(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-03-25
(45)【発行日】2024-04-02
(54)【発明の名称】薬液供給ユニットとこれを備えた基板処理装置及び薬液供給方法
(51)【国際特許分類】
H01L 21/304 20060101AFI20240326BHJP
H01L 21/306 20060101ALI20240326BHJP
【ＦＩ】
H01L21/304 648K
H01L21/306 R
H01L21/304 651B
H01L21/304 643A
【請求項の数】
20
(21)【出願番号】P 2022141306
(22)【出願日】2022-09-06
(65)【公開番号】P2023077387
(43)【公開日】2023-06-05
【審査請求日】2022-09-06
(31)【優先権主張番号】10-2021-0163663
(32)【優先日】2021-11-24
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(73)【特許権者】
【識別番号】520236767
【氏名又は名称】サムス カンパニー リミテッド
(74)【代理人】
【識別番号】110001519
【氏名又は名称】弁理士法人太陽国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】リ、チュ ソン
(72)【発明者】
【氏名】リ、カン ソク
(72)【発明者】
【氏名】クォン、スン カブ
【審査官】小池 英敏
(56)【参考文献】
【文献】特開昭６０－０９１４１９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１１－１２４３４３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１８－１６３９７７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００８－２５８４３７（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｈ０１Ｌ ２１／３０４
Ｈ０１Ｌ ２１／３０６
Ｇ０５Ｄ ７／００
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
薬液を提供する薬液供給手段と、前記薬液供給手段から供給薬液の提供を受け、第１流量の薬液を基板処理装置のノズルユニットへ供給する第１流量薬液供給手段と、
前記薬液供給手段から同じ流量の前記供給薬液の提供を受け、薬液流量を調節して第２流量の薬液を基板処理装置のノズルユニットへ供給する第２流量薬液供給手段と、
前記第１流量薬液供給手段と前記第２流量薬液供給手段の薬液供給を選択的に制御し、前記第２流量が前記第１流量とは異なる異種流量で供給されるように薬液流量調節を制御する制御部と、を含み、
前記制御部は、要求される薬液流量に応じて、前記第１流量薬液供給手段及び前記第２流量薬液供給手段のうち一つが前記ノズルユニットへ薬液を供給するように制御する、ことを特徴とする、薬液供給ユニット。
【請求項2】
前記薬液供給手段は、薬液を分岐ラインを介して提供する薬液供給ラインを含み、
前記第１流量薬液供給手段は、
前記薬液供給ラインの分岐ラインのうちのいずれか一つに連結され、基板処理装置のノズルユニットへ前記第１流量の薬液を供給する第１薬液ラインを含み、
前記第２流量薬液供給手段は、
前記薬液供給ラインの分岐ラインのうちのもう一つに連結され、基板処理装置のノズルユニットへ前記第２流量の薬液を供給する第２薬液ラインと、
前記第２薬液ラインに配置され、薬液の流量を制御する流量制御バルブと、を含み、
前記制御部は、
前記流量制御バルブを制御して前記第１薬液ラインの前記第１流量よりも相対的に少ない前記第２流量に前記第２薬液ラインの流量を調節することを特徴とする、請求項１に記載の薬液供給ユニット。
【請求項3】
前記第１流量薬液供給手段は、前記第１薬液ラインに配置され、開閉に応じて前記第１薬液ラインの薬液を選択的に供給する第１薬液ラインバルブをさらに含み、
前記第２流量薬液供給手段は、
前記第２薬液ラインに配置され、開閉に応じて前記第２薬液ラインの薬液を選択的に供給する第２薬液ラインバルブをさらに含み、
前記制御部は、
前記第１薬液ラインバルブと前記第２薬液ラインバルブを制御して、基板処理装置のノズルユニットへそれぞれ異なる流量の薬液を供給することを特徴とする、請求項２に記載の薬液供給ユニット。
【請求項4】
前記第２流量薬液供給手段の薬液流量の調節に応じて、前記供給薬液から前記第２流量の薬液を除いた余分な薬液を処理する余分薬液処理手段をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の薬液供給ユニット。
【請求項5】
前記余分薬液処理手段は、前記余分な薬液を排出するドレインラインを含むことを特徴とする、請求項４に記載の薬液供給ユニット。
【請求項6】
前記薬液供給手段は、それぞれ異なる複数の薬液を提供する複数の薬液供給部と、
前記複数の薬液供給部の薬液供給量を調節する複数の流量制御部と、
複数の薬液を混合して提供する混合タンクと、を含むことを特徴とする、請求項４に記載の薬液供給ユニット。
【請求項7】
前記余分薬液処理手段は、前記余分な薬液を回収して前記混合タンクへ供給する回収ラインを含むことを特徴とする、請求項６に記載の薬液供給ユニット。
【請求項8】
前記余分薬液処理手段は、前記余分な薬液を回収する回収ラインと、
前記回収ラインを介して回収された回収薬液を保管する貯蔵タンクと、を含むことを特徴とする、請求項６に記載の薬液供給ユニット。
【請求項9】
前記余分薬液処理手段は、前記貯蔵タンクに保管された回収薬液を前記薬液供給手段へ提供する回収薬液供給ラインをさらに含むことを特徴とする、請求項８に記載の薬液供給ユニット。
【請求項10】
前記余分薬液処理手段は、前記貯蔵タンクに保管された回収薬液を前記混合タンクへ提供する回収薬液供給ラインをさらに含むことを特徴とする、請求項８に記載の薬液供給ユニット。
【請求項11】
請求項１に記載の薬液供給ユニットと、基板処理工程に対応して前記薬液供給ユニットからそれぞれ異なる流量の薬液の供給を受けて基板へ吐出するノズルユニットと、
処理対象基板がセットされる基板支持ユニットと、を含むことを特徴とする、基板処理装置。
【請求項12】
薬液供給ラインから分岐した第１薬液ラインと第２薬液ラインに同じ第１流量の薬液を提供する同一流量薬液提供段階と、要求される薬液流量を把握する要求流量把握段階と、
要求される薬液流量に応じて、前記第１薬液ラインの前記第１流量、又は前記第２薬液ラインを介して流量が調節された第２流量のうち一つの薬液を選択的に基板処理装置のノズルユニットへ供給する吐出薬液供給段階と、を含むことを特徴とする、薬液供給方法。
【請求項13】
前記吐出薬液供給段階は、要求される薬液流量が前記第１流量である場合、
前記第１薬液ラインの第１薬液ラインバルブを開放させ、前記第２薬液ラインの第２薬液ラインバルブを閉鎖させる段階と、
前記第１薬液ラインを介して前記第１流量の薬液を基板処理装置のノズルユニットへ供給する段階と、を含むことを特徴とする、請求項１２に記載の薬液供給方法。
【請求項14】
前記吐出薬液供給段階は、要求される薬液流量が前記第１流量よりも相対的に少ない前記第２流量である場合、
前記第１薬液ラインの第１薬液ラインバルブを閉鎖させ、前記第２薬液ラインに配置された流量制御バルブを介して前記第２薬液ラインの流量を前記第１流量よりも相対的に少ない前記第２流量に調節する段階と、
前記第２薬液ラインの第２薬液ラインバルブを開放させる段階と、
前記第２薬液ラインを介して前記第２流量の薬液を基板処理装置のノズルユニットへ供給する段階と、を含むことを特徴とする、請求項１２に記載の薬液供給方法。
【請求項15】
前記第２薬液ラインに供給された前記第１流量の薬液から前記第２流量の薬液を除いた余分な薬液を処理する余分薬液処理段階をさらに含むことを特徴とする、請求項１４に記載の薬液供給方法。
【請求項16】
前記余分薬液処理段階は、前記余分な薬液をドレインラインを介して外部に排出することを特徴とする、請求項１５に記載の薬液供給方法。
【請求項17】
前記余分薬液処理段階は、前記第２薬液ラインに供給された前記第１流量の薬液から前記第２流量の薬液を除いた余分な薬液を回収ラインを介して回収する余分薬液回収段階と、
前記回収ラインを介して回収された回収薬液を前記薬液供給ラインへ提供する回収薬液提供段階と、を含むことを特徴とする、請求項１５に記載の薬液供給方法。
【請求項18】
前記同一流量薬液提供段階は、それぞれ異なる複数の薬液をそれぞれの供給流量を調節して混合タンクへ提供し、前記混合タンクから前記薬液供給ラインへ薬液を提供し、
前記余分薬液処理段階は、
前記第２薬液ラインに供給された前記第１流量の薬液から前記第２流量の薬液を除いた余分な薬液を回収ラインを介して回収する余分薬液回収段階と、
前記回収ラインを介して回収された回収薬液を貯蔵タンクに保管する貯蔵タンク保管段階と、
前記貯蔵タンクに保管された回収薬液を前記混合タンク又は前記薬液供給ラインへ提供する回収薬液提供段階と、をさらに含むことを特徴とする、請求項１５に記載の薬液供給方法。
【請求項19】
前記貯蔵タンクに保管された回収薬液を循環ラインを介して循環させ、薬液供給条件に応じて調節する回収薬液調節段階をさらに含むことを特徴とする、請求項１８に記載の薬液供給方法。
【請求項20】
薬液を提供する薬液供給手段と、前記薬液供給手段から薬液の供給を受け、分岐ラインを介して提供する薬液供給ラインと、
前記薬液供給ラインの分岐ラインのうちのいずれか一つに連結され、基板処理装置のノズルユニットへ第１流量の薬液を供給する第１薬液ラインと、
前記第１薬液ラインに配置され、開閉に応じて前記第１薬液ラインの前記第１流量の薬液を選択的に供給する第１薬液ラインバルブと、
前記薬液供給ラインの分岐ラインのうちのもう一つに連結され、基板処理装置のノズルユニットへ第２流量の薬液を供給する第２薬液ラインと、
前記第２薬液ラインに配置され、前記第２薬液ラインに提供された前記第１流量の薬液を相対的に少ない前記第２流量に調節する流量制御バルブと、
前記第２薬液ラインに配置され、開閉に応じて前記第２薬液ラインの前記第２流量の薬液を選択的に供給する第２薬液ラインバルブと、
前記流量制御バルブの流量調節に応じて、前記第２薬液ラインに供給された前記第１流量の薬液から前記第２流量の薬液を除いた余分な薬液を回収する回収ラインと、
前記流量制御バルブを制御して前記第１流量よりも相対的に少ない第２流量で前記第２薬液ラインの流量を調節し、前記第１薬液ラインバルブと前記第２薬液ラインバルブを制御して基板処理装置のノズルユニットへそれぞれ異なる流量の薬液を供給する制御部と、を含むことを特徴とする、薬液供給ユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、薬液供給ユニットとこれを備えた基板処理装置及び薬液供給方法に係り、より詳細には、複数の薬液ラインに同じ流量で薬液を提供し、複数の薬液ラインの中から選択された一つ以上の薬液ラインに配置された流量制御バルブを介して流量を調節することにより、複数の薬液ラインがそれぞれ異なる流量で薬液を供給することができる異種流量の薬液供給技術に関する。
【背景技術】
【0002】
半導体製造工程では、数多くの化学薬液を用いて基板を処理する過程が行われる。
【0003】
基板処理工程に応じて、単一の薬液を供給して基板を処理する工程が行われるか、或いは互いに異なる薬液を一定の比率で混合した混合薬液を供給して基板を処理する工程が行われ得る。このような様々な薬液を供給して基板を処理するにあたり、ある工程は大流量の薬液が要求され、他のある工程は小流量の薬液が要求される。
【0004】
図１は、従来技術による薬液供給ユニットの一例を示す。
【0005】
一例として、薬液Ａ、Ｂ、Ｃの３種をそれぞれ異なる比率で混合した混合薬液を作るためには、薬液Ａ、Ｂ、Ｃそれぞれの流量を調節して提供するための流量制御器３０、４０が配置され、薬液Ａ、Ｂ、Ｃを混合して供給するための混合タンク３１、４１が配置される。
【0006】
基板処理工程に応じて、基板処理装置１０のノズル１５を介してそれぞれ異なる異種流量で薬液が供給される必要があるが、例えば、大流量の薬液を供給するために、大流量の薬液に対応して薬液Ａ、Ｂ、Ｃそれぞれの流量を調節して提供するための流量制御器３０、及びそれらの薬液を混合するための混合タンク３１が配置され、大流量の薬液を基板処理装置１０のノズル１５へ提供するためのバルブ３５が配置される。
【0007】
これとは異なり、小流量の薬液を供給するためには、大流量の薬液を供給する構成とは別に、小流量の薬液に対応して薬液Ａ、Ｂ、Ｃそれぞれの流量を調節して提供するための流量制御器４０、及びそれらの薬液を混合するための混合タンク４１が配置され、小流量の薬液を基板処理装置１０のノズル１５へ提供するためのバルブ４５が配置される。
【0008】
このようにそれぞれ異なる異種流量の薬液を供給するためには、要求されるそれぞれの流量ごとに薬液供給ユニットが個別に配置されなければならない。
【0009】
特に、多数の異種流量の薬液を供給しなければならない場合、供給する異種流量の個数に対応してそれぞれの薬液供給ユニットが個別に配置されることにより、薬液それぞれの流量を調節するための流量制御器、各流量別薬液供給ライン、供給制御バルブ等が指数関数的に増加するという問題点がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0010】
本発明は、上述した従来技術の問題点を解決するために案出されたもので、基板処理工程の状況に合わせて、一つの薬液供給ユニットを介してそれぞれ異なる異種流量の薬液を供給することができる方案を提示しようとする。
【0011】
特に、それぞれ異なる基板処理工程の状況に合わせて多数の異種流量の薬液を供給しなければならない場合、供給する異種流量の個数に対応してそれぞれの薬液供給ユニットが個別に配置されることにより、薬液それぞれの流量を調節するための流量制御器、各流量別薬液供給ライン、供給制御バルブ等が指数関数的に増加するという問題点を解決しようとする。
【0012】
本発明の目的は、上述したところに限定されず、上述していない本発明の別の目的及び利点は、以降の説明によって理解できるであろう。
【課題を解決するための手段】
【0013】
上記の課題を解決するために、本発明による薬液供給ユニットの一実施形態は、薬液を提供する薬液供給手段と、前記薬液供給手段から供給薬液の提供を受け、第１流量の薬液を基板処理装置のノズルユニットへ供給する第１流量薬液供給手段と、前記薬液供給手段から同じ流量の前記供給薬液の提供を受け、薬液流量を調節して第２流量の薬液を基板処理装置のノズルユニットへ供給する第２流量薬液供給手段と、前記第１流量薬液供給手段と前記第２流量薬液供給手段の薬液供給を選択的に制御し、前記第２流量が前記第１流量とは異なる異種流量で供給されるように薬液流量調節を制御する制御部と、を含むことができる。
【0014】
一例として、前記薬液供給手段は、薬液を分岐ラインを介して提供する薬液供給ラインを含み、前記第１流量薬液供給手段は、前記薬液供給ラインの分岐ラインのうちのいずれか一つに連結され、基板処理装置のノズルユニットへ前記第１流量の薬液を供給する第１薬液ラインを含み、前記第２流量薬液供給手段は、前記薬液供給ラインの分岐ラインのうちのもう一つに連結され、基板処理装置のノズルユニットへ前記第２流量の薬液を供給する第２薬液ラインと、前記第２薬液ラインに配置され、薬液の流量を制御する流量制御バルブと、を含み、前記制御部は、前記流量制御バルブを制御して前記第１薬液ラインの前記第１流量よりも相対的に少ない前記第２流量に前記第２薬液ラインの流量を調節することができる。
【0015】
さらに、前記第１流量薬液供給手段は、前記第１薬液ラインに配置され、開閉に応じて前記第１薬液ラインの薬液を選択的に供給する第１薬液ラインバルブをさらに含み、前記第２流量薬液供給手段は、前記第２薬液ラインに配置され、開閉に応じて前記第２薬液ラインの薬液を選択的に供給する第２薬液ラインバルブをさらに含み、前記制御部は、前記第１薬液ラインバルブと前記第２薬液ラインバルブを制御して、基板処理装置のノズルユニットへそれぞれ異なる流量の薬液を供給することができる。
【0016】
好ましくは、前記第２流量薬液供給手段の薬液流量の調節に応じて、前記供給薬液から前記第２流量の薬液を除いた余分な薬液を処理する余分薬液処理手段をさらに含むことができる。
【0017】
一例として、前記余分薬液処理手段は、前記余分な薬液を排出するドレインラインを含むことができる。
【0018】
好ましくは、前記薬液供給手段は、それぞれ異なる複数の薬液を提供する複数の薬液供給部と、前記複数の薬液供給部の薬液供給量を調節する複数の流量制御部と、複数の薬液を混合して提供する混合タンクと、を含むことができる。
【0019】
一例として、前記余分薬液処理手段は、前記余分な薬液を回収して前記混合タンクへ供給する回収ラインを含むことができる。
【0020】
さらに、前記余分薬液処理手段は、前記余分な薬液を回収する回収ラインと、前記回収ラインを介して回収された回収薬液を保管する貯蔵タンクと、を含むことができる。
【0021】
一例として、前記余分薬液処理手段は、前記貯蔵タンクに保管された回収薬液を前記薬液供給手段へ提供する回収薬液供給ラインをさらに含むことができる。
【0022】
一例として、前記余分薬液処理手段は、前記貯蔵タンクに保管された回収薬液を前記混合タンクへ提供する回収薬液供給ラインをさらに含むことができる。
【0023】
また、本発明による基板処理装置は、上記の薬液供給ユニットと、基板処理工程に対応して前記薬液供給ユニットからそれぞれ異なる流量の薬液の供給を受けて基板へ吐出するノズルユニットと、処理対象基板がセットされる基板支持ユニットと、を含むことができる。
【0024】
また、本発明による薬液供給方法の一実施形態は、薬液供給ラインから分岐した第１薬液ラインと第２薬液ラインに同じ第１流量の薬液を提供する同一流量薬液提供段階と、要求される薬液流量を把握する要求流量把握段階と、要求される薬液流量に応じて、前記第１薬液ラインの前記第１流量、又は前記第２薬液ラインを介して流量が調節された第２流量の薬液を選択的に基板処理装置のノズルユニットへ供給する吐出薬液供給段階と、を含むことができる。
【0025】
一例として、前記吐出薬液供給段階は、要求される薬液流量が前記第１流量である場合、前記第１薬液ラインの第１薬液ラインバルブを開放させ、前記第２薬液ラインの第２薬液ラインバルブを閉鎖させる段階と、前記第１薬液ラインを介して前記第１流量の薬液を基板処理装置のノズルユニットへ供給する段階と、を含むことができる。
【0026】
一例として、前記吐出薬液供給段階は、要求される薬液流量が前記第１流量よりも相対的に少ない前記第２流量である場合、前記第１薬液ラインの第１薬液ラインバルブを閉鎖させ、前記第２薬液ラインに配置された流量制御バルブを介して前記第２薬液ラインの流量を前記第１流量よりも相対的に少ない前記第２流量に調節する段階と、前記第２薬液ラインの第２薬液ラインバルブを開放させる段階と、前記第２薬液ラインを介して前記第２流量の薬液を基板処理装置のノズルユニットへ供給する段階と、を含むことができる。
【0027】
好ましくは、前記第２薬液ラインに供給された前記第１流量の薬液から前記第２流量の薬液を除いた余分な薬液を処理する余分薬液処理段階をさらに含むことができる。
【0028】
一例として、前記余分薬液処理段階は、前記余分な薬液をドレインラインを介して排気することができる。
【0029】
他の一例として、前記余分薬液処理段階は、前記第２薬液ラインに供給された前記第１流量の薬液から前記第２流量の薬液を除いた余分な薬液を回収ラインを介して回収する余分薬液回収段階と、前記回収ラインを介して回収された回収薬液を前記薬液供給ラインへ提供する回収薬液提供段階と、を含むことができる。
【0030】
別の一例として、前記同一流量薬液提供段階は、それぞれ異なる複数の薬液をそれぞれの供給流量を調節して混合タンクへ提供し、前記混合タンクから前記薬液供給ラインへ薬液を提供し、前記余分薬液処理段階は、前記第２薬液ラインに供給された前記第１流量の薬液から前記第２流量の薬液を除いた余分な薬液を回収ラインを介して回収する余分薬液回収段階と、前記回収ラインを介して回収された回収薬液を貯蔵タンクに保管する貯蔵タンク保管段階と、前記貯蔵タンクに保管された回収薬液を前記混合タンク又は前記薬液供給ラインへ提供する回収薬液提供段階と、をさらに含むことができる。
【0031】
さらに、前記貯蔵タンクに保管された回収薬液を循環ラインを介して循環させ、薬液供給条件に応じて調節する回収薬液調節段階をさらに含むことができる。
【0032】
また、本発明による薬液供給ユニットの好適な一実施形態は、薬液を提供する薬液供給手段と、前記薬液供給手段から薬液の供給を受け、分岐ラインを介して提供する薬液供給ラインと、前記薬液供給ラインの分岐ラインのうちのいずれか一つに連結され、基板処理装置のノズルユニットへ第１流量の薬液を供給する第１薬液ラインと、前記第１薬液ラインに配置され、開閉に応じて前記第１薬液ラインの前記第１流量の薬液を選択的に供給する第１薬液ラインバルブと、前記薬液供給ラインの分岐ラインのうちのもう一つに連結され、基板処理装置のノズルユニットへ第２流量の薬液を供給する第２薬液ラインと、前記第２薬液ラインに配置され、前記第２薬液ラインに提供された前記第１流量の薬液を相対的に少ない前記第２流量に調節する流量制御バルブと、前記第２薬液ラインに配置され、開閉に応じて前記第２薬液ラインの前記第２流量の薬液を選択的に供給する第２薬液ラインバルブと、前記流量制御バルブの流量調節に応じて、前記第２薬液ラインに供給された前記第１流量の薬液から前記第２流量の薬液を除いた余分な薬液を回収する回収ラインと、前記流量制御バルブを制御して前記第１流量よりも相対的に少ない第２流量で前記第２薬液ラインの流量を調節し、前記第１薬液ラインバルブと前記第２薬液ラインバルブを制御して基板処理装置のノズルユニットへそれぞれ異なる流量の薬液を供給する制御部と、を含むことができる。
【発明の効果】
【0033】
このような本発明によれば、基板処理工程の状況に合わせて、一つの薬液供給ユニットを介してそれぞれ異なる異種流量の薬液を供給することができる。
【0034】
特に、複数の薬液ラインに同じ流量で薬液を提供し、複数の薬液ラインの中から選択された一つ以上の薬液ラインに配置された流量制御バルブを介して流量を調節することにより、複数の薬液ラインがそれぞれ異なる流量で薬液を供給することができる。
【0035】
本発明の効果は、上述したところに限定されず、上述していない別の効果は、以降の記載から本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者に明らかに理解できるであろう。
【図面の簡単な説明】
【0036】
【図1】従来技術による薬液供給ユニットの一例を示す図である。
【図2】本発明が適用される基板処理装置の一例を示す図である。
【図3】本発明による薬液供給ユニットの一実施形態に対する構成図である。
【図4】本発明による薬液供給ユニットの第１実施形態を示す図である。
【図5】本発明による薬液供給ユニットの第２実施形態を示す図である。
【図6】本発明による薬液供給ユニットの第３実施形態を示す図である。
【図7】本発明による薬液供給ユニットの第３実施形態を示す図である。
【図8】本発明による薬液供給方法の一実施形態に対するフローチャートである。
【図9】本発明による薬液供給方法において薬液供給手段を介して薬液を供給する一実施形態のフローチャートである。
【図10】本発明による薬液供給方法における第１流量で薬液を供給する一実施形態のフローチャートである。
【図11】本発明による基板処理装置において第１流量で薬液を供給する一実施形態を示す図である。
【図12】本発明による薬液供給方法において第２流量で薬液を供給する一実施形態のフローチャートである。
【図13】本発明による薬液供給方法における余分な薬液を処理する第１実施形態のフローチャートである。
【図14】本発明による基板処理装置において余分な薬液を処理する第１実施形態を示す図である。
【図15】本発明による薬液供給方法において余分な薬液を処理する第２実施形態のフローチャートである。
【図16】本発明による基板処理装置において余分な薬液を処理する第２実施形態を示す図である。
【図17】本発明による薬液供給方法において余分な薬液を処理する第３実施形態のフローチャートである。
【図18】本発明による基板処理装置において余分な薬液を処理する第３実施形態を示す図である。
【図19】本発明による基板処理装置において余分な薬液を処理する第３実施形態を示す図である。
【図20】本発明による基板処理装置において余分な薬液を処理する第３実施形態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0037】
以下、添付図面を参照して本発明の好適な実施形態を詳細に説明する。ところが、本発明はこれらの実施形態によって限定又は制限されるものではない。
【0038】
本発明、本発明の動作上の利点、及び本発明の実施によって達成される目的を説明するために、以下では、本発明の好適な実施形態を例示し、これを参照して考察する。
【0039】
まず、本出願で使用した用語は、単に特定の実施形態を説明するために使用されたものであって、本発明を限定しようとするものではない。単数の表現は、文脈上明白に異なる意味ではない限り、複数の表現を含むことができる。また、本出願において、「含む」又は「有する」などの用語は、明細書上に記載された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品又はこれらの組み合わせが存在することを指定しようとするものであり、一つ又はそれ以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部品又はこれらの組み合わせの存在又は付加の可能性を予め排除しないものと理解されるべきである。
【0040】
本発明を説明するにあたり、関連する公知の構成又は機能についての具体的な説明が本発明の要旨を不明確にするおそれがあると判断された場合には、その詳細な説明は省略する。
【0041】
本発明は、複数の薬液ラインに同じ流量で薬液を提供し、複数の薬液ラインの中から選択された一つ以上の薬液ラインに配置された流量制御バルブを介して流量を調節することにより、複数の薬液ラインがそれぞれ異なる流量で薬液を供給することができる異種流量の薬液供給技術を提示する。
【0042】
図２は、本発明が適用される基板処理装置の一例を示すである。
【0043】
基板処理装置１００は、処理容器１２０、基板支持ユニット１４０、昇降ユニット１６０、及びノズルユニット１７０等を含むことができる。
【0044】
処理容器１２０は、内部に処理空間を有し、上部が開放された筒形状を有することができる。処理容器１２０は、第１回収筒１２２、第２回収筒１２４、及び第３回収筒１２６を含むことができる。それぞれの回収筒１２２、１２４、１２６は、工程に使用された処理液を種類別にそれぞれ回収することができる。第１回収筒１２２は、基板支持ユニット１４０を包み込む環状のリング形状に提供されることができ、第２回収筒１２４は、第１回収筒１２２を包み込む環状のリング形状に提供されることができ、第３回収筒１２６は、第２回収筒１２４を包み込む環状のリング形状に提供されることができる。第１回収筒１２２の内側空間は、液が流入する第１流入口１２２ａとして機能することができる。第２回収筒１２４と第１回収筒１２２との間の空間は、第２回収筒１２４へ液が流入する第２流入口１２４ａとして機能することができる。第２回収筒１２４と第３回収筒１２６との間の空間は、第３回収筒１２６へ処理液が流入する第３流入口１２６ａとして機能する。一例によれば、それぞれの流入口１２２ａ、１２４ａ、１２６ａは、互いに異なる高さに位置することができる。それぞれの回収筒１２２、１２４、１２６の底面の下には、回収管１２２ｂ、１２４ｂ、１２６ｂが連結されることができる。
【0045】
基板支持ユニット１４０は基板Ｗを支持することができる。基板支持ユニット１４０は、工程進行中に基板Ｗを回転させることができる。基板支持ユニット１４０は、胴体１４２、支持ピン１４４、チャックピン１４６、及び支持軸１４８を含むことができる。胴体１４２は、円形の上面及び下面を有することができる。胴体１４２の上面及び下面は、その中心軸が互いに一致するように位置することができる。胴体１４２の下面には、駆動部１４９によって回転可能な支持軸１４８が固定結合されることができる。
【0046】
支持ピン１４４は、複数個が設けられることができる。支持ピン１４４は、胴体１４２の上面の縁部に所定の間隔で離隔するように配置され、胴体１４２から上方へ突出するように形成されることができる。支持ピン１４４は、相互間の組み合わせによって全体的に環状のリング形状を有するように配置されることができる。支持ピン１４４は、胴体１４２の上面から基板Ｗが一定距離離隔するように基板Ｗの後面の縁部を支持することができる。
【0047】
チャックピン１４６は、複数個が設けられることができる。チャックピン１４６は、胴体１４２の中心から支持ピン１４４よりも遠く離れるように配置されることができる。チャックピン１４６は、胴体１４２から上方へ突出するように提供されることができる。チャックピン１４６は、基板Ｗが回転するときに基板Ｗが定位置から側方向へ離脱しないように基板Ｗの側部を支持することができる。チャックピン１４６は、胴体１４２の半径方向に沿って待機位置と支持位置との間で直線移動できるように提供されることができる。待機位置は、支持位置に比べて胴体１４２の中心から遠く離れた位置であり得る。基板Ｗが基板支持ユニット１４０に対してロード又はアンロードされるとき、チャックピン１４６は待機位置に位置することができ、基板Ｗに対して工程が行われるとき、チャックピン１４６は支持位置に位置することができる。支持位置でチャックピン１４６は基板Ｗの側部と接触することができる。
【0048】
昇降ユニット１６０は、処理容器１２０と基板支持ユニット１４０間の相手高さを調節することができる。昇降ユニット１６０は、処理容器１２０を上下方向に直線移動させることができる。処理容器１２０が上下に移動するにつれて、基板支持ユニット１４０に対する処理容器１２０の相手高さが変更されることができる。昇降ユニット１６０は、ブラケット１６２、移動軸１６４、駆動器１６６などを含むことができる。ブラケット１６２は、処理容器１２０の外壁に固定設置されることができ、ブラケット１６２には、駆動器１６６によって上下方向に移動する移動軸１６４が固定結合されることができる。処理容器１２０は、基板Ｗが基板支持ユニット１４０に対してロード又はアンロードされるとき、基板支持ユニット１４０が処理容器１２０の上方に突出するように下降することができる。また、工程が行われるときは、基板Ｗに供給された処理液の種類に応じて、処理液が既設定の回収筒１２４、１２６へ流入することができるように、処理容器１２０の高さが調節されることができる。選択的に、処理容器１２０は、その高さが固定され、基板支持ユニット１４０の胴体１４２が上下方向に移動することもできる。
【0049】
ノズルユニット１７０は、基板Ｗ上に様々な種類の薬液を供給することができる。ノズルユニット１７０は、第１ノズル部材１７０ａ、第２ノズル部材１７０ｂ、リンスノズル部材１７０ｃなどを含むことができる。ノズル部材の個数は、必要に応じて変更可能である。
【0050】
第１ノズル部材１７０ａは、第１液を供給することができ、第２ノズル部材１７０ｂは、第２液を供給することができ、リンスノズル部材１７０ｃは、リンス液を供給することができる。一例によれば、第１液は、硫酸（Ｈ２ＳＯ４）を含む強酸のケミカルであり得る。第２液は、有機溶剤を含む塩基性液であり得る。有機溶剤は、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）であり得る。リンス液は、純水（Ｈ２Ｏ）であり得る。
【0051】
第１ノズル部材１７０ａは、第１ノズル移動部材１７１及び第１ノズル１７４ａを含むことができる。第１ノズル移動部材１７１は、第１ノズル１７４ａを工程位置及び待機位置へ移動させることができる。ここで、工程位置は、第１ノズル１７４ａが基板支持ユニット１４０に支持された基板Ｗと対向する位置であり、待機位置は、第１ノズル１７４ａが工程位置から外れた位置であり得る。一例によれば、待機位置は、第１ノズル１７４ａが待機ポートに待機する位置であり得る。第１ノズル移動部材１７１は、回転軸１７６、駆動器１７８、及び支持アーム１７２を含むことができる。回転軸１７６は、処理容器１２０の一側に位置することができる。回転軸１７６は、駆動器１７８によって回転が可能である。回転軸１７６は、駆動器１７８から提供される駆動力によってその中心軸を中心に回転可能である。支持アーム１７２は、第１ノズル１７４ａと回転軸１７６とを連結することができる。回転軸１７６が回転するにつれて、支持アーム１７２及び第１ノズル１７４ａは、回転軸１７６の中心軸を中心に回転することができる。
【0052】
支持アーム１７２は、回転軸１７６に対して垂直な長さ方向に延在するロッド形状に提供されることができる。支持アーム１７２の一端は、回転軸１７６の上端に固定結合されることができる。支持アーム１７２は、回転軸１７６に結合された一端を中心に回転可能である。支持アーム１７２の他端には第１ノズル１７４ａが結合されることができる。一例によれば、上方から見ると、第１ノズル１７４ａが移動する経路は、基板Ｗの中心を通るように提供されることができる。したがって、第１ノズル１７４ａは、回転軸１７６及び支持アーム１７２が回転することにより、工程位置と待機位置へ移動可能である。
【0053】
第２ノズル部材１７０ｂは、第２ノズル移動部材及び第２ノズル１７４ｂを含むことができる。第２ノズル移動部材は、第２ノズル１７４ｂを工程位置及び待機位置へ移動させることができる。ここで、工程位置は、第２ノズル１７４ｂが基板支持ユニット１４０に支持された基板Ｗと対向する位置であり、待機位置は、第２ノズル１７４ｂが工程位置から外れた位置であり得る。第２ノズル移動部材は、第１ノズル移動部材１７１と同様に構成できるので、これについての詳細な説明は省略する。
【0054】
リンスノズル部材１７０ｃは、リンスノズル移動部材及びリンスノズル１７４ｃを含むことができる。リンスノズル部材１７０ｃは、リンスノズル１７４ｃを工程位置及び待機位置へ移動させることができる。ここで、工程位置は、リンスノズル１７４ｃが基板支持ユニット１４０に支持された基板Ｗと対向する位置であり、待機位置は、リンスノズル１７４ｃが工程位置から外れた位置であり得る。リンスノズル移動部材は、第１ノズル移動部材１７１と同様に構成できるので、これについての詳細な説明は省略する。
【0055】
制御器１５０は、昇降ユニット１６０及びノズルユニット１７０を制御することができる。制御器１５０は、基板Ｗ上に第１液を供給する第１液供給段階、及び基板Ｗ上に第２液を供給する第２液供給段階が順次行われるように各ユニットを制御することができる。制御器１５０は、第１液供給段階で基板Ｗが第１流入口１２２ａに対応し、第２液供給段階で基板Ｗが第２流入口１２４ａに対応するように昇降ユニット１６０を制御することができる。
【0056】
一例によれば、制御器１５０は、第１液が吐出される間に第２液が吐出されないように第２ノズル部材１７０ｂをロックさせ、第２液が吐出される間に第１液が吐出されないように第１ノズル部材１７０ａをロックさせることができる。これにより、第１液と第２液とが混合されることを防止することができる。
【0057】
また、制御器１５０は、処理容器１２０第１流入口１２２ａが基板Ｗに対応して位置すると、第２液が吐出されないように第２ノズル部材１７０ｂをロックさせ、処理容器１２０の第２流入口１２４ａが基板Ｗに対応して位置すると、第１液が吐出されないように第１ノズル部材１７０ａをロックさせることができる。これにより、第１液が第２回収筒に回収されるか或いは第２液が第１回収筒に回収されることを防止することができる。
【0058】
また、制御器１５０は、第１ノズル部材１７０ａ及び第２ノズル部材１７０ｂのうちの待機位置に位置するノズル部材に対してはロックを解除することができる。これにより、予備吐出を行わなければならないノズル部材に対してロックが発生することを防止することができる。
【0059】
前記ノズルユニット１７０は、それぞれ異なる薬液及びそれぞれ異なる流量の薬液をノズル部材１７０ａ、１７０ｂ、１７０ｃを介して基板Ｗへ吐出させることができるが、本発明では、ノズルユニット１７０にそれぞれ異なる異種流量の薬液を供給する薬液供給ユニットを提示するとともに、本発明による薬液供給ユニットが適用された基板処理装置を提示する。
【0060】
次に、本発明による薬液供給ユニットについて実施形態によって説明する。
【0061】
図３は、本発明による薬液供給ユニットの一実施形態に対する構成図である。
【0062】
薬液供給ユニット２００は、薬液供給手段２１０、第１流量薬液供給手段２３０、第２流量薬液供給手段２５０、余分薬液処理手段２７０、制御部２９０などを含むことができる。
【0063】
薬液供給手段２１０は、一つ以上の薬液ソース源を含み、薬液ソース源の薬液を第１流量薬液供給手段２３０及び第２流量薬液供給手段２５０へ供給することができる。
【0064】
一例として、薬液供給手段２１０は、一種類の薬液ソース源から薬液を供給してもよく、薬液供給手段２１０は、複数の薬液ソース源からそれぞれの薬液から供給される薬液を比率を調節して混合した後、一定の同一流量で第１流量薬液供給手段２３０及び第２流量薬液供給手段２５０へ供給することができる。
【0065】
第１流量薬液供給手段２３０及び第２流量薬液供給手段２５０は、それぞれ異なる流量で薬液を基板処理装置１００のノズルユニットへ供給することができる。
【0066】
例えば、第１流量薬液供給手段２３０は、大流量の薬液を基板処理装置１００のノズルユニットへ供給することができ、第２流量薬液供給手段２５０は、小流量の薬液を基板処理装置１００のノズルユニットへ供給することができる。
【0067】
第１流量薬液供給手段２３０は、薬液供給手段２１０から供給される流量の薬液をそのまま基板処理装置１００のノズルユニットへ供給することができる。
【0068】
第２流量薬液供給手段２５０は、薬液供給手段２１０から供給される流量の薬液に対して基板処理工程に合わせて要求される流量に調節し、調節された流量の薬液を基板処理装置１００のノズルユニットへ供給することができる。
【0069】
このために、第２流量薬液供給手段２５０は、流量制御バルブを含むことにより、薬液供給手段２１０から供給される薬液の流量を調節することができる。
【0070】
つまり、本発明において、薬液供給ユニット２００は、一つの薬液供給手段２１０から同一流量の薬液の供給を受けながら、第１流量薬液供給手段２３０と第２流量薬液供給手段２５０でそれぞれ異なる異種流量に流量を調節して、異種流量の薬液を選択的に基板処理装置１００のノズルユニットへ供給することができる。
【0071】
余分薬液処理手段２７０は、第２流量薬液供給手段２５０で流量を調節して供給する薬液を除いて残った余分な流量を処理することができる。
【0072】
一例として、余分薬液処理手段２７０は、第２流量薬液供給手段２５０で流量を調節して残った余分な薬液を外部へ排出することができる。
【0073】
別の一例として、余分薬液処理手段２７０は、第２流量薬液供給手段２５０で流量を調節して残った余分な薬液を回収して回収薬液を薬液供給手段２１０で再び使用することができるように提供することができる。
【0074】
制御部２９０は、第１流量薬液供給手段２３０と第２流量薬液供給手段２５０が選択的に異種流量の薬液を基板処理装置１００のノズルユニットへ供給することができるように制御することができる。
【0075】
一例として、制御部２９０は、第２流量薬液供給手段２５０に備えられた流量制御バルブを制御して、基板処理工程に合わせて、要求される流量に調節することができる。また、制御部２９０は、第１流量薬液供給手段２３０と第２流量薬液供給手段２５０それぞれに設けられたバルブを制御して、選択的に薬液の流れを統制して基板処理装置１００のノズルユニットへ供給することができるように制御することができる。
【0076】
また、制御部２９０は、余分薬液処理手段２７０を介して、余分な薬液を外部へ排出させるか或いは余分な薬液を回収して再び使用することができるように制御することができる。
【0077】
次に、このような本発明による薬液供給ユニットについて、具体的な実施形態によってさらに詳しく説明する。
【0078】
図４は、本発明による薬液供給ユニットの第１実施形態を示す。
【0079】
薬液供給手段２１０は、複数の薬液Ａ、Ｂ、Ｃそれぞれの薬液ソース源２１１ａ、２１１ｂ、２１１ｃを含む薬液Ａ、Ｂ、Ｃを提供し、薬液ソース源２１１ａ、２１１ｂ、２１１ｃそれぞれの流量を調節する流量制御器２１３を備えて、供給される薬液Ａ、Ｂ、Ｃの比率を調節することができる。
【0080】
薬液供給手段２１０は、要求される比率で薬液Ａ、Ｂ、Ｃを混合タンク２１５で混合して混合薬液を生成して供給することができる。本実施形態では、薬液供給手段２１０が混合タンク２１５を備えて複数の薬液を混合して供給すると説明するが、状況によっては、薬液供給手段２１０が単純なミキサーを備えて薬液を混合した後に供給することもできる。
【0081】
薬液供給手段２１０は、混合タンク２１５に連結された薬液供給ライン２１７を介して第１流量薬液供給手段２３０と第２流量薬液供給手段２５０へ薬液を供給することができる。
【0082】
薬液供給ライン２１７は、一側が混合タンク２１５に連結され、他側が分岐した形態であって、分岐ラインのうちのいずれか一つを介して第１流量薬液供給手段２３０へ薬液を供給し、分岐ラインのうちのもう一つを介して第２流量薬液供給手段２５０へ薬液を供給することができる。
【0083】
ここで、薬液供給ライン２１７は、同じ流量の薬液を第１流量薬液供給手段２３０と第２流量薬液供給手段２５０へ供給することができる。
【0084】
第１流量薬液供給手段２３０は、第１薬液ライン２３１を含み、第１薬液ライン２３１は、薬液供給ライン２１７の分岐ラインのうちのいずれか一つに連結されて薬液の供給を受けることができる。
【0085】
また、第１流量薬液供給手段２３０は、第１薬液ライン２３１上に配置された第１薬液ラインバルブ２３２を含み、制御部２９０の制御を介して第１薬液ラインバルブ２３２の開閉が動作することにより、第１薬液ライン２３１を介して薬液が選択的に基板処理装置１００のノズルユニット１７０へ提供されることができる。
【0086】
一例として、薬液供給ライン２１７は、第１流量の薬液を供給し、第１流量薬液供給手段２３０は、薬液供給ライン２１７から供給される第１流量の薬液そのままを基板処理装置１００のノズルユニット１７０へ供給することができる。例えば、大流量の薬液で基板処理工程が行われる場合、第１流量薬液供給手段２３０を介して大流量の薬液を基板処理装置１００のノズルユニット１７０へ供給してノズルユニット１７０を介して基板へ液体状態の薬液が吐出されることができる。
【0087】
第２流量薬液供給手段２５０は、第２薬液ライン２５１を含み、第２薬液ライン２５１は、薬液供給ライン２１７の分岐ラインのうちのもう一つに連結されて薬液の供給を受けることができる。
【0088】
第２流量薬液供給手段２５０は、第２薬液ライン２５１上に配置された流量制御バルブ２５３、第２薬液ラインバルブ２５２を含むことができる。
【0089】
制御部２９０は、流量制御バルブ２５３を制御して第２薬液ライン２５１上の薬液を当該基板処理工程で要求される流量に調節することができる。流量制御バルブ２５３には、流量を微調整することができる様々な方式が適用できる。一例として、ニードルバルブを適用して、第２薬液ライン２５１上に流れる薬液の流量を微小レベルに調節することができる。
【0090】
制御部２９０は、第２薬液ラインバルブ２５２の開閉動作を制御して、第２薬液ライン２５１を介して、流量の調節された薬液を選択的に基板処理装置１００のノズルユニット１７０へ提供することができる。
【0091】
一例として、第２流量薬液供給手段２５０は、第１流量薬液供給手段２３０と同じ流量で第１流量の薬液の供給を薬液供給ライン２１７から受け、流量制御バルブ２５３を介して第１流量を基板処理工程で要求される第２流量に調節して第２流量の薬液を基板処理装置１００のノズルユニット１７０へ供給することができる。例えば、小流量の薬液で基板処理工程が行われる場合、第２流量薬液供給手段２５０を介して小流量の薬液を基板処理装置１００のノズルユニット１７０へ供給してノズルユニット１７０を介して基板にスプレー状態の薬液が吐出されることができる。
【0092】
薬液供給手段２１０の薬液供給ライン２１７は、第１薬液ライン２３１と第２薬液ライン２５１へ同じ流量の薬液を供給するが、第２流量薬液供給手段２５０で薬液の流量を調節して基板処理装置１００のノズルユニット１７０へ供給することにより、余分な薬液が残る。
【0093】
余分薬液処理手段２７０は、第２薬液ライン２５１で薬液の流量を調節して残った余分な薬液を処理するための余分薬液ライン２７１、余分薬液バルブ２７２、及びドレインライン２７３を含むことができる。
【0094】
薬液供給ライン２１７から供給された薬液の流量から、第２流量薬液供給手段２５０で調節された流量を除いて残った余分な薬液は、余分薬液ライン２７１に流入し、制御部２９０は、余分薬液バルブ２７２の開閉動作を制御してドレインライン２７３を介して余分な薬液を外部へ排出させることができる。
【0095】
このように本発明による薬液供給ユニット２００は、一つの薬液供給手段２１０から同じ流量の薬液を供給しながら、第１流量薬液供給手段２３０及び第２流量薬液供給手段２５０を介してそれぞれ異なる異種流量の薬液を選択的に基板処理装置１００のノズルユニット１７０へ供給することができる。
【0096】
さらに、本発明では、第２流量薬液供給手段２５０で流量を調節して残った余分な薬液を処理する余分薬液処理手段２７０が様々に変形することができるが、余分薬液処理手段２７０の様々な実施形態をさらに説明する。
【0097】
図５は本発明による薬液供給ユニットの第２実施形態を示す。
【0098】
薬液供給ユニットの第２実施形態において、薬液供給手段２１０、第１流量薬液供給手段２３０、第２流量薬液供給手段２５０などは、前述した薬液供給ユニットの第１実施形態と同一又は類似であるので、重複する部分についての説明は省略する。
【0099】
余分薬液処理手段２７０は、第２薬液ライン２５１で薬液の流量を調節して残った余分な薬液を回収して再び使用するための余分薬液ライン２７１、余分薬液バルブ２７２、及び回収ライン２７４などを含むことができる。
【0100】
薬液供給ライン２１７から供給された薬液の流量から第２流量薬液供給手段２５０で調節された流量を除いて残った余分な薬液は、余分薬液ライン２７１に流入し、制御部２９０は、余分薬液バルブ２７２の開閉動作を制御して回収ライン２７４を介して余分な薬液を回収することができる。
【0101】
回収ライン２７４は薬液供給ユニット２００の混合タンク２１５に連結されることにより、回収ライン２７４で回収された回収薬液は薬液供給ユニット２００の混合タンク２１５へ提供されて再び使用できる。
【0102】
さらに、回収ライン２７４は、薬液供給手段２１０の薬液供給ライン２１７に連結されてもよく、回収ライン２７４で回収された回収薬液は、混合タンク２１５を経ることなく直ちに第１流量薬液供給手段２３０と第２流量薬液供給手段２５０へ提供されてもよい。
【0103】
【0104】
薬液供給ユニットの第３実施形態において、薬液供給手段２１０、第１流量薬液供給手段２３０、第２流量薬液供給手段２５０などは、前述した薬液供給ユニットの第１実施形態と同一又は類似であるので、重複する部分についての説明は省略する。
【0105】
余分薬液処理手段２７０は、第２薬液ライン２５１で薬液の流量を調節して残った余分な薬液を回収して再び使用するための余分薬液ライン２７１、余分薬液バルブ２７２、回収ライン２７５、貯蔵タンク２７６、回収薬液供給ライン２７８、及び回収バルブ２７９などを含むことができる。
【0106】
薬液供給ライン２１７から供給された薬液の流量から第２流量薬液供給手段２５０で調節された流量を除いて残った余分な薬液は、余分薬液ライン２７１に流入し、制御部２９０は、余分薬液バルブ２７２の開閉動作を制御して回収ライン２７５を介して余分な薬液を回収することができる。回収ライン２７４は、貯蔵タンク２７６に連結され、回収された回収薬液を貯蔵タンク２７６へ提供することができる。
【0107】
貯蔵タンク２７６は、回収薬液を一時的に保管することができる。
【0108】
図６の実施形態の場合、貯蔵タンク２７６に保管された回収薬液は、回収薬液供給ライン２７８を介して薬液供給ユニット２００の混合タンク２１５に提供されて再び使用できる。
【0109】
図７の実施形態の場合、貯蔵タンク２７６に保管された回収薬液は、回収薬液供給ライン２７８ａを介して薬液供給ユニット２００の薬液供給ライン２１７に提供されて再び使用できる。
【0110】
制御部２９０は、回収薬液供給ライン２７８に配置された回収薬液バルブ２７９を制御して、貯蔵タンク２７６に保管された回収薬液を選択的に提供することができる。
【0111】
しかも、余分薬液処理手段２７０は、循環ライン２７７をさらに含むことができる。循環ライン２７７には加熱器（図示せず）、ポンプ（図示せず）、フィルター（図示せず）などが配置でき、循環ライン２７７を介して、貯蔵タンク２７６に保管された回収薬液を循環させながら、薬液供給調節によって回収薬液を調節することもできる。必要に応じては、貯蔵タンク２７６又は循環ライン２７７上へ、回収薬液を調節するための新規薬液が供給されることもできる。
【0112】
以上で説明したように、本発明による薬液供給ユニット２００は、第１流量薬液供給手段２３０及び第２流量薬液供給手段２５０を介してそれぞれ異なる異種流量の薬液を選択的に基板処理装置１００のノズルユニット１７０へ供給しながら、流量調節によって、残った余分な薬液を回収して再び使用するように提供することができる。
【0113】
本発明では、上述した本発明による薬液供給ユニットを介して薬液を供給する方法を提示するが、以下では、本発明による薬液供給方法について実施形態を介して説明する。本発明による薬液供給方法は、上述した本発明による薬液供給ユニットにおいて実現されるので、上記の本発明による薬液供給ユニットの実施形態を一緒に参照する。
【0114】
図８は、本発明による薬液供給方法の一実施形態に対するフローチャートである。
【0115】
薬液供給手段２１０は、第１流量薬液供給手段２３０と第２流量薬液供給手段２５０へ薬液を供給するが、薬液供給ライン２１７から分岐した第１流量薬液供給手段２３０の第１薬液ライン２３１と、第２流量薬液供給手段２５０の第２薬液ライン２５１へ同じ第１流量の薬液を提供（Ｓ１１０）することができる。
【0116】
ここで、薬液供給手段２１０を介して供給される薬液は、一種類の薬液であってもよく、互いに異なる種類の複数の薬液が要求される比率で混合された薬液であってもよい。
【0117】
制御部２９０は、当該基板処理工程で要求される薬液流量を判断（Ｓ１５０）し、第１流量の薬液が要求される場合、制御部２９０は、第１流量薬液供給手段２３０を選択的に動作（Ｓ２１０）させることができる。このとき、制御部２９０は、第２流量薬液供給手段２５０の動作を停止させることができる。
【0118】
第１流量薬液供給手段２３０は、薬液供給手段２１０から供給される第１流量の薬液をそのまま供給することができ、制御部２９０の制御を介して、第１流量薬液供給手段２３０は、第１流量の薬液を基板処理装置１００のノズルユニット１７０へ供給（Ｓ２５０）することができる。
【0119】
当該基板処理工程で要求される薬液流量に対する判断（Ｓ１５０）に基づいて第２流量の薬液が要求される場合、制御部２９０は、第２流量薬液供給手段２５０を選択的に動作（Ｓ３１０）させることができる。このとき、制御部２９０は、第１流量薬液供給手段２３０の動作を停止させることができる。
【0120】
制御部２９０は、第２流量薬液供給手段２５０を制御して供給する薬液の流量を調節（Ｓ３３０）することができ、薬液供給手段２１０から供給される第１流量の薬液に対する流量を第２流量の薬液に調節（Ｓ３３０）することができる。
【0121】
制御部２９０の制御を介して、第２流量薬液供給手段２５０は、第２流量の薬液を基板処理装置１００のノズルユニット１７０へ供給（Ｓ３５０）することができる。
【0122】
次に、本発明による薬液供給方法の各過程について、より具体的な実施形態によってさらに詳しく説明する。
【0123】
図９は、本発明による薬液供給方法において薬液供給手段を介して薬液を供給する一実施形態を示すフローチャートである。
【0124】
薬液供給手段２１０は、それぞれ異なる複数の薬液を要求される比率に調節して混合した混合薬液を供給することができる。
【0125】
このために、薬液供給手段２１０は、要求された複数の薬液混合比率に応じて複数の薬液ソース源２１１ａ、２１１ｂ、２１１ｃから薬液の供給を受けながら要求される混合比率に応じて流量制御器２１３を介して各薬液の流量を調節（Ｓ１１１）することができる。
【0126】
各流量が調節された複数の薬液は、薬液供給手段２１０の混合タンク２１５へ供給（Ｓ１１３）されて混合タンク２１５で混合された混合薬液として生成されることができる。
【0127】
混合タンク２１５の薬液は、薬液供給手段２１０の薬液供給ライン２１７を介して第１流量薬液供給手段２３０の第１薬液ライン２３１と第２流量薬液供給手段２５０の第２薬液ライン２５１へ供給（Ｓ１１５）されることができる。
【0128】
このとき、薬液供給ライン２１７から第１薬液ライン２３１と第２薬液ライン２５１へ供給される薬液の流量は同一であり得る。
【0129】
次に、本発明による第１流量の薬液を基板処理装置の処理ユニットへ供給する一例を説明する。
【0130】
【0131】
制御部２９０は、当該基板処理工程で要求される薬液流量を判断して第１流量の薬液が要求される場合、第１薬液ライン２３１に配置された第１薬液ラインバルブ２３２を開放させ、第２薬液ライン２５１に配置された第２薬液ラインバルブ２５２は閉鎖（Ｓ２１１）させることができる。
【0132】
第１薬液ラインバルブ２３２の開放に応じて、第１薬液ライン２３１を介して第１流量の薬液が基板処理装置１００のノズルユニット１７０へ供給（Ｓ２５１）されることができる。
【0133】
ここで、第１流量薬液供給手段２３０は、薬液供給手段２１０の薬液供給ライン２１７から供給される薬液の第１流量を調節せずにそのまま供給するので、第１流量薬液供給手段２３０を介して基板処理装置１００のノズルユニット１７０へ供給される薬液は、大流量の第１流量薬液であり得る。これにより、基板処理装置１００のノズルユニット１７０を介して液体（Ｌｉｑｕｉｄ）状態の大流量の薬液が吐出（Ｓ２５５）されることができる。
【0134】
次に、本発明による第２流量の薬液を基板処理装置の処理ユニットへ供給し、余分な薬液を処理する一例を説明する。
【0135】
図１２は、本発明による薬液供給方法において第２流量で薬液を供給する一実施形態のフローチャートを示し、図１３は、本発明による薬液供給方法において余分な薬液を処理する第１実施形態のフローチャートを示し、図１４は、本発明による基板処理装置において余分な薬液を処理する第１実施形態を示す。
【0136】
【0137】
制御部２９０は、当該基板処理工程で要求される薬液流量を判断して第２流量の薬液が要求される場合、第１薬液ライン２３１に配置された第１薬液ラインバルブ２３２を閉鎖（Ｓ３１１）させることができる。
【0138】
そして、制御部２９０は、第２薬液ライン２５１に配置された流量制御バルブ２５３を制御して、第２薬液ライン２５１上に流れる第１流量の薬液を第２流量の薬液に調節（Ｓ３３１）することができる。
【0139】
流量制御バルブ２５３を介して、要求される流量レベルに流量が調節されると、制御部２９０は、第２薬液ライン２５１上の第２薬液ラインバルブ２５２を開放（Ｓ３３５）させて、第２薬液ライン２５１を介して第２流量の薬液を基板処理装置１００のノズルユニット１７０へ供給（Ｓ３５１）することができる。
【0140】
ここで、制御部２９０は、薬液供給手段２１０の薬液供給ライン２１７から供給される薬液の第１流量を第２流量薬液供給手段２５０の流量制御バルブ２５３を介して第２流量に調節するので、第２流量薬液供給手段２５０を介して基板処理装置１００のノズルユニット１７０へ供給される薬液は、小流量の第２流量薬液であり得る。これにより、基板処理装置１００のノズルユニット１７０を介してスプレー（ｓｐｒａｙ）状態の小流量の薬液が吐出（Ｓ３５５）されることができる。
【0141】
薬液供給手段２１０から供給される第１流量の薬液を調節して、第２流量薬液供給手段２５０は相対的に少ない流量の第２流量の薬液で供給するので、これにより、第１流量から第２流量を除いた余分な薬液が残る。
【0142】
余分薬液処理手段２７０は、第２流量薬液供給手段２５０を介して第２流量の薬液を供給するときに残った余分な薬液を処理（Ｓ４００）することができる。
【0143】
【0144】
第２流量薬液供給手段２５０から残った余分な薬液は、余分薬液処理手段２７０の余分薬液ライン２７１に流入することができる。
【0145】
制御部２９０は、余分薬液ライン２７１に配置された余分薬液バルブ２７２を選択的に開放させて、ドレインライン２７３を介して余分な薬液を外部へ排出（Ｓ４１３）させることができる。
【0146】
本発明における余分な薬液を処理する過程は様々に変形することができる。これに関連して、図１５は、本発明による薬液供給方法において余分な薬液を処理する第２実施形態のフローチャートを示し、図１６は、本発明による基板処理装置において余分な薬液を処理する第２実施形態を示す。
【0147】
【0148】
第２流量薬液供給手段２５０から残った余分な薬液は、余分薬液処理手段２７０の余分薬液ライン２７１に流入することができる。
【0149】
余分薬液処理手段２７０は、回収ライン２７４を含むことにより、制御部２９０は、余分薬液ライン２７１に配置された余分薬液バルブ２７２を選択的に開放（Ｓ４２１）させて、余分薬液ライン２７１上の余分な薬液を回収ライン２７４で回収（Ｓ４２３）させることができる。
【0150】
余分薬液処理手段２７０の回収ライン２７４は、薬液供給手段２１０の薬液供給ライン２１７に連結されて回収ライン２７４の回収薬液が薬液供給ライン２７１へ提供（Ｓ４２５）されることができる。回収ライン２７４が薬液供給ライン２１７に連結されることにより、回収ライン２７４の回収薬液は、すぐに薬液供給ライン２１７を介して第１流量薬液供給手段２３０又は第２流量供給手段２５０へ供給されることもできる。
【0151】
さらに、図１６に示すように、余分薬液処理手段２７０の回収ライン２７４は、薬液供給手段２１０の混合タンク２１５に連結されることもできる。回収ライン２７４で回収された回収薬液は、薬液供給手段２１０の混合タンク２１５に提供されて混合タンク２１５を介して再び使用できる。
【0152】
本発明において余分な薬液を処理する過程は、他の実施形態として、図１７は本発明による薬液供給方法において余分な薬液を処理する第３実施形態のフローチャートを示し、図１８乃至図２０は、本発明による基板処理装置において余分な薬液を処理する第３実施形態を示す。
【0153】
【0154】
【0155】
第２流量薬液供給手段２５０から残った余分な薬液は、余分薬液処理手段２７０の余分薬液ライン２７１に流入することができる。
【0156】
余分薬液処理手段２７０は、回収ライン２７４を含むことにより、制御部２９０は、余分薬液ライン２７１に配置された余分薬液バルブ２７２を選択的に開放（Ｓ４３１）させて、余分薬液ライン２７１上の余分な薬液を回収ライン２７４で回収（Ｓ４３３）させることができる。
【0157】
余分薬液処理手段２７０は貯蔵タンク２７６を含み、回収ライン２７４は貯蔵タンク２７６に連結されることにより、回収ライン２７４を介して回収された回収薬液は、貯蔵タンク２７６に供給されることができる。貯蔵タンク２７６は、回収薬液を一時的又は一定期間保管（Ｓ４３５）することができる。
【0158】
好ましくは、貯蔵タンク２７６上に一定時間保管された回収薬液の場合、当該基板処理工程に要求される薬液の温度、密度など、薬液供給条件を満たさないことがある。
【0159】
したがって、余分薬液処理手段２７０は、貯蔵タンク２７６に保管された回収薬液を循環させる循環ライン２７７を含むことができ、循環ライン２７７上には、加熱器（図示せず）、ポンプ（図示せず）、各種計測器（図示せず）などが配置でき、さらには新しい薬液が供給されることもできる。
【0160】
制御部２９０は、貯蔵タンク２７６に保管された回収薬液を循環ライン２７７を介して循環させながら、回収薬液に対して要求される薬液供給条件を満たすように調節（Ｓ４３７）することができる。
【0161】
【0162】
余分薬液処理手段２７０の循環ライン２７７を経ることなく、制御部２９０が回収バルブ２７９を選択的に制御することにより、貯蔵タンク２７６に保管された回収薬液が薬液供給ライン２７８を介して混合タンク２１５へ提供（Ｓ４３９）されるか或いは薬液供給ライン２１７へ提供されて再び使用されることができる。
【0163】
好ましくは、上述したように貯蔵タンク２７６上に一定時間保管された回収薬液は、当該基板処理工程に要求される薬液の温度、密度など、薬液供給条件を満たさないことがあるので、循環ライン２７７を介して循環させながら回収薬液を調節（Ｓ４３７）することができる。
【0164】
回収薬液が適切な薬液供給条件を満たすか或いは回収薬液に対する供給が必要な場合、制御部２９０は、回収バルブ２７９を選択的に開放させて、回収薬液供給ライン２７８を介して、貯蔵タンク２７６に保管された回収薬液を提供することにより、回収薬液を再び使用することができる。
【0165】
図１９に示すように、余分薬液処理手段２７０の回収薬液供給ライン２７８が薬液供給手段２１０の混合タンク２１５に連結されて回収薬液が混合タンク２１５へ提供（Ｓ４３９）されることにより、混合タンク２１５を介して回収薬液を再び使用することができる。
【0166】
或いは、図２０に示すように、余分薬液処理手段２７０の回収薬液供給ライン２７８が薬液供給手段２１０の薬液供給ライン２１７に連結されて回収ライン２７４の回収薬液が薬液供給ライン２７１へ提供されることもできる。回収ライン２７４が薬液供給ライン２１７に連結されることにより、回収ライン２７４の回収薬液は、すぐに薬液供給ライン２１７を介して第１流量薬液供給手段２３０又は第２流量供給手段２５０へ供給されることができる。
【0167】
以上説明したように、本発明を介して、基板処理工程の状況に合わせて、一つの薬液供給ユニットを介してそれぞれ異なる異種流量の薬液を供給することができる。
【0168】
特に、複数の薬液ラインに同じ流量で薬液を提供し、複数の薬液ラインの中から選択された一つ以上の薬液ラインに配置された流量制御バルブを介して流量を調節することによって、複数の薬液ラインがそれぞれ異なる流量で薬液を供給することができる。
【0169】
以上の説明は、本発明の技術思想を例示的に説明したものに過ぎず、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の本質的な特性から逸脱することなく多様な修正及び変形が可能であろう。したがって、本発明に記載されている実施形態は、本発明の技術思想を限定するものではなく、説明するためのものであり、このような実施形態によって本発明の技術思想が限定されるものではない。本発明の保護範囲は、下記請求の範囲によって解釈されるべきであり、それと同等の範囲内にあるすべての技術思想は、本発明の権利範囲に含まれるものと解釈されるべきである。
【符号の説明】
【0170】
１００ 基板処理装置
１７０ ノズルユニット
２００ 薬液供給ユニット
２１０ 薬液供給手段
２３０ 第１流量薬液供給手段
２５０ 第２流量薬液供給手段
２５３ 流量制御バルブ
２７０ 余分薬液処理手段
２９０ 制御部
１７０ ノズルユニット
２００ 薬液供給ユニット
２１０ 薬液供給手段
２３０ 第１流量薬液供給手段
２５０ 第２流量薬液供給手段
２５３ 流量制御バルブ
２７０ 余分薬液処理手段
２９０ 制御部
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
