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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B1)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-03-06
(45)【発行日】2024-03-14
(54)【発明の名称】ロータリードレッサ
(51)【国際特許分類】
   B24B 53/07 20060101AFI20240307BHJP
   B24B 53/14 20060101ALI20240307BHJP
   B24B 53/053 20060101ALI20240307BHJP
   B24D 3/00 20060101ALI20240307BHJP
【FI】
B24B53/07
B24B53/14
B24B53/053
B24D3/00 320B
B24D3/00 310C
【請求項の数】 6
(21)【出願番号】P 2024501775
(86)(22)【出願日】2023-11-01
(86)【国際出願番号】 JP2023039375
【審査請求日】2024-01-12
(31)【優先権主張番号】P 2022178078
(32)【優先日】2022-11-07
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2023051173
(32)【優先日】2023-03-28
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
【早期審査対象出願】
(73)【特許権者】
【識別番号】000220103
【氏名又は名称】株式会社アライドマテリアル
(74)【代理人】
【識別番号】110001195
【氏名又は名称】弁理士法人深見特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】末光 文也
(72)【発明者】
【氏名】中山 龍治
【審査官】城野 祐希
(56)【参考文献】
【文献】特開2022-149372(JP,A)
【文献】特開2010-115771(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
B24B 53/07
B24B 53/14
B24B 53/053
B24D 3/00
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
外周面を有する台金と、
前記台金の前記外周面上に設けられた砥粒層とを備えたロータリードレッサであって、
前記砥粒層は、前記台金の上に設けられた結合材と、前記結合材により一層に固着された砥粒とを有し、
前記ロータリードレッサの前記砥粒層の直径が部位により異なり、
前記砥粒層の直径は、部位により直径差が5%以上あり、
前記砥粒層の表面に現れる前記砥粒には、平坦に形成された作用面が設けられ、
前記砥粒層の表面における前記作用面の面積割合は、前記砥粒層の直径の大きい部位ほど小さい、ロータリードレッサ。
【請求項2】
前記砥粒層において最大直径の部分の前記作用面の面積割合は、5%以上15%以下である、請求項1に記載のロータリードレッサ。
【請求項3】
前記砥粒層の直径が大きい部位ほどロータリードレッサ1周における砥粒数が少ない、請求項1または2に記載のロータリードレッサ。
【請求項4】
前記砥粒層の直径が大きい部位ほど前記砥粒の間隔が広い、請求項1または2に記載のロータリードレッサ。
【請求項5】
前記砥粒は、人工合成ダイヤモンドであり、前記人工合成ダイヤモンドの結晶面が配向している、請求項1または2に記載のロータリードレッサ。
【請求項6】
前記砥粒は、前記砥粒層の表面において線状に配列されている、請求項1または2に記載のロータリードレッサ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、ロータリードレッサに関するものである。本出願は、2022年11月7日に出願した日本特許出願である特願2022-178078号に基づく優先権、および、2023年3月28日に出願した日本特許出願である特願2023-051173号に基づく優先権を主張する。当該日本特許出願に記載された全ての記載内容は、参照によって本明細書に援用される。
【背景技術】
【0002】
総形の砥石の形状や砥面の修正を行うロータリードレッサの例として、特開2012-091292号公報(特許文献1)に記載のロータリードレッサがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開2012-091292号公報
【発明の概要】
【0004】
ロータリードレッサは、外周面を有する台金と、台金の外周面上に設けられた砥粒層とを備えたロータリードレッサであって、砥粒層は、台金の上に設けられた結合材と、結合材により一層に固着された砥粒とを有し、ロータリードレッサの砥粒層の直径が部位により異なり、砥粒層の直径は、部位により直径差が5%以上あり、砥粒層の表面に現れる砥粒には、平坦に形成された作用面が設けられ、砥粒層の表面における作用面の面積割合は、砥粒層の直径の大きい部位ほど小さい。
【図面の簡単な説明】
【0005】
図1図1は、本開示の実施の形態に従ったロータリードレッサ100の写真である。
図2図2は、ロータリードレッサ100と砥石200が接触してロータリードレッサ100が砥石200をドレッシングする状態を示す図である。
図3図3は、砥石200とワーク300が接触して砥石200がワーク300を研削加工する状態を示す図である。
図4図4は、ロータリードレッサ100の中心から外周に向かう方向に沿った砥粒層101の断面構造を示す図である。
図5図5は、作用面の面積割合の測定方法を説明するために示すロータリードレッサ100の模式図である。
図6図6は、作用面の面積割合の測定方法を説明するために示すロータリードレッサ100の模式図である。
図7図7は、作用面の面積割合の測定方法を説明するために示すロータリードレッサ100の模式図である。
図8図8は、実施例において作製されたドレッシング前のロータリードレッサ100の模式図である。
図9図9は、100回ドレッシングした後のロータリードレッサ100の模式図である。
図10図10は、100回ドレッシングした後のロータリードレッサ100と、ロータリードレッサ100に接触する形状転写材加工用砥石400との模式図である。
図11図11は、形状転写材加工用砥石400と、形状転写材加工用砥石400に接触する形状転写材500との模式図である。
図12図12は、100回ドレッシングした後のロータリードレッサ100の形状が転写された形状転写材500の模式図である。
図13図13は、形状転写材500に形成された摩耗痕としての凹部519の深さを測定する方法を説明するための模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0006】
[本開示が解決しようとする課題]
従来のロータリードレッサにおいてはドレス抵抗が高いという問題があった。
【0007】
総形ロータリードレッサで砥石をドレスする場合、ロータリードレッサの直径が大きい部分では砥石の直径は小さくなり、ロータリードレッサの直径が小さい部分では砥石の直径は大きくなる。また、ドレス抵抗が問題となる外径研削用砥石のドレスにおいては、一般的にロータリードレッサの直径は、砥石の直径より小さいことがほとんどであり、ドレス時の回転数もロータリードレッサの方が砥石よりも小さい。ロータリードレッサと砥石の回転方向は、お互いに逆方向になる方向(ダウンカット)を一般的に使用し、ロータリードレッサと砥石の回転方向が同じ方向(アップカット)はロータリードレッサの切れ味が悪くドレスできないなど特別の理由がある場合を除いては使用されない。
【0008】
このような状況で総形ロータリードレッサを使用する場合、ロータリードレッサの大径部と小径部とでは砥石との周速比が異なる。
【0009】
すなわち、ロータリードレッサの小径部と砥石の大径部の周速比V1(VRD/V砥石)は小さく、ロータリードレッサの大径部と砥石の小径部の周速比V2(VRD/V砥石)は大きくなって1に近づく。
【0010】
周速比が1に近づくと、抵抗が非常に大きくなり、ロータリードレッサの切れ味も悪くなる。
【0011】
このようなことから、総形のロータリードレッサの砥粒層の構成が全体に同じであると、ロータリードレッサの大径部と小径部でドレス時の抵抗が大きく異なり、ドレス抵抗の大きい部分があるため、ビビリなどが生じてドレスされた砥石の精度が悪くなりやすい。
【0012】
また、ロータリードレッサの摩耗が不均一になり、ロータリードレッサの寿命が短くなる。
【0013】
本開示のロータリードレッサは、以上のような問題を解決するものである。
図1は、本開示の実施の形態に従ったロータリードレッサ100の写真である。図2は、ロータリードレッサ100と砥石200が接触してロータリードレッサ100が砥石200をドレッシングする状態を示す図である。図3は、砥石200とワーク300が接触して砥石200がワーク300を研削加工する状態を示す図である。
【0014】
図1から図3で示すように、ダイヤモンドロータリードレッサとしてのロータリードレッサ100は、台金103と、台金103の表面に設けられた超砥粒層としての砥粒層101とを有する。
【0015】
台金103は、例えば、ステンレス鋼により構成される。台金103は円柱形状であり、台金103の外周面には砥粒層101が設けられる。砥粒層101においては、砥粒としてのダイヤモンドが固定されている。なお、ダイヤモンドに換えてCBN(立方晶窒化ホウ素)を用いてもよい。さらに、ダイヤモンドと立方晶窒化ホウ素が混在していてもよい。
【0016】
砥粒層101には、円周方向に延びる溝102が形成されている。この溝102は、被加工物の形状に沿って形成されている。このようなロータリードレッサ100は、いわゆる総形砥石をドレッシングするものである。
【0017】
図4は、ロータリードレッサ100の中心から外周に向かう方向に沿った砥粒層101の断面構造を示す図である。図4で示すように、台金103の表面には低融点合金層104を介して砥粒層101が形成されている。砥粒層101は反転メッキ法により製作され、メッキ層である結合材203と一層に固着された砥粒204とを有する。台金103上に低融点合金層104により砥粒層101が固定されている。
【0018】
作用面205をなだらかに接続する仮想面206の面積に対する複数の作用面205の合計面積比率が比率Sで表される。
【0019】
砥粒204の作用面205は、砥粒204を研削または研磨することにより形成される。砥粒204を研削または研磨する時間を変更することにより、作用面205の面積を調整できる。砥粒204としてダイヤモンドおよびCBNなどの超砥粒のみならず、アルミナなどの在来砥粒を使用することが可能である。
【0020】
ロータリードレッサ100は外周面109を有する台金103と、台金103の外周面109上に設けられた砥粒層101とを備える。砥粒層101は、台金103の上に設けられた結合材203と、結合材203により一層に固着された砥粒204とを有し、ロータリードレッサ100の砥粒層101の直径が砥粒層101の第一の部位と第二の部位とにより異なる。
【0021】
第一の部位の砥粒層101の直径をD1とし、第二の部位の砥粒層101の直径をD2とすると(D1-D2)/D1は5%以上である。砥粒層101の表面に現れる砥粒には、平坦に形成された作用面205が設けられる。
【0022】
砥粒層101の表面における作用面205の面積割合は、砥粒層101の直径の大きい部位ほど小さい。
【0023】
好ましくは、砥粒層101において最大直径の部分の作用面205の面積の割合(比率S)は、5%以上15%以下である。
【0024】
好ましくは砥粒層101の直径が大きい部位ほどロータリードレッサ100の1周における砥粒数が少ない。
【0025】
好ましくは、砥粒層101の直径が大きい部位ほど砥粒204の間隔が広い。
砥粒204は、人工合成ダイヤモンドであり、人工合成ダイヤモンドの結晶面が配向している。
【0026】
砥粒204として人工合成ダイヤモンドを使用すると、ダイヤの結晶面が明確に現れた形状のため、結晶面が台金103の接合面と平行に近い状態で接合される。その結果、砥粒204が安定した形で密に接合され、砥粒204に作用面を形成するための研削量は少なくても作用面積比率を高くすることができる。その結果、作用面形成が容易になるとともに、砥粒層101の厚みが厚くなるので寿命も向上する。
【0027】
好ましくは、砥粒204は、砥粒層101の表面において線状に配列している。配列する方向は、ロータリードレッサ100の軸方向、周方向、あるいはこれらに対して角度を有する方向のいずれでも良く、直線状でも曲線状でも良い。
【0028】
砥粒204を線状に配列することで、ロータリードレッサ100を製作する上で、作用面205の面積割合を調整しやすくなる。
【0029】
図5から図7は、作用面の面積割合の測定方法を説明するために示すロータリードレッサ100の模式図である。図5から図7において、回転軸108を中心としてロータリードレッサ100は回転する。図5においては外周面109が階段形状となっている。
【0030】
ステップ(1)
ロータリードレッサ100の任意の位置を選択する。直径がD1の部分を選択したとする。
【0031】
ステップ(2)
上記1)で選択した位置の直径と5%以上異なる位置を選択する。直径D2の部分を選択したとする。(D1-D2)/D1は5%以上とする。さらに、直径D3の部分を選択したとする(D2-D3)/D2は5%以上とする。
【0032】
図6のように、直径が連続的に変化するような形状の場合、上記1)で選択した位置の直径と5%、10%、15%のように5%ごとに異なる位置を選択する。具体的には任意の位置(線Aの位置)を選択する。線Aの位置から直径が5%異なる線Bの位置を選択する。線Bの位置から直径が5%異なる線Cの位置を選択する。線Cの位置から直径が5%異なる線Dの位置を選択する。
【0033】
図7のように溝102が形成されている場合、溝102外の線Aの位置を選択する。溝外の線Aの位置の直径をD1、溝102内の線Bの位置の直径をD2とする。(D1-D2)/D1は5%以上であれば線B上でも測定する。
【0034】
ステップ(3)
上記ステップ(1)および(2)で選択した位置の周方向において、軸方向の長さ2mm、周方向の長さ10mmの範囲で周方向に10ヶ所の任意の位置を選択する。これにより測定位置121から124が決定される。線A上には10箇所の測定位置121が存在する。線B上には10箇所の測定位置122が存在する。線C上には10箇所の測定位置123が存在する。線D上には10箇所の測定位置124が存在する。
【0035】
ステップ(4)
選択した位置それぞれについて、キーエンス製VR5000の測定装置を使い、曲面補正、カットオフ補正、しきい値設定、面積測定の手順で、砥粒の作用面の面積割合を測定する。
【0036】
具体的には、測定機は:キーエンス製VR5000である。測定原理は「光切断法」である。解析手順は、(1)3次元測定する。(2)下記A,Bの何れかもしくは両方で形状を平面化する。A:うねり除去(カットオフ処理)。ある波長以上のうねりを平面化する。B:2次曲線補正。2次曲線で形状全体をフィッティングして得られた円弧形状を平面化する。(3)閾値を設定し、作用面積を計算する。線A、線B、線C、線Dそれぞれにおいて、10箇所測定した作用面積の平均値をその線における作用面積とする。
【0037】
ロータリードレッサ100と、ロータリードレッサ100に接触する砥石との間の周速差が小さい(周速度比が1に近い)ほど、ドレス抵抗が大きくなる。総形ドレスはロータリードレッサ100の外径によって周速差が異なる。場所によって総形ドレッサの周速を変えることはできない。そのため、ロータリードレッサ100において外径が大きい部分の砥粒204の作用面205の割合を小さくしてドレス抵抗を下げることができる。
【0038】
総形ロータリードレッサの大径部のドレス抵抗を小さくしてロータリードレッサ全体のドレス抵抗を下げることができる。また、ロータリードレッサの大径部と小径部のドレス抵抗の差が小さくなるので、ドレスされた砥石の精度が向上する。さらに、砥粒層の大径部と小径部の摩耗を均一に近づけることができ、ロータリードレッサの寿命を向上させることができる。
【0039】
ロータリードレッサがドレスを行う際に砥石に作用する砥粒の頭部には、作用面が設けられているが、この作用面の面積割合がドレス抵抗に大きく影響する。総形ロータリードレッサでは大径部ほど砥石の小径部に作用し、この部分の周速比が1に近づく。そのため、ドレス抵抗が大きくなる。この抵抗が大きくなるロータリードレッサの大径部の砥粒の作用面の面積割合を小さくしてやれば、ロータリードレッサの大径部のドレス抵抗が下がり、ロータリードレッサ全体のドレス抵抗も下がる。
【0040】
(実施例)
(ロータリドレッサ100、砥石200およびワーク300の説明)
図8は、実施例において作製されたドレッシング前のロータリードレッサ100の模式図である。その詳細を表1および表2に示す。
【0041】
【表1】
【0042】
【表2】
【0043】
「2mm幅平均砥粒間隔」とは、各部位での「2mm幅内における中央部の周方向長さ/2mm幅内の砥粒数」で求めた距離とする。なお、2mm幅の領域の外周縁部分にある砥粒でこの領域内には砥粒の一部分が入っているものについては、砥粒数を0.5ヶとしてカウントする。
【0044】
ロータリードレッサ100の砥粒204はダイヤモンド、台金103(図3)はステンレス鋼、結合材203(図3)はニッケルメッキにより構成される。砥粒204の径は♯20/25(平均粒径700μmから850μm)である。砥粒204は、周方向に間隔をおいて固着され、線状に配列される。
【0045】
このロータリードレッサ100は、図2で示すように砥石200をドレスするものである。
【0046】
ドレスされる砥石200(図2)はクレノートン社製のメッシュ♯60(平均粒径250μm)結合度Kの砥石である。砥石200の材質はWAである。
【0047】
ワーク300(図3)は、直径100mm、厚み(回転軸方向の長さ)130mmの丸棒でS45Cにより構成される。
【0048】
ロータリードレッサ100と砥石200の回転方向は互いに逆(ダウンドレス)である。これにより、ロータリードレッサ100と砥石200との間に研削液が吸い込まれるようにした。砥石200とワーク300の回転方向も互いに逆である。
【0049】
ロータリードレッサ100の平均外径は93mm、回転数は1200rpm、周速は5.8m/sである。砥石200の平均外径は248mm、回転数は1490(rpm)、周速は19.4m/sである。ロータリードレッサ100の平均周速度/砥石200の平均周速度で表される周速度比は0.3である。
【0050】
(ドレッシング工程の説明)
まず、ロータリードレッサ100を用いて砥石200をドレッシングした。次に、この砥石でワーク300の研削加工を繰り返し、ワーク300の加工後の精度が規定値から外れた時点で、再度砥石200をロータリードレッサ100でドレッシングした。これを100回繰り返した後の結果を表3および表4に示す。
【0051】
【表3】
【0052】
【表4】
【0053】
表3および表4中「ドレス抵抗」はキスラー製圧電式センサ「多成分動力計9257B」により切り込み方向の負荷を測定した、ロータリードレッサを回転させるための抵抗である。
【0054】
「ワーク粗さ」は100回のドレッシングの各々において、ドレッシングした直後に砥石200により加工されたワーク300の表面粗さであり、触診式表面粗さ計により測定して100回分の測定値の平均値とした。
【0055】
「100回ドレス時RD半径摩耗量」は上記(ドレッシング工程の説明)で記載の100回ドレッシングした後のロータリードレッサの摩耗量である。図9は、100回ドレッシングした後のロータリードレッサ100の模式図である。図9で示すように、100回のドレッシング終了時には外周面109に凹部119が形成されている。凹部119が形成された領域がドレッシング領域118である。凹部119が形成されるのは、凹部119の部分が主として砥石200と接触するためである。
【0056】
図10は、100回ドレッシングした後のロータリードレッサ100と、ロータリードレッサ100に接触する形状転写材加工用砥石400との模式図である。図10で示すように、100回ドレッシングした後のロータリードレッサ100により、回転軸108を中心としてロータリードレッサ100を回転させかつ回転軸408を中心として形状転写材加工用砥石400を回転させる。形状転写材加工用砥石400をドレスする。これにより、形状転写材加工用砥石400に、ロータリードレッサ100の砥粒層101の外周面の形状が転写される。形状転写材加工用砥石400は、粒度#60(平均粒径250μm)、砥粒種類はWA形状転写材加工用砥石400の幅はロータリードレッサ100の幅以上のものを使用する。
【0057】
図11は、形状転写材加工用砥石400と、形状転写材加工用砥石400に接触する形状転写材500との模式図である。図11で示すように、回転軸408を中心として形状転写材加工用砥石400を回転させかつ回転軸508を中心として形状転写材500を回転させる。これにより、形状転写材加工用砥石400を用いて、材質S45Cの丸棒状の形状転写材500を加工する。
【0058】
図12は、100回ドレッシングした後のロータリードレッサ100の形状が転写された形状転写材500の模式図である。図12で示すように、形状転写材500に転写された形状を、測定領域518において、形状測定装置で測定する。一般的な形状測定装置であれば、どの装置で測定してもよい。
【0059】
図13は、形状転写材500に形成された摩耗痕としての凹部519の深さを測定する方法を説明するための模式図である。図13においては測定領域518において観測される表面の微細な凹凸を記載している。形状測定すると、基準部521、基準部522、ロータリドレッサ100がドレスした際に作用した部分(凹部519の底)のいずれの部分も微小な凹凸がある。形状転写材500に転写されたロータリドレッサRDの基準部521と基準部522それぞれの中間点(平均の位置)を形状測定装置で算出する。中間点523は基準部521の中間点である。中間点524は基準部522の中間点である。同様に、ロータリードレッサ100がドレスした際に作用した部分の中間点526を形状測定装置で算出する。基準部521の中間点523と基準部522の中間点524を結んだ直線525とロータリードレッサ100がドレスした際に作用した部分の中間点526との距離Lが「100回ドレス時RD半径摩耗量」になる。この距離は、直線525に垂直な方向の距離である。
【0060】
「ドレス抵抗判定」の欄において、「ドレス抵抗」が33未満であれば「A」とし、33以上35未満であれば「B」とし、35以上であれば「C」とした。
【0061】
これらの結果から、作用面積率が各部位で等しい試料番号8および10ではドレス抵抗判定において「C」の評価であることが分かる。
【0062】
小径部での作用面積率が小さい試料番号7では、ドレス抵抗判定において「C」の評価であることが分かる。
【0063】
これに対して、小径部での作用面積率が大きい試料番号1から6および9では、ドレス抵抗判定において「A」または「B」の評価が得られていることが分かる。特に、試料番号9ではドレス抵抗が極めて小さいため、優れた結果を示すものであるといえる。
【0064】
試料番号1から6および9では、砥粒層の直径が大きい部位ほど「2mm幅平均砥粒間隔」で表される砥粒の間隔が広くなる。この場合、試料番号1から6および9で示すように、好ましい結果となることが分かる。
(付記1)
外周面を有する台金と、
前記台金の前記外周面上に設けられた砥粒層とを備えたロータリードレッサであって、
前記砥粒層は、前記台金の上に設けられた結合材と、前記結合材により一層に固着された砥粒とを有し、
前記ロータリードレッサの前記砥粒層の直径が部位により異なり、
前記砥粒層の直径は、部位により直径差が5%以上あり、
前記砥粒層の表面に現れる前記砥粒には、平坦に形成された作用面が設けられ、
前記砥粒層の表面における前記作用面の面積割合は、前記砥粒層の直径の大きい部位ほど小さい、ロータリードレッサ。
(付記2)
前記砥粒層において最大直径の部分の前記作用面積の割合は、5%以上15%以下である、付記1に記載のロータリードレッサ。
(付記3)
前記砥粒層の直径が大きい部位ほどロータリードレッサ1周における砥粒数が少ない、付記1または2に記載のロータリードレッサ。
(付記4)
前記砥粒層の直径が大きい部位ほど前記砥粒の間隔が広い、付記1から3のいずれか1項に記載のロータリードレッサ。
(付記5)
前記砥粒は、人工合成ダイヤモンドであり、前記人工合成ダイヤモンドの結晶面が配向している、付記1から4のいずれか1項に記載のロータリードレッサ。
(付記6)
前記砥粒は、前記砥粒層の表面において線状に配列されている、付記1から5のいずれか1項に記載のロータリードレッサ。
【0065】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【0066】
100 ロータリードレッサ、101 砥粒層、102 溝、103 台金、104 低融点合金、108,408,508 回転軸、109 外周面、118 ドレッシング領域、203 結合材、204 超砥粒、205 頂面、206 仮想面 300 ワーク、400 形状転写材加工用砥石、500 形状転写材、518 測定領域、521,522 基準部、523,524,526 中間点、525 直線。 。
【要約】
ロータリードレッサは外周面を有する台金103と、台金103の外周面上に設けられた砥粒層101とを備える。砥粒層101は、台金103の上に設けられた結合材203と、結合材203により一層に固着された砥粒204とを有し、ロータリードレッサの砥粒層101の直径が砥粒層の第一の部位と第二の部位とにより異なる。砥粒層101の表面における作用面205の面積割合は、砥粒層101の直径の大きい部位ほど小さい。
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