特許 7459003 インク組成物、これを用いて製造された画素、前記画素を含むカラーフィルタおよび前記カラーフィルタを備える画像表示装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-03-22

(45)【発行日】2024-04-01

(54)【発明の名称】インク組成物、これを用いて製造された画素、前記画素を含むカラーフィルタおよび前記カラーフィルタを備える画像表示装置

(51)【国際特許分類】

   C09D 11/30 20140101AFI20240325BHJP

   C09D 11/38 20140101ALI20240325BHJP

   C09C 1/36 20060101ALI20240325BHJP

   C09C 3/04 20060101ALI20240325BHJP

   G02B 5/20 20060101ALI20240325BHJP

   B41J 2/01 20060101ALI20240325BHJP

   B41M 5/00 20060101ALN20240325BHJP

【ＦＩ】

C09D11/30

C09D11/38

C09C1/36

C09C3/04

G02B5/20

G02B5/20 101

B41J2/01 501

B41M5/00 120

【請求項の数】 12

(21)【出願番号】P 2021004881

(22)【出願日】2021-01-15

(65)【公開番号】P2021113311

(43)【公開日】2021-08-05

【審査請求日】2023-02-02

(31)【優先権主張番号】10-2020-0006216

(32)【優先日】2020-01-16

(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR

(31)【優先権主張番号】10-2021-0001658

(32)【優先日】2021-01-06

(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR

(73)【特許権者】

【識別番号】503454506

【氏名又は名称】東友ファインケム株式会社

【氏名又は名称原語表記】ＤＯＮＧＷＯＯ ＦＩＮＥ－ＣＨＥＭ ＣＯ．， ＬＴＤ．

【住所又は居所原語表記】１３２， ＹＡＫＣＨＯＮ－ＲＯ， ＩＫＳＡＮ－ＳＩ， ＪＥＯＬＬＡＢＵＫ－ＤＯ ５４６３１， ＲＥＰＵＢＬＩＣ ＯＦ ＫＯＲＥＡ

(74)【代理人】

【識別番号】110001195

【氏名又は名称】弁理士法人深見特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】李 知 煥

(72)【発明者】

【氏名】金 胄 皓

(72)【発明者】

【氏名】金 亨 柱

(72)【発明者】

【氏名】申 奎 ▲チュル▼

(72)【発明者】

【氏名】王 賢 正

(72)【発明者】

【氏名】李 在 庸

(72)【発明者】

【氏名】李 憲 熙

【審査官】齊藤 光子

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１９－０８５５３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１９－１１２５１６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１９－０８６７４３（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ０９Ｄ １１／００－５４

Ｇ０２Ｂ ５／２０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

散乱粒子、硬化性モノマーおよび量子ドットを含むインク組成物であって、
前記インク組成物全１００重量％に対して、前記散乱粒子を０．５～２０重量％、および前記硬化性モノマーを４０～９８重量％含み、
前記散乱粒子がＴｉＯ _２ であり、
前記ＴｉＯ _２ は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｚｎ、および有機物から選択される１種以上の成分で表面処理したものであり、
前記硬化性モノマーは、２個の官能基を有する化学式１および化学式２で表される化合物からなる群より選択される１種以上の化合物を含むものであり、
前記量子ドットは、ポリエチレングリコール系リガンド層を含むものであり、
前記ポリエチレングリコール系リガンド層は、化学式４ａ～４ｃおよび化学式５ａで表される化合物の中から選択される１種以上を含むものである、インク組成物。

【化1】

（前記化学式１において、Ｒ_１は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、ｍは、１～１５の整数である。）

【化2】

（前記化学式２において、Ｒ_２は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、ｍは、１～１５の整数である。）

【化4a】

【化4b】

【化4c】

（前記化学式４ａ～４ｃにおいて、
Ｒ’およびＲ’’は、それぞれ独立して、水素原子、カルボキシル基、フェニル基、またはチオール基で置換されているか置換されていないＣ１－Ｃ２０のアルキル基であり、前記Ｒ’とＲ’’は、同時に、水素原子、フェニル基、または置換されていないＣ１－Ｃ２０のアルキル基ではなく、
Ｒ ^ａ は、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２２のアルキル基、または置換もしくは非置換のＣ４－Ｃ２２のアルケニル基であり、
ｎは、１～２０の整数であり、
ｐ、ｑは、それぞれ独立して、１～１００の整数であり、
ｒは、１～１０の整数である。）

【化5a】

（前記化学式５ａにおいて、
Ｒ ^ｃ は、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２２のアルキル基、または置換もしくは非置換のＣ４－Ｃ２２のアルケニル基であり、
Ｒ ^ｄ は、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２２のアルキレン基、置換もしくは非置換のＣ３－Ｃ８のシクロアルキレン基、または置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ１４のアリーレン基であり、
ＡおよびＢは、それぞれ独立して、単結合、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２２のアルキレン基、－Ｏ－、－ＮＲ ^ｅ －、または－Ｓ－であり、
Ｘは、カルボキシル基、リン酸基、チオール基、アミン基、テトラゾール基、イミダゾール基、ピリジン基、またはリポアミド基であり、
Ｒ ^ｅ は、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２２のアルキル基、または置換もしくは非置換のＣ４－Ｃ２２のアルケニル基であり、
ｕは、１～１００の整数である。）

【請求項2】

前記ＴｉＯ_２と前記表面処理成分の重量比が９２：８～９９：１である、請求項１に記載のインク組成物。

【請求項3】

前記インク組成物は、分散剤、光重合開始剤、および添加剤からなる群より選択される１種以上をさらに含むものである、請求項１に記載のインク組成物。

【請求項4】

前記量子ドットは、非カドミウム系量子ドットである、請求項１に記載のインク組成物。

【請求項5】

前記硬化性モノマーは、下記化学式３で表される化合物をさらに含むものである、請求項１に記載のインク組成物。

【化3】

（前記化学式３において、Ｒ_３は、水素またはメチル基であり、Ａは、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－または－ＣＨ_２－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－である。）

【請求項6】

前記硬化性モノマーは、水酸基含有（メタ）アクリレートをさらに含むものである、請求項１に記載のインク組成物。

【請求項7】

前記水酸基含有（メタ）アクリレートは、水酸基価が２００～３００ｍｇＫＯＨ／ｇであり、粘度が５０ｃＰ未満である、請求項６に記載のインク組成物。

【請求項8】

前記硬化性モノマーの固形分を基準として、前記化学式１および化学式２で表される化合物の含有量が５重量％～４０重量％である、請求項１に記載のインク組成物。

【請求項9】

前記インク組成物は、無溶剤型である、請求項１に記載のインク組成物。

【請求項10】

請求項１～９のいずれか１項に記載のインク組成物の硬化物を用いて製造された光散乱画素。

【請求項11】

請求項１０に記載の光散乱画素を含むカラーフィルタ。

【請求項12】

請求項１１に記載のカラーフィルタを含む画像表示装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、インク組成物、これを用いて製造された画素、前記画素を含むカラーフィルタおよび前記カラーフィルタを備える画像表示装置に関する。

【背景技術】

【0002】

最近、工程の効率性および経済性を考慮して好まれる手段はインクジェット印刷である。インクジェット印刷は、ノズルを基材に接触させずにインク液滴が微細なノズルを通して基材上に噴射される非衝撃式印刷技術で、工程の単純化および優れた経済的効果を有する。

【0003】

しかし、インクジェット印刷において散乱粒子または量子ドットを含む場合、散乱粒子および／または量子ドットの凝集現象による問題が発生する。具体的には、散乱粒子および／または量子ドットの場合、顔料または染料として用いられる着色剤より沈殿および凝集現象が発生しやすい。したがって、散乱粒子および／または量子ドットはよく沈殿および凝集され、インクジェットシステムのノズルを詰まらせる問題を発生させる。

【0004】

そこで、大韓民国公開公報第１０－２０１７－００８４１０７号のような従来技術は、インク組成物を２液型で製造し、使用前に混合して使用する方法を考案した。しかし、このような２液型で製造する場合、工程が複雑になり、使用直前に混合して使用しなければならないため、混合後の再使用が不可能で経済性が低下する問題が発生した。また、アクリレート樹脂を用いる従来技術の組成物では、粘度が高くてノズル詰まりが発生し、安定した吐出のために粘度が低いアルキルアクリレートモノマーのみを用いると、密着力が著しく低下する問題が発生した。

【0005】

したがって、本発明は、上記の問題を解決するためになされた。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【文献】大韓民国公開公報第１０－２０１７－００８４１０７号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

本発明は、上述した従来技術の問題点を改善するためのものであって、インクジェット工程の後、インク組成物のブリトル（ｂｒｉｔｔｌｅ）な特性から下部基材と剥離が起こりやすい現象が著しく改善されて密着力に優れ、製造された塗膜の浮き上がりやクラックが発生せず、粘度が低くてインクジェッティング工程で頻繁に発生するノズル詰まり現象なく連続してジェッティング可能なインク組成物を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明は、散乱粒子および硬化性モノマーを含むインク組成物であって、前記硬化性モノマーは、２個の官能基を有する化学式１および化学式２で表される化合物のうちの１種以上を含むものである、インク組成物を提供する。

【0009】

【化1】

【0010】

（前記化学式１において、Ｒ_１は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、ｍは、１～１５の整数である。）

【0011】

【化2】

【0012】

（前記化学式２において、Ｒ_２は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、ｍは、１～１５の整数である。）
また、本発明は、上述したインク組成物の硬化物を用いて製造された光散乱画素を提供する。

【0013】

さらに、本発明は、上述した光散乱画素を含むカラーフィルタを提供する。
尚、本発明は、上述したカラーフィルタを含む画像表示装置を提供する。

【発明の効果】

【0014】

本発明は、特定の構造を有する硬化性モノマーを含むことにより、インクジェット工程の後、インク組成物のブリトル（ｂｒｉｔｔｌｅ）な特性から下部基材と剥離が起こりやすい現象が著しく改善されて密着力に優れ、製造された塗膜の浮き上がりやクラックが発生せず、粘度が低くてインクジェッティング工程で頻繁に発生するノズル詰まり現象なく連続してジェッティング可能なインク組成物を提供する効果を有する。

【0015】

さらに、長期保管時にも粘度の変化がほとんどなくて粘度安定性に優れ、インクジェット設備への適用時、指定された位置に正確にインクを吐出可能でインクジェッティング誤着弾を最小化できるインク組成物を提供することができる。

【発明を実施するための形態】

【0016】

本発明は、散乱粒子および／または量子ドットを含むインク組成物であって、インクジェット工程への導入時、密着力が著しく改善された効果を達成可能であり、特に、表面が改質された散乱粒子を用いることにより、長期保管時にも粘度安定性を確保することができ、インクジェッティング誤着弾を最小化する効果を極大化することができる。

【0017】

具体的には、本発明は、散乱粒子および硬化性モノマーを含むインク組成物であって、前記硬化性モノマーは、化学式１および化学式２で表される化合物からなる群より選択される１種以上を含むものである、インク組成物に関する。

【0018】

【化1】

【0019】

（前記化学式１において、Ｒ_１は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、ｍは、１～１５の整数である。）

【0020】

【化2】

【0021】

（前記化学式２において、Ｒ_２は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、ｍは、１～１５の整数である。）
散乱粒子
本発明において、散乱粒子は、インク組成物の光特性を向上させる役割を果たすものであって、通常の無機材料を用いることができ、好ましくは、平均粒径が５０～１０００ｎｍの金属酸化物を含むことができる。前記散乱粒子は、分散液の形態で組成物に含まれる。

【0022】

前記金属酸化物は、Ｔｉ、Ｌｉ、Ｂｅ、Ｂ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｍｏ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｌａ、Ｈｆ、Ｗ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｉｎ、およびこれらの組み合わせからなる群より選択された１種の金属を含む酸化物であってもよいが、これに限定されない。具体的には、前記散乱粒子としては、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、ＺｎＯ、ＺｒＯ_２、ＢａＴｉＯ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｔｉ_３Ｏ_５、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＡＴＯ、ＺｎＯ－Ａｌ、Ｎｂ_２Ｏ_３、ＳｎＯ、ＭｇＯ、およびこれらの組み合わせからなる群より選択される１種以上の金属酸化物を含むことができ、ＴｉＯ_２を含むことが最も好ましい。

【0023】

一実施形態において、散乱粒子として表面処理されたＴｉＯ_２を使用することができ、前記ＴｉＯ_２は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｚｎ、および有機物から選択される１種以上の成分で表面処理したものが好ましく、この時、前記表面処理成分のうちＡｌは必須成分として含まれることがさらに好ましい。必要な場合、アクリレートなどの不飽和結合を有する化合物で表面処理された材質も使用可能である。インク組成物に散乱粒子が含まれる場合、連続ジェッティング性やジェッティング誤着弾特性の低下を引き起こすことがあるが、表面改質された散乱粒子を用いる場合、優れた光特性効果を得ながらも連続ジェッティング性およびジェッティング誤着弾特性を改善することができる。

【0024】

また、表面処理されたＴｉＯ_２において、ＴｉＯ_２と表面処理成分の含有量比率は、重量比で９０：１０～９９：１であってもよく、９２：８～９９：１であることが最も好ましい。前記重量比を満たす場合、長期保管時にも粘度安定性に優れ、インクジェッティング時における誤着弾を最小化できる効果が得られる。

【0025】

前記散乱粒子は、５０～１０００ｎｍの平均粒径を有することができ、好ましくは１００～５００ｎｍの範囲のものを用いる。さらに好ましくは１５０～３００ｎｍの範囲であるのが良い。散乱粒子の大きさが上述した範囲を満たす場合、量子ドットやバックライト（ＢＬＵ）から放出された光の十分な散乱効果を提供可能であり、インク組成物中に沈む問題が生じることなく均一な塗膜の表面が得られるという点で好ましい。

【0026】

本発明において、平均粒径とは、数平均粒径であってもよいし、例えば、電界放出走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）または透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）によって観察した像から求められる。具体的には、ＦＥ－ＳＥＭまたはＴＥＭの観察画像からいくつかのサンプルを抽出し、これらサンプルの直径を測定して算術平均した値として得ることができる。

【0027】

前記散乱粒子は、前記インク組成物の総重量に対して０．５～２０重量％、好ましくは１～１５重量％、より好ましくは１～１０重量％含まれる。

【0028】

前記散乱粒子が上述した範囲内に含まれる場合には、発光強度増加効果が極大化され、散乱効果が十分で発光強度の確保が可能であり、散乱特性がしきい範囲を超えて発光された光を遮断することにより、発光強度低下の問題を防止できるという点で好ましい。

【0029】

硬化性モノマー
本発明のインク組成物は、硬化性モノマーとして、化学式１および化学式２で表される化合物のうちの１種以上を含むことを特徴とし、必要に応じて、化学式１および／または２で表される化合物のほか、他の硬化性モノマーをさらに含んでもよい。インク組成物に本発明に係る硬化性モノマーを用いることにより基材との密着性が向上し、散乱粒子によって低下しうる連続ジェッティング性およびジェッティング誤着弾特性も改善することができる。

【0030】

本発明において、硬化性モノマーは、２個の官能基を有する化学式１および化学式２で表される化合物のうちの１種以上を含むことにより、低い粘度でノズル詰まりなくインクジェット工程が可能であり、ジェッティングされたインク組成物と基材との優れた密着力効果を有することができる。

【0031】

従来のアルキルアクリレートモノマーを用いると、塗膜自体がブリトル（ｂｒｉｔｔｌｅ）で壊れやすくてよく割れ、下部基材との密着力が著しく低下する問題が発生し、窮極的に、画素または画像表面装置において下部基材とのインク層間の浮き上がりやクラックが発生して量子ドットの光特性や透過率の低下をもたらす。そこで、本発明は、化学式１および化学式２で表される化合物のうちの１種以上を含むことにより、低い粘度でノズル詰まりなくインクジェット工程が可能な効果を有することができる。

【0032】

【化1】

【0033】

前記化学式１において、Ｒ_１は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、ｍは、１～１５の整数である。

【0034】

【化2】

【0035】

前記化学式２において、Ｒ_２は、それぞれ独立して、水素またはメチル基であり、ｍは、１～１５の整数である。

【0036】

前記化学式１で表される化合物の具体例としては、ポリエチレングリコール２００ジ（メタ）アクリレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ ２００ ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ）、ポリエチレングリコール４００ジ（メタ）アクリレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ ４００ ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ）、ポリエチレングリコール６００ジ（メタ）アクリレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ ６００ ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ）などが挙げられる。

【0037】

前記化学式２で表される化合物の具体例としては、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（Ｄｉｐｒｏｐｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ）、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（Ｔｒｉｐｒｏｐｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ）、ポリプロピレングリコール１００ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール２００ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール４００ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール７００ジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

【0038】

また、硬化性モノマーとして、化学式１および／または２で表される化合物のほか、他の硬化性モノマーをさらに含む場合、全体硬化性モノマーの固形分を基準として、前記化学式１および／または２で表される化合物は５～４０重量％含まれてもよく、好ましくは５～２５重量％含まれることが好ましい。前記含有量範囲に含まれる場合、長期保管時に粘度安定性が向上可能であり、インクジェッティング時における誤着弾を低減することができる。

【0039】

本発明において、硬化性モノマーは、下記化学式３で表される化合物をさらに含むことができる。下記化学式３で表される単官能モノマーを含むことにより、インクジェット工程の後、インク組成物と基材との密着性をより一層向上させることができ、量子ドットが含まれたインク組成物の場合、光特性を向上させる効果が現れる。

【0040】

【化3】

【0041】

前記化学式３において、Ｒ_３は、水素またはメチル基であり、Ａは、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－（エチレンオキシド）または－ＣＨ_２－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－（プロピレンオキシド）である。

【0042】

前記化学式３で表される化合物の２－（メタ）アクリロイルオキシエチルスクシネート、モノ（２－アクリロイルエチル）スクシネート（Ｍｏｎｏ（２－ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙｅｔｈｙｌ）Ｓｕｃｃｉｎａｔｅ）などが挙げられる。

【0043】

前記化学式３の単官能モノマーがさらに含まれる場合、硬化性モノマーを、総１００重量％を基準とした時、０．５～３０重量％含まれる。

【0044】

本発明において、硬化性モノマーは、基材との密着性特性をさらに改善できるという点から、水酸基含有（メタ）アクリレートをさらに含むことができる。

【0045】

前記水酸基含有（メタ）アクリレートは、水酸基価が２００～３００ｍｇＫＯＨ／ｇであり、粘度が５０ｃＰ未満の場合により好ましい。前記水酸基含有（メタ）アクリレートの具体例としては、グリセロール（メタ）アクリレート（例えば、Ｇｌｙｃｅｒｏｌ ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ）などが挙げられる。

【0046】

前記水酸基含有（メタ）アクリレートがさらに含まれる場合、硬化性モノマーを、総１００重量％を基準とした時、０．５～３０重量％含まれる。

【0047】

前記化学式３のモノマーおよび／または水酸基含有（メタ）アクリレートがさらに含まれる場合、インクジェットプリンティング工程でコーティングされる画素は、基材との剥離やクラックなく密着性に優れた特性を改善させることができる。化学式３のモノマーおよび／または水酸基含有（メタ）アクリレートが過度に含まれる場合、硬化がまともに行われなかったり、むしろ密着力がやや低下することがあり、含有量の増加による粘度の増加でジェッティング性が減少しうるため、含まれる場合、上述した範囲内に含まれることが好ましい。

【0048】

前記硬化性モノマーは、前記インク組成物全１００重量％に対して４０～９８％含まれ、より具体的には、量子ドットを含むインク組成物の場合、４０～７０重量％、好ましくは５０～６０重量％含まれ、量子ドットを含まずに散乱粒子のみを含むインク組成物の場合、８０～９５重量％含まれる。

【0049】

前記硬化性モノマーが前記範囲内に含まれる場合、インクジェットプリンティング工程でノズル詰まりなく連続したジェッティングや画素部の密着性の面で好ましいという利点がある。また、上述した範囲に含まれる場合、画素部の密着性がやや低下して、インクジェット工程の後に塗膜のクラックや剥離が起こる問題を防止可能であり、量子ドットおよび／または散乱粒子の含有量が減少して塗膜の光特性や透過率がやや低下しうる問題も改善可能なので、好ましい。

【0050】

量子ドット
前記量子ドットは、光による刺激で発光できるものであれば特に限定しないが、非カドミウム系であることが好ましく、ＩＩ－ＶＩ族半導体化合物、ＩＩＩ－Ｖ族半導体化合物、ＩＶ－ＶＩ族半導体化合物、およびＩＶ族元素、またはこれを含む化合物から選択される１種以上を使用することができる。前記ＩＩ－ＶＩ族半導体化合物は、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＺｎＯ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ、およびこれらの混合物からなる群より選択される二元素化合物；ＣｄＳｅＳ、ＣｄＳｅＴｅ、ＣｄＳＴｅ、ＺｎＳｅＳ、ＺｎＳｅＴｅ、ＺｎＳＴｅ、ＨｇＳｅＳ、ＨｇＳｅＴｅ、ＨｇＳＴｅ、ＣｄＺｎＳ、ＣｄＺｎＳｅ、ＣｄＺｎＴｅ、ＣｄＨｇＳ、ＣｄＨｇＳｅ、ＣｄＨｇＴｅ、ＨｇＺｎＳ、ＨｇＺｎＳｅ、ＨｇＺｎＴｅ、およびこれらの混合物からなる群より選択される三元素化合物；並びにＣｄＺｎＳｅＳ、ＣｄＺｎＳｅＴｅ、ＣｄＺｎＳＴｅ、ＣｄＨｇＳｅＳ、ＣｄＨｇＳｅＴｅ、ＣｄＨｇＳＴｅ、ＨｇＺｎＳｅＳ、ＨｇＺｎＳｅＴｅ、ＨｇＺｎＳＴｅ、およびこれらの混合物からなる群より選択される四元素化合物からなる群より選択される１種以上であってもよく、前記ＩＩＩ－Ｖ族半導体化合物は、ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＧａＳｂ、ＡｌＮ、ＡｌＰ、ＡｌＡｓ、ＡｌＳｂ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓ、ＩｎＳｂ、およびこれらの混合物からなる群より選択される二元素化合物；ＧａＮＰ、ＧａＮＡｓ、ＧａＮＳｂ、ＧａＰＡｓ、ＧａＰＳｂ、ＡｌＮＰ、ＡｌＮＡｓ、ＡｌＮＳｂ、ＡｌＰＡｓ、ＡｌＰＳｂ、ＩｎＮＰ、ＩｎＮＡｓ、ＩｎＮＳｂ、ＩｎＰＡｓ、ＩｎＰＳｂ、ＧａＡｌＮＰ、およびこれらの混合物からなる群より選択される三元素化合物；並びにＧａＡｌＮＡｓ、ＧａＡｌＮＳｂ、ＧａＡｌＰＡｓ、ＧａＡｌＰＳｂ、ＧａＩｎＮＰ、ＧａＩｎＮＡｓ、ＧａＩｎＮＳｂ、ＧａＩｎＰＡｓ、ＧａＩｎＰＳｂ、ＩｎＡｌＮＰ、ＩｎＡｌＮＡｓ、ＩｎＡｌＮＳｂ、ＩｎＡｌＰＡｓ、ＩｎＡｌＰＳｂ、およびこれらの混合物からなる群より選択される四元素化合物からなる群より選択される１種以上であってもよい。

【0051】

前記ＩＶ－ＶＩ族半導体化合物は、ＳｎＳ、ＳｎＳｅ、ＳｎＴｅ、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ、ＰｂＴｅ、およびこれらの混合物からなる群より選択される二元素化合物；ＳｎＳｅＳ、ＳｎＳｅＴｅ、ＳｎＳＴｅ、ＰｂＳｅＳ、ＰｂＳｅＴｅ、ＰｂＳＴｅ、ＳｎＰｂＳ、ＳｎＰｂＳｅ、ＳｎＰｂＴｅ、およびこれらの混合物からなる群より選択される三元素化合物；並びにＳｎＰｂＳＳｅ、ＳｎＰｂＳｅＴｅ、ＳｎＰｂＳＴｅ、およびこれらの混合物からなる群より選択される四元素化合物からなる群より選択される１種以上であってもよい。

【0052】

前記ＩＶ族元素またはこれを含む化合物は、Ｓｉ、Ｇｅ、およびこれらの混合物からなる群より選択される元素化合物；並びにＳｉＣ、ＳｉＧｅ、およびこれらの混合物からなる群より選択される二元素化合物からなる群より選択される１種以上であってもよいが、これに限定されない。

【0053】

前記量子ドットは、均質な（ｈｏｍｏｇｅｎｅｏｕｓ）単一構造；コア－シェル（ｃｏｒｅ－ｓｈｅｌｌ）構造、グラジエント（ｇｒａｄｉｅｎｔ）構造などのような二重構造；またはこれらの混合構造であってもよい。例えば、前記コア－シェル（ｃｏｒｅ－ｓｈｅｌｌ）の二重構造において、それぞれのコア（ｃｏｒｅ）とシェル（ｓｈｅｌｌ）をなす物質は、前記言及された互いに異なる半導体化合物からなってもよい。より具体的には、前記コアは、ｌｎＰ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＰｂＳｅ、ＡｇＩｎＺｎＳ、およびＺｎＯから選択される１種以上の物質を含むことができるが、これに限定されるものではない。前記シェルは、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｎＴｅ、ＰｂＳ、ＴｉＯ、ＳｒＳｅ、およびＨｇＳｅから選択される１種以上の物質を含むことができるが、これに限定されるものではない。

【0054】

例えば、コア－シェル構造の量子ドットは、ＩｎＰ／ＺｎＳ、ＩｎＰ／ＧａＰ／ＺｎＳ、ＩｎＰ／ＧａＰ／ＺｎＳ、ＩｎＰ／ＺｎＳｅ／ＺｎＳ、ＩｎＰ／ＺｎＳｅＴｅ／ＺｎＳ、およびＩｎＰ／ＭｎＳｅ／ＺｎＳなどが挙げられる。

【0055】

前記量子ドットは、湿式化学工程（ｗｅｔ ｃｈｅｍｉｃａｌ ｐｒｏｃｅｓｓ）、有機金属化学蒸着工程（ＭＯＣＶＤ、ｍｅｔａｌ ｏｒｇａｎｉｃ ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、または分子線エピタキシ工程（ＭＢＥ、ｍｏｌｅｃｕｌａｒ ｂｅａｍ ｅｐｉｔａｘｙ）によって合成できるが、これに限定されるものではない。

【0056】

好ましくは、コア－シェル構造の量子ドットは、ＩｎＰ／ＺｎＳ、ＩｎＰ／ＺｎＳｅ、ＩｎＰ／ＧａＰ／ＺｎＳ、ＩｎＰ／ＺｎＳｅ／ＺｎＳ、ＩｎＰ／ＺｎＳｅＴｅ／ＺｎＳ、およびＩｎＰ／ＭｎＳｅ／ＺｎＳなどが挙げられる。

【0057】

前記量子ドットは、湿式化学工程（ｗｅｔ ｃｈｅｍｉｃａｌ ｐｒｏｃｅｓｓ）、有機金属化学蒸着工程（ＭＯＣＶＤ、ｍｅｔａｌ ｏｒｇａｎｉｃ ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、または分子線エピタキシ工程（ＭＢＥ、ｍｏｌｅｃｕｌａｒ ｂｅａｍ ｅｐｉｔａｘｙ）によって合成できるが、これに限定されるものではない。好ましくは、湿式化学工程（ｗｅｔ ｃｈｅｍｉｃａｌ ｐｒｏｃｅｓｓ）によって合成する方が、より光特性に優れた量子ドットを得ることができる。

【0058】

前記湿式化学工程とは、有機溶剤に前駆体物質を入れて粒子を成長させる方法である。結晶が成長する時、有機溶剤が自然に量子ドット結晶の表面に配位されて分散剤の役割を果たして結晶の成長を調節するため、有機金属化学蒸着工程や分子線エピタキシのような気相蒸着法よりも容易かつ割安な工程によりナノ粒子の成長を制御できるため、前記湿式化学工程を用いて前記量子ドットを製造することが好ましい。

【0059】

湿式化学工程により量子ドットを製造する場合、量子ドットの凝集を防止し、量子ドットの粒子サイズをナノ水準に制御するために有機リガンドが使用される。このような有機リガンドとしては、一般的にオレイン酸が使用できる。

【0060】

本発明の一実施形態において、量子ドットは、ポリエチレングリコール系化合物を含むリガンド層を有するものであってもよい。前記ポリエチレングリコール系化合物は、より具体的には、下記化学式４ａ～４ｃおよび５ａの構造で表されてもよい。

【0061】

本発明の一実施形態において、前記量子ドットは、表面上に下記化学式４ａ～４ｃおよび化学式５ａで表される化合物のうちの１つ以上を含むリガンド層を有するものである。

【0062】

【化4a】

【0063】

【化4b】

【0064】

【化4c】

【0065】

前記化学式４ａ～４ｃにおいて、
Ｒ’およびＲ’’は、それぞれ独立して、水素原子；カルボキシル基；フェニル基；またはチオール基で置換されているか置換されていないＣ１－Ｃ２０のアルキル基であり、
Ｒ’とＲ’’は、同時に、水素原子；フェニル基；または置換されていないＣ１－Ｃ２０のアルキル基ではなく、
Ｒ^ａは、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２２のアルキル基、または置換もしくは非置換のＣ４－Ｃ２２のアルケニル基であり、
ｎは、１～２０の整数であり、
ｐ、ｑは、それぞれ独立して、１～１００の整数であり、
ｒは、１～１０の整数である。

【0066】

また、本発明の量子ドットは、一実施形態において、下記化学式５ａの構造を含むリガンド層を含むものであってもよい。

【0067】

【化5a】

【0068】

前記化学式５ａにおいて、Ｒ^ｃは、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２２のアルキル基、または置換もしくは非置換のＣ４－Ｃ２２のアルケニル基であり、
Ｒ^ｄは、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２２のアルキレン基、置換もしくは非置換のＣ３－Ｃ８のシクロアルキレン基、または置換もしくは非置換のＣ６－Ｃ１４のアリーレン基であり、
ＡおよびＢは、それぞれ独立して、単結合、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２２のアルキレン基、－Ｏ－、－ＮＲ^ｅ－、または－Ｓ－であり、
Ｘは、カルボキシル基、リン酸基、チオール基、アミン基、テトラゾール基、イミダゾール基、ピリジン基、またはリポアミド基であり、
Ｒ^ｅは、置換もしくは非置換のＣ１－Ｃ２２のアルキル基、または置換もしくは非置換のＣ４－Ｃ２２のアルケニル基であり、
ｕは、１～１００の整数である。

【0069】

本明細書で使用されるＣ１－Ｃ２０のアルキル基は、炭素数１～２０個からなる直鎖状または分枝状の１価の炭化水素を意味し、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、１－メチル－ブチル、１－エチル－ブチル、ｎ－ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ－ペンチル、ｎ－ヘキシル、１－メチルペンチル、２－メチルペンチル、４－メチル－２－ペンチル、３，３－ジメチルブチル、２－エチルブチル、ｎ－ヘプチル、１－メチルヘキシル、ｎ－オクチル、ｔｅｒｔ－オクチル、１－メチルヘプチル、２－エチルヘキシル、２－プロピルペンチル、ｎ－ノニル、２，２－ジメチルヘプチル、ｎ－デシル、ｎ－ウンデシルなどが含まれるが、これらに限定されるものではない。

【0070】

本明細書で使用されるＣ１－Ｃ２２のアルキル基は、炭素数１～２２個からなる直鎖状または分枝状の１価の炭化水素を意味し、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、１－メチル－ブチル、１－エチル－ブチル、ｎ－ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ－ペンチル、ｎ－ヘキシル、１－メチルペンチル、２－メチルペンチル、４－メチル－２－ペンチル、３，３－ジメチルブチル、２－エチルブチル、ｎ－ヘプチル、１－メチルヘキシル、ｎ－オクチル、ｔｅｒｔ－オクチル、１－メチルヘプチル、２－エチルヘキシル、２－プロピルペンチル、ｎ－ノニル、２，２－ジメチルヘプチル、ｎ－デシル、ｎ－ウンデシル、ｎ－ドコサニルなどが含まれるが、これらに限定されるものではない。

【0071】

本明細書で使用されるＣ４－Ｃ２２のアルケニル基は、１つ以上の炭素－炭素二重結合を有する炭素数４～２２個からなる直鎖状または分枝状の１価の不飽和炭化水素を意味し、例えば、ブテニレン、ペンテニレン、ヘキセニレン、ヘプテニレン、オクテニレン、ノネニレン、デセニレン、ウンデセニレン、ドデセニレン、トリデセニレン、テトラデセニレン、ペンタデセニレン、ヘキサデセニレン、ヘプタデセニレン、オクタデセニレンなどが含まれるが、これらに限定されるものではない。

【0072】

前記Ｃ１－Ｃ２０のアルキル基、Ｃ１－Ｃ２２のアルキル基、およびＣ４－Ｃ２２のアルケニル基は、１つまたはそれ以上の水素がＣ１－Ｃ６のアルキル基、Ｃ２－Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２－Ｃ６のアルキニル基、Ｃ３－Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ３－Ｃ１０のヘテロシクロアルキル基、Ｃ３－Ｃ１０のヘテロシクロアルキルオキシ基、Ｃ１－Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ１－Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１－Ｃ６のチオアルコキシ基、アリール基、アシル基、ヒドロキシ、チオ（ｔｈｉｏ）、ハロゲン、アミノ、アルコキシカルボニル、カルボキシ、カルバモイル、シアノ、ニトロなどで置換されていてもよい。

【0073】

本発明の前記化学式４ａで表される化合物は、量子ドットの光特性および分散性と、低粘度実現の面から、Ｒ’がチオール基で置換されているか置換されていないＣ１－Ｃ２０のアルキル基であり、Ｒ’’がカルボキシル基である化合物であってもよい。

【0074】

本発明の一実施形態において、前記化学式４ａで表される化合物の具体例としては、２－（２－メトキシエトキシ）酢酸（ＷＡＫＯ社）、２－［２－（２－メトキシエトキシ）エトキシ］酢酸（ＷＡＫＯ社）、｛２－［２－（カルボキシメトキシ）エトキシ］エトキシ｝酢酸（ＷＡＫＯ社）、２－［２－（ベンジルオキシ）エトキシ］酢酸、（２－（カルボキシメトキシ）エトキシ）酢酸（ＷＡＫＯ社）、（２－ブトキシエトキシ）酢酸（ＷＡＫＯ社）、カルボキシ－ＥＧ６－ウンデカンチオールなどが挙げられるが、これらに限定されない。

【0075】

本発明の前記化学式４ｂで表される化合物は、量子ドットの光特性および分散性と、低粘度実現の面から、Ｒ^ａは、Ｃ１－Ｃ２２のアルキル基、またはＣ４－Ｃ２０のアルケニル基であり、ｐは、１～５０の整数である化合物であってもよい。特に、前記化学式４ｂにおいて、ｐが前記範囲を超える場合、光変換インク組成物の粘度に影響を及ぼすことがある。

【0076】

前記化学式４ｂで表される化合物は、チオール（ｔｈｉｏｌ）基を有し、チオール基が量子ドットの表面に結合することができる。チオール基の場合、カルボン酸など通常の量子ドットが持つリガンド層化合物対比の、量子ドットの表面との結合力に優れ、量子ドットのダングリングボンド（ｄａｎｇｌｉｎｇ ｂｏｎｄ）のような表面欠点による消光および表面酸化による消光を抑制して、光特性（発光特性）と信頼性を向上させるという利点がある。

【0077】

本発明の一実施形態において、前記化学式４ｂで表される化合物は、量子ドットの光特性および分散性と、低粘度実現の面から、下記化学式４－１～４－６で表される化合物から選択される１つ以上の化合物であってもよい。

【0078】

【化4-1】

【0079】

【化4-2】

【0080】

【化4-3】

【0081】

【化4-4】

【0082】

【化4-5】

【0083】

【化4-6】

【0084】

本発明の前記化学式４ｃで表される化合物は、量子ドットの光特性および分散性と、低粘度実現の面から、ｑは、１～５０の整数であり、ｒは、１～８の整数である化合物であってもよい。特に、前記化学式４ｃにおいて、ｑおよびｒが前記範囲を超える場合、光変換インク組成物の粘度に影響を及ぼすことがある。

【0085】

前記化学式４ｃで表される化合物は、チオール（ｔｈｉｏｌ）基を有し、チオール基が量子ドットの表面に結合することができる。チオール基の場合、カルボン酸など通常の量子ドットが持つリガンド層化合物対比の、量子ドットの表面との結合力に優れ、量子ドットのダングリングボンド（ｄａｎｇｌｉｎｇ ｂｏｎｄ）のような表面欠点による消光および表面酸化による消光を抑制して、光特性（発光特性）と信頼性を向上させるという利点がある。

【0086】

本発明の一実施形態において、前記化学式４ｃで表される化合物は、量子ドットの光特性および分散性と、低粘度実現の面から、下記化学式４－７～４－１２で表される化合物から選択される１つ以上の化合物であってもよい。

【0087】

【化4-7】

【0088】

【化4-8】

【0089】

【化4-9】

【0090】

【化4-10】

【0091】

【化4-11】

【0092】

【化4-12】

【0093】

本発明の前記化学式４ａ～４ｃで表される化合物は有機リガンドであって、量子ドットの表面に配位結合されて量子ドットを安定化させる役割を果たすことができる。

【0094】

通常、製造された量子ドットは、表面上にリガンド層を有することが一般的であり、製造直後のリガンド層は、オレイン酸（ｏｌｅｉｃ ａｃｉｄ）、ラウリン酸（ｌａｕｒｉｃ ａｃｉｄ）などからなってもよい。この場合、本発明に係る量子ドットが前記化学式４ａ～４ｃで表される化合物をリガンド層として含む場合対比の、量子ドットとのより弱い結合力によって、量子ドットの表面の非結合欠陥による理由から、表面保護効果が低下することがある。また、オレイン酸の場合、高揮発性化合物（ＶＯＣ；ｖｏｌａｔｉｌｅ ｏｒｇａｎｉｃ ｃｏｍｐｏｕｎｄ）であるｎ－ヘキサンのような脂肪族炭化水素系溶剤、ベンゼンのような芳香族炭化水素系溶剤によく分散するが、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）のような溶剤に分散性が不良である。本発明に係る量子ドットは、前記化学式４ａ～４ｃで表される化合物をリガンド層として含み、ＰＧＭＥＡのような溶剤に分散性が非常に優れ、光特性を向上させる効果が現れる。

【0095】

また、前記量子ドットは、前記化学式４ａ～４ｃで表される化合物のうちの１つ以上のポリエチレングリコール系リガンドを含むことにより、溶剤なしに、下記に記述する硬化性モノマーだけでも良好な分散特性を示すことができる。

【0096】

前記化学式４ａ～４ｃで表される化合物は、量子ドットの総表面積に対して５％以上の表面を覆っていてもよい。

【0097】

この時、前記化学式４ａ～４ｃで表される化合物の含有量は、量子ドット１モルに対して０．１～１０モルであってもよい。

【0098】

前記化学式４ａ～４ｃで表される化合物を含むリガンド層は、０．１ｎｍ～２ｎｍの厚さ、例えば、０．５ｎｍ～１．５ｎｍの厚さを有することができる。

【0099】

本発明の一実施形態において、前記量子ドットは、ナノサイズの半導体物質を称することができる。原子が分子をなし、分子はクラスターという小さい分子の集合体を構成してナノ粒子をなすが、このようなナノ粒子が半導体特性を呈している時、量子ドットという。前記量子ドットは、外部からエネルギーを受けて励起状態に至ると、前記量子ドットの自ら該当するエネルギーバンドギャップによるエネルギーを放出する。例えば、本発明の光変換インク組成物はこのような量子ドットを含むことにより、入射した青色光を、緑色光および赤色光に光変換可能である。

【0100】

本発明の一実施形態において、前記量子ドットの製造過程で使用されたオレイン酸は、リガンド交換方法により、前記化学式４ａ～化学式４ｃのリガンドに代替される。

【0101】

前記リガンド交換は、元々の有機リガンド、すなわちオレイン酸を有する量子ドットを含む分散液に、交換しようとする有機リガンド、すなわち化学式４ａ～化学式４ｃの化合物を添加し、これを常温～２００℃で３０分～３時間撹拌して、化学式４ａ～化学式４ｃの化合物が結合した量子ドットを得ることにより行われる。必要に応じて、前記化学式４ａ～化学式４ｃの化合物が結合した量子ドットを分離し精製する過程を追加的に行ってもよい。

【0102】

前記量子ドットが追加的に含まれる場合、インク組成物全１００重量％に対して１～６０重量％、好ましくは５～５０重量％含まれる。前記量子ドットが前記範囲内に含まれる場合、発光効率に優れ、コーティング層の信頼性に優れるという利点がある。前記量子ドットが上述した範囲に含まれる場合、緑色光および赤色光の光変換効率に優れ、インク組成物の粘度が高くなってジェッティング性が低下する問題を防止できるという点で好ましい。

【0103】

分散剤
本発明において、分散剤は、酸価１０～９０ｍｇＫＯＨ／ｇおよびアミン価１０～９０ｍｇＫＯＨ／ｇを満たす分散剤を意味する。本発明の分散剤は、酸価とアミン価を同時に満たすことにより、効果的に散乱粒子とモノマーを同時に分散剤に付着してインク組成物に優れた分散性を与える役割を果たす。

【0104】

より具体的には、本願発明において含まれる分散剤は、酸価１０～９０ｍｇＫＯＨ／ｇおよびアミン価１０～９０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲であってもよいし、酸価１０～６０ｍｇＫＯＨ／ｇおよびアミン価１０～６０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲がより好ましい。分散剤が上述した範囲の酸価およびアミン価を同時に満たす場合、インクジェット工程においてピクセル表面に散乱粒子のかたまり現象が著しく改善される効果を有し得るという点で好ましい。

【0105】

本発明は、上述した範囲の酸価およびアミン価を満たす分散剤であれば、種類に制限なく含むことができる。しかし、分散液の保管安定性の面から、Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ（ＰＥ）またはＰｏｌｙｉｍｉｎｅ（ＰＩ）系の分散剤を含む方がより好ましい。

【0106】

前記分散剤は、前記インク組成物の総重量％に対して０．０１～２０重量％、好ましくは０．５～１５重量％、より好ましくは０．５～１０重量％含まれる。

【0107】

光重合開始剤
本発明において、光重合開始剤は、インク組成物のラジカル反応を開始させて、硬化を起こし感度を向上させる役割を果たす。開始剤は、自発光組成物に一般的に使用される光重合開始剤であって、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、トリアジン系、チオキサントン系、オキシム系、ベンゾイン系、ビイミダゾール系化合物などを使用することができる。

【0108】

さらに、本発明では、光重合開始補助剤を使用することができる。光重合開始補助剤は、光開始剤と組み合わせて使用される場合があり、光開始剤によって重合が開始された光重合性化合物の重合を促進させるために使用される化合物である。光重合開始補助剤としては、アミン系化合物、アルコキシアントラセン系化合物、チオキサントン系化合物、カルボン酸系化合物、およびスルホン酸系化合物などが挙げられる。

【0109】

アミン系化合物としては、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４－ジメチルアミノ安息香酸メチル、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸２－ジメチルアミノエチル、４－ジメチルアミノ安息香酸２－エチルヘキシル、Ｎ，Ｎ－ジメチルパラトルイジン、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称、ミヒラーズケトン）、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（エチルメチルアミノ）ベンゾフェノンなどが挙げられ、なかでも、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。

【0110】

アルコキシアントラセン系化合物としては、例えば、９，１０－ジメトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジメトキシアントラセン、９，１０－ジエトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。チオキサントン系化合物としては、例えば、２－イソプロピルチオキサントン、４－イソプロピルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントンなどが挙げられる。

【0111】

前記カルボン酸化合物の具体例としては、フェニルチオ酢酸、メチルフェニルチオ酢酸、エチルフェニルチオ酢酸、メチルエチルフェニルチオ酢酸、ジメチルフェニルチオ酢酸、メトキシフェニルチオ酢酸、ジメトキシフェニルチオ酢酸、クロロフェニルチオ酢酸、ジクロロフェニルチオ酢酸、Ｎ－フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、Ｎ－ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸などの芳香族ヘテロ酢酸類が挙げられる。

【0112】

本発明において、光重合開始剤は、単独でまたは複数を組み合わせて使用しても支障がない。また、光重合開始補助剤として市販のものを使用することができ、市販の光重合開始補助剤としては、例えば、商品名「ＥＡＢ－Ｆ」［製造元：保土谷化学工業株式会社］などが挙げられる。

【0113】

これらの光重合開始補助剤を使用する場合、その使用量は、光開始剤１モルあたり、通常１０モル以下、好ましくは０．０１～５モルが好ましい。前記範囲にあれば、自発光組成物の感度がより高くなり、この組成物を用いて形成される光変換積層基材の生産性が向上する傾向があるので、好ましい。

【0114】

前記光重合開始剤は、インク組成物の総重量に対して０．１～３．０重量％、好ましくは０．５～２．０重量％含まれる。前記範囲内に光重合開始剤が含まれる場合、パターン形成が良好になり、自発光組成物が高感度化され、この組成物を用いて形成した画素部の強度や、この画素部の表面における平滑性が良好になる傾向があるので、好ましい。

【0115】

添加剤
本発明の一実施形態に係るインク組成物は、上記の成分のほか、塗膜の平坦性または密着性を増進させるために、界面活性剤、シランカップリング剤、密着促進剤のような添加剤を追加的に含んでもよい。

【0116】

本発明に係るインク組成物が前記界面活性剤を含む場合、塗膜の平坦性が向上できるという利点がある。例えば、前記界面活性剤は、Ｆ－５５４、ＢＭ－１０００、ＢＭ－１１００（ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社）、フロラードＦＣ－１３５／ＦＣ－１７０Ｃ／ＦＣ－４３０（住友スリーエム（株））、ＳＨ－２８ＰＡ／－１９０／－８４００／ＳＺ－６０３２（東レシリコーン（株））などのフッ素系界面活性剤を使用することができるが、これに限定されない。

【0117】

前記密着促進剤は、基板との密着性を高めるために添加できるものであって、カルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基、およびこれらの組み合わせからなる群より選択される反応性置換基を有するシランカップリング剤を含むことができるが、これに限定されるものではない。

【0118】

この他にも、本発明に係るインク組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤のような添加剤をさらに含んでもよいし、前記添加剤は同じく、本発明の効果を損なわない範囲で当業者が適宜追加して使用可能である。

【0119】

前記添加剤がさらに含まれる場合、前記インク組成物全１００重量％に対して０．０５～１０重量％、具体的には０．１～１０重量％、さらに具体的には０．１～５重量％使用することができるが、これに限定されるものではない。

【0120】

本発明のインク組成物は、連続工程性の面から、無溶剤型の場合に最も好ましい。本明細書における無溶剤型は、インク組成物溶剤を全組成物１００重量％に対して５重量％以下の量で含むことができることを意味する。より具体的には、本発明のインク組成物は、溶剤を含まない方がより好ましい。具体的には、本発明の一実施形態に係るインク組成物は無溶剤型で、溶剤の含有量が５重量％以下の量で低くても量子ドットの光特性および分散性に優れ、低粘度の実現が可能である。また、本発明の一実施形態に係るインク組成物は、溶剤の含有量が５重量％以下の量で低くて、ノズルの入口における溶剤の蒸発によるノズル詰まりが発生せず、連続工程に有利である。

【0121】

また、本発明の一実施形態に係るインク組成物は、樹脂成分を実質的に含まず、含むとしてもインク組成物全１００重量％に対して０．５重量％以内で含む。本発明の一実施形態に係るインク組成物は、樹脂成分を含まないことにより低い粘度を実現可能で、インクのノズルジェッティング特性に優れる。

【0122】

本発明の一実施形態は、上述したインク組成物の硬化物を含む画素に関する。
また、本発明の一実施形態は、上述した画素を含むカラーフィルタに関する。

【0123】

本発明に係るインク組成物のパターン形成方法は、上述したインク組成物をインクジェット方式で所定領域に塗布するステップと、前記塗布されたインク組成物を硬化させるステップとを含んでなる。

【0124】

まず、本発明のインク組成物をインクジェット噴射機に注入して基板の所定領域にプリンティングする。

【0125】

前記基板は限定はなく、一例として、ガラス基板、シリコン基板、ポリカーボネート基板、ポリエステル基板、芳香族ポリアミド基板、ポリアミドイミド基板、ポリイミド基板、Ａｌ基板、ＧａＡｓ基板などの、表面が平坦な基板が挙げられる。これらの基板は、シランカップリング剤などの薬品による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング処理、スパッタリング処理、気相反応処理、真空蒸着処理などの前処理を施すことができる。基板としてシリコン基板などを用いる場合、シリコン基板などの表面には電荷結合素子（ＣＣＤ）、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）などが形成できる。また、隔壁マトリックスが形成されていてもよい。

【0126】

インクジェット噴射機の一例であるピエゾインクジェットヘッドから噴射されて基板上に適切な相（ｐｈａｓｅ）を形成するために、粘度、流動性、量子ドット粒子などの特性がインクジェットヘッドとバランスをとらなければならない。本発明で用いられたピエゾインクジェットヘッドは限定されないが、約１０～１００ｐＬ、好ましくは約２０～４０ｐＬの液滴サイズを有するインクを噴射する。

【0127】

本発明のインク組成物の粘度は、約３～３０ｃＰが適当であり、より好ましくは７～２０ｃＰの範囲で形成される方が、ジェッティング性の向上の面で最も好ましい。

【0128】

本発明の一実施形態に係るカラーフィルタは、前記パターン形成方法により形成される着色パターン層を含む。すなわち、カラーフィルタは、基板上に上述したインク組成物を所定のパターンに塗布した後、硬化させて形成される着色パターン層を含むことを特徴とする。カラーフィルタの構成および製造方法は、通常の方法で形成可能である。

【0129】

本発明の一実施形態は、上述したカラーフィルタが備えられた画像表示装置に関する。
本発明のカラーフィルタは、通常の液晶表示装置（ＬＣＤ）だけでなく、電界発光表示装置（ＥＬ）、プラズマ表示装置（ＰＤＰ）、電界放出表示装置（ＦＥＤ）、有機発光素子（ＯＬＥＤ）などの各種画像表示装置に適用可能である。

【0130】

本発明の画像表示装置は、上述したカラーフィルタを備えたことを除けば、当該技術分野で知られた構成を含む。

【実施例】

【0131】

以下、製造例、実施例、比較例および実験例により本発明をより具体的に説明しようとする。これらの実施例、比較例および実験例は単に本発明を説明するためのものであり、本発明の範囲はこれらに制限されない。

【0132】

製造例１：リガンド置換量子ドット（Ａ－１）の合成
インジウムアセテート（Ｉｎｄｉｕｍ ａｃｅｔａｔｅ）０．４ｍｍｏｌ（０．０５８ｇ）、パルミチン酸（ｐａｌｍｉｔｉｃ ａｃｉｄ）０．６ｍｍｏｌ（０．１５ｇ）、および１－オクタデセン（１－ｏｃｔａｄｅｃｅｎｅ）２０ｍＬを反応器に入れて、真空下、１２０℃に加熱した。１時間後に反応器内の雰囲気を窒素に切り替えた。２８０℃に加熱した後、トリス（トリメチルシリル）ホスフィン（ＴＭＳ_３Ｐ）０．２ｍｍｏｌ（５８μｌ）およびトリオクチルホスフィン１．０ｍＬの混合溶液を迅速に注入して１分間反応させた。

【0133】

亜鉛アセテート２．４ｍｍｏｌ（０．４４８ｇ）、オレイン酸４．８ｍｍｏｌ、およびトリオクチルアミン２０ｍＬを反応器に入れて、真空下、１２０℃に加熱した。１時間後に反応器内の雰囲気を窒素に切り替え、反応器を２８０℃に昇温させた。先に合成したＩｎＰコア溶液２ｍＬを入れて、次いで、トリオクチルホスフィン中のセレン（Ｓｅ／ＴＯＰ）４．８ｍｍｏｌを入れた後、最終混合物を２時間反応させた。常温で迅速に冷やした反応溶液にエタノールを入れて遠心分離して得た沈殿を減圧濾過後、減圧乾燥して、ＩｎＰ／ＺｎＳｅコア－シェルを形成させた。

【0134】

次いで、亜鉛アセテート２．４ｍｍｏｌ（０．４４８ｇ）、オレイン酸４．８ｍｍｏｌ、およびトリオクチルアミン２０ｍＬを反応器に入れて、真空下、１２０℃に加熱した。１時間後に反応器内の雰囲気を窒素に切り替え、反応器を２８０℃に昇温させた。先に合成したＩｎＰ／ＺｎＳｅコア－シェル溶液２ｍＬを入れて、次いで、トリオクチルホスフィン中の硫黄（Ｓ／ＴＯＰ）４．８ｍｍｏｌを入れた後、最終混合物を２時間反応させた。常温で迅速に冷やした反応溶液にエタノールを入れて遠心分離して得た沈殿を減圧濾過後、減圧乾燥して、ＩｎＰ／ＺｎＳｅ／ＺｎＳコア－シェル構造の量子ドットをクロロホルムに分散させた。

【0135】

得られたナノ量子ドットの光発光スペクトルの最大発光ピークは５３５ｎｍであり、量子ドット溶液５ｍＬを遠心分離チューブに入れて、エタノール２０ｍＬを入れて沈殿させた。遠心分離により上層液は捨てて、沈殿物に２ｍＬのクロロホルムを入れて量子ドットを分散させた後、０．５０ｇの（２－ブトキシエトキシ）酢酸を入れて、窒素雰囲気下、６０℃に加熱しながら１時間反応させた。

【0136】

次いで、反応物に２５ｍＬのｎ－ヘキサンを入れて量子ドットを沈殿させた後、遠心分離を実施して沈殿物を得た。

【0137】

製造例２：リガンド置換量子ドット（Ａ－２）の合成
インジウムアセテート（Ｉｎｄｉｕｍ ａｃｅｔａｔｅ）０．４ｍｍｏｌ（０．０５８ｇ）、パルミチン酸（ｐａｌｍｉｔｉｃ ａｃｉｄ）０．６ｍｍｏｌ（０．１５ｇ）、および１－オクタデセン（１－ｏｃｔａｄｅｃｅｎｅ）２０ｍＬを反応器に入れて、真空下、１２０℃に加熱した。１時間後に反応器内の雰囲気を窒素に切り替えた。２８０℃に加熱した後、トリス（トリメチルシリル）ホスフィン（ＴＭＳ_３Ｐ）０．２ｍｍｏｌ（５８μｌ）、およびトリオクチルホスフィン１．０ｍＬの混合溶液を迅速に注入し、５分間反応後、反応溶液を常温で迅速に冷やした。吸収最大波長５６０～５９０ｎｍを示した。

【0138】

亜鉛アセテート２．４ｍｍｏｌ（０．４４８ｇ）、オレイン酸４．８ｍｍｏｌ、およびトリオクチルアミン２０ｍＬを反応器に入れて、真空下、１２０℃に加熱した。１時間後に反応器内の雰囲気を窒素に切り替え、反応器を２８０℃に昇温させた。先に合成したＩｎＰコア溶液２ｍＬを入れて、次いで、トリオクチルホスフィン中のセレン（Ｓｅ／ＴＯＰ）４．８ｍｍｏｌを入れた後、最終混合物を２時間反応後、常温に下げて、ＩｎＰ／ＺｎＳｅコア－シェルを形成させた。

【0139】

次いで、亜鉛アセテート２．４ｍｍｏｌ（０．４４８ｇ）、オレイン酸４．８ｍｍｏｌ、およびトリオクチルアミン２０ｍＬを反応器に入れて、真空下、１２０℃に加熱した。１時間後に反応器内の雰囲気を窒素に切り替え、反応器を２８０℃に昇温させた。先に合成したＩｎＰ／ＺｎＳｅコア－シェル溶液２ｍＬを入れて、次いで、トリオクチルホスフィン中の硫黄（Ｓ／ＴＯＰ）４．８ｍｍｏｌを入れた後、最終混合物を２時間反応させた。常温で迅速に冷やした反応溶液にエタノールを入れて遠心分離して得た沈殿を減圧濾過後、減圧乾燥して、ＩｎＰ／ＺｎＳｅ／ＺｎＳコア－シェル構造の量子ドットを得た後、クロロホルムに分散させた。

【0140】

得られたナノ量子ドットの光発光スペクトルの最大発光ピークは６３５ｎｍであり、合成された量子ドット溶液５ｍＬを遠心分離チューブに入れて、エタノール２０ｍＬを入れて沈殿させた。遠心分離により上層液は捨てて、沈殿物に２ｍＬのクロロホルムを入れて量子ドットを分散させた後、０．６５ｇのカルボキシ－ＥＧ６－ウンデカンチオールを入れて、窒素雰囲気下、６０℃に加熱しながら１時間反応させた。

【0141】

次いで、反応物に２５ｍＬのｎ－ヘキサンを入れて量子ドットを沈殿させた後、遠心分離を実施して上層液は捨てて沈殿物を得た。

【0142】

製造例３：リガンド置換量子ドット（Ａ－３）の合成
インジウムアセテート（Ｉｎｄｉｕｍ ａｃｅｔａｔｅ）０．４ｍｍｏｌ（０．０５８ｇ）、パルミチン酸（ｐａｌｍｉｔｉｃ ａｃｉｄ）０．６ｍｍｏｌ（０．１５ｇ）、および１－オクタデセン（ｏｃｔａｄｅｃｅｎｅ）２０ｍＬを反応器に入れて、真空下、１２０℃に加熱した。１時間後に反応器内の雰囲気を窒素に切り替えた。

【0143】

２８０℃に加熱した後、トリス（トリメチルシリル）ホスフィン（ＴＭＳ_３Ｐ）０．２ｍｍｏｌ（５８μｌ）およびトリオクチルホスフィン１．０ｍＬの混合溶液を迅速に注入して０．５分間反応させた。

【0144】

次いで、亜鉛アセテート２．４ｍｍｏＬ（０．４４８ｇ）、オレイン酸４．８ｍｍｏｌ、およびトリオクチルアミン２０ｍＬを反応器に入れて、真空下、１２０℃に加熱した。１時間後に反応器内の雰囲気を窒素に切り替え、反応器を２８０℃に昇温させた。先に合成したＩｎＰコア溶液２ｍＬを入れて、次いで、トリオクチルホスフィン中のセレン（Ｓｅ／ＴＯＰ）４．８ｍｍｏｌを入れた後、最終混合物を２時間反応させた。常温で迅速に冷やした反応溶液にエタノールを入れて遠心分離して得た沈殿を減圧濾過後、減圧乾燥して、ＩｎＰ／ＺｎＳｅコア－シェルを形成させた。

【0145】

次いで、亜鉛アセテート２．４ｍｍｏＬ（０．４４８ｇ）、オレイン酸４．８ｍｍｏｌ、およびトリオクチルアミン２０ｍＬを反応器に入れて、真空下、１２０℃に加熱した。１時間後に反応器内の雰囲気を窒素に切り替え、反応器を２８０℃に昇温させた。先に合成したＩｎＰ／ＺｎＳｅコア－シェル溶液２ｍＬを入れて、次いで、トリオクチルホスフィン中の硫黄（Ｓ／ＴＯＰ）４．８ｍｍｏｌを入れた後、最終混合物を２時間反応させた。常温で迅速に冷やした反応溶液にエタノールを入れて遠心分離して得た沈殿を減圧濾過後、減圧乾燥して、ＩｎＰ／ＺｎＳｅ／ＺｎＳコア－シェル構造の量子ドットを得た後、クロロホルムに分散させた。固形分は１０％に調整した。最大発光波長は５２０ｎｍであった。

【0146】

合成された量子ドット溶液５ｍＬを遠心分離チューブに入れて、エタノール２０ｍＬを入れて沈殿させた。遠心分離により上層液は捨てて、沈殿物に３ｍＬのクロロホルムを入れて量子ドットを分散させた後、１．００ｇの下記化学式４－１で表されるｍＰＥＧ５－ＳＨ（フューチャーケム社）を入れて、窒素雰囲気下、６０℃に加熱しながら１時間反応させた。

【0147】

【化4-1】

【0148】

次いで、反応物に２５ｍＬのｎ－ヘキサンを入れて量子ドットを沈殿させた後、遠心分離を実施して上層液は捨てて沈殿物を得た。

【0149】

製造例４：リガンド置換量子ドット（Ａ－４）の合成
製造例３で使用した１．００ｇのリガンドの代わりに、３．００ｇの下記化学式４－７で表される化合物を用いたことを除き、製造例３と同様に行った。

【0150】

【化4-7】

【0151】

製造例５：散乱粒子分散液（Ｃ－１）の製造
散乱粒子としてＴｉＯ_２と表面処理成分（Ａｌ、Ｓｉ、およびＯｒｇａｎｉｃ）を９７：３の重量比で表面処理したＴｉＯ_２（石原社のＣＲ－６３、２１０ｎｍ）７０．０重量部、分散剤としてＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－２００１（ＢＹＫ社製）４．０重量部、およびモノマーｔおして１，６－ヘキサンジオールジアクリレート２６重量部をビーズミルによって１２時間混合および分散して、散乱粒子分散液（Ｃ－１）を製造した。

【0152】

製造例６：散乱粒子分散液（Ｃ－２）の製造
製造例５で使用した散乱粒子の代わりに、ＴｉＯ_２と表面処理成分（Ａｌ）を９５：５の重量比で表面処理したＴｉＯ_２（石原社のＣＲ－６０、２１０ｎｍ）を用いたことを除けば、前記製造例５と同様に散乱粒子分散液（Ｃ－２）を製造した。

【0153】

製造例７：散乱粒子分散液（Ｃ－３）の製造
製造例５で使用した散乱粒子の代わりに、ＴｉＯ_２と表面処理成分（Ａｌ、Ｚｒ、およびＯｒｇａｎｉｃ）を９３：７の重量比で表面処理したＴｉＯ_２（石原社のＵＴ７７１、２５０ｎｍ）を用いたことを除けば、前記製造例５と同様に散乱粒子分散液（Ｃ－３）を製造した。

【0154】

製造例８：散乱粒子分散液（Ｃ－４）の製造
製造例５で使用した散乱粒子の代わりに、ＴｉＯ_２と表面処理成分（Ａｌ、Ｓｉ、Ｚｎ、およびＯｒｇａｎｉｃ）を９２：８の重量比で表面処理したＴｉＯ_２（石原社のＰＦ－７４２、２５０ｎｍ）を用いたことを除けば、前記製造例５と同様に散乱粒子分散液（Ｃ－４）を製造した。

【0155】

製造例９：散乱粒子分散液（Ｃ－５）の製造
製造例５で使用した散乱粒子の代わりに、ＴｉＯ_２と表面処理成分（ＡｌおよびＳｉ）を８８：１２の重量比で表面処理したＴｉＯ_２（石原社のＳ－３０５、２５０ｎｍ）を用いたことを除けば、前記製造例５と同様に散乱粒子分散液（Ｃ－５）を製造した。

【0156】

製造例１０：散乱粒子分散液（Ｃ－６）の製造
製造例５で使用した散乱粒子の代わりに、表面処理しない純粋なＴｉＯ_２（石原社のＰＴ－３０１、２７０ｎｍ）を用いたことを除けば、前記製造例５と同様に散乱粒子分散液（Ｃ－６）を製造した。

【0157】

実施例１～９０および比較例１～８：インク組成物の製造
下記表１～表８の組成でそれぞれの成分を混合して、インク組成物を製造した（重量％）。

【0158】

【表1】

【0159】

【表2】

【0160】

【表3】

【0161】

【表4】

【0162】

【表5】

【0163】

【表6】

【0164】

【表7】

【0165】

【表8】

【0166】

＊前記表１～８中、「（Ｂ）含有量比率」は、硬化性モノマー（Ｂ）の固形分を基準として、化学式１および２で表される化合物の含有量（重量％）を意味する。

【0167】

量子ドットＡ－１～Ａ－４：それぞれ、製造例１～４で製造された量子ドット
Ｂ－１：ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ ２００ ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ（新中村化学社、Ａ－２００）
Ｂ－２：ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ ４００ ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ（新中村化学社、Ａ－４００）
Ｂ－３：ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ ６００ ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ（新中村化学社、Ａ－６００）
Ｂ－４：Ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ １００ ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ（新中村化学社、ＡＰＧ－１００）
Ｂ－５：Ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ ２００ ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ（新中村化学社、ＡＰＧ－２００）
Ｂ－６：Ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ ４００ ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ（新中村化学社、ＡＰＧ－４００）
Ｂ－７：Ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ ７００ ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ（新中村化学社、ＡＰＧ－７００）
Ｂ－８：Ｍｏｎｏ（２－ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙｅｔｈｙｌ）Ｓｕｃｃｉｎａｔｅ（ＴＣＩ社）－化学式３
Ｂ－９：Ｇｌｙｃｅｒｏｌ ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ（東亜合成社、ＭＴ－３５６０）
Ｂ－１０：１，６－Ｈａｘａｎｅｄｉｏｌ ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ（新中村化学社）
Ｂ－１１：１，１０－Ｄｅｃａｎｅｄｉｏｌ ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ（新中村化学社）
Ｂ－１２：Ｐｒｏｐｏｘｙｌａｔｅｄ ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｏｌｐｒｏｐａｎｅ ｔｒｉａｃｒｙｌａｔｅ（新中村化学社）
Ｃ－１：製造例５で製造された散乱粒子分散液－ＴｉＯ_２（石原社、ＣＲ－６３；粒径２１０ｎｍ；Ａｌ、Ｓｉ、Ｏｒｇａｎｉｃ表面処理３％）
Ｃ－２：製造例６で製造された散乱粒子分散液－ＴｉＯ_２（石原社、ＣＲ－６０；粒径２１０ｎｍ；Ａｌ表面処理５％）
Ｃ－３：製造例７で製造された散乱粒子分散液－ＴｉＯ_２（石原社、ＵＴ７７１；粒径２５０ｎｍ；Ａｌ、Ｚｒ、Ｏｒｇａｎｉｃ表面処理７％）
Ｃ－４：製造例８で製造された散乱粒子分散液－ＴｉＯ_２（石原社、ＰＦ－７４２；粒径２５０ｎｍ；Ａｌ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｏｒｇａｎｉｃ表面処理８％）
Ｃ－５：製造例９で製造された散乱粒子分散液－ＴｉＯ_２（石原社、Ｓ－３０５；粒径２５０ｎｍ；Ａｌ、Ｓｉ表面処理１２％）
Ｃ－６：製造例１０で製造された散乱粒子分散液－ＴｉＯ_２（石原社、ＰＴ－３０１；粒径２７０ｎｍ；表面処理０％）
光重合開始剤（Ｅ）：Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ－０１（バスフ社）
Ｆ－１：フッ素系界面活性剤（Ｆ－５５４、ＤＩＣ社）
Ｆ－２：シランカップリング剤（ＮＳＣ－０２、ＮＩＣ社）
＜実験例＞
上記の実施例および比較例で製造されたインク組成物を用いて粘度および連続ジェッティング回数を測定し、１０μｍの厚さのコーティング層を製造して、光変換効率およびコーティング層の密着性を測定して、その結果は下記表１０～１３に示した。

【0168】

（１）コーティング層の製造および光変換効率の測定
実施例および比較例で製造されたそれぞれのインク組成物をインクジェット方式で５ｃｍ×５ｃｍのガラス基板上に塗布した後、紫外線光源としてｇ、ｈ、ｉ線をすべて含む１ｋＷの高圧水銀灯を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ^２で照射後、１８０℃の加熱オーブンで３０分間加熱してコーティング層を製造した。

【0169】

製造されたコーティング層のうち量子ドットが含まれたコーティング層を青色（ｂｌｕｅ）光源（ＸＬａｍｐ ＸＲ－Ｅ ＬＥＤ、Ｒｏｙａｌ ｂｌｕｅ ４５０、Ｃｒｅｅ社）の上部に位置させた後、輝度測定器（ＣＡＳ１４０ＣＴ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ、Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ ｓｙｓｔｅｍｓ社）を用いて光変換効率を下記の数式１を用いて測定し、その結果を下記表１０～１３に示した。

【0170】

光変換効率（％）が高いほど、優れた輝度を得ることができる。

【0171】

【数1】

【0172】

（２）粘度
前記インク組成物の粘度は、Ｒ型粘度計（ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＭＯＤＥＬ ＲＥ１２０Ｌ ＳＹＳＴＥＭ、東機産業株式会社製品）を用いて回転数２０ｒｐｍ、温度２５℃の条件で測定し、その結果を下記表１０～１３に示した。

【0173】

（３）連続ジェッティング回数
前記インク組成物をユニジェット社のインクジェットプリンティング設備に充填後、ジェッティングヘッドの温度を４０℃に固定した後、１分間インクを吐出後、３０分間放置をジェッティングヘッド部のノズル詰まりで吐出されなくなるまで繰り返し行って連続ジェッティング回数を評価し、その結果を下記表１０～１３に示した。

【0174】

連続ジェッティング回数が増加するほど、連続工程に優れた特性を得ることができる。
（４）コーティング層の密着性の測定
前記インク組成物で製造されたコーティング層で国際標準（ＡＳＴＭ Ｄ３３５９）によるクロスカット試験（Ｃｒｏｓｓ－Ｃｕｔ Ａｄｈｅｓｉｏｎ Ｔｅｓｔ）を進行させた。

【0175】

ナイフ（Ｋｎｉｆｅ）によって、製造されたコーティング層に均一に力を与えながら格子状に切り込みを入れた後、切り込み面にテープを貼って完全に付着するまで擦り、３０秒後にテープの端を取って１８０度の角度に近く引っ張ってテープを除去して、下記表９のような基準によりコーティング層の密着性を評価し、その結果を下記表１０～１３に示した。

【0176】

【表9】

【0177】

（５）粘度安定性評価
上記の実施例および比較例のインク組成物をＲ型粘度計（ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＭＯＤＥＬ ＲＥ１２０Ｌ ＳＹＳＴＥＭ、東機産業株式会社製品）を用いて、回転数２０ｒｐｍ、温度３０℃の条件下、初期粘度および常温で１ヶ月保管、４０℃で２週間後に粘度を測定した。これにより計算された粘度変化率から、以下の評価基準により粘度安定性を評価し、その結果を下記表１０～１３に示した。

【0178】

＜粘度安定性評価基準＞
◎：粘度変化率１０３％以下
○：粘度変化率１０３％超過１０５％以下
△：粘度変化率１０５％超過１１０％以下
×：粘度変化率１１０％超過
（６）ジェッティング誤着弾評価
上記の実施例１～７０および比較例１～２５のインク組成物をユニジェット社のインクジェットプリンティング設備に充填後、ジェッティングヘッドの温度を４０℃に固定した後、基板上に１列に３０ｄｒｏｐｌｅｔのインクを吐出して、吐出が指定された位置に行われないｄｒｏｐｌｅｔを確認して、以下の評価基準によりジェッティング誤着弾を評価して、その結果を表１０～１３に示した。

【0179】

＜ジェッティング誤着弾評価基準＞
◎：誤着弾なし
○：誤着弾１ｄｒｏｐｌｅｔ超過３ｄｒｏｐｌｅｔ以下
△：誤着弾３ｄｒｏｐｌｅｔ超過５ｄｒｏｐｌｅｔ以下
×：誤着弾５ｄｒｏｐｌｅｔ超過

【0180】

【表10】

【0181】

【表11】

【0182】

【表12】

【0183】

【表13】

【0184】

上記の実験結果から確認できるように、特定の化学構造式を有する硬化性モノマーを含む実施例１～９０の場合、ジェッティング性、密着性能、粘度安定性およびジェッティング誤着弾特性に優れていることを確認することができた。

【0185】

具体的には、散乱粒子としてＴｉＯ_２と表面処理成分を９２：８～９９：１の重量比範囲で表面処理したＴｉＯ_２を用いた実施例１～７０の場合、粘度安定性および／またはジェッティング誤着弾特性がさらに向上することを確認することができ、さらに、硬化性モノマーの固形分を基準として、本発明の化学式１および／または２の硬化性モノマーの含有量が５～４０％の含有量比率を満たす実施例５７～７０の場合、より優れた粘度安定性およびジェッティング誤着弾特性を確保することができた。

【0186】

また、実施例３１～３３および３５～３８の場合、化学式３または水酸化基を含む（メタ）アクリレートをさらに含むことによって、より優れた密着力を確保可能であることを確認した。

【0187】

一方、比較例１～８の場合、溶剤を含まずにモノマーのみを含むことでジェッティング効果および低い粘度を有することができたが、本発明の化学式１および／または化学式２の硬化性モノマーを含まないことにより密着力が著しく低下することを確認することができた。

【0188】

また、前記表１０～１３の実験結果により表面処理された散乱粒子を用いるか、本発明に係る硬化性モノマーを用いる場合、ジェッティング誤着弾特性が改善されることを確認した。