特許 7466241 中敷き及び履物

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B1)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-04-04

(45)【発行日】2024-04-12

(54)【発明の名称】中敷き及び履物

(51)【国際特許分類】

   A43B 17/00 20060101AFI20240405BHJP

【ＦＩ】

A43B17/00 Z

【請求項の数】 8

(21)【出願番号】P 2023039751

(22)【出願日】2023-03-14

【審査請求日】2023-05-15

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】523093712

【氏名又は名称】株式会社ＡＴＮ１

(74)【代理人】

【識別番号】100007983

【弁理士】

【氏名又は名称】笹川 拓

(72)【発明者】

【氏名】與那嶺 茂人

【審査官】粟倉 裕二

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１９－０００２３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００６－１０２３３５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１１－４５４８１（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２００６／０００６０７９（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特開２００１－４６１０４（ＪＰ，Ａ）

【文献】登録実用新案第３１０８２４３（ＪＰ，Ｕ）

【文献】国際公開第２００７／０８６２５１（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ａ４３Ｂ １７／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

履物の足収容空間に置かれるパッドを有する中敷きであって、
前記パッドは、前記パッドの平面視で幅方向の中心線を隔てて配置される内側領域及び外側領域に区分され、
前記パッドの平面視、前記内側領域は足の親指が位置する領域であり、
前記パッドの平面視、前記外側領域は前記足の小指が位置する領域であり、
前記パッドは、前記履物の接地部が前記外側領域に対応する位置で前記足の踵から受ける荷重を、前記接地部が前記内側領域に対応する位置で前記足の踵から受ける荷重を超えさせる、前記パッドを厚さ方向に貫通する孔により構成された補助機構を有し、
前記孔は、前記パッドの平面視、設けられている領域内に、足裏の重心に相当する位置を有して、前記足の踵骨の下端が前記孔の真上に位置するように配され、
内周形状が、前記内側領域及び前記外側領域に亘って設けられ、前記外側領域に配置されている面積は、前記内側領域に配置されている面積を超えており、前記内側領域に配置されている部分の平面形状が、半月形状であり、
前記外側領域に配置されている部分の平面形状が、台形状であり、
前記外側領域に配置されている部分の後端が、当該孔の前記内側領域に配置されている部分の後端と、前記パッドの後端との間に位置することにより、
前記足の踵骨の下端を平面視した形状となっていることを特徴とする中敷き。

【請求項2】

前記孔に置換して、前記パッドを厚さ方向にくぼませた凹部により前記補助機構を構成することを特徴とする請求項１に記載の中敷き。

【請求項3】

人の足が挿入される本体部と、前記本体部に固定されて接地される接地部と、を有する履物であって、
記本体部は、足が挿入される足収容空間と、
前記足収容空間に設けられる請求項１に記載の中敷きと、を有し、
前記本体部は、前記本体部の平面視で、前記本体部の幅方向の中心線を隔てて配置される本体部内側領域及び本体部外側領域に区分され、
前記本体部の平面視、前記本体部内側領域は前記足の親指が位置する領域であり、前記本体部外側領域は前記足の小指が位置する領域であり、
前記接地部は、前記本体部の平面視、前記本体部内側領域及び前記本体部外側領域に亘って配置され、
前記接地部が前記外側領域に対応する位置で前記足の踵から受ける荷重を、前記接地部が前記内側領域に対応する位置で前記足の踵から受ける荷重を超えさせる設定機構を有し、
当該設定機構は、前記足の踵側から見た正面視、前記本体部内側領域に対応する箇所の厚さが略一定であり、前記本体部外側領域に対応する箇所の厚さが、前記本体部内側領域に対応する箇所の厚さ未満に構成されていることを特徴とする履物。

【請求項4】

当該設定機構は、前記足の踵側から見た正面視、前記本体部外側領域に対応する箇所の厚さが前記本体部内側領域に近づくことに伴い増加することを特徴とする請求項３に記載の履物。

【請求項5】

前記孔に置換して、前記パッドを厚さ方向にくぼませた凹部により前記補助機構を構成することを特徴とする請求項３に記載の履物。

【請求項6】

人の足が挿入される本体部と、前記本体部に固定されて接地される接地部と、を有する履物であって、
前記本体部は、前記本体部の平面視で、前記本体部の幅方向の中心線を隔てて配置される内側領域及び外側領域に区分され、
前記本体部の平面視、前記内側領域は前記足の親指が位置する領域であり、
前記外側領域は前記足の小指が位置する領域であり、
前記接地部は、前記本体部の平面視で、前記内側領域及び前記外側領域に亘って配置され、
前記本体部は、足が挿入される足収容空間を有し、前記接地部に固定され、かつ、前記足収容空間を形成する底部が設けられ、
前記底部は、前記足収容空間に面する箇所において前記足の踵が載せられる箇所に、前記履物の接地部が前記外側領域に対応する位置で前記足の踵から受ける荷重を、前記接地部が前記内側領域に対応する位置で前記足の踵から受ける荷重を超えさせる凹部からなる補助機構を有し、
当該凹部は、前記本体部の平面視、設けられている領域内に、足裏の重心に相当する位置を有して、前記足の踵骨の下端が前記凹部の真上に位置するように配され、
内周形状が、前記内側領域及び前記外側領域に亘って設けられ、前記外側領域に配置されている面積は、前記内側領域に配置されている面積を超えており、前記内側領域に配置されている部分の平面形状が、半月形状であり、
前記外側領域に配置されている部分の平面形状が、台形状であり、
前記外側領域に配置されている部分の後端が、当該凹部の前記内側領域に配置されている部分の後端と、前記底部の後端との間に位置することにより、
前記足の踵骨の下端を平面視した形状となっていることを特徴とする履物。

【請求項7】

前記接地部が前記外側領域に対応する位置で前記足の踵から受ける荷重を、前記接地部が前記内側領域に対応する位置で前記足の踵から受ける荷重を超えさせる設定機構を有し、
当該設定機構は、前記足の踵側から見た正面視、前記本体部内側領域に対応する箇所の厚さが略一定であり、前記本体部外側領域に対応する箇所の厚さが、前記本体部内側領域に対応する箇所の厚さ未満に構成されていることを特徴とする請求項６記載の履物。

【請求項8】

当該設定機構は、前記足の踵側から見た正面視、前記本体部外側領域に対応する箇所の厚さが前記本体部内側領域に近づくことに伴い増加することを特徴とする請求項７に記載の履物。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、人の足に着用される履物に設けられる中敷き及び履物に関する。

【背景技術】

【0002】

人の足に着用される履物の内部に設けられる中敷き一例が、特許文献１に記載されている。特許文献１に記載されている中敷きは、足の指を配置させるように形成された爪先部、足の幅が左右に最も張り出す中足骨の先端部を配置させるように形成された張り出し部、中足骨から外果の直下までを配置させるように形成されたアーチ部、及び外果の直下とその後方の踵骨を配置させるように形成された踵部を有し靴の底面の全体に配置される少なくとも２層の発泡樹脂層を備えている。

【0003】

また、特許文献１に記載された中敷きは、２層の下面に貼り合わされ、第２層の発泡樹脂よりも硬質の素材で形成された支持プレートを備えている。さらに、特許文献１に記載された支持プレートには、踵により掛かる荷重を第１層及び第２層の踵部で受けて吸収させるための開口部が形成されている。また、中敷きの踵に対応する箇所の厚さが、その左右の厚さよりも薄く設計されているものが、特許文献２に記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特許第７０９０８５７号公報

【文献】特開２００６－１０２３３５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

本願発明者は、特許文献１及び特許文献２に記載されている中敷きでは、人が安定した姿勢で立ち、かつ、安定した姿勢で歩行するためには、未だ改善の余地がある、という課題を認識した。

【0006】

本開示の目的は、人が安定した姿勢で立ち、かつ、安定した姿勢で歩行可能な中敷き及び履物を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本開示は、履物の足収容空間に置かれるパッドを有する中敷きであって、前記パッドは、前記パッドの平面視で幅方向の中心線を隔てて配置される内側領域及び外側領域に区分され、前記パッドの平面視で、前記内側領域は前記足の親指が位置する領域であり、前記パッドの平面視で、前記外側領域は前記足の小指が位置する領域であり、前記パッドは、前記履物の接地部が前記外側領域に対応する位置で前記足の踵から受ける荷重を、前記接地部が前記内側領域に対応する位置で前記足の踵から受ける荷重を超えさせる補助機構を有する中敷きである。

【0008】

本開示は、人の足が挿入される本体部と、前記本体部に固定されて接地される接地部と、を有する履物であって、前記本体部は、前記本体部の平面視で、前記本体部の幅方向の中心線を隔てて配置される内側領域及び外側領域に区分され、前記本体部の平面視で、前記内側領域は前記足の親指が位置する領域であり、前記本体部の平面視で、前記外側領域は前記足の小指が位置する領域であり、前記接地部は、前記本体部の平面視で、前記内側領域及び前記外側領域に亘って配置され、前記接地部は、前記接地部が前記外側領域に対応する位置で前記足の踵から受ける荷重を、前記接地部が前記内側領域に対応する位置で前記足の踵から受ける荷重を超えさせる設定機構を有する。

【発明の効果】

【0009】

本開示の中敷きによれば、人が安定した姿勢で立ち、かつ、安定した姿勢で歩行可能である。本開示の中敷きを設けた履物によれば、人が安定した姿勢で立ち、かつ、安定した姿勢で歩行可能である。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1A】中敷きを設けた履物の第１実施例を足の踵側から見た正面図である。

【図1B】図１Ａに示す左半足部の側面図である。

【図2A】第７実施例の中敷きを設けた履物の左半足部及び右半足部の模式的な平面図である。

【図2B】図２ＡのＩＩ－ＩＩ線における正面断面図である。

【図3A】中敷きを設けた履物の第２実施例を足の踵側から見た正面図である。

【図3B】図３Ａに示す左半足部の側面図である。

【図4A】中敷きを設けた履物の第３実施例を足の踵側から見た正面図である。

【図4B】図４Ａに示す左半足部の側面図である。

【図5】中敷きを設けた履物の第４実施例を足の踵側から見た正面図である。

【図6】中敷きを設けた履物の第５実施例を足の踵側から見た正面図である。

【図7】中敷きを設けた履物の第６実施例を足の踵側から見た正面図である。

【図8】第８実施例の中敷きを設けた履物の左半足部及び右半足部の模式的な平面図である。

【図9】中敷き、左足及び骨格を示す模式的な側面断面図である。

【図10】第９実施例の底部を設けた履物の左半足部及び右半足部の模式的な平面図である。

【図11】図１０のＩＩＩ－ＩＩＩ線における正面断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

（概要）
人間が裸足で、砂・草・柔らかい土の上に立つと、踵骨が足の外側に位置していることから踵の外側が沈み、人間本来の自然な状態となり、安定した立ち姿勢、安定した歩行となる。履物、例えば、靴を履いても、その自然な状態となるよう、中敷きや靴のアウトソールによってその状態を作ることで、人間本来の安定した立ち姿勢となり、歩行時にも、人の足が踵の外側から着地し、次に、足の中足骨の外側を通り、最後に足の指先で地面をけり出す理想的な歩行に近づけられる。

【0012】

本開示の中敷き及び履物は、上記のような技術的思想に基づくものである。中敷きは、履物に固定されるか、または、履物に取り付け及び取り外しができる。履物は、人の足に装着して使用される。中敷きは、インソールと呼ばれることもある。履物は、アッパーと、アッパーに固定される、アウトソールとを有する。本開示では、中敷き及び履物に含まれるいくつかの実施形態が、図面に基づいて説明されている。本開示では、中敷き及び履物の実施形態を説明するための図において、同一部には原則として同一の符号が付されており、その繰り返しの説明は省略されている。

【0013】

（第１実施例）
図１Ａは、履物１０を踵側から見た正面図、図２Ａは、履物１０を真上から見た平面図である。真上とは、重力の作用方向における真上を意味する。履物１０は、例えば、ビジネス用の革靴であり、履物１０は、左足Ｆ１に装着される左半足部１１、及び右足Ｆ２に装着される右半足部１２を１組として構成されている。履物１０を平面視すると、左半足部１１及び右半足部１２は、左右対称の形状を有しているため、便宜上、左半足部１１を例として説明する。左半足部１１は、アッパー１３、アウトソール１４、及び中敷き１５を有する。

【0014】

図１Ｂのように、左半足部１１のアッパー１３は、左足Ｆ１を収容する本体部であり、アッパー１３は、例えば、本革製または合成皮革製である。アウトソール１４は、例えは、本革製または合成皮革製または合成樹脂製である。アッパー１３は、アウトソール１４に対して、縫製または加硫接着により固定されている。アッパー１３の内部に中敷き１５が設けられており、アッパー１３と中敷き１５とにより、左半足部１１に足収容空間１６が形成されている。

【0015】

さらに、アウトソール１４と中敷き１５との間に底部６４が設けられている。底部６４は、中物と呼ばれることもある。底部６４は、布製、合成樹脂製等で構成されたシート状の部材である。底部６４の上面は、略平坦である。履物１０を平面視すると、底部６４の外周形状と、中敷き１５の外周形状とは、略同じである。底部６４は、アウトソール１４に固定されている。中敷き１５は、底部６４またはアウトソール１４に固定されていてもよいし、中敷き１５は、底部６４またはアウトソール１４に取り付け及び取り外しできる構成でもよい。なお、右半足部１２のアッパー１３は、右足Ｆ２を収容する本体部である。アッパー１３と中敷き１５とにより、右半足部１２に足収容空間１６が形成されている。

【0016】

中敷き１５は、パッド６０を有する。左半足部１１に設けられるパッド６０は、左半足部１１に近似する形状を有している。右半足部１２に設けられるパッド６０は、右半足部１２に近似する形状を有している。パッド６０は、先端６２及び後端６３を有する。先端６２は、足の指に近い位置であり、後端６３は、足の踵に近い位置である。アッパー１３の内面にはライニングが施されているが、ライニングの図示は省略されている。

【0017】

図２Ａには、左半足部１１の幅方向の両端に接する２つの接線Ａ１，Ａ２、中敷き１５のパッド６０の幅方向の両端に接する２つの接線Ｂ１，Ｂ２が、それぞれ示されている。接線Ａ１は、左半足部１１が左足Ｆ１に装着された場合に、親指に最も近く、接線Ａ２は、左半足部１１が左足Ｆ１に装着された場合に、小指に最も近い。また、２つの接線Ａ１，Ａ２の間に中心線Ｃ１が配置されている。中心線Ｃ１は、左半足部１１及び中敷き１５のパッド６０の幅方向の中心を通る仮想線である。左半足部１１を平面視すると、中心線Ｃ１と接線Ａ１との間に形成された内側領域Ｄ１と、中心線Ｃ１と接線Ａ２との間に形成された外側領域Ｄ２とに区分される。４つの接線Ａ１，Ａ２，Ｂ１，Ｂ２及び中心線Ｃ１は、互いに平行な仮想線、つまり、直線である。接線Ｂ１は、中心線Ｃ１と接線Ａ１との間に位置する。接線Ｂ２は、中心線Ｃ１と接線Ａ２との間に位置する。アッパー１３、中敷き１５のパッド６０及びアウトソール１４は、内側領域Ｄ１及び外側領域Ｄ２に亘って配置されている。

【0018】

右半足部１２について、接線Ａ１は、右半足部１２が右足Ｆ２に装着された場合に、親指に最も近く、接線Ａ２は、右半足部１２が右足Ｆ２に装着された場合に、小指に最も近い。右半足部１２いついて、中心線Ｃ１は、右半足部１２及び中敷き１５の幅方向の中心を通る仮想線である。右半足部１２を平面視すると、中心線Ｃ１と接線Ａ１との間に形成された内側領域Ｄ１と、中心線Ｃ１と接線Ａ２との間に形成された外側領域Ｄ２とに区分される。さらに、図２Ａには、左足Ｆ１の骨格、及び右足Ｆ２の骨格が示されている。足のつま先側から踵側に向けて趾骨１７、中足骨１８、足根骨１９等があり、足根骨１９は、楔状骨、舟状骨、及び踵骨２０を含む。

【0019】

人が左足Ｆ１に左半足部１１を装着し、人が右足Ｆ２に右半足部１２を装着して所定の場所Ｅ１に立つと、左半足部１１のアウトソール１４、及び右半足部１２のアウトソール１４が、場所Ｅ１にそれぞれ接触する。場所Ｅ１は、床、地面、アスファルト道路等のうちの何れであってもよい。そして、２つのアウトソール１４のうち、踵部２１は、足の踵、具体的には、足裏の重心に相当する位置から人の荷重の一部を受ける。図２Ａのように左半足部１１及び右半足部１２を平面視すると、足裏の重心Ｑ１は、外側領域Ｄ２内で踵骨２０が存在する領域内に位置する。重心Ｑ１は、中心線Ｃ１に沿った方向で、先端６２と後端６３との間に位置する。

【0020】

図１Ａのように、２つのアウトソール１４の踵部２１を正面視すると、踵部２１は、内縁３０及び側面３１を有する。内縁３０は、内側領域Ｄ１に位置、つまり、中心線Ｃ１と接線Ａ１との間に位置する。側面３１は、外側領域Ｄ２に位置、つまり、中心線Ｃ１と接線Ａ２との間に位置する。内縁３０は、アウトソール１４の厚さ方向、つまり、高さ方向に沿って直線状に延ばされている。アウトソール１４は、側面３１から底面３１Ｂに向けて湾曲形状または円弧形状に面取りされ、かつ、底面３１Ｂにつながる傾斜面３１Ａを有する。傾斜面３１Ａは、図１Ａに示すアウトソール１４の正面視、及び図１Ｂに示すアウトソール１４の側面視の何れにおいても、底面３１Ｂに対して傾斜されている。なお、底面３１Ｂは平坦である。

【0021】

アウトソール１４の踵部２１を正面視すると、内側領域Ｄ１に対応する箇所の厚さは、略一定である。つまり、アウトソール１４の踵部２１を正面視すると、外側領域Ｄ２に位置する側面３１付近の厚さは、踵部２１の他の部位の厚さ未満である。言い換えると、図１Ｂに示す左足Ｆ１の踵５０、及び右足Ｆ２の踵から、アウトソール１４の踵部２１に加わる厚さ方向の圧縮荷重に対する剛性は、外側領域Ｄ２の剛性が内側領域Ｄ１の剛性より低い。このため、外側領域Ｄ２の弾性変形量は、内側領域Ｄ１の弾性変形量を超える。つまり、アウトソール１４が、外側領域Ｄ２で踵から受ける荷重は、内側領域Ｄ１で踵から受ける荷重を超える。具体的には、左半足部１１のアウトソール１４、及び右半足部１２のアウトソール１４は、主として重心Ｑ１に対応する位置で荷重を受けることができる。したがって、人が安定した姿勢で立つことができ、かつ、安定した姿勢で歩行及び走ることができる。

【0022】

中敷き１５において、踵５０より外側に対応する箇所で、アウトソール１４が外側領域Ｄ２で踵５０から荷重を受ける。人間が裸足で、砂・草・柔らかい土の上に立つと、踵骨２０が中心線Ｃ１より外側に位置していることから踵５０の外側が沈み、人間本来の自然な状態となり安定した立ち姿勢、安定した歩行となる。ビジネスシューズ等の履物１０の中敷き１５のうち、踵５０より外側に踵骨２０の形状と同様な凹みがあるかの如くに、裸足で、砂・草・土の上に立つのと同様に踵５０の外側が下へ沈み、人間本来の安定した立ち姿勢となり、歩行時にも、踵５０の外側から着地し、次に中足骨１８の外側を通り、最後に指先で地面をけり出す理想的な歩行に近づけることができる。

【0023】

具体的には、立ち姿勢及び歩行姿勢がよくなり、膝、足首、腰等に係る負担を軽減でき、楽になる。また、足指がスムーズに動き、かつ、足指の可動域も広がる。さらに、外反母趾の軽減及び予防に寄与できる。さらに、開帳足の軽減及び予防に寄与できる。さらに、浮指の軽減及び予防に寄与できる。さらに、巻き爪の軽減及び予防に寄与できる。また、運動機能が向上するため、単に歩く、単に走るだけでなく、あらゆるスポーツにおいて、足の潜在能力を引き出すことができる。さらに、お尻の穴がキュッとしまり、お尻の筋肉（大殿筋）が使われ、ヒップアップの感覚を得られる。

【0024】

（第２実施例）
図３Ａは、履物１０の第２実施例を示す正面図である。なお、図２Ａに示す左半足部１１及び右半足部１２の平面図は、図３Ａの履物１０にも当てはまる。図３Ａに示す履物１０は、例えば、スニーカーである。図３Ｂは、図３Ａの左半足部１１を示す側面図である。２つのアウトソール１４の踵部２１を正面視すると、図２Ａの内側領域Ｄ１に位置する内縁３０と、外側領域Ｄ２に位置する側面３２と、側面３２に接続された底面３２Ａと、を有する。底面３２Ａは、平坦である。側面３２は、図３Ａに示すアウトソール１４の正面視、及び図３Ｂに示すアウトソール１４の側面視の何れにおいても、底面３２Ａに対して傾斜されている。アウトソール１４のうち、外側領域Ｄ２に対応する箇所の厚さは、底面３２Ａに近づくことに伴い増加されている。これに対して、アウトソール１４のうち、内側領域Ｄ１に対応する箇所の厚さは、略一定である。

【0025】

つまり、アウトソール１４の踵部２１を正面視すると、外側領域Ｄ２に位置する側面３２付近の厚さは、踵部２１の他の部位の厚さ未満である。言い換えると、図３Ｂに示す左足Ｆ１の踵５０、及び右足Ｆ２の踵から、アウトソール１４の踵部２１に加わる厚さ方向の圧縮荷重に対する剛性は、外側領域Ｄ２の剛性が内側領域Ｄ１の剛性より低い。このため、アウトソール１４が、外側領域Ｄ２で踵から受ける荷重は、内側領域Ｄ１で踵から受ける荷重を超える。したがって、履物１０の第２実施例は、履物１０の第１実施例と同様の効果を得ることができる。ビジネスシューズ等の履物１０のうち、踵５０の外側に対応する箇所を内側に傾斜させることで、裸足で、砂・草・土の上に立つのと同様に踵５０の外側が下へ沈み、人間本来の安定した立ち姿勢となり、歩行時にも、踵５０の外側から着地し、次に中足骨１８の外側を通り、最後に指先で地面をけり出す理想的な歩行に近づけることができる。

【0026】

（第３実施例）
図４Ａには、履物１０の第３実施例が示されている。なお、図２Ａに示す左半足部１１及び右半足部１２の平面図は、図４Ａの履物１０にも当てはまる。図４Ａに示す履物１０は、例えば、パンプスである。２つのアウトソール１４は、左足Ｆ１の踵、及び右足Ｆ２の踵に対応する位置にヒール部２５を有する。ヒール部２５は、アウトソール１４の厚さ方向、つまり、高さ方向に突出されている。ヒール部２５は、例えば、合成樹脂の芯を巻皮で覆ったものである。ヒール部２５は、釘を用いてアウトソール１４へ固定されている。図４Ｂは、図４Ａの左半足部１１の側面図である。

【0027】

図４Ａには、ヒール部２５の幅方向における中心線Ｃ２が示されている。中心線Ｃ２と中心線Ｃ１とは、９０度の角度で交差する。中心線Ｃ２は、ヒール部２５の幅方向において、ヒール部２５の上端２９の中心を通る仮想線である。ヒール部２５は、側面２６，２７，２８、底面２８Ａを有する。側面２６は、内側領域Ｄ１に配置され、かつ、直線状に延ばされている。側面２６は、アッパー１３から離れることに伴い、中心線Ｃ２に近づくように、中心線Ｃ２に対して傾斜されている。側面２７，２８は、外側領域Ｄ２に配置されている。アッパー１３、中敷き１５のパッド６０、及びヒール部２５は、内側領域Ｄ１及び外側領域Ｄ２に亘って配置されている。

【0028】

側面２７は、アウトソール１４につながっている。側面２７は、アッパー１３から離れることに伴い、中心線Ｃ２に近づくように、中心線Ｃ２に対して傾斜されている。側面２６と中心線Ｃ２との間に形成される鋭角側の角度と、側面２７と中心線Ｃ２との間に形成される鋭角側の角度と、が同じである。側面２７は直線状に延ばされている。側面２８は、側面２７及び底面２８Ａに接続されている。図４Ａに示すヒール部２５の正面視、及び図４Ｂに示すヒール部２５の側面視の何れにおいても、側面２８は、湾曲形状または円弧形状を有する。底面２８Ａは、平坦である。上記構成を有するヒール部２５の先端面、つまり、下端面のうち、外側領域Ｄ２に配置されている部位の面積は、内側領域Ｄ１に配置されている部位の面積より狭い。側面２６は、中心線Ｃ２に対して傾斜されている。側面２６と底面２８Ａとの接続部分が、図４Ａでは便宜上、エッジ状に示されているが、側面２６と底面２８Ａとの接続部分は、実際には湾曲形状または円弧形状に面取りされている。

【0029】

左半足部１１を左足Ｆ１に装着し、右半足部１２を右足Ｆ２に装着して、２つのヒール部２５の下端面を場所Ｅ１に接触させて人が立つと、重心Ｑ１は、ヒール部２５の外側領域Ｄ２に対応する位置にある。そして、ヒール部２５の先端面、つまり、下端面のうち、外側領域Ｄ２に配置されている部位の面積は、内側領域Ｄ１に配置されている部位の面積より狭い。このため、左半足部１１は、図４Ａで右半足部１２から離間する方向に傾斜し易い。また、右半足部１２は、図４Ａで左半足部１１から離間する方向に傾斜し易い。その結果、ヒール部２５が、外側領域Ｄ２で踵から受ける荷重は、内側領域Ｄ１で踵から受ける荷重を超える。したがって、履物１０の第３実施例は、履物１０の第１実施例と同様の効果を得ることができる。パンプス等の履物１０における踵５０の外側を内側に傾斜させることで、裸足で、砂・草・土の上に立つのと同様に踵５０の外側が下へ沈み、人間本来の安定した立ち姿勢となり、歩行時にも、踵５０の外側から着地し、次に中足骨１８の外側を通り、最後に指先で地面をけり出す理想的な歩行に近づけることができる。

【0030】

（第４実施例）
図５には、履物１０の第４実施例が示されている。履物１０の第４実施例は、ヒール部２５の幅が、図４に示すヒール部２５の幅より狭い例である。アッパー１３、中敷き１５のパッド６０及びヒール部２５は、内側領域Ｄ１及び外側領域Ｄ２に亘って配置されている。また、側面２８と底面２８Ａとの境界は、中心線Ｃ２上に位置する。このため、内側領域Ｄ１に配置されている底面２８Ａが場所Ｅ１に接触され、ヒール部２５のうち、外側領域Ｄ２に配置されている部位は、場所Ｅ１にほとんど接触しない。

【0031】

したがって、ヒール部２５のうち、外側領域Ｄ２に配置されている部位の面積は、内側領域Ｄ１に配置されている部位の面積より狭い。このため、左半足部１１は、側面２８が場所Ｅ１に近づく方向に傾斜し易い。また、右半足部１２は、側面２８が場所Ｅ１に近づく方向に傾斜し易い。その結果、ヒール部２５が、外側領域Ｄ２で踵から受ける荷重は、内側領域Ｄ１で踵から受ける荷重を超える。履物１０の第４実施例は、履物１０の第１実施例と同様の効果を得ることができる。パンプス等の履物１０における踵５０の外側を内側に傾斜させることで、裸足で、砂・草・土の上に立つのと同様に踵５０の外側が下へ沈み、人間本来の安定した立ち姿勢となり、歩行時にも、踵５０の外側から着地し、次に中足骨１８の外側を通り、最後に指先で地面をけり出す理想的な歩行に近づけることができる。

【0032】

（第５実施例）
図６は、履物１０の第５実施例を示す正面図である。履物１０の第５実施例は、ヒール部２５の幅が底面２６Ａに近づくことに伴い狭くなっている例である。アッパー１３、中敷き１５のパッド６０及びヒール部２５は、内側領域Ｄ１及び外側領域Ｄ２に亘って配置されている。側面２６は、内側領域Ｄ１に配置され、側面２７は、外側領域Ｄ２に配置されている。側面２６の上端と中心線Ｃ２との間の距離は、側面２７の上端と中心線Ｃ２との間の距離と同じである。また、側面２６と中心線Ｃ２との間の鋭角側の角度は、側面２７と中心線Ｃ２との間の鋭角側の角度未満である。さらに、ヒール部２５の底面２６Ａが、側面２６及び側面２７に接続されている。底面２６Ａは平坦であり、底面２６Ａと側面２６との接続箇所、底面２６Ａと側面２７との接続箇所は、角がある形状、湾曲形状または円弧形状の何れでもよい。底面２６Ａは、内側領域Ｄ１及び外側領域Ｄ２に亘って配置されている。

【0033】

ヒール部２５の先端面、つまり、底面２６Ａのうち、外側領域Ｄ２で場所Ｅ１に接地する部位の面積は、内側領域Ｄ１で場所Ｅ１に接地する部位の面積より広い。その結果、ヒール部２５が、外側領域Ｄ２で踵から受ける荷重は、内側領域Ｄ１で踵から受ける荷重を超える。したがって、履物１０の第５実施例は、ヒール部２５のうち、外側領域Ｄ２で重心Ｑ１の荷重を受け易くなり、履物１０の第１実施例と同様の効果を得ることができる。図２Ａで説明した例と同様に、体の荷重が最も掛る踵骨２０の位置が、中心線Ｃ１より足の外側に位置しているので、履物１０のヒール部２５の位置を踵骨２０の位置に合わせて、外側にずらすことにより、履物１０のヒール部２５が荷重をしっかり受け止めることができ、足首、膝への負担が軽減し、姿勢が安定する。歩行時においても、踵５０の外側から着地し、次に中足骨１８の外側を通り、最後に指先で地面をけり出す理想的な歩行に近づけることができる。

【0034】

（第６実施例）
図７には、履物１０の第６実施例が示されている。履物１０の第６実施例は、ヒール部２５の幅が底面２６Ａに近づくことに伴い狭くなっている例である。また、図７に示すヒール部２５の幅は、図６に示すヒール部２５の幅未満である。アッパー１３、中敷き１５のパッド６０及びヒール部２５は、内側領域Ｄ１及び外側領域Ｄ２に亘って配置されている。側面２６と中心線Ｃ２との間の鋭角側の角度と、側面２７と中心線Ｃ２との間の鋭角側の角度とが同じである。側面２６の上端と中心線Ｃ２との間の距離は、側面２７の上端と中心線Ｃ２との間の距離未満である。このため、ヒール部２５の先端面、つまり、底面２６Ａのうち、外側領域Ｄ２で場所Ｅ１に接地する部位の面積は、内側領域Ｄ１で場所Ｅ１に接地する部位の面積より広い。したがって、履物１０の第６実施例は、ヒール部２５のうち、外側領域Ｄ２で重心Ｑ１の荷重を受け易くなり、履物１０の第１実施例と同様の効果を得ることができる。図２Ａで説明した例と同様に、体の荷重が最も掛る踵骨２０の位置が、中心線Ｃ１より足の外側に位置しているので、履物１０のヒール部２５の位置を踵骨２０の位置に合わせて、外側にずらすことにより、履物１０のヒール部２５が荷重をしっかり受け止めることができ、足首、膝への負担が軽減し、姿勢が安定する。歩行時においても、踵５０の外側から着地し、次に中足骨１８の外側を通り、最後に指先で地面をけり出す理想的な歩行に近づけることができる。

【0035】

（第７実施例）
図２Ａに示す中敷き１５は、履物１０の第１実施例、履物１０の第２実施例、履物１０の第３実施例、履物１０の第４実施例、履物１０の第５実施例、履物１０の第６実施例の全てに用いることができる。２つの中敷き１５は、図２Ｂ及び図９のように、パッド６０と、パッド６０の外周から立ち上げた立ち上げ部６１と、パッド６０を厚さ方向に貫通する孔４０と、を有する。立ち上げ部６１は、パッド６０の外周から湾曲するように設けられている。また、立ち上げ部６１は、中心線Ｃ１に沿った前後方向で、略中央から後端６３に亘る領域に設けられている。パッド６０は、左足Ｆ１の踵５０の下面の一部、右足Ｆ２の踵の下面の一部に接触され、立ち上げ部６１は、左足Ｆ１の踵５０の側面の一部、右足Ｆ２の踵の側面の一部に接触される。

【0036】

中敷き１５を平面視すると、孔４０は、中心線Ｃ１に沿った方向で、中敷き１５の略中央と後端６３との間に配置されている。中敷き１５を平面視すると、孔４０の内周形状は、例えば、図９に示す踵骨２０の下端２０Ａを平面視した形状と同じであることが望ましい。孔４０が設けられている領域内に、重心Ｑ１が位置する。中敷き１５を平面視すると、中心線Ｃ１に沿った方向で、孔４０の略中央に重心Ｑ１が位置する。また、中敷き１５を平面視すると、孔４０のうち、外側領域Ｄ２に配置されている部分の面積は、内側領域Ｄ１に配置されている部分の面積を超えている。中敷き１５を平面視すると、孔４０のうち、内側領域Ｄ１に配置されている部分の平面形状は、例えば、半月形状である。中敷き１５を平面視すると、孔４０のうち、外側領域Ｄ２に配置されている部分の平面形状は、例えば、台形状である。中敷き１５を平面視すると、孔４０のうち、外側領域Ｄ２に配置されている部分の後端は、孔４０のうち、内側領域Ｄ１に配置されている部分の後端と、パッド６０の後端６３との間に位置する。なお、中敷き１５を平面視すると、孔４０の内周形状は、円形、楕円形、または、その他の形状であってもよい。

【0037】

さらに、孔４０の一部は、立ち上げ部６１に設けられている。孔４０の内周面は、パッド６０の内面及び外面に対して緩やかに湾曲されて接続されている。図２Ｂのように、左半足部１１及び右半足部１２を、正面側から縦断面視すると、孔４０の内周面は、底部６４の上面に対して傾斜されている。孔４０の内周面は、孔４０が底部６４に近づくことに伴い、孔４０の幅が狭くなる向きで傾斜されている。左半足部１１の幅方向における縦断面内で、孔４０の内周面のうち内側領域Ｄ１に位置する箇所と、底部６４の上面との間に形成される鋭角側の角度θ１は、孔４０の内周面のうち外側領域Ｄ２に位置する箇所と、底部６４の上面との間に形成される鋭角側の角度θ２未満である。角度θ１，θ２は共に９０度未満である。

【0038】

さらに、図２Ａ及び図９のように、中敷き１５の表面には、厚さ方向に突出されたサポート部６５を有する。中敷き１５を平面視すると、サポート部６５の形状は、楕円形、円形等のうちの何れでもよい。中敷き１５を平面視すると、サポート部６５の配置領域は、中足骨１８が位置する領域に設けられていてもよいし、中足骨１８及び足根骨１９の両方が位置する領域にまたがって設けられていてもよい。

【0039】

そして、左半足部１１を左足Ｆ１に装着し、右半足部１２を右足Ｆ２に装着して、人が場所Ｅ１に立つと、左足Ｆ１の踵５０の下面の一部、右足Ｆ２の踵５０の下面の一部が、それぞれ中敷き１５の孔４０に沈み込む。このため、左足Ｆ１及び右足Ｆ２のそれぞれについて、片足２８個の骨が正常な位置になる。このため、アウトソール１４が、外側領域Ｄ２で踵から受ける荷重は、内側領域Ｄ１で踵５０から受ける荷重を超える。したがって、履物１０の第１実施例で述べた効果が更に増す。

【0040】

中敷き１５に孔４０が設けられていると、左足Ｆ１及び右足Ｆ２の骨が起き上がった状態になり、左足Ｆ１の下面及び右足Ｆ２の下面と、中敷き１５との間に隙間が生じる。また、サポート部６５が左足Ｆ１の下面、及び右足Ｆ２の下面を支持する。このため、左足Ｆ１及び右足Ｆ２が、幅方向でアーチ形状になりやすくなる。したがって、地面からの衝撃を吸収し易くなり、左足Ｆ１及び右足Ｆ２の膝、足首、腰への負担を軽減できる。また、左足Ｆ１の下面及び右足Ｆ２の下面と、中敷き１５との隙間にサポート部６５が位置するため、左足Ｆ１の踵５０の下面の一部、右足Ｆ２の踵の下面の一部が、それぞれ中敷き１５の孔４０に沈み込む状態を、一層、保持し易くなり、効果的である。

【0041】

さらに、孔４０の内周面は、底部６４の上面に対して傾斜されている。左半足部１１の幅方向で、孔４０の内周面のうち内側領域Ｄ１に位置する箇所と底部６４の上面との間に形成される鋭角側の角度θ１は、孔４０の内周面のうち外側領域Ｄ２に位置する箇所と底部６４の上面との間に形成される鋭角側の角度θ２未満である。角度θ１，θ２は共に９０度未満である。したがって、踵５０の下面が孔４０の内周面に沿って滑らかに沈み込み易く、かつ、踵５０の下面のうち、孔４０の内周面のうち小指に近い方の箇所で支持されることで、踵５０が中敷き１５に対して幅方向に位置決めされる。

【0042】

したがって、踵骨２０の下端２０Ａが孔４０の真上に位置する状態を保持でき、踵部２１が外側領域Ｄ２に対応する位置で踵５０から受ける荷重を、踵部２１が内側領域Ｄ１に対応する位置で踵５０から受ける荷重を超えさせることができ、第１実施例の効果を一層高めることができる。

【0043】

（第８実施例）
図８に示す中敷き１５は、履物１０の第１実施例、履物１０の第２実施例、履物１０の第３実施例、履物１０の第４実施例、履物１０の第５実施例、履物１０の第６実施例の全てに用いることができる。２つの中敷き１５のパッド６０には、切り欠き部４１がそれぞれ設けられている。なお、切り欠き部４１の形状は、任意である。そして、切り欠き部４１が設けられている領域内に、重心Ｑ１が位置する。切り欠き部４１のうち、外側領域Ｄ２に配置されている面積は、内側領域Ｄ１に配置されている面積を超えている。

【0044】

そして、左半足部１１を左足Ｆ１に装着し、右半足部１２を右足Ｆ２に装着して、人が場所Ｅ１に立つと、左足Ｆ１の踵５０、及び右足Ｆ２の踵の表面の一部が、それぞれ中敷き１５の切り欠き部４１に沈み込む。このため、アウトソール１４が、外側領域Ｄ２で踵から受ける荷重は、内側領域Ｄ１で踵から受ける荷重を超える。したがって、履物１０の第１実施例で述べた効果が更に増す。

【0045】

なお、図２Ａ及び図８に示す中敷き１５は、面取りを有する側面３１、傾斜した側面２７，２８，３２等が設けられていないアウトソールを有する履物の足収容室に設けることができる。この場合、左半足部を左足に装着し、右半足部を右足に装着して、人が場所に立つと、左足の踵、及び右足の踵の表面の一部が、それぞれ中敷き１５の孔４０または切り欠き部４１へ沈み込む。このため、アウトソールが、外側領域Ｄ２で踵から受ける荷重は、内側領域Ｄ１で踵から受ける荷重を超える。したがって、履物の第１実施例で述べたと同様の効果を得ることができる。

【0046】

（第９実施例）
図１０及び図１１に示す左半足部１１及び右半足部１２は、何れも前述の中敷き１５を備えていない。左半足部１１及び右半足部１２にそれぞれ設けられた底部６４が、凹部６６をそれぞれ有する。底部６４を真上から平面視すると、凹部６６は、中心線Ｃ１に沿った方向で、底部６４の略中央と後端６７との間に配置されている。底部６４の上面は、足収容空間１６に面しており、底部６４の上面に凹部６６が設けられている。凹部６６は、底部６４の上面の一部を、底部６４の厚さ方向にくぼませたものである。

【0047】

底部６４を平面視すると、凹部６６は、中心線Ｃ１に沿った方向で、底部６４の略中央と後端６７との間に配置されている。底部６４を平面視すると、凹部６６の形状は、例えば、図９に示す踵骨２０の下端２０Ａを平面視した形状と同じであることが望ましい。凹部６６が設けられている領域内に、重心Ｑ１が位置する。底部６４を平面視すると、中心線Ｃ１に沿った方向で、凹部６６の略中央に重心Ｑ１が位置する。また、底部６４を平面視すると、凹部６６のうち、外側領域Ｄ２に配置されている部分の面積は、内側領域Ｄ１に配置されている部分の面積を超えている。底部６４を平面視すると、凹部６６のうち、内側領域Ｄ１に配置されている部分の平面形状は、例えば、半月形状である。底部６４を平面視すると、凹部６６のうち、外側領域Ｄ２に配置されている部分の平面形状は、例えば、台形状である。底部６４を平面視すると、凹部６６のうち、外側領域Ｄ２に配置されている部分の後端は、凹部６６のうち、内側領域Ｄ１に配置されている部分の後端と、底部６４の後端６７との間に位置する。なお、底部６４を平面視すると、凹部６６の形状は、円形、楕円形、または、その他の形状であってもよい。

【0048】

そして、左半足部１１を左足Ｆ１に装着し、右半足部１２を右足Ｆ２に装着して、人が場所Ｅ１に立つと、左足Ｆ１の踵５０の下面の一部、右足Ｆ２の踵５０の下面の一部が、それぞれ底部６４の凹部６６に沈み込む。このため、左足Ｆ１及び右足Ｆ２のそれぞれについて、片足２８個の骨が正常な位置になる。このため、アウトソール１４が、外側領域Ｄ２で踵から受ける荷重は、内側領域Ｄ１で踵から受ける荷重を超える。したがって、履物１０の第１実施例で述べた効果と同様の効果を得ることができる。なお、図１０及び図１１に底部６４は、履物１０の第１実施例、履物１０の第２実施例、履物１０の第３実施例、履物１０の第４実施例、履物１０の第５実施例、履物１０の第６実施例、履物１０の第７実施例、履物１０の第８実施例の全てに用いることができる。

【0049】

また、左半足部１１及び右半足部１２のそれぞれが、孔４０を有する中敷き１５、及び凹部６６を有する底部６４の両方を備えている場合、中敷き１５を平面視すると、孔４０の配置領域と、凹部６６の配置領域とが、少なくとも一部で重なる。また、左半足部１１及び右半足部１２のそれぞれが、切り欠き部４１を有する中敷き１５、及び凹部６６を有する底部６４の両方を備えている場合、中敷き１５を平面視すると、切り欠き部４１の配置領域と、凹部６６の配置領域とが、少なくとも一部で重なる。

【0050】

（補足説明）
人が、裸足で、砂や草、柔らかい土の上に立つと、図２Ａ、図８の例で説明したように、踵骨２０が中心線Ｃ１より外側に位置していることにより、足の踵（外側）が沈み込むような状態となり、人間本来の正しい立ち姿勢になり、安定した立ち姿勢、安定した歩行となる。履物を履いても、その自然な状態となるよう、中敷き、底部、履物のヒール部によってその状態を作ることで、人間本来の安定した立ち姿勢となり、歩行時にも、踵の外側から着地し、次に中足骨の外側を通り、最後に指先で地面をけり出す理想的な歩行に近づけられる。本開示の中敷き、アウトソールを有する履物、底部を有する履物は、全てこの効果を得ることができる。

【0051】

本実施形態で説明した事項の技術的意味の一例は、次の通りである。アッパー１３は、本体部の一例である。アウトソール１４、踵部２１、ヒール部２５は、接地部の一例である。履物１０は、履物の一例である。中心線Ｃ１は、中心線の一例である。内側領域Ｄ１は内側領域の一例である。外側領域Ｄ２は、外側領域の一例である。角度θ１は、第１角度の一例であり、角度θ２は、第２角度の一例である。底部６４は、底部の一例である。凹部６６は、凹部の一例である。側面３１に設けられた面取り、側面３２を構成する傾斜面、側面２７，２８は、設定機構の一例である。側面２７，２８，３０，３１，３２は、側面の一例である。足収容空間１６は、足収容空間の一例である。

【0052】

中敷き１５は、中敷きの一例である。パッド６０は、パッドの一例である。孔４０及び切り欠き部４１は、それぞれ補助機構の一例である。なお、中敷きの孔または切り欠き部に代えて凹部またはくぼみを設け、中敷きの厚さを部分的に他の箇所よりも薄くする構成を採用してもよい。さらに、各図において、踵部、ヒール部、アウトソール等の要素に角部があるように示されている箇所があるが、あくでも図面上のことであり、実際には、これらの箇所に滑らかな面取りが施されているか、または、滑らかに湾曲された形状を有している。

【産業上の利用可能性】

【0053】

本開示は、人の足に着用される履物内に設けられる中敷き及び履物として利用可能である。

【符号の説明】

【0054】

１０…履物、１３…アッパー、１４…アウトソール、１５…中敷き、１６…足収容空間、２１…踵部、２５…ヒール部、２７，２８，３０，３１，３２…側面、４０…孔、４１…切り欠き部、６０…パッド、６４…底部、６６…凹部、Ｃ１…中心線、Ｄ１…内側領域、Ｄ２…外側領域、θ１、θ２…角度

【要約】

【課題】人が安定した姿勢で立ち、かつ、安定した姿勢で歩行可能な履物用の中敷きを提供する。
【解決手段】履物の足挿入部に置かれるパッド６０を有する中敷き１５であって、パッド６０は、パッド６０の平面視で幅方向の中心線Ｃ１を隔てて配置される内側領域Ｄ１及び外側領域Ｄ２に区分され、パッド６０の平面視で、内側領域Ｄ１は足の親指が位置する領域であり、パッド６０の平面視で、外側領域Ｄ２は足の小指が位置する領域であり、パッド６０は、履物の接地部が外側領域Ｄ２に対応する位置で足の踵から受ける荷重を、履物の接地部が内側領域Ｄ１に対応する位置で足の踵から受ける荷重を超えさせる孔４０を有する、中敷き１５を構成した。
【選択図】図２Ａ

【図1A】

【図1B】

【図2A】

【図2B】

【図3A】

【図3B】

【図4A】

【図4B】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】