【図1】
図1は、複数のパルス出力を有するチャープパルス増幅(CPA)システムの例のブロック図である。
【図2A】
図2Aは、複数のパルスを生成する従来のビーム分割及び結合配置の結果を概略的に示す。
【図2B】
図2Bは、複数のパルスを生成する従来のビーム分割及び結合配置の結果を概略的に示す。
【図2C】
図2Cは、複数のパルスを生成する従来のビーム分割及び結合配置の結果を概略的に示す。
【図3A】
図3Aは、本開示によるビーム分割方法を概略的に示す。時間的に伸張及びチャープされたパルス(図3A)は、チャープパルスが重複し得る複数のパルスを生成するように分割及び再結合される(図3B)。
【図3B】
図3Bは、本開示によるビーム分割方法を概略的に示す。時間的に伸張及びチャープされたパルス(図3A)は、チャープパルスが重複し得る複数のパルスを生成するように分割及び再結合される(図3B)。図3Bでは、τDは(例えば、ピーク間から測定される)隣接パルス間の遅延であり、τSは(例えば、半値全幅(FWHM)として測定される)伸張パルス幅である。
【図4A】
図4Aは、時間内に重複するチャープパルスの非線形相互作用の結果生じる高密度パルスパックの形成の例を示す実験による自己相関プロットである。自己相関強度(任意単位a.u.)は、psにおける遅延に対してプロットされる。
【図4B】
図4Bは、本開示のシステムにおける高密度パルスパックの制御を検証する非線形パルス伝搬のシミュレーションで得られた自己相関プロットを示す。時間的強度(a.u.)は、psにおける遅延時間に対してプロットされる。
【図5A】
図5Aは、複数のパルス間の非線形相互作用が時間遅延及び/又は分散の制御を介して低減又は回避され得る波長分割/時間遅延技術の例を概略的に示す。
【図5B】
図5Bは、複数のパルス間の非線形相互作用が時間遅延及び/又は分散の制御を介して低減又は回避され得る波長分割/時間遅延技術の例を概略的に示す。
【図6】
図6は、τD~τS/100を有する2つのシードパルスを有する伸張シードパルスを時間遅延する際にスペクトル遅延が適用される場合の、再圧縮されたパルスの例を示す自己相関プロットである。パルス間の時間遅延τDは、伸張パルス幅τSよりもかなり小さい。自己相関強度(a.u.)は、psにおける遅延に対してプロットされる。
【図7】
図7は、波長分割を用いることなくパルスを分割するのに使用可能なファイバベースのパルス遅延の例を概略的に示す。
【図8】
図8は、パルスを分割するのに使用可能であり波長分割を利用するファイバベースのパルス遅延の例を示す。
【図9】
図9は、遅延を有する複数のパルスを生成する技術の例を概略的に示す。
【図10】
図10は、遅延を有する複数のパルスを制御可能に生成することができるパルス遅延生成システムの例を概略的に示す。