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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-04-17
(45)【発行日】2024-04-25
(54)【発明の名称】現像ローラ
(51)【国際特許分類】
G03G 15/08 20060101AFI20240418BHJP
F16C 13/00 20060101ALI20240418BHJP
【ＦＩ】
G03G15/08 235
F16C13/00 B
F16C13/00 A
【請求項の数】
2
(21)【出願番号】P 2020075485
(22)【出願日】2020-04-21
(65)【公開番号】P2021173799
(43)【公開日】2021-11-01
【審査請求日】2023-02-24
(73)【特許権者】
【識別番号】000183233
【氏名又は名称】住友ゴム工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002310
【氏名又は名称】弁理士法人あい特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】鈴木 大二朗
【審査官】飯野 修司
(56)【参考文献】
【文献】特開２００４－０７７８１４（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平０７－２９５３３１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００７－２８６２３６（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｇ０３Ｇ １５／０８
Ｆ１６Ｃ １３／００
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
ローラ本体を含み、前記ローラ本体は、弾性材料からなる多孔質で筒状の内層、前記内層の外周を被覆した、弾性材料からなる非多孔質で筒状の中間層、および前記中間層の外周を被覆した、弾性材料からなる非多孔質で筒状の外層を含み、前記外層の外周面である前記ローラ本体の外周面の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）、前記ローラ本体の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、１０Ｖ印加時）、および前記内層のみの状態でのローラ抵抗値Ｒ３（Ω、１０Ｖ印加時）は、それぞれ式(１)～(３)：ｌｏｇＲ１≦９．０ (１)
６．４≦ｌｏｇＲ２≦８．５ (２)
ｌｏｇＲ３≦７．０ (３)
を満足しており、
前記内層、中間層、および外層は、いずれもゴムとしてエピクロルヒドリンゴム、およびジエン系ゴムを含むゴム組成物の架橋物からなる現像ローラ。
【請求項2】
前記ローラ本体の外周面を被覆した酸化膜をさらに含む請求項１に記載の現像ローラ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、電子写真法を利用した画像形成装置に組み込んで用いる現像ローラに関するものである。
【背景技術】
【0002】
近時、現像ローラとして、ローラ本体を含み、かつ当該ローラ本体を、ともにゴム組成物の架橋物からなる、筒状の内層と、当該内層の外周面を被覆してローラ本体の外周面を構成する筒状の外層とを含む積層構造としたものが検討されている（特許文献１等参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開２０１６－９５４５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明の目的は、積層構造を有し、なおかつ現状よりも画質に優れた画像を形成できる現像ローラを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明は、ローラ本体を含み、前記ローラ本体は、弾性材料からなる多孔質で筒状の内
層、前記内層の外周を被覆した、弾性材料からなる非多孔質で筒状の中間層、および前記
中間層の外周を被覆した、弾性材料からなる非多孔質で筒状の外層を含み、前記外層の外
周面である前記ローラ本体の外周面の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）、前記ローラ
本体の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、１０Ｖ印加時）、および前記内層のみの状態での
ローラ抵抗値Ｒ３（Ω、１０Ｖ印加時）は、それぞれ式(１)～(３)：
ｌｏｇＲ１≦９．０ (１)
６．４≦ｌｏｇＲ２≦８．５ (２)
ｌｏｇＲ３≦７．０ (３)
を満足しており、前記内層、中間層、および外層は、いずれもゴムとしてエピクロルヒドリンゴム、およびジエン系ゴムを含むゴム組成物の架橋物からなる現像ローラである。
層、前記内層の外周を被覆した、弾性材料からなる非多孔質で筒状の中間層、および前記
中間層の外周を被覆した、弾性材料からなる非多孔質で筒状の外層を含み、前記外層の外
周面である前記ローラ本体の外周面の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）、前記ローラ
本体の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、１０Ｖ印加時）、および前記内層のみの状態での
ローラ抵抗値Ｒ３（Ω、１０Ｖ印加時）は、それぞれ式(１)～(３)：
ｌｏｇＲ１≦９．０ (１)
６．４≦ｌｏｇＲ２≦８．５ (２)
ｌｏｇＲ３≦７．０ (３)
を満足しており、前記内層、中間層、および外層は、いずれもゴムとしてエピクロルヒドリンゴム、およびジエン系ゴムを含むゴム組成物の架橋物からなる現像ローラである。
【発明の効果】
【0006】
本発明によれば、積層構造を有し、なおかつ現状よりも画質に優れた画像を形成できる現像ローラを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【発明を実施するための形態】
【0008】
現像ローラを組み込む画像形成装置としては、たとえば、レーザープリンタ、静電式複写機、普通紙ファクシミリ装置、あるいはこれらの複合機等が挙げられる。
レーザープリンタ等の画像形成装置の画像評価基準の一つとして、形成画像の黒ベタ濃度と２ｄｏｔ濃度が知られている。
黒ベタ濃度とは、紙面の少なくとも一部が黒一色で塗りつぶされた、いわゆる黒ベタの画像の濃度であり、黒ベタ濃度が高いほど、コントラストの高い画像を形成することができる。
レーザープリンタ等の画像形成装置の画像評価基準の一つとして、形成画像の黒ベタ濃度と２ｄｏｔ濃度が知られている。
黒ベタ濃度とは、紙面の少なくとも一部が黒一色で塗りつぶされた、いわゆる黒ベタの画像の濃度であり、黒ベタ濃度が高いほど、コントラストの高い画像を形成することができる。
【0009】
２ｄｏｔ濃度とは、孤立２ｄｏｔと呼ばれる、格子長約８０μｍの正方格子上に円が並んだ画像の濃度であり、２ｄｏｔ濃度が高いほど、細線の再現性や階調性を向上して、精細な画像を形成することができる。
ところが、この２つの画像濃度は相反関係にあり、両立が困難である。
すなわち黒ベタ濃度は、現像ローラのローラ抵抗値を低くするほど高くなるが、２ｄｏｔ濃度は、現像ローラのローラ抵抗値が高いほど高くなる傾向があり、従来の単層構造の現像ローラでは、この２つの相反する特性を両立することは困難である。
ところが、この２つの画像濃度は相反関係にあり、両立が困難である。
すなわち黒ベタ濃度は、現像ローラのローラ抵抗値を低くするほど高くなるが、２ｄｏｔ濃度は、現像ローラのローラ抵抗値が高いほど高くなる傾向があり、従来の単層構造の現像ローラでは、この２つの相反する特性を両立することは困難である。
【0010】
現像ローラのローラ本体を、前述したように、ともにゴム組成物の架橋物からなる内層と外層の２層を含む構造とし、なおかつ両層の抵抗値を調整して、上述した２つの相反する特性を両立させることが考えられる。
すなわち黒ベタ濃度は、ローラ本体の外周面付近の抵抗値と関係しており、外周面付近の抵抗値を低くすれば、黒ベタ濃度を向上することができる。
すなわち黒ベタ濃度は、ローラ本体の外周面付近の抵抗値と関係しており、外周面付近の抵抗値を低くすれば、黒ベタ濃度を向上することができる。
【0011】
一方、２ｄｏｔ濃度には上述した現像ローラのローラ抵抗値、つまりローラ本体の全体でのローラ抵抗値が関わっており、当該全体でのローラ抵抗値を高くするほど、２ｄｏｔ濃度を高くすることができる。
そのため、
・ 上記のようにローラ本体を、ともにゴム組成物の架橋物からなる内層と外層の２層を含む構造とし、
・ このうち外層は、ローラ本体の外周面付近の抵抗値を、黒ベタ濃度を向上しうる範囲に調整するために低抵抗の状態とし、なおかつ
・ その下の内層は、外層と合わせたローラ本体の全体でのローラ抵抗値を、２ｄｏｔ濃度を向上しうる範囲に調整するために高抵抗の状態とすれば、
黒ベタ濃度と２ｄｏｔ濃度を両立させることができる。
そのため、
・ 上記のようにローラ本体を、ともにゴム組成物の架橋物からなる内層と外層の２層を含む構造とし、
・ このうち外層は、ローラ本体の外周面付近の抵抗値を、黒ベタ濃度を向上しうる範囲に調整するために低抵抗の状態とし、なおかつ
・ その下の内層は、外層と合わせたローラ本体の全体でのローラ抵抗値を、２ｄｏｔ濃度を向上しうる範囲に調整するために高抵抗の状態とすれば、
黒ベタ濃度と２ｄｏｔ濃度を両立させることができる。
【0012】
しかし、特許文献１等に記載の従来の現像ローラでは、画像形成を繰り返すと、とくに黒ベタの画像の直後にハーフトーンの画像を形成した際に、当該ハーフトーンの画像に、黒ベタの画像の痕跡が重なって形成される現象を生じる場合がある。
この現象を、一般にゴーストと称し、発明者の検討によれば、内層のローラ抵抗値を下げることで、当該ゴーストの発生を抑制することができる。
この現象を、一般にゴーストと称し、発明者の検討によれば、内層のローラ抵抗値を下げることで、当該ゴーストの発生を抑制することができる。
【0013】
しかしその場合には、前述したように、ローラ本体の全体でのローラ抵抗値を高抵抗の状態に維持することができず、２ｄｏｔが低下する場合がある。
そこで発明者は、ローラ本体の外周面の表面抵抗値やローラ抵抗値などの最適化に加えて、ローラ本体の全体の構造についても、さらに検討した。
その結果、前述したように、
・ ローラ本体を、弾性材料からなる多孔質で筒状の内層、当該内層の外周を被覆した、弾性材料からなる非多孔質で筒状の中間層、および中間層の外周を被覆した、弾性材料からなる非多孔質で筒状の外層の３層を含む構造とし、
・ 外層の外周面であるローラ本体の外周面の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）を、式(１)：
ｌｏｇＲ１≦９．０ (１)
を満足する範囲、
・ ローラ本体の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、１０Ｖ印加時）を、式(２)：
６．４≦ｌｏｇＲ２≦８．５ (２)
を満足する範囲、そして
・ 内層のみの状態でのローラ抵抗値Ｒ３（Ω、１０Ｖ印加時）を、式(３)：
ｌｏｇＲ３≦７．０ (３)
を満足する範囲に設定すればよいことを見出した。
そこで発明者は、ローラ本体の外周面の表面抵抗値やローラ抵抗値などの最適化に加えて、ローラ本体の全体の構造についても、さらに検討した。
その結果、前述したように、
・ ローラ本体を、弾性材料からなる多孔質で筒状の内層、当該内層の外周を被覆した、弾性材料からなる非多孔質で筒状の中間層、および中間層の外周を被覆した、弾性材料からなる非多孔質で筒状の外層の３層を含む構造とし、
・ 外層の外周面であるローラ本体の外周面の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）を、式(１)：
ｌｏｇＲ１≦９．０ (１)
を満足する範囲、
・ ローラ本体の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、１０Ｖ印加時）を、式(２)：
６．４≦ｌｏｇＲ２≦８．５ (２)
を満足する範囲、そして
・ 内層のみの状態でのローラ抵抗値Ｒ３（Ω、１０Ｖ印加時）を、式(３)：
ｌｏｇＲ３≦７．０ (３)
を満足する範囲に設定すればよいことを見出した。
【0014】
すなわち、本発明の現像ローラはローラ本体を含み、かかるローラ本体は、弾性材料からなる多孔質で筒状の内層、当該内層の外周を被覆した、弾性材料からなる非多孔質で筒状の中間層、および上記中間層の外周を被覆した、弾性材料からなる非多孔質で筒状の外層を含み、当該外層の外周面であるローラ本体の外周面の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）、ローラ本体の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、１０Ｖ印加時）、および内層のみの状態でのローラ抵抗値Ｒ３（Ω、１０Ｖ印加時）は、それぞれ式(１)～(３)を満足していることを特徴とするものである。
【0015】
本発明の現像ローラによれば、上記の構成とすることにより、画像形成を繰り返してもゴーストが発生するのを抑制しながら、黒ベタ濃度と２ｄｏｔ濃度の両方を同時に向上して、コントラストと、細線の再現性や階調性とに優れた画像を形成することができる。
また画像に、用紙の通紙方向と直交する横方向に隣接する画像の濃度に依存した濃度のムラが生じるのを抑制することもできる。
また画像に、用紙の通紙方向と直交する横方向に隣接する画像の濃度に依存した濃度のムラが生じるのを抑制することもできる。
【0016】
これらのことは、後述する実施例、比較例の結果からも明らかである。
図１(ａ)は、本発明の現像ローラの一例の、全体の外観を示す斜視図、図１(ｂ)は、上記例の現像ローラの端面図である。
図１(ａ)(ｂ)を参照して、この例の現像ローラ１は、弾性材料からなる筒状の内層２の外周面３に直接に、弾性材料からなる筒状の中間層４が積層され、当該中間層４の外周面５に直接に、弾性材料からなる筒状の外層６が積層された、３層構造のローラ本体７を備えている。
図１(ａ)は、本発明の現像ローラの一例の、全体の外観を示す斜視図、図１(ｂ)は、上記例の現像ローラの端面図である。
図１(ａ)(ｂ)を参照して、この例の現像ローラ１は、弾性材料からなる筒状の内層２の外周面３に直接に、弾性材料からなる筒状の中間層４が積層され、当該中間層４の外周面５に直接に、弾性材料からなる筒状の外層６が積層された、３層構造のローラ本体７を備えている。
【0017】
内層２の中心の通孔８には、シャフト９が挿通されて固定されている。
シャフト９は、良導電性の材料、たとえば、鉄、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼等の金属などによって一体に形成されている。
シャフト９は、たとえば、導電性を有する接着剤を介してローラ本体７と電気的に接合され、かつ機械的に固定されるか、あるいは通孔８の内径よりも外径の大きいものを通孔８に圧入することで、ローラ本体７と電気的に接合され、かつ機械的に固定される。
シャフト９は、良導電性の材料、たとえば、鉄、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼等の金属などによって一体に形成されている。
シャフト９は、たとえば、導電性を有する接着剤を介してローラ本体７と電気的に接合され、かつ機械的に固定されるか、あるいは通孔８の内径よりも外径の大きいものを通孔８に圧入することで、ローラ本体７と電気的に接合され、かつ機械的に固定される。
【0018】
また、この両法を併用して、シャフト９を、ローラ本体７と電気的に接合し、かつ機械的に固定してもよい。
外層６の外周面であるローラ本体７の外周面１０は、両図中に拡大して示すように、酸化膜１１によって被覆されている。
外周面１０を酸化膜１１によって被覆することで、当該酸化膜１１を誘電層として機能させて、現像ローラ１の誘電正接ｔａｎδを低減することができ、また酸化膜１１を低摩擦層として機能させて、トナーの付着を良好に抑制することもできる。
外層６の外周面であるローラ本体７の外周面１０は、両図中に拡大して示すように、酸化膜１１によって被覆されている。
外周面１０を酸化膜１１によって被覆することで、当該酸化膜１１を誘電層として機能させて、現像ローラ１の誘電正接ｔａｎδを低減することができ、また酸化膜１１を低摩擦層として機能させて、トナーの付着を良好に抑制することもできる。
【0019】
しかも酸化膜１１は、たとえば、外周面１０に紫外線を照射する等して、当該外周面１０の近傍のゴムを酸化させるだけで簡単に形成できるため、現像ローラ１の生産性が低下したり、製造コストが高くついたりするのを抑制することもできる。
ただし、酸化膜１１は省略してもよい。
前述したように、内層２は多孔質、中間層４、外層６は、それぞれ非多孔質に形成される。
ただし、酸化膜１１は省略してもよい。
前述したように、内層２は多孔質、中間層４、外層６は、それぞれ非多孔質に形成される。
【0020】
上記各層は、それぞれの構造を簡略化して、現像ローラ１の全体の構造を簡略化するために、いずれも単層に形成するのが好ましい。
なお内層２、中間層４、外層６の「単層」とは、弾性材料からなる層の数が、いずれも１層であることを指す。
またローラ本体７の「３層」も、内層２、中間層４、および外層６の、いずれも弾性材料からなる層の数が３層であることを指し、いずれの場合も、紫外線の照射等によって形成される酸化膜１１は層数に含まないこととする。
なお内層２、中間層４、外層６の「単層」とは、弾性材料からなる層の数が、いずれも１層であることを指す。
またローラ本体７の「３層」も、内層２、中間層４、および外層６の、いずれも弾性材料からなる層の数が３層であることを指し、いずれの場合も、紫外線の照射等によって形成される酸化膜１１は層数に含まないこととする。
【0021】
本発明において、ローラ本体７の外周面１０の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）、ローラ本体７の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、１０Ｖ印加時）、および内層２のみの状態でのローラ抵抗値Ｒ３（Ω、１０Ｖ印加時）が、それぞれ式(１)～(３)を満足する範囲に限定されるのは、下記の理由による。
すなわち、ローラ本体７の外周面１０の表面抵抗値Ｒ１が、常用対数値ｌｏｇＲ１で表して９．０を超える場合には、当該ローラ本体７の外周面１０付近の抵抗値を十分に低下させることができず、黒ベタ濃度が不足して画像のコントラストが低下する場合がある。
すなわち、ローラ本体７の外周面１０の表面抵抗値Ｒ１が、常用対数値ｌｏｇＲ１で表して９．０を超える場合には、当該ローラ本体７の外周面１０付近の抵抗値を十分に低下させることができず、黒ベタ濃度が不足して画像のコントラストが低下する場合がある。
【0022】
また、ローラ本体７の全体でのローラ抵抗値Ｒ２が、常用対数値ｌｏｇＲ２で表して６．４未満では、２ｄｏｔ濃度が不足し、細線の再現性や階調性が低下して、画像の精細性が低下する場合がある。
一方、ローラ本体７の全体でのローラ抵抗値Ｒ２が、常用対数値ｌｏｇＲ２で表して８．５を超える場合には、画像に、用紙の通紙方向と直交する横方向に隣接する画像の濃度に依存した濃度のムラを生じる場合がある。
一方、ローラ本体７の全体でのローラ抵抗値Ｒ２が、常用対数値ｌｏｇＲ２で表して８．５を超える場合には、画像に、用紙の通紙方向と直交する横方向に隣接する画像の濃度に依存した濃度のムラを生じる場合がある。
【0023】
さらに、内層２のみの状態でのローラ抵抗値Ｒ３が、常用対数値ｌｏｇＲ３で表して７．０を超える場合には、画像形成を繰り返した際に、とくに黒ベタの画像の直後のハーフトーンの画像にゴーストを生じる場合がある。
これに対し、ローラ本体７を、前述した内層２、中間層４、外層６の３層を含む構造とし、なおかつ表面抵抗値Ｒ１、ローラ抵抗値Ｒ２、Ｒ３を、それぞれ式(１)～(３)を満足する範囲とすることにより、上述した様々な不良が生じるのを抑制することができる。
これに対し、ローラ本体７を、前述した内層２、中間層４、外層６の３層を含む構造とし、なおかつ表面抵抗値Ｒ１、ローラ抵抗値Ｒ２、Ｒ３を、それぞれ式(１)～(３)を満足する範囲とすることにより、上述した様々な不良が生じるのを抑制することができる。
【0024】
そして、現状よりも画質に優れた画像を、長期間に亘って形成できる現像ローラ１を提供することが可能となる。
なお中間層４は、ローラ抵抗値Ｒ３が式(３)を満足する内層２、および表面抵抗値Ｒ１が式(１)を満足する外層６と組み合わせた際に、ローラ抵抗値Ｒ２が式(２)を満足する範囲となる、任意の導電性（抵抗値）を有する層とすることができる。
なお中間層４は、ローラ抵抗値Ｒ３が式(３)を満足する内層２、および表面抵抗値Ｒ１が式(１)を満足する外層６と組み合わせた際に、ローラ抵抗値Ｒ２が式(２)を満足する範囲となる、任意の導電性（抵抗値）を有する層とすることができる。
【0025】
ローラ抵抗値Ｒ２は、ローラ本体７の外周面１０を酸化膜１１で被覆する場合には、当該酸化膜１１を被覆した状態で測定した値でもって表すこととし、当該測定値が、式(２)を満足する範囲であればよい。
同様に表面抵抗値Ｒ１も、ローラ本体７の外周面１０を酸化膜１１で被覆する場合には、当該酸化膜１１を被覆した状態で測定した値でもって表すこととし、当該測定値が、式(１)を満足する範囲であればよい。
同様に表面抵抗値Ｒ１も、ローラ本体７の外周面１０を酸化膜１１で被覆する場合には、当該酸化膜１１を被覆した状態で測定した値でもって表すこととし、当該測定値が、式(１)を満足する範囲であればよい。
【0026】
内層２、中間層４、外層６は、いずれも弾性材料によって、前述したように内層２は多孔質、中間層４と外層６は非多孔質に形成される。
上記各層を形成する弾性材料としては、表面抵抗値Ｒ１、ローラ抵抗値Ｒ２、Ｒ３を、それぞれ上述した範囲に調整するために、イオン導電性または電子導電性が付与された弾性材料を用いるのが好ましい。
上記各層を形成する弾性材料としては、表面抵抗値Ｒ１、ローラ抵抗値Ｒ２、Ｒ３を、それぞれ上述した範囲に調整するために、イオン導電性または電子導電性が付与された弾性材料を用いるのが好ましい。
【0027】
とくに、架橋性のゴムであるエピクロルヒドリンゴム、およびジエン系ゴムを含み、イオン導電性が付与されたゴム組成物の架橋物によって上記各層を形成するのが好ましい。
《ゴム》
〈エピクロルヒドリンゴム〉
エピクロルヒドリンゴムとしては、たとえば、エピクロルヒドリン単独重合体、エピクロルヒドリン－エチレンオキサイド二元共重合体（ＥＣＯ）、エピクロルヒドリン－プロピレンオキサイド二元共重合体、エピクロルヒドリン－アリルグリシジルエーテル二元共重合体、エピクロルヒドリン－エチレンオキサイド－アリルグリシジルエーテル三元共重合体（ＧＥＣＯ）、エピクロルヒドリン－プロピレンオキサイド－アリルグリシジルエーテル三元共重合体、エピクロルヒドリン－エチレンオキサイド－プロピレンオキサイド－アリルグリシジルエーテル四元共重合体等が挙げられる。
《ゴム》
〈エピクロルヒドリンゴム〉
エピクロルヒドリンゴムとしては、たとえば、エピクロルヒドリン単独重合体、エピクロルヒドリン－エチレンオキサイド二元共重合体（ＥＣＯ）、エピクロルヒドリン－プロピレンオキサイド二元共重合体、エピクロルヒドリン－アリルグリシジルエーテル二元共重合体、エピクロルヒドリン－エチレンオキサイド－アリルグリシジルエーテル三元共重合体（ＧＥＣＯ）、エピクロルヒドリン－プロピレンオキサイド－アリルグリシジルエーテル三元共重合体、エピクロルヒドリン－エチレンオキサイド－プロピレンオキサイド－アリルグリシジルエーテル四元共重合体等が挙げられる。
【0028】
中でも、エチレンオキサイドを含む共重合体、とくにＥＣＯおよび／またはＧＥＣＯが好ましい。
ＥＣＯおよび／またはＧＥＣＯにおけるエチレンオキサイド含量は、いずれも３０モル％以上、とくに５０モル％以上であるのが好ましく、８０モル％以下であるのが好ましい。
ＥＣＯおよび／またはＧＥＣＯにおけるエチレンオキサイド含量は、いずれも３０モル％以上、とくに５０モル％以上であるのが好ましく、８０モル％以下であるのが好ましい。
【0029】
エチレンオキサイドは、内層２、中間層４、外層６の抵抗値を下げて、ローラ本体７の外周面１０の表面抵抗値Ｒ１、ローラ本体７の全体でのローラ抵抗値Ｒ２、および内層２のみの状態でのローラ抵抗値Ｒ３を下げる働きをする。
しかし、エチレンオキサイド含量が上記の範囲未満では、かかる働きが十分に得られないため、表面抵抗値Ｒ１やローラ抵抗値Ｒ２、Ｒ３を十分に低下できない場合がある。
しかし、エチレンオキサイド含量が上記の範囲未満では、かかる働きが十分に得られないため、表面抵抗値Ｒ１やローラ抵抗値Ｒ２、Ｒ３を十分に低下できない場合がある。
【0030】
一方、エチレンオキサイド含量が上記の範囲を超える場合には、エチレンオキサイドの結晶化が起こり、分子鎖のセグメント運動が妨げられるため、却って、表面抵抗値Ｒ１やローラ抵抗値Ｒ２、Ｒ３が上昇する傾向がある。
また、架橋後の各層が硬くなりすぎたり、架橋前のゴム組成物の、加熱溶融時の粘度が上昇して、当該ゴム組成物の加工性が低下したりする場合もある。
また、架橋後の各層が硬くなりすぎたり、架橋前のゴム組成物の、加熱溶融時の粘度が上昇して、当該ゴム組成物の加工性が低下したりする場合もある。
【0031】
ＥＣＯにおけるエピクロルヒドリン含量は、エチレンオキサイド含量の残量である。
すなわち、エピクロルヒドリン含量は２０モル％以上であるのが好ましく、７０モル％以下、とくに５０モル％以下であるのが好ましい。
また、ＧＥＣＯにおけるアリルグリシジルエーテル含量は０．５モル％以上、とくに２モル％以上であるのが好ましく、１０モル％以下、とくに５モル％以下であるのが好ましい。
すなわち、エピクロルヒドリン含量は２０モル％以上であるのが好ましく、７０モル％以下、とくに５０モル％以下であるのが好ましい。
また、ＧＥＣＯにおけるアリルグリシジルエーテル含量は０．５モル％以上、とくに２モル％以上であるのが好ましく、１０モル％以下、とくに５モル％以下であるのが好ましい。
【0032】
アリルグリシジルエーテルは、それ自体が側鎖として、自由体積を確保するために機能することにより、エチレンオキサイドの結晶化を抑制し、内層２、中間層４、外層６の抵抗値を下げて、表面抵抗値Ｒ１やローラ抵抗値Ｒ２、Ｒ３を低下させる働きをする。
しかし、アリルグリシジルエーテル含量が上記の範囲未満では、かかる働きが十分に得られないため、表面抵抗値Ｒ１やローラ抵抗値Ｒ２、Ｒ３を十分に低下できない場合がある。
しかし、アリルグリシジルエーテル含量が上記の範囲未満では、かかる働きが十分に得られないため、表面抵抗値Ｒ１やローラ抵抗値Ｒ２、Ｒ３を十分に低下できない場合がある。
【0033】
一方、アリルグリシジルエーテルは、ＧＥＣＯの架橋時に架橋点として機能する。
そのため、アリルグリシジルエーテル含量が上記の範囲を超える場合には、ＧＥＣＯの架橋密度が高くなりすぎることによって分子鎖のセグメント運動が妨げられて、却って、表面抵抗値Ｒ１やローラ抵抗値Ｒ２、Ｒ３が上昇する傾向がある。
ＧＥＣＯにおけるエピクロルヒドリン含量は、エチレンオキサイド含量、およびアリルグリシジルエーテル含量の残量である。
そのため、アリルグリシジルエーテル含量が上記の範囲を超える場合には、ＧＥＣＯの架橋密度が高くなりすぎることによって分子鎖のセグメント運動が妨げられて、却って、表面抵抗値Ｒ１やローラ抵抗値Ｒ２、Ｒ３が上昇する傾向がある。
ＧＥＣＯにおけるエピクロルヒドリン含量は、エチレンオキサイド含量、およびアリルグリシジルエーテル含量の残量である。
【0034】
すなわち、エピクロルヒドリン含量は１０モル％以上、とくに１９．５モル％以上であるのが好ましく、６９．５モル％以下、とくに６０モル％以下であるのが好ましい。
なおＧＥＣＯとしては、先に説明した３種の単量体を共重合させた、狭義の意味での共重合体の他に、エピクロルヒドリン－エチレンオキサイド共重合体（ＥＣＯ）をアリルグリシジルエーテルで変性した変性物も知られている。
なおＧＥＣＯとしては、先に説明した３種の単量体を共重合させた、狭義の意味での共重合体の他に、エピクロルヒドリン－エチレンオキサイド共重合体（ＥＣＯ）をアリルグリシジルエーテルで変性した変性物も知られている。
【0035】
本発明では、このいずれのＧＥＣＯを用いることもできる。
エピクロルヒドリンゴムとしては、とくにＧＥＣＯが好ましい。
ＧＥＣＯは、アリルグリシジルエーテルに起因して、主鎖中に、架橋点として機能する二重結合を有するため、主鎖間での架橋によって、架橋後の圧縮永久ひずみを小さくすることができる。
エピクロルヒドリンゴムとしては、とくにＧＥＣＯが好ましい。
ＧＥＣＯは、アリルグリシジルエーテルに起因して、主鎖中に、架橋点として機能する二重結合を有するため、主鎖間での架橋によって、架橋後の圧縮永久ひずみを小さくすることができる。
【0036】
そのため、内層２、中間層４、外層６を含むローラ本体７を、圧縮永久ひずみが小さく、ヘタリを生じにくいものとすることができる。
これらエピクロルヒドリンゴムの１種または２種以上を用いることができる。
〈ジエン系ゴム〉
ジエン系ゴムは、ゴム組成物に良好な加工性を付与したり、内層２、中間層４、外層６の機械的強度や耐久性を向上したり、当該各層にゴムとしての良好な特性、すなわち柔軟で、圧縮永久ひずみが小さくヘタリを生じにくい特性を付与したりするために機能する。
これらエピクロルヒドリンゴムの１種または２種以上を用いることができる。
〈ジエン系ゴム〉
ジエン系ゴムは、ゴム組成物に良好な加工性を付与したり、内層２、中間層４、外層６の機械的強度や耐久性を向上したり、当該各層にゴムとしての良好な特性、すなわち柔軟で、圧縮永久ひずみが小さくヘタリを生じにくい特性を付与したりするために機能する。
【0037】
ジエン系ゴムとしては、たとえば、天然ゴム、イソプレンゴム（ＩＲ）、アクリロニトリルブタジエンゴム（ＮＢＲ）、スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）等が挙げられる。
中でも、ジエン系ゴムとしては非極性のジエン系ゴム、具体的にはＩＲ、ＢＲ、およびＳＢＲの３種のうちの少なくとも１種、とくにＳＢＲを用いるのが好ましい。
中でも、ジエン系ゴムとしては非極性のジエン系ゴム、具体的にはＩＲ、ＢＲ、およびＳＢＲの３種のうちの少なくとも１種、とくにＳＢＲを用いるのが好ましい。
【0038】
また上記併用系に、さらにＣＲおよび／またはＮＢＲを併用してもよい。
（ＩＲ）
ＩＲとしては、天然ゴムの構造を人工的に再現した、ポリイソプレン構造を有する種々のＩＲがいずれも使用可能である。
またＩＲとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、感光体の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＩＲを用いるのが好ましい。
（ＩＲ）
ＩＲとしては、天然ゴムの構造を人工的に再現した、ポリイソプレン構造を有する種々のＩＲがいずれも使用可能である。
またＩＲとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、感光体の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＩＲを用いるのが好ましい。
【0039】
これらＩＲの１種または２種以上を用いることができる。
（ＢＲ）
ＢＲとしては、分子中にポリブタジエン構造を備え、架橋性を有する種々のＢＲがいずれも使用可能である。
とくに、低温から高温までの広い温度範囲でゴムとしての良好な特性を発現しうる、シス－１，４結合の含量が９５％以上の高シスＢＲが好ましい。
（ＢＲ）
ＢＲとしては、分子中にポリブタジエン構造を備え、架橋性を有する種々のＢＲがいずれも使用可能である。
とくに、低温から高温までの広い温度範囲でゴムとしての良好な特性を発現しうる、シス－１，４結合の含量が９５％以上の高シスＢＲが好ましい。
【0040】
またＢＲとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、やはり感光体の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＢＲを用いるのが好ましい。
これらＢＲの１種または２種以上を用いることができる。
（ＳＢＲ）
ＳＢＲとしては、スチレンと１，３－ブタジエンとを、乳化重合法、溶液重合法等の種々の重合法によって共重合させて合成される種々のＳＢＲが、いずれも使用可能である。
これらＢＲの１種または２種以上を用いることができる。
（ＳＢＲ）
ＳＢＲとしては、スチレンと１，３－ブタジエンとを、乳化重合法、溶液重合法等の種々の重合法によって共重合させて合成される種々のＳＢＲが、いずれも使用可能である。
【0041】
またＳＢＲとしては、スチレン含量によって分類される高スチレンタイプ、中スチレンタイプ、および低スチレンタイプのＳＢＲがあるが、このいずれも使用可能である。
さらにＳＢＲとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、やはり感光体等の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＳＢＲを用いるのが好ましい。
さらにＳＢＲとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、やはり感光体等の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＳＢＲを用いるのが好ましい。
【0042】
これらＳＢＲの１種または２種以上を用いることができる。
（ＣＲ）
ＣＲは極性を有するジエン系ゴムであって、内層２、中間層４、外層６の抵抗値を下げて、表面抵抗値Ｒ１やローラ抵抗値Ｒ２、Ｒ３を微調整するために機能する。
ＣＲは、クロロプレンを乳化重合させて合成されるもので、その際に用いる分子量調整剤の種類によって、硫黄変性タイプと非硫黄変性タイプとに分類される。
（ＣＲ）
ＣＲは極性を有するジエン系ゴムであって、内層２、中間層４、外層６の抵抗値を下げて、表面抵抗値Ｒ１やローラ抵抗値Ｒ２、Ｒ３を微調整するために機能する。
ＣＲは、クロロプレンを乳化重合させて合成されるもので、その際に用いる分子量調整剤の種類によって、硫黄変性タイプと非硫黄変性タイプとに分類される。
【0043】
このうち硫黄変性タイプのＣＲは、クロロプレンと、分子量調整剤としての硫黄とを共重合させたポリマを、チウラムジスルフィド等で可塑化して所定の粘度に調整することで合成される。
また非硫黄変性タイプのＣＲは、たとえば、メルカプタン変性タイプ、キサントゲン変性タイプ等に分類される。
また非硫黄変性タイプのＣＲは、たとえば、メルカプタン変性タイプ、キサントゲン変性タイプ等に分類される。
【0044】
このうち、メルカプタン変性タイプのＣＲは、ｎ－ドデシルメルカプタン、ｔｅｒｔ－ドデシルメルカプタン、オクチルメルカプタン等のアルキルメルカプタン類を分子量調整剤として使用すること以外は、硫黄変性タイプのＣＲと同様にして合成される。
また、キサントゲン変性タイプのＣＲは、アルキルキサントゲン化合物を分子量調整剤として使用すること以外は、やはり硫黄変性タイプのＣＲと同様にして合成される。
また、キサントゲン変性タイプのＣＲは、アルキルキサントゲン化合物を分子量調整剤として使用すること以外は、やはり硫黄変性タイプのＣＲと同様にして合成される。
【0045】
またＣＲは、その結晶化速度に基づいて、結晶化速度が遅いタイプ、中庸であるタイプ、および速いタイプに分類される。
本発明においては、いずれのタイプのＣＲを用いてもよいが、中でも非硫黄変性タイプで、かつ結晶化速度が遅いタイプのＣＲが好ましい。
またＣＲとしては、クロロプレンと他の共重合成分との共重合体を用いてもよい。
本発明においては、いずれのタイプのＣＲを用いてもよいが、中でも非硫黄変性タイプで、かつ結晶化速度が遅いタイプのＣＲが好ましい。
またＣＲとしては、クロロプレンと他の共重合成分との共重合体を用いてもよい。
【0046】
他の共重合成分としては、たとえば、２，３－ジクロロ－１，３－ブタジエン、１－クロロ－１，３－ブタジエン、スチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、イソプレン、ブタジエン、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、およびメタクリル酸エステル等の１種または２種以上が挙げられる。
さらにＣＲとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、やはり感光体の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＣＲを用いるのが好ましい。
さらにＣＲとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、やはり感光体の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＣＲを用いるのが好ましい。
【0047】
これらＣＲの１種または２種以上を用いることができる。
（ＮＢＲ）
ＮＢＲも、やはり極性を有するジエン系ゴムであって、内層２、中間層４、外層６の抵抗値を下げて、表面抵抗値Ｒ１やローラ抵抗値Ｒ２、Ｒ３を微調整するために機能する。
ＮＢＲとしては、アクリロニトリル含量が２４％以下である低ニトリルＮＢＲ、２５～３０％である中ニトリルＮＢＲ、３１～３５％である中高ニトリルＮＢＲ、３６～４２％である高ニトリルＮＢＲ、４３％以上である極高ニトリルＮＢＲが、いずれも使用可能である。
（ＮＢＲ）
ＮＢＲも、やはり極性を有するジエン系ゴムであって、内層２、中間層４、外層６の抵抗値を下げて、表面抵抗値Ｒ１やローラ抵抗値Ｒ２、Ｒ３を微調整するために機能する。
ＮＢＲとしては、アクリロニトリル含量が２４％以下である低ニトリルＮＢＲ、２５～３０％である中ニトリルＮＢＲ、３１～３５％である中高ニトリルＮＢＲ、３６～４２％である高ニトリルＮＢＲ、４３％以上である極高ニトリルＮＢＲが、いずれも使用可能である。
【0048】
またＮＢＲとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、やはり感光体等の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＮＢＲを用いるのが好ましい。
これらＮＢＲの１種または２種以上を用いることができる。
〈他のゴム〉
さらに他のゴムとして、たとえば、エチレンプロピレンジエンゴム（ＥＰＤＭ）を併用してもよい。
これらＮＢＲの１種または２種以上を用いることができる。
〈他のゴム〉
さらに他のゴムとして、たとえば、エチレンプロピレンジエンゴム（ＥＰＤＭ）を併用してもよい。
【0049】
ＥＰＤＭは耐光性、耐オゾン性、耐候性等に優れるため、ローラ本体７を構成する各層の酸化劣化を抑制したり、耐オゾン性を向上したりできる。
ＥＰＤＭとしては、エチレンとプロピレンに少量の第３成分（ジエン）を加えることで主鎖中に二重結合を導入した種々のＥＰＤＭを用いることができる。
ジエンとしては、エチリデンノルボルネン（ＥＮＢ）、ジシクロペンタジエン（ＤＣＰＤ）等が挙げられる。
ＥＰＤＭとしては、エチレンとプロピレンに少量の第３成分（ジエン）を加えることで主鎖中に二重結合を導入した種々のＥＰＤＭを用いることができる。
ジエンとしては、エチリデンノルボルネン（ＥＮＢ）、ジシクロペンタジエン（ＤＣＰＤ）等が挙げられる。
【0050】
またＥＰＤＭとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、やはり感光体等の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＥＰＤＭを用いるのが好ましい。
これらＥＰＤＭの１種または２種以上を用いることができる。
これらＥＰＤＭの１種または２種以上を用いることができる。
【0051】
《架橋成分》
内層２、中間層４、および外層６用のゴム組成物には、それぞれゴムを架橋させるための架橋成分を配合する。
架橋成分としては、ゴムを架橋させるための架橋剤と、当該架橋剤によるゴムの架橋を調整する機能を有する、いわゆる架橋促進剤とを併用するのが好ましい。
内層２、中間層４、および外層６用のゴム組成物には、それぞれゴムを架橋させるための架橋成分を配合する。
架橋成分としては、ゴムを架橋させるための架橋剤と、当該架橋剤によるゴムの架橋を調整する機能を有する、いわゆる架橋促進剤とを併用するのが好ましい。
【0052】
このうち架橋剤としては、たとえば、硫黄系架橋剤、チオウレア系架橋剤、トリアジン誘導体系架橋剤、過酸化物系架橋剤、各種モノマー等が挙げられ、とくに硫黄系架橋剤が好ましい。
（硫黄系架橋剤）
硫黄系架橋剤としては、たとえば、粉末硫黄、オイル処理粉末硫黄、沈降硫黄、コロイド硫黄、分散性硫黄等の硫黄や、あるいはテトラメチルチウラムジスルフィド、４，４′－ジチオジモルホリン等の有機含硫黄化合物などが挙げられ、とくに硫黄が好ましい。
（硫黄系架橋剤）
硫黄系架橋剤としては、たとえば、粉末硫黄、オイル処理粉末硫黄、沈降硫黄、コロイド硫黄、分散性硫黄等の硫黄や、あるいはテトラメチルチウラムジスルフィド、４，４′－ジチオジモルホリン等の有機含硫黄化合物などが挙げられ、とくに硫黄が好ましい。
【0053】
硫黄の割合は、上記各層にゴムとしての良好な特性を付与すること等を考慮すると、ゴムの総量１００質量部あたり０．５質量部以上であるのが好ましく、２質量部以下であるのが好ましい。
なお、硫黄としてオイル処理粉末硫黄、分散性硫黄等を使用する場合、上記の割合は、それぞれの中に含まれる有効成分としての硫黄自体の割合とする。
なお、硫黄としてオイル処理粉末硫黄、分散性硫黄等を使用する場合、上記の割合は、それぞれの中に含まれる有効成分としての硫黄自体の割合とする。
【0054】
また、架橋剤として有機含硫黄化合物を使用する場合、その割合は、分子中に含まれる硫黄の、ゴムの総量１００質量部あたりの割合が上記の範囲となるように調整するのが好ましい。
（架橋促進剤）
架橋促進剤としては、たとえば、チウラム系促進剤、チアゾール系促進剤、チオウレア系促進剤、グアニジン系促進剤、スルフェンアミド系促進剤、ジチオカルバミン酸塩系促進剤等の１種または２種以上が挙げられる。
（架橋促進剤）
架橋促進剤としては、たとえば、チウラム系促進剤、チアゾール系促進剤、チオウレア系促進剤、グアニジン系促進剤、スルフェンアミド系促進剤、ジチオカルバミン酸塩系促進剤等の１種または２種以上が挙げられる。
【0055】
このうちチウラム系促進剤、チアゾール系促進剤、チオウレア系促進剤、およびグアニジン系促進剤を併用するのが好ましい。
チウラム系促進剤としては、たとえば、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド等の１種または２種以上が挙げられ、とくにテトラメチルチウラムモノスルフィドが好ましい。
チウラム系促進剤としては、たとえば、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド等の１種または２種以上が挙げられ、とくにテトラメチルチウラムモノスルフィドが好ましい。
【0056】
チアゾール系促進剤としては、たとえば、２－メルカプトベンゾチアゾール、ジ－２－ベンゾチアゾリルジスルフィド、２－メルカプトベンゾチアゾールの亜鉛塩、２－メルカプトベンゾチアゾールのシクロヘキシルアミン塩、２－（４′－モルホリノジチオ）ベンゾチアゾール等の１種または２種以上が挙げられ、とくにジ－２－ベンゾチアゾリルジスルフィドが好ましい。
【0057】
チオウレア系促進剤としては、分子中にチオウレア構造を有する種々のチオウレア化合物が使用可能である。
チオウレア系促進剤としては、たとえば、エチレンチオウレア、Ｎ,Ｎ′－ジフェニルチオウレア、トリメチルチオウレア、式(４)：
（ＣｎＨ２ｎ＋１ＮＨ）２Ｃ＝Ｓ (４)
〔式中、ｎは１～１２の整数を示す。〕で表されるチオウレア、テトラメチルチオウレア等の１種または２種以上が挙げられ、とくにエチレンチオウレアが好ましい。
チオウレア系促進剤としては、たとえば、エチレンチオウレア、Ｎ,Ｎ′－ジフェニルチオウレア、トリメチルチオウレア、式(４)：
（ＣｎＨ２ｎ＋１ＮＨ）２Ｃ＝Ｓ (４)
〔式中、ｎは１～１２の整数を示す。〕で表されるチオウレア、テトラメチルチオウレア等の１種または２種以上が挙げられ、とくにエチレンチオウレアが好ましい。
【0058】
グアニジン系促進剤としては、たとえば、１,３－ジフェニルグアニジン、１，３－ジ－ｏ－トリルグアニジン、１－ｏ－トリルビグアニド等の１種または２種以上が挙げられ、とくに１，３－ジ－ｏ－トリルグアニジンが好ましい。
上記４種の併用系において、ゴムの架橋を調整する機能を十分に発現させること等を考慮すると、チウラム系促進剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．３質量部以上であるのが好ましく、１質量部以下であるのが好ましい。
上記４種の併用系において、ゴムの架橋を調整する機能を十分に発現させること等を考慮すると、チウラム系促進剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．３質量部以上であるのが好ましく、１質量部以下であるのが好ましい。
【0059】
また、チアゾール系促進剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．３質量部以上であるのが好ましく、２質量部以下であるのが好ましい。
チオウレア系促進剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．１質量部以上であるのが好ましく、１質量部以下であるのが好ましい。
さらに、グアニジン系促進剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．１質量部以上であるのが好ましく、１質量部以下であるのが好ましい。
チオウレア系促進剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．１質量部以上であるのが好ましく、１質量部以下であるのが好ましい。
さらに、グアニジン系促進剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．１質量部以上であるのが好ましく、１質量部以下であるのが好ましい。
【0060】
なおチオウレア系促進剤は、硫黄架橋性を有しないＥＣＯの架橋剤、グアニジン系促進剤は、チオウレア系促進剤によるＥＣＯの架橋の促進剤としても機能する。
《イオン導電剤》
内層２、中間層４、および外層６用のゴム組成物には、それぞれイオン導電剤を配合してもよい。
《イオン導電剤》
内層２、中間層４、および外層６用のゴム組成物には、それぞれイオン導電剤を配合してもよい。
【0061】
イオン導電剤としては、分子中にフルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンと、陽イオンとの塩（イオン塩）が好ましい。
イオン導電剤を配合することにより、ゴム組成物のイオン導電性をさらに向上し、内層２、中間層４、外層６の抵抗値を下げて、表面抵抗値Ｒ１やローラ抵抗値Ｒ２、Ｒ３を、より一層低下させることができる。
イオン導電剤を配合することにより、ゴム組成物のイオン導電性をさらに向上し、内層２、中間層４、外層６の抵抗値を下げて、表面抵抗値Ｒ１やローラ抵抗値Ｒ２、Ｒ３を、より一層低下させることができる。
【0062】
イオン塩を構成する、分子中にフルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンとしては、たとえば、フルオロアルキルスルホン酸イオン、ビス（フルオロアルキルスルホニル）イミドイオン、トリス（フルオロアルキルスルホニル）メチドイオン等の１種または２種以上が挙げられる。
このうちフルオロアルキルスルホン酸イオンとしては、たとえば、ＣＦ３ＳＯ３ －、Ｃ４Ｆ９ＳＯ３ －等の１種または２種以上が挙げられる。
このうちフルオロアルキルスルホン酸イオンとしては、たとえば、ＣＦ３ＳＯ３ －、Ｃ４Ｆ９ＳＯ３ －等の１種または２種以上が挙げられる。
【0063】
またビス（フルオロアルキルスルホニル）イミドイオンとしては、たとえば、(ＣＦ３ＳＯ２)２Ｎ－、(Ｃ２Ｆ５ＳＯ２)２Ｎ－、(Ｃ４Ｆ９ＳＯ２)(ＣＦ３ＳＯ２)Ｎ－、(ＦＳＯ２Ｃ６Ｆ４)(ＣＦ３ＳＯ２)Ｎ－、(Ｃ８Ｆ１７ＳＯ２)(ＣＦ３ＳＯ２)Ｎ－、(ＣＦ３ＣＨ２ＯＳＯ２)２Ｎ－、(ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＳＯ２)２Ｎ－、(ＨＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＳＯ２)２Ｎ－、[(ＣＦ３)２ＣＨＯＳＯ２]２Ｎ－等の１種または２種以上が挙げられる。
【0064】
さらにトリス（フルオロアルキルスルホニル）メチドイオンとしては、たとえば、(ＣＦ３ＳＯ２)３Ｃ－、(ＣＦ３ＣＨ２ＯＳＯ２)３Ｃ－等の１種または２種以上が挙げられる。
また陽イオンとしては、たとえば、ナトリウム、リチウム、カリウム等のアルカリ金属のイオン、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等の第２族元素のイオン、遷移元素のイオン、両性元素の陽イオン、第４級アンモニウムイオン、イミダゾリウム陽イオン等の１種または２種以上が挙げられる。
また陽イオンとしては、たとえば、ナトリウム、リチウム、カリウム等のアルカリ金属のイオン、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等の第２族元素のイオン、遷移元素のイオン、両性元素の陽イオン、第４級アンモニウムイオン、イミダゾリウム陽イオン等の１種または２種以上が挙げられる。
【0065】
イオン塩としては、とくに陽イオンとしてリチウムイオンを用いたリチウム塩、またはカリウムイオンを用いたカリウム塩が好ましい。
中でも、ゴム組成物のイオン導電性を向上する効果の点で、(ＣＦ３ＳＯ２)２ＮＬｉ〔リチウム・ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｌｉ－ＴＦＳＩ〕、および／または(ＣＦ３ＳＯ２)２ＮＫ〔カリウム・ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｋ－ＴＦＳＩ〕が好ましい。
中でも、ゴム組成物のイオン導電性を向上する効果の点で、(ＣＦ３ＳＯ２)２ＮＬｉ〔リチウム・ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｌｉ－ＴＦＳＩ〕、および／または(ＣＦ３ＳＯ２)２ＮＫ〔カリウム・ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｋ－ＴＦＳＩ〕が好ましい。
【0066】
《カーボンブラック》
内層２、中間層４、および外層６用のゴム組成物には、さらに充填剤としてカーボンブラックを配合してもよい。
カーボンブラックを配合することにより、内層２、中間層４、外層６の機械的強度等を向上できる。
内層２、中間層４、および外層６用のゴム組成物には、さらに充填剤としてカーボンブラックを配合してもよい。
カーボンブラックを配合することにより、内層２、中間層４、外層６の機械的強度等を向上できる。
【0067】
カーボンブラックとしては、たとえば、ＳＡＦ、ＩＳＡＦ、ＨＡＦ、ＦＥＦ、ＦＴ等が挙げられる。
また、いずれかの層を形成するゴム組成物に、カーボンブラックとして導電性カーボンブラックを配合すると、当該層に電子導電性を付与することができる。
導電性カーボンブラックとしては、たとえば、アセチレンブラック等が挙げられる。
また、いずれかの層を形成するゴム組成物に、カーボンブラックとして導電性カーボンブラックを配合すると、当該層に電子導電性を付与することができる。
導電性カーボンブラックとしては、たとえば、アセチレンブラック等が挙げられる。
【0068】
カーボンブラックの割合は、ゴムの総量１００質量部あたり２質量部以上であるのが好ましく、１０質量部以下であるのが好ましい。
《発泡成分》
内層２を多孔質とするため、当該内層２用のゴム組成物には発泡成分を配合して、ゴムを、架橋と前後して発泡させるのが好ましい。
《発泡成分》
内層２を多孔質とするため、当該内層２用のゴム組成物には発泡成分を配合して、ゴムを、架橋と前後して発泡させるのが好ましい。
【0069】
発泡成分としては、加熱によって分解してガスを発生する種々の発泡剤を用いることができる。
また、発泡剤の分解温度を引き下げて、その分解を促進する働きをする発泡助剤を組み合わせてもよい。
（発泡剤）
発泡剤としては、たとえば、アゾジカルボンアミド（ＡＤＣＡ）、４，４′－オキシビス（ベンゼンスルホニルヒドラジド）（ＯＢＳＨ）、Ｎ，Ｎ－ジニトロソペンタメチレンテトラミン（ＤＰＴ）等の１種または２種以上が挙げられる。
また、発泡剤の分解温度を引き下げて、その分解を促進する働きをする発泡助剤を組み合わせてもよい。
（発泡剤）
発泡剤としては、たとえば、アゾジカルボンアミド（ＡＤＣＡ）、４，４′－オキシビス（ベンゼンスルホニルヒドラジド）（ＯＢＳＨ）、Ｎ，Ｎ－ジニトロソペンタメチレンテトラミン（ＤＰＴ）等の１種または２種以上が挙げられる。
【0070】
発泡剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり１質量部以上であるのが好ましく、１０質量部以下であるのが好ましい。
（発泡助剤）
発泡助剤としては、上述したように、組み合わせる発泡剤の分解温度を引き下げて、その分解を促進する働きをする種々の発泡助剤を用いることができ、たとえば、ＡＤＣＡと組み合わせる発泡助剤としては、尿素（Ｈ２ＮＣＯＮＨ２）系発泡助剤が挙げられる。
（発泡助剤）
発泡助剤としては、上述したように、組み合わせる発泡剤の分解温度を引き下げて、その分解を促進する働きをする種々の発泡助剤を用いることができ、たとえば、ＡＤＣＡと組み合わせる発泡助剤としては、尿素（Ｈ２ＮＣＯＮＨ２）系発泡助剤が挙げられる。
【0071】
発泡助剤の割合は、組み合わせる発泡剤の種類等に応じて任意に設定できるが、ゴムの総量１００質量部あたり１質量部以上であるのが好ましく、１０質量部以下であるのが好ましい。
《その他》
内層２、中間層４、および外層６用のゴム組成物には、さらに必要に応じて、各種の添加剤を配合してもよい。
《その他》
内層２、中間層４、および外層６用のゴム組成物には、さらに必要に応じて、各種の添加剤を配合してもよい。
【0072】
添加剤としては、たとえば、架橋促進助剤、受酸剤、可塑剤、加工助剤等が挙げられる。
このうち架橋促進助剤としては、たとえば、酸化亜鉛等の金属化合物；ステアリン酸、オレイン酸、綿実脂肪酸等の脂肪酸その他、従来公知の架橋促進助剤の１種または２種以上が挙げられる。
このうち架橋促進助剤としては、たとえば、酸化亜鉛等の金属化合物；ステアリン酸、オレイン酸、綿実脂肪酸等の脂肪酸その他、従来公知の架橋促進助剤の１種または２種以上が挙げられる。
【0073】
架橋促進助剤の割合は、個別に、ゴムの総量１００質量部あたり０．１質量部以上であるのが好ましく、７質量部以下であるのが好ましい。
受酸剤は、架橋時にエピクロルヒドリンゴムやＣＲから発生する塩素系ガスの、各層内への残留と、それによる架橋阻害や感光体の汚染等を防止するために機能する。
受酸剤としては、酸受容体として作用する種々の物質を用いることができるが、中でも分散性に優れたハイドロタルサイト類またはマグサラットが好ましく、とくにハイドロタルサイト類が好ましい。
受酸剤は、架橋時にエピクロルヒドリンゴムやＣＲから発生する塩素系ガスの、各層内への残留と、それによる架橋阻害や感光体の汚染等を防止するために機能する。
受酸剤としては、酸受容体として作用する種々の物質を用いることができるが、中でも分散性に優れたハイドロタルサイト類またはマグサラットが好ましく、とくにハイドロタルサイト類が好ましい。
【0074】
また、ハイドロタルサイト類等を酸化マグネシウムや酸化カリウムと併用すると、より高い受酸効果を得ることができ、感光体の汚染をより一層確実に防止できる。
受酸剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．１質量部以上であるのが好ましく、７質量部以下であるのが好ましい。
可塑剤および／または加工助剤は、とくに非多孔質である中間層４、外層６を形成するゴム組成物に、当該ゴム組成物の加工性を向上するために配合できる。
受酸剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．１質量部以上であるのが好ましく、７質量部以下であるのが好ましい。
可塑剤および／または加工助剤は、とくに非多孔質である中間層４、外層６を形成するゴム組成物に、当該ゴム組成物の加工性を向上するために配合できる。
【0075】
可塑剤としては、たとえば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、トリクレジルホスフェート等の各種可塑剤や、極性ワックス等の各種ワックス等が挙げられ、加工助剤としては、たとえば、ステアリン酸亜鉛等の脂肪酸金属塩などが挙げられる。
可塑剤および／または加工助剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり３質量部以下であるのが好ましい。
可塑剤および／または加工助剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり３質量部以下であるのが好ましい。
【0076】
また添加剤としては、さらにカーボンブラック以外の他の充填剤、劣化防止剤、スコーチ防止剤、滑剤、顔料、帯電防止剤、難燃剤、中和剤、造核剤、共架橋剤等の各種添加剤を、任意の割合で配合してもよい。
カーボンブラック以外の他の充填剤としては、たとえば、酸化亜鉛、シリカ、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、水酸化アルミニウム等の１種または２種以上が挙げられる。
カーボンブラック以外の他の充填剤としては、たとえば、酸化亜鉛、シリカ、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、水酸化アルミニウム等の１種または２種以上が挙げられる。
【0077】
《内層２用のゴム組成物》
内層２のもとになるゴム組成物は、上述したゴム、架橋成分、イオン導電剤、カーボンブラック、発泡成分、およびその他の各成分を含む。
このうちゴムとしては、エピクロルヒドリンゴム、ＳＢＲ、およびＣＲを併用するのが好ましい。
内層２のもとになるゴム組成物は、上述したゴム、架橋成分、イオン導電剤、カーボンブラック、発泡成分、およびその他の各成分を含む。
このうちゴムとしては、エピクロルヒドリンゴム、ＳＢＲ、およびＣＲを併用するのが好ましい。
【0078】
各ゴムの割合は、内層２に求められる各種の特性等に応じて任意に設定できる。
ただし、とくに内層２のみの状態でのローラ抵抗値Ｒ３を、前述した式(３)を満足する範囲とするためには、当該内層２用のゴム組成物におけるエピクロルヒドリンゴムの割合を、ゴムの総量１００質量部中の２５質量部以上とするのが好ましい。
エピクロルヒドリンゴムの割合がこの範囲未満では、内層２の抵抗値を低下させて、ローラ抵抗値Ｒ３を、式(３)を満足する範囲まで十分に低下できない場合がある。
ただし、とくに内層２のみの状態でのローラ抵抗値Ｒ３を、前述した式(３)を満足する範囲とするためには、当該内層２用のゴム組成物におけるエピクロルヒドリンゴムの割合を、ゴムの総量１００質量部中の２５質量部以上とするのが好ましい。
エピクロルヒドリンゴムの割合がこの範囲未満では、内層２の抵抗値を低下させて、ローラ抵抗値Ｒ３を、式(３)を満足する範囲まで十分に低下できない場合がある。
【0079】
なおエピクロルヒドリンゴムの割合は、上記の範囲でも、ゴムの総量１００質量部中の４０質量部以下であるのが好ましい。
エピクロルヒドリンゴムの割合がこの範囲を超える場合には、相対的にＳＢＲが少なくなって、内層２に、ゴムとしての良好な特性、すなわち柔軟で、圧縮永久ひずみが小さくヘタリを生じにくい特性を付与できない場合がある。
エピクロルヒドリンゴムの割合がこの範囲を超える場合には、相対的にＳＢＲが少なくなって、内層２に、ゴムとしての良好な特性、すなわち柔軟で、圧縮永久ひずみが小さくヘタリを生じにくい特性を付与できない場合がある。
【0080】
また、相対的にＣＲが少なくなって、当該ＣＲを配合することによる、内層２のみの状態でのローラ抵抗値Ｒ３を微調整する効果が十分に得られない場合がある。
ＣＲの割合は、ゴムの総量１００質量部中の５質量部以上であるのが好ましく、１５質量部以下であるのが好ましい。
ＣＲの割合がこの範囲未満では、当該ＣＲを配合することによる、内層２のみの状態でのローラ抵抗値Ｒ３を微調整する効果が十分に得られない場合がある。
ＣＲの割合は、ゴムの総量１００質量部中の５質量部以上であるのが好ましく、１５質量部以下であるのが好ましい。
ＣＲの割合がこの範囲未満では、当該ＣＲを配合することによる、内層２のみの状態でのローラ抵抗値Ｒ３を微調整する効果が十分に得られない場合がある。
【0081】
一方、ＣＲの割合が上記の範囲を超える場合には、相対的にエピクロルヒドリンゴムが少なくなって、上記ローラ抵抗値Ｒ３を、前述した式(３)を満足する範囲まで十分に低下できない場合がある。
ＳＢＲの割合は、エピクロルヒドリンゴム、およびＣＲの残量である。
すなわち、エピクロルヒドリンゴムとＣＲの割合をそれぞれ上述した範囲内の所定値に設定した際にゴムの総量が１００質量部となるように、ＳＢＲの割合を設定すればよい。
ＳＢＲの割合は、エピクロルヒドリンゴム、およびＣＲの残量である。
すなわち、エピクロルヒドリンゴムとＣＲの割合をそれぞれ上述した範囲内の所定値に設定した際にゴムの総量が１００質量部となるように、ＳＢＲの割合を設定すればよい。
【0082】
また、ローラ抵抗値Ｒ３を前述した式(３)を満足する範囲とするためには、イオン塩等のイオン導電剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．３質量部以上であるのが好ましく、２質量部以下であるのが好ましい。
上記各成分を含む、内層２用のゴム組成物は、従来同様に調製することができる。
すなわち、まずゴムを素練りし、次いで架橋成分、発泡成分以外の各成分を加えて混練した後、最後に架橋成分、発泡成分を加えて混練することで、内層２用のゴム組成物が得られる。
上記各成分を含む、内層２用のゴム組成物は、従来同様に調製することができる。
すなわち、まずゴムを素練りし、次いで架橋成分、発泡成分以外の各成分を加えて混練した後、最後に架橋成分、発泡成分を加えて混練することで、内層２用のゴム組成物が得られる。
【0083】
混練には、たとえば、ニーダ、バンバリミキサ、押出機等を用いることができる。
《中間層４用のゴム組成物》
中間層４のもとになるゴム組成物は、前述したゴム、架橋成分、イオン導電剤、カーボンブラック、およびその他の各成分を含む。
このうちゴムとしては、エピクロルヒドリンゴム、ＩＲ、ＳＢＲ、およびＣＲを併用するのが好ましい。
《中間層４用のゴム組成物》
中間層４のもとになるゴム組成物は、前述したゴム、架橋成分、イオン導電剤、カーボンブラック、およびその他の各成分を含む。
このうちゴムとしては、エピクロルヒドリンゴム、ＩＲ、ＳＢＲ、およびＣＲを併用するのが好ましい。
【0084】
各ゴムの割合は、中間層４に求められる各種の特性等に応じて任意に設定できる。
ただし、とくにローラ抵抗値Ｒ３が式(３)を満足する内層２と、表面抵抗値Ｒ１が式(１)を満足する外層６との間に介在させて、ローラ抵抗値Ｒ２を、式(２)を満足する範囲とするべく、中間層４の抵抗値を調整するために、各ゴムの割合を設定するのが好ましい。
ただし、とくにローラ抵抗値Ｒ３が式(３)を満足する内層２と、表面抵抗値Ｒ１が式(１)を満足する外層６との間に介在させて、ローラ抵抗値Ｒ２を、式(２)を満足する範囲とするべく、中間層４の抵抗値を調整するために、各ゴムの割合を設定するのが好ましい。
【0085】
具体的には、エピクロルヒドリンゴムの割合を、ゴムの総量１００質量部中の１８質量部以上、２８質量部以下とするのが好ましい。
エピクロルヒドリンゴムの割合がこの範囲未満では、ローラ抵抗値Ｒ２が、式(２)の範囲を超える場合があり、逆に上記の範囲を超える場合には、ローラ抵抗値Ｒ２が、式(２)の範囲を下回る場合がある。
エピクロルヒドリンゴムの割合がこの範囲未満では、ローラ抵抗値Ｒ２が、式(２)の範囲を超える場合があり、逆に上記の範囲を超える場合には、ローラ抵抗値Ｒ２が、式(２)の範囲を下回る場合がある。
【0086】
また、エピクロルヒドリンゴムの割合が上記の範囲を超える場合には、相対的にＩＲが少なくなって、中間層４に、ゴムとしての良好な特性、すなわち柔軟で、圧縮永久ひずみが小さくヘタリを生じにくい特性を付与できない場合がある。
また、相対的にＣＲが少なくなって、当該ＣＲを配合することによる、中間層４の抵抗値、ひいてはローラ本体７の全体でのローラ抵抗値Ｒ２を微調整する効果が十分に得られない場合がある。
また、相対的にＣＲが少なくなって、当該ＣＲを配合することによる、中間層４の抵抗値、ひいてはローラ本体７の全体でのローラ抵抗値Ｒ２を微調整する効果が十分に得られない場合がある。
【0087】
ＣＲの割合は、ゴムの総量１００質量部中の０．１質量部以上であるのが好ましく、２質量部以下であるのが好ましい。
ＣＲの割合がこの範囲未満では、当該ＣＲを配合することによる、中間層４の抵抗値、ひいてはローラ本体７の全体でのローラ抵抗値Ｒ２を微調整する効果が十分に得られない場合がある。
ＣＲの割合がこの範囲未満では、当該ＣＲを配合することによる、中間層４の抵抗値、ひいてはローラ本体７の全体でのローラ抵抗値Ｒ２を微調整する効果が十分に得られない場合がある。
【0088】
一方、ＣＲの割合が上記の範囲を超える場合には、相対的にエピクロルヒドリンゴムが少なくなって、ローラ抵抗値Ｒ２を、前述した式(２)を満足する範囲まで十分に低下できない場合がある。
ＳＢＲの割合は、４質量部以上であるのが好ましく、８質量部以下であるのが好ましい。
ＳＢＲの割合は、４質量部以上であるのが好ましく、８質量部以下であるのが好ましい。
【0089】
ＳＢＲの割合がこの範囲未満では、当該ＳＢＲを配合することによる上記の効果が十分に得られない場合がある。
一方、ＳＢＲの割合が上記の範囲を超える場合には、相対的にエピクロルヒドリンゴムが少なくなって、ローラ抵抗値Ｒ２を、前述した式(２)を満足する範囲まで十分に低下できない場合がある。
一方、ＳＢＲの割合が上記の範囲を超える場合には、相対的にエピクロルヒドリンゴムが少なくなって、ローラ抵抗値Ｒ２を、前述した式(２)を満足する範囲まで十分に低下できない場合がある。
【0090】
ゴムとしては、さらにＥＰＤＭを併用してもよく、当該ＥＰＤＭの割合は、ゴムの総量１００質量部中の７質量部以下であるのが好ましい。
ＩＲの割合は、エピクロルヒドリンゴム、ＳＢＲ、ＥＰＤＭ、およびＣＲの残量である。
すなわち、エピクロルヒドリンゴム、ＳＢＲ、ＥＰＤＭ、ＣＲの割合をそれぞれ上述した範囲内の所定値に設定した際にゴムの総量が１００質量部となるように、ＩＲの割合を設定すればよい。
ＩＲの割合は、エピクロルヒドリンゴム、ＳＢＲ、ＥＰＤＭ、およびＣＲの残量である。
すなわち、エピクロルヒドリンゴム、ＳＢＲ、ＥＰＤＭ、ＣＲの割合をそれぞれ上述した範囲内の所定値に設定した際にゴムの総量が１００質量部となるように、ＩＲの割合を設定すればよい。
【0091】
また、中間層４の抵抗値を調整して、ローラ抵抗値Ｒ２を前述した式(２)を満足する範囲とするためには、イオン塩等のイオン導電剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．２質量部以下であるのが好ましい。
上記各成分を含む、中間層４用のゴム組成物は、従来同様に調製することができる。
すなわち、まずゴムを素練りし、次いで架橋成分以外の各成分を加えて混練した後、最後に架橋成分を加えて混練することで、中間層４用のゴム組成物が得られる。
上記各成分を含む、中間層４用のゴム組成物は、従来同様に調製することができる。
すなわち、まずゴムを素練りし、次いで架橋成分以外の各成分を加えて混練した後、最後に架橋成分を加えて混練することで、中間層４用のゴム組成物が得られる。
【0092】
混練には、たとえば、ニーダ、バンバリミキサ、押出機等を用いることができる。
《外層６用のゴム組成物》
外層６のもとになるゴム組成物は、前述したゴム、架橋成分、イオン導電剤、カーボンブラック、およびその他の各成分を含む。
このうちゴムとしては、エピクロルヒドリンゴム、ＳＢＲ、およびＣＲを併用するのが好ましい。
《外層６用のゴム組成物》
外層６のもとになるゴム組成物は、前述したゴム、架橋成分、イオン導電剤、カーボンブラック、およびその他の各成分を含む。
このうちゴムとしては、エピクロルヒドリンゴム、ＳＢＲ、およびＣＲを併用するのが好ましい。
【0093】
各ゴムの割合は、外層６に求められる各種の特性等に応じて任意に設定できる。
ただし、とくに外層６の外周面であるローラ本体７の外周面１０の表面抵抗値Ｒ１を、前述した式(１)を満足する範囲とするためには、当該外層６用のゴム組成物におけるエピクロルヒドリンゴムの割合を、ゴムの総量１００質量部中の２０質量部以上とするのが好ましい。
ただし、とくに外層６の外周面であるローラ本体７の外周面１０の表面抵抗値Ｒ１を、前述した式(１)を満足する範囲とするためには、当該外層６用のゴム組成物におけるエピクロルヒドリンゴムの割合を、ゴムの総量１００質量部中の２０質量部以上とするのが好ましい。
【0094】
エピクロルヒドリンゴムの割合がこの範囲未満では、外層６の抵抗値を低下させて、表面抵抗値Ｒ１を、式(１)を満足する範囲まで十分に低下できない場合がある。
なおエピクロルヒドリンゴムの割合は、上記の範囲でも、ゴムの総量１００質量部中の４０質量部以下であるのが好ましい。
エピクロルヒドリンゴムの割合がこの範囲を超える場合には、相対的にＳＢＲが少なくなって、外層６に、ゴムとしての良好な特性、すなわち柔軟で、圧縮永久ひずみが小さくヘタリを生じにくい特性を付与できない場合がある。
なおエピクロルヒドリンゴムの割合は、上記の範囲でも、ゴムの総量１００質量部中の４０質量部以下であるのが好ましい。
エピクロルヒドリンゴムの割合がこの範囲を超える場合には、相対的にＳＢＲが少なくなって、外層６に、ゴムとしての良好な特性、すなわち柔軟で、圧縮永久ひずみが小さくヘタリを生じにくい特性を付与できない場合がある。
【0095】
また、相対的にＣＲが少なくなって、当該ＣＲを配合することによる、外層６の外周面であるローラ本体７の外周面１０の表面抵抗値Ｒ１を微調整する効果が十分に得られない場合がある。
ＣＲの割合は、ゴムの総量１００質量部中の５質量部以上であるのが好ましく、１５質量部以下であるのが好ましい。
ＣＲの割合は、ゴムの総量１００質量部中の５質量部以上であるのが好ましく、１５質量部以下であるのが好ましい。
【0096】
ＣＲの割合がこの範囲未満では、当該ＣＲを配合することによる、外層６の外周面であるローラ本体７の外周面１０の表面抵抗値Ｒ１を微調整する効果が十分に得られない場合がある。
一方、ＣＲの割合が上記の範囲を超える場合には、相対的にエピクロルヒドリンゴムが少なくなって、上記表面抵抗値Ｒ１を、前述した式(１)を満足する範囲まで十分に低下できない場合がある。
一方、ＣＲの割合が上記の範囲を超える場合には、相対的にエピクロルヒドリンゴムが少なくなって、上記表面抵抗値Ｒ１を、前述した式(１)を満足する範囲まで十分に低下できない場合がある。
【0097】
ＳＢＲの割合は、エピクロルヒドリンゴム、およびＣＲの残量である。
すなわち、エピクロルヒドリンゴムとＣＲの割合をそれぞれ上述した範囲内の所定値に設定した際にゴムの総量が１００質量部となるように、ＳＢＲの割合を設定すればよい。
また、表面抵抗値Ｒ１を前述した式(１)を満足する範囲とするためには、イオン塩等のイオン導電剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．３質量部以上であるのが好ましく、２質量部以下であるのが好ましい。
すなわち、エピクロルヒドリンゴムとＣＲの割合をそれぞれ上述した範囲内の所定値に設定した際にゴムの総量が１００質量部となるように、ＳＢＲの割合を設定すればよい。
また、表面抵抗値Ｒ１を前述した式(１)を満足する範囲とするためには、イオン塩等のイオン導電剤の割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．３質量部以上であるのが好ましく、２質量部以下であるのが好ましい。
【0098】
上記各成分を含む、外層６用のゴム組成物は、従来同様に調製することができる。
すなわち、まずゴムを素練りし、次いで架橋成分以外の各成分を加えて混練した後、最後に架橋成分を加えて混練することで、外層６用のゴム組成物が得られる。
混練には、たとえば、ニーダ、バンバリミキサ、押出機等を用いることができる。
《現像ローラ１の製造》
〈内層２〉
上記内層２用、中間層４用、および外層６用のゴム組成物を用いて、図１(ａ)(ｂ)に示す現像ローラ１を製造するには、たとえば、内層２用のゴム組成物を、押出機を用いて筒状に押出成形する。
すなわち、まずゴムを素練りし、次いで架橋成分以外の各成分を加えて混練した後、最後に架橋成分を加えて混練することで、外層６用のゴム組成物が得られる。
混練には、たとえば、ニーダ、バンバリミキサ、押出機等を用いることができる。
《現像ローラ１の製造》
〈内層２〉
上記内層２用、中間層４用、および外層６用のゴム組成物を用いて、図１(ａ)(ｂ)に示す現像ローラ１を製造するには、たとえば、内層２用のゴム組成物を、押出機を用いて筒状に押出成形する。
【0099】
次いで、押出成形した筒状体を、所定の長さにカットして加硫缶内で加圧、加熱してゴムを架橋させるとともに発泡させる。
次に、架橋、発泡させた筒状体を、オーブン等を用いて加熱して二次架橋させ、冷却したのち所定の外径となるように外周面３を研磨して、内層２を形成する。
研磨方法としては、たとえば、乾式トラバース研磨等の種々の研磨方法が採用可能である。
次に、架橋、発泡させた筒状体を、オーブン等を用いて加熱して二次架橋させ、冷却したのち所定の外径となるように外周面３を研磨して、内層２を形成する。
研磨方法としては、たとえば、乾式トラバース研磨等の種々の研磨方法が採用可能である。
【0100】
内層２の厚みは、組み込む画像形成装置の構造や寸法等に応じて任意に設定できる。
〈シャフト９〉
次に、シャフト９を、内層２の通孔８に挿通して固定する。
具体的には、シャフト９は、内層２のもとになる筒状体のカット後から、内層２の外周面３を研磨したあとまでの任意の時点で、通孔８に挿通して固定できる。
〈シャフト９〉
次に、シャフト９を、内層２の通孔８に挿通して固定する。
具体的には、シャフト９は、内層２のもとになる筒状体のカット後から、内層２の外周面３を研磨したあとまでの任意の時点で、通孔８に挿通して固定できる。
【0101】
ただしカット後、まず通孔８にシャフト９を挿通した状態で二次架橋、および研磨をするのが好ましい。
これにより、二次架橋時の膨張収縮による内層２の反りや変形を抑制できる。
また、シャフト９を中心として回転させながら研磨することで、当該研磨の作業性を向上し、なおかつ外周面３のフレを抑制できる。
これにより、二次架橋時の膨張収縮による内層２の反りや変形を抑制できる。
また、シャフト９を中心として回転させながら研磨することで、当該研磨の作業性を向上し、なおかつ外周面３のフレを抑制できる。
【0102】
シャフト９は、先に説明したように、導電性を有する接着剤、特に導電性の熱硬化性接着剤を介して二次架橋前の筒状体の通孔８に挿通したのち二次架橋させるか、あるいは通孔８の内径より外径の大きいものを通孔８に圧入すればよい。
前者の場合は、オーブン中での加熱によって筒状体が二次架橋されるのと同時に熱硬化性接着剤が硬化して、当該シャフト９が内層２に電気的に接合されるとともに機械的に固定される。
前者の場合は、オーブン中での加熱によって筒状体が二次架橋されるのと同時に熱硬化性接着剤が硬化して、当該シャフト９が内層２に電気的に接合されるとともに機械的に固定される。
【0103】
また後者の場合は、圧入と同時に電気的な接合と機械的な固定が完了する。
また前述したように、この両法を併用して、シャフト９を、内層２と電気的に接合し、かつ機械的に固定してもよい。
〈中間層４および外層６〉
たとえば、中間層４用のゴム組成物と、外層６用のゴム組成物とを２層押出機に供給して、積層された２層構造の筒状に共押出成形したのち、全体を架橋させて、中間層４と外層６を形成する。
また前述したように、この両法を併用して、シャフト９を、内層２と電気的に接合し、かつ機械的に固定してもよい。
〈中間層４および外層６〉
たとえば、中間層４用のゴム組成物と、外層６用のゴム組成物とを２層押出機に供給して、積層された２層構造の筒状に共押出成形したのち、全体を架橋させて、中間層４と外層６を形成する。
【0104】
あるいは、中間層４用のゴム組成物を筒状に押出成形し、架橋させて中間層４を形成し、次いでその外周面５に、外層６用のゴム組成物のシートを巻き付けて、プレス成形等によって筒状に成形し、架橋させるとともに、中間層４と一体化させて外層６を形成する。
中間層４、外層６の厚みは任意に設定できるものの、それぞれ０．１ｍｍ以上であるのが好ましく、２ｍｍ以下であるのが好ましい。
中間層４、外層６の厚みは任意に設定できるものの、それぞれ０．１ｍｍ以上であるのが好ましく、２ｍｍ以下であるのが好ましい。
【0105】
前述した所定のゴム組成物からなる中間層４の厚みを上記の範囲とすることで、ローラ抵抗値Ｒ３が式(３)を満足する内層２、および表面抵抗値Ｒ１が式(１)を満足する外層６と組み合わせた際に、ローラ抵抗値Ｒ２を、式(２)を満足する範囲とすることができる。
また、前述した所定のゴム組成物からなる外層６の厚みを上記の範囲とすることで、ローラ抵抗値Ｒ３が式(３)を満足する内層２、および上記中間層４と組み合わせた際に、ローラ抵抗値Ｒ２を、式(２)を満足する範囲とすることができる。
また、前述した所定のゴム組成物からなる外層６の厚みを上記の範囲とすることで、ローラ抵抗値Ｒ３が式(３)を満足する内層２、および上記中間層４と組み合わせた際に、ローラ抵抗値Ｒ２を、式(２)を満足する範囲とすることができる。
【0106】
そのため、画像形成を繰り返してもゴーストが発生するのを抑制しながら、黒ベタ濃度と２ｄｏｔ濃度の両方を同時に向上して、コントラストと、細線の再現性や階調性とに優れた画像を形成することができる。
また画像に、用紙の通紙方向と直交する横方向に隣接する画像の濃度に依存した濃度のムラが生じるのを抑制することもできる。
また画像に、用紙の通紙方向と直交する横方向に隣接する画像の濃度に依存した濃度のムラが生じるのを抑制することもできる。
【0107】
〈ローラ本体７、現像ローラ１〉
次に、あらかじめ中心の通孔８にシャフト９が挿通されて固定された内層２を、上記中間層４と外層６の２層構造の筒内に挿通して固定する。
この際、たとえば内層２の外径を、中間層４と外層６の２層構造の筒の内径よりも大きく設定しておくと、当該筒内に内層２を圧入するだけで、内層２と中間層４が電気的に接合されるとともに、両者が機械的に固定される。
次に、あらかじめ中心の通孔８にシャフト９が挿通されて固定された内層２を、上記中間層４と外層６の２層構造の筒内に挿通して固定する。
この際、たとえば内層２の外径を、中間層４と外層６の２層構造の筒の内径よりも大きく設定しておくと、当該筒内に内層２を圧入するだけで、内層２と中間層４が電気的に接合されるとともに、両者が機械的に固定される。
【0108】
このあと、必要に応じて外層６を所定の外径となるように研磨すると、内層２、中間層４、および外層６の３層を含むローラ本体７が構成され、現像ローラ１が製造される。
研磨方法としては、たとえば、乾式トラバース研磨等の種々の研磨方法が採用可能であり、研磨工程の最後に鏡面研磨をして仕上げてもよい。
その場合は、外周面１０の離型性を向上して、酸化膜１１を形成せずに、あるいは酸化膜１１を形成することとの相乗効果によって、トナーの付着をより一層良好に抑制することができる上、感光体等の汚染を有効に防止することもできる。
研磨方法としては、たとえば、乾式トラバース研磨等の種々の研磨方法が採用可能であり、研磨工程の最後に鏡面研磨をして仕上げてもよい。
その場合は、外周面１０の離型性を向上して、酸化膜１１を形成せずに、あるいは酸化膜１１を形成することとの相乗効果によって、トナーの付着をより一層良好に抑制することができる上、感光体等の汚染を有効に防止することもできる。
【0109】
酸化膜１１は、先に説明したように、外層６の表面であるローラ本体７の外周面１０に紫外線を照射して形成するのが好ましい。
すなわち、ローラ本体７の外周面１０に所定波長の紫外線を所定時間照射して、当該外周面１０の近傍を構成するゴムを酸化させるだけで酸化膜１１を形成できる。
そのため、酸化膜１１の形成工程が簡単で効率的であって、現像ローラ１の生産性が低下したり製造コストが高くついたりするのを抑制することができる。
すなわち、ローラ本体７の外周面１０に所定波長の紫外線を所定時間照射して、当該外周面１０の近傍を構成するゴムを酸化させるだけで酸化膜１１を形成できる。
そのため、酸化膜１１の形成工程が簡単で効率的であって、現像ローラ１の生産性が低下したり製造コストが高くついたりするのを抑制することができる。
【0110】
しかも、紫外線の照射によって形成される酸化膜１１は、たとえば従来の、塗剤を塗布して形成されるコーティング膜のような問題を生じることがない上、厚みの均一性やローラ本体７との密着性等にも優れている。
照射する紫外線の波長は、外層６用のゴム組成物中の、主にジエン系ゴムを効率よく酸化させて、前述した機能に優れた酸化膜１１を形成することを考慮すると、１００ｎｍ以上であるのが好ましく、４００ｎｍ以下、とくに３００ｎｍ以下であるのが好ましい。
照射する紫外線の波長は、外層６用のゴム組成物中の、主にジエン系ゴムを効率よく酸化させて、前述した機能に優れた酸化膜１１を形成することを考慮すると、１００ｎｍ以上であるのが好ましく、４００ｎｍ以下、とくに３００ｎｍ以下であるのが好ましい。
【0111】
照射の時間は、任意に設定することができる。
ただし、酸化膜１１は他の方法で形成してもよいし、前述したように形成しなくてもよい。
本発明の現像ローラ１は、前述したように、たとえばレーザープリンタ、静電式複写機、普通紙ファクシミリ装置、およびこれらの複合機等の、電子写真法を利用した各種の画像形成装置に組み込んで用いることができる。
ただし、酸化膜１１は他の方法で形成してもよいし、前述したように形成しなくてもよい。
本発明の現像ローラ１は、前述したように、たとえばレーザープリンタ、静電式複写機、普通紙ファクシミリ装置、およびこれらの複合機等の、電子写真法を利用した各種の画像形成装置に組み込んで用いることができる。
【実施例】
【0112】
以下に本発明を、実施例、比較例に基づいて説明するが、本発明の構成は、必ずしもこれらの例に限定されるものではない。
《内層２用のゴム組成物の調製》
〈内層２用のゴム組成物(ｉ)〉
ゴムとしては、ＧＥＣＯ〔(株)大阪ソーダ製のエピオン（登録商標）３０１Ｌ、ＥＯ／ＥＰ／ＡＧＥ＝７３／２３／４（モル比）〕３５質量部、ＳＢＲ〔ＪＳＲ(株)製のＪＳＲ １５０２、結合スチレン：２３．５％、非油展〕５５質量部、およびＣＲ〔昭和電工(株)製のショウプレン（登録商標）ＷＲＴ、非油展〕１０質量部を用いた。
《内層２用のゴム組成物の調製》
〈内層２用のゴム組成物(ｉ)〉
ゴムとしては、ＧＥＣＯ〔(株)大阪ソーダ製のエピオン（登録商標）３０１Ｌ、ＥＯ／ＥＰ／ＡＧＥ＝７３／２３／４（モル比）〕３５質量部、ＳＢＲ〔ＪＳＲ(株)製のＪＳＲ １５０２、結合スチレン：２３．５％、非油展〕５５質量部、およびＣＲ〔昭和電工(株)製のショウプレン（登録商標）ＷＲＴ、非油展〕１０質量部を用いた。
【0113】
上記ゴムの総量１００質量部を、バンバリミキサを用いて素練りしながら、下記の各成分を配合して混練した。
【0114】
【表1】
【0115】
表１中の各成分は下記のとおりであり、表中の質量部は、ゴムの総量１００質量部あたりの質量部である。
イオン塩：カリウム・ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（Ｋ－ＴＦＳＩ）、三菱マテリアル電子化成(株)製のＥＦ－Ｎ１１２
架橋促進助剤：酸化亜鉛２種、堺化学工業(株)製
充填剤：カーボンブラックＨＡＦ、東海カーボン(株)製のシースト（登録商標）３
受酸剤：ハイドロタルサイト類、協和化学工業(株)製のＤＨＴ－４Ａ（登録商標）－２
次いで混練を続けながら、下記の架橋成分を配合してさらに混練して、内層２用のゴム組成物(ｉ)を調製した。
イオン塩：カリウム・ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（Ｋ－ＴＦＳＩ）、三菱マテリアル電子化成(株)製のＥＦ－Ｎ１１２
架橋促進助剤：酸化亜鉛２種、堺化学工業(株)製
充填剤：カーボンブラックＨＡＦ、東海カーボン(株)製のシースト（登録商標）３
受酸剤：ハイドロタルサイト類、協和化学工業(株)製のＤＨＴ－４Ａ（登録商標）－２
次いで混練を続けながら、下記の架橋成分を配合してさらに混練して、内層２用のゴム組成物(ｉ)を調製した。
【0116】
【表2】
【0117】
表２中の各成分は下記のとおりであり、表中の質量部は、ゴムの総量１００質量部あたりの質量部である。
発泡剤：ＡＤＣＡ、永和化成工業(株)製のビニホールＡＣ＃３
発泡助剤：尿素系、永和化成工業(株)製のセルペースト１０１
架橋剤：オイル処理粉末硫黄、鶴見化学工業(株)製の金華印５％油入微粉硫黄
促進剤ＤＭ：ジ－２－ベンゾチアゾリルジスルフィド、大内新興化学工業(株)製のノクセラー（登録商標）ＤＭ、チアゾール系促進剤
促進剤ＴＳ：テトラメチルチウラムモノスルフィド、三新化学工業(株)製のサンセラー（登録商標）ＴＳ、チウラム系促進剤
促進剤２２：エチレンチオウレア（２－メルカプトイミダゾリン）、川口化学工業(株)製のアクセル（登録商標）２２－Ｓ、チオウレア系促進剤
促進剤ＤＴ：１，３－ジ－ｏ－トリルグアニジン、大内新興化学工業(株)製のノクセラーＤＴ、グアニジン系促進剤
〈内層２用のゴム組成物(ii)〉
ＧＥＣＯの量を３０質量部、ＳＢＲの量を６０質量部としたこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(ii)を調製した。
発泡剤：ＡＤＣＡ、永和化成工業(株)製のビニホールＡＣ＃３
発泡助剤：尿素系、永和化成工業(株)製のセルペースト１０１
架橋剤：オイル処理粉末硫黄、鶴見化学工業(株)製の金華印５％油入微粉硫黄
促進剤ＤＭ：ジ－２－ベンゾチアゾリルジスルフィド、大内新興化学工業(株)製のノクセラー（登録商標）ＤＭ、チアゾール系促進剤
促進剤ＴＳ：テトラメチルチウラムモノスルフィド、三新化学工業(株)製のサンセラー（登録商標）ＴＳ、チウラム系促進剤
促進剤２２：エチレンチオウレア（２－メルカプトイミダゾリン）、川口化学工業(株)製のアクセル（登録商標）２２－Ｓ、チオウレア系促進剤
促進剤ＤＴ：１，３－ジ－ｏ－トリルグアニジン、大内新興化学工業(株)製のノクセラーＤＴ、グアニジン系促進剤
〈内層２用のゴム組成物(ii)〉
ＧＥＣＯの量を３０質量部、ＳＢＲの量を６０質量部としたこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(ii)を調製した。
【0118】
〈内層２用のゴム組成物(iii)〉
ＧＥＣＯの量を３０質量部、ＳＢＲの量を６０質量部として、イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(iii)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(iv)〉
ＧＥＣＯの量を２５質量部、ＳＢＲの量を６５質量部として、イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(iv)を調製した。
ＧＥＣＯの量を３０質量部、ＳＢＲの量を６０質量部として、イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(iii)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(iv)〉
ＧＥＣＯの量を２５質量部、ＳＢＲの量を６５質量部として、イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(iv)を調製した。
【0119】
〈内層２用のゴム組成物(ｖ)〉
ＧＥＣＯの量を２０質量部、ＳＢＲの量を７０質量部として、イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(ｖ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(vi)〉
ＧＥＣＯの量を１８質量部、ＳＢＲの量を７２質量部として、イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(vi)を調製した。
ＧＥＣＯの量を２０質量部、ＳＢＲの量を７０質量部として、イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(ｖ)を調製した。
〈内層２用のゴム組成物(vi)〉
ＧＥＣＯの量を１８質量部、ＳＢＲの量を７２質量部として、イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(ｉ)と同様にして、内層２用のゴム組成物(vi)を調製した。
【0120】
《中間層４用のゴム組成物の調製》
〈中間層４用のゴム組成物(Ａ)〉
ゴムとしては、ＧＥＣＯ〔前出の(株)大阪ソーダ製のエピオン３０１Ｌ〕１６質量部、ＩＲ〔日本ゼオン(株)製のＮｉｐｏｌ（登録商標）ＩＲ２２００、非油展〕７７質量部、ＳＢＲ〔前出のＪＳＲ(株)製のＪＳＲ １５０２〕６質量部、およびＣＲ〔前出の昭和電工(株)製のショウプレンＷＲＴ〕１質量部を用いた。
〈中間層４用のゴム組成物(Ａ)〉
ゴムとしては、ＧＥＣＯ〔前出の(株)大阪ソーダ製のエピオン３０１Ｌ〕１６質量部、ＩＲ〔日本ゼオン(株)製のＮｉｐｏｌ（登録商標）ＩＲ２２００、非油展〕７７質量部、ＳＢＲ〔前出のＪＳＲ(株)製のＪＳＲ １５０２〕６質量部、およびＣＲ〔前出の昭和電工(株)製のショウプレンＷＲＴ〕１質量部を用いた。
【0121】
上記ゴムの総量１００質量部を、バンバリミキサを用いて素練りしながら、下記の各成分を配合して混練した。
【0122】
【表3】
【0123】
表３中の各成分は下記のとおりであり、表中の質量部は、ゴムの総量１００質量部あたりの質量部である。
イオン塩：カリウム・ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（Ｋ－ＴＦＳＩ）、前出の三菱マテリアル電子化成(株)製のＥＦ－Ｎ１１２
架橋促進助剤：酸化亜鉛２種、前出の堺化学工業(株)製
充填剤：導電性カーボンブラック（アセチレンブラック）、電気化学工業(株)製のデンカブラック（登録商標）粒状
受酸剤：ハイドロタルサイト類、前出の協和化学工業(株)製のＤＨＴ－４Ａ－２
加工助剤：ステアリン酸亜鉛、堺化学工業(株)製のＳＺ－２０００
次いで、混練を続けながら、下記の架橋成分を配合してさらに混練して、中間層４用のゴム組成物(Ａ)を調製した。
イオン塩：カリウム・ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（Ｋ－ＴＦＳＩ）、前出の三菱マテリアル電子化成(株)製のＥＦ－Ｎ１１２
架橋促進助剤：酸化亜鉛２種、前出の堺化学工業(株)製
充填剤：導電性カーボンブラック（アセチレンブラック）、電気化学工業(株)製のデンカブラック（登録商標）粒状
受酸剤：ハイドロタルサイト類、前出の協和化学工業(株)製のＤＨＴ－４Ａ－２
加工助剤：ステアリン酸亜鉛、堺化学工業(株)製のＳＺ－２０００
次いで、混練を続けながら、下記の架橋成分を配合してさらに混練して、中間層４用のゴム組成物(Ａ)を調製した。
【0124】
【表4】
【0125】
表４中の各成分は下記のとおりであり、表中の質量部は、ゴムの総量１００質量部あたりの質量部である。
架橋剤：オイル処理粉末硫黄、前出の鶴見化学工業(株)製の金華印５％油入微粉硫黄
促進剤ＤＭ：ジ－２－ベンゾチアゾリルジスルフィド、前出の大内新興化学工業(株)製のノクセラーＤＭ、チアゾール系促進剤
促進剤ＴＳ：テトラメチルチウラムモノスルフィド、前出の三新化学工業(株)製のサンセラーＴＳ、チウラム系促進剤
促進剤２２：エチレンチオウレア（２－メルカプトイミダゾリン）、前出の川口化学工業(株)製のアクセル２２－Ｓ、チオウレア系促進剤
促進剤ＤＴ：１，３－ジ－ｏ－トリルグアニジン、前出の大内新興化学工業(株)製のノクセラーＤＴ、グアニジン系促進剤
〈中間層４用のゴム組成物(Ｂ)〉
ＧＥＣＯの量を１８質量部、ＩＲの量を７５質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、中間層４用のゴム組成物(Ｂ)を調製した。
架橋剤：オイル処理粉末硫黄、前出の鶴見化学工業(株)製の金華印５％油入微粉硫黄
促進剤ＤＭ：ジ－２－ベンゾチアゾリルジスルフィド、前出の大内新興化学工業(株)製のノクセラーＤＭ、チアゾール系促進剤
促進剤ＴＳ：テトラメチルチウラムモノスルフィド、前出の三新化学工業(株)製のサンセラーＴＳ、チウラム系促進剤
促進剤２２：エチレンチオウレア（２－メルカプトイミダゾリン）、前出の川口化学工業(株)製のアクセル２２－Ｓ、チオウレア系促進剤
促進剤ＤＴ：１，３－ジ－ｏ－トリルグアニジン、前出の大内新興化学工業(株)製のノクセラーＤＴ、グアニジン系促進剤
〈中間層４用のゴム組成物(Ｂ)〉
ＧＥＣＯの量を１８質量部、ＩＲの量を７５質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、中間層４用のゴム組成物(Ｂ)を調製した。
【0126】
〈中間層４用のゴム組成物(Ｃ)〉
ＧＥＣＯの量を２１質量部、ＩＲの量を７２質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、中間層４用のゴム組成物(Ｃ)を調製した。
〈中間層４用のゴム組成物(Ｄ)〉
ＧＥＣＯの量を２３質量部、ＩＲの量を７０質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、中間層４用のゴム組成物(Ｄ)を調製した。
ＧＥＣＯの量を２１質量部、ＩＲの量を７２質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、中間層４用のゴム組成物(Ｃ)を調製した。
〈中間層４用のゴム組成物(Ｄ)〉
ＧＥＣＯの量を２３質量部、ＩＲの量を７０質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、中間層４用のゴム組成物(Ｄ)を調製した。
【0127】
〈中間層４用のゴム組成物(Ｅ)〉
ＧＥＣＯの量を２６質量部、ＩＲの量を６７質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、中間層４用のゴム組成物(Ｅ)を調製した。
〈中間層４用のゴム組成物(Ｆ)〉
ＧＥＣＯの量を２８質量部、ＩＲの量を６０質量部として、さらにＥＰＤＭ〔住友化学(株)製のエスプレン（登録商標）５０５Ａ、エチレン含量：５０％、ジエン含量：９．５％、非油展〕５質量部を配合したこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、中間層４用のゴム組成物(Ｆ)を調製した。
ＧＥＣＯの量を２６質量部、ＩＲの量を６７質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、中間層４用のゴム組成物(Ｅ)を調製した。
〈中間層４用のゴム組成物(Ｆ)〉
ＧＥＣＯの量を２８質量部、ＩＲの量を６０質量部として、さらにＥＰＤＭ〔住友化学(株)製のエスプレン（登録商標）５０５Ａ、エチレン含量：５０％、ジエン含量：９．５％、非油展〕５質量部を配合したこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、中間層４用のゴム組成物(Ｆ)を調製した。
【0128】
〈中間層４用のゴム組成物(Ｇ)〉
ＧＥＣＯの量を３０質量部、ＩＲの量を６３質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、中間層４用のゴム組成物(Ｇ)を調製した。
《外層６用のゴム組成物の調製》
〈外層６用のゴム組成物(Ｉ)〉
ゴムとしては、ＧＥＣＯ〔前出の(株)大阪ソーダ製のエピオン３０１Ｌ〕３０質量部、ＳＢＲ〔前出のＪＳＲ(株)製のＪＳＲ １５０２〕６０質量部、およびＣＲ〔前出の昭和電工(株)製のショウプレンＷＲＴ〕１０質量部を用いた。
ＧＥＣＯの量を３０質量部、ＩＲの量を６３質量部としたこと以外はゴム組成物(Ａ)と同様にして、中間層４用のゴム組成物(Ｇ)を調製した。
《外層６用のゴム組成物の調製》
〈外層６用のゴム組成物(Ｉ)〉
ゴムとしては、ＧＥＣＯ〔前出の(株)大阪ソーダ製のエピオン３０１Ｌ〕３０質量部、ＳＢＲ〔前出のＪＳＲ(株)製のＪＳＲ １５０２〕６０質量部、およびＣＲ〔前出の昭和電工(株)製のショウプレンＷＲＴ〕１０質量部を用いた。
【0129】
上記ゴムの総量１００質量部を、バンバリミキサを用いて素練りしながら、下記の各成分を配合して混練した。
【0130】
【表5】
【0131】
表５中の各成分は下記のとおりであり、表中の質量部は、ゴムの総量１００質量部あたりの質量部である。
イオン塩：カリウム・ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（Ｋ－ＴＦＳＩ）、前出の三菱マテリアル電子化成(株)製のＥＦ－Ｎ１１２
架橋促進助剤：酸化亜鉛２種、前出の堺化学工業(株)製
充填剤：カーボンブラックＦＴ（サーマルブラック）、旭カーボン(株)製の旭＃１５
受酸剤：ハイドロタルサイト類、前出の協和化学工業(株)製のＤＨＴ－４Ａ－２
加工助剤：ステアリン酸亜鉛、前出の堺化学工業(株)製のＳＺ－２０００
次いで、混練を続けながら、下記の架橋成分を配合してさらに混練して、外層６用のゴム組成物(Ｉ)を調製した。
イオン塩：カリウム・ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（Ｋ－ＴＦＳＩ）、前出の三菱マテリアル電子化成(株)製のＥＦ－Ｎ１１２
架橋促進助剤：酸化亜鉛２種、前出の堺化学工業(株)製
充填剤：カーボンブラックＦＴ（サーマルブラック）、旭カーボン(株)製の旭＃１５
受酸剤：ハイドロタルサイト類、前出の協和化学工業(株)製のＤＨＴ－４Ａ－２
加工助剤：ステアリン酸亜鉛、前出の堺化学工業(株)製のＳＺ－２０００
次いで、混練を続けながら、下記の架橋成分を配合してさらに混練して、外層６用のゴム組成物(Ｉ)を調製した。
【0132】
【表6】
【0133】
表６中の各成分は下記のとおりであり、表中の質量部は、ゴムの総量１００質量部あたりの質量部である。
架橋剤：オイル処理粉末硫黄、前出の鶴見化学工業(株)製の金華印５％油入微粉硫黄
促進剤ＤＭ：ジ－２－ベンゾチアゾリルジスルフィド、前出の大内新興化学工業(株)製のノクセラーＤＭ、チアゾール系促進剤
促進剤ＴＳ：テトラメチルチウラムモノスルフィド、前出の三新化学工業(株)製のサンセラーＴＳ、チウラム系促進剤
促進剤２２：エチレンチオウレア（２－メルカプトイミダゾリン）、前出の川口化学工業(株)製のアクセル２２－Ｓ、チオウレア系促進剤
促進剤ＤＴ：１，３－ジ－ｏ－トリルグアニジン、前出の大内新興化学工業(株)製のノクセラーＤＴ、グアニジン系促進剤
〈外層６用のゴム組成物(II)〉
イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(Ｉ)と同様にして、外層６用のゴム組成物(II)を調製した。
架橋剤：オイル処理粉末硫黄、前出の鶴見化学工業(株)製の金華印５％油入微粉硫黄
促進剤ＤＭ：ジ－２－ベンゾチアゾリルジスルフィド、前出の大内新興化学工業(株)製のノクセラーＤＭ、チアゾール系促進剤
促進剤ＴＳ：テトラメチルチウラムモノスルフィド、前出の三新化学工業(株)製のサンセラーＴＳ、チウラム系促進剤
促進剤２２：エチレンチオウレア（２－メルカプトイミダゾリン）、前出の川口化学工業(株)製のアクセル２２－Ｓ、チオウレア系促進剤
促進剤ＤＴ：１，３－ジ－ｏ－トリルグアニジン、前出の大内新興化学工業(株)製のノクセラーＤＴ、グアニジン系促進剤
〈外層６用のゴム組成物(II)〉
イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(Ｉ)と同様にして、外層６用のゴム組成物(II)を調製した。
【0134】
〈外層６用のゴム組成物(III)〉
ＧＥＣＯの量を４０質量部、ＳＢＲの量を５０質量部として、イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(Ｉ)と同様にして、外層６用のゴム組成物(III)を調製した。
〈外層６用のゴム組成物(IV)〉
ＧＥＣＯの量を２５質量部、ＳＢＲの量を６５質量部として、イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(Ｉ)と同様にして、外層６用のゴム組成物(IV)を調製した。
ＧＥＣＯの量を４０質量部、ＳＢＲの量を５０質量部として、イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(Ｉ)と同様にして、外層６用のゴム組成物(III)を調製した。
〈外層６用のゴム組成物(IV)〉
ＧＥＣＯの量を２５質量部、ＳＢＲの量を６５質量部として、イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(Ｉ)と同様にして、外層６用のゴム組成物(IV)を調製した。
【0135】
〈外層６用のゴム組成物(Ｖ)〉
ＧＥＣＯの量を２０質量部、ＳＢＲの量を７０質量部として、イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(Ｉ)と同様にして、外層６用のゴム組成物(Ｖ)を調製した。
〈外層６用のゴム組成物(VI)〉
ＧＥＣＯの量を１８質量部、ＳＢＲの量を７２質量部として、イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(Ｉ)と同様にして、外層６用のゴム組成物(VI)を調製した。
ＧＥＣＯの量を２０質量部、ＳＢＲの量を７０質量部として、イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(Ｉ)と同様にして、外層６用のゴム組成物(Ｖ)を調製した。
〈外層６用のゴム組成物(VI)〉
ＧＥＣＯの量を１８質量部、ＳＢＲの量を７２質量部として、イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(Ｉ)と同様にして、外層６用のゴム組成物(VI)を調製した。
【0136】
〈外層６用のゴム組成物(VII)〉
ＧＥＣＯの量を１５質量部、ＳＢＲの量を７５質量部として、イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(Ｉ)と同様にして、外層６用のゴム組成物(VII)を調製した。
《実施例１～１２、比較例１～６》
〈内層２〉
内層２用のゴム組成物(ｉ)～(vi)を、押出機に供給して筒状に押出成形し、架橋用の仮のシャフトに装着して加硫缶内で１３５℃×１０分間、次いで１６０℃で３０分間加熱して架橋、発泡させた。
ＧＥＣＯの量を１５質量部、ＳＢＲの量を７５質量部として、イオン塩を配合しなかったこと以外はゴム組成物(Ｉ)と同様にして、外層６用のゴム組成物(VII)を調製した。
《実施例１～１２、比較例１～６》
〈内層２〉
内層２用のゴム組成物(ｉ)～(vi)を、押出機に供給して筒状に押出成形し、架橋用の仮のシャフトに装着して加硫缶内で１３５℃×１０分間、次いで１６０℃で３０分間加熱して架橋、発泡させた。
【0137】
架橋、発泡後の筒状体は、外径φ１５ｍｍ、内径φ６．５ｍｍであった。
次いで、架橋、発泡させた筒状体を、外周面に導電性の熱硬化性接着剤を塗布した外径φ７．５ｍｍのシャフト９に装着し直して、オーブン中で１６０℃に加熱して当該シャフト９に接着させた。
そして、筒状体の両端を整形するとともに、外周面３を、円筒研磨機を用いてトラバース研磨して外径φ１４．５ｍｍになるように仕上げて、シャフト９と一体化された、多孔質の内層２を形成した。
次いで、架橋、発泡させた筒状体を、外周面に導電性の熱硬化性接着剤を塗布した外径φ７．５ｍｍのシャフト９に装着し直して、オーブン中で１６０℃に加熱して当該シャフト９に接着させた。
そして、筒状体の両端を整形するとともに、外周面３を、円筒研磨機を用いてトラバース研磨して外径φ１４．５ｍｍになるように仕上げて、シャフト９と一体化された、多孔質の内層２を形成した。
【0138】
〈中間層４、外層６〉
中間層４用のゴム組成物(Ａ)～(Ｇ)、および外層用のゴム組成物(Ｉ)～(VII)を、表７～表９に示す組み合わせで２層押出機に供給して、２層構造の筒状に押出成形し、加硫缶内で１６０℃×１時間架橋させた。
架橋後の筒状体は、外径φ１６ｍｍ、内径φ１３ｍｍであった。
中間層４用のゴム組成物(Ａ)～(Ｇ)、および外層用のゴム組成物(Ｉ)～(VII)を、表７～表９に示す組み合わせで２層押出機に供給して、２層構造の筒状に押出成形し、加硫缶内で１６０℃×１時間架橋させた。
架橋後の筒状体は、外径φ１６ｍｍ、内径φ１３ｍｍであった。
【0139】
〈ローラ本体７、現像ローラ１〉
先に形成した内層２を、上記中間層４と外層６の２層構造の筒状体の通孔内に圧入したのち、当該筒状体の両端を整形した。
内層２、中間層４、および外層６の組み合わせは、表７～表９に示すとおりとした。
次に、外層６の外周面１０を、円筒研磨機を用いてトラバース研磨したのち鏡面研磨して外径φ１６．００ｍｍ（公差：０．０５）になるように仕上げて、内層２、中間層４、外層６の３層構造を有し、シャフト９と一体化されたローラ本体７を形成した。
先に形成した内層２を、上記中間層４と外層６の２層構造の筒状体の通孔内に圧入したのち、当該筒状体の両端を整形した。
内層２、中間層４、および外層６の組み合わせは、表７～表９に示すとおりとした。
次に、外層６の外周面１０を、円筒研磨機を用いてトラバース研磨したのち鏡面研磨して外径φ１６．００ｍｍ（公差：０．０５）になるように仕上げて、内層２、中間層４、外層６の３層構造を有し、シャフト９と一体化されたローラ本体７を形成した。
【0140】
中間層４の厚みは約０．５ｍｍ、研磨後の外層６の厚みは約０．５ｍｍであった。
次いで、形成したローラ本体７の外周面１０をアルコール拭きしたのち、当該外周面１０からＵＶランプまでの距離が５０ｍｍになるように設定して紫外線照射装置〔セン特殊光源(株)製のＰＬ２１－２００〕にセットした。
そして、シャフト９を中心として９０°ずつ回転させながら、波長１８４．９ｎｍと２５３．７ｎｍの紫外線を照射することで上記外周面１０を酸化膜１１で被覆して、現像ローラ１を製造した。
次いで、形成したローラ本体７の外周面１０をアルコール拭きしたのち、当該外周面１０からＵＶランプまでの距離が５０ｍｍになるように設定して紫外線照射装置〔セン特殊光源(株)製のＰＬ２１－２００〕にセットした。
そして、シャフト９を中心として９０°ずつ回転させながら、波長１８４．９ｎｍと２５３．７ｎｍの紫外線を照射することで上記外周面１０を酸化膜１１で被覆して、現像ローラ１を製造した。
【0141】
《特性測定》
上記各実施例、比較例で製造した現像ローラ１について、下記の各試験を実施して、その特性を求めた。
なお各試験は、いずれも温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で実施した。
〈表面抵抗値Ｒ１の測定〉
ローラ本体７の外周面１０の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）は、抵抗率計〔(株)三菱ケミカルアナリテック製のハイレスタ（登録商標）ＵＰ ＭＣＰ－ＨＴ４５０〕と同社製の専用ＭＣＰプローブ（ＵＡタイプ）とを用いて、表面抵抗モードで測定した。
上記各実施例、比較例で製造した現像ローラ１について、下記の各試験を実施して、その特性を求めた。
なお各試験は、いずれも温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で実施した。
〈表面抵抗値Ｒ１の測定〉
ローラ本体７の外周面１０の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）は、抵抗率計〔(株)三菱ケミカルアナリテック製のハイレスタ（登録商標）ＵＰ ＭＣＰ－ＨＴ４５０〕と同社製の専用ＭＣＰプローブ（ＵＡタイプ）とを用いて、表面抵抗モードで測定した。
【0142】
すなわちＭＣＰプローブを、４８０ｇの荷重をかけて、ローラ本体７の外周面１０の、軸方向の中央部に押し当てて１０秒経過後の値を、ローラ本体７の外周面１０の表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）とした。
測定の条件は、ＲＣＦ（Ｓ）：１．０５０、印加電圧：１０Ｖとした。
表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）は、前述したように、常用対数値ｌｏｇＲ１が９．０以下であったものを合格（○）、９．０を超えたものを不合格（×）とした。
測定の条件は、ＲＣＦ（Ｓ）：１．０５０、印加電圧：１０Ｖとした。
表面抵抗値Ｒ１（Ω、１０Ｖ印加時）は、前述したように、常用対数値ｌｏｇＲ１が９．０以下であったものを合格（○）、９．０を超えたものを不合格（×）とした。
【0143】
〈ローラ抵抗値Ｒ２の測定〉
ローラ本体７の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、１０Ｖ印加時）は、図２に示す方法で測定した。
すなわち図１、図２を参照して、まず一定の回転速度で回転させることができるアルミニウムドラム１２を用意し、用意したアルミニウムドラム１２の外周面１３に、上方から、ローラ本体７の外周面１０を接触させた。
ローラ本体７の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、１０Ｖ印加時）は、図２に示す方法で測定した。
すなわち図１、図２を参照して、まず一定の回転速度で回転させることができるアルミニウムドラム１２を用意し、用意したアルミニウムドラム１２の外周面１３に、上方から、ローラ本体７の外周面１０を接触させた。
【0144】
また、シャフト９とアルミニウムドラム１２との間に直流電源１４、および抵抗１５を直列に接続して計測回路１６を構成した。
直流電源１４は、(－)側をシャフト９、（＋）側を抵抗１５と接続し、抵抗１５の抵抗値ｒは１００Ωとした。
次いで、シャフト９の両端部にそれぞれ４５０ｇの荷重Ｆをかけて、ローラ本体７をアルミニウムドラム１２に圧接させた状態で、アルミニウムドラム１２を４０ｒｐｍで回転させた。
直流電源１４は、(－)側をシャフト９、（＋）側を抵抗１５と接続し、抵抗１５の抵抗値ｒは１００Ωとした。
次いで、シャフト９の両端部にそれぞれ４５０ｇの荷重Ｆをかけて、ローラ本体７をアルミニウムドラム１２に圧接させた状態で、アルミニウムドラム１２を４０ｒｐｍで回転させた。
【0145】
そして回転を続けながら、ローラ本体７とアルミニウムドラム１２との間に、直流電源１４から直流１０Ｖの印加電圧Ｅを印加した際に、抵抗１５にかかる検出電圧Ｖを計測した。
検出電圧Ｖと印加電圧Ｅ（＝１０Ｖ）とから、ローラ本体７の全体でのローラ抵抗値Ｒ２は、基本的に式(５)：
Ｒ２＝ｒ×Ｅ／Ｖ－ｒ (５)
によって求められる。
検出電圧Ｖと印加電圧Ｅ（＝１０Ｖ）とから、ローラ本体７の全体でのローラ抵抗値Ｒ２は、基本的に式(５)：
Ｒ２＝ｒ×Ｅ／Ｖ－ｒ (５)
によって求められる。
【0146】
ただし式(５)中の－ｒの項は微小とみなすことができるため、本発明では式(５ａ)：
Ｒ２＝ｒ×Ｅ／Ｖ (５ａ)
によって求めた値でもって、ローラ本体７の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、１０Ｖ印加時）とした。
ローラ抵抗値Ｒ２（Ω、１０Ｖ印加時）は、前述したように、常用対数値ｌｏｇＲ２が６．４以上、８．５以下であったものを合格（○）、それ以外を不合格（×）とした。
Ｒ２＝ｒ×Ｅ／Ｖ (５ａ)
によって求めた値でもって、ローラ本体７の全体でのローラ抵抗値Ｒ２（Ω、１０Ｖ印加時）とした。
ローラ抵抗値Ｒ２（Ω、１０Ｖ印加時）は、前述したように、常用対数値ｌｏｇＲ２が６．４以上、８．５以下であったものを合格（○）、それ以外を不合格（×）とした。
【0147】
〈ローラ抵抗値Ｒ３の測定〉
内層２のみの状態でのローラ抵抗値Ｒ３は、ローラ抵抗値Ｒ２と同様にして測定した。
すなわち、図１、図２を参照して、アルミニウムドラム１２の外周面１３に、上方から、中間層４と外層６の２層構造の筒内に圧入する前の内層２の外周面３を接触させた。
また、シャフト９とアルミニウムドラム１２との間に直流電源１４、および抵抗１５を直列に接続して計測回路１６を構成した。
内層２のみの状態でのローラ抵抗値Ｒ３は、ローラ抵抗値Ｒ２と同様にして測定した。
すなわち、図１、図２を参照して、アルミニウムドラム１２の外周面１３に、上方から、中間層４と外層６の２層構造の筒内に圧入する前の内層２の外周面３を接触させた。
また、シャフト９とアルミニウムドラム１２との間に直流電源１４、および抵抗１５を直列に接続して計測回路１６を構成した。
【0148】
直流電源１４は、(－)側をシャフト９、（＋）側を抵抗１５と接続し、抵抗１５の抵抗値ｒは１００Ωとした。
次いで、シャフト９の両端部にそれぞれ４５０ｇの荷重Ｆをかけて、内層２をアルミニウムドラム１２に圧接させた状態で、アルミニウムドラム１２を４０ｒｐｍで回転させた。
次いで、シャフト９の両端部にそれぞれ４５０ｇの荷重Ｆをかけて、内層２をアルミニウムドラム１２に圧接させた状態で、アルミニウムドラム１２を４０ｒｐｍで回転させた。
【0149】
そして回転を続けながら、内層２とアルミニウムドラム１２との間に、直流電源１４から直流１０Ｖの印加電圧Ｅを印加した際に、抵抗１５にかかる検出電圧Ｖを計測した。
検出電圧Ｖと印加電圧Ｅ（＝１０Ｖ）とから、内層２のみの状態でのローラ抵抗値Ｒ３は、基本的に式(６)：
Ｒ３＝ｒ×Ｅ／Ｖ－ｒ (６)
によって求められる。
検出電圧Ｖと印加電圧Ｅ（＝１０Ｖ）とから、内層２のみの状態でのローラ抵抗値Ｒ３は、基本的に式(６)：
Ｒ３＝ｒ×Ｅ／Ｖ－ｒ (６)
によって求められる。
【0150】
ただし式(６)中の－ｒの項は微小とみなすことができるため、本発明では式(６ａ)：
Ｒ３＝ｒ×Ｅ／Ｖ (６ａ)
によって求めた値でもって、内層２のみの状態でのローラ抵抗値Ｒ３（Ω、１０Ｖ印加時）とした。
ローラ抵抗値Ｒ３（Ω、１０Ｖ印加時）は、前述したように、常用対数値ｌｏｇＲ３が７．０以下であったものを合格（○）、７．０を超えたものを不合格（×）とした。
Ｒ３＝ｒ×Ｅ／Ｖ (６ａ)
によって求めた値でもって、内層２のみの状態でのローラ抵抗値Ｒ３（Ω、１０Ｖ印加時）とした。
ローラ抵抗値Ｒ３（Ω、１０Ｖ印加時）は、前述したように、常用対数値ｌｏｇＲ３が７．０以下であったものを合格（○）、７．０を超えたものを不合格（×）とした。
【0151】
《実機試験》
製造した現像ローラ１を、レーザープリンタ〔ブラザー工業(株)製のＨＬ－２２４０Ｄ〕に組み込み、下記の各試験を実施して形成画像の画質を評価した。
なお各試験は、いずれも温度２３．５℃、相対湿度５５％の環境下で実施した。
〈黒ベタ濃度の測定〉
普通紙に１％濃度の画像を３０枚連続して画像形成した直後に、３ｃｍ角の黒ベタ画像を１枚画像形成した。
製造した現像ローラ１を、レーザープリンタ〔ブラザー工業(株)製のＨＬ－２２４０Ｄ〕に組み込み、下記の各試験を実施して形成画像の画質を評価した。
なお各試験は、いずれも温度２３．５℃、相対湿度５５％の環境下で実施した。
〈黒ベタ濃度の測定〉
普通紙に１％濃度の画像を３０枚連続して画像形成した直後に、３ｃｍ角の黒ベタ画像を１枚画像形成した。
【0152】
そして、形成した黒ベタ画像上の任意の５点で、ビデオジェット・エックスライト(株)製の反射濃度計を用いて画像濃度を測定し、その平均値を求めて黒ベタ濃度とした。黒ベタ濃度は１．３０以上を合格（○）、１．３０未満を不合格（×）とした。
〈２ｄｏｔ濃度の測定〉
普通紙に１％濃度の画像を３０枚連続して画像形成した直後に、格子長約８０μｍの正方格子上に円が並んだ孤立２ｄｏｔ画像を１枚画像形成した。
〈２ｄｏｔ濃度の測定〉
普通紙に１％濃度の画像を３０枚連続して画像形成した直後に、格子長約８０μｍの正方格子上に円が並んだ孤立２ｄｏｔ画像を１枚画像形成した。
【0153】
そして、形成した孤立２ｄｏｔ画像上の任意の５点で、同じ反射濃度計を用いて画像濃度を測定し、その平均値を求めて２ｄｏｔ濃度とした。
２ｄｏｔ濃度は０．０２以上を合格（○）、０．０２未満を不合格（×）とした。
〈濃度ムラの評価〉
普通紙に１％濃度の画像を３０枚連続して画像形成した直後に、３ｃｍ幅のハーフトーン部と、当該ハーフトーン部の、用紙の通紙方向と直交する横方向に５ｍｍあけて隣接させて、３ｃｍ角の黒ベタ部を有する画像を１枚画像形成した。
２ｄｏｔ濃度は０．０２以上を合格（○）、０．０２未満を不合格（×）とした。
〈濃度ムラの評価〉
普通紙に１％濃度の画像を３０枚連続して画像形成した直後に、３ｃｍ幅のハーフトーン部と、当該ハーフトーン部の、用紙の通紙方向と直交する横方向に５ｍｍあけて隣接させて、３ｃｍ角の黒ベタ部を有する画像を１枚画像形成した。
【0154】
そして、形成した画像のハーフトーン部を観察して、ムラが見られなかったものを良好（○）、ムラが見られたものを不良（×）と評価した。
〈ゴーストの評価〉
普通紙に１％濃度の画像を３０００枚連続して画像形成した直後に、用紙の通紙方向と直交する横方向に６ｃｍあけて、当該横方向である横３ｃｍ、通紙方向である縦６ｃｍの黒ベタ部と、当該黒ベタ部の、用紙の通紙方向の直後に接するように、用紙の横方向の略全幅に亘るハーフトーン部を有する画像を１枚画像形成した。
〈ゴーストの評価〉
普通紙に１％濃度の画像を３０００枚連続して画像形成した直後に、用紙の通紙方向と直交する横方向に６ｃｍあけて、当該横方向である横３ｃｍ、通紙方向である縦６ｃｍの黒ベタ部と、当該黒ベタ部の、用紙の通紙方向の直後に接するように、用紙の横方向の略全幅に亘るハーフトーン部を有する画像を１枚画像形成した。
【0155】
次いで、形成した画像のハーフトーン部のうち、黒ベタ部の直後の位置と、黒ベタ部を形成していない位置で、それぞれ同じ反射濃度計を用いて画像濃度を測定して、両位置間での濃度差を求めた。
そして濃度差が０．３以下をゴーストなし（○）、０．３以上をゴーストあり（×）とした。
そして濃度差が０．３以下をゴーストなし（○）、０．３以上をゴーストあり（×）とした。
【0156】
以上の結果を表７～表９に示す。
【0157】
【表7】
【0158】
【表8】
【0159】
【表9】
【0160】
表７～９の結果より、多孔質の内層２、非多孔質の中間層４、および非多孔質の外層６の３層構造で、なおかつ外周面１０の表面抵抗値Ｒ１が９．０以下、ローラ本体７の全体でのローラ抵抗値Ｒ２が６．４～８．５、内層２のみの状態でのローラ抵抗値Ｒ３が７．０以下であるとき、現状よりも画質に優れた画像を形成できる現像ローラが得られることが判った。
【符号の説明】
【0161】
１ 現像ローラ
２ 内層
３ 外周面
４ 中間層
５ 外周面
６ 外層
７ ローラ本体
８ 通孔
９ シャフト
１０ 外周面
１１ 酸化膜
１２ アルミニウムドラム
１３ 外周面
１４ 直流電源
１５ 抵抗
１６ 計測回路
Ｆ 荷重
Ｖ 検出電圧
ｒ 抵抗値
２ 内層
３ 外周面
４ 中間層
５ 外周面
６ 外層
７ ローラ本体
８ 通孔
９ シャフト
１０ 外周面
１１ 酸化膜
１２ アルミニウムドラム
１３ 外周面
１４ 直流電源
１５ 抵抗
１６ 計測回路
Ｆ 荷重
Ｖ 検出電圧
ｒ 抵抗値
【図1】
【図2】