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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-04-26
(45)【発行日】2024-05-09
(54)【発明の名称】λ／４型電波吸収体
(51)【国際特許分類】
H05K 9/00 20060101AFI20240430BHJP
B32B 7/022 20190101ALI20240430BHJP
B32B 7/025 20190101ALI20240430BHJP
H01Q 17/00 20060101ALI20240430BHJP
【ＦＩ】
H05K9/00 M
B32B7/022
B32B7/025
H01Q17/00
【請求項の数】
12
(21)【出願番号】P 2021509398
(86)(22)【出願日】2020-03-23
(86)【国際出願番号】 JP2020012757
(87)【国際公開番号】W WO2020196420
(87)【国際公開日】2020-10-01
【審査請求日】2022-12-14
(31)【優先権主張番号】P 2019057848
(32)【優先日】2019-03-26
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2019082842
(32)【優先日】2019-04-24
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000002174
【氏名又は名称】積水化学工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000796
【氏名又は名称】弁理士法人三枝国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】中尾 幸子
(72)【発明者】
【氏名】澤田石 哲郎
(72)【発明者】
【氏名】武藤 勝紀
【審査官】小林 大介
(56)【参考文献】
【文献】特開２０１８－１１７０７３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１８－１４７９９９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１１－２４９６１３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００３－１９８１７９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開平１０－２１９００６（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｈ０５Ｋ ９／００
Ｂ３２Ｂ １／００－４３／００
Ｈ０１Ｑ １７／００
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
抵抗膜、誘電体層、及び反射層を有し、且つ前記誘電体層が自己修復性［直径０．５ｍｍの針を電波吸収体の反射層側とは反対の表面から吸収体に垂直に差し込み電波吸収体の裏面まで貫通させ、貫通から１０秒後に抜き取り、室温にて７日間静置し、静置後、カラー３Ｄレーザー顕微鏡（ＶＫ８７１０、キーエンス社製、またはその同等品）により、電波吸収体の孔を開けた側の互いに５μｍ離れた任意の１０００点における孔の深さを測定し、その平均値（孔の平均深さ）から、電波吸収体における誘電体層及び反射層以外の層の厚みを引いた値が、誘電体層の厚み（誘電体層が複数の層からなる場合その厚みの和）の４／５よりも小さい、という性質］を有する、λ／４型電波吸収体。
【請求項2】
前記誘電体層のせん断貯蔵弾性率が８×１０５Ｐａ以下である、請求項１に記載のλ／４型電波吸収体。
【請求項3】
前記誘電体層が粘着剤である、請求項１又は２に記載のλ／４型電波吸収体。
【請求項4】
前記誘電体層のガラス転移温度が－８０～３０℃である、請求項１～３のいずれかに記載のλ／４型電波吸収体。
【請求項5】
前記誘電体層がゲル分率４０～８０％の粘着剤を含む誘電体層である、請求項１～４のいずれかに記載のλ／４型電波吸収体。
【請求項6】
前記誘電体層の比誘電率が１～１０である、請求項５に記載のλ／４型電波吸収体。
【請求項7】
前記粘着剤が、炭素数２～１４であるアルキル（メタ）アクリレートに由来する構成単位を有する共重合体を含有する、請求項５又は６に記載のλ／４型電波吸収体。
【請求項8】
前記共重合体が、オレフィン系重合体に由来する構成単位を有する、請求項７に記載のλ／４型電波吸収体。
【請求項9】
前記粘着剤が、平均粒径５～１５０μｍの微粒子を重量比率で０．１５～１５％含有する、請求項５～８のいずれかに記載のλ／４型電波吸収体。
【請求項10】
請求項１～９のいずれかのλ／４型電波吸収体を含む、ミリ波レーダー。
【請求項11】
抵抗膜及び誘電体層を有し、且つ前記誘電体層が自己修復性［直径０．５ｍｍの針を抵抗膜の誘電体層側とは反対の表面側から電波吸収体用部材に垂直に差し込み電波吸収体用部材の裏面まで貫通させ、貫通から１０秒後に抜き取り、室温にて７日間静置し、静置後、カラー３Ｄレーザー顕微鏡（ＶＫ８７１０、キーエンス社製、またはその同等品）により、電波吸収体用部材の孔を開けた側の互いに５μｍ離れた任意の１０００点における孔の深さを測定し、その平均値（孔の平均深さ）から、電波吸収体用部材における誘電体層以外の層の厚みを引いた値が、誘電体層の厚み（誘電体層が複数の層からなる場合その厚みの和）の４／５よりも小さい、という性質］を有する、λ／４型電波吸収体用部材。
【請求項12】
支持体、抵抗膜、及びゲル分率が４０～８０％の粘着剤を含む誘電体層を含む、請求項１１に記載のλ／４型電波吸収体用部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、λ／４型電波吸収体等に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、携帯電話やスマートフォン等の携帯通信機器の普及が急速に進んでおり、また自動車等において多くの電子機器が搭載されるようになり、これらから発生する電波・ノイズを原因とする電波障害、他の電子機器の誤動作等の問題が多発している。このような電波障害、誤動作等を防止する方策として、各種の電波吸収体が検討されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【文献】特開２０１７－１６３１４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
λ／４型電波吸収体は、使用されるデバイスの部位によっては、曲面に対する長期に亘る追従性が要求される。本発明者は、研究を進める中で、従来のλ／４型電波吸収体は、曲面に対しての追従性が低く、低温などの過酷な状況において長期にわたって屈曲した場合に、材料の疲労による断裂が発生し、λ／４型電波吸収体としての性能を維持できなくなる場合が多い点に、着目した。また、本発明者は、研究を進める中で、自動車等の用途では、温度変化環境にさらされるので、温度変化環境における耐久性への要求が高まっている点に着目した。
【0005】
特許文献１には、曲面部位における使用に適したλ／４型電波吸収体について提案されているものの、低温などの過酷な状況における折り曲げ耐性（低温折り曲げ耐性）についてまでは検討されていない。
【0006】
そこで、本発明は、低温折り曲げ耐性がより高いλ／４型電波吸収体を提供することを課題とする。好ましくは、本発明は、さらに温度変化環境における耐久性をも備えるλ／４型電波吸収体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者は、研究を進める中で、誘電体層の、カッター等の鋭利なもので亀裂を発生させた後の修復性に着目し、これを最適化することにより低温折り曲げ耐性を向上させることができることを見出した。そして、この知見に基づいて一層鋭意研究を進めた結果、本発明者は、抵抗膜、誘電体層、及び反射層を有し、且つ前記誘電体層が自己修復性［直径０．５ｍｍの針を電波吸収体の反射層側とは反対の表面から吸収体に垂直に差し込み電波吸収体の裏面まで貫通させ、貫通から１０秒後に抜き取り、室温にて７日間静置し、静置後、カラー３Ｄレーザー顕微鏡（ＶＫ８７１０、キーエンス社製、またはその同等品）により、電波吸収体の孔を開けた側の互いに５μｍ離れた任意の１０００点における孔の深さを測定し、その平均値（孔の平均深さ）から、電波吸収体における誘電体層及び反射層以外の層の厚みを引いた値が、誘電体層の厚み（誘電体層が複数の層からなる場合その厚みの和）の４／５よりも小さい、という性質］を有する、λ／４型電波吸収体、であれば、上記課題を解決できることを見出した。
さらに、本発明者は、抵抗膜、ゲル分率が４０～８０％の粘着剤を含む誘電体層、及び反射層を含む、λ／４型電波吸収体、であれば、低温折り曲げ耐性のみならず、温度変化環境における耐久性をも備えることを見出した。
本発明者はこれらの知見に基づいてさらに研究を進めた結果、本発明を完成させた。
さらに、本発明者は、抵抗膜、ゲル分率が４０～８０％の粘着剤を含む誘電体層、及び反射層を含む、λ／４型電波吸収体、であれば、低温折り曲げ耐性のみならず、温度変化環境における耐久性をも備えることを見出した。
本発明者はこれらの知見に基づいてさらに研究を進めた結果、本発明を完成させた。
【0008】
即ち、本発明は、下記の態様を包含する。
【0009】
項１． 抵抗膜、誘電体層、及び反射層を有し、且つ前記誘電体層が自己修復性［直径０．５ｍｍの針を電波吸収体の反射層側とは反対の表面から吸収体に垂直に差し込み電波吸収体の裏面まで貫通させ、貫通から１０秒後に抜き取り、室温にて７日間静置し、静置後、カラー３Ｄレーザー顕微鏡（ＶＫ８７１０、キーエンス社製、またはその同等品）により、電波吸収体の孔を開けた側の互いに５μｍ離れた任意の１０００点における孔の深さを測定し、その平均値（孔の平均深さ）から、電波吸収体における誘電体層及び反射層以外の層の厚みを引いた値が、誘電体層の厚み（誘電体層が複数の層からなる場合その厚みの和）の４／５よりも小さい、という性質］を有する、λ／４型電波吸収体。
項２． 前記誘電体層のせん断貯蔵弾性率が８×１０５Ｐａ以下である、項１に記載のλ／４型電波吸収体。
項３． 前記誘電体層が粘着剤である、項１又は２に記載のλ／４型電波吸収体。
項４． 前記誘電体層のガラス転移温度が－８０～３０℃である、項１～３のいずれかに記載のλ／４型電波吸収体。
項５． 前記誘電体層がゲル分率４０～８０％の粘着剤を含む誘電体層である、項１～４のいずれかに記載のλ／４型電波吸収体。
項６． 前記誘電体層の比誘電率が１～１０である、項５に記載のλ／４型電波吸収体。
項７． 前記粘着剤が、炭素数２～１４であるアルキル（メタ）アクリレートに由来する構成単位を有する共重合体を含有する、項５又は６に記載のλ／４型電波吸収体。
項８． 前記共重合体が、オレフィン系重合体に由来する構成単位を有する、項７に記載のλ／４型電波吸収体。
項９． 前記粘着剤が、平均粒径５～１５０μｍの微粒子を重量比率で０．１５～１５％含有する、項５～８のいずれかに記載のλ／４型電波吸収体。
項１０． 抵抗膜、ゲル分率が４０～８０％の粘着剤を含む誘電体層、及び反射層を含む、λ／４型電波吸収体。
項１１． 項１～１０のいずれかのλ／４型電波吸収体を含む、ミリ波レーダー。
項１２． 抵抗膜及び誘電体層を有し、且つ前記誘電体層が自己修復性［直径０．５ｍｍの針を抵抗膜の誘電体層側とは反対の表面側から電波吸収体用部材に垂直に差し込み電波吸収体用部材の裏面まで貫通させ、貫通から１０秒後に抜き取り、室温にて７日間静置し、静置後、カラー３Ｄレーザー顕微鏡（ＶＫ８７１０、キーエンス社製、またはその同等品）により、電波吸収体用部材の孔を開けた側の互いに５μｍ離れた任意の１０００点における孔の深さを測定し、その平均値（孔の平均深さ）から、電波吸収体用部材における誘電体層以外の層の厚みを引いた値が、誘電体層の厚み（誘電体層が複数の層からなる場合その厚みの和）の４／５よりも小さい、という性質］を有する、λ／４型電波吸収体用部材。
項１３． 支持体、抵抗膜、及びゲル分率が４０～８０％の粘着剤を含む誘電体層を含む、λ／４型電波吸収体用部材。
項２． 前記誘電体層のせん断貯蔵弾性率が８×１０５Ｐａ以下である、項１に記載のλ／４型電波吸収体。
項３． 前記誘電体層が粘着剤である、項１又は２に記載のλ／４型電波吸収体。
項４． 前記誘電体層のガラス転移温度が－８０～３０℃である、項１～３のいずれかに記載のλ／４型電波吸収体。
項５． 前記誘電体層がゲル分率４０～８０％の粘着剤を含む誘電体層である、項１～４のいずれかに記載のλ／４型電波吸収体。
項６． 前記誘電体層の比誘電率が１～１０である、項５に記載のλ／４型電波吸収体。
項７． 前記粘着剤が、炭素数２～１４であるアルキル（メタ）アクリレートに由来する構成単位を有する共重合体を含有する、項５又は６に記載のλ／４型電波吸収体。
項８． 前記共重合体が、オレフィン系重合体に由来する構成単位を有する、項７に記載のλ／４型電波吸収体。
項９． 前記粘着剤が、平均粒径５～１５０μｍの微粒子を重量比率で０．１５～１５％含有する、項５～８のいずれかに記載のλ／４型電波吸収体。
項１０． 抵抗膜、ゲル分率が４０～８０％の粘着剤を含む誘電体層、及び反射層を含む、λ／４型電波吸収体。
項１１． 項１～１０のいずれかのλ／４型電波吸収体を含む、ミリ波レーダー。
項１２． 抵抗膜及び誘電体層を有し、且つ前記誘電体層が自己修復性［直径０．５ｍｍの針を抵抗膜の誘電体層側とは反対の表面側から電波吸収体用部材に垂直に差し込み電波吸収体用部材の裏面まで貫通させ、貫通から１０秒後に抜き取り、室温にて７日間静置し、静置後、カラー３Ｄレーザー顕微鏡（ＶＫ８７１０、キーエンス社製、またはその同等品）により、電波吸収体用部材の孔を開けた側の互いに５μｍ離れた任意の１０００点における孔の深さを測定し、その平均値（孔の平均深さ）から、電波吸収体用部材における誘電体層以外の層の厚みを引いた値が、誘電体層の厚み（誘電体層が複数の層からなる場合その厚みの和）の４／５よりも小さい、という性質］を有する、λ／４型電波吸収体用部材。
項１３． 支持体、抵抗膜、及びゲル分率が４０～８０％の粘着剤を含む誘電体層を含む、λ／４型電波吸収体用部材。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、低温折り曲げ耐性がより高いλ／４型電波吸収体を提供することができる。また好ましい態様においては、温度変化環境における耐久性を備えるλ／４型電波吸収体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0011】
【図1】本発明のλ／４型電波吸収体の一例を示す概略断面図である。
【図2】本発明のλ／４型電波吸収体の一例を示す概略断面図である。
【図3】上方の図は、本発明のλ／４型電波吸収体用部材の一例を示す概略断面図である。下方は、該部材が接するように配置される、反射層として機能し得る被着体の一例を示す概略断面図である。
【図4】本発明のλ／４型電波吸収体の用途の一例（粘着剤を介して筐体上に配置されてなる形態の一例）を示す概略断面図である
【発明を実施するための形態】
【0012】
本明細書中において、「含有」及び「含む」なる表現については、「含有」、「含む」、「実質的にからなる」及び「のみからなる」という概念を含む。
【0013】
本発明は、その一態様において、抵抗膜、誘電体層、及び反射層を有し、且つ前記誘電体層が自己修復性［直径０．５ｍｍの針を電波吸収体の反射層側とは反対の表面から吸収体に垂直に差し込み電波吸収体の裏面まで貫通させ、貫通から１０秒後に抜き取り、室温にて７日間静置し、静置後、カラー３Ｄレーザー顕微鏡（ＶＫ８７１０、キーエンス社製、またはその同等品）により、電波吸収体の孔を開けた側の互いに５μｍ離れた任意の１０００点における孔の深さを測定し、その平均値（孔の平均深さ）から、電波吸収体における誘電体層及び反射層以外の層の厚みを引いた値が、誘電体層の厚み（誘電体層が複数の層からなる場合その厚みの和）の４／５よりも小さい、という性質］を有する、λ／４型電波吸収体、に関する。また、本発明は、その一態様において、抵抗膜、ゲル分率が４０～８０％の粘着剤を含む誘電体層、及び反射層を含む、λ／４型電波吸収体、に関する。本明細書において、これらをまとめて、「本発明の電波吸収体」と示すこともある。以下に、これについて説明する。
【0014】
＜１．特性＞
本発明の電波吸収体は、その一態様において、誘電体層が自己修復性［直径０．５ｍｍの針を電波吸収体の反射層側とは反対の表面から吸収体に垂直に差し込み電波吸収体の裏面まで貫通させ、貫通から１０秒後に抜き取り、室温にて７日間静置し、静置後、カラー３Ｄレーザー顕微鏡（ＶＫ８７１０、キーエンス社製、またはその同等品）により、電波吸収体の孔を開けた側の互いに５μｍ離れた任意の１０００点における孔の深さを測定し、その平均値（孔の平均深さ）から、電波吸収体における誘電体層及び反射層以外の層の厚みを引いた値が、誘電体層の厚み（誘電体層が複数の層からなる場合その厚みの和）の４／５よりも小さい、という性質］を有する、という特性を備える。この特性を備えることにより、十分な低温折り曲げ耐性を発揮することが可能である。より具体的には、例えば、低温条件において長時間屈曲させた場合において、誘電体層における亀裂の発生を抑制し、λ／４型電波吸収体としての性能を高いレベルで維持することが可能である。
本発明の電波吸収体は、その一態様において、誘電体層が自己修復性［直径０．５ｍｍの針を電波吸収体の反射層側とは反対の表面から吸収体に垂直に差し込み電波吸収体の裏面まで貫通させ、貫通から１０秒後に抜き取り、室温にて７日間静置し、静置後、カラー３Ｄレーザー顕微鏡（ＶＫ８７１０、キーエンス社製、またはその同等品）により、電波吸収体の孔を開けた側の互いに５μｍ離れた任意の１０００点における孔の深さを測定し、その平均値（孔の平均深さ）から、電波吸収体における誘電体層及び反射層以外の層の厚みを引いた値が、誘電体層の厚み（誘電体層が複数の層からなる場合その厚みの和）の４／５よりも小さい、という性質］を有する、という特性を備える。この特性を備えることにより、十分な低温折り曲げ耐性を発揮することが可能である。より具体的には、例えば、低温条件において長時間屈曲させた場合において、誘電体層における亀裂の発生を抑制し、λ／４型電波吸収体としての性能を高いレベルで維持することが可能である。
【0015】
自己修復性は、後述するように、誘電体層の貯蔵弾性率、ゲル分率、Ｔｇ、分子量、モノマー組成等により、調整することが可能である。
【0016】
＜２．構成＞
本発明の電波吸収体は、抵抗層を含む抵抗膜、誘電体層、及び反射層を有する、という構成を備える。以下に、各構成について説明する。
本発明の電波吸収体は、抵抗層を含む抵抗膜、誘電体層、及び反射層を有する、という構成を備える。以下に、各構成について説明する。
【0017】
＜２－１．抵抗膜＞
抵抗膜は、電波吸収体において抵抗層として機能し得る層を含む限り特に制限されない。
抵抗膜は、電波吸収体において抵抗層として機能し得る層を含む限り特に制限されない。
【0018】
抵抗膜の表面抵抗値は、特に制限されない。抵抗膜の表面抵抗値は、例えば１００～８００Ω／□である。該範囲の中でも、好ましくは１５０～７５０Ω／□、より好ましくは２００～６００Ω／□である。また、該表面抵抗値は、ある態様においては、例えば１００～１０００Ω／□、好ましくは２００～７００Ω／□、より好ましくは２５０～６００Ω／□である。
【0019】
本明細書において、表面抵抗値は、表面抵抗計（ＭＩＴＳＵＢＩＳＨＩ ＣＨＥＭＩＣＡＬＡＮＡＬＹＴＥＣＨ社製、商品名「Ｌｏｒｅｓｔａ－ＥＰ」）を用いて、４端子法により測定することができる。また非破壊式（渦電流法）シート抵抗測定器（ＥＣ－８０Ｐ（ナプソン株式会社製）、又はその同等品）を用いても測定できる。
【0020】
抵抗膜の厚みは、特に制限されない。抵抗膜の厚みは、例えば１～２００ｎｍ、好ましくは２～１００ｎｍ、より好ましくは２～５０ｎｍである。また、該厚みは、ある態様においては、例えば５～１００ｎｍ、好ましくは７～７０ｎｍ、より好ましくは１０～５０ｎｍである。
【0021】
抵抗膜の層構成は特に制限されない。抵抗膜は、１種単独の層から構成されるものであってもよいし、２種以上の層が複数組み合わされたものであってもよい。
【0022】
＜２－１－１．抵抗層＞
抵抗層の抵抗値は、特に制限されない。抵抗層の抵抗値は、例えば１００～８００Ω／□である。該範囲の中でも、好ましくは１５０～７５０Ω／□、より好ましくは２００～６００Ω／□である。また、該抵抗値は、ある態様においては、例えば１００～１０００Ω／□、好ましくは２００～７００Ω／□、より好ましくは２５０～６００Ω／□である。
抵抗層の抵抗値は、特に制限されない。抵抗層の抵抗値は、例えば１００～８００Ω／□である。該範囲の中でも、好ましくは１５０～７５０Ω／□、より好ましくは２００～６００Ω／□である。また、該抵抗値は、ある態様においては、例えば１００～１０００Ω／□、好ましくは２００～７００Ω／□、より好ましくは２５０～６００Ω／□である。
【0023】
抵抗層の厚みは、特に制限されない。抵抗層の厚みは、例えば１～２００ｎｍ、好ましくは２～１００ｎｍ、より好ましくは２～５０ｎｍである。また、該厚みは、ある態様においては、例えば２～１００ｎｍ、好ましくは３～７０ｎｍ、より好ましくは５～５０ｎｍである。
【0024】
抵抗層の層構成は特に制限されない。抵抗層は、１種単独の抵抗層から構成されるものであってもよいし、２種以上の抵抗層が複数組み合わされたものであってもよい。
【0025】
抵抗層としては、典型的には、ＩＴＯ含有抵抗層、モリブデン含有抵抗層等が挙げられる。以下に、これらについて説明する。
【0026】
＜２－１－１－１．ＩＴＯ含有抵抗層＞
抵抗層としては、例えば酸化インジウムスズ（以下「ＩＴＯ」とする）が用いられる。なかでも、非晶質構造が極めて安定であり、高温多湿の環境下においても抵抗層のシート抵抗の変動を抑えることができる点から、１～４０重量％のＳｎＯ２、より好ましくは２～３５重量％のＳｎＯ２を含有するＩＴＯを含有するものが好ましく用いられる。上記ＩＴＯの含有量は抵抗層中、例えば５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上、さらに好ましくは９５質量％以上であり、通常１００質量％未満である。
抵抗層としては、例えば酸化インジウムスズ（以下「ＩＴＯ」とする）が用いられる。なかでも、非晶質構造が極めて安定であり、高温多湿の環境下においても抵抗層のシート抵抗の変動を抑えることができる点から、１～４０重量％のＳｎＯ２、より好ましくは２～３５重量％のＳｎＯ２を含有するＩＴＯを含有するものが好ましく用いられる。上記ＩＴＯの含有量は抵抗層中、例えば５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上、さらに好ましくは９５質量％以上であり、通常１００質量％未満である。
【0027】
＜２－１－１－２．モリブデン含有抵抗層＞
抵抗層としては、耐久性、シート抵抗の調整が容易である観点から、モリブデンを含有する抵抗層が好ましく用いられる。モリブデンの含有量の下限は特に限定されないが、より耐久性を高める観点から、５重量％が好ましく、７重量％がより好ましく、９重量％が更に好ましく、１１重量％がより更に好ましく、１３重量％が特に好ましく、１５重量％が非常に好ましく、１６重量％が最も好ましい。また、上記モリブデンの含有量の上限は、表面抵抗値の調整の容易化の観点から、３０重量％が好ましく、２５重量％がより好ましく、２０重量％が更に好ましい。
抵抗層としては、耐久性、シート抵抗の調整が容易である観点から、モリブデンを含有する抵抗層が好ましく用いられる。モリブデンの含有量の下限は特に限定されないが、より耐久性を高める観点から、５重量％が好ましく、７重量％がより好ましく、９重量％が更に好ましく、１１重量％がより更に好ましく、１３重量％が特に好ましく、１５重量％が非常に好ましく、１６重量％が最も好ましい。また、上記モリブデンの含有量の上限は、表面抵抗値の調整の容易化の観点から、３０重量％が好ましく、２５重量％がより好ましく、２０重量％が更に好ましい。
【0028】
上記抵抗層は、モリブデンを含有している場合、さらにニッケル及びクロムを含有することがより好ましい。抵抗層にモリブデンに加えてニッケル及びクロムを含有することでより耐久性に優れた電波吸収体とすることができる。ニッケル、クロム及びモリブデンを含有する合金としては、例えば、ハステロイＢ－２、Ｂ－３、Ｃ－４、Ｃ－２０００、Ｃ－２２、Ｃ－２７６、Ｇ－３０、Ｎ、Ｗ、Ｘ等の各種グレードが挙げられる。
【0029】
上記抵抗層がモリブデン、ニッケル及びクロムを含有する場合、モリブデンの含有量が５重量％以上、ニッケルの含有量が４０重量％以上、クロムの含有量が１重量％以上であることが好ましい。モリブデン、ニッケル及びクロムの含有量が上記範囲であることで、より耐久性に優れた電波吸収体とすることができる。上記モリブデン、ニッケル及びクロムの含有量は、モリブデン含有量が７重量％以上、ニッケル含有量が４５重量％以上、クロム含有量が３重量％以上であることがより好ましい。上記モリブデン、ニッケル及びクロムの含有量は、モリブデン含有量が９重量％以上、ニッケル含有量が４７重量％以上、クロム含有量が５重量％以上であることが更に好ましい。上記モリブデン、ニッケル及びクロムの含有量は、モリブデン含有量が１１重量％以上、ニッケル含有量が５０重量％以上、クロム含有量が１０重量％以上であることがより更に好ましい。上記モリブデン、ニッケル及びクロムの含有量は、モリブデン含有量が１３重量％以上、ニッケル含有量が５３重量％以上、クロム含有量が１２重量％以上であることが特に好ましい。上記モリブデン、ニッケル及びクロムの含有量は、モリブデン含有量が１５重量％以上、ニッケル含有量が５５重量％以上、クロム含有量が１５重量％以上であることが非常に好ましい。上記モリブデン、ニッケル及びクロムの含有量は、モリブデン含有量が１６重量％以上、ニッケル含有量が５７重量％以上、クロム含有量が１６重量％以上であることが最も好ましい。また、上記ニッケルの含有量は、８０重量％以下であることが好ましく、７０重量％以下であることがより好ましく、６５重量％以下であることが更に好ましい。上記クロム含有量の上限は、５０重量％以下であることが好ましく、４０重量％以下であることがより好ましく、３５重量％以下であることが更に好ましい。
【0030】
上記抵抗層は、上記モリブデン、ニッケル及びクロム以外の金属を含有してもよい。そのような金属としては、例えば、鉄、コバルト、タングステン、マンガン、チタン等が挙げられる。上記抵抗層がモリブデン、ニッケル及びクロムを含有する場合、上記モリブデン、ニッケル及びクロム以外の金属の合計含有量の上限は、抵抗層の耐久性の観点から、好ましくは４５重量％、より好ましくは４０重量％、更に好ましくは３５重量％、より更に好ましくは３０重量％、特に好ましくは２５重量％、非常に好ましくは２３重量％である。上記モリブデン、ニッケル及びクロム以外の金属の合計含有量の下限は、例えば１重量％以上である。
【0031】
上記抵抗層が鉄を含有する場合、抵抗層の耐久性の観点から、含有量の好ましい上限は２５重量％、より好ましい上限は２０重量％、更に好ましい上限は１５重量％であり、好ましい下限は１重量％である。上記抵抗層がコバルト及び／又はマンガンを含有する場合、抵抗層の耐久性の観点から、それぞれ独立して、含有量の好ましい上限は５重量％、より好ましい上限は４重量％、更に好ましい上限は３重量％であり、好ましい下限は０．１重量％である。上記抵抗層がタングステンを含有する場合、抵抗層の耐久性の観点から、含有量の好ましい上限は８重量％、より好ましい上限は６重量％、更に好ましい上限は４重量％であり、好ましい下限は１重量％である。
【0032】
上記抵抗層は、ケイ素及び／又は炭素を含有してもよい。抵抗層がケイ素及び／又は炭素を含有する場合、上記ケイ素及び／又は炭素の含有量は、それぞれ独立して、１重量％以下であることが好ましく０．５重量％以下であることがより好ましい。また、抵抗層がケイ素及び／又は炭素を含有する場合、上記ケイ素及び／又は炭素の含有量は、０．０１重量％以上であることが好ましい。
【0033】
＜２－１－２．バリア層＞
耐久性の観点から、抵抗膜はさらにバリア層を含むことが好ましい。バリア層は、抵抗層の少なくとも一方の表面上に配置される。バリア層が片面のみの場合、バリア層は、好ましくは、誘電体層側とは反対側の表面上に配置される。バリア層について以下に詳述する。
耐久性の観点から、抵抗膜はさらにバリア層を含むことが好ましい。バリア層は、抵抗層の少なくとも一方の表面上に配置される。バリア層が片面のみの場合、バリア層は、好ましくは、誘電体層側とは反対側の表面上に配置される。バリア層について以下に詳述する。
【0034】
バリア層は、抵抗層を保護し、その劣化を抑えることができる層である限り、特に制限されない。バリア層の素材としては、例えば金属化合物、半金属化合物、好ましくは金属又は半金属の酸化物、窒化物、窒化酸化物等が挙げられる。バリア層は、本発明の効果が著しく損なわれない限りにおいて、上記素材以外の成分が含まれていてもよい。その場合、バリア層中の上記素材量は、例えば８０質量％以上、好ましくは９０質量％以上、より好ましくは９５質量％以上、さらに好ましくは９９質量％以上であり、通常１００質量％未満である。
【0035】
バリア層が含む金属元素としては、例えばチタン、アルミニウム、ニオブ、コバルト、ニッケル等が挙げられる。バリア層が含む半金属元素としては、例えばケイ素、ゲルマニウム、アンチモン、ビスマス等が挙げられる。
【0036】
上記酸化物としては、例えばＭＯＸ［式中、Ｘは式：ｎ／１００≦Ｘ≦ｎ／２（ｎは金属又は半金属の価数である）を満たす数であり、Ｍは金属元素又は半金属元素である。］で表される化合物が挙げられる。
【0037】
上記窒化物としては、例えばＭＮｙ［式中、Ｙは式：ｎ／１００≦Ｙ≦ｎ／３（ｎは金属又は半金属の価数である）を満たす数であり、Ｍは金属元素又は半金属元素である。］で表される化合物が挙げられる。
【0038】
上記窒化酸化物としては、例えばＭＯＸＮｙ［式中、ＸとＹは、ｎ／１００≦Ｘ、ｎ／１００≦Ｙ、かつ、Ｘ＋Ｙ≦ｎ／２（ｎは金属又は半金属の価数である）であり、Ｍは金属元素又は半金属元素である。］で表される化合物が挙げられる。
【0039】
上記酸化物又は窒化酸化物の酸化数Ｘに関しては、例えばＭＯｘ又はＭＯｘＮｙを含む層の断面を、ＦＥ－ＴＥＭ－ＥＤＸ（例えば、日本電子社製「ＪＥＭ－ＡＲＭ２００Ｆ」）により元素分析し、ＭＯｘ又はＭＯｘＮｙを含む層の断面の面積当たりのＭとＯとの元素比率からＸを算出することにより、酸素原子の価数を算出することができる。
【0040】
上記窒化物又は窒化酸化物の窒素化数Ｙに関しては、例えばＭＮｙ又はＭＯｘＮｙを含む層の断面を、ＦＥ－ＴＥＭ－ＥＤＸ（例えば、日本電子社製「ＪＥＭ－ＡＲＭ２００Ｆ」）により元素分析し、ＭＮｙ又はＭＯｘＮｙを含む層の断面の面積当たりのＭとＮとの元素比率からＹを算出することにより、窒素原子の価数を算出することができる。
【0041】
バリア層の素材の具体例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯｘ、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＡｌ２Ｏ４、ＣｕＯ、ＣｕＮ、ＴｉＯ２、ＴｉＮ、ＡＺＯ（アルミニウムドープ酸化亜鉛）等が挙げられる。
【0042】
バリア層の厚みは、特に制限されない。バリア層の厚みは、例えば０．１～４０ｎｍ、好ましくは０．５～３０ｎｍ、より好ましくは１～２０ｎｍである。該厚みは、ある態様においては、例えば１～２００ｎｍ、好ましくは１～１００ｎｍ、より好ましくは１～２０ｎｍである。該厚みは、生産性の観点からは、１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【0043】
バリア層の層構成は特に制限されない。バリア層は、１種単独のバリア層から構成されるものであってもよいし、２種以上のバリア層が複数組み合わされたものであってもよい。
【0044】
＜２－２．誘電体層＞
誘電体層は、電波吸収体において目的の波長に対して誘電体として機能し得るものであり、ある態様においては、前述の通り自己修復性［直径０．５ｍｍの針を電波吸収体の反射層側とは反対の表面から吸収体に垂直に差し込み電波吸収体の裏面まで貫通させ、貫通から１０秒後に抜き取り、室温にて７日間静置し、静置後、カラー３Ｄレーザー顕微鏡（ＶＫ８７１０、キーエンス社製、またはその同等品）により、電波吸収体の孔を開けた側の互いに５μｍ離れた任意の１０００点における孔の深さを測定し、その平均値（孔の平均深さ）から、電波吸収体における誘電体層及び反射層以外の層の厚みを引いた値が、誘電体層の厚み（誘電体層が複数の層からなる場合その厚みの和）の４／５よりも小さい、という性質］を有する限り、特に制限されない。誘電体層としては、特に制限されないが、例えば樹脂シート、粘着剤等が挙げられる。これらの中でも、自己修復性をより発現させ易いという観点から、粘着剤が好ましい。
誘電体層は、電波吸収体において目的の波長に対して誘電体として機能し得るものであり、ある態様においては、前述の通り自己修復性［直径０．５ｍｍの針を電波吸収体の反射層側とは反対の表面から吸収体に垂直に差し込み電波吸収体の裏面まで貫通させ、貫通から１０秒後に抜き取り、室温にて７日間静置し、静置後、カラー３Ｄレーザー顕微鏡（ＶＫ８７１０、キーエンス社製、またはその同等品）により、電波吸収体の孔を開けた側の互いに５μｍ離れた任意の１０００点における孔の深さを測定し、その平均値（孔の平均深さ）から、電波吸収体における誘電体層及び反射層以外の層の厚みを引いた値が、誘電体層の厚み（誘電体層が複数の層からなる場合その厚みの和）の４／５よりも小さい、という性質］を有する限り、特に制限されない。誘電体層としては、特に制限されないが、例えば樹脂シート、粘着剤等が挙げられる。これらの中でも、自己修復性をより発現させ易いという観点から、粘着剤が好ましい。
【0045】
また、誘電体層は、ある態様においては、ゲル分率が４０～８０％の粘着剤を含む誘電体層を含む。この構成により、温度変化環境における耐久性を発揮することができる。該ゲル分率は、好ましくは５０～８０％、より好ましくは５０～７５％である。
【0046】
誘電体層の比誘電率は、特に制限されない。誘電体層の比誘電率は、例えば１～２０である。該比誘電率は、電波吸収性等の観点から、好ましくは１以上、より好ましくは１．５以上、さらに好ましくは２以上、更により好ましくは２．１以上である。該比誘電率は、広帯域の電波吸収性が向上する観点から、好ましくは２０以下、より好ましくは１５以下、さらに好ましくは５以下である。該比誘電率は、ある態様においては、例えば０．５～１０、好ましくは０．８～７、より好ましくは１～５である。
【0047】
誘電体層の比誘電率は、ネットワークアナライザー、空洞共振器などを用いて１０ＧＨｚにおける比誘電率を空洞共振器摂動法により測定することができる。
【0048】
誘電体層の厚みは、特に制限されないが、例えば５０～２０００μｍ、好ましくは１００～１０００μｍ、より好ましくは２００～８００μｍである。該厚みは、ある態様においては、例えば２００～８００μｍであり、温度変化環境における耐久性等の観点から、好ましくは３００～７００μｍ、より好ましくは４００～６００μｍである。
【0049】
誘電体層の厚みは、Ｎｉｋｏｎ ＤＩＧＩＭＩＣＲＯＳＴＡＮＤＭＳ－１１Ｃ＋Ｎｉｋｏｎ ＤＩＧＩＭＩＣＲＯ ＭＦＣ－１０１によって測定することができる。
【0050】
誘電体層のせん断貯蔵弾性率は、自己修復性を特に発現させ易いという観点から、１×１０４～８×１０５Ｐａであることが好ましい。該せん断貯蔵弾性率は、より好ましくは
２×１０４～７×１０５Ｐａ、さらに好ましくは３×１０４～６×１０５Ｐａである。
２×１０４～７×１０５Ｐａ、さらに好ましくは３×１０４～６×１０５Ｐａである。
【0051】
せん断貯蔵弾性率は、以下の方法により測定することができる。
【0052】
動的粘弾性測定装置（ＡＲＥＳ－Ｇ２（ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）、又はその同等品）を用い、周波数１０Ｈｚ、温度範囲－１００℃～２５０℃、昇温速度５℃／ｍｉｎにて測定した値である。
【0053】
誘電体層のガラス転移温度は、低温領域においても自己修復性を特に発現させ易いという観点から、－８０～０℃であることが好ましい。該ガラス転移温度は、より好ましくは－７５～－１℃、さらに好ましくは－７０～－２℃である。
【0054】
ガラス転移温度は、以下の方法により測定することができる。
動的粘弾性測定装置（ＡＲＥＳ－Ｇ２（ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）、又はその同等品）を用い、周波数１０Ｈｚ、温度範囲－１００℃～２５０℃、昇温速度５℃／ｍｉｎにて測定を行い、ガラス転移温度Ｔｇを算出する。
動的粘弾性測定装置（ＡＲＥＳ－Ｇ２（ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）、又はその同等品）を用い、周波数１０Ｈｚ、温度範囲－１００℃～２５０℃、昇温速度５℃／ｍｉｎにて測定を行い、ガラス転移温度Ｔｇを算出する。
【0055】
誘電体層の層構成は特に制限されない。誘電体層は、１種単独の誘電体層から構成されるものであってもよいし、２種以上の誘電体層が複数組み合わされたものであってもよい。例えば、粘着剤のみからなる誘電体層、粘着性を有しない誘電体層と粘着剤からなる誘電体層とが積層されてなる誘電体層が挙げられる。後者の場合、自己修復性をより発現させやすいという観点、温度変化環境における耐久性の観点等から、粘着剤からなる誘電体層の厚みは、誘電体層全体の厚み１００％に対して、例えば７０％以上、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９５％以上、よりさらに好ましくは９９％以上であり、１００％未満である。
【0056】
＜２－２－１．粘着剤＞
粘着剤としては、特に制限されず、例えばアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリオレフィン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、フッ素系粘着剤等が挙げられる。これらの中でも、耐候性に優れる観点、温度変化環境における耐久性の観点等から、アクリル系粘着剤が好ましい。
粘着剤としては、特に制限されず、例えばアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリオレフィン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、フッ素系粘着剤等が挙げられる。これらの中でも、耐候性に優れる観点、温度変化環境における耐久性の観点等から、アクリル系粘着剤が好ましい。
【0057】
アクリル系粘着剤としては、特に制限されるものではないが、自己修復性を発現させやすい点、電波吸収体に適する比誘電率と厚みを両立することができるという観点から、以下のアクリル系粘着剤が好ましい：
炭素数２～１４であるアルキル（メタ）アクリレートに由来する構成単位を有する（メタ）アクリレート共重合体を含有するアクリル系粘着剤。
炭素数２～１４であるアルキル（メタ）アクリレートに由来する構成単位を有する（メタ）アクリレート共重合体を含有するアクリル系粘着剤。
【0058】
以下に、該アクリル系粘着剤について詳述する。
【0059】
炭素数が２～１４のアルキル（メタ）アクリレートとしては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（アミル）（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチ（メタ）ルアクリレート、イソオクチ（メタ）ルアクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（ドデシル（メタ））アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【0060】
上記炭素数が２～１４のアルキル（メタ）アクリレートの内、ガラス転移温度（Ｔｇ）の調整、相溶性等の点から、炭素数が４～１０のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートが好適に用いられる。上記炭素数が２～１４のアルキル（メタ）アクリレートは単独で用いられてもよいし、２種類以上が併用されてもよい。
【0061】
なお、「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」又は「メタクリレート」を意味する。
【0062】
上記（メタ）アクリレート共重合体中における、炭素数が２～１４のアルキル（メタ）アクリレートに由来する構成単位の含有量は、６０～９９．９重量％であることが好ましく、８０～９９．９重量％であることがより好ましい。
【0063】
上記（メタ）アクリレート共重合体は、更に極性基含有ビニルモノマーに由来する構成単位を含有することが好ましい。極性基含有ビニルモノマーに由来する構成単位を有することで、共重合体のＴｇや粘着性等の調整、更には、粘着剤の凝集力や粗面接着性を向上させることができる。上記極性基含有ビニルモノマーとしては、例えば、スチレン、α－メチルスチレン、ｏ－メチルスチレン、ｐ－メチルスチレン等のスチレン系モノマー；酢酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル；（メタ）アクリル酸、イタコン酸等のビニル基を含有するカルボン酸；前記ビニル基を有するカルボン酸の無水物；２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性（メタ）アクリレート、ポリオキシエチレン（メタ）アクリレート、ポリオキシプロピレン（メタ）アクリレート等の水酸基を有するビニルモノマー；（メタ）アクリロニトリル、Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ－ビニルカプロラクタム、Ｎ－ビニルラウリロラクタム、（メタ）アクリロイルモルホリン、（メタ）アクリルアミド、ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノメチル（メタ）アクリレート等の窒素含有ビニルモノマー等が挙げられる。
【0064】
上記極性基含有ビニルモノマーは単独で用いられてもよいし、２種類以上併用されてもよい。
【0065】
上記（メタ）アクリレート共重合体中における極性基含有ビニルモノマーに由来する構成単位の含有量は、得られる粘着剤の柔軟性の観点、剥離力の観点等から、０．１～２０重量％であることが好ましい。
【0066】
上記（メタ）アクリレート共重合体は、更に架橋性官能基を有するモノマーに由来する構成単位を含有することが好ましい。架橋性官能基を有するモノマーに由来する構成単位を含有することで、アクリル系粘着剤のゲル分率の調製が容易となる。架橋性官能基を有するモノマーとしては、多官能（メタ）アクリレート、極性基含有ビニルモノマーの極性基と反応する官能基を複数有する化合物等が挙げられる。このようなモノマーとしては、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトシキ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート、エトシキ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロキシ化グリセリルトリアクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、液状水素化１，２ポリブタジエンアクリレート等が挙げられる。なかでも、分子量が４００以上のもの、さらに好ましくは８００以上のものを含有することで得られる粘着剤の接着性と凝集力とのバランスに優れる。
【0067】
上記（メタ）アクリレート共重合体中における架橋性官能基を有するモノマーに由来する構成単位の含有量は０．０２～５重量部が好ましく、さらには０．０５～２重量部が好ましい。
【0068】
アクリル系粘着剤としては、温度変化環境における耐久性、電波吸収体に適する比誘電率と厚みを両立することができるという観点等から、特に好ましくは、構成（１）を備えるアクリル系粘着剤が挙げられ、より好ましくは（１）に加え、（２）～（３）の内の１つ又は２つを備えるアクリル系粘着剤が挙げられる：
（１）炭素数２～１４であるアルキル（メタ）アクリレートに由来する構成単位を有する（メタ）アクリレート共重合体を含有する。
（２）オレフィン系重合体に由来する構成単位を有する（メタ）アクリレート共重合体を含有する。
（３）平均粒径５～１５０μｍの微粒子を重量比率で０．１５～１５％含有する。
（１）炭素数２～１４であるアルキル（メタ）アクリレートに由来する構成単位を有する（メタ）アクリレート共重合体を含有する。
（２）オレフィン系重合体に由来する構成単位を有する（メタ）アクリレート共重合体を含有する。
（３）平均粒径５～１５０μｍの微粒子を重量比率で０．１５～１５％含有する。
【0069】
このようなアクリル系粘着剤は、例えば、炭素数２～１４であるアルキル（メタ）アクリレート、末端に重合性不飽和二重結合を有するオレフィン系重合体、平均粒径５～１５０μｍの微粒子等を含む重合性組成物を光重合することによって得ることができる。
【0070】
また、同様の観点から、アクリル系粘着剤として、特に好ましくは（ａ）炭素数が２～１４のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートと、極性基含有ビニルモノマーとを含み、アクリル系モノマーを主成分とするモノマー成分と、末端に重合性不飽和二重結合を有するオレフィン系重合体と、光重合開始剤とを含有してなる重合性組成物を光重合して得られたアクリル系共重合体を含むアクリル系粘着剤等が挙げられる。
【0071】
上記（メタ）アクリレート共重合体は、オレフィン系重合体に由来する構成単位を含有することが好ましい。
【0072】
上記オレフィン系重合体に由来する構成単位における、ポリオレフィン系重合体の具体例としては、エチレン－ブチレン共重合体、エチレンープロピレン共重合体、エチレン共重合体、ブチレン共重合体等が挙げられる。
【0073】
上記（メタ）アクリレート共重合体中の上記オレフィン系重合体に由来する構成単位の含有量は、０．０１～３０重量％が好ましく、特に好ましくは、０．１～２５重量％さらに好ましくは０．５～２０重量％である。上記オレフィン系重合体に由来する構成単位の含有量が上記範囲であることで接着性が一層向上する。また、ゲル分率の調整が容易になる。
【0074】
上記（メタ）アクリレート共重合体が、オレフィン系重合体に由来する構成単位を含有する場合、上記構成単位に由来するモノマーと、末端に重合性不飽和二重結合を有するオレフィン系重合体とを重合することで合成することができる。
【0075】
末端に重合性不飽和二重結合を有するオレフィン系重合体としては、末端に他の重合性モノマーと共重合可能な二重結合と、上記ポリオレフィン系重合体を主骨格として有するポリマー構造とを有するものであれば、特に限定されるものではない。
【0076】
末端に重合性不飽和二重結合を有するオレフィン系重合体の市販品としては、例えば、クレイトン・ポリマージャパン社製「クレイトン・リキッド・ポリマーＬ－１２５１」及び「クレイトン・リキッド・ポリマーＬ－１２５３」（主骨格がエチレン－ブチレン共重合体）等が挙げられる。
【0077】
上記（メタ）アクリレート共重合体は、更に、ベンジルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート等に由来する構成単位を含んでいてもよい。
【0078】
上記（メタ）アクリレート共重合体を合成するには、上記構成単位の由来となるモノマーと必要に応じて他の成分、例えば末端に重合性不飽和二重結合を有するオレフィン系重合体、添加剤等を含有する重合性組成物を重合開始剤の存在下にて、重合させればよい。重合方法は特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。例えば、溶液重合（沸点重合又は定温重合）、エマルジョン重合、懸濁重合、塊状重合等が挙げられる。中でも、後述する種々の添加剤の分散性に優れることから光重合が好ましい。
【0079】
上記重合開始剤は特に限定されないが、光重合開始剤が好適に用いられる。光重合開始剤としては、例えば、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル（２－ヒドロキシー２－プロピル）ケトン［商品名：ダロキュアー２９５９、メルク社製］などのケトン系；α－ヒドロキシ－α、α－ジメチル－アセトフェノン［商品名：ダロキュア１１７３、メルク社製］、メトキシアセトフェン、２，２－ジメトキシー２－フェニルアセトフェン［商品名：イルガキュア６５１、チバガイギー社製］、２－ヒドロキシー２－シクロヘキシルアセトフェノン［商品名：イルガキュア１８４、チバガイギー社製］などのアセトフェノン系；ベンジルジメチルケタールなどのケタール系；その他、ハロゲン化ケトン、アシルホスフィノキシド、アシルホスフォナートなどが挙げられる。
【0080】
これら光重合開始剤の添加量は、上記構成単位の由来となるモノマー成分１００重量部に対して、好ましくは０．０１～５重量部であり、より好ましくは０．０３～１．０重量部である。
【0081】
光開始剤の添加量は、重合転化率の低下を抑制し、得られる重合体のモノマー臭を抑制するという観点から、０．０１重量部以上であることが好ましい。また、ラジカル発生量を抑制し、アクリル系共重合体の分子量の低下を防ぎ、良好な凝集力を得るという観点から、５重量部以下であることが好ましい。
【0082】
光重合における光照射に用いられるランプ類としては、特に限定されないが、光の波長が４００ｎｍ以下に発光分布を有するものが用いられ、具体的には、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウエーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。この中でもケミカルランプは開始剤の活性波長領域の光を効率よく発光すると共に、重合性組成物中の開始剤以外の成分の光吸収が少ないため、内部まで光が透過するので効果的である。
【0083】
上記ランプによる光重合物組成物への光照射強度は目的製品の性能毎に適宜制御されるものであり、一般的に使用されるアセトフェノン基を有する開列型の開始剤を配合した場合、開始剤の光分解に有効な波長領域（開始剤によって異なるが、通常３６５ｎｍ～４２０ｎｍの光が用いられる）の光強度は０．１～１００ｍＷ／ｃｍ2が好ましい。
【0084】
上記（メタ）アクリレート共重合体を含有するアクリル系粘着剤は、粘着付与樹脂が配合されていてもよい。上記粘着付与樹脂をアクリル系粘着剤に添加する方法としては、重合性組成物を重合した後に、他の添加剤と共に添加してもよいが、予め重合性組成物に添加した後に、光を照射して重合することが好ましい。
【0085】
粘着付与樹脂を重合性組成物に添加して重合する場合、重合速度の低下や、分子量の低下が生じる場合があるので、水添テルペン樹脂、水添ロジン、不均化ロジン樹脂、石油樹脂等の重合阻害性の低い粘着付与樹脂が好適に用いられる。
【0086】
特に、接着力が高くなるため、水添石油樹脂を接着付与樹脂として用いることが望ましい。
【0087】
上記粘着付与樹脂の軟化点は特に限定されないが、凝集力の観点から１２０℃以上であることが好ましい。
【0088】
粘着付与樹脂の添加量は上記（メタ）アクリレート共重合体１００重量部に対して好ましくは３～５０重量部であり、更に好ましくは５～４０重量部である。粘着付与樹脂の添加量が上記範囲であることで、接着力に優れるものとすることができる。また粘着剤の耐熱性や柔軟性にも優れる。
【0089】
上記（メタ）アクリレート共重合体を含有するアクリル系粘着剤は、好ましくは、接着性を高め、かつ凝集力を高めるために平均粒径が５～１５０μｍの微粒子を含有することが望ましい。上記微粒子は好ましくは、アクリル系粘着剤において均一に分散される。
【0090】
上記微粒子としては、ガラスバルーン、シラスバルーン、フライアッシュバルーン等の無機質中空粒子、ポリメタクリル酸メチル、アクリロニトリル－塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、フェノール樹脂等からなる有機質中空粒子、ガラスビーズ、シリカビーズ、合成雲母等の無機質微粒子、ポリアクリル酸エチル、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレン等の有機質微粒子が挙げられる。
【0091】
上記微粒子は、アクリル系粘着剤中に重量比率で０．１５％以上１５％以下の割合で含有されることが好ましい。上記微粒子の含有量であることで、接着性がより向上すると共に好適な凝集力の発現を可能とする。より好ましい容積比率は０．２％以上５％未満である。
【0092】
上記微粒子をアクリル系粘着剤に添加する方法としては、重合性組成物を重合した後に、他の添加剤と共に添加しても良いが、より均一に分散し、添加効果を高めるためには、予め重合性組成物に添加した後に、光を照射して重合することが好ましい。
【0093】
上記（メタ）アクリレート共重合体を含有するアクリル系粘着剤は、製造時の重合性組成物の粘度を上げ、微粒子の分散を保持するために、親水性シリカのようなチキソトロピー付与材をさらに含有することが望ましい。
【0094】
上記（メタ）アクリレート共重合体を含有するアクリル系粘着剤には必要に応じて、各種の添加剤が添加されても良い。上記添加剤としては、例えば、可塑剤、軟化剤、顔料、染料などが挙げられる。
【0095】
上記（メタ）アクリレート共重合体を含有するアクリル系粘着剤はゲル分率が４０ ～８０％であることが好ましい。
上記ゲル分率が上記範囲であることで、粘着剤の凝集力、接着力が向上する。また、本発明の特性である自己修復性がより発現しやすい。さらに、温度変化環境における耐久性を発揮することができる。ゲル分率の下限はより好ましくは５０％、さらに好ましくは５５％、更により好ましくは６０％である。ゲル分率の上限は、より好ましくは７５％であり、更に好ましくは７０％である。
上記ゲル分率が上記範囲であることで、粘着剤の凝集力、接着力が向上する。また、本発明の特性である自己修復性がより発現しやすい。さらに、温度変化環境における耐久性を発揮することができる。ゲル分率の下限はより好ましくは５０％、さらに好ましくは５５％、更により好ましくは６０％である。ゲル分率の上限は、より好ましくは７５％であり、更に好ましくは７０％である。
【0096】
上記ゲル分率は、次のようにして測定することができる。まず、粘着剤の重量Ａを測定する。この粘着剤を４０℃のテトラヒドロフランに４８時間浸漬した後、不溶解分を２００メッシュの金網で濾過、室温で２日間風乾し、不溶解分の乾燥重量Ｂを測定する。下記の式よりゲル分率を算出する。
ゲル分率（％）＝（Ｂ／Ａ）×１００…（１）
Ａ：アクリル系粘着テープの重量。
Ｂ：４０℃のテトラヒドロフランに４８時間浸漬後のアクリル系粘着テープの不溶解分の乾燥重量。
ゲル分率（％）＝（Ｂ／Ａ）×１００…（１）
Ａ：アクリル系粘着テープの重量。
Ｂ：４０℃のテトラヒドロフランに４８時間浸漬後のアクリル系粘着テープの不溶解分の乾燥重量。
【0097】
＜２－２－２．樹脂シート＞
樹脂シートは、樹脂を素材として含むシート状のものである限り、特に制限されない。樹脂シートは、本発明の効果が著しく損なわれない限りにおいて、樹脂以外の成分が含まれていてもよい。その場合、樹脂シート中の樹脂の合計量は、例えば５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上、さらに好ましくは９５質量％以上であり、通常１００質量％未満である。
樹脂シートは、樹脂を素材として含むシート状のものである限り、特に制限されない。樹脂シートは、本発明の効果が著しく損なわれない限りにおいて、樹脂以外の成分が含まれていてもよい。その場合、樹脂シート中の樹脂の合計量は、例えば５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上、さらに好ましくは９５質量％以上であり、通常１００質量％未満である。
【0098】
樹脂としては、特に制限されず、例えばエチレン酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、塩化ビニル、ウレタン、アクリル、アクリルウレタン、ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリプロピレン、シリコーン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリスチレン、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、エポキシ等の合成樹脂や、ポリイソプレンゴム、ポリスチレン・ブタジエンゴム、ポリブタジエンゴム、クロロプレンゴム、アクリロニトリル・ブタジエンゴム、ブチルゴム、アクリルゴム、エチレン・プロピレンゴムおよびシリコーンゴム等の合成ゴム材料を樹脂成分として用いることが好ましい。これらは１種単独でまたは２種以上の組合せで使用することができる。
【0099】
＜２－３．反射層＞
反射層は、電波吸収体において電波の反射層として機能し得るものである限り、特に制限されない。反射層としては、特に制限されないが、例えば金属膜が挙げられる。
反射層は、電波吸収体において電波の反射層として機能し得るものである限り、特に制限されない。反射層としては、特に制限されないが、例えば金属膜が挙げられる。
【0100】
金属膜は、金属を素材として含む層である限り、特に制限されない。金属膜は、本発明の効果が著しく損なわれない限りにおいて、金属以外の成分が含まれていてもよい。その場合、金属膜中の金属の合計量は、例えば３０質量％以上、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは７５質量％以上、さらに好ましくは８０質量％以上、さらにより好ましくは９０質量％以上、特に好ましくは９５質量％以上、非常に好ましくは９９質量％以上であり、通常１００質量％未満である。
【0101】
金属としては、特に制限されず、例えばアルミニウム、銅、鉄、銀、金、クロム、ニッケル、モリブデン、ガリウム、亜鉛、スズ、ニオブ、インジウム等が挙げられる。また、金属化合物、例えばＩＴＯ等も、金属膜の素材として使用することができる。これらは１種単独であってもよいし、２種以上の組み合わせであってもよい。
【0102】
反射層の厚みは、特に制限されない。反射層の厚みは、例えば１μｍ以上５００μｍ以下、好ましくは２μｍ以上２００μｍ以下、より好ましくは５μｍ以上１００μｍ以下である。
【0103】
反射層の層構成は特に制限されない。反射層は、１種単独の反射層から構成されるものであってもよいし、２種以上の反射層が複数組み合わされたものであってもよい。
【0104】
＜２－４．支持体＞
本発明の電波吸収体は、さらに支持体を有することが好ましい。これにより、抵抗膜を保護することができ、電波吸収体としての耐久性を高めることが可能である。支持体は、シート状のものである限り、特に制限されない。支持体としては、特に制限されないが、例えば樹脂基材が挙げられる。
本発明の電波吸収体は、さらに支持体を有することが好ましい。これにより、抵抗膜を保護することができ、電波吸収体としての耐久性を高めることが可能である。支持体は、シート状のものである限り、特に制限されない。支持体としては、特に制限されないが、例えば樹脂基材が挙げられる。
【0105】
樹脂基材は、樹脂を素材として含む基材であって、シート状のものである限り、特に制限されない。樹脂基材は、本発明の効果が著しく損なわれない限りにおいて、樹脂以外の成分が含まれていてもよい。例えば、比誘電率を調整する観点から酸化チタン等が含まれていてもよい。
その場合、樹脂基材中の樹脂の合計量は、例えば８０質量％以上、好ましくは９０質量％以上、より好ましくは９５質量％以上、さらに好ましくは９９質量％以上であり、通常１００質量％未満である。
その場合、樹脂基材中の樹脂の合計量は、例えば８０質量％以上、好ましくは９０質量％以上、より好ましくは９５質量％以上、さらに好ましくは９９質量％以上であり、通常１００質量％未満である。
【0106】
樹脂としては、特に制限されず、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、変性ポリエステル等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン（ＰＥ）樹脂、ポリプロピレン（ＰＰ）樹脂、ポリスチレン樹脂、環状オレフィン系樹脂等のポリオレフィン類樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）等のポリビニルアセタール樹脂、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂、ポリサルホン（ＰＳＦ）樹脂、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）樹脂等が挙げられる。これらは１種単独でまたは２種以上の組合せで使用することができる。
【0107】
これらの中でも、生産性や強度の観点から、好ましくはポリエステル系樹脂、より好ましくはポリエチレンテレフタレートが挙げられる。
【0108】
支持体の比誘電率は、特に制限されない。支持体の比誘電率は、例えば１～２０、好ましくは１～１５、より好ましくは１～１０、さらに好ましくは１～５である。
【0109】
支持体の比誘電率は、誘電体層の比誘電率と同様にして測定できる。
【0110】
支持体の厚みは、特に制限されない。支持体の厚みは、例えば５μｍ以上５００μｍ以下、好ましくは１０μｍ以上３００μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以上３００μｍ以下である。
【0111】
支持体の層構成は特に制限されない。支持体は、１種単独の支持体から構成されるものであってもよいし、２種以上の支持体が複数組み合わされたものであってもよい。
【0112】
＜２－５．層構成＞
本発明の電波吸収体における各層は、電波吸収性能を発揮することができる順に配置される。一例として、抵抗膜、誘電体層、及び反射層は、この順に配置される。
本発明の電波吸収体における各層は、電波吸収性能を発揮することができる順に配置される。一例として、抵抗膜、誘電体層、及び反射層は、この順に配置される。
【0113】
さらに、本発明の電波吸収体が支持体を有する場合、一例として、支持体、抵抗膜、誘電体層、及び反射層は、この順に配置される。
【0114】
本発明の電波吸収体においては、支持体、抵抗膜、誘電体層、及び反射層以外に、他の層を含むものであってもよい。他の層は、支持体、抵抗膜、誘電体層、及び反射層それぞれの層の、どちらか一方の表面上に配置され得る。
【0115】
＜３．製造方法＞
本発明の電波吸収体は、その構成に応じて、様々な方法、例えば公知の製造方法に従って又は準じて得ることができる。例えば、支持体上に抵抗膜、誘電体層、及び反射層を順に積層させる工程を含む方法により、得ることができる。
本発明の電波吸収体は、その構成に応じて、様々な方法、例えば公知の製造方法に従って又は準じて得ることができる。例えば、支持体上に抵抗膜、誘電体層、及び反射層を順に積層させる工程を含む方法により、得ることができる。
【0116】
積層方法は特に制限されない。
【0117】
抵抗膜は、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、パルスレーザーデポジション法等により行うことができる。これらの中でも、膜厚制御性の観点から、スパッタリング法が好ましい。スパッタリング法としては、特に限定されないが、例えば、直流マグネトロンスパッタ、高周波マグネトロンスパッタ及びイオンビームスパッタ等が挙げられる。また、スパッタ装置は、バッチ方式であってもロール・ツー・ロール方式であってもよい。
【0118】
誘電体層や反射層は、例えば誘電体層が有する粘着性を利用して、積層することができる。
【0119】
＜４．λ／４型電波吸収体用部材＞
本発明は、その一態様において、抵抗膜及び誘電体層を有し、且つ前記誘電体層が自己修復性［直径０．５ｍｍの針を抵抗膜の誘電体層側とは反対の表面側から電波吸収体用部材に垂直に差し込み電波吸収体用部材の裏面まで貫通させ、貫通から１０秒後に抜き取り、室温にて７日間静置し、静置後、カラー３Ｄレーザー顕微鏡（ＶＫ８７１０、キーエンス社製、またはその同等品）により、電波吸収体用部材の孔を開けた側の互いに５μｍ離れた任意の１０００点における孔の深さを測定し、その平均値（孔の平均深さ）から、電波吸収体用部材における誘電体層以外の層の厚みを引いた値が、誘電体層の厚み（誘電体層が複数の層からなる場合その厚みの和）の４／５よりも小さい、という性質］を有する、λ／４型電波吸収体用部材、に関する。また、本発明は、その一態様において、支持体、抵抗膜、及びゲル分率が４０～８０％の粘着剤を含む誘電体層を含む、λ／４型電波吸収体用部材、に関する。λ／４型電波吸収体用部材は、被着体に接するように配置することによりλ／４型電波吸収体用を形成するための部材である。抵抗膜、誘電体層、自己修復性、その他の構成については、本発明のλ／４型電波吸収体に関する説明と同様である。
本発明は、その一態様において、抵抗膜及び誘電体層を有し、且つ前記誘電体層が自己修復性［直径０．５ｍｍの針を抵抗膜の誘電体層側とは反対の表面側から電波吸収体用部材に垂直に差し込み電波吸収体用部材の裏面まで貫通させ、貫通から１０秒後に抜き取り、室温にて７日間静置し、静置後、カラー３Ｄレーザー顕微鏡（ＶＫ８７１０、キーエンス社製、またはその同等品）により、電波吸収体用部材の孔を開けた側の互いに５μｍ離れた任意の１０００点における孔の深さを測定し、その平均値（孔の平均深さ）から、電波吸収体用部材における誘電体層以外の層の厚みを引いた値が、誘電体層の厚み（誘電体層が複数の層からなる場合その厚みの和）の４／５よりも小さい、という性質］を有する、λ／４型電波吸収体用部材、に関する。また、本発明は、その一態様において、支持体、抵抗膜、及びゲル分率が４０～８０％の粘着剤を含む誘電体層を含む、λ／４型電波吸収体用部材、に関する。λ／４型電波吸収体用部材は、被着体に接するように配置することによりλ／４型電波吸収体用を形成するための部材である。抵抗膜、誘電体層、自己修復性、その他の構成については、本発明のλ／４型電波吸収体に関する説明と同様である。
【0120】
＜５．用途＞
本発明の電波吸収体は、自動車、道路、人の相互間で情報通信を行う高度道路交通システム（ＩＴＳ）や自動車衝突防止システムに用いるミリ波レーダーにおいて、電波干渉抑制やノイズ低減の目的で用いることができる。この観点から、本発明は、その一態様において、本発明の電波吸収体を含む、ミリ波レーダーに関する。
本発明の電波吸収体は、自動車、道路、人の相互間で情報通信を行う高度道路交通システム（ＩＴＳ）や自動車衝突防止システムに用いるミリ波レーダーにおいて、電波干渉抑制やノイズ低減の目的で用いることができる。この観点から、本発明は、その一態様において、本発明の電波吸収体を含む、ミリ波レーダーに関する。
【0121】
また、その他の用途として、例えば光トランシーバや、次世代移動通信システム（５Ｇ）、近距離無線転送技術等における電波対策部材としても利用できる。
【0122】
本発明の電波吸収体が対象とする電波の周波数は、例えば１～１５０ＧＨｚ、好ましくは１０～１００ＧＨｚであり、より好ましくは５０～９０ＧＨＺ、さらに好ましくは６５～９０ＧＨｚである。
【実施例】
【0123】
以下に、実施例に基づいて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
【0124】
（１）粘着剤の製造
（参考例１）
２－エチルヘキシルアクリレート８５重量部、ブチルアクリレート１５重量部、アクリル酸５重量部、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、ＢＡＳＦ）０．１５重量部、ヘキサンジオールジアクリレート０．１５重量部を均一に混合して作成した。この重合性組成物に窒素をパージして溶存酸素を除去した。ついで、離型処理した５０μｍ厚のＰＥＴフィルムの離型処理面上に塗工し、さらに離型処理した５０μｍ厚のＰＥＴフィルムの離型処理面が上記塗工により形成された粘着剤層に面するように、かつ粘着剤層の厚みが０．５ｍｍとなるように離型処理したＰＥＴフィルムに重ね合わせて、被覆側のＰＥＴフィルムにおける紫外線照射強度が５ｍＷ／ｃｍ２となるようにケミカルランプのランプ強度を調整し、１５分間紫外線を照射し、粘着剤層の厚さが０．５ｍｍの粘着テープを得た。
（参考例１）
２－エチルヘキシルアクリレート８５重量部、ブチルアクリレート１５重量部、アクリル酸５重量部、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、ＢＡＳＦ）０．１５重量部、ヘキサンジオールジアクリレート０．１５重量部を均一に混合して作成した。この重合性組成物に窒素をパージして溶存酸素を除去した。ついで、離型処理した５０μｍ厚のＰＥＴフィルムの離型処理面上に塗工し、さらに離型処理した５０μｍ厚のＰＥＴフィルムの離型処理面が上記塗工により形成された粘着剤層に面するように、かつ粘着剤層の厚みが０．５ｍｍとなるように離型処理したＰＥＴフィルムに重ね合わせて、被覆側のＰＥＴフィルムにおける紫外線照射強度が５ｍＷ／ｃｍ２となるようにケミカルランプのランプ強度を調整し、１５分間紫外線を照射し、粘着剤層の厚さが０．５ｍｍの粘着テープを得た。
【0125】
（参考例２）
２－エチルヘキシルアクリレート８５重量部、ブチルアクリレール１５重量部、アクリル酸１５重量部、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、ＢＡＳＦ）０．１５重量部、ヘキサンジオールジアクリレート０．１５重量部を均一に混合して作成した。この重合性組成物に窒素をパージして溶存酸素を除去した。ついで、離型処理した５０μｍ厚のＰＥＴフィルムの離型処理面上に塗工し、さらに離型処理した５０μｍ厚のＰＥＴフィルムの離型処理面が上記塗工により形成された粘着剤層に面するように、かつ粘着剤層の厚みが０．５ｍｍとなるように離型処理したＰＥＴフィルムに重ね合わせて、被覆側のＰＥＴフィルムにおける紫外線照射強度が５ｍＷ／ｃｍ２となるようにケミカルランプのランプ強度を調整し、１５分間紫外線を照射し、粘着剤層の厚さが０．５ｍｍの粘着テープを得た。
２－エチルヘキシルアクリレート８５重量部、ブチルアクリレール１５重量部、アクリル酸１５重量部、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、ＢＡＳＦ）０．１５重量部、ヘキサンジオールジアクリレート０．１５重量部を均一に混合して作成した。この重合性組成物に窒素をパージして溶存酸素を除去した。ついで、離型処理した５０μｍ厚のＰＥＴフィルムの離型処理面上に塗工し、さらに離型処理した５０μｍ厚のＰＥＴフィルムの離型処理面が上記塗工により形成された粘着剤層に面するように、かつ粘着剤層の厚みが０．５ｍｍとなるように離型処理したＰＥＴフィルムに重ね合わせて、被覆側のＰＥＴフィルムにおける紫外線照射強度が５ｍＷ／ｃｍ２となるようにケミカルランプのランプ強度を調整し、１５分間紫外線を照射し、粘着剤層の厚さが０．５ｍｍの粘着テープを得た。
【0126】
（参考例３）
温度計、攪拌機、冷却管、紫外線照射装置及び粘度計を備えた反応器に、２－エチルヘキシルアクリレートを４５質量部、イソボルニルアクリレートを３０質量部、４－ヒドロキシブチルアクリレートを２５質量部、粘着付与樹脂（アルコンＰ－１４０、荒川化学社製）を３０重量部、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド０．０５質量部、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、ＢＡＳＦ）０．０５質量部加え、窒素ガスをパージして溶存酸素を除去した。粘度（ＢＨ粘度計Ｎｏ．５ローター、１０ｒｐｍ、測定温度２５℃）が約４Ｐａ・ｓになるまで反応器内に紫外線を照射して、上記モノマー成分の一部が重合した粘着剤組成物を作製した。得られた粘着剤組成物の溶液に光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、ＢＡＳＦ社製）を０．０５質量部加えて攪拌した。得られた溶液を離型ポリエチレンテレフタレートフィルムの離型処理面上に塗工し、さらに離型ポリエチレンテレフタレートフィルムの離型処理面が上記塗工により形成された粘着剤層に面するように、かつ粘着剤層の厚みが０．５ｍｍとなるように離型ポリエチレンテレフタレートフィルムに重ね合わせて、ケミカルランプにて照度２ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を３６０秒間照射して粘着剤層の厚さが０．５ｍｍの粘着テープを得た。
温度計、攪拌機、冷却管、紫外線照射装置及び粘度計を備えた反応器に、２－エチルヘキシルアクリレートを４５質量部、イソボルニルアクリレートを３０質量部、４－ヒドロキシブチルアクリレートを２５質量部、粘着付与樹脂（アルコンＰ－１４０、荒川化学社製）を３０重量部、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド０．０５質量部、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、ＢＡＳＦ）０．０５質量部加え、窒素ガスをパージして溶存酸素を除去した。粘度（ＢＨ粘度計Ｎｏ．５ローター、１０ｒｐｍ、測定温度２５℃）が約４Ｐａ・ｓになるまで反応器内に紫外線を照射して、上記モノマー成分の一部が重合した粘着剤組成物を作製した。得られた粘着剤組成物の溶液に光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、ＢＡＳＦ社製）を０．０５質量部加えて攪拌した。得られた溶液を離型ポリエチレンテレフタレートフィルムの離型処理面上に塗工し、さらに離型ポリエチレンテレフタレートフィルムの離型処理面が上記塗工により形成された粘着剤層に面するように、かつ粘着剤層の厚みが０．５ｍｍとなるように離型ポリエチレンテレフタレートフィルムに重ね合わせて、ケミカルランプにて照度２ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を３６０秒間照射して粘着剤層の厚さが０．５ｍｍの粘着テープを得た。
【0127】
（参考例４）
温度計、攪拌機、冷却管、紫外線照射装置及び粘度計を備えた反応器に、２－エチルヘキシルアクリレートを４５質量部、イソボルニルアクリレートを３０質量部、４－ヒドロキシブチルアクリレートを２５質量部、粘着付与樹脂（アルコンＰ－１４０、荒川化学社製）を４０重量部、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド０．０５質量部、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、ＢＡＳＦ）０．０５質量部加え、窒素ガスをパージして溶存酸素を除去した。粘度（ＢＨ粘度計Ｎｏ．５ローター、１０ｒｐｍ、測定温度２５℃）が約４Ｐａ・ｓになるまで反応器内に紫外線を照射して、上記モノマー成分の一部が重合した粘着剤組成物を作製した。得られた粘着剤組成物の溶液に光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、ＢＡＳＦ社製）を０．０５質量部加えて攪拌した。得られた溶液を離型ポリエチレンテレフタレートフィルムの離型処理面上に塗工し、さらに離型ポリエチレンテレフタレートフィルムの離型処理面が上記塗工により形成された粘着剤層に面するように、かつ粘着剤層の厚みが０．５ｍｍとなるように離型ポリエチレンテレフタレートフィルムに重ね合わせて、ケミカルランプにて照度２ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を３６０秒間照射して粘着剤層の厚さが０．５ｍｍの粘着テープを得た。
温度計、攪拌機、冷却管、紫外線照射装置及び粘度計を備えた反応器に、２－エチルヘキシルアクリレートを４５質量部、イソボルニルアクリレートを３０質量部、４－ヒドロキシブチルアクリレートを２５質量部、粘着付与樹脂（アルコンＰ－１４０、荒川化学社製）を４０重量部、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド０．０５質量部、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、ＢＡＳＦ）０．０５質量部加え、窒素ガスをパージして溶存酸素を除去した。粘度（ＢＨ粘度計Ｎｏ．５ローター、１０ｒｐｍ、測定温度２５℃）が約４Ｐａ・ｓになるまで反応器内に紫外線を照射して、上記モノマー成分の一部が重合した粘着剤組成物を作製した。得られた粘着剤組成物の溶液に光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、ＢＡＳＦ社製）を０．０５質量部加えて攪拌した。得られた溶液を離型ポリエチレンテレフタレートフィルムの離型処理面上に塗工し、さらに離型ポリエチレンテレフタレートフィルムの離型処理面が上記塗工により形成された粘着剤層に面するように、かつ粘着剤層の厚みが０．５ｍｍとなるように離型ポリエチレンテレフタレートフィルムに重ね合わせて、ケミカルランプにて照度２ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を３６０秒間照射して粘着剤層の厚さが０．５ｍｍの粘着テープを得た。
【0128】
（２）λ／４型電波吸収体の製造１
（実施例１）
支持体として、厚み１２５μｍの酸化チタンを練りこんだポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（比誘電率３．４）を用意した。
（実施例１）
支持体として、厚み１２５μｍの酸化チタンを練りこんだポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（比誘電率３．４）を用意した。
【0129】
上記ＰＥＴフィルム上に表面抵抗値３３１Ω／□の抵抗膜（＝バリア層１／抵抗層／バリア層２）を次の通りに形成した。上記ＰＥＴフィルム上にケイ素ターゲットを使い、出力１．０ｋＷ、Ａｒガス流量１００ｓｃｃｍ及び酸素ガス流量１０ｓｃｃｍを導入して圧力０．１２Ｐａの条件でＤＣパルススパッタリングを行うことにより、二酸化ケイ素からなるバリア層を形成した（バリア層１：厚さ３．５ｎｍ）。次いで、このバリア層上にＤＣパルススパッタリングにより、表面抵抗値３３１Ω／□の抵抗層を形成した。スパッタリングはハステロイＣ２７６をターゲットに用い、出力０．４ｋＷ、Ａｒガス流量１００ｓｃｃｍで導入して圧力０．１２Ｐａとなるように調整して行った。次いで、抵抗層上にケイ素ターゲットを使い、出力１．０ｋＷ、Ａｒガス流量１００ｓｃｃｍ及び酸素ガス流量１０ｓｃｃｍを導入して圧力０．１２Ｐａの条件でＤＣパルススパッタリングを行うことにより、二酸化ケイ素からなるバリア層を形成した（バリア層２：厚さ２．２ｎｍ）。
【0130】
次いで、形成した抵抗膜上に、粘着剤（参考例１）からなる誘電体（厚み０．４ｍｍ）を積層し、その上に厚さ１０μｍのアルミニウムからなる反射層を積層してλ／４型電波吸収体を得た。
【0131】
（実施例２～３及び比較例２）
抵抗膜の表面抵抗値を変更し、且つ粘着剤を変更する（実施例２：参考例２、実施例３：参考例３、比較例２：参考例４、）以外は、実施例１と同様にして、λ／４型電波吸収体を得た。
抵抗膜の表面抵抗値を変更し、且つ粘着剤を変更する（実施例２：参考例２、実施例３：参考例３、比較例２：参考例４、）以外は、実施例１と同様にして、λ／４型電波吸収体を得た。
【0132】
（比較例１）
実施例１と同様にして、ＰＥＴフィルム上に表面抵抗値３４０Ω／□の抵抗膜（＝抵抗層）を形成した。次いで、形成した抵抗膜上に粘着テープ（アクリル両面粘着テープ、厚み３０μｍ、比誘電率２．６）を介して厚み０．４ｍｍ且つ比誘電率のポリカーボネートからなる誘電体を積層し、更に誘電体上に同じ粘着テープを介して厚さ１０μｍのアルミニウムからなる反射層を積層してλ／４型電波吸収体を得た。
（３）λ／４型電波吸収体の製造２
実施例１と同様にして、ＰＥＴフィルム上に表面抵抗値３４０Ω／□の抵抗膜（＝抵抗層）を形成した。次いで、形成した抵抗膜上に粘着テープ（アクリル両面粘着テープ、厚み３０μｍ、比誘電率２．６）を介して厚み０．４ｍｍ且つ比誘電率のポリカーボネートからなる誘電体を積層し、更に誘電体上に同じ粘着テープを介して厚さ１０μｍのアルミニウムからなる反射層を積層してλ／４型電波吸収体を得た。
（３）λ／４型電波吸収体の製造２
【0133】
（実施例４～１２、比較例３）
（３－１）誘電体層材料の調製
下記の表１に記載の配合（Ａ～I）に従い、重合性組成物をディゾルバーにて均一に混合して作製した。この重合性組成物に窒素をパージして溶存酸素を除去した。ついで、離型処理した５０μｍ厚のＰＥＴフィルム上に厚さ０．５ｍｍのスペーサーを設置し上記重合性組成物を離型処理ＰＥＴ上に展開したのち、このＰＥＴフィルムを折り曲げて、離型処理面が重合性組成物に接するように被覆した。
（３－１）誘電体層材料の調製
下記の表１に記載の配合（Ａ～I）に従い、重合性組成物をディゾルバーにて均一に混合して作製した。この重合性組成物に窒素をパージして溶存酸素を除去した。ついで、離型処理した５０μｍ厚のＰＥＴフィルム上に厚さ０．５ｍｍのスペーサーを設置し上記重合性組成物を離型処理ＰＥＴ上に展開したのち、このＰＥＴフィルムを折り曲げて、離型処理面が重合性組成物に接するように被覆した。
【0134】
この状態で被覆側のＰＥＴフィルムにおける紫外線照射強度が５ｍＷ／ｃｍ２となるようにケミカルランプのランプ強度を調整し、１５分間紫外線を照射し、粘着剤層の厚さが５００μｍの粘着テープＡ～Iを得た。
【0135】
上記で得られた粘着テープを用いて、以下のようにしてゲル分率を測定した。結果を表１に示す。
【0136】
先ず、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製離型フィルムを剥離した粘着テープの重量Ａを測定した。この粘着テープを４０℃のテトラヒドロフランに４８時間浸漬した後、不溶解分を２００メッシュの金網で濾過、室温で２日間風乾し、不溶解分の乾燥重量Ｂを測定した。下記の式よりゲル分率を算出した。
ゲル分率（％）＝（Ｂ／Ａ）×１００…（１）
Ａ：アクリル系粘着テープの重量。
Ｂ：４０℃のテトラヒドロフランに４８時間浸漬後のアクリル系粘着テープの不溶解分の乾燥重量。
ゲル分率（％）＝（Ｂ／Ａ）×１００…（１）
Ａ：アクリル系粘着テープの重量。
Ｂ：４０℃のテトラヒドロフランに４８時間浸漬後のアクリル系粘着テープの不溶解分の乾燥重量。
【0137】
【表1】
【0138】
エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート：日本化薬社製、商品名「ＳＲ５０２」数平均分子量６９２
液状水素化１，２ポリブタジエンアクリレート：日本曹達社製、商品名「ＴＥＡＩ－１０００」、数平均分子量２２５０
末端に重合性結合を有するオレフィン重合体：クレイトン・ポリマージャパン社製、商品名「ＨＰＶＭ－Ｌ１２５３」
ガラスバルーン：東海工業社製、商品名「ＣＥＬ－ＳＴＡＲ・Ｚ－２０」、平均粒径６７μｍ、真密度０．１７～０．２３ｇ／ｍ2
２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン：チバガイギー社製、商品名「イルガキュア６５１」
親水性シリカ：日本アエロジル社製、商品名「アエロジルＡ－２００」
粘着付与樹脂：水添石油樹脂、軟化点１００℃品、荒川化学社製、商品名「アルコンＰ－１００」。
液状水素化１，２ポリブタジエンアクリレート：日本曹達社製、商品名「ＴＥＡＩ－１０００」、数平均分子量２２５０
末端に重合性結合を有するオレフィン重合体：クレイトン・ポリマージャパン社製、商品名「ＨＰＶＭ－Ｌ１２５３」
ガラスバルーン：東海工業社製、商品名「ＣＥＬ－ＳＴＡＲ・Ｚ－２０」、平均粒径６７μｍ、真密度０．１７～０．２３ｇ／ｍ2
２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン：チバガイギー社製、商品名「イルガキュア６５１」
親水性シリカ：日本アエロジル社製、商品名「アエロジルＡ－２００」
粘着付与樹脂：水添石油樹脂、軟化点１００℃品、荒川化学社製、商品名「アルコンＰ－１００」。
【0139】
（３－２）λ／４型電波吸収体の製造
（実施例４）
支持体として、厚み１２５μｍのポリエチレンテレフタレート（白色ＰＥＴ）フィルム（比誘電率３．４）（帝人フィルムソリューション社製、Ｕ２Ｌ９２Ｗ）を用意した。
（実施例４）
支持体として、厚み１２５μｍのポリエチレンテレフタレート（白色ＰＥＴ）フィルム（比誘電率３．４）（帝人フィルムソリューション社製、Ｕ２Ｌ９２Ｗ）を用意した。
【0140】
上記ＰＥＴフィルム上に抵抗膜（バリア層１／抵抗層／バリア層２）を次の通りに形成した。まず、ＤＣパルススパッタリングによりＡｒとＯ２の比率を１：１に調整したがガスを導入して、０．２Ｐａになるように調整し、ＳｉＯ２層（バリア層１：厚さ１ｎｍ）を成膜した。続いて、バリア層１上に、ＤＣパルススパッタリングにより厚み１０ｎｍ且つ表面抵抗値３４０Ω／□の抵抗層を形成した。スパッタリングはハステロイＣ－２７６をターゲットに用い、出力０．４ｋＷ、Ａｒガス流量１００ｓｃｃｍで導入して圧力０．１２Ｐａとなるように調整して行った。最後に、バリア層１と同様にしてバリア層２（厚さ１ｎｍ）を形成した。
【0141】
次いで、形成した抵抗膜上に厚み５００μｍの粘着テープＡ（誘電率２．５）からなる誘電体を積層し、更に誘電体上に厚さ３０μｍの銅からなる反射層を積層して、λ／４型電波吸収体を得た。
【0142】
（実施例５～１２）
表１に記載の通りに誘電体層の種類を変更する以外は実施例４と同様にしてλ／４型電波吸収体を得た。
表１に記載の通りに誘電体層の種類を変更する以外は実施例４と同様にしてλ／４型電波吸収体を得た。
【0143】
（比較例３）
抵抗膜上に粘着テープ（アクリル両面粘着テープ、厚み３０μｍ、比誘電率３．０）を介して厚み４００μｍ且つ比誘電率２．６のポリカーボネートからなる誘電体を積層し、更に誘電体上に上記粘着テープを介して厚さ３０μｍの銅からなる反射層を積層する以外は、実施例４と同様にしてλ／４型電波吸収体を得た。
抵抗膜上に粘着テープ（アクリル両面粘着テープ、厚み３０μｍ、比誘電率３．０）を介して厚み４００μｍ且つ比誘電率２．６のポリカーボネートからなる誘電体を積層し、更に誘電体上に上記粘着テープを介して厚さ３０μｍの銅からなる反射層を積層する以外は、実施例４と同様にしてλ／４型電波吸収体を得た。
【0144】
（４）誘電体層のせん断貯蔵弾性率の測定
参考例とポリカーボネートのせん断貯蔵弾性率を動的粘弾性測定装置（ＡＲＥＳ－Ｇ２（ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）、又はその同等品）を用い、周波数１０Ｈｚ、温度範囲－１００℃～２５０℃、昇温速度５℃／ｍｉｎにて測定した。
参考例とポリカーボネートのせん断貯蔵弾性率を動的粘弾性測定装置（ＡＲＥＳ－Ｇ２（ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）、又はその同等品）を用い、周波数１０Ｈｚ、温度範囲－１００℃～２５０℃、昇温速度５℃／ｍｉｎにて測定した。
【0145】
（５）誘電体層のガラス転移温度の測定
動的粘弾性測定装置（ＡＲＥＳ－Ｇ２（ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）、又はその同等品）を用い、周波数１０Ｈｚ、温度範囲－１００℃～２５０℃、昇温速度５℃／ｍｉｎにて測定を行い、ガラス転移温度Ｔｇを算出した。
動的粘弾性測定装置（ＡＲＥＳ－Ｇ２（ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）、又はその同等品）を用い、周波数１０Ｈｚ、温度範囲－１００℃～２５０℃、昇温速度５℃／ｍｉｎにて測定を行い、ガラス転移温度Ｔｇを算出した。
【0146】
（６）誘電体層の自己修復性の測定
直径０．５ｍｍの針を電波吸収体の支持体の誘電体に面する側とは反対の表面から吸収体に垂直に差し込み電波吸収体の裏面まで貫通させた。貫通から１０秒後に抜き取り、室温にて７日間静置した。静置後、カラー３Ｄレーザー顕微鏡（ＶＫ８７１０、キーエンス社製、またはその同等品）により、電波吸収体の孔を開けた側の互いに５μｍ離れた任意の１０００点における孔の深さを測定し、その平均値を孔の平均深さとした。孔の平均深さから、支持体の厚みと抵抗膜の厚みとを引いた値が、誘電体層の厚み（誘電体層が複数の層からなる場合その厚みの和）の４／５よりも小さければ、「自己修復性がある」と判断する。
直径０．５ｍｍの針を電波吸収体の支持体の誘電体に面する側とは反対の表面から吸収体に垂直に差し込み電波吸収体の裏面まで貫通させた。貫通から１０秒後に抜き取り、室温にて７日間静置した。静置後、カラー３Ｄレーザー顕微鏡（ＶＫ８７１０、キーエンス社製、またはその同等品）により、電波吸収体の孔を開けた側の互いに５μｍ離れた任意の１０００点における孔の深さを測定し、その平均値を孔の平均深さとした。孔の平均深さから、支持体の厚みと抵抗膜の厚みとを引いた値が、誘電体層の厚み（誘電体層が複数の層からなる場合その厚みの和）の４／５よりも小さければ、「自己修復性がある」と判断する。
【0147】
（７）電波吸収性の評価及び低温折り曲げ耐性試験後の電波吸収性
ネットワークアナライザー ＭＳ４６４７Ｂ（アンリツ社製）、フリースペース材料測定置 ＢＤ１－２６．Ａ（キーコム社製）を用いて電波吸収測定装置を構成した。この電波吸収測定装置を用いて、得られたλ／４型電波吸収体の５５～９０ＧＨｚ帯での電波吸収量をＪＩＳ Ｒ１６７９に基づいて測定し、低温折り曲げ耐性試験前の電波吸収性を評価した。なお、λ／４型電波吸収体は、電波入射方向が垂直入射かつ基材側からの入射となるようにセットした。
ネットワークアナライザー ＭＳ４６４７Ｂ（アンリツ社製）、フリースペース材料測定置 ＢＤ１－２６．Ａ（キーコム社製）を用いて電波吸収測定装置を構成した。この電波吸収測定装置を用いて、得られたλ／４型電波吸収体の５５～９０ＧＨｚ帯での電波吸収量をＪＩＳ Ｒ１６７９に基づいて測定し、低温折り曲げ耐性試験前の電波吸収性を評価した。なお、λ／４型電波吸収体は、電波入射方向が垂直入射かつ基材側からの入射となるようにセットした。
【0148】
その後、電波吸収体を曲率半径２ｍｍに折り曲げた状態で－１８℃で２４時間保持した。折り曲げ解放後、２５℃下に１時間静置したのち、低温折り曲げ耐性試験前の電波吸収性評価と同様にして、電波吸収性を評価した。
【0149】
得られた吸収量について、以下の評価基準にて電波吸収性能を評価した。
◎：測定範囲（５５～９０ＧＨｚ）における電波吸収量の最大値が２５ｄＢ以上
○：測定範囲における電波吸収量の最大値が２５ｄＢ未満、２０ｄＢ以上
×：測定範囲における電波吸収量の最大値が２０ｄＢ未満。
◎：測定範囲（５５～９０ＧＨｚ）における電波吸収量の最大値が２５ｄＢ以上
○：測定範囲における電波吸収量の最大値が２５ｄＢ未満、２０ｄＢ以上
×：測定範囲における電波吸収量の最大値が２０ｄＢ未満。
【0150】
（８）ヒートサイクル（ＨＣ）試験、並びに該試験前後の電波吸収性能及び表面抵抗の測定
実施例４～１２及び比較例３については、更にヒートサイクル（ＨＣ）試験を行った。ヒートサイクル試験（ＨＣ試験）の条件は－４０℃にて３０分放置し、次に１２５℃に昇温して３０分放置を１セットとして、１０００セット実施した。
実施例４～１２及び比較例３については、更にヒートサイクル（ＨＣ）試験を行った。ヒートサイクル試験（ＨＣ試験）の条件は－４０℃にて３０分放置し、次に１２５℃に昇温して３０分放置を１セットとして、１０００セット実施した。
【0151】
（８－１）HC試験前後の表面抵抗の測定
表面抵抗の測定は、表面抵抗計（ＭＩＴＳＵＢＩＳＨＩ ＣＨＥＭＩＣＡＬ ＡＮＡＬＹＴＥＣＨ社製、商品名「Ｌｏｒｅｓｔａ－ＥＰ」）を用いて、４端子法により測定した。
表面抵抗の測定は、表面抵抗計（ＭＩＴＳＵＢＩＳＨＩ ＣＨＥＭＩＣＡＬ ＡＮＡＬＹＴＥＣＨ社製、商品名「Ｌｏｒｅｓｔａ－ＥＰ」）を用いて、４端子法により測定した。
【0152】
（８－２）HC試験前後の電波吸収性能の測定
電波吸収性能は、ネットワークアナライザー ＭＳ４６４７Ｂ（アンリツ社製）、フリースペース材料測定置 ＢＤ１－２６．Ａ（キーコム社製）を用いて電波吸収測定装置を構成して測定した。この電波吸収測定装置を用いて、λ／４型電波吸収体の５５～９０ＧＨｚ帯での電波吸収量をＪＩＳ Ｒ１６７９に基づいて測定し、７９ＧＨｚにおける電波吸収量（ｄＢ）と、最大電波吸収量を示す周波数（ピーク位置）とを測定した。なお、λ／４型電波吸収体は、電波入射方向が垂直かつ、基材側からの入射となるようにセットした。
電波吸収性能は、ネットワークアナライザー ＭＳ４６４７Ｂ（アンリツ社製）、フリースペース材料測定置 ＢＤ１－２６．Ａ（キーコム社製）を用いて電波吸収測定装置を構成して測定した。この電波吸収測定装置を用いて、λ／４型電波吸収体の５５～９０ＧＨｚ帯での電波吸収量をＪＩＳ Ｒ１６７９に基づいて測定し、７９ＧＨｚにおける電波吸収量（ｄＢ）と、最大電波吸収量を示す周波数（ピーク位置）とを測定した。なお、λ／４型電波吸収体は、電波入射方向が垂直かつ、基材側からの入射となるようにセットした。
【0153】
ＨＣ試験後の電波吸収性能と、ピーク位置のずれについて以下の基準で評価した。
［ＨＣ試験後の電波吸収性能］
○：ＨＣ試験後の７９ＧＨｚにおける電波吸収量が２０ｄＢ以上
×：ＨＣ試験後の７９ＧＨｚにおける電波吸収量２０ｄＢ未満。
［ピーク位置のずれ］
◎：ＨＣ試験前後でのピーク位置のズレが２ＧＨｚ未満
○：ＨＣ試験前後でのピーク位置のズレが２ＧＨｚ以上～５ＧＨｚ未満
×：ＨＣ試験前後でのピーク位置のズレが５ＧＨｚ以上。
［ＨＣ試験後の電波吸収性能］
○：ＨＣ試験後の７９ＧＨｚにおける電波吸収量が２０ｄＢ以上
×：ＨＣ試験後の７９ＧＨｚにおける電波吸収量２０ｄＢ未満。
［ピーク位置のずれ］
◎：ＨＣ試験前後でのピーク位置のズレが２ＧＨｚ未満
○：ＨＣ試験前後でのピーク位置のズレが２ＧＨｚ以上～５ＧＨｚ未満
×：ＨＣ試験前後でのピーク位置のズレが５ＧＨｚ以上。
【0154】
（８－３）積層の剥がれの有無
ヒートサイクル試験後の電波吸収体を目視にて確認し、積層体に浮きや剥がれが発生していない場合を「無」、発生していた場合を「有」として評価した。
ヒートサイクル試験後の電波吸収体を目視にて確認し、積層体に浮きや剥がれが発生していない場合を「無」、発生していた場合を「有」として評価した。
【0155】
（９）結果
結果を表２及び表３に示す。
結果を表２及び表３に示す。
【0156】
【表2】
【0157】
【表3】
【符号の説明】
【0158】
１ 支持体
２ 抵抗膜
３ 誘電体層
４ 反射層
５ 粘着剤層
６ 筐体
２ 抵抗膜
３ 誘電体層
４ 反射層
５ 粘着剤層
６ 筐体
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】