願の米国特許仮出願第６２／７５１７３６号の優先権を主張する。
本開示は、フォトマスク、レチクル（ｒｅｔｉｃｌｅ）およびウエハなどの脆弱な物体の貯蔵、輸送、配送および加工のための容器に関し、特に、レチクルの貯蔵、輸送、配送および加工のための保持システムに関する。

【背景技術】

【0002】

半導体産業において、潜在的な環境危険からの保護レベルの増加を求める要求を満たすために、フォトマスク保持装置（またはレチクル保持装置）はその積荷の精度要件の高まりとともに進化している。

【0003】

たとえば、より新しい世代のレチクル保持装置は、時にレチクルを受け入れるための内側ポッドと内側ポッドを格納するための外側ポッドとを含むデュアルポッド構成を提供される。供給時、レチクルは内側ポッドの内部に梱包することができる。リソグラフィープロセスを実行するために外側ポッドが開かれて外側ポッドからの内側ポッドの取り出しを可能にすることができる。内側ポッドは、次に、露光装置の内部の指定された位置に到達したら、中身のレチクルを用いる後続の露光プロセスのために開けることができる。

【0004】

記載される本開示の特徴、上記で簡単に要約された本開示のより具体的な記載を詳細に理解することができる方法は、添付の図面中に一部が例示される実施形態への参照によって得ることができる。ただし、添付の図面は、本開示の典型的な実施形態だけを例示し、したがって、その範囲の限定とみなすべきでない点に留意するべきである。なぜならば、本開示は、他の等しく効果的な実施形態に通じ得るからである。

【0005】

ただし、添付の図面は、本開示の例となる実施形態だけを例示し、したがってその範囲の限定とみなされるべきでない点に留意するべきである。なぜならば、本開示は、他の等しく効果的な実施形態に通じ得るからである。

【0006】

これらの図は、特定の例としての実施形態において利用される方法、構造および／または材料の一般的な特性を例示することと、下記に提供される文の記載を補うこととを意図する点に留意するべきである。ただし、これらの図面は一定のスケールではなく、いかなる所定の実施形態の正確な構造特性または性能特性も正確に反映することはできず、例としての実施形態によって包含される値または特性の範囲を定めるかまたは限定すると解釈するべきでない。たとえば、層、領域および／または構造要素の相対的な厚さおよび配置は、分かりやすさを目的として縮小または誇張されることがある。さまざまな図面における類似のまたは同一の参照番号の使用は、類似のまたは同一の要素または特徴物の存在を示すことを意図する。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】本開示のいくつかの実施形態によるレチクル保持システムの概略断面図を例示する。

【図2】本開示のある実施形態によるレチクル保持システムの概略平面図を例示する。

【図3】本開示のある実施形態によるレチクル保持システムの等角分解図を例示する。

【図4】本開示のいくつかの実施形態によるレチクル保持システムの断面図を例示する。

【図5】本開示のいくつかの実施形態によるレチクル保持システムの部分断面図を例示する。

【図6】本開示のいくつかの実施形態によるレチクル保持システムの平面図を例示する。

【発明を実施するための形態】

【0008】

本開示は、次に、本開示の例となる実施形態が示される添付の図面を参照して、以下にさらに詳しく記載される。ただし、本開示は多数のさまざまな形で具体化することができ、本明細書に示される例となる実施形態に限定されると解釈するべきでない。それよりも、これら例となる実施形態は、本開示が欠落なく完全であり、本開示の範囲を当業者に十分に伝えるように提供される。全体を通じて同じような参照番号は同じような要素を指す。

【0009】

本明細書において用いられる用語法は、特定の例となる実施形態だけを記載することを目的とし、本開示の限定となることを意図しない。本明細書において用いられる単数形「ａ」、「ａｎ」および「ｔｈｅ」は、状況によって明らかに異ならない限り、複数形も含むことが意図される。語「を含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」および／または「を含んでいる（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」または「を備える（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」および／または「を備えている（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」または「を有する（ｈａｓ）」および／または「を有している（ｈａｖｉｎｇ）」は、本明細書において用いられるとき、言及される特徴物、領域、整数、ステップ、操作、要素および／または成分の存在を指定するが、一つ以上の他の特徴物、領域、整数、ステップ、操作、要素、成分および／またはそれらの群の存在または追加を排除しないとさらに理解される。

【0010】

特に別の定義がされない限り、本明細書において用いられるすべての用語（技術用語および科学用語を含む）は、本開示が属する技術分野における当業者によって共通に理解されると同じ意味を有する。用語、たとえば普通に用いられる辞書中で定義される用語は、関連分野および本開示の状況におけるその意味と矛盾しない意味を有すると解釈するべきであり、本明細書において明示的にそのように定義されていない限り、理想化された形または過剰に形式的な意味で解釈されないとさらに理解される。

【0011】

記載は、図１から６の添付図面と併せて例となる実施形態に関して行われる。本開示を詳細に記載するために図面の描画物への参照が行われ、図示される要素は必ずしも一定のスケールで示されず、同じようなまたは類似の要素は、いくつかの図を通じて同じまたは類似の参照番号および同じまたは類似の用語法によって指定される。

【0012】

図１は、本開示のいくつかの実施形態によるレチクル保持システムの概略断面図を例示する。例示の簡単さと分かりやすさとを目的として、典型的な装置のいくつかの詳細／副次的な構成部品は、本図において明示的に標示／図示されない。

【0013】

図１を参照すると、例となるレチクル保持システム１００は、外側ポッド１と外側ポッド１によって受け入れるように構成された内側ポッド２とを含む。内側ポッド２は、レチクルを受け入れるように構成される。例示の実施形態において、内側ポッド２は、レチクル格納領域２２ａを画定する内側基体２２を備える。レチクル格納領域２２ａは、周縁領域２２ｂによって囲まれる。内側ポッド２は、内側基体２２の周縁領域２２ｂとの係合を確立してレチクルＲ₁を格納するために閉じると協同して内部体積を形成するように構成された内側カバー２１をさらに備える。その繊細かつ脆弱な内容物に行き届いた保護を提供するために、いくつかの実施形態において、内側カバー２１および内側基体２２に電磁干渉（ＥＭＩ）遮蔽性が提供される。ＥＭＩ遮蔽能力を提供するための適当な材料は、金属などの導電性を備えることがある。いくつかの実施形態において、内側ポッド２の表面上に金属コーティング（銅または金など）が提供されることがある。いくつかの実施形態において、内側カバー２１と内側基体２２との両方が金属材料、たとえばアルミニウムで作られる。

【0014】

図１に示されるように、例となる外側ポッド１は、内側ポッド２を収容するように構成される。例示の実施形態において、外側ポッド１は、内側基体２２を受け入れるように構成された外側基体１２と、外側基体１２と係合する（および内側ポッド２を覆う）ように構成された外側カバー１１とを含む。外側基体１２は静電荷散逸性を提供されることがある。いくつかの実施形態において、外側ポッド１は、導電性繊維と混合されたポリマー材料から構築されることがある。たとえば、いくつかの実施形態において、外側カバー１１と外側基体１２との一方または両方が炭素繊維を埋め込んだ樹脂材料から作られる。

【0015】

いくつかの実施形態において、内側カバー２１は、内側基体２２の周縁領域２２ｂとの封止係合を確立するように構成される。いくつかの実施形態において、内側カバー２１は、外側基体１２と外側カバー１１との間が閉じると外側カバー１１からの圧力によって内側基体２２との押圧係合を確立するように構成されることがある。いくつかの実施形態において、実質的に平面の金属－金属界面によって内側カバー２１と内側基体２２との間の押圧係合が形成されることがある。一般に、この押圧係合は、塵埃および湿気が内側ポッド２の上部部材と下部部材との間の接触界面を通って内部体積に進入することを防ぐ封止係合を確立する。いくつかの実施形態において、環境汚染を阻止する能力をさらに強化するために、内側カバー２１と内側基体２１との一方または両方に、それぞれの係合界面領域において追加の封止要素（たとえば気密ガスケットまたはＯ－リング）が提供されることがある。

【0016】

図１に示されるように、例となるシステムは、レチクルＲ₁の観測を可能にするために、内側基体２２のレチクル格納領域２２ａに画定された第一の観測可能区域Ｚ₁₁を有する。例示の実施形態において、内側基体２２は、第一の観測可能区域Ｚ₁₁に提供された内側光学部材２２１を備える。いくつかの実施形態において、内側光学部材２２１は、赤外光、可視光または紫外線に対する信号透過材料で作られることがある。内側光学部材２２１の適当な材料は、ガラス（たとえば石英ガラス）、アクリル、透明プラスチックまたは同等な材料を含むことがある。例示の実施形態において、内側光学部材２２１は、内側基体２２（レチクル格納領域２２ａに）に埋め込まれて配置された石英ガラス片を含むことがある。

【0017】

本実施形態において、第一の観測可能区域Ｚ₁₁は、レチクルＲ₁（概略例示中に明示的に示されてはいない）を受け入れるとレチクルＲ₁の第一の識別構成要素（例えば一次元または二次元バーコード）の観測を可能にするように、対応して設計される。いくつかの実施形態において、レチクルＲ₁の第一の識別構成要素は、第一の観測可能区域Ｚ₁₁の窓に面する面に形成される。

【0018】

外側基体１２は、その上に画定された第２の観測可能区域Ｚ₁₂を有する。第２の観測可能区域Ｚ₁₂は、内側ポッド１の第一の観測可能区域Ｚ₁₁と観測可能に位置合わせされるように配置される。したがって、レチクル保持システム１００に保持されたレチクルＲ₁の光確認（レチクルＲ₁の状態および第一の識別など）は、第二の観測可能区域Ｚ₁₂と第一の観測可能区域Ｚ₁₁とを通る光走査によって実現されることがある。よって、半導体製造プロセスの間のポッド開放の頻度は減少させることができ、それが今度は潜在的に危険な環境因子への繊細な精密ワークピースの曝露を最小限にする。

【0019】

例示の実施形態において、外側基体１２は、第二の観測可能区域Ｚ₁₂に埋め込まれて配置された外側光学部材１２１を有する。いくつかの実施形態において、外側光学部材１２１は、赤外光、可視光または紫外線に対する信号透過材料で作られることがある。外側光学部材１２１の適当な材料は、ガラス（たとえば石英ガラス）、アクリル、透明プラスチックまたは同等な材料を含むことがある。いくつかの実施形態において、外側光学部材１２１の透過率値は、上述のスペクトル範囲の一つ以上における光学信号に対して８０％より大きい。特定の利用要件に依存して、いくつかの実施形態において、光学部材（たとえば外側光学部材および／または内側光学部材）は、凹／凸表面を含むことがある。

【0020】

いくつかの実施形態において、内側光学部材２２１は、６００ｎｍから９５０ｎｍの間の範囲の波長に対して外側光学部材１２１より低い反射率値を有する。いくつかの実施形態において、この光学部材のための対応する波長範囲は、約６３０ｎｍから９３０ｎｍの範囲にあることがある。いくつかの実施形態において、上述の波長範囲に対する外側光学部材１２１の反射率値は、１５％より小さいことがある。いくつかの実施形態において、上述の波長範囲に対する内側光学部材２２１の反射率値は、０．５％より小さいことがある。いくつかの実施形態において、内側光学部材２２１は、反射防止コーティングをさらに提供されることがある。いくつかの実施形態において、内側光学部材２２１は、ＥＭＩ遮蔽性を有する層をさらに提供されることがある。

【0021】

いくつかの実施形態において、内側光学部材２２１は、第一の観測可能区域Ｚ₁₁に封止して配置されることがある。たとえば、内側光学部材２２１の構造は、光学的に透過性の部材の周りの封止部材（たとえばＯ－リング）を含むことがある。一般に、内側光学部材２２１の構造は、塵埃および湿気が光学部材と内側基体との間の構造界面を通って内部体積に進入することを十分に防ぐことができる封止閉じ込めを提供する。いくつかの実施形態において、光学部材２２１は、気密レベルの封止を実現するように構築されることがある。

【0022】

塵埃抵抗および／または塵埃防御の要件が厳格であるいくつかの実施形態において、外側基体１２の第二の観測可能区域Ｚ₁₂中の外側光学部材１２１は、類似の封止機構を提供されることがある。しかし、内側封止だけで十分である用途において、外側光学部材１２１は、構造的な複雑さ、重量およびコスト懸念の低減を目的として、封止機構を利用しないで構築されることがある。

【0023】

図２は、本開示のいくつかの実施形態によるレチクル保持システムの平面図を例示する。例示の簡単さと分かりやすさとを目的として、例となる装置のいくつかの詳細／副次的構成部品は、本図において明示的に標示／図示されない。たとえば、内側カバーおよび外側カバーは示されない。

【0024】

例示の実施形態において、レチクルＲ₁、内側基体２２および外側基体１２は、平面図において実質的に平面の長方形を有する。本図に示されるように、例となる内側基体２２のレチクル格納領域２２ａは、一般にその幾何学的中心に形成される。

【0025】

図３は、本開示のある実施形態によるレチクル保持システムの等角分解図を例示する。例示の簡単さと分かりやすさとを目的として、例となる装置のいくつかの詳細／副次的構成部品は、本図において明示的に標示されない。

【0026】

例となるレチクル保持装置３００は、外側ポッド３１とその中に設置されるように構成された内側ポッド３２とを含む。内側ポッド３２は、レチクルを受け入れるように構成される。内側ポッド３２は、内側基体３２２と内側カバー３２１とを備える。内側基体３２２は、周縁領域３２２ｂによって囲まれたレチクル格納領域３２２ａを画定する。内側カバー３２１は、内側基体３２２の周縁領域３２２ｂとの係合を確立して、レチクルＲ₃を格納するために閉じられると協同して内部体積を画定するように構成される。

【0027】

外側ポッド３１は、内側ポッド３２を収容するように構成される。例示の実施形態において、外側ポッド３１は、内側基体３２２を受け入れるように構成された外側基体３１２と、外側基体３１２と係合し内側ポッド３２を覆うように構成された外側カバー３１１とを含む。

【0028】

いくつかの実施形態において、内側カバー３２１は、内側基体３２２の周縁領域３２２ｂとの封止係合を確立するように構成されることがある。たとえば、内側カバー３２１は、外側基体３１２と外側カバー３１１との間が係合されると外側カバー３１１によって押圧されように構成されることがある。

【0029】

いくつかの実施形態において、内側カバー３２１および内側基体３２２は、電磁干渉（ＥＭＩ）遮蔽性を提供され、それによってレチクルＲ₃への悪影響を軽減することがある。いくつかの実施形態において、内側カバー３２１および内側基体３２２の適当な材料および構造は、これまでの実施形態において記載されたものと同等のことがある。例示される実施形態において、内側カバー３２１と内側基体３２２との両方は、たとえばコンピュータ数値制御（ＣＮＣ）機械加工技法を用いてアルミニウムで作られる。

【0030】

本図に示されるように、レチクルＲ₃の観測を可能にするために、内側基体３２２のレチクル格納領域３２２ａに第一の観測可能区域Ｚ₃₁が画定される。例示の実施形態において、内側基体３２２は、第一の観測可能区域Ｚ₃₁に埋め込まれた二つの内側光学部材３２２１、３２２２を備える。

【0031】

例示の実施形態において、内側基体３２２は、その底側において第三の識別構成要素Ｉ₃を含む。いくつかの実施形態において、第三の識別構成要素Ｉ₃は、急速応答コード（ＱＲ（Ｑｕｉｃｋ Ｒｅｓｐｏｎｓｅ）コード）などの二次元バーコードを備えることがある。いくつかの実施形態において、第三の識別構成要素Ｉ₃は、外側ポッド３１に対する内側ポッド３２の配向を示すための視覚グラフィック構成要素のことがある。たとえば、第三の識別構成要素Ｉ₃は、非対称パターンを備えることある。

【0032】

外側基体３１２は、内側ポッド３１を受け入れると内側ポッド３１の第一の観測可能区域Ｚ₃₁と観測可能に位置合わせされる、その上に画定された第二の観測可能区域Ｚ₃₂を有する。したがって、レチクル保持システム３００に保持されているレチクルＲ₃の情報（レチクルＲ₃の条件または状態およびその第一の識別Ｉ₁など）に関する確認は、単に第二の観測可能区域Ｚ₃₂および第一の観測可能区域Ｚ₃₁を通して走査することによって実現され、それによって外側ポッド３２を開けなければならない回数を減らすことがある。内側ポッド３２の配向を識別するために、外側光学部材３１２１を通して内側ポッド３２の第三の識別構成要素Ｉ₃を走査するためにスキャナＳ（図４に示される）が提供されることがある。配向を微調整するためにその後の調整が行われることある。

【0033】

例示の実施形態において、外側基体３１２は、第二の観測可能区域Ｚ₃₂に埋め込まれた外側光学部材３１２１を有する。いくつかの実施形態において、外側光学部材３１２１は、赤外光、可視光または紫外線に対して光学的に透過性の材料で作られることがある。いくつかの実施形態において、外側光学部材３１２１の透過率値は、８０％より大きい。外側光学部材１２１の適当な材料は、これまでの実施形態において記載された外側光学部材のものと同等のことがある。

【0034】

いくつかの実施形態において、内側光学部材３２２１は、６００ｎｍから９５０ｎｍの間の範囲の波長に対して外側光学部材３１２１より低い反射率値を有する。いくつかの実施形態において、この光学部材のための対応する波長範囲は、約６３０ｎｍから９３０ｎｍの範囲のことがある。いくつかの実施形態において、対応する波長範囲に対する外側光学部材３１２１の反射率値は、約１５％より小さいことがある。いくつかの実施形態において、対応する波長範囲に対する内側光学部材３２２１の反射率値は、約０．５％より小さいことがある。いくつかの実施形態において、内側光学部材３２２１は、反射防止コーティングをさらに提供されることがある。反射防止コーティングは、内側光学部材３２２１の低い反射率値に起因すると考えられることがある。

【0035】

いくつかの実施形態において、二つの内側光学部材３２２１、３２２２は、第一の観測可能区域Ｚ₃₁に封止して配置されることがある。いくつかの実施形態において、二つの内側光学部材３２２１、３２２２は、赤外光、可視光または紫外線に対して光学的に透過性の材料で作られることがある。いくつかの実施形態において、二つの内側光学部材３２２１、３２２２の適当な材料は、これまでの実施形態において記載されたものと同等のことがある。いくつかの実施形態において、外側光学部材３１２１は、第二の観測可能区域Ｚ₃₂に封止して配置されることがある。

【0036】

図４および５は、本開示のいくつかの実施形態によるレチクル保持システムの断面図および部分断面図をそれぞれ例示する。例示の簡単さと分かりやすさとを目的として、例となる装置のいくつかの詳細／副次的構成部品は、本図において明示的に標示されない。いくつかの実施形態において、図５は、図４に示された点線のボックスＤ中で描かれた部分断面図のことがある。

【0037】

図４は、内側基体４２２上でレチクル格納領域４２２ａに受け入れられたレチクルＲ₄を示す。内側基体４２２の周縁領域４２２ｂが内側カバー４２１と押圧係合していることが示される。

【0038】

例示の実施形態において、レチクルＲ₄は、第一の識別構成要素Ｉ₁（たとえば二次元バーコード）、第一の識別構成要素Ｉ₁に近接して配置されたペリクル（ｐｅｌｌｉｃｌｅ）Ｐとそれらの間に配置されたペリクルフレームＰＦとを備える。ペリクルフレームＰＦ上に第二の識別構成要素Ｉ₂（図５に示される）が配置される。外側光学部材４１２１を通して第一の識別構成要素Ｉ₁を読み取るためにスキャナＳが提供されることがある。外側光学部材４１２１および内側光学部材４２２１を通してペリクルＰおよびペリクルフレームＰＦの一部が観測／検査（たとえば干渉計によって）されることがある。

【0039】

図５を参照すると、例示の実施形態において、第一の観測可能区域Ｚ₅₁の配置は、レチクルＲ₅を受け入れるとレチクルＲ₅の第一の識別構成要素Ｉ₁、ペリクルフレームＰＦの第二の識別構成要素Ｉ₂、ペリクルＰの一部、およびペリクルフレームＰＦの一部の観測が可能になるように対応して設計される。

【0040】

内側基体５２２のレチクル格納領域５２２ａは、その断面において、周縁領域５２２ｂの厚さＴ_522bより小さな厚さＴ_522aを有する段差形５２２ｓを備える。例示の実施形態において、レチクルＲ₅の周縁部は、段差形５２２ｓの上に支持され、一方ペリクルＰおよびペリクルフレームＰＦは、段差形５２２ｓによって投影的に囲まれて配置される。いくつかの実施形態において、段差形５２２ｓは、外側光学部材５１２１と投影的に重なることがある。

【0041】

いくつかの実施形態において、レチクルＲ₅の状態（たとえばレチクルＲ₅の存在、そのシリアル番号、その配向）は、レチクル保持システムを開ける必要なく、外側光学部材５１２１と内側光学部材（たとえば本断面図から見ることができる部材５２２１）とを通してスキャナＳで確認されることがある。また、内側ポッドの続き番号および状態を特定するために５２２の第三の識別構成要素Ｉ₃が走査されることがある。

【0042】

図６は、本開示のいくつかの実施形態によるレチクル保持システムの平面図を例示する。例示の簡単さと分かりやすさとを目的として、例となる装置のいくつかの詳細／副次的な構成部品は、本図において明示的に標示／図示されない。たとえば、図６において内側カバーおよび外側カバーは示されない。

【0043】

例示の実施形態において、二つの内側光学部材６２２１、６２２２の一方が他方より大きな平面面積を提供される。たとえば、例示の平面図から、内側光学部材６２２１は、内側光学部材６２２２より大きな面積を有する。

【0044】

例示の実施形態において、内側光学部材６２２１は、ペリクルＰと、ペリクルフレームＰＦの第二の識別構成要素Ｉ₂と、ペリクルフレームＰＦの一部とへの同時光学アクセスを可能にするために、より大きな平面面積で設計される。他方、第一の識別構成要素Ｉ₁の観測を可能にするために、内側光学部材６２２２は、より小さな平面面積を提供される。一方、外側光学部材６１２１は、二つの内側光学部材６２２１、６２２２と観測可能に位置合わせされ、それによってペリクルＰと、ペリクルフレームＰＦの第二の識別構成要素Ｉ₂とペリクルフレームＰＦの一部との、ならびにそれらを通して第一の識別構成要素Ｉ₁の観測を可能にする。

【0045】

例示の実施形態において、外側光学部材６１２１は、第三の識別構成要素Ｉ₃の観測を可能にするように構成される。したがって、レチクルＲ６、ペリクルＰ、ペリクルフレームＰＦおよび識別構成要素Ｉ₁、Ｉ₂、Ｉ₃の状態などの情報に関する確認は、外側光学部材６１２１を通して観測することによって実現され、それによって外側ポッドを開けなければならない回数を減らすことがある。

【0046】

いくつかの実施形態において、外側光学部材は、これらの内側光学部材の対と投影的に重なることがある。例示の実施形態において、二つの内側光学部材６２２１、６２２２は、全体が外側光学部材６１２１と重なる（たとえば投影的に覆われる）ように構成される。そのような実施形態において、外側光学部材の平面面積は、二つの内側光学部材のもの以上である。たとえば、例示の平面図において、外側光学部材６１２１の平面面積は、二つの内側光学部材６２２１、６２２２のものより大きい。いくつかの実施形態において、二つの内側光学部材のいくつかの部分が外側光学部材と重ならないことがある。そのような実施形態において、外側光学部材の平面面積は、二つの内側光学部材のものより小さいことがある。

【0047】

例示の実施形態において、内側光学部材６２２１、６２２２は、第三の識別構成要素Ｉ₃の近くに配置される。そのような配置は、重なる外側光学部材６１２１の平面面積を減らし、従って、外側基体６１２の構造強度を強化する。いくつかの実施形態において、内側光学部材と第三の識別構成要素とは、互いから離れて配置されることがある。そのような実施形態において、外側基体６１２は、位置が第三の識別構成要素Ｉ₃および内側光学部材６２２１、６２２２に対応する追加の外側光学部材（図示せず）を有することがある。

【0048】

いくつかの実施形態において、外側基体の底全体が第二の観測区域として作用するように設計されることがある。たとえば、外側基体の底全体を外側光学部材が占めることがある。

【0049】

例示の平面図において、外側光学部材６１２１は、実質的に長方形の平面形を有する。第三の識別構成要素Ｉ₃は、外側光学部材６１２１の長方形の長さ方向Ｄ_Lに沿って二つの内側光学部材６２２１、６２２２の間に配置される。いくつかの実施形態において、内側光学部材６２２１、６２２２および外側光学部材６１２１の平面形は、一つ以上の丸くなった部分を備えることがある。

【0050】

光学部材（たとえば光学部材６１２１）の配置位置、材料および平面形は、さまざまな因子、たとえば装置構成部品の重量分布、構造一体性および全重量限界を考慮することがある。本実施形態に示されるように、外側光学部材６１２１は、外側基体６２２の幾何学的中心の方に配置される。たとえば、外側光学部材６１２１の幾何学的中心は、一般に、ｘ方向とｙ方向との両方で外側基体６２２の中心からその外縁までの半分の距離の範囲内に配置される。そのようなレイアウト配置は、その構造一体性を維持しながら外側基体６２２のより良い全体的なバランスを保持する助けとなることがある。さらに、そのような配置位置は、基部材料（たとえば外側基体６２２）の周縁領域を他の機能構成部品、たとえば封止機構およびラッチ機構のために取っておく助けとなることがある。

【0051】

例示の実施形態において、外側光学部材６１２１の幾何学的中心６１２１ｃから外側基体６１２の対称軸Ａ₁までの距離Ｄは、外側基体６１２の長方形の長さＬの３０％より短い。いくつかの実施形態において、距離Ｄは、外側基体６１２の長方形の幅Ｗの３０％より短いことがある。いくつかの実施形態において、距離Ｄは７６ｍｍ前後のことがあり、長さＬは２７０ｍｍ前後のことがあり、幅Ｗは２６０ｍｍ前後のことがある。

【0052】

いくつかの実施形態において、幾何学的中心６１２１ｃから外側基体６１２の対称軸Ａ₂までの距離は、外側基体６１２の長方形の長さＬおよび／または幅Ｗの３０％より短い。

【0053】

さらに、光学部材（たとえば光学部材６１２１）の配置位置は、基部材料（たとえば外側基体６２２）の中心領域を他の機能構成部品、たとえば支持機構のために取っておく助けとなることがある。本実施形態に示されるように、外側光学部材６１２１は、突き出て外側基体６２２の幾何学的中心をずらす。

【0054】

例示の実施形態において、外側光学部材６１２１の幾何学的中心６１２１ｃから外側基体６１２の対称軸Ａ₁までの距離Ｄは、外側基体６１２の長方形の長さＬおよび／または幅Ｗの１０％より長い。いくつかの実施形態において、幾何学的中心６１２１ｃから対称軸Ａ₂までの距離は、長さＬおよび／または幅Ｗの１０％より長い。いくつかの実施形態において、幾何学的中心６１２１ｃは、外側基体６１２の中心領域に配置されることがある。

【0055】

例示の実施形態において、内側基体６２２は、第一の観測可能区域Ｚ₃₁の外部に配置された追加の内側光学部材（例えば光学ポート６２ａ）をさらに含む。同様に、外側基体に、内側ポッドの追加の光学ポート６２ａに対応して配置された追加の外側光学部材がさらに提供されることがある。たとえば、追加の内側光学部材６２ａと観測可能に位置合わせされ、追加の外側光学部材が対応して構成されることがある。いくつかの実施形態において、外側光学部材（たとえば光学ポート６１２１）の数は、内側光学部材（たとえばポート６１２１、６１２２、６２ａ）の数より少ない。

【0056】

よって、本開示の一側面は、内側ポッドと外側ポッドとを含むレチクル保持装置を提供する。内側ポッドは、第一の識別構成要素を備えるレチクルを受け入れるように構成される。内側ポッドは、一般にその幾何学的中心にあって周縁領域によって囲まれたレチクル格納領域を有する内側基体と、内側基体の周縁領域との係合を確立し、それによってレチクルを格納するための内部を画定するように構成された内側カバーとを含む。内側基体は、第一の識別構成要素の観測を可能にするために対応して配置されたレチクル格納領域に画定された第一の観測可能区域を有する。外側ポッドは、内側基体を受け入れるように構成される。外側ポッドは、内側ポッドを受け入れると内側ポッドの第一の観測可能区域と観測可能に位置合わせされる、その上に画定された第二の観測可能区域を有する外側基体と、外側基体と係合し内側ポッドを覆うように構成された外側カバーとを含む。

【0057】

本開示のいくつかの実施形態において、内側ポッドは、第一の識別構成要素に近接して配置されたペリクルを有するレチクルを受け入れるようにさらに構成される。内側基体の第一の観測可能区域は、第一の識別構成要素とペリクルの一部との観測を可能にするように対応して配置される。

【0058】

本開示のいくつかの実施形態において、内側基体は、第一の識別構成要素とペリクルの一部との観測をそれぞれ可能にするように第一の観測可能区域に封止して埋め込まれた二つの内側光学部材を含む。外側基体は、第二の観測区域に埋め込まれ、二つの内側光学部材と観測可能に位置合わせされた外側光学部材を含む。

【0059】

本開示のいくつかの実施形態において、二つの内側光学部材の一方が他方より大きな平面面積を提供される。

【0060】

本開示のいくつかの実施形態において、内側ポッドは、第一の識別構成要素に近接したペリクルとそれらの間に配置されたペリクルフレームとを有するレチクルを受け入れるようにさらに構成される。より大きな平面面積を有する内側光学部材がペリクルフレームの一部の観測を可能にするように構成される。

【0061】

本開示のいくつかの実施形態において、ペリクルフレームの上に第二の識別構成要素（Ｉ₂）が設置される。より大きな平面面積を有する内側光学部材が第二の識別構成要素の観測を可能にするように構成される。

【0062】

本開示のいくつかの実施形態において、内側基体は、第三の識別構成要素を含む。外側光学部材は、第三の識別構成要素の観測を可能にするように構成される。

【0063】

本開示のいくつかの実施形態において、外側光学部材は、長方形の平面を有する。第三の識別構成要素は、外側光学部材の長方形の長さ方向に沿って、二つの内側光学部材の間に配置される。

【0064】

本開示のいくつかの実施形態において、外側光学部材は、突き出て二つの内側光学部材と重なる。

【0065】

本開示のいくつかの実施形態において、外側光学部材の平面面積は、二つの内側光学部材のものより大きい。

【0066】

本開示のいくつかの実施形態において、内側基体は、第一の観測可能区域の外部に配置された追加の内側光学部材をさらに含む。外側基体は、第二の観測可能区域の外部に配置された追加の外側光学部材をさらに含む。外側光学部材は、内側光学部材より少ない。

【0067】

本開示のいくつかの実施形態において、内側基体のレチクル格納領域は、その断面において周縁領域のものより小さな厚さを有するステップを備える。

【0068】

本開示のいくつかの実施形態において、内側基体は、電磁干渉（ＥＭＩ）遮蔽性を含む。

【0069】

本開示のいくつかの実施形態において、外側基体は、実質的に平面の長方形を有する。外側光学部材は、実質的に平面の長方形を有する。外側光学部材の幾何学的中心から外側基体の対称軸までの距離は、外側基体の長方形の長さの３０％より短い。

【0070】

本開示のいくつかの実施形態において、内側光学部材は、６００ｎｍから９５０ｎｍの間の範囲の波長に対して外側光学部材より低い反射率値を有する。

【0071】

本開示のいくつかの実施形態において、外側光学部材の反射率値は、１５％より小さい。内側光学部材の反射率値は、０．５％より小さい。

【0072】

本開示のいくつかの実施形態において、外側光学部材の透過率値は、８０％より大きい。

【0073】

よって、本開示の別の側面は、内側ポッドと外側ポッドとを含むレチクル保持装置を提供する。内側ポッドは、ペリクルに近接して配置された第一の識別構成要素を備えるレチクルを受け入れるように構成される。内側ポッドは、一般にその幾何学的中心にあり周縁領域（３２２ｂ）によって囲まれたレチクル格納領域を画定する内側基体と、内側基体の周縁領域との封止係合を確立し、それによってレチクルを格納するための内部を画定するように構成された内側カバーとを含む。内側基体は、第一の識別構成要素とレチクルのペリクルの一部との同時観測を可能にするようにレチクル格納領域に封止して配置された二つの内側光学部材を備える。外側ポッドは、内側基体を受け入れるように構成される。外側ポッドは、内側ポッドを受け入れると内側ポッドの二つの内側光学部材と観測可能に位置合わせされる外側光学部材を備える外側基体と、内側ポッドと係合し覆うように構成される外側カバーとを含む。

【0074】

本開示のいくつかの実施形態において、内側ポッドは、ペリクルに近接して配置された第一の識別構成要素とそれらの間に配置されたペリクルフレームとを備えるレチクルを受け入れるようにさらに構成される。内側光学部材の一方が他方より大きな平面面積を提供され、ペリクルの一部とペリクルフレームの一部との観測を可能にするように配置される。

【0075】

本開示のいくつかの実施形態において、ペリクルフレームの上に第二の識別構成要素が配置される。より大きな平面面積を有する内側光学部材が第二の識別構成要素の観測を可能にするように配置される。

【0076】

本開示のいくつかの実施形態において、内側基体は、第三の識別構成要素をさらに含む。外側光学部材は、平面の長方形を有し、第三の識別構成要素の観測を可能にするように配置される。第三の識別構成要素は、外側光学部材の長方形の長さ方向に沿って二つの内側光学部材の間に配置される。

【0077】

上記に示され記載された実施形態は、例に過ぎない。放射線測定パネルおよび装置の他の構成要素などの分野において、多くの場合に多くの詳細が見いだされる。したがって、多くのそのような詳細が示されず、記載もされない。ここまでの明細書中に本技術の多数の特性および利点が構造および機能の詳細と共に規定されてきたが、本開示は例示にすぎず、請求項中で用いられる用語の広義の一般的な意味によって確立される限度一杯まで、および限度一杯を含めて、原理の範囲内で、特に部品の形状、サイズおよび配置の問題において細部で変更が行われることがある。したがって、上述の実施形態は、請求項の範囲内で改変することができると理解される。

【0078】

以下の本発明の実施態様を記載する。
（実施態様１）第一の識別構成要素を備えるレチクルを受け入れるように構成された内側ポッドであって、
一般にその幾何学的中心にあり、周縁領域に囲まれたレチクル格納領域を有する内側基体であって、前記第一の識別構成要素の観測を可能にするように対応して配置された、前記レチクル格納領域に画定された第一の観測可能区域を有する内側基体と、
前記内側基体の前記周縁領域との係合を確立し、それによって前記レチクルを格納するための内部を画定するように構成された内側カバーと
を含む内側ポッドと、
前記内側基体を受け入れるように構成された外側ポッドであって、
前記内側ポッドを受け入れると、前記内側ポッドの前記第一の観測可能区域と観測可能に位置合わせされる、その上に画定された第二の観測可能区域を有する外側基体と、
前記外側基体と係合し前記内側ポッドを覆うように構成された外側カバーと
を含む外側ポッドとを含むレチクル保持システム。
（実施態様２）前記内側ポッドは、前記第一の識別構成要素に近接して配置されたペリクルを有するレチクルを受け入れるようにさらに構成され、
前記内側基体の第一の観測可能区域は、前記第一の識別構成要素と前記ペリクルの一部との観測を可能にするように対応して配置された、実施態様１に記載のレチクル保持システム。
（実施態様３）前記内側基体は、前記第一の識別構成要素と前記ペリクルの前記一部との観測をそれぞれ可能にするように前記第一の観測可能区域に封止して埋め込まれた二つの内側光学部材を含み、
前記外側基体は、前記第二の観測区域に埋め込まれ前記二つの内側光学部材と観測可能に位置合わせされた外側光学部材を含む、実施態様２に記載のレチクル保持システム。
（実施態様４）前記内側ポッドは、前記第一の識別構成要素に近接するペリクルとそれらの間に配置されたペリクルフレームとを有するレチクルを受け入れるようにさらに構成され、
前記二つの内側光学部材の一方は、他方より大きな平面面積を提供され、前記ペリクルフレームの一部の観測を可能にするように構成され、
前記内側基体の前記レチクル格納領域は、その断面において前記周縁領域の厚さより小さな厚さを有する段差形を備える、実施態様３に記載のレチクル保持システム。
（実施態様５）前記ペリクルフレーム上に第二の識別構成要素が設置され、
より大きな平面面積を有する前記内側光学部材が前記第二の識別構成要素の観測を可能にするように配置される、実施態様４に記載のレチクル保持システム。
（実施態様６）前記内側基体は、第三の識別構成要素を含み、前記外側光学部材は、前記第三の識別構成要素の観測を可能にするように配置され、
前記外側光学部材は、長方形の平面形を有し、
前記第三の識別構成要素は、前記外側光学部材の長方形の長さ方向に沿って前記二つの内側光学部材の間に配置される、実施態様５に記載のレチクル保持システム。
（実施態様７）前記外側光学部材は、投影的に前記二つの内側光学部材と重なる、実施態様６に記載のレチクル保持システム。
（実施態様８）前記外側光学部材の平面面積は、前記二つの内側光学部材の平面面積より大きい、実施態様７に記載のレチクル保持システム。
（実施態様９）前記内側基体は、前記第一の観測可能区域の外部に配置された追加の内側光学部材をさらに含み、
前記外側基体は、前記第二の観測可能区域の外部に配置された追加の外側光学部材をさらに含み、
前記外側光学部材は、前記内側光学部材より少ない、実施態様３に記載のレチクル保持システム。
（実施態様１０）前記外側基体は、実質的に平面の長方形を有し、
前記外側光学部材は、実質的に平面の長方形を有し、
前記外側光学部材の幾何学的中心から前記外側基体の対称軸までの距離は、前記外側基体の前記長方形の長さの３０％より短い、実施態様１に記載のレチクル保持システム。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】