(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-05-10
(45)【発行日】2024-05-20
(54)【発明の名称】コーティングされたガラス板
(51)【国際特許分類】
C03C 17/36 20060101AFI20240513BHJP
B32B 7/023 20190101ALI20240513BHJP
B32B 9/00 20060101ALI20240513BHJP
B32B 17/00 20060101ALI20240513BHJP
C03C 27/06 20060101ALI20240513BHJP
G02B 5/26 20060101ALI20240513BHJP
G02B 5/28 20060101ALI20240513BHJP
【ＦＩ】
C03C17/36
B32B7/023
B32B9/00 A
B32B17/00
C03C27/06 101H
G02B5/26
G02B5/28
【請求項の数】
23
(21)【出願番号】P 2021532157
(86)(22)【出願日】2019-12-09
(65)【公表番号】
(43)【公表日】2022-02-01
(86)【国際出願番号】 GB2019053468
(87)【国際公開番号】W WO2020115507
(87)【国際公開日】2020-06-11
【審査請求日】2022-10-25
(31)【優先権主張番号】1820002.2
(32)【優先日】2018-12-07
(33)【優先権主張国・地域又は機関】GB
(73)【特許権者】
【識別番号】591229107
【氏名又は名称】ピルキントン グループ リミテッド
(74)【代理人】
【識別番号】100147485
【弁理士】
【氏名又は名称】杉村 憲司
(74)【代理人】
【識別番号】230118913
【弁護士】
【氏名又は名称】杉村 光嗣
(74)【代理人】
【識別番号】100195556
【弁理士】
【氏名又は名称】柿沼 公二
(72)【発明者】
【氏名】トーマス ポール
(72)【発明者】
【氏名】アクセル ノッテ
(72)【発明者】
【氏名】トビアス ブレイル
【審査官】永田 史泰
(56)【参考文献】
【文献】特表２０１８－５２０９８２（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２００７－１０６６６８（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０３Ｃ１７／００－１７／４４
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
多層コーティングスタックを備える透明基板であって、前記コーティングスタックは、（ｉ）ｎ個の機能金属層、ｍおよび
（ｉｉ）ｎプラス１（ｎ＋１）個の誘電体層、ｄを備え、ここで、前記誘電体層は、各機能金属層の前後に配置され、
ここで、ｎは、前記基板から数えたスタック中の機能金属層の総数であり、４以上であり、
ここで、各誘電体層は、１つ以上の層を備え、
多層コーティングスタック中の各機能金属層の幾何学的層の厚さＧｍは、多層コーティングスタック中のその前に現れる各機能金属層の前記幾何学的層の厚さよりも大きく、すなわち、
Ｇｍｉ＋１＞Ｇｍｉ
であり、
ここで、ｉは、前記基板から数えられる前記多層コーティングスタック内の前記機能金属層の位置であり、ここで、
各機能金属層ｍの前後に位置する各誘電体層ｄについて、各誘電体層の光学層の厚さ（ｏｐｌｎ）は、前記コーティングスタック内のその前に配置された誘電体層の光学層の厚さ（ｏｐｌｎ－１）以上であり、ただし、
前記コーティングスタックの第１誘電体層の前記光学層の厚さ（ｏｐｌ１）の２倍は、前記コーティングスタックの第２誘電体層の前記光学層の厚さ（ｏｐｌ２）よりも小さい、すなわち（２ｘｏｐｌ１）＜ｏｐｌ２であり、
前記コーティングスタックの最後の誘電体層の光学層の厚さ（ｏｐｌｎ＋１）の２倍は、最後から２番目の誘電体層の光学層の厚さ（ｏｐｌｎ）よりも大きい、すなわち、（ｏｐｌｎ）＜（ｏｐｌｎ＋１）ｘ２である、
多層コーティングスタックを備える透明基板。
【請求項2】
前記機能金属層は、銀を備える、請求項１に記載の透明基板。
【請求項3】
前記多層コーティングスタック内の機能金属層の数ｎは、４から６を含む、請求項１または２に記載の透明基板。
【請求項4】
前記多層コーティングスタック内の前記機能金属層の数は、４を含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の透明基板。
【請求項5】
各誘電体層は、ＴｉＯｘ、ＳｎＯ２、ＺｎＯ、ＺＡＯ、ＺｎＯ：Ａｌ、ＺｒＯｘ、ＴｉＯｘ、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、Ｉｎ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２または合金またはＺｎＳｎＯｘ、ＩｎＳｎＯｘ、および／またはシリコンの（酸）窒化物および／またはアルミニウムの（酸）窒化物および／またはそれらの合金を含むそれらの混合物から選択される材料の１つ以上の層を備える、請求項１から４のいずれか一項に記載の透明基板。
【請求項6】
前記多層コーティングスタックは、第１の誘電体層、ｄ１と、
第１の機能金属層ｍ１と、
第２の誘電体層、ｄ２と、
第２の機能金属層ｍ２と、
第３の誘電体層、ｄ３と、
第３の機能金属層ｍ３と、
第４の誘電体層、ｄ４と、
を備える、請求項１から５のいずれか一項に記載の透明基板。
【請求項7】
前記多層コーティングスタックは、第１の誘電体層、ｄ１と、
第１の機能金属層ｍ１と、
第２の誘電体層、ｄ２と、
第２の機能金属層ｍ２と、
第３の誘電体層、ｄ３と、
第３の機能金属層ｍ３と、
第４の誘電体層、ｄ４と、
第４の機能金属層ｍ４と、
第５の誘電体層、ｄ５と、
を備える、請求項１から６のいずれか一項に記載の透明基板。
【請求項8】
各機能金属層は、５～２５ｎｍの厚さを備える、請求項１から７のいずれか一項に記載の透明基板。
【請求項9】
前記第１の誘電体層ｄ１は、前記透明基板からチタン（Ｔｉ）の酸化物に基づく層、および／または亜鉛（Ｚｎ）の酸化物に基づく層を順に備える、請求項６、７、または８に記載の透明基板。
【請求項10】
前記第２、第３、第４および第５の誘電体層ｄ２、ｄ３、ｄ４およびｄ５はそれぞれ、前記透明基板から、（ｉ）亜鉛（Ｚｎ）の酸化物に基づく層および
（ｉｉ）亜鉛（Ｚｎ）およびスズ（Ｓｎ）の酸化物、および／またはスズ（Ｓｎ）の酸化物に基づく層、
を順に備える、請求項６、７、８または９に記載の透明基板。
【請求項11】
第３の誘電体層ｄ３は、チタン（Ｔｉ）の酸化物に基づく層をさらに備える、請求項１０に記載の透明基板。
【請求項12】
第５の誘電体層ｄ５は、ジルコニウム（Ｚｒ）の酸化物に基づく層をさらに備える、請求項７から１１のいずれか一項に記載の透明基板。
【請求項13】
前記第１の誘電体層ｄ１の光学層の厚さが３０～７０ｎｍの範囲である、請求項６から１２のいずれか一項に記載の透明基板。
【請求項14】
前記第２の誘電体層ｄ２の光学層の厚さは、６０～１８０ｎｍの範囲である、請求項６から１３のいずれか一項に記載の透明基板。
【請求項15】
前記第３の誘電体層ｄ３の光学層の厚さは、７０～２００ｎｍの範囲である、請求項６から１４のいずれか一項に記載の透明基板。
【請求項16】
前記第４の誘電体層ｄ４の光学層の厚さは、８０～２２０ｎｍの範囲である、請求項６から１５のいずれか一項に記載の透明基板。
【請求項17】
第５の誘電体層ｄ５の光学層の厚さは、４５～１２０ｎｍの範囲である、請求項６から１６のいずれか一項に記載の透明基板。
【請求項18】
前記コーティングスタックは、ＮｉＣｒに基づく１つ以上の層をさらに備える、請求項６から１７のいずれか一項に記載の透明基板。
【請求項19】
前記ＮｉＣｒに基づく層または各ＮｉＣｒに基づく層は、１つ以上の銀機能層と直接接触している、請求項１８に記載の透明基板。
【請求項20】
請求項１から１９のいずれか一項に記載の多層コーティングスタックを有する透明基板を組み込んだ二重グレージングユニット。
【請求項21】
０°から６０°までのａ＊およびｂ＊の外部反射についての角度依存性は、５以下を含み、より好ましくは４．０以下、最も好ましくは、３．０以下を含む、請求項２０に記載の二重グレージングユニット。
【請求項22】
３％の厚さ変化を伴うカラーシフトは、５以下、より好ましくは４．０以下、最も好ましくは、３．０以下を含む、請求項２０または２１に記載の二重グレージングユニット。
【請求項23】
１．９以上、より好ましくは２．０以上、最も好ましくは２．１以上の選択性をさらに含む、請求項２０、２１または２２に記載の二重グレージングユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、コーティングを有する基板に関する。より具体的には、本発明は、コーティングを有する透明基板に関し、当該コーティングは、複数の層を備え、そのうちの複数は太陽放射および／または赤外線を反射する機能層を備える。
【背景技術】
【0002】
例えばガラスを備える透明な基板は、基板が例えば建物に設置されたときに、例えば建物の内部から放出される赤外線を反射することによって基板の放射率を低下させ断熱特性を達成するコーティング（「低放射率（ｌｏｗ－ｅ）コーティング」）および／またはその太陽光エネルギー透過率を低下させて過剰な量の太陽光エネルギー（熱）の侵入から内部の部屋を遮蔽するコーティング（「太陽光制御コーティング」）を提供し得る。
【0003】
ガラス基板に適用されたときにそのような低放射率（ｌｏｗ－ｅ）および／または太陽光制御を提供するコーティングは、例えば、スパッタリングなどの物理蒸着プロセスによって堆積され得る。スパッタされた低放射率および太陽光制御コーティングスタックは、通常、例えば、
「基板／ベース誘電体層シーケンスａ／［銀（Ａｇ）／誘電体層シーケンス］ｂ」（ａおよびｂの誘電体シーケンスのそれぞれが必ずしも同じ厚さまたは組成を有するとは限らない）、
のような、繰り返しシーケンスで構成される。
「基板／ベース誘電体層シーケンスａ／［銀（Ａｇ）／誘電体層シーケンス］ｂ」（ａおよびｂの誘電体シーケンスのそれぞれが必ずしも同じ厚さまたは組成を有するとは限らない）、
のような、繰り返しシーケンスで構成される。
【0004】
このタイプの層システムでは、銀層は主に赤外線（ＩＲ）反射層として機能するが、スペクトルの可視領域における透過率と反射特性に、同様に熱エネルギーとして放出されるエネルギー、つまりコーティングされたガラス基板の放射率と太陽光エネルギー透過率に、影響を与えるために、材料と厚さを適切に選択することにより、誘電体層（「ＤＬ」）層を使用し得る。
【0005】
反射は、ガラス基板を通しての視界に悪影響を及ぼす。この問題は、ガラス基板を通してのはっきりした視界がそれらの機能にとって重要である用途にとって特に重要である。
【0006】
さらに、ガラス製造業界からは、断熱特性と望ましい低放射率の観点で自動車および建築用グレージングの厳しい性能要件を満たすコーティングされたガラス基板に対する継続的な需要があり、その結果、さらに複雑化した層シーケンス（またはスタック）は、さまざまな誘電体材料に基づいてガラス基板をコーティングするために使用される。その結果、ガラス製造業界では、コーティングされた基板の誘電体シーケンスの数が２または３になることがより一般的になっている。
【0007】
例えば、国際公開第２０１１／０２０９７４号（ＷＯ２０１１／０２０９７４）には、少なくとも３つの金属機能層と金属機能層のいずれかの側に配置された４つの反射防止コーティングとの交互のアレイを備え、反射防止コーティングは複数の層をも備える、薄膜多層構造を有する透明ガラス基板が記載されている。
【0008】
米国特許第５，５９５，８２５号明細書（ＵＳ ５，５９５，８２５）には、スペクトルの赤外線（ＩＲ）部分で反射特性を有する少なくとも３つのフィルムを備えるフィルムスタックでコーティングされた基板が開示されており、これは高い選択性、すなわち、ＴＬの特定の値について、高い光透過率ＴＬに対する日射透過率（ＳＦ）の比（ＴＬ／ＳＦ）を有する。
【0009】
米国特許出願公開第２０１３／００５７９５１号明細書（ＵＳ２０１３／００５７９５１）は、例えば銀およびｎ＋１誘電体層に基づくｎ機能層を有する層システムを記載している。非常に重要なのは、スタック内に配置された吸収層である。
【0010】
米国特許出願公開第２０１７／００５９７５３号明細書（ＵＳ２０１７／００５９７５３）は、少なくとも１つの吸収層を有する複数の金属機能層（例えば銀）を有するフィルムについても記載している。機能層は、位相調整層（誘電体層）に囲まれている。
【0011】
中国特許出願公開第１０２３７２４４７号明細書（ＣＮ１０２３７２４４７）は、米国特許出願公開第２０１７／００５９７５３号明細書（ＵＳ２０１１／０１６９４０２）と同様に、自動車および建築用ガラス用の４つの銀コーティング層を含有する低放射率ガラスを開示しているが、米国特許出願公開第２０１７／００５９７５３号明細書（ＵＳ２０１１／０１６９４０２）には、銀層および誘電体層の厚さに関係に関する具体的な教示は存在しない。
【0012】
同様に、米国特許出願公開第２０１４／０３４７７２２号明細書（ＵＳ２０１４／０３４７７２２）、米国特許出願公開第２０１８／０１９４６７５号明細書（ＵＳ２０１８／０１９４６７５）、および米国特許出願公開第２０１８／０１９４６７６号明細書（ＵＳ２０１８／０１９４６７６）には、３つの銀層を有するコーティング層システムが記載されているが、いずれの文献にも本発明で指定された銀層と誘電体層との間の関係は教示されていない。
【0013】
しかしながら、スパッタされた誘電体層は、例えば銀などのスパッタされた金属層よりも厚く、堆積が遅いので、ガラス基板上への複雑な層シーケンスの堆積は、しばしば、生産コーティングプラントにおいて多数のカソードを必要とする。
【0014】
以前は、ガラス基板へのいくつかの複雑なコーティングスタックの堆積は、必要な厚さ、量、および順序のコーティング材料を堆積できる十分な数のカソードを実現するために、ガラス製造工場のコーティングラインに高価な拡張機能を設置することによって対処されていた。
【0015】
これにより、増築部に追加のポンプセクションも設置され、複数の反応性堆積プロセスを順番に実行することが可能となった。ただしこれは、必要なエンジニアリングの導入を完了するために、コーティングラインを通常長期間停止する必要があるため、多大な費用がかかり、多くの場合大きな混乱を伴う。新しいカソードとポンプの各セクションには、付属電源、真空ポンプ、コンベヤセクション、サービス、計測設備、および制御システムへの組み込みも必要である。このような変更は、多くの場合、下流のロジスティクスの再構築につながり、場合によっては新しい土木工事や建物の拡張にさえつながる。複数の金属層および／またはより複雑なスタックの要件がますます一般的になるにつれて、これらの問題は増加するように定められている。
【0016】
さらに、コーティングシーケンスで銀などの機能金属層の数を増やすと、コーティングされた基板の太陽光保護特性を最適化できるが、機能金属銀層の数を増やすと、ガラス基板の光透過率ＴＬに悪影響を及ぼす。
【0017】
コーティングされた基板の層数の増加のさらなる効果は、異なる角度で見たときにコーティングの外側の色の反射に変化をもたらすことである。したがって、中間色および効率的な光透過性を提供するという点でガラス産業の要件を満たすだけでなく、必要な熱的および太陽光特性も提供することが可能なコーティングされたガラス基板の需要が存在する。
【0018】
したがって、本発明の目的は、適切な光学特性および熱特性を提供する、改良された透明なガラス基板を提供することである。
【0019】
すなわち、本発明は、例えば、保管、輸送、および使用中の通常の環境影響に耐えることが可能であり、必要な実質的中間色および光学特性を提供する、低放射率（ｌｏｗ－ｅ）および／または太陽光制御コーティングガラス基板を提供することを目的とする。
【0020】
本発明のさらなる目的は、コーティングされたガラス基板に、高い選択性、すなわち好ましくは２．０よりも大きい（ここで、選択性＝二重グレージングユニット（ＤＧＵ）の光透過率とｇ値との比）値、および低いシート抵抗に対応する、低い放射率値、すなわち好ましくは３％未満であり、を提供することである。コーティングされたガラス基板で調整された建物における二重グレージングユニット（ＤＧＵ）の場合、コーティングされたガラスにおいて外部反射で均一な色を有することが非常に望ましい。これを達成し、優れた美的外観を示すには、コーティングされたガラス基板の外部反射の色の変化を、さまざまな視野角で観察したときに最小限に抑えることが重要である。
【0021】
コーティングされたガラス基板の製造では厚さの変動が発生し得るため、建物のファサードの均一な色の外観を確保するために、コーティングされたガラス基板をはめこんだ二重グレージングユニットを同じものに取り付けたときにコーティングの厚さの変動に関連する色の変動を最小限に抑えることが非常に重要である。
【0022】
したがって、要約すると、本発明は、上記で詳述した従来技術のプロセスおよび製品に関連する問題に対処すること、およびガラス産業が必要とする光学特性、例えばヘイズ、光透過率、および特に重要な色、を満たす経済的に効率的で商業的に望ましいコーティングされたガラス基板を提供しようとすることを目的とする。
【0023】
したがって、本発明の第一の態様によれば、
多層コーティングスタックを備える透明基板であって、当該コーティングスタックは、
（ｉ）ｎ個の機能金属層、ｍ、と、
（ｉｉ）ｎプラス１（ｎ＋１）個の誘電体層、ｄと、を備え、ここで、当該誘電体層は、各機能金属層の前後に配置され、
ここで、ｎは、当該基板から数えたスタック中の機能金属層の総数であり、３以上であり、
ここで、各誘電体層は、１つ以上の層を備え、
多層コーティングスタック中の各機能金属層の幾何学的層の厚さＧｍは、多層コーティングスタック中のその前に現れる各機能金属層の当該幾何学的層の厚さよりも大きく、すなわち、
Ｇｍｉ＋１＞Ｇｍｉ
であり、
ここで、ｉは、当該基板から数えられる当該多層コーティングスタック内の当該機能金属層の位置であり、ここで、
各機能金属層ｍの前後に位置する各誘電体層ｄについて、各誘電体層の光学層の厚さ（ｏｐｌｎ）は、当該コーティングスタック内のその前に配置された誘電体層の光学層の厚さ（ｏｐｌｎ－１）以上であり、ただし、
当該コーティングスタックの第１誘電体層の当該光学層の厚さ（ｏｐｌ１）の２倍は、当該コーティングスタックの第２誘電体層の当該光学層の厚さ（ｏｐｌ２）よりも小さい、すなわち（２ｘｏｐｌ１）＜ｏｐｌ２であり、
当該コーティングスタックの最後の誘電体層の光学層の厚さ（ｏｐｌｎ＋１）の２倍は、最後から２番目の誘電体層の光学層の厚さ（ｏｐｌｎ）よりも大きい、すなわち、（ｏｐｌｎ）＜（ｏｐｌｎ＋１）ｘ２である、
多層コーティングスタックを備える透明基板、を提供する。
多層コーティングスタックを備える透明基板であって、当該コーティングスタックは、
（ｉ）ｎ個の機能金属層、ｍ、と、
（ｉｉ）ｎプラス１（ｎ＋１）個の誘電体層、ｄと、を備え、ここで、当該誘電体層は、各機能金属層の前後に配置され、
ここで、ｎは、当該基板から数えたスタック中の機能金属層の総数であり、３以上であり、
ここで、各誘電体層は、１つ以上の層を備え、
多層コーティングスタック中の各機能金属層の幾何学的層の厚さＧｍは、多層コーティングスタック中のその前に現れる各機能金属層の当該幾何学的層の厚さよりも大きく、すなわち、
Ｇｍｉ＋１＞Ｇｍｉ
であり、
ここで、ｉは、当該基板から数えられる当該多層コーティングスタック内の当該機能金属層の位置であり、ここで、
各機能金属層ｍの前後に位置する各誘電体層ｄについて、各誘電体層の光学層の厚さ（ｏｐｌｎ）は、当該コーティングスタック内のその前に配置された誘電体層の光学層の厚さ（ｏｐｌｎ－１）以上であり、ただし、
当該コーティングスタックの第１誘電体層の当該光学層の厚さ（ｏｐｌ１）の２倍は、当該コーティングスタックの第２誘電体層の当該光学層の厚さ（ｏｐｌ２）よりも小さい、すなわち（２ｘｏｐｌ１）＜ｏｐｌ２であり、
当該コーティングスタックの最後の誘電体層の光学層の厚さ（ｏｐｌｎ＋１）の２倍は、最後から２番目の誘電体層の光学層の厚さ（ｏｐｌｎ）よりも大きい、すなわち、（ｏｐｌｎ）＜（ｏｐｌｎ＋１）ｘ２である、
多層コーティングスタックを備える透明基板、を提供する。
【0024】
すなわち、例えば、本発明に関連して、多層コーティングスタックが３つの銀層を備えるとき、各誘電体の光学層の厚さは、次のように表され得る。
（２ｘｏｐｌ１）＜ｏｐｌ２≦ｏｐｌｎ＜（ｏｐｌｎ＋１ｘ２）
ここで、ｎは３であり、機能金属銀層の数に等しい。
（２ｘｏｐｌ１）＜ｏｐｌ２≦ｏｐｌｎ＜（ｏｐｌｎ＋１ｘ２）
ここで、ｎは３であり、機能金属銀層の数に等しい。
【0025】
多層コーティングスタックが４つの銀層を備えるとき、各誘電体の光学層の厚さは、次のように表され得る。
（２ｘｏｐｌ１）＜ｏｐｌ２≦ｏｐｌ３≦ｏｐｌｎ＜（ｏｐｌｎ＋１ｘ２）
ここで、ｎは４であり、機能金属銀層の数に等しい。
（２ｘｏｐｌ１）＜ｏｐｌ２≦ｏｐｌ３≦ｏｐｌｎ＜（ｏｐｌｎ＋１ｘ２）
ここで、ｎは４であり、機能金属銀層の数に等しい。
【0026】
多層コーティングスタックが５つの銀層を備えるとき、各誘電体の光学層の厚さは、次のように表され得る。
（２ｘｏｐｌ１）＜ｏｐｌ２≦ｏｐｌ３≦ｏｐｌ４≦ｏｐｌｎ＜（ｏｐｌｎ＋１ｘ２）
ここで、ｎは５であり、機能金属銀層の数に等しく、多層コーティングスタックが６つの銀層を備えるとき、各誘電体の光学層の厚さは次のように表され得る。
（２ｘｏｐｌ１）＜ｏｐｌ２≦ｏｐｌ３≦ｏｐｌ４≦ｏｐｌ５≦ｏｐｌｎ＜（ｏｐｌｎ＋１ｘ２）
ここで、ｎは５であり、機能金属銀層の数に等しい、などである。
（２ｘｏｐｌ１）＜ｏｐｌ２≦ｏｐｌ３≦ｏｐｌ４≦ｏｐｌｎ＜（ｏｐｌｎ＋１ｘ２）
ここで、ｎは５であり、機能金属銀層の数に等しく、多層コーティングスタックが６つの銀層を備えるとき、各誘電体の光学層の厚さは次のように表され得る。
（２ｘｏｐｌ１）＜ｏｐｌ２≦ｏｐｌ３≦ｏｐｌ４≦ｏｐｌ５≦ｏｐｌｎ＜（ｏｐｌｎ＋１ｘ２）
ここで、ｎは５であり、機能金属銀層の数に等しい、などである。
【0027】
本発明の第１の態様に関して、機能金属層は銀または金を備え得るが、機能金属層は銀を備えることが好ましい。
【0028】
本発明による多層コーティングスタック内の機能金属層の数は、好ましくは３から６を含み得る。より好ましくは、多層コーティングスタック内の機能金属層の数は、４から６を含む。しかしながら、最も好ましくは、多層コーティングスタック内の機能金属層の数は４を含む。
【0029】
本発明の第１の態様による透明基板のコーティングスタックに関して、各誘電体層は、ＴｉＯｘ、ＳｎＯ２、ＺｎＯ、ＺＡＯ、ＺｎＯ：Ａｌ、ＺｒＯｘ、ＴｉＯｘ、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、Ｉｎ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２または合金またはそれらの混合物、例えばＺｎＳｎＯｘ、ＩｎＳｎＯｘおよび／またはシリコン（酸）窒化物および／またはアルミニウム（酸）窒化物および／またはそれらの合金、から選択される材料の１つ以上の層を備える。機能金属層とコーティングスタック内の後続の誘電体層との間に、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｗ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｖまたは合金および混合物、例えば、ＮｉＣｒまたはＮｉＶ、の１つ以上を含む群から選択される吸収層を、任意で適用する。吸収層は、好ましくは、コーティングスタックの光およびエネルギー透過を調節するために使用される。しかしながら、さらに、吸収層は、バリア層としても使用され得る。
【0030】
本発明に関連して、コーティングスタックは、Δａ＊、Δｂ＊≦５の二重グレージングユニット（ＤＧＵ）に配置されたとき、外部反射に対して０°～６０°間の角度カラーシフトを有することが好ましい。これは、最大６０°までのすべての表示角度において、０°視野へのカラーシフトがａ＊およびｂ＊について５未満であることを意味する。
【0031】
より好ましくは、コーティングスタックは、Δｂ＊≦４の二重グレージングユニット（ＤＧＵ）に配置されたとき、外部反射の０°～６０°の角度カラーシフトを有する。最も好ましくは、コーティングスタックは、Δａ＊、Δｂ＊≦３の二重グレージングユニット（ＤＧＵ）に配置されたとき、外部反射の０°～６０°の角度カラーシフトを有する。
【0032】
また、本発明に関して、コーティングスタックは、Δａ＊について５以下、Δｂ＊について５以下の、１つの誘電体または金属層に対して３％（またはそれ以上）の厚さの変動を伴う二重グレージングユニット（ＤＧＵ）中に存在するとき、外部反射に対するカラーシフトを有することが好ましい。つまり、コーティングスタック内の１つの誘電体または金属層がターゲットの厚さを３％変化させた場合、観察されるカラーシフトはａ＊および／またはｂ＊について５未満である。
【0033】
より好ましくは、本発明に関連して、コーティングスタックは、Δａ＊について４以下、Δｂ＊について４以下の、１つの誘電体または金属層の厚さの変動が３％（またはそれ以上）の二重グレージングユニットＤＧＵに存在するとき、外部反射のカラーシフトを有することが好ましい。
【0034】
最も好ましくは、本発明に関連して、コーティングスタックは、Δａ＊について３以下、Δｂ＊について３以下の、１つの誘電体または金属層の厚さの変動が３％（またはそれ以上）の二重グレージングユニットＤＧＵに存在するとき、外部反射のカラーシフトを有することが好ましい。
【0035】
さらに、本発明の第１の態様に関連して、多層コーティングスタックが
第１の誘電体層、ｄ１と、
第１の機能金属層ｍ１と、
第２の誘電体層、ｄ２と、
第２の機能金属層ｍ２と、
第３の誘電体層、ｄ３と、
第３の機能金属層ｍ３と、
第４の誘電体層、ｄ４と、
を備える、透明な基板を提供し得る。
第１の誘電体層、ｄ１と、
第１の機能金属層ｍ１と、
第２の誘電体層、ｄ２と、
第２の機能金属層ｍ２と、
第３の誘電体層、ｄ３と、
第３の機能金属層ｍ３と、
第４の誘電体層、ｄ４と、
を備える、透明な基板を提供し得る。
【0036】
本発明の第１の態様のこの実施形態に関連して、第１、第２、および第３の機能金属層は、それぞれ銀の層を備え得る。
【0037】
また、本発明の第１の態様のこの実施形態に関連して、ガラス基板に最も近い第１の誘電体層ｄ１は、ガラス基板から、チタン（Ｔｉ）の酸化物に基づく層を順番に備え得、あるいは、ガラス基板に最も近い第１の誘電体層ｄ１は、ガラス基板から、チタン（Ｔｉ）の酸化物に基づく層および／または亜鉛（Ｚｎ）の酸化物に基づく層を順番に備え得る。
【0038】
さらに、第２の誘電体層ｄ２は、ガラス基板から、亜鉛の酸化物に基づく層、および亜鉛（Ｚｎ）およびスズ（Ｓｎ）の酸化物に基づく層を順番に備え得る。
【0039】
第３の誘電体層ｄ３は、好ましくは、ガラス基板から、亜鉛（Ｚｎ）の酸化物に基づく層、および／または亜鉛（Ｚｎ）およびスズ（Ｓｎ）の酸化物に基づく層を順番に備え得る。第３の誘電体はまた、ジルコニウム（Ｚｒ）の酸化物に基づく層、および／またはチタンの酸化物に基づく層をも備え得る。第３の誘電体層は、チタンの酸化物に基づく層の上方に位置する亜鉛の酸化物に基づく層をさらに備え得る。
【0040】
第３の金属層と第４の誘電体層シーケンスとの間に、ＮｉＣｒの吸収層も提供され得る。ＮｉＣｒの層は、好ましくは、多層コーティングスタックの光透過率を調整するために提供され得る。
【0041】
結果として、多層コーティングスタックは、好ましくは、
第１の誘電体層、ｄ１と、
第１の機能金属層ｍ１と、
第２の誘電体層、ｄ２と、
第２の機能金属層ｍ２と、
第３の誘電体層、ｄ３と、
第３の機能金属層ｍ３と、
吸収層ａ１と、
第４の誘電体層ｄ４と、
を備え得る。
第１の誘電体層、ｄ１と、
第１の機能金属層ｍ１と、
第２の誘電体層、ｄ２と、
第２の機能金属層ｍ２と、
第３の誘電体層、ｄ３と、
第３の機能金属層ｍ３と、
吸収層ａ１と、
第４の誘電体層ｄ４と、
を備え得る。
【0042】
さらに、第４の誘電体層は、亜鉛（Ｚｎ）の酸化物に基づく層、および／または亜鉛（Ｚｎ）およびスズ（Ｓｎ）の酸化物に基づく層を備え得る。
【0043】
さらに、本発明の第１の態様に関連して、多層コーティングスタックが、
第１の誘電体層、ｄ１と、
第１の機能金属層ｍ１と、
第２の誘電体層、ｄ２と、
第２の機能金属層ｍ２と、
第３の誘電体層、ｄ３と、
第３の機能金属層ｍ３と、
第４の誘電体層ｄ４と、
第４の機能金属層ｍ４と、
第５の誘電体層ｄ５と、
を備える透明な基板を提供し得る。
第１の誘電体層、ｄ１と、
第１の機能金属層ｍ１と、
第２の誘電体層、ｄ２と、
第２の機能金属層ｍ２と、
第３の誘電体層、ｄ３と、
第３の機能金属層ｍ３と、
第４の誘電体層ｄ４と、
第４の機能金属層ｍ４と、
第５の誘電体層ｄ５と、
を備える透明な基板を提供し得る。
【0044】
本発明の第１の態様のこの実施形態に関連して、第１、第２、第３および第４の機能金属層は、銀の層を備え得る。
【0045】
また、第１、第２、第３および第４の誘電体層は上記の通りであり得、第５の誘電体層は、亜鉛（Ｚｎ）の酸化物に基づく層、および／または亜鉛（Ｚｎ）およびスズ（Ｓｎ）の酸化物に基づく層を備え得る。
【0046】
第３の金属層と第４の誘電体層シーケンスとの間に、ＮｉＣｒの吸収層も提供され得る。ＮｉＣｒの層は、好ましくは、多層コーティングスタックの光透過率を調整するために提供され得る。同様に、第４の金属層と第５の誘電体層シーケンスとの間に、ＮｉＣｒの吸収層も提供され得る。
【0047】
結果として、多層コーティングスタックは、好ましくは、
第１の誘電体層、ｄ１と、
第１の機能金属層ｍ１と、
第２の誘電体層、ｄ２と、
第２の機能金属層ｍ２と、
第３の誘電体層、ｄ３と、
第３の機能金属層ｍ３と、
吸収層ａ１と、
第４の誘電体層ｄ４と、
第４の機能金属層ｍ４と、
吸収層ａ２と、
第５の誘電体層ｄ５と、
を備え得る。
第１の誘電体層、ｄ１と、
第１の機能金属層ｍ１と、
第２の誘電体層、ｄ２と、
第２の機能金属層ｍ２と、
第３の誘電体層、ｄ３と、
第３の機能金属層ｍ３と、
吸収層ａ１と、
第４の誘電体層ｄ４と、
第４の機能金属層ｍ４と、
吸収層ａ２と、
第５の誘電体層ｄ５と、
を備え得る。
【0048】
さらに、本発明の第１の態様に関連して、各機能金属層は、５～２５ｎｍの厚さを備え得る。より好ましくは、各機能金属層は、６～２３ｎｍの厚さを備え得る。最も好ましくは、各機能金属層は、８～２１ｎｍの間の厚さを備え得る。
【0049】
好ましくは、本発明の第１の態様に関して、第１の誘電体層ｄ１は、ガラス基板から、チタン（Ｔｉ）の酸化物に基づく層、および／または亜鉛（Ｚｎ）の酸化物に基づく層を順番に備える。
【0050】
また、本発明の第１の態様に関連して、第２、第３、第４および第５の誘電体層ｄ２、ｄ３、ｄ４およびｄ５はそれぞれ、好ましくは、ガラス基板から
（ｉ）亜鉛（Ｚｎ）の酸化物に基づく層および／またはＮｉＣｒに基づく吸収層；および
（ｉｉ）亜鉛（Ｚｎ）およびスズ（Ｓｎ）の酸化物、および／またはスズ（Ｓｎ）の酸化物に基づく層を、
順番に備え得る。
（ｉ）亜鉛（Ｚｎ）の酸化物に基づく層および／またはＮｉＣｒに基づく吸収層；および
（ｉｉ）亜鉛（Ｚｎ）およびスズ（Ｓｎ）の酸化物、および／またはスズ（Ｓｎ）の酸化物に基づく層を、
順番に備え得る。
【0051】
ＮｉＣｒに基づく吸収層もまたコーティングスタックに存在し得る。コーティングスタックは、好ましくは、機能金属層と直接接触し得、亜鉛（Ｚｎ）の酸化物に基づく層の代わりに使用され得る。
【0052】
第３の誘電体層ｄ３は、チタン（Ｔｉ）の酸化物に基づく層を備えることも好ましい。
【0053】
第５の誘電体層ｄ５は、ジルコニウム（Ｚｒ）の酸化物に基づく層をさらに備え得る。
【0054】
また、本発明の第１の態様に関して、第１の誘電体層ｄ１の光学層の厚さは、好ましくは３０～７０ｎｍの範囲である。光学層の厚さは、材料の屈折率（５５０ｎｍの波長で測定）と材料の幾何学的層の厚さとの積に等しい。
【0055】
すなわち、本発明の第１の態様に関して、第１の誘電体層ｄ１の光学層の厚さの２倍は、好ましくは、第２の誘電体層の光学層の厚さｄ２未満である、すなわち、（２ｘｄ１）＜ｄ２である。
【0056】
第２の誘電体層ｄ２の光学層の厚さは、好ましくは６０～１８０ｎｍの範囲である。また、第２の誘電体層の光学層の厚さｄ２は、好ましくは、第３の誘電体層の光学層の厚さｄ３以下、すなわち、ｄ２≦ｄ３である。
【0057】
第３の誘電体層ｄ３の光学層の厚さは、好ましくは７０～２００ｎｍの範囲である。また、第３の誘電体層の光学層の厚さｄ３は、好ましくは、第４の誘電体層の光学層の厚さｄ４以下、すなわち、ｄ３≦ｄ４である。
【0058】
第４の誘電体層ｄ４の光学層の厚さは、好ましくは８０～２２０ｎｍの範囲である。第５の誘電体層ｄ５の光学層の厚さは、好ましくは４５～１２０ｎｍの範囲である。
【0059】
すなわち、本発明の第１の態様に関して、第４の誘電体層ｄ４の光学層の厚さは、好ましくは、第５の誘電体層ｄ５の光学層の厚さの２倍未満、すなわちｄ４＜（２ｘｄ５）である。
【0060】
本発明の第２の態様によれば、本発明の第１の態様による多層コーティングスタックを有する透明基板を組み込んだ二重グレージングユニットが提供される。本発明の第１の態様による透明基板および多層コーティングスタックに関する上記のすべての特徴は、本発明の第２の態様による二重グレージングユニットにも適用されることが好ましい。
【0061】
本発明の第１および第２の態様に関して、透明基板がガラスを備えることが好ましく、より好ましくはフロートガラスを備える。
【0062】
さらに、本発明の第２の態様による二重グレージングユニットに関して、二重グレージングユニットは、１．９以上の選択性を備え得る。より好ましくは、グレージングユニットの選択性は、２．０以上である。最も好ましくは、グレージングユニットの選択性は、２．１以上である。選択性は、二重グレージングユニット（ＤＧＵ）の光透過率とｇ値（総エネルギー透過率）との比である。光透過率およびｇ値は、参照により本明細書に組み込まれる標準ＥＮ ４１０に従って計算される。
【0063】
また、本発明の第２の態様による二重グレージングユニットに関して、二重グレージングユニットは、好ましくは、５以下、より好ましくは４．０以下、最も好ましくは、３．０以下を含む、０°から６０°までのａ＊およびｂ＊外部反射の角度依存性を示す。
【0064】
さらに、本発明の第２の態様による二重グレージングユニットは、好ましくは、５以下、より好ましくは４．０以下、最も好ましくは、３．０以下の１つの層について３％の厚さ変化を伴うカラーシフトをさらに備える。
【図面の簡単な説明】
【0065】
ここで、本発明の実施形態は、非限定的な例として、以下の図１から５を参照して、本明細書で説明される。
【0066】
【図1】二重グレージングユニットの断面図である。
【図2】例１に従ってコーティングされたガラスで作成された、標準的な二重グレージングユニット（ＤＧＵ）対ｂ＊の外部反射の角度依存性（度単位）を表したグラフである。
【図3】例２に従ってコーティングされたガラスで作成された、標準的な二重グレージングユニット（ＤＧＵ）対ｂ＊の外部反射の角度依存性（度単位）を表したグラフである。
【図4】例３に従ってコーティングされたガラスで作成された、標準的な二重グレージングユニット（ＤＧＵ）対ａ＊の外部反射の角度依存性（度単位）を表したグラフである。
【図5】例４に従ってコーティングされたガラスで作成された、標準的な二重グレージングユニット（ＤＧＵ）対ａ＊の外部反射の角度依存性（度単位）を表したグラフである。
【0067】
【発明を実施するための形態】
【0068】
詳細を表１に示す以下の例では、ＡＣおよび／またはＤＣマグネトロン（またはパルスＤＣ）スパッタリングデバイスを使用して、必要に応じて中周波スパッタリングを適用して、コーティングを厚さ６ｍｍの標準フロートガラス板に９０％の範囲の光透過率で堆積した。
亜鉛（Ｚｎ）およびスズ（Ｓｎ）の酸化物の誘電体層は、アルゴン／酸素（Ａｒ／Ｏ２）スパッタ雰囲気で、亜鉛－スズターゲット（重量比Ｚｎ：Ｓｎ約５０：５０）から反応的にスパッタされた。
酸化チタン（ＴｉＯｘ）層は、金属チタン（Ｔｉ）または導電性酸化物チタン（ＴｉＯｘ）ターゲットから、アルゴン／酸素（Ａｒ／Ｏ２）スパッタ雰囲気で堆積された。
ＺｎＯ：Ａｌ成長促進層は、Ａｒ／Ｏ２スパッタ雰囲気中で、Ａｌドープ亜鉛金属ターゲット（アルミニウム（Ａｌ）含有量約２重量％）からスパッタされた。
すべての例で実質的に純粋な銀（Ａｇ）からなる機能層は、酸素を添加せず、残留酸素分圧が１０－４ｍｂａｒ未満のアルゴン（Ａｒ）スパッタ雰囲気で、銀ターゲットからスパッタされた。
銀ベースの機能層の上方にある、ＺＡＯとも呼ばれるＡｌドープ酸化亜鉛のバリア層は、酸素を添加しない純粋アルゴン（Ａｒ）スパッタ雰囲気で、導電性酸化物ターゲットであるＺｎＯｘ：Ａｌターゲットからスパッタされた。
銀ベースの機能層の直上に位置するＮｉＣｒの層（吸収層および／またはバリア層として機能し得る）は、純粋なアルゴンスパッタ雰囲気で金属ＮｉＣｒターゲットからスパッタされた。
亜鉛（Ｚｎ）およびスズ（Ｓｎ）の酸化物の誘電体層は、アルゴン／酸素（Ａｒ／Ｏ２）スパッタ雰囲気で、亜鉛－スズターゲット（重量比Ｚｎ：Ｓｎ約５０：５０）から反応的にスパッタされた。
酸化チタン（ＴｉＯｘ）層は、金属チタン（Ｔｉ）または導電性酸化物チタン（ＴｉＯｘ）ターゲットから、アルゴン／酸素（Ａｒ／Ｏ２）スパッタ雰囲気で堆積された。
ＺｎＯ：Ａｌ成長促進層は、Ａｒ／Ｏ２スパッタ雰囲気中で、Ａｌドープ亜鉛金属ターゲット（アルミニウム（Ａｌ）含有量約２重量％）からスパッタされた。
すべての例で実質的に純粋な銀（Ａｇ）からなる機能層は、酸素を添加せず、残留酸素分圧が１０－４ｍｂａｒ未満のアルゴン（Ａｒ）スパッタ雰囲気で、銀ターゲットからスパッタされた。
銀ベースの機能層の上方にある、ＺＡＯとも呼ばれるＡｌドープ酸化亜鉛のバリア層は、酸素を添加しない純粋アルゴン（Ａｒ）スパッタ雰囲気で、導電性酸化物ターゲットであるＺｎＯｘ：Ａｌターゲットからスパッタされた。
銀ベースの機能層の直上に位置するＮｉＣｒの層（吸収層および／またはバリア層として機能し得る）は、純粋なアルゴンスパッタ雰囲気で金属ＮｉＣｒターゲットからスパッタされた。
【0069】
【表1】
【0070】
表１は、本発明による比較コーティングガラス板およびコーティングガラス板の層シーケンスの詳細を、光透過率（ＴＬ）、ｇ値、選択性、角度０°～６０°測定でのカラーシフトΔａ＊、Δｂ＊、および厚さの変動が３％の場合のカラーシフトΔａ＊、Δｂ＊の観点からの各層シーケンスの結果とともに提供する。すべての値は二重グレージングユニット（ＤＧＵ）の値である。カラーシフトは常に外部反射のシフトである。各例について、層は、各列の上部の層から始まり、示されている順序で６ｍｍのフロートガラス板に堆積された。
【0071】
色特性－各サンプルの色特性は、確立されたＣＩＥ ＬＡＢ Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊座標を使用して測定および報告された（例えば、本明細書が参照により援用する国際公開第２００４／０６３１１１号（ＷＯ２００４／０６３１１１Ａ１）の段落［００３０］および［００３１］に記載されている）。
【0072】
コーティングの光学層の厚さが提供される以下の例では、光学層の厚さは、ＴｉＯｘの屈折率値２．４５、ＺｎＯ：Ａｌ、ＺＡＯの屈折率２．０７、およびＺｎＳｎＯｘの屈折率２．０７を使用して決定される。
【実施例】
【0073】
（実施例１）
実施例１に記載のコーティングシーケンスを、以下のように調製した。６ｍｍのフロートガラス板に、第１の酸化チタン（ＴｉＯｘ）層を適用して、４６．６ｎｍの光学層の厚さｏｐｌ１を有する第１の誘電体コーティングシーケンスを形成した。次に、酸化チタン（ＴｉＯｘ）層の上に、光学的厚さ７．３ｎｍを有するアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ａｌ）の層を適用した。その結果、第１の誘電体層は、５３．９ｎｍの光学的厚さｏｐｌ１で形成される。次に、ＺｎＯ：Ａｌ層の上に、第１の銀機能層（Ａｇ層１）を、９．３ｎｍのコーティング厚さになるまで適用した。次に、４．１ｎｍの光学層の厚さを有するアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）のバリア層を第１の銀機能層（Ａｇ層１）上に堆積させて、１３６．６ｎｍの光学層の厚さを適用した後続のスズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第２のコーティング層シーケンスから、第１の銀機能層を保護した。その結果、組み合わせた光学層の厚さｏｐｌ２が１４０．７ｎｍである、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の層とアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）とを備える、第２の誘電体層シーケンスを形成した。次に、第２の銀機能層（Ａｇ層２）を、１１．５ｎｍの厚さで第２の誘電体層の上方に適用した。これに、光学層の厚さが４．１ｎｍであるアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第２のバリア層が再び続き、第２の銀機能層（Ａｇ層２）の上方に適用された。次に、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第２のバリア層を、６４．２ｎｍの光学層の厚さで、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第２の誘電体コーティング層でコーティングした。第２の酸化チタン（ＴｉＯｘ）層を適用して、７１．１ｎｍの光学層の厚さのコーティングを形成した。第２のアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ａｌ）を７．３ｎｍの光学的厚さで酸化チタンにコーティングし、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の層、酸化チタン（ＴｉＯｘ）の層、アルミニウムドープ酸化亜鉛層（ＺｎＯ：Ａｌ）から形成された、１４６．７ｎｍの光学層厚ｏｐｌ３を備える、第３の誘電体層シーケンスを完成させた。次に、第３の誘電体層シーケンスの上方に、厚さ１５．６ｎｍの第３の銀機能層（Ａｇ層３）を適用した。再び、４．１ｎｍの光学層の厚さを有するアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層を、第３の銀機能層（Ａｇ層３）の上に適用し、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第３層の上方に、光学層の厚さが１５９．４ｎｍのスズおよび酸化亜鉛の第３層（ＺｎＳｎＯｘ）を適用して、組み合わせた光学層の厚さｏｐｌ４が１６３．５ｎｍの第４の誘電体層シーケンスを形成した。次に、厚さ１７．４ｎｍの第４の銀機能層（Ａｇ層４）を、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第３の層の上方に適用した。再び、光学層の厚さが４．１ｎｍのアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層を、第４の銀機能層（Ａｇ層４）の上方に堆積した。最後に、光学層の厚さが８２．８ｎｍのスズおよび酸化亜鉛の第４層（ＺｎＳｎＯｘ）を、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第４層の上方に適用して、８６．９ｎｍの組み合わせた光学層の厚さｏｐｌ５を有する第５誘電体シーケンスを完成させた。したがって、例えば１で表される層シーケンスは、銀機能層の光学層の厚さおよび幾何学的層の厚さに関して、次のように表し得る。
ガラス／ＴｉＯｘ、ｏｐｌ＝４６．６ｎｍ／ＺｎＯ：Ａｌ、ｏｐｌ＝７．３ｎｍ／Ａｇ１ ９．３ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝１３６．６ｎｍ／Ａｇ２ １１．５ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝６４．２ｎｍ／ＴｉＯｘ、ｏｐｌ＝７１，１ｎｍ／ＺｎＯ：Ａｌ、ｏｐｌ＝７．３ｎｍ／Ａｇ３ １５．６ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ １５９．４ｎｍ／Ａｇ４ １７．４ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝８２．８ｎｍ。
実施例１に記載のコーティングシーケンスを、以下のように調製した。６ｍｍのフロートガラス板に、第１の酸化チタン（ＴｉＯｘ）層を適用して、４６．６ｎｍの光学層の厚さｏｐｌ１を有する第１の誘電体コーティングシーケンスを形成した。次に、酸化チタン（ＴｉＯｘ）層の上に、光学的厚さ７．３ｎｍを有するアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ａｌ）の層を適用した。その結果、第１の誘電体層は、５３．９ｎｍの光学的厚さｏｐｌ１で形成される。次に、ＺｎＯ：Ａｌ層の上に、第１の銀機能層（Ａｇ層１）を、９．３ｎｍのコーティング厚さになるまで適用した。次に、４．１ｎｍの光学層の厚さを有するアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）のバリア層を第１の銀機能層（Ａｇ層１）上に堆積させて、１３６．６ｎｍの光学層の厚さを適用した後続のスズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第２のコーティング層シーケンスから、第１の銀機能層を保護した。その結果、組み合わせた光学層の厚さｏｐｌ２が１４０．７ｎｍである、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の層とアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）とを備える、第２の誘電体層シーケンスを形成した。次に、第２の銀機能層（Ａｇ層２）を、１１．５ｎｍの厚さで第２の誘電体層の上方に適用した。これに、光学層の厚さが４．１ｎｍであるアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第２のバリア層が再び続き、第２の銀機能層（Ａｇ層２）の上方に適用された。次に、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第２のバリア層を、６４．２ｎｍの光学層の厚さで、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第２の誘電体コーティング層でコーティングした。第２の酸化チタン（ＴｉＯｘ）層を適用して、７１．１ｎｍの光学層の厚さのコーティングを形成した。第２のアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ａｌ）を７．３ｎｍの光学的厚さで酸化チタンにコーティングし、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の層、酸化チタン（ＴｉＯｘ）の層、アルミニウムドープ酸化亜鉛層（ＺｎＯ：Ａｌ）から形成された、１４６．７ｎｍの光学層厚ｏｐｌ３を備える、第３の誘電体層シーケンスを完成させた。次に、第３の誘電体層シーケンスの上方に、厚さ１５．６ｎｍの第３の銀機能層（Ａｇ層３）を適用した。再び、４．１ｎｍの光学層の厚さを有するアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層を、第３の銀機能層（Ａｇ層３）の上に適用し、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第３層の上方に、光学層の厚さが１５９．４ｎｍのスズおよび酸化亜鉛の第３層（ＺｎＳｎＯｘ）を適用して、組み合わせた光学層の厚さｏｐｌ４が１６３．５ｎｍの第４の誘電体層シーケンスを形成した。次に、厚さ１７．４ｎｍの第４の銀機能層（Ａｇ層４）を、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第３の層の上方に適用した。再び、光学層の厚さが４．１ｎｍのアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層を、第４の銀機能層（Ａｇ層４）の上方に堆積した。最後に、光学層の厚さが８２．８ｎｍのスズおよび酸化亜鉛の第４層（ＺｎＳｎＯｘ）を、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第４層の上方に適用して、８６．９ｎｍの組み合わせた光学層の厚さｏｐｌ５を有する第５誘電体シーケンスを完成させた。したがって、例えば１で表される層シーケンスは、銀機能層の光学層の厚さおよび幾何学的層の厚さに関して、次のように表し得る。
ガラス／ＴｉＯｘ、ｏｐｌ＝４６．６ｎｍ／ＺｎＯ：Ａｌ、ｏｐｌ＝７．３ｎｍ／Ａｇ１ ９．３ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝１３６．６ｎｍ／Ａｇ２ １１．５ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝６４．２ｎｍ／ＴｉＯｘ、ｏｐｌ＝７１，１ｎｍ／ＺｎＯ：Ａｌ、ｏｐｌ＝７．３ｎｍ／Ａｇ３ １５．６ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ １５９．４ｎｍ／Ａｇ４ １７．４ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝８２．８ｎｍ。
【0074】
上記および以下の例に関連して表される「ｏｐｌ」値は、材料の光学層の厚さであり、材料の屈折率と波長５５０ｎｍで測定された材料の幾何学的層の厚さとの積に基づいている。
【0075】
５つの誘電体層シーケンスｏｐ１１からｏｐｌ５のそれぞれの光学層の厚さは、以下のように要約され得る。
ｏｐｌ１＝５３．９ｎｍ、ｏｐｌ２＝１４０．７ｎｍ、ｏｐｌ３＝１４６．７ｎｍ、ｏｐｌ４＝１６３．５ｎｍ、ｏｐｌ５＝８６．９ｎｍ。
ｏｐｌ１＝５３．９ｎｍ、ｏｐｌ２＝１４０．７ｎｍ、ｏｐｌ３＝１４６．７ｎｍ、ｏｐｌ４＝１６３．５ｎｍ、ｏｐｌ５＝８６．９ｎｍ。
【0076】
さらに、実施例１に関して、各銀機能層ｄＡｇの厚さは、ガラス基板までの銀機能層の距離が増加するにつれて増加する。すなわち、例えば、第２の銀機能層ｄＡｇ２の厚さは、第１の銀機能層ｄＡｇ１の厚さよりも大きい。
【0077】
その結果、実施例１に関して、本発明によれば、以下の関係、
（ｉ）銀機能層の厚さに関して、
ｄＡｇ１＜ｄＡｇ２＜ｄＡｇ３＜ｄＡｇ４、
（ｉｉ）各銀機能層の前、後、およびそれらの間の組み合わせた誘電体層シーケンスの厚さに関して、
（ｏｐｌ１ｘ２）＜ｏｐｌ２＜ｏｐｌ３＜ｏｐｌ４＜（ｏｐｌ５ｘ２）
が満たされる。
（ｉ）銀機能層の厚さに関して、
ｄＡｇ１＜ｄＡｇ２＜ｄＡｇ３＜ｄＡｇ４、
（ｉｉ）各銀機能層の前、後、およびそれらの間の組み合わせた誘電体層シーケンスの厚さに関して、
（ｏｐｌ１ｘ２）＜ｏｐｌ２＜ｏｐｌ３＜ｏｐｌ４＜（ｏｐｌ５ｘ２）
が満たされる。
【0078】
図１に示す二重グレージングユニット（ＤＧＵ）１を、例１に示すようにコーティング５を備えた６ｍｍガラスシート２を使用して調整した。すなわち、実施例１に詳述されるようなコーティングを施した厚さ６ｍｍのフロートガラスシート２を、第２の厚さ４ｍｍのコーティングされていないフロートガラスシート３と組み立てた。２枚のガラスシート２、３は、コーティングされたガラスシート２のコーティングされた側５が間隙８に面するように組み立てた（取り付け時にＤＧＵの位置２と呼ばれる）。すなわち、コーティングされたガラスシート２は、コーティングされていないガラスシート３よりも外部環境１０に近く、断熱二重グレージングユニットを形成する。ガラスシートは、それらの間に１６ｍｍの間隙距離を置いて配置され、間隙ギャップ８は、９０％のアルゴンガスおよび１０％の空気充填で満たされた。したがって、コーティングされたガラスシート２のコーティングされていない面４は位置１に存在し、第２のガラスシート３の２つのコーティングされていない面６および７はそれぞれ位置３および４に存在した。位置２にｌｏｗ－ｅコーティングを施した二重グレージングの特性を、ＥＮ ４１０に従って測定した。結果は、表２のとおりである。
【0079】
【表2】
【0080】
表２において、選択性の値は、二重グレージングユニットの光透過率とｇ値との比に等しく、各値は、参照により本明細書に組み込まれるＥＮ４１０を使用して計算される。
【0081】
本発明による実施例１のコーティングで調製されたＤＧＵの外部反射の差は、ａ＊およびｂ＊に関して、０°および６０°の視野角について、Δａ＊＝１．０およびΔｂ＊＝２．９であることがわかった。例１のｂ＊対視野角の変化のグラフ表示を図２に示す。これは、例１で使用したコーティングが必要な限定内にあることを示している。
【0082】
また、本発明による実施例１のコーティングで調整されたＤＧＵに関して、３％の厚さ変化を伴うカラーシフトは、Δａ＊＝２．５およびΔｂ＝＊２．８の場合である。すなわち、本発明によるコーティングを使用して調製されたＤＧＵのΔａ＊およびΔｂ＊の値は、許容限界が５以内であり、また好ましくは限界が４以内であり、特に好ましくは限界が３以内である。
【0083】
（比較例２）
例２に記載のコーティングシーケンスは、以下のように調製された。６ｍｍのフロートガラス板に、第１の酸化チタン（ＴｉＯｘ）層を適用して、光学層の厚さが８０．９ｎｍの第１の誘電体コーティングシーケンスｏｐｌ１を形成した。次に、酸化チタン（ＴｉＯｘ）層の上に、第１の銀機能層（Ａｇ層１）を１４ｎｍのコーティング厚さまで適用した。次に、４．１ｎｍの光学層の厚さを有するアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）のバリア層を第１の銀機能層（Ａｇ層１）上に堆積させて、第１の銀機能層を、１５１．１ｎｍの光学層の厚さで適用されたその後のスズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第２のコーティング層シーケンスから保護した。その結果、組み合わせた光学層の厚さが１５５．２ｎｍの、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の層とアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）とを備える第２の誘電体層シーケンスを形成した。次に、第２の銀機能層（Ａｇ層２）を、１４ｎｍの厚さで、第２の誘電体層の上方に適用した。これに再び、第２の銀機能層（Ａｇ層２）の上方に適用された、４．１ｎｍの光学層の厚さを有するアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第２のバリア層が続く。次に、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第２のバリア層を、７８．７ｎｍの光学層の厚さを有するスズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第２の誘電体コーティング層でコーティングした。第２の酸化チタン（ＴｉＯｘ）層を適用して、光学層の厚さが７３．５ｎｍのコーティングを形成し、１５６．３ｎｍの組み合わせた光学層の厚さを備える、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層、スズのおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の層、および酸化チタン（ＴｉＯｘ）の層から形成された第３の誘電体層シーケンスｏｐｌ３を完成させた。次に、第３の誘電体層シーケンスの上方に、厚さ１４ｎｍの第３の銀機能層（Ａｇ層３）を適用した。再び、４．１ｎｍの光学層の厚さを有するアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層を第３の銀機能層（Ａｇ層３）の上に適用し、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第３層の上方に、１３０．４ｎｍの光学層の厚さを有するスズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第３層を適用して、１３４．６ｎｍの組み合わせ光学層の厚さを有する第４の誘電体層シーケンスｏｐｌ４を形成した。次に、厚さ１４ｎｍの第４の銀機能層（Ａｇ層４）を、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第３の層の上方に適用した。再び、光学層の厚さが４．１ｎｍのアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層を、第４の銀機能層（Ａｇ層４）のコーティングの上方に堆積した。最後に、光学層の厚さが７６．６ｎｍのスズおよび酸化亜鉛の第４の層（ＺｎＳｎＯｘ）を、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第４の層の上方に適用して、８０．７ｎｍの組み合わせた光学層厚さを有する第５の誘電体シーケンスｏｐｌ５を完成させた。
例２に記載のコーティングシーケンスは、以下のように調製された。６ｍｍのフロートガラス板に、第１の酸化チタン（ＴｉＯｘ）層を適用して、光学層の厚さが８０．９ｎｍの第１の誘電体コーティングシーケンスｏｐｌ１を形成した。次に、酸化チタン（ＴｉＯｘ）層の上に、第１の銀機能層（Ａｇ層１）を１４ｎｍのコーティング厚さまで適用した。次に、４．１ｎｍの光学層の厚さを有するアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）のバリア層を第１の銀機能層（Ａｇ層１）上に堆積させて、第１の銀機能層を、１５１．１ｎｍの光学層の厚さで適用されたその後のスズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第２のコーティング層シーケンスから保護した。その結果、組み合わせた光学層の厚さが１５５．２ｎｍの、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の層とアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）とを備える第２の誘電体層シーケンスを形成した。次に、第２の銀機能層（Ａｇ層２）を、１４ｎｍの厚さで、第２の誘電体層の上方に適用した。これに再び、第２の銀機能層（Ａｇ層２）の上方に適用された、４．１ｎｍの光学層の厚さを有するアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第２のバリア層が続く。次に、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第２のバリア層を、７８．７ｎｍの光学層の厚さを有するスズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第２の誘電体コーティング層でコーティングした。第２の酸化チタン（ＴｉＯｘ）層を適用して、光学層の厚さが７３．５ｎｍのコーティングを形成し、１５６．３ｎｍの組み合わせた光学層の厚さを備える、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層、スズのおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の層、および酸化チタン（ＴｉＯｘ）の層から形成された第３の誘電体層シーケンスｏｐｌ３を完成させた。次に、第３の誘電体層シーケンスの上方に、厚さ１４ｎｍの第３の銀機能層（Ａｇ層３）を適用した。再び、４．１ｎｍの光学層の厚さを有するアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層を第３の銀機能層（Ａｇ層３）の上に適用し、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第３層の上方に、１３０．４ｎｍの光学層の厚さを有するスズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第３層を適用して、１３４．６ｎｍの組み合わせ光学層の厚さを有する第４の誘電体層シーケンスｏｐｌ４を形成した。次に、厚さ１４ｎｍの第４の銀機能層（Ａｇ層４）を、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第３の層の上方に適用した。再び、光学層の厚さが４．１ｎｍのアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層を、第４の銀機能層（Ａｇ層４）のコーティングの上方に堆積した。最後に、光学層の厚さが７６．６ｎｍのスズおよび酸化亜鉛の第４の層（ＺｎＳｎＯｘ）を、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第４の層の上方に適用して、８０．７ｎｍの組み合わせた光学層厚さを有する第５の誘電体シーケンスｏｐｌ５を完成させた。
【0084】
したがって、例２の層シーケンスは、次のように表され得る。
ガラス／ＴｉＯｘ、ｏｐｌ＝８０．９ｎｍ／Ａｇ １４ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝１５１．２ｎｍ／Ａｇ １４ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝７８．７ｎｍ／ＴｉＯｘ、ｏｐｌ＝７３．５ｎｍ／Ａｇ １４ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ １３０．４ｎｍ／Ａｇ １４ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝７６．６ｎｍ
ガラス／ＴｉＯｘ、ｏｐｌ＝８０．９ｎｍ／Ａｇ １４ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝１５１．２ｎｍ／Ａｇ １４ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝７８．７ｎｍ／ＴｉＯｘ、ｏｐｌ＝７３．５ｎｍ／Ａｇ １４ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ １３０．４ｎｍ／Ａｇ １４ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝７６．６ｎｍ
【0085】
比較例２における５つの誘電体層シーケンスｏｐ１からｏｐｌ５のそれぞれの光学層の厚さは、以下のように要約され得る。
ｏｐｌ１＝８０．９ｎｍ、ｏｐｌ２＝１５５．２ｎｍ、ｏｐｌ３＝１５６．３ｎｍ、ｏｐｌ４＝１３４．５ｎｍ、ｏｐｌ５＝８０．７ｎｍ
ｏｐｌ１＝８０．９ｎｍ、ｏｐｌ２＝１５５．２ｎｍ、ｏｐｌ３＝１５６．３ｎｍ、ｏｐｌ４＝１３４．５ｎｍ、ｏｐｌ５＝８０．７ｎｍ
【0086】
したがって、比較例２の場合、銀機能層の厚さに関する以下の関係は満たされない。
ｄＡｇ１＜ｄＡｇ２＜ｄＡｇ３＜ｄＡｇ４
ｄＡｇ１＜ｄＡｇ２＜ｄＡｇ３＜ｄＡｇ４
【0087】
代わりに、比較例２の銀機能層の厚さに関して、以下の関係が存在する。
ｄＡｇ１＝ｄＡｇ２＝ｄＡｇ３＝ｄＡｇ４
つまり、各銀機能層の厚さはすべての層で同じである。
ｄＡｇ１＝ｄＡｇ２＝ｄＡｇ３＝ｄＡｇ４
つまり、各銀機能層の厚さはすべての層で同じである。
【0088】
また、比較例２の場合、各銀機能層の前、後、およびそれらの間の組み合わせた誘電体層シーケンスの厚さにする、次の関係
（ｏｐｌ１ｘ２）＜ｏｐｌ２＜ｏｐｌ３＜ｏｐｌ４＜（ｏｐｌ５ｘ２）
は、満たされておらず、代わりに、第１の誘電体層の光学的厚さの２倍（ｏｐｌ１ｘ２）が第２の誘電体層ｏｐｌ２の光学的厚さよりも大きく、組み合わせた光学的厚さ層ｏｐｌ３は、組み合わせた光学的厚さ層ｏｐｌ４よりも大きい。
（ｏｐｌ１ｘ２）＜ｏｐｌ２＜ｏｐｌ３＜ｏｐｌ４＜（ｏｐｌ５ｘ２）
は、満たされておらず、代わりに、第１の誘電体層の光学的厚さの２倍（ｏｐｌ１ｘ２）が第２の誘電体層ｏｐｌ２の光学的厚さよりも大きく、組み合わせた光学的厚さ層ｏｐｌ３は、組み合わせた光学的厚さ層ｏｐｌ４よりも大きい。
【0089】
したがって、比較例２の場合、組み合わせた光学層の厚さの間に以下の関係が存在する。
（ｏｐｌ１ｘ２）＞ｏｐｌ２＜ｏｐｌ３＞ｏｐｌ４＜（ｏｐｌ５ｘ２）
（ｏｐｌ１ｘ２）＞ｏｐｌ２＜ｏｐｌ３＞ｏｐｌ４＜（ｏｐｌ５ｘ２）
【0090】
図１に示されるような二重グレージングユニット（ＤＧＵ）１を、比較例２に記載されるようにコーティング５を有する６ｍｍガラスシート２を使用して調製した。すなわち、例２に詳述されるようなコーティングを施した厚さ６ｍｍのフロートガラスシート２を、第２の厚さ４ｍｍのコーティングされていないフロートガラスシート３と組み立てた。２枚のガラス２、３は、コーティングされたガラス２シートのコーティングされた側５が間隙８に面するように組み立てられ（取り付け時に、ＤＧＵの位置２と呼ばれる）、コーティングされたガラスシート２は、コーティングされていないガラスシート３よりも外部環境１０に近く、断熱二重グレージングユニットを形成する。ガラスシートは、それらの間に１６ｍｍの間隙距離を置いて配置され、間隙ギャップ８は、９０％のアルゴンガスおよび１０％の空気充填で満たされた。したがって、コーティングされたガラスシート２のコーティングされていない面４は位置１に存在し、第２のガラスシート３の２つのコーティングされていない面６および７はそれぞれ位置３および４に存在した。比較例２の位置２にｌｏｗ－ｅコーティングを施した二重グレージングの特性は、ＥＮ４１０に従って測定された。結果は表３のとおりである。
【0091】
【表3】
【0092】
表３において、選択性値は、二重グレージングユニットの光透過率とｇ値との比に等しく、各値は、参照により本明細書に援用されるＥＮ４１０を使用して計算される。
【0093】
比較例２に従って、０°および６０°の視野角についてのコーティングで調製されたＤＧＵの外部反射の差は、ａ＊およびｂ＊に関して、Δａ＊＝３．９およびΔｂ＊＝９．４であることが見出された。例２のｂ＊対視野角の変化のグラフ表示を図３に示す。
【0094】
また、例２のコーティングで調製されたＤＧＵ（本発明によるものではない）に関して、３％の厚さ変化を伴うカラーシフトは、Δａ＊＝６．２およびΔｂ＊＝８．０の場合である。すなわち、比較例２に詳述されたコーティングを使用したＤＧＵのΔａ＊およびΔｂ＊の値は、許容限界である５をはるかに超えている。
【0095】
（例３）
比較例３に記載のコーティングシーケンスを、以下のように調製した。６ｍｍのフロートガラス板に、第１の酸化チタン（ＴｉＯｘ）層を適用して、５３．９ｎｍの光学層の厚さｏｐｌ１を有する第１の誘電体コーティングシーケンスを形成した。次に、酸化チタン（ＴｉＯｘ）層の上に、第１の銀機能層（Ａｇ層１）を１１．３ｎｍのコーティング厚さで適用した。次に、光学層の厚さが４．１ｎｍのアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）のバリア層を第１の銀機能層（Ａｇ層１）上に堆積させて、第１の銀機能層を、１６５．６ｎｍの光学層の厚さで適用されたその後のスズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第２のコーティング層シーケンスから保護した。その結果、１６９．７ｎｍの組み合わせた光学層の厚さｏｐｌ２を有するスズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の層とアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層とを備える、第２の誘電体層シーケンスを形成した。次に、第２の銀機能層（Ａｇ層２）を、１４．６ｎｍの厚さで第２の誘電体層の上方に適用した。これに、光学層の厚さが４．１ｎｍである、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第２のバリア層が再び続き、第２の銀機能層（Ａｇ層２）の上方に適用した。次に、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第２のバリア層を、５１．８ｎｍの光学層の厚さまで、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第２の誘電体コーティング層でコーティングした。第２の酸化チタン（ＴｉＯｘ）層を適用して、８０．９ｎｍの光学層の厚さのコーティングを形成し、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の層、酸化チタン（ＴｉＯｘ）の層から形成された、１３６．８ｎｍの光学層厚さｏｐｌ３を備える、第３の誘電体層シーケンスを完成させた。次に、第３の誘電体層シーケンスの上方に、厚さ１５ｎｍの第３の銀機能層（Ａｇ層３）を適用した。再び、４．１ｎｍの光学層の厚さを有するアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層を、第３の銀機能層（Ａｇ層３）の上に適用し、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第３層の上方に、光学層の厚さが１２８．３ｎｍのスズおよび酸化亜鉛の第３層（ＺｎＳｎＯｘ）を適用して、組み合わせた光学層の厚さｏｐｌ４が１３２．４ｎｍである第４の誘電体層シーケンスを形成した。次に、厚さ１５．５ｎｍの第４の銀機能層（Ａｇ層４）を、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第３の層の上方に適用した。再び、光学層の厚さが４．１ｎｍのアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層を、コーティングされた第４の銀機能層（Ａｇ層４）の上方に堆積した。最後に、光学層の厚さが３１．１ｎｍのスズおよび酸化亜鉛の第４層（ＺｎＳｎＯｘ）を、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第４層の上方に適用して、３５．２ｎｍの組み合わせた光学層の厚さｏｐｌ５を有する第５誘電体シーケンスを完成させた。
比較例３に記載のコーティングシーケンスを、以下のように調製した。６ｍｍのフロートガラス板に、第１の酸化チタン（ＴｉＯｘ）層を適用して、５３．９ｎｍの光学層の厚さｏｐｌ１を有する第１の誘電体コーティングシーケンスを形成した。次に、酸化チタン（ＴｉＯｘ）層の上に、第１の銀機能層（Ａｇ層１）を１１．３ｎｍのコーティング厚さで適用した。次に、光学層の厚さが４．１ｎｍのアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）のバリア層を第１の銀機能層（Ａｇ層１）上に堆積させて、第１の銀機能層を、１６５．６ｎｍの光学層の厚さで適用されたその後のスズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第２のコーティング層シーケンスから保護した。その結果、１６９．７ｎｍの組み合わせた光学層の厚さｏｐｌ２を有するスズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の層とアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層とを備える、第２の誘電体層シーケンスを形成した。次に、第２の銀機能層（Ａｇ層２）を、１４．６ｎｍの厚さで第２の誘電体層の上方に適用した。これに、光学層の厚さが４．１ｎｍである、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第２のバリア層が再び続き、第２の銀機能層（Ａｇ層２）の上方に適用した。次に、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第２のバリア層を、５１．８ｎｍの光学層の厚さまで、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第２の誘電体コーティング層でコーティングした。第２の酸化チタン（ＴｉＯｘ）層を適用して、８０．９ｎｍの光学層の厚さのコーティングを形成し、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の層、酸化チタン（ＴｉＯｘ）の層から形成された、１３６．８ｎｍの光学層厚さｏｐｌ３を備える、第３の誘電体層シーケンスを完成させた。次に、第３の誘電体層シーケンスの上方に、厚さ１５ｎｍの第３の銀機能層（Ａｇ層３）を適用した。再び、４．１ｎｍの光学層の厚さを有するアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層を、第３の銀機能層（Ａｇ層３）の上に適用し、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第３層の上方に、光学層の厚さが１２８．３ｎｍのスズおよび酸化亜鉛の第３層（ＺｎＳｎＯｘ）を適用して、組み合わせた光学層の厚さｏｐｌ４が１３２．４ｎｍである第４の誘電体層シーケンスを形成した。次に、厚さ１５．５ｎｍの第４の銀機能層（Ａｇ層４）を、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第３の層の上方に適用した。再び、光学層の厚さが４．１ｎｍのアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層を、コーティングされた第４の銀機能層（Ａｇ層４）の上方に堆積した。最後に、光学層の厚さが３１．１ｎｍのスズおよび酸化亜鉛の第４層（ＺｎＳｎＯｘ）を、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第４層の上方に適用して、３５．２ｎｍの組み合わせた光学層の厚さｏｐｌ５を有する第５誘電体シーケンスを完成させた。
【0096】
したがって比較例３の層シーケンスは、次のように表され得る。
ガラス／ＴｉＯｘ、ｏｐｌ＝５３．９ｎｍ／Ａｇ １１．３ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝１６５．６ｎｍ／Ａｇ １４．６ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝５１．８ｎｍ／ＴｉＯｘ、ｏｐｌ＝８０．９ｎｍ／Ａｇ １５ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ １２８．３ｎｍ／Ａｇ １５．５ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝３１．１ｎｍ．
ガラス／ＴｉＯｘ、ｏｐｌ＝５３．９ｎｍ／Ａｇ １１．３ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝１６５．６ｎｍ／Ａｇ １４．６ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝５１．８ｎｍ／ＴｉＯｘ、ｏｐｌ＝８０．９ｎｍ／Ａｇ １５ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ １２８．３ｎｍ／Ａｇ １５．５ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝３１．１ｎｍ．
【0097】
５つの誘電体層シーケンスｏｐ１１からｏｐｌ５のそれぞれについて組み合わせた光学層の厚さは、以下のように要約され得る。
ｏｐｌ１＝５３．９ｎｍ、ｏｐｌ２＝１６９．７ｎｍ、ｏｐｌ３＝１３６．８ｎｍ、ｏｐｌ４＝１３２．４ｎｍ、ｏｐｌ５＝３５．２ｎｍ
ｏｐｌ１＝５３．９ｎｍ、ｏｐｌ２＝１６９．７ｎｍ、ｏｐｌ３＝１３６．８ｎｍ、ｏｐｌ４＝１３２．４ｎｍ、ｏｐｌ５＝３５．２ｎｍ
【0098】
銀の機能層に関して、次の関係が存在する。
ｄＡｇ１＜ｄＡｇ２＜ｄＡｇ３＜ｄＡｇ４
ｄＡｇ１＜ｄＡｇ２＜ｄＡｇ３＜ｄＡｇ４
【0099】
しかしながら、各銀機能層の前、後、およびそれらの間の組み合わせた誘電体層シーケンスの厚さに関して、実施例１について観察された関係、すなわち、
（ｏｐｌ１ｘ２）＜ｏｐｌ２＜ｏｐｌ３＜ｏｐｌ４＜（ｏｐｌ５ｘ２）
は、比較例３では満たされていないが、代わりに、第２の誘電体シーケンス層ｏｐ１２の組み合わせた光学的厚さは、組み合わせた光学的厚さ層ｏｐ１１の２倍よりも小さく、組み合わせた光学的厚さ層ｏｐｌ２は、組み合わせた光学的厚さ層ｏｐｌ３よりも大きく、組み合わせた光学的厚さ層ｏｐｌ３は、組み合わせた光学的厚さ層ｏｐｌ４よりも大きい。すなわち、比較例３について、組み合わせた光学的厚さ層の厚さｏｐ１１からｏｐｌ５について、以下の関係が観察される。
（ｏｐｌ１ｘ２）＞ｏｐｌ２＞ｏｐｌ３＞ｏｐｌ４＜（ｏｐｌ５ｘ２）
（ｏｐｌ１ｘ２）＜ｏｐｌ２＜ｏｐｌ３＜ｏｐｌ４＜（ｏｐｌ５ｘ２）
は、比較例３では満たされていないが、代わりに、第２の誘電体シーケンス層ｏｐ１２の組み合わせた光学的厚さは、組み合わせた光学的厚さ層ｏｐ１１の２倍よりも小さく、組み合わせた光学的厚さ層ｏｐｌ２は、組み合わせた光学的厚さ層ｏｐｌ３よりも大きく、組み合わせた光学的厚さ層ｏｐｌ３は、組み合わせた光学的厚さ層ｏｐｌ４よりも大きい。すなわち、比較例３について、組み合わせた光学的厚さ層の厚さｏｐ１１からｏｐｌ５について、以下の関係が観察される。
（ｏｐｌ１ｘ２）＞ｏｐｌ２＞ｏｐｌ３＞ｏｐｌ４＜（ｏｐｌ５ｘ２）
【0100】
図１に示す二重グレージングユニット（ＤＧＵ）１を、比較例３に示すようにコーティング５を備えた６ｍｍガラスシート２を使用して調整した。すなわち、例３に詳述されるようなコーティングを施した厚さ６ｍｍのフロートガラスシート２を、第２の厚さ４ｍｍのコーティングされていないフロートガラスシート３と組み立てた。２枚のガラスシート２、３は、コーティングされたガラスシート３のコーティングされた側５が間隙８に面するように組み立てた（取り付け時にＤＧＵの位置２と呼ばれる）。すなわち、コーティングされたガラスシート５は、コーティングされていないガラスシート３よりも外部環境１０に近く、断熱二重グレージングユニットを形成する。ガラスシートは、それらの間に１６ｍｍの間隙距離を置いて配置され、空間ギャップ８は、９０％のアルゴンガスおよび１０％の空気充填で満たされた。したがって、コーティングされたガラスシート２のコーティングされていない面４は位置１に存在し、第２のガラスシート３の２つのコーティングされていない面６および７はそれぞれ位置３および４に存在した。比較例３の位置２にｌｏｗ－ｅコーティングを施した二重グレージングの特性を、ＥＮ ４１０に従って測定した。結果は、表４のとおりである。
【0101】
【表4】
【0102】
表４において、選択性の値は、二重グレージングユニットの光透過率とｇ値との比に等しく、各値は、参照により本明細書に組み込まれるＥＮ４１０を使用して計算される。
【0103】
比較例３に従ってコーティングで調製したＤＧＵの、視野角が０°および６０°の場合のａ＊およびｂ＊に関する外部反射の差は、Δａ＊＝１２．１およびΔｂ＊＝１．７であることが見出された。例３のａ＊対視野角の変化のグラフ表示を図４に示す。
【0104】
また、例３のコーティングで調製したＤＧＵに関して、３％の厚さ変化を伴うカラーシフトは、Δａ＊＝１０．６およびΔｂ＊＝３．２の場合である。すなわち、比較例３に詳述されたコーティングを使用したＤＧＵのΔａ＊の値は、許容限界である５をはるかに超えている。
【0105】
（実施例４）
例４に記載のコーティングシーケンスを、以下のように調製した。６ｍｍのフロートガラス板に、第１の酸化チタン（ＴｉＯｘ）層を適用して、５５．１ｎｍの光学層の厚さｏｐｌ１を有する第１の誘電体コーティングシーケンスを形成した。次に、酸化チタン（ＴｉＯｘ）層の上に、第１の銀機能層（Ａｇ層１）を８．９ｎｍのコーティング厚さで適用した。次に、光学層の厚さが４．１ｎｍのアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）のバリア層を第１の銀機能層（Ａｇ層１）上に堆積させて、第１の銀機能層を、１３２．５ｎｍの光学層の厚さで適用されたその後のスズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第２のコーティング層シーケンスから保護した。その結果、１３６．６ｎｍの組み合わせた光学層の厚さｏｐｌ２を有するスズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の層とアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）とを備える、第２の誘電体層シーケンスを形成した。次に、第２の銀機能層（Ａｇ層２）を、１２ｎｍの厚さで第２の誘電体層の上方に適用した。これに、光学層の厚さが４．１ｎｍである、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第２のバリア層が再び続き、さらなる銀機能層（Ａｇ層２）の上方に適用した。次に、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層を、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の層で６８．３ｎｍの厚さにコーティングした。次に、厚さ７４．７ ｎｍの酸化チタン（ＴｉＯｘ）の層を適用して、組み合わせた光学層の厚さ１４７．１ｎｍを有する第３の誘電体層シーケンスｏｐｌ３を形成した。次に、第３の誘電体層シーケンスの上方に、厚さ１４．５ｎｍの第３の銀機能層（Ａｇ層３）を適用した。次に、銀の層上に、コーティングの透過を減らすために、厚さ０．３ｎｍのニッケルクロムの吸収層を適用した。光学層の厚さが１６３．５ｎｍのスズおよび酸化亜鉛の第３層（ＺｎＳｎＯｘ）を、ＮｉＣｒ層の上方に置き、組み合わせた光学層の厚さｏｐｌ４が１６３．５ｎｍの第４の誘電体層シーケンスを形成した。次に、厚さ１６．９ｎｍの第４の銀機能層（Ａｇ層４）を、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第３の層の上方に適用した。再び、光学層の厚さが０．８ｎｍのニッケルクロムの層を、第４の銀層の上方に適用した。最後に、光学層の厚さが８４．９ｎｍのスズおよび酸化亜鉛の第４層（ＺｎＳｎＯｘ）を適用して、８６．９ｎｍの組み合わせた効果的な光学層の厚さｏｐｌ５を有する第５誘電体シーケンスを完成させた。
例４に記載のコーティングシーケンスを、以下のように調製した。６ｍｍのフロートガラス板に、第１の酸化チタン（ＴｉＯｘ）層を適用して、５５．１ｎｍの光学層の厚さｏｐｌ１を有する第１の誘電体コーティングシーケンスを形成した。次に、酸化チタン（ＴｉＯｘ）層の上に、第１の銀機能層（Ａｇ層１）を８．９ｎｍのコーティング厚さで適用した。次に、光学層の厚さが４．１ｎｍのアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）のバリア層を第１の銀機能層（Ａｇ層１）上に堆積させて、第１の銀機能層を、１３２．５ｎｍの光学層の厚さで適用されたその後のスズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第２のコーティング層シーケンスから保護した。その結果、１３６．６ｎｍの組み合わせた光学層の厚さｏｐｌ２を有するスズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の層とアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）とを備える、第２の誘電体層シーケンスを形成した。次に、第２の銀機能層（Ａｇ層２）を、１２ｎｍの厚さで第２の誘電体層の上方に適用した。これに、光学層の厚さが４．１ｎｍである、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の第２のバリア層が再び続き、さらなる銀機能層（Ａｇ層２）の上方に適用した。次に、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺＡＯ）の層を、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の層で６８．３ｎｍの厚さにコーティングした。次に、厚さ７４．７ ｎｍの酸化チタン（ＴｉＯｘ）の層を適用して、組み合わせた光学層の厚さ１４７．１ｎｍを有する第３の誘電体層シーケンスｏｐｌ３を形成した。次に、第３の誘電体層シーケンスの上方に、厚さ１４．５ｎｍの第３の銀機能層（Ａｇ層３）を適用した。次に、銀の層上に、コーティングの透過を減らすために、厚さ０．３ｎｍのニッケルクロムの吸収層を適用した。光学層の厚さが１６３．５ｎｍのスズおよび酸化亜鉛の第３層（ＺｎＳｎＯｘ）を、ＮｉＣｒ層の上方に置き、組み合わせた光学層の厚さｏｐｌ４が１６３．５ｎｍの第４の誘電体層シーケンスを形成した。次に、厚さ１６．９ｎｍの第４の銀機能層（Ａｇ層４）を、スズおよび酸化亜鉛（ＺｎＳｎＯｘ）の第３の層の上方に適用した。再び、光学層の厚さが０．８ｎｍのニッケルクロムの層を、第４の銀層の上方に適用した。最後に、光学層の厚さが８４．９ｎｍのスズおよび酸化亜鉛の第４層（ＺｎＳｎＯｘ）を適用して、８６．９ｎｍの組み合わせた効果的な光学層の厚さｏｐｌ５を有する第５誘電体シーケンスを完成させた。
【0106】
したがって、例えば１で表される層シーケンスは、銀機能層の光学層の厚さおよび幾何学的層の厚さに関して、次のように表され得る。
ガラス／ＴｉＯｘ、ｏｐｌ＝５５．１ｎｍ／Ａｇ ８．９ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝１３２．５ｎｍ／Ａｇ １２ ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝６８．３ｎｍ／ＴｉＯｘ、ｏｐｌ＝７４．７ｎｍ／Ａｇ １４．５ｎｍ／ＮｉＣｒ ０．３ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ １６３．５ｎｍ／Ａｇ １６．９ｎｍ／ＮｉＣｒ ０．８ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝８４．９ｎｍ．
ガラス／ＴｉＯｘ、ｏｐｌ＝５５．１ｎｍ／Ａｇ ８．９ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝１３２．５ｎｍ／Ａｇ １２ ｎｍ／ＺＡＯ、ｏｐｌ＝４．１ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝６８．３ｎｍ／ＴｉＯｘ、ｏｐｌ＝７４．７ｎｍ／Ａｇ １４．５ｎｍ／ＮｉＣｒ ０．３ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ １６３．５ｎｍ／Ａｇ １６．９ｎｍ／ＮｉＣｒ ０．８ｎｍ／ＺｎＳｎＯｘ、ｏｐｌ＝８４．９ｎｍ．
【0107】
５つの誘電体層シーケンスｏｐ１１からｏｐｌ５のそれぞれの光学層の厚さは、以下のように要約され得る。
ｏｐｌ１＝５５．１ｎｍ、ｏｐｌ２＝１３６．６ｎｍ、ｏｐｌ３＝１４７．１ｎｍ、ｏｐｌ４＝１６３．５ｎｍ、ｏｐｌ５＝８４．９ｎｍ。
さらに、例４に関して、各銀機能層の厚さｄＡｇは、ガラス基板までの銀機能層の距離が増加するにつれて増加する。すなわち、例えば、第２の銀機能層ｄＡｇ２の厚さは、第１の銀機能層ｄＡｇ１の厚さよりも大きい。
ｏｐｌ１＝５５．１ｎｍ、ｏｐｌ２＝１３６．６ｎｍ、ｏｐｌ３＝１４７．１ｎｍ、ｏｐｌ４＝１６３．５ｎｍ、ｏｐｌ５＝８４．９ｎｍ。
さらに、例４に関して、各銀機能層の厚さｄＡｇは、ガラス基板までの銀機能層の距離が増加するにつれて増加する。すなわち、例えば、第２の銀機能層ｄＡｇ２の厚さは、第１の銀機能層ｄＡｇ１の厚さよりも大きい。
【0108】
その結果、本発明による例４に関して、以下の関係が満たされる。
（ｉ）銀機能層の厚さに関して、
ｄＡｇ１＜ｄＡｇ２＜ｄＡｇ３＜ｄＡｇ４
（ｉｉ）各銀機能層の前、後、および間の結合された誘電体層シーケンスの厚さに関して、
（ｏｐｌ１ｘ２）＜ｏｐｌ２＜ｏｐｌ３＜ｏｐｌ４＜（ｏｐｌ５ｘ２）。
（ｉ）銀機能層の厚さに関して、
ｄＡｇ１＜ｄＡｇ２＜ｄＡｇ３＜ｄＡｇ４
（ｉｉ）各銀機能層の前、後、および間の結合された誘電体層シーケンスの厚さに関して、
（ｏｐｌ１ｘ２）＜ｏｐｌ２＜ｏｐｌ３＜ｏｐｌ４＜（ｏｐｌ５ｘ２）。
【0109】
図１に示す二重グレージングユニット（ＤＧＵ）１を、例４に示すようにコーティング５を備えた６ｍｍガラスシート２を使用して調整した。すなわち、例４に詳述されるようなコーティングを施した厚さ６ｍｍのフロートガラスシート２を、第２の厚さ４ｍｍのコーティングされていないフロートガラスシート３と組み立てた。２枚のガラスシート２、３は、コーティングされたガラスシート３のコーティングされた側５が間隙８に面するように組み立てた（取り付け時にＤＧＵの位置２と呼ばれる）。すなわち、コーティングされたガラスシート５は、コーティングされていないガラスシート３よりも外部環境１０に近く、断熱二重グレージングユニットを形成する。ガラスシートは、それらの間に１６ｍｍの間隙距離を置いて配置され、間隙ギャップ８は、９０％のアルゴンガスおよび１０％の空気充填で満たされた。したがって、コーティングされたガラスシート２のコーティングされていない面４は位置１に存在し、第２のガラスシート３の２つのコーティングされていない面６および７はそれぞれ位置３および４に存在する。位置２にｌｏｗ－ｅコーティングを施した二重グレージングの特性を、ＥＮ ４１０に従って測定した。結果は、表５のとおりである。
【0110】
【表5】
【0111】
表５において、選択性の値は、二重グレージングユニットの光透過率とＧ値との比に等しく、各値は、参照により本明細書に組み込まれるＥＮ４１０を使用して計算される。
【0112】
比較例４に従ってコーティングで調製したＤＧＵの、視野角が０°および６０°の場合のａ＊およびｂ＊に関する外部反射の差は、Δａ＊＝２．２およびΔｂ＊＝２．５であることが見出された。例４のａ＊対視野角の変化のグラフ表示を図５に示す。
【0113】
また、例４のコーティングで調製したＤＧＵに関して、３％の厚さ変化を伴うカラーシフトは、Δａ＊＝２．９およびΔｂ＊＝２．３の場合である。すなわち、本発明によれば、例４のコーティングを使用して調製されたＤＧＵのΔａ＊およびΔｂ＊の値は、許容限界５の範囲内であり、また好ましくは限界４の範囲内であり、さらに特に好ましくは限界３の範囲内である。
【0114】
（結果の要約）
したがって、上記の結果から、本発明に従って作製されたコーティングガラスシート（すなわち、実施例１および４）は、高い選択性２．１８および２．１７を有する良好な太陽光制御性能を提供することが分かる。また、実施例１と実施例４はどちらも、ファサードに配置したときに、異なる視野角で外側の色がわずかに変化することを示している。どちらの例でも、二重グレージングユニットに配置したときの異なる視野角での色の変化が好ましく、Δａ＊とΔｂ＊の値は３．０未満である。
したがって、上記の結果から、本発明に従って作製されたコーティングガラスシート（すなわち、実施例１および４）は、高い選択性２．１８および２．１７を有する良好な太陽光制御性能を提供することが分かる。また、実施例１と実施例４はどちらも、ファサードに配置したときに、異なる視野角で外側の色がわずかに変化することを示している。どちらの例でも、二重グレージングユニットに配置したときの異なる視野角での色の変化が好ましく、Δａ＊とΔｂ＊の値は３．０未満である。
【0115】
二重グレージングユニット（ＤＧＵ）の製造に関して、コーティング層の厚さが変化するにつれて色の変化が少ないことを示すＤＧＵを提供できることは、本発明に関連する重要な利点である。実施例１および４の両方について、コーティングスタックシーケンスの第４の誘電体層の厚さの変動が３％である場合、Δａ＊およびΔｂ＊の両方について３未満の変化があった。
【0116】
対照的に、比較例２では、すべての銀層が同じ厚さであり、また、本発明に必要な各誘電体層の光学的厚さの関係が満たされておらず、選択性は２．０７であり、ＤＧＵに形成されたときの異なる視野角（０°－６０°）でのコーティングされた基板のカラーシフトは、ｂ＊では５を超え、実際にはΔｂ＊＝９．４である。例２の第２の誘電体層の３％の厚さ変化による色の変化も５を超え、それぞれΔａ＊＝６．２およびΔｂ＊＝８．０である。
【0117】
比較例３では、本発明による誘電体層に必要な光学的厚さの関係もまた満たされていない。代わりに、例３の誘電体層の光学層の厚さは、ガラス基板から離れるにつれて、増加するかわりに減少する。さらに、選択性は２．１３であり、例３に従ってコーティングされたガラスで形成されたＤＧＵのさまざまな視野角（０°～６０°）でのカラーシフトは、ａ＊では５を超え、実際にはΔａ＊＝１２．１である。最後に、例３のａ＊の第４の誘電体層で３％の厚さの変化で記録された色の変化も５を超え、Δａ＊＝１０．６の値である。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
