知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-02-09
(45)【発行日】2024-02-20
(54)【発明の名称】ニトリルゴムの水素化
(51)【国際特許分類】
C08F 8/04 20060101AFI20240213BHJP
C08C 19/02 20060101ALI20240213BHJP
【ＦＩ】
C08F8/04
C08C19/02
【請求項の数】
16
(21)【出願番号】P 2021504294
(86)(22)【出願日】2019-07-09
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2021-11-25
(86)【国際出願番号】 EP2019068382
(87)【国際公開番号】W WO2020020630
(87)【国際公開日】2020-01-30
【審査請求日】2022-07-08
(31)【優先権主張番号】PCT/CN2018/096628
(32)【優先日】2018-07-23
(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN
(73)【特許権者】
【識別番号】516112462
【氏名又は名称】アランセオ・ドイチュランド・ゲーエムベーハー
(74)【代理人】
【識別番号】100108453
【弁理士】
【氏名又は名称】村山 靖彦
(74)【代理人】
【識別番号】100110364
【弁理士】
【氏名又は名称】実広 信哉
(74)【代理人】
【識別番号】100133400
【弁理士】
【氏名又は名称】阿部 達彦
(72)【発明者】
【氏名】キンチュン・リウ
(72)【発明者】
【氏名】ジェンリ・ウェイ
(72)【発明者】
【氏名】カローラ・シュナイダース
【審査官】渡辺 陽子
(56)【参考文献】
【文献】特表２０１５－５１５５３２（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１５／０１１９５３０（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開平０４－３２３２０１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平０４－３２３２０５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平０１－１１３４０７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２０１８－５１６８６３（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０８Ｆ８，Ｃ０８Ｃ１９
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
部分的又は完全に水素化されたニトリルゴムを調製するための方法であって、溶液中のニトリルゴムを、成分：
（Ａ）一般式（Ｉ）：
Ｒｕ（ＣＯ）（Ｈ）（Ｘ１）（Ｌ１）（Ｌ２） （Ｉ）
（式中、
Ｘ１は、アニオン性配位子であり、
Ｌ１及びＬ２は、同一の又は異なる配位子であり、ここで、Ｌ１及びＬ２の少なくとも１つは、Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子を表す）
を有するＲｕ－ＮＨＣ触媒；及び
（Ｂ）ＣａＣｌ２、クエン酸、テトラフルオロホウ酸ジエチルエーテル（ＨＢＦ４＊ＯＥｔ２）、アスコルビン酸、及びトリクロロ（フェニル）シラン、又はそれらの混合物からなる群から選択される水素化エンハンサー
を含む少なくとも１つの触媒系の存在下で水素化にかけることを特徴とする方法。
【請求項2】
前記水素化エンハンサー（Ｂ）の量が、使用する前記ニトリルゴムを基準として０．０１～１．０ｐｈｒである、請求項１に記載の方法。
【請求項3】
Ｒｕ－ＮＨＣ触媒の量が、使用する前記ニトリルゴムを基準として０．０１ｐｈｒ～１．００ｐｈｒのＲｕ触媒の範囲である、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項4】
前記一般式（Ｉ）を有する触媒を、（ｉ）Ｌ１が、ホスフィン、スルホン化ホスフィン、ホスフェート、ホスフィナイト、ホスホナイト、アルシン、スチビン、エーテル、アミン、アミド、スルホネート、スルホキシド、カルボキシル、ニトロシル、ピリジン、チオエーテル、ニトリル及びイソシアニドからなる群から選択される配位子を表し、
Ｌ２がＮ－ヘテロ環状カルベン配位子を表す、触媒を使用するか、又は
（ｉｉ）両方の配位子Ｌ１及びＬ２が同一の又は異なるＮ－ヘテロ環状カルベン配位子を表す、触媒を使用するか
のいずれかにおいて使用する、請求項１～３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項5】
Ｌ１が、一般式（ＩＩｆ）：【化1】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、同一であるか又は異なり、且つＣ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ ３～Ｃ８－シクロアルキル、Ｃ １～Ｃ２０アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ６～Ｃ２０アリール、Ｃ ６～Ｃ２０アリールオキシ、その環内に少なくとも１つのヘテロ原子を有するＣ２～Ｃ２０ヘテロアリール、その環内に少なくとも１つのヘテロ原子を有するＣ２～Ｃ２０ヘテロシクリル基又はハロゲンを表す）
を有するホスフィンを表す、請求項１～４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項6】
Ｌ１が、ＰＰｈ３、Ｐ（ｐ－Ｔｏｌ）３、Ｐ（ｏ－Ｔｏｌ）３、ＰＰｈ（ＣＨ３）２、Ｐ（ＣＦ３）３、Ｐ（ｐ－ＦＣ６Ｈ４）３、Ｐ（ｐ－ＣＦ３Ｃ６Ｈ４）３、Ｐ（Ｃ６Ｈ４－ＳＯ３Ｎａ）３、Ｐ（ＣＨ２Ｃ６Ｈ４－ＳＯ３Ｎａ）３、Ｐ（イソプロピル）３、Ｐ（ＣＨＣＨ３（ＣＨ２ＣＨ３））３、Ｐ（シクロペンチル）３、Ｐ（シクロヘキシル）３、Ｐ（ネオペンチル）３又はＰ（ネオフェニル）３からなる群から選択され、ここで、Ｐｈはフェニルを意味し、Ｔｏｌはトリルを意味する、請求項１～５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項7】
前記Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子が、ヘテロ原子としての少なくとも１つの窒素が環中に存在する環状カルベン型配位子であり、前記Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子は、非置換であっても、１つ若しくは複数の置換基で置換されていてもよい、請求項１～６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項8】
前記Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子が、一般式（ＩＩａ）～（ＩＩｅ）：【化2】
Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、同一であるか又は異なり、且つ水素、直鎖状若しくは分岐状のＣ１～Ｃ３０－アルキル、Ｃ３～Ｃ２０－シクロアルキル、Ｃ２～Ｃ２０－アルケニル、Ｃ２～Ｃ２０－アルキニル、Ｃ６～Ｃ２４－アリール、Ｃ７～Ｃ２５－アルカリール、Ｃ２～Ｃ２０ヘテロアリール、Ｃ２～Ｃ２０ヘテロシクリル、Ｃ１～Ｃ２０－アルコキシ、Ｃ２～Ｃ２０－アルケニルオキシ、Ｃ２～Ｃ２０－アルキニルオキシ、Ｃ６～Ｃ２０－アリールオキシ、Ｃ２～Ｃ２０－アルコキシカルボニル、Ｃ１～Ｃ２０－アルキルチオ、Ｃ６～Ｃ２０－アリールチオ、－Ｓｉ（Ｒ）３、－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ）３、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ、Ｃ（＝Ｏ）Ｒ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ）２、－ＮＲ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（Ｒ）２、－ＳＯ２Ｎ（Ｒ）２、－Ｓ（＝Ｏ）Ｒ、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｒ、－Ｏ－Ｓ（＝Ｏ）２Ｒ、ハロゲン、ニトロ又はシアノを表し；ここで、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１の意味に関連する前述の場合すべてにおいて、基Ｒは、同一であるか又は異なり、且つ水素、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又はヘテロアリールを表し、
Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１の１つ又は複数は、互いに独立して、直鎖状又は分岐状のＣ１～Ｃ１０－アルキル、Ｃ３～Ｃ８－シクロアルキル、Ｃ１～Ｃ１０－アルコキシ又はＣ６～Ｃ２４－アリール、Ｃ２～Ｃ２０ヘテロアリール、Ｃ２～Ｃ２０ヘテロ環から選択される１つ又は複数の置換基、並びに、ヒドロキシ、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート及びハロゲンからなる群から選択される官能基によって置換され得、ここで、前述の置換基は、化学的に可能な程度まで、塩素、臭素、Ｃ１～Ｃ５－アルキル、Ｃ１～Ｃ５－アルコキシ及びフェニルからなる群から選択される、１つ又は複数の置換基によってさらに置換され得る）
に対応する構造を有する、請求項７に記載の方法。
【請求項9】
前記Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子が、一般式（ＩＩａ）～（ＩＩｅ）において、式中、
Ｒ８及びＲ９は、同一であるか又は異なり、且つ水素、フェニル、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル及びｉ－ブチルを表すか、又はそれらが結合している炭素原子と一緒にシクロアルキル若しくはアリール構造を形成し、かつ、
Ｒ１０及びＲ１１は、同一であるか又は異なり、且つ直鎖状若しくは分岐状のＣ１～Ｃ１０－アルキル、Ｃ ３～Ｃ１０－シクロアルキル、フェニル、２，６－ジイソプロピルフェニル、２，６－ジメチルフェニル、２，４，６－トリメチルフェニル、Ｃ１～Ｃ１０－アルキルスルホネート又はＣ６～Ｃ１０－アリールスルホネートを表す
場合に対応する構造を有する、請求項８に記載の方法。
【請求項10】
前記Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子が、式（ＩＩＩａ）～（ＩＩＩｕ）：【化3】
に対応する構造を有する、請求項８に記載の方法。
【請求項11】
Ｘ１が、水素、フッ素、塩素、臭素若しくはヨウ素、直鎖状若しくは分岐状Ｃ
１～Ｃ５－アルキル、Ｃ
６～Ｃ１４－アリール、Ｃ
１～Ｃ５－アルコキシ、フェノキシ、Ｃ３～Ｃ２０－アルキルジケトネート、Ｃ６～Ｃ２４－アリールジケトネート、Ｃ
１～Ｃ６－カルボキシレート、Ｃ
１～Ｃ５－アルキルスルホネート、Ｃ
６～Ｃ１４－アリールスルホネート、Ｃ
１～Ｃ５－アルキルチオール、Ｃ
６～Ｃ１４－アリールチオール、Ｃ１～Ｃ２０－アルキルスルホニル又はＣ１～Ｃ２０－アルキルスルフィニルを表し、前述の基はすべて、非置換であっても、又はハロゲン、Ｃ
１～Ｃ１０－アルキル、Ｃ１～Ｃ１０－アルコキシ若しくはＣ６～Ｃ２４－アリールから選択される１つ若しくは複数のさらなる置換基によって置換されていてもよく、ここで、前記置換基は、ハロゲン、Ｃ
１～Ｃ５－アルキル、Ｃ１～Ｃ５－アルコキシ及びフェニルからなる群から選択される１つ又は複数の置換基によってさらに置換されていてよい、請求項１～１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項12】
式（Ｉ－ａ）～（Ｉ－ｄ）：【化4】
【化5】
Ｒ８及びＲ９は、同一であるか又は異なり、水素、Ｃ６～Ｃ２４－アリール、直鎖状若しくは分岐状のＣ１～Ｃ１０－アルキルを表すか、又はそれらが結合している炭素原子と一緒にシクロアルキル若しくはアリール構造を形成し、かつ
Ｒ１０及びＲ１１は、同一であるか又は異なり、直鎖状若しくは分岐状のＣ１～Ｃ１０－アルキル、Ｃ ３～Ｃ１０－シクロアルキル、フェニル、２，６－ジイソプロピルフェニル、２，６－ジメチルフェニル若しくは２，４，６－トリメチルフェニル、Ｃ１～Ｃ１０－アルキルスルホネート又はＣ６～Ｃ１０－アリールスルホネートを表す）
の配位子を表すか、又は
Ｌ２は、一般式（ＩＩＩａ）～（ＩＩＩｕ）：
【化6】
の配位子を表す〕
の触媒を使用する、請求項１～１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項13】
式（Ｉ－ａ（１））～（Ｉ－ｄ（１））：【化7】
【請求項14】
前記水素化を、６０℃～２００℃の範囲の温度で、且つ、０．５ＭＰａ～３５ＭＰａの範囲の水素圧力で実施する、請求項１～１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項15】
水素化にかける前記ニトリルゴムが、（ｉ）アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリル及びそれらの混合物からなる群から選択される、少なくとも１つのα，β－不飽和ニトリル、
（ｉｉ）１，３－ブタジエン、イソプレン、２，３－ジメチルブタジエン、ピペリレン及びそれらの混合物からなる群から選択される、少なくとも１つの共役ジエン、及び
（ｉｉｉ）任意選択的に、α，β－モノ不飽和のモノカルボン酸、それらのエステル及びアミド、α，β－モノ不飽和のジカルボン酸、それらのモノ又はジエステル、及び前記α，β－モノ不飽和のジカルボン酸のそれぞれの無水物又はアミドからなる群から選択される、１つ又は複数のさらなる共重合性モノマー
の繰り返し単位を含むニトリルゴムである、請求項１～１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項16】
ニトリルゴムを部分的又は完全に水素化するための触媒としての、成分：（Ａ）一般式（Ｉ）：
Ｒｕ（ＣＯ）（Ｈ）（Ｘ１）（Ｌ１）（Ｌ２） （Ｉ）
（式中、
Ｘ１は、アニオン性配位子であり、
Ｌ１及びＬ２は、同一の又は異なる配位子であり、ここで、Ｌ１及びＬ２の少なくとも１つは、Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子を表す）
を有するＲｕ－ＮＨＣ触媒；及び
（Ｂ）ＣａＣｌ２、クエン酸、テトラフルオロホウ酸ジエチルエーテル（ＨＢＦ４＊ＯＥｔ２）、アスコルビン酸、及びトリクロロ（フェニル）シラン、又はそれらの混合物からなる群から選択される水素化エンハンサー
を含む触媒系の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、Ｒｕ－ＮＨＣ触媒と特定の水素化エンハンサーとを含む特定の触媒系の存在下でニトリルゴムを選択的且つ効率的に水素化するための、水を含まない方法に関する。
【背景技術】
【0002】
商業的な目的では、ＮＢＲの水素化は、多くの場合、ロジウム又はパラジウムをベースとする不均一系又は均一系のいずれかの遷移金属触媒を使用することにより、有機溶媒中で実施される。そのようなプロセスでは、例えば、触媒金属が高価であり、且つ触媒金属の除去／リサイクルに含まれるコストがかかるといった欠点がある。この理由から、より安価な貴金属、例えばルテニウムをベースとする代替触媒の研究開発が行われてきた。
【0003】
タイプＲｕ（Ｘ）Ｃｌ（ＣＯ）Ｌ２（Ｘは、Ｈ又はＣＨ＝ＣＨＰｈを意味する）のＲｕベースの錯体は、溶液でのポリマー水素化のための良好な触媒である。ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）Ｌ２（Ｌは、嵩高いホスフィンである）触媒系は、（非特許文献１）に開示されているようにＮＢＲの定量的水素化をもたらす。そのような水素化中、触媒活性を維持するために遊離ホスフィン配位子を添加することは、必要ではない。しかしながら、ＧＰＣ結果は、これらの触媒が水素化中にある程度の架橋を引き起こすことを示し、得られたＨＮＢＲは、ゲル形成の傾向がある。
【0004】
（特許文献１）において、ＮＨＣ配位子（Ｎ－ヘテロ環状カルベン）なしの６配位Ｒｕベースの錯体Ｒｕ（ＣＯ）ＨＣｌ（Ｚ）３（Ｚは、ホスフィン配位子、例えばＰＰｈ３である）がニトリルゴムの水素化のために使用されているが、様々な添加物又は配位子、例えばホスフィン又はカルボン酸、例えば安息香酸又は酢酸が、ゲル形成を回避するために添加されなければならない。
【0005】
（特許文献２）は、Ｒｕ触媒及び有機添加物を用いたニトリルゴムラテックスの接触水素化を開示している。モノ－及びジカルボン酸、例えばクエン酸及びアスコルビン酸が可能な添加物として列挙されている。触媒は、Ｒｕベースでもあるが、ＮＨＣ配位子なしである。しかしながら、ラテックス形態でのＮＢＲの水素化からの結果は、溶液条件に直接移行させるべきではない。
【0006】
同様に、（特許文献３）及び（特許文献４）は、微量の水と一緒に同じ目的のための無機添加物、例えば塩並びに硫酸及びリン酸のような酸を使用しており、それらは、厳しく腐食性であると考えなければならず、それは、水素化施設のすべてについて高価な高品位スチールの使用をさらに要求する。必要とされる触媒の量は、ゴムに対してＲｕ金属をベースとして（特許文献４）では９２３～１０１３ｐｐｍで変動し、（特許文献３）ではおよそ１００ｐｐｍのＲｕ金属である。
【0007】
ＨＮＢＲのいくつかの用途は、例えば、工業的用途向けでは添加物の存在に敏感でないことがあり得るが、一般に、よりきれいなポリマー又はより少ない汚染物質若しくは添加物を含有するポリマーを好む傾向がある政府衛生安全規制の対象となる用途も存在する。実用的理由から、すべての指定製品のために同じ触媒系をプラントにおいて稼働させることが非常に望ましく、且つ添加物なしのより簡単な触媒系が工業的用途向け及び規制用途向けの両方の製品を製造することを可能にし得る。
【0008】
さらに、貴金属、例えばパラジウム、ロジウム、イリジウム、白金及びルテニウムは、高価であるため、より高い触媒効率も望ましい。
【0009】
ニトリルゴムの水素化のために使用することができる様々なルテニウム触媒系が提案されている。
【0010】
（特許文献５）において、触媒ＲｕＣｌ２（ＰＰｈ３）２及びＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＰＣｙ３）２がＭＥＫ溶液でのニトリルゴム水素化のために使用されている。しかしながら、比較的高い量（約５ｐｈｒ）のアスコルビン酸が添加されない限り、得られる生成物は、ゲル化する。さらなる実施例では、様々な有機酸又は二塩基性酸の添加が記載されている。使用される触媒の量は、１００重量部のゴム当たり２２９～１０５４ｐｐｍのＲｕ金属であると報告されている。
【0011】
式ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＩＭｅｓ）（ＰＣｙ３）（式中、Ｃｙは、シクロヘキシルを意味する）のルテニウム錯体がＮｏｌａｎら（非特許文献２）によって初めて調製され、且つ１－ヘキセン水素化について試験されており、及びＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＩＭｅｓ）（ＰＣｙ３）触媒は、より簡単なＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＰＣｙ３）２よりも活性が低いことが見いだされた。しかしながら、この参考文献は、そのような錯体がポリマー、特にニトリルゴムを水素化するためにも使用され得るかどうか、及び触媒としてのＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＰＣｙ３）２の使用と比較して触媒としてのＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＩＭｅｓ）（ＰＣｙ３）の使用が、それによって得られる任意の水素化ニトリルゴムの物理的特性にいかなる影響を及ぼすか又は物理的特性にメリットがあるかどうかについていかなる開示、暗示又は教示も提供していない。
【0012】
Ｆｏｇｇら（非特許文献３）は、前駆体ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＰＰｈ３）３とそれぞれのＮＨＣ配位子との反応によってＮＨＣ＝ＩＭｅｓ又はＳＩＭｅｓの錯体ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＰＰｈ３）ＮＨＣを調製した。
【化1】
【0013】
シクロオクテンを用いた水素化トライアルは、ＮＨＣ＝ＩＭｅｓ（ＩＭｅｓは、Ｎ，Ｎ’－ビス（メシチル）イミダゾール－２－イリデンである）のこの触媒について良好な水素化効率を明らかにしたが、副反応として約２０％のＲＯＭＰポリマーも見いだされ、それは、この触媒又は誘導される活性化学種がメタセシス活性を有することを示す。これは、このプロセスがメタセシス工程によって進行するため、分子量低下がジエンポリマーの水素化に伴うであろうことをさらに暗示している。これは、より低い分子量のゴムを生成するという目的のために有益であるが、多くの最高級ゴム部品にとって必要である分子量低下なしの水素化ポリマーの制御された調製のために、それは、重大な欠点である。それに反して、ＲＯＭＰ重合は、水素化される基質としてのシクロドデセンで全く観察されなかった。基質に依存するこの異なる挙動は、当業者がそれらの触媒挙動に関していかなる結論を導き出すこと又はいかなる予測をすることも可能にしない。
【0014】
Ｆｏｇｇら（非特許文献４）は、式ＲｕＨＣｌ（Ｈ２）（ＰＣｙ３）（Ｌ）及びＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＰＣｙ３）（Ｌ）（式中、ＣｙがシクロヘキシルであるＬ＝Ｐ（Ｃｙ）３又はＩＭｅｓがＮ，Ｎ’－ビス（メシチル）イミダゾール－２－イリデンであるＬ＝ＩＭｅｓ）の触媒の水素化性能を、様々な基質、例えばスチレン及びアリルベンゼンについて且つノルボルネン及びその誘導体のＲＯＭＰによって得られたポリマーについて試験した。ＮＨＣ配位子あり及びなしのルテニウム錯体を比較すると、ＮＨＣ配位子ありのものについて明らかな利点を見いだすことができない。トライアルは、穏やかな条件下において、例えば比較的高い触媒ローディングと共に室温及び５５℃以下で行われた。
【0015】
ポリマー基質の水素化は、小分子の水素化と比較してはるかにより多い需要があり、高い／より高い触媒ローディングにもかかわらず、実質的に低下したターンオーバー頻度及び転化率をもたらし、反応時間の増加を必要とする。
【0016】
添加物ありのＲｕベースの触媒（ＮＨＣ配位子あり及びなし）の使用は、原則として、すなわち以下の文献から公知である：
（特許文献６）は、Ｒｕ触媒（ＮＨＣ配位子なし）並びに無機添加物、特に硫酸鉄、硫酸アンモニウム及び硫酸鉄アンモニウム、しかしまたＨＣｌのような鉱酸を用いたＮＢＲラテックス水素化の方法を開示している。触媒は、Ｒｕベースでもあるが、ＮＨＣ配位子なしである。しかし、ラテックス水素化での反応条件は、溶液でのそれと大きく異なるため、この出願は、ＮＢＲの溶液水素化への前記添加物の影響を教示しない。
（特許文献６）は、Ｒｕ触媒（ＮＨＣ配位子なし）並びに無機添加物、特に硫酸鉄、硫酸アンモニウム及び硫酸鉄アンモニウム、しかしまたＨＣｌのような鉱酸を用いたＮＢＲラテックス水素化の方法を開示している。触媒は、Ｒｕベースでもあるが、ＮＨＣ配位子なしである。しかし、ラテックス水素化での反応条件は、溶液でのそれと大きく異なるため、この出願は、ＮＢＲの溶液水素化への前記添加物の影響を教示しない。
【0017】
（特許文献７）は、Ｒｕ触媒及び有機添加物、特にクロロ酢酸、シュウ酸、アジピン酸及びクエン酸が好ましい、カルボン酸を用いた溶液水素化を開示している。触媒は、Ｒｕベースのホスフィン錯体でもあるが、ＮＨＣ配位子なしである。反応系への水の補足添加が明確に述べられている。この特許では、追加の水が水素化において必要とされる。前に述べたように、そのような異なる種類のＲｕ錯体への添加物の影響を予測することはできない。
【0018】
（非特許文献２）は、単一分子、例えばヘキセン、アリルベンゼン及びシクロオクテンのための、しかしポリマー、例えばニトリルゴムのためではない水素化触媒としての［Ｒｕ（ＣＯ）ＨＣｌ（ＩＭｅｓ）（ＰＣｙ３）］の使用を開示している。テトラフルオロホウ酸ジエチルエーテル（ＨＢＦ４
＊ＯＥｔ２）の添加により、活性触媒が形成される。しかしながら、この刊行物は、ポリマーに対するこの触媒系の活性を示していない。
【0019】
（特許文献８）は、ニトリルゴムのための水素化触媒としてのＮＨＣ配位子ありのＲｕベースの錯体を開示している。利点として、他のＲｕ－ＮＨＣ触媒と比較して比較的簡単な配位子範囲、高い水素化効率、メタセシス活性の欠如、及び粘度増加の抑制が列挙されている。添加物は、この特許出願では述べられていない。
【0020】
上記を要約すると、以下が明らかになる。
（１）これまで、ニトリルゴムの選択的水素化のために活性であるＲｕベースの水素化触媒は、公知であり、Ｒｈ及びＰｄベースの触媒は、既に工業的水素化プロセスにおいて使用されている。しかしながら、Ｒｕベースの水素化触媒は、ＮＢＲ水素化のために使用される場合、改善可能な触媒活性及びゲル形成問題に依然として直面している。
（２）様々な添加物の使用は、水性媒体中でのＮＢＲラテックス水素化反応について公知である。使用される添加物は、アルカリ性及び酸性添加物並びにアルカリ土類金属及び重金属などの様々な種類のものである。しかしながら、いずれの添加物もいずれの水素化触媒の水素化を改善するわけではないため、いずれの種類の添加物が、水を含まない溶媒中でのＲｕ－ＮＨＣ触媒のＮＢＲ水素化反応をも改善するかの明らかな教示が見つからない；及び
（３）ＮＨＣ配位子を含むＲｕベースの触媒による活性と、ＮＨＣ配位子なしのＲｕベースの触媒による活性とは、同一ではない。
（４）ラテックス水素化反応における活性増強添加物の教示は、有機溶媒中の水を含まない溶媒水素化に移行可能ではない。
（１）これまで、ニトリルゴムの選択的水素化のために活性であるＲｕベースの水素化触媒は、公知であり、Ｒｈ及びＰｄベースの触媒は、既に工業的水素化プロセスにおいて使用されている。しかしながら、Ｒｕベースの水素化触媒は、ＮＢＲ水素化のために使用される場合、改善可能な触媒活性及びゲル形成問題に依然として直面している。
（２）様々な添加物の使用は、水性媒体中でのＮＢＲラテックス水素化反応について公知である。使用される添加物は、アルカリ性及び酸性添加物並びにアルカリ土類金属及び重金属などの様々な種類のものである。しかしながら、いずれの添加物もいずれの水素化触媒の水素化を改善するわけではないため、いずれの種類の添加物が、水を含まない溶媒中でのＲｕ－ＮＨＣ触媒のＮＢＲ水素化反応をも改善するかの明らかな教示が見つからない；及び
（３）ＮＨＣ配位子を含むＲｕベースの触媒による活性と、ＮＨＣ配位子なしのＲｕベースの触媒による活性とは、同一ではない。
（４）ラテックス水素化反応における活性増強添加物の教示は、有機溶媒中の水を含まない溶媒水素化に移行可能ではない。
【0021】
上述の障害を考慮して、Ｒｕ－ＮＨＣ触媒を用いたニトリルゴムの改善された水素化方法が依然として必要とされた。
【0022】
理想的には、そのような方法は、制御された方法において、すなわちメタセシス反応による同時分子量低下なしに進行するべきである。
【0023】
そのような方法は、必要とされるターンオーバー頻度を触媒が既に提供しているという点において効率的であるべきである。換言すれば、同じ量のＲｕベースの触媒を用いて、しかしより短い反応時間で（完全に）水素化されたニトリルゴムを得ることが目的であった。先行技術によれば、過度に高い残存触媒含量を除去するために、水素化後、触媒及び添加物の除去又はリサイクル工程が多くの場合に必要とされる。したがって、提供されるべき新規方法は、好ましくは、リーブイン触媒技術の代表となるべきである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0024】
【文献】欧州特許出願公開第Ａ－０ ２９８ ３８６号明細書
【文献】米国特許出願公開第Ａ－５，２０８，２９６号明細書
【文献】欧州特許出願公開第Ａ－０ ５８８ ０９８号明細書
【文献】欧州特許出願公開第Ａ－０ ５８８ ０９６号明細書
【文献】欧州特許出願公開第Ａ－０ ５８８ ０９７号明細書
【文献】米国特許出願公開第Ａ－５，２１０，１５１号明細書
【文献】米国特許出願公開第Ａ－５，２５８，４６７号明細書
【文献】国際公開第Ａ－１３／１６０４７０号パンフレット
【非特許文献】
【0025】
【文献】Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｃａｔａｌｙｓｉｓ Ａ：Ｃｈｅｍｉｃａｌ，１９９７，１２６（２－３），１１５－１３１
【文献】Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ ２００１，２０，７９４
【文献】Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ ２００５，２４，１０５６－１０５８
【文献】Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ ２００９，２８，４４１－４４７
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0026】
特に、本発明の１つの目的は、国際公開第Ａ－１３／１６０４７０号パンフレットに開示されているＲｕ－ＮＨＣ触媒を使用するニトリルゴムの水素化反応の反応時間を減らすための方法を見いだすことであった。
【0027】
Ｒｕ－ＮＨＣ触媒が水によって一般に失活することは、先行技術から公知であったため、水素化のための水を含まない方法を提供することがさらなる目的であった。
【0028】
そのようなプロセスは、中～高分子量を特に有し、且つ改善されたＨＮＢＲ組成物をもたらす５０～１３０のムーニー単位の範囲のムーニー粘度（ＭＬ１＋４＠１００℃）を有する水素化ニトリルゴムへのアクセスをさらに提供するべきである。さらに、所望のプロセスは、ＨＮＢＲのムーニー増加及びゲル含量、したがって加工性にプラスの影響を及ぼすべきである。
【0029】
さらなる目的は、ニトリルゴムの水素化のために使用することができるＲｕ－ＮＨＣ触媒系を提供することであった。
【課題を解決するための手段】
【0030】
上記の目的は、成分（Ａ）及び（Ｂ）を含む触媒系の存在下でニトリルゴムを水素と接触させる工程であって、
成分（Ａ）は、下記の一般式（Ｉ）
（式中、
Ｘ１は、アニオン性配位子であり、及び
Ｌ１及びＬ２は、同一の又は異なる配位子であり、ここで、Ｌ１及びＬ２の少なくとも１つは、Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子を表す）
のＲｕ－ＮＨＣ触媒であり、
（Ｂ）は、
・３超の（２５℃での）ｐＫｓの弱有機酸、例えば酢酸、クエン酸又はアスコルビン酸、
・アルカリ土類金属塩、例えばＭｇＣｌ２又はＣａＣｌ２、
・テトラフルオロホウ酸ジエチルエーテル（ＨＢＦ４ ＊ＯＥｔ２）、及び
・トリクロロ（フェニル）シラン
からなる群から選択される特定の添加物（「水素化エンハンサー」とも呼ばれる）である、工程によって意外にも解決された。
成分（Ａ）は、下記の一般式（Ｉ）
【化2】
Ｘ１は、アニオン性配位子であり、及び
Ｌ１及びＬ２は、同一の又は異なる配位子であり、ここで、Ｌ１及びＬ２の少なくとも１つは、Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子を表す）
のＲｕ－ＮＨＣ触媒であり、
（Ｂ）は、
・３超の（２５℃での）ｐＫｓの弱有機酸、例えば酢酸、クエン酸又はアスコルビン酸、
・アルカリ土類金属塩、例えばＭｇＣｌ２又はＣａＣｌ２、
・テトラフルオロホウ酸ジエチルエーテル（ＨＢＦ４ ＊ＯＥｔ２）、及び
・トリクロロ（フェニル）シラン
からなる群から選択される特定の添加物（「水素化エンハンサー」とも呼ばれる）である、工程によって意外にも解決された。
【0031】
好ましくは、水素化エンハンサーは、ＣａＣｌ２、クエン酸、アスコルビン酸、テトラフルオロホウ酸ジエチルエーテル（ＨＢＦ４
＊ＯＥｔ２）、及びトリクロロ（フェニル）シラン、又はそれらの混合物からなる群から選択され、それによってニトリルゴムのポリマー主鎖中のＣ＝Ｃ二重結合が選択的且つ効率的に水素化される。
【0032】
触媒の活性は、ゲル形成又はより高いムーニーエージング、すなわちエージング中のムーニー粘度増加に関する不利点なしに反応時間を減らすことができるように著しく高めることができる。これは、リーブイン触媒技術が追求されるため、非常に重要である。水素化エンハンサーは、ニトリルゴムを基準として典型的には１０ｐｈｒ未満、好ましくは１ｐｈｒ未満の少量で使用される。追加の水が全く添加されないことを強調することは、重要である。
【0033】
水溶性水素化エンハンサーが、水を含まない有機溶媒中で活性であることは、意外である。触媒が水に不安定であるため、水を含まないことは、明らかな目的であった。
【0034】
本発明は、したがって、部分的又は完全に水素化されたニトリルゴムを調製するための方法において、ニトリルゴムを、成分：
（Ａ）一般式（Ｉ）：
Ｒｕ（ＣＯ）（Ｈ）（Ｘ１）（Ｌ１）（Ｌ２） （Ｉ）
（式中、
Ｘ１は、アニオン性配位子であり、及び
Ｌ１及びＬ２は、同一の又は異なる配位子であり、ここで、Ｌ１及びＬ２の少なくとも１つは、Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子を表す）
を有する少なくとも１つのＲｕ－ＮＨＣ触媒：及び
（Ｂ）３超のｐＫｓ（２５℃での）の弱有機酸、例えば酢酸、クエン酸若しくはアスコルビン酸、アルカリ土類金属塩、例えばＭｇＣｌ２若しくはＣａＣｌ２、テトラフルオロホウ酸ジエチルエーテル（ＨＢＦ４ ＊ＯＥｔ２）及びトリクロロ（フェニル）シラン又はそれらの混合物からなる群から選択される特定の添加物、すなわち水素化エンハンサー（Ｂ）
を含む触媒系の存在下で溶液中において水素化にかけることを特徴とする方法に関する。
（Ａ）一般式（Ｉ）：
Ｒｕ（ＣＯ）（Ｈ）（Ｘ１）（Ｌ１）（Ｌ２） （Ｉ）
（式中、
Ｘ１は、アニオン性配位子であり、及び
Ｌ１及びＬ２は、同一の又は異なる配位子であり、ここで、Ｌ１及びＬ２の少なくとも１つは、Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子を表す）
を有する少なくとも１つのＲｕ－ＮＨＣ触媒：及び
（Ｂ）３超のｐＫｓ（２５℃での）の弱有機酸、例えば酢酸、クエン酸若しくはアスコルビン酸、アルカリ土類金属塩、例えばＭｇＣｌ２若しくはＣａＣｌ２、テトラフルオロホウ酸ジエチルエーテル（ＨＢＦ４ ＊ＯＥｔ２）及びトリクロロ（フェニル）シラン又はそれらの混合物からなる群から選択される特定の添加物、すなわち水素化エンハンサー（Ｂ）
を含む触媒系の存在下で溶液中において水素化にかけることを特徴とする方法に関する。
【発明を実施するための形態】
【0035】
有利には、成分（Ａ）及び（Ｂ）を含む触媒系の使用は、ニトリルゴムの水素化反応を行うことを可能にする。成分（Ａ）及び（Ｂ）を含む触媒系は、溶液でのニトリルゴムの前記水素化における高い活性及び選択性を特徴とする、すなわち、高い水素化度は、短い反応時間で、好ましくは低い触媒濃度で達成され得る。したがって、水素化後にＲｕ－ＮＨＣ触媒（Ａ）と水素化エンハンサー（Ｂ）とを含む触媒系を除去又はリサイクルする必要がない。
【0036】
さらに、（Ａ）及び（Ｂ）を含む本発明の触媒系の存在下で調製されたＨＮＢＲは、エージング後のゲル形成及びムーニー増加を有益に妨げる一定量のＲｕ金属及びＣａイオンを有する。
【0037】
本特許出願の目的で使用される「置換される」という用語は、指示された基、分子又は錯体上の水素原子が、それぞれの場合において指示された基の１つによって置き換えられていることを意味するが、ただし、指示された原子の原子価が高すぎることがなく、その置換で安定な化合物が生じる必要がある。
【0038】
本特許出願の目的のために用いられる「水を含まない」という用語は、１重量％未満の水が反応系に存在することを意味する。１重量％未満の残存水は、任意の源、すなわちＮＢＲ中の水分及び有機溶媒中の水不純物などの任意の源のものであり得る。
【0039】
本特許出願及び本発明の目的のために、上記及び下記において、一般的な項目又は好ましい範囲で与えられる基（moiety）の定義、パラメーター又は説明は、すべていかなる方法でも相互に組み合わせることができ、このように、すなわちそれぞれの範囲と好ましい範囲との組合せを含めて開示されていると見なされるものとする。
【0040】
触媒系の定義：
本発明により使用される触媒系は、成分（Ａ）として、一般式（Ｉ）:
Ｒｕ（ＣＯ）（Ｈ）（Ｘ１）（Ｌ１）（Ｌ２） （Ｉ）
（式中、
Ｘ１は、アニオン性配位子であり、及び
Ｌ１及びＬ２は、同一の又は異なる配位子であり、ここで、Ｌ１及びＬ２の少なくとも１つは、Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子を表す）
を有するＲｕ－ＮＨＣ触媒を含む。
本発明により使用される触媒系は、成分（Ａ）として、一般式（Ｉ）:
Ｒｕ（ＣＯ）（Ｈ）（Ｘ１）（Ｌ１）（Ｌ２） （Ｉ）
（式中、
Ｘ１は、アニオン性配位子であり、及び
Ｌ１及びＬ２は、同一の又は異なる配位子であり、ここで、Ｌ１及びＬ２の少なくとも１つは、Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子を表す）
を有するＲｕ－ＮＨＣ触媒を含む。
【0041】
一般式（Ｉ）に従う触媒は、以下のジオメトリー（geometry：幾何構造）:
、すなわち正方ピラミッド型ジオメトリーを有し得る。多数の触媒がこの正方ピラミッド型ジオメトリーを有するが、そのジオメトリーからの逸脱も、本発明の範囲内にまたあるべきである配位子範囲（ligand sphere）の変動が原因で可能である。
【化3】
【0042】
Ｌ１及びＬ２の定義：
一般式（Ｉ）において、Ｌ１及びＬ２は、同一の又は異なる配位子であり、その少なくとも１つは、Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子を表す。
一般式（Ｉ）において、Ｌ１及びＬ２は、同一の又は異なる配位子であり、その少なくとも１つは、Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子を表す。
【0043】
一実施形態では、
Ｌ１は、ホスフィン、スルホン化ホスフィン、ホスフェート、ホスフィナイト、ホスホナイト、アルシン、スチビン、エーテル、アミン、アミド、スルホネート、スルホキシド、カルボキシル、ニトロシル、ピリジン、チオエーテル、ニトリル及びイソシアニドからなる群から選択される配位子を表し、
Ｌ２は、Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子を表す。
Ｌ１は、ホスフィン、スルホン化ホスフィン、ホスフェート、ホスフィナイト、ホスホナイト、アルシン、スチビン、エーテル、アミン、アミド、スルホネート、スルホキシド、カルボキシル、ニトロシル、ピリジン、チオエーテル、ニトリル及びイソシアニドからなる群から選択される配位子を表し、
Ｌ２は、Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子を表す。
【0044】
代替的な実施形態では、両配位子Ｌ１及びＬ２は、同一の又は異なるＮ－ヘテロ環状カルベン配位子を表す。
【0045】
Ｌ１がホスフィン、スルホン化ホスフィン、ホスフェート、ホスフィナイト、ホスホナイト、アルシン、スチビン、エーテル、アミン、アミド、スルホネート、スルホキシド、カルボキシル、ニトロシル、ピリジンベースの配位子又はチオエーテルを表す場合、以下の配位子を典型的に使用することができる：
・「ホスフィナイト」という用語には、例えば、フェニルジフェニルホスフィナイト、シクロヘキシルジシクロヘキシルホスフィナイト、イソプロピルジイソプロピルホスフィナイト及びメチルジフェニルホスフィナイトが含まれる。
・「ホスファイト」という用語には、例えば、トリフェニルホスファイト、トリシクロヘキシルホスファイト、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスファイト、トリイソプロピルホスファイト及びメチルジフェニルホスファイトが含まれる。
・「スチビン」という用語には、例えば、トリフェニルスチビン、トリシクロヘキシルスチビン及びトリメチルスチビンが含まれる。
・「スルホネート」という用語には、例えば、トリフルオロメタンスルホネート、トシレート及びメシレートが含まれる。
・「スルホキシド」という用語には、例えば、（ＣＨ３）２Ｓ（＝Ｏ）及び（Ｃ６Ｈ５）２Ｓ＝Ｏが含まれる。
・「チオエーテル」という用語には、例えば、ＣＨ３ＳＣＨ３、Ｃ６Ｈ５ＳＣＨ３、ＣＨ３ＯＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ３及びテトラヒドロチオフェンが含まれる。
・本出願の目的のために、「ピリジンベースの配位子」という用語は、例えば、国際公開第Ａ－０３／０１１４５５号パンフレットに述べられているようなすべてのピリジンベースの配位子又はそれらの誘導体のための集合名として使用される。「ピリジンベースの配位子」という用語には、したがって、ピリジンそれ自体、ピコリン（α－、β－及びγ－ピコリン等）、ルチジン（２，３－、２，４－、２，５－、２，６－、３，４－及び３，５－ルチジン等）、コリジン（すなわち２，４，６－トリメチルピリジン）、トリフルオロメチルピリジン、フェニルピリジン、４－（ジメチルアミノ）－ピリジン、クロロピリジン、ブロモピリジン、ニトロピリジン、キノリン、ピリミジン、ピロール、イミダゾール及びフェニルイミダゾールが含まれる。
・「ホスフィナイト」という用語には、例えば、フェニルジフェニルホスフィナイト、シクロヘキシルジシクロヘキシルホスフィナイト、イソプロピルジイソプロピルホスフィナイト及びメチルジフェニルホスフィナイトが含まれる。
・「ホスファイト」という用語には、例えば、トリフェニルホスファイト、トリシクロヘキシルホスファイト、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスファイト、トリイソプロピルホスファイト及びメチルジフェニルホスファイトが含まれる。
・「スチビン」という用語には、例えば、トリフェニルスチビン、トリシクロヘキシルスチビン及びトリメチルスチビンが含まれる。
・「スルホネート」という用語には、例えば、トリフルオロメタンスルホネート、トシレート及びメシレートが含まれる。
・「スルホキシド」という用語には、例えば、（ＣＨ３）２Ｓ（＝Ｏ）及び（Ｃ６Ｈ５）２Ｓ＝Ｏが含まれる。
・「チオエーテル」という用語には、例えば、ＣＨ３ＳＣＨ３、Ｃ６Ｈ５ＳＣＨ３、ＣＨ３ＯＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ３及びテトラヒドロチオフェンが含まれる。
・本出願の目的のために、「ピリジンベースの配位子」という用語は、例えば、国際公開第Ａ－０３／０１１４５５号パンフレットに述べられているようなすべてのピリジンベースの配位子又はそれらの誘導体のための集合名として使用される。「ピリジンベースの配位子」という用語には、したがって、ピリジンそれ自体、ピコリン（α－、β－及びγ－ピコリン等）、ルチジン（２，３－、２，４－、２，５－、２，６－、３，４－及び３，５－ルチジン等）、コリジン（すなわち２，４，６－トリメチルピリジン）、トリフルオロメチルピリジン、フェニルピリジン、４－（ジメチルアミノ）－ピリジン、クロロピリジン、ブロモピリジン、ニトロピリジン、キノリン、ピリミジン、ピロール、イミダゾール及びフェニルイミダゾールが含まれる。
【0046】
一般式（Ｉ）におけるＬ１が電子供与性の配位子としてのホスフィンを表す場合、そのようなホスフィンは、好ましくは、一般式（ＩＩｆ）：
（式中、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、同一であるか又は異なり、さらにより好ましくは同一であり、且つＣ１～Ｃ２０アルキル、好ましくはメチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｎ－ペンチル、１－メチルブチル、２－メチルブチル、３－メチルブチル、ネオペンチル、１－エチルプロピル、ｎ－ヘキシル若しくはネオフェニル、Ｃ３～Ｃ８－シクロアルキル、好ましくはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル若しくはシクロオクチル、Ｃ１～Ｃ２０アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ６～Ｃ２０アリール、好ましくはフェニル、ビフェニル、ナフチル、フェナントレニル、アントラセニル、トリル、２，６－ジメチルフェニル若しくはトリフルオロメチル、Ｃ６～Ｃ２０アリールオキシ、その環内に少なくとも１つのヘテロ原子を有するＣ２～Ｃ２０ヘテロアリール、その環内に少なくとも１つのヘテロ原子又はハロゲン、好ましくはフルオロを有するＣ２～Ｃ２０ヘテロシクリルを表し得る）
を有する。
【化4】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、同一であるか又は異なり、さらにより好ましくは同一であり、且つＣ１～Ｃ２０アルキル、好ましくはメチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｎ－ペンチル、１－メチルブチル、２－メチルブチル、３－メチルブチル、ネオペンチル、１－エチルプロピル、ｎ－ヘキシル若しくはネオフェニル、Ｃ３～Ｃ８－シクロアルキル、好ましくはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル若しくはシクロオクチル、Ｃ１～Ｃ２０アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ６～Ｃ２０アリール、好ましくはフェニル、ビフェニル、ナフチル、フェナントレニル、アントラセニル、トリル、２，６－ジメチルフェニル若しくはトリフルオロメチル、Ｃ６～Ｃ２０アリールオキシ、その環内に少なくとも１つのヘテロ原子を有するＣ２～Ｃ２０ヘテロアリール、その環内に少なくとも１つのヘテロ原子又はハロゲン、好ましくはフルオロを有するＣ２～Ｃ２０ヘテロシクリルを表し得る）
を有する。
【0047】
Ｌ１が、一般式（Ｉ）における電子供与性の配位子として一般式（ＩＩｆ）のホスフィンを表す場合、そのようなホスフィンは、好ましくは、ＰＰｈ３、Ｐ（ｐ－Ｔｏｌ）３、Ｐ（ｏ－Ｔｏｌ）３、ＰＰｈ（ＣＨ３）２、Ｐ（ＣＦ３）３、Ｐ（ｐ－ＦＣ６Ｈ４）３、Ｐ（ｐ－ＣＦ３Ｃ６Ｈ４）３、Ｐ（Ｃ６Ｈ４－ＳＯ３Ｎａ）３、Ｐ（ＣＨ２Ｃ６Ｈ４－ＳＯ３Ｎａ）３、Ｐ（イソプロピル）３、Ｐ（ＣＨＣＨ３（ＣＨ２ＣＨ３））３、Ｐ（シクロペンチル）３、Ｐ（シクロヘキシル）３、Ｐ（ネオペンチル）３又はＰ（ネオフェニル）３を表し、ここで、Ｐｈは、フェニルを意味し、及びＴｏｌは、トリルを意味する。
【0048】
Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子は、ヘテロ原子としての少なくとも１つの窒素が環中に存在する状態の環状カルベン型配位子を表す。環は、環原子上に異なる置換パターンを示すことができる。好ましくは、この置換パターンは、ある程度の立体的な混み合いを提供する。
【0049】
本発明との関連で、Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子（本明細書では以下で「ＮＨＣ配位子」と言う。）は、好ましくは、イミダゾリン又はイミダゾリジン部分をべースとする。
【0050】
ＮＨＣ配位子は、典型的には、一般式（ＩＩａ）～（ＩＩｅ）：
（式中、
Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、同一であるか又は異なり、且つ水素、直鎖状若しくは分岐状のＣ１～Ｃ３０－アルキル、Ｃ３～Ｃ２０－シクロアルキル、Ｃ２～Ｃ２０－アルケニル、Ｃ２～Ｃ２０－アルキニル、Ｃ６～Ｃ２４－アリール、Ｃ７～Ｃ２５－アルカリール、Ｃ２～Ｃ２０ヘテロアリール、Ｃ２～Ｃ２０ヘテロシクリル、Ｃ１～Ｃ２０－アルコキシ、Ｃ２～Ｃ２０－アルケニルオキシ、Ｃ２～Ｃ２０－アルキニルオキシ、Ｃ６～Ｃ２０－アリールオキシ、Ｃ２～Ｃ２０－アルコキシカルボニル、Ｃ１～Ｃ２０－アルキルチオ、Ｃ６～Ｃ２０－アリールチオ、－Ｓｉ（Ｒ）３、－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ）３、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ、Ｃ（＝Ｏ）Ｒ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ）２、－ＮＲ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（Ｒ）２、－ＳＯ２Ｎ（Ｒ）２、－Ｓ（＝Ｏ）Ｒ、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｒ、－Ｏ－Ｓ（＝Ｏ）２Ｒ、ハロゲン、ニトロ又はシアノを表し；ここで、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１の意味に関連する上記の場合すべてにおいて、基Ｒは、同一であるか又は異なり、且つ水素、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又はヘテロアリールを表す）
に対応する構造を有する。
【化5】
Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、同一であるか又は異なり、且つ水素、直鎖状若しくは分岐状のＣ１～Ｃ３０－アルキル、Ｃ３～Ｃ２０－シクロアルキル、Ｃ２～Ｃ２０－アルケニル、Ｃ２～Ｃ２０－アルキニル、Ｃ６～Ｃ２４－アリール、Ｃ７～Ｃ２５－アルカリール、Ｃ２～Ｃ２０ヘテロアリール、Ｃ２～Ｃ２０ヘテロシクリル、Ｃ１～Ｃ２０－アルコキシ、Ｃ２～Ｃ２０－アルケニルオキシ、Ｃ２～Ｃ２０－アルキニルオキシ、Ｃ６～Ｃ２０－アリールオキシ、Ｃ２～Ｃ２０－アルコキシカルボニル、Ｃ１～Ｃ２０－アルキルチオ、Ｃ６～Ｃ２０－アリールチオ、－Ｓｉ（Ｒ）３、－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ）３、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ、Ｃ（＝Ｏ）Ｒ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ）２、－ＮＲ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（Ｒ）２、－ＳＯ２Ｎ（Ｒ）２、－Ｓ（＝Ｏ）Ｒ、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｒ、－Ｏ－Ｓ（＝Ｏ）２Ｒ、ハロゲン、ニトロ又はシアノを表し；ここで、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１の意味に関連する上記の場合すべてにおいて、基Ｒは、同一であるか又は異なり、且つ水素、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又はヘテロアリールを表す）
に対応する構造を有する。
【0051】
これらの式（ＩＩａ）～（ＩＩｅ）において、ルテニウム金属中心に結合している炭素原子は、形式的にカルベン炭素である。
【0052】
適切な場合、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１の１つ又は複数は、互いに独立して、１つ又は複数の置換基、好ましくは直鎖状又は分岐状のＣ１～Ｃ１０－アルキル、Ｃ３～Ｃ８－シクロアルキル、Ｃ１～Ｃ１０－アルコキシ、Ｃ６～Ｃ２４－アリール、Ｃ２～Ｃ２０ヘテロアリール、Ｃ２～Ｃ２０ヘテロシクリック、並びに、ヒドロキシ、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート及びハロゲンからなる群から選択される官能基によって置換され得、ここで、上述の置換基は、化学的に可能である限り、好ましくはハロゲン、特に塩素又は臭素、Ｃ１～Ｃ５－アルキル、Ｃ１～Ｃ５－アルコキシ及びフェニルからなる群から選択される１つ又は複数の置換基によってさらに置換され得る。
【0053】
単に明瞭にするためにのみ、本特許出願における一般式（ＩＩａ）及び（ＩＩｂ）で示されるＮＨＣ配位子の構造は、それぞれそのようなＮＨＣ配位子について文献においても多くの場合に見いだされる構造（ＩＩａ－（ｉ））及び（ＩＩｂ－（ｉ））と同等であり、ＮＨＣ配位子のカルベン的特性を強調していることが付言され得る。これは、さらなる構造（ＩＩｃ）～（ＩＩｅ）及び以下に示される関連する好ましい構造（ＩＩＩａ）～（ＩＩＩｕ）にも同様に当てはまる。
【化6】
【0054】
一般式（Ｉ）の触媒における好ましいＮＨＣ配位子において、Ｒ８及びＲ９は、同一であるか又は異なり、且つ水素、Ｃ６～Ｃ２４－アリール、より好ましくはフェニル、直鎖状若しくは分岐状のＣ１～Ｃ１０－アルキル、より好ましくはメチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｉ－ブチル若しくはｔｅｒｔ．－ブチルを表すか、又はそれらが結合している炭素原子と一緒にシクロアルキル若しくはアリール構造を形成する。
【0055】
Ｒ８及びＲ９の好ましい意味及びより好ましい意味は、直鎖状又は分岐状のＣ１～Ｃ１０－アルキル又はＣ１～Ｃ１０－アルコキシ、Ｃ３～Ｃ８－シクロアルキル、Ｃ６～Ｃ２４－アリールからなる群から選択される１つ又は複数のさらなる置換基、並びにヒドロキシ、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート及びハロゲンからなる群から選択される官能基によって置換され得、ここで、すべてのこれらの置換基は、好ましくは、ハロゲン、特に塩素又は臭素、Ｃ１～Ｃ５－アルキル、Ｃ１～Ｃ５－アルコキシ及びフェニルからなる群から選択される１つ又は複数の置換基によってさらに置換され得る。
【0056】
一般式（Ｉ）の触媒におけるさらなる好ましいＮＨＣ配位子において、Ｒ１０及びＲ１１は、同一であるか又は異なり、且つ好ましくは直鎖状若しくは分岐状のＣ１～Ｃ１０－アルキル、より好ましくはｉ－プロピル若しくはネオペンチル、Ｃ３～Ｃ１０－シクロアルキル、より好ましくはアダマンチル、置換若しくは非置換のＣ６～Ｃ２４－アリール、より好ましくはフェニル、２，６－ジイソプロピルフェニル、２，６－ジメチルフェニル若しくは２，４，６－トリメチルフェニル、Ｃ１～Ｃ１０－アルキルスルホネート又はＣ６～Ｃ１０－アリールスルホネートを表す。
【0057】
Ｒ１０及びＲ１１のこれらの好ましい意味は、直鎖状又は分岐状のＣ１～Ｃ１０－アルキル又はＣ１～Ｃ１０－アルコキシ、Ｃ３～Ｃ８－シクロアルキル、Ｃ６～Ｃ２４－アリールからなる群から選択される１つ又は複数のさらなる置換基、並びにヒドロキシ、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート及びハロゲンからなる群から選択される官能基によって置換され得、ここで、それらの置換基のすべては、好ましくは、ハロゲン、特に塩素又は臭素、Ｃ１～Ｃ５－アルキル、Ｃ１～Ｃ５－アルコキシ及びフェニルからなる群から選択される１つ又は複数の置換基によってさらに置換され得る。
【0058】
一般式（Ｉ）の触媒における好ましいＮＨＣ配位子において、
Ｒ８及びＲ９は、同一であるか又は異なり、水素、Ｃ６～Ｃ２４－アリール、より好ましくはフェニル、直鎖状若しくは分岐状のＣ１～Ｃ１０－アルキル、より好ましくはメチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル及びｉ－ブチルを表すか、又はそれらが結合している炭素原子と一緒にシクロアルキル若しくはアリール構造を形成し、かつ、
Ｒ１０及びＲ１１は、同一であるか又は異なり、好ましくは直鎖状若しくは分岐状のＣ１～Ｃ１０－アルキル、より好ましくはｉ－プロピル若しくはネオペンチル、Ｃ３～Ｃ１０－シクロアルキル、より好ましくはアダマンチル、置換若しくは非置換のＣ６～Ｃ２４－アリール、より好ましくはフェニル、２，６－ジイソプロピルフェニル、２，６－ジメチルフェニル若しくは２，４，６－トリメチルフェニル、Ｃ１～Ｃ１０－アルキルスルホネート又はＣ６～Ｃ１０－アリールスルホネートを表す。
Ｒ８及びＲ９は、同一であるか又は異なり、水素、Ｃ６～Ｃ２４－アリール、より好ましくはフェニル、直鎖状若しくは分岐状のＣ１～Ｃ１０－アルキル、より好ましくはメチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル及びｉ－ブチルを表すか、又はそれらが結合している炭素原子と一緒にシクロアルキル若しくはアリール構造を形成し、かつ、
Ｒ１０及びＲ１１は、同一であるか又は異なり、好ましくは直鎖状若しくは分岐状のＣ１～Ｃ１０－アルキル、より好ましくはｉ－プロピル若しくはネオペンチル、Ｃ３～Ｃ１０－シクロアルキル、より好ましくはアダマンチル、置換若しくは非置換のＣ６～Ｃ２４－アリール、より好ましくはフェニル、２，６－ジイソプロピルフェニル、２，６－ジメチルフェニル若しくは２，４，６－トリメチルフェニル、Ｃ１～Ｃ１０－アルキルスルホネート又はＣ６～Ｃ１０－アリールスルホネートを表す。
【0059】
特に好ましいＮＨＣ配位子は、以下の構造（ＩＩＩａ）～（ＩＩＩｕ）を有し、ここで、「Ｐｈ」は、それぞれの場合にフェニルを意味し、「Ｂｕ」は、それぞれの場合にブチル、すなわちｎ－ブチル、ｓｅｃ．－ブチル、イソ－ブチル又はｔｅｒｔ．－ブチルのいずれかを意味し、「Ｍｅｓ」は、それぞれの場合に２，４，６－トリメチルフェニルを表し、「Ｄｉｐｐ」は、すべての場合に２，６－ジイソプロピルフェニルを意味し、及び「Ｄｉｍｐ」は、それぞれの場合に２，６－ジメチルフェニルを意味する。
【化7】
【0060】
ＮＨＣ配位子が環中に「Ｎ」（窒素）のみならず、「Ｏ」（酸素）も含有する場合、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及び／又はＲ１１の置換パターンは、一定の立体的な混み合いを提供することが好ましい。
【0061】
Ｘ１の定義
一般式（Ｉ）の触媒において、Ｘ１は、好ましくは、アニオン性配位子を表す。
一般式（Ｉ）の触媒において、Ｘ１は、好ましくは、アニオン性配位子を表す。
【0062】
一般式（Ｉ）の触媒の１つの実施形態では、Ｘ１は、水素、ハロゲン、プソイドハロゲン、直鎖状若しくは分岐状のＣ１～Ｃ３０－アルキル、Ｃ６～Ｃ２４－アリール、Ｃ１～Ｃ２０－アルコキシ、Ｃ６～Ｃ２４－アリールオキシ、Ｃ３～Ｃ２０－アルキルジケトネート、Ｃ６～Ｃ２４－アリールジケトネート、Ｃ１～Ｃ２０－カルボキシレート、Ｃ１～Ｃ２０－アルキルスルホネート、Ｃ６～Ｃ２４－アリールスルホネート、Ｃ１～Ｃ２０－アルキルチオール、Ｃ６～Ｃ２４－アリールチオール、Ｃ１～Ｃ２０－アルキルスルホニル又はＣ１～Ｃ２０－アルキルスルフィニルを表す。
【0063】
Ｘ１を意味するとして上で列挙した残基は、１つ又は複数のさらなる置換基、例えばハロゲン、好ましくはフッ素、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル、Ｃ１～Ｃ１０－アルコキシ又はＣ６～Ｃ２４－アリールによって置換され得、それらの基は、ハロゲン、好ましくはフッ素、Ｃ１～Ｃ５－アルキル、Ｃ１～Ｃ５－アルコキシ及びフェニルからなる群から選択される１つ又は複数の置換基によってさらに置換され得る。
【0064】
好ましい実施形態では、Ｘ１は、ハロゲン、特にフッ素、塩素、臭素若しくはヨウ素、ベンゾエート、Ｃ１～Ｃ５－カルボキシレート、Ｃ１～Ｃ５－アルキル、フェノキシ、Ｃ１～Ｃ５－アルコキシ、Ｃ１～Ｃ５－アルキルチオール、Ｃ６～Ｃ１４－アリールチオール、Ｃ６～Ｃ１４－アリール又はＣ１～Ｃ５－アルキルスルホネートである。
【0065】
特に好ましい実施形態では、Ｘ１は、塩素、ＣＦ３ＣＯＯ、ＣＨ３ＣＯＯ、ＣＦＨ２ＣＯＯ、（ＣＨ３）３ＣＯ、（ＣＦ３）２（ＣＨ３）ＣＯ、（ＣＦ３）（ＣＨ３）２ＣＯ、フェノキシ、メトキシ、エトキシ、トシレート（ｐ－ＣＨ３－Ｃ６Ｈ４－ＳＯ３）、メシレート（ＣＨ３ＳＯ３）又はトリフルオロメタンスルホネート（ＣＦ３ＳＯ３）を表す。
【0066】
一般式（Ｉ）に従ったより好ましい触媒は、式（Ｉ－ａ）～（Ｉ－ｄ）：
〔式中、Ｌ２は、一般式（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）：
（式中、
Ｒ８及びＲ９は、同一であるか又は異なり、水素、Ｃ６～Ｃ２４－アリール、より好ましくはフェニル、直鎖状若しくは分岐状のＣ１～Ｃ１０－アルキル、より好ましくはメチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル及びｉ－ブチルを表すか、又はそれらが結合している炭素原子と一緒にシクロアルキル若しくはアリール構造を形成し、かつ、
Ｒ１０及びＲ１１は、同一であるか又は異なり、好ましくは直鎖状若しくは分岐状のＣ１～Ｃ１０－アルキル、より好ましくはｉ－プロピル若しくはネオペンチル、Ｃ３～Ｃ１０－シクロアルキル、より好ましくはアダマンチル、置換若しくは非置換のＣ６～Ｃ２４－アリール、より好ましくはフェニル、２，６－ジイソプロピルフェニル、２，６－ジメチルフェニル若しくは２，４，６－トリメチルフェニル、Ｃ１～Ｃ１０－アルキルスルホネート又はＣ６～Ｃ１０－アリールスルホネートを表す）
の電子供与性配位子を表すか、又は
Ｌ２は、好ましくは、上述した一般式（ＩＩＩａ）～（ＩＩＩｕ）の電子供与性配位子を表す〕
の触媒である。
【化8】
【化9】
Ｒ８及びＲ９は、同一であるか又は異なり、水素、Ｃ６～Ｃ２４－アリール、より好ましくはフェニル、直鎖状若しくは分岐状のＣ１～Ｃ１０－アルキル、より好ましくはメチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル及びｉ－ブチルを表すか、又はそれらが結合している炭素原子と一緒にシクロアルキル若しくはアリール構造を形成し、かつ、
Ｒ１０及びＲ１１は、同一であるか又は異なり、好ましくは直鎖状若しくは分岐状のＣ１～Ｃ１０－アルキル、より好ましくはｉ－プロピル若しくはネオペンチル、Ｃ３～Ｃ１０－シクロアルキル、より好ましくはアダマンチル、置換若しくは非置換のＣ６～Ｃ２４－アリール、より好ましくはフェニル、２，６－ジイソプロピルフェニル、２，６－ジメチルフェニル若しくは２，４，６－トリメチルフェニル、Ｃ１～Ｃ１０－アルキルスルホネート又はＣ６～Ｃ１０－アリールスルホネートを表す）
の電子供与性配位子を表すか、又は
Ｌ２は、好ましくは、上述した一般式（ＩＩＩａ）～（ＩＩＩｕ）の電子供与性配位子を表す〕
の触媒である。
【0067】
一般式（Ｉ）に従うさらにより好ましい触媒は、式（Ｉ－ａ（１））、（Ｉ－ｂ（１））、（Ｉ－ｃ（１））及び（Ｉ－ｄ（１））：
の触媒である。
【化10】
【0068】
支持材上の触媒：
さらなる代替的な実施形態では、一般式（Ｉ）に従うすべての触媒は、固定化型で使用することができる。固定化は、支持材の表面への触媒の化学結合によって都合よく起こる。例えば、下に示す一般式（支持体－Ｉｅ）及び（支持体－Ｉｆ）（式中、Ｌ１、Ｌ２及びＸ１は、一般式（Ｉ）について本出願において上に列挙したすべての一般的な、好ましい、より好ましい、特に好ましい、最も好ましい意味を有し得、「ｓｕｐｐ」は、支持材を表す）を有する触媒が好適である。好ましくは、支持材は、高分子材料又は例えばシリカゲルなどの無機材料を表す。高分子材料として合成ポリマー又は樹脂が使用され得、ポリエチレングリコール、ポリスチレン又は架橋ポリスチレン（例えば、ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）コポリマー（ＰＳ－ＤＶＢ））がさらにより好ましい。そのような支持材は、配位子Ｌ１又はＬ２の１つと共有結合を形成することができる官能基をその表面上に含む。
さらなる代替的な実施形態では、一般式（Ｉ）に従うすべての触媒は、固定化型で使用することができる。固定化は、支持材の表面への触媒の化学結合によって都合よく起こる。例えば、下に示す一般式（支持体－Ｉｅ）及び（支持体－Ｉｆ）（式中、Ｌ１、Ｌ２及びＸ１は、一般式（Ｉ）について本出願において上に列挙したすべての一般的な、好ましい、より好ましい、特に好ましい、最も好ましい意味を有し得、「ｓｕｐｐ」は、支持材を表す）を有する触媒が好適である。好ましくは、支持材は、高分子材料又は例えばシリカゲルなどの無機材料を表す。高分子材料として合成ポリマー又は樹脂が使用され得、ポリエチレングリコール、ポリスチレン又は架橋ポリスチレン（例えば、ポリ（スチレン－ジビニルベンゼン）コポリマー（ＰＳ－ＤＶＢ））がさらにより好ましい。そのような支持材は、配位子Ｌ１又はＬ２の１つと共有結合を形成することができる官能基をその表面上に含む。
【化11】
【0069】
一般式（支持体－Ｉｅ）又は（支持体－Ｉｆ）の固定化触媒において、「ｓｕｐｐ」は、より好ましくは、上記の式で示した配位子の１つと共有結合を形成することができる１つ又は複数の官能基「Ｘ２」をそれらの表面上に有するポリマー支持体、樹脂、ポリエチレングリコール又はシリカゲルを表す。
【0070】
表面上の好適な官能基「Ｘ２」は、ヒドロキシル、アミノ、チオール、カルボキシル、Ｃ１～Ｃ２０アルコキシ、Ｃ１～Ｃ２０アルキルチオ、－Ｓｉ（Ｒ）３、－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ）３、Ｃ６～Ｃ１４アリールオキシ、Ｃ２～Ｃ１４ヘテロ環、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ）２、－ＳＯ２Ｎ（Ｒ）２、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｒ又は－Ｓ（＝Ｏ）Ｒであり、ここで、Ｘ２におけるＲの上記の場合すべてにおいて、Ｘ２は同一であるか又は異なり、且つＨ、Ｃ１～Ｃ６－アルキル、Ｃ５～Ｃ６－シクロアルキル、Ｃ２～Ｃ６－アルケニル、Ｃ２～Ｃ６－アルキニル、フェニル、イミダゾリル、トリアゾリル又はピリジニル基を意味するものとする。
【0071】
ポリスチレン又は架橋ポリスチレン、さらにより好ましくは触媒への容易なカップリングを可能にするヒドロキシル基を表面上に有するものが好ましい支持材である。
【0072】
一般式（Ｉ）に従う触媒の合成：
ＮＨＣ配位子の合成：
ＮＨＣ配位子の合成のために、長い期間をかけて既に最適化されている文献からのいくつかの手順を用いることができる。
ＮＨＣ配位子の合成：
ＮＨＣ配位子の合成のために、長い期間をかけて既に最適化されている文献からのいくつかの手順を用いることができる。
【0073】
Ｈｉｎｔｅｒｍａｎｎ（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ２００７，３，Ｎｏ．２２）は、安価な基本的な化学薬品をベースとする３つの異なるイミダゾリニウム塩のための合成手順を示している。これらの塩は、強塩基の作用によってそれぞれのフリーカルベンに容易に転化することができる。特に、イミダゾール窒素原子に結合した基に関連した置換パターンは、好適なアミンを用いることによって容易に変更することができる。今日入手可能な幅広い脂肪族及びさらに多くの芳香族アミンを考慮すると、有機合成の当業者は、最適化された触媒組成物を得るのが比較的簡単であることを十分に理解するであろう。
【0074】
イミダゾリンベースのＮＨＣカルベンの合成は、Ｋｕｈｎ及びＧｒｕｂｂｓの研究によっても最近最適化されている（Ｏｒｇ Ｌｅｔｔ．２００８ Ｍａｙ １５；１０（１０）：２０７５－２０７７）。Ｋｕｈｎ及びＧｒｕｂｂｓは、幅広いホルムアミジンの容易な調製から出発する反応シーケンス及びイミダゾリニウム塩を生成するための一段階反応での閉環を提案している。構造変動の数をかなり増大させる非対称ＮＨＣ配位子をも調製できることは、注目に値する。
【0075】
最後に、Ｓｔｒａｓｓｂｅｒｇｅｒ（Ａｐｐｌ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌ．Ｃｈｅｍ．２０１０，２４，１４２－１４６）は、４及び５位のＣ原子上での可能な置換のために特に有益である比較的安価な有機化学薬品を使用して、マルチリアクタントワンポットルートにおいて置換イミダゾリニウム塩を合成することに成功し、したがってＮＨＣ配位子の嵩高さをさらに微調整することができ、且つ様々な基の導入によってＮＨＣ配位子の電子的特性を変えることができる。上に言及された方法は、多様なＮＨＣ配位子に展開できる。
【0076】
一般式（Ｉ）の触媒を調製するための方法
一般式（Ｉ）に従う触媒錯体は、下に示される例示的な反応経路で、Ｆｏｇｇら（Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ ２００５，２４，１０５６－１０５８）に記載されているものなど、カルベン配位子を使用する簡単な配位子交換反応によって調製することができる。
ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＰＰｈ３）３＋ＩＭｅｓ→ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＰＰｈ３）（ＩＭｅｓ）＋２ＰＰｈ３
一般式（Ｉ）に従う触媒錯体は、下に示される例示的な反応経路で、Ｆｏｇｇら（Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ ２００５，２４，１０５６－１０５８）に記載されているものなど、カルベン配位子を使用する簡単な配位子交換反応によって調製することができる。
ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＰＰｈ３）３＋ＩＭｅｓ→ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＰＰｈ３）（ＩＭｅｓ）＋２ＰＰｈ３
【0077】
類似の手順は、Ｎｏｌａｎら（Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ ２００１，２０，７９４）にも見いだすことができる。この反応は、ＮＨＣ型カルベンが、多くのホスフィン配位子と比較してより強い結合性能を有する比較的電子に富むカルベンであるために可能である。
【0078】
別の選択肢は、Ｆｏｇｇら（Ａｄｖ．Ｓｙｎｔｈ．Ｃａｔａｌ．２００８，３５０，７７３－７７７）に記載されているような錯体、例えばＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＮＨＣ）（ＰＰｈ３）の合成及び後続のＰＣｙ３との配位子交換反応である。この反応は、導入されるホスフィン配位子が例えばＰＰｈ３と比較してルテニウムにより強く結合するという条件で様々なホスフィン錯体にアクセスすることを可能にする。
【0079】
別の合成アプローチには、ＮＨＣ配位子を既に有するルテニウム錯体とアルキリデン配位子との反応が含まれる。例は、アルコールでの処理がベンジリデン配位子の分離及びカルボニル錯体の形成をもたらす、ＭｏｌらのＥｕｒ．Ｊ．Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００３，２８２７－２８３３に見いだすことができる。しかしながら、この反応経路は、アルキリデン配位子の導入がかなり簡単である場合に好ましいにすぎない。
【0080】
ほとんどのＮＨＣ配位子は、かなり安定であり、したがって単離し、且つ上述の配位子交換反応によって触媒中に導入することができる。
【0081】
しかしながら、ＮＨＣ配位子の他の典型的な前駆体は、例えば、イミダゾリウム又はイミダゾリニウム塩などのそれぞれの塩である。これらの塩は、文献から、例えばＡｒｄｕｅｎｇｏら（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９９１，１１３，３６１－３６３）及びそれからの引き続く研究において周知であるように強塩基で脱プロトン化し、フリーカルベンを発生させることができる。ＮＨＣ型の多くのカルベンは、意外に安定であるが、ルテニウム錯体との意図される反応の前にそれらを単離することが必ずしも実用的であるとは限らないことがあり得る。その場合、カルベンを含有する反応混合物は、先行トライアルにおいてカルベンへのＮＨＣ塩の十分に高い転化率が確立されている場合、配位子交換反応に直接使用することができる。
【0082】
水素化エンハンサー（Ｂ）：
本発明による触媒系は、水素化エンハンサーとしての添加物（Ｂ）をさらに含む。
本発明による触媒系は、水素化エンハンサーとしての添加物（Ｂ）をさらに含む。
【0083】
水素化エンハンサーは、
・３超のｐＫｓ（２５℃での）の弱有機酸、例えば酢酸、クエン酸又はアスコルビン酸、
・アルカリ土類金属塩、例えばＭｇＣｌ２又はＣａＣｌ２、
・テトラフルオロホウ酸ジエチルエーテル（ＨＢＦ４ ＊ＯＥｔ２）、及び
・トリクロロ（フェニル）シラン
からなる群から選択される。
・３超のｐＫｓ（２５℃での）の弱有機酸、例えば酢酸、クエン酸又はアスコルビン酸、
・アルカリ土類金属塩、例えばＭｇＣｌ２又はＣａＣｌ２、
・テトラフルオロホウ酸ジエチルエーテル（ＨＢＦ４ ＊ＯＥｔ２）、及び
・トリクロロ（フェニル）シラン
からなる群から選択される。
【0084】
好ましくは、水素化エンハンサーは、ＣａＣｌ２、クエン酸、アスコルビン酸、テトラフルオロホウ酸ジエチルエーテル（ＨＢＦ４
＊ＯＥｔ２）及びトリクロロ（フェニル）シラン又はそれらの混合物からなる群から選択される。
【0085】
より好ましい水素化エンハンサーは、ＣａＣｌ２及びクエン酸である。
【0086】
触媒系中の水素化エンハンサー（Ｂ）の量は、触媒の性質及び触媒活性に依存する。用いる水素化エンハンサーの量は、使用するニトリルゴムを基準として０．０１～１．０ｐｈｒ、好ましくは０．０４～０．６ｐｈｒ、より好ましくは０．０４４～０．５５６ｐｈｒの範囲で典型的に選択する。
【0087】
（Ａ）及び（Ｂ）を含む触媒系を調製するための方法
成分（Ａ）及び（Ｂ）は、ニトリルゴムと接触させる前に混合することができる。成分（Ａ）又は成分（Ｂ）のいずれかが水素化反応前にニトリルゴムと既に接触していることも可能である。
成分（Ａ）及び（Ｂ）は、ニトリルゴムと接触させる前に混合することができる。成分（Ａ）又は成分（Ｂ）のいずれかが水素化反応前にニトリルゴムと既に接触していることも可能である。
【0088】
ニトリルゴムを水素化するための方法
ニトリルゴムの水素化は、ニトリルゴムを水素の存在下で触媒錯体系と接触させることによって実施することができる。
ニトリルゴムの水素化は、ニトリルゴムを水素の存在下で触媒錯体系と接触させることによって実施することができる。
【0089】
水素化は、６０℃～２００℃、好ましくは８０℃～１８０℃、最も好ましくは１００℃～１６０℃の範囲の温度において且つ０．５ＭＰａ～３５ＭＰａ、より好ましくは３．０ＭＰａ～１０ＭＰａの範囲の水素圧力において実施することが好ましい。
【0090】
好ましくは、ニトリルゴムの水素化時間は、１０分間～２４時間、好ましくは１５分間～２０時間、より好ましくは３０分間～８時間、さらにより好ましくは１時間～４時間、最も好ましくは１時間～３時間である。
【0091】
使する触媒の量は、使用するニトリルゴムを基準として０．０１ｐｈｒ～１．００ｐｈｒの触媒、好ましくは０．０２ｐｈｒ～０．５ｐｈｒ、特に０．０３５ｐｈｒ～０．３ｐｈｒの範囲で典型的に選択される。
【0092】
第一に、好適な水を含まない溶媒中のニトリルゴムの水を含まない溶液が調製される。水素化反応におけるニトリルゴムの濃度は、決定的に重要であるわけではないが、反応混合物の過度に高い粘度及び任意の関連混合問題によって反応が悪影響を受けないことが必然的に確保されるべきである。反応混合物中のＮＢＲの濃度は、全反応混合物を基準として好ましくは１～２５重量％の範囲、特に好ましくは５～２０重量％の範囲である。
【0093】
水素化反応は、使用される触媒を失活させず、且つまた決して反応に悪影響を及ぼさない、水を含まない好適な溶媒中で典型的に実施する。好ましい溶媒には、モノクロロベンゼン、ジクロロメタン、ベンゼン、トルエン、クロロフェノール、メチルエチルケトン、アセトン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン及びシクロヘキサンが含まれるが、それらに限定されない。特に好ましい溶媒は、モノクロロベンゼンである。
【0094】
存在する水の量は、触媒の失活が全くない程度、好ましくは１重量％未満に低く保つべきである。本発明の方法は、ラテックス水素化反応ではないことを現時点で明言する。
【0095】
ニトリルゴムのそのような溶液を、次いで、上で述べた圧力で水素の存在下において本発明の触媒系と接触させる。反応混合物を、典型的には、撹拌するか、又は任意の種類の剪断混合を溶液と水素相との十分な接触を可能にするために導入する。
【0096】
本発明の１つの大きい利点は、使用する触媒系が極めて高活性であることであり、そのため、最終的なＨＮＢＲ製品中の残存触媒が十分に低く、触媒金属を除去又はリサイクルする工程が軽減されるか又はさらに必要とされない。しかしながら、所望の程度により、本発明の方法において使用した触媒を除去し得る。そのような除去は、例えば、欧州特許出願公開第Ａ－２ ０７２ ５３２Ａ１号明細書及び欧州特許出願公開第Ａ－２ ０７２ ５３３Ａ１号明細書に記載されているように、イオン交換樹脂を使用することによって実施することができる。水素化反応の完了後に得られた反応混合物は、取り出して、窒素下で４８時間、例えば１００℃において、樹脂への触媒の結合をもたらすイオン交換樹脂で処理することができ、一方で、反応混合物は、通常の仕上げ方法でワークアップすることができる。
【0097】
水素化ニトリルゴムは、次いで、公知のワークアップ手順、例えば水蒸気凝固、溶媒蒸発又は沈澱によって溶液から得、典型的なゴム加工方法での使用を可能にする程度まで乾燥させることができる。
【0098】
本発明の目的のために、水素化は、少なくとも５０％、好ましくは７０～１００％、より好ましくは８０～１００％、さらにより好ましくは９０～１００％、最も好ましくは９５～１００％の程度までの出発ニトリルゴム中に存在する二重結合の反応である。完全に水素化されたニトリルゴムは、１％以下の量の残存二重結合を有する。
【0099】
本発明による水素化の完了後、１～１３０、好ましくは１０～１００の範囲の、ＡＳＴＭ標準Ｄ １６４６に従って測定されるムーニー粘度（ＭＬ１＋４＠１００℃）を有する水素化ニトリルゴムが得られる。
【0100】
これは、２，０００～４００，０００ｇ／ｍｏｌの範囲、好ましくは２０，０００～２００，０００ｇ／ｍｏｌの範囲の重量平均分子量Ｍｗに対応する。
【0101】
得られた水素化ニトリルゴムは、１～５の範囲、好ましくは２．７～４．０の範囲の多分散ＰＤＩ＝Ｍｗ／Ｍｎ（ここで、Ｍｗは、重量平均分子量であり、Ｍｎは、数平均分子量である）も有する。
【0102】
高いゲル含量は、耐老化性にマイナス影響を及ぼす。ゲル含量は、ｐＨ値があまりに低い場合、例えばＲｕ錯体又はＭＣＢ溶媒からの解離により、例えばＨＣｌが発生する場合に高くなる。
【0103】
ニトリルゴム：
本発明の方法において使用されるニトリルゴムは、少なくとも１つのα，β－不飽和ニトリル、少なくとも１つの共役ジエン及び必要に応じて１つ又は複数のさらなる共重合性モノマーのコポリマー又はターポリマーである。
本発明の方法において使用されるニトリルゴムは、少なくとも１つのα，β－不飽和ニトリル、少なくとも１つの共役ジエン及び必要に応じて１つ又は複数のさらなる共重合性モノマーのコポリマー又はターポリマーである。
【0104】
共役ジエンは、いかなる性質のものでもあり得る。より好ましくは、１，３－ブタジエン、イソプレン、２，３－ジメチルブタジエン、ピペリレン及びそれらの混合物からなる群から選択される（Ｃ４～Ｃ６）共役ジエンを使用することが好ましい。１，３－ブタジエン及びイソプレン又はそれらの混合物が非常に特に好ましい。１，３－ブタジエンがとりわけ好ましい。
【0105】
α，β－不飽和ニトリルとしては、好ましくは（Ｃ３～Ｃ５）α，β－不飽和ニトリル、より好ましくはアクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリル及びそれらの混合物からなる群から選択される公知のα，β－不飽和ニトリルを使用することができる。特に好ましいのは、アクリロニトリルである。
【0106】
したがって、本発明の方法において使用される特に好ましいニトリルゴムは、アクリロニトリル及び１，３－ブタジエンから誘導される繰り返し単位を有するコポリマーである。
【0107】
共役ジエン及びα，β－不飽和ニトリルとは別に、水素化ニトリルゴムは、当技術分野で公知の１つ又は複数のさらなる共重合性モノマーの繰り返し単位を含み得、そのようなものとしては、例えば、α，β－不飽和（好ましくはモノ不飽和）モノカルボン酸、それらのエステル及びアミド、α，β－不飽和（好ましくはモノ不飽和）ジカルボン酸、それらのモノエステル又はジエステル、さらに前記α，β－不飽和ジカルボン酸に対応する無水物又はアミドなどが挙げられる。
【0108】
α，β－不飽和モノカルボン酸としては、アクリル酸及びメタクリル酸を使用することが好ましい。
【0109】
α，β－不飽和モノカルボン酸のエステル、特にアルキルエステル、アルコキシアルキルエステル、アリールエステル、シクロアルキルエステル、シアノアルキルエステル、ヒドロキシアルキルエステル及びフルオロアルキルエステルを使用することもできる。
【0110】
アルキルエステルとしては、好ましくはα，β－不飽和モノカルボン酸のＣ１～Ｃ１８アルキルエステル、より好ましくはアクリル酸又はメタクリル酸のＣ１～Ｃ１８アルキルエステル、例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ｎ－ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ．－ブチルアクリレート、２－エチル－ヘキシルアクリレート、ｎ－ドデシルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ｎ－ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ．－ブチルメタクリレート及び２－エチルヘキシル－メタクリレートが使用される。
【0111】
アルコキシアルキルエステルとしては、好ましくはα，β－不飽和モノカルボン酸のＣ２～Ｃ１８アルコキシアルキルエステル、より好ましくはアクリル酸又はメタクリル酸のアルコキシアルキルエステル、例えばメトキシメチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート及びメトキシエチル（メタ）アクリレートが使用される。
【0112】
アリールエステル、好ましくはＣ６～Ｃ１４－アリールエステル、より好ましくはＣ６～Ｃ１０－アリールエステル、最も好ましくは上述のアクリレート及びメタクリレートのアリールエステルを使用することも可能である。
【0113】
また別の実施形態では、シクロアルキルエステル、好ましくはＣ５～Ｃ１２－、より好ましくはＣ６～Ｃ１２－シクロアルキル、最も好ましくは上述のシクロアルキルアクリレート及びメタクリレートが使用される。
【0114】
シアノアルキルエステル、シアノアルキル基中に２～１２のＣ原子を有する特にアクリル酸シアノアルキル又はメタクリル酸シアノアルキル、好ましくはアクリル酸α－シアノエチル、アクリル酸β－シアノエチル又はメタクリル酸シアノブチルを使用することも可能である。
【0115】
別の実施形態では、ヒドロキシアルキルエステル、特にヒドロキシルアルキル基中に１～１２のＣ原子を有するアクリル酸ヒドロキシアルキル及びメタクリル酸ヒドロキシアルキル、好ましくはアクリル酸２－ヒドロキシエチル、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル又はアクリル酸３－ヒドロキシプロピルも使用される。
【0116】
フルオロベンジルエステル、特にアクリル酸フルオロベンジル又はメタクリル酸フルオロベンジル、好ましくはアクリル酸トリフルオロエチル及びメタクリル酸テトラフルオロプロピルを使用することも可能である。例えば、アクリル酸ジメチルアミノメチル及びアクリル酸ジエチルアミノエチル等の、置換されたアミノ基を含むアクリレート及びメタクリレートを使用し得る。
【0117】
α，β－不飽和カルボン酸の他の各種のエステルを使用することもでき、そのようなものとしては、例えば、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ－（２－ヒドロキシメチル）アクリルアミド又はウレタン（メタ）アクリレートが挙げられる。
【0118】
上述のα，β－不飽和カルボン酸のエステルの混合物もすべて使用することができる。
【0119】
さらに、α，β－不飽和ジカルボン酸、好ましくはマレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸及びメサコン酸を使用し得る。
【0120】
また別の実施形態では、α，β－不飽和ジカルボン酸の無水物、好ましくは無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸及び無水メサコン酸が使用される。
【0121】
さらなる実施形態では、α，β－不飽和ジカルボン酸のモノエステル又はジエステルを使用することもできる。好適なアルキルエステルは、例えば、Ｃ１～Ｃ１０－アルキル、好ましくはエチル－、ｎ－プロピル－、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル－、ｔｅｒｔ．－ブチル、ｎ－ペンチル－又はｎ－ヘキシルのモノエステル又はジエステルである。好適なアルコキシアルキルエステルは、例えば、Ｃ２～Ｃ１２アルコキシアルキル、好ましくはＣ３～Ｃ８－アルコキシアルキルのモノエステル又はジエステルである。好適なヒドロキシアルキルエステルは、例えば、Ｃ１～Ｃ１２ヒドロキシアルキル、好ましくはＣ２～Ｃ８－ヒドロキシアルキルのモノエステル又はジエステルである。好適なシクロアルキルエステルは、例えば、Ｃ５～Ｃ１２－シクロアルキル、好ましくはＣ６～Ｃ１２－シクロアルキルのモノエステル又はジエステルである。好適なアルキルシクロアルキルエステルは、例えば、Ｃ６～Ｃ１２－アルキルシクロアルキル、好ましくはＣ７～Ｃ１０－アルキルシクロアルキルのモノエステル又はジエステルである。好適なアリールエステルは、例えば、Ｃ６～Ｃ１４－アリール、好ましくはＣ６～Ｃ１０－アリールのモノエステル又はジエステルである。
【0122】
α，β－エチレン性不飽和ジカルボン酸モノエステルモノマーの明白な例としては、以下のものが挙げられる：
・マレイン酸モノアルキルエステル、好ましくはマレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノプロピル及びマレイン酸モノ－ｎ－ブチル；
・マレイン酸モノシクロアルキルエステル、好ましくはマレイン酸モノシクロペンチル、マレイン酸モノシクロヘキシル及びマレイン酸モノシクロヘプチル；
・マレイン酸モノアルキルシクロアルキルエステル、好ましくはマレイン酸モノメチルシクロペンチル及びマレイン酸モノエチルシクロヘキシル；
・マレイン酸モノアリールエステル、好ましくはマレイン酸モノフェニル；
・マレイン酸モノベンジルエステル、好ましくはマレイン酸モノベンジル；
・フマル酸モノアルキルエステル、好ましくはフマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、フマル酸モノプロピル及びフマル酸モノ－ｎ－ブチル；
・フマル酸モノシクロアルキルエステル、好ましくはフマル酸モノシクロペンチル、フマル酸モノシクロヘキシル及びフマル酸モノシクロヘプチル；
・フマル酸モノアルキルシクロアルキルエステル、好ましくはフマル酸モノメチルシクロペンチル及びフマル酸モノエチルシクロヘキシル；
・フマル酸モノアリールエステル、好ましくはフマル酸モノフェニル；
・フマル酸モノベンジルエステル、好ましくはフマル酸モノベンジル；
・シトラコン酸モノアルキルエステル、好ましくはシトラコン酸モノメチル、シトラコン酸モノエチル、シトラコン酸モノプロピル及びシトラコン酸モノ－ｎ－ブチル；
・シトラコン酸モノシクロアルキルエステル、好ましくはシトラコン酸モノシクロペンチル、シトラコン酸モノシクロヘキシル及びシトラコン酸モノシクロヘプチル；
・シトラコン酸モノアルキルシクロアルキルエステル、好ましくはシトラコン酸モノメチルシクロペンチル及びシトラコン酸モノエチルシクロヘキシル；
・シトラコン酸モノアリールエステル、好ましくはシトラコン酸モノフェニル；
・シトラコン酸モノベンジルエステル、好ましくはシトラコン酸モノベンジル；
・イタコン酸モノアルキルエステル、好ましくはイタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチル、イタコン酸モノプロピル及びイタコン酸モノ－ｎ－ブチル；
・イタコン酸モノシクロアルキルエステル、好ましくはイタコン酸モノシクロペンチル、イタコン酸モノシクロヘキシル及びイタコン酸モノシクロヘプチル；
・イタコン酸モノアルキルシクロアルキルエステル、好ましくはイタコン酸モノメチルシクロペンチル及びイタコン酸モノエチルシクロヘキシル；
・イタコン酸モノアリールエステル、好ましくはイタコン酸モノフェニル；
・イタコン酸モノベンジルエステル、好ましくはイタコン酸モノベンジル。
・マレイン酸モノアルキルエステル、好ましくはマレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノプロピル及びマレイン酸モノ－ｎ－ブチル；
・マレイン酸モノシクロアルキルエステル、好ましくはマレイン酸モノシクロペンチル、マレイン酸モノシクロヘキシル及びマレイン酸モノシクロヘプチル；
・マレイン酸モノアルキルシクロアルキルエステル、好ましくはマレイン酸モノメチルシクロペンチル及びマレイン酸モノエチルシクロヘキシル；
・マレイン酸モノアリールエステル、好ましくはマレイン酸モノフェニル；
・マレイン酸モノベンジルエステル、好ましくはマレイン酸モノベンジル；
・フマル酸モノアルキルエステル、好ましくはフマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、フマル酸モノプロピル及びフマル酸モノ－ｎ－ブチル；
・フマル酸モノシクロアルキルエステル、好ましくはフマル酸モノシクロペンチル、フマル酸モノシクロヘキシル及びフマル酸モノシクロヘプチル；
・フマル酸モノアルキルシクロアルキルエステル、好ましくはフマル酸モノメチルシクロペンチル及びフマル酸モノエチルシクロヘキシル；
・フマル酸モノアリールエステル、好ましくはフマル酸モノフェニル；
・フマル酸モノベンジルエステル、好ましくはフマル酸モノベンジル；
・シトラコン酸モノアルキルエステル、好ましくはシトラコン酸モノメチル、シトラコン酸モノエチル、シトラコン酸モノプロピル及びシトラコン酸モノ－ｎ－ブチル；
・シトラコン酸モノシクロアルキルエステル、好ましくはシトラコン酸モノシクロペンチル、シトラコン酸モノシクロヘキシル及びシトラコン酸モノシクロヘプチル；
・シトラコン酸モノアルキルシクロアルキルエステル、好ましくはシトラコン酸モノメチルシクロペンチル及びシトラコン酸モノエチルシクロヘキシル；
・シトラコン酸モノアリールエステル、好ましくはシトラコン酸モノフェニル；
・シトラコン酸モノベンジルエステル、好ましくはシトラコン酸モノベンジル；
・イタコン酸モノアルキルエステル、好ましくはイタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチル、イタコン酸モノプロピル及びイタコン酸モノ－ｎ－ブチル；
・イタコン酸モノシクロアルキルエステル、好ましくはイタコン酸モノシクロペンチル、イタコン酸モノシクロヘキシル及びイタコン酸モノシクロヘプチル；
・イタコン酸モノアルキルシクロアルキルエステル、好ましくはイタコン酸モノメチルシクロペンチル及びイタコン酸モノエチルシクロヘキシル；
・イタコン酸モノアリールエステル、好ましくはイタコン酸モノフェニル；
・イタコン酸モノベンジルエステル、好ましくはイタコン酸モノベンジル。
【0123】
α，β－エチレン性不飽和ジカルボン酸ジエステルモノマーとしては、上に明記したモノエステルモノマーをベースとした類似のジエステルを使用し得るが、しかしながら、酸素原子を介してＣ＝Ｏ基に結合される２つの有機基は、同一であるか又は異なり得る。
【0124】
さらなるターモノマーとして、一般式（Ｉ）：
（式中、Ｒは、水素又は分岐若しくは非分岐のＣ１～Ｃ２０－アルキル、好ましくはメチル、エチル、ブチル又はエチルヘキシルであり、ｎは、１～８、好ましくは２～８、より好ましくは２～５、最も好ましくは３であり、Ｒ１は、水素又はＣＨ３－である）
のＰＥＧアクリレートに由来するＰＥＧアクリレートモノマーを使用することができる。
【化12】
のＰＥＧアクリレートに由来するＰＥＧアクリレートモノマーを使用することができる。
【0125】
本発明に関連して、「（メタ）アクリレート」という用語は、「アクリレート」及び「メタクリレート」を表す。一般式（Ｉ）中のＲ１基がＣＨ３－である場合、この分子は、メタクリレートである。「ポリエチレングリコール」という用語又は「ＰＥＧ」という略語は、１つの繰り返しエチレングリコール単位を有するモノエチレングリコールセクション（ＰＥＧ－１；ｎ＝１）及び２～８つの繰り返しエチレングリコール単位を有するポリエチレングリコールセクション（ＰＥＧ－２～ＰＥＧ－８；ｎ＝２～８）の両方を表す。「ＰＥＧアクリレート」という用語は、ＰＥＧ－Ｘ－（Ｍ）Ａ（ここで、「Ｘ」は、繰り返しエチレングリコール単位の数を表し、「ＭＡ」は、メタクリレートを表し、「Ａ」は、アクリレートを表す）とも略記される。一般式（Ｉ）のＰＥＧアクリレートに由来するアクリレートモノマーは、「ＰＥＧアクリレートモノマー」と言われる。
【0126】
好ましいＰＥＧアクリレートモノマーは、以下の式番号１～番号１０（ここで、ｎは、１、２、３、４、５、６、７又は８、好ましくは２、３、４、５、６、７又は８、より好ましくは３、４、５、６、７又は８、最も好ましくは３である）から選択される。
【0127】
【表1】
【0128】
さらなるターモノマーとしては、ビニル芳香族モノマー、例えばスチレン、α－メチルスチレン及びビニルピリジン、さらに非共役ジエン、例えば４－シアノシクロヘキセン及び４－ビニルシクロヘキセン、さらにアルキン、例えば１－若しくは２－ブチンを使用し得る。
【0129】
特に好ましいのは、以下に示す式：
（式中、
Ｒ１は、水素又はメチル基であり、及び
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、同一であるか又は異なり、且つＨ、Ｃ１～Ｃ１２アルキル、Ｃ３～Ｃ８シクロアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシアルキル、エポキシアルキル、アリール又はヘテロアリールを表し得る）
から選択されるターモノマーである。
【化13】
Ｒ１は、水素又はメチル基であり、及び
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、同一であるか又は異なり、且つＨ、Ｃ１～Ｃ１２アルキル、Ｃ３～Ｃ８シクロアルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシアルキル、エポキシアルキル、アリール又はヘテロアリールを表し得る）
から選択されるターモノマーである。
【0130】
使用するＮＢＲポリマー中での共役ジエンとα，β－不飽和ニトリルとの比率は、広い範囲で変化させることができる。共役ジエン又は共役ジエンの合計の比率は、全ポリマーを基準にして、通常、４０～９０重量％の範囲、好ましくは６０～８５重量％の範囲である。α，β－不飽和ニトリル又はα，β－不飽和ニトリルの合の比率は、全ポリマーを基準にして、通常、１０～６０重量％、好ましくは１５～４０重量％である。いずれの場合にも、モノマーの比率を合計したものが１００重量％となる。追加のモノマーは、全ポリマーを基準にして０～４０重量％、好ましくは０．１～４０重量％、特に好ましくは１～３０重量％の量で存在し得る。この場合、単一若しくは複数の共役ジエン及び／又は単一若しくは複数のα，β－不飽和ニトリルの対応する比率を追加のモノマーの比率で置き換え、それぞれの場合において全部のモノマーの比率を合計して１００重量％とする。
【0131】
上述のモノマーの重合によるニトリルゴムの調製は、当技術分野で十分に公知である。本発明の目的のために使用することができるニトリルゴムは、例えば、ＡＲＬＡＮＸＥＯ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ ＧｍｂＨのＰｅｒｂｕｎａｎ（登録商標）及びＫｒｙｎａｃ（登録商標）銘柄の製品範囲からの製品としても市販されている。
【0132】
「アクリロニトリル－ブタジエンゴム」又は「ニトリルゴム」（略して「ＮＢＲ」とも呼ばれる）という用語は、広く解釈されるべきであり、少なくとも１つのα，β－不飽和ニトリル、少なくとも１つの共役ジエン及び必要に応じて１つ又は複数のさらなる共重合性モノマーのコポリマー、ターポリマー、クォーターポリマーなどであるゴムを指す。
【0133】
水素化ＮＢＲ（略して「ＨＮＢＲ」とも呼ばれる）は、ＮＢＲの水素化によって商業的に製造される。したがって、ジエンベースのポリマー中の炭素－炭素二重結合の選択的水素化は、そのポリマー鎖中のニトリル基及び他の官能基（例えば、そのポリマー鎖中に他の共重合性モノマーが導入された場合のカルボキシル基）に悪影響を及ぼさないように実施しなければならない。
【0134】
ＨＮＢＲ中の共重合させたジエン単位の水素化度は、５０～１００％の範囲で変化させることができ、望まれる水素化度は、約８０～約１００％、好ましくは約９０～約９９．９％である。ＨＮＢＲの市販グレードは、典型的には、１８％未満の不飽和度が残り、アクリロニトリルの含量がおよそ約５０％までである。
【0135】
均一系又は不均一系いずれかの水素化触媒を使用して、ＮＢＲの水素化を実施することができる。使用される触媒は、通常、ロジウム、ルテニウム又はパラジウムをベースとするものであるが、白金、イリジウム、レニウム、オスミウム、コバルト若しくは銅を金属として又は好ましくは金属化合物の形態で使用することも可能である（例えば、米国特許出願公開第Ａ－３，７００，６３７号明細書、欧州特許出願公開第Ａ－０ １３４ ０２３号明細書、独国特許出願公開第Ａ－３５ ４１ ６８９号明細書、独国特許出願公開第Ａ－３５ ４０ ９１８号明細書、欧州特許出願公開第Ａ－０ ２９８ ３８６号明細書、独国特許出願公開第Ａ－３５ ２９ ２５２号明細書、独国特許出願公開第Ａ－３４ ３３ ３９２号明細書、米国特許出願公開第Ａ－４，４６４，５１５号明細書及び米国特許出願公開第Ａ－４，５０３，１９６号明細書を参照されたい）。均一相における水素化のために好適な触媒及び溶媒も独国特許出願公開第Ａ－２５ ３９ １３２号明細書及び欧州特許出願公開第Ａ－０ ４７１ ２５０号明細書から公知である。
【0136】
本発明は、水素化ニトリルゴムであって、
・実施例の部に記載される方法に従ってＩＣＰ－ＯＥＳによって測定される１００ｐｐｍ～１０，０００ｐｐｍ、好ましくは３００ｐｐｍ～５，０００ｐｐｍ、より好ましくは５００～５，０００ｐｐｍ、さらにより好ましくは１，０００ｐｐｍ～４，０００ｐｐｍのカルシウムイオン、及び
・実施例の部に記載される方法に従ってＩＣＰ－ＯＥＳによって測定される任意選択的に１５０ｐｐｍ以下、好ましくは１３０ｐｐｍ以下、より好ましくは１～５０ｐｐｍのルテニウムイオン
を含み、
・２％以下、好ましくは１％以下の残存二重結合（ＲＤＢ）を有し、
・実施例の部に記載される方法に従って測定される６％未満、好ましくは４％未満、より好ましくは３％未満のゲル含量を有する、水素化ニトリルゴムにさらに関する。
・実施例の部に記載される方法に従ってＩＣＰ－ＯＥＳによって測定される１００ｐｐｍ～１０，０００ｐｐｍ、好ましくは３００ｐｐｍ～５，０００ｐｐｍ、より好ましくは５００～５，０００ｐｐｍ、さらにより好ましくは１，０００ｐｐｍ～４，０００ｐｐｍのカルシウムイオン、及び
・実施例の部に記載される方法に従ってＩＣＰ－ＯＥＳによって測定される任意選択的に１５０ｐｐｍ以下、好ましくは１３０ｐｐｍ以下、より好ましくは１～５０ｐｐｍのルテニウムイオン
を含み、
・２％以下、好ましくは１％以下の残存二重結合（ＲＤＢ）を有し、
・実施例の部に記載される方法に従って測定される６％未満、好ましくは４％未満、より好ましくは３％未満のゲル含量を有する、水素化ニトリルゴムにさらに関する。
【0137】
そのような水素化ニトリルゴムは、上述した本発明の方法によって得られる。
【0138】
本発明は、ニトリルゴムを部分的又は完全に水素化するための触媒系としての、成分：
（Ａ）一般式（Ｉ）：
Ｒｕ（ＣＯ）（Ｈ）（Ｘ１）（Ｌ１）（Ｌ２） （Ｉ）
（式中、
Ｘ１は、アニオン性配位子であり、
Ｌ１及びＬ２は、同一の又は異なる配位子であり、ここで、Ｌ１及びＬ２の少なくとも１つは、Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子を表す）
を有する少なくとも１つのＲｕ－ＮＨＣ触媒；及び
（Ｂ）ＣａＣｌ２、クエン酸、アスコルビン酸、テトラフルオロホウ酸ジエチルエーテル（ＨＢＦ４ ＊ＯＥｔ２）及びトリクロロ（フェニル）シラン又はそれらの混合物からなる群から選択される水素化エンハンサー
を含む触媒系の使用にさらに関する。
（Ａ）一般式（Ｉ）：
Ｒｕ（ＣＯ）（Ｈ）（Ｘ１）（Ｌ１）（Ｌ２） （Ｉ）
（式中、
Ｘ１は、アニオン性配位子であり、
Ｌ１及びＬ２は、同一の又は異なる配位子であり、ここで、Ｌ１及びＬ２の少なくとも１つは、Ｎ－ヘテロ環状カルベン配位子を表す）
を有する少なくとも１つのＲｕ－ＮＨＣ触媒；及び
（Ｂ）ＣａＣｌ２、クエン酸、アスコルビン酸、テトラフルオロホウ酸ジエチルエーテル（ＨＢＦ４ ＊ＯＥｔ２）及びトリクロロ（フェニル）シラン又はそれらの混合物からなる群から選択される水素化エンハンサー
を含む触媒系の使用にさらに関する。
【0139】
以下の実施例により、本発明をさらに説明するが、本発明は、それらによって限定されることを意図されておらず、実施例におけるすべての部及びパーセントは、特に断らない限り、重量基準である。
【実施例】
【0140】
略語：
ｐｈｒ １００ゴム当たり（重量）
ｒｐｍ １分当たりの回転
Ｍｎ 数平均分子量
Ｍｗ 重量平均分子量
ＰＤＩ Ｍｗ／Ｍｎと定義される多分散指数
ＰＰｈ３ トリフェニルホスフィン
ＭＣＢ モノクロロベンゼン
ＲＴ 室温（２２±２℃）
ＲＤＢ ％単位での、残存二重結合、ＲＤＢ＝ＮＢＲが１００％のＲＤＢを有する状態で（１－水素化度）＊１００
ＮＨＣ Ｎ－ヘテロ環状カルベン
Ｃｙ シクロヘキシル環
Ｅｔ３Ｎ トリエチルアミン
ＩＭｅｓ Ｎ，Ｎ’－ビス（メシチル）イミダゾール－２－イリデン
ｐｈｒ １００ゴム当たり（重量）
ｒｐｍ １分当たりの回転
Ｍｎ 数平均分子量
Ｍｗ 重量平均分子量
ＰＤＩ Ｍｗ／Ｍｎと定義される多分散指数
ＰＰｈ３ トリフェニルホスフィン
ＭＣＢ モノクロロベンゼン
ＲＴ 室温（２２±２℃）
ＲＤＢ ％単位での、残存二重結合、ＲＤＢ＝ＮＢＲが１００％のＲＤＢを有する状態で（１－水素化度）＊１００
ＮＨＣ Ｎ－ヘテロ環状カルベン
Ｃｙ シクロヘキシル環
Ｅｔ３Ｎ トリエチルアミン
ＩＭｅｓ Ｎ，Ｎ’－ビス（メシチル）イミダゾール－２－イリデン
【0141】
Ａ 触媒の調製
Ａ１ ＮＨＣ配位子
Ｎ，Ｎ’－ビス（メシチル）イミダゾール－２－イリデン（ＩＭｅｓ）は、ＴＣＩから購入した。
Ａ１ ＮＨＣ配位子
Ｎ，Ｎ’－ビス（メシチル）イミダゾール－２－イリデン（ＩＭｅｓ）は、ＴＣＩから購入した。
【0142】
以下の触媒（ａ）及び（ｂ）を使用し；触媒（ｂ）は、以下に概要を示される文献に見いだされる手順と同様に調製した：
（ａ）ＲｈＣｌ（ＰＰｈ３）３（比較例において使用される）（ウィルキンソン触媒）
Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈから入手し、さらなる精製なしに使用した。
（ｂ）ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＩＭｅｓ）（ＰＣｙ３）（発明実施例において使用される）
錯体ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＰＣｙ３）２は、以下の通り、ＪａｍｅｓらのＡｄｖ．ｉｎ Ｃｈｅｍ．Ｓｅｒ．，１９６（１９８３）による手順に従って調製した：ＲｕＣｌ３・ｘＨ２Ｏ（０．６３５ｇ、２．５ｍｍｏｌ）をメトキシエタノール（１５ｍＬ）に溶解させた。５分後、ＰＣｙ３（２．０５６ｇ、７．５ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を２０分間還流下で加熱した。次いで、Ｅｔ３Ｎ（２ｍＬ）を添加した。混合物を別の６時間還流下で加熱し、次いで冷却した。微結晶オレンジ色生成物を濾過し、次いでトルエン（２回、各１０ｍＬ）で洗浄し、真空中で乾燥させた。生成物は、８０％収率（１．４５ｇ）で黄色結晶として得られた。ＭＣＢ中の飽和溶液に関するＦＴ－ＩＲは、１９０１ｃｍ－１に単一ピーク（ＣＯ）を与え、したがって可能な副生成物ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）２（ＰＣｙ３）２を含まないと考えられた。ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＰＣｙ３）２を、以下の通り、Ｎｏｌａｎら（Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ ２００１，２０，７９４）における手順に従ってＩＭｅｓと反応させた：１００ｍＬのフラスコにＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＰＣｙ３）２（５１０ｍｇ、０．７ｍｍｏｌ）及びＩＭｅｓ（３０２ｍｇ、１．０５ｍｍｏｌ）を装入し、脱ガスした。次いで、２０ｍＬのトルエンを注射器によって添加した。次いで、溶液を２時間８０℃に加熱し、その後、室温で１８時間撹拌した。溶媒を真空下で除去した。オレンジ黄色残留物を２０ｍＬのエタノール（脱ガスし、乾燥させた）に分散させ、懸濁液を濾過した。沈澱物をエタノールで洗浄し（２０ｍＬ、３回）、真空下で乾燥させた。生成物は、１８９７ｃｍ－１（文献ＣＨ２Ｃｌ２中で１８９６ｃｍ－１）に単一ピーク（ＣＯ）を有するオレンジ色結晶として得られた（１２５．７ｍｇ）。
（ａ）ＲｈＣｌ（ＰＰｈ３）３（比較例において使用される）（ウィルキンソン触媒）
Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈから入手し、さらなる精製なしに使用した。
（ｂ）ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＩＭｅｓ）（ＰＣｙ３）（発明実施例において使用される）
錯体ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＰＣｙ３）２は、以下の通り、ＪａｍｅｓらのＡｄｖ．ｉｎ Ｃｈｅｍ．Ｓｅｒ．，１９６（１９８３）による手順に従って調製した：ＲｕＣｌ３・ｘＨ２Ｏ（０．６３５ｇ、２．５ｍｍｏｌ）をメトキシエタノール（１５ｍＬ）に溶解させた。５分後、ＰＣｙ３（２．０５６ｇ、７．５ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を２０分間還流下で加熱した。次いで、Ｅｔ３Ｎ（２ｍＬ）を添加した。混合物を別の６時間還流下で加熱し、次いで冷却した。微結晶オレンジ色生成物を濾過し、次いでトルエン（２回、各１０ｍＬ）で洗浄し、真空中で乾燥させた。生成物は、８０％収率（１．４５ｇ）で黄色結晶として得られた。ＭＣＢ中の飽和溶液に関するＦＴ－ＩＲは、１９０１ｃｍ－１に単一ピーク（ＣＯ）を与え、したがって可能な副生成物ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）２（ＰＣｙ３）２を含まないと考えられた。ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＰＣｙ３）２を、以下の通り、Ｎｏｌａｎら（Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ ２００１，２０，７９４）における手順に従ってＩＭｅｓと反応させた：１００ｍＬのフラスコにＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＰＣｙ３）２（５１０ｍｇ、０．７ｍｍｏｌ）及びＩＭｅｓ（３０２ｍｇ、１．０５ｍｍｏｌ）を装入し、脱ガスした。次いで、２０ｍＬのトルエンを注射器によって添加した。次いで、溶液を２時間８０℃に加熱し、その後、室温で１８時間撹拌した。溶媒を真空下で除去した。オレンジ黄色残留物を２０ｍＬのエタノール（脱ガスし、乾燥させた）に分散させ、懸濁液を濾過した。沈澱物をエタノールで洗浄し（２０ｍＬ、３回）、真空下で乾燥させた。生成物は、１８９７ｃｍ－１（文献ＣＨ２Ｃｌ２中で１８９６ｃｍ－１）に単一ピーク（ＣＯ）を有するオレンジ色結晶として得られた（１２５．７ｍｇ）。
【0143】
Ｂ ニトリルブタジエンゴム
実施例において使用されるニトリル－ブタジエンゴムは、公知の方法による乳化重合によって得られ、表１に概要を示されるような特性を有する。
実施例において使用されるニトリル－ブタジエンゴムは、公知の方法による乳化重合によって得られ、表１に概要を示されるような特性を有する。
【0144】
【表2】
【0145】
Ｃ ニトリルゴムの水素化
セクションＥのもとで下記表に示されるように、触媒（ａ）及び（ｂ）は、０．０３ｐｈｒ～０．０６５ｐｈｒの範囲の量で使用し、水素化エンハンサー（Ｂ）は、０．０１ｐｈｒ～１．０ｐｈｒの範囲で使用した。
セクションＥのもとで下記表に示されるように、触媒（ａ）及び（ｂ）は、０．０３ｐｈｒ～０．０６５ｐｈｒの範囲の量で使用し、水素化エンハンサー（Ｂ）は、０．０１ｐｈｒ～１．０ｐｈｒの範囲で使用した。
【0146】
水素化のための条件は、以下の通りであった。
・８．３ＭＰａ（１２００ｐｓｉ）の水素圧力
・８００ｒｐｍの撹拌
・温度：後続の表に示されるように１２０℃～１５５℃で変動して可変
・時間：後続の表に示されるように水素化の進行に応じて可変
・８．３ＭＰａ（１２００ｐｓｉ）の水素圧力
・８００ｒｐｍの撹拌
・温度：後続の表に示されるように１２０℃～１５５℃で変動して可変
・時間：後続の表に示されるように水素化の進行に応じて可変
【0147】
水素化手順：
（１）ニトリルゴムを一定量のＭＣＢに溶解させてＮＢＲ溶液（１３重量％濃度）を形成した。溶液をオートクレーブ（６００ｍＬ容積又は２Ｌ容積）に入れ、２０分間窒素ガスをバブリングして溶解酸素を除去した。
（２）窒素防護下において、触媒を十分な量の脱ガスＭＣＢに溶解させた。窒素防護下で溶液を注射器により、オートクレーブに弁で連結されたステンレスボンベに移した。
（３）オートクレーブを所望の温度に加熱した後、水素化エンハンサー（Ｂ）を含む触媒溶液を、水素圧力を加えることによってオートクレーブ中に発射した。次いで、水素圧力を所望の値に上げた。
（４）サンプルを、ＦＴ－ＩＲ試験のために間隔を置いて採取してＲＤＢをモニターした。
（５）ＮＢＲ水素化の終了後、溶液を冷却し、圧力を解いた。
（１）ニトリルゴムを一定量のＭＣＢに溶解させてＮＢＲ溶液（１３重量％濃度）を形成した。溶液をオートクレーブ（６００ｍＬ容積又は２Ｌ容積）に入れ、２０分間窒素ガスをバブリングして溶解酸素を除去した。
（２）窒素防護下において、触媒を十分な量の脱ガスＭＣＢに溶解させた。窒素防護下で溶液を注射器により、オートクレーブに弁で連結されたステンレスボンベに移した。
（３）オートクレーブを所望の温度に加熱した後、水素化エンハンサー（Ｂ）を含む触媒溶液を、水素圧力を加えることによってオートクレーブ中に発射した。次いで、水素圧力を所望の値に上げた。
（４）サンプルを、ＦＴ－ＩＲ試験のために間隔を置いて採取してＲＤＢをモニターした。
（５）ＮＢＲ水素化の終了後、溶液を冷却し、圧力を解いた。
【0148】
Ｄ 分析及び試験
ＦＴ－ＩＲによる水素化度の測定：
水素化反応前、その間及びその後のニトリルゴムのスペクトルをＰｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ ｓｐｅｃｔｒｕｍ １００ ＦＴ－ＩＲ分光計に記録した。（水素化）ニトリルブタジエンゴムのＭＣＢ中溶液をＫＢｒペレット上にキャストして、乾燥させ、試験のための膜を形成させた。水素化度は、ＡＳＴＭ Ｄ５６７０－９５法に従ってＦＴ－ＩＲ分析により求めた。
ＦＴ－ＩＲによる水素化度の測定：
水素化反応前、その間及びその後のニトリルゴムのスペクトルをＰｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ ｓｐｅｃｔｒｕｍ １００ ＦＴ－ＩＲ分光計に記録した。（水素化）ニトリルブタジエンゴムのＭＣＢ中溶液をＫＢｒペレット上にキャストして、乾燥させ、試験のための膜を形成させた。水素化度は、ＡＳＴＭ Ｄ５６７０－９５法に従ってＦＴ－ＩＲ分析により求めた。
【0149】
ゲル含量の測定：
ポリマーのゲル含量は、メチルエチルケトン不溶性物質の百分率として測定する。０．１～０．２ｇのポリマーサンプルを容量フラスコに秤量し、室温で１８ｈ放置し、次いで２時間振盪した。結果として生じた混合物を遠心分離管に移し、２５，０００ｒｐｍで遠心分離した。液体部分をデカンテーションし、湿った残渣を秤量した。残渣を次いで一定重量まで６０℃で乾燥させた。ゲルの量は、遠心分離からの残渣で割った乾燥残渣の全質量と液体に溶解したポリマーとの間の差である。ゲル含量は、ゲルの量とポリマーサンプルの質量との間の関係であり、重量パーセント単位で示される。
ポリマーのゲル含量は、メチルエチルケトン不溶性物質の百分率として測定する。０．１～０．２ｇのポリマーサンプルを容量フラスコに秤量し、室温で１８ｈ放置し、次いで２時間振盪した。結果として生じた混合物を遠心分離管に移し、２５，０００ｒｐｍで遠心分離した。液体部分をデカンテーションし、湿った残渣を秤量した。残渣を次いで一定重量まで６０℃で乾燥させた。ゲルの量は、遠心分離からの残渣で割った乾燥残渣の全質量と液体に溶解したポリマーとの間の差である。ゲル含量は、ゲルの量とポリマーサンプルの質量との間の関係であり、重量パーセント単位で示される。
【0150】
ＩＣＰ－ＯＥＳによる水素化後の乾燥ＨＮＢＲ中のＲｕ含量の測定
ＨＮＢＲ中のルテニウム含量は、白金ジャー中５５０℃で灰分に変えられた０．５ｇのＨＮＢＲに関して測定した。残渣を塩酸に溶解させ、脱イオン水で希釈した。ルテニウム含量は、ルテニウムに特徴的である以下の波長２４０．２７２ｎｍ及び２６７．８７６ｎｍでＩＣＰ－ＯＥＳ（誘導結合プラズマ発光分析）によって測定した。
ＨＮＢＲ中のルテニウム含量は、白金ジャー中５５０℃で灰分に変えられた０．５ｇのＨＮＢＲに関して測定した。残渣を塩酸に溶解させ、脱イオン水で希釈した。ルテニウム含量は、ルテニウムに特徴的である以下の波長２４０．２７２ｎｍ及び２６７．８７６ｎｍでＩＣＰ－ＯＥＳ（誘導結合プラズマ発光分析）によって測定した。
【0151】
較正は、同じ波長でそれぞれの金属の酸性溶液に関して行った。固有波長の選択のために、サンプルマトリックスとの干渉は、回避される。金属含量の測定の前にピーク最大値の適切な調整を行った。また、較正曲線の線形領域で測定を行うために、金属溶液の濃度の調整も行った。
【0152】
Ｅ 結果
【0153】
【表3】
【0154】
【表4】
【0155】
Ｒｕ触媒（ｂ）と水素化エンハンサー（Ｂ）とを含むＥｘ．１は、ＣＥｘ．２よりも高い水素化度を有する。Ｅｘ．２は、ＣＥｘ．３よりも高い水素化度を有する。したがって、ＣａＣｌ２を含む本発明による触媒系を用いる水素化方法は、より高い水素化度をもたらす。
【0156】
【表5】
【0157】
Ｅｘ．３は、ＣＥｘ．２よりも高い水素化度を有する。Ｅｘ．４は、ＣＥｘ．３よりも高い水素化度を有する。
【0158】
【表6】
【0159】
Ｅｘ．５は、ＣＥｘ．３よりも高い水素化度を有する。Ｅｘ．６は、ＣＥｘ．３よりも高い水素化度を有する。Ｅｘ．７は、ＣＥｘ．３よりも高い水素化度を有する。
【0160】
上記の実施例は、一般式（Ｉ）による触媒系が、水素化増強添加物（Ｂ）なしの周知のウィルキンソン触媒Ｒｈ（ＰＰｈ３）３Ｃｌ又は触媒ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＩＭｅｓ）（ＰＣｙ３）単独よりも、水素化増強添加物（Ｂ）の存在下でニトリルゴムの水素化ではるかに活性であることを明らかに示す。これは、水素化プロセスを実施するためのコストの明確な減少をもたらす。
【0161】
必要とされる触媒の低い量を考慮すると、触媒又は触媒金属のための回収プロセスが － 樹脂での溶液スクラビングによって可能ではあるが － 実際に必要ではないことも示される。ニトリルゴムの水素化のための他の可能な金属、例えばパラジウム、ロジウム及びイリジウムと比較してルテニウムについての長期間のより低いコストのため及び触媒の合成調製が簡単なために明らかなコスト利点が達成される。
【0162】
ニトリルゴム基質に関しては水素化を問題なく行うために特別な要件は、全く必要とされない。これは、標準的な乳化剤系、例えば脂肪酸石鹸、ロジン石鹸、スルホネート又はスルフェート乳化剤及び標準的なレドックス活性化系を使用することによって調製される市販のニトリルゴムグレードを使用できることを意味する。標準的なＮＢＲ配合操作における有用性を単に確保すること以外、ＮＢＲの製造についてのさらなる特別な要件は、全くないため、非常に広範囲の市販のＮＢＲゴムを水素化ニトリルゴムに容易に転化することができ、現在入手可能なものと同程度にはるかに幅広い選択グレードを提供することを可能にする。
【0163】
実験の部において用いたすべての触媒がホスフィン配位子を含有するが、追加のＰＰｈ３を明らかに必要とするウィルキンソン触媒と異なり、ニトリルゴムの問題のない水素化のためにさらなる量のホスフィンを追加することは、必要とされない。
【0164】
（Ａ）と、（Ｂ）（ここで、（Ｂ）は、ＣａＣｌ２である）とを含む触媒系の存在下での水素化によって生じるＨＮＢＲは、Ｒｕの残存量が、ＩＣＰ－ＯＥＳによって測定される１５０ｐｐｍ以下、好ましくは１３０ｐｐｍ以下の範囲であり、ここで、Ｃａの残存量は、１００ｐｐｍ～１０，０００ｐｐｍ、好ましくは３００ｐｐｍ～５，０００ｐｐｍ、より好ましくは５００～５，０００ｐｐｍ、さらにより好ましくは１，０００ｐｐｍ～４，０００ｐｐｍの範囲であることを特徴とする。
【0165】
ＨＮＢＲ中のＲｕ及びＣａのこれらの残存量の影響を表Ｅ．５に示す。
【0166】
残存ルテニウム及びカルシウムイオンのプラス効果
Ｔｈｅｒｂａｎ（登録商標）３６２７をアセトンに溶解させ、振盪機上で２時間エタノール中のＲｕ化合物及びＣａＣｌ２溶液と混合した。溶液を５５℃でその後乾燥させて固体ゴムを得た。ゴムをオーブン中で１４０℃において４日間エージングした。
Ｔｈｅｒｂａｎ（登録商標）３６２７をアセトンに溶解させ、振盪機上で２時間エタノール中のＲｕ化合物及びＣａＣｌ２溶液と混合した。溶液を５５℃でその後乾燥させて固体ゴムを得た。ゴムをオーブン中で１４０℃において４日間エージングした。
【0167】
【表7】
【0168】
表Ｅ．５の結果は、ＨＮＢＲ中のＲｕ及び１，０００ｐｐｍ～４，０００ｐｐｍの範囲のＣａの残存量が、特に１４０℃で４日エージング後、ゲル含量及びムーニー増加にプラスの影響を及ぼすことを明らかに示す。水素化ニトリルゴムにおける低いゲル含量は、好ましいものであり、且つ加工性を向上させる。