特許 7469735 研磨パッド、及び研磨方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-04-09

(45)【発行日】2024-04-17

(54)【発明の名称】研磨パッド、及び研磨方法

(51)【国際特許分類】

   B24B 37/26 20120101AFI20240410BHJP

   B24B 37/22 20120101ALI20240410BHJP

   C03C 19/00 20060101ALI20240410BHJP

【ＦＩ】

B24B37/26

B24B37/22

C03C19/00 Z

【請求項の数】 6

(21)【出願番号】P 2020031164

(22)【出願日】2020-02-27

(65)【公開番号】P2021133456

(43)【公開日】2021-09-13

【審査請求日】2023-01-18

(73)【特許権者】

【識別番号】000232243

【氏名又は名称】日本電気硝子株式会社

(72)【発明者】

【氏名】上田 康彦

(72)【発明者】

【氏名】早川 俊文

(72)【発明者】

【氏名】山岡 一郎

【審査官】山本 忠博

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１９－０９８４８０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特表２０１９－５１０６５０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｂ２４Ｂ ３／００－３／６０，２１／００－３９／０６；

Ｃ０３Ｃ １５／００－２３／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基材層と、前記基材層の主面に積層された研磨層とを有してなり、被研磨物との相対回転により前記被研磨物を研磨する研磨パッドであって、
前記研磨層は、複数の突出部と、前記突出部の間に配された溝部とを備え、
前記突出部は、先端側に開口する凹部と、平面視において前記凹部を囲む環状をなし、先端面が平面状である環状壁部とを備え、
前記凹部は、平面視において、当該研磨パッドの相対回転方向に交差する方向に延びる細長形状であり、
前記溝部の底は、前記基材層に配置されてなる研磨パッド。

【請求項2】

基材層と、前記基材層の主面に積層された研磨層とを有してなり、被研磨物との相対回転により前記被研磨物を研磨する研磨パッドであって、
前記研磨層は、複数の突出部と、前記突出部の間に配された溝部とを備え、
前記突出部は、先端側に開口する凹部と、平面視において前記凹部を囲む環状をなし、先端面が平面状である環状壁部とを備え、
前記凹部における当該研磨パッドの相対回転方向の前方側を向く内側面は、基端側から先端側に向かって、前記相対回転方向の後方側に傾斜する傾斜面であり、
前記溝部の底は、前記基材層に配置されてなる研磨パッド。

【請求項3】

基材層と、前記基材層の主面に積層された研磨層とを有してなり、被研磨物との相対回転により前記被研磨物を研磨する研磨パッドであって、
前記研磨層は、複数の突出部と、前記突出部の間に配された溝部とを備え、
前記突出部は、先端側に開口する凹部と、平面視において前記凹部を囲む環状をなし、先端面が平面状である環状壁部とを備え、
一つの前記突出部に対して複数の前記凹部が設けられており、
前記溝部の底は、前記基材層に配置されてなる研磨パッド。

【請求項4】

前記基材層は、硬質層と、前記硬質層の表面に積層された弾性層とを備え、
前記研磨層は、前記弾性層の主面に積層されてなる請求項１～３のいずれか一項に記載の研磨パッド。

【請求項5】

前記溝部の底は、前記弾性層に配置されてなる請求項４に記載の研磨パッド。

【請求項6】

請求項１～５のいずれか一項に記載の研磨パッドと、前記被研磨物とを相対回転させることにより前記被研磨物を研磨する研磨方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、研磨パッド、及び研磨方法に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１に開示されるように、板ガラス等の被研磨物の表面における平滑性を高めるためには、研磨パッドを用いて被研磨物の表面が研磨される。研磨パッドを用いて被研磨物を研磨するには、回転している研磨パッドを、被研磨物の表面に当接する。このとき、研磨パッドと、被研磨物との間には、研磨用スラリーが供給され、その研磨用スラリーに含まれる研磨材により被研磨物の表面が研磨される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開２００３－１４５４０２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

研磨パッドが被研磨物に押し当てられた際には、研磨パッドの突出部における先端面が被研磨物に押圧されることから、突出部の形状は、研磨の効率に大きな影響を与える。従来の研磨パッドの突出部の形状には、研磨の効率を高めるという観点、及び研磨パッドの寿命を延ばす観点から、未だ改善の余地があった。

【0005】

本発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、研磨の効率を高め、かつ長期間使用可能な研磨パッドを提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0006】

上記課題を解決する研磨パッドは、基材層と、前記基材層の主面に積層された研磨層とを有してなり、被研磨物との相対回転により前記被研磨物を研磨する研磨パッドであって、前記研磨層は、複数の突出部と、前記突出部の間に配された溝部とを備え、前記溝部の底は、前記基材層に配置されてなる。

【0007】

従来、研磨パッドが回転する際において、遠心力に起因する力により被研磨物と研磨パッドとの密着性が低下する。そのため、被研磨物を均一に研磨することができない場合がある。本構成のように基材層まで溝が形成されることにより、被研磨物が溝に引っ掛かりやすくなり、密着性が良好となる。

【0008】

前記基材層は、硬質層と、前記硬質層の表面に積層された、弾性層とを備え、前記研磨層は、前記弾性層の主面に積層されてなることが好ましい。

【0009】

上記構成によれば、被研磨物が研磨の際に傷付くのを抑制できる。

【0010】

前記溝部の底は、前記弾性層に配置されてなることが好ましい。

【0011】

上記構成によれば、被研磨物が研磨の際に傷付くのを抑制できる。また、硬質層を有するために、研磨パッドにより被研磨物を押圧しやすくなり、研磨効率を高めることができる。

【0012】

前記突出部は、先端側に開口する凹部と、平面視において前記凹部を囲む環状をなし、先端面が平面状である環状壁部とを備えることが好ましい。

【0013】

被研磨物は、研磨パッドの研磨層に設けられた突出部の先端における相対回転方向の前方側の角部の付近にて集中的に研磨される。上記構成のように、先端側に開口する凹部を有する突出部は、相対回転方向の前方側を向く側面に連なる角部に加えて、凹部における相対回転方向の前方側を向く内側面に連なる角部の一部も、突出部の先端における相対回転方向の前方側の角部になる。突出部における研磨が強く行われる部位である相対回転方向の前方側の角部が増加することにより、突出部による研磨効率が向上する。
また、突出部に対して、凹部を囲む環状をなし、先端面が平面状である環状壁部を設けている。これにより、凹部の形成に起因する突出部の強度の過度な低下が抑制されて、突出部が早期に壊れること、例えば、突出部の形状が崩れたり、突出部が研磨層から剥離したりすることを抑制できる。そのため、角部を増加させるために突出部の数を増やした場合と比較して長期間使用可能となる。

【0014】

前記凹部は、平面視において、当該研磨パッドの相対回転方向に交差する方向に延びる細長形状であることが好ましい。

【0015】

上記構成によれば、突出部に対して、凹部における研磨パッドの相対回転方向の前方側を向く内側面に連なる角部を、相対回転方向に交差する方向の広範囲に形成できる。これにより、突出部による研磨効率が更に向上する。

【0016】

前記凹部における当該研磨パッドの相対回転方向の前方側を向く内側面は、基端側から先端側に向かって、前記相対回転方向の後方側に傾斜する傾斜面であることが好ましい。

【0017】

上記構成によれば、研磨パッドと被研磨物とが相対回転された際に、突出部の傾斜面状の内側面に連なる角部の付近が被研磨物に好適に押圧されて、当該角部の付近が被研磨物の研磨に利用され易くなる。

【0018】

一つの前記突出部に対して複数の前記凹部が設けられていることが好ましい。

【0019】

上記構成によれば、一つの大きな凹部を形成した場合と比較して、突出部の強度が向上する。また、突出部における研磨が強く行われる部位である相対回転方向の前方側の角部が増加することにより、突出部による研磨効率が向上する。

【0020】

上記課題を解決する研磨方法は、上記研磨パッドと、前記被研磨物とを相対回転させることにより前記被研磨物を研磨する。

【発明の効果】

【0021】

本発明によれば、研磨の効率を高めることができるとともに、より長期間の使用が可能になる。

【図面の簡単な説明】

【0022】

【図1】研磨パッドを示す平面図。

【図2】図１のＡ部分の拡大図。

【図3】図２の３－３線断面図。

【図4】研磨パッドの使用状態の一例を示す概略正面図。

【図5】研磨時の突出部を示す説明図。

【図6】変更例の突出部の断面図。

【図7】変更例の突出部の平面図。

【図8】変更例の突出部の平面図。

【発明を実施するための形態】

【0023】

以下、研磨パッドの一実施形態について図面を参照して説明する。なお、図面では、説明の便宜上、構成の一部を誇張して示す場合がある。また、各部分の寸法比率についても、実際と異なる場合がある。

【0024】

図１～図３に示すように、研磨パッド１１は、円形状の内周端１１ａと、円形状の外周端１１ｂとを有する。研磨パッド１１は、基材層１２と、基材層１２の主面ＰＳに積層された研磨層１３とを有している。研磨パッド１１は、被研磨物との相対回転により被研磨物を研磨するために用いられる。

【0025】

＜基材層＞
図３に示すように、研磨パッド１１の基材層１２は、硬質層１２ａと、研磨層１３よりも圧縮変形し易い弾性層１２ｂとを備える二層構造である。硬質層１２ａは、例えば、アルミニウム、ステンレス鋼等から構成される。弾性層１２ｂは、ゴム又はエラストマーから構成される。弾性層１２ｂは、非発泡体であってもよいし発泡体であってもよい。弾性層１２ｂは、硬質層１２ａよりも硬度が小さい。硬質層１２ａと弾性層１２ｂとは図示しない接着層を介して接着されている。

【0026】

＜研磨層＞
図３に示すように、研磨層１３は、基材層１２の弾性層１２ｂ側の面に積層されて、研磨パッド１１の一方側（図３の紙面上側）の主面を形成している。研磨層１３は、基材層１２に支持される平板状の支持部１４と、この支持部１４から、研磨パッド１１の一方の主面側に突出する複数の突出部１５とを備えている。支持部１４と複数の突出部１５とは、ウレタンゴム等の弾性材料から一体に構成されている。研磨層１３と基材層１２とは図示しない接着層を介して接着されている。

【0027】

図２及び図３に示すように、研磨層１３の突出部１５は、平行四辺形状の先端面２０と、先端面２０に連なる第１側面２１と、その第１側面２１の反対側の面である第２側面２２と、第１側面２１と第２側面２２とを接続する第３側面２３及び第４側面２４とを有する。突出部１５の先端面２０は、基材層１２の主面ＰＳに平行な平面状である。なお、先端面２０は、基材層１２の主面ＰＳの状態や研磨層１３の寸法誤差により、例えば、±５°以内の程度の角度で傾斜していてもよい。

【0028】

図１に示すように、研磨層１３は、突出部１５の配置が異なる複数の領域を有している。上記複数の領域は、研磨層１３の平面視において、中心角を６０°として６等分した扇形の各領域であって、研磨パッド１１は、図１における時計回りの順で領域Ａ１，Ａ２，Ａ３，Ａ４，Ａ５，Ａ６に区分される。領域Ａ１と領域Ａ４、領域Ａ２と領域Ａ５、及び領域Ａ３と領域Ａ６は、研磨パッド１１の平面視において、それぞれ中心を挟んで対向するように配置されている。

【0029】

図１及び図２に示すように、図１の上下方向を基準の径方向Ｄ１とした場合、領域Ａ１，Ａ４の各突出部１５は、第１側面２１及び第２側面２２が径方向Ｄ１に沿って延在するように設けられている。図１に示すように、領域Ａ１，Ａ４においては、径方向Ｄ１に離間して配置される複数の突出部１５からなる列が、径方向Ｄ１と直交する方向に離間して複数、配置されている。

【0030】

領域Ａ２，Ａ５の各突出部１５は、第１側面２１及び第２側面２２が、径方向Ｄ１から時計回りに６０°回転した径方向Ｄ２に沿って延在するように設けられている。そして、領域Ａ２，Ａ５においては、径方向Ｄ２に離間して配置される複数の突出部１５からなる列が、径方向Ｄ２と直交する方向に離間して複数、配置されている。

【0031】

領域Ａ３，Ａ６の各突出部１５は、第１側面２１及び第２側面２２が、径方向Ｄ１から時計回りに１２０°回転した径方向Ｄ３に沿って延在するように設けられている。そして、領域Ａ３，Ａ６においては、径方向Ｄ３に離間して配置される複数の突出部１５からなる列が、径方向Ｄ３と直交する方向に離間して複数、配置されている。

【0032】

上記のとおり、各突出部１５の第１側面２１及び第２側面２２は、径方向Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３のいずれかの方向に延在している。したがって、各突出部１５の第１側面２１及び第２側面２２は、図１に矢印で示す相対回転方向ＲＤと異なる方向、即ち、相対回転方向ＲＤに交差する方向に延在している。本実施形態において、相対回転方向ＲＤは、研磨パッド１１の周方向に一致する。

【0033】

＜突出部＞
図３に示すように、各突出部１５の第１側面２１は、相対回転方向ＲＤの前方側を向く側面であり、基材層１２の主面ＰＳに対する角度である第１角度θ１が鋭角となる傾斜面である。第１角度θ１は、例えば、８０°以下であることが好ましく、より好ましくは７０°以下であり、さらに好ましくは６０°以下である。この第１角度θ１は、１０°以上であることが好ましく、より好ましくは２０°以上であり、さらに好ましくは３０°以上である。

【0034】

各突出部１５において、基材層１２の主面ＰＳに対する第２側面２２の角度である第２角度θ２は特に限定されないが、上記の第１角度θ１よりも大きいことが好ましく、上記の第１角度θ１よりも大きく、かつ直角又は鋭角であることがより好ましい。

【0035】

なお、上述した第１角度θ１及び第２角度θ２は、各突出部１５において第１側面２１が延在する方向に対して直交する断面における角度を示す。また、基材層１２の主面ＰＳが凹凸を有する場合は、研磨パッド１１と被研磨物との相対回転の軸方向に対して直交する仮想面が角度の基準となる主面ＰＳに相当する。

【0036】

図２及び図３に示すように、各突出部１５は、先端面２０に開口する凹部２５と、平面視において、凹部２５を囲む環状の環状壁部とを備えている。環状壁部は、第１側面２１を形成する壁部２１ａと、第２側面２２を形成する壁部２２ａと、第３側面２３を形成する壁部２３ａと、第４側面２４を形成する壁部２４ａとからなる。突出部１５の平面状の先端面２０は、環状壁部を構成する壁部２１ａ～２４ａの各先端面によって形成されている。

【0037】

平面視において、凹部２５は、突出部１５の第１側面２１及び第２側面２２が延在する方向に延びる細長形状に形成されている。なお、本実施形態において細長形状は、長円形状である。すなわち、凹部２５における第１側面２１及び第２側面２２が延在する方向の長さＬ１は、同方向に直交する方向の長さＬ２よりも長い。例えば、長さＬ１は、長さＬ２の２～５倍の長さであることが好ましい。また、長さＬ１は、突出部１５の第１側面２１に沿う方向の長さに対して、２０～９０％となる長さであることが好ましい。

【0038】

凹部２５の深さＬ３は、突出部１５の基端である支持部１４の主面から先端面２０までの長さに対して、５０～１００％となる長さであることが好ましい。
凹部２５は、突出部１５の第１側面２１側に位置する第１内側面２６、及び突出部１５の第２側面２２側に位置する第２内側面２７を有している。第１内側面２６は、相対回転方向ＲＤの後方側を向く内側面であり、第２内側面２７は、相対回転方向ＲＤの前方側を向く内側面である。基材層１２の主面ＰＳに対する第１内側面２６の角度である第３角度θ３は、特に限定されないが、上記の第１角度θ１よりも大きいことが好ましく、上記の第１角度θ１よりも大きく、かつ直角又は鋭角であることがより好ましい。基材層１２の主面ＰＳに対する第２内側面２７の角度である第４角度θ４は直角である。

【0039】

＜研磨パッドの溝＞
図１に示すように、研磨パッド１１の溝１６は、研磨パッド１１の内周端１１ａから外周端１１ｂへ向かって直線状に延びる主幹溝１６ａと、主幹溝１６ａと研磨パッド１１の外周端１１ｂとを直線状に連結する分岐溝１６ｂとを備えている。主幹溝１６ａ及び分岐溝１６ｂは、研磨パッド１１の内周端１１ａと外周端１１ｂとの間において連続した溝１６を構成している。

【0040】

図３に示すように、研磨パッド１１の溝１６は、突出部１５と、これに隣り合う突出部１５との間に形成されている。研磨パッド１１の溝１６は、研磨層１３からなる内底を有する第１溝１６ｃと、基材層１２からなる内底を有する第２溝１６ｄとから構成されている。第２溝１６ｄは、研磨層１３と研磨層１３とが離間した部分に形成され、突出部１５とこれに隣り合う突出部１５との間において基材層１２が露出している部分である。換言すると、研磨層１３は、基材層１２上に離間して配置された複数の研磨層１３から構成されることで、研磨パッド１１は、基材層１２を内底として構成された第２溝１６ｄを有している。なお、図１では、第１溝１６ｃと第２溝１６ｄと区別するために第２溝１６ｄを梨地模様で示している。そして、第２溝１６ｄに対応する位置の基材層１２の主面ＰＳは、他の部分と比較して凹んでいる。そして、この凹んだ部分が第２溝１６ｄの底Ｂとなる。なお、第２溝１６ｄの底Ｂは、弾性層１２ｂに配置されている。

【0041】

＜研磨パッドの各寸法＞
研磨パッド１１、及び研磨パッド１１の各部位の寸法は限定されないが、例えば、以下に記載する寸法とすることができる。

【0042】

研磨パッド１１の直径は、例えば、１０～１０００ｍｍ程度である。
突出部１５の大きさは、例えば、平面視において、第１側面２１に沿う方向の長さが５～５０ｍｍ程度であり、第１側面２１に沿う方向に直交する方向の長さが３～２０ｍｍ程度であり、高さが主面ＰＳを基準として５～３０ｍｍ程度である。

【0043】

突出部１５の凹部２５の長さＬ１は、例えば、３～１５ｍｍ程度であり、凹部２５の長さＬ２は、例えば、１．５～５ｍｍ程度であり、凹部２５の深さＬ３は、例えば、３～８ｍｍ程度である。

【0044】

突出部１５の先端面２０における壁部２１ａ，２２ａの幅Ｈ１は、例えば、３ｍｍ以上であり、壁部２３ａ，２４ａの幅Ｈ２は、例えば、１．５ｍｍ以上である。この場合には、突出部１５の強度を確保することが容易である。また、突出部１５の先端面２０における壁部２１ａ，２２ａの幅Ｈ１は、例えば、８ｍｍ以下であり、壁部２３ａ，２４ａの幅Ｈ２は、例えば、３ｍｍ以下である。この場合には、凹部２５をより大きく形成することが容易である。

【0045】

＜研磨パッドの使用方法及び研磨パッドの作用＞
研磨パッド１１は、例えば、回転駆動装置を備えた周知の研磨機に取り付けられる。被研磨物の表面は、研磨パッド１１と被研磨物との相対回転により研磨される。被研磨物としては、ガラス板、ステンレス板、アルミニウム板等の板材が挙げられる。なお、こうした研磨では、砥粒を含む研磨用スラリーが用いられる。

【0046】

図４に、研磨パッド１１の使用状態の一例を示す。研磨パッド１１は、研磨機の回転軸ＲＳに取り付けられる。被研磨物としてのガラス板ＧＳは、支持台Ｂ上に固定されている。研磨用スラリーＳＬは、回転軸ＲＳの中空部、及び研磨パッド１１の中央の貫通孔を通じてガラス板ＧＳの上面と研磨層１３との間に供給される。研磨パッド１１は、研磨層１３における各突出部１５の第１側面２１が先頭になってガラス板ＧＳに対して進行する方向に回転される。これにより、ガラス板ＧＳの上面が研磨される。このとき、研磨パッド１１の有する溝１６は、研磨用スラリーの流路となる。また、第２溝１６ｄの底Ｂは、基材層１２に配置されるため、第２溝１６ｄは従来よりも深い。そのため、ガラス板ＧＳに研磨パッド１１を押し当てて回転させた際において、ガラス板ＧＳと第２溝１６ｄの底Ｂとが引っ掛かりやすくなる。研磨パッド１１の回転により発生する遠心力に起因する力より、ガラス板ＧＳと研磨パッド１１との密着性が低下するのを抑制できる。特に、第２溝１６ｄの底Ｂが弾性層１２ｂに配置されているため、ガラス板ＧＳと基材層１２との接触に起因する傷の発生を抑制できる。また、弾性層１２ｂが圧縮変形し易い材質により構成した場合、ガラス板ＧＳが弾性層１２ｂに食い込みやすくなるため、より引っ掛かりが良くなり、より密着性の低下を抑制できる。第２溝１６ｄを深くする方法としては、研磨層１３を高くして、第２溝１６ｄの底を研磨層１３に配置することも考えられる。しかし、この場合、研磨用スラリーＳＬが排出されにくくなる。

【0047】

ここで、ガラス板ＧＳに対する突出部１５による研磨は、突出部１５の先端における相対回転方向ＲＤの前方側の角部の付近にて強く行われる。
図５に示すように、本実施形態の研磨パッド１１の研磨層１３における各突出部１５は、先端面２０に開口する凹部２５を有している。そのため、突出部１５の先端には、相対回転方向ＲＤの前方側の角部として、第１側面２１に連なる角部Ｃ１、及び第２内側面２７に連なる角部Ｃ２の二つの角部が存在することになり、これら二つの角部Ｃ１，Ｃ２の付近のそれぞれにて強い研磨が行われる。突出部１５における強い研磨が行われる部分が増加することにより、突出部１５による研磨効率が向上する。

【0048】

また、各突出部１５の凹部２５は、研磨用スラリーＳＬを一時的に保持するスラリーポケットとしても機能する。つまり、ガラス板ＧＳの上面と研磨層１３との間に供給された研磨用スラリーＳＬが凹部２５に入り込み、その一部が凹部２５内に保持される。これにより、突出部１５における上記の角部Ｃ１，Ｃ２の付近とガラス板ＧＳとの間に研磨用スラリーＳＬが存在する状況が確保されやすくなる。

【0049】

なお、各突出部１５に凹部２５が設けられているか否かの点のみが異なる二種類の研磨パッドを作製し、両研磨パッドの研磨効率を比較したところ、各突出部１５に凹部２５を設けることによって８～９％程度の研磨効率の向上が確認できた。

【0050】

詳述すると、一定の速度で連続的に搬送されるガラス板に対して、研磨パッドを取り付けた研磨機を用いて８時間の研磨を行った。上記の操作を、各突出部１５に凹部２５が設けられている研磨パッド、及び各突出部１５に凹部２５が設けられていない研磨パッドを用いて、それぞれ２１回ずつ行い、研磨によるガラス板の厚さの減少量を測定した。各突出部１５に凹部２５が設けられていない研磨パッドを用いた場合の上記減少量の平均値は、９．０２μｍであったのに対して、各突出部１５に凹部２５が設けられている研磨パッドを用いた場合の上記減少量の平均値は、９．７５μｍであった。

【0051】

なお、図５においては、突出部１５を模式的に記載するために研磨時における研磨パッドの形状変化を考慮に入れていない。しかし、実際は研磨層１３が変形し、第２溝１６ｄの底Ｂとガラス板ＧＳとが接することになる。基材層１２は、研磨層１３の突出部１５と比較してガラス板ＧＳに押圧力が伝わりやすいため、ガラス板ＧＳが第２溝１６ｄに引っ掛かりやすくなる。そのため、ガラス板ＧＳと研磨パッド１１との密着性が良好となる。また、第２溝１６ｄの底Ｂは、弾性層１２ｂに配置されるため、ガラス板が傷付きにくく、かつ押圧しやすい。そのため、研磨時における研磨パッド１１と被研磨物であるガラス板ＧＳとの密着性が良好となる。

【0052】

次に、本実施形態の効果について記載する。
（１）研磨層１３は、複数の突出部１５と、突出部１５の間に配された第２溝１６ｄとを備え、第２溝１６ｄの底Ｂは、基材層１２の弾性層１２ｂに配置されてなる。

【0053】

上記構成によれば、研磨時において被研磨物であるガラス板ＧＳが第２溝１６ｄに引っ掛かりやすくなるため、研磨パッド１１とガラス板ＧＳとの密着性が良好となる。

【0054】

（２）基材層１２は、硬質層１２ａと、硬質層１２ａの表面に積層された弾性層１２ｂとを備え、研磨層１３は、弾性層１２ｂの主面に積層されている。

【0055】

上記構成によれば、ガラス板ＧＳが研磨パッド１１の基材層１２と接触することにより傷付くのを抑制できる。

【0056】

（３）第２溝１６ｄの底Ｂは、弾性層１２ｂに配置されてなることが好ましい。

【0057】

上記構成によれば、ガラス板ＧＳが研磨パッド１１の基材層１２と接触することにより傷付くのを抑制できる。また、硬質層１２ａを有するために、研磨パッド１１によりガラス板ＧＳを押圧しやすくなり、研磨効率を高めることができる。

【0058】

（４）研磨パッド１１は、突出部１５を有する研磨層１３を備えている。突出部１５は、先端側に開口する凹部２５と、平面視において凹部２５を囲む環状をなし、先端面２０が平面状である環状壁部とを備えている。

【0059】

上記構成によれば、突出部１５における研磨が強く行われる部位である相対回転方向ＲＤの前方側の角部が増加する。これにより、突出部１５による研磨効率が向上する。
また、突出部１５に対して、凹部２５を囲む環状壁部が設けられている。これにより、凹部２５の形成に起因する突出部１５の強度の過度な低下が抑制されて、突出部１５が早期に壊れること、例えば、突出部１５の形状が崩れたり、突出部１５が研磨層１３から剥離したりすることを抑制できる。そのため、角部を増加させるために突出部の数を増やした場合と比較してより長期間の使用が可能となる。

【0060】

（５）凹部２５は、平面視において、研磨パッド１１の相対回転方向ＲＤに交差する方向に延びる形状である。

【0061】

上記構成によれば、突出部１５における第２内側面２７に連なる角部Ｃ２を、相対回転方向ＲＤに交差する方向の広範囲に形成できる。これにより、突出部１５による研磨効率が更に向上する。

【0062】

（６）凹部２５は、平面視において、細長形状であり、その角部が丸まっている。

【0063】

上記構成によれば、研磨時に突出部１５に作用する負荷が環状壁部の全体に分散しやすくなる。これにより、突出部１５が早期に壊れることを更に抑制できる。

【0064】

（７）研磨パッド１１の研磨層１３における各突出部１５は、基材層１２の主面ＰＳに平行な先端面２０と、その先端面２０に連なるとともに基材層１２の主面ＰＳに対する角度が鋭角となる傾斜面状の第１側面２１とを有している。この第１側面２１は、研磨パッド１１とガラス板ＧＳとの相対回転方向ＲＤとは異なる方向に延在している。

【0065】

上記構成によれば、研磨パッド１１とガラス板ＧＳとが相対回転された際に、各突出部１５の傾斜面状の第１側面２１に連なる角部Ｃ１の付近がガラス板ＧＳに好適に押圧される。これにより、突出部１５の角部Ｃ１の付近がガラス板ＧＳの研磨に利用され易くなる。

【0066】

なお、本実施形態は、以下のように変更して実施することができる。本実施形態及び以下の変更例は、技術的に矛盾しない範囲で互いに組み合わせて実施することができる。
・凹部２５の形状は特に限定されるものではなく、その平面視形状や断面形状等の各種形状を適宜変更してもよい。

【0067】

例えば、図６に示すように、凹部２５の第２内側面２７を、基材層１２の主面ＰＳに対する角度である第４角度θ４が鋭角となる傾斜面としてもよい。第４角度θ４は、例えば、８０°以下であることが好ましく、より好ましくは７０°以下であり、さらに好ましくは６０°以下である。また、第４角度θ４は、１０°以上であることが好ましく、より好ましくは２０°以上であり、さらに好ましくは３０°以上である。第４角度θ４を上記の角度とすることにより、突出部１５における第２内側面２７に連なる角部Ｃ２の付近における研磨に関しても、上記（７）と同様の効果が得られる。

【0068】

また、上記実施形態の凹部２５は、平面視において、研磨パッド１１の相対回転方向ＲＤに交差する方向に延びる細長形状であり、細長形状を長円形状としていたが、例えば、細長形状を、相対回転方向ＲＤに交差する方向に延びる長四角形状等の多角形状としてもよいし、正円形状、正方形状のように、相対回転方向ＲＤに交差する方向に延びる形状以外の形状としてもよい。なお、本明細書において、多角形状や長円形状の環状も、環状に該当する。

【0069】

・凹部２５は、研磨層１３を貫通して基材層１２に達する貫通孔であってもよい。
・各突出部１５に設けられる各凹部２５は全て同じ形状であってもよいし、一部又は全部が異なる形状であってもよい。

【0070】

・一つの突出部１５に対して、２以上の凹部２５を設けてもよい。複数の凹部２５を設ける場合、突出部１５における各凹部２５の配置は特に限定されるものではない。
例えば、図７に示すように、相対回転方向ＲＤに重なるように並ぶ複数の凹部２５を有する突出部１５としてもよいし、図８に示すように、相対回転方向ＲＤに重ならないように並ぶ複数の凹部２５を有する突出部１５としてもよい。また、相対回転方向ＲＤに重なるように並ぶ複数の凹部２５と、相対回転方向ＲＤに重ならないように並ぶ複数の凹部２５とを有する突出部１５としてもよい。

【0071】

突出部１５に対して、一つの大きな凹部２５を設けた場合と比較して、複数の凹部２５を設けた場合には、突出部１５の各側面を形成する壁部２１ａ～２４ａの間を接続する壁部が形成されることにより、突出部１５の強度が向上する。

【0072】

また、図７に示すように、突出部１５に対して、複数の凹部２５を相対回転方向ＲＤに重なるように設けた場合には、凹部２５の形成数に応じて、突出部１５における研磨が強く行われる部位である相対回転方向ＲＤの前方側の角部が更に増加する。これにより、突出部１５による研磨効率が更に向上する。

【0073】

・突出部１５の形状は特に限定されるものではなく、その平面視形状や断面形状等の各種形状を適宜変更してもよい。例えば、上記実施形態の突出部の第１側面２１は、基材層１２の主面ＰＳに対する角度である第１角度θ１が鋭角となる傾斜面であったが、第１角度θ１が直角となる垂直面であってもよい。

【0074】

・突出部１５は全て同じ形状であってもよいし、一部又は全部が異なる形状であってもよい。
・前記研磨パッド１１の基材層１２は、金属層１２ａまたは弾性層１２ｂが省略されたものであってもよい。

【0075】

・研磨パッド１１は、各突出部１５の延在する方向に基づいて領域Ａ１～Ａ６に区分されているが、これに限定されず、区分する領域の数や形状は変更されてもよい。また、研磨パッド１１における領域を特に設定せずに、各突出部１５を研磨パッドの中心から放射状となるように延在してもよい。

【0076】

・研磨パッド１１は、研磨層１３側から見た平面視（図１）において反時計回りとなるように相対回転させて使用するが、時計回りとなるように相対回転させて使用する研磨パッドに変更されてもよい。

【0077】

・前記研磨パッド１１の研磨層１３の各突出部１５に砥粒を含有させることで、研磨用スラリーを用いずに水等を研磨用液として被研磨物を研磨してもよい。
・前記研磨パッド１１を回転させずに、被研磨物を回転させることで被研磨物を研磨してもよい。また、研磨パッド１１は、複数の研磨パッドを遊星歯車機構により同時に回転させて用いる研磨機に装着して用いてもよい。

【符号の説明】

【0078】

ＧＳ…ガラス板、ＰＳ…主面、ＲＤ…相対回転方向、１１…研磨パッド、１２…基材層、１３…研磨層、１５…突出部、２０…先端面、２１…第１側面、２２…第２側面、２３…第３側面、２４…第４側面、２１ａ～２４ａ…壁部、２５…凹部、２６…第１内側面、２７…第２内側

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】