特許 7468241 成膜装置、成膜方法およびプログラム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-04-08

(45)【発行日】2024-04-16

(54)【発明の名称】成膜装置、成膜方法およびプログラム

(51)【国際特許分類】

   C23C 14/34 20060101AFI20240409BHJP

【ＦＩ】

C23C14/34 U

【請求項の数】 9

(21)【出願番号】P 2020136398

(22)【出願日】2020-08-12

(65)【公開番号】P2022032535

(43)【公開日】2022-02-25

【審査請求日】2022-11-21

(73)【特許権者】

【識別番号】000001993

【氏名又は名称】株式会社島津製作所

(74)【代理人】

【識別番号】100121382

【弁理士】

【氏名又は名称】山下 託嗣

(72)【発明者】

【氏名】上野 真義

【審査官】有田 恭子

(56)【参考文献】

【文献】特開２００２－２２６９６５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００４－１９４４２０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０９－１７００７９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００６－３２８５１０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平１０－０８８３３８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００９－２８４７３３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１５－１１３５１３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０６－１３２０９５（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｃ２３Ｃ １４／００－１４／５８

Ｃ２３Ｃ １６／００－１６／５６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１電極および、ターゲットに電気的に接続可能な第２電極を少なくとも含む複数の電極を備える成膜部と、
前記第１電極と前記第２電極との間に直流電圧を印加し、前記ターゲットに接続される回路において測定された電流および電圧の少なくとも一方に基づいて、前記直流電圧の印加を一時的に停止する電圧印加部とを備える成膜装置であって、
前記停止の頻度の時間による変化を傾きにより算出し、算出された値に基づいて、前記成膜装置のメンテナンス時期の予測値を算出する情報生成部を備える成膜装置。

【請求項2】

請求項１に記載の成膜装置において、
前記情報生成部は、成膜条件に基づいて前記メンテナンス時期の導出方法が異なる、請求項１に記載の成膜装置。

【請求項3】

請求項２に記載の成膜装置において、
前記成膜条件は、前記ターゲットを構成する材料の種類および導電性、ならびに反応ガスの種類の少なくとも一つである、成膜装置。

【請求項4】

請求項２または３に記載の成膜装置において、
前記情報生成部は、前記成膜条件に基づいて前記ターゲットの交換時期についての情報を生成する、成膜装置。

【請求項5】

第１電極および、ターゲットに電気的に接続可能な第２電極を少なくとも含む複数の電極を備える成膜部と、
前記第１電極と前記第２電極との間に直流電圧を印加し、前記ターゲットに接続される回路において測定された電流および電圧の少なくとも一方に基づいて、前記直流電圧の印加を一時的に停止する電圧印加部とを備える成膜装置であって、
成膜条件に応じて異なるメンテナンス閾値が設定されている記憶媒体と、
ユーザ操作に基づいて設定された成膜条件に対応する前記メンテナンス閾値を参照し、前記停止の回数、頻度および間隔の少なくとも一つが、参照されたメンテナンス閾値に基づく条件を満たすか否かに基づいて、前記成膜装置のメンテナンス時期の予測値を算出する情報生成部と、
を備える成膜装置。

【請求項6】

請求項１から５までのいずれか一項に記載の成膜装置において、
前記予測値、ならびに、前記予測値に基づく予告および警告の少なくとも一つを画面に表示させる表示制御部を備える成膜装置。

【請求項7】

請求項１から６までのいずれか一項に記載の成膜装置において、
前記成膜部は、ＣＶＤ電極をさらに備える、成膜装置。

【請求項8】

第１電極および、ターゲットに電気的に接続可能な第２電極を少なくとも含む複数の電極を備える成膜部を備える成膜装置による成膜方法であって、
前記第１電極と前記第２電極との間に直流電圧を印加し、前記ターゲットに接続される回路において測定された電流および電圧の少なくとも一つに基づいて、前記直流電圧の印加を一時的に停止することと、
前記停止の頻度の時間による変化を傾きにより算出し、算出された値に基づいて、前記成膜装置のメンテナンス時期の予測値を算出することとを備える、成膜方法。

【請求項9】

第１電極および、ターゲットに電気的に接続可能な第２電極を少なくとも含む複数の電極を備える成膜部を備える成膜装置の処理装置に処理を行わせるためのプログラムであって、
前記処理は、
前記第１電極と前記第２電極との間に直流電圧を印加し、前記ターゲットに接続される回路において測定された電流および電圧の少なくとも一方に基づいて、前記直流電圧の印加を一時的に停止する電圧制御処理と、
前記停止の頻度の時間による変化を傾きにより算出し、算出された値に基づいて、前記成膜装置のメンテナンス時期の予測値を算出する情報生成処理とを備える、プログラム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、成膜装置、成膜方法およびプログラムに関する。

【背景技術】

【0002】

真空容器の内部に複数の電極を備え、電極間に印加される電圧により放電を発生させ、スパッタリングを行う成膜装置が知られている。このような成膜装置では、真空容器の内部にターゲットと成膜対象物が配置される。放電により生じたイオンの衝突によりターゲットから原子あるいは分子の状態で粒子が出射し、当該粒子または、当該粒子と真空容器中に導入されたガスとが反応して得られた粒子が成膜対象物に入射し、成膜対象物の表面に膜が形成される。

【0003】

成膜装置では、形成される膜の品質悪化を防止するため、ターゲットの交換等のメンテナンスが行われる。メンテナンス時期を予測し、適切な時期にメンテナンスを行うことが形成される膜の品質を保つために重要である。特許文献１では、ターゲット交換時期を知る上の重要な情報として、異常なアーク放電の発生回数が挙げられている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特開平１０－８８３３８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

成膜条件に応じ、成膜装置のメンテナンス時期を正確に予測する。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明の第１の態様は、第１電極および、ターゲットに電気的に接続可能な第２電極を少なくとも含む複数の電極を備える成膜部と、前記第１電極と前記第２電極との間に直流電圧を印加し、前記ターゲットに接続される回路において測定された電流および電圧の少なくとも一方に基づいて、前記直流電圧の印加を一時的に停止する電圧印加部とを備える成膜装置であって、前記停止の回数、頻度および間隔の少なくとも一つに基づいて、前記成膜装置のメンテナンス時期についての情報を生成する情報生成部を備える、成膜装置に関する。
本発明の第２の態様は、第１電極および、ターゲットに電気的に接続可能な第２電極を少なくとも含む複数の電極を備える成膜部を備える成膜装置による成膜方法であって、前記第１電極と前記第２電極との間に直流電圧を印加し、前記ターゲットに接続される回路において測定された電流および電圧の少なくとも一方に基づいて、前記直流電圧の印加を一時的に停止することと、前記停止の回数、頻度および間隔の少なくとも一つに基づいて、前記成膜装置のメンテナンス時期についての情報を生成することとを備える、成膜方法に関する。
本発明の第３の態様は、第１電極および、ターゲットに電気的に接続可能な第２電極を少なくとも含む複数の電極を備える成膜部を備える成膜装置の処理装置に処理を行わせるためのプログラムであって、前記処理は、前記第１電極と前記第２電極との間に直流電圧を印加し、前記ターゲットに接続される回路において測定された電流および電圧の少なくとも一方に基づいて、前記直流電圧の印加を一時的に停止する電圧制御処理と、前記停止の回数、頻度および間隔の少なくとも一つに基づいて、前記成膜装置のメンテナンス時期についての情報を生成する情報生成処理とを備える、プログラムに関する。

【発明の効果】

【0007】

本発明によれば、成膜条件等に応じ、成膜装置のメンテナンス時期を正確に予測することができる。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】図１は、一実施形態の成膜装置の構成を示す概念図である。

【図2】図２は、制御部の構成を示す概念図である。

【図3】図３は、一実施形態の成膜方法の流れを示すフローチャートである。

【図4】図４は、変形例の成膜装置の構成を示す概念図である。

【図5】図５は、プログラムの提供を説明するための概念図である。

【発明を実施するための形態】

【0009】

以下、図を参照して本発明を実施するための形態について説明する。

【0010】

－第１実施形態－
図１は、本実施形態の成膜装置の構成を示す概念図である。成膜装置１は、真空容器１０と、第１電極２１と、第２電極２２と、電圧印加部３０と、真空排気系４０と、ガス供給部５０と、表示部６０と、制御部１００とを備える。電圧印加部３０は、直流電源部３１と、停止部３２とを備える。第１電極２１の第２電極側には、成膜対象物Ｗｐが配置されている。第２電極２２の第１電極側には、ターゲットＴが配置されている。第２電極２２とターゲットＴとは、電気的に接続されており、ターゲット電極２２０を構成する。

【0011】

真空容器１０は、内部で成膜を行う成膜部として機能する。真空容器１０は、内部に第１電極２１と、第２電極２２とを備える。成膜の際、真空容器１０にはターゲットＴおよび成膜対象物Ｗｐが内部に配置される。真空容器１０は、接地部Ｅ１により接地されている。

【0012】

以下の実施形態において、成膜装置１は、アノードである第１電極２１とカソードである第２電極２２との間に直流電圧を印加可能な直流方式のスパッタリング装置とする。第１電極２１は、接地部Ｅ２により接地されている。第２電極２２は、第１電極２１と向かい合って配置され、第１電極２１の対向電極として機能する。第２電極２２は、不図示の絶縁部材を介して真空容器１０に設置され、電圧印加部３０と電気的に接続されている。第１電極２１および第２電極２２は、互いに略平行に配置された平板電極であることが好ましいが、所望の精度で成膜対象物Ｗｐの成膜を行うことができれば、その形状、位置等は、特に限定されない。

【0013】

電圧印加部３０は、第１電極２１と第２電極２２との間に電圧を印加する。直流電源部３１は、直流電源を備え、第１電極２１と第２電極２２との間に直流電圧を印加する。図１の例では、接地部Ｅ３により接地された直流電源部３１が第２電極２２に数百Ｖ等の負の電圧を印加する。第１電極２１も接地されているから、第１電極２１に対して第２電極２２には数百Ｖ等の負の電圧が印加されることとなる。

【0014】

第１電極２１と第２電極２２との間に印加された電圧により、真空容器１０の内部でグロー放電が発生する。グロー放電により、後述するガス供給部５０から真空容器１０に導入されたアルゴンガス等の不活性ガスがイオン化する。イオン化された不活性ガスはターゲットＴに衝突する。この衝突により、ターゲットＴを構成するターゲット材料が原子の状態でターゲットＴから出射される。この原子をターゲット原子と呼ぶ。ターゲット原子は成膜対象物Ｗｐに入射し、その表面に膜を形成する。反応性スパッタリングの場合、後述するガス供給部５０から真空容器１０に導入された酸素ガス等の反応ガスとターゲット原子とが反応し、この反応でできた分子が成膜対象物Ｗｐに入射し、その表面に膜を形成する。

【0015】

停止部３２は、アークカウント装置を備え、ターゲットＴに電気的に接続される回路において測定された電流及び電圧の少なくとも一方に基づいて、第１電極２１と第２電極２２との間に発生する直流電圧の印加を一時的に停止する。ここで、測定された上記電流および電圧を、それぞれ測定電流および測定電圧と呼ぶ。停止部３２は、真空容器１０の内部において異常な放電が発生する前に起きる測定電流または測定電圧の変化を検出し、異常な放電を抑制するように直流電源部３１の出力を一時的に停止する。停止部３２が直流電源部３１の出力を停止する方法は特に限定されず、例えば直流電源部３１とターゲット電極２２０との間を流れる電流を遮断することができる。ここで、直流電源部３１の出力の一時的な停止とは、異常な放電を抑制できる程度に第１電極２１と第２電極２２との間の電圧を減少させることも含む。

【0016】

ここでいう異常な放電とは、例えばアーク放電である。アーク放電時には、ターゲットＴにおいてエネルギーが局所的に集中し、ターゲットＴから塊状の粒子が飛散し、成膜対象物Ｗｐに成膜された膜の性能に悪影響をおよぼす。

【0017】

アーク放電等の異常な放電の際には、第１電極２１と第２電極２２の間の抵抗値が小さくなり、短絡したような状態となる。このような放電の直前には抵抗値の低下が起きる。第２電極２２は第１電極２１に対して負電圧が印加されているため、上記抵抗値の低下は、ターゲット電極２２０の電流または電圧の変化を伴う。従って、例えばターゲット電極２２０やその近傍等、ターゲットＴに電気的に接続される部位の電流または電圧を測定することにより、成膜装置１においてアーク放電が起きやすい状態となっていることを予め検出することができる。

【0018】

停止部３２により直流電源部３１の出力を一時的に停止する時間の長さは特に限定されないが、例えば数ｍｓｅｃとすることができる。停止部３２による直流電源部３１の出力の一時的な停止の回数を停止回数と呼ぶ。この停止回数は、制御部１００から参照可能に接続された不図示の記憶媒体に記憶される。停止回数は、成膜を行う度に０にリセットすることができるが、これに限定されない。

【0019】

真空排気系４０は、真空容器１０の内部を１０Ｐａ以下等の圧力に減圧する。真空排気系４０は、真空容器１０を所望の圧力に維持できればその構成は特に限定されない。例えば、真空排気系４０は、ターボ分子ポンプと、ロータリーポンプ等の補助ポンプとを含むことができる。真空排気系４０は、例えば、補助ポンプにより真空容器１０の内部の圧力を１００Ｐａ程度まで減圧（粗引き）した後、ターボ分子ポンプにより１０Ｐａ以下の圧力まで減圧する。

【0020】

ガス供給部５０は、成膜処理の際に必要なガスを真空容器１０の内部に供給する。ガス供給部５０は、不図示のガス格納容器と、ガス格納容器から真空容器１０に導入されるガスの流量を調整する不図示の流量調整弁等を備える。ガス供給部５０は、アルゴン等の不活性ガスや、酸素ガス等の、ターゲット原子と反応させる反応ガスを、真空容器１０の内部に導入する。
なお、反応ガスを真空容器１０に導入するためのガス供給部を、ガス供給部５０とは別に設けてもよい。

【0021】

表示部６０は、表示モニタ等の表示装置を備え、後述するメンテナンス情報や、成膜装置１の分析条件等を表示する。

【0022】

制御部１００は、成膜装置１の動作を実行するためのプログラマブルロジックコントローラ（Programmable Logic Controller;PLC）等の処理装置、プログラムが記憶された記憶媒体、および動作に必要なデータを一時的に記憶するメモリを備え、成膜装置１の各部の動作を制御する主体となる。
なお、以下の実施形態における制御部１００の処理を行うことができれば、制御部１００の物理的構成は特に限定されない。

【0023】

図２は、制御部１００の構成を示す概念図である。制御部１００は、電圧制御部１１０と、情報生成部１２０と、表示制御部１３０とを備える。

【0024】

電圧制御部１１０は、電圧印加部３０を制御し、第１電極２１と第２電極２２との間に印加される直流電圧の制御を行う。電圧制御部１１０には、不図示の電流計または電圧計により測定された、ターゲットＴに接続される回路における測定電流または測定電圧が入力される。電圧制御部１１０は、測定電流または測定電圧の所定の変化を検出する。例えば、電圧制御部１１０は、ターゲット電極２２０の測定電圧が所定の閾値以上であることを検出したとする。この場合、電圧制御部１１０は、異常な放電が起こりやすくなっているとして、停止部３２に制御信号を送信して直流放電部３１からの出力を遮断させ、さらに、停止回数が記憶されている記憶媒体にアクセスして停止回数を１加算する。

【0025】

情報生成部１２０は、加算された停止回数に基づいて、成膜装置１のメンテナンス時期についての情報を生成する。以下では、この情報を、メンテナンス情報と呼ぶ。メンテナンス情報は、メンテナンス時期を示すことができればその表現方法は特に限定されない。例えば、メンテナンス情報は、メンテナンス時期が迫っている場合に１、メンテナンス時期が迫っていない場合に０とする二値の情報とすることができる。これらに加え、メンテナンスが必要な場合を２として各場合を数字で示してもよく、これらの各場合を記号で示してもよい。メンテナンス情報は、何日以内にメンテナンスした方がよいかを日数で示してもよい。あるいは、メンテナンス情報は、メンテナンスについての情報を文章等で示してもよい。

【0026】

メンテナンス情報におけるメンテナンスは、特に限定されないが、例えば所定の出力でグロー放電を行い、ターゲットＴの表面にグロー放電で生じたイオンを衝突させてクリーニングすることや、ターゲットの交換、または防着板の交換等が適宜行われる。

【0027】

情報生成部１２０は、停止回数が所定の閾値に基づく条件を満たす場合、メンテナンス時期が迫っていることを示すメンテナンス情報を生成する。この閾値をメンテナンス閾値と呼ぶ。メンテナンス閾値は、メンテナンス時期と停止回数との関係に基づいて予め設定されており、制御部１００から参照可能な不図示の記憶媒体に記憶されている。例えば、１回の成膜または１日の成膜装置１の使用における停止回数がメンテナンス閾値を超える場合、情報生成部１２０は、メンテナンス時期が迫っていることを示すメンテナンス情報を生成する。メンテナンス情報は、成膜終了後に行うことができるが、これに限定されない。

【0028】

情報生成部１２０は、成膜条件に基づいてメンテナンス時期の導出方法が異なるように設定される。ここで、メンテナンス時期の導出とは、メンテナンス時期が迫っているか否かの判定や、メンテナンスが必要か否かの判定等を適宜含むことができる。例えば、制御部１００から参照可能な記憶媒体には、成膜条件に応じて異なる上記メンテナンス閾値が設定されている。情報生成部１２０は、成膜装置１のユーザー（以下、単にユーザーと呼ぶ）が設定した成膜条件に対応するメンテナンス閾値を参照する。

【0029】

この成膜条件の例としては、ターゲットＴを構成するターゲット材料の種類および導電性、または反応ガスの種類とすることができる。これらを組み合わせて場合分けしメンテナンス閾値を設定してもよい。

【0030】

ターゲット材料の種類によりメンテナンス時期の導出方法を異ならせる場合、ターゲット材料の種類ごとに対応するメンテナンス閾値が設定される。情報生成部１２０は、ユーザーが設定した成膜条件からターゲットＴの種類を取得する。情報生成部１２０は、制御部１００から参照可能な記憶媒体に記憶されている、取得したターゲットＴの種類に対応するメンテナンス閾値を取得する。情報生成部１２０は、停止回数が当該メンテナンス閾値を超える場合、メンテナンス時期、特にターゲットの交換時期が迫っていることを示すメンテナンス情報を生成することができる。

【0031】

ターゲット材料の導電性によりメンテナンス時期の導出方法を異ならせる場合、ターゲット材料の導電率により異なるメンテナンス閾値を設定することができる。情報生成部１２０は、ユーザーが設定した成膜条件を基に、制御部１００により参照可能な記憶媒体から、ターゲットＴの導電率についての情報を取得する。情報生成部１２０は、制御部１００から参照可能な記憶媒体に記憶されている、導電率に対応するメンテナンス閾値を取得する。情報生成部１２０は、停止回数が当該メンテナンス閾値を超える場合、メンテナンス時期、特にターゲットの交換時期が迫っていることを示すメンテナンス情報を生成することができる。

【0032】

反応ガスの種類によりメンテナンス時期の導出方法を異ならせる場合、反応ガスの種類ごとに対応するメンテナンス閾値が設定される。情報生成部１２０は、ユーザーが設定した成膜条件から反応ガスの種類を取得する。情報生成部１２０は、制御部１００から参照可能な記憶媒体に記憶されている、反応ガスの種類に対応するメンテナンス閾値を取得する。情報生成部１２０は、停止回数が当該メンテナンス閾値を超える場合、メンテナンス時期が迫っていることを示すメンテナンス情報を生成することができる。

【0033】

表示制御部１３０は、表示部６０を制御し、メンテナンス情報、ならびに、メンテナンス情報に基づく予告および警告の少なくとも一つを表示部６０の表示画面に表示させる。表示制御部１３０は、メンテナンス情報を参照し、例えばメンテナンス情報においてメンテナンス時期が迫っていることが示されている場合、表示画面にその旨を示す予告を表示する。表示制御部１３０は、メンテナンス情報においてメンテナンスの必要があることが示されている場合には、表示画面にその旨を示す警告を表示する。表示制御部１３０は、メンテナンス情報が文章で表現されている場合は、メンテナンス情報の文章をそのまま表示してもよい。

【0034】

図３は、本実施形態に係る成膜方法の流れを示すフローチャートである。この成膜方法は、成膜装置１により行われる。ステップＳ１０１において、真空排気系４０は、成膜対象物Ｗｐが搬入された真空容器１０の内部を減圧する。ステップＳ１０１が終了したら、ステップＳ１０３が開始される。ステップＳ１０３において、ガス供給部５０は、真空容器１０の内部に不活性ガスを導入する。ステップＳ１０３が終了したら、ステップＳ１０５が開始される。

【0035】

ステップＳ１０５において、電圧印加部３０は、スパッタリング用の電極である第１電極２１および第２電極２２に直流電圧を印加し、停止部３２は、測定電流または測定電圧に基づいて出力停止を行い、制御部１００は、停止回数を記録する。ステップＳ１０５が終了したら、ステップＳ１０７が開始される。ステップＳ１０７において、制御部１１０は、電圧印加部３０による直流電圧の印加を終了する等により、成膜処理を終了する。ステップＳ１０７が終了したら、ステップＳ１０９が開始される。

【0036】

ステップＳ１０９において、情報生成部１２０は、メンテナンス情報を生成する。ステップＳ１０９が終了したら、ステップＳ１１１が開始される。ステップＳ１１１において、表示制御部１３０は、表示部６０を制御して、メンテナンス情報を表示する。ステップＳ１１１が終了したら、処理が終了される。

【0037】

本実施形態の成膜装置１は、正確なメンテナンス時期の予測を行うことができる。本実施形態の成膜装置１は、特に、真空容器１０が大気に開放される時間が長く、成膜装置１の内部に配置されたターゲットＴ等が劣化しやすい場合に、劣化による影響を検知することができるためより効果的である。この観点から、成膜装置１は、真空容器１０と大気との間に前室（ロードロック室）を持たない場合に劣化を特に効果的に抑制することができる。

【0038】

次のような変形も本発明の範囲内であり、上述の実施形態と組み合わせることが可能である。以下の変形例において、上述の実施形態と同様の構造、機能を示す部位等に関しては、同一の符号で参照し、適宜説明を省略する。

【0039】

（変形例１）
上述の実施形態において、成膜装置が真空容器の内部にＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）電極を備えてもよい。このような場合では、ＣＶＤの影響により成膜装置１の内部に配置されたターゲットＴ等が劣化しやすくなるが、上述の実施形態の方法により劣化を特に効果的に抑制することができる。

【0040】

図４は、本変形例の成膜装置２の構成を示す概念図である。成膜装置２は、上述の実施形態の成膜装置１と部分的に同様の構成を有している。しかし、成膜装置２は、ＣＶＤ電極３４と、ＣＶＤ電極３４に高周波を印加するための整合器３５および高周波電源３６とを備える点、ならびに、第１電極２１ａが図の左右方向に移動可能となっている点が成膜装置１とは異なる。さらに、成膜装置２は、真空容器１０の代わりに真空容器１０ａを備える。また、成膜装置２は、ガス供給部５０の代わりにガス供給部５０ａを備え、上述の不活性ガスおよび反応ガスに加え、ヘキサメチルジシロキサン（hexamethyldisiloxane; ＨＭＤＳＯ）等のシラン化合物の気体を導入可能に構成されている。

【0041】

真空容器１０ａは、開閉部１２が閉状態（図４）にあるとき、真空容器本体１１と開閉部１２との間に挟まれたパッキン１３によりシールされる。第１電極２１ａは、載置面２１０に成膜対象物Ｗｐを載置可能であり、成膜対象物ＷｐがＣＶＤ電極３４に向かい合う位置Ｐ１と、成膜対象物Ｗｐがターゲット電極２２０と向かい合う位置Ｐ２との間を移動可能に構成されている。
なお、成膜装置２は、ＣＶＤの際にターゲットＴを覆うための着脱可能なシャッターを備えていてもよい。

【0042】

（変形例２）
上述の実施形態では、情報生成部１２０は、停止回数に基づいてメンテナンス情報を算出する構成とした。しかし、情報生成部１２０は、停止部３２による直流電源部３１の出力停止の頻度または間隔に基づいてメンテナンス情報を算出することができる。この場合、情報生成部１２０は、出力停止の頻度または平均の間隔等を算出し、算出された値が対応するメンテナンス閾値に基づく条件を満たすか否かにより、メンテナンス時期が迫っているか否か等を判定してメンテナンス情報を生成することができる。平均値の計算は日毎の平均値または、週ごと、月ごとの平均値を求めても良いし、時間による平均以外にも１度の連続可動中に発生する停止回数から求めても良い。メンテナンス閾値の決め方は例えば、条件を設定するための方法として、制御部１００が製品出荷時の出力停止の頻度等を記憶部に記憶しておき、記憶した頻度と実測した頻度に許容できない差が生じる値をメンテナンス閾値として設定することができる。

【0043】

（変形例３）
変形例２において情報生成部１２０が出力停止の頻度に基づいてメンテナンス情報を生成する場合、成膜中の所定の時間ごとに当該頻度を算出し、頻度の変化に基づいてメンテナンス情報を生成してもよい。例えば、情報生成部１２０は、頻度の時間による変化を差分や微分係数に対応する傾きにより算出し、算出された値によりメンテナンス時期の予測値を算出することができる。あるいは、情報生成部１２０は、算出された値が対応するメンテナンス閾値に基づく条件を満たすか否かにより、メンテナンス時期が迫っているか否か等を判定してメンテナンス情報を生成することができる。

【0044】

（変形例４）
成膜装置１および２の情報処理機能を実現するためのプログラムをコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録して、この記録媒体に記録された、上述した制御部１００の処理およびそれに関連する処理の制御に関するプログラムをコンピュータシステムに読み込ませ、実行させてもよい。なお、ここでいう「コンピュータシステム」とは、ＯＳ（Operating System）や周辺機器のハードウェアを含むものとする。また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、光ディスク、メモリカード等の可搬型記録媒体、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスクまたはソリッドステートドライブ（Solid State Drive; ＳＳＤ）等の記憶装置のことをいう。さらに「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、インターネット等のネットワークや電話回線等の回線を介してプログラムを送信する場合の通信線のように、短時間の間、動的にプログラムを保持するもの、その場合のサーバやクライアントとなるコンピュータシステム内部の揮発性メモリのように、一定時間プログラムを保持するものを含んでもよい。また上記のプログラムは、前述した機能の一部を実現するためのものであってもよく、さらに前述した機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせにより実現するものであってもよい。

【0045】

また、パーソナルコンピュータ（以下、ＰＣと記載）等に適用する場合、上述した制御に関するプログラムは、ＣＤ－ＲＯＭ等の記録媒体やインターネット等のデータ信号を通じて提供することができる。図５はその様子を示す図である。ＰＣ９５０は、ＣＤ－ＲＯＭ９５３を介してプログラムの提供を受ける。また、ＰＣ９５０は通信回線９５１との接続機能を有する。コンピュータ９５２は上記プログラムを提供するサーバーコンピュータであり、ハードディスク等の記録媒体にプログラムを格納する。通信回線９５１は、インターネット、パソコン通信などの通信回線、あるいは専用通信回線などである。コンピュータ９５２はハードディスクを使用してプログラムを読み出し、通信回線９５１を介してプログラムをＰＣ９５０に送信する。すなわち、プログラムをデータ信号として搬送波により搬送して、通信回線９５１を介して送信する。このように、プログラムは、記録媒体や搬送波などの種々の形態のコンピュータ読み込み可能なコンピュータプログラム製品として供給できる。

【0046】

（態様）
上述した複数の例示的な実施形態は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。

【0047】

（第１項）一態様に係る成膜装置は、第１電極および、ターゲットに接続される第２電極を少なくとも含む複数の電極を備える成膜部と、前記第１電極と前記第２電極との間に直流電圧を印加し、前記ターゲットに接続される回路において測定された電流および電圧の少なくとも一つに基づいて、前記直流電圧の印加を一時的に停止する電圧印加部とを備える成膜装置であって、前記停止の回数、頻度および間隔の少なくとも一つに基づいて、前記成膜装置のメンテナンス時期についての情報を生成する情報生成部を備える。これにより、成膜条件等に応じ、成膜装置のメンテナンス時期を正確に予測することができる。

【0048】

（第２項）他の一態様に係る成膜装置では、第１項の態様の成膜装置において、前記情報生成部は、成膜条件に基づいて前記メンテナンス時期の導出方法が異なる。これにより、成膜条件に応じ、成膜装置のメンテナンス時期を正確に予測することができる。

【0049】

（第３項）他の一態様に係る成膜装置では、第２項の態様の成膜装置において、前記成膜条件は、前記ターゲットを構成する材料の種類および導電性、ならびに反応ガスの種類の少なくとも一つである。これにより、ターゲットまたは反応ガスについての条件に応じ、成膜装置のメンテナンス時期を正確に予測することができる。

【0050】

（第４項）他の一態様に係る成膜装置では、第２項または第３項の態様の成膜装置において、前記情報生成部は、前記成膜条件に基づいて前記ターゲットの交換時期についての情報を生成する。これにより、成膜条件に応じ、成膜装置におけるターゲットの交換時期を正確に予測することができる。

【0051】

（第５項）他の一態様に係る成膜装置では、第２項から第４項までのいずれかの態様の成膜装置において、前記情報生成部は、前記停止の回数、頻度および間隔の少なくとも一つが、所定の閾値に基づく条件を満たすか否かに基づいて、前記情報を生成し、前記情報生成部は、前記成膜条件に基づいて前記閾値が異なる。これにより、成膜条件に応じて設定された閾値により、成膜装置のメンテナンス時期をより正確に予測することができる。

【0052】

（第６項）他の一態様に係る成膜装置では、第１項から第４項までのいずれかの態様の成膜装置において、前記情報生成部は、前記停止の頻度の変化に基づいて、前記メンテナンス時期についての情報を生成する。これにより、成膜装置のメンテナンス時期をより正確に予測することができる。

【0053】

（第７項）他の一態様に係る成膜装置では、第１項から第６項までのいずれかの態様の成膜装置において、前記情報、ならびに、前記情報に基づく予告および警告の少なくとも一つを画面に表示させる表示制御部を備える。これにより、ユーザーにメンテナンス時期についての情報をわかりやすく伝えることができる。

【0054】

（第８項）他の一態様に係る成膜装置では、第１項から第７項までのいずれかの態様の成膜装置において、前記成膜部は、ＣＶＤ電極をさらに備える。このような場合、ターゲット等の成膜に関する部材が劣化しやすくなりメンテナンス時期を正確に予測する必要性が高まるため、上述の各態様に係る成膜装置を好適に適用できる。

【0055】

（第９項）一態様に係る成膜方法では、第１電極および、ターゲットに接続される第２電極を少なくとも含む複数の電極を備える成膜部を備える成膜装置による成膜方法であって、前記第１電極と前記第２電極との間に直流電圧を印加し、前記ターゲットに接続される回路において測定された電流および電圧の少なくとも一つに基づいて、前記直流電圧の印加を一時的に停止することと、前記停止の回数、頻度および間隔の少なくとも一つに基づいて、前記成膜装置のメンテナンス時期についての情報を生成することとを備える。これにより、成膜条件等に応じ、成膜装置のメンテナンス時期を正確に予測することができる。

【0056】

（第１０項）一態様に係るプログラムでは、第１電極および、ターゲットに接続される第２電極を少なくとも含む複数の電極を備える成膜部を備える成膜装置の処理装置に処理を行わせるためのプログラムであって、前記処理は、前記第１電極と前記第２電極との間に直流電圧を印加し、前記ターゲットに接続される回路において測定された電流および電圧の少なくとも一つに基づいて、前記直流電圧の印加を一時的に停止する電圧制御処理（図３のフローチャートのステップＳ１０５に対応）と、前記停止の回数、頻度および間隔の少なくとも一つに基づいて、前記成膜装置のメンテナンス時期についての情報を生成する情報生成処理（ステップＳ１０９に対応）とを備える。これにより、成膜条件等に応じ、成膜装置のメンテナンス時期を正確に予測することができる。

【0057】

本発明は上記実施形態の内容に限定されるものではない。本発明の技術的思想の範囲内で考えられるその他の態様も本発明の範囲内に含まれる。

【符号の説明】

【0058】

１，２…成膜装置、１０，１０ａ…真空容器、１１…真空容器本体、１２…開閉部、２１，２１ａ…第１電極、２２…第２電極、３０…電圧印加部、３１…直流電源部、３２…停止部、３４…ＣＶＤ電極、３５…整合器、３６…高周波電源、４０…真空排気系、５０，５０ａ…ガス供給部、６０…表示部、１００…制御部、１１０…電圧制御部、１２０…情報生成部、１３０…表示制御部、Ｔ…ターゲット、Ｗｐ…成膜対象物。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】