(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-04-02
(45)【発行日】2024-04-10
(54)【発明の名称】製氷機
(51)【国際特許分類】
F25C 1/25 20180101AFI20240403BHJP
F25C 1/147 20180101ALI20240403BHJP
F25D 11/00 20060101ALI20240403BHJP
【ＦＩ】
F25C1/25 D
F25C1/147 Z
F25D11/00 102J
【請求項の数】
16
(21)【出願番号】P 2020137337
(22)【出願日】2020-08-17
(65)【公開番号】P2022033450
(43)【公開日】2022-03-02
【審査請求日】2023-06-30
(73)【特許権者】
【識別番号】000194893
【氏名又は名称】ホシザキ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001036
【氏名又は名称】弁理士法人暁合同特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】荒井 伸幸
(72)【発明者】
【氏名】嘉戸 修治
(72)【発明者】
【氏名】水谷 保起
(72)【発明者】
【氏名】大谷 輝彦
(72)【発明者】
【氏名】田代 秀行
(72)【発明者】
【氏名】傅 強飛
(72)【発明者】
【氏名】山岡 清史
(72)【発明者】
【氏名】越 洋
(72)【発明者】
【氏名】太田 秀治
【審査官】西山 真二
(56)【参考文献】
【文献】特開２０２０－０２０５６１（ＪＰ，Ａ）
【文献】韓国登録特許第１０－２１２００３９（ＫＲ，Ｂ１）
【文献】特開２０１９－００５３３５（ＪＰ，Ａ）
【文献】中国実用新案第２０５９３３３０７（ＣＮ，Ｕ）
【文献】米国特許出願公開第２０２０／０２０６３７３（ＵＳ，Ａ１）
【文献】特開２００７－２４５０９７（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１０－１９４４１４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平１０－１７４７０８（ＪＰ，Ａ）
【文献】実開昭６１－０５７９３５（ＪＰ，Ｕ）
【文献】実用新案登録第２５６２６８９（ＪＰ，Ｙ２）
【文献】特開２００８－２０３３９５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０２０－０２０５６２（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許第０５４８４５３８（ＵＳ，Ａ）
【文献】特開２００７－００３０６２（ＪＰ，Ａ）
【文献】中国特許出願公開第１０２７３５６５２（ＣＮ，Ａ）
【文献】韓国公開特許第１０－２００９－００７５０６８（ＫＲ，Ａ）
【文献】特開２０１９－２１９０９５（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｆ２５Ｃ １／００ － ５／２０
Ｆ２５Ｄ １１／００
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
製氷水を凍結させて氷を製造する製氷部と、前記製氷部において製造された氷を貯留するための貯氷部と、
少なくとも前記製氷部に製氷水を給排水するための給排水機構と、
を備えて構成された製氷機であって、
前記製氷部、前記貯氷部、および前記給排水機構の少なくとも１つには、紫外線を照射して殺菌するための紫外線照射装置が備えられているとともに、
前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増減することが可能な制御装置を備え、
第１の前記紫外線照射装置は、前記給排水機構に備えられるとともに、
前記給排水機構は、
前記製氷部に供給する水を貯めるための貯水タンクと、
外部水源と前記貯水タンクとを繋ぐ給水路に介装され、開閉することで前記外部水源から前記貯水タンクへの給水と断水とを切り替える給水バルブと、
を備えており、
前記制御装置は、
前記給水バルブが開弁しているときは、前記第１の紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増大させ、
前記給水バルブが閉弁しているときは、前記第１の紫外線照射装置からの紫外線の照射量を低減させる構成を備えている、製氷機。
【請求項2】
製氷水を凍結させて氷を製造する製氷部と、
前記製氷部において製造された氷を貯留するための貯氷部と、
少なくとも前記製氷部に製氷水を給排水するための給排水機構と、
を備えて構成された製氷機であって、
前記製氷部、前記貯氷部、および前記給排水機構の少なくとも１つには、紫外線を照射して殺菌するための紫外線照射装置が備えられているとともに、
第１の前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増減することが可能な制御装置を備え、
第１の前記紫外線照射装置は、前記給排水機構に備えられるとともに、
前記給排水機構は、
前記製氷部に供給する水を貯めるための貯水タンクと、
外部水源と前記貯水タンクとを繋ぐ給水路に介装され、開閉することで前記外部水源から前記貯水タンクへの給水と断水とを切り替える給水バルブと、
を備えており、
前記制御装置は、
前記第１の紫外線照射装置からの紫外線の照射量を低減した状態で駆動させるとともに、
前記給水バルブが開弁状態から閉弁したときは、前記給水バルブが閉弁状態にある間、前記第１の紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増大させる構成を備えている、製氷機。
【請求項3】
前記外部水源は、浄水器を通じた浄水を供給する構成を備えており、前記制御装置は、
前記浄水器の寿命に達していないときは、前記第１の紫外線照射装置からの紫外線の照射量を減少させ、
前記浄水器の寿命に達したときは、前記第１の紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増大させる構成を備えている、請求項１または請求項２に記載の製氷機。
【請求項4】
前記制御装置は、当該製氷機の設置環境に応じて、前記第１の紫外線照射装置からの紫外線の照射量を減少させたり増大させたりする構成を備えている、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の製氷機。
【請求項5】
前記制御装置は、前記第１の紫外線照射装置に供給する電流をＰＷＭ制御することにより、前記第１の紫外線照射装置からの紫外線の照射量を減少させたり増大させたりする構成を備えている、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の製氷機。
【請求項6】
前記制御装置は、前記第１の紫外線照射装置からの紫外線の照射時間を計測するタイマを備えているとともに、
前記照射時間に応じて前記第１の紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増大させる構成を備えている、請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の製氷機。
【請求項7】
前記制御装置は、前記第１の紫外線照射装置からの紫外線の照射時間を計測するタイマを備えているとともに、
前記第１の紫外線照射装置が寿命に至る前の所定のタイミングで、前記第１の紫外線照射装置の寿命が近づいたことを報知する構成を備えている、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の製氷機。
【請求項8】
前記制御装置は、前記第１の紫外線照射装置の寿命が近づいたことを報知したのち、所定の期間において前記第１の紫外線照射装置の寿命が回復されなかったときに、当該製氷機の運転を停止する構成を備えている、請求項７に記載の製氷機。
【請求項9】
前記給排水機構は、前記製氷部に供給するための水を貯めるための貯水タンクと、
前記貯水タンクと前記製氷部とを接続し、前記貯水タンクの水を前記製氷部に供給するための製氷給水路と、
前記製氷給水路とは別に設けられ、前記貯水タンクと前記製氷部とを接続し、前記製氷部の水を前記貯水タンクに環流させるための環流路と、
前記環流路に設けられ、前記環流路の水を前記貯水タンクに送る送液ポンプと、
を備え、
前記給排水機構においては、前記貯水タンク、前記製氷給水路、および前記環流路によって循環経路が形成されているとともに、第２の前記紫外線照射装置は、前記循環経路に備えられており、
前記制御装置は、
前記送液ポンプが駆動しているときに、前記第２の紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増大させ、
前記送液ポンプが駆動していないときに、前記第２の紫外線照射装置からの紫外線の照射量を低減させる構成を備えている、請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の製氷機。
【請求項10】
製氷水を凍結させて氷を製造する製氷部と、
前記製氷部において製造された氷を貯留するための貯氷部と、
少なくとも前記製氷部に製氷水を給排水するための給排水機構と、
を備えて構成された製氷機であって、
前記製氷部、前記貯氷部、および前記給排水機構の少なくとも１つには、紫外線を照射して殺菌するための紫外線照射装置が備えられているとともに、
第１の前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増減することが可能な制御装置を備え、
前記給排水機構は、前記製氷部に供給するための水を貯めるための貯水タンクを備え、
前記貯水タンクの上面には、
前記貯水タンクに貯留された水の水位を計測することができる水量センサと、
前記貯水タンクに貯留された水に紫外線を照射する前記第１の紫外線照射装置と、
が備えられており、
前記制御装置は、
前記水量センサによって検知される前記貯水タンクに貯留されている水の水位が相対的に高くなったときに、前記第１の紫外線照射装置からの紫外線の照射量を低減させ、
前記水量センサによって検知される前記貯水タンクに貯留されている水の水位が相対的に低くなったときに、前記第１の紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増大させる構成を備えている、製氷機。
【請求項11】
製氷水を凍結させて氷を製造する製氷部と、
前記製氷部において製造された氷を貯留するための貯氷部と、
少なくとも前記製氷部に製氷水を給排水するための給排水機構と、
を備えて構成された製氷機であって、
前記製氷部、前記貯氷部、および前記給排水機構の少なくとも１つには、紫外線を照射して殺菌するための紫外線照射装置が備えられているとともに、
第１の前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増減することが可能な制御装置を備え、
前記貯氷部は、前記製氷部に対して上方に配されているとともに、
前記製氷部から送られる氷を撹拌するための撹拌部材と、
前記撹拌部材を駆動させるための駆動部と、
を備えており、
前記紫外線照射装置は、前記貯氷部に備えられており、
前記制御装置は、
前記駆動部が前記撹拌部材を駆動させているときは、前記第１の紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増大させ、
前記駆動部が前記撹拌部材を駆動させていないときは、前記第１の紫外線照射装置からの紫外線の照射量を低減させる構成を備えている、製氷機。
【請求項12】
前記製氷部は、氷を成形する製氷ユニットと、前記製氷ユニットを製氷温度に冷却する冷凍ユニットと、を備え、前記貯氷部と前記製氷ユニットとは、前記製氷ユニットにおいて成形された氷が送られる氷通路によって連通されているとともに、第２の前記紫外線照射装置は、前記氷通路に備えられており、
前記制御装置は、
前記冷凍ユニットが駆動しているときに、前記第２の紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増大させ、
前記冷凍ユニットが駆動していないときに、前記第２の紫外線照射装置からの紫外線の照射量を低減させる構成を備えている、請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の製氷機。
【請求項13】
少なくとも一つの前記紫外線照射装置は、可視光照射器が電気的に直列に接続されることによって故障検知回路を構成しているとともに、前記可視光照射器は、当該製氷機を分解することなく視認可能な位置に配されている、請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の製氷機。
【請求項14】
少なくとも一つの前記紫外線照射装置に対し、ａ接点リレーの一部を構成するコイルと、抵抗値が相対的に低い第１抵抗器と、が電気的に直列に接続されることによって第１回路が構成されているとともに、前記ａ接点リレーの他の一部を構成し前記コイルに電気が流れた時に導通する接点部と、抵抗値が相対的に高い第２抵抗器と、可視光照射器と、が電気的に直列に接続されることによって第２回路が構成されており、
前記第１回路に対して前記第２回路が並列に配されていることで、故障検知回路を構成している、請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載の製氷機。
【請求項15】
少なくとも一つの前記紫外線照射装置に対し、ｂ接点リレーの一部を構成するコイルが電気的に直列に接続されることによって第１回路が構成されているとともに、前記ｂ接点リレーの他の一部を構成し前記コイルに電気が流れた時に開放される接点部と、警報器と、が電気的に直列に接続されることによって第２回路が構成されており、
前記第１回路に対して前記第２回路が並列に配されていることで、故障検知回路を構成している、請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載の製氷機。
【請求項16】
少なくとも一つの前記紫外線照射装置の温度を計測する温度センサを備え、前記制御装置は、前記温度センサによって計測される前記紫外線照射装置に電流を供給し始めたときの初期温度と、前記温度センサによって計測される前記紫外線照射装置に電流を供給してから所定時間経過後の温度と、の差が所定の温度差に満たない場合、前記温度センサによって計測される前記紫外線照射装置が正常でない旨を報知する構成を備えている、請求項１から請求項１５のいずれか１項に記載の製氷機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
ここに開示される技術は、製氷機に関する。
【背景技術】
【0002】
従来より、製氷機構により製氷した氷を貯氷室に貯留するようにした製氷機が知られている。例えば、特許文献１および２には、紫外線照射装置を備えた製氷機が開示されており、製氷水タンクや貯氷室等に紫外線を照射することで、製氷機とこれにより製造される氷とを清潔に維持できることが記載されている。また、特許文献２には、特定の運転モードで製氷機を運転するときに、紫外線照射装置から紫外線を照射する制御を行うことについて記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開２０１９－２１９０９５号公報
【文献】特開２０２０－０２０５６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
ところで、紫外線照射装置として、近年では水銀ランプやメタルハライドランプ等の放電ランプの他に、紫外線発光ダイオード（ＵＶ－ＬＥＤ）を紫外線光源として備えるものが用いられている。殺菌用途で汎用されている紫外線光源の寿命は、放電ランプに比して寿命が長いと言われているＵＶ－ＬＥＤであっても、照射時間にして１～２万時間程度であり、製氷機の耐用年数が５～１０年程度であることと比べると大幅に短い。ここで、特許文献２に記載のように、特定の運転モードのみで紫外線照射装置から紫外線を照射すると、紫外線照射装置の使用時間が低減できて紫外線照射装置の寿命を長く維持できるものの、紫外線を照射していないときには殺菌効果が得られないという背反がある。
【0005】
ここに開示される技術は、上記のような事情に基づいて完成されたものであって、紫外線照射装置を効果的に利用して寿命を長大化させながら、製氷機と氷とをより清潔に維持することができる製氷機を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記課題を解決するため、ここに開示される製氷機は、製氷水を凍結させて氷を製造する製氷部と、前記製氷部において製造された氷を貯留するための貯氷部と、少なくとも前記製氷部に製氷水を給排水するための給排水機構と、を備えて構成される。前記製氷部、前記貯氷部、および前記給排水機構の少なくとも１つには、紫外線を照射して殺菌するための紫外線照射装置が備えられているとともに、前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増減することが可能な制御装置を備えている。このような構成によると、紫外線照射装置によって製氷水あるいは製氷された氷をＵＶ殺菌することができるとともに、少なくとも製氷が行われている間は紫外線が照射されているためＵＶ殺菌状態を維持することができる。加えて、紫外線照射装置からの紫外線の照射量が必要に応じて増減されるため、紫外線照射装置の寿命を長大化させることができ、経済的であるとともにメンテナンスの手間を削減することができる。
【0007】
ここに開示される技術の好適な態様において、前記紫外線照射装置は、前記給排水機構に備えられるとともに、前記給排水機構は、前記製氷部に供給する水を貯めるための貯水タンクと、外部水源と前記貯水タンクとを繋ぐ給水路に介装され、開閉することで前記外部水源から前記貯水タンクへの給水と断水とを切り替える給水バルブと、を備えている。そして前記制御装置は、前記給水バルブが開弁しているときは、前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増大させ、前記給水バルブが閉弁しているときは、前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を低減させる構成を備えている。このような構成によると、貯水タンクに供給される水がＵＶ殺菌を要する場合に、紫外線照射装置からの紫外線の照射量を好適に制御することができる。
【0008】
ここに開示される技術の好適な態様において、前記紫外線照射装置は、前記給排水機構に備えられるとともに、前記給排水機構は、前記製氷部に供給する水を貯めるための貯水タンクと、外部水源と前記貯水タンクとを繋ぐ給水路に介装され、開閉することで前記外部水源から前記貯水タンクへの給水と断水とを切り替える給水バルブと、を備えている。そして、前記制御装置は、前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を低減した状態で駆動させるとともに、前記給水バルブが開弁状態から閉弁したときは、前記給水バルブが閉弁状態にある間、前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増大させる構成を備えている。このような構成によると、貯水タンクに供給される水が十分に殺菌されている場合であって、水が貯水タンク内に滞留しているときにＵＶ殺菌を要する場合に、紫外線照射装置からの紫外線の照射量を好適に制御することができる。
【0009】
ここに開示される技術の好適な態様において、前記外部水源は、浄水器を通じた浄水を供給する構成を備えている。そして前記制御装置は、前記浄水器の寿命に達していないときは、前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を減少させ、前記浄水器の寿命に達したときは、前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増大させる構成を備えている。このような構成によると、貯水タンクに供給される水が浄水である場合に、浄水器の寿命を考慮しつつ紫外線照射装置からの紫外線の照射量を好適に制御することができる。
【0010】
ここに開示される技術の好適な態様において、前記制御装置は、当該製氷機の設置環境に応じて、前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を減少させたり増大させたりする構成を備えている。このような構成によると、製氷機が設置される環境を考慮しつつ、紫外線照射装置からの紫外線の照射量を好適に制御することができる。
【0011】
ここに開示される技術の好適な態様において、前記制御装置は、前記紫外線照射装置に供給する電流をＰＷＭ制御することにより、前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を減少させたり増大させたりする構成を備えている。このような構成によると、紫外線照射装置に供給する電流量を、電圧を変化させることなく、高速スイッチングによって適切に制御することができる。また、紫外線照射装置の光源がＬＥＤ（発光ダイオード）である場合は、ＬＥＤの発光波長を変化させることなく紫外線の照射量を制御できるために好ましい。
【0012】
ここに開示される技術の好適な態様において、前記制御装置は、前記紫外線照射装置からの紫外線の照射時間を計測するタイマを備えているとともに、前記照射時間に応じて前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増大させる構成を備えている。紫外線照射装置は、一般に、寿命に近づくと同じ電流量であっても紫外線の照射量が低減されるという特徴がある。上記の構成によると、紫外線照射装置の寿命に近づいたときに、寿命による発光量の低減を補うように紫外線照射装置に供給する電流量を増大することができる。これにより、紫外線照射装置の寿命に近づいたときでも、必要な量の紫外線を適切に照射することができる。
【0013】
ここに開示される技術の好適な態様において、前記制御装置は、前記紫外線照射装置からの紫外線の照射時間を計測するタイマを備えているとともに、前記紫外線照射装置が寿命に至る前の所定のタイミングで、前記紫外線照射装置の寿命が近づいたことを報知する構成を備えている。上記の構成によると、紫外線照射装置が寿命に達する前に、ユーザに交換等の適切な対応を促すことができる。これにより、紫外線照射装置を寿命によって故障させることなく、良好な衛生状態を維持して、製氷機を運転することができる。
【0014】
ここに開示される技術の好適な態様において、前記制御装置は、前記紫外線照射装置の寿命が近づいたことを報知したのち、所定の期間において前記紫外線照射装置の寿命が回復されなかったときに、当該製氷機の運転を停止する構成を備えている。上記の構成によると、紫外線照射装置の寿命に合わせて、ユーザにより確実に紫外線照射装置の交換を促すことができる。また、良好な衛生状態が確保できない状態でユーザが製氷機を運転することを防止することができる。
【0015】
ここに開示される技術の好適な態様において、前記給排水機構は、前記製氷部に供給するための水を貯めるための貯水タンクと、前記貯水タンクと前記製氷部とを接続し、前記貯水タンクの水を前記製氷部に供給するための製氷給水路と、前記製氷給水路とは別に設けられ、前記貯水タンクと前記製氷部とを接続し、前記製氷部の水を前記貯水タンクに環流させるための環流路と、前記環流路に設けられ、前記環流路の水を前記貯水タンクに送る送液ポンプと、を備え、前記給排水機構においては、前記貯水タンク、前記製氷給水路、および前記環流路によって循環経路が形成されているとともに、前記紫外線照射装置は、前記循環経路に備えられている。そして前記制御装置は、前記送液ポンプが駆動しているときに、前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増大させ、前記送液ポンプが駆動していないときに、前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を低減させる構成を備えている。上記の構成によると、循環経路に設けられた紫外線照射装置の照射領域に、水が滞留しているときは照射する紫外線の量を相対的に少なくして紫外線照射装置の寿命の長大化を図り、照射領域を多量の水が通過するときは十分な量の紫外線を照射して、循環水に対して効率よくＵＶ殺菌することができる。
【0016】
ここに開示される技術の好適な態様において、前記給排水機構は、前記製氷部に供給するための水を貯めるための貯水タンクを備え、前記貯水タンクの上面には、前記貯水タンクに貯留された水の水位を計測することができる水量センサと、前記貯水タンクに貯留された水に紫外線を照射する前記紫外線照射装置と、が備えられている。そして前記制御装置は、前記水量センサによって検知される前記貯水タンクに貯留されている水の水位が相対的に高くなったときに、前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を低減させ、前記水量センサによって検知される前記貯水タンクに貯留されている水の水位が相対的に低くなったときに、前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増大させる構成を備えている。紫外線の単位面積当たりの照射強度は、例えば光源からの距離の２乗に反比例するため、紫外線照射装置とＵＶ殺菌の対象との距離が広がるほどＵＶ殺菌の効果は著しく低減してしまう。上記の構成によると、貯水タンクに設けられた紫外線照射装置と、貯水タンク内に貯留された水（水面）との距離に応じて紫外線の照射量を変化させることができる。これにより、紫外線照射装置と水面との距離に影響されることなく、貯水タンク内の水を好適にＵＶ殺菌することができる。
【0017】
ここに開示される技術の好適な態様において、前記貯氷部は、前記製氷部に対して上方に配されているとともに、前記製氷部から送られる氷を撹拌するための撹拌部材と、前記撹拌部材を駆動させるための駆動部と、を備えており、前記紫外線照射装置は、前記貯氷部に備えられている。そして前記制御装置は、前記駆動部が前記撹拌部材を駆動させているときは、前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増大させ、前記駆動部が前記撹拌部材を駆動させていないときは、前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を低減させる構成を備えている。上記の構成によると、貯氷部に貯留されている氷に対してＵＶ殺菌を行うことができる。また、撹拌部材を駆動させて氷を撹拌しているときに紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増大させることで、効果的に氷をＵＶ殺菌することができる。
【0018】
ここに開示される技術の好適な態様において、前記製氷部は、氷を成形する製氷ユニットと、前記製氷ユニットを製氷温度に冷却する冷凍ユニットと、を備え、前記貯氷部と前記製氷ユニットとは、前記製氷ユニットにおいて成形された氷が送られる氷通路によって連通されているとともに、前記紫外線照射装置は、前記氷通路に備えられている。そして前記制御装置は、前記冷凍ユニットが駆動しているときに、前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増大させ、前記冷凍ユニットが駆動していないときに、前記紫外線照射装置からの紫外線の照射量を低減させる構成を備えている。上記の構成によると、製氷後に貯氷部に送られる途中の氷に対してＵＶ殺菌を行うことができる。また、製氷運転中であって、氷通路を氷が通過しているときに紫外線照射装置からの紫外線の照射量を増大させることで、効果的に氷をＵＶ殺菌することができる。
【0019】
ここに開示される技術の好適な態様において、前記紫外線照射装置は、可視光照射器が電気的に直列に接続されることによって故障検知回路を構成しているとともに、前記可視光照射器は、当該製氷機を分解することなく視認可能な位置に配されている。上記の構成によると、紫外線照射装置から紫外線が発光されているときには、可視光照射器から可視光が同時に発光される。そして、紫外線照射装置が断線しているときには可視光照射器から可視光が発光されないとともに、紫外線照射装置が短絡しているときには可視光照射器から発光される可視光の発光強度が大幅に強められる。これにより、簡単な構成で、ヒトには視認できない紫外線の発光状態を、可視光線を通じて確認することができる。
【0020】
ここに開示される技術の好適な態様において、前記紫外線照射装置に対し、ａ接点リレーの一部を構成するコイルと、抵抗値が相対的に低い第１抵抗器と、が電気的に直列に接続されることによって第１回路が構成されているとともに、前記ａ接点リレーの他の一部を構成し前記コイルに電気が流れた時に導通する接点部と、抵抗値が相対的に高い第２抵抗器と、可視光照射器と、が電気的に直列に接続されることによって第２回路が構成されており、前記第１回路に対して前記第２回路が並列に配されていることで、故障検知回路を構成している。上記の構成によると、紫外線照射装置に正常に電流が送られて紫外線が発光されているときには、可視光照射器から可視光が同時に発光される。これにより、ヒトには視認できない紫外線の発光状態を、可視光線の発光状態を通じてより確実に確認することができる。
【0021】
ここに開示される技術の好適な態様において、前記紫外線照射装置に対し、ｂ接点リレーの一部を構成するコイルが電気的に直列に接続されることによって第１回路が構成されているとともに、前記ｂ接点リレーの他の一部を構成し前記コイルに電気が流れた時に開放される接点部と、警報器と、が電気的に直列に接続されることによって第２回路が構成されており、前記第１回路に対して前記第２回路が並列に配されていることで、故障検知回路を構成している。上記の構成によると、紫外線照射装置に正常に電流が送られて紫外線が発光されているときには、警報器には通電されずに警報器は動作しない。そして、紫外線照射装置に電流が送られていないときには、警報器に通電されて警報器が作動する。警報器がブザーである場合には、ブザー音によって紫外線照射装置の異常が報知される。これにより、製氷機を視認できない位置においても、紫外線照射装置の異常を把握することができる。
【0022】
ここに開示される技術の好適な態様において、前記紫外線照射装置の温度を計測する温度センサを備え、前記制御装置は、前記紫外線照射装置に電流を供給し始めたときの初期温度と、前記紫外線照射装置に電流を供給してから所定時間経過後の温度と、の差が所定の温度差に満たない場合、前記紫外線照射装置が正常でない旨を報知する構成を備えている。紫外線照射装置は、所定の時間、正常に電流が送られて紫外線が発光されているときには、ある程度の温度上昇が認められるという特徴がある。上記の構成によると、このような紫外線照射装置の特徴を利用し、簡単な構成によって紫外線照射装置が正常でない旨を判断して、報知することができる。
【発明の効果】
【0023】
ここに開示される技術によれば、紫外線照射装置を効果的に利用して寿命を長大化させながら、製氷機と氷とをより清潔に維持することができる製氷機を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【0024】
【図1】実施形態１に係る製氷機の外観斜視図
【図2】実施形態１に係る製氷機の構成の概略を示す断面図
【図3】一実施形態に係る製氷機のブロック図
【図4】一実施形態に係る製氷機における回路部の構成を示す図
【図5】製氷機の設置環境における目標電流値の設定例を示す図
【図6】紫外線照射装置の制御の一例を示すフローチャート
【図7】紫外線照射装置の制御の一例を示すフローチャート
【図8】実施形態２に係る製氷機の構成の概略を示す断面図
【図9】紫外線照射装置の制御の一例を示すフローチャート
【図10】実施形態３に係る製氷機の構成の概略を示す断面図
【図11】紫外線照射装置の制御の一例を示すフローチャート
【図12】紫外線照射装置の制御の一例を示すフローチャート
【図13】紫外線照射装置の制御の一例を示すフローチャート
【図14】紫外線照射装置の制御の一例を示すフローチャート
【図15】実施形態７に係る製氷機の構成の概略を示す断面図
【図16】紫外線照射装置の制御の一例を示すフローチャート
【図17】紫外線照射装置の故障検知回路の一例を示す図
【図18】紫外線照射装置の故障検知回路の一例を示す図
【図19】紫外線照射装置の故障検知回路の一例を示す図
【図20】紫外線照射装置の故障検知回路の一例を示す図
【図21】紫外線照射装置の故障検知の一例を示すフローチャート
【発明を実施するための形態】
【0025】
≪実施形態１≫
ここに開示される技術について、図１から図７を適宜参照しつつ説明する。なお、各図に示した符号Ｆ，Ｒｒ，Ｌ，Ｒ，Ｕ，Ｄはそれぞれ、製氷機の前後方向における前方，後方，幅方向における左方，右方，鉛直方向の上方，下方を示している。ただし、上記方向は便宜的に定めたものに過ぎず、限定的に解釈すべきものではない。
ここに開示される技術について、図１から図７を適宜参照しつつ説明する。なお、各図に示した符号Ｆ，Ｒｒ，Ｌ，Ｒ，Ｕ，Ｄはそれぞれ、製氷機の前後方向における前方，後方，幅方向における左方，右方，鉛直方向の上方，下方を示している。ただし、上記方向は便宜的に定めたものに過ぎず、限定的に解釈すべきものではない。
【0026】
＜製氷機＞
本実施形態に係る製氷機１は、図１に示すように、全体として縦長の箱状をなす筐体３内に、図２に示すように、概して、製氷部５と、貯氷部３０と、これらに接続される給排水機構４０と、制御装置１００（図３参照）と、が納められている。製氷部５は、冷凍ユニット１０と、製氷ユニット２０と、を含んで構成されており、製氷ユニット２０のシリンダ２１を冷凍ユニット１０によって外側から冷却することで、シリンダ２１の内表面に製氷の場が用意される。そして、給排水機構４０によって、このシリンダ２１内に製氷水を供給することにより製氷が行われ、製造された氷は貯氷部３０へと送られる。また、筐体３の前面には、ユーザが製氷機１の各種動作の指示および設定等を行うための操作パネル１５０が設けられているとともに、筐体３の上面には冷凍ユニット１０における送風を促す通気口４が設けられている。以下、各構成要素について説明する。
本実施形態に係る製氷機１は、図１に示すように、全体として縦長の箱状をなす筐体３内に、図２に示すように、概して、製氷部５と、貯氷部３０と、これらに接続される給排水機構４０と、制御装置１００（図３参照）と、が納められている。製氷部５は、冷凍ユニット１０と、製氷ユニット２０と、を含んで構成されており、製氷ユニット２０のシリンダ２１を冷凍ユニット１０によって外側から冷却することで、シリンダ２１の内表面に製氷の場が用意される。そして、給排水機構４０によって、このシリンダ２１内に製氷水を供給することにより製氷が行われ、製造された氷は貯氷部３０へと送られる。また、筐体３の前面には、ユーザが製氷機１の各種動作の指示および設定等を行うための操作パネル１５０が設けられているとともに、筐体３の上面には冷凍ユニット１０における送風を促す通気口４が設けられている。以下、各構成要素について説明する。
【0027】
まず、冷凍ユニット１０は、後述する製氷ユニット２０のシリンダ２１を所定の製氷温度にまで冷却するための要素であり、図２に示すように、圧縮機１１と、凝縮器１２と、膨張弁１３と、蒸発管１４と、冷媒を収容してこれらの間を循環させる冷媒管１５と、を備えている。圧縮機１１は、冷媒ガスを圧縮して冷媒管１５に送る。凝縮器１２は、冷媒管１５内に送られた圧縮冷媒ガスを、併設されたファン１６からの送風によりほぼ等圧で冷却して液化させる。膨張弁１３は、液化された圧縮冷媒を減圧して膨張させる。蒸発管１４は、膨張弁１３よりも下流側の冷媒管１５であって、シリンダ２１の外表面に隙間なく倦回されている。蒸発管１４においては、膨張した液化冷媒が気化することに伴い、シリンダ２１の表面から吸熱してシリンダ２１を冷却する。蒸発管１４にて気化された冷媒ガスは、冷媒管１５を通じて再び圧縮機１１に送られる。
【0028】
このような冷凍サイクルによって、冷凍ユニット１０は、シリンダ２１の製氷部分（冷媒管１５が巻かれた部分）を製氷温度にまで冷却するように構成されている。なお、冷凍ユニット１０は、断熱材１８と、図示しないドライヤと、図示しない温度センサと、を備えており、断熱材１８は、蒸発管１４を外側から覆い、シリンダ２１の冷却効果を高める。ドライヤは、凝縮器１２の下流側に設けられ、冷凍ユニット１０に混入した水分を除去する。温度センサは、蒸発管１４の巻き終わりの部分と、凝縮器１２の下流側であってドライヤの上流側となる部分と、に設けられており、それぞれの位置における冷媒の温度を検知する。冷凍ユニット１０における、圧縮機１１、凝縮器１２、膨張弁１３、ファン１６、ドライヤ、および温度センサ等の各部は、制御装置１００に電気的に接続されている。
【0029】
製氷ユニット２０は、氷を形成する要素であり、図２に示すように、シリンダ２１と、オーガ２２と、成形部２３と、シール部２６と、駆動部２７と、を備えている。シリンダ２１は、例えばステンレス鋼等の金属によって円筒形状に形成されており、その円筒軸が上下方向に沿うように設置されている。そしてシリンダ２１の上下方向の両端部を除く外周面には、上述の冷凍ユニット１０の蒸発管１４が隙間なく密に倦回されており、上述の製氷部分を構築している。シリンダ２１の下方の端部には、その筒壁に、給水口と排水口とが設けられており、後述する給排水機構４０と接続されることでシリンダ２１内に製氷水を供給したり、シリンダ２１から製氷水を排水したりできるようになっている。
【0030】
オーガ２２は、円柱状をなす回転軸部２２Ａの周面に螺旋状の削氷刃２２Ｂを備える切削具であり、回転軸部２２Ａの回転軸とシリンダ２１の中心軸とが同心となるようにシリンダ２１内に収容されている。削氷刃２２Ｂは、上下方向で、シリンダ２１の製氷部分に対応する範囲において、回転軸部２２Ａの周面からシリンダ２１の内表面に向かって突出するように設けられ、その突出寸法は、シリンダ２１に僅かに到達しない程度とされている。オーガ２２の下端は駆動部２７に接続されている。駆動部２７は、具体的には、図示しないギヤードモータと、歯車系と、出力軸と、を備えており、オーガ２２の下端は出力軸に機械的に接続されている。シール部２６は、オーガ２２の下端に外嵌される回転環部材と、出力軸に外嵌され駆動部２７に固定される固定環部材と、各部を水密に止水する二次シールと、からなり、回転動力を損なうことなくシリンダ２１内部における水の供給領域と駆動部２７との間を止水するメカニカルシールとして機能する。そして、駆動部２７のギヤードモータが回転駆動すると、歯車系を通じて動力が出力軸に伝達され、オーガ２２が回転する。オーガ２２が回転することによって、削氷刃２２Ｂがシリンダ２１の内表面に形成された氷を順次削り取るとともに、削り取られたシャーベット状の氷を、螺旋状の削氷刃２２Ｂの腹に載せるかたちでシリンダ２１の上方に運ぶようになっている。
【0031】
成形部２３は、シリンダ２１の上端部に収容されて、オーガ２２の上端を回転自在に軸承する略筒状体であり、オーガ２２によって送られてくる氷をシリンダ２１との協働で成形する。成形部２３の外周面には、氷成形路となる複数の溝がシリンダ２１の軸方向に沿って形成されている。オーガ２２によって上方に運ばれたシャーベット状の氷は、シリンダ２１の内表面と成形部２３の外周面の溝とにより形成される氷成形路に押し込まれて脱水され、柱状に成形される。製氷ユニット２０における駆動部２７は制御装置１００に電気的に接続されている。
【0032】
本実施形態の貯氷部３０は、図２に示すように、製氷ユニット２０の上方に配置されており、略円筒形状であって、上方が開口された有底箱型のストッカ３１と、このストッカ３１の上方の開口を封鎖する蓋体３３と、を主体として構成されている。ストッカ３１および蓋体３３には内部に断熱材が充填され、ストッカ３１および蓋体３３によって囲まれる貯氷空間に貯留される氷の融解を抑制する断熱性を備えている。この貯氷部３０は、ストッカ３１の底部において製氷部５のシリンダ２１の上端と水密に接続されており、氷成形路を通じて成形された氷がオーガ２２によってストッカ３１内に送られる。ストッカ３１の底部には、排水孔３２と、スノコ部３７と、が備えられている。排水孔３２は底部の周縁部に設けられ、底部は排水孔３２に向けてその表面が下傾されている。スノコ部３７は、多数の貫通孔を有する円板状をなし、底部に溜まる水と接触しないように氷を底部から上方に離間した位置で支持する。スノコ部３７は、シリンダ２１の外周から上方に向けてやや立ち上がった後に、底部の勾配に沿って外周側に下降している。
【0033】
ストッカ３１内部にはアジテータ３６が備えられ、スノコ部３７の中心を貫通する形でオーガ２２の上端部に同軸に固定されている。アジテータ３６は、オーガ２２に接続される軸部と、軸部からストッカの壁面に向けて異なる方向に延びる複数の撹拌棒（撹拌部材の一例）と、を備える回転体であり、軸部の下端は所定の位置で拡径されてテーパー面を構成している。成形部２３で柱状に成形された氷は、オーガ２２によって繰り出されることでアジテータ３６のテーパー面に押し当てられ、所定の長さに切断されてスノコ部３７上に貯留されるようになっている。またアジテータ３６は、オーガ２２と連動して回転することで、ストッカ３１内に貯留されている氷を撹拌棒で撹拌し、氷同士が溶着して氷塊になるのを防ぐようになっている。
【0034】
ストッカ３１の前面側には、氷排出口３４Ｃと電動シャッタ３４Ｂとが設けられるとともに、操作パネル１５０には氷排出ボタン３４Ａが備えられている。氷排出ボタン３４Ａと電動シャッタ３４Ｂとは制御装置１００に電気的に接続されており、ユーザが氷排出ボタン３４Ａを押すことによって制御装置１００に氷排出指令が与えられ、制御装置１００は、所定の時間、駆動部２７を駆動させるとともに電動シャッタ３４Ｂを開放する。これにより、アジテータ３６が回転されて、ストッカ３１内の氷がスノコ部３７の上面を滑りながら氷排出口３４Ｃに移送され、氷排出口３４Ｃから外部に排出される構成となっている。
【0035】
また、蓋体３３には、円盤状をなす氷量センサ３５が備えられており、氷量センサ３５は制御装置１００に電気的に接続されている。氷量センサ３５は、蓋体３３の中央から垂下されストッカ３１の上方において上下方向に変位可能とされている。氷量センサ３５は、ストッカ３１内の貯氷量が増大することによって上方に押し上げられ、貯氷量が満氷状態となる所定のレベルに達したときに図示しないリードスイッチを入力して満氷状態を検知するように構成されている。
【0036】
給排水機構４０は、製氷部５に製氷水や洗浄水等の水を給排水する要素であり、図２に示すように、大まかには、水を貯留するための貯水タンク４１と、後述する管状の給水路および排水路と、弁体等とを備えて構成されている。貯水タンク４１は、上方が開口されている略直方体形状の容器であるケース４２と、このケース４２の開口を覆う蓋体４３とを備え、ケース４２の１つの隅角部には、ケース４２内において所定の水位を超える水を排水するオーバーフロー排水口が設けられている。
【0037】
より具体的には、貯水タンク４１の蓋体４３には給水バルブＶｓを介して第１給水路Ｓ１が接続されており、水道管等の外部水源から第１給水路Ｓ１を通じて貯水タンク４１に水を供給できるようになっている。また、貯水タンク４１は、シリンダ２１の上側方に配されるとともに、貯水タンク４１の底部に設けられた通水口とシリンダ２１の給水口とが、第２給水路Ｓ２によって接続されている。これにより、貯水タンク４１とシリンダ２１とは水頭差が無くなるように通水される構成となっている。
【0038】
一方で、シリンダ２１の排水口には第１排水路Ｄ１が接続されており、この第１排水路Ｄ１は排水バルブＶｄを介して本排水路Ｄ４に連通されている。第１排水路Ｄ１内の水は、排水バルブＶｄを開弁することによって本排水路Ｄ４に送られる。また、貯水タンク４１のオーバーフロー排水口４５には第２排水路Ｄ２が接続されており、第２排水路Ｄ２はその下流側において本排水路Ｄ４に連通している。また、貯氷部３０の排水孔３２には第３排水路Ｄ３が接続されており、第３排水路Ｄ３はその下流側において本排水路Ｄ４に連通している。本排水路Ｄ４には、第１排水路Ｄ１、第２排水路Ｄ２、および第３排水路Ｄ３との連通点よりも下流側において逆止弁Ｖｔを備えており、製氷機１からの排水はこの本排水路Ｄ４を通じて外部排水路に排水される。
【0039】
蓋体４３には、水量センサ４８と、紫外線照射装置５０と、が備えられている。本実施形態の水量センサ４８は超音波センサであり、貯水タンク４１の底部に向けて超音波を発信するとともに超音波を受信することができ、貯水タンク４１内に貯留された水の水面において反射される超音波の発信から受信までの時間差に基づいて、貯水タンク４１内に貯留されている水の量（嵩高さ）を非接触で検知するようになっている。水量センサ４８は、蓋体４３の内面から上方に向けてやや離れた位置に設置されており、貯水タンク４１の最も高い所定の貯水レベルに対応する水面から反射される超音波であっても精度良く検知できるように構成されている。
【0040】
紫外線照射装置５０は、紫外光を発生する要素であり、紫外光の光源として、水銀ランプやメタルハライドランプ等の放電ランプおよび紫外線発光ダイオード（ＵＶ－ＬＥＤ）の少なくとも一つを用いることができる。紫外線照射装置５０が発生する紫外光としては、例えば殺菌作用を有する波長約２００ｎｍ以上３００ｎｍ以下の紫外線（ＵＶ）であってよく、典型的には波長約２２０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下、さらには高い殺菌作用を示す波長約２５３ｎｍ以上２８５ｎｍ以下の深紫外線をより多く含むことが好ましい。本実施形態における紫外線照射装置５０は、光源として深紫外線ＵＶ－ＬＥＤを備えている。紫外線照射装置５０は、下方に向けて広角に紫外線を照射可能であり、貯水タンク４１内の広い範囲に紫外線を照射できるようになっている。これにより、貯水タンク４１の内部と、貯水タンク４１に貯留されている水とに、確実に紫外線を照射できるようになっている。製氷機１のうち、紫外線照射装置５０によって紫外線が照射される範囲に配される部材は、アクリル樹脂、ポリカーボネート、塩化ビニル樹脂等の耐候性を備える合成樹脂や、金属材料等によって構成されている。
【0041】
操作パネル１５０には、例えば、製氷機１の各部のステータス情報や、製氷機１の運転条件等を表示することができる表示部１５２（図３参照）と、製氷機１の各種動作の指示および設定を行うための入力部１５４（図３参照）などが備えられている。操作パネル１５０は、例えば、製氷機１から着脱可能に構成されていてもよい。表示部１５２は、例えば、液晶ディスプレイ、ＥＬ（Electro Luminescence）ディスプレイ等によって構成され、制御装置１００からの指示に応じてテキスト、画像等を表示する。表示部は、本技術における報知手段の一例である。入力部１５４は、例えば、操作ボタン、キーボード、タッチパネル等から構成され、ユーザが制御装置１００への指示を入力するために用いられるユーザインターフェイスである。ユーザは、入力部から、製氷機１の設置状態に関する情報や、運転条件、動作指示を入力することができる。氷排出ボタン３４Ａは、入力部１５４の一例である。
【0042】
以上の製氷機１においては、制御装置１００が製氷部５、貯氷部３０、および給排水機構４０の各部の動作を制御する。制御装置１００の構成は特に限定されず、例えば、図３に示すように、外部からの各種情報等を送受信するインターフェイス（Ｉ／Ｆ）と、制御プログラムの命令を実行する中央演算処理装置（central processing unit：ＣＰＵ）と、ＣＰＵが実行するプログラムを格納したＲＯＭ（read only memory）と、プログラムを展開するワーキングエリアとして使用されるＲＡＭ（random access memory）と、各種の情報を記憶する記憶部Ｍと、計時機能を有するタイマＴ等を有するマイクロコンピュータを主体として構成され、有線または無線を介して製氷機１の各部と通信可能に接続されている。制御装置１００は、主としてストッカ３１の後方に設置された図示しない制御箱内に収容されている。制御装置１００は、さらに、製氷運転制御部１１０、および紫外線照射制御部１２０を有しており、これらの製氷運転制御部１１０および紫外線照射制御部１２０はそれぞれ、一部または全部が、プロセッサや回路等のハードウェアによって構成されていてもよいし、ＣＰＵがプログラム等を実行することによって機能的に実現されるものであってもよい。
【0043】
製氷運転制御部１１０は、製氷機１の各部を制御して、以下の製氷運転を実施する。
まず、冷凍ユニット１０を駆動させてシリンダ２１の製氷部分を所定の製氷温度にまで冷却させる。次いで、氷量センサ３５によってストッカ３１内に氷が製氷制限量である満氷状態で貯留されているかどうかを確認し、ストッカ３１が満氷状態でない場合には、氷量センサ３５によってストッカ３１の満氷状態を検知するまで、製氷ユニット２０および給排水機構４０を駆動して製氷を実行する。具体的には、水量センサ４８により貯水タンク４１の貯水レベルと、氷量センサ３５によりストッカ３１の貯氷量とを検知しながら、排水バルブＶｄを閉鎖した状態で給水バルブＶｓを開弁して、貯水レベルが所定の製氷最高水位となるまで貯水タンク４１に貯水する。貯水が完了すると、給水バルブＶｓを閉弁して製氷ユニット２０（駆動部２７）を駆動させる。なおこの間、貯水レベルが所定の製氷最低水位にまで下降すると、給水バルブＶｓを開弁し、貯水レベルが製氷最高水位にまで上昇すると給水バルブＶｓを閉弁する、という水位制御を続ける。以上の製氷動作は、氷量センサ３５によってストッカ３１の満氷状態が検知されるまで続けられる。そして氷量センサ３５によってストッカ３１の満氷状態が検知されている間は、製氷は待機される。その後、氷が消費されることに伴い、氷量センサ３５によってストッカ３１の貯氷量が所定の運転再開位置にまで低減したときに、製氷運転が再開されるようになっている。本実施形態の製氷運転制御部１１０は、例えば製氷運転プログラムに従って、タイマＴが計測する時間に基づき開始されるか、あるいは、ユーザが入力部から運転開始の指示を入力することによって開始されるように構成されている。
まず、冷凍ユニット１０を駆動させてシリンダ２１の製氷部分を所定の製氷温度にまで冷却させる。次いで、氷量センサ３５によってストッカ３１内に氷が製氷制限量である満氷状態で貯留されているかどうかを確認し、ストッカ３１が満氷状態でない場合には、氷量センサ３５によってストッカ３１の満氷状態を検知するまで、製氷ユニット２０および給排水機構４０を駆動して製氷を実行する。具体的には、水量センサ４８により貯水タンク４１の貯水レベルと、氷量センサ３５によりストッカ３１の貯氷量とを検知しながら、排水バルブＶｄを閉鎖した状態で給水バルブＶｓを開弁して、貯水レベルが所定の製氷最高水位となるまで貯水タンク４１に貯水する。貯水が完了すると、給水バルブＶｓを閉弁して製氷ユニット２０（駆動部２７）を駆動させる。なおこの間、貯水レベルが所定の製氷最低水位にまで下降すると、給水バルブＶｓを開弁し、貯水レベルが製氷最高水位にまで上昇すると給水バルブＶｓを閉弁する、という水位制御を続ける。以上の製氷動作は、氷量センサ３５によってストッカ３１の満氷状態が検知されるまで続けられる。そして氷量センサ３５によってストッカ３１の満氷状態が検知されている間は、製氷は待機される。その後、氷が消費されることに伴い、氷量センサ３５によってストッカ３１の貯氷量が所定の運転再開位置にまで低減したときに、製氷運転が再開されるようになっている。本実施形態の製氷運転制御部１１０は、例えば製氷運転プログラムに従って、タイマＴが計測する時間に基づき開始されるか、あるいは、ユーザが入力部から運転開始の指示を入力することによって開始されるように構成されている。
【0044】
紫外線照射制御部１２０は、紫外線照射装置５０から出射されるＵＶ光の照射量を制御する。紫外線照射装置５０は、供給する電流量によって発射する紫外線の光量が変化されることから、紫外線照射制御部１２０は、紫外線照射装置５０に対して高速なパルス電流を供給することで紫外線照射装置５０を駆動するとともに、供給パルス電流のパルス幅を変えることにより、紫外線照射装置５０が発射する紫外線の光量を制御（調光）する。本実施形態の紫外線照射制御部１２０は、例えば図４に示すように、電流制御部１２１と、電子回路部１２２（図４において点線で囲まれた部分）と、を含み、電子回路部１２２は基板に実装されるなどして紫外線照射装置５０の近傍に配されている。紫外線照射装置５０は、電子回路部１２２を介して製氷機１の外部の駆動電源９に電気的に接続される。また、電子回路部１２２は、電流制御部１２１と電気的に接続され、電流制御部１２１から送られる信号に従って駆動するように構成されている。
【0045】
ここで、紫外線照射制御部１２０に係る電子回路について説明する。駆動電源９から延びる電源ラインは、図４に示すように、概して、第１電源ラインＬＢ１と、第２電源ラインＬＢ２とを含む。ここで、第２電源ラインＬＢ２を通じて、駆動電源９から、電子回路部１２２の主要部と、紫外線照射装置５０と、に対して電力が供給される。この第２電源ラインＬＢ２には、開閉器１２３（接点部）が設けられており、開閉器１２３によって第２電源ラインＬＢ２は開閉される。また、第１電源ラインＬＢ１を通じて、駆動電源９から制御装置１００の製氷運転制御部１１０や、紫外線照射制御部１２０の電流制御部１２１、開閉器１２３の開閉を操作する電磁コイルＣ、ならびに、製氷機１の他の各部に電力が供給される。第１電源ラインＬＢ１には、機械的操作により開閉するスイッチＳＷ（例えば、主電源スイッチ）が設けられている。スイッチＳＷがＯＮ状態にあることで、制御装置１００に電力が供給され、製氷機１の運転が可能な状態となる。
【0046】
電子回路部１２２のうちのスイッチング素子Ｑ３は、開閉器１２３と電磁コイルＣとにより構成される有接点リレーに対する通電のＯＮ／ＯＦＦを切り換える負荷スイッチである。本実施形態ではスイッチング素子Ｑ３として、ＮチャンネルのＦＥＴ（電界効果トランジスタ）を用いており、スイッチング素子Ｑ３は、電磁コイルＣのグランド側に配されている。また、スイッチング素子Ｑ３のドレンは電磁コイルＣに接続されているとともに、ソースがグランドに接続され、ゲートは電流制御部１２１に接続されている。そして、電流制御部１２１からの制御信号（オン信号）によってスイッチング素子Ｑ３がＯＮ状態（導通状態）になると、電磁コイルＣが通電状態となって開閉器１２３が閉じる。これにより、第２電源ラインＬＢ２を通じて、電子回路部１２２のスイッチング素子Ｑ３以外の部分、および紫外線照射装置５０に電力が供給され、紫外線照射装置５０からの紫外線の照射が可能な状態となる。また、電流制御部１２１からの制御信号（オフ信号）を出力してスイッチング素子Ｑ３をＯＦＦ状態（遮断状態）にすると、電磁コイルＣが非通電状態となって開閉器１２３が開く。これにより、紫外線照射装置５０への電源の供給が止められ、紫外線照射装置５０からの紫外線の照射が停止される。
【0047】
本実施形態の電子回路部１２２は、上述したスイッチング素子Ｑ３の他に、Ｈ型混合ブリッジ回路１２２Ａと、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂと、電流検出抵抗Ｒと、アンプＡＰと、を含んで構成されている。
Ｈ型混合ブリッジ回路１２２Ａは、２つのスイッチング素子Ｑ１，Ｑ２と、２つの回生ダイオードＤｒ１，Ｄｒ２とを含み、スイッチング素子Ｑ１，Ｑ２はＮチャンネルのＦＥＴ（電界効果トランジスタ）により構成されている。Ｈ型混合ブリッジ回路１２２Ａは、第２電源ラインＬＢ２に対して並列に接続されており、第１相の上アームにはスイッチング素子Ｑ１が接続され、第１相の下アームには回生ダイオードＤｒ１が接続され、第２相の上アームには回生ダイオードＤｒ２が接続され、第２相の下アームにはスイッチング素子Ｑ２が接続されている。より具体的には、スイッチング素子Ｑ１のドレンは、第２電源ラインＬＢ２に接続されている。回生ダイオードＤｒ１のカソードはスイッチング素子Ｑ１のソースに接続され、回生ダイオードＤｒ１のアノードはグランドに接続されている（第１相）。また、回生ダイオードＤｒ２のカソードは第２電源ラインＬＢ２に接続されている。スイッチング素子Ｑ２のドレンは回生ダイオードＤｒ２のアノードに接続され、スイッチング素子Ｑ２のソースはグランドに接続されている（第２相）。
Ｈ型混合ブリッジ回路１２２Ａは、２つのスイッチング素子Ｑ１，Ｑ２と、２つの回生ダイオードＤｒ１，Ｄｒ２とを含み、スイッチング素子Ｑ１，Ｑ２はＮチャンネルのＦＥＴ（電界効果トランジスタ）により構成されている。Ｈ型混合ブリッジ回路１２２Ａは、第２電源ラインＬＢ２に対して並列に接続されており、第１相の上アームにはスイッチング素子Ｑ１が接続され、第１相の下アームには回生ダイオードＤｒ１が接続され、第２相の上アームには回生ダイオードＤｒ２が接続され、第２相の下アームにはスイッチング素子Ｑ２が接続されている。より具体的には、スイッチング素子Ｑ１のドレンは、第２電源ラインＬＢ２に接続されている。回生ダイオードＤｒ１のカソードはスイッチング素子Ｑ１のソースに接続され、回生ダイオードＤｒ１のアノードはグランドに接続されている（第１相）。また、回生ダイオードＤｒ２のカソードは第２電源ラインＬＢ２に接続されている。スイッチング素子Ｑ２のドレンは回生ダイオードＤｒ２のアノードに接続され、スイッチング素子Ｑ２のソースはグランドに接続されている（第２相）。
【0048】
そして、第１相の上アームと下アームとの中間接続点ａと、第２相の上アームと下アームとの中間接続点ｂと、の間の負荷枝路に、電流検出抵抗Ｒと紫外線照射装置５０とが直列接続されている。アンプＡＰは差分回路を構成し、電流検出抵抗Ｒでの電圧降下を検出して、紫外線照射装置５０に流れる負荷電流の値を示す電流検出信号をＰＷＭ制御回路１２２Ｂに出力する。
【0049】
ＰＷＭ制御回路１２２Ｂは、スイッチング素子Ｑ１，Ｑ２のスイッチをＯＮ／ＯＦＦ駆動するドライバとしての機能を有し、入力端子は電流制御部１２１に接続されるとともに、２つの出力端子がそれぞれスイッチング素子Ｑ１，Ｑ２のゲートに接続されている。また、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂの電源端子は、第２電源ラインＬＢ２に接続されており、開閉器１２３のスイッチ部が閉じているときに、駆動電源９から電力が供給される。スイッチング素子Ｑ１，Ｑ２は、ＰＷＭ信号のハイ／ローに応じて、スイッチをＯＮ／ＯＦＦする。スイッチング素子Ｑ１，Ｑ２がＯＮ状態（導通状態）になったときには、駆動電源９→スイッチング素子Ｑ１→電流検出抵抗Ｒ→紫外線照射装置５０→スイッチング素子Ｑ２→アースという経路に沿って電流が流れる。スイッチング素子Ｑ１，Ｑ２がＯＦＦ状態（遮断状態）になったときには、アース→回生ダイオードＤｒ１→電流検出抵抗Ｒ→紫外線照射装置５０→回生ダイオードＤｒ２→駆動電源９という経路に沿って電流が流れる。
【0050】
ここで、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂは、電流制御部１２１から、製氷機１の状態に応じて紫外線照射装置５０に流すべき目標電流の値Ｉａに関する情報を受け取る。また、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂは、アンプＡＰから送られる電流検出信号が、目標電流の値Ｉａを実現する目標電流検出信号となるようなＰＷＭ信号を、スイッチング素子Ｑ１，Ｑ２に送る。換言すれば、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂは、紫外線照射装置５０に供給される電力を高速スイッチングし、紫外線照射装置５０に流れる電流が目標電流値Ｉａとなるようにパルス幅変調（Pulse Width Modulation：ＰＷＭ）させたＰＷＭ信号をスイッチング素子Ｑ１，Ｑ２に送る。具体的には、高速スイッチングは、例えば周期を約０．０１μＳ～１００μＳとすることが好適例として示される。そして、紫外線照射装置５０に流れる負荷電流の値が目標電流値Ｉａよりも小さくなり、電流検出信号が目標電流検出信号より小さくなったときには、ＰＷＭ信号のパルス幅を広く（ハイレベル期間を長く）してスイッチング素子Ｑ１，Ｑ２におけるＯＮ期間を長くする。逆に負荷電流の値が目標電流値Ｉａよりも大きくなり、電流検出信号が目標電流検出信号よりも大きくなったときには、ＰＷＭ信号のパルス幅を短く（ハイレベル期間を短く）してスイッチング素子Ｑ１，Ｑ２でのＯＮ期間を短くする。このようにして、紫外線照射装置５０に流す負荷電流を所望の電流値に制御することができる。
【0051】
電流制御部１２１は、上述のように、紫外線照射装置５０の駆動に係る開閉器１２３（スイッチング素子Ｑ３）と、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂとを制御する。具体的には、電流制御部１２１は、製氷機１の状態に応じて、紫外線照射装置５０に供給すべき目標電流値Ｉａに関する情報をＰＷＭ制御回路１２２Ｂに対して出力する。ここで、必要な紫外線量は、製氷機１の設置環境や運転状態等によって異なり得る。したがって、電流制御部１２１は、予めユーザが製氷機１に入力した製氷機１の設置環境と、製氷機１の運転状態とに応じて、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂに指示する目標電流値Ｉａを変化させる。
【0052】
例えば、製氷機１が製氷運転を実行しているとき、紫外線照射装置５０によって貯水タンク４１に貯水された水に紫外線を必要量だけ照射することができれば、製氷水をＵＶ殺菌できるとともに、ＵＶ殺菌された製氷水を用いて氷を製氷することができるために望ましい。その一方で、製氷機１が製氷運転を停止（待機を含む）しているときは、既にＵＶ殺菌されている製氷水の更なるＵＶ殺菌はさほど必要ではなく、貯水タンク４１に貯水された製氷水が殺菌状態を維持できれば十分であるといえる。したがって、電流制御部１２１は、製氷機１の製氷状態に応じて、紫外線照射装置５０から照射される紫外線量を、相対的に多くする制御（「ＨＩＧＨモード」制御という）と、相対的に少なくする制御（「ＬＯＷモード」制御という）と、の二通りで切り替えるように構成されている。換言すれば、製氷機１の製氷状態に応じて、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂに指示する目標電流値ＩａをＨＩＧＨモード（Ｈ）とＬＯＷモード（Ｌ）とで、それぞれ相対的に高い値と低い値とに異ならせるようにしている。
【0053】
また、製氷機１の設置環境によっては、貯水タンク４１に送られる水について、ＵＶ殺菌するために必要な紫外線の量が異なり得る。図５は、製氷機１の製氷水をＵＶ殺菌するために必要な紫外線を紫外線照射装置５０に発生させるための目標電流値Ｉａを、製氷機１が設置された環境Ａ～Ｃに分けて概略的に示した図である。
＜環境Ａ＞ 例えば、発展途上国など上水道の衛生環境が良くなかったり、使用する水に常に菌が混入するような地域では、水を殺菌するために相対的に多量の紫外線が必要となる。そのため、電流制御部１２１は、図５中に環境Ａとして示すように、より高い紫外線照射量が確保できる範囲において目標電流値Ｉａを設定し、製氷運転における給水時と給水停止時とでＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとを切り替えるようにしている。
＜環境Ｂ＞ また、先進国などの上水道の衛生環境が良好な地域では、水を殺菌するために必要な紫外線量は相対的に少なくてよい。そのため、電流制御部１２１は、環境Ｂとして示すように、環境Ａと比較して、相対的に低い紫外線照射量が確保できる範囲において目標電流値Ｉａを設定するとともに、製氷運転における給水時と給水停止時とでＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとを切り替えるようにしている。
＜環境Ａ＞ 例えば、発展途上国など上水道の衛生環境が良くなかったり、使用する水に常に菌が混入するような地域では、水を殺菌するために相対的に多量の紫外線が必要となる。そのため、電流制御部１２１は、図５中に環境Ａとして示すように、より高い紫外線照射量が確保できる範囲において目標電流値Ｉａを設定し、製氷運転における給水時と給水停止時とでＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとを切り替えるようにしている。
＜環境Ｂ＞ また、先進国などの上水道の衛生環境が良好な地域では、水を殺菌するために必要な紫外線量は相対的に少なくてよい。そのため、電流制御部１２１は、環境Ｂとして示すように、環境Ａと比較して、相対的に低い紫外線照射量が確保できる範囲において目標電流値Ｉａを設定するとともに、製氷運転における給水時と給水停止時とでＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとを切り替えるようにしている。
【0054】
＜環境Ｃ＞ その一方で、例えば日本国内の上水道等のように、衛生環境が高く上水道水が飲用に適する程度に清潔であって、かつ、殺菌用の塩素が適量含まれている環境においては、そもそも貯水タンク４１に送られる水に照射する紫外線量は相対的に少なくてよい。そのため、環境Ｃにおいては、製氷運転を実行しているときに貯水タンク４１に供給される水を殺菌するための紫外線量は相対的に少なくてよいといえる。逆に、製氷運転を停止（待機を含む）しているときは、貯水タンク４１に水が滞留するために雑菌が繁殖しやすく、相対的に多量の紫外線を照射した方がよい場合があり得る。そのため、電流制御部１２１は、環境Ｃとして示すように、環境Ａ，Ｂと比較して、相対的に低い紫外線照射量が確保できる範囲において目標電流値Ｉａを設定するとともに、製氷運転における給水停止時と給水時とでＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとを切り替えるようにしている。
【0055】
＜環境Ｄ＞ なお、浄水器を通した浄水を貯水タンク４１に送る場合は、浄水器のフィルターを所定のフィルター寿命（寿命通水量）を経過しても使用する場合が起こり得ると考えられる。この場合、浄水器のフィルター寿命等に到達するまでは、浄水を殺菌するために必要な紫外線量は少なくてよいものの、フィルター寿命に到達した後であってフィルターを交換するまでの間は、相対的に多量の紫外線によって貯水タンク４１内の水をＵＶ殺菌することが好ましい。したがって、電流制御部１２１は、環境Ａ～Ｃのいずれにおいても、浄水器を使用している場合であって、フィルター寿命に達していないときには、それぞれの目標電流値Ｉａを若干低減（例えば－３０～－１０％）させてＬＯＷモード制御を行い、フィルター寿命に達したときには、それぞれの目標電流値Ｉａを若干増大（例えば＋１０～＋３０％）させてＨＩＧＨモード制御を行う。
【0056】
上述のＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとにおける目標電流値Ｉａは、紫外線照射装置５０が使用する光源の種類、光源の数、製氷機１の使用水量等によって異なるために一概には言えないが、例えば、環境Ｂにおいて浄水器を使用していない場合は、ＨＩＧＨモードでの照射強度が０．１ｍＷ／ｃｍ２～１０００ｍＷ／ｃｍ２となるように、ＬＯＷモードでの照射強度が０．１μＷ／ｃｍ２～１０００μＷ／ｃｍ２となるように、目標電流値Ｉａを設定することが例示される。また、例えば、環境Ｂにおいて浄水器を使用している場合は、ＨＩＧＨモードでの照射強度が０．１３ｍＷ／ｃｍ２～１３００ｍＷ／ｃｍ２となるように、ＬＯＷモードでの照射強度が０．９７μＷ／ｃｍ２～９７０μＷ／ｃｍ２となるように、目標電流値Ｉａを設定することが例示される。
【0057】
なお、製氷機１の設置環境（例えば、環境Ａ～Ｃのいずれかと、浄水器の設置の有無）と、その環境におけるＨＩＧＨモードおよびＬＯＷモードの目標電流値Ｉａとの関係は、例えば対照テーブル等として予め記憶部Ｍに記憶させておくことができ、電流制御部１２１は、記憶部Ｍの対照テーブルを参照することで当該製氷機１の設置環境に応じた目標電流値Ｉａを設定することができる。このＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとにおける目標電流値Ｉａは、ユーザが製氷機１の設置環境情報を変更（入力）した後の最初の製氷運転時に設定すればよく、設置環境情報が変更されていない場合は前回使用した目標電流値Ｉａを継続して使用するようにしてもよい。
【0058】
＜制御例１－１＞
電流制御部１２１による紫外線照射装置５０の制御の一例について、図６を参照しつつ説明する。以下は、環境Ａ，Ｂにおける制御の例である。
製氷機１の主電源ＳＷが入力されて、制御装置１００による制御が開始すると、電流制御部１２１は、予めユーザが入力した製氷機１の設置環境に基づき、当該製氷機１の設置環境に応じたＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとにおける目標電流値Ｉａを、記憶部Ｍに記憶された対照テーブルを参照して設定する（Ｓ０１）。
その後、電流制御部１２１は、スイッチング素子Ｑ３をＯＮ状態にして開閉器１２３を閉じ、紫外線照射装置５０から紫外線を照射させる（Ｓ０２）。このときの目標電流値Ｉａは相対的に低いＬＯＷモードであり、紫外線照射装置５０から発生される紫外線の量は相対的に抑制されているものの、貯水タンク４１等を殺菌するに適した量の紫外線が発生される。
電流制御部１２１による紫外線照射装置５０の制御の一例について、図６を参照しつつ説明する。以下は、環境Ａ，Ｂにおける制御の例である。
製氷機１の主電源ＳＷが入力されて、制御装置１００による制御が開始すると、電流制御部１２１は、予めユーザが入力した製氷機１の設置環境に基づき、当該製氷機１の設置環境に応じたＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとにおける目標電流値Ｉａを、記憶部Ｍに記憶された対照テーブルを参照して設定する（Ｓ０１）。
その後、電流制御部１２１は、スイッチング素子Ｑ３をＯＮ状態にして開閉器１２３を閉じ、紫外線照射装置５０から紫外線を照射させる（Ｓ０２）。このときの目標電流値Ｉａは相対的に低いＬＯＷモードであり、紫外線照射装置５０から発生される紫外線の量は相対的に抑制されているものの、貯水タンク４１等を殺菌するに適した量の紫外線が発生される。
【0059】
ステップＳ０２の後、例えば製氷運転制御部１１０による製氷運転が開始され、冷凍ユニット１０が駆動された状態で、給水バルブＶｓが開弁されると（Ｓ０３でＹｅｓ）、電流制御部１２１は、目標電流値Ｉａを相対的に高いＨＩＧＨモードに切り替える（Ｓ０４）。これにより、紫外線照射装置５０から照射される紫外線の量が増大され、貯水タンク４１に供給される水に対して十分な量の紫外線を照射し、ＵＶ殺菌を実施する。製氷運転が開始されないとき（Ｓ０３でＮｏ）は、そのままＬＯＷモードでの紫外線の照射が継続される。
【0060】
ＨＩＧＨモードでの紫外線照射中に、例えば貯水タンク４１の水が製氷最高水位にまで達すると、冷凍ユニット１０および製氷ユニットが駆動された状態で、給水バルブＶｓが閉弁される（Ｓ０５でＹｅｓ）。このとき、電流制御部１２１は、目標電流値Ｉａを相対的に低いＬＯＷモードに切り替える（Ｓ０６）。これにより、紫外線照射装置５０から照射される紫外線の量が低減され、貯水タンク４１に貯水されている水に対してＵＶ殺菌状態を維持するのに十分な程度の量の紫外線を照射し、ＵＶ殺菌状態を維持しつつ、紫外線照射装置５０（光源）の寿命の長大化を図ることができる。
【0061】
ステップＳ０６の後は、再びステップＳ０３に戻り、例えば製氷運転時の貯水タンク４１の水位制御に伴う給水バルブＶｓの開閉に対応して、ステップＳ０６までのＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとの切り替え制御が繰り返される。
【0062】
＜制御例１－２＞
なお、環境Ｃにおける電流制御部１２１の制御は、例えば図７に示すものとなる。すなわち、製氷機１の主電源ＳＷが入力されて、制御装置１００による制御が開始すると、電流制御部１２１は、予めユーザが入力した製氷機１の設置環境に基づき、当該製氷機１の設置環境に応じたＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとにおける目標電流値Ｉａを、記憶部Ｍに記憶された対照テーブルを参照して設定する（Ｓ１１）。このとき、環境Ｃに設置される製氷機１における目標電流値Ｉａは、図５に示すように、ＨＩＧＨモードであってもＬＯＷモードであっても、環境Ａ、Ｂなどと比較して相対的に低い値に設定されることとなる。
なお、環境Ｃにおける電流制御部１２１の制御は、例えば図７に示すものとなる。すなわち、製氷機１の主電源ＳＷが入力されて、制御装置１００による制御が開始すると、電流制御部１２１は、予めユーザが入力した製氷機１の設置環境に基づき、当該製氷機１の設置環境に応じたＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとにおける目標電流値Ｉａを、記憶部Ｍに記憶された対照テーブルを参照して設定する（Ｓ１１）。このとき、環境Ｃに設置される製氷機１における目標電流値Ｉａは、図５に示すように、ＨＩＧＨモードであってもＬＯＷモードであっても、環境Ａ、Ｂなどと比較して相対的に低い値に設定されることとなる。
【0063】
その後、電流制御部１２１は、スイッチング素子Ｑ３をＯＮ状態にして開閉器１２３を閉じ、紫外線照射装置５０による紫外線の照射をＬＯＷモードで開始する（Ｓ１２）。そして、環境Ｃにおける電流制御部１２１の制御は、ステップＳ１３以降が以下のとおり異なる。すなわち、ステップＳ１２の後、例えば製氷運転制御部１１０による製氷運転が開始され、給水バルブＶｓが開弁されて貯水タンク４１への給水が始まっても、ＬＯＷモードでの紫外線の照射が継続される。そして、貯水タンク４１への給水が完了し、給水バルブＶｓが開弁状態から閉弁されると（Ｓ１３でＹｅｓ）、電流制御部１２１は、目標電流値Ｉａを相対的に高いＨＩＧＨモードに切り替える（Ｓ１４）。これにより、貯水タンク４１に残された水はその場に留まり雑菌が繁殖しやすい状況となり得るものの、紫外線照射装置５０からＨＩＧＨモードで紫外線が照射されることによって、かかる雑菌の繁殖が抑制される。
【0064】
その後、再び給水バルブＶｓが開弁されて貯水タンク４１への給水が始まると（Ｓ１５でＹｅｓ）、貯水タンク４１での水の滞留が解消される。そのため、電流制御部１２１は、目標電流値Ｉａを相対的に低いＬＯＷモードに切り替える（Ｓ１６）。これにより、紫外線照射装置５０から照射される紫外線の量が低減され、貯水タンク４１に貯水されている水に対してＵＶ殺菌状態を維持するのに十分な程度の量の紫外線を照射し、ＵＶ殺菌状態を維持しつつ、紫外線照射装置５０（光源）の寿命の長大化を図ることができる。
【0065】
以上記載したように、実施形態１に係る製氷機１は、製氷水を凍結させて氷を製造する製氷部５と、製氷部５において製造された氷を貯留するための貯氷部３０と、少なくとも製氷部５に製氷水を給排水するための給排水機構４０と、を備えて構成され、貯水タンク４１（給排水機構４０）に、紫外線を照射して殺菌するための紫外線照射装置５０が備えられているとともに、少なくとも製氷が行われている間は紫外線照射装置５０から紫外線を照射させるとともに、製氷部５の駆動状態に応じて、紫外線照射装置５０からの紫外線の照射量を制御する電流制御部１２１（制御装置１００の一例）を備えている。このような構成によると、少なくとも製氷が行われている間（製氷待機時間を含む）は紫外線が照射されているため、製氷の開始から終了に亘って製氷水をＵＶ殺菌できるとともに、ＵＶ殺菌状態を維持することができる。そして、紫外線照射装置からの紫外線の照射量が必要に応じて増減されるため、紫外線照射装置の寿命を無駄に消費することなく長大化させることができ、経済的であるとともにメンテナンスの手間を削減することができる。
【0066】
また、電流制御部１２１は、給水バルブＶｓが開弁しているときは、紫外線照射装置５０からの紫外線の照射量を増大させ、給水バルブＶｓが閉弁しているときは、紫外線照射装置５０からの紫外線の照射量を低減させる構成を備えている。このような構成によると、貯水タンク４１に供給される水がＵＶ殺菌を要する場合に、紫外線照射装置５０からの紫外線の照射量を好適に制御することができる。また、電流制御部１２１は、紫外線照射装置５０からの紫外線の照射量を低減した状態で駆動させるとともに、給水バルブＶｓが開弁状態から閉弁したときは、給水バルブＶｓが閉弁状態にある間、紫外線照射装置５０からの紫外線の照射量を増大させる構成を備えている。このような構成によると、貯水タンクに供給される水が十分に殺菌されている場合であって、水が貯水タンク内に滞留しているときにＵＶ殺菌を要する場合に、紫外線照射装置からの紫外線の照射量を好適に制御することができる。
【0067】
以上の多様な制御は、当該製氷機１の設置環境に適したいずれか一方が実行される。すなわち、電流制御部１２１は、当該製氷機１の設置環境に応じて、紫外線照射装置５０からの紫外線の照射量を減少させたり増大させたりする構成を備えている。このような構成によると、製氷機１が設置される環境を考慮しつつ、紫外線照射装置５０からの紫外線の照射量を好適に制御することができる。また、電流制御部１２１は、紫外線照射装置５０に供給する電流をＰＷＭ制御することにより、紫外線照射装置５０からの紫外線の照射量を減少させたり増大させたりする構成を備えている。このような構成によると、紫外線照射装置５０に供給する電流量を、電圧を変化させることなく、高速スイッチングによって適切に制御することができる。また、紫外線照射装置５０の光源がＬＥＤである場合は、ＬＥＤの発光波長を変化させることなく紫外線の照射量を制御できるために好ましい。
【0068】
≪実施形態２≫
実施形態２の製氷機２０１について、図８および図９を参照しつつ説明する。製氷機２０１は、図８に示すように、貯水タンク４１の蓋体４３に備えられる紫外線照射装置５０に加えて、貯氷部３０の蓋体３３にも紫外線照射装置２５０を備えている。紫外線照射装置２５０は、実施形態１の紫外線照射装置５０と同様の構成であり、制御装置１００に電気的に接続されている。また、円盤状の氷量センサ２３５には、紫外線照射装置２５０に干渉することなく上下方向に変位できるように、紫外線照射装置２５０に対応する位置に干渉除け孔部２３５Ｂが設けられている。製氷部５、貯氷部３０、および給排水機構４０のその他の構成については実施形態１の製氷機１と同様であるため、同じ符号を付して説明を省略する（実施形態３以下でも同様である）。
実施形態２の製氷機２０１について、図８および図９を参照しつつ説明する。製氷機２０１は、図８に示すように、貯水タンク４１の蓋体４３に備えられる紫外線照射装置５０に加えて、貯氷部３０の蓋体３３にも紫外線照射装置２５０を備えている。紫外線照射装置２５０は、実施形態１の紫外線照射装置５０と同様の構成であり、制御装置１００に電気的に接続されている。また、円盤状の氷量センサ２３５には、紫外線照射装置２５０に干渉することなく上下方向に変位できるように、紫外線照射装置２５０に対応する位置に干渉除け孔部２３５Ｂが設けられている。製氷部５、貯氷部３０、および給排水機構４０のその他の構成については実施形態１の製氷機１と同様であるため、同じ符号を付して説明を省略する（実施形態３以下でも同様である）。
【0069】
本実施形態の紫外線照射制御部１２０は、図４に示すように、電流制御部２２１と、電子回路部１２２と、をさらに含み、電子回路部１２２は基板に実装されるなどして紫外線照射装置２５０の近傍に配されている。電子回路部１２２の構成および動作は、実施形態１と同様であり、電流制御部２２１がＰＷＭ制御回路１２２Ｂに対して出力する目標電流値Ｉａに関する情報と出力のタイミングが、実施形態１における電流制御部１２１とは異なっている（実施形態３以下でも同様である）。
【0070】
すなわち、電流制御部２２１は、製氷機２０１の貯氷部３０内における氷の撹拌状態に応じて、紫外線照射装置２５０に供給すべき目標電流値Ｉａに関する情報を、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂに対して出力する。具体的には、ストッカ３１内において氷が静止してるときは、紫外線照射装置２５０は、紫外線照射装置２５０に向かう氷の表面にしか紫外線を照射することができないため、相対的に少ない量の紫外線を照射すれば表面に位置する氷をＵＶ殺菌することができる。しかしながら、ストッカ３１内においてアジテータ３６が駆動してストッカ内に貯留された氷を撹拌しているときは、紫外線照射装置２５０に対して露出される氷および氷の表面が様々に入れ替わるため、これらをＵＶ殺菌するには相対的に多量の紫外線を照射することが好ましい。
【0071】
したがって、電流制御部２２１は、製氷機２０１が製氷運転（待機を含む）を行っているときであって、駆動部２７がアジテータ３６を駆動させているときには、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂに指示する目標電流値Ｉａを相対的に高い値とし、紫外線照射装置２５０をＨＩＧＨモードで制御することによって、紫外線照射装置２５０から照射する紫外線の量を増大させるようにしている。また、電流制御部２２１は、製氷機２０１が製氷運転（待機を含む）を行っているときであって、ストッカ３１内においてアジテータ３６が駆動せずにストッカ内に貯留された氷が静止しているときには、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂに指示する目標電流値Ｉａを相対的に低い値とし、紫外線照射装置２５０をＬＯＷモードで制御することによって、紫外線照射装置２５０が照射する紫外線の量を低減させるようにしている。
【0072】
なお、ストッカ３１内における氷の状況（撹拌の有無）に対応した上述のＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとにおける目標電流値Ｉａは、製氷機２０１におけるストッカ３１の大きさや、氷の撹拌状態（氷の形状およびアジテータの形状等）、紫外線照射装置２５０が使用する光源の種類、光源の数等によって異なるために一概に定めることはできないが、製氷機２０１および紫外線照射装置２５０の構成を勘案して適宜定めることができる。また、ＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとにおける目標電流値Ｉａは、例えば対照テーブル等として予め記憶部Ｍに記憶させておくことができ、電流制御部２２１は、記憶部Ｍの対照テーブルを参照することで当該製氷機２０１の構成に応じた目標電流値Ｉａを設定することができる。
【0073】
＜制御例２＞
電流制御部２２１による紫外線照射装置２５０の制御の一例について、図９を参照しつつ説明する。
製氷機２０１の主電源ＳＷが入力されて、制御装置１００による制御が開始すると、電流制御部２２１は、スイッチング素子Ｑ３をＯＮ状態にして開閉器１２３を閉じ、紫外線照射装置２５０から紫外線を照射させる（Ｓ２１）。このときの目標電流値Ｉａは相対的に低いＬＯＷモードであり、紫外線照射装置２５０から発生される紫外線の量は相対的に抑制されているものの、ストッカ３１内を殺菌するに適した量の紫外線が発生される。
電流制御部２２１による紫外線照射装置２５０の制御の一例について、図９を参照しつつ説明する。
製氷機２０１の主電源ＳＷが入力されて、制御装置１００による制御が開始すると、電流制御部２２１は、スイッチング素子Ｑ３をＯＮ状態にして開閉器１２３を閉じ、紫外線照射装置２５０から紫外線を照射させる（Ｓ２１）。このときの目標電流値Ｉａは相対的に低いＬＯＷモードであり、紫外線照射装置２５０から発生される紫外線の量は相対的に抑制されているものの、ストッカ３１内を殺菌するに適した量の紫外線が発生される。
【0074】
ステップＳ２１の後、例えば製氷運転制御部１１０による製氷運転が開始され、冷凍ユニット１０により製氷部が製氷温度にまで冷却されて、製氷ユニット２０が駆動すると、製氷された氷はオーガ２２の回転に伴ってストッカ３１に送られる。ここで、この製氷機２０１においては、駆動部２７がオーガ２２を回転させることに伴ってアジテータ３６が回転駆動されるため（Ｓ２２でＹｅｓ）、ストッカ３１内に送られた氷は製氷が行われている間（すなわちオーガ２２が回転している間）はアジテータ３６によって撹拌される。このとき、電流制御部２２１は、目標電流値Ｉａを相対的に高いＨＩＧＨモードに切り替える（Ｓ２３）。これにより、紫外線照射装置２５０から照射される紫外線の量が増大され、ストッカ３１に送られるとともにストッカ３１内で撹拌されている氷に対して十分な量の紫外線を照射し、ＵＶ殺菌を行うことができる。製氷運転が開始されないとき（Ｓ２２でＮｏ）は、そのままＬＯＷモードでの紫外線の照射が継続される。
【0075】
ＨＩＧＨモードでの紫外線照射中に、例えば氷量センサ３５によってストッカ３１内に氷が満氷状態で貯留されていることが検知されると、冷凍ユニット１０が駆動された状態で、製氷ユニット２０が停止される。換言すれば、冷凍ユニット１０が駆動された状態で、アジテータ３６の回転駆動が停止される（Ｓ２４でＹｅｓ）。このとき、電流制御部２２１は、目標電流値Ｉａを相対的に低いＬＯＷモードに切り替える（Ｓ２５）。これにより、紫外線照射装置２５０から照射される紫外線の量が低減され、ストッカ３１内で静止状態で貯留されている氷に対してＵＶ殺菌状態を維持するのに十分な程度の量の紫外線を照射し、ＵＶ殺菌状態を維持しつつ、紫外線照射装置２５０（光源）の寿命の長大化を図ることができる。
ステップＳ２５の後は、再びステップＳ２２に戻り、ストッカ３１内のアジテータ３６の駆動に対応して、ステップＳ２５までのＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとの切り替え制御が繰り返される。
ステップＳ２５の後は、再びステップＳ２２に戻り、ストッカ３１内のアジテータ３６の駆動に対応して、ステップＳ２５までのＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとの切り替え制御が繰り返される。
【0076】
上記の構成によると、貯氷部３０に氷を撹拌するアジテータ３６（撹拌部材）と、氷に向けて紫外線を照射する紫外線照射装置２５０とが備えられているとともに、アジテータ３６による氷の撹拌の有無に応じて、紫外線照射装置２５０からの紫外線の照射量が増減される。これにより、ストッカ３１およびストッカ３１内の氷に対してＵＶ殺菌することができる。また、アジテータ３６を駆動させて氷を撹拌しているときに紫外線照射装置２５０からの紫外線の照射量を増大させ、アジテータ３６が停止しているときは紫外線の照射量を低減させることで、効率よく氷をＵＶ殺菌することができる。
【0077】
≪実施形態３≫
実施形態３の製氷機３０１について、図１０および図１１を参照しつつ説明する。製氷機３０１は、図１０に示すように、実施形態１の製氷機１と比較して給排水機構４０の構成がやや異なっている。すなわち、シリンダ２１の排水口に接続された第１排水路Ｄ１には、排水口のすぐ下流側に送液ポンプＰｍが介装されている。そして第１排水路Ｄ１は、送液ポンプＰｍよりも下流側において、循環路Ｄ１１と分岐排水路Ｄ１２とに分岐されている。循環路Ｄ１１については、貯水タンク４１の蓋体４３に設けられた還流水口に接続され、貯水タンク４１に繋がっている。一方の分岐排水路Ｄ１２は、排水バルブＶｄを介して第２排水路Ｄ２に接続されおり、排水バルブＶｄが開放されることによって、第１排水路Ｄ１内の水が分岐排水路Ｄ１２を通じて第２排水路Ｄ２に流れるようになっている。また、排水バルブＶｄが閉鎖されることで、第１排水路Ｄ１は循環路Ｄ１１にのみ連通され、排水バルブＶｄを閉弁した状態で送液ポンプＰｍを駆動させることによって、シリンダ２１内の水を貯水タンク４１にまで環流させることができ、貯水タンク４１、第２給水路Ｓ２、シリンダ２１、第１排水路Ｄ１、循環路Ｄ１１、および貯水タンク４１と繋がる循環経路（環流路）が構築される。ここで、第２給水路Ｓ２の途中に、紫外線照射装置３５０が設けられている。紫外線照射装置３５０は、実施形態１の紫外線照射装置５０と同様の構成であり、制御装置１００に電気的に接続されている。
実施形態３の製氷機３０１について、図１０および図１１を参照しつつ説明する。製氷機３０１は、図１０に示すように、実施形態１の製氷機１と比較して給排水機構４０の構成がやや異なっている。すなわち、シリンダ２１の排水口に接続された第１排水路Ｄ１には、排水口のすぐ下流側に送液ポンプＰｍが介装されている。そして第１排水路Ｄ１は、送液ポンプＰｍよりも下流側において、循環路Ｄ１１と分岐排水路Ｄ１２とに分岐されている。循環路Ｄ１１については、貯水タンク４１の蓋体４３に設けられた還流水口に接続され、貯水タンク４１に繋がっている。一方の分岐排水路Ｄ１２は、排水バルブＶｄを介して第２排水路Ｄ２に接続されおり、排水バルブＶｄが開放されることによって、第１排水路Ｄ１内の水が分岐排水路Ｄ１２を通じて第２排水路Ｄ２に流れるようになっている。また、排水バルブＶｄが閉鎖されることで、第１排水路Ｄ１は循環路Ｄ１１にのみ連通され、排水バルブＶｄを閉弁した状態で送液ポンプＰｍを駆動させることによって、シリンダ２１内の水を貯水タンク４１にまで環流させることができ、貯水タンク４１、第２給水路Ｓ２、シリンダ２１、第１排水路Ｄ１、循環路Ｄ１１、および貯水タンク４１と繋がる循環経路（環流路）が構築される。ここで、第２給水路Ｓ２の途中に、紫外線照射装置３５０が設けられている。紫外線照射装置３５０は、実施形態１の紫外線照射装置５０と同様の構成であり、制御装置１００に電気的に接続されている。
【0078】
本実施形態の制御装置１００において、製氷運転制御部１１０は、製氷機３０１の各部を制御して、以下の製氷運転を実施する。また、紫外線照射制御部１２０は、図４に示すように、電流制御部３２１と、電子回路部１２２と、をさらに含み、電子回路部１２２は基板に実装されるなどして紫外線照射装置３５０の近傍に配されている。
【0079】
製氷運転制御部１１０は、実施形態１の製氷運転制御部１１０と同様に、まず、冷凍ユニット１０を駆動させてシリンダ２１の製氷部分を所定の製氷温度にまで冷却させたのち、氷量センサ３５によってストッカ３１内に氷が製氷制限量である満氷状態で貯留されているかどうかを確認しながら、製氷ユニット２０および給排水機構４０を駆動して製氷を実行する。そして、氷量センサ３５によってストッカ３１の満氷状態が検知されると、製氷は待機される。また、氷が消費されることに伴い、ストッカ３１の貯氷量が所定の運転再開位置にまで低減したことを氷量センサ３５が検知すると、製氷運転が再開されるようになっている。
【0080】
また、製氷運転制御部１１０は、上記の製氷が行われている間、貯水タンク４１の貯水レベルが所定の製氷最低水位にまで下降すると、給水バルブＶｓを開弁し、貯水レベルが製氷最高水位にまで上昇すると給水バルブＶｓを閉弁する、という水位制御を続ける。そして、製氷運転制御部１１０は、ストッカ３１が満氷状態で製氷が待機されているとき（換言すれば、冷凍ユニット１０が駆動しているが駆動部２７が停止しているとき）、所定の時間ごとに送液ポンプＰｍを一定時間駆動させて、循環経路内の水を循環させることで、循環経路内の水の滞留を抑制するように構成されている。
【0081】
電流制御部３２１は、製氷機３０１の送液ポンプＰｍの駆動に応じて、紫外線照射装置３５０に供給すべき目標電流値Ｉａに関する情報を、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂに対して出力する。換言すれば、電流制御部３２１は、製氷機３０１が循環経路内の水を循環させている間は、循環されている製氷水のＵＶ殺菌の必要性がより高い状況であると判断して、紫外線照射装置３５０からの紫外線の照射量を高めるように制御する。例えば、製氷機３０１が製氷を実行している間であって、冷凍ユニット１０および駆動部２７を駆動しているものの送液ポンプＰｍが停止しているときは、紫外線照射装置３５０からの紫外線照射領域を通過する製氷水の流速が相対的に遅いため、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂに指示する目標電流値Ｉａを相対的に低い値とし、紫外線照射装置３５０をＬＯＷモードで制御することによって、紫外線照射装置３５０からの紫外線の照射量を相対的に低減させる。また、電流制御部３２１は、製氷機３０１が製氷を待機しているときであって、冷凍ユニット１０は駆動しつつ駆動部２７を停止させ、送液ポンプＰｍを駆動させているときは、紫外線照射装置３５０からの紫外線照射領域を通過する製氷水の流速が速くなるためＰＷＭ制御回路１２２Ｂに指示する目標電流値Ｉａを相対的に高い値とし、紫外線照射装置３５０をＨＩＧＨモードで制御することによって、紫外線照射装置３５０からの紫外線の照射量を増大させるようにしている。
【0082】
なお、循環経路内の水の循環に伴う上述のＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとにおける目標電流値Ｉａは、循環経路内の単位時間あたりの水の流量や、紫外線照射装置３５０が使用する光源の種類、光源の数等によって異なるために一概に定めることはできないが、製氷機３０１および紫外線照射装置３５０の構成を勘案して適宜定めることができる。また、ＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとにおける目標電流値Ｉａは、例えば対照テーブル等として予め記憶部Ｍに記憶させておくことができ、電流制御部３２１は、記憶部Ｍの対照テーブルを参照することで当該製氷機３０１の構成に応じた目標電流値Ｉａを設定することができる。
【0083】
＜制御例３＞
電流制御部３２１による紫外線照射装置３５０の制御の一例について、図１１を参照しつつ以下に説明する。
製氷機３０１の主電源ＳＷが入力されて、制御装置１００による制御が開始すると、電流制御部３２１は、予めユーザが入力した製氷機１の設置環境に基づき、当該製氷機３０１の設置環境に応じたＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとにおける目標電流値Ｉａを、記憶部Ｍに記憶された対照テーブルを参照して設定する（Ｓ３１）。その後、スイッチング素子Ｑ３をＯＮ状態にして開閉器１２３を閉じ、紫外線照射装置３５０から紫外線を照射させる（Ｓ３２）。このときの目標電流値Ｉａは相対的に低いＬＯＷモードであり、紫外線照射装置３５０から発生される紫外線の量は相対的に抑制されているものの、第２給水路Ｓ２およびここを流れる水を殺菌するに適した量の紫外線が発生される。
電流制御部３２１による紫外線照射装置３５０の制御の一例について、図１１を参照しつつ以下に説明する。
製氷機３０１の主電源ＳＷが入力されて、制御装置１００による制御が開始すると、電流制御部３２１は、予めユーザが入力した製氷機１の設置環境に基づき、当該製氷機３０１の設置環境に応じたＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとにおける目標電流値Ｉａを、記憶部Ｍに記憶された対照テーブルを参照して設定する（Ｓ３１）。その後、スイッチング素子Ｑ３をＯＮ状態にして開閉器１２３を閉じ、紫外線照射装置３５０から紫外線を照射させる（Ｓ３２）。このときの目標電流値Ｉａは相対的に低いＬＯＷモードであり、紫外線照射装置３５０から発生される紫外線の量は相対的に抑制されているものの、第２給水路Ｓ２およびここを流れる水を殺菌するに適した量の紫外線が発生される。
【0084】
ステップＳ３２の後、例えば製氷運転制御部１１０による製氷運転が開始される。すなわち、冷凍ユニット１０により製氷部分が製氷温度にまで冷却されて、製氷ユニット２０が駆動し、製氷された氷はストッカ３１に送られる。ここで、氷量センサ３５によってストッカ３１内の氷が満氷状態であると判断されると、駆動部２７の駆動が停止され、所定の時間ごとに送液ポンプＰｍが一定時間駆動して、循環経路内を水が循環する。このとき、電流制御部３２１は、送液ポンプＰｍが駆動すると（Ｓ３３でＹｅｓ）、目標電流値Ｉａを相対的に高いＨＩＧＨモードに切り替える（Ｓ３４）。これにより、紫外線照射装置２５０から照射される紫外線の量が増大されて、循環経路内を循環する水に対して十分な量の紫外線を照射しすることができる。電流制御部３２１は、送液ポンプＰｍが駆動されないとき（Ｓ３３でＮｏ）は、そのままＬＯＷモードで紫外線の照射を継続する。
【0085】
ＨＩＧＨモードでの紫外線照射中に、送液ポンプＰｍが駆動を停止すると（Ｓ３５でＹｅｓ）、電流制御部３２１は、目標電流値Ｉａを相対的に低いＬＯＷモードに切り替える（Ｓ３６）。これにより、紫外線照射装置３５０から照射される紫外線の量が低減され、循環経路内に滞留する水に対して適した量の紫外線を照射しすることができる。ステップＳ３６の後は、再びステップＳ３３に戻り、送液ポンプＰｍの駆動に対応して、ステップＳ３６までのＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとの切り替え制御が繰り返される。
【0086】
上記の構成によると、給排水機構４０は、貯水タンク４１と、第２給水路Ｓ２（製氷給水路）と、第２給水路Ｓ２とは別に設けられ、貯水タンク４１とシリンダ２１（製氷部５）とを接続し、シリンダ２１の水を貯水タンク４１に環流させるための第１排水路Ｄ１および循環路Ｄ１１（環流路）と、第１排水路Ｄ１に設けられ第１排水路Ｄ１の水を貯水タンク４１に送る送液ポンプＰｍと、を備え、給排水機構４０においては、貯水タンク４１、第２給水路Ｓ２、第１排水路Ｄ１および循環路Ｄ１１によって循環経路が形成されているとともに、紫外線照射装置３５０はこの循環経路に備えられている。そして、電流制御部３２１は、送液ポンプＰｍが駆動しているときに、紫外線照射装置３５０からの紫外線の照射量を増大させ、送液ポンプＰｍが駆動していないときに、紫外線照射装置３５０からの紫外線の照射量を低減させる構成を備えている。これにより、循環経路に設けられた紫外線照射装置３５０の照射領域の水が滞留しているか、もしくは水の流速が比較的遅いときには、照射する紫外線の量を相対的に少なくして紫外線照射装置３５０の寿命の長大化を図り、照射領域を多量の水が通過するときには十分な量の紫外線を照射して、循環水に対して効率よくＵＶ殺菌することができる。
【0087】
≪実施形態４≫
実施形態４の製氷機４０１について、図１２を参照しつつ説明する。製氷機４０１の製氷部５、貯氷部３０、および給排水機構４０の構成については、実施形態１の製氷機１と同様の構成である。本実施形態の製氷機４０１は、電流制御部４２１（図４参照）がＰＷＭ制御回路１２２Ｂに対して出力する目標電流値Ｉａに関する情報が、実施形態１における電流制御部１２１とは異なっている。
実施形態４の製氷機４０１について、図１２を参照しつつ説明する。製氷機４０１の製氷部５、貯氷部３０、および給排水機構４０の構成については、実施形態１の製氷機１と同様の構成である。本実施形態の製氷機４０１は、電流制御部４２１（図４参照）がＰＷＭ制御回路１２２Ｂに対して出力する目標電流値Ｉａに関する情報が、実施形態１における電流制御部１２１とは異なっている。
【0088】
すなわち、実施形態１の製氷機１における電流制御部１２１は、給水バルブＶｓの開閉に伴い紫外線照射装置５０に送る電流をＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとで切り替え、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂに対して出力する目標電流値Ｉａに関する情報をＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとで異ならせていた。ところで、紫外線照射装置５０は通電に伴い劣化することから、一般に、紫外線光源からの紫外線の照射量は電流に比例するものの、一定電流下における紫外線の照射量は時間に対して指数関数的に減少するという特徴がある。そこで、本実施形態の電流制御部４２１は、貯水タンク４１に備えられた紫外線照射装置５０から、貯水タンク４１内の水に対して紫外線を照射するとき、所定の時間ごとに紫外線照射装置５０の使用開始からの通算照射時間Ｔｔを算出し、通算照射時間Ｔｔが増大しても紫外線照射装置５０から実際に照射される紫外線量が維持されるように、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂに対して出力する目標電流値Ｉａを通算照射時間Ｔｔの増大に合わせて増加させるようにしている。また、電流制御部４２１は、紫外線照射装置５０の通算照射時間Ｔｔが紫外線照射装置５０の寿命に達したときに、ユーザに当該紫外線照射装置５０が寿命であることを報知するようにしている。通算照射時間Ｔｔの計測に際しては、例えば目標電流値Ｉａを再計算するたびに、再計算までの時間を積算することで、通算照射時間Ｔｔを得るとよい。再計算時の通算照射時間Ｔｔは記憶部Ｍに記憶することができる。
【0089】
紫外線照射装置５０は、例えば、光束（照度）維持率が７０％となる時間を寿命と考えることができる。そこで、一例として、光束（照度）維持率７０％時間が通算照射時間として１万時間の紫外線照射装置５０であれば、電流制御部４２１は、紫外線照射装置５０の最初の使用時（Ｔｔ＝０）の目標電流値Ｉａを定格電流の７０％としておき、通算照射時間が１万時間となったときの目標電流値Ｉａが定格電流の１００％となるように、通算照射時間に応じて目標電流値Ｉａを徐々に増加させるようにしている。ここで例えば、紫外線照射装置５０の光源がＵＶ－ＬＥＤである場合、所定の電流値Ｉｘにおける紫外線照射量Ｑｘは、通算照射時間Ｔｘの関数として下式（１）で表すことができる。なお式中、Ｃは光源（ＵＶ－ＬＥＤ）によって定まる比例定数であり、τは照度低下の時定数である。
Ｑｘ＝Ｉｘ×Ｃ×exp（－Ｔｘ／τ） …（１）
Ｑｘ＝Ｉｘ×Ｃ×exp（－Ｔｘ／τ） …（１）
【0090】
したがって、例えば、初期状態Ｔ０において電流Ｉ０でＵＶ－ＬＥＤから照射される紫外線量を、通算照射時間Ｔｘにおいて維持するための紫外線照射装置５０の電流値Ｉｘは、次式（２）で表すことができる。
Ｉｘ＝Ｉ０×exp（Ｔｘ／τ） …（２）
同様に、ＵＶ－ＬＥＤ光源の最大照射時間をＴlifeとすると、初期状態Ｔ０において電流Ｉ０でＵＶ－ＬＥＤから照射される紫外線量を、最大照射時間Ｔlifeにおいて維持したときの紫外線照射装置５０の電流Ｉlifeは、次式（３）で表すことができる。
Ｉlife＝Ｉ０×exp（Ｔlife／τ） …（３）
この式（３）から、光源の寿命末期で所望の照射量Ｑｘの紫外線を照射させるための電流Ｉlifeが、光源の最大定格電流以下であるような光源を選定した上で、電流制御部４２１は、通算照射時間Ｔｘに応じて所定の照射量Ｑｘの紫外線が照射されるような電流値Ｉｘを、目標電流値Ｉａとして設定する。紫外線照射装置５０についての照度低下の時定数τ、目標電流値Ｉａの初期値（定格電流の７０％）等は、予め記憶部Ｍに記憶することができる。
Ｉｘ＝Ｉ０×exp（Ｔｘ／τ） …（２）
同様に、ＵＶ－ＬＥＤ光源の最大照射時間をＴlifeとすると、初期状態Ｔ０において電流Ｉ０でＵＶ－ＬＥＤから照射される紫外線量を、最大照射時間Ｔlifeにおいて維持したときの紫外線照射装置５０の電流Ｉlifeは、次式（３）で表すことができる。
Ｉlife＝Ｉ０×exp（Ｔlife／τ） …（３）
この式（３）から、光源の寿命末期で所望の照射量Ｑｘの紫外線を照射させるための電流Ｉlifeが、光源の最大定格電流以下であるような光源を選定した上で、電流制御部４２１は、通算照射時間Ｔｘに応じて所定の照射量Ｑｘの紫外線が照射されるような電流値Ｉｘを、目標電流値Ｉａとして設定する。紫外線照射装置５０についての照度低下の時定数τ、目標電流値Ｉａの初期値（定格電流の７０％）等は、予め記憶部Ｍに記憶することができる。
【0091】
＜制御例４＞
電流制御部４２１による紫外線照射装置５０の制御の一例について、図１２を参照しつつ以下に説明する。
製氷機４０１に最初に主電源ＳＷが入力されて、制御装置１００による制御が開始すると、電流制御部４２１は、使用する紫外線照射装置５０に応じた目標電流値Ｉａの初期値を、記憶部Ｍに記憶された対照テーブルを参照して設定する（Ｓ４１）。次いで、電流制御部４２１は、スイッチング素子Ｑ３をＯＮ状態にして開閉器１２３を閉じ、紫外線照射装置５０から紫外線を照射させる（Ｓ４２）。
電流制御部４２１による紫外線照射装置５０の制御の一例について、図１２を参照しつつ以下に説明する。
製氷機４０１に最初に主電源ＳＷが入力されて、制御装置１００による制御が開始すると、電流制御部４２１は、使用する紫外線照射装置５０に応じた目標電流値Ｉａの初期値を、記憶部Ｍに記憶された対照テーブルを参照して設定する（Ｓ４１）。次いで、電流制御部４２１は、スイッチング素子Ｑ３をＯＮ状態にして開閉器１２３を閉じ、紫外線照射装置５０から紫外線を照射させる（Ｓ４２）。
【0092】
ステップＳ４２の後、例えば製氷運転制御部１１０による製氷運転が開始される。電流制御部４２１は、所定の時間ごとに、紫外線照射装置５０の通算照射時間Ｔｘを算出し、記憶部Ｍに記憶する（Ｓ４３）。また、電流制御部４２１は、その通算照射時間Ｔｘにおいて紫外線照射量Ｑｘを維持するために必要な電流値Ｉｘを算出し、得られた電流値Ｉｘを目標電流値Ｉａとして再設定するとともに、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂに対して出力する（Ｓ４４）。このような目標電流値Ｉａの再設定は、通算照射時間Ｔｘが紫外線照射装置５０のいわゆる寿命（光束維持率７０％時間）と判断される（Ｓ４７でＹｅｓ）まで繰り返される。ただし、この間、製氷運転制御部１１０による製氷運転が終了したり、主電源ＳＷが切断されるなどして、紫外線照射装置５０がＯＦＦ状態となり（Ｓ４５でＹｅｓ）、電流が供給されないこともあり得る。その場合は、紫外線照射装置５０の通算照射時間Ｔｘの計測は中断され、再び紫外線照射装置５０がＯＮ状態となったときに（Ｓ４６でＹｅｓ）、ステップＳ４３に戻って、引き続き紫外線照射装置５０の通算照射時間Ｔｘの計測が再開される。
【0093】
また、電流制御部４２１は、通算照射時間Ｔｘが紫外線照射装置５０の寿命となると（Ｓ４７でＹｅｓ）、例えば表示部１５２において紫外線照射装置５０が寿命に至った旨を表示するなどしてユーザに報知する（Ｓ４８）。上記の構成によると、電流制御部４２１は、紫外線照射装置５０からの紫外線の照射時間を計測するタイマＴを備えているとともに、通算照射時間（照射時間）に応じて紫外線照射装置５０からの紫外線の照射量を増大させる構成を備えている。これにより、紫外線照射装置５０の寿命に近づいたときに、寿命による発光量の低減を補うように紫外線照射装置５０に供給する電流量を増大することができる。その結果、紫外線照射装置５０の経時劣化にかかわらず、例えば紫外線照射装置５０（光源）の寿命に近づいたときでも、必要な量の紫外線を適切に照射することができる。また、紫外線照射装置５０が寿命に至ったときは、その旨をユーザに報知することができ、紫外線照射装置５０によるＵＶ殺菌が実施されない事態を回避することができる。
【0094】
≪実施形態５≫
実施形態５の製氷機５０１について、図１３を参照しつつ説明する。実施形態５の製氷機５０１は、実施形態４の製氷機４０１における電流制御部４２１の動作を一部改変したものである。すなわち、実施形態４の電流制御部４２１は、紫外線照射装置５０の通算照射時間ＴｘをタイマＴによって計時するとともに、ステップＳ４７において、通算照射時間Ｔｘが紫外線照射装置５０の寿命となったかどうかを判断していた。これに対し、実施形態５では、電流制御部５２１（図４参照）は、通算照射時間Ｔｘが紫外線照射装置５０の寿命よりも所定時間だけ前の予告時間に至ったかどうかを判断する（Ｓ５１）。そして通算照射時間Ｔｘが予告時間となったとき、電流制御部５２１は、例えば表示部１５２において所定のエラーメッセージを表示するなどして、紫外線照射装置５０が交換時期に至った旨をユーザに報知する（Ｓ５２）。その後、電流制御部５２１は、例えば、通算照射時間Ｔｘが寿命に至るまでの間、所定の時間ごとに、紫外線照射装置５０が交換されたかどうかを確認する（Ｓ５３）。ここで、紫外線照射装置５０が交換されていれば（Ｓ５３でＹｅｓ）、電流制御部５２１は、通算照射時間ＴｘをゼロにリセットしてステップＳ４１（図９参照）に戻り、新たな紫外線照射装置５０について目標電流値Ｉａの初期値を記憶部Ｍに記憶された対照テーブルを参照して設定する（Ｓ４１）。その一方で、紫外線照射装置５０が交換されることなく（Ｓ５３でＮｏ）、通算照射時間Ｔｘが寿命に至ったときは（Ｓ５５でＹｅｓ）、電流制御部５２１は、衛生的な状態で製氷機５０１を運転することができないと判断し、製氷機５０１の運転を停止する。
実施形態５の製氷機５０１について、図１３を参照しつつ説明する。実施形態５の製氷機５０１は、実施形態４の製氷機４０１における電流制御部４２１の動作を一部改変したものである。すなわち、実施形態４の電流制御部４２１は、紫外線照射装置５０の通算照射時間ＴｘをタイマＴによって計時するとともに、ステップＳ４７において、通算照射時間Ｔｘが紫外線照射装置５０の寿命となったかどうかを判断していた。これに対し、実施形態５では、電流制御部５２１（図４参照）は、通算照射時間Ｔｘが紫外線照射装置５０の寿命よりも所定時間だけ前の予告時間に至ったかどうかを判断する（Ｓ５１）。そして通算照射時間Ｔｘが予告時間となったとき、電流制御部５２１は、例えば表示部１５２において所定のエラーメッセージを表示するなどして、紫外線照射装置５０が交換時期に至った旨をユーザに報知する（Ｓ５２）。その後、電流制御部５２１は、例えば、通算照射時間Ｔｘが寿命に至るまでの間、所定の時間ごとに、紫外線照射装置５０が交換されたかどうかを確認する（Ｓ５３）。ここで、紫外線照射装置５０が交換されていれば（Ｓ５３でＹｅｓ）、電流制御部５２１は、通算照射時間ＴｘをゼロにリセットしてステップＳ４１（図９参照）に戻り、新たな紫外線照射装置５０について目標電流値Ｉａの初期値を記憶部Ｍに記憶された対照テーブルを参照して設定する（Ｓ４１）。その一方で、紫外線照射装置５０が交換されることなく（Ｓ５３でＮｏ）、通算照射時間Ｔｘが寿命に至ったときは（Ｓ５５でＹｅｓ）、電流制御部５２１は、衛生的な状態で製氷機５０１を運転することができないと判断し、製氷機５０１の運転を停止する。
【0095】
上記構成によれば、電流制御部５２１は、紫外線照射装置５０からの紫外線の照射時間を計測するタイマＴを備えているとともに、紫外線照射装置５０が寿命に至る前の所定のタイミングで、紫外線照射装置５０の寿命が近づいたことを報知する構成を備えている。これにより、紫外線照射装置５０が寿命に達する前に、ユーザに交換等の適切な対応を促すことができる。その結果、紫外線照射装置５０を寿命によって故障させることなく、また、良好な衛生状態を維持して、製氷機５０１を運転することができる。また、上記構成によれば、電流制御部５２１は、紫外線照射装置５０の寿命が近づいたことを報知したのち、所定の期間において紫外線照射装置５０の寿命が回復されなかったときに、当該製氷機５０１の運転を停止する構成を備えている。これにより、ユーザにより確実に紫外線照射装置５０の交換を促すことができる。また、良好な衛生状態が確保できない状態でユーザが製氷機５０１を運転することを防止することができる。
【0096】
≪実施形態６≫
実施形態６の製氷機６０１について、図１４を参照しつつ説明する。製氷機６０１は、製氷部５、貯氷部３０、および給排水機構４０については、実施形態１の製氷機１と同様の構成である。本実施形態の製氷機６０１は、電流制御部６２１（図４参照）がＰＷＭ制御回路１２２Ｂに対して出力する目標電流値Ｉａに関する情報と出力のタイミングが、実施形態１における電流制御部１２１とは異なっている。
実施形態６の製氷機６０１について、図１４を参照しつつ説明する。製氷機６０１は、製氷部５、貯氷部３０、および給排水機構４０については、実施形態１の製氷機１と同様の構成である。本実施形態の製氷機６０１は、電流制御部６２１（図４参照）がＰＷＭ制御回路１２２Ｂに対して出力する目標電流値Ｉａに関する情報と出力のタイミングが、実施形態１における電流制御部１２１とは異なっている。
【0097】
すなわち、実施形態１における電流制御部１２１は、製氷機１の設置環境が環境Ａ，Ｂのとき、冷凍ユニット１０が駆動された状態における給水バルブＶｓの開閉に伴ってＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとを切り替え、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂに対して出力する目標電流値Ｉａに関する情報を異ならせていた。換言すれば、貯水タンク４１に水が供給されている間、紫外線照射装置５０からは、ＨＩＧＨモードに対応したほぼ一定の照射量の紫外線が発生されていた。しかしながら、紫外線照射装置５０において、紫外線の単位面積当たりの照射強度は、紫外線光源からの距離の２乗に反比例するため、紫外線照射装置とＵＶ殺菌の対象との距離が広がるほどＵＶ殺菌の効果は指数関数的に低減するという特徴がある。そこで、本実施形態の電流制御部６２１は、貯水タンク４１に備えられた紫外線照射装置５０から、貯水タンク４１に供給途中の水に対して紫外線をＨＩＧＨモードで照射するとき、紫外線照射装置５０の光源と貯水タンク４１の水面との距離に応じて、当該距離が遠いときほどより多量の紫外線が発生され、当該距離が近づくにつれて紫外線量が減少されるように、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂに対して出力する目標電流値Ｉａに関する情報を変化させるように構成している。換言すれば、電流制御部６２１は、水量センサ４８によって検知される貯水タンク４１の水位が低いときほどより多量の紫外線が発生されるように、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂに対して出力する目標電流値Ｉａに関する情報を変化させる。
【0098】
目標電流値Ｉａと貯水タンク４１の水位との関係は、貯水タンク４１の寸法や容量、給水バルブＶｓを開弁したときの給水速度、紫外線照射装置５０が使用する光源の種類や、光源の数等にも依るため、予め、製氷機６０１ごとに貯水タンク４１の水位と目標電流値Ｉａとの関係を求めておき、例えば対照テーブル等として予め記憶部Ｍに記憶させておくことができる。そして電流制御部６２１は、記憶部Ｍの対照テーブルを参照することで、貯水タンク４１の水位が変動するごとに、その水位に適した目標電流値Ｉａに関する情報をＰＷＭ制御回路１２２Ｂに対して出力することができる。例えば、電流制御部６２１は、貯水タンク４１の水位を３段階以上に区分し、その水位に応じて段階的に目標電流値Ｉａを切替えることができ、より好ましくは、電流制御部６２１は、水量センサ４８によって所定のインターバルで貯水タンク４１の水位を検知するごとに当該水位に応じて目標電流値Ｉａを随時制御することができる。
【0099】
＜制御例６＞
電流制御部６２１による紫外線照射装置５０の制御の一例について、図１４を参照しつつ以下に説明する。以下は、環境Ａ，Ｂにおける制御の例である。
製氷機６０１の主電源ＳＷが入力されて、制御装置１００による制御が開始すると、電流制御部６２１は、予めユーザが入力した製氷機１の設置環境に基づき、当該製氷機１の設置環境に応じたＬＯＷモードにおける目標電流値Ｉａと、ＨＩＧＨモードにおける目標電流値Ｉａとの関係を、記憶部Ｍに記憶された対照テーブルを参照して設定する（Ｓ６１）。ただし、ＨＩＧＨモードにおける目標電流値Ｉａは、貯水タンク４１の水位の変化に応じて変化させる。所定の水位に対応するＨＩＧＨモード制御時の目標電流値Ｉａは、後述するステップＳ６４でその時の水位に応じて対照テーブルを参照しながら設定するようにしてもよい。
電流制御部６２１による紫外線照射装置５０の制御の一例について、図１４を参照しつつ以下に説明する。以下は、環境Ａ，Ｂにおける制御の例である。
製氷機６０１の主電源ＳＷが入力されて、制御装置１００による制御が開始すると、電流制御部６２１は、予めユーザが入力した製氷機１の設置環境に基づき、当該製氷機１の設置環境に応じたＬＯＷモードにおける目標電流値Ｉａと、ＨＩＧＨモードにおける目標電流値Ｉａとの関係を、記憶部Ｍに記憶された対照テーブルを参照して設定する（Ｓ６１）。ただし、ＨＩＧＨモードにおける目標電流値Ｉａは、貯水タンク４１の水位の変化に応じて変化させる。所定の水位に対応するＨＩＧＨモード制御時の目標電流値Ｉａは、後述するステップＳ６４でその時の水位に応じて対照テーブルを参照しながら設定するようにしてもよい。
【0100】
次いで、電流制御部６２１は、スイッチング素子Ｑ３をＯＮ状態にして開閉器１２３を閉じ、紫外線照射装置５０から紫外線を照射させる（Ｓ６２）。このときの目標電流値Ｉａは相対的に低いＬＯＷモードであり、紫外線照射装置５０から発生される紫外線の量は相対的に抑制されているものの、貯水タンク４１等を殺菌するに適した量の紫外線が発生される。
【0101】
ステップＳ６２の後、例えば製氷運転制御部１１０による製氷運転が開始され、冷凍ユニット１０が駆動された状態で、給水バルブＶｓが開弁されると（Ｓ６３でＹｅｓ）、電流制御部６２１は、目標電流値Ｉａを相対的に高いＨＩＧＨモードに切り替えるとともに、所定の時間ごとに水量センサ４８によって検知される貯水タンク４１の水位に応じて目標電流値Ｉａを変化させる（Ｓ６４）。具体的には、紫外線照射装置５０の光源から貯水タンク４１内の水面までの距離が大きい場合は、紫外線照射装置５０から相対的に多量の紫外線が発生されるように、また、当該距離が小さくなるにつれて相対的に少ない量の紫外線が発生されるように、目標電流値Ｉａを変化させる。これにより、紫外線照射装置５０の光源から貯水タンク４１内の水面までの距離を考慮して、所望のＵＶ殺菌効果が得られるように、紫外線照射装置５０を制御することができる。製氷運転が開始されないとき（Ｓ６３でＮｏ）は、そのままＬＯＷモードでの紫外線の照射が継続される。
【0102】
ＨＩＧＨモードでの上記水位に応じた紫外線の照射は、貯水タンク４１の水が製氷最高水位に達するまで継続される。そして貯水タンク４１の水が製氷最高水位にまで達すると、冷凍ユニット１０および製氷ユニットが駆動された状態で、給水バルブＶｓが閉弁されるため（Ｓ６５でＹｅｓ）、電流制御部６２１は、目標電流値Ｉａを相対的に低いＬＯＷモードに切り替える（Ｓ６６）。これにより、紫外線照射装置５０から照射される紫外線の量が低減され、貯水タンク４１に貯水されている水に対してＵＶ殺菌状態を維持するのに十分な程度の量の紫外線を照射し、ＵＶ殺菌状態を維持しつつ、紫外線照射装置５０（光源）の寿命の長大化を図ることができる。ステップＳ６６の後は、再びステップＳ６３に戻り、例えば製氷運転時の貯水タンク４１の水位制御に伴う給水バルブＶｓの開閉と、貯水タンク４１の水位とに対応して、ステップＳ６６までのＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとの切り替え制御が繰り返される。
【0103】
上記の構成によると、電流制御部６２１は、水量センサ４８によって検知される貯水タンク４１に貯留されている水の水位が相対的に高くなったときに、紫外線照射装置５０からの紫外線の照射量を低減させ、水量センサ４８によって検知される貯水タンク４１に貯留されている水の水位が相対的に低くなったときに、紫外線照射装置５０からの紫外線の照射量を増大させる構成を備えている。これにより、貯水タンク４１に設けられた紫外線照射装置５０と、貯水タンク４１内に貯留された水（水面）との距離に応じて紫外線の照射量を変化させることができる。その結果、紫外線照射装置５０と水面との距離に影響されることなく、貯水タンク内の水を好適にＵＶ殺菌することができる。
【0104】
≪実施形態７≫
実施形態７の製氷機７０１について、図１５および図１６を参照しつつ説明する。製氷機７０１は、冷凍ユニット１０と製氷ユニット２０の成形部２３より下方の構成は実施形態１の製氷機１と略同じであるが、貯氷部３０が製氷ユニット２０の下方に配置されており、製氷ユニット２０の上端から貯氷部３０へ至る氷通路の構成が異なっている。すなわち、製氷ユニット２０の成形部２３から上方に突出するオーガ２２の上端部には、カッタ２４が同軸に固定されており、カッタ２４がオーガ２２と共に回転することで、成形部２３から繰出される柱状の氷を所定のピッチでカットする。また、貯氷部３０は、略直方体形状の箱型のストッカ３１と、このストッカ３１の前面に設けられている図示しない氷取出し口を開閉する扉と、を有しており、ストッカ３１の上壁には、上下方向に延びる円筒状のシュート２５Ｂの下端が貫通状態で接続されている。そして、製氷ユニット２０の上端と、シュート２５Ｂの上端とは、スパウト２５Ａによって連通されている。スパウト２５Ａは、カッタ２４を覆うように取り付けられており、カッタ２４によりカットされた氷はスパウト２５Ａ内を水平に移動したのち、シュート２５Ｂ内を落下して、ストッカ３１へと送られる。スパウト２５Ａおよびシュート２５Ｂは、製氷機７０１の氷通路を構成している。また、シュート２５Ｂの上下方向の中央付近には、紫外線照射装置７５０が備えられている。ストッカ３１の上壁には、氷量センサ３５が備えられている。紫外線照射装置７５０および氷量センサ３５の構成は、実施形態１の紫外線照射装置５０および氷量センサ３５と同様であり、これらは制御装置１００に電気的に接続されている。
実施形態７の製氷機７０１について、図１５および図１６を参照しつつ説明する。製氷機７０１は、冷凍ユニット１０と製氷ユニット２０の成形部２３より下方の構成は実施形態１の製氷機１と略同じであるが、貯氷部３０が製氷ユニット２０の下方に配置されており、製氷ユニット２０の上端から貯氷部３０へ至る氷通路の構成が異なっている。すなわち、製氷ユニット２０の成形部２３から上方に突出するオーガ２２の上端部には、カッタ２４が同軸に固定されており、カッタ２４がオーガ２２と共に回転することで、成形部２３から繰出される柱状の氷を所定のピッチでカットする。また、貯氷部３０は、略直方体形状の箱型のストッカ３１と、このストッカ３１の前面に設けられている図示しない氷取出し口を開閉する扉と、を有しており、ストッカ３１の上壁には、上下方向に延びる円筒状のシュート２５Ｂの下端が貫通状態で接続されている。そして、製氷ユニット２０の上端と、シュート２５Ｂの上端とは、スパウト２５Ａによって連通されている。スパウト２５Ａは、カッタ２４を覆うように取り付けられており、カッタ２４によりカットされた氷はスパウト２５Ａ内を水平に移動したのち、シュート２５Ｂ内を落下して、ストッカ３１へと送られる。スパウト２５Ａおよびシュート２５Ｂは、製氷機７０１の氷通路を構成している。また、シュート２５Ｂの上下方向の中央付近には、紫外線照射装置７５０が備えられている。ストッカ３１の上壁には、氷量センサ３５が備えられている。紫外線照射装置７５０および氷量センサ３５の構成は、実施形態１の紫外線照射装置５０および氷量センサ３５と同様であり、これらは制御装置１００に電気的に接続されている。
【0105】
本実施形態の紫外線照射制御部１２０は、電流制御部７２１（図４参照）がＰＷＭ制御回路１２２Ｂに対して出力する目標電流値Ｉａに関する情報と出力のタイミングが、実施形態１における電流制御部１２１とは異なっている。すなわち、電流制御部７２１は、製氷機７０１が製氷を実行することによって製氷された氷が氷通路内を通過しているときに、紫外線照射装置７５０から照射される紫外線量が相対的に多くなるように、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂに出力する目標電流値Ｉａに関する情報を変化させる（ＨＩＧＨモード制御）。また、電流制御部７２１は、製氷機７０１が製氷を停止していることによって製氷された氷が氷通路を通過しないときには、紫外線照射装置７５０から照射される紫外線量が相対的に少なくなるように、ＰＷＭ制御回路１２２Ｂに出力する目標電流値Ｉａに関する情報を変化させる（ＬＯＷモード制御）。ＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとにおける目標電流値Ｉａは、製氷機７０１の単位時間当たりの製氷量や、紫外線照射装置７５０が使用する光源の種類、光源の数等によって異なるために一概に定めることはできないが、製氷機７０１および紫外線照射装置７５０の構成を勘案して適宜定めることができる。また、ＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとにおける目標電流値Ｉａは、例えば対照テーブル等として予め記憶部Ｍに記憶させておくことができ、電流制御部７２１は、記憶部Ｍの対照テーブルを参照することで当該製氷機７０１の構成に応じた目標電流値Ｉａを設定することができる。
【0106】
＜制御例７＞
電流制御部７２１による紫外線照射装置７５０の制御の一例について、図１６を参照しつつ以下に説明する。
製氷機７０１の主電源ＳＷが入力されて、制御装置１００による制御が開始すると、電流制御部７２１は、スイッチング素子Ｑ３をＯＮ状態にして開閉器１２３を閉じ、紫外線照射装置７５０から紫外線を照射させる（Ｓ７１）。このときの目標電流値Ｉａは相対的に低いＬＯＷモードであり、紫外線照射装置７５０から発生される紫外線の量は相対的に抑制されているものの、シュート２５Ｂ内を殺菌するに適した量の紫外線が発生される。
電流制御部７２１による紫外線照射装置７５０の制御の一例について、図１６を参照しつつ以下に説明する。
製氷機７０１の主電源ＳＷが入力されて、制御装置１００による制御が開始すると、電流制御部７２１は、スイッチング素子Ｑ３をＯＮ状態にして開閉器１２３を閉じ、紫外線照射装置７５０から紫外線を照射させる（Ｓ７１）。このときの目標電流値Ｉａは相対的に低いＬＯＷモードであり、紫外線照射装置７５０から発生される紫外線の量は相対的に抑制されているものの、シュート２５Ｂ内を殺菌するに適した量の紫外線が発生される。
【0107】
ステップＳ７１の後、例えば製氷運転制御部１１０による製氷運転が開始され、冷凍ユニット１０により製氷部が製氷温度にまで冷却されて、製氷ユニット２０が駆動する。すると、製氷された氷はオーガ２２の回転に伴ってカッタ２４でカットされたのち、スパウト２５Ａおよびシュート２５Ｂを通じてストッカ３１に送られる。電流制御部７２１は、冷凍ユニット１０が駆動した状態で、駆動部２７が駆動すると（Ｓ７２でＹｅｓ）、製氷された氷がシュート２５Ｂを通過するため、目標電流値Ｉａを相対的に高いＨＩＧＨモードに切り替える（Ｓ７３）。これにより、紫外線照射装置７５０から照射される紫外線の量が増大され、シュート２５Ｂを通過する氷に対して十分な量の紫外線を照射し、氷自体をＵＶ殺菌することができる。製氷運転が開始されないとき（Ｓ７２でＮｏ）は、そのままＬＯＷモードでの紫外線の照射が継続される。
【0108】
ＨＩＧＨモードでの紫外線照射中に、例えば氷量センサ３５によってストッカ３１内に氷が満氷状態で貯留されていることが検知されると、冷凍ユニット１０が駆動された状態で、駆動部２７の駆動が停止される（Ｓ７４でＹｅｓ）。このとき、電流制御部７２１は、目標電流値Ｉａを相対的に低いＬＯＷモードに切り替える（Ｓ７５）。これにより、紫外線照射装置７５０から照射される紫外線の量が低減され、シュート２５Ｂ内を氷が通過しないときはシュート２５Ｂに対してＵＶ殺菌状態を維持するのに適した量の紫外線を照射し、ＵＶ殺菌状態を維持しつつ、紫外線照射装置２５０（光源）の寿命の長大化を図ることができる。ステップＳ７５の後は、再びステップＳ７２に戻り、駆動部２７の駆動に対応して、ステップＳ７５までのＨＩＧＨモードとＬＯＷモードとの切り替え制御を繰り返す。
【0109】
上記の構成において、製氷部５は、冷凍ユニット１０と製氷ユニット２０とを備え、貯氷部３０と製氷ユニット２０とは、製氷ユニット２０において成形された氷が送られる氷通路によって連通されているとともに、紫外線照射装置７５０は、氷通路（シュート２５Ｂ）に備えられている。電流制御部７２１は、冷凍ユニット１０が駆動しているときに、紫外線照射装置７５０からの紫外線の照射量を増大させ、冷凍ユニット１０が駆動していないときに、紫外線照射装置７５０からの紫外線の照射量を低減させる構成を備えている。これにより、製氷後に貯氷部３０に送られる途中の氷に対してＵＶ殺菌を行うことができる。また、製氷運転中であって、氷通路を氷が通過しているときに紫外線照射装置７５０からの紫外線の照射量を増大させることで、効果的に氷をＵＶ殺菌することができる。
【0110】
≪実施形態８≫
実施形態８を、図１７によって説明する。実施形態８の紫外線照射装置８５０は、上記実施形態１～７のいずれかに開示されたような位置に配されて供給電流の制御が行われているとともに、図１７に示すように、紫外線照射装置８５０と可視光照射器６０とが電気的に直列に接続されることによって故障検知回路ＦＤ１を構成している。この故障検知回路ＦＤ１は、図４の電子回路部１２２の第１相の中間接続点ａおよび電流検出抵抗Ｒから延びる端子ａ２と、第２相の中間接続点ｂから延びる端子ｂ２と、の間に接続される。可視光照射器６０は、例えば可視光ＬＥＤであり（実施形態９以降でも同様である。）、端子ａ２に接続されている。故障検知回路ＦＤ１は、付加的に、分圧抵抗Ｒ０がさらに直列に接続されていてもよい。可視光照射器６０は、紫外線照射装置８５０の配置に応じて、この製氷機８０１を分解することなく筐体３の外側から視認可能な位置（例えば、操作パネル１５０や、ストッカ３１の内部、あるいは、筐体３内のエアフィルタ４の隙間から視認できる位置）に配されている（実施形態９以降でも同様である。）。
実施形態８を、図１７によって説明する。実施形態８の紫外線照射装置８５０は、上記実施形態１～７のいずれかに開示されたような位置に配されて供給電流の制御が行われているとともに、図１７に示すように、紫外線照射装置８５０と可視光照射器６０とが電気的に直列に接続されることによって故障検知回路ＦＤ１を構成している。この故障検知回路ＦＤ１は、図４の電子回路部１２２の第１相の中間接続点ａおよび電流検出抵抗Ｒから延びる端子ａ２と、第２相の中間接続点ｂから延びる端子ｂ２と、の間に接続される。可視光照射器６０は、例えば可視光ＬＥＤであり（実施形態９以降でも同様である。）、端子ａ２に接続されている。故障検知回路ＦＤ１は、付加的に、分圧抵抗Ｒ０がさらに直列に接続されていてもよい。可視光照射器６０は、紫外線照射装置８５０の配置に応じて、この製氷機８０１を分解することなく筐体３の外側から視認可能な位置（例えば、操作パネル１５０や、ストッカ３１の内部、あるいは、筐体３内のエアフィルタ４の隙間から視認できる位置）に配されている（実施形態９以降でも同様である。）。
【0111】
一般に、紫外線照射装置８５０から照射される紫外線はヒトの目では視認できず、たとえ紫外線照射装置８５０が故障していてもユーザは紫外線照射装置８５０の故障を目視により確認することができない。しかしながら、紫外線照射装置８５０が上記のとおりの故障検知回路ＦＤ１に配されていることで、紫外線照射装置８５０が断線したときは、可視光照射器６０が消灯することによってその断線を視認することができる。また、紫外線照射装置８５０が短絡したときは、可視光照射器６０が著しく明るく点灯することによって、その短絡を視認することができる。これにより、簡単な構成で、ヒトには視認できない紫外線照射装置８５０の故障を、可視光を通じて目視によって検知することが可能とされる。
【0112】
≪実施形態９≫
実施形態９を、図１８によって説明する。実施形態９の紫外線照射装置９５０は、上記実施形態１～７のいずれかに開示されたような位置に配されて供給電流の制御が行われている。さらに、紫外線照射装置９５０は、図１８に示すように、紫外線照射装置９５０に対し、ａ接点リレーＲＬ１の一部を構成するコイルＣ１と、抵抗値が相対的に低い第１抵抗器Ｒ１１と、が電気的に直列に接続されることによって第１回路が構成されているとともに、ａ接点リレーＲＬ１の他の一部を構成しコイルＣ１に電気が流れた時に導通する接点部Ｘ１と、抵抗値が相対的に高い第２抵抗器Ｒ１２と、可視光照射器６０と、が電気的に直列に接続されることによって第２回路が構成されており、第１回路に対して第２回路が並列に配されていることで、故障検知回路ＦＤ２を構成している。端子ａ２には、ａ接点リレーＲＬ１を構成する第１回路のコイルＣ１と第２回路の接点部Ｘ１とが接続されており、端子ｂ２には、第１回路の紫外線照射装置９５０と第２回路の可視光照射器６０とが接続されている。
実施形態９を、図１８によって説明する。実施形態９の紫外線照射装置９５０は、上記実施形態１～７のいずれかに開示されたような位置に配されて供給電流の制御が行われている。さらに、紫外線照射装置９５０は、図１８に示すように、紫外線照射装置９５０に対し、ａ接点リレーＲＬ１の一部を構成するコイルＣ１と、抵抗値が相対的に低い第１抵抗器Ｒ１１と、が電気的に直列に接続されることによって第１回路が構成されているとともに、ａ接点リレーＲＬ１の他の一部を構成しコイルＣ１に電気が流れた時に導通する接点部Ｘ１と、抵抗値が相対的に高い第２抵抗器Ｒ１２と、可視光照射器６０と、が電気的に直列に接続されることによって第２回路が構成されており、第１回路に対して第２回路が並列に配されていることで、故障検知回路ＦＤ２を構成している。端子ａ２には、ａ接点リレーＲＬ１を構成する第１回路のコイルＣ１と第２回路の接点部Ｘ１とが接続されており、端子ｂ２には、第１回路の紫外線照射装置９５０と第２回路の可視光照射器６０とが接続されている。
【0113】
実施形態８においては、紫外線照射装置９５０と可視光照射器６０とを直列に接続することで故障検知回路ＦＤ１を構成していたが、現在のところ、ＵＶ－ＬＥＤは可視光ＬＥＤと比較して発光効率が非常に低い。そのため、故障検知回路ＦＤ１においてＵＶ－ＬＥＤを強く発光させるには、故障検知回路ＦＤ１に数１００ｍＡ程度の比較的高い電流を流す必要があり、これに伴い、ＵＶ－ＬＥＤとして定格電流値の大きい高価な素子を使用する必要が生じてしまう。これに対し、実施形態９の故障検知回路ＦＤ２においては、並列な第１回路と第２回路とにそれぞれ、第１抵抗器Ｒ１１と第２抵抗器Ｒ１２とを分圧抵抗として介装している。これにより、紫外線照射装置９５０を含む第１回路には相対的に大電流（例えば約１００～３００ｍＡ程度）を流し、可視光照射器６０を含む第２回路には相対的に小電流（例えば約１０～３０ｍＡ程度）を流すことが可能とされる。また、第１回路と第２回路とは常開接点であるａ接点リレーＲＬ１を構築しているため、通常状態において紫外線照射装置９５０が点灯すれば可視光照射器６０も点灯されるため、紫外線照射装置９５０の点灯を可視光を通じて視認することができる。また、紫外線照射装置９５０が異常状態に陥って消灯すれば可視光照射器６０も消灯されるため、紫外線照射装置９５０の異常を可視光が見られないことを通じて視認することができる。これにより、ヒトには視認できない紫外線照射装置９５０の発光状態を、可視光の発光状態を通じてより確実に確認することができる。
【0114】
≪実施形態１０≫
実施形態１０を、図１９によって説明する。実施形態１０の紫外線照射装置１０５０は、上記実施形態１～７のいずれかに開示されたような位置に配されて供給電流の制御が行われている。さらに、紫外線照射装置１０５０に対し、ｂ接点リレーＲＬ２の一部を構成するコイルＣ２が電気的に直列に接続されることによって第１回路が構成されているとともに、ｂ接点リレーＲＬ２の他の一部を構成しコイルＣ２に電気が流れた時に開放される接点部Ｘ２と、警報器Ｂｚと、が電気的に直列に接続されることによって第２回路が構成されており、第１回路に対して第２回路が並列に配されていることで、故障検知回路ＦＤ３を構成している。端子ａ２には、ｂ接点リレーＲＬ２を構成する第１回路のコイルＣ２と第２回路の接点部Ｘ２とが接続されており、端子ｂ２には、第１回路の紫外線照射装置１０５０と第２回路の警報器Ｂｚとが接続されている。第１回路には、例えばコイルＣ２と紫外線照射装置１０５０との間に、付加的に、分圧抵抗Ｒ０がさらに直列に接続されていてもよい。
実施形態１０を、図１９によって説明する。実施形態１０の紫外線照射装置１０５０は、上記実施形態１～７のいずれかに開示されたような位置に配されて供給電流の制御が行われている。さらに、紫外線照射装置１０５０に対し、ｂ接点リレーＲＬ２の一部を構成するコイルＣ２が電気的に直列に接続されることによって第１回路が構成されているとともに、ｂ接点リレーＲＬ２の他の一部を構成しコイルＣ２に電気が流れた時に開放される接点部Ｘ２と、警報器Ｂｚと、が電気的に直列に接続されることによって第２回路が構成されており、第１回路に対して第２回路が並列に配されていることで、故障検知回路ＦＤ３を構成している。端子ａ２には、ｂ接点リレーＲＬ２を構成する第１回路のコイルＣ２と第２回路の接点部Ｘ２とが接続されており、端子ｂ２には、第１回路の紫外線照射装置１０５０と第２回路の警報器Ｂｚとが接続されている。第１回路には、例えばコイルＣ２と紫外線照射装置１０５０との間に、付加的に、分圧抵抗Ｒ０がさらに直列に接続されていてもよい。
【0115】
製氷機１００１の製氷部５、貯氷部３０、および給排水機構４０のいずれかの場所に紫外線照射装置１０５０を取り付ける場合、電子回路部１２２や故障検知回路ＦＤ３の可視光照射器６０は、製氷機１００１の筐体３の外側から視認できる位置に取り付けられない場合も生じ得る。上記の構成によると、紫外線照射装置１０５０を含む第１回路と警報器Ｂｚを含む第２回路とを並列にするとともに、第１回路と第２回路とで常閉接点であるｂ接点リレーＲＬ２を構築しているため、通常状態において紫外線照射装置１０５０に電流が流れて点灯しているときには、ｂ接点リレーＲＬ２が解放されて警報器Ｂｚには電流は流れない。その一方で、異常状態において紫外線照射装置１０５０に電流が流れなくなったときには、ｂ接点リレーＲＬ２が常閉状態に戻り、警報器Ｂｚに電流が流れる。警報器Ｂｚがブザーである場合には、ブザー音によって紫外線照射装置の異常が報知される。これにより、製氷機１００１を視認できない位置においても、ユーザに紫外線照射装置１０５０の異常を報知することができる。
【0116】
≪実施形態１１≫
実施形態１１を、図２０および図２１によって説明する。実施形態１１の紫外線照射装置１１５０は、上記実施形態１～７のいずれかに開示されたような位置に配されて供給電流の制御が行われている。さらに、紫外線照射装置１１５０は、図２０に示すように、紫外線照射装置１１５０の温度を計測するサーミスタＴｈ（温度センサの一例）を備えることで、故障検知回路ＦＤ４を構成している。サーミスタＴｈは、紫外線照射制御部１２０に電気的に接続されている。一般に、紫外線照射装置１１５０は、紫外線を発光させるために供給される電流によって発熱することが避けられない。本実施形態の紫外線照射制御部１２０は、紫外線照射装置１１５０に電流の供給を開始してから、紫外線照射装置１１５０がある程度発熱すると予想される所定の時間が経過したときに、紫外線照射装置１１５０があらかじめ定められた発熱予想温度にまで発熱しているかどうかを判断することで、紫外線照射装置１１５０が正常に発光しているかどうかの故障検知を行うようにしている。なお、故障検知回路ＦＤ４には、例えば紫外線照射装置１１５０よりも端子ａ２の側に、付加的に、分圧抵抗Ｒ０がさらに直列に接続されていてもよい。
実施形態１１を、図２０および図２１によって説明する。実施形態１１の紫外線照射装置１１５０は、上記実施形態１～７のいずれかに開示されたような位置に配されて供給電流の制御が行われている。さらに、紫外線照射装置１１５０は、図２０に示すように、紫外線照射装置１１５０の温度を計測するサーミスタＴｈ（温度センサの一例）を備えることで、故障検知回路ＦＤ４を構成している。サーミスタＴｈは、紫外線照射制御部１２０に電気的に接続されている。一般に、紫外線照射装置１１５０は、紫外線を発光させるために供給される電流によって発熱することが避けられない。本実施形態の紫外線照射制御部１２０は、紫外線照射装置１１５０に電流の供給を開始してから、紫外線照射装置１１５０がある程度発熱すると予想される所定の時間が経過したときに、紫外線照射装置１１５０があらかじめ定められた発熱予想温度にまで発熱しているかどうかを判断することで、紫外線照射装置１１５０が正常に発光しているかどうかの故障検知を行うようにしている。なお、故障検知回路ＦＤ４には、例えば紫外線照射装置１１５０よりも端子ａ２の側に、付加的に、分圧抵抗Ｒ０がさらに直列に接続されていてもよい。
【0117】
すなわち、図２１に示すように、製氷機１１０１の主電源ＳＷが入力されて、制御装置１００による制御が開始すると、紫外線照射制御部１２０の電流制御部１１２１がスイッチング素子Ｑ３をＯＮ状態にして開閉器１２３を閉じる。これにより、紫外線照射装置１１５０に電流が供給されて、紫外線照射装置１１５０から紫外線が発光される（ＬＯＷモード）（Ｓ１０１）。このとき、紫外線照射制御部１２０は、サーミスタＴｈによって紫外線照射装置１１５０に電流の供給を開始したときの初期温度Ｔｍｐ０を検知するとともに（Ｓ１０２）、タイマＴによって紫外線照射装置１１５０が紫外線の発光を開始してからの照射時間を計時する（Ｓ１０３）。そして、電流の供給開始から所定の時間が経過したとき、紫外線照射制御部１２０は、サーミスタＴｈによって紫外線照射装置１１５０の温度Ｔｅｍｐ１を検知し、初期温度からの上昇温度（Ｔｍｐ１－Ｔｍｐ０）が所定の閾値以上であるかどうかを判断する（Ｓ１０４）。そして、紫外線照射装置１１５０の上昇温度（Ｔｍｐ１－Ｔｍｐ０）が所定の閾値以上である場合（Ｓ１０４でＹｅｓ）は、紫外線照射装置１１５０が正常に動作していると判断して（Ｓ１０５）、故障検知工程を終了する。一方で、紫外線照射装置１１５０の上昇温度（Ｔｍｐ１－Ｔｍｐ０）が所定の閾値Ｔｍｐ－ｔｈに満たない場合（Ｓ１０４でＮｏ）は、紫外線照射装置１１５０が正常に動作していない（故障）と判断して（Ｓ１０６）、例えば表示部１５２において所定のエラーメッセージを表示するなどして、紫外線照射装置１１５０が正常でない旨をユーザに報知する（Ｓ１０７）。
【0118】
上記構成の製氷機１１０１は、紫外線照射装置１１５０の温度を計測するサーミスタＴｈ（温度センサ）を備え、紫外線照射制御部１２０は、紫外線照射装置１１５０に電流を供給し始めたときの初期温度Ｔｍｐ０と、紫外線照射装置１１５０に電流を供給してから所定時間経過後の温度Ｔｍｐ１と、の差が所定の温度差（閾値）に満たない場合、紫外線照射装置１１５０が正常でない旨を報知する構成を備えている。これにより、紫外線照射装置１１５０の特徴を利用し、簡単な構成によって紫外線照射装置１１５０が正常に動作していない旨を判断して、ユーザに報知することができる。
【0119】
＜他の実施形態＞
ここに開示される技術は、上記の実施形態に開示されたものに限定されるものではなく、例えば、以下の態様もここに開示される技術範囲に含まれる。また、ここに開示される技術は、その本質から逸脱しない範囲において種々変更された態様で実施することができる。
ここに開示される技術は、上記の実施形態に開示されたものに限定されるものではなく、例えば、以下の態様もここに開示される技術範囲に含まれる。また、ここに開示される技術は、その本質から逸脱しない範囲において種々変更された態様で実施することができる。
【0120】
（１）上記実施形態では、制御装置は、紫外線照射装置からの紫外線の照射量を、ＨＩＧＨモードとＬＯＷモードの２段階で切り替えるようにしていたが、図５に示されるように、目標電流値Ｉａは必要な紫外線照射量に応じて任意に設定することができ、制御装置は、紫外線照射装置からの紫外線の照射量を任意の段階で切り替える構成を備えていてもよい。
（２）上記実施形態において、紫外線照射装置は光源として深紫外線ＵＶ－ＬＥＤを備えていたが、紫外線照射装置の光源は、紫外線の照射量を変化できるものであれば深紫外線ＵＶ－ＬＥＤに限定されず、他のＵＶ－ＬＥＤや、放電式ＵＶランプ等であってよい。
（３）紫外線照射装置からの紫外線の照射量を可変とする制御装置の構成は、上記実施形態に開示される電子回路部によるものに限定されず、他のＰＷＭ制御による電子回路や、比較的長い周期（例えば、０．１～１００秒）のＯＮ／ＯＦＦサイクル制御、トランジスタ素子を用いたリニア制御による電子回路、抵抗値可変手段を用いた電子回路等であってよい。
（２）上記実施形態において、紫外線照射装置は光源として深紫外線ＵＶ－ＬＥＤを備えていたが、紫外線照射装置の光源は、紫外線の照射量を変化できるものであれば深紫外線ＵＶ－ＬＥＤに限定されず、他のＵＶ－ＬＥＤや、放電式ＵＶランプ等であってよい。
（３）紫外線照射装置からの紫外線の照射量を可変とする制御装置の構成は、上記実施形態に開示される電子回路部によるものに限定されず、他のＰＷＭ制御による電子回路や、比較的長い周期（例えば、０．１～１００秒）のＯＮ／ＯＦＦサイクル制御、トランジスタ素子を用いたリニア制御による電子回路、抵抗値可変手段を用いた電子回路等であってよい。
【0121】
（４）上記実施形態において、貯水タンク４１の水位を検知する水量センサ４８は超音波センサであったが、水量センサ４８は貯水タンク４１の水位を検知できればこれに限定されず、例えば、フロートスイッチ、赤外線センサ等であってよい。これにより、貯水タンク４１の容量や求められる精度とコスト等に適した水量センサを用いることができる。なお、水量センサ４８がフロートスイッチである場合、上記の実施形態３における目標電流値Ｉａの設定に際し、水量センサ４８から水面までの距離ｄは、次の関係を利用してリニアに推定することができる。
水位低下時：ｄ＝ｄ１＋ｄ２×ｔｃ／Ｔｃ
水位上昇時：ｄ＝ｄ１＋ｄ２×ｔｓ／Ｔｓ
ただし式中、ｄ１は紫外線光源と製氷最高水位との間の距離であり、ｄ２は製氷最高水位と製氷最低水位との間の距離であり、Ｔｃは当該製氷機６０１について製氷によって製氷最高水位から製氷最低水位に至るまでの給水停止時間（例えば、複数回測定したときの算術平均値）であり、ｔｃは給水停止（給水バルブＶｓの閉弁）からの経過時間であり、Ｔｓは当該製氷機６０１について製氷しながらの給水によって製氷最低水位から製氷最高水位に至るまでの給水時間（例えば、複数回測定したときの算術平均値）であり、ｔｓは給水開始（給水バルブＶｓの開弁）からの経過時間である。
水位低下時：ｄ＝ｄ１＋ｄ２×ｔｃ／Ｔｃ
水位上昇時：ｄ＝ｄ１＋ｄ２×ｔｓ／Ｔｓ
ただし式中、ｄ１は紫外線光源と製氷最高水位との間の距離であり、ｄ２は製氷最高水位と製氷最低水位との間の距離であり、Ｔｃは当該製氷機６０１について製氷によって製氷最高水位から製氷最低水位に至るまでの給水停止時間（例えば、複数回測定したときの算術平均値）であり、ｔｃは給水停止（給水バルブＶｓの閉弁）からの経過時間であり、Ｔｓは当該製氷機６０１について製氷しながらの給水によって製氷最低水位から製氷最高水位に至るまでの給水時間（例えば、複数回測定したときの算術平均値）であり、ｔｓは給水開始（給水バルブＶｓの開弁）からの経過時間である。
【0122】
（５）製氷機は、上記実施形態で例示した態様を任意に組み合わせたものであってもよい。例えば、実施形態６のように、紫外線照射装置の光源と水面との距離を考慮して紫外線の照射量を設定する構成は、例えば、ＨＩＧＨモード制御およびＬＯＷモード制御における目標電流値Ｉａの設定に適用してもよい。
（６）上記実施形態では、オーガ式の製氷機構を備え、氷を吐出可能な製氷機を主体として開示したが、本技術はこのような製氷機に限定されるものではない。本技術は、例えば流下式、セル式、ドラム式、貯水式等の種々の型式の製氷機にも採用することができる。また、本技術は、氷とともに水等の飲料が供給されるアイスディスペンサや、ティーディスペンサ、コーヒーサーバー、スープサーバー等の多様な飲食物を吐出するディスペンサにも採用することができる。
（７）上記実施形態１の＜制御例１－２＞において、冷凍ユニット１０および製氷ユニット２０の駆動中は、製氷のために貯水タンク４１内の水が消費されて給水が定期的に行われる。そのため、貯水タンク４１の容量と製氷ユニット２０による製氷速度との関係によっては、貯水タンク４１内の水の滞留が短時間（例えば、１～１５分間程度）となり得る。そのような場合は、給水バルブＶｓが閉弁状態であっても、冷凍ユニット１０および製氷ユニット２０の駆動中は、電流制御部１２１は紫外線照射の目標電流値をＬｏｗモードとしてもよい。
（６）上記実施形態では、オーガ式の製氷機構を備え、氷を吐出可能な製氷機を主体として開示したが、本技術はこのような製氷機に限定されるものではない。本技術は、例えば流下式、セル式、ドラム式、貯水式等の種々の型式の製氷機にも採用することができる。また、本技術は、氷とともに水等の飲料が供給されるアイスディスペンサや、ティーディスペンサ、コーヒーサーバー、スープサーバー等の多様な飲食物を吐出するディスペンサにも採用することができる。
（７）上記実施形態１の＜制御例１－２＞において、冷凍ユニット１０および製氷ユニット２０の駆動中は、製氷のために貯水タンク４１内の水が消費されて給水が定期的に行われる。そのため、貯水タンク４１の容量と製氷ユニット２０による製氷速度との関係によっては、貯水タンク４１内の水の滞留が短時間（例えば、１～１５分間程度）となり得る。そのような場合は、給水バルブＶｓが閉弁状態であっても、冷凍ユニット１０および製氷ユニット２０の駆動中は、電流制御部１２１は紫外線照射の目標電流値をＬｏｗモードとしてもよい。
【符号の説明】
【0123】
１，２０１，３０１，４０１，５０１，６０１，７０１，８０１，１００１，１１０１…製氷機、５…製氷部、１０…冷凍ユニット、２０…製氷ユニット、２５Ａ…スパウト、２５Ｂ…シュート、３０…貯氷部、３１…ストッカ、３５，２３５…氷量センサ、３６…アジテータ、４０…給排水機構、４１…貯水タンク、４８…水量センサ、５０，２５０，３５０，４５０，７５０，８５０，９５０，１０５０，１１５０…紫外線照射装置、１００…制御装置、１１０…製氷運転制御部、１２０…紫外線照射制御部、１２１，２２１，３２１，４２１，５２１，６２１，７２１，１１２１…電流制御部、１２２…電子回路部、Ｓ１…第１給水路、Ｓ２…第２給水路、Ｄ１…第１排水路、Ｄ１１…循環路、Ｄ１２…分岐排水路、Ｄ２…第２排水路、Ｄ３…第３排水路、Ｄ４…本排水路
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】