特許 7488292 放射線像の読取装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2024-05-13

(45)【発行日】2024-05-21

(54)【発明の名称】放射線像の読取装置

(51)【国際特許分類】

   G03B 42/02 20210101AFI20240514BHJP

【ＦＩ】

G03B42/02 B

【請求項の数】 10

(21)【出願番号】P 2022033323

(22)【出願日】2022-03-04

(65)【公開番号】P2023128752

(43)【公開日】2023-09-14

【審査請求日】2023-06-30

(73)【特許権者】

【識別番号】000138185

【氏名又は名称】株式会社モリタ製作所

(74)【代理人】

【識別番号】100088672

【弁理士】

【氏名又は名称】吉竹 英俊

(74)【代理人】

【識別番号】100088845

【弁理士】

【氏名又は名称】有田 貴弘

(72)【発明者】

【氏名】藤井 優輔

【審査官】越河 勉

(56)【参考文献】

【文献】特開平０４－２４０８４３（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００１－０７５２０４（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２００３－１７２９７９（ＪＰ，Ａ）

【文献】国際公開第２００６／０６４６４８（ＷＯ，Ａ１）

【文献】実開平０５－００８５５８（ＪＰ，Ｕ）

【文献】特開２０１２－０１３９５２（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２００６／０１２４８７５（ＵＳ，Ａ１）

【文献】特開２００７－００７２５１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０１－１０４５２１（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開昭５９－００７９４５（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０３Ｂ ４２／０２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

イメージングプレートから放射線像を読取る放射線像の読取装置であって、
前記イメージングプレートを保持するステージと、
前記ステージに保持された前記イメージングプレートに励起光を照射する励起光源と、
前記励起光による前記イメージングプレートからの発光光を検出する光検出器と、
を備え、
前記ステージが、
前記イメージングプレートの裏面に面接触可能な支持面を有するステージ本体と、
前記支持面上に支持された前記イメージングプレートの縁部分に対して接触し、前記支持面の延在方向において前記縁部分をその外側から位置決めすると共に前記縁部分を前記支持面に押付ける位置決め面を有する位置決め機構と、
を有し、
前記位置決め機構は、一対の開閉位置決め部を含み、
前記一対の開閉位置決め部のうち対向する２つの面のうちの少なくとも一方が前記位置決め面の少なくとも一部をなし、
前記一対の開閉位置決め部の少なくとも一方が移動することで、前記一対の開閉位置決め部の間隔が調整され、
前記ステージを、前記ステージに対して前記イメージングプレートがセットされるセット位置と前記励起光源からの励起光に応じて前記光検出器が前記放射線像を読取る読取位置との間で移動させるステージ移動機構と、
前記ステージ移動機構によって前記ステージが前記セット位置から前記読取位置に移動するのにあわせて前記一対の開閉位置決め部を閉動作させる位置決め部動作機構と、
をさらに備える放射線像の読取装置。

【請求項2】

請求項１に記載の放射線像の読取装置であって、
前記位置決め機構は、前記位置決め面として、少なくとも前記支持面から前記イメージングプレートの厚み寸法分突出するように設けられ、前記支持面から離れるにつれて前記支持面に覆い被さる方向に向う形状に形成されたガイド位置決め面を含む、放射線像の読取装置。

【請求項3】

請求項２に記載の放射線像の読取装置であって、
前記ガイド位置決め面は、前記支持面に対する角度が９０゜未満であるガイド面を含む、放射線像の読取装置。

【請求項4】

請求項１から請求項３のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
前記一対の開閉位置決め部は、前記位置決め面を前記支持面上の前記イメージングプレートの縁部分に対向させる接触位置と前記位置決め面を前記支持面上の前記イメージングプレートの縁部分から退避させる退避位置との間で位置変更可能な可変位置決め部を含む、放射線像の読取装置。

【請求項5】

請求項４に記載の放射線像の読取装置であって、
前記ステージ移動機構は、前記ステージを前記読取位置に対して前記セット位置よりも離れた排出位置に移動させ、
前記可変位置決め部は、前記ステージが前記セット位置と前記読取位置との間に位置する状態では前記接触位置に保たれ、前記ステージが前記排出位置に位置する状態では、前記退避位置に位置変更される、放射線像の読取装置。

【請求項6】

請求項１から請求項５のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
前記位置決め部動作機構は、前記ステージ移動機構によって前記ステージが前記読取位置から前記セット位置に移動するのにあわせて、前記一対の開閉位置決め部を開動作させる、放射線像の読取装置。

【請求項7】

請求項１から請求項６のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
前記ステージの移動中において、一定位置に配置される固定配置部分をさらに備え、
前記位置決め部動作機構は、前記ステージの少なくとも一部の区間の移動によって前記固定配置部分に接することで、前記ステージ移動機構が前記ステージを動かす力を受ける受部を含み、
前記受部が、前記ステージ移動機構が前記ステージを動かす力を受けて、前記一対の開閉位置決め部の閉動作及び開動作の少なくとも一方を行わせる、放射線像の読取装置。

【請求項8】

イメージングプレートから放射線像を読取る放射線像の読取装置であって、
前記イメージングプレートを保持するステージと、
前記ステージに保持された前記イメージングプレートに励起光を照射する励起光源と、
前記励起光による前記イメージングプレートからの発光光を検出する光検出器と、
を備え、
前記ステージが、
前記イメージングプレートの裏面に面接触可能な支持面を有するステージ本体と、
前記支持面上に支持された前記イメージングプレートの縁部分に対して接触し、前記支持面の延在方向において前記縁部分をその外側から位置決めすると共に前記縁部分を前記支持面に押付ける位置決め面を有する位置決め機構と、
を有し、
前記位置決め機構は、一対の開閉位置決め部を含み、
前記一対の開閉位置決め部のうち対向する２つの面のうちの少なくとも一方が前記位置決め面の少なくとも一部をなし、
前記一対の開閉位置決め部の少なくとも一方が移動することで、前記一対の開閉位置決め部の間隔が調整され、
前記位置決め機構は、前記一対の開閉位置決め部として、一対の第１開閉位置決め部と、一対の第２開閉位置決め部とを含み、
前記一対の第１開閉位置決め部と前記一対の第２開閉位置決め部とが、互いに異なる方向に開閉する、放射線像の読取装置。

【請求項9】

イメージングプレートから放射線像を読取る放射線像の読取装置であって、
前記イメージングプレートを保持するステージと、
前記ステージに保持された前記イメージングプレートに励起光を照射する励起光源と、
前記励起光による前記イメージングプレートからの発光光を検出する光検出器と、
を備え、
前記ステージが、
前記イメージングプレートの裏面に面接触可能な支持面を有するステージ本体と、
前記支持面上に支持された前記イメージングプレートの縁部分に対して接触し、前記支持面の延在方向において前記縁部分をその外側から位置決めすると共に前記縁部分を前記支持面に押付ける位置決め面を有する位置決め機構と、
を有し、
前記支持面が重力方向に対して傾斜しており、
前記位置決め機構が、前記位置決め面として、前記支持面に沿って下方に移動する前記イメージングプレートの下側の縁部分を受ける面を含む、放射線像の読取装置。

【請求項10】

請求項１から請求項９のいずれか１つに記載の放射線像の読取装置であって、
前記ステージと前記励起光源と前記光検出器とを収容する筐体を備え、
前記筐体に、前記イメージングプレートを前記支持面に向けて案内するセット用ガイド面が設けられている、放射線像の読取装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

この開示は、放射線像の読取装置に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１は、イメージングプレートを搬送する搬送機構を備える放射線像の読取装置を開示している。搬送機構として、イメージングプレートを保持するベルトと、ベルトを周回させるベルト駆動機構とを備える例が開示されている。イメージングプレートは、ベルトの一部である保持面上に載置された状態で、搬送される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【文献】特開２０１１－５３４５９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

特許文献１のように、イメージングプレートがベルトの保持面上に載置される構成では、イメージングプレートが放射線像の読取りに適した正規姿勢から傾いた姿勢で保持される可能性がある。また、イメージングプレートの反り等が原因で、イメージングプレートの一部が保持面から離れた状態で保持される可能性がある。特許文献１の他にも、一部に磁性体部材を設けたイメージングプレートが磁石の磁力によって保持面上に保持される構成の装置があるが、磁力の及ばない位置にイメージングプレートがある場合には、イメージングプレートが保持面から脱落したり、正規姿勢ではない状態で保持されてしまうことでイメージングプレートの潜像の正しい読取ができなかったりするなどの可能性がある。

【0005】

そこで、本開示は、イメージングプレートを正規姿勢でかつ支持面に接触させた状態で保持できるようにすることを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

上記課題を解決するため、放射線像の読取装置は、イメージングプレートから放射線像を読取る放射線像の読取装置であって、前記イメージングプレートを保持するステージと、前記ステージに保持された前記イメージングプレートに励起光を照射する励起光源と、前記励起光による前記イメージングプレートからの発光光を検出する光検出器と、を備え、前記ステージが、前記イメージングプレートの裏面に面接触可能な支持面を有するステージ本体と、前記支持面上に支持された前記イメージングプレートの縁部分に対して接触し、前記支持面の延在方向において前記縁部分をその外側から位置決めすると共に前記縁部分を前記支持面に押付ける位置決め面を有する位置決め機構と、を有する。

【発明の効果】

【0007】

この放射線像の読取装置によると、イメージングプレートの縁部分が位置決め面に接することによって、イメージングプレートが正規姿勢に保たれるようになる。また、位置決め面によってイメージングプレートの縁部分が支持面に押付けられる。これにより、イメージングプレートを正規姿勢でかつ支持面に接触させた状態で保持できる。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】第１実施形態に係る読取装置を示す概略斜視図である。

【図2】読取装置の内部構造を示す斜視図である。

【図3】読取装置の内部構造を示す斜視図である。

【図4】読取装置の内部構造を示す部分的な正面図である。

【図5】読取装置の内部構造を示す側面図である。

【図6】ステージを示す正面図である。

【図7】位置決め機構におけるステージの部分を示す背面図である。

【図8】図６のＶＩＩＩ－ＶＩＩＩ線部分断面図である。

【図9】図６のＩＸ－ＩＸ線断面図である。

【図10】ステージを示す斜視図である。

【図11】ステージを示す背面図である。

【図12】ステージを示す背面図である。

【図13】変形例に係る位置決め面を示す部分断面図である。

【図14】変形例に係る位置決め面を示す部分断面図である。

【図15】変形例に係る位置決め面を示す部分断面図である。

【図16】変形例に係る位置決め面を示す部分断面図である。

【図17】変形例に係る位置決め面を示す部分断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0009】

｛第１実施形態｝
＜全体構成＞
以下、第１実施形態に係る放射線像の読取装置について説明する。図１は読取装置２０を示す概略斜視図である。図２及び図３は読取装置２０の内部構造を示す斜視図である。図２はステージ６０がセット位置にある状態を示しており、図３はステージ６０がセット位置よりも内側（読取位置）にある状態を示している。放射線像の読取装置２０は、イメージングプレート１０から放射線像を読取る装置である。

【0010】

イメージングプレート１０は、放射線像形成層１１を有する平たい形状であり、放射線像を記憶する記憶媒体である。放射線像形成層１１は、照射された放射線のエネルギーを蓄積し、蓄積されたエネルギーに応じた発光光を発する層である。例えば、放射線像形成層１１は、樹脂で形成されたフィルムの一方主面に輝尽性蛍光体を塗布することによって形成される。Ｘ線発生器からのＸ線が撮影対象物を透過してイメージングプレート１０に照射されると、Ｘ線の強度に応じたエネルギーが放射線像形成層１１に蓄積される。Ｘ線の強度は、撮影対象物におけるＸ線吸収領域の分布に基づいたものであるため、放射線像形成層１１に蓄積されたエネルギーの分布は、Ｘ線による撮影対象物の放射線像である。このように、イメージングプレート１０は、Ｘ線による放射線像を潜像として記憶する。

【0011】

読取装置２０は、放射線像形成層１１から放射線像を読取り、放射線像の画像データを生成する装置である。読取装置２０は、ステージ６０と、励起光源９２と、光検出器９４とを備える。ステージ６０は、イメージングプレート１０を保持する。ステージ６０に保持されたイメージングプレート１０に対して励起光源９２からの励起光が照射される。イメージングプレート１０に励起光が照射されることによって、イメージングプレート１０の放射線像形成層１１が発光する。この発光光を光検出器９４が検出する。光検出器９４の検出信号に基づいて放射線像の画像データが生成される。

【0012】

なお、イメージングプレート１０のうち放射線像形成層１１が形成された表面は、励起光照射面と把握されてもよい。また、当該表面とは反対側の裏面は、ステージ６０の支持面６４Ｆと対面し、当該支持面６４Ｆに接触する接触面であると把握されてもよい。イメージングプレート１０が表裏に関して正しくステージ６０にセットされた場合には、イメージングプレート１０のうち支持面６４Ｆが向く方向と同じ方向を向く表面は、潜像を記憶可能な記憶面であり、また、記憶した潜像が読取られる読取り面である。

【0013】

読取装置２０の各部構成について説明する。

【0014】

＜ケースについて＞
読取装置２０は、筐体３０を備えており（図１参照）、この筐体３０内に、ステージ６０と、励起光源９２と、光検出器９４とが収容される。

【0015】

筐体３０に、セット部３１及び取出口３２が設けられる。例えば、セット部３１は、筐体３０のうち上向き面に設けられる。セット部３１は、イメージングプレート１０が通過可能なスリット３１Ｓを有する。本読取装置２０の利用者は、スリット３１Ｓを通じてイメージングプレート１０を読取装置２０内に入れることができる。読取装置２０内に入れられたイメージングプレート１０は、ステージ６０にセットされる。取出口３２は、筐体３０の下部、例えば、筐体３０の一側面のうちの下側部分に設けられる。取出口３２は、外方に開口しており、ステージ６０から排出されたイメージングプレート１０が当該取出口３２に排出される。読取装置２０の利用者は、取出口３２の外向き開口を通じて読取済のイメージングプレート１０を回収することができる。

【0016】

筐体３０に、各種指示を受付けるためのスイッチ３３が設けられる。スイッチ３３は、例えば、電源スイッチ、読取り開始を指示するためのスタートスイッチ等である。

【0017】

筐体３０に、表示装置３４が設けられてもよい。表示装置３４は、例えば、液晶表示パネル、有機ＥＬ（electro-luminescence）表示パネルにより構成される。この表示装置３４に、読取られた放射線像が表示されてもよい。表示装置３４に、操作のための諸情報が表示されてもよい。表示装置３４には、読取り開始後に読取り終了までの残り時間等の読取り進捗状況に関する情報が表示されてもよい。読取表示装置３４に、読取装置２０に対する誤操作等に対する警告、注意、あるいはエラー情報が表示されてもよい。表示装置３４は、表示機能及びタッチの検出機能を備えたタッチパネルであってもよい。この場合、上記スイッチの少なくとも一部の機能が、タッチパネルに組込まれてもよい。表示装置３４は、省略されてもよい。

【0018】

イメージングプレート１０を読取ることによって生成された放射線像の画像データが表示装置３４に表示されることは必須ではない。放射線像の画像データは、無線通信又は有線通信によって、読取装置２０と通信可能な他のコンピュータ（不図示）に送信されてもよい。放射線像の画像データは、本読取装置２０に着脱可能なデータ記録媒体（例えば、フラッシュメモリ）に記録されてもよい。

【0019】

筐体３０に、イメージングプレート１０を収容可能なプレート収容ケース３８、３９が設けられてもよい。図１に示す例では、筐体３０の上面に、プレート収容ケース３８、３９が設けられる。プレート収容ケース３８は仕切り付きのケースであり、プレート収容ケース３９は、蓋付きのケースである。例えば、撮影前、撮影後、読取前、読取後等、イメージングプレート１０の使用状態に応じてケース３８、３９を使い分けるなどして、ケース３８、３９にイメージングプレートを保管することができる。なお、プレート収容ケース３８、３９は省略されてもよい。

【0020】

読取装置２０に、ＡＣアダプタ３７が接続されており、外部から読取装置２０に電力供給がなされる。なお、読取装置２０に対する電源供給は、外部からなされてもよいし、読取装置２０が内蔵する電源からなされてもよい。読取装置２０が充電式の電池を備える仕様の場合は、ＡＣアダプタは読取装置２０の充電用として用いられてもよい。

【0021】

＜ケース内部構成について＞
筐体３０の内部に設けられる各部構成について説明する。

【0022】

筐体３０の内部に、支持部材４０が設けられる。この支持部材４０によって、ステージ６０と励起光源９２と光検出器９４とが支持される。

【0023】

＜支持部材について＞
図２及び図３に示すように、支持部材４０は、ベース板４１と、一対の側板４２と、背板４３と、天井板４４と、支持枠４５とを備える。

【0024】

ベース板４１は、筐体３０の内部空間における下部に水平方向（重力方向に対して垂直な方向）に沿って配置される板状部材である。ここでは、ベース板４１は、細長い方形板状に形成されている。

【0025】

ベース板４１上に一対の側板４２が立設状態で支持される。一対の側板４２は、間隔をあけて互いに平行姿勢で設けられる。一対の側板４２は、四角い形状、例えば、上底が下底よりも短い台形板状に形成される。一対の側板４２の下底側の辺部分がベース板４１にネジ止等によって固定される。

【0026】

天井板４４は、細長い板状に形成されている。天井板４４は、一対の側板４２の上底側の辺部分間を塞ぐように、一対の側板４２にネジ止等によって固定される。なお、前述の各種板の固定方法は溶接等の他の方法であってもよい。

【0027】

側板４２のうち上底と下底とを結ぶ一方の側辺は、下底に対して９０゜未満の角度をなして斜めに傾斜する傾斜辺部分を有する。支持枠４５は、短辺部分４５ａと、一対の長辺部分４５ｂとを有する。短辺部分４５ａは、前記傾斜辺部分に応じた長さに形成されている。一対の長辺部分４５ｂは、一対の側板４２間の間隔に対応する長さに形成されている。一対の長辺部分４５ｂは、短辺部分４５ａの両端部から短辺部分４５ａに対して垂直姿勢で同方向に向けて延びている。一対の長辺部分４５ｂの先端部が一方（図２の右側）の側板４２の傾斜辺部分にネジ止等によって固定されると共に、短辺部分４５ａが他方（図２の左側）の側板４２の傾斜辺部分にネジ止等によって固定される。これにより、支持枠４５は、重力方向に対して斜めに傾いた姿勢で一対の側板４２により支持される。この状態で、支持枠４５の外向き面は、ベース板４１の上向き面に対して９０゜を超える角度をなして、斜め上方を向いている。この支持枠４５に励起光源９２及び光検出器９４が取付けられる。以下の説明において、便宜上、励起光源９２及び光検出器９４が設けられる側を前方、その反対側を後方という場合がある。

【0028】

背板４３は細長い方形板状に形成されている。背板４３の長手方向両端側の辺部分が、一対の側板４２のうち上底と下底とを結ぶ他方の側辺部分にネジ止等によって固定される。これにより、背板４３が、一対の側板４２の間で後方側開口を閉じる。

【0029】

天井板４４は、細長い方形板状に形成されている。天井板４４の長手方向両端側の辺部分が、一対の側板４２のうち上底側の辺部分にネジ止等によって固定される。これにより、天井板４４が一対の側板４２の間で上方開口を閉じる。

【0030】

支持枠４５における一対の長辺部分４５ｂの長手方向中間部の外向き面に、励起光源９２及び光検出器９４がネジ止等によって固定される。ステージ６０は、支持枠４５における一対の長辺部分４５ｂの間で、励起光源９２及び光検出器９４の内側を移動可能に支持されている。以下の説明において、励起光源９２及び光検出器９４に対するステージ６０の相対的な移動方向を主走査方向Ａ１として参照する場合がある。ステージ６０によって保持されたイメージングプレート１０が励起光源９２及び光検出器９４の内側を通過する際に、励起光源９２からの励起光がイメージングプレート１０に照射され、励起光によるイメージングプレート１０の発光光が光検出器９４によって検出される。

【0031】

＜励起光源及び光検出器について＞
励起光源９２は、ステージ６０によって保持されたイメージングプレート１０に対して励起光を照射する。励起光は、放射線像形成層１１を励起させるための光であり、例えば、放射線像形成層１１を励起させる特定波長のレーザ光である。放射線像形成層１１に励起光が照射されると、放射線像形成層１１に蓄積されたエネルギーの分布に応じて放射線像形成層１１が発光する。

【0032】

励起光源９２は、励起光としてレーザ光を発するレーザ光源とＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）ミラーとを含む構成であってもよい。例えば、レーザ光源からのレーザ光の照射先が、放射線像形成層１１の表面１１Ｓに対して、主走査方向Ａ１に対して交差（直交）する副走査方向Ａ２方向に沿って移動するように、レーザ光源がＭＥＭＳミラーによって反射される構成であってもよい。なお、ミラーの構成は、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）ミラーの代わりに、ガルバノミラーやポリゴンミラー等を用いることもできる。ミラーの構成によっては、レンズ系の構成が別途必須となることがあるが、適宜の組み合わせにより本発明に利用できる。

【0033】

光検出器９４は、励起光によるイメージングプレート１０からの発光による光を検出し、その強度に応じた信号を出力するセンサである。この光検出器９４からの信号に基づいて、放射線像の画像データが生成される。

【0034】

光検出器９４は、光を検出する素子が一列に並んだ構成であってもよい。例えば、光検出器９４は、素子の配列方向を副走査方向Ａ２と平行にした姿勢に配置されてもよい。光を検出する素子は、シリコン光電子増倍管、光電子増倍管、フォトダイオード等であってもよい。

【0035】

本実施形態では、励起光源９２と光検出器９４とは、読取ユニット９０として一体化されている。例えば、励起光源９２と光検出器９４とは、モジュールケース９１内に収容された状態で、一体化されている。モジュールケース９１のうち支持部材４０側を向く部分に、副走査方向Ａ２に沿って細長い読取用スリット９０Ｓが形成されている。励起光は、当該読取用スリット９０Ｓを通ってイメージングプレート１０に向けて照射される。イメージングプレート１０の発光光は、当該読取用スリット９０Ｓを通って光検出器９４によって検出される。

【0036】

主走査方向Ａ１に沿うステージ６０の移動中に、励起光源９２によるレーザ光がステージ６０に保持されたイメージングプレート１０の放射線像形成層１１の表面に入射し、その照射先が副走査方向Ａ２に沿って移動する。これにより、放射線像形成層１１の表面が副走査方向Ａ２に沿うラインに沿って順次発光光を生じる。

【0037】

光検出器９４は、励起光源９２からのレーザ光によって生じた放射線像形成層１１の発光光を検出可能な位置に設けられる。例えば、励起光源９２は、イメージングプレート１０に対して斜め方向からレーザ光を照射するように配置され、光検出器９４は、イメージングプレート１０に対してレーザ光が照射する位置の正面に配置される。そして、放射線像形成層１１の表面が副走査方向Ａ２に沿うラインに沿って順次発光光を生じると、当該発光光が光検出器９４によって検出される。

【0038】

ステージ６０の移動中に、副走査方向Ａ２における励起光源９２の走査及び光検出器９４による走査が繰返し行われることによって、イメージングプレート１０の広い面、例えば、イメージングプレート１０の全面の放射線像が光検出器９４によって読取られる。

【0039】

なお、ステージ６０が移動することは必須ではない。例えば、ステージ６０が停止した状態で、励起光源９２及び光検出器９４が移動する構成であってもよい。また、ステージ６０と、励起光源９２及び光検出器９４の両方が移動する構成であってもよい。

【0040】

＜ステージ及びその移動のための構成について＞
図４は読取装置２０の内部構造を示す部分的な正面図であり、図５は読取装置２０の内部構造を示す側面図である。図４及び図５において筐体３０の外形が二点鎖線で示される。

【0041】

ステージ６０は、イメージングプレート１０を保持するように構成されている。例えば、ステージ６０は、イメージングプレート１０よりも大きく広がる板状部分を含む。イメージングプレート１０がステージ６０の一方主面側の支持面６４Ｆに接した状態で、当該イメージングプレート１０に対して一定位置及び一定姿勢で保持される。ステージ６０がイメージングプレート１０を保持する構成が後により具体的に説明される。

【0042】

ステージ６０は、イメージングプレート１０を保持した状態で主走査方向Ａ１に沿って移動する。ステージ６０を移動可能に支持するための構成について説明する。

【0043】

一方の側板４２のうちの傾斜辺部分に、ステージ６０の板状部分の上下幅及び厚みに応じた凹部４２ｇが形成される。ステージ６０は、当該凹部４２ｇを通ることによって、主走査方向Ａ１に沿って、一方の側板４２の外側に突出する位置（図２参照）と当該一対の側板４２間の位置（図３参照）との間で往復移動することができる。

【0044】

ステージ６０は、ステージ移動機構５０によって移動駆動可能に構成される。ステージ移動機構５０は、移動駆動部５２と（図２及び図３参照）、一対のガイドロッド５６とを含む。

【0045】

移動駆動部５２は、ステージ６０に対して主走査方向Ａ１に沿った駆動力を付与する部分である。本実施形態では、移動駆動部５２は、モータ５３と（図２及び図３参照）、ネジ軸部５４とを含む。ネジ軸部５４は、周囲にネジ溝が形成された棒状部材である。ネジ軸部５４は、一対の側板４２間に掛渡すようにして、一対の側板４２に回転可能に支持されている。モータ５３は、支持部材４０に対して回転不能に固定されている。例えば、モータ５３は、他方の側板４２の外面に回転不能に固定されている。モータ５３のシャフトがネジ軸部５４に相対回転不能に固定されており、モータ５３の正転方向又は逆転方向の回転に応じて、ネジ軸部５４が正転方向又は逆転方向に回転駆動される。モータ５３のシャフトの回転運動は、ギヤ、プーリー等の伝達装置を介してネジ軸部５４に伝達されてもよい。このネジ軸部５４の回転によって、ステージ６０が主走査方向Ａ１に沿って移動するように駆動される。このための構成が後にさらに詳述される。

【0046】

ガイドロッド５６は細長い棒状部材であり、一対の側板４２の間に掛渡すように、一対の側板４２に固定されている。ガイドロッド５６は、ステージ６０に形成されたガイド孔６２ｈ２に挿通されている。これにより、ガイドロッド５６は、ステージ６０がネジ軸部５４周りに回転することを抑制する役割を果すことができる。ここでは、ガイドロッド５６は、複数（２つ）設けられているが、１つであってもよい。

【0047】

移動駆動部５２は、ステージ６０を移動させるアクチュエータであればよく、上記構成の他、リニアモータ等であってもよい。

【0048】

ステージ６０は、ステージ移動機構５０によって、セット位置Ｐ１と、読取位置Ｐ２との間で往復移動される。

【0049】

セット位置Ｐ１は、ステージ６０に対してイメージングプレート１０をセット可能な位置である（図２に示す位置参照）。本実施形態では、セット位置Ｐ１は、一方の側板４２の外側に突出する位置に設定される。セット位置Ｐ１において、ステージ６０の一側寄りの部分が一方の側板４２の凹部４２ｇに配置され、ステージ６０の長手方向中間部及び他側部が一方の側板４２から外方に延出する状態となる（図２及び図４参照）。セット位置Ｐ１においては、セット部３１にセットされるイメージングプレート１０の配設領域（複数サイズのイメージングプレート１０が想定される場合には最大配設領域、図２において直線Ｒ１と直線Ｒ２との間の領域参照）が、側板４２の外方に配置される。

【0050】

この状態において、ステージ６０の支持面６４Ｆは重力方向に対して傾斜している。ここでは、支持面６４Ｆは、側板４２の傾斜辺部分と同じ傾き方向に沿って傾斜している。つまり、支持面６４Ｆは斜め上方を向くように傾斜している。

【0051】

セット位置Ｐ１に位置するステージ６０は、セット部３１から挿入されたイメージングプレート１０を受けることができる。より具体的には、セット位置Ｐ１は、セット部３１におけるスリット３１Ｓの下側に設けられている（図４参照）。装置２０の外側からイメージングプレート１０がスリット３１Ｓに挿入されると、自重によってイメージングプレート１０が下側つまり重力方向に移動する。イメージングプレート１０の下縁部分が支持面６４Ｆに達すると、イメージングプレート１０の下縁部分が支持面６４Ｆの傾きに従って斜め下方向に滑り落ちる。これにより、イメージングプレート１０が支持面６４Ｆの傾きに従って傾き、イメージングプレート１０の裏面が当該支持面６４Ｆに対して面接触し得る状態となる。この状態で、イメージングプレート１０がステージ６０に設けられた位置決め機構（後述する）によって位置決め保持される。本実施例ではこのように、イメージングプレート１０を正規姿勢に誘導する際に重力を利用する構成となっている。

【0052】

筐体３０には、イメージングプレート１０を支持面６４Ｆに向けて案内するセット用ガイド面３１ＧＳが形成されてもよい。本実施形態では、スリット３１Ｓの周りから筐体３０内に向うプレートガイド部３１Ｇが形成される。プレートガイド部３１Ｇ内には、スリット３１Ｓと連続するガイド通路３１ＧＰが形成されている。ガイド通路３１ＧＰは、スリット３１Ｓから下方、ここでは、真下に延びている。ガイド通路３１ＧＰは、スリット３１Ｓから斜め下方に向っていてもよい。ガイド通路３１ＧＰの下端部は、セット位置Ｐ１に位置するステージ６０の支持面６４Ｆよりも上に位置している。ガイド通路３１ＧＰの下端部と支持面６４Ｆとは離れているとよい。プレートガイド部３１Ｇのうちガイド通路３１ＧＰを形成する内周面が、イメージングプレート１０を支持面６４Ｆに向けて案内するセット用ガイド面３１ＧＳである。

【0053】

そして、イメージングプレート１０がスリット３１Ｓに挿入されると、セット用ガイド面３１ＧＳによってイメージングプレート１０の厚み方向及び幅方向の位置が規制された状態で、イメージングプレート１０がガイド通路３１ＧＰ内を滑り落ちる。このため、イメージングプレート１０が支持面６４Ｆから外れずに当該支持面６４Ｆに向けて案内される。

【0054】

セット位置Ｐ１が上記位置に設定されていることは必須ではなく、例えば、一対の側板４２の間に設定されていてもよい。

【0055】

読取位置Ｐ２は、励起光源９２と光検出器９４とが放射線像を読取る位置、即ち、励起光源９２からの励起光に応じて光検出器９４がイメージングプレート１０の放射線像を読取る位置である。本実施形態では、読取位置Ｐ２は、一対の側板４２、４２の間の位置に設定される。すなわち、励起光源９２と光検出器９４とを含む読取ユニット９０は、支持枠４５の一対の長辺部分４５ｂの外向き部分にネジ止等によって固定される。読取ユニット９０は、一対の側板４２の間であって上記セット位置Ｐ１寄りに位置する。読取ユニット９０のうち筐体３０の内側を向く面に、読取用スリット９０Ｓが形成される。読取ユニット９０内の励起光源９２からの励起光が読取用スリット９０Ｓを通ってステージ６０上のイメージングプレート１０に照射される。また、この励起光によって励起されるイメージングプレート１０からの発光光が読取用スリット９０Ｓを通って光検出器９４に入射する。図２においては、読取用スリット９０Ｓを通る直線Ｒ３に対して、セット位置Ｐ１から遠い側の位置が読取位置Ｐ２である。

【0056】

セット位置Ｐ１においてステージ６０にイメージングプレート１０がセットされると、イメージングプレート１０は主走査方向Ａ１に沿って支持部材４０内に向けて移動する。ステージ６０にセットされたイメージングプレート１０が上記読取用スリット９０Ｓと向い合う位置に達すると、読取ユニット９０によってイメージングプレート１０の放射線像の読取りが開始される。ステージ６０の移動に伴って、読取ユニット９０によってイメージングプレート１０の放射線像が順次読取られる。イメージングプレート１０が読取用スリット９０Ｓを経過すると、読取ユニット９０による読取りが終了する。本実施形態のように、ステージ６０が移動することによって放射線像の読取りがなされる場合、読取位置Ｐ２は、ステージ６０上のイメージングプレート１０（複数サイズのイメージングプレート１０が想定される場合には、最も広いイメージングプレート１０）が上記直線Ｒ３に達して読取りが開始される位置と把握されてもよい。

【0057】

上記例とは異なり、一定位置に静止したイメージングプレート１０に対して読取ユニット９０が主走査方向Ａ１に沿って移動して放射線像を読取る場合、あるいは、一定位置に静止したイメージングプレート１０に対して３次元センサによって放射線像を読取る場合も想定される。この場合、一定位置に静止したイメージングプレート１０を保持する位置が、読取位置Ｐ２である。

【0058】

本実施例では、ステージ６０は、ステージ移動機構５０によって、排出位置Ｐ３にも移動する。排出位置Ｐ３は、ステージ６０にセットされたイメージングプレート１０を排出するための位置である。排出位置Ｐ３は、読取位置Ｐ２に対してセット位置Ｐ１よりも離れた位置に設定される（図２及び図４において二点鎖線で示すステージ６０参照）。本例に限られず、排出位置Ｐ３とは異なる位置、例えば、セット位置Ｐ１においてステージ６０のイメージングプレート１０が、別途の機構によって、排出されてもよい。

【0059】

取出口３２は、排出位置Ｐ３の下方に設けられる。例えば、排出位置Ｐ３におけるステージ６０の下方に、イメージングプレート１０を下方に向けて案内する排出ガイド３２ｇが設けられる。排出ガイド３２ｇの下方に、筐体３０の側方に開口する排出空間を形成する取出口３２が形成される。排出位置Ｐ３におけるステージ６０から排出されたイメージングプレート１０は、排出ガイド３２ｇを通って取出口３２に滑り落ち、取出口３２の底面上に排出される。

【0060】

本実施例では、ステージ６０は、ステージ移動機構５０によって、奥側位置Ｐ４にも移動する。奥側位置Ｐ４は、読取位置Ｐ２に対してセット位置Ｐ１とは反対側の位置にある。すなわち、ステージ６０は、セット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２を経過して奥側位置Ｐ４に移動することができる。奥側位置Ｐ４では、ステージ６０上のイメージングプレート１０は、読取ユニット９０によって覆われずに露出した状態となっていてもよい。

【0061】

上記ステージ移動機構５０の動作制御は、制御部１００（図５参照）によってなされる。制御部１００は、例えば、少なくとも１つのプロセッサと、記憶部とを備えるコンピュータによって構成される。プロセッサは、ＣＰＵ（Central Processing Unit）等であり、電気回路によって構成される。プロセッサが読取プログラムを実行することによって、読取りのための各種機能が実現される。この制御部１００によって、上記モータ５３の回転方向及び回転量の制御がなされることによって、主走査方向Ａ１に沿ったステージ６０の移動制御がなされる。

【0062】

本制御部１００によって、読取ユニット９０による励起光源９２及び光検出器９４の制御がなされてもよい。本制御部１００によって、光検出器９４によって検出された信号に基づいて放射線画像を生成するための各種信号処理、画像処理、表示装置３４による表示処理等がなされてもよい。

【0063】

＜ステージの全体構成について＞
ステージ６０の全体構成について説明する。図２から図５に示すように、ステージ６０は、ステージ本体６１と、位置決め機構７０とを備える。

【0064】

ステージ本体６１は、イメージングプレート１０の裏面に面接触可能な支持面６４Ｆを有する。本実施形態では、ステージ本体６１は、可動支持体６２と、板状部６４とを含む。

【0065】

可動支持体６２は、直方体状に形成されている。可動支持体６２に、貫通孔６２ｈ１が形成されている（図３参照）。貫通孔６２ｈ１はネジ溝を有する貫通孔である。モータ５３によって正逆両方向に回転駆動可能なネジ軸部５４が当該貫通孔６２ｈ１に螺合される。ネジ軸部５４が正転方向に回転することによってステージ６０がネジ軸部５４に沿って一方側に移動し、ネジ軸部５４が逆転方向に回転することによってステージ６０がネジ軸部５４に沿って他方側に移動することができる。かかる構造は、例えば、ボールネジと呼ばれる構造である。

【0066】

可動支持体６２には、上記貫通孔６２ｈ１と平行なガイド孔６２ｈ２が形成されている（図３参照）。このため、可動支持体６２は、ガイド孔６２ｈ２に挿通されたガイドロッド５６によるガイド下、貫通孔６２ｈ１に螺合するネジ軸部５４の正転方向又は逆転方向の回転に応じて、主走査方向Ａ１に沿って両方向に移動駆動される。

【0067】

板状部６４は、イメージングプレート１０よりも大きく板状に広がる形状、ここでは、方形板状に形成されている。板状部６４が方形板状に形成されていることは必須ではなく、楕円形状等他の形状に形成されていてもよい。

【0068】

板状部６４の一方側の面に支持面６４Ｆが設けられる。支持面６４Ｆは、イメージングプレート１０よりも大きく広がっていてもよい。イメージングプレート１０として複数のサイズが想定される場合には、支持面６４Ｆは、最も大きいイメージングプレート１０よりも大きく広がっていてもよい。

【0069】

より具体的には、板状部６４は、一方向（ここでは主走査方向Ａ１）に沿って長い長方形状に形成されている。板状部６４の他方側の面（支持面６４Ｆとは反対側の面）のうち、板状部６４の長手方向の一方側の部分が可動支持体６２に固定されている。固定は、例えば、ねじ止によってなされる。板状部６４は、可動支持体６２から主走査方向Ａ１に沿ってセット位置Ｐ１側に向って延出するように、可動支持体６２によって片持ち状に支持されている。板状部６４の一方側の面のうち可動支持体６２によって支持される側の部分は、他の部分（支持面６４Ｆを含む部分）よりも段部を介して突出している。板状部６４の一方側の面のうち可動支持体６２から主走査方向Ａ１に沿って延び出る部分に、イメージングプレート１０の裏面に面接触可能な支持面６４Ｆが設けられる。

【0070】

上記支持状態で、板状部６４及び支持面６４Ｆは重力方向（下方向）に対して傾斜し、支持面６４Ｆは斜め上方向を向いている。本実施形態では、板状部６４及び支持面６４Ｆの傾斜角度は、側板４２の傾斜辺部分の傾斜角度と一致している。板状部６４及び支持面６４Ｆは、一定の傾斜角度を保った状態で、ガイドロッド５６によるガイド下、主走査方向Ａ１に沿って移動する。可動支持体６２が一方の側板４２寄りに移動すると、板状部６４のうち可動支持体６２から延び出る部分は、側板４２の凹部４２ｇを通る。この状態で、支持面６４Ｆが斜め上を向くように傾斜しているため、スリット３１Ｓを通じて挿入されたイメージングプレート１０を、支持面６４Ｆ上で受けることができる。

【0071】

位置決め機構７０は、支持面６４Ｆ上に支持されたイメージングプレート１０の縁部分に対して接触し、支持面６４Ｆの延在方向において当該縁部分をその外側から位置決めすると共に当該縁部分を支持面６４Ｆに押付ける位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦ、７２ＣＦ、７２ＤＦを有する（図４参照）。

【0072】

なお、イメージングプレート１０の縁部分とは、イメージングプレート１０を平面視した状態で外側を向く面（例えば、側面）だけを意味するのでは無く、当該外側を向く面から内側に入った部分を含んでもよい。例えば、イメージングプレート１０の縁部分とは、イメージングプレート１０を平面視した状態で外側を向く面（例えば、側面）と、イメージングプレート１０の表面のうちの外周部分とを含んでもよい。

【0073】

位置決め機構７０は、位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦ、７２ＣＦ、７２ＤＦを少なくとも１つ有していればよい。位置決め機構７０が、イメージングプレート１０を少なくとも２方向において位置決めするためには、位置決め機構７０は、互いに異なる方向（例えば互いに直交する方向）を向く位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦ、７２ＣＦ、７２ＤＦを少なくとも２つ有していればよい。本実施形態では、位置決め機構７０は、水平方向の位置決め機構と、上下方向の位置決め機構とを有している。このため、イメージングプレート１０は、水平方向及び上下方向において一定位置に位置決めされる。

【0074】

イメージングプレート１０は、位置決め機構７０によってイメージングプレート１０を正規姿勢に保持した状態で、読取位置Ｐ２に移動する。読取位置Ｐ２において、ステージ６０に正規姿勢で保持されたイメージングプレート１０の放射線像が、読取ユニット９０によって読取られる。正規姿勢とは、ステージ６０を基準として予め設定されたイメージングプレート１０の姿勢であり、読取ユニット９０による読取りに適した所定の姿勢である。本実施形態では、ステージ６０の支持面６４Ｆにおいて位置決め面７２ＡＦ、７２ＣＦが一定位置に配置されている。イメージングプレート１０の一側の縁部分が位置決め面７２ＡＦに接触すると共に、イメージングプレート１０の下側の縁部分が位置決め面７２ＣＦに接した状態が、正規姿勢である。

【0075】

以下、位置決め機構についてより詳細な説明がなされる。

【0076】

＜位置決め機構について＞
図６はステージ６０を示す正面図である。図７は位置決め機構におけるステージ６０を示す背面図である。図６は、図２及び図４と同様に、イメージングプレート１０がセット位置Ｐ１に位置する状態を示している。図７は、イメージングプレート１０が読取位置Ｐ２に位置する状態を示している。図６には複数サイズのイメージングプレート１０が二点鎖線で示されている。図７では位置決め機構を動作させるための固定配置部分の例として一方の側板４２及び作動片４６が示されている。図８は図６のＶＩＩＩ－ＶＩＩＩ線部分断面図であり、図９は図６のＩＸ－ＩＸ線断面図である。

【0077】

図２から図９に示すように、位置決め機構７０は、４つの位置決め部７２Ａ、７２Ｂ、７２Ｃ、７２Ｄを含む。位置決め部７２Ａ、７２Ｂによってイメージングプレート１０が水平方向に位置決めされ、位置決め部７２Ｃ、７２Ｄによってイメージングプレート１０が上下方向に位置決めされる。イメージングプレート１０がセット位置Ｐ１に位置する状態では、左右の位置決め部７２Ａ、７２Ｂが開いた状態になり、上下の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄも開いた状態になる（図２、図４、図６、図８及び図９参照）。この状態で、イメージングプレート１０をステージ６０にセットできる。イメージングプレート１０が読取位置Ｐ２に位置する状態では、左右の位置決め部７２Ａ、７２Ｂが接近した状態になり、上下の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄも接近した状態になる（図３及び図７参照）。この状態では、ステージ６０にイメージングプレート１０が保持される。

【0078】

＜水平方向の位置決め機構について＞
位置決め部７２Ａは、板状部６４のうち水平方向における一方の側部に沿って突出する細長い部分である。位置決め部７２Ａは、支持面６４Ｆを囲む境界のうち水平方向における一方側の境界に沿って上下方向に延在している。位置決め部７２Ａは、支持面６４Ｆから突出している。位置決め部７２Ａの長さは、支持面６４Ｆ上に支持されるイメージングプレート１０の上下寸法（複数サイズが想定される場合には最大の上下寸法）よりも長くてもよい。

【0079】

位置決め部７２Ａのうち内側を向く面が、位置決め面７２ＡＦに形成されている。より具体的には、位置決め面７２ＡＦは、少なくとも支持面６４Ｆからイメージングプレート１０の厚み寸法分突出するように設けられており、支持面６４Ｆから離れるにつれて支持面６４Ｆに覆い被さる方向に向うガイド位置決め面に形成されている（図８参照）。位置決め面７２ＡＦは、イメージングプレート１０の縁部分を、イメージングプレート１０の厚み方向と当該縁部分の内外に向う方向との両方に対して斜めとなる方向に沿って、支持面６４Ｆに向けて案内する面であると把握されてもよい。

【0080】

本実施形態では、位置決め部７２Ａは、板状部６４に対して一体形成されている。例えば、金属の母材を切削加工等することにより、板状部６４と位置決め部７２Ａとが一体形成される。板状部６４と位置決め部７２Ａとは別々に製造され、位置決め部７２Ａが板状部６４に対してねじ止等によって固定されてもよい。本実施形態では、位置決め面７２ＡＦは、支持面６４Ｆと鋭角をなして連なっているが、これは必須ではない。

【0081】

位置決め部７２Ｂは、上記位置決め部７２Ａに対して間隔をあけて対向して設けられる。ここでは、位置決め部７２Ｂは、位置決め部７２Ａに対して水平方向に沿って間隔をあけて設けられる。

【0082】

より具体的には、板状部６４のうち可動支持体６２に固定される側の部分に、水平方向に沿うスリット６５が形成されている。板状部６４の他方側の面のうちスリット６５の周囲部分に、当該他方側の面から凹む凹部６５ｇが形成されている（図７及び図８参照）。位置決め部７２Ｂは、板状部６４とは別体であり、スリット６５に沿って移動可能に配置される。より具体的には、位置決め部７２Ｂの一部がスリット６５内に配置可能な形状に形成される。より具体的には、位置決め部７２Ｂは、スリット６５の延在方向に沿って長い板状に形成される。位置決め部７２Ｂの厚みは、板状部６４のうち凹部６５ｇが形成された部分の厚みよりも大きい。位置決め部７２Ｂの厚み方向中間部がスリット６５内に配置される。位置決め部７２Ｂは、スリット６５の両側縁部分に対して板状部６４の両面から接触可能な凸部７２Ｂｐを有している。凸部７２Ｂｐがスリット６５の両側縁部分に板状部６４の両面から接触した状態で位置決め部７２Ｂがスリット６５に沿った方向（主走査方向Ａ１）に沿って往復移動可能に支持される。

【0083】

位置決め部７２Ｂのうち位置決め部７２Ａ側を向く部分、即ち、位置決め面７２ＡＦと対向する部分に、位置決め面７２ＢＦが形成されている。位置決め面７２ＢＦは、位置決め面７２ＡＦと同様に、支持面６４Ｆに対する角度が９０゜未満である平面に形成されている。ここでは、位置決め面７２ＢＦは、スリット６５内において支持面６４Ｆよりも奥側の部分から、支持面６４Ｆから突出するように延在する（図８参照）。

【0084】

位置決め部７２Ｂは、位置決め部７２Ａに対して離れた離間位置（図２、図４、図５参照）と、位置決め部７２Ａに対して離間位置よりも近づいた接近位置（図３、図６、図７参照）との間で移動可能である。ステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する状態では、位置決め部７２Ｂは、離間位置に位置する。ステージ６０が読取位置Ｐ２に位置する状態では、位置決め部７２Ｂは接近位置に移動可能となる。

【0085】

位置決め部７２Ｂが離間位置に位置する状態では、位置決め面７２ＡＦと位置決め面７２ＢＦとの間隔寸法は、イメージングプレート１０の幅よりも大きく設定される。ステージ６０に複数のサイズのイメージングプレート１０が選択的にセットされる場合には、前記間隔寸法は、複数のサイズのイメージングプレート１０の中で最も大きい幅よりも大きく設定される。

【0086】

位置決め部７２Ｂが接近位置に位置する状態では、位置決め面７２ＡＦと位置決め面７２ＢＦとの間隔寸法は、イメージングプレート１０の幅よりも小さく設定される。ステージ６０に複数のサイズのイメージングプレート１０が選択的にセットされる場合には、前記間隔寸法は、複数のサイズのイメージングプレート１０の中で最も小さい幅よりも小さく設定される。

【0087】

このため、位置決め部７２Ｂが離間位置に位置する状態で、位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦの間にイメージングプレート１０を配置することができる。また、位置決め部７２Ｂが離間位置から接近位置に移動することによって、位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦの間にイメージングプレート１０を挟込むことができる。

【0088】

より具体的には、位置決め部７２Ｂが離間位置に位置し、位置決め面７２ＡＦと位置決め面７２ＢＦとが離れた状態で、支持面６４Ｆ上にイメージングプレート１０が配置される（図６及び図８参照）。この状態で、位置決め面７２ＢＦが接近位置（位置決め面７２ＡＦ）に向けて移動する。すると、位置決め面７２ＢＦによってイメージングプレート１０の一方の縁部分がその内側に押され、支持面６４Ｆ上を滑って位置決め面７２ＡＦ側に移動する。すると、イメージングプレート１０のうち位置決め面７２ＡＦ側の縁部分が、位置決め面７２ＡＦに押付けられ、位置決め面７２ＡＦ側への移動が規制される。

【0089】

上記したように、位置決め面７２ＢＦは、支持面６４Ｆに対して９０゜未満の角度をなしている。このため、イメージングプレート１０のうち位置決め面７２ＢＦ側の縁部分は、その縁部分の内側及び支持面６４Ｆ側に押される（矢符Ｆ１参照）。

【0090】

また、位置決め面７２ＡＦは、上記位置決め面７２ＢＦとは逆側に傾斜し、支持面６４Ｆに対して９０゜未満の角度をなしている。このため、イメージングプレート１０のうち位置決め面７２ＡＦ側の縁部分は、位置決め面７２ＢＦによって当該縁部分の外側に押されつつ、支持面６４Ｆ側に押される（矢符Ｆ２参照）。

【0091】

つまり、イメージングプレート１０の水平方向両側の縁部分が、位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦで挟込まれることによって、イメージングプレート１０が水平方向において位置決めされる。また、両方の縁部分がそれぞれ位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦによって支持面６４Ｆ側に押付けられる。これにより、イメージングプレート１０のうち水平方向両側の縁部分は、支持面６４Ｆから浮かずに、支持面６４Ｆに接触した状態となるように案内される。このように位置決め面７２ＡＦと７２ＢＦとでＶ字を描く（つまり、面７２ＡＦ、７２ＢＦが、支持面６４Ｆから離れるにつれて近づく方向に傾斜する、図８参照）特徴的な傾斜を形成する構成にした場合では、イメージングプレート１０を挟み込みながら支持面６４Ｆに押し付ける作用が働き易くなり、イメージングプレート１０が正規姿勢で維持されることを容易にサポートできるので好ましい。

【0092】

本実施形態において、位置決め部７２Ａ及び位置決め部７２Ｂは、一対の開閉位置決め部の一例である。本実施形態では、一対の開閉位置決め部（位置決め部７２Ａ及び位置決め部７２Ｂ）のうち対向する２つの面のうちの両方が位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦをなしており、一対の開閉位置決め部（位置決め部７２Ａ及び位置決め部７２Ｂ）の一方（位置決め部７２Ｂ）が移動することで、一対の開閉位置決め部（位置決め部７２Ａ及び位置決め部７２Ｂ）の間隔が調整される例が説明された。

【0093】

しかしながら、位置決め部７２Ａ及び位置決め部７２Ｂの対向する面のうちの一方が、イメージングプレート１０の縁部分をその外側から位置決めすると共に前記縁部分を支持面６４Ｆに押付けるという意味での位置決め面であってもよい。また、一対の開閉位置決め部（位置決め部７２Ａ及び位置決め部７２Ｂ）の両方が移動することで、それらの間隔が調整されてもよい。

【0094】

なお、位置決め部７２Ａ及び位置決め部７２Ｂの少なくとも一方が移動する代りに、位置決め部７２Ａ及び位置決め部７２Ｂに対してイメージングプレート１０を支持したステージ６０が移動してもよい。例えば、対向する位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦが間隔をあけてＶ字状に配置されており、イメージングプレート１０を保持したステージ６０が位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦ間に間隔が広い方から狭まる方向に移動することによって、イメージングプレート１０の両縁部分を対向する位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦに押し当てるようにしてもよい。これによっても、イメージングプレート１０が位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦの間において支持面６４Ｆに対して押付けるように支持され得る。

【0095】

位置決め部７２Ａ及び位置決め部７２Ｂの両方が、イメージングプレート１０の縁部分をその外側から位置決めすると共に当該縁部分を支持面６４Ｆに押付けるという意味での位置決め面を有する必要は無い。例えば、位置決め部７２Ａ及び位置決め部７２Ｂの一方は、支持面６４Ｆから垂直に延びてイメージングプレート１０の縁部分をその外側から位置決めするが、支持面６４Ｆに向けて押付ける機能は持たない面を有していてもよい。この場合でも、位置決め部７２Ａ及び位置決め部７２Ｂの他方が、イメージングプレート１０の縁部分をその外側から位置決めし、かつ、支持面６４Ｆに向けて押付けることができる。

【0096】

上下の一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの少なくとも一方が、イメージングプレート１０の縁部分を支持面６４Ｆに押付ける機能を有する場合、左右の一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂがイメージングプレート１０の縁部分を支持面６４Ｆに押付ける必要は無い。この場合、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂは、イメージングプレート１０の縁部分をその外側から位置決めするが、支持面６４Ｆに向けて押付ける機能は持たない面、例えば、支持面６４Ｆに対して垂直な面を有していてもよい。さらに、この場合において、位置決め部７２Ａ及び位置決め部７２Ｂの一方が省略され、他方がイメージングプレート１０の縁部分を水平方向の一方向のみから位置規制してもよい。

【0097】

＜上下方向の位置決め機構について＞
位置決め部７２Ｃは、板状部６４のうち上下方向における一方の側部、ここでは、下側の側部に沿って突出する細長い部分である。位置決め部７２Ｃは、支持面６４Ｆを囲む境界のうち下側の境界に沿って水平方向に延在している。位置決め部７２Ｃは、支持面６４Ｆよりも当該支持面６４Ｆから突出している。位置決め部７２Ｃの長さは、支持面６４Ｆ上に支持されるイメージングプレート１０の左右寸法（複数サイズが想定される場合には最大の左右寸法）よりも長くてもよい。

【0098】

位置決め部７２Ｃのうち内側（上側）を向く面が、位置決め面７２ＣＦに形成されている。本実施形態では、位置決め面７２ＣＦは、支持面６４Ｆに対する角度が９０゜未満であるガイド面（ここでは平面）に形成されている。位置決め面７２ＣＦは、重力方向に対して傾斜する支持面６４Ｆの下側に位置していることから、支持面６４Ｆに沿って下方に移動するイメージングプレート１０の下側の縁部分を受ける面の一例である。

【0099】

本実施形態では、位置決め部７２Ｃは、板状部６４とは別体に形成されている。位置決め部７２Ｃは、接触位置と退避位置との間で姿勢変更可能に構成される（図９参照）。接触位置は、位置決め面７２ＣＦを支持面６４Ｆ上のイメージングプレート１０の縁部分に対向させる位置であり、退避位置は、位置決め面７２ＣＦを、支持面６４Ｆ上のイメージングプレート１０の縁部分から退避させる位置である。

【0100】

より具体的には、板状部６４のうち可動支持体６２より延出する部分の下側部分が他の部分よりも凹んでいる。その凹み部分の両端部に、さらに内側に凹む一対の凹部６６ｇが形成されている。位置決め部７２Ｃは、細長い位置決め本体部７３Ｃａと、一対の回転支持部７３Ｃｂとを含む。位置決め本体部７３Ｃａは、一対の凹部６６ｇ間に延在し得る長さに設定されている。位置決め本体部７３Ｃａの周囲を囲む面のうちの１つの面が上記位置決め面７２ＣＦに形成されている。位置決め本体部７３Ｃａの両端部から一対の回転支持部７３Ｃｂが延出している。一対の回転支持部７３Ｃｂが上記一対の凹部６６ｇ内に配置されている。一対の回転支持部７３Ｃｂ及び一対の凹部６６ｇの一方に設けられた支軸部（不図示）が他方に設けられた凹部又は孔部（いずれも不図示）に嵌め込まれることで、位置決め部７２Ｃが支軸部周りに回転可能に支持される。

【0101】

位置決め部７２Ｃが接触位置に位置する状態では、上記したように、位置決め面７２ＣＦが支持面６４Ｆの下方延長上に交差するように位置し、支持面６４Ｆに対する角度が９０゜未満に保たれた状態となる。このため、支持面６４Ｆを滑り落ちるイメージングプレート１０の下側の縁部分が位置決め面７２ＣＦに接触することができる（図９において実線で示す位置決め部７２Ｃ参照）。

【0102】

位置決め面７２ＣＦが退避位置に位置変更されると、位置決め面７２ＣＦが支持面６４Ｆから退避する（図９において二点鎖線で示す位置決め部７２Ｃ参照）。すなわち、退避位置にあるときの位置決め面７２ＣＦは、支持面６４Ｆに沿って下方に移動したイメージングプレート１０の下側の縁部分を受けるポジションには位置しなくなる。本実施形態では、位置決め面７２ＣＦは、支持面６４Ｆの正面側に離れる方向に退避する。位置決め面７２ＣＦは、支持面６４Ｆ上のイメージングプレート１０の縁部分に覆い被さり得る。このため、位置決め面７２ＣＦは、支持面６４Ｆの正面側に離れる方向に円滑に退避し得る。位置決め面７２ＣＦは、支持面６４Ｆの奥側に退避移動してもよい。位置決め面７２ＣＦが退避位置に移動すると、支持面６４Ｆの下側延長上に、イメージングプレート１０が脱出可能な隙間が形成される。当該隙間は、板状部６４の下側から見て、支持面６４Ｆと位置決め面７２ＣＦとの間に形成されるスリット状の隙間である。隙間の長さは、イメージングプレート１０の左右寸法（複数サイズが想定される場合には最大の左右寸法）よりも長い。

【0103】

このため、位置決め面７２ＣＦが退避位置に移動すると、位置決め面７２ＣＦによって下方を支えられていたイメージングプレート１０が、隙間を通って下方に排出され得る。

【0104】

位置決め部７２Ｄは、上記位置決め部７２Ｃに対して間隔をあけて対向して設けられる。ここでは、位置決め部７２Ｄは、位置決め部７２Ｃに対して支持面６４Ｆに沿った斜め上方に間隔をあけて設けられる。

【0105】

より具体的には、板状部６４のうち上側の部分に、その内側の縁部分から下側に向うスリット６７が形成されている。ここでは、スリット６７は、水平方向に間隔をあけて複数（２つ）形成される。板状部６４の他方側の面のうち上側の部分に、当該他方側の面から凹む凹部６７ｇが形成されている（図７及び図９参照）。位置決め部７２Ｄは、板状部６４とは別体であり、スリット６７に沿って移動可能に配置される。位置決め部７２Ｄは、位置決め本体部７２Ｄａと、連結延在部７２Ｄｂとを含む。

【0106】

連結延在部７２Ｄｂは、凹部６７ｇが形成された部分において水平方向に延在している。連結延在部７２Ｄｂは、複数のスリット６７を結ぶ方向に延在し、さらに、可動支持体６２側にも延びている。

【0107】

位置決め本体部７２Ｄａは、スリット６７に対応して設けられる。ここでは、複数（２つ）の位置決め本体部７２Ｄａが、複数（２つ）のスリット６７に対応する数及び間隔で設けられる。位置決め本体部７２Ｄａは、連結延在部７２Ｄｂに対してスリット６７側に一体形成されている。位置決め本体部７２Ｄａは、スリット６７を通って支持面６４Ｆ側に突出する。位置決め本体部７２Ｄａの幅は、スリット６７を移動可能な大きさに設定されている。位置決め部７２Ｄは、スリット６７の両側縁部分に対して支持面６４Ｆから接触可能な凸部７２Ｄｐを有している。連結延在部７２Ｄｂが凹部６７ｇの底に接触すると共に、凸部７２Ｄｐがスリット６５の両側縁部分に支持面６４Ｆ側から接触した状態で、位置決め本体部７２Ｄａがスリット６７に沿った方向（副走査方向Ａ２）に沿って往復移動可能に支持される。

【0108】

位置決め本体部７２Ｄａのうち位置決め部７２Ｃ側を向く部分、即ち、位置決め面７２ＣＦと対向する部分に、位置決め面７２ＤＦが形成されている。位置決め面７２ＤＦは、位置決め面７２ＡＦと同様に、支持面６４Ｆに対する角度が９０゜未満である平面に形成されている。位置決め面７２ＤＦは、スリット６７内において支持面６４Ｆよりも奥側の部分から、支持面６４Ｆから突出するように延在する（図８参照）。

【0109】

位置決め部７２Ｄは、位置決め部７２Ｃに対して離れた離間位置（図２、図４、図６、図９参照）と、位置決め部７２Ｃに対して離間位置よりも近づいた接近位置（図３、図７参照）との間で移動可能である。ステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する状態では、位置決め部７２Ｄは、離間位置に位置する。ステージ６０が読取位置Ｐ２に位置する状態では、位置決め部７２Ｄは接近位置に移動可能となる。

【0110】

位置決め部７２Ｄが離間位置に位置する状態では、位置決め面７２ＣＦと位置決め面７２ＤＦとの間隔寸法は、イメージングプレート１０の高さよりも大きく設定される。ステージ６０に複数のサイズのイメージングプレート１０が選択的にセットされる場合には、前記間隔寸法は、複数のサイズのイメージングプレート１０の中で最も大きい高さよりも大きく設定される。

【0111】

位置決め部７２Ｄが接近位置に位置する状態では、位置決め面７２ＣＦと位置決め面７２ＤＦとの間隔寸法は、イメージングプレート１０の高さよりも小さく設定される。ステージ６０に複数のサイズのイメージングプレート１０が選択的にセットされる場合には、前記間隔寸法は、複数のサイズのイメージングプレート１０の中で最も小さい高さよりも小さく設定される。

【0112】

このため、位置決め部７２Ｄが離間位置に位置する状態で、位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦの間にイメージングプレート１０を配置することができる。また、位置決め部７２Ｄが離間位置から接近位置に移動することによって、位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦの間にイメージングプレート１０を挟込むことができる。

【0113】

より具体的には、位置決め部７２Ｄが離間位置に位置し、位置決め面７２ＣＦと位置決め面７２ＤＦとが離れた状態で、イメージングプレート１０がステージ６０上に配置される（図６及び図９参照）。この状態で、イメージングプレート１０は重力によって支持面６４Ｆ上を滑り落ちるので、イメージングプレート１０の下縁部分が位置決め面７２ＣＦに接した状態となる。位置決め面７２ＤＦは、位置決め面７２ＣＦよりもイメージングプレート１０の高さ以上離れているので、イメージングプレート１０は、位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦの間に収って、イメージングプレート１０の裏面を支持面６４Ｆに面接触させることが可能な状態となる。

【0114】

この状態で、位置決め面７２ＤＦが接近位置（位置決め面７２ＣＦ）に向けて移動する。すると、イメージングプレート１０が位置決め面７２ＤＦによって押され、イメージングプレート１０のうち下側の縁部分が、位置決め面７２ＣＦに押付けられる。

【0115】

上記したように、位置決め面７２ＤＦは、支持面６４Ｆに対して９０゜未満の角度をなしている。このため、イメージングプレート１０のうち上側の縁部分は、その縁部分の内側及び支持面６４Ｆ側に押される（矢符Ｆ４参照）。

【0116】

また、位置決め面７２ＣＦは、上記位置決め面７２ＤＦとは逆側に傾斜し、支持面６４Ｆに対して９０゜未満の角度をなしている。このため、イメージングプレート１０のうち下側の縁部分は、位置決め面７２ＤＦによって当該縁部分の外側に押されつつ、支持面６４Ｆ側に押される（矢符Ｆ３参照）。

【0117】

つまり、イメージングプレート１０の上下両側の縁部分が、位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦで挟込まれることによって、イメージングプレート１０が上下方向において位置決めされる。また、両方の縁部分がそれぞれ位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦによって支持面６４Ｆ側に押付けられる。これにより、イメージングプレート１０のうち上下両側の縁部分は、支持面６４Ｆから浮かずに、支持面６４Ｆに接触した状態となるように案内される。このように位置決め面７２ＣＦと７２ＤＦとでＶ字を描く（つまり、面７２ＣＦ，７２ＤＦが支持面６４Ｆから離れるにつれて近づく方向に傾斜する、図９参照）特徴的な傾斜を形成する構成にした場合では、イメージングプレート１０を挟み込みながら支持面６４Ｆに押し付ける作用が働き易くなり、イメージングプレート１０が正規姿勢で維持されることを容易にサポートできるので好ましい。

【0118】

本実施形態において、位置決め部７２Ｃ及び位置決め部７２Ｄは、一対の開閉位置決め部の一例である。本実施形態では、一対の開閉位置決め部（位置決め部７２Ｃ及び位置決め部７２Ｄ）のうち対向する２つの面のうちの両方が位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦをなしており、一対の開閉位置決め部（位置決め部７２Ｃ及び位置決め部７２Ｄ）の一方（位置決め部７２Ｄ）が移動することで、一対の開閉位置決め部（位置決め部７２Ｃ及び位置決め部７２Ｄ）の間隔が調整される例が説明された。

【0119】

しかしながら、位置決め部７２Ｃ及び位置決め部７２Ｄの対向する面のうちの一方が、イメージングプレート１０の縁部分をその外側から位置決めすると共に前記縁部分を支持面６４Ｆに押付けるという意味での位置決め面であってもよい。また、一対の開閉位置決め部（位置決め部７２Ｃ及び位置決め部７２Ｄ）の両方が移動することで、それらの間隔が調整されてもよい。

【0120】

なお、位置決め部７２Ｃ及び位置決め部７２Ｄの少なくとも一方が移動する代りに、位置決め部７２Ｃ及び位置決め部７２Ｄに対してイメージングプレート１０を支持したステージ６０が移動してもよい。例えば、対向する位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦが間隔をあけてＶ字状に配置されており、イメージングプレート１０を保持したステージ６０が位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦ間に間隔が広い方から狭まる方向に移動することによって、イメージングプレート１０の両縁部分を対向する位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦに押し当てるようにしてもよい。これによっても、イメージングプレート１０が位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦの間において支持面６４Ｆに対して押付けるように支持され得る。

【0121】

一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂと、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄとは、互いに異なる方向に開閉することによって、イメージングプレート１０を異なる２方向において位置決めして挟持することができる。よって、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂは、一対の第１開閉位置決め部の一例であり、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄは、一対の第２開閉位置決め部の一例である。

【0122】

上記位置決め面７２ＢＦ、７２ＣＦ、７２ＤＦが、平面であることは必須ではないことは、位置決め面７２ＡＦについて述べた通りである。すなわち、位置決め面７２ＢＦ、７２ＣＦ、７２ＤＦは、少なくとも支持面６４Ｆからイメージングプレート１０の厚み寸法分突出するように設けられ、支持面６４Ｆから離れるにつれて支持面６４Ｆに覆い被さる方向に向う形状に形成されたガイド位置決め面を含む形状であればよい。また、位置決め面７２ＢＦ、７２ＣＦ、７２ＤＦは、支持面６４Ｆに対する角度が９０゜未満であるガイド面を含む形状に形成されていてもよい。位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦ、７２ＣＦ、７２ＤＦに関する各種変形例が後に説明される。

【0123】

＜位置決め部の駆動機構について＞
上記位置決め部７２Ｂ、位置決め部７２Ｃ、位置決め部７２Ｄの駆動は、どのような構成によってなされてもよい。例えば、位置決め部７２Ｂ、位置決め部７２Ｃ、位置決め部７２Ｄは、ステージ６０を駆動する力を利用して駆動されてもよい。位置決め部７２Ｂ、位置決め部７２Ｃ、位置決め部７２Ｄは、ステージ６０を駆動するモータ等の駆動部とは別の駆動部（例えば、モータ、ソレノイドアクチュエータ）によって実現されてもよい。

【0124】

本実施形態では、位置決め部７２Ｂ、位置決め部７２Ｃ、位置決め部７２Ｄは、ステージ６０を駆動する力を利用して駆動されており、そのための構成が以下に説明される。

【0125】

＜位置決め部７２Ｂを移動させるための構成について＞
位置決め部７２Ｂを移動させるための構成について説明する。図２～図４、図６～図８に示すように、位置決め部７２Ｂは、ステージ本体６１に対して離間位置と接近位置との間で移動可能に支持されている。ステージ本体６１における位置決め部７２Ｂの移動方向は、主走査方向Ａ１に沿ったステージ本体６１の移動方向と同じである。このため、位置決め部７２Ｂは、ステージ６０の移動方向に沿ってステージ本体６１に対して移動可能に支持された可動位置決め部の一例である。

【0126】

位置決め部７２Ｂは、付勢部７２Ｂｓによって閉方向、即ち、離間位置から接近位置に向けて常時付勢されている。本実施形態では、付勢部７２Ｂｓは、板状部６４の裏面側において、位置決め部７２Ｂのうちの位置決め部７２Ａ側の端部と、スリット６５の奥側部分との間に、伸長された状態で掛渡されたコイルばねである（図２、図６、図７、図８参照）。この付勢部７２Ｂｓとしてのコイルばねが縮む力によって、位置決め部７２Ｂが離間位置から接近位置に向けて常時付勢されている。

【0127】

位置決め部７２Ｂに受部７２Ｂｑが一体的に形成されている。受部７２Ｂｑは、位置決め部７２Ｂのうち支持面６４Ｆとは反対側を向く部分に設けられている。ここでは、受部７２Ｂｑは、位置決め部７２Ｂの長手方向中間部に設けられる。受部７２Ｂｑは、板状部６４の裏面よりも突出している。ステージ６０の位置に拘らず、受部７２Ｂｑは、一対の側板４２の間に位置することができる。この受部７２Ｂｑは、ステージ６０の移動経路における少なくとも一部において、固定配置部分の一例である一方の側板４２に接することで、ステージ６０を動かす力を受けることができる。

【0128】

ステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する状態では、受部７２Ｂｑが一方の側板４２の傾斜辺部分に読取位置Ｐ２側から接触する。これにより、付勢部７２Ｂｓによる引張り力に抗して受部７２Ｂｑがスリット６５の開口側に向けて押され、位置決め部７２Ｂが離間位置に保たれる（図２，図４参照）。つまり、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂが開状態に保たれる。

【0129】

ステージ６０が読取位置Ｐ２に位置する状態では、受部７２Ｂｑと一方の側板４２との接触状態が解除される。これにより、付勢部７２Ｂｓによる引張り力によって、位置決め部７２Ｂがスリット６５の奥側、即ち、接近位置に向うように付勢される（図３及び図７参照）。これにより、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂが、イメージングプレート１０のうち対向する２箇所の側縁部分を挟込んだ状態に保たれる。

【0130】

ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に移動する少なくとも一部の区間（初期区間）においては、付勢部７２Ｂｓの引張り力によって受部７２Ｂｑが一方の側板４２に向けて押された状態のまま、ステージ６０が読取位置Ｐ２に向けて移動する。ステージ本体６１を基準に考えると、位置決め部７２Ｂは、ステージ本体６１の移動に応じて徐々に接近位置に向けて移動する。これにより、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂが閉動作される。なお、上記一方の側板４２は、ステージ６０の移動中において一定位置に配置される固定配置部分の一例である。

【0131】

この際、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの間にイメージングプレート１０が存在しないと、位置決め部７２Ｂは接近位置まで移動する。一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの間にイメージングプレート１０が存在する場合、一対の位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦの間にイメージングプレート１０が挟込まれることによって、位置決め部７２Ｂの移動が規制されるまで、当該位置決め部７２Ｂが接近位置に向けて移動する。この状態では、付勢部７２Ｂｓの付勢力によって、イメージングプレート１０は、一対の位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦの間に挟込まれた状態に保たれる。このように、ステージ６０が動かされる力によって、受部７２Ｂｑがステージ本体に対して移動し、これにより、受部７２Ｂｑが、接近位置への位置決め部７２Ｂの移動を許容し、もって、位置決め部７２Ｂに開動作を行わせる。

【0132】

上記とは逆に、ステージ６０が読取位置Ｐ２からセット位置Ｐ１に向けて移動する少なくとも一部の区間（後期区間）では、受部７２Ｂｑと一方の側板４２とが接触することによって、一方の側板４２に対して位置決め部７２Ｂが一定位置に保たれたままステージ本体６１がセット位置Ｐ１に向けて移動する。ステージ本体６１を基準に考えると、位置決め部７２Ｂは、付勢部７２Ｂｓの付勢力に抗してステージ本体６１の移動に応じて徐々に離間位置に向けて移動する。これにより、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの間のイメージングプレート１０の保持が解除される。つまり、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂを開動作させる。このように、受部７２Ｂｑが、ステージ６０を動かす力によって、位置決め部７２Ｂを離間位置に向けて移動させ、もって、位置決め部７２Ｂに開動作を行わせる。

【0133】

なお、本実施形態では、ステージ６０は、セット位置Ｐ１からさらに（読取位置Ｐ２とは反対側に）遠ざかる排出位置Ｐ３に移動可能である。受部７２Ｂｑを側板４２に接触させたまま、ステージ６０が排出位置Ｐ３に移動すると、位置決め部７２Ｂは離隔位置よりも位置決め部７２Ａから離れた離隔排出位置に移動することができる。

【0134】

本実施形態では、付勢部７２Ｂｓが位置決め部７２Ｂを閉方向に付勢する構成、及び、ステージ６０の移動途中において受部７２Ｂｑが側板４２に接触する構成によって、ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に移動するのにあわせて一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂを閉動作させる位置決め部動作機構が実現されている。

【0135】

なお、位置決め部動作機構は、ステージ６０が移動する力を受けて一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂを閉動作させる必要は無く、例えば、制御部１００（図５参照）の制御に基づき、ステージ移動機構５０とは別のモータ、ソレノイドアクチュエータ等の駆動によって閉動作を行ってもよい。

【0136】

＜位置決め部７２Ｄを移動させるための構成について＞
位置決め部７２Ｄを移動させるための構成について説明する。

【0137】

図２～図４、図６、図７、図９に示すように、位置決め部７２Ｄは、ステージ本体６１に対して離間位置と接近位置との間で移動可能に支持されている。ステージ本体６１における位置決め部７２Ｄの移動方向は、主走査方向Ａ１に沿ったステージ本体６１の移動方向に対して交差する副走査方向Ａ２に沿っている。このため、位置決め部７２Ｄは、ステージ６０の移動方向に対して交差する方向に沿ってステージ本体６１に対して移動可能に支持された変換方向可動位置決め部の一例である。

【0138】

位置決め部７２Ｄの連結延在部７２Ｄｂは、主走査方向Ａ１に沿って位置決め本体部７２Ｄａから可動支持体６２に向けて延び出ている。可動支持体６２の下部が板状部６４の裏面側に固定されており、可動支持体６２の上部と板状部６４の上部との間には隙間が設けられている。連結延在部７２Ｄｂは、可動支持体６２の上部と板状部６４の上部との間の隙間に向けて延在している（図７参照）。

【0139】

板状部６４のうち連結延在部７２Ｄｂの先端部に対応する部分に、板状部６４の上縁部分から下方に向うスリット６８が形成されている。連結延在部７２Ｄｂの先端部に、補助ガイド部７２Ｄｃがねじ止等によって固定されている。補助ガイド部７２Ｄｃの両端部が、スリット６８の両側縁部分に板状部６４の正面側から接している。連結延在部７２Ｄｂ自体は、板状部６４に対して裏面側から接触している。このため、連結延在部７２Ｄｂの先端部は、スリット６８によってガイドされた状態で、主走査方向Ａ１と交差する副走査方向Ａ２に沿って移動可能に支持される（図６、図７参照）。

【0140】

位置決め部７２Ｄは、付勢部７２Ｄｓによって、閉方向、即ち、離間位置から接近位置に向けて常時付勢されている。本実施形態では、付勢部７２Ｄｓは、板状部６４の裏面側において、連結延在部７２Ｄｂの先端部とスリット６８の奥側部分との間で、伸長された状態で掛渡されたコイルばねである（図４、図６、図７参照）。この付勢部７２Ｄｓとしてのコイルばねが縮む力によって、位置決め部７２Ｄが、離間位置から接近位置に向けて常時付勢されている。

【0141】

位置決め部７２Ｄに、ローラ７２Ｄｑが一体的に組合わされている。ここでは、連結延在部７２Ｄｂの先端部であって支持面６４Ｆとは反対側を向く部分に、ローラ７２Ｄｑが回転可能に支持されている。ローラ７２Ｄｑの回転軸は、主走査方向Ａ１及び副走査方向Ａ２に直交する方向である。ローラ７２Ｄｑは、板状部６４の裏面よりも奥側に配置される。ステージ６０の位置に拘らず、ローラ７２Ｄｑは、一対の側板４２の間に位置することができる。

【0142】

一方の側板４２に、ローラ７２Ｄｑに接触可能な作動片４６が設けられる（図１１も参照）。作動片４６は、一方の側板４２の凹部４２ｇの底の一部から他方の側板４２に向けて延びる細長い板状に形成されている。作動片４６は、ステージ６０の移動に伴うローラ７２Ｄｑの移動軌跡の途中に位置している。作動片４６の先端部は、ステージ６０の移動方向に対して斜めに傾斜する傾斜面４６ｇに形成されている。ここでは、傾斜する傾斜面４６ｇは、ステージ６０の移動方向に沿ってセット位置Ｐ１に向うに連れて上方に向う形状に形成されている。作動片４６の上向き面４６ｕは、ステージ６０の移動方向に沿う形状に形成されている。作動片４６は、ステージ６０の移動中において、一定位置に配置される固定配置部分の一例である。

【0143】

ローラ７２Ｄｑは、ステージ６０の移動経路における少なくとも一部の区間において、固定配置部分である作動片４６に接することで、ステージ６０を動かす力を受けることができる受部の一要素となり得る。

【0144】

ステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する状態では、ローラ７２Ｄｑが作動片４６の上向き面４６ｕに上方から接触する。これにより、付勢部７２Ｄｓによる引張り力に抗してローラ７２Ｄｑが上方に持上げられた状態に保たれ、位置決め部７２Ｄが離間位置に保たれる（図２、図４参照）。つまり、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄが開状態に保たれる。

【0145】

ステージ６０が読取位置Ｐ２に位置する状態では、ローラ７２Ｄｑは作動片４６の先端側に離れ、当該作動片４６に対して非接触状態となる。すると、付勢部７２Ｄｓの引張り力によって連結延在部７２Ｄｂが下側に引寄せられ、位置決め部７２Ｄが接近位置に向うように付勢される（図３、図７参照）。これにより、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄが、イメージングプレート１０のうち対向する上下の側縁部分を挟込んだ状態に保たれる。

【0146】

ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に移動する少なくとも一部の区間である初期区間において、ローラ７２Ｄｑが作動片４６の上向き面４６ｕに接触した状態に保たれる。よって、位置決め部７２Ｄが離間位置に保たれたまま、ステージ６０が読取位置Ｐ２に向けて移動する。

【0147】

ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に向う途中で、ローラ７２Ｄｑが上記傾斜面４６ｇに達する。すると、付勢部７２Ｄｓによる付勢力によって、ステージ６０の移動に伴って、ローラ７２Ｄｑが傾斜面４６ｇに沿って徐々に下降する。これにより、位置決め部７２Ｄが接近位置に向かって移動し、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄが閉動作される。

【0148】

この際、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの間にイメージングプレート１０が存在しないと、位置決め部７２Ｄは接近位置まで移動する。一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの間にイメージングプレート１０が存在する場合、一対の位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦの間にイメージングプレート１０が挟込まれることによって、位置決め部７２Ｃの移動が規制されるまで、当該位置決め部７２Ｄが接近位置に向けて移動する。この状態では、付勢部７２Ｄｓの付勢力によって、イメージングプレート１０は、一対の位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦの間に挟込まれた状態に保たれる。このように、ローラ７２Ｄｑが、ステージ６０を動かす力を受けて、接近位置への位置決め部７２Ｄの移動を許容する状態に変り、もって、開動作を行わせる。

【0149】

なお、水平方向の一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂがイメージングプレート１０を挟持した後、上下の一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄがイメージングプレート１０を挟持するように、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの開閉タイミングと、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの開閉タイミングとが設定されていてもよい。例えば、ステージ６０が読取位置Ｐ２に向う途中で、受部７２Ｂｑが側板４２から離れて位置決め部７２Ｂが接近位置に向けて移動した後、ローラ７２Ｄｑが傾斜面４６ｇに達して位置決め部７２Ｄが接近位置に向うように設定されてもよい。本実施形態では、作動片４６を、一方の側板４２から他方の側板４２に向けて伸すことによって、ステージ６０が読取位置Ｐ２に向う際に、ローラ７２Ｄｑが傾斜面４６ｇに達するタイミングを遅らせ、もって、位置決め部７２Ｄが接近位置に向けて移動するタイミングを遅らせている。

【0150】

上記のように設定することで、ステージ６０に対してイメージングプレート１０が精度よく位置決めされる。すなわち、イメージングプレート１０がステージ６０上に落下した状態では、イメージングプレート１０は自重によって位置決め面７２ＣＦに乗っかることによって上下方向に位置決めされる。これに対して、左右方向については、イメージングプレート１０の位置の自由度が大きい。そこで、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄによって挟持されていないイメージングプレート１０を、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂによって左右方向に位置決めする。この後、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄによって上下方向に挟持する。これにより、上下左右両方向において、ステージ６０に対してイメージングプレート１０が精度よく位置決めされる。

【0151】

上記とは逆に、ステージ６０が読取位置Ｐ２からセット位置Ｐ１に向けて移動する少なくとも一部の区間である後期区間では、ローラ７２Ｄｑと作動片４６の傾斜面４６ｇが接触すると、ローラ７２Ｄｑが傾斜面４６ｇに沿って上方に移動する。これにより、位置決め部７２Ｄが離間位置に向けて移動する。ステージ本体６１を基準に考えると、位置決め部７２Ｄは、付勢部７２Ｄｓの付勢力に抗してステージ本体６１の移動に応じて徐々に離間位置に向けて移動する。これにより、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの間のイメージングプレート１０の保持が解除される。つまり、ステージ６０が読取位置Ｐ２からセット位置Ｐ１に移動する少なくとも一部の区間において、ローラ７２Ｄｑが傾斜面４６ｇに接して、位置決め部７２Ｄをステージ６０の移動方向に対して交差する方向に沿って移動させることによって、一対の開閉位置決め部７２Ｃ、７２Ｄを動作させる。ローラ７２Ｄｑが作動片４６の上向き面４６ｕに達すると、ローラ７２Ｄｑは当該上向き面４６ｕ上を移動する。このため、位置決め部７２Ｄは、離間位置に位置する状態に保たれる。

【0152】

このように、ローラ７２Ｄｑが、ステージ６０を動かす力を受けて、位置決め部７２Ｄを離間位置に向けて移動させ、もって、位置決め部７２Ｄに開動作を行わせる。

【0153】

本実施形態では、付勢部７２Ｄｓが位置決め部７２Ｄを閉方向に付勢する構成、及び、ステージ６０の移動途中においてローラ７２Ｄｑが作動片４６に接触する構成によって、ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に移動するのにあわせて、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂを閉動作させる位置決め部動作機構が実現されている。

【0154】

なお、位置決め部動作機構は、ステージ６０が移動する力を受けて一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄを閉動作させる必要は無く、例えば、制御部１００（図５参照）の制御に基づき、ステージ移動機構５０とは別のモータ、ソレノイドアクチュエータ等の駆動によって閉動作を行ってもよい。

【0155】

位置決め部７２Ｃ及び位置決め部７２Ｄの両方が、イメージングプレート１０の縁部分をその外側から位置決めすると共に当該縁部分を支持面６４Ｆに押付けるという意味での位置決め面を有する必要は無い。例えば、位置決め部７２Ｃ及び位置決め部７２Ｄの一方は、支持面６４Ｆから垂直に延びてイメージングプレート１０の縁部分をその外側から位置決めするが、支持面６４Ｆに向けて押付ける機能は持たない面を有していてもよい。この場合でも、位置決め部７２Ｃ及び位置決め部７２Ｄの他方が、イメージングプレート１０の縁部分をその外側から位置決めし、かつ、支持面６４Ｆに向けて押付けることができる。

【0156】

左右の一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの少なくとも一方が、イメージングプレート１０の縁部分を支持面６４Ｆに押付ける機能を有する場合、上下の一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄがイメージングプレート１０の縁部分を支持面６４Ｆに押付ける必要は無い。この場合、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄは、イメージングプレート１０の縁部分をその外側から位置決めするが、支持面６４Ｆに向けて押付ける機能は持たない面、例えば、支持面６４Ｆに対して垂直な面を有していてもよい。さらに、この場合において、上側の位置決め部７２Ｄが省略され、下側の位置決め部７２Ｃがイメージングプレート１０の縁部分を下から支えて上下方向の位置決めを行ってもよい。

【0157】

以上のとおり、方向の異なる２種類の、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂ（主走査方向Ａ１の位置決め）ならびに、７２Ｃ、７２Ｄ（副走査方向Ａ２の位置決め）について説明を行った。なお、位置決め部動作機構の構成は上記に限定されるものではない。イメージングプレートの正規姿勢を確実に維持するには、上記は好ましい構成であるが、少なくとも副走査方向の位置決め（本実施例では位置決め部７２Ｄならびに７２Ｃを用いた位置決め）を備えていることが好ましい。段落０１４９で、精度の良い位置決めについて述べたが、さらに付記する。イメージングプレートを用いた歯牙のＸ線撮影中に、イメージングプレートが大きく撓む（湾曲する）場合は、撓みを低減した状態でイメージングプレートの潜像が読取られることは明瞭精細な画像データを得るために肝要である。従って、位置決めの順序は、イメージングプレートの長辺に接触する補正（本実施例では、位置決め部７２Ｄを移動させる位置決め）の後にイメージングプレートの短辺に接触する補正（本実施例では、位置決め部７２Ｂを移動させる位置決め）であることが望ましい。イメージングプレートに発生した大きな撓みが位置決め部７２Ｄおよび位置決め面７２ＤＦによって最初に矯正されることで、副走査方向Ａ２の位置決め（位置決め部７２Ｄおよび７２Ｃによる位置決め）と、これに続く主走査方向Ａ１の位置決め（位置決め部７２Ｂおよび７２Ａによる位置決め）とによって、イメージングプレートを確実に挟持するのを、容易にできる。

【0158】

＜位置決め部７２Ｃを移動させるための構成について＞
位置決め部７２Ｃを移動させるための構成について説明する。図１０はステージ６０を示す斜視図である。図９及び図１０において接触位置にある位置決め部７２Ｃが実線で示され、退避位置にある位置決め部７２Ｃが二点鎖線で示される。

【0159】

図９及び図１０に示すように、位置決め部７２Ｃは、接触位置と退避位置との間で移動可能に支持されている。また、位置決め部７２Ｃは、付勢部７２Ｃｓによって、接触位置に向うように付勢されている。付勢部７２Ｃｓは、例えば、ねじりコイルばねである。例えば、かかるねじりコイルばねが、位置決め部７２Ｃを回転可能に支持する軸部に装着され、一端部が板状部６４に連結され、他端部が位置決め部７２Ｃに連結されることで、位置決め部７２Ｃが接触位置に向けて付勢される。ステージ６０がセット位置Ｐ１と読取位置Ｐ２に位置する状態では、付勢部７２Ｃｓの付勢力によって、接触位置に保たれる。

【0160】

位置決め部７２Ｃの一端部から延び出る延長軸部７２Ｃａが板状部６４のうち可動支持体６２側の部分を貫通して板状部６４の側面に突出する。延長軸部７２Ｃａは、位置決め部７２Ｃに対して相対回転不能に設けられており、位置決め部７２Ｃと共に回転する。

【0161】

ステージ６０がセット位置Ｐ１から排出位置Ｐ３に移動すると、位置決め部７２Ｂが離間位置からさらに位置決め部７２Ａから遠ざかる方向に移動する。すると、位置決め部７２Ｂを移動させる力が、中継片７８を介して延長軸部７２Ｃａに伝達される。これにより、延長軸部７２Ｃａが回転し、付勢部７２Ｃｓの付勢力に抗して、位置決め部７２Ｃが接触位置から退避位置に回転することができる。つまり、ステージ６０をセット位置Ｐ１から排出位置Ｐ３に移動させる力が、位置決め部７２Ｂ及び中継片７８を介して、位置決め部７２Ｃを接触位置から退避位置に移動させる力として伝達される。

【0162】

より具体的には、ステージ本体６１のうち可動支持体６２側の部分に中継片７８が移動可能に支持される。中継片７８の移動方向は、位置決め部７２Ｂの移動方向に対して交差する方向、ここでは、副走査方向Ａ２である。

【0163】

中継片７８は、長尺形状に形成されている。可動支持体６２のうち板状部６４が固定された側の面において、当該板状部６４の側面から離れた位置に副走査方向Ａ２に沿って延びるガイド突部６２ｇが形成されている。中継片７８は、可動支持体６２のうち板状部６４が固定された側の面とガイド突部６２ｇと板状部６４の側面と延長軸部７２Ｃａとで囲まれた空間内で、移動可能に支持されている。

【0164】

位置決め部７２Ｂのうち位置決め面７２ＢＦとは反対側の端部に、位置決め部７２Ｂが離間位置に移動する方向に向けて上向き傾斜する斜面７２Ｂｇが形成されている。中継片７８の上側の端部は、上記斜面７２Ｂｇと対向している。この端部に、位置決め部７２Ｂが離間位置に移動する方向に向けて上向き傾斜する斜面７８ｇが形成されている。斜面７２Ｂｇと斜面７８ｇとは、互いに平行な位置関係であってもよい。位置決め部７２Ｂが接近位置にある状態では、斜面７２Ｂｇと斜面７８ｇとの間に隙間が設けられる。位置決め部７２Ｂが離間位置にある状態では、斜面７２Ｂｇと斜面７８ｇとの間に（僅かな）隙間が設けられるか、斜面７２Ｂｇと斜面７８ｇとが接触を開始した状態となる。位置決め部７２Ｂが、離間位置からさらに位置決め部７２Ａに対して遠ざかる方向に移動すると、斜面７２Ｂｇが斜面７８ｇを押し、中継片７８を下方に押下げる。

【0165】

中継片７８の長手方向中間部は、延長軸部７２Ｃａと交差している。中継片７８のうち延長軸部７２Ｃａと交差する部分に凹部７８ｈが形成されている。中継片７８の端部は、凹部７８ｈ内に配置されている。このため、中継片７８の可動範囲は、延長軸部７２Ｃａの端部が凹部７８ｈ内を動ける範囲に規制される。

【0166】

凹部７８ｈの底にピン状部７８ｐが突設されている。延長軸部７２Ｃａの端部に、ピン状部７８ｐが嵌る凹部が形成されている。延長軸部７２Ｃａが凹部７８ｈ内に配置された状態で、ピン状部７８ｐが延長軸部７２Ｃａの凹部に嵌っている。この状態で、ピン状部７８ｐが延長軸部７２Ｃａと延長軸部７２Ｃａの凹部の内周面との間には隙間が形成されている。

【0167】

通常状態では、付勢部７２Ｃｓの付勢力によって、位置決め部７２Ｃは常時接触位置に向けて付勢されている。この付勢力によって、延長軸部７２Ｃａも回転付勢され、この付勢力によって、当該延長軸部７２Ｃａに形成された凹部が凹部７８ｈ内において斜め上方を向く。これにより、ピン状部７８ｐが上方に持上げられ、中継片７８が上方に持上げられる。位置決め部７２Ｂが離間位置又は当該離間位置よりも接近位置に存在する状態では、付勢部７２Ｃｓの付勢力によって、中継片７８は上寄りに位置する。

【0168】

位置決め部７２Ｂが離間位置よりも位置決め部７２Ａから離れる方向に移動すると、斜面７２Ｂｇが斜面７８ｇを押す。これにより、中継片７８が押下げられる。すると、ピン状部７８ｐも下がるので、当該ピン状部７８ｐが嵌っていた延長軸部７２Ｃａの凹部が斜め下方を向く。これにより、延長軸部７２Ｃａが回転して、付勢部７２Ｃｓの付勢力に抗して、位置決め部７２Ｃが接触位置から退避位置に回転移動するようになる。すると、位置決め面７２ＣＦ上に支持されていたイメージングプレート１０が、支持面６４Ｆと位置決め面７２ＣＦとの間の隙間を通って、排出される。

【0169】

位置決め部７２Ｃが離間位置に戻ると、付勢部７２Ｃｓの付勢力によって位置決め部７２Ｃが退避位置から接触位置に戻り、上記通常状態に戻る。

【0170】

本実施形態では、ステージ６０が移動する力によって、位置決め部７２Ｃを接触位置と退避位置との間で移動させているが、必ずしもその必要は無い。制御部１００の制御によって、ステージ６０を移動させるモータとは別の駆動部（例えば、モータ、ソレノイドアクチュエータ等）を動作させて、位置決め部７２Ｃを移動させるようにしてもよい。

【0171】

＜動作＞
本読取装置２０の動作例について説明する。

【0172】

初期状態においては、ステージ６０はセット位置Ｐ１に位置している（図２、図４参照）。この状態では、図１１に示すように、位置決め部７２Ｂの受部７２Ｂｑが一方の側板４２に接触しているため、位置決め部７２Ｂは離間位置に位置している（図６、図１０参照）。このため、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂは開状態となっている。また、ローラ７２Ｄｑは、作動片４６の上向き面４６ｕ上に接した状態となっているため、位置決め部７２Ｄは離間位置に位置している（図６、図１０）。また、付勢部７２Ｃｓの付勢力によって、位置決め部７２Ｃは接触位置に位置した状態となっている（図９、図１０参照）。なお、図１１はステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する状態において、ステージ６０を裏面側から見た状態を示している。

【0173】

この状態で、セット部３１におけるスリット６８にイメージングプレート１０が挿入される（図４及び図５参照）。イメージングプレート１０は、セット用ガイド面３１ＧＳによってガイドされつつ、ステージ６０の支持面６４Ｆに達する。イメージングプレート１０の下縁部分は、支持面６４Ｆを滑り落ちて、下側の位置決め部７２Ｃ上に載置された状態となる。また、イメージングプレート１０は、支持面６４Ｆ側に倒れるように傾斜した状態となり、イメージングプレート１０の裏面が支持面６４Ｆに対向した状態となる。

【0174】

読取装置２０における読取のための指示が入力されると、ステージ移動機構５０の駆動によってステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に向けて移動する。図１２に示すように、ステージ６０が側板４２に対して移動するにつれて、受部７２Ｂｑに接していた側板４２が位置決め部７２Ａ側に相対移動することになるので、位置決め部７２Ａ側への位置決め部７２Ｂの移動が許容されるようになる。すると、付勢部７２Ｂｓによる付勢力によって、位置決め部７２Ｂが板状部６４に対して相対移動し、位置決め部７２Ａに対して接近する。位置決め部７２Ｂの移動中に、位置決め面７２ＢＦがイメージングプレート１０の一方側の側縁部分に接触すると、イメージングプレート１０が反対側の位置決め面７２ＡＦに向けて押される。イメージングプレート１０が下側の位置決め面７２ＣＦ上を滑って移動し、イメージングプレート１０の反対側の側縁部分が位置決め面７２ＡＦに接触すると、一対の位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦがイメージングプレート１０の両側縁部分を左右両側から挟込む状態となる。一対の位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦが、支持面６４Ｆに対して９０゜未満の角度をなしているため、一対の位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦは、イメージングプレート１０を左右方向に位置決めしつつ、イメージングプレート１０の両側縁部分を支持面６４Ｆに向けて押え込む（図８参照）。

【0175】

また、図１２に示すように、ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に達する途中で、ローラ７２Ｄｑが作動片４６の上向き面４６ｕから傾斜面４６ｇに達する。すると、位置決め部７２Ｄが離間位置から接近位置に移動可能となる。付勢部７２Ｄｓの付勢力によって、位置決め部７２Ｄが接近位置に向けて付勢されるので、ステージ６０の移動に伴って、ローラ７２Ｄｑが傾斜面４６ｇに沿って下り、位置決め部７２Ｄが接近位置に向けて移動する。位置決め部７２Ｄの移動中に、位置決め面７２ＤＦがイメージングプレート１０の上側の縁部分に接触すると、イメージングプレート１０の下側の縁部分が下側の位置決め面７２ＣＦに向けて押される。これにより、一対の位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦがイメージングプレート１０の上下の縁部分を上下両側から挟込む状態となる。一対の位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦが、支持面６４Ｆに対して９０゜未満の角度をなしているため、一対の位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦは、イメージングプレート１０を上下方向に位置決めしつつ、イメージングプレート１０の上下の両縁部分を支持面６４Ｆに向けて押え込む（図９参照）。

【0176】

このため、イメージングプレート１０の上下左右の縁部分が一定位置で支持面６４Ｆに押え付けられた状態で、イメージングプレート１０が保持される。この状態で、ステージ６０が読取位置Ｐ２に達し、読取位置Ｐ２において、読取ユニット９０によってイメージングプレート１０の潜像が読取られる。

【0177】

読取ユニット９０による読取り終了後、ステージ６０はセット位置Ｐ１に戻る。その移動途中で、上記と逆の動作が行われ、ステージ６０におけるイメージングプレート１０の保持が解除される。

【0178】

すなわち、ステージ６０が読取位置Ｐ２からセット位置Ｐ１に戻る途中で、ローラ７２Ｄｑが作動片４６の傾斜面４６ｇに接触する。ステージ６０の移動に伴って、ローラ７２Ｄｑが傾斜面４６ｇに沿って上方に移動し、位置決め部７２Ｄが離間位置に移動する（図１０参照）。ローラ７２Ｄｑが作動片の上向き面４６ｕに沿って移動することで、ステージ６０がセット位置Ｐ１及び排出位置Ｐ３に位置する状態で、位置決め部７２Ｄが離間位置に移動した状態が保たれる。

【0179】

また、ステージ６０が読取位置Ｐ２からセット位置Ｐ１に戻る途中で、受部７２Ｂｑが一方の側板４２に接触する（図１０参照）。受部７２Ｂｑが一方の側板４２に接触して位置規制された状態で、ステージ６０が移動することによって、位置決め部７２Ｂが離間位置に向けて移動する。ステージ６０がセット位置Ｐ１に達した状態においても、受部７２Ｂｑが側板４２に接触した状態に保たれるため、位置決め部７２Ｂが離間位置に位置する状態に保たれる。

【0180】

この状態では、位置決め部７２Ｂが主走査方向Ａ１に沿って位置決め部７２Ａから離れる方向に移動し、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂの間の距離が大きくなり、主走査方向Ａ１においてイメージングプレート１０を挟持する状態が解除される。また、位置決め部７２Ｄが副走査方向Ａ２に沿って位置決め部Ｃから離れる方向に移動し、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄの間の距離が大きくなり、副走査方向Ａ２においてイメージングプレート１０を挟持した状態が解除される。

【0181】

ステージ６０がセット位置Ｐ１から排出位置Ｐ３に向けて移動すると、位置決め部７２Ｃの斜面７２Ｂｇが中継片７８の斜面７８ｇに接触し、中継片７８を押下げる（図１０参照）。これにより、延長軸部７２Ｃａが回転し、位置決め部７２Ｃを回転させる。すると、位置決め面７２ＣＦが接触位置から退避位置に移動し、位置決め面７２ＣＦ上に支持されていたイメージングプレート１０が、支持面６４Ｆと位置決め面７２ＣＦとの間の隙間を通って、取出口３２に排出される（図４及び図５参照）。

【0182】

この後、ステージ６０が排出位置Ｐ３からセット位置Ｐ１に戻る。すると、付勢部７２Ｃｓの付勢力によって位置決め面７２ＣＦが接触位置に戻るように、位置決め部７２Ｃが回転移動する。この状態で、上記したように、セット位置Ｐ１のステージ６０にイメージングプレート１０をセットすることができる。

【0183】

＜効果等＞
このように構成された放射線像の読取装置２０によると、イメージングプレート１０の縁部分が位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦ、７２ＣＦ、７２ＤＦに接することによって、イメージングプレート１０が正規姿勢に保たれるようになる。また、位置決め面によってイメージングプレートの縁部分が支持面に押付けられる。これにより、イメージングプレート１０が正規姿勢でかつ支持面に接触された状態で保持され得る。

【0184】

仮に、ステージ６０上で磁力等によって吸着してイメージングプレート１０を保持しようとすると、イメージングプレート１０がステージ６０上で傾いてしまう可能性がある。あるいは、イメージングプレート１０が磁力の働かない位置に不慮に配置された場合に、イメージングプレート１０がステージから脱落してしまう可能性もある。また、支持面６４Ｆに対して垂直な位置決め面だけでイメージングプレート１０を保持しようとすると、イメージングプレート１０が反るように曲って（撓んで）いる場合に、イメージングプレート１０が支持面６４Ｆから部分的に浮いてしまう恐れがある。このような場合、イメージングプレート１０の読取り面の各部と、読取ユニット９０からの距離が変動してしまうため、読取った像がぼやけてしまう可能性がある。ここで、イメージングプレートの撓みの発生について付記する。イメージングプレートを用いた歯牙のＸ線撮影では、イメージングプレートを撮影対象である人や動物の口腔内に挿入する。この時、撮影方法や撮影手段によっては、曲線を形成する歯列にイメージングプレートを沿わせる必要があるため、その際に口腔内で受ける外力によって、イメージングプレートは、撮影に使用する前の平らな状態から撓んでしまう、ということが起きることがある。この口腔内にセットした際にイメージングプレートに対して加えられた外力によって生じたイメージングプレートの撓みが、撮影した像の精細な読取りの障壁になることがある。

【0185】

本読取装置２０によると、ステージ６０上において、イメージングプレート１０が正規姿勢でかつ支持面６４Ｆに面接触した状態で保持されるため、放射線像を所定の正規姿勢で、かつ、鮮明に読取ることができる。

【0186】

また、位置決め機構７０は、位置決め面として、少なくとも支持面６４Ｆからイメージングプレート１０の厚み寸法分突出するように設けられ、支持面６４Ｆから離れるに連れて支持面６４Ｆに覆い被さる方向に向う形状に形成された位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦ、７２ＣＦ、７２ＤＦを含むため、位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦ、７２ＣＦ、７２ＤＦがイメージングプレート１０の縁部分に相対的に押付けられることで、イメージングプレート１０の縁部分が支持面６４Ｆ内において位置決めされつつ、支持面６４Ｆに押付けられる。

【0187】

例えば、位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦ、７２ＣＦ、７２ＤＦが、支持面６４Ｆに対する角度が９０゜未満であるガイド面を含めば、イメージングプレート１０の縁部分がガイド面の傾斜を利用して円滑に支持面に押付けられる。

【0188】

また、位置決め機構７０が、一対の開閉位置決め部として、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂ（又は一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄ）を含み、それらの少なくとも一方が移動することで、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂ（又は一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄ）の間隔が調整される。このため、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂ（又は一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄ）が開いた状態で、それらの間にイメージングプレート１０が容易に配置される。この状態で、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂ（又は一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄ）の間隔を小さくするように閉じると、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂ（又は一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄ）のうち対向する２つの位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦ（又は一対の位置決め面７２ＣＦ、７２ＤＦ）によって、イメージングプレート１０のうち対向する２箇所の縁部分が挟み込まれて、イメージングプレート１０が正規姿勢に保たれると共に、イメージングプレート１０が支持面６４Ｆに接触するようになる。

【0189】

また、ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に移動するのにあわせて、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂ（又は一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄ）を閉動作させることで、セット位置Ｐ１では、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂ（又は一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄ）を開いたイメージングプレート１０を容易にセットできる。また、イメージングプレート１０をセットした後、ステージ６０を読取位置Ｐ２に移動させることで、イメージングプレート１０が正規姿勢でかつ支持面６４Ｆに接触した状態で保持され、装置の一部が動いても安定して保持され得る。

【0190】

また、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄは、接触位置と退避位置との間で位置変更可能な可変位置決め部としての位置決め部７２Ｃを含む。このため、位置決め部７２Ｃを退避位置に移動させることで、イメージングプレート１０をステージ６０から容易に取外すことができる。

【0191】

また、ステージ６０がセット位置Ｐ１と排出位置Ｐ３との間で移動可能であり、ステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する状態では位置決め部７２Ｃが接触位置に位置し、ステージ６０が排出位置Ｐ３に位置する状態では位置決め部７２Ｃが排出位置に移動する。これにより、ステージ６０を排出位置に位置させることで、位置決め面７２ＣＦ上のイメージングプレート１０を、位置決め面７２ＣＦ側に移動させて、イメージングプレート１０をステージ６０から容易に取外すことができる。

【0192】

また、ステージ移動機構５０によってステージ６０が読取位置Ｐ２からセット位置Ｐ１に移動するのにあわせて、（一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂ（又は一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄ））を開動作させるため、イメージングプレート１０の読取り後、イメージングプレート１０がステージ６０から容易に取外される。

【0193】

また、ステージ６０の少なくとも一部の区間の移動によって、受部７２Ｂｑ（又は受部としてのローラ７２Ｄｑ）が側板４２（又は作動片４６）に接してステージ６０を動かす力を受ける。そして、受部７２Ｂｑ（又はローラ７２Ｄｑ）が、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂ（又は一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄ）を閉動作又は開動作の少なくとも一方を行わせる。これにより、モータ等の駆動機構を少なくすることができる。

【0194】

また、位置決め部動作機構は、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂ（又は一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄ）に閉方向の力を常時作用させる付勢部７２Ｂｓ（又は付勢部７２Ｄｓ）を含んでいる。そして、ステージ６０が読取位置Ｐ２からセット位置Ｐ１に移動する少なくとも一部の区間においては、受部７２Ｂｑ（又はローラ７２Ｄｑ）が、側板４２（又は作動片４６）に接することで、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂ（又は一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄ）を開動作させ、ステージ６０がセット位置Ｐ１に位置する状態では、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂ（又は一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄ）を開状態に保つ。さらに、ステージ６０がセット位置Ｐ１から読取位置Ｐ２に移動する少なくとも一部の区間においては、付勢部７２Ｂｓ（又は付勢部７２Ｄｓ）の付勢力によって、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂ（又は一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄ）を閉動作させ、ステージ６０が読取位置Ｐ２に位置する状態では、付勢部７２Ｂｓ（又は付勢部７２Ｄｓ）の付勢力によって、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂ（又は一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄ）によってイメージングプレート１０のうち対向する２箇所の縁部分が挟まれた状態に保たれる。このため、ステージ６０の移動に伴って、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂ（又は一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄ）を開いたり、閉じたりできる。ステージ６０が読取位置Ｐ２に位置する状態では、付勢部７２Ｂｓ（又は付勢部７２Ｄｓ）の付勢力によって、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂ（又は一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄ）がイメージングプレートの２箇所の縁部分を挟込むことで、より確実にイメージングプレート１０を保持できる。

【0195】

また、イメージングプレート１０の水平方向の位置決めに関し、位置決め部７２Ｂがステージ６０の移動方向に沿ってステージ本体６１に対して移動可能に支持されており、受部７２Ｂｑが位置決め部７２Ｂと一体的に構成されている。そして、ステージ６０が読取位置Ｐ２からセット位置Ｐ１に移動する少なくとも一部の区間において、受部７２Ｂｑが側板４２に接して、位置決め部７２Ｂをステージ６０の移動方向に沿って移動させて、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂを動作させる。このため、簡易な構成で、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂを開閉させることができる。

【0196】

また、イメージングプレート１０の上下方向の位置決めに関し、位置決め部７２Ｄは、ステージ６０の移動方向に対して交差する方向に沿ってステージ本体６１に対して移動可能に支持されており、作動片４６がステージ６０の移動方向に対して傾斜する傾斜面４６ｇを含む。ステージ６０が読取位置Ｐ２からセット位置Ｐ１に移動する少なくとも一部の区間において、ローラ７２Ｄｑが傾斜面４６ｇに接して、位置決め部７２Ｄをステージ６０の移動方向に対して交差する方向に沿って移動させて、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄを動作させる。このため、ステージ６０の移動方向と交差する方向において、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄを動作させることができる。

【0197】

なお、作動片４６側にローラが設けられ、位置決め部７２Ｄに、ローラではなく傾斜面４６ｇと同じ傾斜の傾斜面が設けられてもよい。この場合でも、上記と同様に、ローラに傾斜面が押し当てられることで、位置決め部７２Ｄが上方に移動することができ、上記と同様に、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄを動作させることができる。

【0198】

また、一対の開閉位置決め部として、一対の位置決め部７２Ａ、７２Ｂと、一対の位置決め部７２Ｃ、７２Ｄとを含み、それらが互いに異なる方向に開閉する。このため、イメージングプレート１０を、異なる２方向において挟持することができる。

【0199】

また、支持面６４Ｆが重力方向に対して傾斜しており、位置決め機構７０が、位置決め面として、支持面６４Ｆに沿って下方に移動するイメージングプレート１０の下側の縁部を受ける位置決め面７２ＣＦを含む。このため、イメージングプレート１０を斜め姿勢の支持面６４Ｆ上に容易に配置することができ、かつ、イメージングプレート１０が支持面６４Ｆ上を滑り落ちることで、イメージングプレート１０が位置決め面７２ＣＦによって容易に位置決めされる。

【0200】

また、筐体３０に、イメージングプレート１０を支持面６４Ｆに向けて案内する位置、即ち、支持面６４Ｆ上に向けて案内するセット用ガイド面３１ＧＳが設けられている。このため、イメージングプレート１０が位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦ、７２ＣＦ、７２ＤＦを超えずに位置決め面によって位置決めされ易い。

【0201】

＜位置決め面の変形例＞
上記実施形態では、位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦ、７２ＣＦ、７２ＣＦが、支持面６４Ｆに対する角度が９０゜未満であるガイド面を含み、かつ、そのガイド面が平面である例が説明された。

【0202】

位置決め面は、少なくとも支持面６４Ｆからイメージングプレート１０の厚み寸法分突出するように設けられ、支持面６４Ｆから離れるにつれて支持面６４Ｆに覆い被さる方向に向う形状に形成されたガイド位置決め面を含む形状であればよい。この形状例が、図１３から図１７に示される。

【0203】

また、位置決め面は、支持面６４Ｆに対する角度が９０゜未満であるガイド面を含む形状に形成されていてもよく、この場合において、ガイド面は平面でなく、曲面、又は平面と曲面との組合せであってもよい。ガイド面が曲面を含む場合、当該曲面の接平面が、支持面６４Ｆに対して角度が９０゜未満であればよい。この形状例が図１３から図１６に示される。

【0204】

図１３から図１７では、位置決め面７２ＤＦに代えて、位置決め面１１０、１１１、１１２、１１３、１１４が形成された例が示される。これらに説明された位置決め面１１０、１１１、１１２、１１３、１１４は、他の位置決め面７２ＡＦ、７２ＢＦ、７２ＣＦの代りの位置決め面としても適用可能である。

【0205】

図１３に示す変形例では、位置決め面１１０は、複合的な曲面によって構成されている。位置決め部７２Ｄの延在方向に対して直交する断面で観察したとき、位置決め面１１０のうち支持面６４Ｆに近い側の部分は、外側に向けて凹となる曲面をなし、位置決め面１１０のうち支持面６４Ｆから遠い側の部分は、外側に向けて凸となる曲面をなしている。つまり、Ｓ字を傾けたような曲面をなしている。支持面６４Ｆに対する位置決め面１１０の角度は、支持面６４Ｆから離れるにつれて、９０゜未満の範囲で、９０゜に近い角度から徐々に小さくなり、再度９０゜に近く角度をなすように変化する。

【0206】

この場合、イメージングプレート１０の縁部分に対して位置決め面１１０が近づくことによって、当該縁部分が支持面６４Ｆの方向において一定位置に位置決めされると共に、当該縁部分が支持面６４Ｆに対して押される。

【0207】

図１４に示す変形例では、位置決め面１１１は、単調に曲る曲面によって構成されている。位置決め部７２Ｄの延在方向に対して直交する断面で観察したとき、位置決め面１１１は、外側に向けて凹となる弧状曲面をなしている。支持面６４Ｆに対する位置決め面１１１の角度は、支持面６４Ｆから離れるにつれて、９０゜未満の範囲で、９０゜に近い角度から徐々に小さくなるように変化する。

【0208】

この場合でも、イメージングプレート１０の縁部分に対して位置決め面１１１が近づくことによって、当該縁部分が支持面６４Ｆの方向において一定位置に位置決めされると共に、当該縁部分が支持面６４Ｆに対して押される。

【0209】

図１５に示す変形例では、位置決め面１１２は、複数の斜面によって構成されている。位置決め部７２Ｄの延在方向に対して直交する断面で観察したとき、位置決め面１１２のうち支持面６４Ｆに近い側の部分は、第１斜面１１２ａをなし、位置決め面１１２のうち支持面６４Ｆから遠い側の部分は、第２斜面１１２ｂをなしている。支持面６４Ｆに対する第１斜面１１２ａの角度は、支持面６４Ｆに対する第２斜面１１２ｂの角度よりも大きい。

【0210】

この場合でも、イメージングプレート１０の縁部分に対して位置決め面１１２が近づくことによって、当該縁部分が支持面６４Ｆの方向において一定位置に位置決めされると共に、当該縁部分が支持面６４Ｆに対して押される。

【0211】

図１６に示す変形例では、位置決め面１１３は、上記位置決め面７２ＤＦと同様に、平面によって形成された斜面を有している。位置決め面１１３よりも支持面６４Ｆから遠い側に、支持面６４Ｆに対して９０゜以上の角度をなす斜面１１３ｆが形成されている。このように、位置決め面１１３に対して支持面６４Ｆから離れた側に、支持面６４Ｆに対して９０゜以上の角度をなす面が形成されていてもよい。

【0212】

図１７に示す変形例では、位置決め面１１４は、複数の斜面によって構成されている。位置決め部７２Ｄの延在方向に対して直交する断面で観察したとき、位置決め面１１４は、支持面６４Ｆに対して直交する直交面１１４ａと、支持面６４Ｆに対して平行な平行面１１４ｂとが交互に形成された構成とされている。つまり、位置決め面１１４は、支持面６４Ｆから離れるにつれて支持面６４Ｆに覆い被さるように、階段状に突出する形状に形成されている。

【0213】

この場合、イメージングプレート１０の縁部分に対して位置決め面１１４が近づくと、当該縁部分は複数段の直交面１１４ａに対して支持面６４Ｆに近づく方向のみに変位しつつ位置決め面１１４に押し当てられる。このため、イメージングプレート１０の縁部分が、支持面６４Ｆに対して押付けられつつ、位置決めされることが期待される。特に、階段幅が狭ければ（例えば、イメージングプレート１０の厚み又は厚みの１／２よりも小さければ）、イメージングプレート１０の縁部分は、支持面６４Ｆ側に順次近づくように変位していくことが期待される。この位置決め面１１４によっても、イメージングプレート１０の縁部分が支持面６４Ｆの方向において一定位置に位置決めされると共に、当該縁部分が支持面６４Ｆに対して押される。なお、階段状の他にも、位置決め面が波状（不図示）である構成でもよい。すなわち、支持面６４Ｆと直交する直交面（１１４ａに相当）と、支持面６４Ｆと並行な並行面（１１４ｂに相当）とが曲面を介して連なっていてもよい。あるいは、連続的な波を描く連続的な曲面が、全体として支持面６４Ｆから離れるにつれて支持面６４Ｆに覆い被さる方向に向うように延在していてもよい。

【0214】

｛変形例｝
上記実施形態において、ステージ６０の移動方向、ステージ６０におけるイメージングプレート１０の保持姿勢等、各種方向、姿勢は任意である。例えば、ステージ６０は、上下方向（鉛直方向）又は上下方向から傾く方向に沿って移動してもよい。また、イメージングプレート１０の長手方向を上下方向に沿わせる姿勢（本実施例のイメージングプレート１０の姿勢を左右いずれかに９０度回転させた姿勢）で、イメージングプレート１０がステージ６０に保持されてもよい。図１のような横型の読取装置の実施形態に限らず、縦型の読取装置の実施形態であっても、本発明を実施することができる。また、ステージ６０の支持面６４Ｆは平面以外にも曲面で構成されていてもよい。イメージングプレート１０に撓みが生じている場合には、支持面６４Ｆが緩やかな曲面であれば、イメージングプレート１０の撓みと支持面６４Ｆの曲面の接触部分を多くすることができるので、正規位置へ誘導がしやすくなる。

【0215】

なお、上記実施形態及び各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り適宜組合わせることができる。

【0216】

上記した説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。

【0217】

＜付記＞
本明細書及び図面は下記各態様を開示する。

【0218】

第１の態様は、イメージングプレートから放射線像を読取る放射線像の読取装置であって、前記イメージングプレートを保持するステージと、前記ステージに保持された前記イメージングプレートに励起光を照射する励起光源と、前記励起光による前記イメージングプレートからの発光光を検出する光検出器と、を備え、前記ステージが、前記イメージングプレートの裏面に面接触可能な支持面を有するステージ本体と、前記支持面上に支持された前記イメージングプレートの縁部分に対して接触し、前記支持面の延在方向において前記縁部分をその外側から位置決めすると共に前記縁部分を前記支持面に押付ける位置決め面を有する位置決め機構と、を有する、放射線像の読取装置である。

【0219】

第１の態様によると、イメージングプレートの縁部分が位置決め面に接することによって、イメージングプレートが正規姿勢に保たれるようになる。また、位置決め面によってイメージングプレートの縁部分が支持面に押付けられる。これにより、イメージングプレートが正規姿勢でかつ支持面に接触された状態で保持され得る。

【0220】

第２の態様は、第１の態様に係る放射線像の読取装置であって、前記位置決め機構は、前記位置決め面として、少なくとも前記支持面から前記イメージングプレートの厚み寸法分突出するように設けられ、前記支持面から離れるにつれて前記支持面に覆い被さる方向に向う形状に形成されたガイド位置決め面を含むものである。この場合、ガイド位置決め面は、支持面から離れるにつれて支持面に覆い被さる方向に向うように形成されているため、イメージングプレートの縁部分が支持面に押付けられるように働く。

【0221】

第３の態様は、第２の態様に係る放射線像の読取装置であって、前記ガイド位置決め面は、前記支持面に対する角度が９０゜未満であるガイド面を含むものである。この場合、イメージングプレートの縁部分がガイド面に押付けられることによって、当該縁部分が円滑に支持面に押付けられる。

【0222】

第４の態様は、第１から第３のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記位置決め機構は、一対の開閉位置決め部を含み、前記一対の開閉位置決め部のうち対向する２つの面のうちの少なくとも一方が前記位置決め面の少なくとも一部をなし、前記一対の開閉位置決め部の少なくとも一方が移動することで、前記一対の開閉位置決め部の間隔が調整されるものである。

【0223】

この場合、一対の開閉位置決め部が開いた状態で、一対の開閉位置決め部の間にイメージングプレートを容易に配置できる。この状態で、一対の開閉位置決め部の間隔を小さくするように閉じると、一対の開閉位置決め部のうち対向する２つの面によって、イメージングプレートのうち対向する２箇所の縁部分が挟み込まれて、イメージングプレートが正規姿勢に保たれる。この際、ガイド面がイメージングプレートの縁部分を支持面に向けてガイドするので、イメージングプレートが支持面に接触するようになる。

【0224】

第５の態様は、第４の態様に係る放射線像の読取装置であって、前記ステージを、前記ステージに対して前記イメージングプレートがセットされるセット位置と前記励起光源からの励起光に応じて前記光検出器が前記放射線像を読取る読取位置との間で移動させるステージ移動機構と、前記ステージ移動機構によって前記ステージが前記セット位置から前記読取位置に移動するのにあわせて前記一対の開閉位置決め部を閉動作させる位置決め部動作機構と、をさらに備える。この場合、セット位置において、一対の開閉位置決め部を開いてイメージングプレートを容易にセットできる。イメージングプレートのセット後、ステージを読取位置に移動させることで、イメージングプレートが正規姿勢でかつ支持面に接触された状態で装置の一部が動いても安定して保持され得る。

【0225】

第６態様は、第５の態様に係る放射線像の読取装置であって、前記一対の開閉位置決め部は、前記位置決め面を前記支持面上の前記イメージングプレートの縁部分に対向させる接触位置と前記位置決め面を前記支持面上の前記イメージングプレートの縁部分から退避させる退避位置との間で位置変更可能な可変位置決め部を含む。これにより、位置決め面を退避位置に移動させて、イメージングプレートをステージから容易に取外すことができる。

【0226】

第７の態様は、第６の態様に係る放射線像の読取装置であって、前記ステージ移動機構は、前記ステージを前記読取位置に対して前記セット位置よりも離れた排出位置に移動させ、前記可変位置決め部は、前記ステージが前記セット位置と前記読取位置との間に位置する状態では前記接触位置に保たれ、前記ステージが前記排出位置に位置する状態では、前記退避位置に位置変更されるものである。これにより、ステージを排出位置に位置させることで、位置決め面上のイメージングプレートを、可変位置決め部側に移動させて、イメージングプレートをステージから容易に取外すことができる。

【0227】

第８の態様は、第５から第７のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記位置決め部動作機構は、前記ステージ移動機構によって前記ステージが前記読取位置から前記セット位置に移動するのにあわせて、前記一対の開閉位置決め部を開動作させるものである。この場合、イメージングプレートの読取り後、イメージングプレートが読取位置からセット位置に移動すると、一対の開閉位置決め部が開かれる。これにより、イメージングプレートがステージから容易に取外される。

【0228】

第９の態様は、第５から第８のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記ステージの移動中において、一定位置に配置される固定配置部分をさらに備え、前記位置決め部動作機構は、前記ステージの少なくとも一部の区間の移動によって前記固定配置部分に接することで、前記ステージ移動機構が前記ステージを動かす力を受ける受部を含み、前記受部が、前記ステージ移動機構が前記ステージを動かす力を受けて、前記一対の開閉位置決め部の閉動作及び開動作の少なくとも一方を行わせるものである。これにより、ステージ移動機構がステージを動かす力によって、前記一対の開閉位置決め部の閉動作及び開動作の少なくとも一方を行わせることができ、モータ等の駆動機構を少なくすることができる。

【0229】

第１０の態様は、第９の態様に係る放射線像の読取装置であって、前記位置決め部動作機構は、前記一対の開閉位置決め部に閉方向への力を常時作用させる付勢部を含み、前記受部は、前記ステージが前記読取位置から前記セット位置に移動する少なくとも一部の区間においては、前記固定配置部分に接することで、前記一対の開閉位置決め部を開動作させ、前記ステージが前記セット位置に位置する状態では、前記一対の開閉位置決め部を開状態に保ち、前記ステージが前記セット位置から前記読取位置に移動する少なくとも一部の区間においては、前記付勢部の付勢力によって、前記一対の開閉位置決め部を閉動作させ、前記ステージが前記読取位置に位置する状態では、前記付勢部の付勢力によって前記イメージングプレートのうち対向する２箇所の縁部分が前記一対の開閉位置決め部によって挟まれた状態に保たれるものである。

【0230】

これにより、ステージの移動に伴って、一対の開閉位置決め部を開いたり、閉じたりできる。ステージが読取位置に位置する状態では、付勢部の付勢力によって、一対の開閉位置決め部がイメージングプレートの２箇所の縁部分を挟込むことで、より確実にイメージングプレートを保持できる。

【0231】

第１１の態様は、第９又は第１０の態様に係る放射線像の読取装置であって、前記一対の開閉位置決め部は、前記ステージの移動方向に沿って前記ステージ本体に対して移動可能に支持された可動位置決め部を含み、前記受部は、前記可動位置決め部と一体的に構成され、前記ステージが前記読取位置から前記セット位置に移動する少なくとも一部の区間においては、前記受部が前記固定配置部分に接して、前記可動位置決め部を前記ステージの移動方向に沿って移動させて、前記一対の開閉位置決め部を動作させるものである。これにより、ステージの移動方向において、一対の開閉位置決め部を開閉させることができる。

【0232】

第１２の態様は、第９から第１１のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記一対の開閉位置決め部は、前記ステージの移動方向に対して交差する方向に沿って前記ステージ本体に対して移動可能に支持された変換方向可動位置決め部を含み、前記受部及び前記固定配置部分の一方が前記ステージの移動方向に対して傾斜する傾斜面を含み、前記受部及び前記固定配置部分の他方が前記傾斜面に沿って移動可能なローラを含み、前記ステージが前記読取位置から前記セット位置に移動する少なくとも一部の区間において、前記ローラが前記傾斜面に接して、前記変換方向可動位置決め部を前記ステージの移動方向に対して交差する方向に沿って移動させて、前記一対の開閉位置決め部を動作させるものである。これにより、ステージの移動方向と交差する方向において、一対の開閉位置決め部を開閉させることができる。

【0233】

第１３の態様は、第４から第１２のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記位置決め機構は、前記一対の開閉位置決め部として、一対の第１開閉位置決め部と、一対の第２開閉位置決め部とを含み、前記一対の第１開閉位置決め部と前記一対の第２開閉位置決め部とが、互いに異なる方向に開閉するものである。これにより、イメージングプレートを異なる２方向において挟持することができる。

【0234】

第１４の態様は、第１から第１３のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記支持面が重力方向に対して傾斜しており、前記位置決め機構が、前記位置決め面として、前記支持面に沿って下方に移動する前記イメージングプレートの下側の縁部分を受ける面を含むものである。これにより、イメージングプレートを斜め姿勢の支持面上に容易に配置することができ、かつ、イメージングプレートが支持面上を滑り落ちることで、位置決め面によって容易に位置決めされる。

【0235】

第１５の態様は、第１から第１４のいずれか１つの態様に係る放射線像の読取装置であって、前記ステージと前記励起光源と前記光検出器とを収容する筐体を備え、前記筐体に、前記イメージングプレートを前記支持面に向けて案内するセット用ガイド面が設けられているものである。この場合、イメージングプレートが位置決め面を越えずに位置決め面によって位置決めされ易い。

【符号の説明】

【0236】

１０ イメージングプレート
１１ 放射線像形成層
２０ 読取装置
３１ セット部
５０ ステージ移動機構
５２ 移動駆動部
６０ ステージ
６１ ステージ本体
６４ 板状部
６４Ｆ 支持面
７０ 位置決め機構
７２Ａ、７２Ｂ、７２Ｃ、７２Ｄ 位置決め部
７２ＡＦ、７２ＢＦ、７２ＣＦ、７２ＤＦ 位置決め面
７２Ｂｓ、７２Ｃｓ、７２Ｄｓ 付勢部
７２Ｂｇ、７２ｇ 斜面
７２Ｄｃ 補助ガイド部
７２Ｄｑ ローラ
７２Ｄｐ 凸部
７３Ｃａ 位置決め本体部
７３Ｃｂ 回転支持部
７８ 中継片
７８ｇ 斜面
７８ｈ 凹部
７８ｐ ピン状部
９０ 読取ユニット
９１ モジュールケース
９２ 励起光源
９４ 光検出器
１００ 制御部
１１０、１１１、１１２、１１３、１１４ 位置決め面
１１２ａ 第１斜面
１１２ｂ 第２斜面
１１３ｆ 斜面
１１４ａ 直交面
１１４ｂ 平行面
Ａ１ 主走査方向
Ａ２ 副走査方向
Ｐ１ セット位置
Ｐ２ 読取位置
Ｐ３ 排出位置
Ｐ４ 奥側位置

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】