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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-04-26
(45)【発行日】2024-05-09
(54)【発明の名称】中間体転写部材
(51)【国際特許分類】
B41J 2/01 20060101AFI20240430BHJP
B41N 10/04 20060101ALI20240430BHJP
B32B 37/14 20060101ALI20240430BHJP
B32B 27/00 20060101ALI20240430BHJP
【ＦＩ】
B41J2/01 101
B41N10/04
B32B37/14 Z
B32B27/00 Z
【請求項の数】
12
(21)【出願番号】P 2023016428
(22)【出願日】2023-02-06
(62)【分割の表示】P 2021142720の分割
【原出願日】2017-05-30
(65)【公開番号】P2023071669
(43)【公開日】2023-05-23
【審査請求日】2023-02-06
(31)【優先権主張番号】1609463.3
(32)【優先日】2016-05-30
(33)【優先権主張国・地域又は機関】GB
(31)【優先権主張番号】62/343,108
(32)【優先日】2016-05-30
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(73)【特許権者】
【識別番号】514210005
【氏名又は名称】ランダ コーポレイション リミテッド
(74)【代理人】
【識別番号】110002723
【氏名又は名称】高法弁理士法人
(72)【発明者】
【氏名】ランダ，ベンジオン
(72)【発明者】
【氏名】アブラモヴィッチ，サギ
(72)【発明者】
【氏名】レバノン，モシェ
(72)【発明者】
【氏名】チェチク，ヘレナ
(72)【発明者】
【氏名】クルツセル，タティアナ
【審査官】小野 郁磨
(56)【参考文献】
【文献】特開２００２－３０７８１５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００４－１２６３８０（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００５－２１５６４５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００７－０７２４４９（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１０－２２８１９１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１１－０８１０６１（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１３－１９３２５６（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１４－０１９０９２（ＪＰ，Ａ）
【文献】米国特許出願公開第２０１４／０３６９７２２（ＵＳ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｂ４１Ｊ ２／０１－２／２１５
Ｂ４１Ｎ １０／０４
Ｂ４１Ｍ ５／５０
Ｂ３２Ｂ ３７／１４
Ｂ３２Ｂ ２７／００
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
印刷システムと使用するための中間体転写部材（ＩＴＭ）の製造方法であって、ａ.流体硬化可能物質を提供すること、
ｂ.担体接触表面を有する担体を提供することであって、前記担体接触表面は前記流体硬化可能物質によって湿潤可能である担体を提供すること、
ｃ.前記流体硬化可能物質を前記担体上に適用し、前記流体硬化可能物質は前記担体接触表面を湿潤して前記担体接触表面上に前記流体硬化可能物質の層を形成すること、
ｄ.前記流体硬化可能物質の前記層が以下のｉ～ｉｉｉの硬化プロセスを受けることによって、前記流体硬化可能物質の前記層から前記ＩＴＭの剥離層を作製すること、
ｉ.前記剥離層は、前記担体接触表面に面するインク受容表面および前記インク受容表面に対向する第２表面を有するように作製され、
ｉｉ.前記剥離層は、付加硬化型シリコーン物質から形成され、
ｉｉｉ.前記インク受容表面は、以下の構造的特性：
Ａ.前記インク受容表面上の蒸留水滴の後退接触角が最大６０度であること、
Ｂ.前記インク受容表面上に堆積された蒸留水滴の場合、１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が最大１０８度であること、
のうちの少なくとも１つを満たすように適応され、
ｅ.前記ＩＴＭの前記剥離層の前記第２表面をその支持層に付着させること、
を含む、中間体転写部材（ＩＴＭ）の製造方法。
【請求項2】
前記担体が可撓性を有する箔である、請求項１に記載の製造方法。
【請求項3】
前記担体を前記剥離層から剥がすことをさらに含む、請求項１に記載の製造方法。
【請求項4】
前記剥がすことが、前記ＩＴＭを前記印刷システムに据え付けることにより行われる、請求項３に記載の製造方法。
【請求項5】
前記剥離層の前記付加硬化型シリコーン物質が、実質的に付加硬化型シリコーンからなるか、または、少なくとも９５重量％の前記付加硬化型シリコーンを含む、請求項１に記載の製造方法。
【請求項6】
官能基が、前記剥離層の前記付加硬化型シリコーン物質の最大５重量％を占める、請求項１～５のいずれかに記載の製造方法。
【請求項7】
官能基が、前記剥離層の前記付加硬化型シリコーン物質の最大３重量％を占める、請求項１～５のいずれかに記載の製造方法。
【請求項8】
前記流体硬化可能物質が、ビニル官能シリコーンポリマーを含む、請求項１～６のいずれかに記載の製造方法。
【請求項9】
前記ビニル官能シリコーンポリマーが、ビニル官能ポリジメチルシロキサンなどの末端ビニル基に加えて少なくとも１つの側鎖ビニル基を含む、請求項８に記載の製造方法。
【請求項10】
前記流体硬化可能物質が、ビニル末端ポリジメチルシロキサンを含む、請求項１～９のいずれかに記載の製造方法。
【請求項11】
前記流体硬化可能物質が、末端ビニル基に加えてポリシロキサン鎖上に少なくとも１つの側鎖ビニル基と、架橋剤と、付加硬化型触媒と、所望により、さらに硬化抑制剤と、を含むビニル官能ポリジメチルシロキサンを含む、請求項１～請求項１０のいずれかに記載の製造方法。
【請求項12】
前記硬化可能物質が、付加硬化型触媒を含む、請求項１～１１のいずれかに記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本願は、ともに２０１６年５月３０に出願された米国特許出願整理番号第６２／３４３，１０８号およびＧＢ第１６０９４６３．３号から優先権を引き出す。これらの特許出願は、あらかも本明細書に述べられるように、すべての目的のために参照することにより援用される。
【0002】
本発明は、印刷の分野に関し、より詳細には印刷システムの中間体転写部材に関する。
【背景技術】
【0003】
間接印刷の技術では、中間体転写部材（ＩＴＭ）に所望される画像のネガの形でインクを塗布し、次いで中間体転写構成要素から、例えば紙、布、またはプラスチック等の印刷基板にインクを転送し、それによって基板上に所望された画像を印刷することが知られている。
【0004】
ＩＴＭは、通常、ドラムに取り付けられたスリーブ、またはコンベヤシステム上で可撓ベルトを形成する輪になったブランケットである。インクが塗布され、基板上に画像を印刷するためにそこからインクが放出されるＩＴＭのもっとも外側の層は、剥離層と呼ばれる。
【0005】
中間体転写部材として適切なブランケットは、予想されるインク転送の種類にとって、および中間体転写部材が動作することを目的とする印刷システムにとってそれらを適切にするために特定の構造上の特徴を必要とする。ブランケットの所望される特性は、全般的に剥離層が適切なインク付着および放出特性を有するシリコーン系ポリマーであってよく、ブランケット基部が剥離層を支えるように適応された少なくとも１つの層を含む、多層構造を使用することによって達成される。
【0006】
間接印刷の技術で既知の印刷サイクルは、
（ａ）（各インクが液体担体内に着色剤を含んだ）１つ以上のインクを、複数のインク液滴として塗布して、中間体転写部材の剥離層の画像転送表面にインク画像を形成するステップと、
（ｂ）インク画像が中間体転写部材によって輸送されている間に、担体の少なくとも部分的な蒸発を達成して、画像転送表面に着色剤を含んだ残留インク薄膜を残すステップと、
（ｃ）画像転送表面から残留薄膜を印刷基板に転送するステップと
を含んでよい。
（ａ）（各インクが液体担体内に着色剤を含んだ）１つ以上のインクを、複数のインク液滴として塗布して、中間体転写部材の剥離層の画像転送表面にインク画像を形成するステップと、
（ｂ）インク画像が中間体転写部材によって輸送されている間に、担体の少なくとも部分的な蒸発を達成して、画像転送表面に着色剤を含んだ残留インク薄膜を残すステップと、
（ｃ）画像転送表面から残留薄膜を印刷基板に転送するステップと
を含んでよい。
【0007】
インクは、通常印刷ステーションで、インクジェットにより画像転送表面に塗布されてよい。入手された残留薄膜は、中間体転写部材を印圧シリンダと係合させることによって、印圧ステーションで画像転送表面から基板に転送されてよい。
【0008】
様々な理由から、有機担体よりむしろ水性担体を含んだインク組成物を使用することが望ましい。特徴的に低い表面エネルギーを有するＩＴＭ剥離層は、それらが乾燥インク画像の印刷基板への転送を容易にする点で有利である。しかし、インク受容段階の間、係る低エネルギーの疎水性剥離層に噴出された水性インク液滴は、初期衝突の後、ビーズ状に凝集し、それにより画像品質が損なわれる傾向がある。エネルギーが高く、より疎水性が低い剥離層は、この効果を緩和し得るが、画像転送品質に対して有害である。さらに、プロセスは、剥離層表面に残る未転送のインクに関する様々な問題に立ち向かわなくてはならない。高速高スループットデジタル印刷システムでは、これらの問題はより重大になっている。
【0009】
ＷＯ／２０１３／１３２４１８号に説明されるように、ＩＴＭは、複雑な多層構造を有することによって達成され得るいくつかの特定の物理的特性を有することを必要とされる場合がある。全般的に、ＩＴＭは、典型的には布を含んだ支持層を含み、支持層は、印圧ステーションへの輸送中の画像の変形を回避するために非常に限られた弾性を有する。ＩＴＭは、さらに、粘着性のある薄膜が基板の表面輪郭に近接して追随することができるようにするために後に剥離の直下にきわめて柔軟な薄層を有してよい。ＩＴＭは、ＩＴＭの様々な所望される機能特性、熱特性、および電気特性を達成するために他の層を含んでよい。
【0010】
良好に画成された構造および形状、強靭性、および変形抵抗のため、支持層は、ＩＴＭを作るときに開始点として使用される。具体的には、ＩＴＭの製造は、所望される多層構造を構築するために追加の所望される層が追加される支持層を提供することによって実行される。通常、ＩＴＭの異なる層は、硬化可能流体として塗布される。
【0011】
ＩＴＭのインク転送表面を有する剥離層は、塗布され、形成される最後のかつ一番上の層である。発明者は、インク転送表面のトポロジー、輪郭、および表面仕上げさえ、初期剥離層が塗布される最後から２番目の層の表面の輪郭によりかなりの程度まで決定されてよいことを観察した。このため、所望された表面仕上げを有する欠陥がないインク転送表面を有するＩＴＭを製造することは困難であることが判明している。発明者は、係る欠陥が、様々な点で剥離層の性能をかなり損なう場合があること、つまりＩＴＭの大幅な長さ、幅、および表面が所望されるときに問題が特に悪化することを見出した。
【0012】
より重要なことに、発明者は、親水特性を必要とする水性インク受容段階、および疎水特性を必要とするインク薄膜転送段階に関する相反するタスクに対処するようによりよく適応される改善された剥離層の必要性を認識している。
【発明の概要】
【0013】
本発明のいくつかの態様によれば、印刷システムと使用するための中間体転写部材（ＩＴＭ）が提供され、ＩＴＭは、
（ａ）支持層と、
（ｂ）インク画像を受容するためのインク受容表面およびインク受容表面に対向する第２表面を有する剥離層と、を含み、第２表面は支持層に付着され、剥離層は付加硬化型シリコーン物質から形成され、剥離層は最大５００マイクロメートル（μｍ）の厚さを有する。
（ａ）支持層と、
（ｂ）インク画像を受容するためのインク受容表面およびインク受容表面に対向する第２表面を有する剥離層と、を含み、第２表面は支持層に付着され、剥離層は付加硬化型シリコーン物質から形成され、剥離層は最大５００マイクロメートル（μｍ）の厚さを有する。
【0014】
説明される好ましい実施形態の特徴によれば、ＩＴＭは、ＩＴＭは以下の構造特性、すなわち、
（１）該インク受容表面の全表面エネルギーが、対応剥離層のインク受容表面に標準的エージング手順を施すことにより生産された変更されたインク受容表面の全表面エネルギーよりも、少なくとも２Ｊ／ｍ２、少なくとも３Ｊ／ｍ２、少なくとも４Ｊ／ｍ２、少なくとも５Ｊ／ｍ２、少なくとも６Ｊ／ｍ２、少なくとも８Ｊ／ｍ２、または少なくとも１０Ｊ／ｍ２高いこと、
（２）該インク受容表面の全表面エネルギーが、該硬化されたシリコーン物質のシリコーン前駆体の標準的空気硬化により準備された対応剥離層の疎水性インク受容表面の全表面エネルギーよりも、少なくとも４Ｊ／ｍ２、少なくとも６Ｊ／ｍ２、少なくとも８Ｊ／ｍ２、少なくとも１０Ｊ／ｍ２、少なくとも１２Ｊ／ｍ２、少なくとも１４Ｊ／ｍ２、または少なくとも１６Ｊ／ｍ２であることと、
（３）該インク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角が、該硬化されたシリコーン物質のシリコーン前駆体の標準的空気硬化により準備された対応剥離層のインク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角よりも、少なくとも７度、少なくとも８度、少なくとも１０度、少なくとも１２度、少なくとも１４度、少なくとも１６度、少なくとも１８度、または、少なくとも２０度低いことと、
（４）該インク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角が、該インク受容表面に標準的なエージング手順を施すことにより生産されたエージングされた表面上の蒸留水液滴の後退接触角よりも少なくとも５度、少なくとも６度、少なくとも７度、または、少なくとも８度小さいことと、
（５）該インク受容表面の表面疎水性が該剥離層内の該硬化されたシリコーン物質のバルク疎水性よりも小さく、該表面疎水性は該インク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角により特徴付けられ、該バルク疎水性は、露出エリアを形成するために該剥離層内の該硬化されたシリコーン物質のエリアを露出させることにより形成された内側表面上に配置された蒸留水液滴の後退接触角により特徴付けられ、
該インク受容表面上で測定された該後退接触角は、該露出エリアで測定された該後退接触角よりも、少なくとも７度、少なくとも８度、少なくとも１０度、少なくとも１２度、少なくとも１４度、少なくとも１６度、少なくとも１８度であるか、または、少なくとも２０度低いことと、
（６）該インク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角は最大６０度、最大５８度、最大５６度、最大５４度、最大５２度、最大５０度、最大４８度、最大４６度、最大４４度、最大４２度、最大４０度、最大３８度、または最大３６度であることと、
（７）剥離層が、インク受容表面の極性基が離間する方向または第２表面と逆の方向を有するよう、適応されることと、
（８）剥離層が、該インク受容表面が周囲環境に曝露される動作モードにＩＴＭがあるとき、インク受容表面の該極性基が該周囲環境に向かう方向または対向する方向を有するよう、適応されることと、
（９）インク受容表面は、インク受容表面上に堆積された蒸留水液滴に対して、７０秒動的接触角（ＤＣＡ）と１０秒ＤＣＡとの間の差異が、少なくとも６度、少なくとも７度、少なくとも８度、少なくとも１０度、または少なくとも１２度、所望により、最大２５度、最大２２度、最大２０度、最大１８度、または最大１７度、および、さらに所望により、６～２５度、６～２２度、６～２０度、６～１８度、６～１７度、７～２５度、７～２０度、７～１７度、８～２５度、８～２２度、１８～２０度、８～１８度、８～１７度、１０～２５度、１０～２２度、１０～２０度、１０～１８度、または１０～１７度の範囲内となるよう、適応されていることと、
（１０）該インク受容表面上に堆積された蒸留水液滴に対して、７０秒ＤＣＡが、最大９２度、最大９０度、最大８８度、最大８５度、最大８２度、最大８０度、最大７８度、最大７６度、最大７４度、または最大７２度、所望により、少なくとも５５度、少なくとも６０度、少なくとも６５度、または、少なくとも６８度、およびさらに所望により、５５～９２度、５５～９０度、５５～８５度、５５～８０度、６５～９２度、６５～９０度、６５～８５度、６５～８０度、６８～８５度、６８～８０度、７０～９２度、７０～９０度、７０～８５度、または７０～８０度の範囲内であることと、
（１１）該インク受容表面上に堆積された蒸留水液滴に対して、１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が、最大１０８度、最大１０６度、最大１０３度、最大１００度、最大９６度、最大９２度、または最大８８度、所望により、少なくとも６０度、少なくとも６５度、少なくとも７０度、少なくとも７５度、少なくとも７８度、少なくとも８０度、少なくとも８２度、少なくとも８４度、または、少なくとも８６度、およびさらに所望により、６０～１０８度、６５～１０５度、７０～１０５度、７０～１００度、７０～９６度、７０～９２度、７５～１０５度、７５～１００度、８０～１０５度、８０～１００度、８５～１０５度、または８５～１００度の範囲内であることと
のうちの少なくとも１つを、およびすべても満たす。
（１）該インク受容表面の全表面エネルギーが、対応剥離層のインク受容表面に標準的エージング手順を施すことにより生産された変更されたインク受容表面の全表面エネルギーよりも、少なくとも２Ｊ／ｍ２、少なくとも３Ｊ／ｍ２、少なくとも４Ｊ／ｍ２、少なくとも５Ｊ／ｍ２、少なくとも６Ｊ／ｍ２、少なくとも８Ｊ／ｍ２、または少なくとも１０Ｊ／ｍ２高いこと、
（２）該インク受容表面の全表面エネルギーが、該硬化されたシリコーン物質のシリコーン前駆体の標準的空気硬化により準備された対応剥離層の疎水性インク受容表面の全表面エネルギーよりも、少なくとも４Ｊ／ｍ２、少なくとも６Ｊ／ｍ２、少なくとも８Ｊ／ｍ２、少なくとも１０Ｊ／ｍ２、少なくとも１２Ｊ／ｍ２、少なくとも１４Ｊ／ｍ２、または少なくとも１６Ｊ／ｍ２であることと、
（３）該インク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角が、該硬化されたシリコーン物質のシリコーン前駆体の標準的空気硬化により準備された対応剥離層のインク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角よりも、少なくとも７度、少なくとも８度、少なくとも１０度、少なくとも１２度、少なくとも１４度、少なくとも１６度、少なくとも１８度、または、少なくとも２０度低いことと、
（４）該インク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角が、該インク受容表面に標準的なエージング手順を施すことにより生産されたエージングされた表面上の蒸留水液滴の後退接触角よりも少なくとも５度、少なくとも６度、少なくとも７度、または、少なくとも８度小さいことと、
（５）該インク受容表面の表面疎水性が該剥離層内の該硬化されたシリコーン物質のバルク疎水性よりも小さく、該表面疎水性は該インク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角により特徴付けられ、該バルク疎水性は、露出エリアを形成するために該剥離層内の該硬化されたシリコーン物質のエリアを露出させることにより形成された内側表面上に配置された蒸留水液滴の後退接触角により特徴付けられ、
該インク受容表面上で測定された該後退接触角は、該露出エリアで測定された該後退接触角よりも、少なくとも７度、少なくとも８度、少なくとも１０度、少なくとも１２度、少なくとも１４度、少なくとも１６度、少なくとも１８度であるか、または、少なくとも２０度低いことと、
（６）該インク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角は最大６０度、最大５８度、最大５６度、最大５４度、最大５２度、最大５０度、最大４８度、最大４６度、最大４４度、最大４２度、最大４０度、最大３８度、または最大３６度であることと、
（７）剥離層が、インク受容表面の極性基が離間する方向または第２表面と逆の方向を有するよう、適応されることと、
（８）剥離層が、該インク受容表面が周囲環境に曝露される動作モードにＩＴＭがあるとき、インク受容表面の該極性基が該周囲環境に向かう方向または対向する方向を有するよう、適応されることと、
（９）インク受容表面は、インク受容表面上に堆積された蒸留水液滴に対して、７０秒動的接触角（ＤＣＡ）と１０秒ＤＣＡとの間の差異が、少なくとも６度、少なくとも７度、少なくとも８度、少なくとも１０度、または少なくとも１２度、所望により、最大２５度、最大２２度、最大２０度、最大１８度、または最大１７度、および、さらに所望により、６～２５度、６～２２度、６～２０度、６～１８度、６～１７度、７～２５度、７～２０度、７～１７度、８～２５度、８～２２度、１８～２０度、８～１８度、８～１７度、１０～２５度、１０～２２度、１０～２０度、１０～１８度、または１０～１７度の範囲内となるよう、適応されていることと、
（１０）該インク受容表面上に堆積された蒸留水液滴に対して、７０秒ＤＣＡが、最大９２度、最大９０度、最大８８度、最大８５度、最大８２度、最大８０度、最大７８度、最大７６度、最大７４度、または最大７２度、所望により、少なくとも５５度、少なくとも６０度、少なくとも６５度、または、少なくとも６８度、およびさらに所望により、５５～９２度、５５～９０度、５５～８５度、５５～８０度、６５～９２度、６５～９０度、６５～８５度、６５～８０度、６８～８５度、６８～８０度、７０～９２度、７０～９０度、７０～８５度、または７０～８０度の範囲内であることと、
（１１）該インク受容表面上に堆積された蒸留水液滴に対して、１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が、最大１０８度、最大１０６度、最大１０３度、最大１００度、最大９６度、最大９２度、または最大８８度、所望により、少なくとも６０度、少なくとも６５度、少なくとも７０度、少なくとも７５度、少なくとも７８度、少なくとも８０度、少なくとも８２度、少なくとも８４度、または、少なくとも８６度、およびさらに所望により、６０～１０８度、６５～１０５度、７０～１０５度、７０～１００度、７０～９６度、７０～９２度、７５～１０５度、７５～１００度、８０～１０５度、８０～１００度、８５～１０５度、または８５～１００度の範囲内であることと
のうちの少なくとも１つを、およびすべても満たす。
【0015】
説明される好ましい実施形態の特徴によれば、付加硬化型シリコーン物質は、実質的に付加硬化型シリコーンからなるか、または、少なくとも９５重量％、少なくとも９６重量％、少なくとも９７重量％、少なくとも９８重量％、または少なくとも９９重量％の該付加硬化型シリコーンを含む。
【0016】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、官能基は付加硬化型シリコーン物質の最大５重量％、最大３重量％、最大２重量％、または最大１重量％を占めるか、または付加硬化型シリコーン物質は実質的に官能基を含まない。
【0017】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、ポリエーテルグリコール官能化ポリジメチルシロキサンが、付加硬化型シリコーン物質に充填される。
【0018】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、ポリエーテルグリコール官能化シロキサンが付加硬化型シリコーン物質に充填されるが、付加硬化型シリコーン物質の共有構造の一部を形成しない。
【0019】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、剥離層の厚さは最大５００μｍ、最大２００μｍ、最大１００μｍ、最大５０μｍ、最大２５μｍ、または最大１５μｍ、または所望により、４～４００μｍ、５～２５０μｍ、５～１００μｍ、５～６０μｍ、８～１００μｍ、１０～１００μｍ、または１０～８０μｍの範囲内である。
【0020】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、支持層の厚さは約５０～２７００μｍ、５０～１５００μｍ、５０～１０００μｍ、１００～１０００μｍ、１００～８００μｍ、または１００～５００μｍの範囲内である。
【0021】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、ＩＴＭは構造特性（１）を満たす。
【0022】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、ＩＴＭは構造特性（２）を満たす。
【0023】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、ＩＴＭは構造特性（３）を満たす。
【0024】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、ＩＴＭは構造特性（４）を満たす。
【0025】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、ＩＴＭは構造特性（５）を満たす。
【0026】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、ＩＴＭは構造特性（６）を満たす。
【0027】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、ＩＴＭは構造特性（７）を満たす。
【0028】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、ＩＴＭは構造特性（８）を満たす。
【0029】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、ＩＴＭは構造特性（９）を満たす。
【0030】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、ＩＴＭは構造特性（１０）を満たす。
【0031】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、ＩＴＭは構造特性（１１）を満たす。
【0032】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、ＩＴＭがデジタル印刷システムにおける構成要素を形成する。
【0033】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、支持層は剥離層の第２表面に付着された弾性コンプライアンス層を含み、弾性コンプライアンス層は、インク画像が印圧される印刷基板の表面輪郭に近接して追随するよう適応される。
【0034】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、支持層はコンプライアンス層に付着された補強層を含む。
【0035】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、剥離層は、そのシリコーンポリマーマトリックス内に、最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．２重量％、または実質的に０重量％の合計量の官能基を含む。
【0036】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、剥離層は、そのシリコーンポリマーマトリックス内に、最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．２重量％、または実質的に０重量％の合計量の、Ｃ＝Ｏ、Ｓ＝Ｏ、Ｏ－Ｈ、およびＣＯＯを含む部分の群から選択される官能基を含む。
【0037】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、剥離層は、そのシリコーンポリマーマトリックス内に、最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．２重量％、または実質的に０重量％の合計量の、シラン部分、アルコキシ部分、アミド部分、およびアミド・アルコキシ部分からなる群より選択される官能基を含む。
【0038】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、剥離層は、そのシリコーンポリマーマトリックス内に、最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．２重量％、または実質的に０重量％の合計量の、アミン、アンモニウム、アルデヒド、ＳＯ２、ＳＯ３、ＳＯ４、ＰＯ３、ＰＯ４、およびＣ－Ｏ－Ｃ部分からなる群より選択される官能基を含む。
【0039】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、付加硬化型シリコーン物質はビニル官能シリコーンから構築された構造を有する。
【0040】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、付加硬化型シリコーン物質は「ＭＱ」型の極性基を含む。
【0041】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、インク受容表面の全表面エネルギーは、Ｏｗｅｎｓ－Ｗｅｎｄｔ表面エネルギーモデルを使用して評価される。
【0042】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、極性基はＯ－Ｓｉ－Ｏ基を含む。
【0043】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、第２の面から離間する、または周囲環境に向かう方向は、モルまたは重量に基づいて、極性基の少なくとも５５％、少なくとも６０％、少なくとも６５％、少なくとも７０％、少なくとも７５％、または少なくとも８０％である。
【0044】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、ＩＴＭは、２０メートルまでの、および通常、５～２０、５～１５、５～１２、または７～１２メートルの範囲内の長さを有する。
【0045】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、ＩＴＭは、２．０メートルまでの、および通常、０．３～２．０、０．７５～２．０、０．７５～１．５、または０．７５～１．２５メートルの範囲内の幅を有する。
【0046】
説明される好ましい実施形態のさらに追加の特徴によれば、ＩＴＭは、３０００μｍまでの、および通常、２００～３０００、２００～１５００、３００～１０００、３００～８００、３００～７００、１００～３０００、５０～３０００、または１００～６００μｍの範囲内の厚さを有する。
【0047】
特記なき限り、本明細書で使用されるすべての技術用語および科学用語は、本発明が属する技術分野の当業者によって一般的に理解される意味と同じ意味を有する。矛盾する場合には、定義を含めた本明細書が優先する。
【0048】
本明細書で使用される「中間転写部材」、「画像転送部材」または「転送部材」という用語は、インクが例えばインクジェットヘッド部によりなど、印刷ヘッド部により最初に塗布される部材であって、その後、ジェットされた画像は当該部材から他の基板（単数または複数）、通常は最終的な印刷基板に転送される、印刷システムの構成要素を指す。
【0049】
本明細書で使用される「ブランケット」という用語は、ドラム上の印刷装置内に搭載が可能である可撓性転送部材を指す、または２つ以上のローラによって支持されたベルト状の構造体である場合があり、該ローラのうちの少なくとも１つは、ローラの回りを移動するためにベルトを回転させ、移動させることができる。
【0050】
本発明は、添付図面を参照し、ほんの一例として本明細書に説明される。ここで特に図面を詳細に参照すると、図示される詳細は例としておよび本発明の好ましい実施形態の例示的な説明のためだけであり、本発明の原理および概念上の態様の最も有用かつ容易に理解される説明となると考えられることを提供するために提示されることが強調される。この点において、本発明の根本的な理解のために必要となる以上に詳細に本発明の構造的詳細を示すことは意図されず、図面とともに解釈される説明は、本発明のいくつかの形が実際にどのようにして実施され得るのかを当業者に明らかにする。これらの図面の全体を通して、同様の参考番号は全般に同様の要素を指すために使用される。
【図面の簡単な説明】
【0051】
【図1】担体の概略断面図である。
【図2】本方法に係るＩＴＭ製造の異なる段階を示す概略図である。
【図3】本方法に係るＩＴＭ製造の異なる段階を示す概略図である。
【図4】本方法に係るＩＴＭ製造の異なる段階を示す概略図である。
【図5】本方法に係るＩＴＭ製造の異なる段階を示す概略図である。
【図6】本方法に係るＩＴＭ製造の異なる段階を示す概略図である。
【図7】印刷システムへの設置後の完成ＩＴＭの断面図である。
【図8】先行技術又は本方法にしたがって準備された剥離層の概略断面図である。
【図9】本方法のいくつかの実施形態が実施され得る装置の、異なる製造段階を示す概略図である。
【図10】剥離層がＰＥＴ担体表面に対して硬化された本発明のＩＴＭの剥離層上に印刷された様々なインクパターンの画像である。
【図11】剥離層が空気硬化された先行技術のＩＴＭの剥離層上に印刷された様々なインクパターンの画像である。
【発明を実施するための形態】
【0052】
本発明に係る画像転送部材の原理および動作は、図面および添付発明を実施するための形態を参照してよりよく理解され得る。
【0053】
本発明の少なくとも１つの実施形態を詳細に説明する前に、本発明が、以下の説明に述べられる、または図面に示される構成要素の構造および配置の詳細に対するその応用で制限されないことが理解されるべきである。本発明は、他の実施形態を可能にする、または様々な方法で実施もしくは実行できる。また、本明細書で利用される表現および用語は説明の目的のためであり、限定的と見なされるべきではないことも理解されるべきである。
【0054】
ＩＴＭは、図２～図７により説明され、図２～図７に関連する記載において説明される、本発明の様式で製造され得る。係るＩＴＭはＬａｎｄａ社のＮａｎｏｇｒａｐｈｉｃ Ｐｒｉｎｔｉｎｇ（登録商標）技術に対して特に好適である。
【0055】
ここで図１を参照すると、図１では、担体１０を通る断面が概略的に示されている。これら全部の図面では、仕上げられた物品の部分を形成する層から区別するために、担体１０は中実の黒い線として示されている。担体１０は担体接触表面１２を有する。
【0056】
いくつかの実施形態では、担体接触表面１２は、最大約５０ｎｍ、最大３０ｎｍ、最大２０ｍ、最大１５ｎｍ、最大１２ｎｍ、または、より典型的には、最大１０ｎｍ、最大７ｎｍ、または最大５ｎｍの粗度（Ｒａ）を有する良好に研磨された平坦表面であり得る。いくつかの実施形態では、担体接触表面１２は、１～５０ｎｍ、３～２５ｎｍ、３～２０ｎｍ、または５ｎｍ～２０ｎｍである。
【0057】
担体接触表面１２の親水特性については以下で説明する。
【0058】
いくつかの実施形態では、担体１０は、可撓性を有さず、例えば１枚のガラスまたは厚い金属シートで形成され得る。
【0059】
いくつかの実施形態では、担体１０は、可撓性を有する箔（例えば、主にアルミニウム、ニッケル、および／またはクロムからなるか、またはこれを含む可撓性箔）で形成されると有利であり得る。一実施形態では、この箔は、アルミニウム処理されたＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル）、例えば蒸発されたアルミニウム金属で被覆されたＰＥＴのシートである。アルミニウムの上部被覆はポリマー被覆により保護され得る。なおこのシートは典型的には、可撓性を維持しつつもシワを回避するために小さい半径で曲がりにくいよう、０．０５ｍｍ～１．００ｍｍの厚さを有する。
【0060】
いくつかの実施形態では、担体１０は静電防止ポリマー薄膜（たばＰＥＴなどのポリエステル薄膜など）で形成されると有利であり得る。静電防止薄膜の静電防止特性は、様々な添加剤（例えばアンモニウム塩など）をポリマー組成物に添加することを含む当業者に周知の様々な手段により達成される。
【0061】
結果が図２に示される本ＩＴＭ製造方法のステップでは、流体第１硬化組成物（図９Ｂにおいて３６として示される）が提供され、層１６が当該組成物から担体接触表面１２上に形成される。層１６は、外側のインク転送表面１４を有する初期剥離層を構成する。
【0062】
層１６の流体第１硬化可能組成物は、典型的にはシリコーンポリマー（例えばポリジメチルシロキサン（例えば、ビニル末端ポリジメチルシロキサンなど））からなるエラストマーを含み得る。
【0063】
いくつかの実施形態では、流体第１硬化可能物質は、ビニル官能シリコーンポリマー（例えば、例えばビニル官能ポリジメチルシロキサンなどの末端ビニル基に加えて少なくとも１つの側鎖ビニル基を含むビニールシリコーンポリマー）を含む。
【0064】
いくつかの例示的な実施形態では、流体第１硬化可能物質は、ビニル末端ポリジメチルシロキサンと、末端ビニル基に加えてポリシロキサン鎖上に少なくとも１つの側鎖ビニル基を含むビニル官能ポリジメチルシロキサンと、架橋剤と、付加硬化型触媒と、所望により、さらに硬化抑制剤と、を含む。
【0065】
当該技術分野で周知のように、硬化可能な接着剤組成物は、単位モルベースで任意の好適な量（典型的には１モルあたり最大０．０１％のプレポリマー）の付加硬化型触媒を含み得る。
【0066】
流体第１硬化可能物質に対する代表的な配合は以下の実施例において提供される。
【0067】
流体第１硬化可能組成物の層１６が担体接触表面１２に塗布され、その後、硬化される。層１６は、例えばドクターブレード（ロール上に搭載されたナイフ）を使用して、ドクターブレードが、ＩＴＭのインク転送表面１４として最終的に機能することになる表面に接触せず、それによりドクターブレードにおける欠陥が完成品の品質に影響を及ぼさないよう、所望の厚さに展開され得る。硬化後、「剥離」層１６は、約２マイクロメートル～約２００マイクロメートルの厚さを有し得る。係るステップおよび方法が実装される装置が図９Ａおよび図９Ｂで概略的に示されている。
【0068】
例えば、上記で詳述した剥離層調合物が、５～２００マイクロメートル（μ）の厚さに均一化され、摂氏１２０度～摂氏１３０度でおよそ２～１０分間硬化された、ＰＥＴ担体上に均一に塗布され得る。驚くべきことに、蒸留水の０．５～５マイクロリットル（μｌ）液滴に関するその後退接触角（ＲＣＡ）により推定される、そのように準備された剥離層のインク転送表面の疎水性は、およそ６０度であり得る。その一方で、同一の剥離層の他の側部（空気界面を用いて従来準備された層の疎水性を近似する作用を有する）は顕著により高い（典型的にはおよそ９０度）ＲＣＡを有し得る。インク転送表面１４を生産するために使用されたＰＥＴ担体は典型的におよそ４０度以下のＲＣＡを示し得る。接触角度測定は、接触角分析器－Ｋｒｕｓｓ（登録商標）「Ｅａｓｙ Ｄｒｏｐ」ＦＭ４０Ｍｋ２および／またはＤａｔａｐｈｙｓｉｃｓ ＯＣＡ１５ Ｐｒｏ（オーストラリア、ニューサウスウェールズ州、ゴスフォードのＰａｒｔｉｃｌｅ ａｎｄ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ Ｐｔｙ社）を用いて実施された。
【0069】
その結果が図３で示される、この方法の後続ステップにおいて、追加層１８（コンプライアンス層と呼ばれる）が、インク転送表面１４に対して逆側において層１６に塗布される。コンプライアンス層１８は、層１６およびその最外部表面１４が、インク画像が印圧されている基板の表面輪郭に近接して追随することを可能にするエラストマー層である。コンプライアンス層１８をインク転送表面１４の反対側の側部に取り付けることは、コンプライアンス層１８の物質に加えて、接着または結合組成物の塗布を含み得る。通常、コンプライアンス層１８は典型的には、約１００マイクロメートル～約３００マイクロメートル以上の厚さを有する。
【0070】
コンプライアンス層１８が剥離層１６と同一の組成を有する一方で、物質および処理の経済性の観点からは、より安価な物質を使用することが是認され得る。さらに、コンプライアンス層１８は典型的には、剥離層１６とは異なる機械的特性（例えば張力に対する耐性がより大きい）を有するよう選択される。特性における係る所望の差異は、例えば剥離層１６に対して異なる組成を利用することにより、剥離層１６の調合物を準備するために使用された成分との間で割合を変化させることにより、さらなる成分を係る調合物に加えることにより、および／または、異なる硬化条件を選択することにより、達成され得る。例えば、充填剤粒子の添加により、剥離層１６と比較してコンプライアンス層１８の機械的強度は望ましく向上し得る。
【0071】
いくつかの実施形態では、コンプライアンス層１８は多様なゴムを含み得る。好適には係るゴムは、少なくとも摂氏１００度の温度で安定であり、アクリル酸アルキルコポリマーゴム（ＡＣＭ）、メチルビニルシリコーンゴム（ＶＭＱ）、エチレンプロピレンジエンモノマーゴム（ＥＰＤＭ）、フルオロエラストマポリマー、ニトリルブタジエンゴム（ＮＢＲ）、エチレンアクリルエラストマー（ＥＡＭ）、および水素化ニトリルブタジエンゴム（ＨＮＢＲ）などのゴムを含み得る。
【0072】
非限定的な例として、２つの成分が１：１の比で混合された２成分液体シリコーンゴムであるＳｉｌｏｐｒｅｎ（登録商標）ＬＳＲ２５３０（ニューヨーク州のＭｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ社）が前述の硬化剥離層１６に塗布された。シリコーンゴム混合物は、ナイフブレードを用いて、約２５０マイクロメートルの厚さを有する初期コンプライアンス層１８を取得するために、計量しながら供給され／均一化され、次にコンプライアンス層１８は摂氏１５０度～摂氏１６０度でおよそ５分間にわたり硬化された。
【0073】
その結果が図４において示される、この方法の後続ステップでは、補強層または支持層２０がコンプライアンス層１８上に構築される。支持層２０は典型的には、ＩＴＭが印刷システムにおいて張力下で保持されたときに伸張に耐えるための十分な構造的完全性を有する支持層２０を提供するために、織物または織地の形態にある繊維補強材を含む。支持層２０は、後に硬化されかつ硬化後に可撓性を保持する樹脂で、繊維補強材を被覆することにより形成される。
【0074】
代替的に、支持層２０は、補強層として別に形成され、独立的に硬化された樹脂内に埋め込まれ、および／または注入された係る繊維を含み得る。この場合、支持層２０は、接着層を介してコンプライアンス層１８に取り付けられ得、所望により、現場で支持層２０を硬化する必要性が排除される。全般的に、支持層２０は、現場でコンプライアンス層１８上に形成された場合でも、または別個に形成された場合でも、約１００マイクロメートル～約５００マイクロメートルの厚さを有し得、その一部は繊維または織地の厚さに寄与し、その厚さは通常約５０マイクロメートル～約３００マイクロメートルで変動する。しかし支持層厚さは限定的ではない。高耐久性の用途に対しては、例えば支持層は、２００マイクロメートル以上、５００マイクロメートル以上、または１ｍｍ以上の厚さを有し得る。
【0075】
例えば、ビニル官能化された剥離被覆１６および２成分シリコーンゴムコンプライアンス層１８を含む本明細書で記載の多層化されたＩＴＭ構造に対して、ガラス繊維の編み込み織地を含む支持層２０が塗布された。約１００マイクロメートルの厚さを有するガラス繊維織地は、垂直方向に１６ヤーン／ｃｍを有する平織物であった。ガラス繊維織地は、コンプライアンス層に対応する液体シリコーンゴムＳｉｌｏｐｒｅｎ（登録商標）ＬＳＲ２５３０を含む硬化可能流体に埋め込まれた。全体的に、結果的に生成された支持層２０は、約２００マイクロメートルの厚さを有し、およそ２～５分間にわたり摂氏１５０度で硬化された。好適には、より高密度の織物（例えば２４×２３ヤーン／ｃｍを有する）が使用され得る。
【0076】
支持層２０を現場で形成した後、または支持層２０を取り付けた後、必要に応じて追加層がその反対側に構築され得る。図５では、支持層２０の反対側に固定された（例えば硬化接着剤または樹脂により）所望によるフェルトブランケット２２が示されており、図６では、ブランケット２２の反対側上に被覆された高摩擦層２４が示されている。当業者に理解されるであろうように、様々な比較的柔らかいゴムが、高摩擦特性を有する層を準備するために用いられ得る。係るゴムの単なる一例としてシリコーンエラストマーが挙げられる。ブランケット２２などの介在する層が存在しない状況では、高摩擦層２４が支持層２０に直接的に取り付けられ得る。
【0077】
上述のように、ＩＴＭの剥離層に加えられるすべての層（例えば、１８、２０、２２、２４、または任意の介在する接着層もしくは下塗り層、その他）は、図８Ｃにおける基部２００に対して示されるように、共同して構造体の基部を形成する。
【0078】
ＩＴＭが使用される前に、図７に示すように、担体１０を取り除いて、剥離層１６のインク転送表面１４を露出させることが必要である。通常は、完成品を単に担体１０から引きはがすとよい。
【0079】
担体１０が可撓性を有する箔である場合、ＩＴＭが印刷システムに据え付けられる等のときまでＩＴＭ上の定位置に残されるほうが好適であり得る。この箔は、格納、輸送、および据え付けの際に、ＩＴＭのインク転送表面１４を保護する作用を有するであろう。加えて担体１０は、製造プロセスの完了後、保護膜として好適である代替的な箔と交換され得る。
【0080】
図９Ａ～図９Ｄでは、ＩＴＭがその中で製造され得る装置９０が概略的に示されている。図９Ａでは、可撓性を有するループコンベア１００を移動させる巻き出しローラ４０および巻き取りローラ４２を有する係る装置９０の概略が提供されている。コンベア１００により追従される経路に沿って、所望のＩＴＭに対して好適である硬化可能な流体組成物を吐出することが可能な吐出ステーション５２と、ステーションの下流方向に移動するにつれて硬化可能層の厚さを制御することが可能なレベリングステーション５４と、後続ステップが存在する場合に後続ステップに対する初期層として機能することが可能となるよう、層を少なくとも部分的に硬化することが可能な硬化ステーション５６と、が配置される。吐出ステーション５２、レベリングステーション５４、および硬化ステーション５６は層形成ステーション５０ａを構成する。５０ｂにより示されるように、装置９０は所望により２個以上の層形成ステーションを含み得る。さらに、形成ステーション５０は、ステーション５０ａにおいて吐出ローラ５８により示される追加的な下位ステーションを含み得る。
【0081】
いくつかの実施形態では、ループコンベア１００に対する必要性は省略され、担体１０は直接的にローラ４０とローラ４２との間で張架される。未処理の担体１０が巻き出しローラ４０から巻き出され、ステーション５０ａおよび５０ｂを通過した後、巻き取りローラ４２に巻き取られる。
【0082】
図面には示されないが、この装置はさらに、吐出ステーションの上流側に「表面処理」ステーションを含み得る。この表面処理ステーションは、必要に応じて、硬化可能な組成物を後に塗布することを、または、場合によっては担体接触表面または初期層に硬化可能な組成物を取り付けることを、支援する。担体に関して上述したように、所望による表面処理ステーション（図示せず）は物理的処理（例えば、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、その他）に対して好適であり得る。
【0083】
図９Ｂでは、装置９０の形成ステーション５０においてコンベア１００上に配置された担体１０が被覆される得る様子が概略的に示されている。吐出ステーション５２において、剥離層１６の硬化可能な組成物３６が担体接触表面１２に塗布される。担体１０が矢印の方向に駆動されるにつれて、硬化可能な組成物３６は、例えばドクターブレードを使用することにより、レベリングステーション５４において所望の厚さに均一化される。均一化された層が下流方向に進行するにつれて、当該層は硬化ステーション５６に進入する。硬化ステーション５６は、硬化可能組成物３６を少なくとも部分的に硬化させ、それにより初期層１６が硬化ステーションの出口側で形成されることが可能となるよう、構成されている。係る代表的ステップについては、図１および図２に関連してすでに説明した。
【0084】
図９Ｃおよび図９Ｄでは、追加的な層（基部を形成する）が塗布される様子が概略的に示されている。図９Ｃでは、硬化可能組成物３８が吐出ステーション５２（図９Ｂで示す剥離層１６で担体を被覆するために使用されたステーションと同一であってもよく異なってもよい）において吐出される。硬化可能組成物３８はレベリングステーション５４において所望の厚さに均一化され、次に硬化ステーション５６に入り、後続のステップなどのための初期層１８として機能するよう十分に硬化された状態で、硬化ステーション５６から出る。係る代表的ステップについては、図３に関連してすでに説明した。ここで図９Ｃを参照すると、図９Ｃでは、硬化可能組成物３９が吐出ステーション５２において塗布される様子が概略的に示されている。支持層（例えば織地）の基幹は吐出ローラ５８により供給され得る。代表的な織地は、硬化ステーション５６に進入する前に、ステーション６０において硬化可能組成物の下方に沈み込み得る。そのようにして、支持層２０が硬化ステーションの出口側において形成され得る。
【0085】
図８Ａおよび図８Ｂでは、欠陥が、上記の方法にしたがって準備された外側層８０（例えば剥離層）の断面に現れる様子が概略的に示されている。図８Ａでは、気泡が排除され（例えばガス抜きにより）得る前に硬化が生じた場合に、あらゆる硬化可能組成物に捕捉され得る気泡に関連する、異なる現象が示されている。図面において見られるように、泡沫８２は製造の間、本体８００の上方で、矢印で示される流動方向に空気界面に向かって層８０の方向に流動する。したがってこれらの泡沫８２は合併して、より大きい気泡になることができる。気泡は、そのサイズの大小に関わらず、層のバルク内に、またはその表面上に、捕捉された状態に留まり得る。気泡エンベロープの上方部分は突起８４を形成する。層の硬化が進行中に表面に隣接する気泡が破裂すると、表面から突出する気泡エンベロープの区域が消失したとしても、クレータ８６は残存し得る。これらの現象は、したがって典型的には、気泡の「勾配」を提供する。上方区域は、全般的に、下方区域と比較してより大きい気泡で占められ、および／または、断面積または堆積あたり、より高い密度の気泡を有する。なお、下方および上方は、その製造時における層の方向に関するものである。気泡に誘導される欠陥が表面に与える影響は自明であり、表面の不均質性は通常、例えばインク画像に対する、あらゆる後続の相互作用に対して悪影響を及ぼす。係るＩＴＭが通常、張力下および／または圧力下で動作する状況下では、時間とともに、クレータは拡がり、合併して、より顕著な亀裂が形成される。したがって、係る現象は、表面の構造的完全性および係る完全性がＩＴＭに付与したであろう任意の機械的特性に影響を及ぼし得る。
【0086】
図８Ｂでは、粉塵などの固体汚染物質に関する異なる現象が概略的に示されている。本例示説明では、粉塵が気泡に追加されるものとして表現されているが、このことは必ずしも真であるとは限らず、係る表面欠陥または層欠陥は独立的に発生することが可能である。図面において見られるように、固体汚染物質は表面上に留まり得る。外側層８０が硬化された後に汚染物質が定着するならば、係る汚染物質９２は、外側層を好適に洗浄するのみで、除去され得る。それでも、使用可能となる前に係るＩＴＭの追加的洗浄が必要となり得るため、係る現象は望ましくない。層がまだ未硬化状態にあるとき係る汚染物質が発生する場合、汚染物質は、層８０の表面上に捕捉される（例えば、「浮かんで」いるように見受けられる汚染物質９４）か、または、隔離層内に沈下していることさえ可能である（例えば汚染物質９６）。容易に理解可能であるように、より大きい／より重い汚染物質は、小さい汚染物質よりも、より深く沈下し得る。
【0087】
当該技術分野で周知の方法とは異なり、本明細書で開示の方法は、層の一方の側部が担体接触表面に接触する状態で流体第１硬化可能物質の層を形成することを含む。なおこの層は初期剥離層を構成する。担体接触表面は、初期剥離層を保護する機能を有する。それにより、インク転送層に所望の特性が与えられる一方で、担体は、ＩＴＭが完成するまで他の層がその上に追加されてＩＴＭが形成される物理的に堅牢な支持構造体として機能する。その結果として、欠陥の多数の潜在的原因が回避される。さらに、インク転送表面の仕上げは、主に、排他的ではないとしても、担体接触表面により決定される。
【0088】
図８Ｃでは、本方法にしたがって準備された外側層１６（たとえば剥離層）を通る断面が概略的に示されている。以前の図面と比較するために、この断面は、担体を示すことなく、図８Ａおよび図８Ｂと同一の方向で示されているが、製造は矢印により示されるように逆方向に実行されている。基部２００（後に詳述する）は、第１外側層１６が少なくとも部分的に硬化された後、第１外側層１６に取り付けられ、したがって、製造過程の間にすでに支持体として機能する本体８００とは等価でない。単に例示目的のために、層１６は、多数の気泡８２を含むものとして表現されているが、これは必ずしも真実ではない。しかし、存在するならば、係る気泡は、以前に記述した気泡のパターンよりも、特異的パターンを示すであろう。第１に、層１６のここでは最上方となっているインク転送表面１４は、以前は担体と接触していたため、突起は観察されず、したがって剥離層は、表面から突出する気泡８４により以前に示されたような現象が存在しない。同様に、キャビティ８６として以前示されたクレータはほとんど存在しない。なぜなら、係るクレータは、相性の悪い硬化可能な層および担体の使用を意味するためである。本方法によれば、外側層を形成する硬化可能物質は好適に担体を湿潤させ、担体と、担体上に形成される初期層と、の間に捕捉され得る気泡が実質的にはまったくないと考えられる。したがって、たとえ存在したとしても、係る気泡は層のバルク内に配置されるであろう。しかし、製造が従来の方法と比較して反転方向で行われるため、気泡の勾配は、同一の理由のために、反転されるであろう。したがって、図８Ｃに示されるように、小さい気泡は、より大きい気泡よりも外側表面により近接し、より大きい気泡は基部により近接するであろう。
【0089】
付加硬化型調合物から生産された本発明の独創的な剥離層構造は、ポリマーマトリックス内に共有結合した官能基を、実質的に全く含まないか、またはごく小数（ごく少数のＯＨ基）しか含み得ない。係る官能基は、例えばＣ＝Ｏ、Ｓ＝Ｏ、およびＯＨなどの部分を含み得る。
【0090】
これらの剥離層構造は、最大でも、ごく少数しか係る官能基を含まないため、その剥離層が高い疎水性を示すであろうことは期待されるであろう。しかし発明者らは驚くべきことに、本方法により生産された剥離層表面が実際にいくらか親水性を示し、対応する剥離層（すなわち、同一の組成を有するが、剥離層が空気に曝露される従来の硬化技術（「標準的空気硬化」）を使用して製造された剥離層）よりも認知可能により大きい親水性を示すことを見出した。理論に拘束されることを望むものではないが、発明者らは、担体接触表面と初期剥離層表面との間の緊密な接触により、担体接触表面のいくらかの親水特性が剥離層表面に含まれるものと考える。
【0091】
上述のように、低い表面エネルギーを有するＩＴＭ剥離層は、乾燥インク画像を印刷基板に転送することを支援し得る。しかし、インク受容段階の間、係る低エネルギーの疎水性剥離層に噴出された水性インク液滴は、初期衝突の後、ビーズ状に凝集し、それにより画像品質が損なわれる傾向がある。エネルギーが高く、より疎水性が低い剥離層は、この効果を緩和し得るが、画像転送品質に対して有害である。発明者らは、本発明の剥離層構造が通常は、蒸留水に対する最大８０度、または最大７０度、典型的には最大６０度、または最大５０度、およびより典型的に３０度～６０度、３５度～６０度、３０度～５５度、３０度～５０度、３０度～４５度、または３５度～５０度の後退接触角により表される特性的に中程度の疎水性の剥離表面を有することを見出した。しかし驚くべきことに、乾燥、加熱されたインク画像のインク受容およびインク転送の両方が良好な品質であり得る。より高い親水性を有する（蒸留水滴に対する接触角がより低い）担体表面を用いることにより、および／または、コロナ（または同様の）処理により、さらに低い値の後退接触角（および以下で論じられる動的接触角）が達成され得ることが強調されなければならない。
【0092】
理論に拘束されることを望むものではないが、発明者らは、上述の誘導された表面特性が、剥離層表面上の極性基（例えばＯ－Ｓｉ－Ｏ）と、剥離層表面上に堆積された水性液体（例えば水性インクジェットインク）における対応する極性部分（例えば水の中のＯＨ基）と、の間の相互作用を改善するものと考える。引き続き、インクを乾燥させ、インク薄膜を転送温度に加熱した後、これらの相互作用は弱められ、乾燥された、または実質的に乾燥されたインク画像の完全な転送が可能となる。したがって、本発明の独創的な剥離層構造の性能は、インク受容段階およびインク薄膜転送段階の両方において、中程度の疎水性を有するが、担体接触表面により誘導される特別な表面構造および特性を有さない剥離層に期待されるよりも、感知可能に良好である。
【0093】
実施例
ここで以下の実施例を参照する。上記の説明と併せて、これらの実施例は非限定的な様式で本発明を例示する。
ここで以下の実施例を参照する。上記の説明と併せて、これらの実施例は非限定的な様式で本発明を例示する。
【0094】
【表1】
【0095】
剥離層表面の生産において基板として使用された担体は、（１）静電防止ポリエステル薄膜（実施例１～７）、（２）未処理ポリエステル薄膜、すなわち静電防止ではない（実施例１１）、および、（３）アルミニウム処理済みポリエステル薄膜（実施例１０）を含む。
【0096】
実施例１
実施例１のＩＴＭ剥離層は以下の組成（重量／重量）を含む。
実施例１のＩＴＭ剥離層は以下の組成（重量／重量）を含む。
【表2】
【0097】
剥離層は、以下で提供される本ブランケット準備手順で実施的に説明されるように準備された。
【0098】
ブランケット準備手続き（担体表面に対して硬化された剥離層のための）
剥離層調合物の全成分は完全に混合された。所望の厚さの初期剥離層は、ロッド／ナイフを使用して（他の被覆方法が使用されてもよい）ＰＥＴシート上に被覆された後、摂氏１５０度で３分間にわたり硬化された。引き続き、所望の厚さを達成するために、Ｓｉｌｏｐｒｅｎｅ ＬＳＲ ２５３０がナイフを使用して剥離層の上部上に被覆された。次に硬化が３分間にわたり摂氏１５０度で行われた。Ｓｉｌｏｐｒｅｎｅ ＬＳＲ２５３０の追加層が以前の（硬化された）シリコーン層の上部上に被覆され、湿潤化されたシリコーンが織物構造に貫入するよう、ガラス繊維織地がこの湿潤化された新鮮な層に組み込まれた。次に硬化が３分間にわたり摂氏１５０度で行われた。次に、Ｓｉｌｏｐｒｅｎｅ ＬＳＲ ２５３０の最終層がガラス繊維織地上に被覆され、再び硬化が３分間にわたり摂氏１５０度で行われた。次に一体型ブランケット構造は室温まで冷却され、ＰＥＴが除去された。
剥離層調合物の全成分は完全に混合された。所望の厚さの初期剥離層は、ロッド／ナイフを使用して（他の被覆方法が使用されてもよい）ＰＥＴシート上に被覆された後、摂氏１５０度で３分間にわたり硬化された。引き続き、所望の厚さを達成するために、Ｓｉｌｏｐｒｅｎｅ ＬＳＲ ２５３０がナイフを使用して剥離層の上部上に被覆された。次に硬化が３分間にわたり摂氏１５０度で行われた。Ｓｉｌｏｐｒｅｎｅ ＬＳＲ２５３０の追加層が以前の（硬化された）シリコーン層の上部上に被覆され、湿潤化されたシリコーンが織物構造に貫入するよう、ガラス繊維織地がこの湿潤化された新鮮な層に組み込まれた。次に硬化が３分間にわたり摂氏１５０度で行われた。次に、Ｓｉｌｏｐｒｅｎｅ ＬＳＲ ２５３０の最終層がガラス繊維織地上に被覆され、再び硬化が３分間にわたり摂氏１５０度で行われた。次に一体型ブランケット構造は室温まで冷却され、ＰＥＴが除去された。
【0099】
実施例２
実施例２のＩＴＭ剥離層は以下の組成を有する。
実施例２のＩＴＭ剥離層は以下の組成を有する。
【表3】
【0100】
このブランケットは実質的に実施例１で説明したように準備された。
【0101】
実施例３
実施例３のＩＴＭ剥離層は以下の組成を有する。
実施例３のＩＴＭ剥離層は以下の組成を有する。
【表4】
【0102】
このブランケットは実質的に実施例１で説明したように準備された。
【0103】
実施例４
実施例４のＩＴＭ剥離層は以下の組成を有する。
実施例４のＩＴＭ剥離層は以下の組成を有する。
【表5】
【0104】
このブランケットは実質的に実施例１で説明したように準備された。
【0105】
実施例５
実施例５のＩＴＭ剥離層は、２つの成分が１：１の比で混合された２成分液体シリコーンゴムであるＳｉｌｏｐｒｅｎ（登録商標）ＬＳＲ２５３０（ニューヨーク州ウォーターフォードのＭｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ社）から準備された。このブランケットは実質的に実施例１で説明したように準備された。
実施例５のＩＴＭ剥離層は、２つの成分が１：１の比で混合された２成分液体シリコーンゴムであるＳｉｌｏｐｒｅｎ（登録商標）ＬＳＲ２５３０（ニューヨーク州ウォーターフォードのＭｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ社）から準備された。このブランケットは実質的に実施例１で説明したように準備された。
【0106】
実施例６
実施例６のＩＴＭ剥離層は、実施例４のＩＴＭ剥離層と実質的に同一の組成を有するが、極性基を含む市販のシリコーン系樹脂であるＳＲ５４５（ニューヨーク州、ウォーターフォードのＭｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ社）を含む。極性基は「ＭＱ」型であり、「Ｍ」はＭｅ３ＳｉＯを表し、「Ｑ」はＳｉＯ４を表す。全組成を以下に挙げる。
実施例６のＩＴＭ剥離層は、実施例４のＩＴＭ剥離層と実質的に同一の組成を有するが、極性基を含む市販のシリコーン系樹脂であるＳＲ５４５（ニューヨーク州、ウォーターフォードのＭｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ社）を含む。極性基は「ＭＱ」型であり、「Ｍ」はＭｅ３ＳｉＯを表し、「Ｑ」はＳｉＯ４を表す。全組成を以下に挙げる。
【表6】
【0107】
このブランケットは実質的に実施例１で説明したように準備された。
【0108】
実施例７
実施例７のＩＴＭ剥離層は、実施例６のＩＴＭ剥離層と実質的に同一の組成を有するが、上述のように高密度のビニル基を有するビニル官能ポリジメチルシロキサンを含むポリマーＲＶ５０００を含む。全組成を以下に挙げる。
実施例７のＩＴＭ剥離層は、実施例６のＩＴＭ剥離層と実質的に同一の組成を有するが、上述のように高密度のビニル基を有するビニル官能ポリジメチルシロキサンを含むポリマーＲＶ５０００を含む。全組成を以下に挙げる。
【表7】
【0109】
このブランケットは実質的に実施例１で説明したように準備された。
【0110】
比較例１Ａ～１Ｆ
ＩＴＭ剥離層は、対応剥離層（比較例１Ａ～１Ｆと指定される）がそれぞれ実施例１～６と同一の組成を有するよう、実施例１～６の組成に対する「対応剥離層」または「参照剥離層」として準備された。しかし剥離層の硬化の間、剥離層表面（または「インク受容表面」）は、以下で提供される従来の準備手順にしたがって空気に曝露された（「標準的空気硬化」）。
ＩＴＭ剥離層は、対応剥離層（比較例１Ａ～１Ｆと指定される）がそれぞれ実施例１～６と同一の組成を有するよう、実施例１～６の組成に対する「対応剥離層」または「参照剥離層」として準備された。しかし剥離層の硬化の間、剥離層表面（または「インク受容表面」）は、以下で提供される従来の準備手順にしたがって空気に曝露された（「標準的空気硬化」）。
【0111】
比較ブランケット準備手続き（硬化の間、空気に曝露される剥離層のための）
ＳｉｌｏｐｒｅｎｅＬＳＲ２５３０の第１層がロッド／ナイフを使用してＰＥＴシート上に被覆された後、所望の厚さを達成するために摂氏１５０度で３分間にわたり硬化された。Ｓｉｌｏｐｒｅｎｅ ＬＳＲ２５３０の追加層が以前の（硬化された）シリコーン層の上部上に被覆され、湿潤化されたシリコーンが織物構造に貫入するよう、ガラス繊維織地がこの湿潤化された新鮮な層に組み込まれた。次に、ＳｉｌｏｐｒｅｎｅＬＳＲ２５３０がガラス繊維織地の上部上に被覆され、引き続き、硬化が３分間にわたり摂氏１５０度で行われた。初期剥離層を形成する前に、剥離層調合物の全成分が一緒に完全に混合された。剥離層は、所望の厚さを達成するために、硬化されたＳｉｌｏｐｒｅｎｅＬＳＲ２５３０の上部上に被覆され、引き続き、３分間にわたり摂氏１５０度で硬化され、その一方で、剥離層表面は空気に曝露された。
ＳｉｌｏｐｒｅｎｅＬＳＲ２５３０の第１層がロッド／ナイフを使用してＰＥＴシート上に被覆された後、所望の厚さを達成するために摂氏１５０度で３分間にわたり硬化された。Ｓｉｌｏｐｒｅｎｅ ＬＳＲ２５３０の追加層が以前の（硬化された）シリコーン層の上部上に被覆され、湿潤化されたシリコーンが織物構造に貫入するよう、ガラス繊維織地がこの湿潤化された新鮮な層に組み込まれた。次に、ＳｉｌｏｐｒｅｎｅＬＳＲ２５３０がガラス繊維織地の上部上に被覆され、引き続き、硬化が３分間にわたり摂氏１５０度で行われた。初期剥離層を形成する前に、剥離層調合物の全成分が一緒に完全に混合された。剥離層は、所望の厚さを達成するために、硬化されたＳｉｌｏｐｒｅｎｅＬＳＲ２５３０の上部上に被覆され、引き続き、３分間にわたり摂氏１５０度で硬化され、その一方で、剥離層表面は空気に曝露された。
【0112】
実施例８
剥離層表面上蒸留水滴の接触角は、専用のＤａｔａｐｈｙｓｉｃｓ ＯＣＡ１５ Ｐｒｏ接触角測定装置（オーストラリア、ニューサウスウェールズ州、ゴスフォードのＰａｒｔｉｃｌｅ ａｎｄ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ Ｐｔｙ社）を使用して測定された。後退接触角（ＲＣＡ）および前進接触角（ＡＣＡ）測定を実施するために使用された手順は、Ｄｒ． Ｒｏｇｅｒ Ｐ． Ｗｏｏｄｗａｒｄ （“Ｃｏｎｔａｃｔ Ａｎｇｌｅ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｓ Ｕｓｉｎｇ ｔｈｅ Ｄｒｏｐ Ｓｈａｐｅ Ｍｅｔｈｏｄ”、とりわけｗｗｗ．ｆｉｒｓｔｔｅｎａｎｇｓｔｒｏｍｓ．ｃｏｍ／ｐｄｆｄｏｃｓ／ＣＡＰａｐｅｒ．ｐｄｆ）により詳述される先行技術である。
剥離層表面上蒸留水滴の接触角は、専用のＤａｔａｐｈｙｓｉｃｓ ＯＣＡ１５ Ｐｒｏ接触角測定装置（オーストラリア、ニューサウスウェールズ州、ゴスフォードのＰａｒｔｉｃｌｅ ａｎｄ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ Ｐｔｙ社）を使用して測定された。後退接触角（ＲＣＡ）および前進接触角（ＡＣＡ）測定を実施するために使用された手順は、Ｄｒ． Ｒｏｇｅｒ Ｐ． Ｗｏｏｄｗａｒｄ （“Ｃｏｎｔａｃｔ Ａｎｇｌｅ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｓ Ｕｓｉｎｇ ｔｈｅ Ｄｒｏｐ Ｓｈａｐｅ Ｍｅｔｈｏｄ”、とりわけｗｗｗ．ｆｉｒｓｔｔｅｎａｎｇｓｔｒｏｍｓ．ｃｏｍ／ｐｄｆｄｏｃｓ／ＣＡＰａｐｅｒ．ｐｄｆ）により詳述される先行技術である。
【0113】
実施例１～６の結果は、比較例１Ａ～１Ｆにしたがって準備された剥離層に対する結果とともに、以下に提供されている。
【0114】
実質的にすべての場合において、担体表面に対して生産された剥離表面は、空気中で硬化された同一の調合物よりも小さい後退接触角を示した。さらに詳細には、担体表面に対して生産された剥離表面は、少なくとも５度、少なくとも７度、少なくとも１０度、少なくとも１２度、または少なくとも１５度の差異だけ低い後退接触角を、または、５度～３０度、７度～３０度、１０度～３０度、５度～２５度、５度～２２度、７度～２５度、または１０度～２５度の範囲内の差異だけ低い後退接触角を、表した。
【0115】
実施例９
実施例１～６において生産された剥離層、および、比較例１Ａ～１Ｆにおいて生産されたそれぞれの剥離層は、長い動作条件下でのエージングをシミュレートするために、２時間にわたり摂氏１６０度においてエージングが施された。後退接触角が測定され、その結果を以下に挙げる。
実施例１～６において生産された剥離層、および、比較例１Ａ～１Ｆにおいて生産されたそれぞれの剥離層は、長い動作条件下でのエージングをシミュレートするために、２時間にわたり摂氏１６０度においてエージングが施された。後退接触角が測定され、その結果を以下に挙げる。
【表8】
【0116】
比較例に関しては、後退接触角がエージング処理の実施後は実質的に維持されたことが明らかである。しかし本発明の実施例１～６に関しては、後退接触角がエージング処理の実施後は典型的には４度～１５度だけ増加したことが明らかである。理論に拘束されることを望むものではないが、発明者らは、本発明の剥離層構造における接触角の増加の原因が、剥離層表面における極性基（例えばＳｉ－Ｏ－Ｓｉ）の位置における何らかの変化に起因する親水性挙動における損失（または増加された疎水性挙動）にあるものと考える。
【0117】
実施例１０
実施例２の組成の剥離層を含むブランケットは、実質的に実施例１で説明したように準備されたが、アルミニウム処理されたＰＥＴ担体表面に対して準備された。
実施例２の組成の剥離層を含むブランケットは、実質的に実施例１で説明したように準備されたが、アルミニウム処理されたＰＥＴ担体表面に対して準備された。
【0118】
実施例１１
実施例２の剥離層組成を有する剥離層が、実質的に実施例１で説明したように準備されたが、静電防止前処理が施されていない市販のＰＥＴ担体表面に対して準備された。
実施例２の剥離層組成を有する剥離層が、実質的に実施例１で説明したように準備されたが、静電防止前処理が施されていない市販のＰＥＴ担体表面に対して準備された。
【0119】
実施例１２
本発明に係る実施例２、１０、および１１において生産された剥離層に対して接触角測定が実施され、前進接触角および後退接触角の両方が決定された。結果は以下に提供される。
本発明に係る実施例２、１０、および１１において生産された剥離層に対して接触角測定が実施され、前進接触角および後退接触角の両方が決定された。結果は以下に提供される。
【表9】
【0120】
実施例１０および１１は、剥離層が空気に曝露された状態で硬化された同一の組成物の後退接触角よりも約３０度小さい後退接触角を示した。静電防止ＰＥＴ担体表面に対して準備された実施例２の剥離層表面は、空気に曝露されている間に準備された同一の組成物の後退接触角よりも約５０度小さい後退接触角を示した。
【0121】
実施例１３
実施例２、１０、および１１で利用された担体表面に対して接触角測定が実施され、前進接触角および後退接触角の両方が決定された。結果は以下に提供される。
実施例２、１０、および１１で利用された担体表面に対して接触角測定が実施され、前進接触角および後退接触角の両方が決定された。結果は以下に提供される。
【表10】
【0122】
３つの担体表面が親水性挙動を示したこと、および静電防止処理が施されたＰＥＴが最大度の親水性挙動を示したことが、取得された後退接触角から見られ得る。（２０度ＲＣＡ対４０度ＲＣＡ）
【0123】
重大なことに、担体表面の親水性挙動がそれぞれの剥離表面に少なくとも部分的に誘導され、空気に曝露される間に硬化された調合物は６５度のＲＣＡを有し、静電防止ＰＥＴ表面に対して準備された同一の調合物は４５度のＲＣＡを有し、使用された静電防止ＰＥＴ担体は２０度のＲＣＡを示す。したがって、本発明の剥離層構造は、その親水性／疎水性特性が空気中で硬化された同一の調合物の特性と、担体表面自体の特性と、の間に存在する剥離表面を有する。
【0124】
実施例１４
剥離表面エネルギーが以下の実施例のインク受容表面に対して計算された。これらの実施例は、空気に対して曝露される状況下で硬化された実施例１Ａ、静電防止ＰＥＴ表面に対して硬化された実施例１、および、静電防止ＰＥＴ表面に対して硬化された後、引き続き摂氏１６０度で２時間にわたり標準的なエージング手順が施された実施例１、である。これら３つの実施例は同一の化学的組成を有する。
剥離表面エネルギーが以下の実施例のインク受容表面に対して計算された。これらの実施例は、空気に対して曝露される状況下で硬化された実施例１Ａ、静電防止ＰＥＴ表面に対して硬化された実施例１、および、静電防止ＰＥＴ表面に対して硬化された後、引き続き摂氏１６０度で２時間にわたり標準的なエージング手順が施された実施例１、である。これら３つの実施例は同一の化学的組成を有する。
【0125】
これら３つの実施例のうちの各実施例に対して、全表面エネルギー伝統的な「調和平均」法（Ｏｗｅｎｓ－Ｗｅｎｄｔ表面エネルギーモデルとしても知られる。例えばＫＲＵＳＳ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｎｏｔｅ ＴＮ３０６ｅ参照）を使用して計算された。結果は以下に提供される。
【表11】
【0126】
空気に対して曝露される状況下で硬化された実施例１Ａでは剥離層表面は極度の疎水性を示し、当該表面の全表面エネルギーは低く、期待されたように２０．９Ｊ／ｍ２であった。これは、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）に関して表面エネルギーに対する文献値にかなり近い値である。重要なことに、静電防止ＰＥＴ表面に対して硬化された実施例１は、約２６Ｊ／ｍ２の全表面エネルギーを示した。この実施例１は「空気硬化」された試料よりもやや小さい疎水性を示す。この調合物が標準的なエージング手順を施された後、全表面エネルギーは約２６Ｊ／ｍ２から２６Ｊ／ｍ２未満に減少した。この結果は、この代表的な配合の、様々なエージングが施され、および、エージングが施されていない物質に対して取得されたＲＣＡ結果を裏付けるように見受けられるであろう。
【0127】
実施例１５
剥離層表面エネルギーが以下の実施例のインク受容表面に対して計算された。これらの実施例は、空気に対して曝露される状況下で硬化された実施例２Ａ、静電防止ＰＥＴ表面に対して硬化された実施例２、および、静電防止ＰＥＴ表面に対して硬化された後、引き続き摂氏１６０度で２時間にわたり標準的なエージング手順が施された実施例２、である。これら３つの実施例は同一の化学的組成を有する。
剥離層表面エネルギーが以下の実施例のインク受容表面に対して計算された。これらの実施例は、空気に対して曝露される状況下で硬化された実施例２Ａ、静電防止ＰＥＴ表面に対して硬化された実施例２、および、静電防止ＰＥＴ表面に対して硬化された後、引き続き摂氏１６０度で２時間にわたり標準的なエージング手順が施された実施例２、である。これら３つの実施例は同一の化学的組成を有する。
【0128】
実施例１４と同様に、全表面エネルギーは伝統的な「調和平均」法を使用して計算された。結果は以下に提供される。
【表12】
【0129】
空気に対して曝露される状況下で硬化された実施例２Ａでは剥離層表面は実施例１Ａの剥離層よりも疎水性が小さく、この表面の全表面エネルギーは約３５Ｊ／ｍ２である。静電防止ＰＥＴ表面に対して硬化された実施例２は、約４９Ｊ／ｍ２の全表面エネルギーを示した。この実施例２は「空気硬化」された試料よりも顕著に小さい疎水性を示す。この調合物が標準的なエージング手順を施された後、全表面エネルギーは約４９Ｊ／ｍ２から約４０Ｊ／ｍ２に減少した。この結果は、この代表的な配合の、様々なエージングが施され、および、エージングが施されていない物質に対して取得されたＲＣＡ結果を裏付けるように見受けられるであろう。
【0130】
実施例１６
ブランケット表面上の温度は摂氏７５度に保持される。画像（通常に１０～１００％のカラーグラデーション）は１２００ｄｐｉの解像度で１．７ｍ／秒の速度でブランケット上に印刷される。未被覆紙（Ａ４ Ｘｅｒｏｘプレミアム・コピー用紙、８０ｇｓｍ）が加圧ローラとブランケットとの間にセットされ、圧力が３バールに設定されて、加圧ローラはブランケットに対して加圧される。加圧ローラは紙上で移動し、ブランケットと紙との間の接触線上に圧力を印加し、転送プロセスを促進させる。いくつかの場合では、不完全な転送（残留インクがブランケット表面上に残った状態）が観察され得る。残留インクの程度を評価するために、光沢紙（Ａ４ Ｂｕｒｇｏ光沢紙１３０ｇｓｍ）が未被覆紙と同様にブランケット上に置かれ、転送プロセスが再び実施される。ブランケット上に残され、かつ未被覆紙に転送されないあらゆるインクは光沢紙に転送されるであろう。したがって、光沢紙は以下のスケール（画像表面エリアの％）にしたがって残留インクに対して評価され得る。
Ａ－視認可能な残留なし
Ｂ－視認可能な残留は１～５％
Ｃ－視認可能な残留は５％より大きい
評価の結果は以下に提供される。
ブランケット表面上の温度は摂氏７５度に保持される。画像（通常に１０～１００％のカラーグラデーション）は１２００ｄｐｉの解像度で１．７ｍ／秒の速度でブランケット上に印刷される。未被覆紙（Ａ４ Ｘｅｒｏｘプレミアム・コピー用紙、８０ｇｓｍ）が加圧ローラとブランケットとの間にセットされ、圧力が３バールに設定されて、加圧ローラはブランケットに対して加圧される。加圧ローラは紙上で移動し、ブランケットと紙との間の接触線上に圧力を印加し、転送プロセスを促進させる。いくつかの場合では、不完全な転送（残留インクがブランケット表面上に残った状態）が観察され得る。残留インクの程度を評価するために、光沢紙（Ａ４ Ｂｕｒｇｏ光沢紙１３０ｇｓｍ）が未被覆紙と同様にブランケット上に置かれ、転送プロセスが再び実施される。ブランケット上に残され、かつ未被覆紙に転送されないあらゆるインクは光沢紙に転送されるであろう。したがって、光沢紙は以下のスケール（画像表面エリアの％）にしたがって残留インクに対して評価され得る。
Ａ－視認可能な残留なし
Ｂ－視認可能な残留は１～５％
Ｃ－視認可能な残留は５％より大きい
評価の結果は以下に提供される。
【表13】
【0131】
実施例１７
実施例１６は実施例２および実施例３の剥離表面に対して反復された。ただし印刷速度はブランケット上で３．４ｍ／秒であった。両方の剥離表面はＡの転送等級を保持した。
実施例１６は実施例２および実施例３の剥離表面に対して反復された。ただし印刷速度はブランケット上で３．４ｍ／秒であった。両方の剥離表面はＡの転送等級を保持した。
【0132】
実施例１８
実施例２および実施例３のＩＴＭ剥離層組成物は実施例１で提供される手順にしたがってＰＥＴ基板に対して硬化された。実施例２および実施例３のＩＴＭ剥離層組成物は比較例１Ｂおよび比較例１Ｃで提供される手順にしたがって空気に対して硬化された。次に、これらの試料は、以下の手順にしたがって、１０秒において、および引き続き７０秒において、動的接触角（ＤＣＡ）測定が施された。
実施例２および実施例３のＩＴＭ剥離層組成物は実施例１で提供される手順にしたがってＰＥＴ基板に対して硬化された。実施例２および実施例３のＩＴＭ剥離層組成物は比較例１Ｂおよび比較例１Ｃで提供される手順にしたがって空気に対して硬化された。次に、これらの試料は、以下の手順にしたがって、１０秒において、および引き続き７０秒において、動的接触角（ＤＣＡ）測定が施された。
【0133】
液滴は、運動エネルギーが液滴を展開させないよう、可能なかぎり小さい液滴が落下する状態で、滑らかなＰＴＦＥ薄膜表面上に配置される。次に垂滴が形成される。引き続き、標本は液滴の底部に接触するまで上昇させられる。液滴が十分に大きい場合、表面に対する付着はニードルの先端部から液滴を引き離すであろう。ニードル先端部は、表面の上方において、成長する垂滴が表面に接触し、かつ、それ自体の重さにより自由落下する以前に分離する、高さに配置される。
【0134】
次に、動的接触角は１０秒および７０秒において測定される。結果は以下に提供される。
【表14】
【0135】
１０秒における動的接触角の初期測定が剥離層表面の親水性の強力な指示を提供することが観察される。その後の７０秒における測定は、剥離層内に配置された任意の液体（例えばポリエーテルグリコール官能化ポリジメチルシロキサンなど）が液滴に組み込まれる程度の指示を提供する。係る組み込みは、測定されたＤＣＡをさらに減少させ得る。
【0136】
したがってＰＥＴに対して硬化された試料は、空気に対して硬化されたそれぞれの試料の親水性初期ＤＣＡ測定（１１４度、１１３度）と比較して実質的に低い（親水性が大きい）初期ＤＣＡ測定（１０５度、８７度）を示した。表示された親水性に加えて、ＰＥＴに対して硬化された試料は、第１測定と第２測定との間で８～１７度のＤＣＡにおける低下を示した。
【0137】
図１０Ａ～図１０Ｃでは、本発明のＩＴＭの剥離層上に印刷された様々なインクパターンの画像が提供されている。ここでは、実施例２の剥離層はＰＥＴ担体表面に対して硬化された。図１１Ａ～図１１Ｃは、実施例２の剥離層上に印刷された同一インクパターンの画像である。なおここでは、この剥離層は空気に対して硬化された。図１０Ａと図１１Ａとの間を比較すると、本発明のＩＴＭがより高い光学濃度を示し、インク画像パターンをより正確に反映することは明らかである。図１０Ｃと図１１Ｃとの間の比較は同一の結論を呈する。ここで図１０Ｂと図１１Ｂとの間を比較すると、図１０Ｂにおける各インクドットが図１１Ｂにおける各インクドットよりも認知可能に大きいことは明らかである。
【0138】
本明細書、および添付の請求項で使用される「後退接触角」または「ＲＣＡ」という用語は、Ｄａｔａｐｈｙｓｉｃｓ ＯＣＡ１５ Ｐｒｏ Ｃｏｎｔａｃｔ Ａｎｇｌｅ ｍｅａｓｕｒｉｎｇ ｄｅｖｉｃｅを、または類似のＶｉｄｅｏ－Ｂａｓｅｄ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｎｔａｃｔ Ａｎｇｌｅ Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍを使用して、上述のＤｒｏｐ Ｓｈａｐｅ Ｍｅｔｈｏｄを使用して、大気温度で測定された後退接触角を指す。類似した「前進接触角」または「ＡＣＡ」と言う用語は、実質的に同一の方法で測定された前進接触角を指す。
【0139】
本明細書、および添付の請求項で使用される「動的接触角」または「ＤＣＡ」という用語は、Ｄａｔａｐｈｙｓｉｃｓ ＯＣＡ１５ Ｐｒｏ Ｃｏｎｔａｃｔ Ａｎｇｌｅ ｍｅａｓｕｒｉｎｇ ｄｅｖｉｃｅまたは類似のＶｉｄｅｏ－Ｂａｓｅｄ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｎｔａｃｔ Ａｎｇｌｅ Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍを使用して、上記で参照した「Ｃｏｎｔａｃｔ Ａｎｇｌｅ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｓ Ｕｓｉｎｇ ｔｈｅ Ｄｒｏｐ Ｓｈａｐｅ Ｍｅｔｈｏｄ」においてＤｒ． Ｒｏｇｅｒ Ｐ． Ｗｏｏｄｗａｒｄにより詳述され、上記の実施例１７で詳述された方法を使用して、測定された動的接触角を指す。
【0140】
本明細書、および添付の請求項で使用される「標準エージング手続き」という用語は、標準的な対流炉において摂氏１６０度において２時間にわたり各試験剥離層に対して行われる加速されたエージング手順を指す。
【0141】
本明細書、および添付の請求項で使用される「標準的空気硬化」と言う用語は、比較例１Ａ～１Ｆに関して説明した剥離層を硬化するための従来の硬化処理を指し、この硬化処理では、剥離層を硬化させる間、剥離層表面（または「インク受容表面」）が空気に曝露される。
【0142】
明細書、および添付の請求項で使用される「バルク疎水性」という用語は、剥離層の内側表面上に配置された蒸留水液滴の後退接触角により特徴付けられる。なお、この内側表面は、剥離層内の硬化シリコーン物質のエリアを露出させることにより形成される。
【0143】
本明細書で、および添付の請求項で使用される「疎水性」および「親水性」、その他の用語は、相対的な意味で使用され得、必ずしも絶対的な意味で使用されるものではない。
【0144】
本明細書および添付の請求項で使用される「官能基」という用語は、従来の付加硬化型シリコーンのＯ－Ｓｉ－Ｏ基よりも高い極性を有する、剥離層のポリマー構造に結合された基または部分を指す。様々な例が本明細書で提供される。発明者らは、純粋な付加硬化型ポリジメチルシロキサンポリマーがＯ－Ｓｉ－Ｏ、ＳｉＯ４、Ｓｉ－ＣＨ３、およびＣ－Ｃ基を含むこと、および、大部分の他の官能基がより高い双極子を有し、それにより係る官能基が「機能的」であるとみなされ得ること、を観察する。係る官能基が、摂氏１２０度までの処理温度で間接的インクジェット印刷において利用される水性インクに典型的に存在する成分と反応する傾向または強い傾向を有し得ることは、当業者に明らかとなるであろう。
【0145】
本明細書で、および添付の請求項で使用される「％」という用語は、特記なき限り、重量％を指す。
【0146】
同様に、本明細書および添付の請求項において使用される「比」という用語は、特記なき限り、重量比を指す。
【0147】
明確にするために別々の実施形態という観点から説明される本発明の特定の特徴は、単一の実施形態で組み合わせて提供されてもよいことが理解される。逆に、簡略に表現するために単一の実施形態という観点から説明される本発明の様々な特徴は、別々にまたは任意の適切なサブコンビネーションでまたは本発明の任意の他の説明される実施形態において適切であるとして提供され得る。様々な実施形態という観点から説明される特定の特徴は、実施形態がそれらの要素なしには無効でない限り、それらの実施形態の本質的な特徴と見なされるべきではない。
【0148】
本発明は、説明のためだけにその提示された様々な特定の実施形態に関して説明されてきたが、係る具体的に開示された実施形態は限定的と見なされるべきではない。当業者は、本明細書で出願人の開示に基づいて係る実施形態の多くの他の改変形態、変更形態、および変形形態を考え付く。したがって、係るすべての改変形態、変更形態、および変形形態を包含し、添付特許請求の範囲およびその均等性の範囲に入るあらゆる偏差に定義される本発明の精神および範囲によってのみ拘束されることが意図される。
【0149】
本発明の開示を理解するまたは完了するために必要な範囲まで、ＷＯ２０１３／１３２４１８号を含んだ本明細書に言及されたすべての公報、特許、および特許出願は、あたかもそれぞれの個々の公報、特許、または特許出願が参照により本明細書に援用されるために明確にかつ個別に示されるのと同程度まで、その全体が本明細書に参照により明示的に援用される。
【0150】
本願におけるあらゆる参照の引用または識別は、係る参照が本発明にとって先行技術として利用可能である旨の了解として解釈されないものとする。
【0151】
本明細書に参照される特定のマークは、慣習法上またはサードパーティの登録商標である場合がある。これらのマークの使用は例としてであり、記述的と解釈されないものとする、または係るマークだけと関連付けられた資料に本発明の範囲を限定しないものとする。
本発明の中間体転写部材（ＩＴＭ）の好ましい態様を以下に記載する。
［１］印刷システムと使用するための中間体転写部材（ＩＴＭ）であって、
（ａ）支持層と、
（ｂ）インク画像を受容するためのインク受容表面および前記インク受容表面に対向する第２表面を有する剥離層であって、前記第２表面が前記支持層に付着され、前記剥離層が付加硬化型シリコーン物質から形成され、前記剥離層が最大５００マイクロメートル（μｍ）の厚さを有する、剥離層と
を備え、
前記インク受容表面が、以下の構造的特性：
（ｉ）前記インク受容表面上の蒸留水滴の後退接触角が最大６０度であること、
（ｉｉ）前記インク受容表面上に堆積された蒸留水滴の場合、１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が最大１０８度であること、
のうちの少なくとも１つを満たすように適応され、
前記剥離層が、以下の構造特性：
（１）前記付加硬化型シリコーン物質が、実質的に付加硬化型シリコーンからなるか、または、少なくとも９５重量％の前記付加硬化型シリコーンを含むこと、
（２）官能基が、前記付加硬化型シリコーン物質の最大３重量％を占めること
のうちの少なくとも１つを有する、
中間体転写部材（ＩＴＭ）。
［２］前記後退接触角が、最大５８度、最大５６度、最大５４度、最大５２度、最大５０度、最大４８度、最大４６度、最大４４度、最大４２度、最大４０度、最大３８度、または最大３７度である、［１］に記載のＩＴＭ。
［３］前記官能基が前記付加硬化型シリコーン物質の最大２重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．２重量％、もしくは最大０．１重量％を占める、または前記付加硬化型シリコーン物質が実質的に前記官能基を含まない、［１］または［２］に記載のＩＴＭ。
［４］ポリエーテルグリコール官能化ポリジメチルシロキサンが、前記付加硬化型シリコーン物質に充填される、［１］～［３］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［５］ポリエーテルグリコール官能化シロキサンが前記付加硬化型シリコーン物質に充填されるが、前記付加硬化型シリコーン物質の共有構造の一部を形成しない、［１］～［４］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［６］前記剥離層の前記厚さが最大５００μｍ、最大１００μｍ、最大５０μｍ、最大２５μｍ、または最大１５μである、［１］～［５］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［７］前記剥離層の前記厚さが、１～１００μｍ、５～１００μｍ、８～１００μｍ、１０～１００μｍ、または１０～８０μｍの範囲内である、［１］～［６］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［８］前記支持層の厚さが、約５０～１０００マイクロメートル（μ）、１００～１０００μ、１００～８００μ、または１００～５００μの範囲内である、［１］～［７］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［９］前記インク受容表面の全表面エネルギーが、対応剥離層のインク受容表面に標準的エージング手順を施すことにより生産された変更されたインク受容表面の全表面エネルギーよりも、少なくとも２Ｊ／ｍ２、少なくとも３Ｊ／ｍ２、少なくとも４Ｊ／ｍ２、少なくと
も５Ｊ／ｍ２、少なくとも６Ｊ／ｍ２、少なくとも８Ｊ／ｍ２、または少なくとも１０Ｊ／ｍ２高い、［１］～［８］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１０］前記インク受容表面の全表面エネルギーが、前記硬化されたシリコーン物質のシリコーン前駆体の標準的空気硬化により準備された対応剥離層の疎水性インク受容表面の全表面エネルギーよりも、少なくとも４Ｊ／ｍ２、少なくとも６Ｊ／ｍ２、少なくとも８Ｊ／ｍ２、少なくとも１０Ｊ／ｍ２、少なくとも１２Ｊ／ｍ２、少なくとも１４Ｊ／ｍ２、または、少なくとも１６Ｊ／ｍ２大きい、［１］～［９］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１１］前記インク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角が、前記硬化されたシリコーン物質のシリコーン前駆体の標準的空気硬化により準備された対応剥離層のインク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角よりも、少なくとも７度、少なくとも８度、少なくとも１０度、少なくとも１２度、少なくとも１５度、少なくとも１８度、または、少なくとも２０度低い、［１］～［１０］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１２］前記インク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角が、前記インク受容表面に標準的エージング手順を施すことにより生産されたエージングされた表面上の蒸留水液滴の後退接触角よりも、少なくとも５度、少なくとも６度、少なくとも７度、または、少なくとも８度低い、［１］～［１１］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１３］前記インク受容表面の表面疎水性が前記剥離層内の前記硬化されたシリコーン物質のバルク疎水性よりも小さく、前記表面疎水性が前記インク受容表面上における蒸留水液滴の後退接触角により特徴付けられ、前記バルク疎水性が、露出エリアを形成するために前記剥離層内の前記硬化シリコーン物質のエリアを露出させることにより形成された内側表面上に堆積された蒸留水液滴の後退接触角により特徴付けられる、［１］～［１２］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１４］前記インク受容表面上で測定された前記後退接触角が、前記露出エリアで測定された前記後退接触角よりも、少なくとも７度、少なくとも８度、少なくとも１０度、少なくとも１２度、少なくとも１４度、少なくとも１６度、少なくとも１８度、または、少なくとも２０度低い、［１］～［１３］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１５］前記インク受容表面上の前記蒸留水液滴の前記後退接触角が、少なくとも２５度、少なくとも２８度、少なくとも３０度、少なくとも３２度、少なくとも３４度、または少なくとも３６度、および、さらに所望により、２５度～６０度、２８度～６０度、３０度～６０度、３０度～６０度、３０度～５５度、３０度～５０度、３２度～６０度、３２度～５５度、３２度～４４度、３５度～６０度、３５度～５５度、３６度～４４度、または３８度～５０度の範囲内である、［１］～［１４］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１６］前記剥離層が、前記インク受容表面の極性基が離間する方向または前記第２表面と逆の方向を有するよう、適応される、［１］～［１５］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１７］前記剥離層が、前記インク受容表面が周囲環境に曝露される動作モードに前記ＩＴＭがあるとき、前記インク受容表面の前記極性基が前記周囲環境に向かう方向または対向する方向を有するよう、適応される、［１］～［１６］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１８］前記ＩＴＭがデジタル印刷システムにおける構成要素を形成する、［１］～［１７］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１９］前記支持層が前記剥離層の前記第２表面に付着された弾性コンプライアンス層を含み、
前記弾性コンプライアンス層が、前記インク画像が印圧される印刷基板の表面輪郭に近接して追随するよう適応される、［１］～［１８］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２０］前記支持層が前記コンプライアンス層に付着された補強層を含む、［１］～［１９］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２１］前記剥離層が、そのシリコーンポリマーマトリックス内に、最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．２重量％、または実質的に０重量％の合計量の官能基を含む、［１］～［２０］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２２］前記剥離層が、そのシリコーンポリマーマトリックス内に、最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．２重量％、または実質的に０重量％の合計量の、Ｃ＝Ｏ、Ｓ＝Ｏ、Ｏ－Ｈ、およびＣＯＯを含む部分の群から選択される官能基を含む、［１］～［２０］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２３］前記剥離層が、そのシリコーンポリマーマトリックス内に、最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．２重量％、または実質的に０重量％の合計量の、シラン部分、アルコキシ部分、アミド部分、およびアミド・アルコキシ部分からなる群より選択される官能基を含む、［１］～［２２］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２４］前記剥離層が、そのシリコーンポリマーマトリックス内に、最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．２重量％、または実質的に０重量％の合計量の、アミン、アンモニウム、アルデヒド、ＳＯ２、ＳＯ３、ＳＯ４、ＰＯ３、ＰＯ４、およびＣ－Ｏ－Ｃからなる群より選択される官能基を含む、［１］～［２３］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２５］前記付加硬化型シリコーン物質がビニル官能シリコーンから構築された構造を有する、［１］～［２４］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２６］前記付加硬化型シリコーン物質が「ＭＱ」型の極性基を含む、［１］～［２５］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２７］前記インク受容表面の前記全表面エネルギーが、Ｏｗｅｎｓ－Ｗｅｎｄｔ表面エネルギーモデルを使用して評価される、［９］～［２６］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２８］前記１０秒ＤＣＡが、最大１０８度、最大１０６度、最大１０３度、最大１００度、最大９６度、最大９２度、または最大８８度、所望により、少なくとも６０度、少なくとも６５度、少なくとも７０度、少なくとも７５度、少なくとも７８度、少なくとも８０度、少なくとも８２度、少なくとも８４度、または少なくとも８６度、およびさらに所望により、６０～１０８度、６５～１０５度、７０～１０５度、７０～１００度、７０～９６度、７０～９２度、７５～１０５度、７５～１００度、８０～１０５度、８０～１００度、８５～１０５度、または８５～１００度の範囲内である、［１］～［２７］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２９］前記インク受容表面が、前記インク受容表面上に堆積された前記蒸留水液滴に対して、前記７０秒動的接触角（ＤＣＡ）と前記１０秒ＤＣＡとの間の差異が、少なくとも７度、少なくとも８度、少なくとも１０度、または少なくとも１２度、所望により、最大２５度、最大２２度、最大２０度、最大１８度、または最大１７度、および、さらに所望により、６～２５度、６～２２度、６～２０度、６～１８度、６～１７度、７～２５度、７～２０度、７～１７度、８～２５度、８～２２度、１８～２０度、８～１８度、８～１７度、１０～２５度、１０～２２度、１０～２０度、１０～１８度、または１０～１７度の範囲内となるよう、適応されている、［１］～［２８］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［３０］前記インク受容表面が、前記インク受容表面上に堆積された前記蒸留水液滴に対して、前記７０秒ＤＣＡが、最大９２度、最大９０度、最大８８度、最大８５度、最大８２度、最大８０度、最大７８度、最大７６度、最大７４度、または最大７２度、所望により、少なくとも５５度、少なくとも６０度、少なくとも６５度、または、少なくとも６８度、およびさらに所望により、５５～９２度、５５～９０度、５５～８５度、５５～８０度、６５～９２度、６５～９０度、６５～８５度、６５～８０度、６８～８５度、６８～８０度、７０～９２度、７０～９０度、７０～８５度、または７０～８０度の範囲内となるよう適応されている、［１］～［２９］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
本発明の中間体転写部材（ＩＴＭ）の好ましい態様を以下に記載する。
［１］印刷システムと使用するための中間体転写部材（ＩＴＭ）であって、
（ａ）支持層と、
（ｂ）インク画像を受容するためのインク受容表面および前記インク受容表面に対向する第２表面を有する剥離層であって、前記第２表面が前記支持層に付着され、前記剥離層が付加硬化型シリコーン物質から形成され、前記剥離層が最大５００マイクロメートル（μｍ）の厚さを有する、剥離層と
を備え、
前記インク受容表面が、以下の構造的特性：
（ｉ）前記インク受容表面上の蒸留水滴の後退接触角が最大６０度であること、
（ｉｉ）前記インク受容表面上に堆積された蒸留水滴の場合、１０秒動的接触角（ＤＣＡ）が最大１０８度であること、
のうちの少なくとも１つを満たすように適応され、
前記剥離層が、以下の構造特性：
（１）前記付加硬化型シリコーン物質が、実質的に付加硬化型シリコーンからなるか、または、少なくとも９５重量％の前記付加硬化型シリコーンを含むこと、
（２）官能基が、前記付加硬化型シリコーン物質の最大３重量％を占めること
のうちの少なくとも１つを有する、
中間体転写部材（ＩＴＭ）。
［２］前記後退接触角が、最大５８度、最大５６度、最大５４度、最大５２度、最大５０度、最大４８度、最大４６度、最大４４度、最大４２度、最大４０度、最大３８度、または最大３７度である、［１］に記載のＩＴＭ。
［３］前記官能基が前記付加硬化型シリコーン物質の最大２重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．２重量％、もしくは最大０．１重量％を占める、または前記付加硬化型シリコーン物質が実質的に前記官能基を含まない、［１］または［２］に記載のＩＴＭ。
［４］ポリエーテルグリコール官能化ポリジメチルシロキサンが、前記付加硬化型シリコーン物質に充填される、［１］～［３］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［５］ポリエーテルグリコール官能化シロキサンが前記付加硬化型シリコーン物質に充填されるが、前記付加硬化型シリコーン物質の共有構造の一部を形成しない、［１］～［４］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［６］前記剥離層の前記厚さが最大５００μｍ、最大１００μｍ、最大５０μｍ、最大２５μｍ、または最大１５μである、［１］～［５］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［７］前記剥離層の前記厚さが、１～１００μｍ、５～１００μｍ、８～１００μｍ、１０～１００μｍ、または１０～８０μｍの範囲内である、［１］～［６］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［８］前記支持層の厚さが、約５０～１０００マイクロメートル（μ）、１００～１０００μ、１００～８００μ、または１００～５００μの範囲内である、［１］～［７］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［９］前記インク受容表面の全表面エネルギーが、対応剥離層のインク受容表面に標準的エージング手順を施すことにより生産された変更されたインク受容表面の全表面エネルギーよりも、少なくとも２Ｊ／ｍ２、少なくとも３Ｊ／ｍ２、少なくとも４Ｊ／ｍ２、少なくと
も５Ｊ／ｍ２、少なくとも６Ｊ／ｍ２、少なくとも８Ｊ／ｍ２、または少なくとも１０Ｊ／ｍ２高い、［１］～［８］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１０］前記インク受容表面の全表面エネルギーが、前記硬化されたシリコーン物質のシリコーン前駆体の標準的空気硬化により準備された対応剥離層の疎水性インク受容表面の全表面エネルギーよりも、少なくとも４Ｊ／ｍ２、少なくとも６Ｊ／ｍ２、少なくとも８Ｊ／ｍ２、少なくとも１０Ｊ／ｍ２、少なくとも１２Ｊ／ｍ２、少なくとも１４Ｊ／ｍ２、または、少なくとも１６Ｊ／ｍ２大きい、［１］～［９］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１１］前記インク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角が、前記硬化されたシリコーン物質のシリコーン前駆体の標準的空気硬化により準備された対応剥離層のインク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角よりも、少なくとも７度、少なくとも８度、少なくとも１０度、少なくとも１２度、少なくとも１５度、少なくとも１８度、または、少なくとも２０度低い、［１］～［１０］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１２］前記インク受容表面上の蒸留水液滴の後退接触角が、前記インク受容表面に標準的エージング手順を施すことにより生産されたエージングされた表面上の蒸留水液滴の後退接触角よりも、少なくとも５度、少なくとも６度、少なくとも７度、または、少なくとも８度低い、［１］～［１１］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１３］前記インク受容表面の表面疎水性が前記剥離層内の前記硬化されたシリコーン物質のバルク疎水性よりも小さく、前記表面疎水性が前記インク受容表面上における蒸留水液滴の後退接触角により特徴付けられ、前記バルク疎水性が、露出エリアを形成するために前記剥離層内の前記硬化シリコーン物質のエリアを露出させることにより形成された内側表面上に堆積された蒸留水液滴の後退接触角により特徴付けられる、［１］～［１２］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１４］前記インク受容表面上で測定された前記後退接触角が、前記露出エリアで測定された前記後退接触角よりも、少なくとも７度、少なくとも８度、少なくとも１０度、少なくとも１２度、少なくとも１４度、少なくとも１６度、少なくとも１８度、または、少なくとも２０度低い、［１］～［１３］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１５］前記インク受容表面上の前記蒸留水液滴の前記後退接触角が、少なくとも２５度、少なくとも２８度、少なくとも３０度、少なくとも３２度、少なくとも３４度、または少なくとも３６度、および、さらに所望により、２５度～６０度、２８度～６０度、３０度～６０度、３０度～６０度、３０度～５５度、３０度～５０度、３２度～６０度、３２度～５５度、３２度～４４度、３５度～６０度、３５度～５５度、３６度～４４度、または３８度～５０度の範囲内である、［１］～［１４］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１６］前記剥離層が、前記インク受容表面の極性基が離間する方向または前記第２表面と逆の方向を有するよう、適応される、［１］～［１５］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１７］前記剥離層が、前記インク受容表面が周囲環境に曝露される動作モードに前記ＩＴＭがあるとき、前記インク受容表面の前記極性基が前記周囲環境に向かう方向または対向する方向を有するよう、適応される、［１］～［１６］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１８］前記ＩＴＭがデジタル印刷システムにおける構成要素を形成する、［１］～［１７］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［１９］前記支持層が前記剥離層の前記第２表面に付着された弾性コンプライアンス層を含み、
前記弾性コンプライアンス層が、前記インク画像が印圧される印刷基板の表面輪郭に近接して追随するよう適応される、［１］～［１８］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２０］前記支持層が前記コンプライアンス層に付着された補強層を含む、［１］～［１９］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２１］前記剥離層が、そのシリコーンポリマーマトリックス内に、最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．２重量％、または実質的に０重量％の合計量の官能基を含む、［１］～［２０］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２２］前記剥離層が、そのシリコーンポリマーマトリックス内に、最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．２重量％、または実質的に０重量％の合計量の、Ｃ＝Ｏ、Ｓ＝Ｏ、Ｏ－Ｈ、およびＣＯＯを含む部分の群から選択される官能基を含む、［１］～［２０］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２３］前記剥離層が、そのシリコーンポリマーマトリックス内に、最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．２重量％、または実質的に０重量％の合計量の、シラン部分、アルコキシ部分、アミド部分、およびアミド・アルコキシ部分からなる群より選択される官能基を含む、［１］～［２２］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２４］前記剥離層が、そのシリコーンポリマーマトリックス内に、最大３重量％、最大２重量％、最大１重量％、最大０．５重量％、最大０．２重量％、または実質的に０重量％の合計量の、アミン、アンモニウム、アルデヒド、ＳＯ２、ＳＯ３、ＳＯ４、ＰＯ３、ＰＯ４、およびＣ－Ｏ－Ｃからなる群より選択される官能基を含む、［１］～［２３］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２５］前記付加硬化型シリコーン物質がビニル官能シリコーンから構築された構造を有する、［１］～［２４］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２６］前記付加硬化型シリコーン物質が「ＭＱ」型の極性基を含む、［１］～［２５］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２７］前記インク受容表面の前記全表面エネルギーが、Ｏｗｅｎｓ－Ｗｅｎｄｔ表面エネルギーモデルを使用して評価される、［９］～［２６］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２８］前記１０秒ＤＣＡが、最大１０８度、最大１０６度、最大１０３度、最大１００度、最大９６度、最大９２度、または最大８８度、所望により、少なくとも６０度、少なくとも６５度、少なくとも７０度、少なくとも７５度、少なくとも７８度、少なくとも８０度、少なくとも８２度、少なくとも８４度、または少なくとも８６度、およびさらに所望により、６０～１０８度、６５～１０５度、７０～１０５度、７０～１００度、７０～９６度、７０～９２度、７５～１０５度、７５～１００度、８０～１０５度、８０～１００度、８５～１０５度、または８５～１００度の範囲内である、［１］～［２７］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［２９］前記インク受容表面が、前記インク受容表面上に堆積された前記蒸留水液滴に対して、前記７０秒動的接触角（ＤＣＡ）と前記１０秒ＤＣＡとの間の差異が、少なくとも７度、少なくとも８度、少なくとも１０度、または少なくとも１２度、所望により、最大２５度、最大２２度、最大２０度、最大１８度、または最大１７度、および、さらに所望により、６～２５度、６～２２度、６～２０度、６～１８度、６～１７度、７～２５度、７～２０度、７～１７度、８～２５度、８～２２度、１８～２０度、８～１８度、８～１７度、１０～２５度、１０～２２度、１０～２０度、１０～１８度、または１０～１７度の範囲内となるよう、適応されている、［１］～［２８］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
［３０］前記インク受容表面が、前記インク受容表面上に堆積された前記蒸留水液滴に対して、前記７０秒ＤＣＡが、最大９２度、最大９０度、最大８８度、最大８５度、最大８２度、最大８０度、最大７８度、最大７６度、最大７４度、または最大７２度、所望により、少なくとも５５度、少なくとも６０度、少なくとも６５度、または、少なくとも６８度、およびさらに所望により、５５～９２度、５５～９０度、５５～８５度、５５～８０度、６５～９２度、６５～９０度、６５～８５度、６５～８０度、６８～８５度、６８～８０度、７０～９２度、７０～９０度、７０～８５度、または７０～８０度の範囲内となるよう適応されている、［１］～［２９］のいずれか１項に記載のＩＴＭ。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8A】
【図8B】
【図8C】
【図9A】
【図9B】
【図9C】
【図9D】
【図10A】
【図10B】
【図10C】
【図11A】
【図11B】
【図11C】