特許 7481277 シール機構、および原料撹拌装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-04-30

(45)【発行日】2024-05-10

(54)【発明の名称】シール機構、および原料撹拌装置

(51)【国際特許分類】

   F16J 15/10 20060101AFI20240501BHJP

   F16J 12/00 20060101ALI20240501BHJP

【ＦＩ】

F16J15/10 N

F16J12/00 D

F16J15/10 U

【請求項の数】 13

(21)【出願番号】P 2021010292

(22)【出願日】2021-01-26

(65)【公開番号】P2021134919

(43)【公開日】2021-09-13

【審査請求日】2023-09-25

(31)【優先権主張番号】P 2020030529

(32)【優先日】2020-02-26

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第２項適用 特許法第３０条第２項適用、令和元年９月１２日 日本アイリッヒ株式会社 九州事業所（福岡県北九州市若松区南二島四丁目９－１）において開催された機械メーカ・商社に対しての内覧会で発表

(73)【特許権者】

【識別番号】597009046

【氏名又は名称】日本アイリッヒ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100118500

【弁理士】

【氏名又は名称】廣澤 哲也

(74)【代理人】

【氏名又は名称】渡邉 勇

(74)【代理人】

【識別番号】100174089

【弁理士】

【氏名又は名称】郷戸 学

(74)【代理人】

【識別番号】100186749

【弁理士】

【氏名又は名称】金沢 充博

(72)【発明者】

【氏名】嶺井 政尚

【審査官】久慈 純平

(56)【参考文献】

【文献】国際公開第２０１９／１７５３０５（ＷＯ，Ａ１）

【文献】国際公開第００／００１２５４（ＷＯ，Ａ１）

【文献】実開昭６０－１１４３６７（ＪＰ，Ｕ）

【文献】特開２００１－０５０３９４（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｆ１６Ｊ １５／１０

Ｆ１６Ｊ １２／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

原料を内部に収容し、回転する回転容器と、該回転容器の上部開口を塞ぐ蓋部材との間の隙間をシールするシール機構であって、
前記蓋部材に連結され、前記回転容器に圧接されるシール部材と、
前記シール部材の半径方向内側に配置されるバリアと、
前記シール部材および前記バリアを前記蓋部材に連結するホルダと、を備え、
前記ホルダには、前記シール部材と前記バリアとの間の空間に加圧気体を導入するための流路が形成されており、
前記蓋部材が前記回転容器の上部開口を塞ぐと、前記バリアの外周面と前記回転容器の内側面との間に、前記加圧気体の噴出口として機能する隙間が形成されることを特徴とするシール機構。

【請求項2】

前記シール部材のシール性能の低下を監視するシール監視機構をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のシール機構。

【請求項3】

前記シール監視機構は、前記空間の圧力を監視する圧力計を含むことを特徴とする請求項２に記載のシール機構。

【請求項4】

前記シール監視機構は、前記空間内に進入した前記原料の量を検知可能な粉塵センサを含むことを特徴とする請求項２または３に記載のシール機構。

【請求項5】

前記シール部材は、前記回転容器に圧接される第１リップと第２リップとを備え、前記第２リップが前記第１リップの半径方向外側に配置されるダブルリップシールであり、
前記流路は、前記第１リップと前記バリアとの間の第１空間に第１加圧気体を導入するための第１流路と、前記第１リップと第２リップとの間の第２空間に第２加圧気体を導入するための第２流路とを含むことを特徴とする請求項１に記載のシール機構。

【請求項6】

前記第２加圧気体は、前記第１加圧気体の圧力よりも高い圧力を有することを特徴とする請求項５に記載のシール機構。

【請求項7】

前記第２加圧気体は、前記第１加圧気体の圧力よりも低い圧力を有することを特徴とする請求項５に記載のシール機構。

【請求項8】

前記第２加圧気体は、前記第１加圧気体の圧力と同一の圧力を有することを特徴とする請求項５に記載のシール機構。

【請求項9】

前記シール部材のシール性能の低下を監視するシール監視機構をさらに備えることを特徴とする請求項５乃至８のいずれか一項に記載のシール機構。

【請求項10】

前記シール監視機構は、前記第１空間および／または前記第２空間の圧力を監視する圧力計を含むことを特徴とする請求項９に記載のシール機構。

【請求項11】

前記シール監視機構は、前記第１空間および／または前記第２空間内に進入した前記原料の量を検知可能な粉塵センサを含むことを特徴とする請求項９または１０に記載のシール機構。

【請求項12】

前記回転容器のシール面と前記シール部材の間の距離を調整するためのシール調整部材をさらに備えることを特徴とする請求項１乃至１１に記載のシール機構。

【請求項13】

原料を内部に収容し、回転する回転容器と、
前記回転容器の上部開口を塞ぐ蓋部材と、
請求項１乃至１２のいずれか一項に記載のシール機構と、を備え、
前記シール機構によって、前記回転容器と前記蓋部材との間の隙間がシールされることを特徴とする原料撹拌装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、原料を収容して回転する回転容器と、該回転容器の上部開口を塞ぐ蓋部材との間の隙間をシールするシール機構、および該シール機構を備えた原料撹拌装置に関する。

【背景技術】

【0002】

原料撹拌装置は、原料の造粒、コーティング、混合、混練、撹拌、および乾燥などの各種処理を行う装置であり、医薬品、化学薬品、食品、化粧品、ファインケミカル、鋳物、建築材料、塗料、およびダスト処理などの様々な産業分野で用いられている（例えば、特許文献１および特許文献２参照）。この原料撹拌装置は、軸線周りに回転駆動される回転容器と、該回転容器の上部開口を開閉する蓋部材と、回転容器と蓋部材との間の隙間をシールするシール機構と、を備えている。回転容器は、一般に、有底円筒形状を有している。原料撹拌装置で処理される原料は、回転容器の上部開口から該回転容器に投入され、その後、回転容器の上部開口が蓋部材により閉じられる。そして、回転容器を所定の回転速度で回転させることにより、上記各種処理が行われる。

【0003】

シール機構は、各種処理を実行している間に、回転容器と蓋部材との間の隙間から原料が漏洩すること、および異物が回転容器内に外部から侵入することを防止する。このようなシール機構は、蓋部材の下面に連結されたシール部材を備えており、シール部材は、回転容器の内周面に所定の押圧力で押し付けられる。原料撹拌装置で各種処理を実行している間、原料が投入された回転容器は回転されるが、蓋部材、および蓋部材に連結されたシール部材は回転させない。以下では、シール部材が押し付けられる回転容器の内周面を「シール面」と称することがある。

【0004】

なお、本明細書では、原料撹拌装置の回転容器に投入される材料を総称して、「原料」と称する。原料は、粉体、およびスラッジなどの固体材料であってもよいし、水およびオイルなどの液体材料であってもよいし、固定材料と液体材料との混合物であってもよい。さらに、原料撹拌装置では、複数の材料のそれぞれが所定の時間間隔を開けて回転容器に投入されることがある。例えば、固体材料を回転容器に投入して、該回転容器を回転させてから所定の時間が経過した後に、回転容器に液体材料を投入することがある。この場合、原料は、固体材料と液体材料である。また、本明細書では、各種処理を行った後で、回転容器から取り出される物体を総称して、「製品」と称する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【文献】特開２０１３－１７９２３号公報

【文献】特開２０１６－２５３６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

原料撹拌装置で、シール機構が適切なシール性能を発揮するためには、シール部材を適切な押圧力で回転容器に押し付ける必要がある。例えば、シール部材がリップシールである場合は、リップの先端を所定の押圧力で、回転容器のシール面に押し付ける必要がある。

【0007】

しかしながら、回転容器に投入される原料の性状（例えば、原料の比重、粒度、および含水率など）次第で、回転容器から原料の漏洩を防止するために必要とされる押圧力が異なる。例えば、軽く、細かい粒子状の原料を回転容器内で処理する場合は、原料は高い浮遊性を有するので、シール部材を回転容器のシール面に押し付ける押圧力が大きくなる。

【0008】

上記押圧力の大きさが大きいほど、シール部材、および該シール部材が接触する回転容器のシール面が摩耗によって劣化および変形する。さらに、シール部材およびシール面からより多くの摩耗粉が発生するおそれもある。シール部材およびシール面の劣化は、シール性能の低下を招き、回転容器からの原料の漏洩につながる。そのため、シール部材の交換頻度が増加し、その結果、原料撹拌装置のランニングコストが上昇する。さらに、原料撹拌装置は、食品、医薬品などの異物の混入を嫌う製品の製造工程にも使用されるため、シール部材およびシール面の摩耗粉の発生をできるだけ低減したいとの要望がある。したがって、原料撹拌装置で行われる処理によっては、大きな押圧力でシール部材を回転容器に押し付けることができない場合がある。

【0009】

さらに、上記押圧力の大きさが大きいほど、シール部材と回転容器のシール面との間に大きな摩擦熱が発生する。発生した摩擦熱が回転容器を介して処理中の原料に伝わると、原料に悪影響を与えるおそれがある。例えば、原料が低融点材料の場合は、原料が溶融してしまうおそれがある。したがって、シール部材を回転容器に押し付ける押圧力を極力低減したいとの要望がある。

【0010】

そこで、本発明は、シール部材を回転容器に押し付ける押圧力を低減できるシール機構を提供することを目的とする。また、本発明は、このようなシール機構を備えた原料撹拌装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0011】

一態様では、原料を内部に収容し、回転する回転容器と、該回転容器の上部開口を塞ぐ蓋部材との間の隙間をシールするシール機構であって、前記蓋部材に連結され、前記回転容器に圧接されるシール部材と、前記シール部材の半径方向内側に配置されるバリアと、前記シール部材および前記バリアを前記蓋部材に連結するホルダと、を備え、前記ホルダには、前記シール部材と前記バリアとの間の空間に加圧気体を導入するための流路が形成されていることを特徴とするシール機構が提供される。

【0012】

一態様では、前記シール部材のシール性能の低下を監視するシール監視機構をさらに備える。
一態様では、前記シール監視機構は、前記空間の圧力を監視する圧力計を含む。
一態様では、前記シール監視機構は、前記空間内に進入した前記原料の量を検知可能な粉塵センサを含む。

【0013】

一態様では、前記シール部材は、前記回転容器に圧接される第１リップと第２リップとを備え、前記第２リップが前記第１リップの半径方向外側に配置されるダブルリップシールであり、前記流路は、前記第１リップと前記バリアとの間の第１空間に第１加圧気体を導入するための第１流路と、前記第１リップと第２リップとの間の第２空間に第２加圧気体を導入するための第２流路とを含む。
一態様では、前記第２加圧気体は、前記第１加圧気体の圧力よりも高い圧力を有する。
一態様では、前記第２加圧気体は、前記第１加圧気体の圧力よりも低い圧力を有する。
一態様では、前記第２加圧気体は、前記第１加圧気体の圧力と同一の圧力を有する。

【0014】

一態様では、前記シール部材のシール性能の低下を監視するシール監視機構をさらに備える。
一態様では、前記シール監視機構は、前記第１空間および／または前記第２空間の圧力を監視する圧力計を含む。
一態様では、前記シール監視機構は、前記第１空間および／または前記第２空間内に進入した前記原料の量を検知可能な粉塵センサを含む。
一態様では、前記シール機構は、前記回転容器のシール面と前記シール部材の間の距離を調整するためのシール調整部材をさらに備える。

【0015】

一態様では、原料を内部に収容し、回転する回転容器と、前記回転容器の上部開口を塞ぐ蓋部材と、上記シール機構と、を備え、前記シール機構によって、前記回転容器と前記蓋部材との間の隙間がシールされることを特徴とする原料撹拌装置が提供される。

【発明の効果】

【0016】

本発明によれば、シール部材とバリアとの間に導入された加圧気体が回転容器内に向けて噴出される気流を形成する。この気流によって、シール部材に向かって流動してくる原料を回転容器内に押し返すことができる。特に、気流は、軽く、細かい粒子状の原料（浮遊性の高い原料）を回転容器内に効率的に押し返すことができる。さらに、気流は、シール部材およびバリアに原料が付着することを防止できる。その結果、原料がシール部材に到達することが抑制されるので、シール部材を回転容器に押し付ける押圧力を低減することができる。

【図面の簡単な説明】

【0017】

【図1】図１は、一実施形態に係る原料撹拌装置の正面図である。

【図2】図２は、図１に示す原料撹拌装置の側面図である。

【図3】図３は、一実施形態に係るシール機構を説明するための概略断面図である。

【図4】図４は、図３に示すホルダの上面図である。

【図5】図５は、図４に示す連通孔を通る断面で見たシール機構の概略断面図である。

【図6】図６は、他の実施形態に係るシール機構を説明するための概略断面図である。

【図7】図７は、図６に示すホルダの上面図である。

【図8】図８は、図７に示す第１連通孔を通る断面で見たシール機構の概略断面図である。

【図9】図９は、図７に示す第２連通孔を通る断面で見たシール機構の概略断面図である。

【図10】図１０は、図３に示すシール機構が備えるシール監視機構の一例を示す模式図である。

【図11】図１１は、図３に示すシール機構が備えるシール監視機構の他の例を示す模式図である。

【図12】図１２（ａ）および図１２（ｂ）は、図６に示すシール機構が備えるシール監視機構の一例を示す模式図である。

【図13】図１３（ａ）および図１３（ｂ）は、図６に示すシール機構が備えるシール監視機構の他の例を示す模式図である。

【図14】図１４は、シール調整部材の一例を拡大して示す模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0018】

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
図１は、一実施形態に係る原料撹拌装置の正面図である。図２は、図１に示す原料撹拌装置の側面図である。図１および図２に示すように、原料撹拌装置は、原料を収容して回転する回転容器（混合パン）１と、回転容器１を回転させるための第１駆動装置（モータ）２と、回転容器１内の原料を撹拌するロータユニット３と、ロータユニット３を回転させるための第２駆動装置（モータ）４とを備えている。

【0019】

本実施形態では、駆動装置２，４は制御装置（図示せず）に接続されており、制御装置はこれら駆動装置２，４の回転速度および回転方向を自在に制御するように構成されている。このような構成により、回転容器１およびロータユニット３をそれぞれ所望の回転速度および回転方向で独立して回転させることができる。

【0020】

回転容器１は、有底円筒形状を有しており、カバー９の内部に回転可能に配置されている。本実施形態では、カバー９の上部には、蓋部材５が設けられており、該蓋部材５によって、回転容器１の上端に形成された開口が塞がれる。図１に示すように、蓋部材５は、原料を回転容器１に供給するための供給口５ａを有している。原料は、供給口５ａから直接回転容器１内に供給されてもよいし、供給口５ａにシュート、ノズル、またはホッパーなどの原料供給設備（図示せず）を連結し、該原料供給設備および供給口５ａを介して、回転容器１に供給されてもよい。製品を製造するときは、原料が投入された回転容器１とロータユニット３を回転させる。

【0021】

なお、図１および図２に示した実施形態では、蓋部材５が図示しない駆動機構（例えば、エアシリンダ、油圧シリンダ、または電動シリンダ）により回転容器１の回転軸と平行な方向に上昇することで、カバー９および回転容器１の上部開口が開かれるようになっている。図示はしないが、蓋部材５が旋回軸を支点として回動することにより、カバー９および回転容器１の上部開口が開閉されてもよい。蓋部材５を上昇させて、回転容器１の上部開口が開かれたときに、原料を上部開口から回転容器１に投入してもよい。この場合、上記供給口５ａを省略してもよい。回転容器１から製品を取り出すときは、蓋部材５を上昇させて、回転容器１の上部開口を開いてもよい。

【0022】

蓋部材５は、回転容器１の上部開口を塞ぐ限り、該上部開口を開閉しなくてもよい。この場合、回転容器１の底壁または側壁に製品を回転容器１から取り出すための排出口（図示せず）が形成されてもよい。排出口が回転容器１に設けられる場合、原料撹拌装置は、排出口を開閉可能な排出口ゲートを有していてもよい。製品を回転容器１から取り出すときは、排出口ゲートを移動させて排出口を開く。さらに、原料撹拌装置は、排出口に連結可能な吸い出しラインを備えていてもよい。この場合、製品は、排出口に連結された吸い出しラインを介して回転容器１から吸い出される。

【0023】

原料撹拌装置は、所定量の原料が投入され、蓋部材５で上部開口が塞がれた回転容器１を回転させ、同時に、ロータユニット３を回転容器１内で回転させることにより、原料の造粒、コーティング、混合、混練、撹拌、乾燥などの各種処理を実行する。原料の処理を実行している間、回転容器１およびロータユニット３が回転しても、蓋部材５は回転しない。

【0024】

上記処理を実行している間に、回転容器１と蓋部材５との間の隙間から原料が漏洩することを防止するために、原料撹拌装置は、回転容器１と蓋部材５との間に配置されるシール機構を有している。このシール機構によって、回転容器１と蓋部材５との間の隙間がシールされる。

【0025】

図３は、一実施形態に係るシール機構を説明するための概略断面図である。図３に示すシール機構３０は、略環形状を有するシール部材３６を有している。シール部材３６は、蓋部材５が回転容器１の上部開口を塞いだときに、該回転容器１の上端部のシール面１ａに圧接される。図３に示す例では、シール部材３６は、回転容器１のシール面１ａに圧接されるリップ３６ａと、リップ３６ａが接続され、円環形状を有するリップシール本体３６ｃとを有するリップシールである。リップ３６ａは、リップシール本体３６ｃの下面からリップシール本体３６ｃの全周にわたって延びている。したがって、蓋部材５が回転容器１の上部開口を塞ぐと、シール部材３６は、蓋部材５と回転容器１との間の隙間を回転容器１の全周にわたってシールする。

【0026】

以下の説明では、シール部材３６をリップシール３６と称して、シール機構３０を説明するが、本実施形態のシール部材３６は、回転容器１のシール面１ａに圧接される限り、リップシールに限定されない。例えば、シール部材３６は、シールリングであってもよい。

【0027】

シール機構３０は、リップシール３６の半径方向内側に配置され、円筒形状を有するバリア３８と、リップシール３６およびバリア３８を保持した状態で蓋部材５に固定されるホルダ３９と、をさらに備える。本実施形態では、ホルダ３９は、円環形状を有している。蓋部材５が回転容器１の上部開口を塞ぐと、リップシール３６の中心軸線とバリア３８の中心軸線は、回転容器１の中心軸線に一致する。リップシール３６は、その内面がホルダ３９の外周面に接触した状態で、ねじなどの固定具（図示せず）を介してホルダ３９に接続されている。

【0028】

図示した例では、回転容器１の上端部には、半径方向外側に突出するフランジ部が形成されており、該フランジ部の内周面が、リップシール３６のリップ３６ａが圧接されるシール面１ａとして機能する。蓋部材５が回転容器１の上部開口を塞ぐと、リップ３６ａの先端は所定の押圧力で回転容器１のシール面１ａに押し付けられ、リップシール３６の半径方向に変形する。

【0029】

リップシール（シール部材）３６は、適切なシール性能を発揮可能なある程度弾性がある材料から選定される。このような材料は、例えば、合成ゴムである。リップシール３６を構成する合成ゴムは、一般的なシール部材の材料として多用されている合成ゴムから選定されるのが好ましい。この理由は、リップシール３６を安価に製造することができるからである。このような合成ゴムの例としては、ニトリルゴム（ＮＢＲ）、クロロスルフォン化ポリエチレン（ＣＳＭ）、エチレンプロピレンゴム（ＥＰＭ、ＥＰＤＭ）、ポリウレタン（ＰＵ）、およびウレタンゴムなどが挙げられる。なお、リップシール３６の材料は、適切な弾性を有している限り、合成ゴムに限定されない。例えば、リップシール３６を樹脂から構成してもよい。

【0030】

バリア３８は、その上端に半径方向外側に突出するフランジ３８ａを有している。ホルダ３９は、その上端部における内周面に、フランジ３８ａの形状に対応して形成された段部を有している。バリア３８のフランジ３８ａをホルダ３９の段部に係合させた状態で、ホルダ３９は、複数のねじ４５によって蓋部材５に固定される。具体的には、ホルダ３９は、ねじ４５が係合するねじ孔３９ａを有しており、蓋部材５にはねじ孔３９ａに対応する位置に貫通孔が形成されている。ねじ４５を蓋部材５の貫通孔に挿入した状態で、ねじ４５をホルダ３９のねじ孔３９ａに螺合させることにより、ホルダ３９が蓋部材５に固定される。図３では、１つのねじ４５とそのねじ孔３９ａのみが描かれているが、実際は、ホルダ３９は、該ホルダ３９の円周方向に等間隔で配置された複数のねじ孔３９ａを有している。したがって、ホルダ３９は、複数のねじ４５によって蓋部材５に固定される。

【0031】

ねじ４５によって、ホルダ３９を蓋部材５に固定すると、バリア３８のフランジ部３８ａが蓋部材５とホルダ３９に形成された段部とによって挟まれ、これにより、バリア３８およびリップシール３６がホルダ３９を介して蓋部材５に連結される。バリア３８およびリップシール３６が連結された蓋部材５が回転容器１の上部開口を塞ぐと、バリア５の外周面と回転容器１の内側面との間に僅かな隙間Ｇが形成される。すなわち、バリア５は、回転容器１と接触しない。この隙間Ｇの大きさは、例えば、数ｍｍ（０．３～５ｍｍ）である。

【0032】

図４は、図３に示すホルダ３９の上面図である。図４に示すように、ホルダ３９は、複数の（図４では、５つの）連通孔３９ｂを有している。これら連通孔３９ｂは、後述する流路を構成する。図４に示す例では、ホルダ３９は、５つの連通孔３９ｂを有しているが、本実施形態はこの例に限定されない。例えば、ホルダ３９は、１つの連通孔３９ｂのみを有していてもよい。すなわち、ホルダ３９は少なくとも１つの連通孔３９ｂを有する。

【0033】

図５は、図４に示す連通孔３９ｂを通る断面で見たシール機構の概略断面図である。本実施形態では、連通孔３９ｂは、ホルダ３９の上面から下面まで延びる貫通孔である。蓋部材５には、連通孔３９ｂに対応する位置に貫通孔５ｂが形成されており、蓋部材５にホルダ３９を固定すると、貫通孔５ｂは連通孔３９ｂと接続される。蓋部材５の貫通孔５ｂには、加圧気体供給ライン４８が接続される。加圧気体供給ライン４８の末端は、加圧気体供給源（図示せず）に接続されており、加圧気体供給ライン４８を介して、貫通孔５ｂに加圧気体が供給される。

【0034】

貫通孔５ｂに供給された加圧気体は、ホルダ３９に形成された連通孔３９ｂに流れ込む。連通孔３９ｂは、バリア３８（の外周面）とリップシール３６（のリップ３６ａの内周面）との間に形成された空間に開口している。したがって、蓋部材５の貫通孔５ｂに供給された加圧気体は、連通孔３９ｂからバリア３８とリップシール３６との間に形成された空間に放出され、該空間内を満たす。本実施形態では、連通孔３９ｂは、バリア３８とリップシール３６との間に形成された空間に加圧気体を導入するための流路として機能する。

【0035】

バリア３８とリップシール３６との間に形成された空間は、回転容器１の内部に隙間Ｇを介して連通している。そのため、この空間を満たした加圧気体は隙間Ｇから回転容器１内に噴出する気流を形成する。この加圧気体の気流によって、リップシール３６に向かって流動してくる原料を回転容器１内に押し返すことができる。特に、加圧気体の気流は、軽く、細かい粒子状の原料（図５参照）を回転容器１内に効率的に押し返すことができる。さらに、気流は、リップシール３６およびバリア３８に原料が付着することを防止できる。その結果、原料がリップシール３６に到達することが抑制されるので、リップシール３６を回転容器１のシール面１ａに押し付ける押圧力を低減することができる。

【0036】

さらに、本実施形態のシール機構によれば、シール部材３６（のリップ３６ａ）が回転容器１のシール面１ａに加圧気体によって均一に押し付けられている。そのため、万が一原料が隙間Ｇを通ってバリア３８とリップシール３６との間に形成された空間に進入しても、原料が回転容器１から漏洩することを効果的に防止することができる。

【0037】

図５に示すように、加圧気体供給ライン４８に圧力調整弁５０を設けてもよいし、流量調整器（例えば、ニードル弁、マスフローコントローラーなど）５４を設けてもよい。圧力調整弁５０によって、隙間Ｇから噴出する加圧気体の圧力を調整することができる。流量調整器５４によって、隙間Ｇから噴出する加圧気体の流量を調整することができる。したがって、圧力調整弁５０および流量調整器５４によって、回転容器１内の原料の性状に応じた加圧気体の圧力および流量の調整が可能となる。一実施形態では、シール機構３０は、圧力調整弁５０および流量調整器５４のいずれか一方を有していてもよい。

【0038】

図６は、他の実施形態に係るシール機構３０を説明するための概略断面図である。特に説明しない本実施形態の構成は、上述した実施形態の構成と同様であるため、同一又は相当する構成要素には同一の符号を付して、その重複する説明を省略する。

【0039】

図６に示すシール部材３６は、蓋部材５が回転容器１の上部開口を塞いだときに、回転容器１のシール面１ａに圧接される第１リップ３６ａおよび第２リップ３６ｂと、リップシール本体３６ｃと、を有するダブルリップシール（以下、単に「リップシール」と称する）である。リップシール３６は、その上面がホルダ３９の下面に接触した状態で、ねじなどの固定具（図示せず）を介してホルダ３９に接続されている。

【0040】

第１リップ３６ａおよび第２リップ３６ｂは、回転容器１のシール面１ａに圧接される。第２リップ３６ｂは、第１リップ３６ａの半径方向外側に配置される。第１リップ３６ａおよび第２リップ３６ｂは、リップシール本体３６ｃの下面からリップシール本体３６ｃの全周にわたって延びている。したがって、蓋部材５が回転容器１の上部開口を閉じると、リップシール３６の第１リップ３６ａおよび第２リップ３６ｂは、蓋部材５と回転容器１との間の隙間を回転容器１の全周にわたってシールする。

【0041】

本実施形態では、第１リップ３６ａの基端部と第２リップ３６ｂの基端部との間に、円環形状を有するブロック４７が配置されている。ブロック４７の内周面は、第１リップ３６ａの外周面に接触しており、ブロック４７の外周面は、第２リップ３６ｂの内周面に接触している。蓋部材５が回転容器１の上部開口を塞ぐと、第１リップ３６ａおよび第２リップ３６ｂの先端は所定の押圧力で回転容器１のシール面１ａに押し付けられ、リップシール３６の半径方向に変形する。一方で、ブロック４７によって、第１リップ３６ａの基端部と第２リップ３６ｂの基端部とがシールリップ３６の半径方向に変形するのが阻止される。一実施形態では、ブロック４７を省略してもよい。

【0042】

図７は、図６に示すホルダ３９の上面図である。図７に示すように、ホルダ３９は、複数の（図４では、５つの）第１連通孔３９ｂと、複数の（図４では、５つの）第２連通孔３９ｃと、を有している。第１連通孔３９ｂは、後述する第１流路を構成し、第２連通孔３９ｃは、後述する第２流路の一部を構成する。

【0043】

図７に示す例では、ホルダ３９は、５つの第１連通孔３９ｂを有しているが、本実施形態はこの例に限定されない。例えば、ホルダ３９は、１つの第１連通孔３９ｂのみを有していてもよい。すなわち、ホルダ３９は少なくとも１つの第１連通孔３９ｂを有する。

【0044】

図８は、図７に示す第１連通孔３９ｂを通る断面で見たシール機構の概略断面図である。本実施形態では、第１連通孔３９ｂは、ホルダ３９の上面から下面まで屈曲しつつ延びる貫通孔である。蓋部材５の貫通孔５ｂには、第１加圧気体供給ライン４８が接続される。第１加圧気体供給ライン４８の末端は、第１加圧気体供給源（図示せず）に接続されており、第１加圧気体供給ライン４８を介して、貫通孔５ｂに第１加圧気体が供給される。

【0045】

貫通孔５ｂに供給された第１加圧気体は、ホルダ３９に形成された第１連通孔３９ｂに流れ込む。さらに、第１加圧気体は、第１連通孔３９ｂから、バリア３８（の外周面）とリップシール３６の第１リップ３６ａ（の内周面）との間に形成された空間（以下、「第１空間」と称する）に放出され、該第１空間を満たす。本実施形態では、第１連通孔３９ｂは、第１空間に第１加圧気体を導入するための第１流路として機能する。

【0046】

第１空間は、回転容器１の内部に隙間Ｇを介して連通している。そのため、第１空間を満たした第１加圧気体は隙間Ｇから回転容器１内に噴出する気流を形成する。この第１加圧気体の気流によって、リップシール３６に向かって流動してくる原料を回転容器１内に押し返すことができる。特に、この第１加圧気体の気流は、軽く、細かい粒子状の原料（図５参照）を回転容器１内に効率的に押し返すことができる。さらに、気流は、リップシール３６およびバリア３８に原料が付着することを防止できる。その結果、原料がリップシール３６に到達することが抑制されるので、リップシール３６を回転容器１のシール面１ａに押し付ける押圧力を低減することができる。

【0047】

図９は、図７に示す第２連通孔３９ｃを通る断面で見たシール機構の概略断面図である。図７および図９に示すように、ホルダ３９は、第２連通孔３９ｃを有していてもよい。本実施形態では、第２連通孔３９ｃは、ホルダ３９の上面から下面まで直線状に延びる貫通孔である。図７に示す例では、ホルダ３９は、５つの第２連通孔３９ｃを有しているが、本実施形態はこの例に限定されない。例えば、ホルダ３９は、少なくとも１つの第２連通孔３９ｃを有していてもよい。

【0048】

蓋部材５には、第２連通孔３９ｃに対応する位置に貫通孔５ｃが形成されている。蓋部材５にホルダ３９を固定すると、貫通孔５ｃは第２連通孔３９ｃに接続される。蓋部材５の貫通孔５ｃには、第２加圧気体供給ライン４９が接続される。第２加圧気体供給ライン４９の末端は、第２加圧気体供給源（図示せず）に接続されており、第２加圧気体供給ライン４９を介して、貫通孔５ｃに第２加圧気体が供給される。

【0049】

本実施形態では、ホルダ３９の第２連通孔３９ｃは、リップシール３６に形成された貫通孔３６ｄに接続され、リップシール３６に形成された貫通孔３６ｄは、ブロック４７に形成された貫通孔４７ａに接続される。したがって、第２加圧気体供給ライン４９を介して貫通孔５ｃに供給された第２加圧気体は、ホルダ３９の第２連通孔３９ｃ、リップシール３６の貫通孔３６ｄ、およびブロック４７の貫通孔４７ａを通って、リップシール３６の第１リップ３６ａ（の外周面）と第２リップ３６ｂ（の内周面）との間に形成された空間（以下、「第２空間」と称する）に導入される。第２空間は、第２加圧気体によって満たされる。本実施形態では、ホルダ３９の第２連通孔３９ｂ、リップシール３６の貫通孔３６ｄ、およびブロック４７の貫通孔４７ａは、第２空間に第２加圧気体を導入するための第２流路として機能する。ブロック４７が省略される実施形態では、ホルダ３９の第２連通孔３９ｂ、およびリップシール３６の貫通孔３６ｄが第２空間に第２加圧気体を導入するための第２流路として機能する。

【0050】

本実施形態でも、第２加圧気体供給ライン４９に圧力調整弁５１を設けてもよいし、流量調整器（例えば、ニードル弁、マスフローコントローラーなど）５５を設けてもよい。圧力調整弁５１によって、第２加圧気体の圧力を調整することができる。流量調整器５５によって、第２加圧気体の流量を調整することができる。一実施形態では、シール機構３０は、圧力調整弁５１および流量調整器５５のいずれか一方を有していてもよい。

【0051】

第２加圧気体の圧力は、第１加圧気体の圧力よりも高くてもよいし、低くてもよい。あるいは、第２加圧気体の圧力は、第１加圧気体の圧力と同一であってもよい。

【0052】

第２加圧気体が第１加圧気体の圧力よりも高い圧力を有する場合は、第２空間を満たした第２加圧気体によって、第１リップ３６ａがバリア３８に向かって移動され、第２空間が第１空間と連通する。その結果、第２加圧気体が第１空間に流れ込み、第１加圧気体と第２加圧気体の両者が隙間Ｇから回転容器１内に噴出する。したがって、第１加圧気体のみが隙間Ｇから噴出する実施形態と比較して、隙間Ｇから回転容器１内に噴出する加圧気体の流量が増加するので、原料がリップシール３６により到達しづらくなる。その結果、リップシール３６を回転容器１のシール面１ａに押し付ける押圧力をより低減することができる。

【0053】

第２加圧気体が第１加圧気体の圧力よりも低い圧力を有する場合は、第１加圧気体と第２加圧気体の圧力差に応じて、第１リップ３６ａを回転容器１のシール面１ａにより強固に、かつ均一に密着させることができる。その結果、原料が隙間Ｇを通過してしまっても、第１リップ３６ａによって、原料が第２空間に侵入することが防止される。したがって、リップシール３６を回転容器１のシール面１ａに押し付ける押圧力をより低減することができる。

【0054】

第２加圧気体が第１加圧気体の圧力と同一の圧力を有する場合は、第１リップ３６ａはその復元力のみで回転容器１のシール面１ａに押し付けられるとともに、バリア３８に向かって移動しない。この場合、第２加圧気体が第１加圧気体の圧力よりも低い圧力を有する実施形態と比較すると、第１リップ３６ａの摩耗量と、第１リップ３６ａと回転容器１との間で発生する摩擦熱を低減することができる。したがって、第１リップ３６ａの交換頻度が低下するので、原料撹拌装置のランニングコストを減少させることができる。さらに、製品に混入する摩耗粉の量が低減される。第２加圧気体が第１加圧気体の圧力よりも高い圧力を有する実施形態と比較すると、第２加圧気体が第２空間から第１空間へ流れ込むことが阻害され、その結果、第２加圧気体の消費量を低減することができる。その結果、原料撹拌装置のランニングコストを減少させることができる。

【0055】

なお、第１加圧気体の圧力の大きさと第２加圧気体の圧力の大きさの関係がいかようであっても、第１加圧気体は隙間Ｇから回転容器１内に噴出する。このため、原料がリップシール（シール部材）３６に到達することが抑制されるので、リップシール３６を回転容器１のシール面１ａに押し付ける押圧力を低減することができる。

【0056】

さらに、本実施形態のシール機構によれば、シール部材３６の第２リップ３６ｂが回転容器１のシール面１ａに加圧気体によって均一に押し付けられている。そのため、万が一原料が第１リップ３６ａとシール面１ａとの間の隙間を通過して第２空間に進入しても、原料が回転容器１から漏洩することを効果的に防止することができる。

【0057】

第１加圧気体は、第２加圧気体と同一の気体であってもよいし、異なる気体であってもよい。例えば、第１加圧気体は、加圧窒素である一方で、第２加圧気体は、加圧窒素とは異なる圧縮空気であってもよい。回転容器１内の原料のなかには、大量の空気と触れることにより変質してしまう（例えば、酸化してしまう）材料が含まれていることがある。このような場合は、回転容器１内に噴出する第１加圧気体として、不活性ガスを用いるのが好ましい。不活性ガスの例としては、窒素、アルゴンなどが挙げられる。一実施形態では、第１加圧気体として二酸化炭素を用いてもよい。第２加圧気体が回転容器１内に噴出する場合（すなわち、第２加圧気体が第１加圧気体よりも高い圧力を有している場合）は、第２加圧気体も不活性ガスまたは二酸化炭素であるのが好ましい。一方で、第２加圧気体が回転容器１内に噴出しない場合（すなわち、第２加圧気体が第１加圧気体よりも低い圧力を有している場合）は、第２加圧気体として、不活性ガスおよび二酸化炭素よりも安価な圧縮空気を用いて、原料撹拌装置のランニングコストを低下させるのが好ましい。

【0058】

原料撹拌装置で原料の処理が繰り返し行われると、シール機構のリップシール（シール部材）３６が劣化して（例えば、摩耗、破損して）、リップシール３６のシール性能が許容範囲よりも低下するおそれがある。シール性能の低下は、原料の漏洩につながる。そこで、シール機構は、リップシール３６のシール性能の低下を監視するシール監視機構を有していてもよい。

【0059】

図１０は、図３に示すシール機構が備えるシール監視機構の一例を示す模式図である。特に説明しない本実施形態の構成は、上述した実施形態と同様であるため、その重複する説明を省略する。

【0060】

図１０に示すシール監視機構６０は、バリア３８（の外周面）とリップシール３６（の内周面）との間に形成された空間内の圧力を測定する圧力計６１と、該圧力計６１をこの空間と連通させる圧力監視ライン６２とを備える。圧力監視ライン６２は、圧力計６１から蓋部材５とホルダ３９とを貫通して延びる配管である。

【0061】

リップシール３６が劣化して、リップシール３６のシール性能が低下すると、バリア３８とリップシール３６との間の空間に供給された加圧気体が回転容器１から漏洩し、その結果、バリア３８とリップシール３６との間の空間内の気体の圧力が低下する。圧力計６１は、図示しない制御装置に接続されており、制御装置は、圧力計６１から送られてくる測定値に基づいてバリア３８とリップシール３６との間の空間内の気体の圧力を監視している。具体的には、制御装置は、原料の性状、バリア３８とリップシール３６との間の空間に供給される加圧気体の圧力などに応じて設定される所定の閾値を予め記憶しており、空間内の気体の圧力がこの閾値以下であるか否かを監視している。例えば、バリア３８とリップシール３６との間の空間に供給される加圧気体の圧力が０．３ＭＰａである場合に、制御装置は、空間内の気体の圧力が０．２５ＭＰａ以下であるか否かを監視する。この場合、所定の閾値は、０．２５ＭＰａである。なお、所定の閾値は、原料の性状、原料撹拌装置で実行される処理条件（例えば、回転容器１の回転速度）、および加圧気体の圧力などに応じて、任意に設定できる。

【0062】

空間内の圧力が所定の閾値以下になると、制御装置は、警報を発して、作業者にシール性能の低下を知らせる。この警報によって、作業者は、現在実行されている処理が完了した後でリップシール３６の状態を確認したり、リップシール３６を交換したりすることができる。その結果、リップシール３６の劣化によって、原料が回転容器１から漏洩することが防止される。

【0063】

図１１は、図３に示すシール機構が備えるシール監視機構の他の例を示す模式図である。特に説明しない本実施形態の構成は、図１０に示す実施形態と同様であるため、その重複する説明を省略する。

【0064】

図１１に示すシール監視機構６０は、バリア３８とリップシール３６との間に形成された空間に進入した原料の量を測定可能な粉塵センサ７１と、該粉塵センサ７１をこの空間と連通させる粉塵監視ライン７２とを備える。粉塵監視ライン７２は、粉塵センサ７１から蓋部材５とホルダ３９とを貫通して延びる配管である。

【0065】

上述したように、リップシール３６が劣化すると、バリア３８とリップシール３６との間の空間内の気体の圧力が低下する。そのため、この空間内に原料が進入しやすくなる。そこで、本実施形態では、バリア３８とリップシール３６との間の空間に進入した原料の量を粉塵センサ７１で監視することによって、リップシール３６の劣化を監視する。具体的には、粉塵センサ７１は、図示しない制御装置に接続されており、制御装置は、粉塵センサ７１から送られてくる測定値に基づいてバリア３８とリップシール３６との間の空間に進入した原料の量を監視している。制御装置は、原料の性状、原料撹拌装置で実行される処理条件（例えば、回転容器１の回転速度）、および加圧気体の圧力などに応じて設定される所定の閾値を予め記憶しており、粉塵センサ７１の測定値がこの閾値を超えた場合に警報を発する。

【0066】

所定の閾値は、例えば、以下のように決定される。リップシール３６が適切なシール性能を発揮しているときに、バリア３８とリップシール３６との間の空間に進入する原料の量を粉塵センサ７１を用いて測定する。この原料の量に所定の係数（例えば、１．５）を乗算することよって、所定の閾値を決定する。

【0067】

このような構成でも、作業者は警報によってリップシール３６の劣化を知ることができる。警報が発せされると、作業者は、現在実行されている処理が完了した後でリップシール３６の状態を確認したり、リップシール３６を交換したりすることができる。その結果、リップシール３６の劣化によって、原料が回転容器１から漏洩することが防止される。

【0068】

シール監視機構６０は、図６を参照して説明したシール機構に設けることも可能である。図１２（ａ）および図１２（ｂ）は、図６に示すシール機構が備えるシール監視機構の一例を示す模式図である。特に説明しない本実施形態の構成は、図１０を参照して説明した実施形態と同様であるため、その重複する説明を省略する。

【0069】

図１２（ａ）に示すように、シール監視機構６０は、バリア３８（の外周面）とリップシール３６の第１リップ３６ａ（の内周面）との間に形成された第１空間内の圧力を測定する第１圧力計６４と、該第１圧力計６４をこの第１空間と連通させる第１圧力監視ライン６５とを備える。第１圧力監視ライン６５は、第１圧力計６４から蓋部材５とホルダ３９とを貫通して延びる配管である。第１圧力計６４は、図示しない制御装置に接続されており、第１空間内の気体の圧力を監視している。

【0070】

図１２（ｂ）に示すように、シール監視機構６０は、リップシール３６の第１リップ３６ａ（の外周面）と第２リップ３６ｂ（の内周面）との間に形成された第２空間内の圧力を測定する第２圧力計６６と、該第２圧力計６６をこの第２空間と連通させる第２圧力監視ライン６７とを備える。第２圧力監視ライン６７は、第２圧力計６６から蓋部材５、ホルダ３９、リップシール３６、およびブロック４７を貫通して延びる配管である。第２圧力計６６は、図示しない制御装置に接続されており、第２空間内の気体の圧力を監視している。

【0071】

リップシール３６のシール性能が低下すると、第１空間内の気体の圧力、および第２空間内の気体の圧力が低下する。図示しない制御装置は、第１空間内の気体の圧力が所定の第１閾値以下であるか否か、および第２空間内の気体の圧力が所定の第２閾値以下であるか否かを監視している。本実施形態では、第１空間内の気体の圧力が所定の第１閾値以下であるか、または第２空間内の気体の圧力が所定の第２閾値以下である場合に、制御装置はリップシール３６の劣化の警報を発するように構成されている。

【0072】

このような構成により、作業者は警報によってリップシール３６の劣化を知ることができる。警報が発せされると、作業者は、現在実行されている処理が完了した後でリップシール３６の状態を確認したり、リップシール３６を交換したりすることができる。その結果、リップシール３６の劣化によって、原料が回転容器１から漏洩することが防止される。

【0073】

一実施形態では、第１空間内の気体の圧力が所定の第１閾値以下であり、かつ第２空間内の気体の圧力が所定の第２閾値以下である場合に、制御装置はリップシール３６の劣化の警報を発するように構成されていてもよい。あるいは、シール監視機構６０は、第１圧力計６４と、第２圧力計６６のいずれか一方のみを備えていてもよい。この場合、省略された圧力計に接続される圧力監視ラインも省略される。

【0074】

図１３（ａ）および図１３（ｂ）は、図６に示すシール機構が備えるシール監視機構の他の例を示す模式図である。特に説明しない本実施形態の構成は、図１２（ａ）および図１２（ｂ）を参照して説明した実施形態と同様であるため、その重複する説明を省略する。

【0075】

図１３（ａ）および図１３（ｂ）に示すシール監視機構６０は、第１圧力計６４の代わりに、第１粉塵センサ７４を有しており、第２圧力計６６の代わりに、第２粉塵センサ７６を有している。第１粉塵センサ７４は第１粉塵監視ライン７５を介して第１空間と連通し、第２粉塵センサ７６は第２粉塵監視ライン７６を介して第２空間と連通する。

【0076】

上述したように、粉塵センサが測定する原料の量によってもリップシール３６のシール性能の低下を決定することができる。第１粉塵センサ７４および第２粉塵センサ７６は、図示しない制御装置に接続されており、制御装置は、第１粉塵センサ７４の測定値が所定の第１閾値以上であるか、または第２粉塵センサ７６の測定値が所定の第２閾値以上である場合に、警報を発して、リップシール３６の劣化を作業員に知らせることができる。

【0077】

一実施形態では、第１粉塵センサ７４の測定値が所定の第１閾値以上であり、かつ第２粉塵センサ７６の測定値が所定の第２閾値以上である場合に、制御装置はリップシール３６の劣化の警報を発するように構成されていてもよい。あるいは、シール監視機構６０は、第１粉塵センサ７４と、第２粉塵センサ７６のいずれか一方のみを備えていてもよい。この場合、省略された粉塵センサに接続される粉塵監視ラインも省略される。

【0078】

シール機構は、回転容器１のシール面１ａとシール部材３６のリップ３６ａの間の距離を調整するためのシール調整部材を有してもよい。図１４は、シール調整部材の一例を示す模式図である。

【0079】

図１４に示す回転容器１は、容器本体１ｂと、容器本体１ｂの上端部に接続されるシールリング１ｃとから構成される。上記シール面１ａは、シールリング１ｃに形成される。シールリング１ｃは、フランジ状に形成された容器本体１ｂの上端部に複数のねじ（連結部材）８１によって連結される。より具体的には、回転容器１の上端部には、ねじ８１が挿入される貫通孔が形成されており、シールリング１ｃは、貫通孔に対応する位置に形成されたねじ孔１ｄを有している。ねじ孔１ｄは、シールリング１ｃの下面から上面に向かって延びている。シールリング１ｃをフランジ状の容器本体１ｂの上面に載せた状態で、ねじ８１を貫通孔に通し、これらねじ８１をねじ孔１ｄに螺合させることにより、シールリング１ｃが容器本体１ｂに連結される。

【0080】

図１４では、１つのねじ８１とそのねじ孔１ｄのみが描かれているが、実際は、シールリング１ｃは、該シールリング１ｃの円周方向に等間隔で配置された複数のねじ孔１ｄを有している。したがって、シールリング１ｃは、複数のねじ８１によって容器本体１ｂに連結される。複数のねじ８１を用いてシールリング１ｃを容器本体１ｂに連結すると、シールリング１ｃの中心軸線は、容器本体１ｂの中心軸線に一致する。

【0081】

本実施形態において、シールリング１ｃを容器本体１ｂに連結するための連結部材はねじ８１であるが、連結部材はこの例に限定されない。例えば、連結部材は、回転容器１の容器本体１ｂのフランジ状の上端部とシールリング１ｃとを挟むクリップであってもよい。

【0082】

シール機構は、シールリング１ｃと容器本体１ｂとの間の隙間から原料が漏洩することを防止するために、シールリング１ｃの下面と容器本体１ｂの上面とで挟まれる容器シール部材８０を有している。本実施形態では、容器シール部材８０はｏリングである。なお、容器シール部材８０は、シールリング１ｃと容器本体１ｂとの間の隙間から原料が漏洩することを防止可能である限り、ｏリングに限定されない。例えば、容器シール部材８０は、樹脂製のシール板であってもよい。

【0083】

図１４に示すように、シール機構は、回転容器１とシールリング３３の間に挟まれたシール調整部材（調整板）８６を有している。調整板８６は、リップシール３６に対するシールリング１ｃ（すなわち、回転容器１）の距離を調整する所謂「シム（ｓｈｉｍ）」として機能する。図１４に示す調整板８６は、円環形状を有している。さらに、調整板８６は、ねじ８１が通る貫通孔８６ａを有している。貫通孔８６ａは、回転容器１のフランジ状の上端部に形成された貫通孔に対応して設けられている。すなわち、貫通孔８６ａは、シールリング１ｃを容器本体１ｂに連結するためのねじ８１に対応して形成されている。

【0084】

調整板４６の厚さ（すなわち、シールリング１ｃの中心軸線の延びる方向における調整板４６の大きさ）を変更することにより、リップシール３６に対するシールリング１ｃの位置（すなわち、リップシール３６と回転容器１との間の距離）を変更することができる。このような調整板４６を用いることにより、リップシール３６がシールリング１ｃに押し付けられる押圧力を自在に調整することができる。例えば、調整板４６の厚さを大きくすればするほど、リップシール３６はシールリング１ｃのシール面に大きめの押圧力で押し付けられる。

【0085】

したがって、摩耗によってリップシール３６のシール性能が低下したとき（例えば、上述した警報が発せられたとき）、摩耗によるリップシール３６および／またはシールリング１ｃの変形量に応じた厚さを有する調整板４６を容器本体１ｂとシールリング１ｃとの間に挟むことにより、リップシール３６のシール性能を回復することができる。

【0086】

図１４では、図６に示されるリップシール３６を有するシール機構が調整板（シール調整部材）４６を有する例が説明されたが、図３に示されるリップシール３６を有するシール機構が調整板４６を有していてもよい。

【0087】

上述した実施形態は、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が本発明を実施できることを目的として記載されたものである。上記実施形態の種々の変形例は、当業者であれば当然になしうることであり、本発明の技術的思想は他の実施形態にも適用しうる。したがって、本発明は、記載された実施形態に限定されることはなく、特許請求の範囲によって定義される技術的思想に従った最も広い範囲に解釈されるものである。

【符号の説明】

【0088】

１ 回転容器（混合パン）
２ 第１駆動装置
３ ロータユニット
４ 第２駆動装置
５ 蓋部材
７ 架台
９ カバー
３０ シール機構
３６ リップシール（シール部材）
３６ａ 第１リップ
３６ｂ 第２リップ
３６ｄ 貫通孔
３８ バリア
３９ ホルダ
３９ｂ 第１連通孔
３９ｃ 第２連通孔
４５ ねじ（固定具）
４７ ブロック
４８ 第１加圧気体供給ライン
４９ 第２加圧気体供給ライン
５０，５１ 圧力調整弁
５４，５５ 流量調整器
６０ シール監視機構
６１，６４，６６ 圧力計
６２，６５，６７ 圧力監視ライン
７１，７４，７６ 粉塵センサ
７２，７５，７６ 粉塵監視ライン
８６ 調整板（シール調整部材）

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】