特許 7466259 無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B1)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-04-04

(45)【発行日】2024-04-12

(54)【発明の名称】無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物の製造方法

(51)【国際特許分類】

   C01B 17/40 20060101AFI20240405BHJP

   C01B 17/38 20060101ALI20240405BHJP

   C01B 17/34 20060101ALI20240405BHJP

【ＦＩ】

C01B17/40

C01B17/38

C01B17/34

【請求項の数】 6

(21)【出願番号】P 2024502691

(86)(22)【出願日】2023-10-25

(86)【国際出願番号】 JP2023038465

【審査請求日】2024-01-17

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】593035906

【氏名又は名称】ナガオ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110002206

【氏名又は名称】弁理士法人せとうち国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】田中 宏明

(72)【発明者】

【氏名】山口 健太郎

【審査官】佐藤 慶明

(56)【参考文献】

【文献】特開２０２３－１６３７６４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０２０－１４９８９４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１８－１５６９３８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開昭５３－０９０１９４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１８－００２５１４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０００－１２６５０１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特公昭４９－０１５１５６（ＪＰ，Ｂ１）

【文献】米国特許第０１８４３７６７（ＵＳ，Ａ）

【文献】中国実用新案第２１６９１０６４７（ＣＮ，Ｕ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ０１Ｂ １７／２２ － １７／４０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液を出発原料とし、前記硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液をディスク表面に供給して薄膜化された硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液を得る薄膜形成工程と、前記薄膜化された硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液を減圧下、不活性ガス雰囲気下で当該ディスク表面において脱水する乾燥工程と、前記乾燥工程で得られる無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物を当該ディスク表面から取り出す分離工程を、この順番で繰り返すことにより連続的に無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物を得ることを特徴とする無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物の製造方法。

【請求項2】

前記乾燥工程における脱水時間が６～３００秒である請求項１に記載の無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物の製造方法。

【請求項3】

前記硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液の濃度が３～６０重量％である請求項１又は２に記載の無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物の製造方法。

【請求項4】

前記無水硫化ソーダ有形物における無水硫化ソーダ成分の含有量が９５重量％以上である請求項１又は２に記載の無水硫化ソーダ有形物の製造方法。

【請求項5】

前記無水多硫化ソーダ有形物における無水多硫化ソーダ成分の含有量が９０重量％以上である請求項１又は２に記載の無水多硫化ソーダ有形物の製造方法。

【請求項6】

前記無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物における水分の含有量が３重量％以下である請求項１又は２に記載の無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、不純物の少ない無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物を連続的に製造する方法に関する。

【背景技術】

【0002】

硫化ソーダ（Ｎａ_２Ｓ）は、有機合成用原料やポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）樹脂等の原料として知られている。また、多硫化ソーダ（Ｎａ_２Ｓｘ）（ｘは１より大きく４以下の実数）は、ゴム薬や、シランカップリング剤の原料として知られている。市販されている硫化ソーダ有形物は、通常水分が一定量含まれている。また多硫化ソーダは水溶液での販売となっている。したがって、好ましくない副反応や逆反応が進行する場合があった。このため、原料として使用する前に水分を取り除く必要があり、かかる水分を取り除く方法として、フレーク状、チップ状、ペレット状等の硫化ソーダ有形物を減圧下で加熱脱水する方法、当該硫化ソーダ有形物を不活性ガス雰囲気下で脱水する方法、あるいはこれら両方法を併用すること等が知られている。また、多硫化ソーダの無水物に関しては、金属ナトリウムと硫黄の直接反応により合成する手法などが知られている。

【0003】

例えば、特許文献１には、硫化ソーダ５水和物等を脱水する方法において、硫化ソーダ５水和物等に無水硫化ソーダを加え、減圧下で加熱脱水することを特徴とする硫化ソーダ有形物の脱水方法が記載されている。また、特許文献２には、金属ナトリウムと硫黄を直接反応させる無水多硫化ソーダの製造方法が記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特開平４－３１０５０８号公報

【文献】特開２００１－３１４０６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、特許文献１に記載の脱水方法はバッチ式であり、脱水時間も長くなるため、生産効率が良好ではなくコスト高となる場合があった。また、硫化ソーダから水分を取り除く別の方法として、硫化ソーダ有形物を不活性ガスにて通気することで脱水する手法もあるが、こちらも脱水時間が長く生産効率は良好とはいえない。特許文献２に記載の無水多硫化ソーダ有形物の製造方法では、金属ナトリウムを使用する危険な手法となっている。また、無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物の製造方法において、出発原料として安価な硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液を用いる技術的思想は見受けられない。

【0006】

本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物を連続的に得ることのできる、安全かつ生産効率が良好な無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物の製造方法を提供することを目的とするものである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記課題は、硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液を出発原料とし、前記硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液をディスク表面に供給して薄膜化された硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液を得る薄膜形成工程と、前記薄膜化された硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液を減圧下、不活性ガス雰囲気下で当該ディスク表面において脱水する乾燥工程と、前記乾燥工程で得られる無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物を当該ディスク表面から取り出す分離工程を、この順番で繰り返すことにより連続的に無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物を得ることを特徴とする無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物の製造方法を提供することによって解決される。

【0008】

このとき、前記乾燥工程における脱水時間が６～３００秒であることが好適であり、前記硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液の濃度が３～６０重量％であることが好適である。また、前記無水硫化ソーダ有形物における無水硫化ソーダ成分の含有量が９５重量％以上であることが好適であり、前記無水多硫化ソーダ有形物における無水多硫化ソーダ成分の含有量が９０重量％以上であることが好適である。前記無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物における水分の含有量が３重量％以下であることも好適である。

【発明の効果】

【0009】

本発明により、無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物を連続的に得ることのできる、安全かつ生産効率が良好な無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物の製造方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】実施例１及び２で使用した真空薄膜乾燥機の一例を示した模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下、図面を参照しながら本発明を具体的に説明する。図１は、本発明で用いられる真空薄膜乾燥機の一例を示した模式図であり、容器内部に、硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液を供給するための供給槽、供給ポンプ、循環槽、循環ポンプ及び供給ノズルを備えている。更に、真空薄膜乾燥機には、回転軸を有するディスク、当該ディスク表面から無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物を取り出すスクレーパー、無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物が収集される収集槽等を備えており、図１に示されていないが、ディスク加熱手段、不活性ガス供給手段、減圧手段を備えたものである。

【0012】

本発明の無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物の製造方法は、硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液を出発原料とし、前記硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液をディスク表面に供給して薄膜化された硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液を得る薄膜形成工程（以下、「薄膜形成工程」と略記することがある）と、前記薄膜化された硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液を減圧下、不活性ガス雰囲気下で当該ディスク表面において脱水する乾燥工程（以下、「乾燥工程」と略記することがある）と、前記乾燥工程で得られる無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物を当該ディスク表面から取り出す分離工程（以下、「分離工程」と略記することがある）を、この順番で繰り返すことにより連続的に無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物を得ることを特徴とするものである。本発明において、無水硫化ソーダ有形物とは、硫化ソーダ（Ｎａ_２Ｓ）の無水物であって固体状のものである。また、無水多硫化ソーダ有形物とは、多硫化ソーダ（Ｎａ_２Ｓｘ）（ｘは１より大きく４以下の実数）の無水物であって固体状のものである。多硫化ソーダとしては、例えば、二硫化ソーダ（Ｎａ_２Ｓ_２）、三硫化ソーダ（Ｎａ_２Ｓ_３）、四硫化ソーダ（Ｎａ_２Ｓ_４）等が挙げられる。

【0013】

後述する実施例１と比較例１との対比から分かるように、硫化ソーダ水溶液を霧状に噴出して脱水した比較例１では、粘度が急激に上昇し液体として噴出した。色も黒色で高温強アルカリの硫化ソーダ水溶液が配管を腐食したことが示唆された。腐食により配管の肉厚が減少し噴き出すおそれがあるため、安全面に問題があった。これに対し、上記薄膜形成工程、乾燥工程及び分離工程をこの順番で繰り返し行った実施例１では、不純物の少ない無水硫化ソーダ有形物を連続的に安全かつ効率良く得ることができる。同様に、上記薄膜形成工程、乾燥工程及び分離工程をこの順番で繰り返し行った実施例２では、不純物の少ない無水多硫化ソーダ有形物を連続的に安全かつ効率良く得ることができる。したがって、このような方法を採用する本発明の意義が大きいことが分かる。

【0014】

本発明における薄膜形成工程では、硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液をディスク表面に供給して薄膜化された硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液を得る工程が行われる。図１に示されるように、供給槽から硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液が供給ポンプで循環槽に送液されることが好ましく、循環槽から硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液が循環ポンプで供給ノズルに送液されることが好ましい。次いで、供給ノズルから硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液が回転するディスク表面に供給されることにより薄膜化された硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液を得る工程が好適に行われる。当該ディスク表面に付着されなかった余剰分の硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液を循環槽で回収し、再度、循環ポンプで供給ノズルに送液する方法が好適に採用される。このとき、ディスク加熱手段により当該ディスク表面が５０～１７０℃に保たれていることが好ましく、８０～１５０℃に保たれていることがより好ましい。ディスク加熱手段としては、特に限定されず、加熱装置を別途設けていてもよいし、後述する乾燥工程で取り除かれる蒸気を加熱手段として利用してもよい。なお、後述する乾燥工程と同様に、薄膜形成工程においても容器内を減圧下、不活性雰囲気下とする方法が好適に採用される。

【0015】

本発明で用いられる硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液の濃度としては特に限定されないが、３～６０重量％であることが好ましい。硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液の濃度が３重量％未満の場合、著しく生産の効率が悪くなるおそれがあり、５重量％以上であることがより好ましく、８重量％以上であることが更に好ましい。一方、硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液の濃度が６０重量％を超える場合、水溶液が送液途中の配管内で固結するおそれがあり、５５重量％以下であることがより好ましく、５０重量％以下であることが更に好ましい。

【0016】

本発明における乾燥工程では、前記薄膜化された硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液を減圧下、不活性ガス雰囲気下で当該ディスク表面において脱水する工程が行われる。ディスクの回転とともに、当該ディスク表面において薄膜化された硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液から水分が取り除かれることになる。このとき、薄膜形成工程と同様に、ディスク加熱手段により当該ディスク表面が５０～１７０℃に保たれていることが好ましく、８０～１５０℃に保たれていることがより好ましい。乾燥工程において、減圧下にする方法としては特に限定されず、真空ポンプ等の減圧手段で容器内を減圧下にする方法が好適に採用され、これにより、均一かつ効率良く水分が気化し、蒸気として取り除かれる。容器内に存在する蒸気を取り除く観点から、容器の任意の位置に蒸気を取り除く排出口を設けておくことが好適な実施態様である。

【0017】

また、乾燥工程において、不活性ガス雰囲気下にする方法としては特に限定されず、不活性ガス供給手段で不活性ガスを容器内に供給する方法が好適に採用される。不活性ガスとしては、窒素、ヘリウム、アルゴンが挙げられ、中でも窒素が好適に使用される。また、容器内に供給された不活性ガスを回収する回収手段を有することが好ましい。回収手段としては、特に限定されないが、上述した蒸気を取り除く排出口から蒸気とともに不活性ガスを回収してもよく、回収された不活性ガスと蒸気とを分離した後に、当該不活性ガスを不活性ガス供給手段で再度容器内に供給することも好適な実施態様である。

【0018】

本発明者らの検討により、効率の良い製造を行うためにも、前記脱水時間は６～３００秒であることが好ましく、１０～２４０秒であることがより好ましく、２０～１８０秒であることが更に好ましい。本発明における脱水時間とは、乾燥工程に要する時間のことであり、薄膜形成工程において薄膜化された硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液を得た直後から、分離工程で無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物をディスク表面から取り出す直前までの時間のことをいう。

【0019】

乾燥工程における容器内の減圧度（絶対圧）としては、１～４０ｋＰａであることが好ましく、５～３０ｋＰａであることがより好ましい。当該減圧度を制御するとともに、当該ディスク表面の温度を制御することで、当該ディスク表面において薄膜化された硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液から効率良く水分を取り除き、無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物を得ることができる。

【0020】

次いで、本発明における分離工程では、乾燥工程で得られる無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物を当該ディスク表面から取り出す工程が行われる。取り出す方法としては特に限定されないが、図１に示されるように、容器内にスクレーパーを備えていることが好ましく、ディスクの回転とともに乾燥工程で得られる無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物を当該ディスク表面からスクレーパーでかき落し、当該かき落された無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物が収集される収集槽を備えていることが好ましい。無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物は潮解性を示すため、乾燥工程と同様に、分離工程においても容器内を減圧下、不活性雰囲気下とする方法が好適に採用される。

【0021】

本発明の無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物の製造方法は、上記薄膜形成工程、乾燥工程及び分離工程をこの順番で繰り返すことを特徴としており、これにより、無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物を連続的に安全かつ効率良く得ることができる。本発明で得られる無水硫化ソーダ有形物において、無水硫化ソーダ成分の含有量が９５重量％以上であることが好ましく、９７重量％以上であることがより好ましく、９８重量％以上であることが更に好ましい。無水多硫化ソーダ有形物において、無水多硫化ソーダ成分の含有量が９０重量％以上であることが好ましく、９１重量％以上であることがより好ましく、９２重量％以上であることが更に好ましい。なお、無水硫化ソーダ成分、並びに無水多硫化ソーダ成分の含有量は、通常、９９．５重量％以下であり、９９重量％以下であることが好ましい。

【0022】

本発明で得られる無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物において、水分の含有量は、３重量％以下であることが好ましく、２重量％以下であることがより好ましく、１重量％以下であることが更に好ましく、０．５重量％以下であることが特に好ましく、水分は実質的に含まれないことが最も好ましい。水分の含有量は、通常、０．０１重量％以上である。

【0023】

本発明で得られる無水硫化ソーダ有形物において、水硫化ソーダ（ＮａＳＨ）、炭酸ナトリウム（Ｎａ_２ＣＯ_３）、亜硫酸ナトリウム（Ｎａ_２ＳＯ_３）、チオ硫酸ナトリウム（Ｎａ_２Ｓ_２Ｏ_３）等の不純物が含まれ得るが、水硫化ソーダ（ＮａＳＨ）、炭酸ナトリウム（Ｎａ_２ＣＯ_３）、亜硫酸ナトリウム（Ｎａ_２ＳＯ_３）及びチオ硫酸ナトリウム（Ｎａ_２Ｓ_２Ｏ_３）成分の合計含有量が５重量％以下であることが好ましく、４重量％以下であることがより好ましく、３重量％以下であることが更に好ましく、２重量％以下であることが特に好ましい。なお、前記合計含有量は、通常、０．５重量％以上である。

【0024】

中でも、本発明で得られる無水硫化ソーダ有形物において、水硫化ソーダ（ＮａＳＨ）成分の含有量が１．０重量％以下であることが好ましい。不純物をできるだけ少なくする観点から、水硫化ソーダ（ＮａＳＨ）成分の含有量は、０．８重量％以下であることがより好ましく、０．５重量％以下であることが更に好ましい。なお、水硫化ソーダ成分の含有量は、通常、０．１重量％以上である。

【0025】

本発明で得られる無水多硫化ソーダ有形物において、チオ硫酸ナトリウム（Ｎａ_２Ｓ_２Ｏ_３）等の不純物が含まれ得るが、チオ硫酸ナトリウム（Ｎａ_２Ｓ_２Ｏ_３）成分の含有量が１０重量％以下であることが好ましく、８重量％以下であることがより好ましく、６重量％以下であることが更に好ましく５重量％以下であることが特に好ましい。なお、前記含有量は、通常、０．１重量％以上である。

【0026】

本発明で得られる無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物の形状としては特に限定されず、フレーク状、チップ状、ペレット状等、その他任意の形状であってよい。本発明で得られる無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物は、水分が少ないため、水分を嫌う有機合成用原料や工業製品用原料として好適に用いることができる。

【実施例】

【0027】

以下、実施例を用いて本発明を更に具体的に説明する。

【0028】

実施例１
真空薄膜乾燥機（株式会社西村鐵工所製）の供給槽から10重量％硫化ソーダ水溶液を供給ポンプにより循環槽に２Ｌ供給した。循環槽から10重量％硫化ソーダ水溶液を循環ポンプにより供給ノズルに送液し、供給ノズルの先端から10重量％硫化ソーダ水溶液を回転する伝熱面積０．４ｍ^２のディスク表面に連続的に供給し、当該ディスク表面に10重量％硫化ソーダ水溶液からなる薄膜が形成された。ディスクに付着しなかった余剰の硫化ソーダ水溶液は循環槽に戻り、再度、循環槽から供給ノズルに送液される。このとき、装置内の減圧度（絶対圧）は２０ｋＰａａｂｓ、ディスク蒸気圧力（ゲージ圧）は０．３ＭＰａＧ、窒素量は５０Ｌ/ｍｉｎ（９９．９％以上）、ディスク表面の温度は１４０℃であった。ディスクの回転とともに当該薄膜中の水分が３０秒で脱水されて有形物となり、当該有形物をディスク表面からスクレーパーで掻き出して収集槽にて回収し、無水硫化ソーダ有形物を得た。得られた無水硫化ソーダ有形物の成分を中和滴定法と酸化還元滴定法を組み合わせて分析した。水分値は全体からその他の成分を差し引くことで算出した。表１に結果をまとめて示す。

【0029】

実施例２
真空薄膜乾燥機（株式会社西村鐵工所製）の供給槽から30重量％四硫化ソーダ水溶液を供給ポンプにより循環槽に２Ｌ供給した。循環槽から30重量％四硫化ソーダ水溶液を循環ポンプにより供給ノズルに送液し、供給ノズルの先端から30重量％四硫化ソーダ水溶液を回転する伝熱面積０．４ｍ^２のディスク表面に連続的に供給し、当該ディスク表面に四硫化ソーダ水溶液からなる薄膜が形成された。ディスクに付着しなかった余剰の四硫化ソーダ水溶液は循環槽に戻り、再度、循環槽から供給ノズルに送液される。このとき、装置内の減圧度（絶対圧）は２０ｋＰａａｂｓ、ディスク蒸気圧力（ゲージ圧）は０．３ＭＰａＧ、窒素量は５０Ｌ/ｍｉｎ（９９．９％以上）、ディスク表面の温度は１４０℃であった。ディスクの回転とともに当該薄膜中の水分が３０秒で脱水されて有形物となり、当該有形物をディスク表面からスクレーパーで掻き出して収集槽にて回収し、無水多硫化ソーダ有形物である無水四硫化ソーダ有形物を得た。得られた無水四硫化ソーダ有形物の成分を比色法と酸化還元滴定法を組み合わせて分析した。表２に結果を示す。

【0030】

比較例１
15重量％硫化ソーダ水溶液を7.2Ｌ／ｈにて連続的に真空噴霧乾燥装置の熱交換配管に供給した。その際、装置全体を10Ｔｏｒｒに減圧した。熱交換配管は１５０℃まで昇温されており、噴出された15重量％硫化ソーダ水溶液は高粘度の液体となり、捕集缶内に付着した。捕集缶ジャケットは吸湿や結露を防ぐため１２０℃に昇温していた。冷却後、捕集缶に付着した硫化ソーダの固形物を回収した。得られた硫化ソーダの固形物の成分を実施例１記載の手法を用いて分析した。表１に結果を示す。噴出される段階で硫化ソーダの液体は高粘度の黒色の液体となっており、熱交換配管内で配管を腐食しながら濃縮されたと考えられる。捕集缶も黒く変色していた。配管腐食により高温となった強アルカリの硫化ソーダ水溶液が配管から噴き出すことが想定される。品質面、耐久性及び安全面に問題がある。

【0031】

比較例２
フレーク状の硫化ソーダ２００ｇを５００ミリリットルのロータリーエバポレーターに入れ、９５℃に加熱した窒素ガスを該ロータリーエバポレーターの底部から毎分１０ノルマルリットルで流し始めたところ、９分後白色化が始まり、６０分後に全体がほとんど白色化したので、窒素ガスの導入を停止した。この時の内温は７６℃であった。次いで、該ロータリーエバポレーターを真空ポンプに接続し、減圧加熱脱水における圧力を４０Ｔｏｒｒにして脱水を行ったところ、減圧加熱脱水を開始した後２０分後に有形物の一部が溶融し始めた。

【0032】

【表1】

【0033】

【表2】

【符号の説明】

【0034】

１ 真空薄膜乾燥機
２ 容器
３ 硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液
４ 供給槽
５ 供給ポンプ
６ 循環槽
７ 循環ポンプ
８ 供給ノズル
９ 回転軸
１０ ディスク
１１ スクレーパー
１２ 無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物
１３ 収集槽

【要約】

無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物の製造方法であって、硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液を出発原料とし、前記硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液をディスク表面に供給して薄膜化された硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液を得る薄膜形成工程と、前記薄膜化された硫化ソーダ水溶液又は多硫化ソーダ水溶液を減圧下、不活性ガス雰囲気下で当該ディスク表面において脱水する乾燥工程と、前記乾燥工程で得られる無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物を当該ディスク表面から取り出す分離工程を、この順番で繰り返すことにより連続的に無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物を得ることを特徴とする。これにより、無水硫化ソーダ有形物又は無水多硫化ソーダ有形物を連続的に得ることのできる、安全かつ生産効率が良好な製造方法が提供される。

【図1】