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特許7479997一置換又は多置換の油水両親媒性ヒポクレリン誘導体及びその使用
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-04-26
(45)【発行日】2024-05-09
(54)【発明の名称】一置換又は多置換の油水両親媒性ヒポクレリン誘導体及びその使用
(51)【国際特許分類】
C07C 251/18 20060101AFI20240430BHJP
A61K 31/136 20060101ALI20240430BHJP
A61K 31/14 20060101ALI20240430BHJP
A61K 31/16 20060101ALI20240430BHJP
A61K 31/25 20060101ALI20240430BHJP
A61K 31/255 20060101ALI20240430BHJP
A61K 31/4402 20060101ALI20240430BHJP
A61K 31/4425 20060101ALI20240430BHJP
A61K 31/4468 20060101ALI20240430BHJP
A61K 31/498 20060101ALI20240430BHJP
A61K 31/4995 20060101ALI20240430BHJP
A61K 31/5415 20060101ALI20240430BHJP
A61K 35/74 20150101ALI20240430BHJP
A61K 41/00 20200101ALI20240430BHJP
A61P 9/00 20060101ALI20240430BHJP
A61P 17/00 20060101ALI20240430BHJP
A61P 17/06 20060101ALI20240430BHJP
A61P 19/02 20060101ALI20240430BHJP
A61P 27/02 20060101ALI20240430BHJP
A61P 29/00 20060101ALI20240430BHJP
A61P 35/00 20060101ALI20240430BHJP
C07C 211/63 20060101ALI20240430BHJP
C07C 225/22 20060101ALI20240430BHJP
C07C 229/08 20060101ALI20240430BHJP
C07C 237/08 20060101ALI20240430BHJP
C07C 239/14 20060101ALI20240430BHJP
C07C 239/16 20060101ALI20240430BHJP
C07C 243/22 20060101ALI20240430BHJP
C07C 251/86 20060101ALI20240430BHJP
C07C 309/69 20060101ALI20240430BHJP
C07C 321/14 20060101ALI20240430BHJP
C07D 211/58 20060101ALI20240430BHJP
C07D 213/36 20060101ALI20240430BHJP
C07D 241/38 20060101ALI20240430BHJP
C07D 279/14 20060101ALI20240430BHJP
C07D 487/08 20060101ALI20240430BHJP
C07D 513/04 20060101ALI20240430BHJP
C07D 513/16 20060101ALI20240430BHJP
【ＦＩ】
C07C251/18 CSP
A61K31/136
A61K31/14
A61K31/16
A61K31/25
A61K31/255
A61K31/4402
A61K31/4425
A61K31/4468
A61K31/498
A61K31/4995
A61K31/5415
A61K35/74 D
A61K41/00
A61P9/00
A61P17/00
A61P17/06
A61P19/02
A61P27/02
A61P29/00 101
A61P35/00
C07C211/63
C07C225/22
C07C229/08
C07C237/08
C07C239/14
C07C239/16
C07C243/22
C07C251/86
C07C309/69
C07C321/14
C07D211/58
C07D213/36
C07D241/38
C07D279/14
C07D487/08
C07D513/04
C07D513/16
【請求項の数】
5
(21)【出願番号】P 2020143916
(22)【出願日】2020-08-27
(62)【分割の表示】P 2018521084の分割
【原出願日】2016-10-21
(65)【公開番号】P2020203910
(43)【公開日】2020-12-24
【審査請求日】2020-08-28
【審判番号】
【審判請求日】2022-10-14
(31)【優先権主張番号】201510689088.7
(32)【優先日】2015-10-21
(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN
(31)【優先権主張番号】201610880613.8
(32)【優先日】2016-10-09
(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN
(31)【優先権主張番号】201610894129.0
(32)【優先日】2016-10-13
(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN
(31)【優先権主張番号】201610894400.0
(32)【優先日】2016-10-13
(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN
(73)【特許権者】
【識別番号】516304643
【氏名又は名称】テクニカル インスティテュート オブ フィジックス アンド ケミストリー オブ ザ チャイニーズ アカデミー オブ サイエンスィズ
【氏名又は名称原語表記】Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ ｏｆ Ｐｈｙｓｉｃｓ ａｎｄ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ ｔｈｅ Ｃｈｉｎｅｓｅ Ａｃａｄｅｍｙ ｏｆ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ
【住所又は居所原語表記】２９ Ｚｈｏｎｇｇｕａｎｃｕｎ Ｅａｓｔ Ｒｏａｄ， Ｈａｉｄｉａｎ Ｄｉｓｔｒｉｃｔ， Ｂｅｉｊｉｎｇ，１００１９０ Ｃｈｉｎａ
(74)【代理人】
【識別番号】110001841
【氏名又は名称】弁理士法人ＡＴＥＮ
(72)【発明者】
【氏名】ワン ポンフェイ
(72)【発明者】
【氏名】ウー ジャシォン
(72)【発明者】
【氏名】リィウ ウェーミン
(72)【発明者】
【氏名】グー イン
(72)【発明者】
【氏名】グェァ ジェチャオ
(72)【発明者】
【氏名】ヂォン シゥリー
(72)【発明者】
【氏名】ヂャン ホンイェン
【合議体】
【審判長】木村 敏康
【審判官】冨永 保
【審判官】赤澤 高之
(56)【参考文献】
【文献】特表２００５－５１８３２９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特表２００９－５０５９６８（ＪＰ，Ａ）
【文献】中国特許出願公開第１０３５７０５６７（ＣＮ，Ａ）
【文献】Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．Ｂ、（２００８）、Ｖｏｌ．１１２、Ｎｏ．３２、ｐｐ．９９５９－９９６５
【文献】Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．、（２０１２）、５５、ｐｐ．１９１０－１９１９
【文献】Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｏｔｏｂｉｏｌｏｇｙ、（２０１０）、８６、ｐｐ．６６７－６７２
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
C07C,A61K
ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
化合物の構造式が以下のとおりであることを特徴とする一置換又は多置換の油水両親媒性ヒポクレリン誘導体。【化1】
【請求項2】
化合物の構造式が以下のとおりであることを特徴とする一置換又は多置換の油水両親媒性ヒポクレリン誘導体。【化2】
【請求項3】
前記ヒポクレリン誘導体の構造はさらに、エノール互変異性体を含むことを特徴とする請求項１に記載の一置換又は多置換の油水両親媒性ヒポクレリン誘導体。
【請求項4】
前記ヒポクレリン誘導体の構造はさらに、エノール互変異性体を含むことを特徴とする請求項２に記載の一置換又は多置換の油水両親媒性ヒポクレリン誘導体。
【請求項5】
請求項１－４のいずれか１項に記載の一置換又は多置換の油水両親媒性ヒポクレリン誘導体の光線力学的治療用光増感薬の製造における使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は光線力学的治療用の光増感薬の技術分野に関する。より具体的には、一置換又は多置換の油水両親媒性ヒポクレリン誘導体及びその使用に関する。
【背景技術】
【0002】
光線力学療法（Ｐｈｏｔｏｄｙｎａｍｉｃ Ｔｈｅｒａｐｙ、ＰＤＴと略称する）は、近年急速に発展している新規の血管病変の選択的治療法であり、様々な腫瘍の治療にも大きな効果がある。光線力学療法は、手術、放射線療法、化学療法に次ぐ四番目の特殊な腫瘍治療法となっており、効率と安全性が高く、光照射下で活性酸素種を連続的に生成して、病変細胞や組織の損傷または壊死を引き起こすことができ、単一の標的分子しか殺滅できない従来の薬物よりもはるかに効率的であるという利点がある。光線力学療法は、薬物標的化と光照射による局在化との二重選択性を有し、正常細胞への損傷を低減させるため、治療の安全性を確保する。ＰＤＴは、癌の臨床治療において重要な成果を達成しただけでなく、様々な血管病変、尖圭コンジローマ、乾癬、紅斑性プラーク、慢性関節リウマチ、黄斑変性症などの非腫瘍疾患の治療にも使用されている。加えて、光線力学療法はレーザ美容などにも大きな効果がある。
【0003】
光増感剤は、光線力学療法の効果に影響を与える重要な要素である。現在知られている光増感剤の中で、臨床用途に使用される第１世代の光増感剤はポルフィリン系光増感剤であり、第２世代はフタロシアニン系光増感剤である。これらの光増感剤では、ポルフィリン系光増感剤とフタロシアニン系光増感剤の最も顕著な問題は、幾何異性体の分離が困難であり、単一成分の純粋な化合物を得ることが困難であることにあり、比較的複雑な成分のため、後の段階での薬物代謝および毒物学的分析の評価にも不利である。クロリン類、クロロフィル類、ペリレンキノノイド類などの他の光増感剤はまだ開発段階である。現在、中国では、臨床的に必要とされる光増感剤はまだ非常に乏しく、空白を埋めるために新しい高性能光増感剤が期待されている。
【0004】
前世紀の八十年代から相次いで発見されてきたセルコスポリン、ヒペリシン、エルシノクロムおよびヒポクレリンなどのペリレンキノノイド類光増感剤は、抗癌活性を有することが証明されている。その中で、ヒポクレリンは、中国の海抜４０００メートルの雲南高原に成長している矢竹の寄生菌－Ｈｙｐｏｃｒｅｌｌａ ｂａｍｂｕｓａｅから抽出された天然光増感剤である。天然のヒポクレリンは主にヒポクレリンＡ（Ｈｙｐｏｃｒｅｌｌｉｎ Ａ、ＨＡと略称する）とヒポクレリンＢ（Ｈｙｐｏｃｒｅｌｌｉｎ Ｂ、ＨＢと略称する）がある。近年、ヒポクレリンについて詳細に研究したところ、ヒポクレリンは特性に優れた光増感薬となる基本的な条件を備え、たとえば可視光領域に強吸収を持つとともにモル吸光係数が大きく、光増感条件下で一重項酸素を効率よく発生でき、植物薬であり、光毒性が良好で、暗毒性が低く、体内代謝が速く、明確な化学構造を有するため、応用の将来性が期待できる（徐尚潔、張暁星、陳申ら、新規な光力学薬－ヒポクレリン誘導体の研究及び発展、科学通報，２００３，４８，１００５－１０１５）。しかしながら、ヒポクレリンは１ｍｍ未満の組織しか透過できない４５０～５５０ｎｍの範囲に主な吸収波長があり、光線力学的治療ウィンドウ（６００～９００ｎｍ）では光吸収が弱い。過去十数年間、ヒポクレリンについての化学修飾が大量になされており、その中でも、アミノ修飾ヒポクレリンは吸収波長が明らかに６００～７００ｎｍにレッドシフトし、モル吸光係数が大幅に増大する（Ｐａｕｌ Ｂ．， Ｂａｂｕ Ｍ．Ｓ．， Ｓａｎｔｈｏｓｈｋｕｍａｒ Ｔ．Ｒ．， ｅｔ ａｌ． Ｂｉｏｐｈｙｓｉｃａｌ ｅｖａｌｕａｔｉｏｎ ｏｆ ｔｗｏ ｒｅｄ－ｓｈｉｆｔｅｄ ｈｙｐｏｃｒｅｌｌｉｎ Ｂ ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ ａｓ ｎｏｖｅｌ ＰＤＴ ａｇｅｎｔｓ， Ｊ． Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ． Ｐｈｏｔｏｂｉｏｌ． Ｂ： ２００９， ９４， ３８－４４）。アミノ基修飾ヒポクレリンは、良好な光増感特性を示したが、そのような光増感剤の水溶性および生体適合性には改善する余裕がある。微小血管疾患の標的は、光線力学的作用に敏感な病変部の新生した高密度微小血管ネットワークであり、光線力学療法を施す際、通常、静脈注射により血液循環系を介して患部組織に送達される。しかし、ヒポクレリンは、水での溶解度が低い親油性有機小分子であるため、直接静脈注射によっては血液中で自発的に凝集を起こし血管を閉塞させる。スルホン酸置換された誘導体（Ｌｉｕ Ｘ， Ｘｉｅ Ｊ， Ｚｈａｎｇ Ｌ Ｙ， ｅｔ ａｌ． Ｏｐｔｉｍｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ ｈｙｐｏｃｒｅｌｌｉｎ Ｂ ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅ ａｍｐｈｉｐｈｉｌｉｃｉｔｙ ａｎｄ ｂｉｏｌｏｇｉｃａｌ ａｃｔｉｖｉｔｙ． Ｃｈｉｎｅｓｅ Ｓｃｉ Ｂｕｌｌ， ２００９， ５４： ２０４５－２０５０）は水溶性の問題を解決できるが、負に帯電して細胞や組織中の大量の負電荷と互いに反発するため、細胞の取り込み率が低く、光線力学的活性を大幅に低減させる。したがって、設計された光増感薬分子には、前記光吸収条件を満たすだけでなく、最適化された油水両親媒性－静脈注射に必要な濃度を満たすとともに、光線力学療法の効果向上のための高細胞取り込み率を確保することが求められる。
【0005】
このため、光吸収条件を満たすとともに、最適化された一置換または多置換の油水両親媒性ヒポクレリン誘導体及びその製造方法と使用を提供する必要がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明の第一目的は、一置換又は多置換の油水両親媒性ヒポクレリン誘導体を提供することであり、本発明の第二目的は、一置換又は多置換の油水両親媒性ヒポクレリン誘導体の使用を提供することである。
【0007】
本発明は、従来のヒポクレリン誘導体が吸光条件と最適化された油水両親媒性を両立できないという問題を解決するために、本発明の技術案を提案する。出願人は、ポリエチレングリコール又は長鎖の第四級アンモニウム塩等の基を導入し、或いは、ポリエチレングリコールと長鎖の第四級アンモニウム塩等の基を同時に導入することでヒポクレリンを修飾することにより、生体適合性を高めて、ヒポクレリン母体の親水性及び疎水性を調整することを提案する。該誘導体は、異なる油水両親媒性を有し、ｐＨ変化による影響を受けにくい。出願人はさらに、ヒポクレリンの２、３又は１５位で置換修飾を行って、最大吸収を６００ｎｍ以上にレッドシフトさせると同時に、大きなモル吸光係数を付与することで、光線力学的治療ウィンドウでの吸光能力が低いという問題を解決することを初めて提案する。光線力学的実験を行った結果、このような両親媒性ヒポクレリン誘導体は、さまざまな臨床薬の要件を満たし、各種薬物投与方式に求められる薬物の親水性と親油性の矛盾を解決する。本発明では、該技術案が初めて開示される。
【課題を解決するための手段】
【0008】
上記第一目的を達成させるために、本発明は下記技術案を採用する。
【0009】
一置換又は多置換の油水両親媒性ヒポクレリン誘導体であって、構造一般式が式（Ｉ）に示される。
（式（Ｉ）中、Ｒ1は－Ｈ又は－ＣＯＣＨ3である。
式（Ｉ）中、置換基Ｒの構造一般式は式（ＩＩＩ）に示され、
式（ＩＩＩ）中、０≦ｍ≦８、０≦ｎ≦５０、０≦ｐ≦８、０≦ｑ≦８、０≦ｒ≦１であり、前記ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒはゼロ又は正整数であり、Ｙは連結基、Ｚは末端基、（ＯＣＨ2ＣＨ2）nはポリエチレングリコール単位である。
式（ＩＩＩ）中、連結基Ｙは－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－若しくは－Ｏ－ＣＯ－（エステル結合）、－ＣＯＮＨ－（アミド結合）、アリーレン基、複素環式アリーレン基、炭素数３－８の炭化水素基又は炭素数３－８の環状炭化水素基である。
前記アリーレン基は置換又は非置換のアリーレン基であり、複素環式アリーレン基は置換又は非置換の複素環式アリーレン基であり、炭素数３－８の炭化水素基は置換又は非置換のオレフィンを含み、炭素数３－８の環状炭化水素基は置換又は非置換のシクロアルカンを含み、前記置換基は、炭素数１－６のアルキル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基又は－ＣＯＯＲ15（Ｒ15は炭素数１－６のアルキル基）である。
式（ＩＩＩ）中、末端基Ｚが水素、炭素数１－８のアルキル基、炭素数１－８のアルコキシ基、フェニル基、複素環、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基、スルホ基又は、Ｚが、窒素原子が四級化して正電荷を帯びた置換ピリジル基であって、薬学的に許容可能なアニオンによってピリジニウム塩を形成する。
式（ＩＩＩ）中、前記末端基Ｚがピリジニウム塩である場合、ピリジニウム塩はピリジンと鎖長が異なる炭素数１－８のハロゲン化炭化水素とを四級化してなり、ピリジニウム塩におけるアニオンが薬学的に許容可能なアニオンである。
式（ＩＩＩ）中、第四級アンモニウム塩の２つの置換基Ｒ12、Ｒ14はそれぞれ独立に又は同時に、炭素数１－１２のアルキル基であり、Ｒ13は炭素数１－１２のアルキレン基であり、第四級アンモニウム塩におけるアニオンＸ-が薬学的に許容可能なアニオンである。）
【化1-1】
式（Ｉ）中、置換基Ｒの構造一般式は式（ＩＩＩ）に示され、
【化2】
式（ＩＩＩ）中、連結基Ｙは－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－若しくは－Ｏ－ＣＯ－（エステル結合）、－ＣＯＮＨ－（アミド結合）、アリーレン基、複素環式アリーレン基、炭素数３－８の炭化水素基又は炭素数３－８の環状炭化水素基である。
前記アリーレン基は置換又は非置換のアリーレン基であり、複素環式アリーレン基は置換又は非置換の複素環式アリーレン基であり、炭素数３－８の炭化水素基は置換又は非置換のオレフィンを含み、炭素数３－８の環状炭化水素基は置換又は非置換のシクロアルカンを含み、前記置換基は、炭素数１－６のアルキル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基又は－ＣＯＯＲ15（Ｒ15は炭素数１－６のアルキル基）である。
式（ＩＩＩ）中、末端基Ｚが水素、炭素数１－８のアルキル基、炭素数１－８のアルコキシ基、フェニル基、複素環、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基、スルホ基又は、Ｚが、窒素原子が四級化して正電荷を帯びた置換ピリジル基であって、薬学的に許容可能なアニオンによってピリジニウム塩を形成する。
式（ＩＩＩ）中、前記末端基Ｚがピリジニウム塩である場合、ピリジニウム塩はピリジンと鎖長が異なる炭素数１－８のハロゲン化炭化水素とを四級化してなり、ピリジニウム塩におけるアニオンが薬学的に許容可能なアニオンである。
式（ＩＩＩ）中、第四級アンモニウム塩の２つの置換基Ｒ12、Ｒ14はそれぞれ独立に又は同時に、炭素数１－１２のアルキル基であり、Ｒ13は炭素数１－１２のアルキレン基であり、第四級アンモニウム塩におけるアニオンＸ-が薬学的に許容可能なアニオンである。）
【0010】
また、一置換又は多置換の油水両親媒性ヒポクレリン誘導体であって、構造一般式が式（ＩＩ）に示される。
（式（ＩＩ）中、Ｒ1は－Ｈ又は－ＣＯＣＨ3であり、
式（ＩＩ）中、Ｒ1が－ＣＯＣＨ3のとき、Ｔ2はＲ8とＲ9が連結されないことを示し、
式（ＩＩ）中、Ｒ1が－Ｈのとき、Ｔ2はＲ8とＲ9が連結され又は連結されないことを示し、Ｒ8とＲ9が連結される場合、それらは置換又は非置換の五員環、六員環又は七員環を構成し、Ｔ2は炭素原子を１つ、２つ又は３つ含む置換又は非置換の連結基である。
式（ＩＩ）中、前記ヒポクレリノピペラジン環上のＲ6～Ｒ11のいずれも置換基Ｒに属し、前記置換基Ｒの構造一般式は式（ＩＩＩ）に示される。
式（ＩＩＩ）中、０≦ｍ≦８、０≦ｎ≦５０、０≦ｐ≦８、０≦ｑ≦８、０≦ｒ≦１であり、前記ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒはゼロ又は正整数であり、Ｙは連結基、Ｚは末端基、（ＯＣＨ2ＣＨ2）nはポリエチレングリコール単位である。
式（ＩＩＩ）中、連結基Ｙは－ＮＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－若しくは－Ｏ－ＣＯ－（エステル結合）、－ＣＯＮＨ－（アミド結合）、アリーレン基、複素環式アリーレン基、炭素数３－８の炭化水素基又は炭素数３－８の環状炭化水素基である。
前記アリーレン基は置換又は非置換のアリーレン基であり、複素環式アリーレン基は置換又は非置換の複素環式アリーレン基であり、炭素数３－８の炭化水素基は置換又は非置換のオレフィンを含み、炭素数３－８の環状炭化水素基は置換又は非置換のシクロアルカンを含み、前記置換基は、炭素数１－６のアルキル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基又は－ＣＯＯＲ15（Ｒ15は炭素数１－６のアルキル基）である。
式（ＩＩＩ）中、末端基Ｚが水素、炭素数１－８のアルキル基、炭素数１－８のアルコキシ基、フェニル基、複素環、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基、スルホ基である、又は、Ｚが、窒素原子が四級化して正電荷を帯びた置換ピリジル基であって、薬学的に許容可能なアニオンによってピリジニウム塩を形成する。 式（ＩＩＩ）中、前記末端基Ｚがピリジニウム塩である場合、ピリジニウム塩はピリジンと鎖長が異なる炭素数１－８のハロゲン化炭化水素とを四級化してなり、ピリジニウム塩におけるアニオンが薬学的に許容可能なアニオンである。
式（ＩＩＩ）中、第四級アンモニウム塩の２つの置換基Ｒ12、Ｒ14はそれぞれ独立に又は同時に、炭素数１－１２のアルキル基であり、Ｒ13は炭素数１－１２のアルキレン基であり、第四級アンモニウム塩におけるアニオンＸ-が薬学的に許容可能なアニオンである。
Ｒ1が－ＣＯＣＨ3である場合、式（ＩＩ）に示されたピペラジン環上のａ、ｂの２つの炭素原子のうち、少なくとも１つは第三級炭素原子である。
式（ＩＩ）中、Ｔ2が非環状で連結されない場合、構造一般式が式（Ｖ）に示され、
式（Ｖ）中、前記ヒポクレリノピペラジン環上のＲ8～Ｒ9のいずれも置換基Ｒに属し、前記置換基Ｒの構造一般式は式（ＩＩＩ）に示される。
式（ＩＩ）中、Ｔ2が環状で連結される場合、構造一般式が式（ＶＩＩ）に示され、
式（ＶＩＩ）中、環Ａは飽和又は不飽和の五員、六員、七員複素環又は非複素環であり、環上の置換基はそれぞれ独立に又は同時に式（ＩＩＩ）中の置換基Ｒである。）
【化1-2】
式（ＩＩ）中、Ｒ1が－ＣＯＣＨ3のとき、Ｔ2はＲ8とＲ9が連結されないことを示し、
式（ＩＩ）中、Ｒ1が－Ｈのとき、Ｔ2はＲ8とＲ9が連結され又は連結されないことを示し、Ｒ8とＲ9が連結される場合、それらは置換又は非置換の五員環、六員環又は七員環を構成し、Ｔ2は炭素原子を１つ、２つ又は３つ含む置換又は非置換の連結基である。
式（ＩＩ）中、前記ヒポクレリノピペラジン環上のＲ6～Ｒ11のいずれも置換基Ｒに属し、前記置換基Ｒの構造一般式は式（ＩＩＩ）に示される。
【化2】
式（ＩＩＩ）中、連結基Ｙは－ＮＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－若しくは－Ｏ－ＣＯ－（エステル結合）、－ＣＯＮＨ－（アミド結合）、アリーレン基、複素環式アリーレン基、炭素数３－８の炭化水素基又は炭素数３－８の環状炭化水素基である。
前記アリーレン基は置換又は非置換のアリーレン基であり、複素環式アリーレン基は置換又は非置換の複素環式アリーレン基であり、炭素数３－８の炭化水素基は置換又は非置換のオレフィンを含み、炭素数３－８の環状炭化水素基は置換又は非置換のシクロアルカンを含み、前記置換基は、炭素数１－６のアルキル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基又は－ＣＯＯＲ15（Ｒ15は炭素数１－６のアルキル基）である。
式（ＩＩＩ）中、末端基Ｚが水素、炭素数１－８のアルキル基、炭素数１－８のアルコキシ基、フェニル基、複素環、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基、スルホ基である、又は、Ｚが、窒素原子が四級化して正電荷を帯びた置換ピリジル基であって、薬学的に許容可能なアニオンによってピリジニウム塩を形成する。 式（ＩＩＩ）中、前記末端基Ｚがピリジニウム塩である場合、ピリジニウム塩はピリジンと鎖長が異なる炭素数１－８のハロゲン化炭化水素とを四級化してなり、ピリジニウム塩におけるアニオンが薬学的に許容可能なアニオンである。
式（ＩＩＩ）中、第四級アンモニウム塩の２つの置換基Ｒ12、Ｒ14はそれぞれ独立に又は同時に、炭素数１－１２のアルキル基であり、Ｒ13は炭素数１－１２のアルキレン基であり、第四級アンモニウム塩におけるアニオンＸ-が薬学的に許容可能なアニオンである。
Ｒ1が－ＣＯＣＨ3である場合、式（ＩＩ）に示されたピペラジン環上のａ、ｂの２つの炭素原子のうち、少なくとも１つは第三級炭素原子である。
式（ＩＩ）中、Ｔ2が非環状で連結されない場合、構造一般式が式（Ｖ）に示され、
【化5】
式（ＩＩ）中、Ｔ2が環状で連結される場合、構造一般式が式（ＶＩＩ）に示され、
【化7-2】
【0011】
好ましくは、式（Ｉ）の前記ヒポクレリン誘導体の構造一般式はさらに、式（Ｉ’）に示されるエノール互変異性体を含む。
【化11-1】
【0012】
好ましくは、式（ＩＩ）の前記ヒポクレリン誘導体の構造一般式はさらに、式（ＩＩ’）に示されるエノール互変異性体を含む。
【化11-2】
【0013】
好ましくは、式（ＩＩＩ）中、前記置換基Ｒのうち、連結基Ｙは、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－Ｏ－ＣＯ－、ＣＯＮＨ－、－Ｃ6Ｈ4－（フェニル基）、－Ｃ6Ｈ3（ＣＨ3）－、－Ｃ6Ｈ3（Ｃ2Ｈ5）－、－Ｃ6Ｈ3（ＯＨ）－、－Ｃ5Ｈ3Ｎ－（ピリジル基）、－Ｃ3Ｈ4－（シクロプロピル基）、－Ｃ4Ｈ6－（シクロブチル基）、－Ｃ5Ｈ8－（シクロペンチル基）、－Ｃ5Ｈ7（ＣＨ3）－（メチルシクロペンチル基）、－Ｃ5Ｈ7（ＯＨ）－（ヒドロキシシクロペンチル基）、－Ｃ6Ｈ10－（シクロヘキシル基）、－Ｃ6Ｈ9（ＣＨ3）－（メチルシクロヘキシル基）、－Ｃ6Ｈ9（Ｃ2Ｈ5）－（エチルシクロヘキシル基）、－Ｃ6Ｈ9（Ｃ3Ｈ7）－（プロピルシクロヘキシル基）、－Ｃ6Ｈ9（Ｃ4Ｈ9）－（ブチルシクロヘキシル基）、－Ｃ6Ｈ8（ＣＨ3）2－（ジメチルシクロヘキシル基）、－Ｃ6Ｈ9（ＯＨ）－（ヒドロキシシクロヘキシル基）又は－Ｃ7Ｈ12－（シクロヘプチル基）である。
【0014】
好ましくは、式（ＩＩＩ）中、前記置換基Ｒ中の末端基Ｚは、－Ｈ、－ＣＨ3、－Ｃ2Ｈ5、－Ｃ3Ｈ7、－Ｃ4Ｈ9、－Ｃ5Ｈ11、－Ｃ6Ｈ13、－ＯＣＨ3、－ＯＣ2Ｈ5、－ＯＣ3Ｈ7、－ＯＣ4Ｈ9、－ＯＣ5Ｈ11、－ＯＣ6Ｈ13、
（フェニル基）、
（４－ピリジル基）、－ＯＨ、－ＳＨ、－ＣＯＯＨ、－ＳＯ3Ｈ、
、前記置換基Ｒ中の第四級アンモニウム塩は、－Ｎ+（ＣＨ3）2（ＣＨ2）－、－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ2Ｈ4）－、－Ｎ+（Ｃ3Ｈ7）2（Ｃ3Ｈ6）－、－Ｎ+（Ｃ4Ｈ9）2（Ｃ4Ｈ8）－、－Ｎ+（Ｃ5Ｈ11）2（Ｃ5Ｈ10）－、－Ｎ+（Ｃ6Ｈ13）2（Ｃ6Ｈ12）－、－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ2Ｈ4）-、－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ3Ｈ6）-、－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ4Ｈ8）－、－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ5Ｈ10）－、－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ6Ｈ12）－、－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ7Ｈ14）－、－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ8Ｈ16）－、－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ9Ｈ18）－、－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ10Ｈ20）－、－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ11Ｈ22）-、－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ12Ｈ24）－、－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ3Ｈ6）-、－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ4Ｈ8）-、－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ5Ｈ10）－、－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ6Ｈ12）－、－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ7Ｈ14）－、－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ8Ｈ16）－、又は、末端基としてヒドロキシ基、カルボン酸基、スルホン酸基又はカルボン酸エステルを含有する第四級アンモニウム塩である。
【化12】
【化13】
【化14】
【0015】
好ましくは、前記置換基Ｒは、－Ｈ、－ＣＨ3、－Ｃ2Ｈ5、－Ｃ3Ｈ7、－Ｃ4Ｈ9、－Ｃ5Ｈ11、－Ｃ6Ｈ13、－Ｃ3Ｈ6、－Ｃ5Ｈ9（シクロペンチル基）、－Ｃ6Ｈ11（シクロヘキシル基）、－Ｃ6Ｈ10（ＣＨ3）（メチルシクロヘキシル基）、－Ｃ6Ｈ10（Ｃ2Ｈ5）（エチルシクロヘキシル基）、－Ｃ6Ｈ10（Ｃ3Ｈ7）（プロピルシクロヘキシル基）、－Ｃ6Ｈ10（Ｃ4Ｈ9）（ブチルシクロヘキシル基）、－Ｃ6Ｈ9（ＣＨ3）2（ジメチルシクロヘキシル基）、－Ｃ6Ｈ10（ＯＨ）（ヒドロキシシクロヘキシル基）、－Ｃ7Ｈ12－（シクロヘプチル基）、－Ｃ6Ｈ5、－ＣＨ2Ｃ6Ｈ5、－ＣＨ2ＣＨ2Ｃ6Ｈ5、－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｃ6Ｈ5、－Ｃ5Ｈ4Ｎ、－ＣＨ2Ｃ5Ｈ4Ｎ、－（ＣＨ2）2Ｃ5Ｈ4Ｎ、－（ＣＨ2）3Ｃ5Ｈ4Ｎ、－ＮＨ2、－ＮＨＣ2Ｈ5、－ＮＨＣ6Ｈ5、－ＮＨＣ5Ｈ4Ｎ、－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）3－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）4－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）5－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）6－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）7－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）8－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）9－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）10－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）11－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）12－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）n－ＯＨ［分子量３万未満のポリエチレングリコール］、－ＣＨ2ＣＨ2－ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）3－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）4－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）6－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）n－ＯＨ、［分子量３万未満のポリエチレングリコール］、－（ＣＨ2）3－ＯＨ、－（ＣＨ2）3－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ、－（ＣＨ2）4－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ、－（ＣＨ2）3－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ3、－ＣＨ2ＣＨ2－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＣＨ3、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＣＨ3、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）4－ＯＣＨ3、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）6－ＯＣＨ3、－ＣＨ2ＣＨ2－ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ3、－ＣＨ2ＣＨ2－ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＣＨ3、－ＣＨ2ＣＨ2－ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）3－ＯＣＨ3、－ＣＨ2ＣＨ2－ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）4－ＯＣＨ3、－ＣＨ2ＣＨ2－ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）6－ＯＣＨ3、－ＣＨ2ＣＨ2－ＮＨＣＨ2ＣＨ2－ＮＨ2、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＮＨＣＨ2ＣＨ2）2－ＮＨ2、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＮＨＣＨ2ＣＨ2）3－ＮＨ2、－ＣＨ2ＣＨ2－ＮＨＣＨ2ＣＨ2－Ｎ（ＣＨ3）2、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＮＨＣＨ2ＣＨ2）2－Ｎ（ＣＨ3）2、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＮＨＣＨ2ＣＨ2）3－Ｎ（ＣＨ3）2、－ＣＨ2ＣＨ2－ＳＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｓ－ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｓ－ＣＨ2ＣＨ2－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｓ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｓ－ＣＨ2ＣＨ2－ＳＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＳＣＨ2ＣＨ2）2－ＳＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＳＣＨ2ＣＨ2）3－ＳＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－（ＳＣＨ2ＣＨ2）4－ＳＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－ＳＯ3Ｈ、－（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）2－ＳＯ3Ｈ、－ＣＨ2ＣＯ2Ｈ、－ＣＨ2ＣＨ2ＣＯ2Ｈ、－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＯ2Ｈ、－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＯ2Ｈ、－ＣＨ2－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｃ（＝Ｏ）－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｃ（＝Ｏ）－（ＯＣＨ2ＣＨ2）3－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｃ（＝Ｏ）－（ＯＣＨ2ＣＨ2）4－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｃ（＝Ｏ）－（ＯＣＨ2ＣＨ2）6－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｃ（＝Ｏ）－（ＯＣＨ2ＣＨ2）n－ＯＨ［分子量３万未満のポリエチレングリコール］、－（ＣＨ2）3－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ、－（ＣＨ2）3－Ｃ（＝Ｏ）－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ、－（ＣＨ2）3－Ｃ（＝Ｏ）－（ＯＣＨ2ＣＨ2）4－ＯＨ、－（ＣＨ2）3－Ｃ（＝Ｏ）－（ＯＣＨ2ＣＨ2）6－ＯＨ、－（ＣＨ2）3－Ｃ（＝Ｏ）－（ＯＣＨ2ＣＨ2）n－ＯＨ［分子量３万未満のポリエチレングリコール］、－（ＣＨ2）4－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ、－（ＣＨ2）4－Ｃ（＝Ｏ）－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ、－（ＣＨ2）4－Ｃ（＝Ｏ）－（ＯＣＨ2ＣＨ2）4－ＯＨ、－（ＣＨ2）4－Ｃ（＝Ｏ）－（ＯＣＨ2ＣＨ2）n－ＯＨ［分子量３万未満のポリエチレングリコール］、－（ＣＨ2）5－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ、－（ＣＨ2）5－Ｃ（＝Ｏ）－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ、－（ＣＨ2）5－Ｃ（＝Ｏ）－（ＯＣＨ2ＣＨ2）4－ＯＨ、－（ＣＨ2）5－Ｃ（＝Ｏ）－（ＯＣＨ2ＣＨ2）6－ＯＨ、－（ＣＨ2）5－Ｃ（＝Ｏ）－（ＯＣＨ2ＣＨ2）n－ＯＨ［分子量３万未満のポリエチレングリコール］、－ＣＨ2ＣＨ2－ＳＯ2－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）4－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）6－ＯＨ、－ＣＨ2ＣＨ2－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）n－ＯＨ［分子量３万未満のポリエチレングリコール］、－（ＣＨ2）3－ＳＯ2－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ、－（ＣＨ2）3－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ、－（ＣＨ2）3－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）4－ＯＨ、－（ＣＨ2）3－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）6－ＯＨ、－（ＣＨ2）3－ＳＯ2－（ＯＣ
Ｈ2ＣＨ2）n－ＯＨ［分子量３万未満のポリエチレングリコール］、－（ＣＨ2）4－ＳＯ2－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ、－（ＣＨ2）4－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ、－（ＣＨ2）4－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）4－ＯＨ、－（ＣＨ2）4－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）6－ＯＨ、－（ＣＨ2）4－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）n－ＯＨ［分子量３万未満のポリエチレングリコール］、－（ＣＨ2）5－ＳＯ2－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ、－（ＣＨ2）5－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ、－（ＣＨ2）5－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）4－ＯＨ、－（ＣＨ2）5－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）6－ＯＨ、－（ＣＨ2）5－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）n－ＯＨ［分子量３万未満のポリエチレングリコール］、－ＣＨ2－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ、－（ＣＨ2）2－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ、－（ＣＨ2）2－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）3－ＯＨ、－（ＣＨ2）2－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）6－ＯＨ、－（ＣＨ2）2－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）n－ＯＨ［分子量３万未満のポリエチレングリコール］、－（ＣＨ2）3－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ、－（ＣＨ2）3－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ、－（ＣＨ2）3－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）6－ＯＨ、－（ＣＨ2）3－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）n－ＯＨ［分子量３万未満のポリエチレングリコール］、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）3、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）3、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（Ｃ3Ｈ7）3、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（Ｃ4Ｈ9）3、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（Ｃ5Ｈ11）3、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（Ｃ6Ｈ13）3、－（ＣＨ2）3－Ｎ+（ＣＨ3）3、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（ＣＨ3）3、－（ＣＨ2）5－Ｎ+（ＣＨ3）3、－（ＣＨ2）6－Ｎ+（ＣＨ3）3、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ2Ｈ5）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ3Ｈ7）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ4Ｈ9）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ5Ｈ11）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ6Ｈ13）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ7Ｈ15）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ8Ｈ17）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ9Ｈ19）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ10Ｈ21）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ11Ｈ23）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ12Ｈ25）、－（ＣＨ2）3－Ｎ+（ＣＨ3）3、－（ＣＨ2）3－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ2Ｈ5）、－（ＣＨ2）3－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ3Ｈ7）、－（ＣＨ2）3－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ4Ｈ9）、－（ＣＨ2）3－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ5Ｈ11）、－（ＣＨ2）3－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ6Ｈ13）、－（ＣＨ2）3－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ10Ｈ21）、－（ＣＨ2）3－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ12Ｈ25）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（ＣＨ3）3、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ2Ｈ5）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ4Ｈ9）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ6Ｈ13）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ8Ｈ17）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ10Ｈ21）、－（ＣＨ2）5－Ｎ+（ＣＨ3）3、－（ＣＨ2）5－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ2Ｈ5）、－（ＣＨ2）5－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ3Ｈ7）、－（ＣＨ2）5－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ4Ｈ9）、－（ＣＨ2）5－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ5Ｈ11）、－（ＣＨ2）5－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ6Ｈ13）、－（ＣＨ2）5－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ10Ｈ21）、－（ＣＨ2）5－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ12Ｈ25）、－（ＣＨ2）6－Ｎ+（ＣＨ3）3、－（ＣＨ2）6－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ2Ｈ5）、－（ＣＨ2）6－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ4Ｈ9）、－（ＣＨ2）6－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ6Ｈ13）、－（ＣＨ2）6－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ8Ｈ17）、－（ＣＨ2）6－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ10Ｈ21）、－（ＣＨ2）6－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ12Ｈ25）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）3、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ3Ｈ7）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ4Ｈ9）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ5Ｈ11）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ6Ｈ13）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ8Ｈ17）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ10Ｈ21）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ12Ｈ25）である。
Ｈ2ＣＨ2）n－ＯＨ［分子量３万未満のポリエチレングリコール］、－（ＣＨ2）4－ＳＯ2－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ、－（ＣＨ2）4－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ、－（ＣＨ2）4－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）4－ＯＨ、－（ＣＨ2）4－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）6－ＯＨ、－（ＣＨ2）4－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）n－ＯＨ［分子量３万未満のポリエチレングリコール］、－（ＣＨ2）5－ＳＯ2－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ、－（ＣＨ2）5－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ、－（ＣＨ2）5－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）4－ＯＨ、－（ＣＨ2）5－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）6－ＯＨ、－（ＣＨ2）5－ＳＯ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）n－ＯＨ［分子量３万未満のポリエチレングリコール］、－ＣＨ2－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ、－（ＣＨ2）2－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ、－（ＣＨ2）2－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）3－ＯＨ、－（ＣＨ2）2－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）6－ＯＨ、－（ＣＨ2）2－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）n－ＯＨ［分子量３万未満のポリエチレングリコール］、－（ＣＨ2）3－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ、－（ＣＨ2）3－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ、－（ＣＨ2）3－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）6－ＯＨ、－（ＣＨ2）3－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）n－ＯＨ［分子量３万未満のポリエチレングリコール］、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）3、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）3、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（Ｃ3Ｈ7）3、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（Ｃ4Ｈ9）3、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（Ｃ5Ｈ11）3、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（Ｃ6Ｈ13）3、－（ＣＨ2）3－Ｎ+（ＣＨ3）3、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（ＣＨ3）3、－（ＣＨ2）5－Ｎ+（ＣＨ3）3、－（ＣＨ2）6－Ｎ+（ＣＨ3）3、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ2Ｈ5）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ3Ｈ7）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ4Ｈ9）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ5Ｈ11）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ6Ｈ13）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ7Ｈ15）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ8Ｈ17）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ9Ｈ19）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ10Ｈ21）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ11Ｈ23）、－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ12Ｈ25）、－（ＣＨ2）3－Ｎ+（ＣＨ3）3、－（ＣＨ2）3－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ2Ｈ5）、－（ＣＨ2）3－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ3Ｈ7）、－（ＣＨ2）3－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ4Ｈ9）、－（ＣＨ2）3－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ5Ｈ11）、－（ＣＨ2）3－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ6Ｈ13）、－（ＣＨ2）3－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ10Ｈ21）、－（ＣＨ2）3－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ12Ｈ25）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（ＣＨ3）3、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ2Ｈ5）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ4Ｈ9）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ6Ｈ13）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ8Ｈ17）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ10Ｈ21）、－（ＣＨ2）5－Ｎ+（ＣＨ3）3、－（ＣＨ2）5－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ2Ｈ5）、－（ＣＨ2）5－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ3Ｈ7）、－（ＣＨ2）5－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ4Ｈ9）、－（ＣＨ2）5－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ5Ｈ11）、－（ＣＨ2）5－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ6Ｈ13）、－（ＣＨ2）5－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ10Ｈ21）、－（ＣＨ2）5－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ12Ｈ25）、－（ＣＨ2）6－Ｎ+（ＣＨ3）3、－（ＣＨ2）6－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ2Ｈ5）、－（ＣＨ2）6－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ4Ｈ9）、－（ＣＨ2）6－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ6Ｈ13）、－（ＣＨ2）6－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ8Ｈ17）、－（ＣＨ2）6－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ10Ｈ21）、－（ＣＨ2）6－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ12Ｈ25）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）3、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ3Ｈ7）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ4Ｈ9）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ5Ｈ11）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ6Ｈ13）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ8Ｈ17）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ10Ｈ21）、－（ＣＨ2）4－Ｎ+（Ｃ2Ｈ5）2（Ｃ12Ｈ25）である。
【化11】
【0016】
上記第二目的を達成させるために、本発明は下記技術案を採用する。
【0017】
すなわち、上記一置換又は多置換の油水両親媒性ヒポクレリン誘導体の光線力学的治療用の光増感薬としての使用である。
【0018】
また、本発明は下記技術を採用する。
式（ＩＶ）又は式（Ｖ）の両親媒性ヒポクレリン誘導体の製造方法であって、ヒポクレリン及び対応した置換アミノ誘導体を有機溶剤に混合して、不活性ガス保護下、遮光下反応さて、最終的に分離精製して、油水両親媒性ヒポクレリン誘導体を得るステップを含む。
式（ＩＶ）又は式（Ｖ）の両親媒性ヒポクレリン誘導体の製造方法であって、ヒポクレリン及び対応した置換アミノ誘導体を有機溶剤に混合して、不活性ガス保護下、遮光下反応さて、最終的に分離精製して、油水両親媒性ヒポクレリン誘導体を得るステップを含む。
【0019】
前記ヒポクレリンはヒポクレリンＢ ＨＢ及び脱アセチル化ヒポクレリンＨＣであり、前記置換アミノ誘導体の置換基の構造一般式は式（ＩＩＩ）に示され、前記ヒポクレリンと置換アミノ誘導体の投入モル比は１：５～１：５０、具体的に１：５、１：１０、１：１５、１：２０、１：３０、１：４０又は１：５０であり、反応温度は２０－１００℃、反応時間は６－１８時間である。前記有機溶剤はアセトニトリル、テトラヒドロフラン、ピリジン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノールであり、反応は不活性ガス、たとえばアルゴンガス又は窒素ガスの保護下、且つ遮光下で行われる。
【0020】
好ましくは、前記有機溶剤はアセトニトリル、テトラヒドロフラン又はピリジンのうちの１種、前記ヒポクレリンと置換アミノ誘導体の投入モル比は１：２０、反応温度は６０℃、反応時間は８時間である。好ましくは、前記分離精製過程において、反応有機溶剤を除去して残留物を得て、残留物をジクロロメタンで溶解し、希塩酸水溶液及び水で順に洗浄して、次に、有機層を乾燥させて濾過し、溶剤を除去して粗生成物を得て、粗生成物についてシリカゲルプレートでクロマトグラフィーを行い、長鎖第四級アンモニウム塩を含むヒポクレリン誘導体を得る。
【0021】
好ましくは、シリカゲルプレートクロマトグラフィーに使用されている展開剤はアセトン、酢酸エチル、エタノール及びジエチルアミンの混合液であり、前記混合液において、アセトン、酢酸エチル、エタノール及びジエチルアミンの体積比は２０：１：１：１～２０：１：３：１である。好ましくは、前記分離精製過程において、反応有機溶剤を除去して、青黒色の固体残留物を得てジクロロメタンで溶解し、等体積の希塩酸水溶液（５％）で３回洗浄して、１回水洗し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過し、溶剤を除去して粗生成物を得る。得られた粗生成物をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離し、展開剤として、好ましくは体積比率２０：１：１：１のアセトン：酢酸エチル：エタノール：ジエチルアミンを用いて、アミノ置換されたヒポクレリン誘導体を得る。収率は５～２０％、生成物は青黒色の固体である。
【0022】
式（ＶＩ）又は式（ＶＩＩ）の多置換近赤外ヒポクレリン誘導体の製造方法であって、ヒポクレリンＢ又は脱アセチル化ヒポクレリン及び対応した置換メルカプトエチルアミノ誘導体とを１：５０～１：５００の投入モル比で有機溶剤と水の混合溶剤に混合して、９より大きいｐＨ、室温下で光照射を４５０ｎｍより大きい波長で１０－４０分間行って、生成物を分離精製して、４と５位置換、８と９位置換又は両方ともに置換されたヒポクレリン誘導体を得るステップと、上記ヒポクレリン誘導体及び対応した置換アミノ誘導体とを１：５～５０の投入モル比で有機溶剤に混合し、不活性ガス保護下、２０－１５０℃の反応温度で、遮光下４－２０時間反応させて、生成物を分離精製して、対応した式（ＶＩ）又は式（ＶＩＩ）の多置換のヒポクレリン誘導体を得るステップとを含む。
【0023】
好ましくは、前記有機溶剤は、原料である置換アミノ誘導体、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ピリジン、メタノール又はエタノールのうちの１種又は複数種である。
【0024】
図１は本発明に係る一置換又は多置換の両親媒性ヒポクレリンの構造一般式である。図２～図６は本発明に係る各種のヒポクレリン誘導体の合成方法である。本発明で合成した油水両親媒性ヒポクレリン誘導体は親油性、親水性及び両親媒性ヒポクレリン誘導体を含む。本発明の前記ポリグリコール又は第四級アンモニウム塩等の基を含むヒポクレリン誘導体は、光線力学的治療ウィンドウにおいて非常に広い強吸収を有し、スペクトル６００－６３０ｎｍ程度で最大吸収波長があり、最高で６５０ｎｍに達し、ヒポクレリン母体の最大吸収ピーク（４５０ｎｍ）よりも１５０ｎｍ以上レッドシフトし、モル吸光係数が約１００００－４００００Ｍ-1ｃｍ-1程度であり、極めて高い赤色光吸収能力（図７参照）を示し、水溶性が比較的良く、生理的食塩水において濃度範囲０．１ｕＭ～１ｍＭのストック液を調製できる。活性酸素を発生させる能力について、図８に示されるように、実験から、それぞれ一重項酸素とスーパーオキシドフリーラジカル捕捉剤で測定したところ、このような油水両親媒性ヒポクレリン誘導体は、一重項酸素を始め（図８ａ）、少量のスーパーオキシドフリーラジカル（図８ｂ）も含まれる光増感性活性種を効率よく発生できることが明らかになる。図９に示される共焦点蛍光イメージングの実験結果から分かるように、光線力学的治療薬小分子ＨＢ－１は優れた生体適合性を有し、Ｈｅｌａ細胞のリソソームに入って細胞中で赤色光蛍光イメージングを効果的に行うことが可能である。図１０ａに示されるように、ＨＢ－１とＨｅｌａ細胞を同時にインキュベートし、細胞毒性（暗毒性）研究試験から分かるように、実施例３で合成したポリグリコール含有ヒポクレリン誘導体ＨＢ－１は、ヒポクレリンＢ ＨＢ及び市販光増感性薬物であるヘマトポルフィリンＨｐＤと類似する低細胞毒性であり、Ｈｅｌａ細胞を濃度１０ｕＭの光増感剤ＨＢ－１で半時間インキュベートしたところ、明らかなＨｅｌａ細胞の死亡がなく、それはこのような光増感剤にはほぼ細胞毒性がないことを示している。図１０ｂに示される細胞光毒性の研究実験から分かるように、ＨＢ－１は、赤色光照射下、Ｈｅｌａ細胞に対して非常に強い殺滅能力を示す。１６０ｎＭの濃度範囲では９０％以上のＨｅｌａ細胞を殺滅でき、同一条件においてヒポクレリンＢ又は市販光増感剤であるヘマトポルフィリン誘導体は、２０％程度のＨｅｌａ細胞しか殺滅できず、このことから、このような両親媒性ヒポクレリン誘導体は、ヒポクレリンＢ ＨＢ及び市販光増感剤であるヘマトポルフィリンＨｐＤよりも、光線力学的効果がはるかに高いことが分かった。図１１中、実施例３で合成したポリグリコール含有ヒポクレリン誘導体ＨＢ－２の細胞暗毒性と光毒性についての実験結果も類似している。また、図１２は、実施例４で合成したアミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリンＨＣ－３又はＨＣ－４による腫瘍細胞への光毒性効果図、図１３は実施例４６で合成した長鎖第四級アンモニウム塩で修飾された脱アセチル化ヒポクレリンＨＣ－８７又はＨＣ－８８による腫瘍細胞への光毒性効果図、図１４は実施例５２で合成したピペラジノヒポクレリンＢ ＨＢ－９８による腫瘍細胞への光毒性効果図を示し、以上のすべての光毒性実験の結果から、このような両親媒性ヒポクレリン誘導体は、ヒポクレリンＢ ＨＢ及び市販光増感剤であるヘマトポルフィリンＨｐＤよりも光線力学的効果がはるかに高いことが明らかになる。
【0025】
本発明に係る多置換近赤外ヒポクレリン誘導体は、光線力学的治療ウィンドウ（６００－９００ｎｍ）において非常に広い強吸収を有し、スペクトルにおいて最大吸収波長が７００ｎｍ以上にレッドシフトし、且つ９００ｎｍまで延びることが可能であり、モル吸光係数が約１００００－４００００Ｍ-1ｃｍ-1程度であり、極めて強い近赤外赤色光吸収能力を示し、合成方法は図６に示されるとおりである。実験から明らかなように、それぞれ一重項酸素とスーパーオキシドフリーラジカル捕捉剤で測定したところ、このような多置換近赤外ヒポクレリン誘導体は、一重項酸素を始め、少量のスーパーオキシドフリーラジカル（図１５と図１７参照）を含む光増感性活性種を効率よく発生できる。図１６ａに示されるように、細胞毒性（暗毒性）の研究試験から、実施例６７で合成したヒポクレリン誘導体Ｉ－１は、ヒポクレリンＢ ＨＢ及び市販光増感性薬物であるクロリンＣｅ６と類似する低細胞毒性であり、Ｈｅｌａ細胞を濃度１０ｕＭの光増感剤Ｉ－１で半時間インキュベートしたところ、Ｈｅｌａ細胞の明らかな死亡がないことが明らかになり、このことから、このような光増感剤にはほぼ細胞毒性がないことが分かった。図１６ｂに示される細胞光毒性の研究実験から分かるように、Ｉ－１は、６７１近赤外光照射下、Ｈｅｌａ細胞に対して極めて強い殺滅能力を示す。２００ｎＭ濃度範囲では９０％以上のＨｅｌａ細胞を殺滅でき、同一条件において市販光増感剤であるクロリンＣｅ６は、３０％程度のＨｅｌａ細胞しか殺滅できない。図１８は実施例８６で合成したヒポクレリン誘導体ＩＩ－２の細胞暗毒性と光毒性実験も比較している。なお、使用されるレーザーが８０８ｎｍの近赤外レーザーであることから、この種類の化合物はより深い腫瘍組織を透過する光線力学的治療にも適用できる。
【0026】
ヒポクレリンＢ母体に比べて、本発明における油水両親媒性ヒポクレリン誘導体にポリグリコール、第四級アンモニウム塩等の基を導入することで水溶性が大幅に高まり、脂肪鎖の鎖長を変えることで油水比率を調整して、この種類の誘導体に優れた油水両親媒性、細胞又は組織での良好な生体適合性を付与する。この種類の化合物は、ポリグリコール又は第四級アンモニウム塩の形態として存在するため、ｐＨによる影響を受けにくく、複雑な生体に利用可能であり、第四級アンモニウム塩のような正塩を含むヒポクレリンは、生体内の負電荷種と効率よく結合して、特に腫瘍細胞に対して優れた求核性を有し、第四級アンモニウム塩とヒポクレリン母体の間の距離を調整することで光線力学療法の効果を変えることができ、ポリグリコールを用いるものであるため、ポリグリコール構造の単位数を変えることにより、異なる臨床薬のニーズを満たすように光増感性薬物分子の親水性及び疎水性を調整でき、また、ポリグリコール構造も、無毒で優れた生体適合性を有する米国ＦＤＡにより許容可能な薬物成分である。このため、このような両親媒性ヒポクレリン誘導体は生理的食塩水に直接溶解して製剤を調製することができ、薬物の効果を向上させ、且つ、天然生成物で構成されるため、毒性や副作用を引き起こすことがなく、ヒポクレリン系の癌治療薬や抗癌ウイルス薬を開発するために基礎を築く。
【0027】
ポリグリコール基又は長鎖を有する第四級アンモニウム塩等の基を用いてヒポクレリンを修飾し、分子の親水性及び疎水性を調整することにより、この種類の誘導体に異なる油水両親媒性を持たせるとともに、細胞又は組織との生体適合性を向上させる。このような化合物は、最大吸収波長が６００－７３５ｎｍ範囲、モル吸光係数が１００００－４００００Ｍ-1ｃｍ-1であり、光線力学的治療ウィンドウにおいて極めて強い吸光能力を有する。研究から明らかなように、このような誘導体は、光増感条件下で一重項酸素等の反応性酸素種を発生可能であり、優れた効果を有するものであり、光線力学的治療薬として腫瘍や各種微小血管疾患等の疾患の治療に利用できる。
【0028】
従来技術では、ポリグリコール修飾ヒポクレリン誘導体の製造や抽出についての研究がまだなく、このような化合物は光吸収条件を満足し且つ最適化された油水両親媒性－静脈注射に必要な濃度を満して、高細胞取り込み率を確保することについての関連研究が見付からなかった。
【0029】
なお、本特許において保護を求めるヒポクレリン誘導体はすべて２種のエノール互変異性体（式１と１’、式２と２’）があるため、勿論、２種の異性体の化学構造は保護範囲に属するものである。特に断らない限り、本発明に記載のすべての範囲は限界値及び限界値の間の任意の数値、並びに、限界値又は限界値の間の任意数値からなる任意のサブ範囲を含む。
【発明の効果】
【0030】
本発明は下記有益な効果がある。
【0031】
１）本発明に係るヒポクレリンは、原料が天然生成物から抽出されるため、入手しやすく、低コストで、量産が可能であり、毒性も副作用も小さく、代謝しやすく、該合成及び分離方法はシンプルで、高価な反応原料と複雑な分離手段を必要としない。
２）製造されたポリグリコール、第四級アンモニウム塩等の基で置換されたヒポクレリン誘導体は、ヒポクレリン母体よりも、吸収スペクトルが明らかなにレッドシフトし且つモル吸光係数が大幅に向上し、光増感条件下で活性酸素（一重項酸素を始め、スーパーオキシドフリーラジカル等の反応性酸素種も含む）を発生可能である。ヒポクレリン母体にポリグリコール又は第四級アンモニウム塩等の基の構造を導入することで親水性及び疎水性を調整して、該誘導体に異なる油水両親媒性を付与するとともに、細胞又は組織との生体適合性を高めることができる。このような油水両親媒性ヒポクレリン誘導体は、異なる臨床用途の要件を満たし、異なる投与形式に求められる親水性と親油性の矛盾を解決できる。
３）本発明で製造された多置換の近赤外ヒポクレリン誘導体は、ヒポクレリン母体よりも、吸収スペクトルが明らかに７００ｎｍ以上にレッドシフトし、且つモル吸光係数が大きい。
４）本発明に係る油水両親媒性ヒポクレリン誘導体の光増感剤は、臨床で使用されている第１世代のポルフィリン系光増感剤や第２世代のフタロシアニン系光増感剤に比べて、吸収波長と吸光能が大幅に向上し、重要なことに、ポルフィリン系やフタロシアニン系の光増感剤の分離し難さや複雑な構造の決定し難さの難問を解決し、生成物の分離、精製が容易で、明確な構造を有する。より重要なことには、同じ条件下で、本発明に係る油水両親媒性ヒポクレリン誘導体の光増感剤は、第１世代および第２世代の市販光増感剤よりも腫瘍細胞に対してより高い光線力学的不活性化能力を有する。
２）製造されたポリグリコール、第四級アンモニウム塩等の基で置換されたヒポクレリン誘導体は、ヒポクレリン母体よりも、吸収スペクトルが明らかなにレッドシフトし且つモル吸光係数が大幅に向上し、光増感条件下で活性酸素（一重項酸素を始め、スーパーオキシドフリーラジカル等の反応性酸素種も含む）を発生可能である。ヒポクレリン母体にポリグリコール又は第四級アンモニウム塩等の基の構造を導入することで親水性及び疎水性を調整して、該誘導体に異なる油水両親媒性を付与するとともに、細胞又は組織との生体適合性を高めることができる。このような油水両親媒性ヒポクレリン誘導体は、異なる臨床用途の要件を満たし、異なる投与形式に求められる親水性と親油性の矛盾を解決できる。
３）本発明で製造された多置換の近赤外ヒポクレリン誘導体は、ヒポクレリン母体よりも、吸収スペクトルが明らかに７００ｎｍ以上にレッドシフトし、且つモル吸光係数が大きい。
４）本発明に係る油水両親媒性ヒポクレリン誘導体の光増感剤は、臨床で使用されている第１世代のポルフィリン系光増感剤や第２世代のフタロシアニン系光増感剤に比べて、吸収波長と吸光能が大幅に向上し、重要なことに、ポルフィリン系やフタロシアニン系の光増感剤の分離し難さや複雑な構造の決定し難さの難問を解決し、生成物の分離、精製が容易で、明確な構造を有する。より重要なことには、同じ条件下で、本発明に係る油水両親媒性ヒポクレリン誘導体の光増感剤は、第１世代および第２世代の市販光増感剤よりも腫瘍細胞に対してより高い光線力学的不活性化能力を有する。
【図面の簡単な説明】
【0032】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態について更に詳細に説明する。
【図1】本発明による一置換又は多置換の油水両親媒性ヒポクレリン誘導体の構造一般式を示す。
【図2】本発明の実施例３におけるポリグリコール含有ヒポクレリンＢ誘導体ＨＢ－１、ＨＢ－２の合成反応スキームを示す。
【図3】本発明の実施例４における脱アセチル化ヒポクレリンＨＣとアミノプロパノールを用いた合成反応スキームを示す。
【図4】本発明の実施例４６における長鎖第四級アンモニウム塩を含有する脱アセチル化ヒポクレリン誘導体の合成反応スキームを示す。
【図5】本発明の実施例５２におけるピペラジノヒポクレリンＢ誘導体ＨＢ－９８、ＨＢ－９９の合成反応スキームを示す。
【図6】本発明の実施例６７における多置換のヒポクレリンＢ誘導体Ｉ－１、Ｉ－２の合成反応スキームを示す。
【図7】本発明の実施例１で抽出されたヒポクレリンＢ ＨＢ（ａ）、実施例３で製造されたポリグリコール含有ヒポクレリンＢ誘導体ＨＢ－１（ｂ）及び実施例５２で製造したピペラジノヒポクレリンＢ誘導体ＨＢ－９８（ｃ）の吸収スペクトル比較図を示す。
【図8】本発明の実施例３におけるポリグリコール含有ヒポクレリン誘導体ＨＢ－１のそれぞれと一重項酸素捕捉剤（ａ）、スーパーオキシドフリーラジカル捕捉剤（ｂ）との作用図を示す。
【図9】本発明の実施例３におけるポリグリコール含有ヒポクレリン誘導体ＨＢ－１のそれぞれのＨｅｌａ細胞中での共焦点蛍光イメージング図を示す。
【図10】異なる濃度のヘマトポルフィリン誘導体ＨｐＤ、ヒポクレリンＢ ＨＢ、及び本発明の実施例３におけるポリグリコール含有ヒポクレリン誘導体ＨＢ－１によるＨｅｌａ細胞への暗毒性図（ａ）と光毒性図（ｂ）を示す。
【図11】異なる濃度のヘマトポルフィリン誘導体ＨｐＤ、ヒポクレリンＢ ＨＢ、及び本発明の実施例３におけるポリグリコール含有ヒポクレリン誘導体ＨＢ－２によるＨｅｌａ細胞への暗毒性図（ａ）と光毒性図（ｂ）を示す。
【図12】異なる濃度のヘマトポルフィリン誘導体ＨｐＤ、ヒポクレリンＢ ＨＢ、及び本発明の実施例４で合成したアミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体ＨＣ－３又はＨＣ－４によるＨｅｌａ細胞への光毒性図を示す。
【図13】異なる濃度のヘマトポルフィリン誘導体ＨｐＤ、ヒポクレリンＢ ＨＢ、及び本発明の実施例４６における長鎖第四級アンモニウム塩で修飾された脱アセチル化ヒポクレリン誘導体ＨＣ－８７又はＨＣ－８８によるＨｅｌａ細胞への光毒性図を示す。
【図14】異なる濃度のヘマトポルフィリン誘導体ＨｐＤ、ヒポクレリンＢ ＨＢ、及び本発明の実施例５２におけるピペラジノヒポクレリンＢ誘導体ＨＢ－９８によるＨｅｌａ細胞への光毒性図を示す。
【図15】（ａ）は本発明の実施例６７におけるヒポクレリン誘導体Ｉ－１と一重項酸素捕捉剤の作用図を示す。（ｂ）は本発明の実施例６７におけるヒポクレリン誘導体Ｉ－１とスーパーオキシドフリーラジカル捕捉剤の作用図を示す。
【図16】（ａ）は異なる濃度のクロリンＣｅ６、ヒポクレリンＢ ＨＢ及び本発明の実施例６７におけるヒポクレリン誘導体Ｉ－１、Ｉ－２によるＨｅｌａ細胞への暗毒性図を示す。（ｂ）は異なる濃度のクロリンＣｅ６、ヒポクレリンＢ ＨＢ及び本発明の実施例６７におけるヒポクレリン誘導体Ｉ－１、Ｉ－２によるＨｅｌａ細胞への光毒性図を示す。
【図17】（ａ）は本発明の実施例６７におけるヒポクレリン誘導体ＩＩ－２と一重項酸素捕捉剤の作用図を示す。（ｂ）は本発明の実施例６７におけるヒポクレリン誘導体ＩＩ－２とスーパーオキシドフリーラジカル捕捉剤の作用図を示す。
【図18】（ａ）は異なる濃度のクロリンＣｅ６、ヒポクレリンＢ ＨＢ及び本発明の実施例８６におけるヒポクレリン誘導体ＩＩ－２によるＨｅｌａ細胞への暗毒性図を示す。（ｂ）は異なる濃度のクロリンＣｅ６、ヒポクレリンＢ ＨＢ及び本発明の実施例８６におけるヒポクレリン誘導体ＩＩ－２によるＨｅｌａ細胞への光毒性図を示す。
【発明を実施するための形態】
【0033】
本発明をより明瞭に説明するために、以下、好適実施例と図面を参照しながら、本発明について更に説明する。図面中、類似した部材について同じ符号を付している。当業者であれば、以下の内容は例示であって限定的ではなく、本発明の保護範囲を限定するものではないことが理解されるべきである。
【0034】
実施例１
ヒポクレリンＡ（ＨＡ）の抽出
Ｈｙｐｏｃｒｅｌｌａ ｂａｍｂｕｓａｅ １００ｇを粉砕機で粉砕して、ソックスレー抽出器に投入し、アセトン１０００ｍＬを溶剤として、略無色になるまで１日間連続して抽出し、抽出液を濾過して浸入した少量の固体不溶物を除去し、次に回転乾燥させてアセトンを除去し、ジクロロメタン５００ｍＬで溶解して、４×４００ｍＬ蒸留水で洗浄し、有機層を分離して回転乾燥させて、固体残留物を石油エーテル５×１００ｍＬで洗浄して、該固体を空気中で自然風乾し、次にクロロホルム－石油エーテルで２回再結晶化して、目的生成物として純度９８％以上のヒポクレリンＡ（ＨＡ）結晶を得た。薄層シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により、石油エーテル：酢酸エチル：無水エタノール（３０：１０：１）を展開剤として、更に精製して高純度ヒポクレリンＡを得た。
ヒポクレリンＡ（ＨＡ）の抽出
Ｈｙｐｏｃｒｅｌｌａ ｂａｍｂｕｓａｅ １００ｇを粉砕機で粉砕して、ソックスレー抽出器に投入し、アセトン１０００ｍＬを溶剤として、略無色になるまで１日間連続して抽出し、抽出液を濾過して浸入した少量の固体不溶物を除去し、次に回転乾燥させてアセトンを除去し、ジクロロメタン５００ｍＬで溶解して、４×４００ｍＬ蒸留水で洗浄し、有機層を分離して回転乾燥させて、固体残留物を石油エーテル５×１００ｍＬで洗浄して、該固体を空気中で自然風乾し、次にクロロホルム－石油エーテルで２回再結晶化して、目的生成物として純度９８％以上のヒポクレリンＡ（ＨＡ）結晶を得た。薄層シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により、石油エーテル：酢酸エチル：無水エタノール（３０：１０：１）を展開剤として、更に精製して高純度ヒポクレリンＡを得た。
【0035】
ヒポクレリンＢ（ＨＢ）の製造
ヒポクレリンＢはヒポクレリンＡをアルカリ性条件において脱水して得るものであり、製造方法は１９８９年９巻２５２－２５４頁の趙開弘による有機化学参考書を参照して適切に改良したものである。具体的に、ヒポクレリンＡ １ｇを１．５％ＫＯＨ水溶液１０００ｍＬに溶解して、遮光下撹拌しながら２４時間反応後、僅かに過剰な希塩酸で中和して、クロロホルムで生成物を抽出し、分離精製してヒポクレリンＢ ０．９８ｇを収率９８％で得た。
ヒポクレリンＢはヒポクレリンＡをアルカリ性条件において脱水して得るものであり、製造方法は１９８９年９巻２５２－２５４頁の趙開弘による有機化学参考書を参照して適切に改良したものである。具体的に、ヒポクレリンＡ １ｇを１．５％ＫＯＨ水溶液１０００ｍＬに溶解して、遮光下撹拌しながら２４時間反応後、僅かに過剰な希塩酸で中和して、クロロホルムで生成物を抽出し、分離精製してヒポクレリンＢ ０．９８ｇを収率９８％で得た。
【0036】
脱アセチル化ヒポクレリン（ＨＣ）の製造
ヒポクレリンＢ ２００ｍｇを１．５％水酸化カリウム水溶液１００ｍＬに溶解して、遮光下還流反応を８ｈ行い、冷却後、僅かに過剰な希塩酸で中和して、ジクロロメタンで生成物を抽出し、分離精製して、脱アセチル化ヒポクレリンＢ（ＨＣ）１１０ｍｇを収率５６％で得た。1Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ3,δ, ｐｐｍ）： １６．０ （ｓ, －ＯＨ, １Ｈ）, １５．９ （ｓ, －ＯＨ, １Ｈ）, ６．６２ （ｄ, １Ｈ）, ６．３５ （ｓ, ２Ｈ）, ４．１４, ４．１２ （ｓ, －ＯＣＨ3, ６Ｈ）, ４．０２ （ｓ, －ＯＣＨ3, ３Ｈ）,３．１ （ｄ, ２Ｈ）, ２．２５ （ｓ, －ＯＣＨ3, ３Ｈ）。
ヒポクレリンＢ ２００ｍｇを１．５％水酸化カリウム水溶液１００ｍＬに溶解して、遮光下還流反応を８ｈ行い、冷却後、僅かに過剰な希塩酸で中和して、ジクロロメタンで生成物を抽出し、分離精製して、脱アセチル化ヒポクレリンＢ（ＨＣ）１１０ｍｇを収率５６％で得た。1Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ3,δ, ｐｐｍ）： １６．０ （ｓ, －ＯＨ, １Ｈ）, １５．９ （ｓ, －ＯＨ, １Ｈ）, ６．６２ （ｄ, １Ｈ）, ６．３５ （ｓ, ２Ｈ）, ４．１４, ４．１２ （ｓ, －ＯＣＨ3, ６Ｈ）, ４．０２ （ｓ, －ＯＣＨ3, ３Ｈ）,３．１ （ｄ, ２Ｈ）, ２．２５ （ｓ, －ＯＣＨ3, ３Ｈ）。
【0037】
実施例２
本発明に係る長鎖第四級アンモニウム塩含有誘導体は以下の汎用方法により製造されるものであり、Ｈ2ＮＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ10Ｈ21）を例にして説明する。
本発明に係る長鎖第四級アンモニウム塩含有誘導体は以下の汎用方法により製造されるものであり、Ｈ2ＮＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ10Ｈ21）を例にして説明する。
【化12】
【0038】
中間体Ｓ１の製造
Ｎ，Ｎ－ジメチルエチレンジアミン（４．４ｇ、０．０５ｍｏｌ）と炭酸ジエチル（７．１０ｇ、０．０６ｍｏｌ）を１００ミリリットルの丸底フラスコに混合して、反応液を７０℃で４８ｈ反応させ、次に減圧蒸留して淡黄色液体７．２０ｇを収率８９％で得た。1Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ3,δ, ｐｐｍ）： ５．４５ （ｓ, －ＮＨ－, １Ｈ）, ４．１０（ｄ, Ｊ＝ ６．５ Ｈｚ, －ＣＨ2Ｏ, ２Ｈ）, ３．２４ （ｓ, －ＮＨ－ＣＨ2－, ２Ｈ）, ２．３９ （ｍ, －ＣＨ2Ｎ, ２Ｈ）, ２．２２ （ｄ, Ｊ＝ １．５ Ｈｚ, ＣＨ3ＮＣＨ3, ６Ｈ）, １．２３ （ｔ, Ｊ＝６．５ Ｈｚ, －ＣＨ2ＣＨ3, ３Ｈ）。
Ｎ，Ｎ－ジメチルエチレンジアミン（４．４ｇ、０．０５ｍｏｌ）と炭酸ジエチル（７．１０ｇ、０．０６ｍｏｌ）を１００ミリリットルの丸底フラスコに混合して、反応液を７０℃で４８ｈ反応させ、次に減圧蒸留して淡黄色液体７．２０ｇを収率８９％で得た。1Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ3,δ, ｐｐｍ）： ５．４５ （ｓ, －ＮＨ－, １Ｈ）, ４．１０（ｄ, Ｊ＝ ６．５ Ｈｚ, －ＣＨ2Ｏ, ２Ｈ）, ３．２４ （ｓ, －ＮＨ－ＣＨ2－, ２Ｈ）, ２．３９ （ｍ, －ＣＨ2Ｎ, ２Ｈ）, ２．２２ （ｄ, Ｊ＝ １．５ Ｈｚ, ＣＨ3ＮＣＨ3, ６Ｈ）, １．２３ （ｔ, Ｊ＝６．５ Ｈｚ, －ＣＨ2ＣＨ3, ３Ｈ）。
【0039】
中間体Ｓ２の製造
中間体Ｓ１と１－ブロモデカン（１５．２５ｇ、０．０５ｍｏｌ）を１００℃で４８ｈ反応させて、次に７２ｈ反応させた。粗生成物をアセトン－エーテル（１：１）で処理して白色結晶２計１５．８３ｇを収率約６８％で得た。1Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ3,δ,ｐｐｍ）： ６．７３ （ｓ,ＣＯＮＨ－,１Ｈ）,４．１０ （ｑ,Ｊ＝ ７．１ Ｈｚ,－ＣＨ2Ｏ－,２Ｈ）,３．７７ （ｓ,－ＣＨ2Ｎ＋,４Ｈ）,３．５３ （ｓ,ＣＨ3Ｎ＋,６Ｈ）,３．３９（ｓ,－ＮＨＣＨ2－,２Ｈ）,１．７８－１．６７ （ｍ,－Ｎ＋ＣＨ2ＣＨ2－,２Ｈ）,１．３１－１．２０ （ｍ,－ＣＨ2－,２９Ｈ）,０．８８ （ｔ,Ｊ＝ ６．８ Ｈｚ,－ＣＨ3,３Ｈ）． ＭＳ（ＥＳＩ＋）： Ｃ23Ｈ50Ｎ2Ｏ2+ （Ｍ＋Ｈ+）,３８５．３７８８。
中間体Ｓ１と１－ブロモデカン（１５．２５ｇ、０．０５ｍｏｌ）を１００℃で４８ｈ反応させて、次に７２ｈ反応させた。粗生成物をアセトン－エーテル（１：１）で処理して白色結晶２計１５．８３ｇを収率約６８％で得た。1Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ3,δ,ｐｐｍ）： ６．７３ （ｓ,ＣＯＮＨ－,１Ｈ）,４．１０ （ｑ,Ｊ＝ ７．１ Ｈｚ,－ＣＨ2Ｏ－,２Ｈ）,３．７７ （ｓ,－ＣＨ2Ｎ＋,４Ｈ）,３．５３ （ｓ,ＣＨ3Ｎ＋,６Ｈ）,３．３９（ｓ,－ＮＨＣＨ2－,２Ｈ）,１．７８－１．６７ （ｍ,－Ｎ＋ＣＨ2ＣＨ2－,２Ｈ）,１．３１－１．２０ （ｍ,－ＣＨ2－,２９Ｈ）,０．８８ （ｔ,Ｊ＝ ６．８ Ｈｚ,－ＣＨ3,３Ｈ）． ＭＳ（ＥＳＩ＋）： Ｃ23Ｈ50Ｎ2Ｏ2+ （Ｍ＋Ｈ+）,３８５．３７８８。
【0040】
長鎖第四級アンモニウム塩誘導体Ｓ３の製造
中間体Ｓ２（１０．６０ｇ、０．０２ｍｏｌ）に４８％臭化水素酸５０ｍＬと蒸留水５０ｍＬを加えて、加熱して還流反応を７２ｈ行った。回転蒸発させて臭化水素酸を除去し、固体残留物をエタノール：エーテル（１：１）で再結晶化して白色綿状結晶１３．６２ｇを収率６９％で得た。1Ｈ ＮＭＲ （Ｄ2Ｏ,δ,ｐｐｍ）： ５．３４ （ｓ,ＮＨ2,２Ｈ）,３．６５ （ｍ,ＮＨ2ＣＨ2ＣＨ2－,２Ｈ）,３．４８ （ｍ,－Ｎ+ＣＨ2ＣＨ2－,２Ｈ）,３．３８ （ｍ,ＮＨ2ＣＨ2－,２Ｈ）,３．１２ （ｓ,Ｎ+－ＣＨ3,６Ｈ）,１．７８ （ｍ,Ｎ+ＣＨ2ＣＨ2－,２Ｈ）,１．３７－０．９９ （ｍ,－ＣＨ2－,２６Ｈ）,０．７６ （ｔ,Ｊ＝ ６．５ Ｈｚ,－ＣＨ3,３Ｈ）． ＭＳ （ＥＳＩ＋）： Ｃ20Ｈ46Ｎ2 + （Ｍ＋Ｈ+）,３１３．３５９０。
中間体Ｓ２（１０．６０ｇ、０．０２ｍｏｌ）に４８％臭化水素酸５０ｍＬと蒸留水５０ｍＬを加えて、加熱して還流反応を７２ｈ行った。回転蒸発させて臭化水素酸を除去し、固体残留物をエタノール：エーテル（１：１）で再結晶化して白色綿状結晶１３．６２ｇを収率６９％で得た。1Ｈ ＮＭＲ （Ｄ2Ｏ,δ,ｐｐｍ）： ５．３４ （ｓ,ＮＨ2,２Ｈ）,３．６５ （ｍ,ＮＨ2ＣＨ2ＣＨ2－,２Ｈ）,３．４８ （ｍ,－Ｎ+ＣＨ2ＣＨ2－,２Ｈ）,３．３８ （ｍ,ＮＨ2ＣＨ2－,２Ｈ）,３．１２ （ｓ,Ｎ+－ＣＨ3,６Ｈ）,１．７８ （ｍ,Ｎ+ＣＨ2ＣＨ2－,２Ｈ）,１．３７－０．９９ （ｍ,－ＣＨ2－,２６Ｈ）,０．７６ （ｔ,Ｊ＝ ６．５ Ｈｚ,－ＣＨ3,３Ｈ）． ＭＳ （ＥＳＩ＋）： Ｃ20Ｈ46Ｎ2 + （Ｍ＋Ｈ+）,３１３．３５９０。
【0041】
実施例３
アミノエチルエチレングリコール修飾ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）の製造
合成経路は図２に示される。
ヒポクレリンＢ ＨＢ（１００ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）とアミノエチルエチレングリコール（０．４０ｇ、４ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリル２０ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、５０℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１０ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去した。青黒色の固体残留物をジクロロメタン２００ｍＬで溶解して、順に希塩酸水溶液１００ｍＬで１回洗浄して、蒸留水で２回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過し、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、アセトン：酢酸エチル（体積比１：１）を展開剤として、Ｒf値がそれぞれ０．８０と０．２４の２種の青黒色の固体生成物を得て、Ｒf ０．２４の生成物を同定したところ、２位と１７位で同時に置換した生成物であり、ＨＢ－１とし、収率は１２．２％であり、Ｒf ０．８０の成分を続けてアセトン：石油エーテル（体積比１：１）プレートクロマトグラフィーにより分離して、Ｒｆ値が０．８５のもの（検出した結果、２位でアミノ基により置換された生成物、ＨＢ－２と記載）を収率６．５％で得た。
２，１７－位アミノ置換生成物ＨＢ－１のキャラクタリゼーションデータ：1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3,δ,ｐｐｍ）： １７．１６ （ｓ,ＡｒＯＨ,１Ｈ）,１２．９６ （ｓ,ＡｒＯＨ,１Ｈ）,６．９８ （ｓ,ＡｒＨ,１Ｈ）,６．５５ （ｓ,ＡｒＨ,１Ｈ）,６．３４ （ｓ,ＡｒＮＨ,１Ｈ）,５．３５ （ｓ,ＡｒＮＨ,１Ｈ）,５．２２ （ｓ,ＯＨ,１Ｈ）,５．０１
（ｓ,ＯＨ,１Ｈ）,４．１８ （ｓ,ＯＣＨ3,３Ｈ）,４．０６ （ｓ,ＯＣＨ3,３Ｈ）,４．０４ （ｓ,ＯＣＨ3,３Ｈ）,３．９１－３．６１ （ｍ,ＮＨＣＨ2 ＣＨ2Ｏ,１２Ｈ）,３．５６ （ｄ,ＣＨ,１Ｈ）,３．２５ （ｄ,ＣＨ,１Ｈ）,２．２７ （ｓ,ＣＯＣＨ3,３Ｈ）,２．１９ （ｍ,ＣＨ2Ｏ,２Ｈ）,２．０２ （ｍ,ＣＨ2Ｏ,２Ｈ）,１．５７ （ｓ,ＣＨ3,３Ｈ）,１．４１－１．０２ （ｍ,ＣＨ2－,１９Ｈ）,０．７８ （ｔ,ＣＨ3,３Ｈ）． ＭＳ（ＥＳＩ）： Ｃ37Ｈ40Ｎ2Ｏ11 （Ｍ ＋ Ｈ+）,６８９．０．紫外線最大吸収波長：４６８ ｎｍ，６３０ ｎｍ。
２－位アミノ置換生成物ＨＢ－２のキャラクタリゼーションデータ：1ＨＮＭＲ （ＣＤＣｌ3,δ,ｐｐｍ）： １６．７６ （ｓ,ＡｒＯＨ,１Ｈ）,１６．５１ （ｓ,ＡｒＯＨ,１Ｈ）,６．５０ （ｓ,ＡｒＨ,１Ｈ）,６．４７ （ｓ,ＡｒＨ,１Ｈ）,６．４０ （ｓ,ＡｒＨ,１Ｈ）,５．８０ （ｓ,ＣＨ2,１Ｈ）,５．２３ （ｓ,ＣＨ2,１Ｈ）,４．１８ （ｓ,ＯＣＨ3,３Ｈ）,４．０８ （ｓ,ＯＣＨ3,３Ｈ）,４．０２ （ｓ,ＯＣＨ3,３Ｈ）,３．８３－３．７６ （ｍ,ＮＨＣＨ2ＣＨ2,４Ｈ）,３．６７－３．６２ （ｍ,ＯＣＨ2ＣＨ2,４Ｈ）,２．７８ （ｓ,ＯＨ,１Ｈ）,２．２７ （ｓ,ＣＯＣＨ3,３Ｈ）,１．６１ （ｓ,ＣＨ3,３Ｈ）． ＭＳ （ＥＳＩ）： Ｃ33Ｈ31ＮＯ10,６２４．１ （Ｍ ＋ Ｎａ+）,６００．５（Ｍ － Ｈ）。紫外線最大吸収波長：４６４ｎｍ、６２５ｎｍ。
アミノエチルエチレングリコール修飾ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）の製造
合成経路は図２に示される。
ヒポクレリンＢ ＨＢ（１００ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）とアミノエチルエチレングリコール（０．４０ｇ、４ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリル２０ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、５０℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１０ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去した。青黒色の固体残留物をジクロロメタン２００ｍＬで溶解して、順に希塩酸水溶液１００ｍＬで１回洗浄して、蒸留水で２回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過し、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、アセトン：酢酸エチル（体積比１：１）を展開剤として、Ｒf値がそれぞれ０．８０と０．２４の２種の青黒色の固体生成物を得て、Ｒf ０．２４の生成物を同定したところ、２位と１７位で同時に置換した生成物であり、ＨＢ－１とし、収率は１２．２％であり、Ｒf ０．８０の成分を続けてアセトン：石油エーテル（体積比１：１）プレートクロマトグラフィーにより分離して、Ｒｆ値が０．８５のもの（検出した結果、２位でアミノ基により置換された生成物、ＨＢ－２と記載）を収率６．５％で得た。
２，１７－位アミノ置換生成物ＨＢ－１のキャラクタリゼーションデータ：1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3,δ,ｐｐｍ）： １７．１６ （ｓ,ＡｒＯＨ,１Ｈ）,１２．９６ （ｓ,ＡｒＯＨ,１Ｈ）,６．９８ （ｓ,ＡｒＨ,１Ｈ）,６．５５ （ｓ,ＡｒＨ,１Ｈ）,６．３４ （ｓ,ＡｒＮＨ,１Ｈ）,５．３５ （ｓ,ＡｒＮＨ,１Ｈ）,５．２２ （ｓ,ＯＨ,１Ｈ）,５．０１
（ｓ,ＯＨ,１Ｈ）,４．１８ （ｓ,ＯＣＨ3,３Ｈ）,４．０６ （ｓ,ＯＣＨ3,３Ｈ）,４．０４ （ｓ,ＯＣＨ3,３Ｈ）,３．９１－３．６１ （ｍ,ＮＨＣＨ2 ＣＨ2Ｏ,１２Ｈ）,３．５６ （ｄ,ＣＨ,１Ｈ）,３．２５ （ｄ,ＣＨ,１Ｈ）,２．２７ （ｓ,ＣＯＣＨ3,３Ｈ）,２．１９ （ｍ,ＣＨ2Ｏ,２Ｈ）,２．０２ （ｍ,ＣＨ2Ｏ,２Ｈ）,１．５７ （ｓ,ＣＨ3,３Ｈ）,１．４１－１．０２ （ｍ,ＣＨ2－,１９Ｈ）,０．７８ （ｔ,ＣＨ3,３Ｈ）． ＭＳ（ＥＳＩ）： Ｃ37Ｈ40Ｎ2Ｏ11 （Ｍ ＋ Ｈ+）,６８９．０．紫外線最大吸収波長：４６８ ｎｍ，６３０ ｎｍ。
２－位アミノ置換生成物ＨＢ－２のキャラクタリゼーションデータ：1ＨＮＭＲ （ＣＤＣｌ3,δ,ｐｐｍ）： １６．７６ （ｓ,ＡｒＯＨ,１Ｈ）,１６．５１ （ｓ,ＡｒＯＨ,１Ｈ）,６．５０ （ｓ,ＡｒＨ,１Ｈ）,６．４７ （ｓ,ＡｒＨ,１Ｈ）,６．４０ （ｓ,ＡｒＨ,１Ｈ）,５．８０ （ｓ,ＣＨ2,１Ｈ）,５．２３ （ｓ,ＣＨ2,１Ｈ）,４．１８ （ｓ,ＯＣＨ3,３Ｈ）,４．０８ （ｓ,ＯＣＨ3,３Ｈ）,４．０２ （ｓ,ＯＣＨ3,３Ｈ）,３．８３－３．７６ （ｍ,ＮＨＣＨ2ＣＨ2,４Ｈ）,３．６７－３．６２ （ｍ,ＯＣＨ2ＣＨ2,４Ｈ）,２．７８ （ｓ,ＯＨ,１Ｈ）,２．２７ （ｓ,ＣＯＣＨ3,３Ｈ）,１．６１ （ｓ,ＣＨ3,３Ｈ）． ＭＳ （ＥＳＩ）： Ｃ33Ｈ31ＮＯ10,６２４．１ （Ｍ ＋ Ｎａ+）,６００．５（Ｍ － Ｈ）。紫外線最大吸収波長：４６４ｎｍ、６２５ｎｍ。
【0042】
上記アミノ置換生成物ＨＢ－１、ＨＢ－２の構造式は図示したとおりである。
【化13】
【0043】
実施例４
３－アミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）の製造
合成経路は図３に示される。
脱アセチル化ヒポクレリンＨＣ（１００ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）とアミノエチルエチレングリコール（０．３０ｇ、４ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン２０ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、６０℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１２ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去した。青黒色の固体残留物をジクロロメタン２００ｍＬで溶解して、順に希塩酸水溶液１００ｍＬで１回洗浄して、蒸留水で２回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過し、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、アセトン：酢酸エチル（体積比１：１）を展開剤として、青黒色の固体生成物を収率１５．２％で得て、Ｒf値は０．４５、質量スペクトルＭＳ（ＥＳＩ＋）： ５３０．６であった。前記アミノ置換生成物ＨＣ－３（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－４（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
３－アミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）の製造
合成経路は図３に示される。
脱アセチル化ヒポクレリンＨＣ（１００ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）とアミノエチルエチレングリコール（０．３０ｇ、４ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン２０ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、６０℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１２ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去した。青黒色の固体残留物をジクロロメタン２００ｍＬで溶解して、順に希塩酸水溶液１００ｍＬで１回洗浄して、蒸留水で２回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過し、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、アセトン：酢酸エチル（体積比１：１）を展開剤として、青黒色の固体生成物を収率１５．２％で得て、Ｒf値は０．４５、質量スペクトルＭＳ（ＥＳＩ＋）： ５３０．６であった。前記アミノ置換生成物ＨＣ－３（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－４（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
【化14】
【0044】
実施例５
アミノエチルトリグリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例３のアミノエチルエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体の製造と類似する。２位と１７位で同時にアミノ基により置換された生成物ＨＢ－５：収率８．４％、Ｒf ０．２４、ＭＳ （ＥＳＩ＋） ７７７．５、紫外線最大吸収波長４６８ｎｍ、６３２ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－６：収率５．８％、Ｒf ０．５５、ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６４６．６、紫外線最大吸収波長４６２ｎｍ、６２５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－５、ＨＢ－６の構造式は図示したとおりである。
アミノエチルトリグリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例３のアミノエチルエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体の製造と類似する。２位と１７位で同時にアミノ基により置換された生成物ＨＢ－５：収率８．４％、Ｒf ０．２４、ＭＳ （ＥＳＩ＋） ７７７．５、紫外線最大吸収波長４６８ｎｍ、６３２ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－６：収率５．８％、Ｒf ０．５５、ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６４６．６、紫外線最大吸収波長４６２ｎｍ、６２５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－５、ＨＢ－６の構造式は図示したとおりである。
【化15】
【0045】
実施例６
アミノエチルテトラグリコール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）3－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例４の３－アミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた生成物：収率１０．５％、Ｒf ０．２５、キャラクタリゼーションデータ：ＭＳ （ＥＳＩ＋）：６４８．５、紫外線最大吸収波長４６８ｎｍ、６３２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－７（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－８（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
アミノエチルテトラグリコール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）3－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例４の３－アミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた生成物：収率１０．５％、Ｒf ０．２５、キャラクタリゼーションデータ：ＭＳ （ＥＳＩ＋）：６４８．５、紫外線最大吸収波長４６８ｎｍ、６３２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－７（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－８（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
【化16】
【0046】
実施例７
アミノエチルペンタグリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）4－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例３のアミノエチルエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－９：収率１２．４％、Ｒf ０．３０、ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ９５３．０、紫外線最大吸収波長４７５ｎｍ、６４０ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－１０：収率６．４％、Ｒf ０．６５、ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７３４．３、紫外線最大吸収波長４７０ｎｍ、６３０ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－９、ＨＢ－１０の構造式は図示したとおりである。
アミノエチルペンタグリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）4－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例３のアミノエチルエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－９：収率１２．４％、Ｒf ０．３０、ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ９５３．０、紫外線最大吸収波長４７５ｎｍ、６４０ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－１０：収率６．４％、Ｒf ０．６５、ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７３４．３、紫外線最大吸収波長４７０ｎｍ、６３０ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－９、ＨＢ－１０の構造式は図示したとおりである。
【化17】
【0047】
実施例８
アミノエチルポリエチレングリコール修飾脱アセチル化ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）n－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例４の３－アミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた生成物：収率１７．５％、Ｒf ０．２５、キャラクタリゼーションデータ：ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５６０．０、紫外線最大吸収波長４８０ｎｍ、６３５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－１１（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）、ＨＣ－１２（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
アミノエチルポリエチレングリコール修飾脱アセチル化ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）n－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例４の３－アミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた生成物：収率１７．５％、Ｒf ０．２５、キャラクタリゼーションデータ：ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５６０．０、紫外線最大吸収波長４８０ｎｍ、６３５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－１１（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）、ＨＣ－１２（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
【化18】
【0048】
実施例９
３－アミノプロピルエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2）3－ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）の製造
合成方法は実施例３のアミノエチルエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－１３：収率６．５％、Ｒf ０．１６、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７１７．２、紫外線最大吸収波長４７６ｎｍ、６３２ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－１４：収率５．４％、Ｒf ０．５０、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６１５．６、紫外線最大吸収波長４６３ｎｍ、６２４ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－１３、ＨＢ－１４の構造式は図示したとおりである。
３－アミノプロピルエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2）3－ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）の製造
合成方法は実施例３のアミノエチルエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－１３：収率６．５％、Ｒf ０．１６、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７１７．２、紫外線最大吸収波長４７６ｎｍ、６３２ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－１４：収率５．４％、Ｒf ０．５０、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６１５．６、紫外線最大吸収波長４６３ｎｍ、６２４ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－１３、ＨＢ－１４の構造式は図示したとおりである。
【化19】
【0049】
実施例１０
アミノ酢酸エチレングリコールエステル修飾脱アセチル化ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）の製造
合成方法は実施例４の３－アミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた生成物：収率１８．５％、Ｒf ０．１８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５７４．５、紫外線最大吸収波長４７４ｎｍ、６３８ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－１５（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－１６（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
アミノ酢酸エチレングリコールエステル修飾脱アセチル化ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）の製造
合成方法は実施例４の３－アミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた生成物：収率１８．５％、Ｒf ０．１８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５７４．５、紫外線最大吸収波長４７４ｎｍ、６３８ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－１５（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－１６（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
【化20】
【0050】
実施例１１
アミノ酢酸ジエチレングリコールエステル修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＯ（ＯＣＨ2ＣＨ2）2ＯＨ）の製造
合成方法は実施例３のアミノエチルエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－１７：収率６．２％、Ｒf ０．１６、ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ８０５．５、紫外線最大吸収波長４６８ｎｍ、６３５ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－１８：収率３．４％、Ｒf ０．６０、ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６５９．６、紫外線最大吸収波長４６２ｎｍ、６２４ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－１７、ＨＢ－１８の構造式は図示したとおりである。
アミノ酢酸ジエチレングリコールエステル修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＯ（ＯＣＨ2ＣＨ2）2ＯＨ）の製造
合成方法は実施例３のアミノエチルエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－１７：収率６．２％、Ｒf ０．１６、ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ８０５．５、紫外線最大吸収波長４６８ｎｍ、６３５ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－１８：収率３．４％、Ｒf ０．６０、ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６５９．６、紫外線最大吸収波長４６２ｎｍ、６２４ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－１７、ＨＢ－１８の構造式は図示したとおりである。
【化21】
【0051】
実施例１２
アミノ酢酸トリエチレングリコールエステル修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＯ（ＯＣＨ2ＣＨ2）3ＯＨ）の製造
合成方法は実施例４の３－アミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた生成物：収率１７．２％、Ｒf ０．１８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６６２．３、紫外線最大吸収波長４６６ｎｍ、６４０ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－１９（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）、ＨＣ－２０（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
アミノ酢酸トリエチレングリコールエステル修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＯ（ＯＣＨ2ＣＨ2）3ＯＨ）の製造
合成方法は実施例４の３－アミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた生成物：収率１７．２％、Ｒf ０．１８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６６２．３、紫外線最大吸収波長４６６ｎｍ、６４０ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－１９（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）、ＨＣ－２０（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
【化22】
【0052】
実施例１３
アミノプロピオン酸ポリエチレングリコールエステル修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2）2ＣＯ（ＯＣＨ2ＣＨ2）nＯＨ）の製造
合成方法は実施例３のアミノエチルエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－２１：収率８．５％、Ｒf ０．１８、紫外線最大吸収波長４８５ｎｍ、６４５ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－２２：収率４．５％、Ｒf ０．５０、紫外線最大吸収波長４６５ｎｍ、６３５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－２１、ＨＢ－２２の構造式は図示したとおりである。
アミノプロピオン酸ポリエチレングリコールエステル修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2）2ＣＯ（ＯＣＨ2ＣＨ2）nＯＨ）の製造
合成方法は実施例３のアミノエチルエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－２１：収率８．５％、Ｒf ０．１８、紫外線最大吸収波長４８５ｎｍ、６４５ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－２２：収率４．５％、Ｒf ０．５０、紫外線最大吸収波長４６５ｎｍ、６３５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－２１、ＨＢ－２２の構造式は図示したとおりである。
【化23】
【0053】
実施例１４
アミノ吉草酸トリエチレングリコールエステル修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2）4ＣＯ（ＯＣＨ2ＣＨ2）3ＯＨ）の製造
合成方法は実施例４の３－アミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた生成物：収率１２．５％、Ｒf ０．２１、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７０４．５、紫外線最大吸収波長４５５ｎｍ、６４２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－２３（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）、ＨＣ－２４（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
アミノ吉草酸トリエチレングリコールエステル修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2）4ＣＯ（ＯＣＨ2ＣＨ2）3ＯＨ）の製造
合成方法は実施例４の３－アミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた生成物：収率１２．５％、Ｒf ０．２１、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７０４．５、紫外線最大吸収波長４５５ｎｍ、６４２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－２３（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）、ＨＣ－２４（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
【化24】
【0054】
実施例１５
アミノメタンスルホン酸エチレングリコールエステル修飾ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＳＯ2－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ）の製造
ヒポクレリンＢ ＨＢ（１００ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）とアミノメタンスルホン酸モノエチレングリコールエステル（６１０ｍｇ、４ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリル２０ｍＬに溶解して、窒素ガス保護下、５５℃に加熱して、遮光下撹拌しながら８ｈ反応させた後、回転蒸発させて溶剤を除去した。青黒色の固体残留物をジクロロメタン２００ｍＬで溶解して、順に希塩酸水溶液で２回洗浄して、蒸留水で１回洗浄し、有機層を乾燥させて濾過し、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品を薄層シリコーンクロマトグラフィー法により分離して、アセトン：石油エーテル（体積比２：１）を展開剤として、２種の青黒色の固体生成物を得た。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－２５：収率９．２％、Ｒf ０．１８、ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７８９．２、紫外線最大吸収波長４７０ｎｍ、６４０ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－２６：収率４．４％、Ｒf ０．５５、ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６５２．６、紫外線最大吸収波長４６５ｎｍ、６２８ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－２５、ＨＢ－２６の構造式は図示したとおりである。
アミノメタンスルホン酸エチレングリコールエステル修飾ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＳＯ2－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ）の製造
ヒポクレリンＢ ＨＢ（１００ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）とアミノメタンスルホン酸モノエチレングリコールエステル（６１０ｍｇ、４ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリル２０ｍＬに溶解して、窒素ガス保護下、５５℃に加熱して、遮光下撹拌しながら８ｈ反応させた後、回転蒸発させて溶剤を除去した。青黒色の固体残留物をジクロロメタン２００ｍＬで溶解して、順に希塩酸水溶液で２回洗浄して、蒸留水で１回洗浄し、有機層を乾燥させて濾過し、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品を薄層シリコーンクロマトグラフィー法により分離して、アセトン：石油エーテル（体積比２：１）を展開剤として、２種の青黒色の固体生成物を得た。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－２５：収率９．２％、Ｒf ０．１８、ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７８９．２、紫外線最大吸収波長４７０ｎｍ、６４０ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－２６：収率４．４％、Ｒf ０．５５、ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６５２．６、紫外線最大吸収波長４６５ｎｍ、６２８ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－２５、ＨＢ－２６の構造式は図示したとおりである。
【化25】
【0055】
実施例１６
アミノメタンスルホン酸ジエチレングリコールエステル修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＳＯ2（ＯＣＨ2ＣＨ2）2ＯＨ）の製造
合成方法は実施例１５のアミノメタンスルホン酸ジエチレングリコールエステル修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた生成物：収率１６．２％、Ｒf ０．１６、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６５４．２、紫外線最大吸収波長４６８ｎｍ、６３５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－２７（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）、ＨＣ－２８（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
アミノメタンスルホン酸ジエチレングリコールエステル修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＳＯ2（ＯＣＨ2ＣＨ2）2ＯＨ）の製造
合成方法は実施例１５のアミノメタンスルホン酸ジエチレングリコールエステル修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた生成物：収率１６．２％、Ｒf ０．１６、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６５４．２、紫外線最大吸収波長４６８ｎｍ、６３５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－２７（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）、ＨＣ－２８（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
【化26】
【0056】
実施例１７
アミノメタンスルホン酸テトラエチレングリコールエステル修飾ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＳＯ2（ＯＣＨ2ＣＨ2）4ＯＨ）の製造
合成方法は実施例１５のアミノメタンスルホン酸ジエチレングリコールエステル修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－２９：収率８．４％、Ｒf ０．１６、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： １０５３．４、紫外線最大吸収波長４６８ｎｍ、６４８ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－３０：収率５．４％、Ｒf ０．６２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７８４．６、紫外線最大吸収波長４６２ｎｍ、６２５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－２９、ＨＢ－３０の構造式は図示したとおりである。
アミノメタンスルホン酸テトラエチレングリコールエステル修飾ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＳＯ2（ＯＣＨ2ＣＨ2）4ＯＨ）の製造
合成方法は実施例１５のアミノメタンスルホン酸ジエチレングリコールエステル修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－２９：収率８．４％、Ｒf ０．１６、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： １０５３．４、紫外線最大吸収波長４６８ｎｍ、６４８ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－３０：収率５．４％、Ｒf ０．６２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７８４．６、紫外線最大吸収波長４６２ｎｍ、６２５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－２９、ＨＢ－３０の構造式は図示したとおりである。
【化27】
【0057】
実施例１８
アミノブタンスルホン酸トリエチレングリコールエステル修飾ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＳＯ2（ＯＣＨ2ＣＨ2）3ＯＨ）の製造
合成方法は実施例１５のアミノメタンスルホン酸ジエチレングリコールエステル修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた生成物：収率１６．５％、Ｒf ０．２１、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： １０３６．５、紫外線最大吸収波長４５５ｎｍ、６３８ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－３１（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－３２（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
アミノブタンスルホン酸トリエチレングリコールエステル修飾ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＳＯ2（ＯＣＨ2ＣＨ2）3ＯＨ）の製造
合成方法は実施例１５のアミノメタンスルホン酸ジエチレングリコールエステル修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた生成物：収率１６．５％、Ｒf ０．２１、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： １０３６．５、紫外線最大吸収波長４５５ｎｍ、６３８ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－３１（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－３２（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
【化28】
【0058】
実施例１９
エチレンジアミン基置換トリグリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2ＣＨ2－ＮＨＣＨ2ＣＨ2－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例３のアミノエチルエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体の製造と類似する。２位と１７位で同時にアミノ基により置換された生成物ＨＢ－３３：収率９．４％、Ｒf ０．１８、ＭＳ （ＥＳＩ＋） ７７５．５、紫外線最大吸収波長４６９ｎｍ、６３５ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－３４：収率８．８％、Ｒf ０．５８、ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６４４．６、紫外線最大吸収波長４６４ｎｍ、６２６ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－３３、ＨＢ－３４の構造式は図示したとおりである。
エチレンジアミン基置換トリグリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2ＣＨ2－ＮＨＣＨ2ＣＨ2－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例３のアミノエチルエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体の製造と類似する。２位と１７位で同時にアミノ基により置換された生成物ＨＢ－３３：収率９．４％、Ｒf ０．１８、ＭＳ （ＥＳＩ＋） ７７５．５、紫外線最大吸収波長４６９ｎｍ、６３５ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－３４：収率８．８％、Ｒf ０．５８、ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６４４．６、紫外線最大吸収波長４６４ｎｍ、６２６ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－３３、ＨＢ－３４の構造式は図示したとおりである。
【化29】
【0059】
実施例２０
エチレンジアミントリグリコール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2ＣＨ2－ＮＨＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例４の３－アミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。前記生成物：収率１９．５％、Ｒf ０．２２、キャラクタリゼーションデータ：ＭＳ （ＥＳＩ＋）：６４６．５、紫外線最大吸収波長４６８ｎｍ、６３１ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－３５（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－３６（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造は図示したとおりである。
エチレンジアミントリグリコール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2ＣＨ2－ＮＨＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）2－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例４の３－アミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。前記生成物：収率１９．５％、Ｒf ０．２２、キャラクタリゼーションデータ：ＭＳ （ＥＳＩ＋）：６４６．５、紫外線最大吸収波長４６８ｎｍ、６３１ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－３５（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－３６（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造は図示したとおりである。
【化30】
【0060】
実施例２１
アミノエチルメルカプト置換ジエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2－Ｓ－ＣＨ2ＣＨ2－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例３のアミノエチルエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－３７：収率１１．４％、Ｒf ０．３５、ＭＳ （ＥＳＩ＋） ８０９．０、紫外線最大吸収波長４７５ｎｍ、６４０ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－３８：収率７．４％、Ｒf ０．６８、ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６６２．３、紫外線最大吸収波長４７０ｎｍ、６３０ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－３７、ＨＢ－３８の構造式は図示したとおりである。
アミノエチルメルカプト置換ジエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2－Ｓ－ＣＨ2ＣＨ2－ＯＣＨ2ＣＨ2－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例３のアミノエチルエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－３７：収率１１．４％、Ｒf ０．３５、ＭＳ （ＥＳＩ＋） ８０９．０、紫外線最大吸収波長４７５ｎｍ、６４０ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－３８：収率７．４％、Ｒf ０．６８、ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６６２．３、紫外線最大吸収波長４７０ｎｍ、６３０ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－３７、ＨＢ－３８の構造式は図示したとおりである。
【化31】
【0061】
実施例２２
アミノエチルメルカプト置換ペンタグリコール修飾脱アセチル化ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2ＣＨ2－Ｓ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）3－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例４の３－アミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。
前記生成物：収率１７．５％、Ｒf ０．１２、キャラクタリゼーションデータ：ＭＳ（ＥＳＩ＋）： ７０９．０、紫外線最大吸収波長４８０ｎｍ、６３５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－３９（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－４０（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造は図示したとおりである。
アミノエチルメルカプト置換ペンタグリコール修飾脱アセチル化ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2ＣＨ2－Ｓ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）3－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例４の３－アミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。
前記生成物：収率１７．５％、Ｒf ０．１２、キャラクタリゼーションデータ：ＭＳ（ＥＳＩ＋）： ７０９．０、紫外線最大吸収波長４８０ｎｍ、６３５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－３９（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－４０（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造は図示したとおりである。
【化32】
【0062】
実施例２３
アミノプロピオンアミドテトラエチレングリコールエチルエーテル修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）3－ＯＣＨ3）の製造
合成方法は実施例３のアミノエチルエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－４１：収率７．８％、Ｒf ０．１５、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： １０３５．２、紫外線最大吸収波長４６１ｎｍ、６４３ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－４２：収率５．４％、Ｒf ０．５４、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７７５．１、紫外線最大吸収波長４５８ｎｍ、６２２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－４１、ＨＢ－４２の構造式は図示したとおりである。
アミノプロピオンアミドテトラエチレングリコールエチルエーテル修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）3－ＯＣＨ3）の製造
合成方法は実施例３のアミノエチルエチレングリコール修飾ヒポクレリンＢ誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－４１：収率７．８％、Ｒf ０．１５、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： １０３５．２、紫外線最大吸収波長４６１ｎｍ、６４３ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－４２：収率５．４％、Ｒf ０．５４、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７７５．１、紫外線最大吸収波長４５８ｎｍ、６２２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－４１、ＨＢ－４２の構造式は図示したとおりである。
【化33】
【0063】
実施例２４
アミノバレルアミドテトラエチレングリコールエステル修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2）4ＣＨ2ＣＯＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）3－ＯＣＨ3）の製造
合成方法は実施例４の３－アミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。前記生成物：収率１６．５％、Ｒf ０．２１、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７６０．５、紫外線最大吸収波長４５５ｎｍ、６４２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－４３（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－４４（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
アミノバレルアミドテトラエチレングリコールエステル修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2）4ＣＨ2ＣＯＮＨ－ＣＨ2ＣＨ2－（ＯＣＨ2ＣＨ2）3－ＯＣＨ3）の製造
合成方法は実施例４の３－アミノプロパノール修飾脱アセチル化ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。前記生成物：収率１６．５％、Ｒf ０．２１、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７６０．５、紫外線最大吸収波長４５５ｎｍ、６４２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－４３（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－４４（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
【化34】
【0064】
実施例２５
ヘキシルアミン修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ3）の製造
ヒポクレリンＢ ＨＢ（１００ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）とヘキシルアミン（０．５１ｇ、５ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリル５０ｍＬに溶解して、窒素ガス保護下、５５℃に加熱して、遮光下撹拌しながら８ｈ反応させた後、回転蒸発させて溶剤を除去した。青黒色の固体残留物をジクロロメタン２００ｍＬで溶解して、順に希塩酸水溶液で２回洗浄して、蒸留水で１回洗浄し、有機層を乾燥させて濾過し、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品を薄層シリコーンクロマトグラフィー法により分離して、アセトン：石油エーテル（体積比２：１）を展開剤として、２種の青黒色の固体生成物を得た。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－４５：収率２８．６％、Ｒf ０．２４、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６９５．４、紫外線最大吸収波長４５５ｎｍ、６３５ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－４６：収率１４．６％、Ｒf ０．３８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５９８．２、紫外線最大吸収波長４５２ｎｍ、６２６ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－４５、ＨＢ－４６の構造式は図示したとおりである。
ヘキシルアミン修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ3）の製造
ヒポクレリンＢ ＨＢ（１００ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）とヘキシルアミン（０．５１ｇ、５ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリル５０ｍＬに溶解して、窒素ガス保護下、５５℃に加熱して、遮光下撹拌しながら８ｈ反応させた後、回転蒸発させて溶剤を除去した。青黒色の固体残留物をジクロロメタン２００ｍＬで溶解して、順に希塩酸水溶液で２回洗浄して、蒸留水で１回洗浄し、有機層を乾燥させて濾過し、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品を薄層シリコーンクロマトグラフィー法により分離して、アセトン：石油エーテル（体積比２：１）を展開剤として、２種の青黒色の固体生成物を得た。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－４５：収率２８．６％、Ｒf ０．２４、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６９５．４、紫外線最大吸収波長４５５ｎｍ、６３５ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－４６：収率１４．６％、Ｒf ０．３８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５９８．２、紫外線最大吸収波長４５２ｎｍ、６２６ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－４５、ＨＢ－４６の構造式は図示したとおりである。
【化35】
【0065】
実施例２６
ブチルアミン修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ3）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－４７：収率３２．６％、Ｒf ０．２６、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６２５．４、紫外線最大吸収波長４５４ｎｍ、６３２ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－４８：収率１４．６％、Ｒf ０．３８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５７０．２、紫外線最大吸収波長４４８ｎｍ、６２４ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－４７、ＨＢ－４８の構造式は図示したとおりである。
ブチルアミン修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ3）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－４７：収率３２．６％、Ｒf ０．２６、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６２５．４、紫外線最大吸収波長４５４ｎｍ、６３２ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－４８：収率１４．６％、Ｒf ０．３８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５７０．２、紫外線最大吸収波長４４８ｎｍ、６２４ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－４７、ＨＢ－４８の構造式は図示したとおりである。
【化36】
【0066】
実施例２７
オクチルアミン修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ3）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－４９：収率２２．６％、Ｒf ０．１６、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７３７．４、紫外線最大吸収波長４５２ｎｍ、６３２ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－５０：収率１８．６％、Ｒf ０．６０、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６２６．２、紫外線最大吸収波長４４５ｎｍ、６２１ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－４９、ＨＢ－５０の構造式は図示したとおりである。
オクチルアミン修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ3）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－４９：収率２２．６％、Ｒf ０．１６、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７３７．４、紫外線最大吸収波長４５２ｎｍ、６３２ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－５０：収率１８．６％、Ｒf ０．６０、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６２６．２、紫外線最大吸収波長４４５ｎｍ、６２１ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－４９、ＨＢ－５０の構造式は図示したとおりである。
【化37】
【0067】
実施例２８
ブチルヘキシルアミン修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた生成物：収率３８．６％、Ｒf ０．２４、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）：５２８．４、紫外線最大吸収波長４５５ｎｍ、６３５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－５１（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－５２（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
ブチルヘキシルアミン修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた生成物：収率３８．６％、Ｒf ０．２４、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）：５２８．４、紫外線最大吸収波長４５５ｎｍ、６３５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－５１（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－５２（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
【化38】
【0068】
実施例２９
ベンジルアミノヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2Ｃ6Ｈ5）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－５３：収率２５．４％、Ｒf ０．２２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６９１．２、紫外線最大吸収波長４５３ｎｍ、６４２ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－５４：収率１４．５％、Ｒf ０．４５、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６０４．９、紫外線最大吸収波長４５３ｎｍ、６２２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－５３、ＨＢ－５４の構造式は図示したとおりである。
ベンジルアミノヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2Ｃ6Ｈ5）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－５３：収率２５．４％、Ｒf ０．２２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６９１．２、紫外線最大吸収波長４５３ｎｍ、６４２ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－５４：収率１４．５％、Ｒf ０．４５、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６０４．９、紫外線最大吸収波長４５３ｎｍ、６２２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－５３、ＨＢ－５４の構造式は図示したとおりである。
【化39】
【0069】
実施例３０
フェニルブチルアミン修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｃ6Ｈ5）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－５５：収率１７．５％、Ｒf ０．２３、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： １０３７．５、紫外線最大吸収波長４５２ｎｍ、６３６ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－５６：収率１４．８％、Ｒf ０．３６、質量スペクトルＭＳ（ＥＳＩ＋）： ７７６．３、紫外線最大吸収波長４５２ｎｍ、６１９ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－５５、ＨＢ－５６の構造式は図示したとおりである。
フェニルブチルアミン修飾ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｃ6Ｈ5）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－５５：収率１７．５％、Ｒf ０．２３、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： １０３７．５、紫外線最大吸収波長４５２ｎｍ、６３６ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－５６：収率１４．８％、Ｒf ０．３６、質量スペクトルＭＳ（ＥＳＩ＋）： ７７６．３、紫外線最大吸収波長４５２ｎｍ、６１９ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－５５、ＨＢ－５６の構造式は図示したとおりである。
【化40】
【0070】
実施例３１
２－メチルピリジンアミノヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2Ｃ5Ｈ4Ｎ）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミンヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－５７：収率２５．４％、Ｒf ０．２２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６９３．２、紫外線最大吸収波長４５３ｎｍ、６３４ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－５８：収率１４．５％、Ｒf ０．４５、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６０６．９、紫外線最大吸収波長４５０ｎｍ、６２２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－５７、ＨＢ－５８の構造式は図示したとおりである。
２－メチルピリジンアミノヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2Ｃ5Ｈ4Ｎ）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミンヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－５７：収率２５．４％、Ｒf ０．２２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６９３．２、紫外線最大吸収波長４５３ｎｍ、６３４ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－５８：収率１４．５％、Ｒf ０．４５、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６０６．９、紫外線最大吸収波長４５０ｎｍ、６２２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－５７、ＨＢ－５８の構造式は図示したとおりである。
【化41】
【0071】
実施例３２
フェニルブチルアミン修飾脱アセチル化ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｃ5Ｈ4Ｎ）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。前記生成物：収率１７．５％、Ｒf ０．２３；質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６０５．５、紫外線最大吸収波長：４５２ｎｍ、６３６ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－５９（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－６０（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
フェニルブチルアミン修飾脱アセチル化ヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｃ5Ｈ4Ｎ）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。前記生成物：収率１７．５％、Ｒf ０．２３；質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６０５．５、紫外線最大吸収波長：４５２ｎｍ、６３６ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－５９（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－６０（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
【化42】
【0072】
実施例３３
４－メチルピリジニウム塩ブチルアミノヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2）4Ｃ5Ｈ4Ｎ+（Ｃ6Ｈ11））の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－６１：収率１５．４％、Ｒf ０．２２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ９８４．２、紫外線最大吸収波長４５３ｎｍ、６３４ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－６２：収率１４．５％、Ｒf ０．４５、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７６７．９、紫外線最大吸収波長４５０ｎｍ、６２２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－６１、ＨＢ－６２の構造式は図示したとおりである。
４－メチルピリジニウム塩ブチルアミノヒポクレリンＢ誘導体（Ｒ＝－（ＣＨ2）4Ｃ5Ｈ4Ｎ+（Ｃ6Ｈ11））の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－６１：収率１５．４％、Ｒf ０．２２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ９８４．２、紫外線最大吸収波長４５３ｎｍ、６３４ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－６２：収率１４．５％、Ｒf ０．４５、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７６７．９、紫外線最大吸収波長４５０ｎｍ、６２２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－６１、ＨＢ－６２の構造式は図示したとおりである。
【化43】
【0073】
実施例３４
ヒポクレリンＢヒドラジン（Ｒ＝－ＮＨ2）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－６３：収率２５．４％、Ｒf ０．２８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５４３．８、紫外線最大吸収波長４５５ｎｍ、６４０ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－６４：収率１２．６％、Ｒf ０．４８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５２９．９、紫外線最大吸収波長４４８ｎｍ、６２５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－６３、ＨＢ－６４の構造式は図示したとおりである。
ヒポクレリンＢヒドラジン（Ｒ＝－ＮＨ2）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－６３：収率２５．４％、Ｒf ０．２８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５４３．８、紫外線最大吸収波長４５５ｎｍ、６４０ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－６４：収率１２．６％、Ｒf ０．４８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５２９．９、紫外線最大吸収波長４４８ｎｍ、６２５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－６３、ＨＢ－６４の構造式は図示したとおりである。
【化44】
【0074】
実施例３５
脱アセチル化ヒポクレリンＢヒドラジン（Ｒ＝－ＮＨ2）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。前記生成物：収率２８．５％、Ｒf ０．３０、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ４８６．８、紫外線最大吸収波長４５６ｎｍ、６４２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－６５（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－６６（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
脱アセチル化ヒポクレリンＢヒドラジン（Ｒ＝－ＮＨ2）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。前記生成物：収率２８．５％、Ｒf ０．３０、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ４８６．８、紫外線最大吸収波長４５６ｎｍ、６４２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－６５（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－６６（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
【化45】
【0075】
実施例３６
ヒポクレリンＢヒドラジン（Ｒ＝－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－６７：収率２８．６％、Ｒf ０．２２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５４５．８、紫外線最大吸収波長４５２ｎｍ、６３２ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－６８：収率１５．６％、Ｒf ０．４６、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５３１．９、紫外線最大吸収波長４４５ｎｍ、６２２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－６７、ＨＢ－６８の構造式は図示したとおりである。
ヒポクレリンＢヒドラジン（Ｒ＝－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－６７：収率２８．６％、Ｒf ０．２２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５４５．８、紫外線最大吸収波長４５２ｎｍ、６３２ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－６８：収率１５．６％、Ｒf ０．４６、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５３１．９、紫外線最大吸収波長４４５ｎｍ、６２２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－６７、ＨＢ－６８の構造式は図示したとおりである。
【化46】
【0076】
実施例３７
脱アセチル化ヒポクレリンＢヒドラジン（Ｒ＝－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。前記生成物：収率２１．５％、Ｒf ０．２８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ４８８．８、紫外線最大吸収波長４５２ｎｍ、６４０ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－６９（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－７０（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
脱アセチル化ヒポクレリンＢヒドラジン（Ｒ＝－ＯＨ）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。前記生成物：収率２１．５％、Ｒf ０．２８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ４８８．８、紫外線最大吸収波長４５２ｎｍ、６４０ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－６９（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－７０（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
【化47】
【0077】
実施例３８
シクロヘキシルアミン修飾ヒポクレリン（Ｒ＝－Ｃ6Ｈ11）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－７１：収率５８．６％、Ｒf ０．５８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６７７．５、紫外線最大吸収波長４４８ｎｍ、６２６ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－７２：収率１２．６％、Ｒf ０．８２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５９６．９、紫外線最大吸収波長４４６ｎｍ、６１８ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－７１、ＨＢ－７２の構造式は図示したとおりである。
シクロヘキシルアミン修飾ヒポクレリン（Ｒ＝－Ｃ6Ｈ11）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－７１：収率５８．６％、Ｒf ０．５８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６７７．５、紫外線最大吸収波長４４８ｎｍ、６２６ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－７２：収率１２．６％、Ｒf ０．８２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５９６．９、紫外線最大吸収波長４４６ｎｍ、６１８ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－７１、ＨＢ－７２の構造式は図示したとおりである。
【化48】
【0078】
実施例３９
シクロヘキシルアミン修飾脱アセチル化ヒポクレリン（Ｒ＝－Ｃ6Ｈ11）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミンヒポクレリン誘導体の製造と類似する。前記生成物：収率２６．４％、Ｒf ０．３０；質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５５３．８、紫外線最大吸収波長４５０ｎｍ、６３８ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－７３（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－７４（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
シクロヘキシルアミン修飾脱アセチル化ヒポクレリン（Ｒ＝－Ｃ6Ｈ11）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミンヒポクレリン誘導体の製造と類似する。前記生成物：収率２６．４％、Ｒf ０．３０；質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５５３．８、紫外線最大吸収波長４５０ｎｍ、６３８ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－７３（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－７４（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
【化49】
【0079】
実施例４０
シクロブチルアミン修飾ヒポクレリン（Ｒ＝－Ｃ4Ｈ7）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－７５：収率３５．６％、Ｒf ０．５２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６２１．５、紫外線最大吸収波長４５０ｎｍ、６３０ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－７６：収率１５．６％、Ｒf ０．８０、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５６８．９、紫外線最大吸収波長４４８ｎｍ、６２２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－７５、ＨＢ－７６の構造式は図示したとおりである。
シクロブチルアミン修飾ヒポクレリン（Ｒ＝－Ｃ4Ｈ7）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－７５：収率３５．６％、Ｒf ０．５２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６２１．５、紫外線最大吸収波長４５０ｎｍ、６３０ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－７６：収率１５．６％、Ｒf ０．８０、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５６８．９、紫外線最大吸収波長４４８ｎｍ、６２２ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－７５、ＨＢ－７６の構造式は図示したとおりである。
【化50】
【0080】
実施例４１
シクロペンチルアミン修飾ヒポクレリン（Ｒ＝－Ｃ5Ｈ9）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－７７：収率２５．８％、Ｒf ０．５６、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６４９．５、紫外線最大吸収波長４５２ｎｍ、６３２ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－７８：収率１０．２％、Ｒf ０．８５、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５８１．９、紫外線最大吸収波長４５０ｎｍ、６２５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－７７、ＨＢ－７８の構造式は図示したとおりである。
シクロペンチルアミン修飾ヒポクレリン（Ｒ＝－Ｃ5Ｈ9）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－７７：収率２５．８％、Ｒf ０．５６、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６４９．５、紫外線最大吸収波長４５２ｎｍ、６３２ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－７８：収率１０．２％、Ｒf ０．８５、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５８１．９、紫外線最大吸収波長４５０ｎｍ、６２５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－７７、ＨＢ－７８の構造式は図示したとおりである。
【化51】
【0081】
実施例４２
シクロヘプタミン修飾ヒポクレリン（Ｒ＝－Ｃ5Ｈ9）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－７９：収率２８．１％、Ｒf ０．５８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７０５．５、紫外線最大吸収波長４５４ｎｍ、６３４ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－８０：収率１５．０％、Ｒf ０．７５、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６１０．２、紫外線最大吸収波長４５２ｎｍ、６２７ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－７９、ＨＢ－８０の構造式は図示したとおりである。
シクロヘプタミン修飾ヒポクレリン（Ｒ＝－Ｃ5Ｈ9）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－７９：収率２８．１％、Ｒf ０．５８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７０５．５、紫外線最大吸収波長４５４ｎｍ、６３４ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－８０：収率１５．０％、Ｒf ０．７５、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６１０．２、紫外線最大吸収波長４５２ｎｍ、６２７ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－７９、ＨＢ－８０の構造式は図示したとおりである。
【化52】
【0082】
実施例４３
パラメチルシクロヘキシルアミン修飾ヒポクレリン（Ｒ＝－Ｃ6Ｈ10ＣＨ3）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－８１：収率４６．６％、Ｒf ０．５２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７０５．５、紫外線最大吸収波長４５０ｎｍ、６２８ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－８２：収率１０．１％、Ｒf ０．８０、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６１０．４、紫外線最大吸収波長４４８ｎｍ、６２１ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－８１、ＨＢ－８２の構造式は図示したとおりである。
パラメチルシクロヘキシルアミン修飾ヒポクレリン（Ｒ＝－Ｃ6Ｈ10ＣＨ3）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－８１：収率４６．６％、Ｒf ０．５２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７０５．５、紫外線最大吸収波長４５０ｎｍ、６２８ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－８２：収率１０．１％、Ｒf ０．８０、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６１０．４、紫外線最大吸収波長４４８ｎｍ、６２１ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－８１、ＨＢ－８２の構造式は図示したとおりである。
【化53】
【0083】
実施例４４
４－アミノピペリジン修飾ヒポクレリン（Ｒ＝－Ｃ5Ｈ10Ｎ）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－８３：収率２６．５％、Ｒf ０．５０、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６７９．５、紫外線最大吸収波長４５２ｎｍ、６３０ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－８４：収率２０．１％、Ｒf ０．８２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５９７．４、紫外線最大吸収波長４５０ｎｍ、６２５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－８１、ＨＢ－８２の構造式は図示したとおりである。
４－アミノピペリジン修飾ヒポクレリン（Ｒ＝－Ｃ5Ｈ10Ｎ）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－８３：収率２６．５％、Ｒf ０．５０、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６７９．５、紫外線最大吸収波長４５２ｎｍ、６３０ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－８４：収率２０．１％、Ｒf ０．８２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５９７．４、紫外線最大吸収波長４５０ｎｍ、６２５ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－８１、ＨＢ－８２の構造式は図示したとおりである。
【化54】
【0084】
実施例４５
３－ブテナミン修飾ヒポクレリン（Ｒ＝－Ｃ4Ｈ7）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－８５：収率１６．５％、Ｒf ０．５２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６２１．７、紫外線最大吸収波長４５０ｎｍ、６３２ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－８６：収率２８．１％、Ｒf ０．８４、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５６８．９、紫外線最大吸収波長４５１ｎｍ、６２８ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－８５、ＨＢ－８６の構造式は図示したとおりである。
３－ブテナミン修飾ヒポクレリン（Ｒ＝－Ｃ4Ｈ7）の製造
合成方法は実施例２５のヘキシルアミン修飾ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－８５：収率１６．５％、Ｒf ０．５２、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６２１．７、紫外線最大吸収波長４５０ｎｍ、６３２ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－８６：収率２８．１％、Ｒf ０．８４、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ５６８．９、紫外線最大吸収波長４５１ｎｍ、６２８ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－８５、ＨＢ－８６の構造式は図示したとおりである。
【化55】
【0085】
実施例４６
Ｎ,Ｎ－ジメチル－Ｎ－デシルアンモニウム－エチルジアミノ脱アセチル化ヒポクレリンＢ（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ10Ｈ21））の製造
合成経路は、図４に示されるように、脱アセチル化ヒポクレリンＨＣ（１００ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）と実施例３で製造された長鎖第四級アンモニウム塩誘導体Ｓ３（２２４ｍｇ、０．７２ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリル２０ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、５０℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１０ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去した。青黒色の固体残留物をジクロロメタン２００ｍＬで溶解して、順に希塩酸水溶液５０ｍＬで１回洗浄して、蒸留水で２回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過し、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、アセトン：酢酸エチル：エタノール：ジエチルアミン（体積比２０：１：１：３）を展開剤として、それぞれ２種の青黒色の固体生成物を得た。得られた生成物：収率２４．２％、Ｒf ０．３７、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６８４．５、紫外線最大吸収波長４５３ｎｍ、６３０ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－８７（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－８８（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
Ｎ,Ｎ－ジメチル－Ｎ－デシルアンモニウム－エチルジアミノ脱アセチル化ヒポクレリンＢ（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ10Ｈ21））の製造
合成経路は、図４に示されるように、脱アセチル化ヒポクレリンＨＣ（１００ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）と実施例３で製造された長鎖第四級アンモニウム塩誘導体Ｓ３（２２４ｍｇ、０．７２ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリル２０ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、５０℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１０ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去した。青黒色の固体残留物をジクロロメタン２００ｍＬで溶解して、順に希塩酸水溶液５０ｍＬで１回洗浄して、蒸留水で２回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過し、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、アセトン：酢酸エチル：エタノール：ジエチルアミン（体積比２０：１：１：３）を展開剤として、それぞれ２種の青黒色の固体生成物を得た。得られた生成物：収率２４．２％、Ｒf ０．３７、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ６８４．５、紫外線最大吸収波長４５３ｎｍ、６３０ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－８７（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－８８（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
【化56】
【0086】
実施例４７
Ｎ,Ｎ－ジメチル－Ｎ－デシルアンモニウム－ブチレンジアミンアミノヒポクレリンＢ（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ12Ｈ23））の製造
合成方法は実施例４６の第四級アンモニウム塩含有ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた生成物２－位アミノ置換生成物：収率１５．４％、Ｒf ０．３６、キャラクタリゼーションデータ：ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７３９．５、紫外線最大吸収波長４６２ｎｍ、６２４ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－８９（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－９０（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
Ｎ,Ｎ－ジメチル－Ｎ－デシルアンモニウム－ブチレンジアミンアミノヒポクレリンＢ（Ｒ＝－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ12Ｈ23））の製造
合成方法は実施例４６の第四級アンモニウム塩含有ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた生成物２－位アミノ置換生成物：収率１５．４％、Ｒf ０．３６、キャラクタリゼーションデータ：ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７３９．５、紫外線最大吸収波長４６２ｎｍ、６２４ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－８９（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－９０（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
【化57】
【0087】
実施例４８
Ｎ,Ｎ,Ｎ－トリメチルアンモニウム－デカンジアミンヒポクレリンＢ（Ｒ＝－（ＣＨ2）10－Ｎ+（ＣＨ3）3）の製造
合成方法は実施例４６の第四級アンモニウム塩含有ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた２－位アミノ置換生成物：収率８．８％、Ｒf ０．３５、キャラクタリゼーションデータ：ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７９１．２、紫外線最大吸収波長４６４ｎｍ、６２６ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－９１（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－９２（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
Ｎ,Ｎ,Ｎ－トリメチルアンモニウム－デカンジアミンヒポクレリンＢ（Ｒ＝－（ＣＨ2）10－Ｎ+（ＣＨ3）3）の製造
合成方法は実施例４６の第四級アンモニウム塩含有ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた２－位アミノ置換生成物：収率８．８％、Ｒf ０．３５、キャラクタリゼーションデータ：ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７９１．２、紫外線最大吸収波長４６４ｎｍ、６２６ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－９１（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－９２（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
【化58】
【0088】
実施例４９
Ｎ,Ｎ－ジメチル－Ｎ－デシルポリグリコールアミノヒポクレリンＢ（Ｒ＝－（ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ10Ｈ21））の製造
合成方法は実施例４６の第四級アンモニウム塩含有ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた２－位アミノ置換生成物：収率１５．５％、Ｒf ０．２８。キャラクタリゼーションデータ：ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７７１．２、紫外線最大吸収波長４６２ｎｍ、６２８ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－９３（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－９４（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
Ｎ,Ｎ－ジメチル－Ｎ－デシルポリグリコールアミノヒポクレリンＢ（Ｒ＝－（ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2－Ｎ+（ＣＨ3）2（Ｃ10Ｈ21））の製造
合成方法は実施例４６の第四級アンモニウム塩含有ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。得られた２－位アミノ置換生成物：収率１５．５％、Ｒf ０．２８。キャラクタリゼーションデータ：ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７７１．２、紫外線最大吸収波長４６２ｎｍ、６２８ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＣ－９３（二重結合はＣ13＝Ｃ14に位置する）又はＨＣ－９４（二重結合はＣ14＝Ｃ15に位置する）の構造式は図示したとおりである。
【化59】
【0089】
実施例５０
ピペラジノ脱アセチル化ヒポクレリンの製造
脱アセチル化ヒポクレリンＨＣ（１００ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）とエチレンジアミン（４２１ｍｇ、２ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリル２０ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、４５℃に加熱して、遮光下撹拌しながら６ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去した。青黒色の固体残留物をジクロロメタン１００ｍＬで溶解して、希塩酸水溶液５０ｍＬで３回洗浄して、蒸留水で１回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過し、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、アセトン：酢酸エチル：エタノール：ジエチルアミン（体積比２０：１：１：１）を展開剤として、青黒色の固体生成物を得て、収率は４９．８％、Ｒfは０．４５であった。生成物のキャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,４９７．３。紫外線最大吸収波長：４６２ｎｍ、６５０ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＣ－９５に示される。
ピペラジノ脱アセチル化ヒポクレリンの製造
脱アセチル化ヒポクレリンＨＣ（１００ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）とエチレンジアミン（４２１ｍｇ、２ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリル２０ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、４５℃に加熱して、遮光下撹拌しながら６ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去した。青黒色の固体残留物をジクロロメタン１００ｍＬで溶解して、希塩酸水溶液５０ｍＬで３回洗浄して、蒸留水で１回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過し、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、アセトン：酢酸エチル：エタノール：ジエチルアミン（体積比２０：１：１：１）を展開剤として、青黒色の固体生成物を得て、収率は４９．８％、Ｒfは０．４５であった。生成物のキャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,４９７．３。紫外線最大吸収波長：４６２ｎｍ、６５０ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＣ－９５に示される。
【化60】
【0090】
実施例５１
メチルピペラジノ脱アセチル化ヒポクレリンＢの製造
製造方法は実施例５０のピペラジノ脱アセチル化ヒポクレリンの製造と類似する。収率５９．８％、Ｒf ０．６０。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,５１１．３。紫外線最大吸収波長：４６５ｎｍ、６５２ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＣ－９６又はＨＣ－９７に示される。
メチルピペラジノ脱アセチル化ヒポクレリンＢの製造
製造方法は実施例５０のピペラジノ脱アセチル化ヒポクレリンの製造と類似する。収率５９．８％、Ｒf ０．６０。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,５１１．３。紫外線最大吸収波長：４６５ｎｍ、６５２ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＣ－９６又はＨＣ－９７に示される。
【化61】
【0091】
実施例５２
ジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
ヒポクレリンＢ ＨＢ（１００ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）とジメチルエチレンジアミン（４２１ｍｇ、２ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリル２０ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、４５℃に加熱して、遮光下撹拌しながら６ｈ反応させて、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去した。青黒色の固体残留物をジクロロメタン１００ｍＬで溶解して、希塩酸水溶液５０ｍＬで３回洗浄して、蒸留水で１回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過し、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、アセトン：酢酸エチル：エタノール：ジエチルアミン（体積比２０：１：１：１）を展開剤として、青黒色の固体生成物を得て、収率は１９．８％、Ｒfは０．４５であった。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,５６９．３。紫外線最大吸収波長：４６２ｎｍ、６５０ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－９８又はＨＢ－９９に示される。
ジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
ヒポクレリンＢ ＨＢ（１００ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）とジメチルエチレンジアミン（４２１ｍｇ、２ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリル２０ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、４５℃に加熱して、遮光下撹拌しながら６ｈ反応させて、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去した。青黒色の固体残留物をジクロロメタン１００ｍＬで溶解して、希塩酸水溶液５０ｍＬで３回洗浄して、蒸留水で１回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過し、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、アセトン：酢酸エチル：エタノール：ジエチルアミン（体積比２０：１：１：１）を展開剤として、青黒色の固体生成物を得て、収率は１９．８％、Ｒfは０．４５であった。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,５６９．３。紫外線最大吸収波長：４６２ｎｍ、６５０ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－９８又はＨＢ－９９に示される。
【化62】
【0092】
実施例５３
ジエチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率１８．８％、Ｒf ０．３８。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,５９６．８。紫外線最大吸収波長：４６５ｎｍ、６５５ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－９９又はＨＢ－１００に示される。
ジエチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率１８．８％、Ｒf ０．３８。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,５９６．８。紫外線最大吸収波長：４６５ｎｍ、６５５ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－９９又はＨＢ－１００に示される。
【化63】
【0093】
実施例５４
ジプロピルピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率２１．２％、Ｒf ０．３５。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,５９６．８。紫外線最大吸収波長：４６２ｎｍ、６５２ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１０１又はＨＢ－１０２に示される。
ジプロピルピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率２１．２％、Ｒf ０．３５。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,５９６．８。紫外線最大吸収波長：４６２ｎｍ、６５２ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１０１又はＨＢ－１０２に示される。
【化64】
【0094】
実施例５５
ジブチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率２１．５％、Ｒf ０．３８。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,６０９．８。紫外線最大吸収波長：４６８ｎｍ、６５７ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＣ－１０３又はＨＣ－１０４に示される。
ジブチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率２１．５％、Ｒf ０．３８。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,６０９．８。紫外線最大吸収波長：４６８ｎｍ、６５７ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＣ－１０３又はＨＣ－１０４に示される。
【化65】
【0095】
実施例５６
ジブチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率１８．８％、Ｒf ０．３８。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,６６５．８。紫外線最大吸収波長：４６５ｎｍ、６５５ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＣ－１０５又はＨＣ－１０６に示される。
ジブチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率１８．８％、Ｒf ０．３８。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,６６５．８。紫外線最大吸収波長：４６５ｎｍ、６５５ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＣ－１０５又はＨＣ－１０６に示される。
【化66】
【0096】
実施例５７
トリメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率２３．４％、Ｒf ０．４８。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,５６９．３。紫外線最大吸収波長：４６４ｎｍ、６５２ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１０７又はＨＢ－１０８に示される。
トリメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率２３．４％、Ｒf ０．４８。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,５６９．３。紫外線最大吸収波長：４６４ｎｍ、６５２ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１０７又はＨＢ－１０８に示される。
【化67】
【0097】
実施例５８
ジブチル－メチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率１８．８％、Ｒf ０．３８。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,５９６．８。紫外線最大吸収波長：４６５ｎｍ、６５５ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１０９又はＨＢ－１１０に示される。
ジブチル－メチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率１８．８％、Ｒf ０．３８。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,５９６．８。紫外線最大吸収波長：４６５ｎｍ、６５５ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１０９又はＨＢ－１１０に示される。
【化68】
【0098】
実施例５９
ジヘキシル－メチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率１８．８％、Ｒf ０．３８。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,５９６．８。紫外線最大吸収波長：４６５ｎｍ、６５５ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１１１又はＨＢ－１１２に示される。
ジヘキシル－メチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率１８．８％、Ｒf ０．３８。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,５９６．８。紫外線最大吸収波長：４６５ｎｍ、６５５ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１１１又はＨＢ－１１２に示される。
【化69】
【0099】
実施例６０
ジメチル－ヒドロキシエチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率１２．５％、Ｒf ０．３５。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,６１１．６。紫外線最大吸収波長：４６３ｎｍ、６５２ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１１３又はＨＢ－１１４に示される。
ジメチル－ヒドロキシエチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率１２．５％、Ｒf ０．３５。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,６１１．６。紫外線最大吸収波長：４６３ｎｍ、６５２ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１１３又はＨＢ－１１４に示される。
【化70】
【0100】
実施例６１
ジメチル－ジエチレングリコールピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率１３．８％、Ｒf ０．４０。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,６５５．６。紫外線最大吸収波長：４６０ｎｍ、６５５ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１１５又はＨＢ－１１６に示される。
ジメチル－ジエチレングリコールピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率１３．８％、Ｒf ０．４０。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,６５５．６。紫外線最大吸収波長：４６０ｎｍ、６５５ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１１５又はＨＢ－１１６に示される。
【化71】
【0101】
実施例６２
ジメチル－トリエチレングリコールピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率８．５％、Ｒf ０．４５。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,６９９．１。紫外線最大吸収波長：４６２ｎｍ、６５８ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１１７又はＨＢ－１１８に示される。
ジメチル－トリエチレングリコールピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率８．５％、Ｒf ０．４５。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,６９９．１。紫外線最大吸収波長：４６２ｎｍ、６５８ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１１７又はＨＢ－１１８に示される。
【化72】
【0102】
実施例６３
ジメチル－トリエチレングリコールピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率８．５％、Ｒf ０．４５。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,７４５．５。紫外線最大吸収波長：４６２ｎｍ、６５８ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１１９又はＨＢ－１２０に示される。
ジメチル－トリエチレングリコールピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例５２のジメチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率８．５％、Ｒf ０．４５。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,７４５．５。紫外線最大吸収波長：４６２ｎｍ、６５８ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１１９又はＨＢ－１２０に示される。
【化73】
【0103】
実施例６４
ジヒドロキシエチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
ヒポクレリンＢ ＨＢ（１００ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）とジヒドロキシエチルエチレンジアミン（４２１ｍｇ、２ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリル２０ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、４５℃に加熱して、遮光下撹拌しながら６ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去した。青黒色の固体残留物をジクロロメタン１００ｍＬで溶解して、希塩酸水溶液５０ｍＬで３回洗浄して、蒸留水で１回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過し、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、アセトン：酢酸エチル：エタノール：ジエチルアミン（体積比２０：１：１：１）を展開剤として、青黒色の固体生成物を得て、収率は１８．５％、Ｒfは０．２１であった。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,５８３．５。紫外線最大吸収波長：４６３ｎｍ、６５０ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１２１とＨＢ－１２２に示される。
ジヒドロキシエチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
ヒポクレリンＢ ＨＢ（１００ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）とジヒドロキシエチルエチレンジアミン（４２１ｍｇ、２ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリル２０ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、４５℃に加熱して、遮光下撹拌しながら６ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去した。青黒色の固体残留物をジクロロメタン１００ｍＬで溶解して、希塩酸水溶液５０ｍＬで３回洗浄して、蒸留水で１回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させて濾過し、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、アセトン：酢酸エチル：エタノール：ジエチルアミン（体積比２０：１：１：１）を展開剤として、青黒色の固体生成物を得て、収率は１８．５％、Ｒfは０．２１であった。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,５８３．５。紫外線最大吸収波長：４６３ｎｍ、６５０ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１２１とＨＢ－１２２に示される。
【化74】
【0104】
実施例６５
ジヘキシル－ヒドロキシエチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例６４のジヒドロキシエチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率２５．５％、Ｒf ０．４１。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,５９６．８。紫外線最大吸収波長：４６８ｎｍ、６５２ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１２３とＨＢ－１２４に示される。
ジヘキシル－ヒドロキシエチルピペラジノヒポクレリンＢの製造
合成方法は実施例６４のジヒドロキシエチルピペラジノヒポクレリンＢの製造と類似する。収率２５．５％、Ｒf ０．４１。生成物キャラクタリゼーションデータ：ＥＳＩ ＭＳ：ｍ／ｚ,５９６．８。紫外線最大吸収波長：４６８ｎｍ、６５２ｎｍ。前記生成物の構造式はそれぞれ式ＨＢ－１２３とＨＢ－１２４に示される。
【化75】
【0105】
実施例６６
ＤＡＢＡＣＯ第四級アンモニウム塩修飾ヒポクレリンＢ誘導体の製造
合成方法は実施例４６の第四級アンモニウム塩含有ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－１２５：収率１２．４％、Ｒf ０．２８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ９４１．２、紫外線最大吸収波長４５５ｎｍ、６３５ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－１２６：収率１６．５％、Ｒf ０．４８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７４６．９。紫外線最大吸収波長：４５１ｎｍ、６２４ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－１２５、ＨＢ－１２６の構造式は図示したとおりである。
ＤＡＢＡＣＯ第四級アンモニウム塩修飾ヒポクレリンＢ誘導体の製造
合成方法は実施例４６の第四級アンモニウム塩含有ヒポクレリン誘導体の製造と類似する。２,１７位アミノ置換生成物ＨＢ－１２５：収率１２．４％、Ｒf ０．２８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ９４１．２、紫外線最大吸収波長４５５ｎｍ、６３５ｎｍ。２－位アミノ置換生成物ＨＢ－１２６：収率１６．５％、Ｒf ０．４８、質量スペクトルＭＳ （ＥＳＩ＋）： ７４６．９。紫外線最大吸収波長：４５１ｎｍ、６２４ｎｍ。前記アミノ置換生成物ＨＢ－１２５、ＨＢ－１２６の構造式は図示したとおりである。
【化76】
【0106】
実施例６７
化合物１の製造方法は文献Ｐｈｏｔｏｒｅａｃｔｉｏｎｓ ｏｆ ｈｙｐｏｃｒｅｌｌｉｎ Ｂ ｗｉｔｈ ｔｈｉｏｌ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ,Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｏｔｏｂｉｏｌｏｇｙ Ｂ： Ｂｉｏｌｏｇｙ,１９９８,４４,４５－５２；Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ ａ ｎｅｗ ｗａｔｅｒ－ｓｏｌｕｂｌｅ ｐｈｏｔｏｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃ ｓｅｎｓｉｔｉｚｅｒ ｆｒｏｍ ｈｙｐｏｃｒｅｌｌｉｎ Ｂ ｗｉｔｈ ｅｎｈａｎｃｅｄ ｒｅｄ ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ,Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ ａ ｎｅｗ ｗａｔｅｒ－ｓｏｌｕｂｌｅ ｐｈｏｔｏｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃ ｓｅｎｓｉｔｉｚｅｒ,Ｄｙｅｓ ａｎｄ Ｐｉｇｍｅｎｔｓ,１９９９,４,９３－１００を参照すればよい。ヒポクレリンＢ ＨＢ（０．２ｍＭ）５ｍＬとメルカプトエチルアミン塩酸塩（０．０１ｍＭ）のエタノール／水緩衝溶液（１／３、ｐＨ＝１０）の１０群を１０個の光化学反応器に投入して、室温下、４５０Ｗの高圧ナトリウムランプで光照射を２０分間（ガラスロングパスフィルターで４７０ｎｍ以下の光をフィルタリングする）行った。反応終了後、１０％の塩酸で酸性化した後、クロロホルムで抽出して、クロロホルム相を水で洗浄して回転乾燥させて、粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、クロロホルム：メタノール（体積比９９：１）を展開剤として、４と５位置換、８と９位置換又は両方ともに置換されたＨＢ混合物を得て、次にＨＰＬＣで分離して、化合物１を収率２５．２％で得た。ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ｍ／ｚ Ｃ32Ｈ27ＮＯ8Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝５８６．１。
１００ｍｇの化合物１とｎ－ブチルアミン１０ｍＬをピリジン１００ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、５０℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１０ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去し、固体残留物をクロロホルム１００ｍＬで溶解して、希塩酸水溶液５０ｍＬで複数回洗浄して溶液を中性にし、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品を１％のＫＨ2ＰＯ4シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、石油エーテル：酢酸エチル：エタノール（体積比４：２．５：１）を展開剤として、それぞれ生成物Ｉ－１、Ｉ－２を得た。Ｉ－１：収率４０．４％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ35Ｈ34Ｎ2Ｏ7Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝５２７．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、６８２ｎｍ（４．３）。Ｉ－２：収率１２．９％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ39Ｈ43Ｎ3Ｏ6Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝６８２．３；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、６９１ｎｍ（４．２）。
暗毒性実験
所定濃度のＨｅｌａ細胞を９６ウェルプレートに接種して、１２－２４時間培養後、９６ウェルプレートにおける古い培養液を除去し、異なる濃度の化合物Ｉ－１溶液を加えて、１ｈインキュベートした後、光増感剤溶液を除去し、新しい培養液を加えて、３７℃、５％ＣＯ2環境下で２４ｈ培養し、ＭＴＴ法により各群の細胞の生存率を検出した。図１６ａに示されるように、化合物Ｉ－１は細胞毒性が極めて小さく、市販光増感剤であるクロリンＣｅ６とヒポクレリンＢ ＨＢの細胞毒性に等しい程度である。
光毒性実験
化合物Ｉ－１、ＨＢ及びＣｅ６光増感剤をそれぞれ異なる濃度でＨｅＬａ細胞と共インキュベートして、３７℃の５％ＣＯ2を含むインキュベータに入れて１ｈインキュベートした後、波長６７１ｎｍのレーザを用いて、電力密度５０ｍＷ／ｃｍ2で２０ｍｉｎ照射し、対応処理終了後、３７℃の５％ＣＯ2を含むインキュベータに入れて培養し続けて２４ｈインキュベートし、ＭＴＴ法により各群の細胞の生存率を検出した。図１６ｂに示されるように、２００ｎＭの化合物Ｉ－１は９０％以上のＨｅｌａ細胞を殺滅でき、同一条件において市販光増感剤Ｃｅ６は３０％程度のＨｅｌａ細胞しか殺滅できなかった。
【化77】
１００ｍｇの化合物１とｎ－ブチルアミン１０ｍＬをピリジン１００ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、５０℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１０ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去し、固体残留物をクロロホルム１００ｍＬで溶解して、希塩酸水溶液５０ｍＬで複数回洗浄して溶液を中性にし、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品を１％のＫＨ2ＰＯ4シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、石油エーテル：酢酸エチル：エタノール（体積比４：２．５：１）を展開剤として、それぞれ生成物Ｉ－１、Ｉ－２を得た。Ｉ－１：収率４０．４％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ35Ｈ34Ｎ2Ｏ7Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝５２７．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、６８２ｎｍ（４．３）。Ｉ－２：収率１２．９％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ39Ｈ43Ｎ3Ｏ6Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝６８２．３；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、６９１ｎｍ（４．２）。
暗毒性実験
所定濃度のＨｅｌａ細胞を９６ウェルプレートに接種して、１２－２４時間培養後、９６ウェルプレートにおける古い培養液を除去し、異なる濃度の化合物Ｉ－１溶液を加えて、１ｈインキュベートした後、光増感剤溶液を除去し、新しい培養液を加えて、３７℃、５％ＣＯ2環境下で２４ｈ培養し、ＭＴＴ法により各群の細胞の生存率を検出した。図１６ａに示されるように、化合物Ｉ－１は細胞毒性が極めて小さく、市販光増感剤であるクロリンＣｅ６とヒポクレリンＢ ＨＢの細胞毒性に等しい程度である。
光毒性実験
化合物Ｉ－１、ＨＢ及びＣｅ６光増感剤をそれぞれ異なる濃度でＨｅＬａ細胞と共インキュベートして、３７℃の５％ＣＯ2を含むインキュベータに入れて１ｈインキュベートした後、波長６７１ｎｍのレーザを用いて、電力密度５０ｍＷ／ｃｍ2で２０ｍｉｎ照射し、対応処理終了後、３７℃の５％ＣＯ2を含むインキュベータに入れて培養し続けて２４ｈインキュベートし、ＭＴＴ法により各群の細胞の生存率を検出した。図１６ｂに示されるように、２００ｎＭの化合物Ｉ－１は９０％以上のＨｅｌａ細胞を殺滅でき、同一条件において市販光増感剤Ｃｅ６は３０％程度のＨｅｌａ細胞しか殺滅できなかった。
【0107】
実施例６８
化合物２の製造方法は文献Ｐｈｏｔｏｒｅａｃｔｉｏｎｓ ｏｆ ｈｙｐｏｃｒｅｌｌｉｎ Ｂ ｗｉｔｈ ｔｈｉｏｌ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ,Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｏｔｏｂｉｏｌｏｇｙ Ｂ： Ｂｉｏｌｏｇｙ,１９９８,４４,４５－５２；Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ ａ ｎｅｗ ｗａｔｅｒ－ｓｏｌｕｂｌｅ ｐｈｏｔｏｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃ ｓｅｎｓｉｔｉｚｅｒ,Ｄｙｅｓ ａｎｄ Ｐｉｇｍｅｎｔｓ,１９９９,４,９３－１００を参照すればよい。５ｍＬのヒポクレリンＢ ＨＢ（０．５ｍＭ）とシステイン塩酸塩（０．０５ｍＭ）のメタノール／水緩衝溶液（１／３、ｐＨ＝１１）の１０群を１０個の光化学反応器に投入して、室温下、４５０Ｗの高圧ナトリウムランプで光照射を２０分間（ガラスロングパスフィルターで４７０ｎｍ以下の光をフィルタリングする）行った。反応終了後、１０％塩酸で酸性化した後、クロロホルムで抽出して、クロロホルム相を水で洗浄して回転乾燥させて、粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、クロロホルム：メタノール（体積比９８：１）を展開剤として、４と５位置換、８と９位置換ＨＢの混合物を得て、次にＨＰＬＣで分離して化合物２を収率２４．５％で得た。ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ｍ／ｚ Ｃ33Ｈ27ＮＯ10Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝６３０．１。
１００ｍｇの化合物２とｎ－ドデシルアミン５ｍＬをピリジン１００ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、５０℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１５ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去し、固体残留物をクロロホルム１００ｍＬで溶解して、希塩酸水溶液５０ｍＬで溶液を洗浄して中性にし、有機相を回転乾燥させて、粗製品を得た。得られた粗製品を１．５％のＫＨ2ＰＯ4シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により分離して、石油エーテル：酢酸エチル：エタノール（体積比４：２．５：１）を展開剤として、２種の生成物Ｉ－３、Ｉ－４を得た。Ｉ－３：収率２０．４％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ44Ｈ50Ｎ2Ｏ9Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝７８３．３；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、６８０ｎｍ（４．３）。Ｉ－４：収率１０．１％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ39Ｈ43Ｎ3Ｏ6Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝９５０．５；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、６９１ｎｍ（４．２）。
【化78】
１００ｍｇの化合物２とｎ－ドデシルアミン５ｍＬをピリジン１００ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、５０℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１５ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去し、固体残留物をクロロホルム１００ｍＬで溶解して、希塩酸水溶液５０ｍＬで溶液を洗浄して中性にし、有機相を回転乾燥させて、粗製品を得た。得られた粗製品を１．５％のＫＨ2ＰＯ4シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により分離して、石油エーテル：酢酸エチル：エタノール（体積比４：２．５：１）を展開剤として、２種の生成物Ｉ－３、Ｉ－４を得た。Ｉ－３：収率２０．４％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ44Ｈ50Ｎ2Ｏ9Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝７８３．３；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、６８０ｎｍ（４．３）。Ｉ－４：収率１０．１％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ39Ｈ43Ｎ3Ｏ6Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝９５０．５；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、６９１ｎｍ（４．２）。
【0108】
実施例６９
実施例６７の方法と同様に、ヒポクレリンＢ ＨＢ（０．５ｍＭ）５ｍＬとメルカプトエチルアミン塩酸塩（０．１ｍＭ）のエタノール／水緩衝溶液（１／３、ｐＨ＝１１）の１０群を１０個の光化学反応器に投入して、室温下、４５０Ｗの高圧ナトリウムランプで光照射を３０分間（ガラスロングパスフィルターで４７０ｎｍ以下の光をフィルタリングする）行った。反応終了後、１０％の塩酸で酸性化した後、クロロホルムで抽出して、クロロホルム相を水で洗浄して回転乾燥させて、粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、クロロホルム：メタノール（体積比９９：１）を展開剤として、４と５位置換、８と９位置換又は両方ともに置換されたＨＢ混合物を得て、ＨＰＬＣで分離して化合物３を収率３０．９％で得た。ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ｍ／ｚ Ｃ34Ｈ30Ｎ2Ｏ7Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝６４３．１。
１００ｍｇの化合物３と６－Ｎ,Ｎ－ジメチルアミノ－ｎ－ヘキシルアミン１０ｍＬとを５０ｍＬテトラヒドロフランに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、５５℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１８ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去し、固体残留物をクロロホルム１００ｍＬで溶解して、希塩酸水溶液５０ｍＬで複数回洗浄して溶液を中性にし、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品を２％のＫＨ2ＰＯ4シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、石油エーテル：酢酸エチル：エタノール（体積比３：２：１）を展開剤として、分離して２種の生成物Ｉ－５、Ｉ－６を得た。Ｉ－５：収率２６．４％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ41Ｈ46Ｎ4Ｏ6Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝７５５．３；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７１２ｎｍ（４．０）。Ｉ－６：収率１５．１％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ49Ｈ64Ｎ6Ｏ5Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝８８１．４；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７２０ｎｍ（４．１）。
【化79】
１００ｍｇの化合物３と６－Ｎ,Ｎ－ジメチルアミノ－ｎ－ヘキシルアミン１０ｍＬとを５０ｍＬテトラヒドロフランに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、５５℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１８ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去し、固体残留物をクロロホルム１００ｍＬで溶解して、希塩酸水溶液５０ｍＬで複数回洗浄して溶液を中性にし、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品を２％のＫＨ2ＰＯ4シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、石油エーテル：酢酸エチル：エタノール（体積比３：２：１）を展開剤として、分離して２種の生成物Ｉ－５、Ｉ－６を得た。Ｉ－５：収率２６．４％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ41Ｈ46Ｎ4Ｏ6Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝７５５．３；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７１２ｎｍ（４．０）。Ｉ－６：収率１５．１％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ49Ｈ64Ｎ6Ｏ5Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝８８１．４；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７２０ｎｍ（４．１）。
【0109】
実施例７０
化合物４の製造方法は文献Ｐｈｏｔｏｒｅａｃｔｉｏｎｓ ｏｆ ｈｙｐｏｃｒｅｌｌｉｎ Ｂ ｗｉｔｈ ｔｈｉｏｌ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ,Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｏｔｏｂｉｏｌｏｇｙ Ｂ： Ｂｉｏｌｏｇｙ,１９９８,４４,４５－５２；Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ ａ ｎｅｗ ｗａｔｅｒ－ｓｏｌｕｂｌｅ ｐｈｏｔｏｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃ ｓｅｎｓｉｔｉｚｅｒ,Ｄｙｅｓ ａｎｄ Ｐｉｇｍｅｎｔｓ,１９９９,４,９３－１００を参照すればよい。ヒポクレリンＢ
ＨＢ（０．５ｍＭ）４ｍＬとメルカプトエチルアミン塩酸塩（０．０５ｍＭ）のエタノール／水緩衝溶液（１／３、ｐＨ＝１１）の１０群を１０個の光化学反応器に投入して、室温下、４５０Ｗの高圧ナトリウムランプで光照射を２０分間（ガラスロングパスフィルターで４７０ｎｍ以下の光をフィルタリングする）行った。反応終了後、１０％の塩酸で酸性化した後、クロロホルムで抽出して、クロロホルム相を水で洗浄して回転乾燥させて、粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、クロロホルム：メタノール（体積比９９：１）を展開剤として、４と５位置換、８と９位置換又は両方ともに置換されたＨＢ混合物を得て、次にＨＰＬＣで分離して化合物４を収率２７．３％で得た。ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ｍ／ｚ Ｃ40Ｈ42Ｎ2Ｏ7Ｓ2,［Ｍ＋ Ｈ］+＝７２７．２。
１００ｍｇの化合物４と６－スルホン酸ノルマルヘキシルアミン１ｇを１：１の８０ｍＬのジメチルスルホキシドと２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、１２０℃に加熱して、遮光下撹拌しながら４ｈ反応させ、反応終了後、希塩酸でｐＨを中性に調整して、回転蒸発させて溶剤を除去し、得られた粗製品を１％のＫＨ2ＰＯ4シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、ジクロロメタン：メタノール（体積比５：１）を展開剤とし、それぞれ生成物Ｉ－７、Ｉ－８を得た。Ｉ－７：収率３０．４％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ45Ｈ53Ｎ3Ｏ9Ｓ3,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝８７６．３；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７１５ｎｍ（４．４）。Ｉ－８：収率８．８％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ51Ｈ66Ｎ4Ｏ11Ｓ4,［Ｍ ＋Ｈ］+＝１０３９．３；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７２１ｎｍ（４．２）。
【化80】
ＨＢ（０．５ｍＭ）４ｍＬとメルカプトエチルアミン塩酸塩（０．０５ｍＭ）のエタノール／水緩衝溶液（１／３、ｐＨ＝１１）の１０群を１０個の光化学反応器に投入して、室温下、４５０Ｗの高圧ナトリウムランプで光照射を２０分間（ガラスロングパスフィルターで４７０ｎｍ以下の光をフィルタリングする）行った。反応終了後、１０％の塩酸で酸性化した後、クロロホルムで抽出して、クロロホルム相を水で洗浄して回転乾燥させて、粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、クロロホルム：メタノール（体積比９９：１）を展開剤として、４と５位置換、８と９位置換又は両方ともに置換されたＨＢ混合物を得て、次にＨＰＬＣで分離して化合物４を収率２７．３％で得た。ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ｍ／ｚ Ｃ40Ｈ42Ｎ2Ｏ7Ｓ2,［Ｍ＋ Ｈ］+＝７２７．２。
１００ｍｇの化合物４と６－スルホン酸ノルマルヘキシルアミン１ｇを１：１の８０ｍＬのジメチルスルホキシドと２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、１２０℃に加熱して、遮光下撹拌しながら４ｈ反応させ、反応終了後、希塩酸でｐＨを中性に調整して、回転蒸発させて溶剤を除去し、得られた粗製品を１％のＫＨ2ＰＯ4シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、ジクロロメタン：メタノール（体積比５：１）を展開剤とし、それぞれ生成物Ｉ－７、Ｉ－８を得た。Ｉ－７：収率３０．４％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ45Ｈ53Ｎ3Ｏ9Ｓ3,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝８７６．３；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７１５ｎｍ（４．４）。Ｉ－８：収率８．８％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ51Ｈ66Ｎ4Ｏ11Ｓ4,［Ｍ ＋Ｈ］+＝１０３９．３；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７２１ｎｍ（４．２）。
【0110】
実施例７１
１００ｍｇの化合物３とシクロペンチルアミン１０ｍＬをピリジン１００ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、５０℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１５ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去し、固体残留物をクロロホルム１００ｍＬで溶解して、希塩酸水溶液５０ｍＬで複数回洗浄して溶液を中性にし、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品を１％のＫＨ2ＰＯ4シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、石油エーテル：酢酸エチル：エタノール（体積比３：２：１）を展開剤として、分離して化合物Ｉ－９を得た。化合物Ｉ－９：収率４６．４％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ38Ｈ37Ｎ3Ｏ6Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝６９６．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７１０ｎｍ（４．２）。
【化81】
【0111】
実施例７２
化合物５の製造方法は文献Ｐｈｏｔｏｒｅａｃｔｉｏｎｓ ｏｆ ｈｙｐｏｃｒｅｌｌｉｎ Ｂ ｗｉｔｈ ｔｈｉｏｌ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ,Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｏｔｏｂｉｏｌｏｇｙ Ｂ： Ｂｉｏｌｏｇｙ,１９９８,４４,４５－５２；Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ ａ ｎｅｗ ｗａｔｅｒ－ｓｏｌｕｂｌｅ ｐｈｏｔｏｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃ ｓｅｎｓｉｔｉｚｅｒ,Ｄｙｅｓ ａｎｄ Ｐｉｇｍｅｎｔｓ,１９９９,４,９３－１００を参照すればよい。ヒポクレリンＢ
ＨＢ（０．５ｍＭ）５ｍＬとシステイントリエチレングリコールエステル（０．０５ｍＭ）のエタノール／水緩衝溶液（１／３、ｐＨ＝１０）の１０群を１０個の光化学反応器に投入して、室温下、４５０Ｗの高圧ナトリウムランプで光照射を１０分間（ガラスロングパスフィルターで４７０ｎｍ以下の光をフィルタリングする）行った。反応終了後、１０％の塩酸で酸性化した後、得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、クロロホルム：メタノール（体積比９９：１）を展開剤として、化合物１を収率３１．６％で得た。ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ｍ／ｚ Ｃ48Ｈ54Ｎ2Ｏ17Ｓ2,［Ｍ
＋ Ｈ］+＝９９５．３。
１００ｍｇの化合物５とベンジルアミン１０ｍＬをピリジン１００ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、５５℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１２ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去し、固体残留物をクロロホルム１００ｍＬで溶解して、希塩酸で溶液をｐＨを中性に調整し、回転乾燥させて、粗製品を得て、得られた粗製品を１．５％のＫＨ2ＰＯ4シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、石油エーテル：酢酸エチル：エタノール（体積比３：２：１）を展開剤として、化合物Ｉ－１０を得た。化合物Ｉ－１０：収率３８．６％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚＣ54Ｈ59Ｎ3Ｏ16Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝１０７０．３；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７１３ｎｍ（４．２）。
【化82】
ＨＢ（０．５ｍＭ）５ｍＬとシステイントリエチレングリコールエステル（０．０５ｍＭ）のエタノール／水緩衝溶液（１／３、ｐＨ＝１０）の１０群を１０個の光化学反応器に投入して、室温下、４５０Ｗの高圧ナトリウムランプで光照射を１０分間（ガラスロングパスフィルターで４７０ｎｍ以下の光をフィルタリングする）行った。反応終了後、１０％の塩酸で酸性化した後、得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、クロロホルム：メタノール（体積比９９：１）を展開剤として、化合物１を収率３１．６％で得た。ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ｍ／ｚ Ｃ48Ｈ54Ｎ2Ｏ17Ｓ2,［Ｍ
＋ Ｈ］+＝９９５．３。
１００ｍｇの化合物５とベンジルアミン１０ｍＬをピリジン１００ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、５５℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１２ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去し、固体残留物をクロロホルム１００ｍＬで溶解して、希塩酸で溶液をｐＨを中性に調整し、回転乾燥させて、粗製品を得て、得られた粗製品を１．５％のＫＨ2ＰＯ4シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、石油エーテル：酢酸エチル：エタノール（体積比３：２：１）を展開剤として、化合物Ｉ－１０を得た。化合物Ｉ－１０：収率３８．６％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚＣ54Ｈ59Ｎ3Ｏ16Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝１０７０．３；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７１３ｎｍ（４．２）。
【0112】
実施例７３
化合物６の製造方法は文献Ｐｈｏｔｏｒｅａｃｔｉｏｎｓ ｏｆ ｈｙｐｏｃｒｅｌｌｉｎ Ｂ ｗｉｔｈ ｔｈｉｏｌ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ,Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｏｔｏｂｉｏｌｏｇｙ Ｂ： Ｂｉｏｌｏｇｙ,１９９８,４４,４５－５２；Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ ａ ｎｅｗ ｗａｔｅｒ－ｓｏｌｕｂｌｅ ｐｈｏｔｏｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃ ｓｅｎｓｉｔｉｚｅｒ,Ｄｙｅｓ ａｎｄ Ｐｉｇｍｅｎｔｓ,１９９９,４,９３－１００を参照すればよい。ヒポクレリンＢ
ＨＢ（０．５ｍＭ）５ｍＬと２－ジメチルシステイン（０．１ｍＭ）のメタノール／水緩衝溶液（１／３、ｐＨ＝１１）の１０群を１０個の光化学反応器に投入して、室温下、４５０Ｗの高圧ナトリウムランプで光照射を３０分間（ガラスロングパスフィルターで４７０ｎｍ以下の光をフィルタリングする）行った。反応終了後、１０％の塩酸で酸性化した後、クロロホルムで洗浄して、水相を回転乾燥させて、得られた粗製品をＳｅｐｈａｄｅｘ Ｇ－１５ カラムクロマトグラフィーにより、水を溶離剤として処理して、化合物６を収率４０．２％で得た。ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ｍ／ｚ Ｃ40Ｈ38Ｎ2Ｏ11Ｓ2、［Ｍ ＋
Ｈ］+＝７８７．２。
１００ｍｇの化合物６と２－メチルアミノピリジン１０ｍＬをピリジン１００ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、６０℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１０ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去し、固体残留物をクロロホルム１００ｍＬで溶解して、希塩酸で溶液ｐＨを中性に調整し、回転乾燥させて、粗製品を得て、得られた粗製品を１．５％のＫＨ2ＰＯ4シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、石油エーテル：酢酸エチル：エタノール（体積比３：２：１）を展開剤として、化合物Ｉ－１１を得た。化合物Ｉ－１１：収率３３．９％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ45Ｈ42Ｎ4Ｏ10Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝８６３．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７０９ｎｍ（４．２）。
【化83】
ＨＢ（０．５ｍＭ）５ｍＬと２－ジメチルシステイン（０．１ｍＭ）のメタノール／水緩衝溶液（１／３、ｐＨ＝１１）の１０群を１０個の光化学反応器に投入して、室温下、４５０Ｗの高圧ナトリウムランプで光照射を３０分間（ガラスロングパスフィルターで４７０ｎｍ以下の光をフィルタリングする）行った。反応終了後、１０％の塩酸で酸性化した後、クロロホルムで洗浄して、水相を回転乾燥させて、得られた粗製品をＳｅｐｈａｄｅｘ Ｇ－１５ カラムクロマトグラフィーにより、水を溶離剤として処理して、化合物６を収率４０．２％で得た。ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ｍ／ｚ Ｃ40Ｈ38Ｎ2Ｏ11Ｓ2、［Ｍ ＋
Ｈ］+＝７８７．２。
１００ｍｇの化合物６と２－メチルアミノピリジン１０ｍＬをピリジン１００ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、６０℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１０ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去し、固体残留物をクロロホルム１００ｍＬで溶解して、希塩酸で溶液ｐＨを中性に調整し、回転乾燥させて、粗製品を得て、得られた粗製品を１．５％のＫＨ2ＰＯ4シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、石油エーテル：酢酸エチル：エタノール（体積比３：２：１）を展開剤として、化合物Ｉ－１１を得た。化合物Ｉ－１１：収率３３．９％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ45Ｈ42Ｎ4Ｏ10Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝８６３．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７０９ｎｍ（４．２）。
【0113】
実施例７４
化合物７の製造方法は文献Ｐｈｏｔｏｒｅａｃｔｉｏｎｓ ｏｆ ｈｙｐｏｃｒｅｌｌｉｎ Ｂ ｗｉｔｈ ｔｈｉｏｌ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ,Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｏｔｏｂｉｏｌｏｇｙ Ｂ： Ｂｉｏｌｏｇｙ,１９９８,４４,４５－５２；Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ ａ ｎｅｗ ｗａｔｅｒ－ｓｏｌｕｂｌｅ ｐｈｏｔｏｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃ ｓｅｎｓｉｔｉｚｅｒ,Ｄｙｅｓ ａｎｄ Ｐｉｇｍｅｎｔｓ,１９９９,４,９３－１００を参照すればよい。ヒポクレリンＢ
ＨＢ（０．２ｍＭ）５ｍＬとシステインエチルエステル（０．０１ｍＭ）のエタノール／水緩衝溶液（１／３、ｐＨ＝１０）の１０群を１０個の光化学反応器に投入して、室温下、４５０Ｗの高圧ナトリウムランプで光照射を２０分間（ガラスロングパスフィルターで４７０ｎｍ以下の光をフィルタリングする）行った。反応終了後、１０％の塩酸で酸性化した後、クロロホルムで抽出して、クロロホルム相を水で洗浄して回転乾燥させて、粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、クロロホルム：メタノール（体積比９９：１）を展開剤として、４と５位置換、８と９位置換又は両方ともに置換されたＨＢ混合物を得て、次にＨＰＬＣで分離して化合物７を収率２４．５％で得た。ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ｍ／ｚ Ｃ35Ｈ31ＮＯ10Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝６５８．２。
１００ｍｇの化合物７と４－モルホリン－シクロヘキシルアミン１０ｍＬをピリジン１００ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、５０℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１０ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去し、固体残留物をクロロホルム１００ｍＬで溶解して、希塩酸水溶液５０ｍＬで複数回洗浄して溶液を中性にし、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品を１％のＫＨ2ＰＯ4シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、石油エーテル：酢酸エチル：エタノール（体積比３：２：１）を展開剤として、化合物Ｉ－１２を得た。化合物Ｉ－１２：収率３０．８％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ44Ｈ47Ｎ3Ｏ10Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝８１０．３；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、６８５ｎｍ（４．２）。
【化84】
ＨＢ（０．２ｍＭ）５ｍＬとシステインエチルエステル（０．０１ｍＭ）のエタノール／水緩衝溶液（１／３、ｐＨ＝１０）の１０群を１０個の光化学反応器に投入して、室温下、４５０Ｗの高圧ナトリウムランプで光照射を２０分間（ガラスロングパスフィルターで４７０ｎｍ以下の光をフィルタリングする）行った。反応終了後、１０％の塩酸で酸性化した後、クロロホルムで抽出して、クロロホルム相を水で洗浄して回転乾燥させて、粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、クロロホルム：メタノール（体積比９９：１）を展開剤として、４と５位置換、８と９位置換又は両方ともに置換されたＨＢ混合物を得て、次にＨＰＬＣで分離して化合物７を収率２４．５％で得た。ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ｍ／ｚ Ｃ35Ｈ31ＮＯ10Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝６５８．２。
１００ｍｇの化合物７と４－モルホリン－シクロヘキシルアミン１０ｍＬをピリジン１００ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、５０℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１０ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去し、固体残留物をクロロホルム１００ｍＬで溶解して、希塩酸水溶液５０ｍＬで複数回洗浄して溶液を中性にし、有機相を回転乾燥させて粗製品を得た。得られた粗製品を１％のＫＨ2ＰＯ4シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、石油エーテル：酢酸エチル：エタノール（体積比３：２：１）を展開剤として、化合物Ｉ－１２を得た。化合物Ｉ－１２：収率３０．８％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ44Ｈ47Ｎ3Ｏ10Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝８１０．３；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、６８５ｎｍ（４．２）。
【0114】
実施例７５
実施例７１と同様に、化合物Ｉ－１３を合成した。化合物Ｉ－１３：収率４６．４％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ40Ｈ41Ｎ3Ｏ7Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝７４０．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７１０ｎｍ（４．１）。
【化85】
【0115】
実施例７６
実施例７２と同様に、化合物Ｉ－１４を合成した。化合物Ｉ－１４：収率２６．６％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ58Ｈ73Ｎ7Ｏ17Ｓ4,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝１２６８．４；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７１２ｎｍ（４．０）。
【化86】
【0116】
実施例７７
実施例７１と同様に、化合物Ｉ－１５を合成した。化合物Ｉ－１５：収率３５．６％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ42Ｈ43Ｎ3Ｏ8Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝７８２．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７１０ｎｍ（４．１）。
【化87】
【0117】
実施例７８
１００ｍｇの化合物１と長鎖第四級アンモニウム塩誘導体２００ｍｇを無水アセトニトリル２０ｍＬに溶解して、窒素ガス保護下、５０℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１０ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去し、固体残留物をジクロロメタン２００ｍＬで溶解して、希塩酸水溶液５０ｍＬで洗浄して中性にし、回転乾燥させて、粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、アセトン：酢酸エチル：エタノール：ジエチルアミン（体積比２０：１：１：３）を展開剤として、それぞれ２種の生成物Ｉ－１６、Ｉ－１７を得た。Ｉ－１６：収率１６．４％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ43Ｈ52Ｎ3Ｏ7Ｓ,［Ｍ］+＝７５４．４；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、６８１ｎｍ（４．２）。Ｉ－１７：収率１１．２％；ＭＳ
（ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ55Ｈ79Ｎ5Ｏ6Ｓ,［Ｍ／２］+＝４６８．８；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、６９２ｎｍ（４．３）。
【化88】
（ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ55Ｈ79Ｎ5Ｏ6Ｓ,［Ｍ／２］+＝４６８．８；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、６９２ｎｍ（４．３）。
【0118】
実施例７９
実施例７８と同様に、化合物Ｉ－１８、Ｉ－１９を合成した。Ｉ－１８：収率１２．４％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ41Ｈ45Ｎ3Ｏ10Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝８０４．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７１２ｎｍ（４．０）。Ｉ－１９：収率８．１％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ49Ｈ62Ｎ4Ｏ13Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝９７９．４；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７１８ｎｍ（４．１）。
【化89】
【0119】
実施例８０
実施例６８と同様に、化合物Ｉ－２０、Ｉ－２１を合成した。Ｉ－２０：収率１６．４％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ43Ｈ52Ｎ3Ｏ7Ｓ,［Ｍ］+＝９５２．５；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、６８１ｎｍ（４．２）。Ｉ－２１：収率１１．２％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ76Ｈ119Ｎ5Ｏ8Ｓ,［Ｍ／２］2+＝６３０．９；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、６９１ｎｍ（４．１）。
【化90】
【0120】
実施例８１
１００ｍｇの化合物３と４００ｍｇのアミノポリエチレングリコール２０００をジクロロメタン２０ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、室温遮光下撹拌しながら２０ｈ反応させ、反応終了後、エーテルを加えて固体を析出し、粗製品を得た。得られた粗製品をゲルクロマトグラフィーカラムにより更に分離して、化合物Ｉ－２２を得た。化合物Ｉ－２２：収率１６．４％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ33Ｈ27Ｎ2Ｏ6Ｓ2,［Ｍ＋Ｈ］+＝６１２．１；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、６８１ｎｍ（４．０）。
【化91】
【0121】
実施例８２
化合物９の製造方法は文献Ｐｈｏｔｏｒｅａｃｔｉｏｎｓ ｏｆ ｈｙｐｏｃｒｅｌｌｉｎ Ｂ ｗｉｔｈ ｔｈｉｏｌ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ,Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｏｔｏｂｉｏｌｏｇｙ Ｂ： Ｂｉｏｌｏｇｙ,１９９８,４４,４５－５２；Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ ａ ｎｅｗ ｗａｔｅｒ－ｓｏｌｕｂｌｅ ｐｈｏｔｏｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃ ｓｅｎｓｉｔｉｚｅｒ,Ｄｙｅｓ ａｎｄ Ｐｉｇｍｅｎｔｓ,１９９９,４,９３－１００を参照すればよい。脱アセチル化ヒポクレリンＣＨＣ（０．２ｍＭ）５ｍＬとメルカプトエチルアミン塩酸塩（０．０１ｍＭ）のエタノール／水緩衝溶液（１／３、ｐＨ＝１０）の１０群を１０個の光化学反応器に投入して、室温下、４５０Ｗの高圧ナトリウムランプで光照射を１０分間（ガラスロングパスフィルターで４７０ｎｍ以下の光をフィルタリングする）行った。反応終了後、１０％の塩酸で酸性化した後、クロロホルムで抽出して、クロロホルム相を水で洗浄して回転乾燥させて、粗製品を得た。得られた粗製品をシリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、クロロホルム：メタノール（体積比９９：１）を展開剤として、４と５位置換、８と９位置換又は両方ともに置換されたＨＢ混合物を得て、次にＨＰＬＣで分離して化合物９を収率２２．４％で得た。ＭＳ （ＥＳＩ＋）： ｍ／ｚ Ｃ30Ｈ25ＮＯ7Ｓ、［Ｍ ＋ Ｈ］+＝５４４．１。１００ｍｇの化合物９とアミノ酢酸１０ｍＬをピリジン２０ｍＬに溶解して、十分に混合した後、窒素ガス保護下、５０℃に加熱して、遮光下撹拌しながら１０ｈ反応させ、反応終了後、回転蒸発させて溶剤を除去し、脱イオン水を加えて、酢酸エチルで洗浄し、水相を回転乾燥させて、粗製品を得た。得られた粗製品を１％のＫＨ2ＰＯ4シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、石油エーテル：酢酸エチル：エタノール（体積比３：２：１）を展開剤として、２種の生成物Ｉ－２３、Ｉ－２４の混合物を得た。Ｉ－２３とＩ－２４：収率１５．１％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ32Ｈ28Ｎ2Ｏ8Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝６００．１；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、６８０ｎｍ（４．０）。
【化92】
【0122】
実施例８３
実施例８２と同様に、化合物Ｉ－２５、Ｉ－２６を合成した。Ｉ－２５とＩ－２６：収率１１．４％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ41Ｈ46Ｎ4Ｏ5Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝７３９．３；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７１０ｎｍ（４．０）。
【化93】
【0123】
実施例８４
実施例７２と同様に、化合物Ｉ－２７、Ｉ－２８を合成した。Ｉ－２７とＩ－２８：収率９．４％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ37Ｈ36Ｎ4Ｏ9Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝７４５．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７１１ｎｍ（４．０）。
【化94】
【0124】
実施例８５
２００ｍｇの化合物１２を新しいテトラヒドロフラン１００ｍＬに溶解して、シクロヘキサンジアミン１０ｍＬを加えて、遮光条件において撹拌し、６０℃で１８時間反応させた。反応終了後、溶剤を減圧除去して、クロロホルムで溶解し、希塩酸で中性になるまで洗浄し、有機相を回転乾燥させて、粗製品を得て、１％のＫＨ2ＰＯ4シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、石油エーテル：酢酸エチル：エタノール（体積比２：２：１）を展開剤として、化合物ＩＩ－１を得た。化合物ＩＩ－１：収率１８．５％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ45Ｈ46Ｎ4Ｏ9Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝８５１．３；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７３５ｎｍ（４．４）。
【化95】
【0125】
実施例８６
実施例６７と同様に、化合物１２を合成した。２００ｍｇの化合物１２を新しいテトラヒドロフラン１００ｍＬに溶解して、エチレンジアミン４０ｍＬを加え、遮光条件において撹拌して、５５℃で１２時間反応させた。反応終了後、溶剤を減圧除去して、クロロホルムで溶解し、希塩酸で中性になるまで洗浄し、有機相を回転乾燥させて、粗製品を得て、１％のＫＨ2ＰＯ4シリカゲルプレートクロマトグラフィー法により更に分離して、石油エーテル：酢酸エチル：エタノール（体積比３：２：１）を展開剤として、化合物ＩＩ－２を得た。化合物ＩＩ－２：収率５０．３％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ34Ｈ29Ｎ3Ｏ8Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝６４０．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７１０ｎｍ（４．４）。
暗毒性実験
所定濃度のＨｅｌａ細胞を９６ウェルプレートに接種して、１２－２４時間培養後、９６ウェルプレートにおける古い培養液を除去し、異なる濃度の化合物ＩＩ－２溶液を加えて、１ｈインキュベート後、光増感剤溶液を除去して、新しい培養液を加えて、３７℃、５％のＣＯ2環境下で２４ｈ培養し、ＭＴＴ法により各群の細胞の生存率を検出した。図１８ａに示されるように、化合物ＩＩ－２は細胞毒性が極めて小さく、市販光増感剤であるクロリンＣｅ６とヒポクレリンＢ ＨＢの細胞毒性に相当する程度である。
光毒性実験
化合物ＩＩ－２、ＨＢ及びＣｅ６光増感剤をそれぞれ異なる濃度でＨｅＬａ細胞と共インキュベートして、３７℃の５％のＣＯ2を含むインキュベータに入れて１ｈインキュベートした後、波長８０８ｎｍのレーザを用いて、電力密度２０ｍＷ／ｃｍ2で２０ｍｉｎ照射し、対応処理が終了した後、５％のＣＯ2を含み且つ温度が３７℃であるインキュベータにおいて続けて培養して２４ｈインキュベートし、ＭＴＴ法により各群の細胞の生存率を検出した。図１８ｂに示されるように、３００ｎＭの化合物Ｉ－１は８５％以上のＨｅｌａ細胞を殺滅でき、同一条件において市販光増感剤Ｃｅ６は２０％程度のＨｅｌａ細胞しか殺滅できなかった。
【化96】
暗毒性実験
所定濃度のＨｅｌａ細胞を９６ウェルプレートに接種して、１２－２４時間培養後、９６ウェルプレートにおける古い培養液を除去し、異なる濃度の化合物ＩＩ－２溶液を加えて、１ｈインキュベート後、光増感剤溶液を除去して、新しい培養液を加えて、３７℃、５％のＣＯ2環境下で２４ｈ培養し、ＭＴＴ法により各群の細胞の生存率を検出した。図１８ａに示されるように、化合物ＩＩ－２は細胞毒性が極めて小さく、市販光増感剤であるクロリンＣｅ６とヒポクレリンＢ ＨＢの細胞毒性に相当する程度である。
光毒性実験
化合物ＩＩ－２、ＨＢ及びＣｅ６光増感剤をそれぞれ異なる濃度でＨｅＬａ細胞と共インキュベートして、３７℃の５％のＣＯ2を含むインキュベータに入れて１ｈインキュベートした後、波長８０８ｎｍのレーザを用いて、電力密度２０ｍＷ／ｃｍ2で２０ｍｉｎ照射し、対応処理が終了した後、５％のＣＯ2を含み且つ温度が３７℃であるインキュベータにおいて続けて培養して２４ｈインキュベートし、ＭＴＴ法により各群の細胞の生存率を検出した。図１８ｂに示されるように、３００ｎＭの化合物Ｉ－１は８５％以上のＨｅｌａ細胞を殺滅でき、同一条件において市販光増感剤Ｃｅ６は２０％程度のＨｅｌａ細胞しか殺滅できなかった。
【0126】
実施例８７
実施例６７と同様に、化合物１３を合成した。実施例８６と同様に、化合物ＩＩ－３、ＩＩ－４を合成した。ＩＩ－３：収率１９．９％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ37Ｈ35Ｎ3Ｏ8Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝６８２．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７１１ｎｍ（４．３）。ＩＩ－４：収率１８．６％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ37Ｈ35Ｎ3Ｏ8Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝６８２．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７１１ｎｍ（４．３）。
【化97】
【0127】
実施例８８
実施例６９と同様に、化合物１４を合成した。実施例８５と同様に、化合物ＩＩ－５を合成し、収率１５．２％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ41Ｈ36Ｎ4Ｏ9Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝７９３．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７３０ｎｍ（４．４）。
【化98】
【0128】
実施例８９
実施例８５と同様に、化合物ＩＩ－６を合成した。化合物ＩＩ－６：収率１０．５％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ40Ｈ36Ｎ4Ｏ9Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝７８１．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７３０ｎｍ（４．２）。
【化99】
【0129】
実施例９０
実施例６８と同様に、化合物１５を合成した。実施例８５と同様に、化合物ＩＩ－７、ＩＩ－８を合成した。ＩＩ－７：収率１５．９％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ34Ｈ29Ｎ3Ｏ8Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝６４０．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７１５ｎｍ（４．４）。ＩＩ－８：収率１７．４％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ34Ｈ29Ｎ3Ｏ8Ｓ,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝６４０．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７１５ｎｍ（４．４）。
【化100】
【0130】
実施例９１
実施例８６と同様に、化合物ＩＩ－９、ＩＩ－１０を合成した。ＩＩ－９：収率９．９％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ44Ｈ48Ｎ6Ｏ10Ｓ3,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝９１７．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７３４ｎｍ（４．２）。ＩＩ－１０：収率１０．４％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ44Ｈ48Ｎ6Ｏ10Ｓ3,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝９１７．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７３４ｎｍ（４．２）。
【化101】
【0131】
実施例９２
実施例８６と同様に、化合物ＩＩ－１１、ＩＩ－１２を合成した。ＩＩ－１１：収率１０．０％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ42Ｈ40Ｎ4Ｏ13Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝８７３．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７３５ｎｍ（４．３）。ＩＩ－１２：収率９．６％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ42Ｈ40Ｎ4Ｏ13Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝８７３．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７３５ｎｍ（４．３）。
【化102】
【0132】
実施例９３
実施例８７と同様に、化合物ＩＩ－１３、ＩＩ－１４を合成した。ＩＩ－１３：収率１２．７％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ39Ｈ38Ｎ4Ｏ8Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝７５５．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７３２ｎｍ（４．０）。ＩＩ－１４：収率１０．９％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ39Ｈ38Ｎ4Ｏ8Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝７５５．２；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７３２ｎｍ（４．０）。
【化103】
【0133】
実施例９４
実施例８７と同様に、化合物ＩＩ－１５、ＩＩ－１６を合成した。ＩＩ－１５：収率８．２％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ45Ｈ52Ｎ4Ｏ8Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝８４１．３；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７３１ｎｍ（４．０）。ＩＩ－１６：収率７．６％；ＭＳ （ＥＳＩ＋）,ｍ／ｚ Ｃ45Ｈ52Ｎ4Ｏ8Ｓ2,［Ｍ ＋ Ｈ］+＝８４１．３；紫外線最大吸収波長λmax（ｌｏｇε）、７３１ｎｍ（４．０）。
【化104】
【0134】
実施例９５
細胞暗毒性実験
培養したＨｅｌａ細胞を０．２５％のトリプシンで消化してピペットし、単細胞懸濁液を得て、細胞数を約２ｘ１０4個／ｍＬに調整し、１ウェルあたりに２００ｕＬ接種するように、９６ウェル培養板に接種して、５％のＣＯ2を含み且つ温度が３７℃であるインキュベータに入れて培養した。細胞接着後、上清培養液を捨てて、厳密な遮光条件において実験設計に従って、異なる濃度の光増感剤（ヘマトポルフィリン誘導体ＨｐＤ、ヒポクレリンＢ ＨＢ、ヒポクレリン誘導体ＨＢ－１）を加えて、５％のＣＯ2を含み且つ温度が３７℃であるインキュベータに入れて続けて培養して１時間インキュベートした。ＭＴＴ法により細胞の生存率を検出した。１ウェルあたりに２０ｕＬのＭＴＴ（ＰＢＳで調製、濃度５ｍｇ／ｍｌ）を加えて、５％のＣＯ2を含み且つ温度が３７℃であるインキュベータにおいて続けて４時間培養後、培養を終止して、ウェル中の上清液を慎重に吸い取って捨てて、次に１ウェルあたりにジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）１５０ｕＬを加え、マイクロ振とう装置で１０分間振とうさせて、紫色結晶物を十分に溶解した。５７０ｎｍ波長を選択して、マイクロプレートリーダーにおいて各ウェルの光密度値（ＯＤ値）を検出し、細胞生存率＝実験群ＯＤ値／空白群ＯＤ値×１００％という式によって細胞の生存率を計算した。暗毒性図は図１０ａに示される。
細胞暗毒性実験
培養したＨｅｌａ細胞を０．２５％のトリプシンで消化してピペットし、単細胞懸濁液を得て、細胞数を約２ｘ１０4個／ｍＬに調整し、１ウェルあたりに２００ｕＬ接種するように、９６ウェル培養板に接種して、５％のＣＯ2を含み且つ温度が３７℃であるインキュベータに入れて培養した。細胞接着後、上清培養液を捨てて、厳密な遮光条件において実験設計に従って、異なる濃度の光増感剤（ヘマトポルフィリン誘導体ＨｐＤ、ヒポクレリンＢ ＨＢ、ヒポクレリン誘導体ＨＢ－１）を加えて、５％のＣＯ2を含み且つ温度が３７℃であるインキュベータに入れて続けて培養して１時間インキュベートした。ＭＴＴ法により細胞の生存率を検出した。１ウェルあたりに２０ｕＬのＭＴＴ（ＰＢＳで調製、濃度５ｍｇ／ｍｌ）を加えて、５％のＣＯ2を含み且つ温度が３７℃であるインキュベータにおいて続けて４時間培養後、培養を終止して、ウェル中の上清液を慎重に吸い取って捨てて、次に１ウェルあたりにジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）１５０ｕＬを加え、マイクロ振とう装置で１０分間振とうさせて、紫色結晶物を十分に溶解した。５７０ｎｍ波長を選択して、マイクロプレートリーダーにおいて各ウェルの光密度値（ＯＤ値）を検出し、細胞生存率＝実験群ＯＤ値／空白群ＯＤ値×１００％という式によって細胞の生存率を計算した。暗毒性図は図１０ａに示される。
【0135】
実施例９６
細胞光毒性実験
培養したＨｅｌａ細胞を０．２５％トリプシンで消化してピペットし、単細胞懸濁液を得て、細胞数を約２ｘ１０4個／ｍＬに調整し、１ウェルあたりに２００ｕＬ接種するように、９６ウェル培養板に接種して、５％のＣＯ2を含み且つ温度が３７℃であるインキュベータに入れて培養した。細胞接着後、上清培養液を捨てて、厳密な遮光条件において実験設計に従って、異なる濃度の光増感剤（ヘマトポルフィリン誘導体ＨｐＤ、ヒポクレリンＢ ＨＢ、ヒポクレリン誘導体ＨＢ－１）を加えて、５％のＣＯ2を含み且つ温度が３７℃であるインキュベータに入れて続けて培養して１時間インキュベートした。次に波長６３５ｎｍの半導体レーザで、電力密度２０ｍＷ／ｃｍ2で、ビームが９６ウェル培養板に均一に垂直照射するように１０００Ｓ照射し、同時に、各９６ウェル培養板について空白群を設置して、各条件ごとに６ウェルを設置した。光照射後、５％のＣＯ2を含み且つ温度が３７℃であるインキュベータにおいて続けて培養して２４時間インキュベートし、次に細胞の生存率を検出した。ＭＴＴ法により細胞の生存率を検出した。１ウェルあたりにＭＴＴ（ＰＢＳで調製、濃度５ｍｇ／ｍｌ）２０ｕＬを加えて、５％のＣＯ2を含み且つ温度が３７℃であるインキュベータにおいて続けて４時間培養後、培養を終止して、ウェル中の上清液を慎重に吸い取って捨てて、次に１ウェルあたりにジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）１５０ｕＬを加え、マイクロ振とう装置で１０分間振とうさせ、紫色結晶物を十分に溶解した。５７０ｎｍ波長を選択して、マイクロプレートリーダーにおいて各ウェルの光密度値（ＯＤ値）を検出し、細胞生存率＝実験群ＯＤ値／空白群ＯＤ値×１００％という式によって細胞生存率を計算した。光毒性図は図１０ｂに示される。
細胞光毒性実験
培養したＨｅｌａ細胞を０．２５％トリプシンで消化してピペットし、単細胞懸濁液を得て、細胞数を約２ｘ１０4個／ｍＬに調整し、１ウェルあたりに２００ｕＬ接種するように、９６ウェル培養板に接種して、５％のＣＯ2を含み且つ温度が３７℃であるインキュベータに入れて培養した。細胞接着後、上清培養液を捨てて、厳密な遮光条件において実験設計に従って、異なる濃度の光増感剤（ヘマトポルフィリン誘導体ＨｐＤ、ヒポクレリンＢ ＨＢ、ヒポクレリン誘導体ＨＢ－１）を加えて、５％のＣＯ2を含み且つ温度が３７℃であるインキュベータに入れて続けて培養して１時間インキュベートした。次に波長６３５ｎｍの半導体レーザで、電力密度２０ｍＷ／ｃｍ2で、ビームが９６ウェル培養板に均一に垂直照射するように１０００Ｓ照射し、同時に、各９６ウェル培養板について空白群を設置して、各条件ごとに６ウェルを設置した。光照射後、５％のＣＯ2を含み且つ温度が３７℃であるインキュベータにおいて続けて培養して２４時間インキュベートし、次に細胞の生存率を検出した。ＭＴＴ法により細胞の生存率を検出した。１ウェルあたりにＭＴＴ（ＰＢＳで調製、濃度５ｍｇ／ｍｌ）２０ｕＬを加えて、５％のＣＯ2を含み且つ温度が３７℃であるインキュベータにおいて続けて４時間培養後、培養を終止して、ウェル中の上清液を慎重に吸い取って捨てて、次に１ウェルあたりにジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）１５０ｕＬを加え、マイクロ振とう装置で１０分間振とうさせ、紫色結晶物を十分に溶解した。５７０ｎｍ波長を選択して、マイクロプレートリーダーにおいて各ウェルの光密度値（ＯＤ値）を検出し、細胞生存率＝実験群ＯＤ値／空白群ＯＤ値×１００％という式によって細胞生存率を計算した。光毒性図は図１０ｂに示される。
【0136】
比較例１
未修飾ヒポクレリンＢ（ＨＢ）の構造式は図５に示され、吸収スペクトルは、図７ａに示されるように、４５０ｎｍに最大吸収波長があり、また、赤色光吸収５９０ｎｍで弱吸収が見られた。ヒポクレリンＢは、光線力学的治療ウィンドウ６００－９００ｎｍで吸光能力が弱く、光線力学的治療に用いると、腫瘍細胞に対する光線力学的殺滅能力が本発明による油水両親媒性ヒポクレリン誘導体の効果より遥かに低下した（図１０－１４）。
未修飾ヒポクレリンＢ（ＨＢ）の構造式は図５に示され、吸収スペクトルは、図７ａに示されるように、４５０ｎｍに最大吸収波長があり、また、赤色光吸収５９０ｎｍで弱吸収が見られた。ヒポクレリンＢは、光線力学的治療ウィンドウ６００－９００ｎｍで吸光能力が弱く、光線力学的治療に用いると、腫瘍細胞に対する光線力学的殺滅能力が本発明による油水両親媒性ヒポクレリン誘導体の効果より遥かに低下した（図１０－１４）。
【0137】
比較例２
特許（ＣＮ１１９４２６３Ａ）には、化合物Ａの最大吸収が６２３ｎｍにあることが記載されており、本発明による多置換近赤外ヒポクレリン誘導体Ｉ－１に比べて、該比較例のヒポクレリン誘導体Ａの最大吸収スペクトルの波長は約５０ｎｍ低減した。
【化105】
【0138】
比較例３
文献（Ｈｙｐｏｃｒｅｌｌｉｎ ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅ ｗｉｔｈ ｉｍｐｒｏｖｅｍｅｎｔｓ ｏｆ ｒｅｄ ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ ａｎｄ ａｃｔｉｖｅ ｏｘｙｇｅｎ
ｓｐｅｃｉｅｓｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ,Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ ＆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ,２００４,１４,１４９９－１５０１）には、化合物Ｂの最大吸収が６４０ｎｍにあることが記載されており、本発明による多置換近赤外ヒポクレリン誘導体ＩＩ－２に比べて、該比較例のヒポクレリン誘導体Ｂの最大吸収スペクトル波長は約５０ｎｍ低減した。
【化106】
ｓｐｅｃｉｅｓｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ,Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ ＆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ,２００４,１４,１４９９－１５０１）には、化合物Ｂの最大吸収が６４０ｎｍにあることが記載されており、本発明による多置換近赤外ヒポクレリン誘導体ＩＩ－２に比べて、該比較例のヒポクレリン誘導体Ｂの最大吸収スペクトル波長は約５０ｎｍ低減した。
【0139】
結論
本発明による一置換又は多置換の油水両親媒性ヒポクレリン誘導体は、吸収スペクトルが明らかにレッドシフトし、且つモル吸光係数が大幅に増大し、極めて強い近赤外赤色光吸収能力と油水両親媒性を示している。いずれかの置換を欠くと、ヒポクレリン誘導体の効果は、ある点で、ある程度弱まる。
本発明による一置換又は多置換の油水両親媒性ヒポクレリン誘導体は、吸収スペクトルが明らかにレッドシフトし、且つモル吸光係数が大幅に増大し、極めて強い近赤外赤色光吸収能力と油水両親媒性を示している。いずれかの置換を欠くと、ヒポクレリン誘導体の効果は、ある点で、ある程度弱まる。
【0140】
本発明の上記実施例は本発明を明瞭に説明するための例示であり、本発明の実施形態を限定するものではなく、当業者であれば、上記説明に基づいてほかの形態の変化や変更を行うことができ、ここで全ての実施形態を網羅的に記載することは不可能であるが、本発明の技術案から導出された明白な変化や変更は本発明の保護範囲内に属する。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
