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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B1)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-05-01
(45)【発行日】2024-05-13
(54)【発明の名称】投射型表示装置
(51)【国際特許分類】
   G03B 21/00 20060101AFI20240502BHJP
   G03B 21/14 20060101ALI20240502BHJP
   H04N 5/74 20060101ALI20240502BHJP
   H04N 9/31 20060101ALI20240502BHJP
【FI】
G03B21/00 D
G03B21/14 A
H04N5/74 A
H04N9/31 500
【請求項の数】 18
(21)【出願番号】P 2023060364
(22)【出願日】2023-04-03
【審査請求日】2023-08-18
(31)【優先権主張番号】P 2022186819
(32)【優先日】2022-11-22
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】516257981
【氏名又は名称】株式会社ライトショー・テクノロジー
(74)【代理人】
【識別番号】110003133
【氏名又は名称】弁理士法人近島国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】山影 明広
(72)【発明者】
【氏名】加藤 厚志
(72)【発明者】
【氏名】梅 雨非
【審査官】小野 博之
(56)【参考文献】
【文献】特開2019-124801(JP,A)
【文献】特表2016-522986(JP,A)
【文献】特開2013-101317(JP,A)
【文献】特開2014-077980(JP,A)
【文献】米国特許出願公開第2021/0364901(US,A1)
【文献】国際公開第2022/143318(WO,A1)
【文献】国際公開第2022/166594(WO,A1)
【文献】国際公開第2014/046219(WO,A1)
【文献】中国特許出願公開第112413428(CN,A)
【文献】中国特許出願公開第112283610(CN,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
G03B 21/00-21/10
21/12-21/30
21/56-21/64
33/00-33/16
H04N 5/66-5/74
H04N 9/31
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
第1波長で発光する複数の半導体レーザから出力される複数のレーザビームをコリメートする第1コリメートレンズと、
前記第1コリメートレンズによりコリメートされた前記複数のレーザビームを集光する第1集光レンズと、
第2波長で発光する複数の半導体レーザから出力される複数のレーザビームをコリメートする第2コリメートレンズと、
前記第2コリメートレンズによりコリメートされた前記複数のレーザビームを集光する第2集光レンズと、
前記第1集光レンズにより集光された前記第1波長のレーザビームの照射スポットおよび前記第2集光レンズにより集光された前記第2波長のレーザビームの照射スポットのいずれよりも広い面積の光拡散面を備えた光拡散素子と、
前記光拡散面で拡散された前記第1波長のレーザビームを重ね合わせて前記第1波長の矩形の照射領域を形成する第1インテグレータ照明系と、
前記光拡散面で拡散された前記第2波長のレーザビームを重ね合わせて前記第2波長の矩形の照射領域を形成する第2インテグレータ照明系と、
前記第1インテグレータ照明系により前記第1波長の前記矩形の照射領域が形成される位置に対して前記第1インテグレータ照明系の側に配置された第1偏向部と、
前記第2インテグレータ照明系により前記第2波長の前記矩形の照射領域が形成される位置に対して前記第2インテグレータ照明系の側に配置された第2偏向部と、
前記第1偏向部により偏向走査される前記第1波長の前記矩形の照射領域と、前記第2偏向部により偏向走査される前記第2波長の前記矩形の照射領域を、反射型光変調素子に拡大転写する転写光学系と、
前記反射型光変調素子が出力する映像光を投射する投射レンズと、を備える、
ことを特徴とする投射型表示装置。
【請求項2】
前記光拡散素子は、前記光拡散面を移動させることにより、前記光拡散面における前記第1波長のレーザビームの照射スポットの位置および前記第2波長のレーザビームの照射スポットの位置を動的に変更することが可能である、
ことを特徴とする請求項1に記載の投射型表示装置。
【請求項3】
前記光拡散素子は、回転軸を中心とする円周に沿って形成された前記光拡散面を備え、前記光拡散面は前記回転軸を中心に回転可能である、
ことを特徴とする請求項1に記載の投射型表示装置。
【請求項4】
前記光拡散素子は、前記光拡散面が形成された透光性の基板と、前記基板を回転またはジグザグ移動または直線移動させる機構を備える、
ことを特徴とする請求項1に記載の投射型表示装置。
【請求項5】
前記光拡散素子は、前記第1波長のレーザビームが照射される第1拡散領域と、前記第2波長のレーザビームが照射される第2拡散領域とを備え、前記第1波長は前記第2波長よりも大きな波長であり、前記第1拡散領域の拡散能は前記第2拡散領域の拡散能よりも小さい、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の投射型表示装置。
【請求項6】
前記光拡散素子は、前記第1波長のレーザビームが照射される第1拡散領域と、前記第2波長のレーザビームが照射される第2拡散領域とを備え、
前記第1波長で発光する複数の半導体レーザの素子数は、前記第2波長で発光する複数の半導体レーザの素子数よりも大きく、前記第1拡散領域の拡散能は前記第2拡散領域の拡散能よりも小さい、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の投射型表示装置。
【請求項7】
前記第1偏向部および前記第2偏向部のそれぞれは、回転軸を中心に回転可能で、前記回転軸を中心とする円周に沿って形成された光学面を備え、
前記光学面は、前記円周に沿って前記回転軸に対する傾斜角が変化するように構成されており、
前記傾斜角は、前記光学面を一定速度で連続的に回転させると、前記レーザビームを一定方向に一定の偏向速度で再帰的に偏向するように構成されている、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の投射型表示装置。
【請求項8】
前記第1偏向部および前記第2偏向部は一体化されており、
前記第1偏向部および前記第2偏向部のそれぞれは、共通の回転軸を中心に回転可能で、前記回転軸を中心とする円周に沿って形成された光学面を備え、
前記光学面は、前記円周に沿って前記回転軸に対する傾斜角が変化するように構成されており、
前記傾斜角は、前記光学面を一定速度で連続的に回転させると、前記レーザビームを一定方向に一定の偏向速度で再帰的に偏向するように構成されている、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の投射型表示装置。
【請求項9】
前記第1波長で発光する複数の半導体レーザは、Slow軸の向き及びFast軸の向きが揃うように配置されており、
前記第1波長の前記矩形の照射領域の長手方向は前記Slow軸の方向であり、
前記第1波長の前記矩形の照射領域の短手方向は前記Fast軸の方向であり、
前記第1偏向部は、前記第1波長の前記矩形の照射領域を前記短手方向に沿って偏向走査する、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の投射型表示装置。
【請求項10】
前記第2波長で発光する複数の半導体レーザは、Slow軸の向き及びFast軸の向きが揃うように配置されており、
前記第2波長の前記矩形の照射領域の長手方向は前記Slow軸の方向であり、
前記第2波長の前記矩形の照射領域の短手方向は前記Fast軸の方向であり、
前記第2偏向部は、前記第2波長の前記矩形の照射領域を前記短手方向に沿って偏向走査する、
ことを特徴とする請求項9に記載の投射型表示装置。
【請求項11】
前記第1インテグレータ照明系および前記第2インテグレータ照明系は、前記光拡散素子を透過したレーザ光が入射されるロッドと、前記ロッドの出射面の像を転写するリレーレンズと、を備える、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の投射型表示装置。
【請求項12】
前記ロッドは、光学材料から成る角柱か、または内面が反射面である中空の筒である、
ことを特徴とする請求項11に記載の投射型表示装置。
【請求項13】
前記第1インテグレータ照明系、前記第2インテグレータ照明系、前記転写光学系の少なくとも一つは、アナモフィックレンズを含む、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の投射型表示装置。
【請求項14】
前記転写光学系は、前記第1波長の前記矩形の照射領域と前記第2波長の前記矩形の照射領域を、拡散板に拡大転写する第1転写光学系と、
前記拡散板に拡大転写された前記第1波長の前記矩形の照射領域および前記第2波長の前記矩形の照射領域を、前記反射型光変調素子に拡大転写する第2転写光学系と、を備える、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の投射型表示装置。
【請求項15】
第3波長で発光する複数の半導体レーザから出力される複数のレーザビームをコリメートする第3コリメートレンズと、第3インテグレータ照明系と、第3偏向部と、をさらに備え、
前記第3コリメートレンズによりコリメートされた前記第3波長の前記複数のレーザビームは、前記第2集光レンズにより集光されて前記光拡散素子に集光され、
前記光拡散面で拡散された前記第3波長のレーザビームは、前記第3インテグレータ照明系により重ね合わされて前記第3波長の矩形の照射領域を形成し、
前記第3偏向部は、前記第3インテグレータ照明系により前記第3波長の前記矩形の照射領域が形成される位置に対して前記第3インテグレータ照明系の側に配置され、
前記転写光学系は、前記第1偏向部により偏向走査される前記第1波長の前記矩形の照射領域と、前記第2偏向部により偏向走査される前記第2波長の前記矩形の照射領域と、前記第3偏向部により偏向走査される前記第3波長の前記矩形の照射領域を、前記反射型光変調素子に拡大転写する、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の投射型表示装置。
【請求項16】
第1波長で発光する複数の半導体レーザから出力される複数のレーザビームをコリメートする第1コリメートレンズと、
第2波長で発光する複数の半導体レーザから出力される複数のレーザビームをコリメートする第2コリメートレンズと、
前記第1コリメートレンズによりコリメートされた前記複数のレーザビームと、前記第2コリメートレンズによりコリメートされた前記複数のレーザビームとを重ね合わせて合成する合成手段と、
前記合成手段で合成された前記複数のレーザビームを集光する第1集光レンズと、
前記第1集光レンズにより集光された前記複数のレーザビームの照射スポットよりも広い面積の光拡散面を備えた光拡散素子と、
前記光拡散面で拡散された前記複数のレーザビームの中の前記第1波長のレーザビームを重ね合わせて前記第1波長の矩形の照射領域を形成する第1インテグレータ照明系と、
前記光拡散面で拡散された前記複数のレーザビームの中の前記第2波長のレーザビームを重ね合わせて前記第2波長の矩形の照射領域を形成する第2インテグレータ照明系と、
前記第1インテグレータ照明系により前記第1波長の前記矩形の照射領域が形成される位置に対して前記第1インテグレータ照明系の側に配置された第1偏向部と、
前記第2インテグレータ照明系により前記第2波長の前記矩形の照射領域が形成される位置に対して前記第2インテグレータ照明系の側に配置された第2偏向部と、
前記第1偏向部により偏向走査される前記第1波長の前記矩形の照射領域と、前記第2偏向部により偏向走査される前記第2波長の前記矩形の照射領域を、反射型光変調素子に拡大転写する転写光学系と、
前記反射型光変調素子が出力する映像光を投射する投射レンズと、を備え、
第1インテグレータ照明系と第2インテグレータ照明系は、前記光拡散面を透過した前記複数のレーザビームが入射されるロッドを共用し、
前記第1インテグレータ照明系は、前記ロッドから出射する前記複数のレーザビームから前記第1波長のレーザビームを分離する分離素子と、前記ロッドの出射面の像を転写するリレーレンズとを備え、
前記第2インテグレータ照明系は、前記ロッドから出射する前記複数のレーザビームから前記第2波長のレーザビームを分離する分離素子と、前記ロッドの出射面の像を転写するリレーレンズとを備える、
ことを特徴とする投射型表示装置。
【請求項17】
前記光拡散素子は、前記光拡散面を移動させることにより、前記光拡散面における前記複数のレーザビームの照射スポットの位置を動的に変更することが可能である、
ことを特徴とする請求項16に記載の投射型表示装置。
【請求項18】
前記光拡散素子は、回転軸を中心とする円周に沿って形成された前記光拡散面を備え、前記光拡散面は前記回転軸を中心に回転可能である、
ことを特徴とする請求項16に記載の投射型表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光源装置を備えた投射型表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来から、レーザ光を用いた投射型表示装置が知られている。
【0003】
特許文献1には、レーザ光源と、レーザ光を映像信号に応じて光変調する光音響変調器と、変調されたレーザ光を水平走査する多角形ミラーと、垂直走査するガルバノミラーと、を備えた投射型表示装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【文献】特開2000-180759号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
特許文献1に記載された投射型表示装置では、水平走査する多角形ミラーと、垂直走査するガルバノミラーとを併用した光学的な走査手段を備えているが、水平と垂直の両方向を光学的に走査するため、大きな光路空間が必要となり、装置が大型化する問題があった。
【0006】
そこで、画像信号に応じてレーザ光を変調して投射する投射型画像表示装置の分野において、小型で、駆動制御が容易で、光利用効率が高い装置の実現が期待されていた。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明の一つの態様は、第1波長で発光する複数の半導体レーザから出力される複数のレーザビームをコリメートする第1コリメートレンズと、前記第1コリメートレンズによりコリメートされた前記複数のレーザビームを集光する第1集光レンズと、第2波長で発光する複数の半導体レーザから出力される複数のレーザビームをコリメートする第2コリメートレンズと、前記第2コリメートレンズによりコリメートされた前記複数のレーザビームを集光する第2集光レンズと、前記第1集光レンズにより集光された前記第1波長のレーザビームの照射スポットおよび前記第2集光レンズにより集光された前記第2波長のレーザビームの照射スポットのいずれよりも広い面積の光拡散面を備えた光拡散素子と、前記光拡散面で拡散された前記第1波長のレーザビームを重ね合わせて前記第1波長の矩形の照射領域を形成する第1インテグレータ照明系と、前記光拡散面で拡散された前記第2波長のレーザビームを重ね合わせて前記第2波長の矩形の照射領域を形成する第2インテグレータ照明系と、前記第1インテグレータ照明系により前記第1波長の前記矩形の照射領域が形成される位置よりも前記第1インテグレータ照明系に近い位置に配置された第1偏向部と、前記第2インテグレータ照明系により前記第2波長の前記矩形の照射領域が形成される位置よりも前記第2インテグレータ照明系に近い位置に配置された第2偏向部と、前記第1偏向部により偏向走査される前記第1波長の前記矩形の照射領域と、前記第2偏向部により偏向走査される前記第2波長の前記矩形の照射領域を、反射型光変調素子に拡大転写する転写光学系と、前記反射型光変調素子が出力する映像光を投射する投射レンズと、を備える、ことを特徴とする投射型表示装置である。
【0008】
本発明の別の態様は、第1波長で発光する複数の半導体レーザから出力される複数のレーザビームをコリメートする第1コリメートレンズと、第2波長で発光する複数の半導体レーザから出力される複数のレーザビームをコリメートする第2コリメートレンズと、
前記第1コリメートレンズによりコリメートされた前記複数のレーザビームと、前記第2コリメートレンズによりコリメートされた前記複数のレーザビームとを重ね合わせて合成する合成手段と、前記合成手段で合成された前記複数のレーザビームを集光する第1集光レンズと、前記第1集光レンズにより集光された前記複数のレーザビームの照射スポットよりも広い面積の光拡散面を備えた光拡散素子と、前記光拡散面で拡散された前記複数のレーザビームの中の前記第1波長のレーザビームを重ね合わせて前記第1波長の矩形の照射領域を形成する第1インテグレータ照明系と、前記光拡散面で拡散された前記複数のレーザビームの中の前記第2波長のレーザビームを重ね合わせて前記第2波長の矩形の照射領域を形成する第2インテグレータ照明系と、前記第1インテグレータ照明系により前記第1波長の前記矩形の照射領域が形成される位置よりも前記第1インテグレータ照明系に近い位置に配置された第1偏向部と、前記第2インテグレータ照明系により前記第2波長の前記矩形の照射領域が形成される位置よりも前記第2インテグレータ照明系に近い位置に配置された第2偏向部と、前記第1偏向部により偏向走査される前記第1波長の前記矩形の照射領域と、前記第2偏向部により偏向走査される前記第2波長の前記矩形の照射領域を、反射型光変調素子に拡大転写する転写光学系と、前記反射型光変調素子が出力する映像光を投射する投射レンズと、を備え、第1インテグレータ照明系と第2インテグレータ照明系は、前記光拡散面を透過した前記複数のレーザビームが入射されるロッドを共用し、前記第1インテグレータ照明系は、前記ロッドから出射する前記複数のレーザビームから前記第1波長のレーザビームを分離する分離素子と、前記ロッドの出射面の像を転写するリレーレンズとを備え、前記第2インテグレータ照明系は、前記ロッドから出射する前記複数のレーザビームから前記第2波長のレーザビームを分離する分離素子と、前記ロッドの出射面の像を転写するリレーレンズとを備える、ことを特徴とする投射型表示装置である。
【発明の効果】
【0009】
本発明によれば、画像信号に応じてレーザ光を変調して投射する投射型画像表示装置の分野において、小型で、駆動制御が容易で、光利用効率が高い装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
図1】実施形態1に係る投射型表示装置の光学系の概略構成を示す図。
図2】(a)レーザモジュールLMに含まれる半導体レーザ11とコリメートレンズ102のペアの1つを示すための模式図。(b)半導体レーザとコリメートレンズ102のペアが、4×2個配列されたレーザモジュールLMを示す模式図。
図3】(a)半導体レーザ11の出力光のNear-Field Patternを例示する図。(b)半導体レーザ11の出力光のFar-Field Patternを例示する図。
図4】(a)平行方向についてのビームの広がりを示す図。(b)直交方向についてのビームの広がりを示す図。
図5】実施形態1に係るインテグレータ照明系を説明するための図。
図6】(a)実施形態1に係るインテグレータ照明系INTを一方向から見た図。(b)実施形態1に係るインテグレータ照明系INTを、(a)と直交する方向から見た図。(c)矩形の照射領域IM1を示す図。
図7】(a)インテクレータ照明系に使われるバルクのロッドを示す図。(b)インテクレータ照明系に使われる中空ロッドを示す図。
図8】(a)偏向器210の一例の外観を示す斜視図。(b)偏向器210の側面図。
図9】(a)偏向器210の反射面の位置と傾斜角を説明するための断面図。(b)偏向器210の反射面の位置と傾斜角を説明するためのグラフ。
図10】(a)偏向器210と矩形の照射領域IM1の位置関係を示す図。(b)反射面のビーム照射位置214近傍の拡大図。(c)青色の矩形の照射領域IM1がDBの方向に偏向走査されることを示す図。
図11】(a)前側転写レンズ201と後側転写レンズ202の作用を説明するための模式図。(b)反射型光変調素子340の画面と、矩形のレーザビームの走査範囲SAの関係を示す図。(c)反射型光変調素子340の画面を矩形のBビーム、Gビーム、Rビームのそれぞれが照射する様子を、横軸を時間軸として示した図。
図12】(a)実施形態に係る光拡散素子402の側面図および上面図。(b)実施形態に係る別の光拡散素子402の側面図および上面図。
図13】実施形態2に係るインテグレータ照明系INTの基本構成部分を一方向から見た図。
図14】実施形態3に係る投射型表示装置の光学系の概略構成を示す図。
図15】実施形態4に係る投射型表示装置の光学系の概略構成を示す図。
図16】(a)偏向器210aの一例の外観を示す上面図。(b)偏向器210aの一例の側面図。(c)偏向器210aの一例の外観を示す下面図。
図17】(a)偏向器210aの変形例の側面図。(b)偏向器210aの別の変形例の側面図。(c)偏向器210aの更に別の変形例の側面図。
図18】実施形態5に係る投射型表示装置の光学系の概略構成を示す図。
図19】(a)レーザモジュールLM-BGRの外観を示す斜視図。(b)各色の半導体レーザからの出力光の波長を例示する図。
図20】実施形態6に係る投射型表示装置の光学系の概略構成を示す図。
図21】実施形態7に係る投射型表示装置の光学系の概略構成を示す図。
図22】実施形態8に係る投射型表示装置の光学系の概略構成を示す図。
図23】実施形態9に係る投射型表示装置の光学系の概略構成を示す図。
図24】実施形態10に係る投射型表示装置の光学系の概略構成を示す図。
図25】実施形態10の変形例に係る投射型表示装置の光学系の概略構成を示す図。
【発明を実施するための形態】
【0011】
図面を参照して、本発明の実施形態である投射型表示装置について説明する。
尚、以下に示す実施形態は例示であり、例えば細部の構成については本発明の趣旨を逸脱しない範囲において当業者が適宜変更して実施をすることができる。尚、以下の実施形態及び説明において参照する図面では、特に但し書きがない限り、同一の参照番号を付して示す要素は、同様の機能を有するものとする。尚、図中の光学要素は模式的に表されているため、実際の形状や構成が必ずしも忠実に表されているとは限らない。例えば、図面では単レンズとして描かれていたとしても、特にただし書きがない限りは複数枚のレンズにより構成されていてもよい。
【0012】
以下の説明において、例えばXプラス方向と記す場合には、図示の座標系におけるX軸矢印が指すのと同じ方向を指し、Xマイナス方向と記す場合には、図示の座標系におけるX軸矢印が指すのと180度反対の方向を指すものとする。また、単にX方向と記す場合には、図示のX軸矢印が指す向きとの異同は関係なく、X軸と平行な方向であることを指すものとする。X以外の方向についても、同様とする。
【0013】
また、以下の説明では、赤色のことを「R」、緑色のことを「G」、青色のことを「B」と記載する場合がある。したがって、例えば、R光は赤色光と、G光源は緑色光源と、Bレーザは青色レーザと、それぞれ同義である。
【0014】
[実施形態1]
図1は、実施形態1に係る投射型表示装置の光学系の概略構成を示す図である。説明の便宜のため、同図では、光学要素を設置するための機械的機構や、筐体、電気的配線などは省略されている。
【0015】
[全体構成]
投射型表示装置1004は、レーザモジュールLM-Bを備えたB光源、レーザモジュールLM-Gを備えたG光源、レーザモジュールLM-Rを備えたR光源、B用偏向器210B、G用偏向器210G、R用偏向器210R、ダイクロイックミラー224を備えた光合成部、光路変換ミラー330、TIRプリズム350、反射型光変調素子340、投射レンズ360を備える。投射型表示装置1004は、任意的に投映スクリーン190を備えることができる。
各色の光源(B光源、G光源、R光源)については、後に詳述する。
【0016】
B用偏向器210Bは、B光源が発するB光をDB方向に偏向する偏向器である。同様に、G用偏向器210Gは、G光源が発するG光をDG方向に偏向する偏向器であり、R用偏向器210Rは、R光源が発するR光をDR方向に偏向する偏向器である。偏向器については、後に詳述する。尚、R用偏向器210Rを第1偏向部、B用偏向器210Bを第2偏向部、G用偏向器210Gを第3偏向部と呼んでもよい。
【0017】
光合成部を構成するダイクロイックミラー224は、R光を透過させ、B光およびG光を反射する光学特性を備えている。ダイクロイックミラー224上において、B光用の前側転写レンズ201Bの光軸中心と、G光用の前側転写レンズ201Gの光軸中心と、R光用の前側転写レンズ201Rの光軸中心とが重なるように、各光学要素は配置されている。
【0018】
光合成部により、B光(点線)、G光(実線)、R光(一点鎖線)の進行方向は全てZプラス方向に揃えられるが、これらの光は、どのタイミングにおいても互いに重なり合わないように合成されている。B光、G光、R光の各々が、互いに反射型光変調素子340の画面上で重ならないように、B用偏向器210B、G用偏向器210G、R用偏向器210Rによる偏向走査のタイミング(偏向の位相)を制御しているからである。走査方法については後に詳述する。
【0019】
光合成部(ダイクロイックミラー224)から出射したB光、G光、R光は、光路変換ミラー330によりXプラス方向に進路を変更され、TIRプリズム350に入射する。
【0020】
TIRプリズム350は、例えば2つのプリズムを組み合わせて構成された内部全反射プリズムであり、照明光(B光、G光、R光)をエアギャップ面で全反射させて、反射型光変調素子340に所定の角度で入射させる。前述したように、B光、G光、R光は、互いに重ならないように、それぞれが反射型光変調素子340の画面の一部を照明する。
【0021】
反射型光変調素子340には、例えばマイクロミラーデバイスをアレイ状に設けたDMDが用いられる。各表示画素に対応するマイクロミラーは、映像信号の輝度レベルに応じて、パルス幅変調により反射方向が変更されるように駆動される。ただし、反射型液晶デバイスのような、別種の反射型光変調デバイスを用いることも可能である。
【0022】
B光で照明されている画面領域の画素は、映像信号のB成分の輝度レベルに応じて駆動され、B映像光をTIRプリズム350に向けて所定角度で反射する。同様に、G光で照明されている画面領域の画素は、映像信号のG成分の輝度レベルに応じて駆動され、G映像光をTIRプリズム350に向けて所定角度で反射する。また、R光で照明されている画面領域の画素は、映像信号のR成分の輝度レベルに応じて駆動され、R映像光をTIRプリズム350に向けて所定角度で反射する。このように、反射型光変調デバイスの変調動作は、B用偏向器210B、G用偏向器210G、R用偏向器210Rによる偏向走査と同期して行われる。
【0023】
映像光(B映像光、G映像光、R映像光)は、TIRプリズム350を透過して、投射レンズ360に導かれ、カラー映像として投射される。投射レンズ360は、単数もしくは複数のレンズで構成され、自動焦点調節機能やズーム機能を備えることもできる。
【0024】
投映スクリーン190は、リアプロジェクション型の表示装置を構成する場合に用いられる。また、フロントプロジェクション型の場合にも設置されることが多いが、ユーザが任意の壁面などに投射する場合には、必ずしも設置する必要はない。
【0025】
[光源]
B光源、G光、R光源について説明する。B光源はB光を発する半導体レーザとコリメートレンズとを含むレーザモジュールLM-Bを、G光源はG光を発する半導体レーザコリメートレンズとを含むレーザモジュールLM-Gを、R光源はR光を発する半導体レーザとコリメートレンズを含むレーザモジュールLM-Rを、それぞれ備えている。半導体レーザの発光波長を別にすれば、各色の光源の基本的な構成は類似しているので、以下では色光毎に区別せずに単に光源として説明する場合がある。
【0026】
(レーザモジュール)
B光源、G光、R光源の各々は、半導体レーザとコリメートレンズのペアが、1次元あるいは2次元にアレイ状に配列されたレーザモジュールLMを備えている。
【0027】
図2(a)は、レーザモジュールLMに含まれる半導体レーザとコリメートレンズのペアの1つを示すための模式図である。11は半導体レーザ、12は半導体レーザ11の発光部である。尚、図2(a)では、図1のレーザモジュールLM-Bの向きを基準にしつつ、図1のXYZ座標系に対してZ軸方向を180°反転させてXYZ座標系を表示している。図2(a)においては、発光部12の長手方向HをY方向と平行にし、発光部12から出射した光の進行方向をZ方向と平行に図示している。
【0028】
発光部12の長手方向Hとは、典型的には、半導体レーザ11を構成する半導体チップの側面において、P型クラッド層とN型クラッド層に挟まれた活性層が延在している方向である。図2(a)に示すように、以後の説明では、半導体レーザ11の発光部12の長手方向Hと平行な方向を「平行方向」あるいは「Slow軸」と記し、発光部12の長手方向と直交する方向を「直交方向」あるいは「Fast軸」と記す場合がある。半導体レーザ11からは、直線偏光の光が出射し、その電界の振動方向は平行方向(Y方向)である。
【0029】
半導体レーザ11の出力光は、出射方向によって角度特性が異なることが知られているが、図3(a)に出力光のNear-Field Patternを、図3(b)に出力光のFar-Field Patternを例示する。
【0030】
図3(a)に示すように、Near-Field Patternでは、発光部の形状(長手、短手)を反映したビームプロファイルであることが判る。一方、ビームが進行するにつれて、図3(b)のFar-Field Patternに例示するように、ビームは広がってゆく。すなわち、平行方向についてみれば、半導体レーザ11から出射したビームは、広がりが小さく、狭い角度範囲内に強度分布が均一なパターンで進行してゆくことがわかる。一方、直交方向についてみれば、半導体レーザ11から出射したビームは、強度分布が山形になるパターン(ガウシアン)になり、進行するにつれて平行方向よりも広い角度範囲に広がってゆくことがわかる。半導体レーザの活性層は、直交方向の厚さが小さいため、出射する際に回折の影響を大きく受けるためである。Far-Field Patternで見て広がりが小さな平行方向をSlow軸、広がりが大きな直交方向をFast軸と呼ぶこともできる。
【0031】
本実施形態では、図2(a)に示すようにコリメートレンズ102(第1コリメートレンズ)を用いて半導体レーザ11から出射したレーザビームを成形する。すなわち、長手方向の長さがHy1である発光部12から出射した光は、コリメートレンズ102によりコリメートされ、断面が楕円形状のビームとなってZ方向に進行する。尚、楕円形状の長径はX方向と平行で、短径はY方向と平行である。
【0032】
コリメートレンズ102を通過しても、ビームが光軸(Z方向)と完全に平行になるわけではなく、平行方向(発光部の長手方向)と直交方向(発光部の短手方向)ではビームの広がり方が異なったものとなる。図4(a)および図4(b)を参照して、コリメートレンズ102を通過した後のビームの広がり方の違いについて説明する。図4(a)は平行方向についての広がりを示し、図4(b)は直交方向についての広がりを示している。
【0033】
図4(a)に示すように、平行方向についてみれば、ビーム強度のトップはフラットではあるものの、Z方向に進むにつれてビーム径が広がってしまうので、ダイバージェンスが良好であるとは言えない。これに対して、図4(b)に示すように、直交方向についてみれば、コリメートレンズ102からの距離が変化してもビーム強度分布とビーム径の変化が小さいのが判る。すなわち、コリメートレンズ102を透過した後のレーザビームは、直交方向(半導体レーザのFast軸)の方が平行方向(半導体レーザのSlow軸)よりも平行性が高く、ダイバージェンスが良好である。
【0034】
後述するように、本発明では、光源から出力されるビームのダイバージェンスが直交方向(矩形の短手方向)において優れる(ビームの平行度が高い)という性質を利用して、直交方向に沿ってビームを偏向走査させて光変調素子を照明する。ダイバージェンスが優れる方向に沿ってビームを偏向走査する方が、光変調素子の画面上でB、G、Rの各色照射領域の重なりを防止するのに有利だからである。
【0035】
各色の光源は、複数の半導体レーザおよびコリメートレンズ102(第1コリメートレンズ)のペアを含んだレーザモジュールLMを備えている。図2(b)は、半導体レーザ11とコリメートレンズ102のペアが、4×2個配列されたレーザモジュールLMを示す模式図である。尚、図2(b)では、図1のレーザモジュールLM-Bの向きを基準にしつつ、図1のXYZ座標系に対してZ軸方向を180°反転させてXYZ座標系を表示している。
【0036】
レーザモジュールLMにおいては、複数の半導体レーザがY方向に沿って等間隔に並ぶように配置されている。また、どの半導体レーザも、発光部12の長手方向がY方向に沿う向きになるように配置されている。4×2素子の半導体レーザを用いる例を示すが、素子の数はこの例に限られるわけではない。レーザモジュールLMは、複数の半導体レーザを1列だけ、あるいは3列以上にわたりY方向に沿って配列する構成にしてもよい。Y方向に沿った半導体レーザの素子列を1列あるいは3列以上備える光源であっても、出力されるビームは、発光部の短手方向の方が長手方向よりもダイバージェンスが良好である。
【0037】
(インテグレータ照明系/光学的重畳手段)
本実施形態の光源は、レーザモジュールLMから出射される複数のレーザビームを重ね合わせて矩形の照射領域を形成するためのインテグレータ照明系INTを備えている。図5図7(b)を参照して、インテグレータ照明系INTについて説明する。
【0038】
レーザモジュールLMに含まれる半導体レーザ11の各々から出射されるレーザビームは、コリメートレンズ102の作用でおよそ平行となるが、ダイバージェンスについては既に説明したとおりである。本実施形態の光源は、図6(c)に示す矩形の照射領域IM1を形成するため、各半導体レーザから出射されるレーザビームを重ね合わせるインテグレータ照明系INTを備える。
【0039】
図5は、実施形態1に係る光源、すなわちロッドインテグレータを備えたインテグレータ照明系を説明するための図である。本実施形態に係るインテグレータ照明系は、レーザモジュールLM、集光レンズ401、光拡散素子402、ロッドインテグレータ403、リレーレンズ406を備え、矩形の照射領域IM1を形成する。レーザモジュールLMが備える半導体レーザ、半導体レーザの発光部12、コリメートレンズ102などについては、図2(a)~図4(b)を参照して説明した通りである。尚、図5では、図1のレーザモジュールLM-Bの向きを基準にしつつ、図1のXYZ座標系に対してZ軸方向を180°反転させてXYZ座標系を表示しているが、図示の便宜のためにレーザモジュールLMから矩形の照射領域IM1までの途中の光路の折り返しは省略されている。
【0040】
レーザモジュールLMに含まれる半導体レーザの各々から出射されるレーザビームは、コリメートレンズ102の作用でおよそ平行となるが、ダイバージェンスについては既に説明した通りである。レーザモジュールLMから出力される略コリメートされたレーザビームは、集光レンズ401により、ロッドインテグレータ403の入射面INPに向けて集光される。図では、集光レンズ401は1枚の凸レンズで示されているが、収差を抑制する等の目的で複数枚のレンズで構成してもよい。
【0041】
ロッドインテグレータ403の入射面INPの近傍には光拡散素子402が配置されており、光拡散素子402により拡散されたレーザビームは入射面INPからロッドインテグレータ403に入射する。レーザモジュールLMから出力されるビームは、矩形の短手方向の方が長手方向よりもダイバージェンスが良好であるため、ロッドインテグレータ403の入射面INPでの光の取り込み損失を抑制でき、利用効率を向上することが出来る。ロッドインテグレータ403に入射した光は、側面で全反射を繰り返した後に出射面EXPから出射するが、光拡散素子402の拡散能(拡散角)とロッドインテグレータ403の長さを適宜設定することにより、出射面EXPにおける照度分布を均一化することが出来る。
【0042】
本実施形態では、回転可能な単一の光拡散素子402を用いて、Bレーザ光、Gレーザ光、Rレーザ光を拡散させる。図12(a)の左側に光拡散素子402の側面図を、図12(a)の右側に光拡散素子402の上面図を示す。光拡散素子402は、光拡散面DIFが形成された透光性基板SUBと、回転軸CXを中心に透光性基板SUBを回転させるモータ412とを備えている。光拡散面DIFは、透光性基板SUBにレーザ光が入射する側の主面、あるいは透光性基板SUBを透過したレーザ光が出射する側の主面、あるいはその両面に、例えば微細な凹凸形状を付与することにより形成することが出来る。
【0043】
レーザ光のようにコヒーレント性が高い光を、インテグレータ光学系で重ね合わせて用いる際には、幾何光学的な作用だけでなく、波動光学的な作用も合わせて考慮する必要がある。波動光学的な作用を考慮すると、ロッドインテグレータ403に入射したレーザ光が互いに干渉して、矩形の照射領域IM1の中に干渉縞や斑などの明暗パターンを発生させる場合が有り得る。矩形の照射領域IM1の内部に不均一な明暗パターンが固定的に発生すると、表示画像にはユーザが視認可能な画質劣化が生じ得るため、表示用の照明光としては好ましいものではない。
【0044】
そこで、本実施形態で用いられる光拡散素子402は、レーザ光の照射スポット(照射位置)よりも広い面積の光拡散面DIFを備えるとともに、光拡散面DIFを移動させるための移動機構(モータ412)を備えており、レーザ光に照射される光拡散面DIFの部位を動的に変更することができる。言い換えれば、光拡散素子402は、動的な拡散面を備えた光学素子だと言うことができる。
【0045】
本実施形態では、動的な光拡散面を備えた光拡散素子は、レーザ光源と、インテグレータ光学系の入射面の間に配置される。本実施形態の場合は、図5に示すように、光拡散素子402は、レーザモジュールLMとロッドインテグレータ403の入射面INPの間に配置されている。このような配置にしたうえで、レーザ光が照射する光拡散面DIFの部位を適宜の速度で移動させることにより、インテグレータ光学系に入射させる光の時間的・空間的なコヒーレント性を低減させることが出来る。そうすることにより、インテグレータ光学系にて光が重ね合わされる際に、互いに干渉して干渉縞等の明暗分布が発生するのを抑制することが出来る。適宜の速度で光拡散面を移動させることにより、人間の視覚特性上は、矩形の照射領域IM1内における実効的な照度分布を、極めて均一なものにすることが出来る。
【0046】
本実施形態では、円板状の光拡散板を回転させ、光拡散板内においてレーザ光の照射位置が円周に沿って相対移動するように構成したが、動的な光拡散面を備えた光拡散素子の構成はこれに限られるわけではない。例えば、ピエゾアクチュエータ等の駆動機構を用いて拡散板を直線移動あるいはジグザグ移動で往復させるなどして、光拡散板上におけるレーザ光の照射位置が時間とともに動的に変更される形態とすることもできる。こうした形態によっても、インテグレータ光学系に入射させるレーザ光のコヒーレント性を低減することが出来るため、人間の視覚特性上は、矩形の照射領域IM1内における実効的な照度分布を極めて均一なものにすることが出来る。
【0047】
本実施形態では、図12(a)に示されるように、R光はSPOT1として示される位置に照射され、B光およびG光はSPOT2として示される位置に照射される。すなわち、B、G、Rの3色のレーザ光は、単一のモータ412により回転される単一の光拡散素子402により拡散される。本実施形態によれば、色毎にモータや光拡散素子を設ける場合と比較して、部品点数を少なくすることができ、投射型表示装置のコストを抑制することが可能である。
【0048】
尚、単一のモータ412により回転される光拡散素子402は、図12(a)の例に限られるわけではなく、別の形態であってもよい。別形態の光拡散素子402の一例について、図12(b)の左側に側面図を、図12)の右側に上面図を示す。この例では、円板状の透光性基板SUBには、内周側(回転軸CXに近い側)に円環状の拡散面DIF1が設けられ、その外側に円環状の拡散面DIF2が設けられている。
【0049】
一般に、R光の半導体レーザは、B光あるいはG光の半導体レーザに比べて、ダイバージェンスが良好ではないことが多い。また、R光の半導体レーザは、B光あるいはG光の半導体レーザに比べて単素子あたりの出力パワーが小さいため、より多くの素子を配列する必要が生じ、光源としてのNAが大きくなってしまう場合がある。そこで、図12(b)の例では、R光は拡散面DIF1のSPOT1として示される位置に照射され、B光およびG光は拡散面DIF2のSPOT2として示される位置に照射されるように構成し、半導体レーザの出力特性の違いに応じて拡散面DIF1と拡散面DIF2の拡散特性を異ならせることができる。例えば、拡散面DIF1の方が拡散面DIF2よりも拡散能が小さくなるように光拡散素子402を構成することにより、反射型光変調素子340を照明する照明光の色バランスを良好にすることができる。尚、拡散面DIF1を第1拡散領域、拡散面DIF2を第2拡散領域、と呼んでもよい。
【0050】
図5に戻り、ロッドインテグレータ403の出射面EXPから出射される像を、リレーレンズ406で転写することにより、照度の均一性が高い矩形の照射領域IM1を得ることが出来る。リレーレンズの転写倍率を適宜設定することにより、縮小あるいは等倍あるいは拡大した所望のサイズの照射領域IM1を得ることが出来る。尚、図5では、リレーレンズ406は、前側凸レンズ406aと後側凸レンズ406bの2枚で構成されているが、リレーレンズ406の構成はこの例に限られるものではない。
【0051】
図6(a)は、半導体レーザの発光部12の短手方向(X方向)が見える向きでインテグレータ照明系INTを含む光源を示した図である。図6(b)は、半導体レーザの発光部12の長手方向(Y方向)が見える向きでインテグレータ照明系INTを含む光源を示した図である。
ここで、図1に示す投射型表示装置における各色光源の具体的な構成と、図5図6(a)、図6(b)の対応関係について説明する。
【0052】
まず、B光源については、図1に示すレーザモジュールLM-B、ロッドインテグレータ403GBが、それぞれ図5等におけるレーザモジュールLM、ロッドインテグレータ403に対応する。図1では、レーザモジュールLM-Bが出力する青色のレーザ光はZマイナス方向に進むが、図5等ではZプラス方向に進むように示されている。図1では、B光の光路において、レーザモジュールLM-Bと集光レンズ401(Gと共用)の間には、ダイクロイックミラー221aが設けられているが、図5等では省略されている。上述したように、ダイクロイックミラー221aは、G光を透過させるがB光を反射させる光学特性を有する。また、図1では、B光の光路において、前側凸レンズ406a(Gと共用)と後側凸レンズ406bの間に、ダイクロイックミラー221bが設けられているが、図5等では省略されている。ダイクロイックミラー221bは、G光を透過させるがB光を反射させる分離素子としての光学特性を有する。図1では、B光の光路において、後側凸レンズ406bと照射領域IM1の間には、B用偏向器210Bが配置されているが、図5等では省略されている。
【0053】
次に、G光源については、図1に示すレーザモジュールLM-G、ロッドインテグレータ403GBが、それぞれ図5等におけるレーザモジュールLM、ロッドインテグレータ403に対応する。図1では、レーザモジュールLM-Gが出力する緑色のレーザ光はXプラス方向に進むが、図5等ではZプラス方向に進むように示されている。図1では、G光の光路において、レーザモジュールLM-Gと集光レンズ401(Bと共用)の間には、ダイクロイックミラー221aが設けられているが、図5等では省略されている。ダイクロイックミラー221aは、G光を透過させるがB光を反射させる光学特性を有する。また、図1では、G光の光路において、前側凸レンズ406a(Bと共用)と後側凸レンズ406bの間に、ダイクロイックミラー221bが設けられているが、図5等では省略されている。ダイクロイックミラー221bは、G光を透過させるがB光を反射させる光学特性を有する。図1では、G光の光路において、後側凸レンズ406bと照射領域IM1の間には、G用偏向器210Gが配置されているが、図5等では省略されている。
【0054】
次に、R光源については、図1に示すレーザモジュールLM-R、ロッドインテグレータ403Rが、それぞれ図5等におけるレーザモジュールLM、ロッドインテグレータ403に対応する。図1では、レーザモジュールLM-Rが出力する赤色のレーザ光はXプラス方向に進むが、図5等ではZプラス方向に進むように示されている。図1では、R光の光路において、後側凸レンズ406bと照射領域IM1の間には、R用偏向器210Rが配置されているが、図5等では省略されている。
【0055】
図6(a)、図6(b)に戻り、ロッドインテグレータ403は、入射した光をその側面で全反射させ得る光学素子であればよい。ロッドインテグレータ403として、例えば図7(a)に示すものや、図7(b)に示すものが用いられ得る。好適には、入射面INPの形状、出射面EXPの形状、およびロッド部分の断面形状が同一となるようにロッドインテグレータ403は構成される。
【0056】
図7(a)に示すロッドインテグレータ403は、例えば光学ガラスや透光性樹脂のような光学材料から成る中実の四角柱状の素子であり、端面である入射面INPおよび出射面EXPの形状は、長辺がH0、短辺がV0の矩形となっている。入射面INPおよび出射面EXPには、反射防止膜(ARコート)を付与しておくのが望ましい。
【0057】
また、図7(b)に示すロッドインテグレータ403は、中空の四角柱、すなわち筒形状の素子であり、筒の内面には例えばアルミニウム等を材料とする反射面が形成されている。筒の開口部である入射面INPおよび出射面EXPの形状は、長辺がH0、短辺がV0の矩形となっている。例えば、ガラス製や金属性の板状の基板に、アルミニウム膜等の反射膜を蒸着した後に、基板を張り合わせて筒状に組み立てることにより、比較的安価に製造することが出来る。
【0058】
ロッドインテグレータ403の入射面INPおよび出射面EXPの形状は、上述のように長辺がH0、短辺がV0の矩形であるが、リレーレンズ406により、図6(c)に示す長辺がH1、短辺がV1の矩形の照射領域IM1が形成される。矩形の照射領域IM1の長辺が平行方向(半導体レーザのSlow軸方向)に対応し、短辺が直交方向(半導体レーザのFast軸方向)に対応する。例えば、ロッドインテグレータ403の入射面INPおよび出射面EXPの形状を、X方向(短辺V0)が0.33mm、Y方向(長辺H0)が1.67mmの矩形とし、リレーレンズ406の倍率を1.2倍とすれば、V1が0.4mm、H1が2mm程度の矩形の照射領域IM1を得ることができる。
【0059】
(偏向器)
図1に示すように、光源(B光源、G光源、R光源)と、それぞれが照射する矩形の照射領域IM1の間には、偏向器(B用偏向器210B、G用偏向器210G、R用偏向器210R)が配置されている。
【0060】
B用偏向器210B、G用偏向器210G、R用偏向器210Rについて説明する。これらは、異なる色のレーザビームを偏向走査するのに用いられる偏向素子であるが、基本的な構成は同一であるので、以下では特に色を特定せずに偏向器210として説明する場合がある。
図8(a)は、偏向器210の一例の外観を示す斜視図であり、図8(b)は、偏向器210の側面図である。
【0061】
偏向器210は、回転可能な円板状の基体211と、回転軸AXを中心に基体211を回転させるモータ212を備えている。円板状の基体211の主面には、円周に沿って帯状の光学面である反射面213が設けられている。ここで、反射面の位置を特定するため、図8(a)に示すように、回転軸AXを中心として反時計回りに角度座標を設定する。(図では、0°、90°、180°、270°が示されている)。また、図に示す軸BXは、回転軸AXと平行で反射面213を通る軸である。ビーム照射位置214として示すのは、光源から出力されたビームが、矩形の照射領域IM1に到達する前に反射される際のビーム位置である。
【0062】
帯状の反射面213は、軸BXに対する角度(すなわち回転軸AXに対する角度)が位置によって変化するようにねじれている。図9(a)と図9(b)を参照して、反射面の角度について説明する。図9(a)と図9(b)において、反射面の位置として示されているのは、図8(a)で説明した角度座標により規定される位置である。また、反射面の傾斜角として示されるのは、円板状の基体211の主面(すなわち軸BXと直交する面)を基準とした時の、反射面の傾斜角である。
【0063】
図9(b)に示すように、反射面の位置に対して反射面の傾斜角がリニアに変化するように、反射面213は構成されている。図8(a)、図9(b)に示すように、反射面の位置が0°(360°)において反射面の傾斜角が不連続になるため、説明の便宜上、図9(a)では反射面の位置が1°と359°の場合の傾斜角を示している。
【0064】
モータにより基体211がR方向に回転されると、反射面213も回転軸AXの回りを回転するため、図8(a)に示したビーム照射位置214にてレーザビームが照射される部位の角度座標は、0°→90°→180°→360°(=0°)→90°・・・のように連続的に変化してゆく。
【0065】
反射面が回転してレーザビームに照射される反射面の部位が変化したとしても、図9(a)に示すように、入射ビームは常に軸BXに対してαの角度で反射面213に入射する。一方、反射面の位置に応じて反射面の傾斜角は、-θから+θの範囲で変化する。このため、図9(a)に示すように、反射面213で反射されたレーザビームの方向は、軸BXを基準にすると、(α-2×θ)から(α+2×θ)までの4θの角度範囲内で変化する。つまり、傾斜角は、光学面(反射面)を一定速度で連続的に回転させると、レーザビームを一定方向に一定の偏向速度で再帰的に偏向するように構成されている、
【0066】
言い換えれば、図8(b)に示すように、偏向器210は、出射ビームをRD1(軸BXに対して(α-2×θ))からRD2(軸BXに対して(α+2×θ))までの角度範囲内で偏向走査することができる。図8(a)のR方向に反射面213を連続回転させると、出射ビームは、図8(b)のRD1からRD2に向けて連続的に偏向(走査)されてゆき、RD2に達すると瞬時にRD1に回帰し、再びRD2に向けて偏向(走査)されてゆく。また、もし反射面213をR方向とは逆に回転させるのであれば、出射ビームは、図8(b)のRD2からRD1に向けて連続的に偏向(走査)されてゆき、RD1に達すると瞬時にRD2に回帰し、再びRD1に向けて偏向(走査)されてゆくことになる。
【0067】
このように、偏向器210によれば、回転体を一定速度で連続的に回転させるという簡単な駆動方法で、レーザビームを所定方向に等速度で再帰的に偏向走査することができる。後述するように、反射型光変調素子340の駆動タイミング(あるいは、反射型光変調素子340に入力する画像信号)と同期して回転するようにモータ212を制御することにより、照明光を反射型光変調素子340の画面においてV方向に走査することができる。
【0068】
尚、本発明を実施するにあたり、回転体を備えた偏向器210の代わりに、ガルバノミラーを用いてもよい。ただし、ガルバノミラーを用いた場合には、装置の大型化、振動の発生、コストの増大等が見込まれるため、回転体を備えた偏向器210を用いるのが望ましい。
【0069】
図10(a)に、偏向器210と、偏向器210の先に形成される矩形の照射領域IM1の、位置関係を示す。座標系は、B光源を基準に示している。また、図10(b)に、反射面のビーム照射位置214近傍の拡大図を示す。矩形の照射領域IM1よりも距離Lだけ光源側に、反射面のビーム照射位置214が配置されている。図10(c)に示すように、青色の矩形の照射領域IM1は、偏向器210の回転に応じてDBの方向に偏向走査される。
【0070】
尚、偏向器210の製造方法について付言すると、円周に沿って帯状の反射面213が設けられた円板状の基体211は、例えばプレス押出工法で金属母材を加工することにより低コストで製造することが可能である。図9(a)に例示したように、反射面213の近傍には基体211の主面から突出した部分や凹んだ部分が存在するが、回転バランスを良好にするため、回転軸AXを通る断面で見た時、どの位置の断面であっても断面積が等しい形状にするのが望ましい。また、基体211の主面から突出する最大高さや、主面から凹む最大深さは、風切り音を低減するため、平均板厚の3/4以下にするのが望ましい。具体的には、基体211の平均板厚は、0.7mm以上で2mm以下とするのが望ましく、θは3°以上で6°以下とするのが望ましい。
【0071】
以上説明した偏向器により、B、G、Rのレーザビームにより形成される各色の矩形の照射領域IM1は、図1に示すように、それぞれDB、DG、DRの方向に偏向走査される。ここで、図1に示すB用偏向器210B、G用偏向器210G、R用偏向器210Rについて説明を補足する。B用偏向器210Bは、図8(a)に示すR方向とは逆方向に回転して、B光により形成される矩形の照射領域IM1を図1に示すDBの方向に偏向走査する。G用偏向器210Gは、図8(a)に示すR方向とは逆方向に回転して、G光により形成される矩形の照射領域IM1を図1に示すDGの方向に偏向走査する。R用偏向器210Rは、図8(a)に示すR方向とは逆方向に回転して、R光により形成される矩形の照射領域IM1を図1に示すDRの方向に偏向走査する。
【0072】
B用偏向器210B、G用偏向器210G、R用偏向器210Rにより偏向走査される各色の光は、光合成部を構成するダイクロイックミラー224に導かれる。B用偏向器210Bにより偏向走査されるB光は、前側転写レンズ201B、ダイクロイックミラー223、光路変換ミラー330aを経て、光合成部を構成するダイクロイックミラー224に導かれる。ここで、ダイクロイックミラー223は、B光を透過させるがG光を反射させる光学特性を備えており、光路変換ミラー330aは、B光およびG光を反射させる光学特性を備えている。G用偏向器210Gにより偏向走査されるG光は、前側転写レンズ201G、ダイクロイックミラー223、光路変換ミラー330aを経て、光合成部を構成するダイクロイックミラー224に導かれる。R用偏向器210Rにより偏向走査されるR光は、前側転写レンズ201Rを経て、光合成部を構成するダイクロイックミラー224に導かれる。
【0073】
(光合成部)
すでに全体構成の項で説明したように、光合成部を構成するダイクロイックミラー224は、R光を透過させ、B光およびG光を反射する光学特性を備えている。ダイクロイックミラー224上において、B光用の前側転写レンズ201Bの光軸中心と、G光用の前側転写レンズ201Gの光軸中心と、R光用の前側転写レンズ201Rの光軸中心とが重なるように、各光学要素は配置されている。光合成部により、B光(点線)、G光(実線)、R光(一点鎖線)の進行方向は全てZプラス方向、すなわち後側転写レンズ202向かう方向に揃えられる。
【0074】
(転写光学系)
各色のレーザビームにより形成される矩形の照射領域IM1は、色毎に設けられた前側転写レンズ201B、前側転写レンズ201G、前側転写レンズ201Rと、各色共用の後側転写レンズ202とで構成される第1転写レンズ(第1転写光学系)により、矩形の2次転写像IM2として拡大転写される。前側転写レンズ201と後側転写レンズ202は、それぞれ正のパワーをもつ凸レンズである。第1転写光学系の光路長、すなわち矩形の照射領域IM1から矩形の2次転写像IM2までの距離は、各色で等しくなるように構成され得る。
【0075】
図11(a)は、前側転写レンズ201と後側転写レンズ202の作用を説明するための模式図である。図示のように、矩形の照射領域IM1は、矩形の2次転写像IM2として拡大転写される。矩形の2次転写像IM2の形成位置は、図1に示すように拡散板310aの位置に設定されている。
【0076】
そして、拡散板310aにより散乱された2次転写像IM2は、第2転写光学系320により、反射型光変調素子340の画面に3次転写像IM3として拡大転写される。第2転写光学系320は、光路変換ミラー330を挟んで配置された前側転写レンズ321と後側転写レンズ322とで構成される。各転写像の大きさは、典型的には下記の関係に設定される。
IM1:IM2:IM3=1:2:6
係る構成を有する本実施形態によれば、反射型光変調素子340を照明する照明光のFナンバーの制御が容易になる。
【0077】
尚、図1では、拡散板310aは定位置に固定する形態としたが、例えば拡散板を回転させたり直線往復運動させるなどして、拡散板上におけるレーザ光の照射位置が時間とともに移動する形態とすることもできる。こうした形態によれば、レーザによる照明光のシンチレーションを抑制することができる。
【0078】
図11(b)に、反射型光変調素子340の画面と、矩形のレーザビームの走査範囲SAの関係を示す。反射型光変調素子340の画面サイズをH(水平方向)×V(垂直方向)とすると、矩形のレーザビームの走査範囲SAは、画面サイズよりも大きなH’×V’の領域をカバーする。尚、矩形の照射領域IM1が偏向器210により走査される走査範囲に対して、矩形のレーザビームの走査範囲SAは、上述した転写倍率で拡大されている。
【0079】
図11(c)は、反射型光変調素子340の画面を矩形のBビーム、Gビーム、Rビームのそれぞれが照射する様子を、横軸を時間軸として示した図である。Bビーム、Gビーム、Rビームは、走査方向SDに沿って反射型光変調素子340の画面を垂直走査し、1フレーム時間で1画面の走査を完了する。各色領域の境界部分で混色が生じないように、Bビーム、Gビーム、Rビームは、互いに重複しないように構成されており、必然的に各ビームの垂直方向の幅V2は、V’の1/3以下に構成されている。各ビームの垂直方向の幅は、反射型光変調素子340の画面の垂直方向の幅の1/6以上かつ1/3以下に設定され得る。
【0080】
以上のように、本実施形態の投射型表示装置は、複数の半導体レーザと、コリメートレンズと、インテグレータ照明系と、偏向素子とを備えた照明ユニットが、異なる色光毎に設けられており、異なる色光の照明ユニットが出力する照明光を合成する光合成部を備え、異なる色光の照明ユニットの各々が出力する矩形の照射領域は、互いに重ならないように偏向走査されながら反射型光変調素子に拡大転写される。
【0081】
本実施形態に係る投射型表示装置の照明系においては、動的な拡散面を備えた光拡散素子が、レーザ光源とインテグレータ光学系の入射面の間に配置されている。具体的には、図5に示したように、光拡散素子402が、レーザモジュールLMとロッドインテグレータ403の入射面INPの間に配置されている。このような配置を設定したうえで、レーザ光が照射する光拡散面DIFの部位を適宜の速度で移動させることにより、インテグレータ光学系に入射させるレーザ光の時間的・空間的なコヒーレント性を低減させることが出来る。そうすることにより、インテグレータ光学系にて光が重ね合わされる際に、互いに干渉して干渉縞等の明暗分布が発生するのを抑制することができる。適宜の速度で拡散面を移動させることにより、人間の視覚特性上は、矩形の照射領域IM1内における実効的な照度分布を、極めて均一なものにすることが出来る。このため、本実施形態によれば、照度が均一な矩形の照射領域IM1を転写して、反射型光変調素子の画面を照明することにより、高い画質の投射画像を表示することが出来る。
【0082】
本実施形態では、B、G、Rの3色のレーザ光は、単一のモータ412により回転される単一の光拡散素子402により拡散される。そのため、色毎にモータや光拡散素子を設ける場合と比較して、部品点数を少なくすることができる。また、インテグレータ照明系においてB光とG光に用いるロッドインテグレータを共用することにより、部品点数を少なくすることができるとともに、光路が占める空間をコンパクトにするができる。そのため、コストが低廉で、コンパクトな投射型表示装置を実現することができる。
【0083】
本実施形態によれば、画像信号に応じてレーザ光を変調して投射する投射型画像表示装置の分野において、小型で、駆動制御が容易で、光利用効率が高い装置を実現することができる。
【0084】
[実施形態2]
実施形態2に係る投射型表示装置1005について、図13を参照して説明する。実施形態1と共通する部分については、説明を簡略化ないし省略する。
本実施形態に係る投射型表示装置1005は、図1を参照して説明した実施形態1の投射型表示装置1004と類似の構成を備えているが、光合成部の構成が実施形態1とは異なる。実施形態1では、単一のダイクロイックミラー224にB光とG光を導いて反射させ、透過するR光と合成していたが、本実施形態では、ダイクロイックミラー224aとダイクロイックミラー224bを用いて合成する。
【0085】
(光合成部)
ダイクロイックミラー224aは、R光を透過するがB光を反射させる光学特性を備えており、ダイクロイックミラー224bは、R光とB光を透過するがG光を反射させる光学特性を備えている。まず、ダイクロイックミラー224aにてR光とB光を合成し、次に光路変換ミラー330cを介して導かれるG光をダイクロイックミラー224bにて追加的に合成する。ダイクロイックミラー224b上において、B光用の前側転写レンズ201Bの光軸中心と、G光用の前側転写レンズ201Gの光軸中心と、R光用の前側転写レンズ201Rの光軸中心とが重なるように、各光学要素は配置されている。光合成部により、B光(点線)、G光(実線)、R光(一点鎖線)の進行方向は全てZプラス方向、すなわち後側転写レンズ202向かう方向に揃えられる。
【0086】
(転写光学系)
各色のレーザビームにより形成される矩形の照射領域IM1は、色毎に設けられた前側転写レンズ201B、前側転写レンズ201G、前側転写レンズ201Rと、各色共用の後側転写レンズ202とで構成される第1転写レンズ(第1転写光学系)により、矩形の2次転写像IM2として拡大転写される。前側転写レンズ201と後側転写レンズ202は、それぞれ正のパワーをもつ凸レンズである。第1転写光学系の光路長、すなわち矩形の照射領域IM1から矩形の2次転写像IM2までの距離は、各色で等しくなるように構成され得る。
【0087】
本実施形態では、実施形態1に比べて、R用偏向器210Rの位置をX軸マイナス方向にレイアウトし、B用偏向器210Bの位置をX軸プラス方向にレイアウトしている。そして、各色の矩形の照射領域IM1を図13に示す偏向方向DB、DG、DRに偏向するため、B用偏向器210B、G用偏向器210G、R用偏向器210Rは、いずれも図8(a)に示すR方向に回転する。
【0088】
本実施形態は、実施形態1と同様な効果を奏するのに加えて、光路空間が占めるX方向の寸法を小さくできるため、投射型表示装置のX方向の外形をコンパクトにすることができる。
【0089】
[実施形態3]
実施形態3に係る投射型表示装置1006について、図14を参照して説明する。実施形態1あるいは実施形態2と共通する部分については、説明を簡略化ないし省略する。
【0090】
本実施形態に係る投射型表示装置1006は、実施形態1の投射型表示装置1004と同様に、可動式の光拡散素子を備えたインテグレータ光学系や、光合成部、転写光学系を備えている。しかし、図14に示すように、本実施形態では、光拡散素子402の回転軸CX、ロッドインテグレータ403Rの軸方向、ロッドインテグレータ403GBの軸方向が、Z方向に沿うように構成している点が異なる。
【0091】
そして、各色の矩形の照射領域IM1を図14に示す偏向方向DB、DG、DRに偏向するため、本実施形態ではB用偏向器210Bは図8(a)に示すR方向に回転し、G用偏向器210GとR用偏向器210Rは図8(a)に示すR方向とは逆方向に回転する。
【0092】
光合成部については、実施形態1と同様に単一のダイクロイックミラー224にB光とG光を導いて反射させ、透過するR光と合成するが、本実施形態では、ダイクロイックミラー224に各色光を導く光路の構成が実施形態1とは異なる。本実施形態では、R用偏向器210Rで偏向されたR光の進行方向を、光路変換ミラー330bを用いてXマイナス方向からZプラス方向に変更して、ダイクロイックミラー224に入射させる。
【0093】
本実施形態は、実施形態1と同様な効果を奏するのに加えて、レーザモジュールLM-B、レーザモジュールLM-G、レーザモジュールLM-Rを、図の左側に配置することにより、光路空間が占めるX方向の寸法を小さくできるため、投射型表示装置のX方向の外形をコンパクトにすることができる。
【0094】
[実施形態4]
実施形態4に係る投射型表示装置1007について、図15を参照して説明する。実施形態1と共通する部分については、説明を簡略化ないし省略する。
【0095】
実施形態1~実施形態3では、モータで回転する偏向器をB光、G光、R光の光路に個別に設けていたため、偏向機構を構成する部品の点数が比較的多くなっていた。本実施形態では、図15に示すように、単一のモータと単一の回転体とから構成される偏向器210aを用いてB光、G光、R光を偏向走査する。
【0096】
(偏向器)
図15に示すように、B光、G光、R光の各色用リレーレンズの後側凸レンズ406bと、各色の矩形の照射領域IM1の間には、偏向器210aが配置されている。偏向器210aは、3つの矩形の照射領域を、単体で偏向走査することが可能な偏向素子である。
【0097】
図16(a)は、B光用の後側凸レンズ406bおよびG光用の後側凸レンズ406bが配置されている側から偏向器210aを見た上面図であり、図16(b)は、回転軸AXと直交する方向から偏向器210aを見た側面図であり、図16(c)は、R光用の後側凸レンズ406bが配置されている側から偏向器210aを見た下面図である。図16(a)と図16(c)では、回転方向をROとして示している。
【0098】
円板状の基体211の上面には、図16(a)に示すように、帯状の光学面である反射面213aと反射面213bが設けられている。反射面213aと反射面213bは、回転軸AXを中心とした互いに半径が異なる同心円に沿って設けられている。円板状の基体211の下面には、図16(c)に示すように、回転軸AXを中心とする円に沿って帯状の光学面である反射面213cが設けられている。
【0099】
図16(b)に示すように、円板状の基体211は、それぞれに反射面が形成された基板211aと基板211bと基板211cを積み重ねて一体化したものである。ただし、基体211は必ずしも3枚の基板を積み重ねて一体化したものでなくてもよく、例えば図17(a)~図17(c)に側面図を示すような構造であってもよい。図17(a)は、反射面213aと反射面213bが片面に設けられた基板211aと、反射面213cが設けられた基板211cとを積み重ねて一体化し、基体211を構成した例である。また、図17(b)は、反射面213aと反射面213cが設けられた基板211cと、反射面213bが設けられた基板211bとを積み重ねて一体化し、基体211を構成した例である。また、図17(c)は、もともと単体の基板である基体211の上に、反射面213aと反射面213bと反射面213cとを形成した例である。
【0100】
各々の反射面には、図8(a)~図9(b)を参照して説明した反射面213と同様に、レーザビームを所定方向に等速度で再帰的に偏向走査することを可能とする傾斜面が構成されている。ただし、反射面213aにより偏向走査されるG光と、反射面213bにより偏向走査されるB光と、反射面213cにより偏向走査されるR光とが、光合成部220により合成された時に互いに重なり合わないようにするため、各反射面の傾斜の始点/終点、すなわち反射面の傾斜角が不連続になる位置NCは、円周方向に沿って見て互いにずれるように、各反射面は構成されている。
【0101】
図1を参照すればわかるように、偏向器210aの上面において、B光に照射される位置は、G光に照射される位置に対して、回転軸AXを挟んで反対側にある。また、偏向器210aの下面においてR光に照射される位置は、偏向器210aの上面においてB光に照射される位置に対して、回転軸AXを挟んで反対側にある。それぞれの照射位置において反射された各色のビームが、光合成部であるダイクロイックミラー224により合成された時に偏向走査の位相が互いに120度ずつずれるように、各反射面の傾斜は設定されている。例えば、図16(a)において、反射面213aの傾斜が不連続になる位置NCが時計の12時の位置にある時には、反射面213bの傾斜が不連続になる位置NCは時計の2時の位置になるように構成されている。その時には、図16(c)において、反射面213cの傾斜が不連続になる位置NCが時計の8時の位置になるように構成されている。尚、図16(a)に示す上面と、図16(c)に示す下面とでは、見かけ上、基体211の回転方向ROが逆に示されている。このように、矩形の照明領域の各々が再帰的に偏向走査される際に互いに重なり合わないようにするため、偏向器の円板上の照射位置において、各反射面の傾斜角の変化の位相が回転方向に沿って互いにずれるように構成されている。
【0102】
本実施形態では、偏向器210aにより偏向されたB光を光合成部であるダイクロイックミラー224に導くため、B用の前側転写レンズ201B、光路変換ミラー330e、光路変換ミラー330iを備えている。また、偏向器210aにより偏向されたG光を光合成部であるダイクロイックミラー224に導くため、G用の前側転写レンズ201G、光路変換ミラー330h、ダイクロイックミラー221c、光路変換ミラー330gを備える。ダイクロイックミラー221cは、G光を反射してR光を透過させる光学特性を備えており、G光とR光とで共用される。また、偏向器210aにより偏向されたR光を光合成部であるダイクロイックミラー224に導くため、R用の前側転写レンズ201R、光路変換ミラー330f、上述したダイクロイックミラー221cと光路変換ミラー330gを備える。
【0103】
本実施形態は、実施形態1と同様な効果を奏するのに加えて、単一のモータと単一の回転体とから構成される偏向器210aを用いてB光、G光、R光を偏向走査するため、偏向機構の部品点数を低減することが可能である。
【0104】
[実施形態5]
実施形態5に係る投射型表示装置1008について、図18を参照して説明する。本実施形態は、単一のモータと単一の回転体とから構成される偏向器210aを用いる等の点では実施形態4と共通するが、実施形態4と共通する部分については、説明を簡略化ないし省略する。
【0105】
実施形態4を含めて、上述した実施形態では、B用のレーザモジュールLM-B、G用のレーザモジュールLM-G、R用のレーザモジュールLM-Rを個別にレイアウトしていたが、本実施形態では3色のレーザモジュールを一体化したレーザモジュールLM-BGRを備える。
【0106】
図19(a)は、レーザモジュールLM-BGRの外観を示す斜視図である。レーザモジュールLM-BGRには、半導体レーザとコリメートレンズ102の組が4×5のマトリクス状に2次元配列されているが、配列は必ずしも4×5のマトリクスに限られるわけではなく、行や列の数は適宜変更することが可能である。尚、端子104は、各列の半導体レーザに給電するための給電端子である。
【0107】
同色の半導体レーザの素子毎の発光輝度を均一にするため、一般に同じ列には同色の半導体レーザを配列し、電気的に直列に接続されることが多い。また、R発光の半導体レーザは、B発光の半導体レーザやG発光の半導体レーザよりも発光輝度が低いので、照明光のホワイトバランスを良好にするために、R発光の半導体レーザの素子数が、B発光の半導体レーザやG発光の半導体レーザの素子数よりも大きくなるように配列することが行われる。
【0108】
図19(a)の例では、レーザモジュールLM-BGRは、縦2列の赤色半導体レーザRと、縦1列の青色半導体レーザBと、縦1列の緑色半導体レーザGとを備えている。
【0109】
図19(b)に、本実施形態で用いられる各色の半導体レーザの出力光の波長を例示する。青色半導体レーザBの出力光は440(nm)~465(nm)の波長域に、緑色半導体レーザGの出力光は520(nm)~560(nm)の波長域に、赤色半導体レーザRの出力光は620(nm)~650(nm)の波長域に、それぞれ含まれている。尚、製造上のばらつき等により、レーザモジュールに実装された個々の半導体レーザの出力波長については、上記の波長域内で10nm程度のばらつきが発生することがある。また、半導体レーザの発光波長を、前記以外の波長域内に設定することも可能である。
【0110】
レーザモジュールLM-BGRにおいて異なる発光色の半導体レーザが並ぶ方向をDIRとすると、投射型表示装置1008(図18)において、レーザモジュールLM-BGRはDIRがX方向に沿うように設置されている。これにより、レーザモジュールLM-BGRから出力される各色のレーザ光はZプラス方向に進む。
【0111】
レーザモジュールLM-BGRから出力されたB光は、B光を透過させるがG光を反射させる光学特性を備えたダイクロイックミラー223に入射し、これを透過した後に光路変換ミラー330lにより進行方向をXプラス方向に変更され、再びダイクロイックミラー223を透過してBG共用の集光レンズ401に入射し、光拡散素子402に集光される。
【0112】
レーザモジュールLM-BGRから出力されたG光は、B光を透過させるがG光を反射させる光学特性を備えたダイクロイックミラー223に反射されて進行方向をXプラス方向に変更され、BG共用の集光レンズ401に入射し、光拡散素子402に集光される。
【0113】
レーザモジュールLM-BGRから出力されたR光は、光路変換ミラー330kに反射されて進行方向をXプラス方向に変更され、R用の集光レンズ401に入射し、光拡散素子402に集光される。
【0114】
ここで、レーザモジュールLM-BGRから出力されたR光は2列の半導体素子から放射されたものであり、B光およびG光はそれぞれ1列の半導体素子から放射されたものである。このため、R光が集光レンズ401により集束する角度α-Rと、B光およびG光が集光レンズ401により集束する角度α-GBを比べると、前者の方が後者よりも大きい。
【0115】
本実施形態では、図12(b)を参照して説明した拡散特性が異なる拡散面DIF1と拡散面DIF2を備えた光拡散素子402を用いる。すなわち、拡散面DIF2の方が拡散面DIF1よりも拡散能が大きくなるように光拡散素子402を構成し、拡散面DIF2を用いてB光およびG光を拡散させ、拡散面DIF1を用いてR光を拡散させる。これにより、光拡散素子402を透過した後のB光、G光、R光の散乱特性をそろえることができ、反射型光変調素子340を照明する照明光の色バランスを良好にすることができる。
光拡散素子402よりも先の光学的なレイアウトは、実施形態4と概ね同様である。
【0116】
本実施形態は、実施形態4と同様の効果を奏するのに加えて、R光の半導体レーザを多数備えるレーザモジュールLM-BGRを用いることにより、反射型光変調素子340を照明する照明光の強度を高めながら色バランスを良好にすることができる。
【0117】
[実施形態6]
実施形態6に係る投射型表示装置1009について、図20を参照して説明する。本実施形態は、実施形態5と共通点が多いが、図20に示すように光拡散素子402の回転軸CX、ロッドインテグレータ403Rの軸方向、ロッドインテグレータ403GBの軸方向が、Z方向に沿うように構成している点が異なる。また、偏向器210aにより偏向される各色の矩形の照射領域IM1を、光合成部225を用いて合成する光学系も実施形態5と異なる。
【0118】
本実施形態では、光合成部225として、B光およびG光は透過させるがR光を反射させる光学特性を備えたダイクロイックミラーを用いる。偏向器210aにより偏向されたB光を光合成部225に導くため、B用の前側転写レンズ201B、光路変換ミラー330e、B光を透過させるがG光を反射させる光学特性を備えたダイクロイックミラー223が設けられている。また、偏向器210aにより偏向されたG光を光合成部225に導くため、G用の前側転写レンズ201G、光路変換ミラー330h、前述のダイクロイックミラー223が設けられている。また、偏向器210aにより偏向されたR光を光合成部225に導くため、R用の前側転写レンズ201R、光路変換ミラー330fが設けられている。
【0119】
本実施形態は、実施形態5と同様な効果を奏するのに加えて、レーザモジュールLM-BGRを、図の左側に配置することにより、光路空間が占めるX方向の寸法を小さくできるため、投射型表示装置のX方向の外形をコンパクトにすることができる。
【0120】
[実施形態7]
実施形態7に係る投射型表示装置1010について、図21を参照して説明する。他の実施形態のいずれかと共通する部分については、説明を簡略化ないし省略する。
本実施形態に係る投射型表示装置1010は、B、G、Rの3色のレーザ光は、単一のモータ412により回転される単一の光拡散素子402により拡散される点で、実施形態1と共通する。そのため、色毎にモータや光拡散素子を設ける場合と比較して、部品点数を少なくすることができるのは実施形態1と同様である。
【0121】
本実施形態では、レーザモジュールLM-B、レーザモジュールLM-G、レーザモジュールLM-Rの出力光をあらかじめ重ね合わせるように合成してから、BGR共用の集光レンズ401に入射させ、光拡散素子402に集光する。すなわち、レーザモジュールLM-BとレーザモジュールLM-Gの出力光は、G光を透過しB光を反射する光学特性を持つダイクロイックミラー231により合成される。さらに、B光およびG光を反射しR光を透過する光学特性を持つダイクロイックミラー232により、B光、G光、およびR光は合成される。
【0122】
ロッドインテグレータ403の出射面から出射したB光、G光、およびR光は、リレーレンズの一部である前側凸レンズ406aを通過した後、分離素子としてのクロスプリズム501によりB光とR光・G光に分離される。
【0123】
クロスプリズム501により分離されたB光は、光路変換ミラー330で光路変更された後、リレーレンズの一部である後側凸レンズ406bを経てB用偏向器210Bに入射し、偏向される。B用偏向器210Bにより偏向されたB光は、前側転写レンズ201Bを経てクロスプリズム502に入射する。
【0124】
クロスプリズム501により分離されたR光・G光は、光路変換ミラー330で光路変更された後、G光を反射しR光を透過する光学特性を有するダイクロイックミラー233に入射する。ダイクロイックミラー233で反射されたG光は、リレーレンズの一部である後側凸レンズ406bを経てG用偏向器210Gに入射し、偏向される。G用偏向器210Gにより偏向されたG光は、前側転写レンズ201Gを経てクロスプリズム502に入射する。ダイクロイックミラー233を透過したR光は、リレーレンズの一部である後側凸レンズ406bを経てR用偏向器210Rに入射し、偏向される。R用偏向器210Rにより偏向されたR光は、前側転写レンズ201Rを経てクロスプリズム502に入射する。
【0125】
クロスプリズム502は、Xプラス方向に進むB光の進行方向をZプラス方向に変更させ、Zプラス方向に進むG光の進行方向には影響を与えず、Xマイナス方向に進むR光の進行方向をZプラス方向に変更させる。すなわち、実施形態1におけるダイクロイックミラー224と同様に、本実施形態のクロスプリズム502は、B光、G光、R光を合成する合成部として機能する。合成部から先の構成は実施形態1と同様であるため説明を省略する。
【0126】
本実施形態では、インテグレータ照明系においてB光、G光、およびR光に用いるロッドインテグレータ403を共用するため、部品点数を少なくすることができる。そのため、コストが低廉で、コンパクトな投射型表示装置を実現することができる。
【0127】
[実施形態8]
実施形態1の変形例である実施形態8について、図22を参照して説明する。実施形態1と共通する事項については、説明を簡略化ないし省略する。
図1に示した例では、上述したようにロッドインテグレータの入射面の近傍に回転可能な単一の光拡散素子402を配置し、Bレーザ光、Gレーザ光、Rレーザ光を動的に拡散させていた。ここで、光拡散素子402の効用として、ロッドインテグレータ403の入射面INPでの光の取り込み損失を抑制して利用効率を向上する点に主眼を置くならば、必ずしも拡散面を移動可能に構成しなくともよい。すなわち、Bレーザ光、Gレーザ光、Rレーザ光を動的にではなく静的に拡散させてもよい。
【0128】
図22に示すのは、ロッドインテグレータ403Rの入射面の近傍に、レーザビームRの照射スポットよりも広い面積の光拡散面を備えた光拡散素子402aを固定的に配置し、ロッドインテグレータ403GBの入射面の近傍に、レーザビームGおよびレーザビームBのいずれの照射スポットよりも広い面積の光拡散面を備えた光拡散素子402bを固定的に配置した投射型画像表示装置の例である。この形態によれば、光拡散素子を動的に動かすための駆動機構(例えば図1のモータ412)を設ける必要がないため、小型で、駆動制御が容易で、光利用効率が高い投射型画像表示装置を実現することができる。
【0129】
尚、固定的に配置された光拡散素子402aと光拡散素子402bは、別体の部材であっても一体化された部材であってもよい。R光(第1波長のレーザビーム)が照射される光拡散素子402aを第1拡散領域とし、B光およびG光(第2波長のレーザビーム)が照射される光拡散素子402bを第2拡散領域とすれば、第1波長は第2波長よりも大きな波長であるため、第1拡散領域の拡散能を第2拡散領域の拡散能よりも小さくするのが好ましい。また、第1波長(R)で発光する複数の半導体レーザの素子数は、第2波長(BまたはGのいずれか)で発光する複数の半導体レーザの素子数よりも大きくすることができる。
【0130】
[実施形態9]
実施形態5の変形例である実施形態9について、図23を参照して説明する。実施形態5と共通する事項については、説明を簡略化ないし省略する。実施形態5では、図18に示したように3色のレーザモジュールを一体化したレーザモジュールLM-BGRを光源に用いて、ロッドインテグレータの入射面の近傍に回転可能な単一の光拡散素子402を配置し、Bレーザ光、Gレーザ光、Rレーザ光を動的に拡散させていた。ここで、光拡散素子402の効用として、ロッドインテグレータ403の入射面INPでの光の取り込み損失を抑制して利用効率を向上する点に主眼を置くならば、必ずしも拡散面を移動可能に構成しなくともよい。すなわち、Bレーザ光、Gレーザ光、Rレーザ光を動的にではなく静的に拡散させてもよい。
【0131】
図23に示すのは、ロッドインテグレータ403Rの入射面の近傍に、レーザビームの照射スポットよりも広い面積の光拡散面を備えた光拡散素子402aを固定的に配置し、ロッドインテグレータ403GBの入射面の近傍に、レーザビームGおよびレーザビームBのいずれの照射スポットよりも広い面積の光拡散面を備えた光拡散素子402bを固定的に配置した投射型画像表示装置の例である。この形態によれば、光拡散素子を動的に動かすための駆動機構(例えばモータ)を設ける必要がないため、小型で、駆動制御が容易で、光利用効率が高い投射型画像表示装置を実現することができる。
【0132】
尚、固定的に配置された光拡散素子402aと光拡散素子402bは、別体の部材であっても一体化された部材であってもよい。R光(第1波長のレーザビーム)が照射される光拡散素子402aを第1拡散領域とし、B光およびG光(第2波長のレーザビーム)が照射される光拡散素子402bを第2拡散領域とすれば、第1波長は第2波長よりも大きな波長であるため、第1拡散領域の拡散能を第2拡散領域の拡散能よりも小さくするのが好ましい。また、第1波長(R)で発光する複数の半導体レーザの素子数は、第2波長(BまたはGのいずれか)で発光する複数の半導体レーザの素子数よりも大きくすることができる。
【0133】
[実施形態10]
実施形態7の変形例である実施形態10について、図24を参照して説明する。実施形態7と共通する事項については、説明を簡略化ないし省略する。実施形態7では、図21に示したように、レーザモジュールLM-B、レーザモジュールLM-G、レーザモジュールLM-Rの出力光をあらかじめ重ね合わせるように合成してから、BGR共用の集光レンズ401に入射させ、光拡散素子402に集光する。実施形態7では、単一のロッドインテグレータ403の入射面の近傍に回転可能な単一の光拡散素子402を配置していた。ここで、光拡散素子402の効用として、ロッドインテグレータ403の入射面INPでの光の取り込み損失を抑制して利用効率を向上する点に主眼を置くならば、必ずしも拡散面を移動可能に構成しなくともよい。すなわち、重ね合わされたBレーザ光、Gレーザ光、Rレーザ光を動的にではなく静的に拡散させてもよい。尚、第1波長(R)で発光する複数の半導体レーザの素子数は、第2波長(BまたはGのいずれか)で発光する複数の半導体レーザの素子数よりも大きくすることができる。
【0134】
図24に示すのは、ロッドインテグレータ403の入射面の近傍に、各色のレーザビームの照射スポットのいずれよりも広い面積の光拡散面を備えた光拡散素子402を固定的に配置した投射型画像表示装置の例である。この形態によれば、光拡散素子を動的に動かすための駆動機構(例えばモータ)を設ける必要がないため、小型で、駆動制御が容易で、光利用効率が高い投射型画像表示装置を実現することができる。
【0135】
また、実施形態7では、図21に示したように、ロッドインテグレータ403の出射面から出射したB光、G光、およびR光は、リレーレンズの一部である前側凸レンズ406aを通過した後、クロスプリズム501およびダイクロイックミラー233を用いて3色の光を分離していた。本実施形態では、図24に示すように、前側凸レンズ406aを通過した光は、ダイクロイックミラー234およびダイクロイックミラー235を用いて色分離される。ダイクロイックミラー234は、B光およびG光を反射させ、R光を透過させる光学特性を有する。ダイクロイックミラー235は、B光を反射させ、G光を透過させる光学特性を有する。前側凸レンズ406aを通過した後、R光は反射回数ゼロ回でR用偏向器210Rに入射し、B光はダイクロイックミラー234およびダイクロイックミラー235で反射されて反射回数2回でB用偏向器210Bに入射し、G光はダイクロイックミラー234および光路変換ミラー330で反射されて反射回数2回でG用偏向器210Gに入射する。このため、R用偏向器210R、B用偏向器210B、G用偏向器210Gの回転方向を同一にしつつ、矩形の照射領域IM1の走査方向を同一にすることができる。
【0136】
また、偏向走査された各色光を合成する際に、実施形態7では、図21に示したように、クロスプリズム502を用いて合成したが、本実施形態では光路変換ミラー330、ダイクロイックミラー235、ダイクロイックミラー236を用いて合成される。ダイクロイックミラー235は、B光を反射させ、G光を透過させる光学特性を有する。ダイクロイックミラー236は、R光を反射させ、B光およびG光を透過させる光学特性を有する。この構成によれば、偏向器で偏向走査された各色光は、いずれも1回の反射を経て合成される。図24の例によれば、図21の例のように2個のクロスプリズムを設ける必要がないため、小型で、駆動制御が容易で、光利用効率が高い投射型画像表示装置を実現することができる。
【0137】
尚、図24に示す例では、レーザモジュールLM-B、レーザモジュールLM-G、レーザモジュールLM-Rを個別にレイアウトしていたが、図25に示すように、3色のレーザモジュールを一体化したレーザモジュールLM-BGRを用いてもよい。尚、第1波長(R)で発光する複数の半導体レーザの素子数は、第2波長(BまたはGのいずれか)で発光する複数の半導体レーザの素子数よりも大きくすることができる。光路変換ミラー330と、R光を反射しB光およびG光を透過する光学特性を持つダイクロイックミラー237により、B光、G光、およびR光は合成される。この形態によれば、光源部分をコンパクトに構成することができる。
【0138】
[他の実施形態]
なお、本発明は、以上説明した実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想内で多くの変形が可能である。例えば、光拡散素子、偏向器、レーザモジュールについては、異なる実施形態で用いた素子に置き換えたり、異なる実施形態で用いた素子を組み合わせるなどして、投射型表示装置を構成してもよい。
【0139】
実施形態で説明したロッドインテグレータ403は、入射面INPの形状、出射面EXPの形状、およびロッド部分の断面形状が同一となる構成を例に挙げたが、いわゆるテーパロッドのように入射面INPの形状と出射面EXPの形状が異なるロッドを用いてもよい。
【0140】
また、像を転写するのに用いられる転写光学系、すなわち、第1転写レンズ(前側転写レンズ201および後側転写レンズ202)、第2転写光学系320(前側転写レンズ321および後側転写レンズ322)、リレーレンズ406は、両側がテレセントリックとなるように構成されることが望ましいが、それ以外でもよい。これらの転写光学系の中の1つ以上には、例えば、光軸周りの2つの断面で異なる光学特性を有する所謂アナモフィック光学系(アナモフィックレンズ)を採用してもよい。第1転写レンズ、第2転写光学系、リレーレンズなどをアナモフィックな光学系にすれば、一方向の倍率のみを縮小したり拡大できるので、NAや転写像のアスペクトを調整することが可能となり、より光の利用効率を向上させることが出来る。
【0141】
また、照明用光源の色光は、R、G、Bの3色に限られるわけではなく、これらと異なる波長の光源を用いてもよいし、例えば黄色光源を追加して4色としてもよい。また、各色光で用いるインテグレータ照明系は、必ずしも同一のものでなくてもよい。また、投射型表示装置の用途に応じて、例えばRとGだけのように、異なる波長の2つの色光の光源のみを有する投射型表示装置でもよい。
【0142】
本明細書による開示は、以下の構成を含んでいる。
[構成1]
第1波長で発光する複数の半導体レーザから出力される複数のレーザビームをコリメートする第1コリメートレンズと、
前記第1コリメートレンズによりコリメートされた前記複数のレーザビームを集光する第1集光レンズと、
第2波長で発光する複数の半導体レーザから出力される複数のレーザビームをコリメートする第2コリメートレンズと、
前記第2コリメートレンズによりコリメートされた前記複数のレーザビームを集光する第2集光レンズと、
前記第1集光レンズにより集光された前記第1波長のレーザビームの照射スポットおよび前記第2集光レンズにより集光された前記第2波長のレーザビームの照射スポットのいずれよりも広い面積の光拡散面を備えた光拡散素子と、
前記光拡散面で拡散された前記第1波長のレーザビームを重ね合わせて前記第1波長の矩形の照射領域を形成する第1インテグレータ照明系と、
前記光拡散面で拡散された前記第2波長のレーザビームを重ね合わせて前記第2波長の矩形の照射領域を形成する第2インテグレータ照明系と、
前記第1インテグレータ照明系により前記第1波長の前記矩形の照射領域が形成される位置よりも前記第1インテグレータ照明系に近い位置に配置された第1偏向部と、
前記第2インテグレータ照明系により前記第2波長の前記矩形の照射領域が形成される位置よりも前記第2インテグレータ照明系に近い位置に配置された第2偏向部と、
前記第1偏向部により偏向走査される前記第1波長の前記矩形の照射領域と、前記第2偏向部により偏向走査される前記第2波長の前記矩形の照射領域を、反射型光変調素子に拡大転写する転写光学系と、
前記反射型光変調素子が出力する映像光を投射する投射レンズと、を備える、
ことを特徴とする投射型表示装置。
[構成2]
前記光拡散素子は、前記光拡散面を移動させることにより、前記光拡散面における前記第1波長のレーザビームの照射スポットの位置および前記第2波長のレーザビームの照射スポットの位置を動的に変更することが可能である、
ことを特徴とする構成1に記載の投射型表示装置。
[構成3]
前記光拡散素子は、回転軸を中心とする円周に沿って形成された前記光拡散面を備え、前記光拡散面は前記回転軸を中心に回転可能である、
ことを特徴とする構成1または2に記載の投射型表示装置。
[構成4]
前記光拡散素子は、前記光拡散面が形成された透光性の基板と、前記基板を回転またはジグザグ移動または直線移動させる機構を備える、
ことを特徴とする構成1または2に記載の投射型表示装置。
[構成5]
前記光拡散素子は、前記第1波長のレーザビームが照射される第1拡散領域と、前記第2波長のレーザビームが照射される第2拡散領域とを備え、前記第1波長は前記第2波長よりも大きな波長であり、前記第1拡散領域の拡散能は前記第2拡散領域の拡散能よりも小さい、
ことを特徴とする構成1乃至4のいずれか1項に記載の投射型表示装置。
[構成6]
前記光拡散素子は、前記第1波長のレーザビームが照射される第1拡散領域と、前記第2波長のレーザビームが照射される第2拡散領域とを備え、
前記第1波長で発光する複数の半導体レーザの素子数は、前記第2波長で発光する複数の半導体レーザの素子数よりも大きく、前記第1拡散領域の拡散能は前記第2拡散領域の拡散能よりも小さい、
ことを特徴とする構成1乃至4のいずれか1項に記載の投射型表示装置。
[構成7]
前記第1偏向部および前記第2偏向部のそれぞれは、回転軸を中心に回転可能で、前記回転軸を中心とする円周に沿って形成された光学面を備え、
前記光学面は、前記円周に沿って前記回転軸に対する傾斜角が変化するように構成されており、
前記傾斜角は、前記光学面を一定速度で連続的に回転させると、前記レーザビームを一定方向に一定の偏向速度で再帰的に偏向するように構成されている、
ことを特徴とする構成1乃至6のいずれか1項に記載の投射型表示装置。
[構成8]
前記第1偏向部および前記第2偏向部は一体化されており、
前記第1偏向部および前記第2偏向部のそれぞれは、共通の回転軸を中心に回転可能で、前記回転軸を中心とする円周に沿って形成された光学面を備え、
前記光学面は、前記円周に沿って前記回転軸に対する傾斜角が変化するように構成されており、
前記傾斜角は、前記光学面を一定速度で連続的に回転させると、前記レーザビームを一定方向に一定の偏向速度で再帰的に偏向するように構成されている、
ことを特徴とする構成1乃至6のいずれか1項に記載の投射型表示装置。
[構成9]
前記第1波長で発光する複数の半導体レーザは、Slow軸の向き及びFast軸の向きが揃うように配置されており、
前記第1波長の前記矩形の照射領域の長手方向は前記Slow軸の方向であり、
前記第1波長の前記矩形の照射領域の短手方向は前記Fast軸の方向であり、
前記第1偏向部は、前記第1波長の前記矩形の照射領域を前記短手方向に沿って偏向走査する、
ことを特徴とする構成1乃至8のいずれか1項に記載の投射型表示装置。
[構成10]
前記第2波長で発光する複数の半導体レーザは、Slow軸の向き及びFast軸の向きが揃うように配置されており、
前記第2波長の前記矩形の照射領域の長手方向は前記Slow軸の方向であり、
前記第2波長の前記矩形の照射領域の短手方向は前記Fast軸の方向であり、
前記第2偏向部は、前記第2波長の前記矩形の照射領域を前記短手方向に沿って偏向走査する、
ことを特徴とする構成9に記載の投射型表示装置。
[構成11]
前記第1インテグレータ照明系および前記第2インテグレータ照明系は、前記光拡散素子を透過したレーザ光が入射されるロッドと、前記ロッドの出射面の像を転写するリレーレンズと、を備える、
ことを特徴とする構成1乃至10のいずれか1項に記載の投射型表示装置。
[構成12]
前記ロッドは、光学材料から成る角柱か、または内面が反射面である中空の筒である、
ことを特徴とする構成11に記載の投射型表示装置。
[構成13]
前記第1インテグレータ照明系、前記第2インテグレータ照明系、前記転写光学系のいずれかは、アナモフィックレンズを含む、
ことを特徴とする構成1乃至12のいずれか1項に記載の投射型表示装置。
[構成14]
前記転写光学系は、前記第1波長の前記矩形の照射領域と前記第2波長の前記矩形の照射領域を、拡散板に拡大転写する第1転写光学系と、
前記拡散板に拡大転写された前記第1波長の前記矩形の照射領域および前記第2波長の前記矩形の照射領域を、前記反射型光変調素子に拡大転写する第2転写光学系と、を備える、
ことを特徴とする構成1乃至13のいずれか1項に記載の投射型表示装置。
[構成15]
第3波長で発光する複数の半導体レーザから出力される複数のレーザビームをコリメートする第3コリメートレンズと、第3インテグレータ照明系と、第3偏向部と、をさらに備え、
前記第3コリメートレンズによりコリメートされた前記第3波長の前記複数のレーザビームは、前記第2集光レンズにより集光されて前記光拡散素子に集光され、
前記光拡散面で拡散された前記第3波長のレーザビームは、前記第3インテグレータ照明系により重ね合わされて前記第3波長の矩形の照射領域を形成し、
前記第3偏向部は、前記第3インテグレータ照明系により前記第3波長の前記矩形の照射領域が形成される位置よりも前記第3インテグレータ照明系に近い位置に配置され、
前記転写光学系は、前記第1偏向部により偏向走査される前記第1波長の前記矩形の照射領域と、前記第2偏向部により偏向走査される前記第2波長の前記矩形の照射領域と、前記第3偏向部により偏向走査される前記第3波長の前記矩形の照射領域を、前記反射型光変調素子に拡大転写する、
ことを特徴とする構成1乃至14のいずれか1項に記載の投射型表示装置。
[構成16]
第1波長で発光する複数の半導体レーザから出力される複数のレーザビームをコリメートする第1コリメートレンズと、
第2波長で発光する複数の半導体レーザから出力される複数のレーザビームをコリメートする第2コリメートレンズと、
前記第1コリメートレンズによりコリメートされた前記複数のレーザビームと、前記第2コリメートレンズによりコリメートされた前記複数のレーザビームとを重ね合わせて合成する合成手段と、
前記合成手段で合成された前記複数のレーザビームを集光する第1集光レンズと、
前記第1集光レンズにより集光された前記複数のレーザビームの照射スポットよりも広い面積の光拡散面を備えた光拡散素子と、
前記光拡散面で拡散された前記複数のレーザビームの中の前記第1波長のレーザビームを重ね合わせて前記第1波長の矩形の照射領域を形成する第1インテグレータ照明系と、
前記光拡散面で拡散された前記複数のレーザビームの中の前記第2波長のレーザビームを重ね合わせて前記第2波長の矩形の照射領域を形成する第2インテグレータ照明系と、
前記第1インテグレータ照明系により前記第1波長の前記矩形の照射領域が形成される位置よりも前記第1インテグレータ照明系に近い位置に配置された第1偏向部と、
前記第2インテグレータ照明系により前記第2波長の前記矩形の照射領域が形成される位置よりも前記第2インテグレータ照明系に近い位置に配置された第2偏向部と、
前記第1偏向部により偏向走査される前記第1波長の前記矩形の照射領域と、前記第2偏向部により偏向走査される前記第2波長の前記矩形の照射領域を、反射型光変調素子に拡大転写する転写光学系と、
前記反射型光変調素子が出力する映像光を投射する投射レンズと、を備え、
第1インテグレータ照明系と第2インテグレータ照明系は、前記光拡散面を透過した前記複数のレーザビームが入射されるロッドを共用し、
前記第1インテグレータ照明系は、前記ロッドから出射する前記複数のレーザビームから前記第1波長のレーザビームを分離する分離素子と、前記ロッドの出射面の像を転写するリレーレンズとを備え、
前記第2インテグレータ照明系は、前記ロッドから出射する前記複数のレーザビームから前記第2波長のレーザビームを分離する分離素子と、前記ロッドの出射面の像を転写するリレーレンズとを備える、
ことを特徴とする投射型表示装置。
[構成17]
前記光拡散素子は、前記光拡散面を移動させることにより、前記光拡散面における前記複数のレーザビームの照射スポットの位置を動的に変更することが可能である、
ことを特徴とする構成16に記載の投射型表示装置。
[構成18]
前記光拡散素子は、回転軸を中心とする円周に沿って形成された前記光拡散面を備え、前記光拡散面は前記回転軸を中心に回転可能である、
ことを特徴とする構成16または17に記載の投射型表示装置。
【符号の説明】
【0143】
11・・・半導体レーザ/12・・・発光部/102・・・コリメートレンズ/190・・・投映スクリーン/201、201B、201G、201R・・・前側転写レンズ/202・・・後側転写レンズ/210・・・偏向器/210B・・・B用偏向器/210G・・・G用偏向器/210R・・・R用偏向器/211・・・基体/212・・・モータ/213・・・反射面/214・・・ビーム照射位置/225・・・光合成部/221a、221b、223、224、224a、224b、231~237・・・ダイクロイックミラー/310a・・・拡散板/320・・・第2転写光学系/321・・・前側転写レンズ/322・・・後側転写レンズ/330、331a~330c、331e~330i・・・光路変換ミラー/340・・・反射型光変調素子/350・・・TIRプリズム/360・・・投射レンズ/401・・・集光レンズ/402、402a、402b・・・光拡散素子/403、403GB、403R・・・ロッドインテグレータ/406・・・リレーレンズ/406a・・・前側凸レンズ/406b・・・後側凸レンズ/1004~1009・・・投射型表示装置/DIF、DIF1、DIF2・・・光拡散面/IM1・・・矩形の照射領域/IM2・・・2次転写像/IM3・・・3次転写像/INT・・・インテグレータ照明系/LM、LM-B、LM-G、LM-R・・・レーザモジュール/SUB・・・透光性基板
【要約】
【課題】画像信号に応じてレーザ光を変調して投射する投射型画像表示装置の分野において、小型で、駆動制御が容易で、光利用効率が高い装置の実現が期待されていた。
【解決手段】コリメートされた第1波長の複数の半導体レーザのレーザビームを集光する第1集光レンズと、コリメートされた第2波長の複数の半導体レーザのレーザビームを集光する第2集光レンズと、第1集光レンズにより集光された第1波長のレーザビームの照射スポットおよび第2集光レンズにより集光された第2波長のレーザビームの照射スポットのいずれよりも広い面積の光拡散面を備えた光拡散素子と、光拡散面で拡散された第1波長のレーザビームを重ね合わせて第1波長の矩形の照射領域を形成する第1インテグレータ照明系と、光拡散面で拡散された第2波長のレーザビームを重ね合わせて第2波長の矩形の照射領域を形成する第2インテグレータ照明系を備える投射型表示装置である。
【選択図】図1
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7
図8
図9
図10
図11
図12
図13
図14
図15
図16
図17
図18
図19
図20
図21
図22
図23
図24
図25