特許 7437611 イオン源

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-02-15

(45)【発行日】2024-02-26

(54)【発明の名称】イオン源

(51)【国際特許分類】

   H01J 27/20 20060101AFI20240216BHJP

   H01J 37/08 20060101ALI20240216BHJP

【ＦＩ】

H01J27/20

H01J37/08

【請求項の数】 4

(21)【出願番号】P 2020101387

(22)【出願日】2020-06-11

(65)【公開番号】P2021197228

(43)【公開日】2021-12-27

【審査請求日】2023-04-04

(73)【特許権者】

【識別番号】302054866

【氏名又は名称】日新イオン機器株式会社

(72)【発明者】

【氏名】趙 維江

(72)【発明者】

【氏名】平井 裕也

(72)【発明者】

【氏名】足立 昌和

(72)【発明者】

【氏名】糸井 駿

【審査官】小林 幹

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１６－０７６３２２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１８－０４５９０５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１６－１１５５０８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０７－２７２６５６（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２００８／０２３０７１３（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｊ ２７／００－２７／２６

Ｈ０１Ｊ ３７／００－３７／３６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

プラズマ室に形成された開口を通じて、前記プラズマ室の壁面と物理的に非接触な状態でプラズマ室内に配置された部材を支持する支持部材と、
前記開口から前記プラズマ室の外部に前記プラズマ室内のガスが流出することを防止するための筒状のシール部材と、を有するイオン源で、
前記シール部材の軸方向で前記シール部材の一端が前記支持部材に固定されているとともに、前記シール部材の他端が、前記開口が形成された前記プラズマ室の壁面の一部と入れ子構造を成す、イオン源。

【請求項2】

前記シール部材の一端と前記支持部材にはネジ部が形成されており、各部材同士を螺合することで、前記シール部材の一端が前記支持部材に固定される、請求項１記載のイオン源。

【請求項3】

前記開口が形成された前記プラズマ室の壁面は溝部を備えており、
前記シール部材の他端が前記溝部に配置される、請求項１または２に記載のイオン源。

【請求項4】

前記溝部が円環状を成し、前記シール部材が円筒状を成す請求項３記載のイオン源。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

プラズマ室からのガスの流出を防止するためのシール部材を有するイオン源に関する。

【背景技術】

【0002】

プラズマ室と室内に配置されるカソードや反射電極は、プラズマ室の壁面に形成された開口を通じてプラズマ室の外部から支持されている。プラズマ室内にはプラズマ生成のためにガスが供給されているが、この開口を通じてプラズマ室の外部にガスが流出すると、プラズマの生成効率が低下する。
そこで、ガスの流出を防ぎ、ガスの利用効率向上を目的として、特許文献１に記載のシール部材が採用されている。

【0003】

図１２は特許文献１に記載のイオン源１の模式図である。このイオン源１は、傍熱型イオン源と呼ばれている。
カソード４は、カソードホルダ５によってプラズマ室２の開口４Ｈを通じてプラズマ室の外部から支持されている。フィラメント３に通電することでカソード４が加熱されて、カソード４から熱電子が放出される。
熱電子は、プラズマ室２に供給されたガスを電離し、アーク放電によってプラズマが室内に生成される。
プラズマ室２の外側には図示されない引出電極があり、プラズマ室２のイオン引出し口１１を通して、プラズマ室２で生成されたプラズマからイオンビームの引き出しが行われる。

【0004】

プラズマ室２の内壁は、プラズマによる内壁のスパッタリングを防止するためにライナー１０で保護されている。プラズマ室２には、カソードと対向する位置に反射電極７が配置されている。この反射電極７は、電極支持棒８によってプラズマ室２の開口７Ｈを通じてプラズマ室２の外部から支持されている。

【0005】

上述したプラズマ室２の開口４Ｈ、７Ｈを塞ぐように、シール部材６、９が設けられていて、これらのシール部材６、９によって開口４Ｈ、７Ｈからのガスの流出が防止されている。

【0006】

図１３は特許文献１に挙げられる反射電極側のシール部材９の構成例である。シール部材６の構成については、形状は異なるもののシール部材９と類似している。このため、ここではシール部材９の構造についてのみ説明する。
シール部材９は、シール部材９の表面２２をプラズマ室２の外壁面に当接された状態でボルトとナットの締結によりプラズマ室２に取り付けられている。
図示されないプラズマ室２の壁面には、シール部材９のボルト挿通孔２１と同等の孔が形成されている。この孔を通してプラズマ室２の外側から内側にボルトが挿入されていて、プラズマ室２の内壁でナットに螺合されている。
このシール部材９は、円筒状の空間を備えていて、同空間にはガスのコンダクタンスを低下させるための複数のリング状突起部２４が設けられている。また、同空間には反射電極支持棒８を挿入するための開口２３が形成されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0007】

【文献】米国特許公開公報ＵＳ２００８／０２３０７１３

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

特許文献１のシール部材９の構成であれば、ガスの流出を防止することはできるが、反射電極支持棒８と開口２３との間には隙間が形成されているため、この隙間から少量のガスが流出する。
そこで、本発明では、より効果的にプラズマ室からのガス漏れを低減し、ガスの利用効率の向上を図ることのできるイオン源を提供することを期初の課題とする。

【課題を解決するための手段】

【0009】

イオン源は、
プラズマ室に形成された開口を通じて、前記プラズマ室の壁面と物理的に非接触な状態でプラズマ室内に配置された部材を支持する支持部材と、
前記開口から前記プラズマ室の外部に前記プラズマ室内のガスが流出することを防止するための筒状のシール部材と、を有するイオン源で、
前記シール部材の軸方向で前記シール部材の一端が前記支持部材に固定されているとともに、前記シール部材の他端が、前記シール部材の径方向の少なくとも一部で、前記開口が形成された前記プラズマ室の壁面と重なっている。

【0010】

上記構成のイオン源であれば、シール部材の軸方向でシール部材の一端が支持部材に固定されているので、特許文献１で問題としていたガス流出の原因となる隙間がなくなる、または極力小さなものにすることが可能となる。
これにより、隙間起因のガス流出が減り、ガスの利用効率が向上する。
また、シール部材の軸方向において、シール部材の他端が、シール部材の径方向の少なくとも一部で、開口が形成されたプラズマ室の壁面と重なる構成とすることで、重なり部分が入れ子構造となり、プラズマ室の外壁面に沿ったガスの流出も防止することができる。

【0011】

具体的な固定構造としては、
前記シール部材の一端と前記支持部材にはネジ部が形成されており、
各部材のネジ部を用いて部材同士を螺合することで、前記シール部材の一端が前記支持部材に固定されている構造とすることが望ましい。

【0012】

上記構成であれば、ネジの開け閉めでシール部材の位置調整が可能となる等、シール部材の取り付けが簡便となる。

【0013】

より望ましくは、前記シール部材の他端が、前記シール部材の径方向の全周で、前記開口が形成された前記プラズマ室の壁面と重なっている。

【0014】

上記構成であれば、プラズマ室の外壁面に沿ったガスの流出をより効果的に防止することができる。

【0015】

具体的なプラズマ室の外壁面に沿ったガスの流出を防止する構造としては、
前記開口が形成された前記プラズマ室の壁面は溝部を備えており、
前記シール部材の他端が前記溝部に配置される構造が挙げられる。

【0016】

上記構造であれば、追加部材や難しい加工が必要なく、低コスト化を図ることができる。

【0017】

シール部材の取り付けをより簡便に行うには、
前記溝部が円環状を成し、前記シール部材が円筒状を成す構成とすることが望ましい。

【0018】

上記構成であれば、シール部材の軸方向における他端をプラズマ室の壁面の溝に配置しつつ、シール部材を回転させてシール部材の軸方向における位置調整を行うことが可能となる。

【発明の効果】

【0019】

シール部材の軸方向でシール部材の一端が支持部材に固定されているので、特許文献１で問題としていたガス流出の原因となる隙間がなくなる、または極力小さなものにすることが可能となる。
これにより、隙間起因のガス流出が減り、ガスの利用効率が向上する。
また、シール部材の軸方向において、シール部材の他端が、シール部材の径方向の少なくとも一部で、開口が形成されたプラズマ室の壁面と重なる構成とすることで、重なり部分が入れ子構造となり、プラズマ室の外壁面に沿ったガスの流出も防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【0020】

【図1】イオン源の構成例を示す模式的断面図

【図2】図１に示すＣ１部位を拡大した模式的断面図

【図3】図２に記載の主要部材を分解したときの状態を示す斜視図

【図4】図１に示すＣ２部位を拡大した模式的断面図

【図5】図４に記載の主要部材を分解したときの状態を示す斜視図

【図6】シール部材に係る変形例を示す模式図（Ａ）ＺＸ平面での模式的断面図（Ｂ）ＹＺ平面での模式的平面図

【図7】シール部材に係る別の変形例を示す模式図（Ａ）ＺＸ平面での模式的断面図（Ｂ）ＹＺ平面での模式的平面図

【図8】シール部材に係る他の変形例を示す模式図（Ａ）ＺＸ平面での模式的断面図（Ｂ）ＹＺ平面での模式的平面図

【図9】シール部材に係る他の変形例を示す斜視図

【図10】シール部材に係る他の変形例を示す模式的断面図（Ａ）プラズマ室壁面とシール部材他端との入れ子構造に係る変形例（Ｂ）シール部材一端の構造に係る変形例（Ｃ）シール部材一端の構造に係る別の変形例

【図11】シール部材の固定構造に係る変形例を示す模式的断面図

【図12】従来技術のイオン源の構成を示す模式的断面図

【図13】従来技術のシール部材の構成を示す斜視図

【発明を実施するための形態】

【0021】

図１は本発明に係るイオン源３１の構成例を示す模式的断面図である。図１２と符号が共通する部材は、同一の構成である。図１の構成では、図１２で反射電極が取り付けられていた場所にスパッタターゲット３４が設けられている。図１２の構成との主な違いは、カソード４側のシール部材３２とスパッタターゲット３４側のシール部材３３の構造と、カソードホルダ５０とターゲット支持棒３５の構造である。
スパッタターゲット３４側の要部Ｃ１とカソード４側の要部Ｃ２に関し、図２乃至図５を用いて以下に詳細を説明する。

【0022】

図２は、図１のＣ１部位を拡大した模式的断面図である。プラズマ室２は６枚の板から構成されているが、図２は要部を拡大した断面図であるため、図には一部の壁面（２Ａ、２Ｂ、２Ｃ）のみが描かれている。なお、図示される壁面２Ｂには、図１のイオン引出し口１１が形成されている。

【0023】

スパッタターゲット３４は締結部Ｓ３でターゲットホルダ３６にネジ止めされていて、ターゲットホルダ３６は締結部Ｓ２でターゲット支持棒３５にネジ止めされている。
ターゲット支持棒３５は、プラズマ室２の開口２ＡＨを通して、プラズマ室２の外部からスパッタターゲット３４を支持するための部材で、スパッタターゲット３４と反対側の端部はボルトナットからなる締結具３８でクランプ部材３７に固定されている。

【0024】

本発明のスパッタターゲット３４側のシール部材３３は円筒状の部材であり、軸方向（図の上下方向）の一端３３Ｅ２が締結部Ｓ１でターゲット支持棒３５にネジ止めされている。
一方、シール部材３３の軸方向（図の上下方向）における他端３３Ｅ１は、壁面２Ａに形成された環状の溝部Ｇ１内に配置されている。より望ましくは、シール部材３３の軸方向で壁面２Ａの溝部Ｇ１の底にシール部材３３の他端３３Ｅ１の先端が当接するように、締結部Ｓ１でターゲット支持棒３５に対するシール部材３３の位置調整が実施される。
環状の溝部Ｇ１と円筒状のシール部材３３の組み合わせであれば、ターゲット支持棒３５を固定した後で、シール部材３３を回転することで上述したシール部材３３のネジ止めによる位置調整が可能となる。
なお、シール部材３３及び後述するシール部材３２は耐熱性、腐食性が高いＡｌ_２Ｏ_３やＢＮ等の絶縁材料で構成されている。

【0025】

図３は、図２に記載の主要部材を分解したときの状態を示す斜視図である。図示される一点鎖線は部材間の連結関係を示しており、後述する他の図面においても同様である。
ターゲット支持棒３５には、ネジ部Ｓ１１、Ｓ２１が形成されている。シール部材３３の軸方向における一端３３Ｅ２には、ターゲット支持棒３５のネジ部Ｓ１１に対応するネジ部Ｓ１２が形成されている。また、ターゲットホルダ３６には、ターゲット支持棒３５のネジ部Ｓ２１に対応するネジ部Ｓ２２が形成されている。
図２のクランプ部材３７は、図３に示される２つのクランプバー３７Ａ、３７Ｂで構成されている。クランプバー３７Ａ、３７Ｂの所定部位にターゲット支持棒３５の端部を挟み込み、ボルト３８Ａ、ナット３８Ｂからなる締結具で２つのクランプバーを締め付けることでターゲット支持棒３５を固定している。

【0026】

上述した構成のシール部材３３であれば、シール部材３３の軸方向でシール部材３３の一端３３Ｅ２がターゲット支持棒３５に固定されているので、特許文献１で問題としていたガス流出の原因となる隙間をなくすことが可能となる。
また、シール部材３３の軸方向において、シール部材３３の他端３３Ｅ１が、シール部材３３の径方向の全周で、プラズマ室の壁面２Ａと重なっていることで、重なり部分が入れ子構造となり、プラズマ室２の外壁面に沿ったガスの流出も十分に防止することができる。
これらの構造によって、特許文献１の構成に比べてガスの利用効率が向上する。

【0027】

上述した実施形態は、スパッタターゲット３４側のシール部材３３についてのものであったが、カソード４側のシール部材３２についても同様の構成を採用し、ガスの利用効率の向上を図ることができる。

【0028】

図４は、図１に示すＣ２部位を拡大した模式的断面図である。
カソード４は、円柱状をしており、大径部と小径部を有している。カソード４の小径部には窪みがあり、この窪みに環状のワイヤーＷが取り付けられることでカソードホルダ５０にカソード４が支持されている。
カソードホルダ５０はクランプ部材３９に締結具３８を用いて固定されており、クランプ部材３９は絶縁部材４１を介してクランプ部材４０に取り付けられている。
クランプ部材４０は、カソード４と所定距離離間させた状態で締結具３８を用いてフィラメント３を固定支持する部材である。

【0029】

カソードホルダ５０は、プラズマ室２の壁面２Ｄに形成された開口２ＤＨを通してプラズマ室２の外部からカソード４を支持する部材であり、前述の実施形態で言うところのターゲット支持棒３５と同様の支持部材である。このカソードホルダ５０に対して、小径部と大径部を有する概略円筒状のシール部材３２の軸方向（図の上下方向）における一端３２Ｅ２が締結部Ｓ４でネジ止めされている。
また、シール部材３２の軸方向（図の上下方向）における他端３２Ｅ１はプラズマ室２の壁面２Ｄに形成された環状の溝部Ｇ２に配置されている。より望ましくは、シール部材３２の軸方向で壁面２Ｄの溝部Ｇ２の底にシール部材３２の他端３２Ｅ１の先端が当接するように、締結部Ｓ４でカソードホルダ５０に対するシール部材３２のネジ止めによりシール部材３２の位置調整が実施される。
スパッタターゲット３４側のシール部材３３と同様に、このシール部材３２の位置調整についても、円筒形状のシール部材３２と環状の溝部Ｇ２との組み合わせから、各部の組付けを終えた後でシール部材３２の位置調整を実施することが可能となる。

【0030】

図５は、図４に記載の主要部材を分解したときの状態を示す斜視図である。これまでに説明した図に記載の部材と共通する部材については同一の符号を使用しているため、その説明は省略する。
プラズマ室２を構成する壁面２Ｄにはカソードホルダ５０とこれに支持されるカソード４が挿通される開口２ＤＨが形成されている。カソードホルダ５０は、カソード４を支持している側と反対側の端部が２つのクランプバー３９Ａ、３９Ｂの間に配置され、締結具３８でクランプバー３９Ａ、３９Ｂを締め付けることで各クランプバー３９Ａ、３９Ｂの間に固定されている。
カソードホルダ５０が固定されている側の端部にはネジ部Ｓ４１が形成されており、このネジ部Ｓ４１とシール部材３２の一端３２Ｅ２に形成されたネジ部Ｓ４２とが螺合することで、シール部材３２がカソードホルダ５０に取り付けられる。

【0031】

フィラメント３は２本の脚を有し、各脚はクランプバー４０Ａ、４０Ｂに形成された貫通孔に挿入されている。各クランプバー４０Ａ、４０Ｂは板４０Ｃを取り付けるための空間を有しており、板４０Ｃを締結具３８で締め付けることでフィラメント３の各脚を各クランプバー４０Ａ、４０Ｂに固定するように構成されている。

【0032】

上述した実施形態では、プラズマ室２を構成する壁面に環状の溝部を形成し、ここに円筒状のシール部材の端部を配置する構成であったが、本発明で想定される構成はこの構成に限られるものではない。
以下、シール部材とシール部材の端部が配置される壁面の構成についての変形例を説明する。
スパッタターゲット３４側のシール部材３３とプラズマ室２を構成する壁面２Ａの構成についての変形例と、カソードホルダ５０側のシール部材３２とプラズマ室２を構成する壁面２Ｄの構成についての変形例とは、類似しており、要となる構成は同一である。
この点から、以下の変形例の説明ではスパッタターゲット３４側の構成だけについて説明するが、同様の構成はカソードホルダ５０側にも適用できる。

【0033】

図６は、シール部材３３に係る第一の変形例を示す模式図である。図６（Ａ）はＺＸ平面での模式的断面図を示し、図６（Ｂ）はＹＺ平面での模式的平面図を示している。
これまでの実施形態では、プラズマ室２を構成する壁面２Ａの表面を部分的に削って環状の溝部Ｇ１を形成していたが、図６（Ａ）に描かれているように、壁面２Ａを部分的に突出させて環状の溝部Ｇ１を形成するようにしてもよい。
なお、壁面２Ａの溝部Ｇ１の形成にあたっては、壁面２Ａを削り出しで形成してもいいが、壁面２Ａに別部材を取り付けて突出部位を形成するようにしてもよい。

【0034】

図７は、シール部材３３に係る第二の変形例を示す模式図である。図７（Ａ）はＺＸ平面での模式的断面図を示し、図７（Ｂ）はＹＺ平面での模式的平面図を示している。
これまでの実施形態との違いは、環状の溝部Ｇ１の代わりに、壁面２Ａに環状の突起部２Ａ１を形成し、その内側にシール部材３３の軸方向（Ｘ方向）における他端３３Ｅ１を配置している。

【0035】

この構成でも先の実施形態の構成と同じく、シール部材３２の径方向（Ｚ方向）において、シール部材３３の軸方向（Ｘ方向）における他端３３Ｅ１が突起部２Ａ１と重なる、換言すれば入れ子構造になるため、壁面２Ａとシール部材３３の間からガスが流出することを防止することができる。
なお、突起部２Ａ１は壁面２Ａと別部材で構成してもいい。また、図７の突起部２Ａ１を形成する際に、壁面２Ａのシール部材３３と対向する中央部分のみを削って突起部２Ａ１を形成するようにしてもよい。
さらに、突起部２Ａ１をシール部材３３の他端３３Ｅ１の外側に配置する構成に代えて、突起部２Ａ１をシール部材３３の他端３３Ｅ１の内側に配置する構成にしてもよく、同等の効果を奏することができる。

【0036】

図８は、シール部材３３に係る第三の変形例を示す模式図である。図８（Ａ）はＺＸ平面での模式的断面図を示し、図８（Ｂ）はＹＺ平面での模式的平面図を示している。
これまでの実施形態との違いは、図８（Ｂ）に描かれているように、突起部２Ａ１を部分的に形成している点にある。図８のように突起部２Ａ１を部分的に形成する構成であっても、突起部２Ａ１が形成されている部位については先の実施形態で述べたガス流出を防止する効果を奏することができる。

【0037】

図９は、シール部材３３に係る第四の変形例を示す斜視図である。
これまでの実施形態では、壁面２Ａに形成された環状の溝部Ｇ１にシール部材３３の他端３３Ｅ１を配置する構成であったが、図９に描かれているように、溝部Ｇ１の形状を矩形状とし、そこに角筒形状をしたシール部材３３の他端３３Ｅ１を配置する構成にしてもよい。
なお、この構成の場合、物理的な干渉が起きることから、ターゲット支持棒３５を固定した後で、溝部Ｇ１にシール部材３３の他端３３Ｅ１が配置された状態でシール部材３３を回転させてシール部材３３の位置調整を行うことは不可能となる。
このことから、先にターゲット支持棒３５に対するシール部材３３の取り付け位置の調整を実施した後で、ターゲット支持棒３５の位置を固定することになる。

【0038】

図１０は、シール部材に係る第五の変形例を示す模式的断面図である。図１０（Ａ）はプラズマ室２の壁面２Ａとシール部材３３の他端３３Ｅ１との入れ子構造に係る変形例であり、図１０（Ｂ）はシール部材３３の一端３３Ｅ２の構造に係る変形例である。また、図１０（Ｃ）はシール部材３３の一端３３Ｅ２の構造に係る別の変形例である。

【0039】

図１０（Ａ）に描かれているように、環状の溝部Ｇ１をシール部材３３の他端３３Ｅ１に形成しておき、ここに壁面２Ａの突起部２Ａ１を配置する構成にしてもよい。
これまでの実施形態ではシール部材３３の一端３３Ｅ２を部分的にシール部材３３の外側に突出させていたが、図１０（Ｂ）に描かれているように、一端３３Ｅ２の厚みを増し、突出部位をなくしシール部材３３の一端３３Ｅ２を面一としてもよい。ただし、材料費の観点からは、図１０（Ａ）や後述する図１０（Ｃ）のように一端３３Ｅ２を突出させた構造を用いる方が望ましい。
さらに、図１０（Ｃ）に描かれているように、シール部材３３の一端３３Ｅ２を部分的にシール部材３３の内側に突出させる構成にしてもよい。
なお、図１０（Ｂ）、図１０（Ｃ）の構成を採用する場合、シール部材３３の他端３３Ｅ１と壁面２Ａの構成は必ずしも図示される構成を採用する必要はなく、これまでの実施形態で説明した様々な構成を採用してもよい。

【0040】

これまでの実施形態では、シール部材３３をターゲット支持棒３５にネジ止めする構成を挙げていたが、両部材の固定については図１１に示す構成を採用してもよい。
図１１では、ターゲット支持棒３５に溝部Ｇ３を形成し、シール部材３３の一端３３Ｅ２に形成された突起部４２を嵌合する構成が採用されている。
このような固定構造を採用しても、特許文献１で問題にしていた隙間がなくなるため、特許文献１に比べて高いガスの流出防止効果を得ることが出来る。
なお、一端３３Ｅ２に形成される突起部４２は環状の突起であってもいいが、周方向において部分的に突出した構成であってもよい。さらに、溝部Ｇ３と突起部４２を形成する部材を反対にしておいてもいい。つまり、溝部Ｇ３をシール部材３３の一端３３Ｅ２に形成し、ターゲット支持棒３５に突起部４２を形成しておいてもいい。

【0041】

その他、前述した以外に、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良および変更を行っても良いのはもちろんである。
例えば、本発明の実施形態では、カソード４に対向した位置にスパッタターゲット３４を配置した構成を採用していたが、スパッタターゲット３４に代えて、特許文献１と同様の反射電極を配置する構成にも適用できる。
また、これまでの実施形態では、２つのシール部材３２、３３を備える構成について説明したが、本発明のイオン源３１はいずれか一方のシール部材を備える構成であってもよい。そのような構成であっても、シール部材単独でみたときのガスの流出防止効果は従来技術よりも優れている。

【符号の説明】

【0042】

２ プラズマ室
２ＡＨ、２ＤＨ 開口
２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄ プラズマ室の壁面
３２、３３ シール部材
３１ イオン源
３５、５０ 支持部材（ターゲット支持棒、カソードホルダ）

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】