特許 7470241 熱処理装置および被処理物の加熱処理方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B1)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-04-09

(45)【発行日】2024-04-17

(54)【発明の名称】熱処理装置および被処理物の加熱処理方法

(51)【国際特許分類】

   F27B 9/36 20060101AFI20240410BHJP

   F27B 9/02 20060101ALI20240410BHJP

   F27D 11/02 20060101ALI20240410BHJP

【ＦＩ】

F27B9/36

F27B9/02

F27D11/02 A

【請求項の数】 9

(21)【出願番号】P 2023171084

(22)【出願日】2023-10-02

【審査請求日】2023-10-19

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】000004293

【氏名又は名称】株式会社ノリタケカンパニーリミテド

(74)【代理人】

【識別番号】100117606

【弁理士】

【氏名又は名称】安部 誠

(74)【代理人】

【識別番号】100121186

【弁理士】

【氏名又は名称】山根 広昭

(72)【発明者】

【氏名】大竹 英明

(72)【発明者】

【氏名】大威 英晃

(72)【発明者】

【氏名】米川 英樹

(72)【発明者】

【氏名】松本 清志

(72)【発明者】

【氏名】石田 洋史

【審査官】國方 康伸

(56)【参考文献】

【文献】特表２０１９－５０８５９３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００３－１９２３７４（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｆ２７Ｂ ９／００－ ９／４０

Ｂ２３Ｋ ２６／００－２７／７０

Ｃ２１Ｄ １／００

Ｃ２１Ｄ ９／４６－ ９／４８

Ｆ２７Ｄ ７／００－１５／０２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

予め定められた搬送経路に沿って帯状の被処理物を搬送する搬送装置と、
前記被処理物にレーザ光を照射し加熱するレーザ装置を有する第１加熱部と、
前記第１加熱部で加熱された前記被処理物をレーザ加熱以外の方法で加熱する加熱装置を有する第２加熱部と
を備え、
前記レーザ装置は、前記被処理物の少なくとも幅方向に沿った照射領域が設定されている、
熱処理装置。

【請求項2】

予め定められた搬送経路に沿って帯状の被処理物を搬送する搬送装置と、
前記被処理物にレーザ光を照射し加熱するレーザ装置を有する第１加熱部と、
前記第１加熱部で加熱された前記被処理物をレーザ加熱以外の方法で加熱する加熱装置を有する第２加熱部と
を備え、
前記第２加熱部に設定されている搬送経路は、前記第１加熱部に設定されている搬送経路よりも長い、
熱処理装置。

【請求項3】

予め定められた搬送経路に沿って帯状の被処理物を搬送する搬送装置と、
前記被処理物にレーザ光を照射し加熱するレーザ装置を有する第１加熱部と、
前記第１加熱部で加熱された前記被処理物をレーザ加熱以外の方法で加熱する加熱装置を有する第２加熱部と
を備え、
前記加熱装置は、赤外線加熱装置である、
熱処理装置。

【請求項4】

予め定められた搬送経路に沿って帯状の被処理物を搬送する搬送装置と、
前記被処理物にレーザ光を照射し加熱するレーザ装置を有する第１加熱部と、
前記第１加熱部で加熱された前記被処理物をレーザ加熱以外の方法で加熱する加熱装置を有する第２加熱部と、
前記被処理物を巻出す巻出部と、
処理された前記被処理物を巻取る巻取部と
を備え、
前記巻出部と、前記第１加熱部と、前記第２加熱部と、前記巻取部とには、前記被処理物が搬送され、かつ、外部から隔離された搬送空間が形成されている、
熱処理装置。

【請求項5】

前記搬送空間を減圧する真空ポンプをさらに備える、請求項４に記載された熱処理装置。

【請求項6】

前記搬送空間に予め定められたガスを供給する供給装置をさらに備える、請求項４に記載された熱処理装置。

【請求項7】

前記レーザ装置は、前記被処理物の少なくとも幅方向に沿った照射領域が設定されている、請求項２～６のいずれか一項に記載された熱処理装置。

【請求項8】

前記第１加熱部は、前記レーザ装置によって加熱された前記被処理物の温度を検出する温度検出装置と、前記温度検出装置によって検出された温度に基づいて前記レーザ装置の出力を制御する出力制御装置とを備える、請求項１～６のいずれか一項に記載された熱処理装置。

【請求項9】

予め定められた搬送経路に沿って搬送される帯状の被処理物にレーザ光を照射し加熱する第１加熱工程と、
前記搬送経路に沿って搬送される、前記第１加熱工程で加熱された前記被処理物をレーザ以外の方法で加熱する第２加熱工程と
を備える、
被処理物の加熱処理方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、熱処理装置および被処理物の加熱処理方法に関する。

【背景技術】

【0002】

特許第７２８５３６０号公報には、加熱処理部と、冷却部と、巻取部とを備えた熱処理装置が開示されている。加熱処理部では、シートが搬送されつつ加熱処理される。冷却部では、加熱処理部で加熱処理されたシートが搬送されつつ冷却される。巻取部では、冷却部で冷却されたシートが巻取られる。加熱処理部内の上方および下方には、ガイドローラが入口から出口に向かって並べられている。シートは、ガイドローラによって折り返され、上下に行ったり来たりしつつ、入口から出口に向かって搬送されている。シートの間隙や周囲には、シートと対向するように遠赤外線加熱式のヒータが設けられている。かかる構成によって、加熱処理部においてシートが搬送される距離が長くなり、シートが効率よく乾燥されるとされている。

【0003】

特開２０１４－１０７２３７号公報には、ロール状の電極シートを乾燥する電極シート乾燥装置が開示されている。同公報に開示されている乾燥装置は、チャンバと、チャンバ内を真空圧力にする真空排気装置と、巻出し軸と、巻取り軸と、ガイドローラと、赤外線照射部とを備えている。チャンバは、巻出し側収容部と、巻取り側収容部と、連通部とを備えている。巻出し側収容部には、巻取り軸が収容されている。巻取り側収容部には、巻取り軸が収容されている。連通部は、巻出し側収容部と巻取り側収容部とを連通している。赤外線照射部は、チャンバの外側に設けられている。赤外線照射部は、連通部を通る電極シートに対し、連通部の途中に設けた透過窓を介して赤外線を照射する。かかる乾燥装置によって、電極シート全体を均一に乾燥でき、また、電極シートの熱劣化させることなく乾燥時間を従来以上に大幅に短縮できるとされている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【文献】特許第７２８５３６０号公報

【文献】特開２０１４－１０７２３７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

本発明者は、帯状の被処理物の処理効率を向上させたいと考えている。

【課題を解決するための手段】

【0006】

ここで開示される熱処理装置は、搬送装置と、第１加熱部と、第２加熱部とを備えている。搬送装置は、予め定められた搬送経路に沿って帯状の被処理物を搬送する。第１加熱部は、被処理物にレーザ光を照射し加熱するレーザ装置を有している。第２加熱部は、第１加熱部で加熱された前記被処理物をレーザ加熱以外の方法で加熱する加熱装置を有している。かかる熱処理装置では、帯状の被処理物の処理効率が向上する。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】図１は、熱処理装置１０を示す模式図である。

【図2】図２は、被処理物２０を駆動する駆動機構を示す模式図である。

【図3】図３は、第１加熱部４０、第２加熱部５０および冷却部６０の模式図である。

【図4】図４は、被処理物２０の温度の推移を示すグラフである。

【図5】図５は、他の実施形態にかかる第１加熱部４０Ａを示す模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

以下、本開示における実施形態の１つについて、図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、以下の図面においては、同じ作用を奏する部材・部位には同じ符号を付して説明している。また、各図における寸法関係（長さ、幅、厚み等）は実際の寸法関係を反映するものではない。上、下、左、右、前、後の向きは、図中、Ｕ、Ｄ、Ｌ、Ｒ、Ｆ、Ｒｒの矢印でそれぞれ表されている。ここで、上、下、左、右、前、後の向きは、説明の便宜上、定められているに過ぎず、特に言及されない限りにおいて本願発明を限定しない。

【0009】

図１は、熱処理装置１０を示す模式図である。図１では、巻出部３０と巻取部７０の内部の構成が模式的に示されている。図２は、被処理物２０を駆動する駆動機構を示す模式図である。図２では、巻出部３０と巻取部７０の間の第１加熱部４０、第２加熱部５０および冷却部６０の図示は省略されている。また、図２では、巻出部３０の張力検出ローラ３４ｂと、フィードローラ３４ｃと、ダンサーローラ３４ｄ以外のローラ３４の図示は省略されている。図２では、巻取部７０の張力検出ローラ７４ｃ以外のローラ７４の図示は省略されている。図３は、第１加熱部４０、第２加熱部５０および冷却部６０の模式図である。

【0010】

〈熱処理装置１０〉
熱処理装置１０は、帯状の被処理物２０を加熱処理するための設備である。この実施形態では、熱処理装置１０は、いわゆるロールｔｏロール方式で帯状の被処理物を搬送しつつ連続的に乾燥させるための装置である。被処理物２０は、例えば、シート基材の両面にそれぞれ電極材料が塗工された二次電池の電極シート、フレキシブル銅張積層板ＦＣＣＬ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｃｕｐｐｅｒ Ｃｌａｄ Ｌａｍｉｎａｔｅ）、ポリイミドシートなど帯状のものであれば特に限定されない。ここで開示される熱処理装置１０は、帯状（シート状）の種々の被処理物の処理に用いられうる。

【0011】

被処理物２０は、図１に示されているように、熱処理装置１０を用いて加熱処理される。被処理物２０の加熱処理方法は、第１加熱工程と、第２加熱工程とを含んでいる。被処理物２０の加熱処理方法は、冷却工程を含んでいてもよい。

【0012】

熱処理装置１０は、搬送装置８０と、第１加熱部４０と、第２加熱部５０とを備えている。被処理物２０は、熱処理装置１０において予め定められた搬送経路に沿って搬送される。被処理物２０は、第１加熱部４０および第２加熱部５０において搬送経路に沿って搬送されつつ加熱処理される。この実施形態では、熱処理装置１０は、巻出部３０と、巻取部７０とを備えている。被処理物２０の搬送経路は、巻出部３０の巻出ロール２２から巻取部７０の巻取ロール２４の間に設定されている。この実施形態では、熱処理装置１０は、冷却部６０を備えている。被処理物２０は、第２加熱部５０と巻取部７０の間に設けられている。このため、被処理物２０は、巻出部３０で巻出され、第１加熱部４０で加熱処理され、第２加熱部５０で加熱処理され、冷却部６０で冷却され、巻取部７０で巻き取られる。

【0013】

〈搬送装置８０，８２〉
搬送装置８０は、予め定められた搬送経路に沿って被処理物２０を搬送する装置である。この実施形態では、搬送装置８０，８２は、巻出部３０の巻出ロール２２が取り付けられている第１軸３２、および、巻取部７０の巻取ロール２４が取り付けられている第２軸７２を回転駆動する装置である。この実施形態では、搬送装置８０，８２としてモータが用いられている。

【0014】

図２に示されているように、搬送装置８０，８２は、巻出部３０の一方の外壁３０ａおよび巻取部７０の一方の外壁７０ａにそれぞれ取り付けられている。第１軸３２は、搬送装置８０に接続されている。搬送装置８０によって第１軸３２が回転駆動され、巻出ロール２２から被処理物２０が巻出される。第２軸７２は、搬送装置８２に接続されている。搬送装置８２によって第２軸７２が回転駆動され、巻取ロール２４に被処理物２０が巻取られる。搬送装置８０，８２は、それぞれ外壁３０ａ，７０ａに囲まれた空間内に設けられた大気ボックスに設置されていてもよい。

【0015】

熱処理装置１０では、被処理物２０の処理効率を向上させるために、被処理物２０は、高速で搬送されうる。特に限定されないが、被処理物２０の搬送速度は、１ｍ／分～２００ｍ／分程度に設定されうる。この実施形態では、被処理物２０の搬送速度は、１００ｍ／分程度に設定されている。熱処理装置１０では、被処理物２０の搬送速度は、制御装置１５によって制御されている。

【0016】

〈制御装置１５〉
制御装置１５は、予め定められた搬送条件に応じて被処理物２０が搬送されるように、被処理物２０の搬送速度や被処理物２０にかかる張力を制御する。この実施形態では、制御装置１５は、被処理物２０を巻出す時の巻出し張力と、処理されている被処理物２０にかかる炉内張力と、処理された被処理物２０を巻取る時の巻取り張力とをそれぞれ制御する。図２に示されているように、制御装置１５は、搬送装置８０，８２に接続されている。また、制御装置１５は、張力検出ローラ３４ｂ、フィードローラ３４ｃ、ダンサーローラ３４ｄ、張力検出ローラ７４ｃ等と接続されている。張力検出ローラ３４ｂ、フィードローラ３４ｃ、ダンサーローラ３４ｄおよび張力検出ローラ７４ｃについては、後述する。制御装置１５は、張力検出ローラ３４ｂが検出する巻出し張力を搬送装置８０にフィードバックし、第１軸３２のトルクを制御する。これによって、巻出し張力が調整される。また、制御装置１５は、処理されている被処理物２０が掛けられた張力検出ローラ（この実施形態では、冷却部６０内（図１参照）に設けられた張力検出ローラ７４ｃ）が検出する炉内張力をダンサーローラ３４ｄにフィードバックする。検出された炉内張力に応じてダンサーローラ３４ｄが移動する。これによって、炉内張力が調整される。なお、炉内張力が一定の状態でダンサーローラ３４ｄの位置が基準の位置に戻るように、フィードローラ３４ｃの回転速度が制御される。また、制御装置１５は、張力検出ローラ７４ｃが検出する巻取り張力を搬送装置８２にフィードバックし、第２軸７２のトルクを制御する。これによって、巻取り張力が調整される。

【0017】

〈巻出部３０〉
巻出部３０は、被処理物２０を巻き出す部位である。図１に示されているように、巻出部３０は、加熱処理前の被処理物２０が巻付けられた状態の巻出ロール２２を収容している。巻出部３０は、内部の設備と、巻出ロール２２を囲う外壁３０ａとを有している。この実施形態では、外壁３０ａの内部には、被処理物２０が搬送され、かつ、外部から隔離された搬送空間が形成されている。巻出部３０には、第１軸３２と、複数のローラ３４とが内部に設けられている。第１軸３２は、加熱処理前の被処理物２０が巻かれた巻出ロール２２が取り付けられる軸である。この実施形態では、第１軸３２が回転駆動されることによって、第１軸３２が回転駆動されることによって、第１軸３２に取り付けられた巻出ロール２２から帯状のシート２０が巻出される。

【0018】

巻出部３０の外壁３０ａで囲まれた空間内には、被処理物２０の搬送経路を設定する複数のローラ３４が設けられている。第１軸３２に取り付けられた巻出ロール２２から巻出された被処理物２０は、複数のローラ３４に予め定められた順番で掛け廻されて、第１加熱部４０に向けて搬送される。複数のローラ３４は、ガイドローラ３４ａと、張力検出ローラ３４ｂと、フィードローラ３４ｃと、ダンサーローラ３４ｄとを含んでいる。張力検出ローラ３４ｂは、被処理物２０にかかる張力を検出するためのローラである。張力検出ローラ３４ｂには、図示しない張力検出器が取り付けられている。ダンサーローラ３４ｄは、予め定められた範囲を移動可能に構成されている。ダンサーローラ３４ｄが移動することによって、被処理物２０の張力が調整される。フィードローラ３４ｃは、図示しない搬送装置によって回転駆動される。フィードローラ３４ｃの回転が制御されることによって、ダンサーローラ３４ｄの位置が調整される。

【0019】

巻出部３０は、連結部９０を介して第１加熱部４０と接続されている。連結部９０は、巻出部３０の出口と、第１加熱部４０の入口とを備えている。被処理物２０は、連結部９０を通って第１加熱部４０に搬送される。

【0020】

〈第１加熱部４０〉
第１加熱部４０は、被処理物２０をレーザ加熱により加熱処理する部位である。図３に示されているように、第１加熱部４０は、レーザ装置４２を備えている。第１加熱部４０では、巻出ロール２２から巻出される被処理物２０が搬送されつつレーザ装置４２によって加熱処理される。

【0021】

図４は、被処理物２０の温度の推移を示すグラフである。図４では、第１加熱部においてレーザ加熱が実施され、第２加熱部５０において赤外線加熱が実施される熱処理装置１０における被処理物２０の温度の推移が実線で示されている。また、図４では、第１加熱部および第２加熱部の両方において赤外線加熱が実施された熱処理装置における被処理物の温度の推移が破線で示されている。図４に示されているように、被処理物２０は、第１加熱部４０のレーザ装置４２によって予め定められた設定温度まで昇温する。設定温度は、処理対象である被処理物２０の構成等に応じて適宜設定されうる。

【0022】

図３に示されているように、第１加熱部４０は、外壁４０ａと、複数のサポートローラ４４とを備えている。この実施形態では、外壁４０ａの内部には、被処理物２０が搬送され、かつ、外部から隔離された搬送空間が形成されている。外壁４０ａは、複数のサポートローラ４４が配置された空間を囲っている。レーザ装置４２は、外壁４０ａの外側に配置されている。第１加熱部４０には、外壁４０ａおよびレーザ装置４２を囲うカバー４０ｂが設けられていてもよい。外壁４０ａの外側、かつ、カバー４０ｂの内側の空間は、被処理物２０が搬送される空間から隔離されており、レーザ装置４２が配置されている。この実施形態では、外壁４０ａの外側、かつ、カバー４０ｂの内側の空間は、外部と連通しており、大気圧環境である。

【0023】

この実施形態では、第１加熱部４０における被処理物２０の搬送経路は、前後方向に沿った直線状に設定されている。被処理物２０は、複数のサポートローラ４４によって支持されている。なお、第１加熱部４０における搬送経路は、直線状に限定されず、例えば、第１加熱部４０内で折り返されていてもよい。第１加熱部４０内には、サポートローラ４４以外にも、被処理物２０の搬送経路を設定するガイドローラ等が設けられていてもよい。

【0024】

〈サポートローラ４４〉
サポートローラ４４は、第１加熱部４０内を搬送される被処理物２０を支持するローラである。サポートローラ４４は、円柱状のローラである。サポートローラ４４は、予め定められたピッチで前後方向に沿って並べられている。複数のサポートローラ４４は、それぞれ略同一の高さに並べられている。複数のサポートローラ４４の上端は、巻出部３０の出口付近のガイドローラ３４ａ（図１参照）の上端と略同一の高さになるように配置されている。これによって、巻出部３０から搬送される被処理物２０は、前方に向かって略水平に搬送される。

【0025】

この実施形態では、サポートローラ４４は、第２面２０ｂから被処理物２０を支持している。被処理物２０は、サポートローラ４４に支持されることよって、被処理物２０自体の重さによるたわみが低減されうる。その結果、レーザ加熱時の焦点が合いやすく、面方向における加熱のムラが低減されうる。

【0026】

〈レーザ装置４２〉
レーザ装置４２は、被処理物２０に対してレーザを照射し加熱する装置である。被処理物２０は、レーザ装置４２によって加熱されることにより、急速に昇温する（図４参照）。この実施形態では、レーザ装置４２として、半導体で形成された素子を含んだ半導体レーザが用いられている。レーザ装置４２は、発振器４２ａと、伝送ファイバ４２ｂと、加工ヘッド４２ｃとを備えている。レーザ装置４２には、伝送ファイバ４２ｂを介して加工ヘッド４２ｃが接続されている。レーザ装置４２は、加工ヘッド４２ｃからレーザ光Ｐを照射可能に構成されている。加工ヘッド４２ｃの向きは、レーザ光Ｐの光軸がシート状の被処理物２０に対して略垂直に入射するように設定されている。

【0027】

レーザ装置４２の加工ヘッド４２ｃは、外壁４０ａの外部に配置されている。この実施形態では、レーザ装置４２の加工ヘッド４２ｃは、第１加熱部４０の上方に配置されている。加工ヘッド４２ｃは、下方を向いている。外壁４０ａのうち少なくとも天井部には、レーザ光Ｐを透過する窓４０ａ１が設けられているとよい。かかるレーザ光Ｐを透過する窓４０ａ１は、例えば、石英ガラスで構成されているとよい。加工ヘッド４２ｃから照射されるレーザ光Ｐは、窓４０ａ１を透過する。第１加熱部４０内では、被処理物２０にレーザ光Ｐが照射され、被処理物２０は、加熱される。この実施形態では、被処理物２０は、サポートローラ４４によって支持されている第２面２０ｂとは反対側の第１面２０ａからレーザ光Ｐが当てられる。加工ヘッド４２ｃの周囲は、石英ガラスに向けられている面を除いて、遮蔽板４０ｃによって遮蔽されている。

【0028】

レーザ装置４２として、被処理物２０に対して二次元の照射領域が設定された装置が用いられていてもよい。この実施形態では、レーザ装置４２として、被処理物２０の面方向に対して略均一に略矩形状のレーザ光Ｐを照射可能な装置が用いられている。レーザ光Ｐの照射領域は、例えば、加工ヘッド４２ｃの高さを調整する等、被処理物２０の照射面と加工ヘッド４２ｃの間の距離の調整によって設定されてもよい。レーザ光Ｐの照射領域は、加工ヘッド４２ｃ内の光学系ユニット４２ｃ１によって設定されてもよい。光学系ユニット４２ｃ１を調整することによって、レーザ光Ｐの照射幅が調整されうる。加工ヘッド４２ｃから被処理物２０に向かって、レーザ光Ｐの照射幅は広がっている。レーザ装置４２としては、例えば、レーザーライン社製の半導体レーザが用いられうる。被処理物２０の面方向に対して広い範囲に略均一にレーザ光Ｐが照射され加熱されることによって、被処理物２０の面方向において加熱条件（昇温条件）を略一定とすることができる。その結果、処理後の被処理物２０の品質が向上しうる。かかる観点から、レーザ装置４２としては、被処理物２０を局所的に加熱するレーザ装置と比較して、被処理物２０の少なくとも幅方向に沿った照射領域が設定された装置が用いられることが好ましく、被処理物２０の面方向に沿った照射領域が設定された装置が用いられることがより好ましい。レーザ光Ｐの照射領域は、被処理物２０の寸法に応じて適宜定められうる。

【0029】

レーザ装置４２の数は特に限定されず、１つであってもよく、２つ以上であってもよい。レーザ装置４２の数は、被処理物２０の処理条件、搬送条件等に応じて適宜設定されうる。この実施形態では、第１加熱部４０には、２つのレーザ装置４２が設けられている。２つのレーザ装置４２の加工ヘッド４２ｃは、搬送経路に沿って並べられている。これによって、被処理物２０の加熱効率が向上しうる。また、搬送経路に沿って加熱条件を変えることができ、加熱処理の自由度が向上しうる。第１加熱部４０に複数のレーザ装置４２が用いられている場合、レーザ装置４２は、搬送方向に沿って並べられていてもよく、被処理物２０の幅方向に沿って並べられていてもよい。レーザ装置４２が被処理物２０の幅方向に沿って並べられていることによって、広い照射領域が確保されうる。複数のレーザ装置４２は、それぞれのレーザ装置４２の照射領域が重なるように配置されていてもよい。また、複数のレーザ装置４２は、搬送方向に沿って並べられ、かつ、幅方向においてずれた位置に配置されていてもよい。これによって、幅方向において、複数のレーザ装置４２の照射領域を重ねることができ、被処理物２０の幅方向における熱履歴の差が低減されうる。例えば、複数のレーザ装置４２は、搬送方向に沿って左右に交互に配置されていてもよい。

【0030】

第１加熱部４０に複数のレーザ装置４２が用いられている場合、それぞれの照射領域は、互いに離れていてもよく、重なっていてもよい。また、レーザ装置４２の配置は、特に限定されない。レーザ装置４２は、第２面２０ｂから加熱できるように配置されていてもよく、第１面２０ａと第２面２０ｂの両面から加熱できるように配置されていてもよい。

【0031】

第１加熱部４０は、連結部９１を介して第２加熱部５０と接続されている。連結部９１は、第１加熱部４０の出口と、第２加熱部５０の入口とを備えている。設定温度まで昇温した被処理物２０は、連結部９１を通って第２加熱部５０に搬送される。

【0032】

〈第２加熱部５０〉
第２加熱部５０は、第１加熱部４０で加熱された被処理物２０をレーザ加熱以外の方法で加熱する部位である。第２加熱部５０では、被処理物２０は、第１加熱部４０とは異なる条件で加熱処理される。この実施形態では、第２加熱部５０において、被処理物２０は、第１加熱部４０において設定温度まで昇温された状態を維持するように加熱される（図４参照）。これによって、被処理物２０は、乾燥される。

【0033】

この実施形態では、第２加熱部５０は、加熱装置５２と、ガイドローラ５４ａ～５４ｄと、外壁５０ａとを備えている。この実施形態では、外壁５０ａの内部には、被処理物２０が搬送され、かつ、外部から隔離された搬送空間が形成されている。外壁５０ａは、加熱装置５２と、ガイドローラ５４ａ～５４ｄとが配置された空間を囲っている。

【0034】

〈ガイドローラ５４ａ～５４ｄ〉
ガイドローラ５４ａ～５４ｄは、第２加熱部５０において被処理物２０が搬送される搬送経路を設定するためのローラである。この実施形態では、ガイドローラ５４ａ～５４ｄは、円柱状のローラである。ガイドローラ５４ａ～５４ｄの軸は、それぞれ左右方向に向けられている。ガイドローラ５４ａは、第２加熱部５０の入口（連結部９１）付近に設けられている。ガイドローラ５４ａの上端は、第１加熱部４０のサポートローラ４４の上端の高さと略同一の高さになるように配置されている。これによって、被処理物２０は、第１加熱部４０から第２加熱部５０に向かって略水平に搬送される。複数のガイドローラ５４ｂは、第２加熱部５０の下方において前後方向に順に予め定められたピッチで並べられている。複数のガイドローラ５４ｃは、第２加熱部５０の上方において、第２加熱部５０の入口から出口に向かって複数のガイドローラ５４ｂとは半ピッチずれて並べられている。ガイドローラ５４ｄは、第２加熱部５０の出口（連結部９２）付近に設けられている。被処理物２０は、第２加熱部５０の入口付近のガイドローラ５４ａに掛けられ下方に搬送される。その後、被処理物２０は、上下のガイドローラ５４ｂ，５４ｃに後方から前方に向けて順に交互に掛け廻される。これにより、第２加熱部５０での被処理物２０は、入口から出口に向かって上下に行ったり来たりしつつ進む。そして、出口付近に設けられたガイドローラ５４ｄに掛けられて、冷却部６０に向けて搬送される。

【0035】

〈加熱装置５２〉
加熱装置５２は、レーザ加熱以外の方法で被処理物２０を加熱するための装置である。加熱装置５２としては、波長等が揃ったレーザ光を用いない方法で被処理物２０を加熱可能な種々の装置を用いることができる。この実施形態では、加熱装置５２として、赤外線加熱装置が用いられている。赤外線加熱装置を用いることによって、第２加熱部５０内の雰囲気によらず被処理物２０を加熱処理することができる。また、被処理物２０の面方向の均熱効率が良好である。ここでは、加熱装置５２は、遠赤外線加熱式の板状のプレートヒータである。加熱装置５２としては、加熱温度や加熱雰囲気等に応じて種々のヒータが用いられうる。加熱装置５２としては、例えば、板状のプレートヒータの他に、例えば、筒状のヒータが用いされてもよい。加熱装置５２の材質は特に限定されず、金属シースヒータ、セラミックヒータ、ランプヒータ等が用いられてもよい。また、加熱装置５２は、遠赤外線加熱式のヒータに限られない。雰囲気炉の場合は、加熱装置５２としては、例えば、被処理物に熱風が吹き付けられる熱風加熱式のヒータが用いられてもよい。

【0036】

この実施形態では、加熱装置５２は、ガイドローラ５４ａ～５４ｄに掛けられて、上下に行ったり来たりしつつ、入口から出口に向かって進む被処理物２０の周りに、被処理物２０に対向するように配置されている。加熱装置５２は、ガイドローラ５４ｂ，５４ｃに掛けられて、上下に行ったり来たりする被処理物２０の間隙や、搬送される被処理物２０の周りに、被処理物２０に対向するように配置されている。加熱装置５２は、例えば、ホルダおよび支柱によって固定されてもよい。外壁５０ａの底壁には、ホルダを固定するための支柱が立てられていてもよい。支柱には、ホルダが固定されていてもよい。加熱装置５２は、ホルダによって固定されてもよい。また、加熱装置５２は、例えば、外壁４０ａの側壁（図３参照）に支持されていてもよい。

【0037】

ガイドローラ５４ａ～５４ｄが上記のように配置されていることによって、第２加熱部５０において被処理物２０が搬送される距離が長くなっている。このように、第２加熱部５０に設定されている搬送経路は、第１加熱部４０に設定されている搬送経路よりも長くなっている。このため、被処理物２０は、効率よく乾燥されうる。また、被処理物２０の第１面２０ａと第２面２０ｂに対して、それぞれ加熱装置５２からの熱が同じように当たる。このため、被処理物２０の第１面２０ａと第２面２０ｂの加熱条件が近くなりうる。これによって、被処理物２０の第１面２０ａと第２面２０ｂの熱履歴の差を小さくすることができる。熱履歴は、被処理物２０が加熱および冷却された履歴である。被処理物２０内で加熱条件と冷却条件を合わせることによって、被処理物２０内の熱履歴の差が小さくなりうる。

【0038】

なお、加熱装置５２やガイドローラ５４ａ～５４ｄの配置は、かかる形態に限定されない。加熱装置５２やガイドローラ５４ａ～５４ｄの配置は、被処理物２０の種類や加熱処理の条件等に応じて適宜設定されるとよい。例えば、被処理物２０の第１面２０ａと第２面２０ｂで異なる材料が形成されている場合等、第１面２０ａと第２面２０ｂが異なる条件で加熱処理されるように、加熱装置５２の配置や出力等が設定されてもよい。

【0039】

第２加熱部５０は、連結部９２を介して冷却部６０と接続されている。連結部９２は、第２加熱部５０の出口と、冷却部６０の入口とを備えている。設定温度で維持された被処理物２０は、連結部９２を通って冷却部６０に搬送される。

【0040】

〈冷却部６０〉
冷却部６０は、第２加熱部５０で加熱処理された被処理物２０が搬送されつつ冷却される部位である。冷却部６０が設けられていることによって、温度を低下させた状態で被処理物２０を巻取ロール２４に巻き取ることができる。冷却部６０は、第１加熱部４０および第２加熱部５０における被処理物２０の処理温度が高い時に特に有効である。冷却部６０は、冷却ローラ６２と、複数のガイドローラ６８と、外壁６０ａとを有している。この実施形態では、外壁６０ａの内部には、被処理物２０が搬送され、かつ、外部から隔離された搬送空間が形成されている。この実施形態では、冷却部６０には、複数の冷却ローラ６２が設けられている。複数の冷却ローラ６２と複数のガイドローラ６８は、冷却部６０において被処理物２０が搬送される搬送経路を設定している。冷却ローラ６２は単数でもよいが、複数であるほうがより好ましい。

【0041】

〈冷却ローラ６２〉
冷却ローラ６２は、内部に冷媒が流通するように構成されたローラである。この実施形態では、冷却ローラ６２は、少なくとも１つの第１冷却ローラ６２ａと、少なくとも１つの第２冷却ローラ６２ｂとを有している。ここで、第１冷却ローラ６２ａは、被処理物２０の第１面２０ａが接するように掛け廻される冷却ローラ６２である。第２冷却ローラ６２ｂは、被処理物２０の第２面２０ｂが接するように掛け廻される冷却ローラ６２である。この実施形態では、冷却ローラ６２は、図示しない駆動装置が接続されている。冷却ローラ６２は、に搬送方向に沿って、設定された搬送速度に合わせて回転する。この実施形態では、被処理物２０は、冷却部６０において、室温程度まで冷却される（図４参照）。なお、冷却される被処理物２０の温度は、特に限定されない。

【0042】

この実施形態では、第１冷却ローラ６２ａおよび第２冷却ローラ６２ｂは、それぞれ複数（この実施形態では、４つずつ）設けられている。冷却ローラ６２の数は特に限定されない。第１冷却ローラ６２ａおよび第２冷却ローラ６２ｂは、例えば、それぞれ１つずつ設けられていてもよい。

【0043】

この実施形態では、複数の第１冷却ローラ６２ａは、冷却部６０の前方（出口側）に高さ方向に沿って予め定められたピッチで一列に並べられている。複数の第２冷却ローラ６２ｂは、冷却部６０の後方（入口側）において、高さ方向に沿って予め定められたピッチで一列に並べられている。隣り合う第１冷却ローラ６２ａの間隔および隣り合う第２冷却ローラ６２ｂの間隔はそれぞれ、冷却ローラ６２の外径よりも狭くなるように設定されている。なお、第１冷却ローラ６２ａおよび第２冷却ローラ６２ｂの配置は、特に限定されない。例えば、複数の第１冷却ローラ６２ａおよび複数の第２冷却ローラ６２ｂはそれぞれ、冷却部６０の入口側から出口側に向かって並べられていてもよい。複数の第１冷却ローラ６２ａは、冷却部６０の上方に予め定められたピッチで一列に並べられていてもよい。複数の第２冷却ローラ６２ｂは、冷却部６０の下方に予め定められたピッチで一列に並べられていてもよい。隣り合う第１冷却ローラ６２ａの間隔および隣り合う第２冷却ローラ６２ｂの間隔はそれぞれ、冷却ローラ６２の外径よりも広くなるように設定されていてもよい。

【0044】

この実施形態では、第１冷却ローラ６２ａと第２冷却ローラ６２ｂは、同じピッチで並べられており、第２冷却ローラ６２ｂの高さは、下から順に、第１冷却ローラ６２ａよりも半ピッチ高い位置に配置されている。これにより、複数の第１冷却ローラ６２ａと複数の第２冷却ローラ６２ｂとは、冷却部６０の前後で順に高さがずれるように配置されている。換言すると、複数の第１冷却ローラ６２ａと複数の第２冷却ローラ６２ｂとが千鳥に配置されている。第１冷却ローラ６２ａと第２冷却ローラ６２ｂがこのように配置されていることによって、冷却部６０を高さ方向に長い構造とすることができる。他方で、冷却部６０の専有面積を小さくすることができ、設備の省スペース化が図られる。

【0045】

〈ガイドローラ６８〉
ガイドローラ６８は、被処理物２０を案内するローラである。この実施形態では、ガイドローラ６８は、円柱状のローラである。ガイドローラ６８の軸は、冷却部６０において左右方向に向けられ冷却部６０に設けられている。冷却部６０には、複数のガイドローラ６８によって、入口（連結部９２）から複数の冷却ローラ６２を通り、複数の冷却ローラ６２から出口（連結部９３）に向かうように、被処理物２０の搬送経路が設定されている。なお、複数のガイドローラ６８は、被処理物２０にかかる張力を検出する張力検出ローラを含んでいる。

【0046】

被処理物２０は、冷却部６０の入口から、ガイドローラ６８ａを通って冷却部６０に導入され、複数の冷却ローラ６２の上流側で下方に搬送される。被処理物２０は、ガイドローラ６８ｂを通して最下端に配置された第１冷却ローラ６２ａに搬送される。被処理物２０は、第１冷却ローラ６２ａと第２冷却ローラ６２ｂに下側から順に交互に掛け廻され、最上端の第２冷却ローラ６２ｂからガイドローラ６８ｃに向けて搬送される。被処理物２０は、ガイドローラ６８ｃを通して下方に搬送され、ガイドローラ６８ｄを通して冷却部６０の出口から巻取部７０に搬送されている。この際、被処理物２０は、第１冷却ローラ６２ａに被処理物２０の第１面２０ａが接触し、第２冷却ローラ６２ｂに被処理物２０の第２面２０ｂが接触するように掛け廻される。このため、被処理物２０の第１面２０ａと第２面２０ｂとが順に冷却ローラ６２によって冷却される。これにより、被処理物２０の第１面２０ａと第２面２０ｂとの熱履歴の差が小さくなる。

【0047】

冷却部６０は、連結部９３を介して巻取部７０と接続されている。連結部９３は、冷却部６０の出口と、巻取部７０の入口とを備えている。冷却された被処理物２０は、連結部９３を通って巻取部７０に搬送される。

【0048】

〈巻取部７０〉
巻取部７０は、被処理物２０を巻き取る部位である。巻取部７０は、図１に示されているように、冷却ローラ６２を通じて冷却された被処理物２０を巻取るための巻取ロール２４を収容している。巻取部７０は、内部の設備を囲う外壁７０ａを有している。この実施形態では、外壁７０ａの内部には、被処理物２０が搬送され、かつ、外部から隔離された搬送空間が形成されている。巻取部７０には、第２軸７２と、複数のローラ７４とが設けられている。第２軸７２には、第１加熱部４０および第２加熱部５０で加熱処理され、冷却部６０で冷却された被処理物２０が巻き取られた巻取ロール２４が取り付けられる。第２軸７２が回転駆動されることによって、巻取ロール２４に被処理物２０が巻取られる。

【0049】

複数のローラ７４は、巻取部７０において被処理物２０が搬送される搬送経路を設定する。冷却部６０から搬送された被処理物２０は、巻取部７０の入口（連結部９３）付近のローラ７４に掛けられた後に、複数のローラ７４に予め定められた順番に掛け廻され、巻取ロール２４に巻取られる。複数のローラ７４は、ガイドローラ７４ａと、ローラ７４ｂと、張力検出ローラ７４ｃと、フィードローラ７４ｄとを含んでいる。ローラ７４ｂは、予め定められた範囲を移動可能に構成されている。ローラ７４ｂは、例えば、巻取ロール２４が交換される際に、被処理物２０の必要な余長を確保するために移動されうる。張力検出ローラ７４ｃには、図示しない張力検出器が取り付けられている。フィードローラ７４ｄは、巻取ロール２４を交換するときに交換後の巻取ロール２４に被処理物２０を貼り付ける際の、貼り付けに必要な余長を送り出す。

【0050】

ところで、本発明者は、帯状の被処理物の処理効率を向上させることを検討している。例えば、被処理物の搬送速度を上げることによって処理効率を向上させることができる。しかしながら、被処理物の搬送速度を上げた場合には、被処理物が加熱部を通過する速度が早くなる。被処理物の昇温速度は変わらないため、被処理物を設定温度まで昇温させるためには、搬送速度を上げることに伴って、加熱部内の搬送経路を長くする必要がある。加熱部内の搬送経路を長くするためには、設備の大型化が必要となる。また、被処理物の加熱にかかるエネルギーコストも大きくなる。

【0051】

上述した実施形態では、熱処理装置１０は、搬送装置８０，８２と、第１加熱部４０と、第２加熱部５０とを備えている。搬送装置８０，８２は、予め定められた搬送経路に沿って帯状の被処理物２０を搬送する。第１加熱部４０は、被処理物２０にレーザ光Ｐを照射し加熱するレーザ装置４２を有している。第２加熱部５０は、第１加熱部４０で加熱された被処理物２０をレーザ加熱以外の方法で加熱する加熱装置５２を有している。

【0052】

かかる熱処理装置１０では、第２加熱部５０において被処理物２０が設定温度で維持される前に、第１加熱部４０においてレーザ装置４２によって加熱されている。レーザ光Ｐの照射領域を設定可能なレーザ装置４２を用いることによって、被処理物２０の加熱したい領域を効率的に加熱することができる。これによって、エネルギーのロスを抑えて被処理物２０を加熱することがでる。例えば、図４に示されているように、赤外線加熱のみで被処理物を加熱する場合と比較して、被処理物２０の昇温速度を向上させることができる。また、被処理物２０を昇温させるための第１加熱部４０における搬送経路を短くすることができ、設備を小型化することができる。

【0053】

なお、本発明者の知見では、レーザ加熱では、単位時間あたりに被処理物２０に与えられるエネルギーが大きいため、被処理物２０は急速に昇温される。このため、被処理物２０の面内において温度がばらつく場合がある。上述した実施形態では、第２加熱部５０では、レーザ加熱された被処理物２０は、加熱装置５２によって加熱されている。これによって、レーザ加熱された急速に昇温された被処理物２０は、レーザ加熱以外の方法で加熱されることによって、第２加熱部５０内を搬送中に均熱化されやすくなる。これによって、第１加熱部４０および第２加熱部５０での加熱処理後の被処理物２０の品質が良好である。ここで開示される熱処理装置１０によって、品質を維持しつつ効率的に被処理物２０を処理することができる。

【0054】

上述した実施形態では、第２加熱部５０に設定されている搬送経路は、第１加熱部４０に設定されている搬送経路よりも長い。かかる熱処理装置１０では、第１加熱部４０の設備が小型化されている。第２加熱部５０においては、搬送経路が長く設定されていることによって、被処理物２０を均熱化しやすく、被処理物２０の処理後の品質が良好になりうる。

【0055】

上述した実施形態では、巻出部３０と、第１加熱部４０と、第２加熱部５０と、冷却部６０と、巻取部７０とには、被処理物２０が搬送され、かつ、外部から隔離された搬送空間が形成されている。これによって、被処理物２０を外部から隔離された空間で処理することができ、処理条件が安定しうる。また、搬送空間内の雰囲気を、被処理物２０の処理目的に応じた雰囲気に制御することができる。

【0056】

この実施形態では、図１に示されているように、熱処理装置１０は、搬送空間を減圧する真空ポンプ１２を備えている。真空ポンプ１２は、巻出部３０、第１加熱部４０、第２加熱部５０、冷却部６０および巻取部７０の各部に接続されている。被処理物２０は、大気圧よりも低い予め定められた真空雰囲気下で処理される。なお、真空ポンプ１２の接続構成は、かかる形態に限定されない。例えば、巻出部３０、第１加熱部４０、第２加熱部５０、冷却部６０および巻取部７０は、複数の真空ポンプ１２によって内部が減圧されるように構成されていてもよい。例えば、複数の真空ポンプ１２が、各部にそれぞれ接続されていてもよい。被処理物を減圧環境下で処理することによって、被処理物２０の乾燥効率が向上し、被処理物２０の処理効率が良好である。第１加熱部４０の入口（この実施形態では、連結部９０）および冷却部６０の出口（この実施形態では、連結部９３）には、それぞれ扉９０ａ，９３ａが設けられている。

【0057】

真空ポンプ１２の配管には、各部の真空度を調整するための真空バルブ１２ａ～１２ｅが設けられている。真空バルブ１２ａ～１２ｅは、各部と真空ポンプ１２の接続および各部と真空ポンプ１２の切断を切り替え可能に構成されている。各部の真空度を調整しない場合には、真空バルブ１２ａ～１２ｅの替わりに開閉バルブが使用されうる。この実施形態では、搬送空間の真空度は、制御装置１５によって制御されている。なお、搬送空間の制御装置１５とは別の装置によって制御されてもよい。

【0058】

制御装置１５は、各部の真空度を調整できるように、真空ポンプ１２および真空バルブ１２ａ～１２ｅに接続されている。制御装置１５は、各部の真空度を検出するための図示しない真空度検出器に接続されていてもよい。被処理物２０が熱処理装置１０で処理される際には、真空バルブ１２ａ～１２ｅが開かれる。定常運転時は扉９０ａ，９３ａは開かれた状態であり、各部の真空度は同じである。

【0059】

ロールが交換される際には、制御装置１５は、真空バルブ１２ａ～１２ｅそれぞれの開閉を制御することによって、各部の真空度が切り替えられうる。巻出ロール２２が交換される際には、扉９０ａが閉じられた状態で、真空バルブ１２ａが閉じられる。これによって、第１加熱部４０の雰囲気を保つことができ、巻出ロール２２を取り替えた後の装置の復旧が早くなる。巻取ロール２４が交換される際には、扉９３ａが閉じられた状態で、真空バルブ１２ｅが閉じられる。これによって、冷却部６０の雰囲気を保つことができ、巻出ロール２２を取り替えた後の装置の復旧が早くなる。ロールが交換される際には、ロールが交換される部屋は、図示しない大気開放弁によって大気開放される。大気開放弁は、第１加熱部４０、第２加熱部５０および冷却部６０にも設けられていてもよい。制御装置１５は、加熱処理時やロール交換時に真空バルブ１２ａ～１２ｅおよび大気開放弁の開閉を制御しうる。

【0060】

なお、熱処理装置１０は、被処理物２０を予め定められた雰囲気で加熱処理する雰囲気炉であってもよい。熱処理装置１０が雰囲気炉である場合においても、上述したように、品質を維持しつつ効率的に被処理物２０を処理することができる。なお、熱処理装置１０が雰囲気炉である場合、熱処理装置１０は、搬送空間に予め定められたガスを供給する供給装置をさらに備えているとよい。供給装置は、雰囲気ガスを供給するためのガスボンベ等から構成されうる。雰囲気ガスとしては、例えば、窒素、アルゴン、空気、酸素、二酸化炭素、水素等が用いられうる。雰囲気ガスは、被処理物の加熱条件等に応じて適宜選択される。また、熱処理装置１０には、搬送空間内のガスを排気する排気ポンプなどの排気装置が接続されていてもよい。

【0061】

〈第１加熱部４０Ａ〉
図５は、他の実施形態にかかる第１加熱部４０Ａを示す模式図である。図５に示されている実施形態では、第１加熱部４０は、温度検出装置４６と、出力制御装置４８とを備えている。温度検出装置４６は、レーザ装置４２によって加熱された被処理物２０の温度を検出する装置である。温度検出装置４６としては、例えば、赤外線温度計が用いられうる。出力制御装置４８は、レーザ装置４２の出力を制御する装置である。出力制御装置４８は、温度検出装置４６および発振器４２ａと接続されていてもよい。出力制御装置４８は、温度検出装置４６によって検出された温度に基づいてレーザ装置４２の出力を制御する。出力制御装置４８は、温度検出装置４６が検出する温度が設定値よりも高い場合にはレーザ装置４２の出力を下げ、設定値よりも低い場合にはレーザ装置４２の出力を上げるように、レーザ装置４２の出力を制御してもよい。出力を上げる基準となる設定値と、出力を下げる基準となる設定値は、同じでなくてもよい。出力を上げる基準となる設定値は、出力を下げる基準となる設定値よりも低くてもよい。

【0062】

温度検出装置４６は、被処理物２０の幅方向において複数の点の温度を検出できるように構成されていてもよい。温度検出装置４６は、被処理物２０の幅方向に沿って複数設けられていてもよい。温度検出装置４６によって、被処理物２０の幅方向における温度差が検出される場合、出力制御装置４８は、幅方向においてレーザ装置４２の出力を制御してもよい。出力制御装置４８は、例えば、レーザ装置４２が被処理物２０の幅方向に沿って複数並んでいる場合には、被処理物２０の幅方向における温度差を低減させるように、レーザ装置４２の出力を制御してもよい。

【0063】

以上、具体的な実施形態を挙げて詳細な説明を行ったが、これらは例示にすぎず、請求の範囲を限定するものではない。このように、請求の範囲に記載の技術には、以上に記載した実施形態を様々に変形、変更したものが含まれる。

【0064】

なお、本明細書は以下の項１～９を含んでいる。以下の項１～９は、上記した実施形態には限定されない。

【0065】

項１：
予め定められた搬送経路に沿って帯状の被処理物を搬送する搬送装置と、
前記被処理物にレーザ光を照射し加熱するレーザ装置を有する第１加熱部と、
前記第１加熱部で加熱された前記被処理物をレーザ加熱以外の方法で加熱する加熱装置を有する第２加熱部と
を備える、
熱処理装置。

【0066】

項２：
前記レーザ装置は、前記被処理物の少なくとも幅方向に沿った照射領域が設定されている、項１に記載された熱処理装置。

【0067】

項３：
前記第２加熱部に設定されている搬送経路は、前記第１加熱部に設定されている搬送経路よりも長い、項１または２に記載された熱処理装置。

【0068】

項４：
前記加熱装置は、赤外線加熱装置である、項１～３のいずれか一項に記載された熱処理装置。

【0069】

項５：
前記被処理物を巻出す巻出部と、
処理された前記被処理物を巻取る巻取部と
をさらに備え、
前記巻出部と、前記第１加熱部と、前記第２加熱部と、前記巻取部とには、前記被処理物が搬送され、かつ、外部から隔離された搬送空間が形成されている、項１～４のいずれか一項に記載された熱処理装置。

【0070】

項６：
前記搬送空間を減圧する真空ポンプをさらに備える、項５に記載された熱処理装置。

【0071】

項７：
前記第１加熱部は、前記レーザ装置によって加熱された前記被処理物の温度を検出する温度検出装置と、前記温度検出装置によって検出された温度に基づいて前記レーザ装置の出力を制御する出力制御装置とを備える、項１～６のいずれか一項に記載された熱処理装置。

【0072】

項８：
前記搬送空間に予め定められたガスを供給する供給装置をさらに備える、項５に記載された熱処理装置。

【0073】

項９：
予め定められた搬送経路に沿って搬送される帯状の被処理物にレーザ光を照射し加熱する第１加熱工程と、
前記搬送経路に沿って搬送される、前記第１加熱工程で加熱された前記被処理物をレーザ以外の方法で加熱する第２加熱工程と
を備える、
被処理物の加熱処理方法。

【符号の説明】

【0074】

１０ 熱処理装置
１２ 真空ポンプ
１２ａ～１２ｅ 真空バルブ
１５ 制御装置
２０ 被処理物
２２ 巻出ロール
２４ 巻取ロール
３０ 巻出部
３０ａ，４０ａ，５０ａ，６０ａ，７０ａ 外壁
３２ 第１軸
３４ ローラ
４０ 第１加熱部
４０ａ１ 窓
４０ｂ カバー
４０ｃ 遮蔽板
４２ レーザ装置
４２ａ 発振器
４２ｂ 伝送ファイバ
４２ｃ 加工ヘッド
４４ サポートローラ
４６ 温度検出装置
４８ 出力制御装置
５０ 第２加熱部
５２ 加熱装置
５４ａ～５４ｄ ガイドローラ
６０ 冷却部
６２ 冷却ローラ
６８ ガイドローラ
７０ 巻取部
７２ 第２軸
７４ ローラ
８０，８２ 搬送装置
９０～９３ 連結部
９０ａ，９３ａ 扉
Ｐ レーザ光

【要約】

【課題】帯状の被処理物の処理効率向上。
【解決手段】熱処理装置１０は、搬送装置８０，８２と、第１加熱部４０と、第２加熱部５０とを備えている。搬送装置８０，８２は、予め定められた搬送経路に沿って帯状の被処理物２０を搬送する。第１加熱部４０は、被処理物２０にレーザ光Ｐを照射し加熱するレーザ装置４２を有している。第２加熱部５０は、第１加熱部４０で加熱された被処理物２０をレーザ加熱以外の方法で加熱する加熱装置５２を有している。
【選択図】図３

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】