特許 7441664 基板処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-02-21

(45)【発行日】2024-03-01

(54)【発明の名称】基板処理装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/027 20060101AFI20240222BHJP

   G03F 7/26 20060101ALI20240222BHJP

   B05C 11/08 20060101ALI20240222BHJP

【ＦＩ】

H01L21/30 564C

H01L21/30 562

G03F7/26

B05C11/08

【請求項の数】 13

(21)【出願番号】P 2020020873

(22)【出願日】2020-02-10

(65)【公開番号】P2021128957

(43)【公開日】2021-09-02

【審査請求日】2022-12-19

(73)【特許権者】

【識別番号】000207551

【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス

(74)【代理人】

【識別番号】100108523

【弁理士】

【氏名又は名称】中川 雅博

(74)【代理人】

【識別番号】100098305

【弁理士】

【氏名又は名称】福島 祥人

(74)【代理人】

【識別番号】100125704

【弁理士】

【氏名又は名称】坂根 剛

(74)【代理人】

【識別番号】100187931

【弁理士】

【氏名又は名称】澤村 英幸

(72)【発明者】

【氏名】恩地 良知

(72)【発明者】

【氏名】森岡 一夫

(72)【発明者】

【氏名】稲垣 幸彦

(72)【発明者】

【氏名】古川 健太

【審査官】大谷 純

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１９－０８０００３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００４－１７２２２３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００７－０５６５３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１８－１９５６０７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０２－２４１５７１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１０－１２３８７１（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｈ０１Ｌ ２１／０２７

Ｇ０３Ｆ ７／２６

Ｂ０５Ｃ ７／００－ ２１／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板に処理液を用いた処理を行う基板処理装置であって、
前記処理液を吐出する第１の液吐出部と、
前記第１の液吐出部から吐出された前記処理液を受け止める第１の受け止め部と、
前記第１の液吐出部および前記第１の受け止め部を収容する第１の処理室と、
前記処理液を収集する第１の液収集部と、
前記第１の処理室の下部に設けられ、前記第１の液収集部を収容する第１の収集室と、
前記第１の処理室と前記第１の収集室とを区画する第１の隔壁と、
前記第１の隔壁を貫通して前記第１の受け止め部と前記第１の液収集部との間に接続される第１の収集配管と、
前記処理液を吐出する第２の液吐出部と、
前記第２の液吐出部から吐出された前記処理液を受け止める第２の受け止め部と、
前記第１の収集室の下部に設けられ、前記第２の液吐出部および前記第２の受け止め部を収容する第２の処理室と、
前記処理液を収集する第２の液収集部と、
前記第２の処理室の下部に設けられ、前記第２の液収集部を収容する第２の収集室と、
前記第２の処理室と前記第２の収集室とを区画する第２の隔壁と、
前記第２の隔壁を貫通して前記第２の受け止め部と前記第２の液収集部との間に接続される第２の収集配管と、
前記第２の隔壁を貫通して前記第１の液収集部と前記第２の液収集部との間に接続される第３の収集配管とを備える、基板処理装置。

【請求項2】

前記第１の収集配管は、
下流端から上方に延びる第１の下流部分と、
前記第１の下流部分の外周面から外方へ突出する係合部とを有し、
前記第１の液収集部は、
前記第１の下流部分が引抜可能に挿入された開口部と、
前記第１の下流部分が前記開口部に挿入された状態で前記係合部が係合する被係合部とを有する、請求項１記載の基板処理装置。

【請求項3】

前記第１の収集配管は、
前記第１の下流部分を有する第１の部分配管と、
前記第１の隔壁を上下に貫通するように前記第１の部分配管の上流に設けられた第２の部分配管とを含み、
前記第１の部分配管は、
上流端から下方に延びる第１の上流部分をさらに有し、
前記第２の部分配管は、
前記第１の隔壁から下方に延びる第２の下流部分を有し、
前記第１の上流部分は、前記第２の下流部分に対して上下動可能に前記第２の下流部分に嵌合された、請求項２記載の基板処理装置。

【請求項4】

前記第１の液収集部の内部に前記処理液よりも低い粘度を有するリンス液を供給するリンス液供給部をさらに備える、請求項３記載の基板処理装置。

【請求項5】

前記リンス液供給部は、前記第１の収集配管内に前記リンス液を供給可能に構成された、請求項４記載の基板処理装置。

【請求項6】

前記リンス液供給部は、前記第１の液収集部の内部に向けて所定の広がり角で前記リンス液を噴射可能に構成された、請求項４または５記載の基板処理装置。

【請求項7】

前記処理液は、ポリイミドを含み、
前記リンス液は、ポリイミドを溶解させる有機溶剤を含む、請求項４～６のいずれか一項に記載の基板処理装置。

【請求項8】

前記第１の液収集部は、
前記処理液を排出する排出口と、
前記排出口へ向かって前記処理液を流す傾斜面とを有する、請求項１～７のいずれか一項に記載の基板処理装置。

【請求項9】

前記第１の収集室には、前記第１の収集室の内部空間と前記第１の収集室の外部とを連通させるメンテナンス用開口部が形成されるとともに、前記メンテナンス用開口部を開閉可能な開閉部材が取り付けられた、請求項１～８のいずれか一項に記載の基板処理装置。

【請求項10】

前記第１の処理室に収容され、基板を水平姿勢で保持する基板保持部をさらに備え、
前記第１の液吐出部は、
前記基板保持部により保持された基板の上方の処理位置と基板の外方の待機位置との間で移動可能に設けられ、前記処理位置および前記待機位置で前記処理液を吐出するノズルを含み、
前記第１の受け止め部は、
前記基板保持部により保持される基板を取り囲むように設けられ、基板に供給された前記処理液を受け止めるカップを含み、
前記第１の収集配管は、
前記第１の隔壁を貫通して前記カップと前記第１の液収集部との間に接続されるカップ配管を含む、請求項１～９のいずれか一項に記載の基板処理装置。

【請求項11】

前記第１の受け止め部は、
前記待機位置において前記ノズルから吐出される前記処理液を受け止めるノズル容器をさらに含み、
前記第１の収集配管は、
前記第１の隔壁を貫通して前記ノズル容器と前記第１の液収集部との間に接続される容器配管をさらに含む、請求項１０記載の基板処理装置。

【請求項12】

基板に処理液を用いた処理を行う基板処理装置であって、
前記処理液を吐出する第１の液吐出部と、
前記第１の液吐出部から吐出された前記処理液を受け止める第１の受け止め部と、
前記第１の液吐出部および前記第１の受け止め部を収容する第１の処理室と、
前記処理液を収集する第１の液収集部と、
前記第１の処理室の下部に設けられ、前記第１の液収集部を収容する第１の収集室と、
前記第１の処理室と前記第１の収集室とを区画する第１の隔壁と、
前記第１の隔壁を貫通して前記第１の受け止め部と前記第１の液収集部との間に接続される第１の収集配管とを備え、
前記第１の収集配管は、
下流端から上方に延びる第１の下流部分と、
前記第１の下流部分の外周面から外方へ突出する係合部とを有し、
前記第１の液収集部は、
前記第１の下流部分が引抜可能に挿入された開口部と、
前記第１の下流部分が前記開口部に挿入された状態で前記係合部が係合する被係合部とを有し、
前記第１の収集配管は、
前記第１の下流部分を有する第１の部分配管と、
前記第１の隔壁を上下に貫通するように前記第１の部分配管の上流に設けられた第２の部分配管とを含み、
前記第１の部分配管は、
上流端から下方に延びる第１の上流部分をさらに有し、
前記第２の部分配管は、
前記第１の隔壁から下方に延びる第２の下流部分を有し、
前記第１の上流部分は、前記第２の下流部分に対して上下動可能に前記第２の下流部分に嵌合され、
前記第１の上流部分が前記第２の下流部分に対して上下動可能な範囲は、前記第１の下流部分のうち前記開口部に挿入される部分の上下方向の長さよりも大きい、基板処理装置。

【請求項13】

基板に処理液を用いた処理を行う基板処理装置であって、
前記処理液を吐出する第１の液吐出部と、
前記第１の液吐出部から吐出された前記処理液を受け止める第１の受け止め部と、
前記第１の液吐出部および前記第１の受け止め部を収容する第１の処理室と、
前記処理液を収集する第１の液収集部と、
前記第１の処理室の下部に設けられ、前記第１の液収集部を収容する第１の収集室と、
前記第１の処理室と前記第１の収集室とを区画する第１の隔壁と、
前記第１の隔壁を貫通して前記第１の受け止め部と前記第１の液収集部との間に接続される第１の収集配管と、
前記第１の液収集部の内部に前記処理液よりも低い粘度を有するリンス液を供給するリンス液供給部とを備え、
前記第１の液収集部は、
当該第１の液収集部の下端部に形成された前記処理液を排出する排出口と、
前記排出口へ向かって前記処理液を流す傾斜面とを有し、
前記リンス液供給部は、前記傾斜面の上方の位置から前記第１の液収集部の内部に向けて所定の広がり角で前記リンス液を噴射可能に構成された、基板処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板に処理液を用いた所定の処理を行う基板処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来より、液晶表示装置または有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等に用いられるＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、半導体基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等の各種基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が用いられる。

【0003】

このような基板処理装置では、例えば１枚の基板に対して複数の異なる処理が連続的に行われる。特許文献１に記載された基板処理装置には、基板の被処理面にレジスト膜を形成するための塗布処理部が設けられている。その塗布処理部は、基板を水平姿勢で保持しつつ回転させるスピンチャックと、基板上に塗布液を供給する塗布液ノズルと、スピンチャックの周りを取り囲むように設けられるカップとを備える。

【0004】

基板にレジスト膜を形成する際には、スピンチャックにより回転される基板の被処理面に、塗布液ノズルからレジスト膜用の塗布液が吐出される。吐出された塗布液が、基板の被処理面全体に広がることにより基板上にレジスト膜が形成される。このとき、基板の周囲に飛散する塗布液は、カップにより受け止められる。カップに回収配管が接続されている。カップにより受け止められた使用済みの塗布液は、カップから回収配管を通して回収タンクに導かれる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【文献】特開２０１７－１１０９５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

上記の基板処理装置において、塗布液の種類によっては回収配管内で塗布液が詰まる可能性がある。例えば、使用される塗布液が高い粘度を有する場合、その塗布液は回収配管内で詰まりやすい。回収配管が詰まると、基板処理装置のダウンタイムが長くなる。基板処理装置のダウンタイムが長くなることを防止するために塗布処理部を開放して回収配管のメンテナンスを行うと、メンテナンスが行われるごとに塗布処理部の外部から塗布処理部内に汚染物質が進入する可能性がある。

【0007】

本発明の目的は、基板処理装置のダウンタイムが長くなることを防止するとともに基板の処理室内の汚染を防止することを可能にする基板処理装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0008】

（１）第１の発明に係る基板処理装置は、基板に処理液を用いた処理を行う基板処理装置であって、処理液を吐出する第１の液吐出部と、第１の液吐出部から吐出された処理液を受け止める第１の受け止め部と、第１の液吐出部および第１の受け止め部を収容する第１の処理室と、処理液を収集する第１の液収集部と、第１の処理室の下部に設けられ、第１の液収集部を収容する第１の収集室と、第１の処理室と第１の収集室とを区画する第１の隔壁と、第１の隔壁を貫通して第１の受け止め部と第１の液収集部との間に接続される第１の収集配管と、処理液を吐出する第２の液吐出部と、第２の液吐出部から吐出された処理液を受け止める第２の受け止め部と、第１の収集室の下部に設けられ、第２の液吐出部および第２の受け止め部を収容する第２の処理室と、処理液を収集する第２の液収集部と、第２の処理室の下部に設けられ、第２の液収集部を収容する第２の収集室と、第２の処理室と第２の収集室とを区画する第２の隔壁と、第２の隔壁を貫通して第２の受け止め部と第２の液収集部との間に接続される第２の収集配管と、第２の隔壁を貫通して第１の液収集部と第２の液収集部との間に接続される第３の収集配管とを備える。

【0009】

その基板処理装置においては、第１の処理室内で、第１の液吐出部から吐出された処理液を用いて基板に処理が行われる。第１の液吐出部から吐出された処理液は、第１の受け止め部により受け止められ、第１の収集配管により第１の液収集部に導かれる。

【0010】

第１の収集配管は、第１の隔壁を貫通して第１の受け止め部と第１の液収集部とを接続する。それにより、第１の収集配管が第１の隔壁を迂回して第１の受け止め部と第１の液収集部とを接続する構成に比べて、第１の収集配管を水平方向に大きく延ばす必要がない。そのため、第１の収集配管の内部では、処理液が自重で流れやすい。また、第１の収集配管の長さを短くすることができる。したがって、第１の収集配管における処理液の詰まりの発生が低減される。

【0011】

さらに、上記の基板処理装置においては、第１の処理室と第１の収集室とが第１の隔壁で区画されている。そのため、第１の液収集部および第１の収集配管のメンテナンス時に第１の収集室が開放される場合でも、第１の隔壁により第１の処理室の外部から第１の収集室を通して第１の処理室内に汚染物質が進入することが防止される。

【0012】

これらの結果、基板処理装置のダウンタイムが長くなることを防止するとともに基板の第１の処理室内の汚染を防止することが可能になる。
また、第２の収集配管は、第２の隔壁を貫通して第２の受け止め部と第２の液収集部とを接続する。それにより、第２の収集配管が第２の隔壁を迂回して第２の受け止め部と第２の液収集部とを接続する構成に比べて、第２の収集配管を水平方向に大きく延ばす必要がない。そのため、第２の収集配管の内部では、処理液が自重で流れやすい。また、第２の収集配管の長さを短くすることができる。したがって、第２の収集配管における処理液の詰まりの発生が低減される。
さらに、第３の収集配管は、第２の隔壁を貫通して第１の液収集部と第２の液収集部とを接続する。それにより、第３の収集配管が第２の隔壁を迂回して第２の受け止め部と第２の液収集部とを接続する構成に比べて、第３の収集配管を水平方向に大きく延ばす必要がない。そのため、第３の収集配管の内部では、処理液が自重で流れやすい。また、第３の収集配管の長さを短くすることができる。したがって、第３の収集配管における処理液の詰まりの発生が低減される。
さらに、上記の基板処理装置においては、第２の処理室と第２の収集室とが第２の隔壁で区画されている。そのため、第２の液収集部、第２の収集配管および第３の収集配管のメンテナンス時に第２の収集室が開放される場合でも、第２の隔壁により第２の処理室の外部から第２の収集室を通して第２の処理室内に汚染物質が進入することが防止される。
これらの結果、基板処理装置のダウンタイムが長くなることを防止するとともに基板の第２の処理室内の汚染を防止することが可能になる。

【0013】

（２）第１の収集配管は、下流端から上方に延びる第１の下流部分と、第１の下流部分の外周面から外方へ突出する係合部とを有し、第１の液収集部は、第１の下流部分が引抜可能に挿入された開口部と、第１の下流部分が開口部に挿入された状態で係合部が係合する被係合部とを有してもよい。

【0014】

この場合、第１の液収集部および第１の収集配管のメンテナンス時に、第１の液収集部に対する第１の収集配管の取り付けおよび取り外しが容易になる。

【0015】

（３）第１の収集配管は、第１の下流部分を有する第１の部分配管と、第１の隔壁を上下に貫通するように第１の部分配管の上流に設けられた第２の部分配管とを含み、第１の部分配管は、上流端から下方に延びる第１の上流部分をさらに有し、第２の部分配管は、第１の隔壁から下方に延びる第２の下流部分を有し、第１の上流部分は、第２の下流部分に対して上下動可能に第２の下流部分に嵌合されてもよい。

【0016】

この場合、第１の液収集部および第１の収集配管のメンテナンス時に、第１の収集配管の第２の部分配管に対する第１の部分配管の取り付けおよび取り外しが容易になる。

【0017】

（４）第１の液収集部の内部に処理液よりも低い粘度を有するリンス液を供給するリンス液供給部をさらに備えてもよい。

【0018】

この場合、第１の液収集部の内部の処理液が粘度の低いリンス液により円滑に流れるので、第１の液収集部における処理液の詰まりが防止される。

【0019】

（５）リンス液供給部は、第１の収集配管内にリンス液を供給可能に構成されてもよい。

【0020】

この場合、第１の液収集部の上流からリンス液が流れるので、第１の液収集部の内部で処理液がより円滑に流れる。したがって、第１の液収集部の内部における処理液の詰まりがより防止される。

【0021】

（６）リンス液供給部は、第１の液収集部の内部に向けて所定の広がり角でリンス液を噴射可能に構成されてもよい。

【0022】

この場合、第１の液収集部の内部の広い範囲に渡ってリンス液が供給されるので、流路空間における処理液の詰まりがさらに防止される。

【0023】

（７）処理液は、ポリイミドを含み、リンス液は、ポリイミドを溶解させる有機溶剤を含んでもよい。

【0024】

この場合、第１の液吐出部から吐出された処理液が基板に供給されることにより、基板にポリイミドの膜が形成される。また、第１の液収集部において、収集された処理液に含まれるポリイミドが有機溶剤により溶解される。それにより、第１の液収集部における処理液の詰まりがさらに防止される。

【0025】

（８）第１の液収集部は、処理液を排出する排出口と、排出口へ向かって処理液を流す傾斜面とを有してもよい。

【0026】

この場合、第１の液収集部において処理液が排出口に円滑に流れる。

【0027】

（９）第１の収集室には、第１の収集室の内部空間と第１の収集室の外部とを連通させるメンテナンス用開口部が形成されるとともに、メンテナンス用開口部を開閉可能な開閉部材が取り付けられてもよい。

【0028】

この場合、メンテナンス用開口部を開くことにより、第１の収集室内部のメンテナンスを行うことができる。このとき、第１の処理室を開放する必要がないので、第１の処理室内の汚染を防止することが可能になる。

【0029】

（１０）基板処理装置は、第１の処理室に収容され、基板を水平姿勢で保持する基板保持部をさらに備え、第１の液吐出部は、基板保持部により保持された基板の上方の処理位置と基板の外方の待機位置との間で移動可能に設けられ、処理位置および待機位置で処理液を吐出するノズルを含み、第１の受け止め部は、基板保持部により保持される基板を取り囲むように設けられ、基板に供給された処理液を受け止めるカップを含み、第１の収集配管は、第１の隔壁を貫通してカップと第１の液収集部との間に接続されるカップ配管を含んでもよい。

【0030】

この場合、カップにより受け止められた処理液が、その自重により円滑にカップ配管を流れ、第１の液収集部に収集される。

【0031】

（１１）第１の受け止め部は、待機位置においてノズルから吐出される処理液を受け止めるノズル容器をさらに含み、第１の収集配管は、第１の隔壁を貫通してノズル容器と第１の液収集部との間に接続される容器配管をさらに含んでもよい。

【0032】

この場合、ノズル容器により受け止められた処理液が、その自重により円滑に容器配管を流れ、第１の液収集部に収集される。

【0033】

（１２）第２の発明に係る基板処理装置は、基板に処理液を用いた処理を行う基板処理装置であって、処理液を吐出する第１の液吐出部と、第１の液吐出部から吐出された処理液を受け止める第１の受け止め部と、第１の液吐出部および第１の受け止め部を収容する第１の処理室と、処理液を収集する第１の液収集部と、第１の処理室の下部に設けられ、第１の液収集部を収容する第１の収集室と、第１の処理室と第１の収集室とを区画する第１の隔壁と、第１の隔壁を貫通して第１の受け止め部と第１の液収集部との間に接続される第１の収集配管とを備え、第１の収集配管は、下流端から上方に延びる第１の下流部分と、第１の下流部分の外周面から外方へ突出する係合部とを有し、第１の液収集部は、第１の下流部分が引抜可能に挿入された開口部と、第１の下流部分が開口部に挿入された状態で係合部が係合する被係合部とを有し、第１の収集配管は、第１の下流部分を有する第１の部分配管と、第１の隔壁を上下に貫通するように第１の部分配管の上流に設けられた第２の部分配管とを含み、第１の部分配管は、上流端から下方に延びる第１の上流部分をさらに有し、第２の部分配管は、第１の隔壁から下方に延びる第２の下流部分を有し、第１の上流部分は、第２の下流部分に対して上下動可能に第２の下流部分に嵌合され、第１の上流部分が第２の下流部分に対して上下動可能な範囲は、第１の下流部分のうち開口部に挿入される部分の上下方向の長さよりも大きい。
（１３）第３の発明に係る基板処理装置は、基板に処理液を用いた処理を行う基板処理装置であって、処理液を吐出する第１の液吐出部と、第１の液吐出部から吐出された処理液を受け止める第１の受け止め部と、第１の液吐出部および第１の受け止め部を収容する第１の処理室と、処理液を収集する第１の液収集部と、第１の処理室の下部に設けられ、第１の液収集部を収容する第１の収集室と、第１の処理室と第１の収集室とを区画する第１の隔壁と、第１の隔壁を貫通して第１の受け止め部と第１の液収集部との間に接続される第１の収集配管と、第１の液収集部の内部に処理液よりも低い粘度を有するリンス液を供給するリンス液供給部とを備え、第１の液収集部は、当該第１の液収集部の下端部に形成された処理液を排出する排出口と、排出口へ向かって処理液を流す傾斜面とを有し、リンス液供給部は、傾斜面の上方の位置から第１の液収集部の内部に向けて所定の広がり角でリンス液を噴射可能に構成されている。

【発明の効果】

【0038】

本発明によれば、基板処理装置のダウンタイムが長くなることを防止するとともに基板の処理室内の汚染を防止することが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【0039】

【図1】本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の構成の概略を説明するための模式的ブロック図である。

【図2】塗布装置を備える基板処理装置の具体例を説明するための模式的平面図である。

【図3】図２の基板処理装置を白抜きの矢印Ａの方向に見た模式的側面図である。

【図4】図３の上側の塗布装置に設けられる液収集部の外観斜視図である。

【図5】図３の上側の塗布装置の第２室内の構成を示す縦断面図である。

【図6】図５の収集配管およびその周辺部材の拡大断面図である。

【図7】第２室において処理液の流路を構成する複数の部材が分解された状態を示す縦断面図である。

【図8】図６の下部配管における２つの貫通孔の形成部分の横断面図である。

【図9】図８の２つの貫通孔にリンス液が供給される場合の下部配管内のリンス液の流れを示す縦断面図である。

【図10】図３の下側の塗布装置に設けられる液収集部の外観斜視図である。

【図11】図３の下側の塗布装置の第４室内の構成を示す縦断面図である。

【図12】図３の塗布処理部の外観斜視図である。

【発明を実施するための形態】

【0040】

以下、本発明の一実施の形態に係る基板処理装置について図面を参照しつつ説明する。以下の説明において、基板とは、液晶表示装置または有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等に用いられるＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、半導体基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等をいう。また、本実施の形態において処理の対象となる基板は、主面および裏面を有する。

【0041】

［１］基板処理装置の構成の概略
図１は、本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の構成の概略を説明するための模式的ブロック図である。図１に示すように、基板処理装置１００は、例えば露光装置５００に隣接するように設けられ、制御装置１１０、塗布処理部１２０、現像処理部１３０、熱処理部１４０および搬送部１５０を備える。

【0042】

制御装置１１０は、例えばＣＰＵ（中央演算処理装置）およびメモリ、またはマイクロコンピュータを含み、塗布処理部１２０、現像処理部１３０、熱処理部１４０および搬送部１５０の動作を制御する。搬送部１５０は、基板Ｗを塗布処理部１２０、現像処理部１３０、熱処理部１４０、搬送部１５０および露光装置５００の間で搬送する。

【0043】

塗布処理部１２０は塗布装置２００を備える。塗布装置２００は、未処理の基板Ｗの主面上に感光性膜用の処理液を供給する（塗布処理）。これにより、基板Ｗの主面上に感光性膜が形成される。塗布装置２００で用いられる処理液は、１０００ｃｐ～１８０００ｃｐ程度の高い粘度を有する。本実施の形態において、処理液は、ネガ型またはポジ型の感光性ポリイミドおよび溶剤を含む。溶剤としては、例えばシクロペンタノンまたはＮ－メチル－２－ピロリドン等を含む溶剤が用いられる。

【0044】

感光性膜が形成された基板Ｗには、露光装置５００において露光処理が行われる。現像処理部１３０は、露光装置５００による露光処理後の基板Ｗに現像液を供給することにより、基板Ｗの現像処理を行う。熱処理部１４０は、塗布処理部１２０による塗布処理の前後、現像処理部１３０による現像処理の前後、および露光装置５００による露光処理の前後に基板Ｗの熱処理を行う。

【0045】

［２］塗布装置２００の基本構成
塗布処理部１２０が備える塗布装置２００の基本構成について説明する。塗布処理部１２０は、第１室Ｒ１および第２室Ｒ２を有する。第１室Ｒ１は、主として基板保持部１０、カップ１１、ノズル１２，１３、ノズル容器１４，１５を収容する。第２室Ｒ２は、主として液収集部３０を収容する。第１室Ｒ１および第２室Ｒ２は、この順で上から下に並ぶように積層配置されている。第１室Ｒ１と第２室Ｒ２とを区画するように隔壁ＷＬ１が設けられ、第２室Ｒ２と第２室Ｒ２の下方の空間とを区画する隔壁ＷＬ２が設けられている。

【0046】

基板保持部１０は、基板Ｗを水平姿勢で保持するとともに、保持された基板Ｗを上下方向の軸の周りで回転させることが可能に構成されている。カップ１１は、基板保持部１０により保持される基板Ｗを取り囲むように設けられる。カップ１１は、基板保持部１０により回転する基板Ｗに供給されて基板Ｗの外方に飛散する処理液を受け止める。カップ１１には、収集配管２１の上流端が接続されている。収集配管２１は、隔壁ＷＬ１を貫通して第２室Ｒ２内に延びている。収集配管２１の下流端は、液収集部３０に接続されている。

【0047】

ノズル１２は、基板保持部１０により保持された基板Ｗの上方の処理位置ｐ０とカップ１１の一側方の待機位置ｐ１との間で移動可能に設けられ、処理液を吐出する先端部を有する。ノズル１３は、処理位置ｐ０とカップ１１の他側方の待機位置ｐ２との間で移動可能に設けられ、処理液を吐出する先端部を有する。なお、本実施の形態において、ノズル１２から吐出される処理液の種類とノズル１３から吐出される処理液の種類とは同じであるが、ノズル１２の処理液の濃度（本例では、ポリイミドの濃度）とノズル１３の処理液の濃度とは互いに異なる。

【0048】

ノズル容器１４は待機位置ｐ１にあるノズル１２の先端部を収容可能に設けられ、後述するプリディスペンスによりノズル１２から吐出される処理液を受け止める。ノズル容器１４には、収集配管２２の上流端が接続されている。収集配管２２は、ノズル容器１４から隔壁ＷＬ１を貫通して第２室Ｒ２内に延びている。収集配管２２の下流端は、液収集部３０に接続されている。

【0049】

ノズル容器１５は待機位置ｐ２にあるノズル１３の先端部を収容可能に設けられ、後述するプリディスペンスによりノズル１３から吐出される処理液を受け止める。ノズル容器１５には、収集配管２３の上流端が接続されている。収集配管２３は、ノズル容器１５から隔壁ＷＬ１を貫通して第２室Ｒ２内に延びている。収集配管２３の下流端は、液収集部３０に接続されている。

【0050】

液収集部３０は、収集配管２１，２２，２３のいずれかから導かれる処理液を収集する。液収集部３０には、収集配管２４の上流端が接続されている。収集配管２４は、液収集部３０から隔壁ＷＬ２を貫通して第２室Ｒ２の下方の空間に延びている。収集配管２４の下流端は、他の液収集部または排液設備に接続されている。

【0051】

塗布装置２００において、塗布処理が行われない場合、ノズル１２，１３は待機位置ｐ１，ｐ２で保持される。この状態で、ノズル１２，１３の先端部は、ノズル容器１４，１５内にそれぞれ収容される。

【0052】

塗布処理が行われる場合、最初に、塗布装置２００内に基板Ｗが搬入され、搬入された基板Ｗが基板保持部１０により保持され、回転される。また、ノズル１２，１３のうち、基板Ｗに形成されるべき感光性膜に応じて予め選択されたノズルについて、ノズル内の処理液を排出するためのプリディスペンスが行われる。

【0053】

例えば、ノズル１２が選択される場合には、待機位置ｐ１においてノズル１２から処理液が吐出される。ノズル１２から吐出された処理液は、ノズル容器１４により受け止められ、収集配管２２を通して液収集部３０に導かれる。一方、ノズル１３が選択される場合には、待機位置ｐ２においてノズル１３から処理液が吐出される。ノズル１３から吐出された処理液は、ノズル容器１５により受け止められ、収集配管２３を通して液収集部３０に導かれる。

【0054】

次に、選択されたノズルからの処理液の吐出が停止され、プリディスペンス後のノズルが待機位置から処理位置ｐ０へ移動する。また、処理位置ｐ０において、ノズルから回転する基板Ｗの中心に向けて一定量の処理液が吐出される。それにより、基板Ｗ上にノズルの処理液に対応する感光性膜が形成される。このとき、基板Ｗ上に吐出されて基板Ｗの外方に飛散する処理液は、カップ１１により受け止められ、収集配管２１を通して液収集部３０に導かれる。処理液の吐出が完了すると、ノズルが処理位置ｐ０から対応する待機位置へ移動する。また、基板Ｗの回転が停止され、感光性膜が形成された基板Ｗが塗布装置２００から搬出される。

【0055】

上記の一連の動作中、収集配管２１，２２，２３を通して液収集部３０により収集された処理液は、さらに収集配管２４を通して他の液収集部または排液設備に導かれる。

【0056】

なお、上記の塗布処理では、処理対象となる基板Ｗに対して、ノズル１２，１３のうちいずれか一方から吐出される処理液が用いられるが、本発明はこれに限定されない。例えばノズル１２による基板Ｗへの処理液の供給と、ノズル１３による基板Ｗへの処理液の供給とを順次行うことにより、ノズル１２，１３の２つの処理液に対応する２つの感光性膜が基板Ｗ上に積層形成されてもよい。

【0057】

上記の塗布装置２００においては、塗布処理が行われるごとに、カップ１１およびノズル容器１４，１５から、収集配管２１，２２，２３のいずれか少なくとも２つの配管を通して液収集部３０に処理液が導かれる。

【0058】

ここで、収集配管２１，２２，２３の各々は、隔壁ＷＬ１を迂回することなく、隔壁ＷＬ１を貫通することにより第１室Ｒ１内の処理液の受け止め部（カップ１１およびノズル容器１４，１５）と第２室Ｒ２内の液収集部３０とを接続している。このような構成によれば、隔壁ＷＬ１を迂回して処理液の受け止め部と液収集部３０とを接続するように収集配管２１，２２，２３を設ける場合に比べて、収集配管２１，２２，２３の長さを短くすることができる。また、収集配管２１，２２，２３を水平方向に大きく延ばす必要がないので、塗布処理に用いられる処理液の粘度が高い場合でも、処理液の受け止め部により受け止められた処理液は、その自重により比較的円滑に収集配管２１，２２，２３内を流れる。したがって、各収集配管２１，２２，２３における処理液の詰まりの発生が低減される。

【0059】

また、上記の構成によれば、第１室Ｒ１と第２室Ｒ２とが隔壁ＷＬ１で区画されている。そのため、第２室Ｒ２内で液収集部３０および収集配管２１，２２，２３のメンテナンス時に第２室Ｒ２が開放される場合でも、隔壁ＷＬ１により第１室Ｒ１の外部から第２室Ｒ２を通して第１室Ｒ１内に汚染物質が進入することが防止される。

【0060】

［３］塗布装置２００を備える基板処理装置１００の具体例
図２は、塗布装置２００を備える基板処理装置１００の具体例を説明するための模式的平面図である。図２に示すように、本例の基板処理装置１００は、４つのブロックＢ１，Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４を備える。４つのブロックＢ１，Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４は、この順で一方向に並ぶように設けられている。ブロックＢ４に隣り合うように露光装置５００が設けられている。ブロックＢ１，Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４の各々は、図示しないフレームを有する。そのフレームは、対応するブロック内に設けられる各種構成要素を支持するとともに、他のブロックのフレームに接続可能かつ取り外し可能に構成されている。

【0061】

ブロックＢ１は搬送部１５０を含む。ブロックＢ１において、搬送部１５０は基板Ｗの搬入搬出部として機能する。ブロックＢ２は、塗布処理部１２０、熱処理部１４０および搬送部１５０を含む。塗布処理部１２０と熱処理部１４０とは搬送部１５０を挟んで対向するように設けられる。塗布処理部１２０に複数の塗布装置２００が設けられる。ブロックＢ３は、現像処理部１３０、熱処理部１４０および搬送部１５０を含む。現像処理部１３０および熱処理部１４０とは搬送部１５０を挟んで対向するように設けられる。ブロックＢ４は搬送部１５０を含む。ブロックＢ４において、搬送部１５０はブロックＢ２，Ｂ３と露光装置５００との間で基板の受け渡しを行う受渡部として機能する。

【0062】

図３は、図２の基板処理装置１００を白抜きの矢印Ａの方向に見た模式的側面図である。図３の側面図では、塗布処理部１２０の内部構成が模式的に示される。図３に示すように、本例の塗布処理部１２０には、４つの塗布装置２００が設けられている。以下の説明では、４つの塗布装置２００を互いに区別するために、それぞれの塗布装置２００を塗布装置２００Ａ，２００Ｂ，２００Ｃ，２００Ｄと呼ぶ。

【0063】

塗布装置２００Ａ，２００Ｂは、同じ構成を有し、水平方向において互いに隣り合うように設けられている。塗布装置２００Ｃ，２００Ｄは、同じ構成を有し、水平方向において互いに隣り合うように設けられている。塗布装置２００Ａ，２００Ｂは、それぞれ塗布装置２００Ｃ，２００Ｄの上方に位置する。

【0064】

また、塗布処理部１２０には、第１室Ｒ１、第２室Ｒ２、第３室Ｒ３および第４室Ｒ４が、この順で上から下に並ぶように積層配置されている。第１室Ｒ１と第１室Ｒ１とを区画するように隔壁ＷＬ１が設けられ、第２室Ｒ２と第３室Ｒ３とを区画するように隔壁ＷＬ２が設けられている。第３室Ｒ３と第４室Ｒ４とを区画するように隔壁ＷＬ３が設けられ、第４室Ｒ４と第４室Ｒ４の下方の空間とを区画するように隔壁ＷＬ４が設けられている。

【0065】

第１室Ｒ１および第２室Ｒ２は塗布装置２００Ａ，２００Ｂに共通に用いられ、第３室Ｒ３および第４室Ｒ４は塗布装置２００Ｃ，２００Ｄに共通に用いられている。それにより、第１室Ｒ１には、塗布装置２００Ａ，２００Ｂの基板保持部１０、カップ１１、ノズル１２，１３およびノズル容器１４，１５が収容される。また、第２室Ｒ２には、塗布装置２００Ａ，２００Ｂの液収集部３０が収容される。第３室Ｒ３には、塗布装置２００Ｃ，２００Ｄの基板保持部１０、カップ１１、ノズル１２，１３およびノズル容器１４，１５が収容される。また、第４室Ｒ４には、塗布装置２００Ｃ，２００Ｄの液収集部３０が収容される。

【0066】

［４］図３の塗布装置２００Ａの構成の詳細
塗布装置２００Ａ，２００Ｂの第２室Ｒ２には、処理液に関するメンテナンス作業を容易にするための構成が設けられている。以下、塗布装置２００Ａ，２００Ｂを代表して塗布装置２００Ａの第２室Ｒ２内の構成の詳細を説明する。

【0067】

図４は図３の上側の塗布装置２００Ａに設けられる液収集部３０の外観斜視図であり、図５は図３の上側の塗布装置２００Ａの第２室Ｒ２内の構成を示す縦断面図である。

【0068】

図４に示すように、塗布装置２００Ａに設けられる液収集部３０は、一方向に延びるように形成され、平坦でかつ一方向に延びる上面部３１を有する。また、液収集部３０は、上面部３１の下方の位置で処理液等の液体を流通させることが可能な内部空間３０Ｓを有する。

【0069】

上面部３１には、一方向に並ぶように３つの開口部ｏｐ１，ｏｐ２，ｏｐ３が形成されている。各開口部ｏｐ１，ｏｐ２，ｏｐ３は、内部空間３０Ｓと液収集部３０の上方の空間とを連通し、収集配管２１，２２，２３の後述する下流部分ａｄ（図５）をそれぞれ挿入可能かつ引き抜き可能に形成されている。各開口部ｏｐ１，ｏｐ２，ｏｐ３には、円環状の被係合リングＥＲ１が取り付けられている。

【0070】

ここで、液収集部３０の一方の端部を第１端部ｅ１１とし、他方の端部を第２端部ｅ１２とする。この場合、図４の例では、開口部ｏｐ２，ｏｐ１，ｏｐ３はこの順で第１端部ｅ１１から第２端部ｅ１２に向かって並んでいる。

【0071】

液収集部３０の下端部は、第１端部ｅ１１から第２端部ｅ１２の近傍にかけて斜め下方に傾斜して延びるように形成されている。液収集部３０の内部には、液収集部３０の下端部の形状に沿って断面Ｖ字形状の傾斜面ＢＳが形成されている。図４の液収集部３０においては、第２端部ｅ１２およびその近傍の下端が液収集部３０の最下端部となっている。液収集部３０の最下端部には、排出部３２が形成されている。排出部３２は、下方を向く平坦面を有するとともにその平坦面からさらに下方に向かって突出するように形成された円環状の突出部を有する。また、排出部３２の内部には、内部空間３０Ｓと液収集部３０の下方の空間とを連通する排出口３２ａが形成されている。液収集部３０の第２端部ｅ１２側の側面には、貫通孔ｐｂが形成されている。このような構成により、液収集部３０においては、収集配管２１，２２，２３から内部空間３０Ｓに処理液が導かれることにより、導かれた処理液が傾斜面ＢＳに沿って排出口３２ａに円滑に流れる。

【0072】

図５に示すように、第２室Ｒ２においては、隔壁ＷＬ２を貫通する収集配管２４の一部が、隔壁ＷＬ２から上方に突出するように固定されている。その収集配管２４の上流端には円環状の被係合リングＥＲ２が取り付けられている。被係合リングＥＲ２は、液収集部３０の排出部３２の突出部を挿入可能かつ引き抜き可能に構成されている。さらに、被係合リングＥＲ２の上面は、被係合リングＥＲ２に排出部３２の突出部が挿入された状態で、液収集部３０の平坦面と係合可能に構成されている。なお、塗布装置２００Ａの液収集部３０に接続される収集配管２４は、図３に示すように、隔壁ＷＬ２から下方に延び、第３室Ｒ３を通して隔壁ＷＬ３を貫通し、さらに第４室Ｒ４の内部で後述する塗布装置２００Ｃの液収集部３０に接続される。

【0073】

図５に示すように、隔壁ＷＬ２上には、液収集部３０の下端部を支持可能な複数（本例では２つ）の支持部材３９が取り付けられている。それにより、第２室Ｒ２においては、液収集部３０は、排出部３２の突出部が収集配管２４上の被係合リングＥＲ２に挿入された状態で、複数の支持部材３９により支持されている。このとき、液収集部３０の内部空間３０Ｓと収集配管２４の内部空間とは、排出口３２ａを通して連通している。

【0074】

図３のカップ１１に接続される収集配管２１は、液収集部３０の上面部３１に形成された開口部ｏｐ１に対応する。図６は、図５の収集配管２１およびその周辺部材の拡大断面図である。図６に示すように、収集配管２１は、下部配管２１ａおよび上部配管２１ｂを含む。

【0075】

下部配管２１ａは、下流端から上方に延びる下流部分ａｄを有するとともに、上流端から下方に延びる上流端部ａｕを有する。上部配管２１ｂは、隔壁ＷＬ１を上下に貫通する状態で隔壁ＷＬ１に固定され、隔壁ＷＬ１から下方に延びる下流部分ｂｄを有する。下流部分ｂｄの下流端には、円環状のシール部材ｓｅが取り付けられている。

【0076】

ここで、下部配管２１ａの下流部分ａｄは、下流端から一定距離上方の位置で、その外周面から外方へ突出する環状突出部ｐｒを有する。下流部分ａｄのうち下流端から環状突出部ｐｒまでの部分の外径は、液収集部３０の開口部ｏｐ１に嵌め込まれた被係合リングＥＲ１の内径よりもわずかに小さい。それにより、被係合リングＥＲ１は、下流部分ａｄの先端部分を挿入可能でかつその上面が環状突出部ｐｒと係合可能となっている。

【0077】

下部配管２１ａの上流端部ａｕの内径は、上部配管２１ｂの下流部分ｂｄにおける下流端近傍の外径よりもわずかに大きい。また、下部配管２１ａにおいて、上流端部ａｕ以外の部分の内径は、上流端部ａｕの内径よりも小さい。それにより、下部配管２１ａの上流端部ａｕは、上部配管２１ｂの下流部分ｂｄと嵌合可能となっている。また、下部配管２１ａの上流端部ａｕは、上部配管２１ｂの下流部分ｂｄと嵌合した状態で、上下動可能となっている。

【0078】

上記の収集配管２１によれば、下流部分ａｄが開口部ｏｐ１の被係合リングＥＲ１に差し込まれかつ上流端部ａｕが上部配管２１ｂの下流部分ｂｄに嵌合している状態で、下部配管２１ａを上方に向けて移動させることが可能となっている。この場合、下流部分ａｄが液収集部３０の開口部ｏｐ１から引き抜かれる。したがって、工具等を用いることなく下部配管２１ａを液収集部３０から容易に取り外すことができる。

【0079】

収集配管２１およびその周辺部材の構成は、他の収集配管２２，２３およびそれらの周辺部材の構成にも適用されている。具体的には、図５に示すように、収集配管２２は、下流部分ａｄおよび上流端部ａｕを有する下部配管２２ａと、下流部分ｂｄを有する上部配管２２ｂとを含む。下部配管２２ａの下流部分ａｄは、環状突出部ｐｒを有し、液収集部３０の開口部ｏｐ２に挿入可能かつ引き抜き可能となっている。さらに、下部配管２２ａの上流端部ａｕは、上部配管２２ｂの下流部分ｂｄに嵌合するとともに嵌合した状態で上下動可能となっている。

【0080】

また、収集配管２３は、下流部分ａｄおよび上流端部ａｕを有する下部配管２３ａと、下流部分ｂｄを有する上部配管２３ｂとを含む。下部配管２３ａの下流部分ａｄは、環状突出部ｐｒを有し、液収集部３０の開口部ｏｐ３に挿入可能かつ引き抜き可能となっている。さらに、下部配管２３ａの上流端部ａｕは、上部配管２３ｂの下流部分ｂｄに嵌合するとともに嵌合した状態で上下動可能となっている。これらの結果、第２室Ｒ２においては、処理液の流路を構成する複数の部材を容易に分解することができる。

【0081】

図７は、第２室Ｒ２において処理液の流路を構成する複数の部材が分解された状態を示す縦断面図である。上記の収集配管２１，２２，２３の構成によれば、図７に白抜きの矢印で示すように、下部配管２１ａ，２２ａ，２３ａをそれぞれ上方に移動させることにより、液収集部３０を収集配管２４上の被係合リングＥＲ２から引き上げることが可能になる。それにより、液収集部３０および収集配管２１，２２，２３の下部配管２１ａ，２２ａ，２３ａを分解してメンテナンス作業を容易に行うことができる。

【0082】

ところで、収集配管２１の下部配管２１ａの環状突出部ｐｒには、図６に示すように、２つの貫通孔ｐａが形成されている。下部配管２１ａにおける貫通孔ｐａの形成部分には、リンス液供給配管９１が接続される。リンス液供給配管９１は、塗布処理時に、処理液よりも低い粘度を有するリンス液を貫通孔ｐａに供給する。それにより、内部空間３０Ｓ内にリンス液が供給される。ネガ型またはポジ型の感光性ポリイミドおよび溶剤を含む処理液が用いられる場合には、リンス液として、例えばシクロペンタノンまたはＮ－メチル－２－ピロリドン等の溶剤が用いられる。

【0083】

図８は図６の下部配管２１ａにおける２つの貫通孔ｐａの形成部分の横断面図であり、図９は図８の２つの貫通孔ｐａにリンス液が供給される場合の下部配管２１ａ内のリンス液の流れを示す縦断面図である。

【0084】

下部配管２１ａの横断面（水平断面）においては、２つの貫通孔ｐａの各々は、下部配管２１ａの中心軸ｃｎからずれた位置を通る直線に沿って延びるように形成されている。この場合、図８および図９に太い実線および太い一点鎖線の矢印で示すように、各貫通孔ｐａから下部配管２１ａ内に供給されるリンス液は、下部配管２１ａの内周面に沿って回転するように流れる。それにより、液収集部３０の内部空間３０Ｓには、開口部ｏｐ１から所定の広がり角でリンス液が噴射される。

【0085】

また、本実施の形態に係る液収集部３０においては、図５に示すように、第２端部ｅ１２の貫通孔ｐｂの形成部分にリンス液供給配管９２が接続される。それにより、塗布処理時には、貫通孔ｐｂにリンス液供給配管９２を通してリンス液が供給される。

【0086】

このように、塗布処理時には、内部空間３０Ｓにおける複数の部分にリンス液が供給される。それにより、内部空間３０Ｓ内の処理液が粘度の低いリンス液により円滑に流れるので、内部空間３０Ｓにおける処理液の詰まりが防止される。なお、リンス液としては、処理液に含まれる粘度の高い成分を溶解可能な溶剤を用いることが好ましい。例えばネガ型のポリイミドを含む処理液が用いられる場合には、リンス液としてシクロペンタノンを用いることが好ましい。これにより、内部空間３０Ｓ内の処理液の詰まりがさらに防止される。

【0087】

［５］図３の塗布装置２００Ｃの構成の詳細
塗布装置２００Ｃ，２００Ｄのうち第４室Ｒ４には、塗布装置２００Ａ，２００Ｂの第２室Ｒ２の例と同様に、処理液に関するメンテナンス作業を容易にするための構成が設けられている。以下、塗布装置２００Ｃ，２００Ｄを代表して塗布装置２００Ｃの第４室Ｒ４内の構成について、塗布装置２００Ａの第２室Ｒ２内の構成と異なる点を説明する。

【0088】

図１０は図３の下側の塗布装置２００Ｃに設けられる液収集部３０の外観斜視図であり、図１１は図３の下側の塗布装置２００Ｃの第４室Ｒ４内の構成を示す縦断面図である。

【0089】

図１０に示すように、塗布装置２００Ｃに設けられる液収集部３０は、上面部３１に形成される開口部の数および並びが異なる点を除いて、図４の液収集部３０と同じ構成を有する。具体的には、図１０の液収集部３０においては、上面部３１に、一方向に並ぶように４つの開口部ｏｐ１，ｏｐ２，ｏｐ３，ｏｐ４が形成されている。

【0090】

開口部ｏｐ１，ｏｐ２，ｏｐ３は、第３室Ｒ３から下方に延びる収集配管２１，２２，２３にそれぞれ対応する。一方、開口部ｏｐ４は、塗布装置２００Ａの液収集部３０から下方に延びる収集配管２４に対応する。すなわち、開口部ｏｐ４は、内部空間３０Ｓと液収集部３０の上方の空間とを連通し、収集配管２４の後述する下流部分ａｄ（図１１）を挿入可能かつ引き抜き可能に形成されている。各開口部ｏｐ１，ｏｐ２，ｏｐ３，ｏｐ４には、円環状の被係合リングＥＲ１が取り付けられている。図１０の例では、開口部ｏｐ２，ｏｐ１，ｏｐ３，ｏｐ４はこの順で第２端部ｅ１２から第１端部ｅ１１に向かって並んでいる。

【0091】

図１０の液収集部３０には、図３に示すように、収集配管２５の上流端が接続される。収集配管２５は、液収集部３０から隔壁ＷＬ４を貫通して第４室Ｒ４の下方の空間に延びている。収集配管２５の下流端は、他の液収集部または排液設備に接続されている。

【0092】

図１１に示すように、第４室Ｒ４においては、隔壁ＷＬ４を貫通する収集配管２５の一部が、隔壁ＷＬ４から上方に突出するように固定されている。その収集配管２５の上流端には被係合リングＥＲ２が取り付けられている。収集配管２５の下流端は、隔壁ＷＬ４よりも下方の位置で、例えば図示しない排液設備に接続される。

【0093】

また、隔壁ＷＬ４上には、複数（本例では２つ）の支持部材３９が取り付けられている。それにより、第４室Ｒ４においては、液収集部３０は、排出部３２の突出部が収集配管２５上の被係合リングＥＲ２に挿入された状態で、複数の支持部材３９により支持されている。このとき、液収集部３０の内部空間３０Ｓと収集配管２５の内部空間とは、排出口３２ａを通して連通している。

【0094】

塗布装置２００Ｃに設けられる収集配管２１，２２，２３の構成は、塗布装置２００Ａに設けられる収集配管２１，２２，２３の構成と同じである。それにより、第４室Ｒ４では、収集配管２１，２２，２３の下部配管２１ａ，２２ａ，２３ａを液収集部３０から容易に取り外すことができる。

【0095】

塗布装置２００Ａから下方に延びる収集配管２４は、他の収集配管２１，２２，２３と同様に、下流部分ａｄおよび上流端部ａｕを有する下部配管２４ａと、下流部分ｂｄを有する上部配管２４ｂとを含む。下部配管２４ａの下流部分ａｄは、環状突出部ｐｒを有し、液収集部３０の開口部ｏｐ４に挿入可能かつ引き抜き可能となっている。下流部分ｂｄの下流端には、円環状のシール部材ｓｅが取り付けられている。さらに、下部配管２４ａの上流端部ａｕは、上部配管２４ｂの下流部分ｂｄに嵌合するとともに嵌合した状態で上下動可能となっている。このような構成により、第４室Ｒ４では、収集配管２１，２２，２３に加えて収集配管２４の下部配管２４ａを液収集部３０から容易に取り外すことが可能である。したがって、第４室Ｒ４においても、第２室Ｒ２の例と同様に、処理液の流路を構成する複数の部材を容易に分解することができる。

【0096】

さらに、収集配管２４の下部配管２４ａには、収集配管２１の下部配管２１ａと同様に、２つの貫通孔ｐａが形成されている。下部配管２４ａにおける貫通孔ｐａの形成部分には、リンス液供給配管９３が接続される。リンス液供給配管９３は、塗布処理時に、処理液よりも低い粘度を有するリンス液を貫通孔ｐａに供給する。２つの貫通孔ｐａは、図８の例と同様に、下部配管２４ａの環状突出部ｐｒに形成されている。このような構成により、内部空間３０Ｓには、開口部ｏｐ４から所定の広がり角でリンス液が噴射される。塗布処理時に液収集部３０の内部空間３０Ｓに導かれる処理液は、リンス液とともに傾斜面ＢＳを流れ、排出口３２ａから収集配管２５を通って排液設備に導かれる。

【0097】

［６］第１室Ｒ１、第２室Ｒ２、第３室Ｒ３および第４室Ｒ４の開閉扉
図１２は、図３の塗布処理部１２０の外観斜視図である。図１２に示すように、図２のブロックＢ２に設けられる塗布処理部１２０は、４つの塗布装置２００Ａ，２００Ｂ，２００Ｃ，２００Ｄを収容する筐体１２０Ｃを有する。筐体１２０Ｃは、図３の第１室Ｒ１、第２室Ｒ２、第３室Ｒ３および第４室Ｒ４の外壁の一部を構成し、図２の搬送部１５０を向く一側壁部ｓｆ１と、搬送部１５０と反対の基板処理装置１００の外方を向く他側壁部ｓｆ２とを有する。

【0098】

筐体１２０Ｃの他側壁部ｓｆ２には、メンテナンス用開口部ｒｏ１，ｒｏ２，ｒｏ３，ｒｏ４が形成されている。メンテナンス用開口部ｒｏ１は第１室Ｒ１の内部空間と基板処理装置１００の外部とを連通させ、メンテナンス用開口部ｒｏ２は第２室Ｒ２の内部空間と基板処理装置１００の外部とを連通させる。また、メンテナンス用開口部ｒｏ３は第３室Ｒ３の内部空間と基板処理装置１００の外部とを連通させ、メンテナンス用開口部ｒｏ４は第４室Ｒ４の内部空間と基板処理装置１００の外部とを連通させる。

【0099】

さらに、筐体１２０Ｃの他側壁部ｓｆ２には、メンテナンス用開口部ｒｏ１，ｒｏ２，ｒｏ３，ｒｏ４をそれぞれ開閉するための開閉扉ｒｄ１，ｒｄ２，ｒｄ３，ｒｄ４が取り付けられている。塗布装置２００Ａ，２００Ｂ，２００Ｃ，２００Ｄの液収集部３０および収集配管２１，２２，２３のメンテナンス時には、図１２に太い一点鎖線で示すように、第２室Ｒ２および第４室Ｒ４に対応する開閉扉ｒｄ２，ｒｄ４が操作され、メンテナンス用開口部ｒｏ２，ｒｏ４が開かれる。

【0100】

このとき、第１室Ｒ１および第３室Ｒ３に対応するメンテナンス用開口部ｒｏ１，ｒｏ２については、開閉扉ｒｄ１，ｒｄ３により閉じられた状態で維持しておくことができる。したがって、液収集部３０および収集配管２１，２２，２３のメンテナンス中に、基板処理装置１００の外部から第１室Ｒ１および第３室Ｒ３内に汚染物質が進入することが防止される。

【0101】

［７］効果
図３の構成に関して、各塗布装置２００Ａ，２００Ｂ，２００Ｃ，２００Ｄにおいては、収集配管２１，２２，２３の各々が、隔壁ＷＬ１，ＷＬ２を貫通するので、収集配管２１，２２，２３の長さを短くすることができる。また、塗布装置２００Ｃ，２００Ｄにおいては、収集配管２４が、隔壁ＷＬ２を貫通するので、収集配管２４の長さを短くすることができる。

【0102】

このような構成により、各塗布装置２００Ａ，２００Ｂ，２００Ｃ，２００Ｄにおいては、収集配管２１，２２，２３，２４を水平方向に大きく延ばす必要がない。そのため、塗布処理に用いられる処理液の粘度が高い場合でも、処理液はその自重により比較的円滑に収集配管２１，２２，２３，２４内を流れる。したがって、各収集配管２１，２２，２３，２４における処理液の詰まりの発生が低減される。

【0103】

また、図３の構成に関して、塗布装置２００Ａ，２００Ｂにおいては、基板Ｗに処理が行われる第１室Ｒ１と、処理液が収集される第２室Ｒ２とが隔壁ＷＬ１により区画されている。そのため、処理液の流路を構成する複数の部材のメンテナンス時に第２室Ｒ２が開放される場合でも、隔壁ＷＬ１により第１室Ｒ１の外部から第２室Ｒ２を通して第１室Ｒ１内に汚染物質が進入することが防止される。

【0104】

さらに、塗布装置２００Ｃ，２００Ｄにおいては、基板Ｗに処理が行われる第３室Ｒ３と、処理液が収集される第４室Ｒ４とが隔壁ＷＬ３により区画されている。そのため、処理液の流路を構成する複数の部材のメンテナンス時に第４室Ｒ４が開放される場合でも、隔壁ＷＬ３により第３室Ｒ３の外部から第４室Ｒ４を通して第３室Ｒ３内に汚染物質が進入することが防止される。

【0105】

これらの結果、基板処理装置１００のダウンタイムが長くなることを防止するとともに基板Ｗの処理室内の汚染を防止することが可能になる。

【0106】

［８］他の実施の形態
（１）上記実施の形態では、液収集部３０の内部空間３０Ｓに所定の広がり角でリンス液を噴射するために収集配管２１の下部配管２１ａに形成される２つの貫通孔ｐａの位置および向きが調整されているが、本発明はこれに限定されない。内部空間３０Ｓに所定の広がり角でリンス液を噴射するために、例えば、下部配管２１ａの下流部分ａｄの内周面に、リンス液供給配管９１から供給されるリンス液を下部配管２１ａ内で旋回させるような溝（例えば、螺旋状の溝）が形成されていてもよい。

【0107】

（２）上記実施の形態では、収集配管２１の下流端近傍に、リンス液を供給するための貫通孔ｐａが設けられているが、本発明はこれに限定されない。収集配管２１の上流端近傍または中央部分にリンス液を供給するための貫通孔ｐａが形成されてもよい。この場合、形成された貫通孔ｐａにリンス液を供給することにより、収集配管２１における処理液の詰まりを防止することができる。また、収集配管２２，２３についても、リンス液を供給するための貫通孔ｐａが形成されてもよい。この場合、形成された貫通孔ｐａにリンス液を供給することにより、収集配管２２，２３における処理液の詰まりを防止することができる。

【0108】

（３）図５の例では、収集配管２１，２２，２３，２４の内径が互いに異なるが、収集配管２１，２２，２３，２４の内径は、それらの一部が互いに同じであってもよいし、それらの全てが同じであってもよい。また、図１１の例では、収集配管２１，２２，２３，２４，２５の内径が互いに異なるが、収集配管２１，２２，２３，２４，２５の内径は、それらの一部が互いに同じであってもよいし、それらの全てが同じであってもよい。

【0109】

（４）上記実施の形態では、全ての塗布装置２００Ａ，２００Ｂ，２００Ｃ，２００Ｄに２つのノズル１２，１３が設けられるが、各塗布装置２００Ａ，２００Ｂ，２００Ｃ，２００Ｄに設けられるノズルの数は１つであってもよいし、３以上であってもよい。

【0110】

（５）上記実施の形態においては、各塗布装置２００Ａ，２００Ｂ，２００Ｃ，２００Ｄのカップ１１およびノズル容器１４，１５内には、カップ１１およびノズル容器１４，１５における処理液の受け止め部分を洗浄するためのリンス液供給機構が設けられてもよい。この場合、カップ１１およびノズル容器１４，１５において受け止められた処理液がより円滑に液収集部３０に導かれる。

【0111】

（６）図１の例では、収集配管２１，２２，２３の全てが隔壁ＷＬ１を貫通しているが、本発明はこれに限定されない。例えば、カップ１１に接続される収集配管２１が隔壁ＷＬ１を貫通するように設けられ、ノズル容器１４，１５に接続される収集配管２２，２３が隔壁ＷＬ１を迂回するように設けられてもよい。あるいは、ノズル容器１４，１５に接続される収集配管２２，２３が隔壁ＷＬ１を貫通するように設けられ、カップ１１に接続される収集配管２１が隔壁ＷＬ１を迂回するように設けられてもよい。

【0112】

（７）図３の例では、塗布装置２００Ａ，２００Ｂと、塗布装置２００Ｃ，２００Ｄとが積層配置されているが、本発明はこれに限定されない。３つ以上の塗布装置が積層配置されてもよい。すなわち、３つ以上の塗布装置が３段以上積層されてもよい。このような構成においては、最上部以外の各塗布装置の液収集部３０とその直上の塗布装置の液収集部３０とを繋ぐように、収集配管を設けることが好ましい。それにより、上方に位置する塗布装置２００で収集された処理液は、下方に位置する塗布装置２００に順次円滑に送られる。

【0113】

（８）上記実施の形態においては、処理液として、ネガ型またはポジ型の感光性ポリイミドおよび溶剤を含む処理液が用いられるが、本発明はこれに限定されない。処理液としては、１０００ｃｐ～１８０００ｃｐ程度の高い粘度を有するレジスト液等を用いることもできる。この場合においても、上記の構成によれば、液収集部３０およびその周辺部における処理液の詰まりを防止することができる。

【0114】

［９］請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明する。上記実施の形態では、ノズル１２，１３が第１または第２の液吐出部の例であり、カップ１１およびノズル容器１４，１５が第１または第２の受け止め部の例であり、第１室Ｒ１が第１の処理室の例であり、液収集部３０が第１または第２の液収集部の例であり、第２室Ｒ２が第１の収集室の例であり、隔壁ＷＬ１が第１の隔壁の例であり、収集配管２１，２２，２３が第１または第２の収集配管の例であり、基板処理装置１００が基板処理装置の例である。

【0115】

また、下流部分ａｄが第１の下流部分の例であり、環状突出部ｐｒが係合部の例であり、開口部ｏｐ１，ｏｐ２，ｏｐ３が開口部の例であり、被係合リングＥＲ１が被係合部の例であり、下部配管２１ａ，２２ａ，２３ａが第１の部分配管の例であり、上部配管２１ｂ，２２ｂ，２３ｂが第２の部分配管の例であり、上流端部ａｕが第１の上流部分の例であり、下流部分ｂｄが第２の下流部分の例である。

【0116】

また、貫通孔ｐａ，ｐｂおよびリンス液供給配管９１，９２がリンス液供給部の例であり、排出口３２ａが排出口の例であり、傾斜面ＢＳが傾斜面の例であり、メンテナンス用開口部ｒｏ２，ｒｏ４がメンテナンス用開口部の例であり、開閉扉ｒｄ２，ｒｄ４が開閉部材の例である。

【0117】

また、基板保持部１０が基板保持部の例であり、ノズル１２，１３がノズルの例であり、カップ１１がカップの例であり、収集配管２１がカップ配管の例であり、ノズル容器１４，１５がノズル容器の例であり、収集配管２２，２３が容器配管の例であり、第３室Ｒ３が第２の処理室の例であり、第４室Ｒ４が第２の収集室の例であり、隔壁ＷＬ３が第２の隔壁の例であり、収集配管２４が第３の収集配管の例である。

【0118】

請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
［１０］参考形態
参考形態に係る基板処理装置は、基板に処理液を用いた処理を行う基板処理装置であって、処理液を吐出する第１の液吐出部と、第１の液吐出部から吐出された処理液を受け止める第１の受け止め部と、第１の液吐出部および第１の受け止め部を収容する第１の処理室と、処理液を収集する第１の液収集部と、第１の処理室の下部に設けられ、第１の液収集部を収容する第１の収集室と、第１の処理室と第１の収集室とを区画する第１の隔壁と、第１の隔壁を貫通して第１の受け止め部と第１の液収集部との間に接続される第１の収集配管とを備える。

【符号の説明】

【0119】

１０…基板保持部，１１…カップ，１２，１３…ノズル，１４，１５…ノズル容器，２１，２２，２３，２４，２５…収集配管，２１ａ，２２ａ，２３ａ，２４ａ…下部配管，２１ｂ，２２ｂ，２３ｂ，２４ｂ…上部配管，３０…液収集部，３０Ｓ…内部空間，３１…上面部，３２…排出部，３２ａ…排出口，３９…支持部材，９１，９２，９３…リンス液供給配管，１００…基板処理装置，１１０…制御装置，１２０…塗布処理部，１２０Ｃ…筐体，１３０…現像処理部，１４０…熱処理部，１５０…搬送部，２００，２００Ａ，２００Ｂ，２００Ｃ，２００Ｄ…塗布装置，５００…露光装置，ａｄ，ｂｄ…下流部分，ａｕ…上流端部，Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４…ブロック，ＢＳ…傾斜面，ｅ１１…第１端部，ｅ１２…第２端部，ＥＲ１，ＥＲ２…被係合リング，ｏｐ１，ｏｐ２，ｏｐ３，ｏｐ４…開口部，ｐ０…処理位置，ｐ１，ｐ２…待機位置，ｐａ，ｐｂ…貫通孔，ｐｒ…環状突出部，Ｒ１…第１室，Ｒ２…第２室，Ｒ３…第３室，Ｒ４…第４室，ｒｄ１，ｒｄ２，ｒｄ３，ｒｄ４…開閉扉，ｒｏ１，ｒｏ２，ｒｏ３，ｒｏ４…メンテナンス用開口部，ｓｅ…シール部材，ｓｆ１…一側壁部，ｓｆ２…他側壁部，Ｗ…基板，ＷＬ１，ＷＬ２，ＷＬ３，ＷＬ４…隔壁

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】