(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B1)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-05-01
(45)【発行日】2024-05-13
(54)【発明の名称】活性ガス生成装置
(51)【国際特許分類】
H05H 1/24 20060101AFI20240502BHJP
【ＦＩ】
H05H1/24
【請求項の数】
8
(21)【出願番号】P 2023518267
(86)(22)【出願日】2022-10-20
(86)【国際出願番号】 JP2022039029
【審査請求日】2023-03-20
(73)【特許権者】
【識別番号】501137636
【氏名又は名称】株式会社ＴＭＥＩＣ
(74)【代理人】
【識別番号】100088672
【弁理士】
【氏名又は名称】吉竹 英俊
(74)【代理人】
【識別番号】100088845
【弁理士】
【氏名又は名称】有田 貴弘
(72)【発明者】
【氏名】有田 廉
【審査官】右▲高▼ 孝幸
(56)【参考文献】
【文献】国際公開第２０１９／０４９２３０（ＷＯ，Ａ１）
【文献】国際公開第２０１９／１３８４５６（ＷＯ，Ａ１）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｈ０５Ｈ １／２４
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
放電空間に供給された原料ガスを活性化して活性ガスを生成する活性ガス生成装置であって、電極ユニットと、
筐体内空間に前記電極ユニットを収容し、導電性を有する筐体とを備え、
前記筐体は、平坦面と前記平坦面から深さ方向に凹んだ導体収容空間とを含む筐体底部を有し、
前記電極ユニットは、
第１の電極構成部と、
前記第１の電極構成部の下方に設けられる第２の電極構成部と、
前記第２の電極構成部の下方に設けられ、前記導体収容空間内に収容される基準電位導体とを備え、
前記第１の電極構成部は、第１の電極用誘電体膜と前記第１の電極用誘電体膜の上面上に形成される第１の電極用導電膜とを含み、
前記第２の電極構成部は、第２の電極用誘電体膜と前記第２の電極用誘電体膜の下面上に形成される第２の電極用導電膜とを含み、
前記基準電位導体は、上部に活性ガス用バッファ空間を有し、前記第２の電極構成部は前記活性ガス用バッファ空間を塞いで配置され、
前記第２の電極用誘電体膜は平面視して前記活性ガス用バッファ空間と重複する領域に、前記第２の電極用誘電体膜を貫通する誘電体貫通口を有し、前記第２の電極用導電膜は平面視して前記活性ガス用バッファ空間と重複する領域に導電膜開口部を有し、前記導電膜開口部は平面視して前記誘電体貫通口と重複し、
前記筐体底部は外部から原料ガスを受けるガス流路を有し、
前記基準電位導体と前記筐体の前記導体収容空間との間に原料ガス用流通空間が設けられ、
前記第１の電極用誘電体膜と前記第２の電極用誘電体膜とが対向する空間が主要誘電体空間として規定され、
前記放電空間は、前記主要誘電体空間内において前記第１及び第２の電極用導電膜が平面視して重複する領域である主要放電空間を含み、
原料ガスは前記ガス流路及び前記原料ガス用流通空間を介して前記放電空間に導かれ、
前記第１の電極用導電膜に交流電圧が印加され、前記筐体及び前記基準電位導体を介して前記第２の電極用導電膜が基準電位に設定され、
前記活性ガス生成装置は、
前記筐体の前記平坦面上に設けられ、前記第１の電極用誘電体膜を下方から支持する支持面を有する誘電体膜支持部材と、
前記第１の電極用誘電体膜を上方から抑圧するための誘電体膜抑圧部材とをさらに備え、前記誘電体膜抑圧部材は平面視して前記第１の電極用導電膜と重複せず、
前記誘電体膜抑圧部材の下面は、前記第１の電極用誘電体膜の上面と接触する誘電体接触領域と前記第１の電極用誘電体膜の上面と接触しない誘電体非接触領域と有し、前記誘電体接触領域は平面視して前記第１の電極用誘電体膜の周辺領域及び前記誘電体膜支持部材の前記支持面と重複し、前記誘電体非接触領域は平面視して前記第１の電極用誘電体膜の中間領域と重複し、前記中間領域は前記周辺領域から前記第１の電極用導電膜側に隣接する領域であり、
前記誘電体膜抑圧部材は導電性を有し、前記基準電位に設定され、
前記第１の電極用誘電体膜は、前記誘電体接触領域において上方から前記誘電体膜抑圧部材によって抑圧される、
活性ガス生成装置。
【請求項2】
請求項１記載の活性ガス生成装置であって、前記原料ガス用流通空間は、
前記基準電位導体の下面側に設けられ、前記ガス流路を介して原料ガスを受ける原料ガスバッファ空間と、
前記基準電位導体の下面側に設けられ、前記原料ガスバッファ空間に繋がるスリット空間と、
前記基準電位導体の側面側に設けられ、前記スリット空間に繋がる側面空間とを含み、前記原料ガスバッファ空間、前記スリット空間及び前記側面空間を経由して、原料ガスは前記放電空間に導かれ、
前記スリット空間は、前記原料ガスバッファ空間で原料ガスが一時的に滞留した後、前記スリット空間を流れるように、前記原料ガスバッファ空間と比較的して原料ガスが流れにくい空間に設定される、
活性ガス生成装置。
【請求項3】
請求項１または請求項２記載の活性ガス生成装置であって、前記第２の電極用導電膜における前記導電膜開口部の外周線が電極境界線として規定され、
前記第２の電極構成部は、前記活性ガス用バッファ空間内において前記第２の電極用導電膜の前記電極境界線を覆うカバー誘電体膜をさらに含み、前記カバー誘電体膜は平面視して前記誘電体貫通口と重複する領域に前記カバー誘電体膜を貫通するカバー貫通口を有し、
前記活性ガス生成装置は、
前記活性ガス用バッファ空間の底面上において、平面視して前記誘電体貫通口及び前記カバー貫通口に重複する領域に設けられるシールド誘電体膜と、
前記シールド誘電体膜の周辺領域において前記基準電位導体を貫通して設けられるガス噴出口とをさらに備え、前記ガス噴出口は平面視して前記カバー誘電体膜と重複し、かつ、平面視して前記誘電体貫通口及び前記カバー貫通口と重複せず、
前記放電空間は、前記主要放電空間に加え、前記誘電体貫通口、前記カバー貫通口及び前記活性ガス用バッファ空間の一部を含む補助放電空間を有し、
前記補助放電空間から前記ガス噴出口に至る経路が活性ガス流通経路として規定される、
活性ガス生成装置。
【請求項4】
請求項３記載の活性ガス生成装置であって、前記筐体の前記筐体底部は前記活性ガス用バッファ空間と平面視して重複する領域に筐体開口部を有し、前記ガス噴出口から噴出される活性ガスは、前記筐体開口部を介して下方に導かれ、
前記筐体開口部は下方に向かうに従い開口面積が広くなるテーパー形状を有する、
活性ガス生成装置。
【請求項5】
請求項１または請求項２記載の活性ガス生成装置であって、前記電極ユニットは複数の電極ユニットを含み
前記筐体の前記筐体底部は内部に冷媒を流す冷却路を有し、前記冷却路は前記複数の電極ユニットそれぞれの前記基準電位導体の下方に設けられる、
活性ガス生成装置。
【請求項6】
請求項１または請求項２記載の活性ガス生成装置であって、前記第１の電極用導電膜の上面と前記第１の電極用誘電体膜の下面とは導電性を有する液体を介して接触関係を有し、
前記第１の電極用導電膜は給電体であり、
前記給電体は、
内部に設けられ、冷媒を流す冷媒流路と、
外部より冷媒を受け、前記冷媒流路に冷媒を供給するための冷媒入口と、
前記冷媒流路を流れた冷媒を外部に冷媒を排出するための冷媒出口とを有し、
前記活性ガス生成装置は、
前記交流電圧を印加する交流電源と、
各々が導電性を有し、かつ前記交流電圧を受ける第１及び第２の電流導入部材と備え、前記第１及び第２の電流導入部材はそれぞれ冷媒を輸送可能な導通管を有し、
前記第１の電流導入部材は、前記給電体と電気的接続関係を有し、かつ、前記導通管を介して前記冷媒入口から前記冷媒流路に冷媒が供給できるように前記給電体に接続され、
前記第２の電流導入部材は、前記給電体と電気的接続関係を有し、かつ、前記冷媒出口から前記導通管を介して外部へ冷媒の排出ができるように前記給電体に接続される、
活性ガス生成装置。
【請求項7】
請求項６記載の活性ガス生成装置であって、前記電極ユニットは第１及び第２の電極ユニットを含み、
前記第１の電極ユニットの前記冷媒流路、前記冷媒入口及び前記冷媒出口は、第１の冷媒流路、第１の冷媒入口及び第１の冷媒出口と規定され、
前記第２の電極ユニットの前記冷媒流路、前記冷媒入口及び前記冷媒出口は、第２の冷媒流路、第２の冷媒入口及び第２の冷媒出口と規定され、
前記活性ガス生成装置は、
導電性を有し、内部に設けられる中継用冷媒流路と、各々が上面から下面を貫通して設けられる第１及び第２の貫通流路とを含む冷媒中継部材と、
各々が導電性を有し、かつ、各々が冷媒輸送機能を有する第１～第４の中継導通管とをさらに備え、
前記第１～第４の中継導通管は第１～第４の冷媒流通条件を満足するように、前記冷媒中継部材と前記第１及び第２の電極ユニットそれぞれの前記給電体との間に配置され、
前記第１の冷媒流通条件は、前記第１の貫通流路及び前記第１の中継導通管を介して、前記第１の電流導入部材と前記第１の冷媒入口との間に冷媒が流れる条件であり、
前記第２の冷媒流通条件は、前記第２の中継導通管を介して、前記第１の冷媒出口と前記中継用冷媒流路との間に冷媒が流れる条件であり、
前記第３の冷媒流通条件は、前記第３の中継導通管を介して、前記中継用冷媒流路と前記第２の冷媒入口との間に冷媒が流れる条件であり、
前記第４の冷媒流通条件は、前記第４の中継導通管及び前記第２の貫通流路を介して、前記第２の冷媒出口と前記第２の電流導入部材との間に冷媒が流れる条件である、
活性ガス生成装置。
【請求項8】
請求項６記載の活性ガス生成装置であって、前記第１の電極用誘電体膜は、平面視して前記給電体及び前記誘電体膜抑圧部材と重複しない上面上に凹凸構造を有する、
活性ガス生成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、平行平板方式の電極構造を有し、誘電体バリア放電を利用して活性ガスを生成する活性ガス生成装置に関する。
【背景技術】
【0002】
平行平板方式の電極構造を有し、誘電体バリア放電を採用した従来の活性ガス生成装置は、互いに対向する金属電極（電極用導電膜）と誘電体膜（電極用誘電体膜）との空隙、または、互いに対向する誘電体膜同士の空隙が放電空間となる。
【0003】
従来の活性ガス生成装置は、放電空間に誘電体バリア放電を発生させ、この放電空間に投入された原料ガスを活性化して活性ガスを生成するという、平行平板方式誘電体バリア放電を採用している。
【0004】
平行平板方式誘電体バリア放電を採用した活性ガス生成装置として、例えば、特許文献１で開示された活性ガス生成装置がある。
【0005】
活性ガスは一般に、活性ガスとしての寿命(活性ガスが高い反応性を保っている時間)が短く、短時間で活性ガスを使用する空間へ供給する必要がある。また、活性ガスは他の物質に衝突することでも失活することから、曲がりくねったパイプ等を経由して活性ガスを使用する空間へ供給することは望ましくない。
【0006】
このため、活性ガスを使用する空間において、処理対象物(活性ガスを吹きかける対象)が大きい場合、活性ガスを使用する空間へ供給するためのガス噴出孔を設ける第１の改良構造や、複数のガス噴出孔それぞれに対応する放電空間が複数存在する第２の改良構造を設ける必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【文献】国際公開第２０１９／１３８４５６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
上述した第１の改良構造については、一つの誘電体膜に対して複数の貫通穴を設けるという手法が採用されている。したがって、第１の改良構造では、処理対象物に合わせて誘電体膜を大きくする必要があり、装置構成が大型化するという問題点があった。
【0009】
加えて、第１の改良構造は、放電によって発生する熱の除去機構がなく、放電による発熱で誘電体膜が破損してしまうという問題点もあった。
【0010】
上述した第２の改良構造では、放電空間を複数設ける必要があるため、装置構成が大型化してしまう問題点があった。
【0011】
また、特許文献１で開示された活性ガス生成装置では、誘電体膜に差圧がかかる場合、誘電体膜を厚くするなどの対応が必要となり、誘電体膜を厚くすると必要な印加電圧が増加する。印加電圧が増加すると、不要な部位の絶縁破壊対策や、高電圧に対応するために導入端子の大型化等の措置が必要となってしまう問題点があった。
【0012】
加えて、特許文献１で開示された従来の活性ガス生成装置では、誘電体膜の冷却はパージガスによる冷却のため、冷却効率がよくないという問題点があった。なぜなら、従来の活性ガス生成装置は、空冷のため、熱除去率が低いからである。
【0013】
本開示では、上記のような問題点を解決し、少なくとも誘電体膜の絶縁破壊を防止する構造の活性ガス生成装置を提供すること目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0014】
本開示における活性ガス生成装置は、放電空間に供給された原料ガスを活性化して活性ガスを生成する活性ガス生成装置であって、電極ユニットと、筐体内空間に前記電極ユニットを収容し、導電性を有する筐体とを備え、前記筐体は、平坦面と前記平坦面から深さ方向に凹んだ導体収容空間とを含む筐体底部を有し、前記電極ユニットは、第１の電極構成部と、前記第１の電極構成部の下方に設けられる第２の電極構成部と、前記第２の電極構成部の下方に設けられ、前記導体収容空間内に収容される基準電位導体とを備え、前記第１の電極構成部は、第１の電極用誘電体膜と前記第１の電極用誘電体膜の上面上に形成される第１の電極用導電膜とを含み、前記第２の電極構成部は、第２の電極用誘電体膜と前記第２の電極用誘電体膜の下面上に形成される第２の電極用導電膜とを含み、前記基準電位導体は、上部に活性ガス用バッファ空間を有し、前記第２の電極構成部は前記活性ガス用バッファ空間を塞いで配置され、前記第２の電極用誘電体膜は平面視して前記活性ガス用バッファ空間と重複する領域に、前記第２の電極用誘電体膜を貫通する誘電体貫通口を有し、前記第２の電極用導電膜は平面視して前記活性ガス用バッファ空間と重複する領域に導電膜開口部を有し、前記導電膜開口部は平面視して前記誘電体貫通口と重複し、前記筐体底部は外部から原料ガスを受けるガス流路を有し、前記基準電位導体と前記筐体の前記導体収容空間との間に原料ガス用流通空間が設けられ、前記第１の電極用誘電体膜と前記第２の電極用誘電体膜とが対向する空間が主要誘電体空間として規定され、前記放電空間は、前記主要誘電体空間内において前記第１及び第２の電極用導電膜が平面視して重複する領域である主要放電空間を含み、原料ガスは前記ガス流路及び前記原料ガス用流通空間を介して前記放電空間に導かれ、前記第１の電極用導電膜に交流電圧が印加され、前記筐体及び前記基準電位導体を介して前記第２の電極用導電膜が基準電位に設定され、前記活性ガス生成装置は、前記筐体の前記平坦面上に設けられ、前記第１の電極用誘電体膜を下方から支持する支持面を有する誘電体膜支持部材と、前記第１の電極用誘電体膜を上方から抑圧するための誘電体膜抑圧部材とをさらに備え、前記誘電体膜抑圧部材は平面視して前記第１の電極用導電膜と重複せず、前記誘電体膜抑圧部材の下面は、前記第１の電極用誘電体膜の上面と接触する誘電体接触領域と前記第１の電極用誘電体膜の上面と接触しない誘電体非接触領域と有し、前記誘電体接触領域は平面視して前記第１の電極用誘電体膜の周辺領域及び前記誘電体膜支持部材の前記支持面と重複し、前記誘電体非接触領域は平面視して前記第１の電極用誘電体膜の中間領域と重複し、前記中間領域は前記周辺領域から前記第１の電極用導電膜側に隣接する領域であり、前記誘電体膜抑圧部材は導電性を有し、前記基準電位に設定され、前記第１の電極用誘電体膜は、前記誘電体接触領域において上方から前記誘電体膜抑圧部材によって抑圧される。
【発明の効果】
【0015】
本開示の活性ガス生成装置において、第１の電極用誘電体膜は、誘電体接触領域において上方から誘電体膜抑圧部材によって抑圧される。このため、誘電体膜抑圧部材によって第１の電極用誘電体膜に荷重がかかる領域は誘電体接触領域の下方領域のみに制限することができる。
【0016】
その結果、本開示の活性ガス生成装置は、第１の電極用誘電体膜へ不要な曲げ応力を与えることなく、誘電体膜抑圧部材の誘電体接触領域と誘電体膜支持部材の支持面との間で第１の電極用誘電体膜を固定することができる。
【0017】
さらに、基準電位に設定され、導電性を有する誘電体膜抑圧部材の誘電体非接触領域は、平面視して第１の電極用誘電体膜の中間領域と重複している。
【0018】
その結果、第１の電極用導電膜の電界強度を緩和して第１の電極用誘電体膜の中間領域の電位を低下させることができるため、本開示の活性ガス生成装置における電極ユニットは、第１の電極用誘電体膜と誘電体膜支持部材との空隙における絶縁破壊を防止することができる。
【0019】
本開示の目的、特徴、局面、および利点は、以下の詳細な説明と添付図面とによって、より明白となる。
【図面の簡単な説明】
【0020】
【図1】本開示の実施の形態１である活性ガス生成装置の平面構造を模式的に示す平面図である。
【図3】電極ユニットの平面構造を模式的に示す説明図（その１）である。
【図5】電極ユニットの平面構造を模式的に示す説明図（その２）である。
【図7】筐体の平面構造を模式的に示す説明図である。
【図8】筐体の断面構造を模式的に示す説明図である。
【図9】高圧側誘電体膜の平面構造を模式的に示す説明図である。
【図10】高圧側誘電体膜の断面構造を模式的に示す説明図である。
【図11】接地側誘電体膜の平面構造を模式的に示す説明図である。
【図12】接地側誘電体膜の断面構造を模式的に示す説明図である。
【図13】給電体の平面構造を模式的に示す説明図である。
【図14】給電体の断面構造を模式的に示す説明図である。
【図15】接地導体の平面構造を模式的に示す説明図である。
【図16】接地導体の断面構造を模式的に示す説明図である。
【図18】カバー誘電体膜の平面構造を模式的に示す説明図である。
【図19】カバー誘電体膜の断面構造を模式的に示す説明図である。
【図20】接地側電極構成部の平面構造を模式的に示す説明図である。
【図21】接地側電極構成部の断面構造を模式的に示す説明図である。
【図22】シールド誘電体膜の平面構造を模式的に示す説明図である。
【図23】シールド誘電体膜の断面構造を模式的に示す説明図である。
【図24】誘電体膜支持部材の平面構造を模式的に示す説明図である。
【図25】誘電体膜支持部材の断面構造を模式的に示す説明図である。
【図26】誘電体膜抑圧部材の平面構造を模式的に示す説明図である。
【図27】誘電体膜抑圧部材の断面構造を模式的に示す説明図である。
【図29】押圧部材の平面構造を模式的に示す説明図である。
【図30】押圧部材の断面構造を模式的に示す説明図である。
【図31】本開示の実施の形態２である活性ガス生成装置の平面構造を模式的に示す平面図である。
【図33】実施の形態３の活性ガス生成装置における電極ユニットで用いられる給電体の平面構造を模式的に示す説明図である。
【図35】実施の形態３の基本構成における冷媒機能を模式的に示す説明図である。
【図36】実施の形態３の変形例における冷媒機能を模式的に示す説明図である。
【図37】実施の形態４の活性ガス生成装置における電極ユニットの断面構造を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【0021】
＜実施の形態１＞
図１は本開示の実施の形態１である活性ガス生成装置７１の平面構造を模式的に示す平面図である。
図１は本開示の実施の形態１である活性ガス生成装置７１の平面構造を模式的に示す平面図である。
【0022】
同図に示すように、活性ガス生成装置７１において、筐体１内に３つの電極ユニット５１～５３が収容されている。電極ユニット５１～５３それぞれにガス流路２１を介して原料ガスＧ１が供給される。そして、電極ユニット５１～５３それぞれは、放電空間４に供給された原料ガスＧ１を活性化して活性ガスＧ２を生成している。
【0023】
図２は図１のＡ－Ａ断面の断面構造を示す断面図である。図３～図６は電極ユニット５０の構造を部分的に説明する説明図である。なお、電極ユニット５０は電極ユニット５１～５３のいずれかに相当する。なお、電極ユニット５１～５３は互いに同一構造を呈している。
【0024】
【0025】
【0026】
【0027】
【0028】
【0029】
【0030】
図１５～図１７はそれぞれ接地導体６の構造を模式的に示す説明図である。図１５は接地導体６の平面構造を示しており、図１６は接地導体６の断面構造を示しており、図１７は図１６の着目領域Ｒ１における詳細を示している。
【0031】
【0032】
図２０及び図２１はそれぞれ接地側電極構成部Ｅ２の構造を模式的に示す説明図である。図２０は接地側電極構成部Ｅ２の平面構造を示しており、図２１は接地側電極構成部Ｅ２の断面構造を示している。接地側電極構成部Ｅ２は接地側誘電体膜３、導電膜７及びカバー誘電体膜８の組合せ構造を含んでいる。
【0033】
【0034】
【0035】
図２６～図２８はそれぞれ誘電体膜抑圧部材１１の構造を模式的に示す説明図である。図２６は誘電体膜抑圧部材１１の平面構造を示しており、図２７は誘電体膜抑圧部材１１の断面構造を示しており、図２８は図２７の着目領域Ｒ２における詳細を示している。
【0036】
【0037】
なお、図１～図３０はそれぞれ活性ガス生成装置７１、電極ユニット５０または電極ユニット５０の構成部品を模式的に示しており、縮尺を含む形状は図１～図３０間で必ずしも一致しない。また、図１～図３０それぞれにＸＹＺ直交座標系を記している。
【0038】
【0039】
（全体構造）
図１に示すように、活性ガス生成装置７１は、複数の電極ユニットとして電極ユニット５１～５３と、筐体内空間Ｓ１（図８参照）に電極ユニット５１～５３を収容し、導電性を有する筐体１とを備えている。
図１に示すように、活性ガス生成装置７１は、複数の電極ユニットとして電極ユニット５１～５３と、筐体内空間Ｓ１（図８参照）に電極ユニット５１～５３を収容し、導電性を有する筐体１とを備えている。
【0040】
【0041】
図８に示すように、筐体１は筐体底部１ａ、筐体側部１ｂ及び筐体上部１ｃを有し、筐体底部１ａ、筐体側部１ｂ及び筐体上部１ｃによって、電極ユニット５１～５３を内部に収容する筐体内空間Ｓ１を形成している。
【0042】
電極ユニット５１～５３はそれぞれ接地導体６が導体収容空間６Ｓ内に配置される態様で筐体１の筐体内空間Ｓ１内に収容される。図７に示すように、外部により供給される原料ガスＧ１は、筐体底部１ａ内に設けられたガス流路２１を介して導体収容空間６Ｓ内に配置された接地導体６の下面及び側面に設けられる原料ガス用流通空間に供給される。
【0043】
電極ユニット５１（５０）は、第１の電極構成部である高圧側電極構成部Ｅ１と、第１の電極構成部である高圧側電極構成部Ｅ１の下方に設けられる第２の電極構成部である接地側電極構成部Ｅ２とを備えている。
【0044】
電極ユニット５１は、第２の電極構成部である接地側電極構成部Ｅ２の下方に設けられ、導体収容空間６Ｓ内に収容される基準電位導体である接地導体６をさらに備えている。接地導体６は金属等の導電体を構成材料としている。
【0045】
高圧側電極構成部Ｅ１は第１の電極用誘電体膜である高圧側誘電体膜２と高圧側誘電体膜２の上面上に形成される第１の電極用導電膜である給電体５とを含んでいる。なお、第１の電極用導電膜である給電体５は、第１の電極用誘電体膜である高圧側誘電体膜２の中央に設けられた給電体配置用凹部２８上に設けられる。
【0046】
高圧側誘電体膜２は誘電体を構成材料としており、給電体５は金属等の導電体を構成材料としている。例えば、給電体５は金属製で構成される。
【0047】
接地側電極構成部Ｅ２は、第２の電極用誘電体膜である接地側誘電体膜３と接地側誘電体膜３の下面上に形成される第２の電極用導電膜である導電膜７とを含んでいる。なお、導電膜７の膜厚は薄いため、図２等では図示が省略され、図２０及び図２１で導電膜７の形成領域が示されている。
【0048】
接地側誘電体膜３は誘電体を構成材料としており、導電膜７は金属等の導電体を構成材料としている。
【0049】
基準電位導体である接地導体６は、上部に非貫通の活性ガス用バッファ空間９Ｓを有し、接地側電極構成部Ｅ２は活性ガス用バッファ空間９Ｓを塞いで配置される。したがって、活性ガス用バッファ空間９Ｓ外において、導電膜７の下面と接地導体６の上面とが接触関係を有する。
【0050】
第２の電極用誘電体膜である接地側誘電体膜３は平面視して活性ガス用バッファ空間９Ｓと重複する領域に、接地側誘電体膜３を貫通する誘電体貫通口３ｈを有し、第２の電極用導電膜である導電膜７は平面視して活性ガス用バッファ空間９Ｓと重複する領域に導電膜開口部７ｈを有し、導電膜開口部７ｈは平面視して誘電体貫通口３ｈと重複している。
【0051】
筐体１の筐体底部１ａは外部から原料ガスＧ１を受けるガス流路２１を有し、接地導体６と筐体１の導体収容空間６Ｓとの間に原料ガス用流通空間が設けられる。原料ガス用流通空間は後述するように、原料ガスバッファ空間６１、スリット空間６２及び側面空間６３を含んでいる。
【0052】
原料ガスＧ１はガス流路２１及び上記原料ガス用流通空間を介して、放電空間４の主要放電空間に導かれる。なお、主要放電空間は、後述するように、高圧側誘電体膜２と接地側誘電体膜３との間の誘電体空間１８内における放電空間４を意味する。
【0053】
交流電源１５から印加される交流電圧は、電気配線や導入端子等の電気的接続手段を介して、第１の電極用導電膜である給電体５に印加される。なお、電気的接続手段を示す図示は図２等では省略している。
【0054】
一方、筐体１は基準電位である接地電位に設定される。したがって、筐体１及び接地導体６を介して第２の電極用導電膜である導電膜７が接地電位に設定される。
【0055】
電極ユニット５１（５０）は、さらに誘電体膜支持部材１０、誘電体膜抑圧部材１１及び押圧部材１２等の補助部材を備えている。
【0056】
（高圧側誘電体膜２の固定）
誘電体膜支持部材１０の段差部１０２は、筐体１の平坦面１Ｆ上に設けられ、高圧側誘電体膜２を下方から支持する支持面１０Ｆとなる上面を有している。この際、誘電体膜支持部材１０の側面と筐体１の筐体底部１ａの導体収容空間６Ｓの側面とが一致するように、誘電体膜支持部材１０は平坦面１Ｆ上に配置される。
誘電体膜支持部材１０の段差部１０２は、筐体１の平坦面１Ｆ上に設けられ、高圧側誘電体膜２を下方から支持する支持面１０Ｆとなる上面を有している。この際、誘電体膜支持部材１０の側面と筐体１の筐体底部１ａの導体収容空間６Ｓの側面とが一致するように、誘電体膜支持部材１０は平坦面１Ｆ上に配置される。
【0057】
誘電体膜抑圧部材１１は、高圧側誘電体膜２を上方から抑圧するための部材であり、平面視して給電体５と重複しない。すなわち、高圧側誘電体膜２の上面に、誘電体膜抑圧部材１１及び給電体５が形成されていない露出領域ＥＸ２が存在する。
【0058】
図６、図２７及び図２８に示すように、誘電体膜抑圧部材１１の下面は、高圧側誘電体膜２の上面と接触する誘電体接触領域１１２と高圧側誘電体膜２の上面と接触しない誘電体非接触領域１１１と有している。誘電体接触領域１１２は高圧側誘電体膜２と接して荷重を加える領域となり、誘電体非接触領域１１１は高圧側誘電体膜２とは接触関係を有することなく、高圧側誘電体膜２の上面上で給電体５側にせり出す領域となる。
【0059】
誘電体接触領域１１２は平面視して高圧側誘電体膜２の周辺領域及び誘電体膜支持部材１０の支持面１０Ｆと重複し、誘電体非接触領域１１１は平面視して高圧側誘電体膜２膜の周辺領域より内側の中間領域と重複している。すなわち、中間領域は高圧側誘電体膜２の周辺領域から給電体５側に隣接する領域となる。
【0060】
誘電体膜抑圧部材１１は金属等で構成され、導電性を有し、筐体１、取付用ボルト３１、及び押圧部材１２を介して基準電位である接地電位に設定される。取付用ボルト３１及び押圧部材１２も導電性を有している。
【0061】
したがって、高圧側誘電体膜２は、誘電体接触領域１１２において上方から誘電体膜抑圧部材１１によって抑圧される。以下、誘電体膜支持部材１０、誘電体膜抑圧部材１１及び押圧部材１２の組合せ構造について詳述する。
【0062】
図２に示すように、誘電体膜支持部材１０の上面上に押圧部材１２が配置され、取付用ボルト３１によって押圧部材１２及び誘電体膜支持部材１０が筐体１の筐体底部１ａ上に固定される。
【0063】
図２４及び図２５に示すように、誘電体膜支持部材１０は平面視して中央に中央開口部１００を有する円状を呈している。中央開口部１００の周辺に段差部１０２と周辺部上面１０１とからなる段差構造が円環状に設けられる。段差部１０２の上面が支持面１０Ｆとなる。段差部１０２（支持面１０Ｆ）の外周側の周辺部上面１０１に複数の貫通口１０ｈが離散して円状に設けられる。
【0064】
一方、図９及び図１０に示すように、高圧側誘電体膜２は平面視して中央に給電体配置用凹部２８を有する円状を呈している。給電体配置用凹部２８の周辺に円環状に周辺表面領域２７が設けられる。また、高圧側誘電体膜２は平面視して円状の凹部底面２６を有し、凹部底面２６の周辺の底面が平面視して円環状の凸部底面２３となる。
【0065】
【0066】
第１の電極用導電膜である給電体５には交流電源１５より交流電圧が印加される。なお、図５に示すように、給電体配置用凹部２８は平面視して給電体５を含み、給電体５より少し広い平面形状を有している。
【0067】
高圧側誘電体膜２は誘電体膜支持部材１０の支持面１０Ｆと高圧側誘電体膜２の凸部底面２３とが接触する態様で、高圧側誘電体膜２は誘電体膜支持部材１０上に配置される。高圧側誘電体膜２と誘電体膜支持部材１０とは、図示しないＯリング等のシール材を介して接触させている。
【0068】
また、図２６及び図２７に示すように、誘電体膜抑圧部材１１は平面視して中央に中央開口部１１０を有する円状を呈している。中央開口部１１０の外周側に設けられる円環状の下面領域が誘電体非接触領域１１１となり、誘電体非接触領域１１１の外周側に設けられる円環状の下面領域が誘電体接触領域１１２となる。
【0069】
図２８に示すように、誘電体接触領域１１２は誘電体非接触領域１１１より下方（－Ｚ方向）に突出しており、高圧側誘電体膜２の上面Ｕ２と接触関係を有する。一方、誘電体非接触領域１１１は高圧側誘電体膜２の上面Ｕ２との間に隙間ＳＰ１１が存在するため、高圧側誘電体膜２の上面Ｕ２と非接触となる。
【0070】
図２９及び図３０に示すように、押圧部材１２は平面視して中央に中央開口部１２０を有する円状を呈している。中央開口部１２０の外周側の外周領域１２５に複数の内側貫通口１２１ｈが離散して円状に設けられ、複数の内側貫通口１２１ｈの外周側に複数の外側貫通口１２２ｈが離散して円状に設けられる。
【0071】
このように、押圧部材１２の外周領域１２５に複数の内側貫通口１２１ｈと複数の外側貫通口１２２ｈとが設けられる。なお、複数の内側貫通口１２１ｈはそれぞれタップを切った貫通口となる。
【0072】
上述した構造の押圧部材１２の外周領域１２５の一部が誘電体膜支持部材１０上に載置され、複数の取付用ボルト３１によって、誘電体膜支持部材１０及び押圧部材１２は筐体１の筐体底部１ａに固定される。複数の取付用ボルト３１のねじ部は複数の外側貫通口１２２ｈ及び複数の貫通口１０ｈを貫通し、筐体底部１ａに取り付けられる。
【0073】
【0074】
一方、押圧部材１２の複数の内側貫通口１２１ｈを貫通させる態様で複数の抑圧補助部材３２を押圧部材１２に取り付けている。抑圧補助部材３２としてボルトや止めねじ等を考えられる。複数の抑圧補助部材３２によって誘電体膜抑圧部材１１を押圧するように、複数の抑圧補助部材３２が複数の内側貫通口１２１ｈ内に取り付ける。複数の抑圧補助部材３２は平面視して誘電体膜抑圧部材１１の誘電体接触領域１１２と高圧側誘電体膜２の凸部底面２３と重複する位置に設けられる。
【0075】
したがって、複数の抑圧補助部材３２の押圧力を受ける誘電体膜抑圧部材１１によって、上方の誘電体接触領域１１２から高圧側誘電体膜２が抑圧される。
【0076】
上述したように、実施の形態１の活性ガス生成装置７１の電極ユニット５０において、第１の電極用誘電体膜である高圧側誘電体膜２は、複数の抑圧補助部材３２の押圧力を受ける誘電体膜抑圧部材１１によって、上方の誘電体接触領域１１２から抑圧される。このため、誘電体膜抑圧部材１１によって高圧側誘電体膜２に荷重がかかる領域は誘電体接触領域１１２の下方領域のみに制限することができる。
【0077】
その結果、実施の形態１の活性ガス生成装置７１は、高圧側誘電体膜２に不要な曲げ応力を与えることなく、誘電体膜抑圧部材１１の誘電体接触領域１１２と誘電体膜支持部材１０の支持面１０Ｆとの間で高圧側誘電体膜２を安定性良く固定することができる。
【0078】
誘電体膜抑圧部材１１は、基準電位である接地電位に設定され、導電性を有している。誘電体膜抑圧部材１１の誘電体非接触領域１１１は、平面視して高圧側誘電体膜２の中間領域と重複している。
【0079】
したがって、電極ユニット５０は、誘電体非接触領域１１１を有する誘電体膜抑圧部材１１によって給電体５の電界強度を緩和して高圧側誘電体膜２の中間領域の電位を低下させることができるため、高圧側誘電体膜２と接地側誘電体膜３との外径方向の電位を低下させることができる。
【0080】
その結果、実施の形態１の活性ガス生成装置７１における電極ユニット５０は、高圧側誘電体膜２と誘電体膜支持部材１０との空隙２０における絶縁破壊を確実に防止することができる。
【0081】
【0082】
原料ガスバッファ空間６１は平面して円環状に形成されており、図２に示すように、ガス流路２１と繋がっており、外部から供給される原料ガスＧ１をガス流路２１を介して原料ガスバッファ空間６１内に取り込むことができる。
【0083】
原料ガスバッファ空間６１の周辺に複数のスリット空間６２が離散して設けられる。図１７に示すように、複数のスリット空間６２はそれぞれ原料ガスバッファ空間６１と繋がっており、原料ガスバッファ空間６１からスリット空間６２にかけて原料ガスＧ１を流通されることができる。
【0084】
【0085】
【0086】
このように、原料ガスバッファ空間６１は、接地導体６の下面側に設けられ、ガス流路２１介して原料ガスＧ１を受けている。複数のスリット空間６２はそれぞれ、接地導体６の下面側に設けられ、原料ガスバッファ空間６１に繋がっている。
【0087】
側面空間６３は、接地導体６の側面側に設けられ、複数の前記スリット空間に繋がっている。上述したように、原料ガス用流通空間は、原料ガスバッファ空間６１、複数のスリット空間６２及び側面空間６３を含んでいる。
【0088】
したがって、外部からガス流路２１に供給される原料ガスＧ１は、原料ガスバッファ空間６１、スリット空間６２及び側面空間６３を経由して、放電空間４に導かれる。
【0089】
複数のスリット空間６２はそれぞれ、原料ガスＧ１が原料ガスバッファ空間６１で一時的に滞留した後、複数のスリット空間６２それぞれに流れるように、原料ガスバッファ空間６１と比較的して原料ガスが流れにくい狭い空間に設定される。すなわち、複数のスリット空間６２は、原料ガスバッファ空間６１や側面空間６３と比較して原料ガスＧ１の流れ易さを表す係数であるコンダクタンスを小さくしている。
【0090】
その結果、実施の形態１の活性ガス生成装置７１は、放電空間４へ原料ガスＧ１を空間的に均一に供給することができる。すなわち、平面視して円状の誘電体空間１８の周辺部から中心の放電空間４に向かって均一に原料ガスＧ１が供給される。
【0091】
スリット空間６２のコンダクタンスを下げることによって、原料ガスバッファ空間６１と側面空間６３との差圧が大きくなり、複数のスリット空間６２それぞれを流れる原料ガスＧ１の流量のばらつきが低減化される。したがって、原料ガスＧ１は放電空間４に向けて均一に供給される。なお、原料ガスＧ１の流量は、例えば、ガス流路２１の上流に設けられたマスフローコントローラー(MFC)等よって調整される。
【0092】
したがって、一般的な活性ガス生成装置は、原料ガスＧ１が均一に供給されないと、原料ガスＧ１が放電空間４を通過する時間が変わる結果、活性ガスＧ２の生成効率が悪化する不具合が生じる。実施の形態１の活性ガス生成装置７１は、原料ガスＧ１を均一に供給することができるため、上記した不具合は生じない。
【0093】
（接地側電極構成部Ｅ２と活性ガス用バッファ空間９Ｓ）
上述したように、第２の電極構成部である接地側電極構成部Ｅ２は接地側誘電体膜３及び導電膜７を含んでいる。
上述したように、第２の電極構成部である接地側電極構成部Ｅ２は接地側誘電体膜３及び導電膜７を含んでいる。
【0094】
【0095】
図１８及び図１９に示すように、カバー誘電体膜８は平面視して円状を呈しており、中央に円状のカバー貫通口８ｈを有している。なお、カバー誘電体膜８は接地側誘電体膜３と同じ構成材料を用いることが望ましい。これは、カバー誘電体膜８と接地側誘電体膜３との間で熱膨張係数が異なる場合に、歪が生じることを防ぐためである。また、熱膨張係数が近い材料を、カバー誘電体膜８及び接地側誘電体膜３それぞれの材料として選択しても良い。
【0096】
【0097】
誘電体貫通口３ｈ及び導電膜開口部７ｈはそれぞれ平面視して活性ガス用バッファ空間６８と重複しており、図２１に示すように、導電膜開口部７ｈは平面視して誘電体貫通口３ｈを含み、誘電体貫通口３ｈより広い形状を呈している。
【0098】
接地側誘電体膜３及び導電膜７それぞれの中心位置を一致させた態様で接地側誘電体膜３の下面上に導電膜７が設けられる。導電膜７の径は接地側誘電体膜３の径と同程度に設定されるが、中央に誘電体貫通口３ｈより広い導電膜開口部７ｈが設けられている分、導電膜７の形成面積は接地側誘電体膜３の形成面積より狭い。
【0099】
導電膜開口部７ｈの円周状の外周線となる導電膜内側境界７ｅは、導電膜７における導誘電体貫通口３ｈ側の端部となり、導電膜内側境界７ｅより内側の領域には導電膜７が形成されていない。導電膜内側境界７ｅが導電膜７の電極境界線となる。したがって、図２１に示すように、接地側誘電体膜３の下面上における導電膜７の形成領域Ａ７は、接地側誘電体膜３の外周位置から導電膜内側境界７ｅに至る領域となる。
【0100】
図２０及び図２１に示すように、カバー誘電体膜８は接地側誘電体膜３の下面上から導電膜内側境界７ｅを含んで導電膜７の下面上にかけて円状に設けられる。ただし、カバー誘電体膜８は中心にカバー貫通口８ｈを有している。すなわち、導電膜７の導電膜開口部７ｈの外径は、カバー誘電体膜８の外径より短くなる寸法関係となる。
【0101】
カバー貫通口８ｈは誘電体貫通口３ｈと同程度の形状を有し、カバー貫通口８ｈは導電膜開口部７ｈに含まれ、導電膜開口部７ｈより狭い形状を有している。したがって、カバー誘電体膜８は導電膜７の導電膜内側境界７ｅ（電極境界線）を覆っている。そして、カバー誘電体膜８が覆われていない導電膜７の下面と接地導体６の上面とが接触関係を有することになる。
【0102】
【0103】
【0104】
【0105】
【0106】
シールド誘電体膜９は、活性ガス用バッファ空間６８及びシールド誘電体膜９それぞれの中心位置を一致させた態様で活性ガス用バッファ空間６８の底面６５上に設けられる。
【0107】
【0108】
図１６に示すように、活性ガス用バッファ空間６８の底面６５の周辺に接地導体６を貫通して複数のガス噴出口６９が設けられる。すなわち、平面視してシールド誘電体膜９の周辺領域に複数のガス噴出口６９が設けられる。
【0109】
このような構造の実施の形態１の活性ガス生成装置７１において、原料ガスＧ１は金属筐体２の外部から、前述したように、ガス流路２１及び原料ガス用流通空間を経由して放電空間４に供給される。
【0110】
誘電体バリア放電が発生している放電空間４に原料ガスＧ１が供給されると、原料ガスＧ１は活性化され活性ガスＧ２となり、誘電体貫通口３ｈ及びカバー貫通口８ｈを通過して活性ガス用バッファ空間６８に導入される。活性ガス用バッファ空間６８内に入った活性ガスＧ２は、活性ガス用バッファ空間６８の底面に設けられた複数のガス噴出口６９を通過して後段の処理空間に供給される。
【0111】
このような構成の実施の形態１の活性ガス生成装置７１において、第１の電極用誘電体膜である高圧側誘電体膜２と、第２の電極用誘電体膜である接地側誘電体膜３とが対向する主要誘電体空間が誘電体空間１８となる。誘電体空間１８は平面視して円状を呈している。また、高圧側誘電体膜２とシールド誘電体膜９とが対向する空間が補助誘電体空間として規定される。放電空間４は、誘電体空間１８内において給電体５と導電膜７とが平面視して重複する主要放電空間を含んでいる。
【0112】
上記主要放電空間を形成するために、高圧側誘電体膜２と接地側誘電体膜３が高さ方向（Ｚ方向）に一定の距離となるように対応して設置されており、高圧側誘電体膜２と接地側誘電体膜３との間の誘電体空間１８内に放電空間４の上記主要放電空間が存在している。
【0113】
放電空間４は、さらに、上記補助誘電体空間内において誘電体貫通口３ｈ、カバー貫通口８ｈ、及びシールド誘電体膜９上の活性ガス用バッファ空間６８の一部からなる補助放電空間４４を含んでいる。
【0114】
接地導体６において底面６５下の底面領域を接地電位に設定された接地電極用導電膜として用い、交流電源１５より交流電圧を受ける給電体５と上記接地電極用導電膜との間に放電電圧を印加することにより、補助放電空間４４を生成することができる。
【0115】
前述したように、補助放電空間４４は誘電体貫通口３ｈ、カバー貫通口８ｈ及び活性ガス用バッファ空間６８の一部を含んでいる。このように、実施の形態１で形成される放電空間４は、誘電体空間１８内の主要放電空間及び補助放電空間４４を含んでいる。
【0116】
実施の形態１の活性ガス生成装置５１において、補助放電空間４４から複数のガス噴出口６９それぞれに至る経路が活性ガス流通経路として規定される。
【0117】
実施の形態１の活性ガス生成装置７１において、放電空間４の一部である補助放電空間４４は誘電体貫通口３ｈとカバー貫通口８ｈと活性ガス用バッファ空間６８の一部とを含んでいるため、補助放電空間４４から複数のガス噴出口６９に至る活性ガス流通経路を必要最小限の体積に抑えて活性ガスＧ２の失活量を抑制することができる。
【0118】
さらに、電極ユニット５０の接地側電極構成部Ｅ２におけるカバー誘電体膜８は、活性ガス用バッファ空間６８内において導電膜７の電極境界線である導電膜内側境界７ｅを覆い、かつ、平面視して複数のガス噴出口６９と重複しているため、活性ガスＧ２が導電膜７に衝突することに伴い活性ガスＧ２が消失する表面失活現象を抑制することができる。
【0119】
その結果、実施の形態１の活性ガス生成装置７１は、高濃度な活性ガスＧ２を複数のガス噴出口６９から後段の処理空間に供給することができる。
【0120】
実施の形態１の電極ユニット５０は、上記述した構造を有することにより、放電空間４に面する部分は絶縁体である誘電体を構成材料とした部品（高圧側誘電体膜２，接地側誘電体膜３，カバー誘電体膜８及びシールド誘電体膜９）のみとなる。金属材料が放電に面すると容易にイオン化し、ガス中に金属イオンが含まれることとなり、コンタミネーションの原因となる。一方、誘電体は放電に面しても容易にイオン化はしないため、ガス中へのコンタミネーションを防止することができる。
【0121】
（筐体開口部４１）
図２に示すように、筐体１の筐体底部１ａは筐体開口部４１を有している。筐体開口部４１は活性ガス用バッファ空間６８と平面視して重複する領域に設けられ、筐体底部１ａを貫通している。
図２に示すように、筐体１の筐体底部１ａは筐体開口部４１を有している。筐体開口部４１は活性ガス用バッファ空間６８と平面視して重複する領域に設けられ、筐体底部１ａを貫通している。
【0122】
したがって、複数のガス噴出口６９噴出される活性ガスＧ２は、筐体開口部４１を介して下方の処理空間に導かれる。
【0123】
【0124】
実施の形態１の活性ガス生成装置７１において、筐体１の筐体底部１ａに設けられる筐体開口部４１は下方に向かうに従い開口面積が広くなるテーパー形状を有している。
【0125】
このため、実施の形態１の活性ガス生成装置７１は、複数のガス噴出口６９から噴出される活性ガスＧ２が筐体底部１ａに衝突することによる損失を最小限に抑え、高濃度な活性ガスＧ２を下方の処理空間に供給することができる。
【0126】
【0127】
【0128】
実施の形態２の活性ガス生成装置７２において、筐体１Ｘの筐体内空間Ｓ１に複数の電極ユニットである３つの電極ユニット５１～５３が収容されている。電極ユニット５１～５３それぞれにガス流路２１を介して原料ガスＧ１が供給される。
【0129】
さらに、活性ガス生成装置７２の筐体１Ｘの筐体底部１ａにおいて、ガス流路２１に加え、冷媒を流す冷却路２２をさらに設けている。図３１及び図３２に示すように、冷却路２２は電極ユニット５１～５３それぞれの接地導体６の下方に設けられる。すなわち、冷却路２２と電極ユニット５１～５３それぞれの接地導体６とは平面視して重複している。
【0130】
上記構成の実施の形態２の活性ガス生成装置７２は、実施の形態１の効果に加え、以下の効果を奏する。
【0131】
実施の形態２の活性ガス生成装置７２において、筐体１Ｘの筐体底部１ａは冷媒を流す冷却路２２を有しているため、電極ユニット５１～５３それぞれの接地導体６及び接地導体６の上方に配置される接地側誘電体膜３を冷却することができる。
【0132】
したがって、放電空間４における誘電体バリア放電によって発生した熱を、冷却された接地側誘電体膜３によって除去することができる。その結果、実施の形態２の活性ガス生成装置７２は、電極ユニット５１～５３それぞれにおいて高電力での放電が可能となり、活性ガスＧ２の高濃度化を図ることができる。
【0133】
＜実施の形態３＞
図３３及び図３４は本開示の実施の形態３である活性ガス生成装置７３の電極ユニット５１～５３それぞれで用いられる給電体５Ｂの構造を示す説明図である。図３３は給電体５Ｂの平面構造を示しており、図３４は図３３のＥ－Ｅ断面における断面構造を示している。
図３３及び図３４は本開示の実施の形態３である活性ガス生成装置７３の電極ユニット５１～５３それぞれで用いられる給電体５Ｂの構造を示す説明図である。図３３は給電体５Ｂの平面構造を示しており、図３４は図３３のＥ－Ｅ断面における断面構造を示している。
【0134】
実施の形態３の活性ガス生成装置７３は、実施の形態１と比較して、給電体５を給電体５Ｂに置き換えたことを特徴としている。したがって、活性ガス生成装置７３の全体構造及び電極ユニット５０（５Ｇ１０）の全体構造は、図１～図３０で示した実施の形態１または図３１及び図３２で示した実施の形態２の構造と同様である。
【0135】
この際、電極ユニット５０における給電体５Ｂの下面と高圧側誘電体膜２の上面とは導電性を有する液体を介して接触関係を有している。このような液体として例えば「ガリンスタン」（登録商標）が考えられる。
【0136】
以下、実施の形態１の活性ガス生成装置７１と同一の構成部分は同一符号を付して、実施の形態３の活性ガス生成装置７３の特徴部分を中心に説明する。
【0137】
第１の電極用導電膜である給電体５Ｂは、給電体５Ｂの内部に冷媒を流す冷媒流路５８を有している。図３３及び図３４に示すように、給電体５Ｂの全体に冷媒を流すべく、冷媒流路５８は平面視して蛇行させながら給電体５Ｂの大部分の領域に設けられる。
【0138】
給電体５Ｂは、外部より冷媒を受け、冷媒流路５８に冷媒を供給するための冷媒入口５６と、冷媒流路５８を流れた冷媒を外部に冷媒を排出するための冷媒出口５７とを表面に有している。
【0139】
図３５は実施の形態３の基本構成における冷媒構造を模式的に示す説明図である。図３５に示すように、冷媒は冷媒の流れＤ１に沿って外部から供給され、冷媒の流れＤ２に沿って外部に排出される。同図に示すように、冷媒機能は、電流導入部材１４Ａ及び１４Ｂと給電体５Ｂとによって実現される。
【0140】
なお、実施の形態３の基本構成では、複数の電極ユニットである電極ユニット５１～５３それぞれにおいて、図３５で示す冷却構造を設けている。
【0141】
同図に示すように、電流導入部材１４Ａ及び１４Ｂはそれぞれ筐体１（１Ｘ）の筐体上部１ｃを貫通して設けられる。第１及び第２の電流導入部材となる電流導入部材１４Ａ及び１４Ｂは同一構造である。以下、電流導入部材１４Ａ及び１４Ｂのうち電流導入部材１４Ａを代表して説明する。
【0142】
電流導入部材１４Ａは導通管１４１、フランジ１４２及び碍子１４３を主要構成要素として含んでいる。導通管１４１及びフランジ１４２はそれぞれ導電性を有し、碍子１４３は絶縁性を有している。
【0143】
導通管１４１は交流電源１５と給電体５Ｂとの電気的接続手段として用いられ、かつ、冷媒を輸送可能な貫通口を有している。
【0144】
電流導入部材１４Ａにおいて、導通管１４１と碍子１４３とが接合され、フランジ１４２と碍子１４３とが接合され、導通管１４１、フランジ１４２及び碍子１４３は一体化構造を呈している。ただし、導通管１４１とフランジ１４２との間に碍子１４３が設けられることにより、導通管１４１とフランジ１４２とが電気的に接続されることを防止している。
【0145】
電流導入部材１４Ａ及び１４Ｂはそれぞれフランジ１４２によって筐体１Ｘの筐体上部１ｃに固定される。
【0146】
第１の電流導入部材である電流導入部材１４Ａは、給電体５Ｂと電気的接続関係を有し、かつ、導通管１４１を介して冷媒入口５６から冷媒流路５８に冷媒が供給できるように給電体５Ｂに接続される。すなわち、電流導入部材１４Ａにおいて、導通管１４１によって給電体５Ｂとの電気的に接続が図られ、導通管１４１内を流れる冷媒を冷媒入口５６から冷媒流路５８に供給している。
【0147】
第２の電流導入部材である電流導入部材１４Ｂは、給電体５Ｂと電気的接続関係を有し、かつ、冷媒出口５７から導通管１４１を介して外部へ冷媒の排出ができるように給電体５Ｂに接続される。すなわち、電流導入部材１４Ｂにおいて、導通管１４１によって給電体５Ｂとの電気的に接続が図られ、導通管１４１内を流れる冷媒を外部に供給している。
【0148】
なお、電流導入部材１４Ａ及び１４Ｂそれぞれにおいて、導通管１４１と給電体５Ｂとの接続手段として、溶接による接合や継手を介した接続等が採用される。
【0149】
上記構成の実施の形態３の基本構成である活性ガス生成装置７３は、実施の形態１の効果に加え、以下の効果を奏する。
【0150】
実施の形態３の活性ガス生成装置７３において、給電体５Ｂは内部に冷媒流路５８を有しているため、冷媒入口５６から供給される冷媒を冷媒流路５８に流し、冷媒流路５８を流れた冷媒を冷媒出口５７から外部に排出して冷媒を循環させることにより、給電体５Ｂ及び給電体５Ｂの下方に設けられる高圧側誘電体膜２を冷却することができる。
【0151】
さらに、電流導入部材１４Ａ及び１４Ｂは、給電体５Ｂに交流電源１５からの交流電圧を付与する電流導入機能に加え、給電体５Ｂの冷媒流路５８に冷媒を循環される冷却構造を備えるため、部品点数を必要最小限に抑えて、電流導入部材１４Ａ及び１４Ｂそれぞれを冷却することができる。
【0152】
一般に、電流導入部材１４Ａ及び１４Ｂの許容電流は、電流導入部材１４Ａ及び１４Ｂの許容温度によって定まるため、電流導入部材１４Ａ及び１４Ｂ自体も冷却可能な構成とすることによって、細い導体からなる導通管１４１を使用した電流導入部材１４Ａ及び１４Ｂであっても、許容電流を大幅に増大させることができる。
【0153】
さらに、高圧側誘電体膜２と給電体５Ｂとの間に導電性を有する液体を設けることにより、給電体５Ｂと高圧側誘電体膜２との間の熱伝導率を向上させ、かつ、加工上の公差や面粗さにより給電体５Ｂと高圧側誘電体膜２との間に微小な隙間が生じるといった問題を解消することができる。
【0154】
以上の効果によって、実施の形態３の活性ガス生成装置７１における電極ユニット５１～５３はそれぞれ高電力での放電が可能となり、活性ガスＧ２の高濃度化が実現できる。
【0155】
（変形例）
図３６は実施の形態３の変形例である活性ガス生成装置７３Ｘにおける冷却構造を模式的に示す説明図である。
図３６は実施の形態３の変形例である活性ガス生成装置７３Ｘにおける冷却構造を模式的に示す説明図である。
【0156】
図３６では第１及び第２の電極ユニットとして電極ユニット５１及び５２を示している。以下、実施の形態１の活性ガス生成装置７１や実施の形態３の基本構成である活性ガス生成装置７３と同一の構成部分は同一符号を付して、実施の形態３の変形例である活性ガス生成装置７３Ｘの特徴部分を中心に説明する。
【0157】
以下では、説明の都合上、第１の電極ユニットである電極ユニット５１における給電体５Ｂの冷媒流路５８、冷媒入口５６及び冷媒出口５７を、第１の冷媒流路、第１の冷媒入口及び第１の冷媒出口と規定する。
【0158】
同様に、第２の電極ユニットである電極ユニット５２における冷媒流路５８、冷媒入口５６及び冷媒出口５７を、第２の冷媒流路、第２の冷媒入口及び第２の冷媒出口と規定する。
【0159】
図３６に示すように、変形例の活性ガス生成装置７３Ｘは、バッファ導体１３、及び中継導通管１３１～１３４を新たな構成要素として追加している。バッファ導体１３が冷媒中継部材となり、中継導通管１３１～１３４が第１～第４の中継導通管となる。
【0160】
冷媒中継部材であるバッファ導体１３は、導電性を有し、内部に設けられる中継用冷媒流路１３５と、各々が上面から下面を貫通して設けられる第１及び第２の貫通流路である貫通流路１３６及び１３７とを有している。
【0161】
第１～第４の中継導通管である中継導通管１３１～１３４はそれぞれ導電性を有し、かつ、冷媒輸送機能を有している。
【0162】
中継導通管１３１～１３４はそれぞれ一部が蛇腹状となっていることが望ましい。中継導通管１３１～１３４の一部を蛇腹状とする理由は、部品の公差によるバッファ導体１３と給電体５Ｂの上面との距離のズレを吸収させるため、すなわち、活性ガス生成装置７３Ｘを製作する際の公差吸収を行うためである。
【0163】
上記した公差は、中継導通管１３１～１３４の長さの公差だけでなく、給電体５Ｂの高さの公差や、給電体５の下部にある高圧側誘電体膜２等の厚さ公差が積算されて求められる。
【0164】
第１～第４の中継導通管である中継導通管１３１～１３４は以下の第１～第４の冷媒流通条件を満足するように、冷媒中継部材であるバッファ導体１３と電極ユニット５１及び５２それぞれの給電体５Ｂとの間に配置される。
【0165】
第１の冷媒流通条件…貫通流路１３６及び中継導通管１３１を介して、電流導入部材１４Ａの導通管１４１と第１の冷媒入口との間に冷媒が流れる条件、
第２の冷媒流通条件…中継導通管１３２を介して、第１の冷媒出口と中継用冷媒流路１３５との間に冷媒が流れる条件、
第３の冷媒流通条件…中継導通管１３３を介して、中継用冷媒流路１３５と第２の冷媒入口との間に冷媒が流れる条件、
第４の冷媒流通条件…中継導通管１３４及び貫通流路１３７を介して、第２の冷媒出口と電流導入部材１４Ｂの導通管１４１との間に冷媒が流れる条件、
このように、変形例である活性ガス生成装置７３Ｘでは、電極ユニット５１及び５２間で電流導入部材１４Ａ及び１４Ｂを共用している。
第２の冷媒流通条件…中継導通管１３２を介して、第１の冷媒出口と中継用冷媒流路１３５との間に冷媒が流れる条件、
第３の冷媒流通条件…中継導通管１３３を介して、中継用冷媒流路１３５と第２の冷媒入口との間に冷媒が流れる条件、
第４の冷媒流通条件…中継導通管１３４及び貫通流路１３７を介して、第２の冷媒出口と電流導入部材１４Ｂの導通管１４１との間に冷媒が流れる条件、
このように、変形例である活性ガス生成装置７３Ｘでは、電極ユニット５１及び５２間で電流導入部材１４Ａ及び１４Ｂを共用している。
【0166】
上記構成の実施の形態３の変形例である活性ガス生成装置７３Ｘは、実施の形態１及び実施の形態３の基本構成の効果に加え、以下の効果を奏する。
【0167】
実施の形態３の変形例である活性ガス生成装置７３Ｘは、上述した第１～第４の冷媒流通条件を満足するように、バッファ導体１３と電極ユニット５１及び５２それぞれの給電体５Ｂとの間に中継導通管１３１～１３４を配置している。その結果、変形例の活性ガス生成装置７３Ｘは、一つの冷媒ループに冷媒を循環させて、電極ユニット５１の給電体５Ｂと電極ユニット５２の給電体５Ｂとを併せて冷却することができる。
【0168】
なお、一つの冷媒ループは、電流導入部材１４Ａ、貫通流路１３６、中継導通管１３１、第１の冷媒入口、第１の冷媒流路、第１の冷媒出口、中継導通管１３２、中継用冷媒流路１３５、中継導通管１３３、第２の冷媒入口、第２の冷媒流路、第２の冷媒出口、中継導通管１３４、貫通流路１３７、及び電流導入部材１４Ｂを含んでいる。
【0169】
その結果、実施の形態３の変形例の活性ガス生成装置７３Ｘにおいて、比較的高価な電流導入部材１４Ａ及び１４Ｂの数を増加させることなく、バッファ導体１３と中継導通管１３１～１３４とを追加するという必要最小限の装置構成で、電極ユニット５１及び５２それぞれの給電体５Ｂ及び高圧側誘電体膜２を冷却することができる。
【0170】
なお、図３６で示した変形例は、電極ユニット５１及び５２の組合せに関する冷却構造を示したが、変形例の冷却構造を拡張して、電極ユニット５１～５３の組合せに関する冷却構造を、電流導入部材１４Ａ及び１４Ｂのみで実現することができる。
【0171】
＜実施の形態４＞
図３７は実施の形態４の活性ガス生成装置７４で用いられる電極ユニット５０Ｘの断面構造を示す説明図である。なお、電極ユニット５０Ｘは実施の形態１で示した電極ユニット５１～５３のいずれかに対応する。また、活性ガス生成装置７４の全体構成は図１で示した活性ガス生成装置７１と同様な構成である。
図３７は実施の形態４の活性ガス生成装置７４で用いられる電極ユニット５０Ｘの断面構造を示す説明図である。なお、電極ユニット５０Ｘは実施の形態１で示した電極ユニット５１～５３のいずれかに対応する。また、活性ガス生成装置７４の全体構成は図１で示した活性ガス生成装置７１と同様な構成である。
【0172】
【0173】
電極ユニット５０Ｘは、実施の形態１の電極ユニット５０の高圧側誘電体膜２を高圧側誘電体膜２Ｂに置き換えたことを特徴としている。
【0174】
以下、実施の形態１の電極ユニット５０と同一の構成部分は同一符号を付して、実施の形態４の電極ユニット５０Ｘの特徴部分を中心に説明する。
【0175】
図３８に示すように、高圧側誘電体膜２Ｂは給電体配置用凹部２８の周辺の周辺表面領域２７上に平面視して三重の円構造の碍子構造部分２４を有している。碍子構造部分２４は高圧側誘電体膜２Ｂの上面上に設けられる凹凸構造となる。図３８では高圧側誘電体膜２Ｂと同じ構成材料の誘電体で形成される碍子構造部分２４を示している。
【0176】
図３７に示すように、電極ユニット５０Ｘにおける高圧側誘電体膜２Ｂは、平面視して給電体５及び誘電体膜抑圧部材１１と重複しない上面に凹凸構造の碍子構造部分２４を有している。すなわち、実施の形態４では、図２等で示す実施の形態１の高圧側誘電体膜２の露出領域ＥＸ２に対応する上面上に碍子構造部分２４を設けている。図３７では誘電体で形成される碍子構造部分２４を示している。
【0177】
したがって、図３７に示すように、実施の形態４の電極ユニット５０Ｘは、高圧側誘電体膜２Ｂの上面上において、誘電体膜抑圧部材１１と給電体５との間に碍子構造部分２４を有している。
【0178】
碍子構造部分２４の形成方法として以下の第１及び第２の方法が考えられる。第１の方法は、高圧側誘電体膜２Ｂの基本構造体における平坦の上面に対し切削加工を施し、上面に選択的に碍子構造部分２４を有する高圧側誘電体膜２Ｂを製造する方法である。第１の方法の場合、碍子構造部分２４は高圧側誘電体膜２Ｂと同一構成材料となる。
【0179】
第２の方法は、碍子構造部分２４を別途製作した後、高圧側誘電体膜２Ｂの基本構造体における平坦な上面に対し選択的に碍子構造部分２４を接着剤によって接着することにより、高圧側誘電体膜２Ｂを製造する方法である。第２の方法の場合、碍子構造部分２４は高圧側誘電体膜２Ｂと同一構成材料であっても異なる構成材料であっても良い。
【0180】
実施の形態４の活性ガス生成装置７４において、電極ユニット５０Ｘの高圧側誘電体膜２Ｂは上面上において、誘電体膜抑圧部材１１と給電体５との間に凹凸構造の碍子構造部分２４を有するため、給電体５と誘電体膜抑圧部材１１との間の沿面放電を防止することができる。
【0181】
なお、図３７～図３９で示した実施の形態４では、碍子構造部分２４の構成材料を高圧側誘電体膜２Ｂと同じ誘電体で形成したが、誘電体以外の高圧側誘電体膜２Ｂと異なる構成材料で碍子構造部分２４を設けるようにしても良い。
【0182】
本開示は詳細に説明されたが、上記した説明は、すべての局面において、例示であって、本開示がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、本開示の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。
【0183】
すなわち、本開示は、その開示の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略したりすることが可能である。
【符号の説明】
【0184】
１，１Ｘ 筐体
２，２Ｂ 高圧側誘電体膜
３ 接地側誘電体膜
４ 放電空間
５，５Ｂ 給電体
６ 接地導体
７ 導電膜
８ カバー誘電体膜
９ シールド誘電体膜
９Ｓ 活性ガス用バッファ空間
１０ 誘電体膜支持部材
１１ 誘電体膜抑圧部材
１２ 押圧部材
１３ バッファ導体
１４Ａ，１４Ｂ 電流導入部材
２１ ガス流路
２２ 冷却路
２４ 碍子構造部分
４１ 筐体開口部
５０，５０Ｘ，５１～５３ 電極ユニット
５６ 冷媒入口
５７ 冷媒出口
５８ 冷媒流路
６１ 原料ガスバッファ空間
６２ スリット空間
６３ 側面空間
６９ ガス噴出口
７１～７４，７３Ｘ 活性ガス生成装置
１３１～１３４ 中継導通管
Ｅ１ 高圧側電極構成部
Ｅ２ 接地側電極構成部
２，２Ｂ 高圧側誘電体膜
３ 接地側誘電体膜
４ 放電空間
５，５Ｂ 給電体
６ 接地導体
７ 導電膜
８ カバー誘電体膜
９ シールド誘電体膜
９Ｓ 活性ガス用バッファ空間
１０ 誘電体膜支持部材
１１ 誘電体膜抑圧部材
１２ 押圧部材
１３ バッファ導体
１４Ａ，１４Ｂ 電流導入部材
２１ ガス流路
２２ 冷却路
２４ 碍子構造部分
４１ 筐体開口部
５０，５０Ｘ，５１～５３ 電極ユニット
５６ 冷媒入口
５７ 冷媒出口
５８ 冷媒流路
６１ 原料ガスバッファ空間
６２ スリット空間
６３ 側面空間
６９ ガス噴出口
７１～７４，７３Ｘ 活性ガス生成装置
１３１～１３４ 中継導通管
Ｅ１ 高圧側電極構成部
Ｅ２ 接地側電極構成部
【要約】
本開示は、誘電体膜の絶縁破壊を防止する構造の活性ガス生成装置を提供することを目的とする。本開示の活性ガス生成装置（７１）の電極ユニット（５１）において、誘電体膜支持部材（１０）は、高圧側誘電体膜（２）を下方から支持する支持面（１０Ｆ）を有している。接地側誘電体膜（３）の上方に設けられる誘電体膜抑圧部材（１１）の下面は、平面視して高圧側誘電体膜（２）の周辺領域及び誘電体膜支持部材（１０）の支持面（１０Ｆ）と重複する誘電体接触領域（１１２）と、平面視して高圧側誘電体膜（２）の中間領域と重複する誘電体非接触領域（１１１）とを有している。複数の抑圧補助部材（３２）の押圧力を受ける誘電体膜抑圧部材（１１）によって、上方の誘電体接触領域（１１２）から高圧側誘電体膜（２）が抑圧される。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図33】
【図34】
【図35】
【図36】
【図37】
【図38】
【図39】