特許 7464255 表示体の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-04-01

(45)【発行日】2024-04-09

(54)【発明の名称】表示体の製造方法

(51)【国際特許分類】

   B23K 26/00 20140101AFI20240402BHJP

   B05D 3/10 20060101ALI20240402BHJP

   B05D 3/06 20060101ALI20240402BHJP

   B60R 13/10 20060101ALN20240402BHJP

【ＦＩ】

B23K26/00 B

B05D3/10 N

B05D3/06 Z

B60R13/10

【請求項の数】 6

(21)【出願番号】P 2020034904

(22)【出願日】2020-03-02

(65)【公開番号】P2021137819

(43)【公開日】2021-09-16

【審査請求日】2023-01-20

(73)【特許権者】

【識別番号】000113827

【氏名又は名称】マルイ工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110002354

【氏名又は名称】弁理士法人平和国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】山崎 哲

【審査官】柏原 郁昭

(56)【参考文献】

【文献】特開平０３－１４６１７４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０００－３０５４９５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１３－１７４７６３（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２００５／０３４５９５（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ２３Ｋ ２６／００

Ｂ０５Ｄ ３／１０

Ｂ０５Ｄ ３／０６

Ｂ６０Ｒ １３／１０

Ｂ４４Ｃ １／１８

Ｂ４４Ｃ １／２２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

合成樹脂で形成された基材にめっきを施して前記基材の上にめっき膜を形成するめっき工程と、
前記めっき膜の上に塗料を塗装して塗装膜を形成する塗装工程と、
除去領域にレーザーを照射するレーザー加工を用いて、前記めっき膜を残して前記除去領域の前記塗装膜を除去する除去工程と
を含み、
前記除去工程は、
前記レーザー加工により、前記めっき膜の上に前記塗装膜の一部又は前記塗装膜に由来する物が塗薄膜として残るように、前記塗装膜の少なくとも上部を除去するレーザー照射工程と、
前記除去領域に残った前記塗薄膜を溶剤を用いて除去する薄膜除去工程と
を含む、
表示体の製造方法。

【請求項2】

前記溶剤はエタノールである、請求項１に記載の製造方法。

【請求項3】

前記塗装膜は、第１の塗装膜と第２の塗装膜とを含み、
前記塗装工程は、
前記めっき膜の上に第１の塗料を塗装して前記第１の塗装膜を形成する第１の塗装工程と、
前記第１の塗装膜の上に第２の塗料を塗装して前記第２の塗装膜を形成する第２の塗装工程と
を含み、
前記除去工程は、
前記除去領域にレーザーを照射するレーザー加工を用いて、前記めっき膜を残して前記除去領域の前記第２の塗装膜及び前記第１の塗装膜を除去する第１の除去工程と、
半除去領域にレーザーを照射するレーザー加工を用いて、前記めっき膜と前記第１の塗装膜とを残して前記半除去領域の前記第２の塗装膜を除去する第２の除去工程と
を含む、
請求項１又は２に記載の製造方法。

【請求項4】

合成樹脂で形成された基材にめっきを施して前記基材の上にめっき膜を形成するめっき工程と、
前記めっき膜の上に塗料を塗装して塗装膜を形成する塗装工程と、
除去領域にレーザーを照射するレーザー加工を用いて、前記めっき膜を残して前記除去領域の前記塗装膜を除去する除去工程と
を含む表示体の製造方法であって、
前記基材は、少なくとも一つの前記表示体を取り囲む第１の支持部と、前記第１の支持部と前記表示体とをつなぎ前記表示体を支持する第２の支持部と、前記第１の支持部に設けられた複数のボスとを備え、
前記レーザー加工において、前記ボスが差し込まれる複数の穴と前記第１の支持部の位置を決めるためのリブと、前記第２の支持部を挟む挟持部とを有する治具を用いて、前記基材が保持される、
表示体の製造方法。

【請求項5】

前記治具は、金属製であり、前記表示体と前記治具とが接するように構成されている、請求項４に記載の製造方法。

【請求項6】

前記除去工程の後に、クリア塗料を塗装するクリア塗装工程を更に含む、請求項１～５の何れかに記載の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、表示体の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

合成樹脂を用いて形成した所定形状を有する成形品に、クロムめっきなどで光沢を付加し、その一部に塗料を塗布して作製される表示体が知られている。このような表示体は、めっきによる光沢部と、塗料による着色部とを備える。例えば特許文献１には、従来技術として、電気鋳造したマスクを用いて光沢部の一部を覆って吹付塗装を行うことで、このような表示体を作製できることが開示されている。ここで用いられるマスクは、一般に表示体の凹凸形状に合わせて作製され、塗装時には表示体の凹凸形状に合わせて設置される。したがって、作製される表示体では、表示体の凹凸形状に合わせて光沢部と着色部との境界が設けられる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】実特昭５９－１４６１９９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

上述のようなマスクを用いた塗装を行う場合には表示体に凹凸が必要になるなど、製造方法に応じた所定の制約がある。

【0005】

本発明は、制約の少ない表示体の製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明の一態様によれば、表示体の製造方法は、合成樹脂で形成された基材にめっきを施して前記基材の上にめっき膜を形成するめっき工程と、前記めっき膜の上に塗料を塗装して塗装膜を形成する塗装工程と、除去領域にレーザーを照射するレーザー加工を用いて、前記めっき膜を残して前記除去領域の前記塗装膜を除去する除去工程とを含む。

【発明の効果】

【0007】

本発明によれば、制約の少ない表示体の製造方法を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】図１は、第１の実施形態による製造方法で作製される表示体の構成例の概略を示す図である。

【図2】図２は、表示体の製造工程の一例の概略を示すフローチャートである。

【図3】図３は、第１の実施形態の各工程におけるマーク形成面の状態を模式的に示す図である。

【図4】図４は、除去工程の一例の概略を示すフローチャートである。

【図5】図５は、除去工程におけるマーク形成面の状態を模式的に示す図である。

【図6】図６は、実施形態に係る成形品の形状の一例の概略を示す図である。

【図7】図７は、実施形態に係る治具の構成例の概略を示す図である。

【図8】図８は、第２の実施形態に係る表示体の構成例の概略を示す平面図である。

【図9】図９は、第２の実施形態に係る塗装工程の一例の概略を示すフローチャートである。

【図10】図１０は、第２の実施形態に係る除去工程の一例の概略を示すフローチャートである。

【図11】図１１は、第２の実施形態の各工程におけるマーク形成面の状態を模式的に示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0009】

［第１の実施形態］
第１の実施形態について図面を参照して説明する。本実施形態は、例えばエンブレムと呼ばれる乗り物などに取り付けられる外装装飾部品といった表示体の製造方法に関する。

【0010】

〈表示体について〉
図１は、本実施形態による製造方法で作製される表示体１の構成例の概略を示す図である。図１において、（ａ）は平面図を示し、（ｂ）は正面図を示す。

【0011】

この表示体１では、基材７１のマーク形成面８１に所定のマークが形成されている。表示体１は、このマークを表示するものである。基材７１は、例えば、合成樹脂で形成されている。基材７１のマーク形成面８１は、凹凸がほぼない滑らかな面となっている。マーク形成面８１は、中央部が盛り上がるように、わずかに湾曲している。マーク形成面８１には、例えば、金属光沢を有する光沢部７２と、着色された着色部７３とが設けられている。光沢部７２は、例えば、マーク形成面８１に施されたクロムめっきが見える領域である。着色部７３は、例えば、マーク形成面８１に施された塗装による塗装膜が見える領域である。着色部７３は、細線部８２のように、幅が極細い領域も含んでいる。表示体１は、マーク形成面８１の裏側に、表示体１を備え付ける際に用いられる複数の突起７９を備える。

【0012】

〈表示体の製造方法について〉
図２は、表示体１の製造工程の一例の概略を示すフローチャートである。図３は、各工程におけるマーク形成面８１の状態を模式的に示す図である。図３において、形成される各層は、分かりやすさのため模式的に厚く描かれており、また、側面の状態などの図示は省略されている。

【0013】

射出成形工程（Ｓ１０）において、合成樹脂を用いて、表示体１の形状を有する成形品が、射出成形機を用いて成形される。図３（ａ）に示すように、この成形品が基材１０となる。用いられる合成樹脂は、これに限らないが、例えばＡＢＳ樹脂である。成形品の形状は、高い精度で管理されることが好ましい。したがって、成形品のそり、歪みを極力小さくし、かつ、安定して生産可能な成形条件を見出すことが好ましい。

【0014】

めっき工程（Ｓ２０）において、基材１０にめっきが施され、図３（ｂ）に示すように、基材１０の上にめっき膜２０が形成される。めっきは、これに限らないが、例えば装飾用のクロムめっきである。めっき膜２０の厚さは、高い精度で管理されることが好ましい。めっき膜２０の厚さの設計値は、例えば、Ｃｕ層が１２μｍ、Ｎｉ層が８μｍ、Ｃｒ層が０．１５μｍとすることができる。このとき、めっき膜２０全体の厚さのばらつき、すなわち、最大値と最小値との差を、例えば、６μｍ以内とすることができる。

【0015】

塗装工程（Ｓ３０）において、めっき膜２０の上に、例えば有色の塗料が塗装され、図３（ｃ）に示すように、塗装膜３０が形成される。塗装膜３０の厚さは、高い精度で管理されることが好ましい。このため、塗装工程（Ｓ３０）では、例えば手吹きの塗装ではなく、機械を用いた塗装が行われることが好ましい。例えば、ドラム式塗装機を用いた塗装を採用できる。塗装膜３０の厚さの設計値は、例えば、１５μｍとすることができる。このとき、塗装膜３０の厚さのばらつきを、例えば、±３μｍ以内とすることができる。

【0016】

除去工程（Ｓ４０）において、除去領域４１の塗装膜３０が選択的に除去される。塗装膜３０の選択的な除去には、除去領域４１にレーザーを照射するレーザー加工が用いられる。除去工程の結果、図３（ｄ）に示すように、除去領域４１では、めっき膜２０が露出して光沢部２１が形成される。一方、除去領域４１以外の領域では、塗装膜３０が残り、着色部３１が形成される。

【0017】

クリア塗装工程（Ｓ５０）において、マーク形成面８１にクリア塗料が塗装され、図３（ｅ）に示すように、クリア塗装膜５０が形成される。クリア塗装膜５０により、レーザー加工による加工痕をぼかすことができ、また、表示体１の表面が保護される。このようにして、光沢部２１と着色部３１とを含み、クリア塗装膜５０でコーティングされたマーク形成面８１を有する表示体１が形成される。

【0018】

クリア塗装膜５０の厚さも、高い精度で管理されることが好ましい。このため、クリア塗装工程（Ｓ５０）では、機械を用いた塗装が行われることが好ましい。例えば、ドラム式塗装機を用いた塗装が採用され得る。クリア塗装膜５０の厚さの設計値は、例えば、１５μｍとすることができる。このとき、クリア塗装膜５０の厚さのばらつきを、例えば、±３μｍ以内とすることができる。クリア塗装膜５０の厚さを高い精度で管理することで、表示体１の光沢部７２の光沢感にばらつきが生じない。例えば、クリア塗装膜５０が厚すぎると、光沢部７２が曇った質感になるおそれがある。

【0019】

組立工程（Ｓ６０）において、製造上の都合で設けられた不要部分の除去などが行われ、形成された表示体１は出荷できる状態に組み立てられる。本実施形態によれば、レーザー加工を利用して、細線部８２において、例えば０．１ｍｍといった、極細い線幅を表すことも可能である。

【0020】

〈除去工程について〉
上述の除去工程（Ｓ４０）において、除去領域４１でめっき膜２０には傷などがつくことなく、一方で塗装膜３０が完全に除去されるように、レーザー加工機の出力は適切に調整される。例えば、レーザーによるエネルギーが高すぎると、めっき膜２０が加熱されて、めっき膜２０が基材１０に対して膨れるような、基材１０とめっき膜２０との間の層間剥離が生じることがある。また、レーザーによるエネルギーが高すぎると、めっき膜２０に加工痕が生じ、めっき膜２０の光沢がなくなることがある。これらのようなことが生じないように、レーザー加工機の出力は調整される必要がある。調整されるレーザー加工機の設定値としては、例えば、レーザー光源に流す電流値、レーザー照射の繰返し周波数、レーザー加工機のアパチャー、すなわち、レーザーのビーム径、加工速度などがある。

【0021】

あるいは、除去工程（Ｓ４０）は、次のように行われてもよい。図４は、除去工程（Ｓ４０）の一例の概略を示すフローチャートである。除去工程（Ｓ４０）には、レーザー照射工程（Ｓ４１）と、薄膜除去工程（Ｓ４２）とが含まれる。図５は、この除去工程（Ｓ４０）におけるマーク形成面８１の状態を模式的に示す図である。ここで、図５（ａ）は図３（ｃ）と同一であり、図５（ｃ）は図３（ｄ）と同一である。

【0022】

図５（ａ）に示すように、塗装工程によって塗装膜３０が形成されたマーク形成面８１に対して、レーザー照射工程（Ｓ４１）では、除去領域４１にレーザーが照射される。このとき、レーザー加工機の出力は、図５（ｂ）に示すように、めっき膜２０の上にごく薄い膜３９が残るように調整される。このごく薄い膜３９は、除去されずに残った塗装膜３０の一部であってもよい。また、このごく薄い膜３９は、レーザーによって焼かれた塗装膜３０の煤など、塗装膜３０に由来するものであってもよい。このごく薄い膜を塗薄膜３９と称することにする。何れにしても、レーザー照射工程（Ｓ４１）では、塗装膜３０の少なくとも上部はレーザー加工により除去される。

【0023】

薄膜除去工程（Ｓ４２）では、除去領域４１に残った塗薄膜３９が溶剤を用いて除去される。溶剤は、これに限らないが、例えばエタノールである。薄膜除去工程（Ｓ４２）において、マーク形成面８１が例えばエタノールで拭かれ、その結果、図５（ｃ）に示すように、除去領域４１の塗薄膜３９が取り除かれる。

【0024】

本実施形態のように、除去工程（Ｓ４０）を、レーザー照射工程（Ｓ４１）と、薄膜除去工程（Ｓ４２）との二つの工程に分けることで、レーザー加工機の出力調整は容易となり、光沢部２１と着色部３１とが共にきれいなマーク形成面８１が容易に形成される。

【0025】

例えば、レーザー加工機の出力の調整は、電流値及び周波数の調整で行うことができる。例えば、電流値又は周波数を下げると、熱による基材１０とめっき膜２０との層間剥離や、めっき表面の損傷といった悪影響が小さくなる。周波数を下げると悪影響が小さくなるのは、周期が長くなるために熱がこもりにくくなるためと考えられる。一方、電流値又は周波数を下げ過ぎると、塗装膜３０の除去を十分に行えない。レーザー照射工程（Ｓ４１）と、薄膜除去工程（Ｓ４２）との二つの工程に分けることで、レーザー照射のみで塗装膜３０を除去する場合と比較して、レーザー加工機の出力設定値の許容される幅が広くなる。

【0026】

ＹＡＧレーザー加工機（ＤＷ５３００；アマダミヤチ社製）の出力は、例えば、電流値を１３．５Ａ、周波数を１０．０ｋＨｚ、アパチャーをφ２．３ｍｍ、加工速度を２５０ｍ／秒×２に設定してもよい。

【0027】

〈レーザー加工について〉
除去領域４１にレーザーを照射するレーザー加工では、厳密な位置決めが要求される。そこで本実施形態では、成形品とレーザー加工時に成形品を支持する治具とを以下のようにしている。

【0028】

図６は、本実施形態に係る成形品１００の形状の一例の概略を示す図である。この例では、１個の成形品１００は、４個の表示体１を含む。成形品１００は、４個の表示体１を取り囲む第１の支持部１１０と、第１の支持部１１０と表示体１とをつないで表示体１を支持する第２の支持部１２０とを有する。第１の支持部１１０は、表示体１の裏面と平行に設けられた表示体１を取り囲むような長方形をしている。第２の支持部１２０は、第１の支持部１１０の長辺から第１の支持部１１０の長辺に対して垂直かつ表示体１の裏面と平行に伸びており、そこから９０°に屈曲して上方向に伸び表示体１の裏面に垂直に表示体１に接続している。１個の表示体１には、２本の第２の支持部１２０が接続している。射出成形時には、第１の支持部１１０はランナーとなり、第２の支持部１２０はゲートとなる。

【0029】

本実施形態では、レーザー加工時に成形品１００を治具に固定するために、成形品１００には、ボス１３０が設けられている。ボス１３０は、第１の支持部１１０の四隅に設けられており、第１の支持部１１０から垂直下方向に伸びている。ボス１３０は、３°の勾配を有しており、下にある先端側が細くなっている。

【0030】

めっき工程（Ｓ２０）においては、めっき層内での加熱、乾燥工程での加熱などで、成形品１００は変形するおそれがある。めっき工程（Ｓ２０）では、成形品１００は、第１の支持部１１０の長辺の中点である保持点１９０で保持される。保持点１９０の一点で保持されることで、成形品１００の変形は、比較的小さくなる。

【0031】

図７は、本実施形態に係る治具２００の構成例の概略を示す図である。治具２００は、複数の成形品１００が固定されるように、複数の固定ユニット２０１を備える。各々の固定ユニット２０１は、成形品１００の表示体１を含む第１の支持部１１０の内側部分が配置される台座２１０を備える。台座２１０は、略長方形状をしている。固定ユニット２０１は、台座２１０の四隅の外側に、成形品１００のボス１３０が差し込まれる穴２２０を備える。固定ユニット２０１は、台座２１０の長辺と対向するように、リブ２３０を備える。リブ２３０は、第１の支持部１１０の長辺を台座２１０と共に挟むように構成されている。台座２１０の上面には、表示体１の突起７９が嵌まるように設けられた窪み２４０と、成形品１００の第２の支持部１２０が挟まれるように設けられた挟持部２５０とが形成されている。

【0032】

上述の治具２００では、成形品１００のボス１３０が穴２２０に差し込まれる。これによって、成形品１００の位置決めが行われるとともに、第１の支持部１１０に変形が生じていてもこの変形は矯正される。さらに、第１の支持部１１０の位置決めを行うリブ２３０が設けられていることで、第１の支持部１１０の撓みが矯正され、正確な位置決めが行われる。各表示体１の位置も、窪み２４０と突起７９との嵌め合い、及び、挟持部２５０と第２の支持部１２０との嵌め合いによって調整される。ここで、挟持部２５０と第２の支持部１２０の間には、わずかな隙間ができるように、挟持部２５０と第２の支持部１２０との寸法は調整されている。例えば、成形品１００の射出成形品と挟持部２５０との間隙が片側０．１ｍｍとなるように調整されている。このとき、成形品１００のめっき膜厚は、約０．０３ｍｍであるので、実質の間隙は約０．０７ｍｍとなる。

【0033】

治具２００は、加工精度と強度とを得るために、金属で形成されている。また、治具２００は、熱伝導性がよいことが好ましい。治具２００は、例えば、アルミニウム合金（Ａ７０７５）で形成されている。

【0034】

表示体１と台座２１０とが接触するなど、成形品１００と治具２００とはできる限り接触するように構成されている。このような構成により、レーザー加工時に表示体１で発生する熱が、治具２００へと伝達され、表示体１が高温になることが防がれる。

【0035】

本実施形態の表示体１の製造方法によれば、表示体１の凹凸に依存しないで除去領域４１を設定することができる。このため、製造可能な表示体１の意匠の自由度が高くなる。また、本製造方法によれば、レーザー加工を利用して、細線部８２において、例えば０．１ｍｍといった、極細い線幅を表すことも可能である。また、光沢部７２と着色部７３との境界をくっきりとしたシャープなものにすることができる。また、印刷など工程による場合よりも、塗膜などは剥がれにくい。また、マーク形成面８１が多少湾曲していても、問題なく加工が可能である。

【0036】

［第２の実施形態］
第２の実施形態について説明する。ここでは、第１の実施形態との相違点について説明し、同一の部分については、同一の符号を付してその説明を省略する。

【0037】

図８は、第２の実施形態に係る表示体２の構成例の概略を示す平面図である。第１の実施形態の表示体１では、着色部７３が一色であったのに対して、第２の実施形態の表示体２では、着色部が二色になっている。すなわち、表示体２は、マーク形成面８１に、光沢部７２に加えて、第１の着色部７５と第２の着色部７６とを含む。第１の着色部７５と第２の着色部７６とは、互いに色が異なる。

【0038】

このような表示体２を製造するために、本実施形態では、塗装工程（Ｓ３０）及び除去工程（Ｓ４０）が第１の実施形態と異なる。図９は、第２の実施形態に係る塗装工程（Ｓ３０）の一例の概略を示すフローチャートである。図１０は、第２の実施形態に係る除去工程（Ｓ４０）の一例の概略を示すフローチャートである。図１１は、各工程におけるマーク形成面８１の状態を模式的に示す図である。図１１において、形成される各層は、分かりやすさのため模式的に厚く描かれており、また、側面の状態などの図示は省略されている。

【0039】

本実施形態の塗装工程（Ｓ３０）では、まず、第１の塗装工程（Ｓ３１）において、めっき膜２０の上に、第１の色を有する第１の塗料が塗装され、図１１（ａ）に示すように、第１の塗装膜３３が形成される。続いて、第２の塗装工程（Ｓ３２）において、第１の塗装膜３３の上に、第２の色を有する第２の塗料が塗装され、図１１（ｂ）に示すように、第２の塗装膜３４が形成される。このように、本実施形態では塗装膜３０は、第１の塗装膜３３と第２の塗装膜３４とを含む。

【0040】

除去工程（Ｓ４０）では、まず、第１の除去工程（Ｓ４３）において、めっき膜２０が見える光沢部７２が形成される。すなわち、光沢部７２に対応する除去領域４１において、第１の塗装膜３３及び第２の塗装膜３４を含む塗装膜３０が、選択的に除去される。塗装膜３０の選択的な除去には、除去領域４１にレーザーを照射するレーザー加工が用いられる。第１の除去工程（Ｓ４３）の結果、図１１（ｃ）に示すように、除去領域４１では、めっき膜２０が露出して光沢部２１が形成される。一方、除去領域４１以外の領域では、塗装膜３０が残っている。

【0041】

続いて、第２の除去工程（Ｓ４４）において、第１の塗装膜３３が見える第１の着色部７５が形成される。すなわち、第１の着色部７５に対応する半除去領域４２において、第２の塗装膜３４が、第１の塗装膜３３を残して選択的に除去される。第２の塗装膜３４の選択的な除去には、半除去領域４２にレーザーを照射するレーザー加工が用いられる。第２の除去工程（Ｓ４４）の結果、図１１（ｄ）に示すように、半除去領域４２では、第１の塗装膜３３が露出して第１の着色部３５が形成される。除去領域４１でも半除去領域４２でもない領域では、第２の塗装膜３４が残り、第２の着色部３６となる。なお、第１の除去工程（Ｓ４３）と第２の除去工程（Ｓ４４）との順序は、逆でもよい。

【0042】

その後、クリア塗装工程（Ｓ５０）によって、マーク形成面８１にクリア塗料が塗装され、図１１（ｅ）に示すように、クリア塗装膜５０が形成される。このようにして、光沢部２１と第１の着色部３５と第２の着色部３６とを含み、クリア塗装膜５０でコーティングされたマーク形成面８１を有する表示体２が形成される。

【0043】

本実施形態によれば、マーク形成面８１に光沢部２１の他に色が異なる複数種類の領域を形成することができるので、デザインの自由度が向上する。同様に３色以上によってマーク形成面８１が形成されてもよい。

【0044】

また、本実施形態においても、第１の実施形態の場合と同様に、除去工程は、レーザー照射工程と薄膜除去工程とを含んでいてもよい。すなわち、レーザー照射工程でごく薄い膜が残るようにレーザーが照射され、その後、薄膜除去工程でこの薄膜が溶剤を用いて除去されてもよい。

【0045】

以上、本発明について、好ましい実施形態を示して説明したが、本発明は、前述した実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能であることはいうまでもない。

【符号の説明】

【0046】

１，２…表示体
１０…基材
２０…めっき膜
２１…光沢部
３０…塗装膜、３３…第１の塗装膜、３４…第２の塗装膜
３１…着色部、３５…第１の着色部、３６…第２の着色部
３９…塗薄膜
４１…除去領域、４２…半除去領域
５０…クリア塗装膜
７１…基材
７２…光沢部
７３…着色部、７５…第１の着色部、７６…第２の着色部
７９…突起
８１…マーク形成面
８２…細線部
１００…成形品
１１０…第１の支持部
１２０…第２の支持部
１３０…ボス
１９０…保持点
２００…治具
２０１…固定ユニット
２１０…台座
２２０…穴
２３０…リブ
２４０…窪み
２５０…挟持部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】