特許 7466538 オキシム誘導体の水素化プロセス

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-04-04

(45)【発行日】2024-04-12

(54)【発明の名称】オキシム誘導体の水素化プロセス

(51)【国際特許分類】

   C07C 239/20 20060101AFI20240405BHJP

   C07D 231/14 20060101ALI20240405BHJP

   C07F 17/00 20060101ALI20240405BHJP

   C07B 61/00 20060101ALN20240405BHJP

【ＦＩ】

C07C239/20

C07D231/14

C07F17/00 CSP

C07B61/00 300

【請求項の数】 12

(21)【出願番号】P 2021524251

(86)(22)【出願日】2019-11-01

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2022-02-09

(86)【国際出願番号】 EP2019079994

(87)【国際公開番号】W WO2020094527

(87)【国際公開日】2020-05-14

【審査請求日】2022-10-27

(31)【優先権主張番号】1818113.1

(32)【優先日】2018-11-06

(33)【優先権主張国・地域又は機関】GB

(73)【特許権者】

【識別番号】520222106

【氏名又は名称】シンジェンタ クロップ プロテクション アクチェンゲゼルシャフト

(74)【代理人】

【識別番号】100094569

【弁理士】

【氏名又は名称】田中 伸一郎

(74)【代理人】

【識別番号】100103610

【弁理士】

【氏名又は名称】▲吉▼田 和彦

(74)【代理人】

【識別番号】100109070

【弁理士】

【氏名又は名称】須田 洋之

(74)【代理人】

【識別番号】100119013

【弁理士】

【氏名又は名称】山崎 一夫

(74)【代理人】

【識別番号】100123777

【弁理士】

【氏名又は名称】市川 さつき

(74)【代理人】

【識別番号】100111796

【弁理士】

【氏名又は名称】服部 博信

(74)【代理人】

【識別番号】100136249

【弁理士】

【氏名又は名称】星野 貴光

(72)【発明者】

【氏名】スメイカル トマス

【審査官】宮田 透

(56)【参考文献】

【文献】特表２０１５－５０８７９４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２０１６－５２５０８４（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２００７／０１２９５７４（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特開２０１８－０８３７９２（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１５－０７４６３２（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２０１３／１５３４０７（ＷＯ，Ａ１）

【文献】国際公開第２０１３／１５３４０８（ＷＯ，Ａ１）

【文献】特開２０１７－０１４１９５（ＪＰ，Ａ）

【文献】欧州特許出願公開第０１８６２４４６（ＥＰ，Ａ１）

【文献】Youcef Boutadla et al.，Alkyne insertion into cyclometallated pyrazole and imine complexes of iridium, rhodium and ruthenium; relevance to catalytic formation of carbo- and heterocycles，Dalton Transactions，2010年10月06日，39，pp.10447-10457，DOI: 10.1039/c0dt00280a

【文献】Yun-Fei Zhang et al.，Ir-Catalyzed C－H Amidation of Aldehydes with Stoichiometric/ Catalytic Directing Group，Chem. Eur. J.，2016年10月26日，22，pp.17808-17812，DOI : 10.1002/chem.201603805

【文献】Megumi Watanabe et al.，Synthesis, Structures, and Transfer Hydrogenation Catalysis of Bifunctional Iridium Complexes Bearing a C-N Chelate Oxime Ligand，Eur. J. Inorg. Chem.，2011年10月10日，pp.504-511，DOI: 10.1002/ejic.201100800

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ０７Ｃ、Ｃ０７Ｄ、Ｃ０７Ｆ、Ｃ０７Ｂ

ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

オキシム（Ｉ）と水素とを、式（ＩＩＩａ）又は式（ＩＩＩｂ）のイリジウム触媒及び酸の存在下に反応させることによる、式（ＩＩ）のヒドロキシルアミン塩をもたらすための式（Ｉ）のオキシムの水素化に係るプロセス；

【化1】

であって、ここで、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各々独立して、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ヒドロキシアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈シアノアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシＣ₁～Ｃ₈アルキル、ジ（Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ）Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₂～Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、フェニル、フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキル又はヘテロアリールであり、ここで、前記シクロアルキル及びフェニル部分は各々、任意選択により、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、ヘテロアリール、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニル、アシルアミノ、アミド、シアノ、ニトロ及びＣ₂～Ｃ₆アルケニルから選択される１個～５個の基で置換されており；又は
Ｒ¹及びＲ²は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、４員～８員飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、１個、２個又は３個のヘテロ原子を含む非芳香族単環式環であり、ここで、前記ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択され；
Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は各々独立して、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルキルであり；

【化2】

は、イリジウムに配位する少なくとも１個の炭素原子及びイリジウムに配位する少なくとも１個の窒素原子を含む二座キレートリガンドを表し；
Ｘは、式Ｒ¹⁴－ＳＯ₂Ｏ－又はＲ¹⁵－Ｃ（Ｏ）Ｏ－のアニオン基を表し、ここで、
Ｒ¹⁴は、ヒドロキシ、Ｃ₁ ～Ｃ₆アルキル、Ｃ₁ ～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁ ～Ｃ₆ハロアルキル又はフェニルであり、ここで、フェニル部分は、同一であっても異なっていてもよい、Ｒ¹⁶から選択される１個、２個、３個又は４個の置換基により任意選択により置換されており；
Ｒ¹⁶は、Ｃ₁ ～Ｃ₄アルキル、Ｃ₁ ～Ｃ₄ハロアルキル、ニトロ又はハロゲンであり；
Ｒ¹⁵はＣ₁ ～Ｃ₆ハロアルキル又はフェニルであり、ここで、前記フェニル部分は、同一であっても異なっていてもよい、Ｒ¹⁷から選択される１個、２個、３個又は４個の置換基により任意選択により置換されており；
Ｒ¹⁷は、Ｃ₁ ～Ｃ₄アルキル、Ｃ₁ ～Ｃ₄ハロアルキル、ニトロ又はハロゲンであり；
Ｙは中性リガンドを表し；並びに
Ｚはアニオン基を表す、プロセス。

【請求項2】

Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は各々、水素又はメチルを表す、請求項１に記載のプロセス。

【請求項3】

Ｘは、式Ｒ¹⁴－ＳＯ₂Ｏ^-の基を表す、請求項１又は請求項２に記載のプロセス。

【請求項4】

前記二座キレートリガンドは、式（ＩＶ－１）、（ＩＶ－２）、（ＩＶ－３）、（ＩＶ－５）、（ＩＶ－６）、（ＩＶ－７）、（ＩＶ－８）、（ＩＶ－９）、（ＩＶ－１０）、（ＩＶ－１１）及び（ＩＶ－１２）：

【化3】

の化合物から選択される、請求項１～３のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項5】

Ｚは、Ｒ¹⁴－ＳＯ₂Ｏ^-、メシレート、スルフェート、ハイドロジェノスルフェート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、テトラフェニルボレート又はテトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレートである、請求項１～４のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項6】

前記酸は、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、硫酸又はトリフリック酸である、請求項１～５のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項7】

ＹはＨ₂Ｏ又はＭｅＣＮである、請求項１～６のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項8】

前記イリジウム触媒は、式（ＩＩＩ－１）、（ＩＩＩ－１１）、（ＩＩＩ－１７）、（ＩＩＩ－１８）、又は（ＩＩＩ－１９）：

【化4】

の化合物である、請求項１～７のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項9】

前記式（ＩＩ）のヒドロキシルアミンはＮ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（ＩＩ－１）である、請求項１～８のいずれか一項に記載のプロセス。

【請求項10】

前記Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（ＩＩ－１）を３－（ジフルオロメチル）－１－メチル－ピラゾール－４－塩化カルボニル（ＸＩＩ）とさらに反応させて、３－（ジフルオロメチル）－Ｎ－メトキシ－１－メチル－Ｎ－［１－メチル－２－（２，４，６－トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール－４－カルボキサミド（ＸＩＩＩ）：

【化5】

を得る、請求項９に記載のプロセス。

【請求項11】

式（ＩＩＩｃ）又は（ＩＩＩｄ）：

【化6】

（式中、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は各々独立して、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルキルから選択され；
Ｒ^11A、Ｒ^11B、Ｒ^11C、Ｒ^11D、Ｒ^11E、Ｒ^13A、Ｒ^13B、Ｒ^13C及びＲ^13Dは各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルコキシ、ヒドロキシＣ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシＣ₁～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニルＣ₁～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルキルカルボニルＣ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェノキシ又はニトロであり；
Ｒ¹²は、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル又はフェニルであり、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル及びＣ₁～Ｃ₈アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されており；又は
Ｒ¹²及びＲ^13Dは、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員～８員部分飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、１個又は２個のヘテロ原子を含む非芳香族環であり、ここで、前記ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択され；
Ｘは、メシレート、トシレート、ノシレート、スルフェート、ハイドロジェノスルフェート、トリフレート又はトリフルオロアセテートであり；
Ｙは、Ｈ₂Ｏであり；並びに
Ｚは、メシレート、トシレート、ノシレート、スルフェート、ハイドロジェノスルフェート、トリフレート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、テトラフェニルボレート又はテトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレートである）
の化合物。

【請求項12】

式（ＩＩＩ－１）、（ＩＩＩ－１１）、（ＩＩＩ－１７）、（ＩＩＩ－１８）及び（ＩＩＩ－１９）：

【化7】

の化合物から選択される式（ＩＩＩ）の化合物。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、オキシムのイリジウム－触媒水素化に係る新規プロセスに関する。本発明はまた、オキシムのイリジウム－触媒水素化において用いられる新規イリジウム触媒、及び、これらの触媒の調製プロセスに関する。本発明はさらに、他の不飽和基材のイオン性水素化における新規イリジウム触媒の使用に関する。

【背景技術】

【0002】

対応するヒドロキシルアミン誘導体へのオキシム及びオキシムエーテルの還元は、多くの有機合成における有用なステップである。

【化1】

【0003】

シアノ水素化ホウ素ナトリウム又はボラントリエチルアミン錯体などのボラン錯体を用いるオキシム及びオキシムエーテルの還元が、国際公開第１３／１２７７６４号に記載されている。ボラン還元法の主な欠点は、還元剤の高いコスト、化学量論量の廃棄物の形成がもたらされるこのプロセスの低い原子効率、及び、シアノ水素化ホウ素の毒性である。多くの事例において、ボランオキシム還元では、対応する第一級アミンへの過還元が生じてしまう（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．Ｉ，１９８５，２０３９）。

【0004】

国際公開第１３／１２７７６４号には、白金－炭素触媒及び硫酸又は塩酸などの強酸の存在下における、ヒドロキシルアミンへのオキシム及びオキシムエーテルの不均一系水素化が開示されている。この方法の主な欠点は、厳しい反応条件及び限定された範囲であり、例えば、ニトロ基又はアルケン基などの基材における容易に還元される他の官能基は耐性がない。いくつかの場合において、不均一系オキシムからヒドロキシルアミンへの水素化では、対応する第一級アミンへの過還元、並びに、触媒被毒が生じてしまう。

【0005】

オキシム及びオキシムエーテルのヒドロキシルアミンへの均一系水素化に係る報告はほとんどない。オキシムの遷移金属－触媒水素化は通例、対応する第一級アミンへの過還元、及び、低い触媒効率により苦労を伴うものである（コバルト触媒－Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．１９６３，３６，７６３；ルテニウム触媒－Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ １９９２，３，１２８３；ロジウム触媒－Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．１９９５，１７６７；Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．２０１３，１５，４８４；Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ ２０１６，２７，２６８；イリジウム触媒－Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕｎ．２００１，３１，２７６７）。

【0006】

欧州特許第１８６２４４６号明細書には、６０ｂａｒの水素、ビス（１，５－シクロオクタジエン）イリジウム（Ｉ）テトラフルオロボレート及び（Ｒ）－１－［（Ｓ）－２－ジフェニルホスフィノフェロセニル］エチルジ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィンの組み合わせを用いる、エチル３－メトキシイミノブタノエート誘導体の均一系イリジウム－触媒水素化が開示されている。しかしながら、実際には、この方法は、３－ケトエステルのオキシムに範囲が限定されている。このような基材は２，３－不飽和エステルに互変異性化し、従って、記載のオキシム水素化反応は、実際には炭素－炭素二重結合還元である。

【0007】

Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１４，５３，１３２７８及びＣｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．２０１５，２１，１７５８３には、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン触媒を用いるオキシム誘導体の均質水素化が開示されているが、しかしながら、この方法は、嵩高いＯ－置換基（ｔ－ブチル又はＳｉ［（ＣＨ₃）₂ＣＨ］₃）を有するオキシムエーテルに限定されており、比較的厳しい反応条件（５％触媒、６０～１００ｂａｒ Ｈ₂）を利用する。

【0008】

Ｏｒｇ．Ｂｉｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ，２０１３，１１，６９３４、及び、関連する国際公開第１３／１５３４０７号及び国際公開第１３／１５３４０８号には、対応するイミンを介したケトン及びアルデヒドの還元性アミノ化のための一定のシクロペンタジエニルイリジウム触媒が開示されている。しかしながら、これらの開示されている触媒は、オキシムの還元には非効率的であることが見出されている。

【発明の概要】

【課題を解決するための手段】

【0009】

ここで、本発明者らは、一定の選択されたイリジウム触媒を用いることで、比較的温和な条件下に水素を用いるオキシムの還元を実施することが可能であることを見出した。

【発明を実施するための形態】

【0010】

本発明によれば、オキシム（Ｉ）と水素とを、式（ＩＩＩａ）又は式（ＩＩＩｂ）のイリジウム触媒及び酸の存在下に反応させることによる、式（ＩＩ）のヒドロキシルアミン塩をもたらすための式（Ｉ）のオキシムの水素化に係るプロセス；

【化2】

が提供され、ここで、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各々独立して、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ヒドロキシアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈シアノアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシＣ₁～Ｃ₈アルキル、ジ（Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ）Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₂～Ｃ₆アルケニル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、フェニル、フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキル又はヘテロアリールであり、ここで、前記シクロアルキル及びフェニル部分は各々、任意選択により、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェニル、ヘテロアリール、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシカルボニル、アシルアミノ、アミド、シアノ、ニトロ及びＣ₂～Ｃ₆アルケニルから選択される１個～５個の基で置換されており；又は
Ｒ¹及びＲ²は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、４員～８員飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、１個、２個又は３個のヘテロ原子を含む非芳香族単環式環であり、ここで、ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択される。

【0011】

好ましくは、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各々独立して、水素、Ｃ₁～Ｃ₄アルキル、Ｃ₁～Ｃ₄ヒドロキシアルキル、Ｃ₁～Ｃ₄シアノアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシＣ₁～Ｃ₄アルキル、ジ（Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ）Ｃ₁～Ｃ₄アルキル、Ｃ₁～Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₂～Ｃ₃アルケニル、Ｃ₃～Ｃ₆シクロアルキル、フェニル、フェニルＣ₁～Ｃ₂アルキル又はヘテロアリールであり、ここで、シクロアルキル及びフェニル部分は各々、任意選択により、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₃～Ｃ₆シクロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、フェニル、ヘテロアリール、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニル、アシルアミノ、アミド、シアノ、ニトロ及びＣ₂～Ｃ₃アルケニルから選択される１個、２個又は３個の基で置換されており；又は
Ｒ¹及びＲ²は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、４員～６員飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、１個、２個又は３個のヘテロ原子を含む非芳香族単環式環であり、ここで、ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択される。

【0012】

より好ましくは、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各々独立して、水素、Ｃ₁～Ｃ₄アルキル、Ｃ₁～Ｃ₄ヒドロキシアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシＣ₁～Ｃ₄アルキル、ジ（Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ）Ｃ₁～Ｃ₄アルキル、Ｃ₁～Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₂～Ｃ₃アルケニル、フェニル及びフェニルＣ₁～Ｃ₂アルキルであり、ここで、フェニル部分は、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニル、ヒドロキシル及びニトロから、好ましくはクロロ、メチル、メトキシ、メトキシカルボニル及びニトロから選択される１個、２個又は３個の基で任意選択により置換され得る。

【0013】

実施形態の１つの組において、Ｒ¹は、ｔｅｒｔ－ブチル、メトキシカルボニル、１，１－ジメトキシメチル、シクロプロピル、フェニル又はベンジルを表し、ここで、各フェニル又はベンジル部分の芳香族環は、クロロ、メチル、メトキシ、メトキシカルボニル及びニトロから独立して選択される１個、２個又は３個の基で任意選択により置換されており；
Ｒ²は、水素、メチル又はエチルを表し；並びに
Ｒ³は、水素、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ－ブチル、アリル又はベンジルを表す。

【0014】

実施形態の他の組において、Ｒ¹は、ｔｅｒｔ－ブチル、メトキシカルボニル、１，１－ジメトキシメチル、シクロプロピル、２－メチルフェニル、２－クロロフェニル、４－ニトロフェニル、４－メトキシフェニル、２－ブロモベンジル、４－メトキシベニル又は２，４，６－トリクロロベンジルを表し；
Ｒ²は、水素、メチル又はエチルを表し；並びに
Ｒ³は、水素、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ－ブチル、アリル又はベンジルを表す。

【0015】

実施形態の１つの組において、Ｒ¹はフェニル又はベンジルを表し、ここで、各フェニル又はベンジル部分の芳香族環は、クロロ、メチル、メトキシ、メトキシカルボニル又はニトロから独立して選択される１個、２個又は３個の基で任意選択により置換され；
Ｒ²は水素又はメチルを表し；及び
Ｒ³は、水素、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ－ブチル、アリル又はベンジルを表す。

【0016】

もっとも好ましい実施形態において、式（ＩＩ）のヒドロキシルアミンは、Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（ＩＩ－１）である。

【0017】

Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は各々独立して、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルキルである。好ましくは、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は各々独立して水素又はメチルであり、より好ましくは、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は各々、メチルを表す。

【0018】

【化3】

は、イリジウムに配位する少なくとも１個の炭素原子及びイリジウムに配位する少なくとも１個の窒素原子を含む二座キレートリガンドを表す。多くの金属－キレートリガンドが当業者に公知であり、本発明における使用に好適であろう。特に好適な二座キレートリガンドは、配位している窒素及び炭素原子において１，４－関係を有するもの、好ましくは、配位している炭素原子がフェニル環の一部を形成し、ここで、前記フェニル環がオルト位で置換されているものである。

【0019】

好ましい二座キレート化Ｃ，Ｎリガンドは、構造（ＩＶ）、（ＩＶａ）又は（ＩＶｂ）：

【化4】

のリガンドであり、ここで、Ｒ^11A、Ｒ^11B、Ｒ^11C、Ｒ^11D、Ｒ^11E、Ｒ^13A、Ｒ^13B、Ｒ^13C及びＲ^13Dは各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルコキシ、ヒドロキシＣ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシＣ₁～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニルＣ₁～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルキルカルボニルＣ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェノキシ又はニトロであり；
Ｒ¹²は、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル又はフェニルであり；並びに、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル及びＣ₁～Ｃ₈アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されており；又は
ここで、二座キレートリガンドは（ＩＶａ）又は（ＩＶｂ）であり、Ｒ^11A及びＲ^13Dは、これらが結合している炭素原子と一緒になって、５員又は６員不飽和環を形成し得、好ましくはＲ^11A及びＲ^13Dは、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員不飽和環を形成し得；又は
Ｒ¹²及びＲ^13Dは、これらが結合している炭素原子と一緒になって、５員～８員部分飽和又は不飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、１個又は２個のヘテロ原子を含む非芳香族環であり、及び、ここで、ヘテロ原子は、Ｎ，Ｏ及びＳから独立して選択される。一実施形態において、Ｒ¹²及びＲ^13Dは、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員～８員部分飽和又は不飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、１個又は２個のヘテロ原子を含む非芳香族環であり、ここで、ヘテロ原子は、Ｎ、Ｏ及びＳから独立して選択される。

【0020】

好ましくは、Ｒ^11A、Ｒ^11B、Ｒ^11C、Ｒ^11D、Ｒ^11E、Ｒ^13A、Ｒ^13B、Ｒ^13C及びＲ^13Dは各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、ヒドロキシＣ₁～Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシＣ₁～Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニルＣ₁～Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ又はニトロであり、及び、Ｒ¹²は、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル又はフェニルであり；並びに、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基により任意選択により置換されており；より好ましくは、Ｒ^11A、Ｒ^11B、Ｒ^11C、Ｒ^11D、Ｒ^11E、Ｒ^13A、Ｒ^13B、Ｒ^13C及びＲ^13Dは各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、ヒドロキシＣ₁～Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシＣ₁～Ｃ₃アルコキシ又はＣ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニルＣ₁～Ｃ₃アルコキシであり、及び、Ｒ¹²は、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル又はフェニルであり；並びに、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基により任意選択により置換されており；又は
ここで、二座キレートリガンドは（ＩＶａ）又は（ＩＶｂ）であり、Ｒ^11A及びＲ^13Dは、これらが結合している炭素原子と一緒になって、５又は６員、好ましくは６員不飽和環を形成し得；又は
Ｒ¹²及びＲ^13Dは、これらが結合している炭素原子と一緒になって、５員～７員、好ましくは６員又は７員、部分飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し、ここで、複素環式部分は１個のＯ原子を含む非芳香族環である。一実施形態において、Ｒ¹²及びＲ^13Dは、これらが結合している炭素原子と一緒になって、５又は６員部分飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、１個のＯ原子を含む非芳香族環である。

【0021】

より好ましくは、Ｒ^11A、Ｒ^11B、Ｒ^11C、Ｒ^11D、Ｒ^11E、Ｒ^13A、Ｒ^13B、Ｒ^13C及びＲ^13Dは各々独立して、水素、メチル、メトキシ、エトキシ、２－ヒドロキシエトキシ、２－メトキシエトキシ、メトキシカルボニル－メトキシ、イソ－プロポキシカルボニル－メトキシ又はニトロであり、及び、Ｒ¹²は、水素、メチル又はフェニルであり；及び、ここで、各フェニル部分は、１個のメトキシ基により任意選択により置換されており；より好ましくは、Ｒ^11A、Ｒ^11B、Ｒ^11C、Ｒ^11D、Ｒ^11E、Ｒ^13A、Ｒ^13B、Ｒ^13C及びＲ^13Dは各々独立して、水素、メチル、メトキシ、エトキシ、２－ヒドロキシエトキシ、２－メトキシエトキシ、メトキシカルボニル－メトキシ又はイソ－プロポキシカルボニル－メトキシであり、又は
Ｒ¹²及びＲ^13Dは、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員又は７員部分飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は１個の酸素原子を含む非芳香族環である。

【0022】

一実施形態において、Ｒ^11A、Ｒ^11B、Ｒ^11C、Ｒ^11D、Ｒ^11E、Ｒ^13A、Ｒ^13B、Ｒ^13C及びＲ^13Dは各々独立して、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ又はニトロである。

【0023】

二座キレートリガンドの例は、以下に示されている式（ＩＶ－１）、（ＩＶ－２）、（ＩＶ－３）、（ＩＶ－５）、（ＩＶ－６）、（ＩＶ－７）、（ＩＶ－８）、（ＩＶ－９）、（ＩＶ－１０）、（ＩＶ－１１）又は（ＩＶ－１２）：

【化5】

の化合物である。

【0024】

Ｘはアニオン基、すなわち、正味で負の電荷を有する基を表し、ここで、Ｘはハロゲンではない。Ｘがハロゲンである（ＩＩＩａ）の錯体においては、アニオン基が金属に対して過度に強固に結合しており、このような錯体は、中性又は酸性水素化条件下において、触媒的に活性な水素化物中間体を十分な量で提供しないことを本発明者らは見出した。好適なアニオン基Ｘの例としては、式Ｒ¹⁴－ＳＯ₂Ｏ^-又はＲ¹⁵－Ｃ（Ｏ）Ｏ^-のアニオン性リガンドが挙げられ、ここで
Ｒ¹⁴は、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₆ハロアルキル又はフェニルであり、ここで、フェニル部分は、同一であっても異なっていてもよい、Ｒ¹⁶から選択される１個、２個、３個又は４個の置換基により任意選択により置換されており；
Ｒ¹⁶は、Ｃ₁～Ｃ₄アルキル、Ｃ₁～Ｃ₄ハロアルキル、ニトロ又はハロゲンであり、好ましくはメチル、エチル、トリフルオロメチル、ニトロ又はハロゲンであり、より好ましくはメチル又はハロゲンであり、さらにより好ましくはメチル、クロロ又はフルオロである。

【0025】

好ましくは、Ｒ¹⁴は、ヒドロキシ、メチル、トリフルオロメチル、フェニル又はトリルである。

【0026】

Ｒ¹⁵はＣ₁～Ｃ₆ハロアルキル又はフェニルであり、ここで、フェニル部分は、同一であっても異なっていてもよい、Ｒ¹⁷から選択される１個、２個、３個又は４個の置換基により任意選択により置換されている。

【0027】

Ｒ¹⁷は、Ｃ₁～Ｃ₄アルキル、Ｃ₁～Ｃ₄ハロアルキル、ニトロ又はハロゲンである。

【0028】

好ましくは、Ｒ¹⁵はトリフルオロメチルである。

【0029】

一実施形態において、Ｘは、式Ｒ¹⁴－ＳＯ₂Ｏの基を表す。一実施形態において、Ｘは、メシレート、トシレート、ノシレート、スルフェート、ハイドロジェンスルフェート、トリフレート又はトリフルオロ酢酸塩である。

【0030】

Ｙは、中性リガンド、すなわち、全体で無電荷であるリガンドを表す。中性リガンドの例としては、限定されるものではないが、Ｈ₂Ｏ、アルコール、エーテル、ケトン、エステル、アミド及びニトリルが挙げられる。好ましくは、Ｙは、Ｈ₂Ｏ、ＰｈＣＮ又はＭｅＣＮであり、より好ましくはＨ₂Ｏ又はＭｅＣＮであり、最も好ましくは、ＹはＨ₂Ｏである。

【0031】

Ｚは、アニオン基、すなわち、正味で負の電荷を有する基を表し、ここで、Ｚはハロゲン又はアセテートではない。アニオン基の例としては、式Ｒ¹⁴－ＳＯ₂Ｏ^-（ここで、Ｒ¹⁴は上記に記載されている）のリガンド、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロリン酸、過塩素酸、テトラフェニルボレート、テトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレート、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、フッ素化アルコキシアルミネート、メシレート、トリフレート、トシレート、ニトレート、ハイドロジェノスルフェート（hydrogenosulfate）又はスルフェート、及び、他の弱く配位するアニオン基が挙げられる。好ましくは、Ｚは、式Ｒ¹⁴－ＳＯ₂Ｏ^-（ここで、Ｒ¹⁴は上記に記載されている）のもの、メシレート、スルフェート、ハイドロジェノスルフェート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロリン酸、テトラフェニルボレート又はテトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレート、より好ましくは、メシレート又はテトラフルオロボレートである。

【0032】

上記のプロセスによってもたらされるＮ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（ＩＩ－１）を３－（ジフルオロメチル）－１－メチル－ピラゾール－４－塩化カルボニル（ＸＩＩ）とさらに反応させて、３－（ジフルオロメチル）－Ｎ－メトキシ－１－メチル－Ｎ－［１－メチル－２－（２，４，６－トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール－４－カルボキサミド（ＸＩＩＩ）を得るプロセス：

【化6】

もまた提供される。

【0033】

本発明の一実施形態において、イリジウム触媒は、式（ＩＩＩ－１）、（ＩＩＩ－１１）、（ＩＩＩ－１７）、（ＩＩＩ－１８）又は（ＩＩＩ－１９）：

【化7】

の化合物であり、好ましくはイリジウム触媒は、式（ＩＩＩ－１）の化合物であり、式（ＩＩＩ－１）、（ＩＩＩ－１１）、（ＩＩＩ－１７）、（ＩＩＩ－１８）又は（ＩＩＩ－１９）の化合物もまた提供され、好ましくは、式（ＩＩＩ－１）の化合物が提供される。

【0034】

本発明の他の実施形態において、式（ＩＩＩｃ）又は（ＩＩＩｄ）：

【化8】

の化合物が提供され、ここで、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は各々独立して、水素又はＣ₁～Ｃ₃アルキルである。好ましくは、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は各々独立して、水素又はメチルであり、より好ましくは、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は各々メチルを表し；
ここで、Ｒ^11A、Ｒ^11B、Ｒ^11C、Ｒ^11D、Ｒ^11E、Ｒ^13A、Ｒ^13B、Ｒ^13C及びＲ^13Dは各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル、Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルコキシ、ヒドロキシＣ₁～Ｃ₈アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシＣ₁～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニル、Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニルＣ₁～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₈アルキルカルボニルＣ₁～Ｃ₆アルコキシ、フェノキシ又はニトロであり；
Ｒ¹²は、水素、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル又はフェニルであり；ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₈アルキル及びＣ₁～Ｃ₈アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されており；又は
Ｒ¹²及びＲ^13Dは、これらが結合している炭素原子と一緒になって、５員～８員部分飽和若しくは不飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、１個又は２個のヘテロ原子を含む非芳香族環であり、ここで、ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから独立して選択される。一実施形態において、Ｒ¹²及びＲ^13Dは、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員若しくは８員部分飽和若しくは不飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は１個又は２個のヘテロ原子を含む非芳香族環であり、ここで、ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから独立して選択され；
Ｘは、メシレート、トシレート、ノシレート、スルフェート、ハイドロジェンスルフェート、トリフレート又はトリフルオロ酢酸塩であり；
Ｙは、Ｈ₂Ｏ、ＰｈＣＮ又はＭｅＣＮであり；及び
Ｚは、メシレート、トシレート、ノシレート、スルフェート、ハイドロジェノスルフェート、トリフレートテトラフルオロボレート、ヘキサフルオロリン酸、テトラフェニルボレート又はテトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレートである。

【0035】

好ましくは、Ｒ^11A、Ｒ^11B、Ｒ^11C、Ｒ^11D、Ｒ^11E、Ｒ^13A、Ｒ^13B、Ｒ^13C及びＲ^13Dは各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、ヒドロキシＣ₁～Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシＣ₁～Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニルＣ₁～Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ又はニトロであり、及び、Ｒ¹²は、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル又はフェニルであり；並びに、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基により任意選択により置換されており；より好ましくは、Ｒ^11A、Ｒ^11B、Ｒ^11C、Ｒ^11D、Ｒ^11E、Ｒ^13A、Ｒ^13B、Ｒ^13C及びＲ^13Dは各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ、ヒドロキシＣ₁～Ｃ₃アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシＣ₁～Ｃ₃アルコキシ又はＣ₁～Ｃ₃アルコキシカルボニルＣ₁～Ｃ₃アルコキシであり、及び、Ｒ¹²は、水素、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル又はフェニルであり；並びに、ここで、各フェニル部分は、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル及びＣ₁～Ｃ₃アルコキシから選択される１個～３個の基により任意選択により置換されており；又は
Ｒ¹²及びＲ^13Dは、これらが結合している炭素原子と一緒になって、５員～７員、好ましくは６員又は７員部分飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は１個のＯ原子を含む非芳香族環である。一実施形態において、Ｒ¹²及びＲ^13Dは、これらが結合している炭素原子と一緒になって、５又は６員部分飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は１個のＯ原子を含む非芳香族環である。

【0036】

より好ましくは、Ｒ^11A、Ｒ^11B、Ｒ^11C、Ｒ^11D、Ｒ^11E、Ｒ^13A、Ｒ^13B、Ｒ^13C及びＲ^13Dは各々独立して、水素、メチル、メトキシ、エトキシ、２－ヒドロキシエトキシ、２－メトキシエトキシ、メトキシカルボニル－メトキシ、イソ－プロポキシカルボニル－メトキシ又はニトロであり、及び、Ｒ¹²は、水素、メチル又はフェニルであり；並びに、ここで、各フェニル部分は、１個のメトキシ基により任意選択により置換されており；より好ましくは、Ｒ^11A、Ｒ^11B、Ｒ^11C、Ｒ^11D、Ｒ^11E、Ｒ^13A、Ｒ^13B、Ｒ^13C及びＲ^13Dは各々独立して、水素、メチル、メトキシ、エトキシ、２－ヒドロキシエトキシ、２－メトキシエトキシ、メトキシカルボニル－メトキシ又はイソ－プロポキシカルボニル－メトキシであり；又は
Ｒ¹²及びＲ^13Dは、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員又は７員、好ましくは６員、部分飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は１個のＯ原子を含む非芳香族環である。

【0037】

本明細書において用いられるところ、「ハロゲン」又は「ハロ」という用語は、フッ素（フルオロ）、塩素（クロロ）、臭素（ブロモ）又はヨウ素（ヨード）、好ましくはフッ素、塩素又は臭素を指す。もっとも好ましくは、ハロゲンは塩素である。

【0038】

本明細書において用いられるところ、シアノは－ＣＮ基を意味する。

【0039】

本明細書において用いられるところ、「ヒドロキシル」又は「ヒドロキシ」という用語は、－ＯＨ基を意味する。

【0040】

本明細書において用いられるところ、アミノは－ＮＨ₂基を意味する。

【0041】

本明細書において用いられるところ、アシルアミノは－ＮＨ（Ｃ＝Ｏ）Ｒ_a基を意味し、ここで、Ｒ_aは、以下に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₄アルキルラジカルである。

【0042】

本明細書において用いられるところ、アミドは－（Ｃ＝Ｏ）ＮＲ_aＲ_a基を意味し、ここで、Ｒ_aは、水素又は以下に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₄アルキルラジカルから独立して選択される。

【0043】

本明細書において用いられるところ、ニトロは－ＮＯ₂基を意味する。

【0044】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₁～Ｃ₈アルキル」という用語は、単に炭素及び水素原子からなり、不飽和を含有せず、１個～６個の炭素原子を有し、並びに、単結合によって分子の残部に結合している直鎖又は分岐鎖炭化水素鎖ラジカルを指す。Ｃ₁～Ｃ₆アルキル、Ｃ₁～Ｃ₄アルキル、Ｃ₁～Ｃ₃アルキル及びＣ₁～Ｃ₂アルキルは相応に解釈されるべきである。Ｃ_1-8アルキルの例としては、これらに限定されないが、メチル、エチル、ｎ－プロピル、１－メチルエチル（イソプロピル）、ｎ－ブチル及び１－ジメチルエチル（ｔ－ブチル）が挙げられる。「Ｃ₁～Ｃ₂アルキレン」基は、Ｃ₁～Ｃ₂アルキルの対応する定義を参照するが、ただし、このようなラジカルは２つの単結合によって分子の残部に結合することを除く。Ｃ₁～Ｃ₂アルキレンの例は、－ＣＨ₂－及び－ＣＨ₂ＣＨ₂－である。

【0045】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₂～Ｃ₆アルケニル」という用語は、単に炭素及び水素原子からなり、（Ｅ）－又は（Ｚ）－立体配置のいずれかであることが可能である少なくとも１つの二重結合を含有し、２個～６個の炭素原子を有し、単結合によって分子の残部に結合している直鎖又は分岐鎖炭化水素鎖ラジカル基を指す。Ｃ₂～Ｃ₆アルケニルの例としては、これらに限定されないが、エテニル（ビニル）、プロプ－１－エニル、プロプ－２－エニル（アリル）及びブタ－１－エニルが挙げられる。

【0046】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシ」という用語は、上記に一般的に定義されているとおり、Ｒ_aがＣ_1-8アルキルラジカルである式－ＯＲ_aのラジカルを指す。Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁～Ｃ₃アルコキシ及びＣ₁～Ｃ₂アルコキシという用語は、相応に解釈されるべきである。Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシの例としては、これらに限定されないが、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ及びｔ－ブトキシが挙げられる。

【0047】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキル」という用語は、上記に一般的に定義されているとおり、同一又は異なる１個以上のハロゲン原子により置換されているＣ₁～Ｃ₈アルキルラジカルを指す。Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルキルの例としては、これらに限定されないが、フルオロメチル、フルオロエチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、２，２，２－トリフルオロエチル及び３，３，３－トリフルオロプロピルが挙げられる。

【0048】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₁～Ｃ₈ハロアルコキシ」という用語は、上記に一般的に定義されているとおり、同一又は異なる１個以上のハロゲン原子により置換されているＣ₁～Ｃ₈アルコキシラジカルを指す。

【0049】

本明細書において用いられるところ、「ヒドロキシＣ₁～Ｃ₈アルキル」という用語は、上記に定義されている１個以上のヒドロキシ基によって置換されている、上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₈アルキレンラジカルを指す。

【0050】

本明細書において用いられるところ、「ヒドロキシＣ₁～Ｃ₈アルコキシ」という用語は、上記に定義されている１個以上のヒドロキシ基によって置換されている、上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₈アルコキシラジカルを指す。

【0051】

本明細書において用いられるところ、「シアノＣ₁～Ｃ₈アルキル」という用語は、上記に定義されている１個以上のシアノ基により置換されている、上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₈アルキレンラジカルを指す。

【0052】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシＣ₁～Ｃ₆アルコキシ」という用語は、式Ｒ_bＯ－Ｒ_aＯ－のラジカルを指し、ここで、Ｒ_bは上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₈アルキルラジカルであり、及び、Ｒ_aは上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₆アルキレンラジカルである。Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシＣ₁～Ｃ₆アルコキシの例としては、これらに限定されないが、メトキシメトキシ、エトキシメトキシ及びメトキシエトキシが挙げられる。

【0053】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニル」という用語は、式Ｒ_aＯＣ（Ｏ）－のラジカルを指し、ここで、Ｒ_aは上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₈アルキルラジカルである。

【0054】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシＣ₁～Ｃ₈アルキル」という用語は、式Ｒ_aＯＲ_b－のラジカルを指し、ここで、各Ｒ_aは独立して、上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₆アルキルラジカルであり、及び、Ｒ_bは上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₈アルキレンラジカルである。

【0055】

本明細書において用いられるところ、「ジ（Ｃ₁～Ｃ₆アルコキシ）Ｃ₁～Ｃ₈アルキル」という用語は、式（Ｒ_aＯ）₂Ｒ_b－のラジカルを指し、ここで、各Ｒ_aは独立して、上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₆アルキルラジカルであり、及び、Ｒ_bは上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₈アルキレンラジカルである。

【0056】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₁～Ｃ₈アルコキシカルボニルＣ₁～Ｃ₆アルコキシ」という用語は、式Ｒ_aＯＣ（Ｏ）Ｒ_bＯ－のラジカルを指し、ここで、Ｒ_aは上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₈アルキルラジカルであり、及び、Ｒ_bは上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₆アルキルラジカルである。

【0057】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₁～Ｃ₈アルキルカルボニルＣ₁～Ｃ₆アルコキシ」という用語は、式Ｒ_aＣ（Ｏ）Ｒ_bＯ－のラジカルを指し、ここで、Ｒ_aは上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₈アルキルラジカルであり、及び、Ｒ_bは上記に一般的に定義されているＣ₁～Ｃ₆アルキルラジカルである。

【0058】

本明細書において用いられるところ、「Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキル」という用語は、飽和若しくは部分飽和であり、及び、３個～８個の炭素原子を含有する単環式環ラジカルを指す。Ｃ₃～Ｃ₆シクロアルキル及びＣ₃～Ｃ₅シクロアルキルは、相応に解釈されるべきである。Ｃ₃～Ｃ₈シクロアルキルの例としては、これらに限定されないが、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロペンタン－１－イル、シクロペンタン－３－イル及びシクロヘキセン－３－イルが挙げられる。

【0059】

本明細書において用いられるところ、「フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキル」という用語は、上記に定義されているＣ₁～Ｃ₃アルキルラジカルにより分子の残部に結合しているフェニル環を指す。フェニルＣ₁～Ｃ₃アルキルの例としては、これらに限定されないが、ベンジルが挙げられる。

【0060】

本明細書において用いられるところ、「ヘテロアリール」という用語は、一般に、窒素、酸素及び硫黄から個々に選択される１個又は２個のヘテロ原子を含む５又は６員単環式芳香族環ラジカルを指す。ヘテロアリールラジカルは、炭素原子又はヘテロ原子を介して分子の残部に結合していてもよい。ヘテロアリールの例としては、これらに限定されないが、フリル、ピロリル、チエニル、ピラゾリル、イミダゾリル、チアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ピラジニル、ピリダジニル、ピリミジル及びピリジルが挙げられる。

【0061】

本明細書において用いられるところ、＝Ｏは、例えば、カルボニル（－Ｃ（＝Ｏ）－）基において見出されるものといったオキソ基を意味する。

【0062】

本明細書において用いられるところ、Ｏ－メシル又はメシレートは、式－ＯＳ（Ｏ）₂ＣＨ₃のラジカルを指す。

【0063】

本明細書において用いられるところ、Ｏ－トシル又はトシレートは、式－ＯＳ（Ｏ）₂Ｃ₆Ｈ₄－ｐ－ＣＨ₃のラジカルを指す。

【0064】

本明細書において用いられるところ、Ｏ－ノシル又はノシレートは、式－ＯＳ（Ｏ）₂Ｃ₆Ｈ₄－ｐ－ＮＯ₂のラジカルを指す。

【0065】

本明細書において用いられるところ、Ｏ－トリフリル又はトリフレートは、式－ＯＳ（Ｏ）₂ＣＦ₃のラジカルを指す。

【0066】

本明細書において用いられるところ、Ｏ－トリフルオロアセチル又はトリフルオロ酢酸塩は、式－ＯＣ（Ｏ）ＣＦ₃のラジカルを指す。

【0067】

本明細書において用いられるところ、テトラフルオロボレートは、式ＢＦ₄ ^-のラジカルを指す。

【0068】

本明細書において用いられるところ、テトラフェニルボレートは、式Ｂ（Ｃ₆Ｈ₅）₄ ^-のラジカルを指す。

【0069】

本明細書において用いられるところ、テトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボリルは、式Ｂ（３，５－（ＣＦ₃）₂Ｃ₆Ｈ₃）₄ ^-のラジカルを指す。

【0070】

本明細書において用いられるところ、ヘキサフルオロリン酸は、式ＰＦ₆ ^-のラジカルを指す。

【0071】

本明細書において用いられるところ、スルフェートは、式ＳＯ₄ ^2-のラジカルを指す。

【0072】

本明細書において用いられるところ、ハイドロジェンスルフェートは、式ＨＳＯ₄ ^-のラジカルを指す。

【0073】

国際公開第１０／０６３７００号に記載されているとおり、一般式（ＩＩ）のいく種かのヒドロキシルアミン及びヒドロキシルアミン塩が、殺有害生物性化合物の中間体であることが公知である。

【0074】

好適なイリジウム触媒（ＩＩＩａ）は、既知のシクロメタレート化クロロ錯体（ＶＩ）（Ｏｒｇ．Ｂｉｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，２０１３，１１，６９３４；国際公開第２０１３／１５３４０７号）から、メタンスルホン酸銀、硫酸銀、銀ｐ－トルエンスルホネートなどの好適な金属塩（Ｘ－Ｍ、ここで、Ｘは（ＩＩＩａ）に定義されているとおりであり、及び、Ｍは金属を表す）を用いて、ハロゲン交換を介して調製され得る。或いは、イリジウム触媒（ＩＩＩａ）は、イリジウム錯体（ＶＩＩ）（ここで、Ｘは、（ＩＩＩａ）において定義されているとおりである）及び例えばＮ，１－ビス（４－メトキシフェニル）エタンイミンといった好適なＣ，Ｎリガンドのシクロメタル化を介して調製され得る。このような反応は、好ましくは、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２－ジクロロエタン又はテトラヒドロフランなどの非配位性又は弱配位性溶剤中において行われる。

【化9】

【0075】

触媒合成を例えばニトリル又は水といった配位性溶剤の存在下で行う場合、構造（ＩＩＩｂ）の錯体（Ｙ及びＺは上に定義されるとおりである）が代わりに単離され得る。

【0076】

本発明のプロセスによれば、イリジウム触媒の量は通常、オキシム基材のモル数を基準として、０．００１ｍｏｌ％～５ｍｏｌ％、好ましくは０．０１ｍｏｌ％～１ｍｏｌ％である。

【0077】

本発明のプロセスによれば、水素圧は通常、１～１００ｂａｒ、好ましくは５～８０ｂａｒ、より好ましくは７～６０ｂａｒ、最も好ましくは１０～５０ｂａｒである。

【0078】

本発明のプロセスによれば、反応温度は通常、－２０℃～１２０℃、好ましくは０℃～１００℃、より好ましくは０℃～８０℃、さらにより好ましくは１０℃～６０℃である。

【0079】

好ましくは、オキシム水素化は少なくとも化学量論量の酸の存在下で行われる。従って、酸のモル量は、還元されるオキシム基材の量以上であるべきであり、例えば少なくとも１～３モル当量、好ましくは１～２モル当量、及び、特に１、１．１又は２モル当量である。酸のｐＫａは、オキシム基材及びヒドロキシルアミン生成物を少なくとも部分的にプロトン化することが可能であるようなものでなければならない。従って、酸のｐＫａは、生成物であるヒドロキシルアミン塩（ＩＩ）のｐＫａよりも低いことが好ましい。ほとんどのオキシム基材に好適な酸としては、限定されるものではないが、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、硫酸、トリフルオロ酢酸及びトリフリック酸が挙げられ、好ましくは、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、硫酸、及びトリフリック酸から選択される。より好ましくは、酸は、メタンスルホン酸、カンファースルホン酸及び硫酸から選択される。

【0080】

典型的には、オキシム水素化反応は溶剤の存在下で行われ、好ましい溶剤は、アルコール、エステル、エーテル又は炭化水素などの有機溶剤である。好ましい溶剤は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、２－メチル－２－ブタノール及び２－ブタノールなどのアルコール、並びに、テトラヒドロフラン、１，２－ジメトキシエタン及びメチルテトラヒドロフランなどのエーテルである。もっとも好ましい溶剤は、イソプロパノール及び２－ブタノールなどの第二級アルコール、並びに、テトラヒドロフラン及びメチルテトラヒドロフランなどのエーテルである。好ましくは、溶剤はイソプロパノールである。

【0081】

本発明はまた、式（ＩＩＩａ）又は式（ＩＩＩｂ）のイリジウム触媒及び任意選択により酸の存在下における、水素による、例えば、アシレンアミン、イミン、エナミン、複素環、アルデヒド及びケトンといった他の不飽和基材のイオン性水素化に関する。

【実施例】

【0082】

以下の実施例は本発明を例示するためのものである。

【0083】

以下の略語が用いられている：ｓ＝一重項；ｂｓ＝幅広の一重項；ｄ＝二重項；ｂｒ ｄ＝幅広の二重項、ｄｄ＝二重の二重項、ｄｔ＝二重の三重項、ｔ＝三重項、ｔｔ＝三重の三重項、ｑ＝四重項、ｓｅｐｔ＝七重項、ｍ＝多重項、ＲＴ＝室温、Ｒ_t＝保持時間、ＭＨ⁺＝分子カチオンの分子量、ＤＣＭ＝ジクロロメタン。

【0084】

¹Ｈ及び¹⁹Ｆ ＮＭＲスペクトルを、ＢＢＦＯｐｌｕｓプローブを備えるＢｒｕｋｅｒ Ａｖａｎｃｅ ＩＩＩ ４００分光計で、それぞれ４００ＭＨｚ／３７６．６ＭＨｚで記録した。

【0085】

以下の出発材料が市販されている：
クロロ（ペンタメチルシクロペンタジエニル）［（２－ピリジニル－ｋＮ）フェニル－ｋＣ］イリジウム（ＩＩＩ）（ＣＡＳ＝９４５４９１－５１－０）；
クロロ（ペンタメチルシクロペンタジエニル）｛５－ニトロ－２－｛１－［（４－メトキシフェニル）イミノ－ｋＮ］エチル｝フェニル－ｋＣ｝イリジウム（ＩＩＩ）（ＣＡＳ＝１４３９４０２－２５－１）；
７－（２－メトキシエトキシ）テトラリン－１－オン（ＣＡＳ＝１６９７６４４－１５－７）；
メチル２－（４－オキソテトラリン－６－イル）オキシアセテート（ＣＡＳ＝１９３７１９７－９５－９）；
７－（２－ヒドロキシエトキシ）テトラリン－１－オン（ＣＡＳ＝１２６００１１－１３－９）。

【0086】

以下の出発材料を文献手法に従って調製した：
イリジウム、クロロ［５－（エチルメチルアミノ）－２－（２－ピリジニル－κＮ）フェニル－κＣ］［（１，２，３，４，５－η）－１，２，３，４，５－ペンタメチル－２，４－シクロペンタジエン－１－イル］（ＣＡＳ＝１３７９１１４－６７－６）（Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．２０１２，１８，６０６３－６０７８に従う）。
イリジウム、クロロ［４，５－ジメトキシ－２－［１－［（４－メトキシフェニル）イミノ－κＮ］エチル］フェニル－κＣ］［（１，２，３，４，５－η）－１，２，３，４，５－ペンタメチル－２，４－シクロペンタジエン－１－イル］（ＣＡＳ＝１５０７３８８－４６－６）（Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．２０１４，２０，２４５－２５２に従う）。
イリジウム、クロロ［（１，２，３，４，５－η）－１，２，３，４，５－ペンタメチル－２，４－シクロペンタジエン－１－イル］［５，６，７，８－テトラヒドロ－３－メトキシ－８－［（４－メトキシフェニル）イミノ－κＮ］－１－ナフタレニル－κＣ］（ＣＡＳ＝１４６９４６８－１０－７）（ＳＹＮＬＥＴＴ ２０１４，２５，８１－８４に従う）。
イリジウム、クロロ［（１，２，３，４，５－η）－１，２，３，４，５－ペンタメチル－２，４－シクロペンタジエン－１－イル］［５，６，７，８－テトラヒドロ－８－［（４－メトキシフェニル）イミノ－κＮ］－１－ナフタレニル－κＣ］（ＣＡＳ＝１４６９４６８－０８－３）（ＳＹＮＬＥＴＴ ２０１４，２５，８１－８４に従う）。
イリジウム、クロロ［４，５－ジメトキシ－２－［１－［（４－メトキシフェニル）イミノ－κＮ］エチル］フェニル－κＣ］［（１，２，３，４，５－η）－１，２，３，４，５－ペンタメチル－２，４－シクロペンタジエン－１－イル］（ＣＡＳ＝１５０７３８８－４６－６）（Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．２０１４，２０，２４５－２５２に従う）。
イリジウム（２＋）、トリアクア［（１，２，３，４，５－η）－１，２，３，４，５－ペンタメチル－２，４－シクロペンタジエン－１－イル］－、スルフェート（ＣＡＳ＝２５４７３４－８１－１）（国際公開第２００８／０９３６６８号に従う）。

【0087】

基本手順１：式（ＩＶ）のＮ－アリールケチミンリガンドの合成
対応するケトン（１．０当量）、４－メトキシアニリン（１．１当量）及びトリエチルアミン（６．０当量）及びＤＣＭ（０．４Ｍ）を、乾燥した反応フラスコに仕込んだ。ＤＣＭ中の四塩化チタン（０．６当量）溶液（全体で反応を０．２Ｍとするため）を－７８℃で滴下した。反応混合物を２～８０時間撹拌した。反応混合物を飽和Ｎａ₂ＣＯ₃溶液で失活させ、混合物をセライト床を介してろ過した。水性層をＤＣＭで抽出し、有機層をＮａ₂ＳＯ₄で乾燥させ、ろ過し、減圧下で濃縮して、粗生成物を得た。粗生成物を（ａ）Ｅｔ₂Ｏ若しくはシクロヘキサンによる結晶化により、（ｂ）カラムクロマトグラフィにより精製するか、又は、（ｃ）粗生成物として用いた。

【0088】

【表1-1】

【表1-2】

【0089】

基本手順２：式（ＶＩ）のイリジウム－クロロ－錯体の合成
ジクロロ（ペンタメチルシクロペンタジエニル）イリジウム（ＩＩＩ）ダイマー（１．０当量）、酢酸ナトリウム（１０．０当量）及び対応するリガンド（２．２当量）を、乾燥した反応フラスコに仕込んだ。ＤＣＭ（４０ｍＬ／ｍｍｏｌ［Ｉｒ］）をアルゴン雰囲気下で添加し、反応混合物を室温で撹拌した。反応が完了した後（転換率を¹Ｈ－ＮＭＲにより監視した）、反応混合物をＣｅｌｉｔｅ（登録商標）のプラグでろ過し、ＤＣＭで洗浄した。母液を乾燥するまで濃縮して、イリジウム－クロロ－錯体を得た。さらなる精製法に関しては、各生成物における詳細な説明を参照されたい。

【0090】

実施例１：（Ｎ，１，１－トリス（４－メトキシフェニル）メタンイミンイリジウムクロロ錯体（ＶＩ－１）の調製

【化10】

磁気撹拌棒及び凝縮器を備える一首丸底フラスコに、４－メトキシアニリン（０．５９８ｇ）、ビス（４－メトキシフェニル）メタノン（１．００ｇ）、分子ふるい及びトルエン（８．０ｍＬ）を仕込み、反応混合物を還流下に２４時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却し、ろ紙でろ過した。得られたろ液を減圧下で減量させて、Ｎ，１，１－トリス（４－メトキシフェニル）メタンイミンを得た。

【0091】

磁気撹拌棒を備える一首丸底フラスコに、Ｎ，１，１－トリス（４－メトキシフェニル）メタンイミン（３２４ｍｇ）、ＤＣＭ（４．３ｍＬ）、ジクロロ（ペンタメチルシクロペンタジエニル）－イリジウム（ＩＩＩ）ダイマー（３００ｍｇ）及び酢酸ナトリウム（１５０．０ｍｇ）を仕込み、反応混合物を還流下に３時間撹拌した。他の分量のＮ，１，１－トリス（４－メトキシフェニル）メタンイミン（１００ｍｇ）を添加し、混合物をさらに３０分間、還流下に撹拌した。次いで、反応混合物をシリカパッドを通してろ過し、ろ液を減圧下で減量させた。得られた固体を沸騰しているジクロロエタン（５ｍＬ）中に溶解し、ＭｅＯＨ（１５ｍＬ）を添加した。混合物を冷凍庫（－２２℃）中に一晩入れ、得られた結晶を傾瀉により単離し、ＭｅＯＨで洗浄し、減圧下で乾燥させて、３６１ｍｇの表題の化合物（ＶＩ－１）を赤色の結晶として得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝７．３８（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ），６．５７－７．３６（ｍ，９Ｈ），６．４９（ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ），３．９０（ｓ，３Ｈ），３．７７（ｓ，３Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），１．４７（ｓ，１５Ｈ）ｐｐｍ．

【0092】

【表2-1】

【表2-2】

【表2-3】

【0093】

基本手順３：式（ＩＩＩ）のイリジウム－メシレート－錯体の合成
反応フラスコに、イリジウム－クロロ－錯体（１．０当量）及びメタンスルホン酸銀（１．１当量）をアルゴン雰囲気下で仕込み、反応フラスコをアルミニウム箔で包んだ（メタンスルホン酸銀は光感応性である）。ＣＤＣｌ₃（２．５ｍＬ／ｍｍｏｌ）を添加し、反応混合物をアルゴン雰囲気下で２０時間撹拌した。反応混合物をＣＤＣｌ₃で希釈し、シリンジフィルタ（０．２２μｍ）を通してろ過した。ろ液を減圧下で濃縮して、イリジウム－メシレート－錯体を得た。さらなる精製法に関しては、各生成物における詳細な説明を参照されたい。

【0094】

実施例２：（Ｅ）－４－メトキシ－Ｎ－（１－（４－メトキシフェニル）エチリデン）アニリンイリジウムメシレート錯体（ＩＩＩ－１）の調製

【化11】

反応フラスコに、（Ｅ）－４－メトキシ－Ｎ－（１－（４－メトキシフェニル）エチリデン）アニリンイリジウムクロリド錯体（４００ｍｇ、ＣＡＳ＝１２５８９６４－４８－５）及びメタンスルホン酸銀（１３６ｍｇ）をアルゴン雰囲気下で仕込み、反応フラスコをアルミニウム箔で包んだ（メタンスルホン酸銀は光感応性である）。ＣＤＣｌ₃（２ｍＬ）を添加し、反応混合物をアルゴン雰囲気下で２０時間撹拌した。反応混合物をさらなる分量のＣＤＣｌ₃（２ｍＬ）で希釈し、シリンジフィルタ（０．２２μｍ）を通してろ過した。ろ液を減圧下で濃縮して、表題の化合物（ＩＩＩ－１、４０１ｍｇ）を黄色の固体として得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ７．７０（ｂｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ），７．４６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），６．９８（ｂｓ，４Ｈ），６．６３（ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ），３．９４（ｓ，３Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），２．３２（ｓ，３Ｈ），１．７８（ｓ，３Ｈ），１．４２（ｓ，１５Ｈ）ｐｐｍ．
¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ １８２．２，１６８．８，１６２．３，１５７．８，１４３．４，１４２．８，１２９．８，１２１．０，１０８．５，８８．３，５５．５，５５．３，３９．１，１６．７，８．８ ｐｐｍ．２つの炭素シグナルが、シグナルの広がりによって観察されなかった。

【0095】

【表3-1】

【表3-2】

【表3-3】

【表3-4】

【表3-5】

【0096】

実施例３：（Ｅ）－４－メトキシ－Ｎ－（１－（４－メトキシフェニル）エチリデン）アニリンイリジウムスルフェート錯体（ＩＩＩ－１４）の調製

【化12】

反応バイアルに、ペンタメチルシクロペンタジエニルイリジウムスルフェート錯体（１４３ｍｇ、ＣＡＳ＝［２５４７３４－８１－１］）、（Ｅ）－Ｎ，１－ビス（４－メトキシフェニル）エタンイミン（７６ｍｇ）及びＣＤ₃ＯＤ（１．２ｍＬ）を、アルゴン雰囲気下で仕込んだ。反応バイアルを一晩撹拌した。反応混合物の¹Ｈ ＮＭＲ分析により、シクロメタレート化イリジウム錯体が７３％ＮＭＲ収率で形成されたことを明らかにした。
¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ７．６５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５７（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ），６．７７（ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ），３．９４（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），２．４２（ｓ，３Ｈ），１．４２（ｓ，１５Ｈ）ｐｐｍ．４つのプロトンのシグナルは、シグナルの広がりによって観察されなかった。

【0097】

実施例４：（Ｅ）－４－メトキシ－Ｎ－（１－（４－メトキシフェニル）エチリデン）アニリンイリジウム（アセトニトリル）テトラフルオロボレート錯体（ＩＩＩ－１５）の調製

【化13】

反応バイアルに、（Ｅ）－４－メトキシ－Ｎ－（１－（４－メトキシフェニル）エチリデン）アニリンイリジウムクロリド錯体（２５０ｍｇ、ＣＡＳ＝１２５８９６４－４８－５）、ナトリウムテトラフルオロボレート（８９ｍｇ）及びアセトニトリル（１．６ｍＬ）を仕込んだ。反応混合物を室温で４８時間撹拌し、セライトパッド（ＤＣＭで洗浄した）を通してろ過した。ろ液を減圧下で濃縮し、固体残渣をジエチルエーテルを用いて倍散して、２４６ｍｇの表題の化合物を黄色の固体として得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ７．５２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２７（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．００－７．２０（ｂｓ，４Ｈ），６．７２（ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），３．９４（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），２．６０（ｓ，３Ｈ），２．４２（ｓ，３Ｈ），１．４９（ｓ，１５Ｈ）ｐｐｍ．

【0098】

実施例５：（Ｅ）－４－メトキシ－Ｎ－（１－（４－メトキシフェニル）エチリデン）アニリンイリジウムトリフルオロ酢酸塩錯体（ＩＩＩ－１６）の調製

【化14】

反応バイアルに、（Ｅ）－４－メトキシ－Ｎ－（１－（４－メトキシフェニル）エチリデン）アニリンイリジウムクロリド錯体（２５０ｍｇ、ＣＡＳ＝１２５８９６４－４８－５）、銀トリフルオロ酢酸塩（１０７ｍｇ）及びＣＤＣｌ₃（１．０ｍＬ）を仕込んだ。反応混合物を室温で２０時間撹拌し、セライトパッドを通してろ過した（ジクロロメタンで洗浄した）。ろ液を濃縮し、カラムクロマトグラフィ（シリカ、酢酸エチル－シクロヘキサン勾配）により精製した。単離した固体を最低量のジクロロメタン中に溶解し、ｎ－ペンタンで希釈した。生成物を、冷凍庫中において一晩で結晶化させた。生成物を傾瀉により回収し、ｎ－ペンタンで洗浄し、減圧下で乾燥させて、１２９ｍｇの表題の化合物を黄色の固体として得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ７．６６（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ），７．４０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），６．０９－７．１０（ｂｍ，２Ｈ），６．５５－６．６５（ｍ，１Ｈ），３．９１（ｓ，３Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），２．２９（ｓ，３Ｈ），１．４３（ｓ，１５Ｈ）ｐｐｍ．２つのプロトンのシグナルは、シグナルの広がりによって観察されなかった。

【0099】

実施例６：オキシム水素化を介したヒドロキシルアミン（ＩＩ－１）の合成

【化15】

１００ｍＬのハステロイ反応器に、（Ｅ）－Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－イミン（２．００ｇ、９９：１＝Ｅ／Ｚ、９５％ＮＭＲ純度）及び触媒（ＩＩＩ－１）（５．０ｍｇ）を仕込み（固体として）、反応器を閉じ、アルゴンでフラッシュした。ｉＰｒＯＨ（１０ｍＬ、無水、アルゴンで脱気）及びメタンスルホン酸（０．７２ｍＬ）をアルゴン雰囲気下で反応器に添加し、反応器を水素（３×５ｂａｒ）でパージし、５０ｂａｒ Ｈ₂に加圧し、２３℃で一晩撹拌した。水素を放出し、反応器を再度アルゴンでパージした。粗反応混合物のＧＣ及びＮＭＲ分析は完全な転換を示していた。反応混合物を飽和ＮａＨＣＯ₃溶液（１５ｍＬ）及び水（１０ｍＬ）にゆっくりと添加し、ジクロロメタンで抽出した（２×１５ｍＬ）。組み合わせた有機層をＮａ₂ＳＯ₄で乾燥させ、ろ過し、蒸発させて、１．９７ｇ（９７％ＮＭＲ純度）の所望の生成物（ＩＩ－１）を得た。

【0100】

実施例７：オキシム水素化によるヒドロキシルアミン（ＩＩ－１）の合成、種々の条件

【化16】

条件：別に示される場合を除き、触媒ＩＩＩ－１、１．５当量のメタンスルホン酸、ｉＰｒＯＨ溶剤（２００ｇ基材／１Ｌ溶剤）。

【0101】

【表4】

【0102】

すべての反応において、所望の生成物に対する高い選択性（＞９５％）が得られた。

【0103】

実施例８：種々の触媒を用いるオキシム水素化を介したヒドロキシルアミン（ＩＩ－１）の合成

【化17】

条件：１．５当量のメタンスルホン酸、ｉＰｒＯＨ溶剤（２００ｇ基材／１Ｌ溶剤）、０．１ｍｏｌ％触媒、３０ｂａｒのＨ₂、室温、１６時間（別に示される場合を除く）。

【0104】

【表5】

【0105】

すべての反応において、所望の生成物に対する高い選択性（＞９５％）が観察された。

【0106】

実施例９：オキシム水素化を介したヒドロキシルアミン（ＩＩ）の合成、基材範囲

【化18】

条件：１．５当量のメタンスルホン酸、ｉＰｒＯＨ溶剤、１ｍｏｌ％触媒ＩＩＩ－１、５０ｂａｒのＨ₂、室温、１６時間

【0107】

【表6-1】

【表6-2】

【表6-3】

【表6-4】

【表6-5】

【表6-6】

【0108】

実施例１０：他の基材のイオン性水素化－アシレンアミン水素化を介したシス－Ｎ－［２－（２，４－ジクロロフェニル）シクロブチル］アセトアミドの合成

【化19】

５０ｍＬのガラスバイアルに、Ｎ－［２－（２，４－ジクロロフェニル）シクロブテン－１－イル］アセトアミド（２５６ｍｇ）、触媒（ＩＩＩ－１）（６．８ｍｇ）、メタンスルホン酸（４８ｍｇ）及びイソプロパノール（４ｍＬ）を仕込んだ。ガラスバイアルを、水素でパージ（３回）したパラレルオートクレーブに入れ、５０ｂａｒの水素、及び、２３℃で１６時間水素化した。水素を放出し、反応器をアルゴンでパージした。粗反応混合物のＧＣ及びＮＭＲ分析は完全な転換を示していた。反応混合物を飽和ＮａＨＣＯ₃溶液（１５ｍＬ）及び水（１０ｍＬ）にゆっくりと添加し、ＤＣＭ（２×１５ｍＬ）で抽出した。組み合わせた有機層をＮａ₂ＳＯ₄で乾燥させ、ろ過し、蒸発させて、２５０ｍｇのｃｉｓＮ－［２－（２，４－ジクロロフェニル）シクロブチル］アセトアミドを得た。分析データは、文献：国際公開第１５／００３９５１号と合致している。

【0109】

実施例１１：他の基材のイオン性水素化－複素環水素化を介した２－（トリフルオロメチル）ピペリジンの合成

【化20】

５０ｍＬのガラスバイアルに、２－トリフルオロメチルピリジン（１４４ｍｇ）、触媒（ＩＩＩ－１）（６．８ｍｇ）、メタンスルホン酸（１４４ｍｇ）及びイソプロパノール（４ｍＬ）を仕込んだ。ガラスバイアルを水素でパージ（３回）したパラレルオートクレーブに入れ、５０ｂａｒの水素、及び、５０℃で１６時間水素化した。水素を放出し、反応器をアルゴンでパージした。粗反応混合物のＧＣ及びＮＭＲ分析は完全な転換を示していた。反応混合物を蒸発させ、ＮＭＲにより分析した。出発材料の完全な転換、及び、２－（トリフルオロメチル）ピペリジン（ＣＡＳ＝１５４６３０－９３－０）の形成が確認された。

【0110】

比較例１：

【化21】

２種の溶剤（ＴＨＦ／ＴＦＡ及びＭｅＯＨ）中、Ｔ＝６０℃、及び、Ｈ₂＝５０ｂａｒの圧力、２％の触媒充填量における、９６種の多様な均一系触媒－金属前駆体（Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｒｕ、中性／カチオン性）／リガンド分類（単座／二座、ホスフィン、亜リン酸塩等）のスクリーニング。所望の生成物（ＩＩ－１、以下の表において「生成物」とラベルを付した）に向かう転換をＧＣにより測定したところ、これは面積割合に基づいている。

【0111】

【表7-1】

【表7-2】

【表7-3】

【表7-4】

【0112】

これらの実験は、すべての事例において、形成された生成物（ＩＩ－１）の量が＜１％であったため、通例用いられる金属前駆体及びリガンドの組み合わせでは、（Ｉ－１）などのオキシム基材の均一系な水素化は可能ではないことを実証する。

【0113】

比較例２：

【化22】

水素化条件：温度＝６０℃、及び、Ｈ₂圧力＝６０ｂａｒ、時間＝２０時間。欧州特許第１８６２４４６号明細書に記載の反応条件。所望の生成物（（ＩＩ－１）、以下の表において「生成物」とラベルを付した）に向かう転換をＧＣにより測定し、これは面積割合に基づいている。

【0114】

【表8】

【0115】

すべての事例において、低い選択性、及び、所望の生成物（ＩＩ－１、上記の表において「生成物」とラベルを付した）のゼロ又はきわめて低い収率が観察された。これらの実験は、欧州特許第１８６２４４６号明細書に記載の触媒及び条件は、（ＩＩ－１）などのオキシム基材の効率的な水素化が可能ではないことを実証する。

【0116】

比較例３：

【化23】

Ｏｒｇ．Ｂｉｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，２０１３，１１，６９３４に記載されている反応条件下では、所望の生成物（ＩＩ－１）の形成は観察されなかった。

【0117】

比較例４：

【化24】

【0118】

【表9】

【0119】

本発明者らによる発明に記載されている反応条件下ではあるが、イリジウムクロロ錯体（ＶＩ）（例えば、Ｏｒｇ．Ｂｉｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，２０１３，１１，６９３４；国際公開第２０１３／１５３４０７号に報告されている）を使用しては、所望の生成物（ＩＩ－１）の形成は観察されなかった。これらの実験は、イリジウムハロゲン錯体が、本プロセスにおける触媒程には効率的でないことを実証している。

【0120】

比較例５：

【化25】

本発明の反応条件を酸を伴わずに利用した場合、所望の生成物（ＩＩ－１）の形成は観察されなかった。この実験は、本発明者らによる発明に係るプロセスにおいて、化学量論量の好適な酸が必須であることを実証している。
本発明のまた別の態様は、以下のとおりであってもよい。
〔１〕オキシム（Ｉ）と水素とを、式（ＩＩＩａ）又は式（ＩＩＩｂ）のイリジウム触媒及び酸の存在下に反応させることによる、式（ＩＩ）のヒドロキシルアミン塩をもたらすための式（Ｉ）のオキシムの水素化に係るプロセス；

【化26】

であって、ここで、Ｒ ¹ 、Ｒ ² 及びＲ ³ は各々独立して、水素、Ｃ ₁ ～Ｃ ₈ アルキル、Ｃ ₁ ～Ｃ ₈ ヒドロキシアルキル、Ｃ ₁ ～Ｃ ₈ シアノアルキル、Ｃ ₁ ～Ｃ ₆ アルコキシＣ ₁ ～Ｃ ₈ アルキル、ジ（Ｃ ₁ ～Ｃ ₆ アルコキシ）Ｃ ₁ ～Ｃ ₈ アルキル、Ｃ ₁ ～Ｃ ₈ ハロアルキル、Ｃ ₂ ～Ｃ ₆ アルケニル、Ｃ ₃ ～Ｃ ₈ シクロアルキル、フェニル、フェニルＣ ₁ ～Ｃ ₃ アルキル又はヘテロアリールであり、ここで、前記シクロアルキル及びフェニル部分は各々、任意選択により、ヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ ₁ ～Ｃ ₆ アルキル、Ｃ ₃ ～Ｃ ₈ シクロアルキル、Ｃ ₁ ～Ｃ ₆ ハロアルキル、Ｃ ₁ ～Ｃ ₆ アルコキシ、フェニル、ヘテロアリール、Ｃ ₁ ～Ｃ ₆ アルコキシカルボニル、アシルアミノ、アミド、シアノ、ニトロ及びＣ ₂ ～Ｃ ₆ アルケニルから選択される１個～５個の基で置換されており；又は
Ｒ ¹ 及びＲ ² は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、４員～８員飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、１個、２個又は３個のヘテロ原子を含む非芳香族単環式環であり、ここで、前記ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択され；
Ｒ ⁶ 、Ｒ ⁷ 、Ｒ ⁸ 、Ｒ ⁹ 及びＲ ¹⁰ は各々独立して、水素又はＣ ₁ ～Ｃ ₃ アルキルであり；

【化27】

は、イリジウムに配位する少なくとも１個の炭素原子及びイリジウムに配位する少なくとも１個の窒素原子を含む二座キレートリガンドを表し；
Ｘは、式Ｒ ¹⁴ －ＳＯ ₂ Ｏ－又はＲ ¹⁵ －Ｃ（Ｏ）Ｏ－のアニオン基を表し、ここで、
Ｒ ¹⁴ は、ヒドロキシ、Ｃ ₁ ～Ｃ ₆ アルキル、Ｃ ₁ ～Ｃ ₆ アルコキシ、Ｃ ₁ ～Ｃ ₆ ハロアルキル又はフェニルであり、ここで、フェニル部分は、同一であっても異なっていてもよい、Ｒ ¹⁶ から選択される１個、２個、３個又は４個の置換基により任意選択により置換されており；
Ｒ ¹⁶ は、Ｃ ₁ ～Ｃ ₄ アルキル、Ｃ ₁ ～Ｃ ₄ ハロアルキル、ニトロ又はハロゲンであり；
Ｒ ¹⁵ はＣ ₁ ～Ｃ ₆ ハロアルキル又はフェニルであり、ここで、前記フェニル部分は、同一であっても異なっていてもよい、Ｒ ¹⁷ から選択される１個、２個、３個又は４個の置換基により任意選択により置換されており；
Ｒ ¹⁷ は、Ｃ ₁ ～Ｃ ₄ アルキル、Ｃ ₁ ～Ｃ ₄ ハロアルキル、ニトロ又はハロゲンであり；
Ｙは中性リガンドを表し；並びに
Ｚはアニオン基を表す、プロセス。
〔２〕Ｒ ⁶ 、Ｒ ⁷ 、Ｒ ⁸ 、Ｒ ⁹ 及びＲ ¹⁰ は各々、水素又はメチルを表す、前記〔１〕に記載のプロセス。
〔３〕Ｘは、式Ｒ ¹⁴ －ＳＯ ₂ Ｏ ^- の基を表す、前記〔１〕又は前記〔２〕に記載のプロセス。
〔４〕前記二座キレートリガンドは、式（ＩＶ－１）、（ＩＶ－２）、（ＩＶ－３）、（ＩＶ－５）、（ＩＶ－６）、（ＩＶ－７）、（ＩＶ－８）、（ＩＶ－９）、（ＩＶ－１０）、（ＩＶ－１１）及び（ＩＶ－１２）：

【化28】

の化合物から選択される、前記〔１〕～〔３〕のいずれか一項に記載のプロセス。
〔５〕Ｚは、Ｒ ¹⁴ －ＳＯ ₂ Ｏ ^- 、メシレート、スルフェート、ハイドロジェノスルフェート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、テトラフェニルボレート又はテトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレートである、前記〔１〕～〔４〕のいずれか一項に記載のプロセス。
〔６〕前記酸は、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、硫酸又はトリフリック酸である、前記〔１〕～〔５〕のいずれか一項に記載のプロセス。
〔７〕ＹはＨ ₂ Ｏ又はＭｅＣＮである、前記〔１〕～〔６〕のいずれか一項に記載のプロセス。
〔８〕前記イリジウム触媒は、式（ＩＩＩ－１）、（ＩＩＩ－１１）、（ＩＩＩ－１７）、（ＩＩＩ－１８）、又は（ＩＩＩ－１９）：

【化29】

の化合物である、前記〔１〕～〔７〕のいずれか一項に記載のプロセス。
〔９〕前記式（ＩＩ）のヒドロキシルアミンはＮ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（ＩＩ－１）である、前記〔１〕～〔８〕のいずれか一項に記載のプロセス。
〔１０〕前記Ｎ－メトキシ－１－（２，４，６－トリクロロフェニル）プロパン－２－アミン（ＩＩ－１）を３－（ジフルオロメチル）－１－メチル－ピラゾール－４－塩化カルボニル（ＸＩＩ）とさらに反応させて、３－（ジフルオロメチル）－Ｎ－メトキシ－１－メチル－Ｎ－［１－メチル－２－（２，４，６－トリクロロフェニル）エチル］ピラゾール－４－カルボキサミド（ＸＩＩＩ）：

【化30】

を得る、前記〔９〕に記載のプロセス。
〔１１〕式（ＩＩＩｃ）又は（ＩＩＩｄ）：

【化31】

（式中、Ｒ ⁶ 、Ｒ ⁷ 、Ｒ ⁸ 、Ｒ ⁹ 及びＲ ¹⁰ は各々独立して、水素又はＣ ₁ ～Ｃ ₃ アルキルから選択され；
Ｒ ^11A 、Ｒ ^11B 、Ｒ ^11C 、Ｒ ^11D 、Ｒ ^11E 、Ｒ ^13A 、Ｒ ^13B 、Ｒ ^13C 及びＲ ^13D は各々独立して、水素、ハロゲン、Ｃ ₁ ～Ｃ ₈ アルキル、Ｃ ₁ ～Ｃ ₈ アルコキシ、Ｃ ₁ ～Ｃ ₈ ハロアルキル、Ｃ ₁ ～Ｃ ₈ ハロアルコキシ、ヒドロキシＣ ₁ ～Ｃ ₈ アルコキシ、Ｃ ₁ ～Ｃ ₈ アルコキシＣ ₁ ～Ｃ ₆ アルコキシ、Ｃ ₁ ～Ｃ ₈ アルコキシカルボニル、Ｃ ₁ ～Ｃ ₈ アルコキシカルボニルＣ ₁ ～Ｃ ₆ アルコキシ、Ｃ ₁ ～Ｃ ₈ アルキルカルボニルＣ ₁ ～Ｃ ₆ アルコキシ、フェノキシ又はニトロであり；
Ｒ ¹² は、水素、Ｃ ₁ ～Ｃ ₈ アルキル又はフェニルであり、ここで、各フェニル部分は、Ｃ ₁ ～Ｃ ₈ アルキル及びＣ ₁ ～Ｃ ₈ アルコキシから選択される１個～５個の基により任意選択により置換されており；又は
Ｒ ¹² 及びＲ ^13D は、これらが結合している炭素原子と一緒になって、６員～８員部分飽和シクロアルキル又はヘテロシクリル環を形成し得、ここで、複素環式部分は、１個又は２個のヘテロ原子を含む非芳香族環であり、ここで、前記ヘテロ原子はＮ、Ｏ及びＳから個々に選択され；
Ｘは、メシレート、トシレート、ノシレート、スルフェート、ハイドロジェノスルフェート、トリフレート又はトリフルオロアセテートであり；
Ｙは、Ｈ ₂ Ｏ、ＰｈＣＮ又はＭｅＣＮであり；並びに
Ｚは、メシレート、トシレート、ノシレート、スルフェート、ハイドロジェノスルフェート、トリフレート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、テトラフェニルボレート又はテトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレートである）
の化合物。
〔１２〕式（ＩＩＩ－１）、（ＩＩＩ－１１）、（ＩＩＩ－１７）、（ＩＩＩ－１８）及び（ＩＩＩ－１９）：

【化32】

の化合物から選択される式（ＩＩＩ）の化合物。
〔１３〕式（ＩＩＩａ）又は式（ＩＩＩｂ）のイリジウム触媒及び任意選択により酸の存在下における、水素によるアシレンアミン、イミン、エナミン、複素環、アルデヒド及びケトンのイオン性水素化プロセス。