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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-05-20
(45)【発行日】2024-05-28
(54)【発明の名称】界面活性剤組成物
(51)【国際特許分類】
C09K 23/02 20220101AFI20240521BHJP
A61K 8/41 20060101ALI20240521BHJP
A61K 8/46 20060101ALI20240521BHJP
A61K 8/891 20060101ALI20240521BHJP
A61Q 5/00 20060101ALI20240521BHJP
A61Q 5/12 20060101ALI20240521BHJP
C09K 23/18 20220101ALI20240521BHJP
C09K 23/54 20220101ALI20240521BHJP
【ＦＩ】
C09K23/02
A61K8/41
A61K8/46
A61K8/891
A61Q5/00
A61Q5/12
C09K23/18
C09K23/54
【請求項の数】
15
(21)【出願番号】P 2020572293
(86)(22)【出願日】2020-02-13
(86)【国際出願番号】 JP2020005436
(87)【国際公開番号】W WO2020166639
(87)【国際公開日】2020-08-20
【審査請求日】2022-12-08
(31)【優先権主張番号】P 2019023705
(32)【優先日】2019-02-13
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(73)【特許権者】
【識別番号】000000918
【氏名又は名称】花王株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002620
【氏名又は名称】弁理士法人大谷特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】宮崎 敦史
(72)【発明者】
【氏名】五十嵐 知里
(72)【発明者】
【氏名】鐵 真希男
(72)【発明者】
【氏名】青柳 健介
(72)【発明者】
【氏名】横田 悠樹
【審査官】柴田 啓二
(56)【参考文献】
【文献】特開２００８－００１６８５（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１４－０７６９８３（ＪＰ，Ａ）
【文献】特開２０１０－１６８３３６（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０９Ｋ ２３／００
Ｃ１１Ｄ
Ｃ０９Ｋ ３／００
Ａ６１Ｋ ８／００
Ａ６１Ｑ
Ｄ０６Ｍ １３／００
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
アニオン界面活性剤（Ａ）、カチオン界面活性剤（Ｂ）、及びジメチルポリシロキサン（Ｃ）を含有する界面活性剤組成物であって、下記モル比ＲＡが０．１０以上０．９０以下であり、
下記モル比Ｒｂが０．４以上であり、ジメチルポリシロキサン（Ｃ）を固体表面に残留させるために用いる、界面活性剤組成物。
ＲＡ：アニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との合計量に対するアニオン界面活性剤（Ａ）の量、のモル比｛（Ａ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}
Ｒｂ：アニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との合計量に対する分岐型アニオン界面活性剤（ａ１）と分岐型カチオン界面活性剤（ｂ１）との合計量のモル比{〔（ａ１）＋（ｂ１）〕／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}
【請求項2】
アニオン界面活性剤（Ａ）が、スルホン酸塩型界面活性剤及び硫酸エステル塩型界面活性剤から選ばれる１種以上である、請求項１に記載の界面活性剤組成物。
【請求項3】
分岐型アニオン界面活性剤（ａ１）が、下記一般式（１）で表される界面活性剤である、請求項１又は２に記載の界面活性剤組成物。【化1】
〔式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、置換基又は連結基を含んでいてもよい炭化水素基を示し、Ｒ１とＲ２の合計炭素数は、５以上２９以下である。Ｙは、単結合又はフェニレン基を示し、Ｚは、－ＳＯ３基及び－ＯＳＯ３基から選ばれる基を示す。Ｍは、陽イオンを示す。〕
【請求項4】
分岐型アニオン界面活性剤（ａ１）が、内部オレフィンスルホン酸塩である、請求項１～３のいずれかに記載の界面活性剤組成物。
【請求項5】
内部オレフィンスルホン酸塩の炭素数が１４以上２２以下である、請求項４に記載の界面活性剤組成物。
【請求項6】
カチオン界面活性剤（Ｂ）が、第４級アンモニウム塩型カチオン界面活性剤である、請求項１～５のいずれかに記載の界面活性剤組成物。
【請求項7】
第４級アンモニウム塩型カチオン界面活性剤が、下記一般式（２）及び（３）のいずれかで表されるものから選ばれる１種以上を含有する、請求項６に記載の界面活性剤組成物。【化2】
〔式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、炭素数６以上２６以下の炭化水素基を示し、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、炭素数１以上３以下のアルキル基を示し、Ｘ－は陰イオンを示す。〕
【化3】
〔式中、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、炭素数８以上２２以下のアシル基又は水素原子を示し、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は同時に水素原子であることはなく、Ｒ10は、炭素数１以上３以下のアルキル基を示し、Ｘ－は陰イオンを示す。〕
【請求項8】
アニオン界面活性剤（Ａ）の含有量が０．２質量％以上２０質量％以下である、請求項１～７のいずれかに記載の界面活性剤組成物。
【請求項9】
カチオン界面活性剤（Ｂ）の含有量が０．２質量％以上２０質量％以下である、請求項１～８のいずれかに記載の界面活性剤組成物。
【請求項10】
ジメチルポリシロキサン（Ｃ）の含有量が０．５質量％以上６０質量％以下である、請求項１～９のいずれかに記載の界面活性剤組成物。
【請求項11】
アニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との総量に対するジメチルポリシロキサン（Ｃ）の量、の質量比｛（Ｃ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}が０．２以上１０以下である、請求項１～１０のいずれかに記載の界面活性剤組成物。
【請求項12】
水の含有量が３５質量％以上である、請求項１～１１のいずれかに記載の界面活性剤組成物。
【請求項13】
水の含有量が４５質量％以上９５質量％以下である、請求項１～１２のいずれかに記載の界面活性剤組成物。
【請求項14】
請求項１～１３のいずれかに記載の界面活性剤組成物を固体表面に接触させる、ジメチルポリシロキサン（Ｃ）の残留方法。
【請求項15】
請求項１～１３のいずれかに記載の界面活性剤組成物の、ヘアリンス、ヘアコンディショナー、ヘアトリートメント、又はヘアパックへの使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、界面活性剤組成物に関する。
【背景技術】
【0002】
生活者の身の回りには、ガラス、金属、プラスチック、衣類、肌、頭髪等の様々な固体表面が存在している。それらの固体表面の感触、潤滑性、濡れ性、帯電性等は、その固体表面の性質により決まり、それらの制御には、一般的に、界面活性剤や油剤が用いられる。とりわけ、固体表面上に油剤を残留させることは、濡れ性等の固体表面の性質を大きく変えることができるため、極めて有効性の高い手法である。
【0003】
界面活性剤や油剤を含む洗浄剤やコンディショニング剤については、従来から種々の提案がなされている
例えば、特開２０１０－９０２７８号（特許文献１）には、特定の第１及び第２の非イオン性界面活性剤、ＳＯ３基又はＳＯ４基を有する陰イオン性界面活性剤、特定の第４級アンモニウム化合物、水不溶性シリコーン化合物を含有する衣類用液体洗浄剤組成物が開示されている。
特開２０１２－１０７１０４号（特許文献２）には、特定量のアニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、２５℃での動粘度が４００万ｍｍ２／ｓ以上のジメチルポリシロキサン、及びマルトオリゴ糖を含有する毛髪・皮膚洗浄分野の洗浄剤組成物が開示されている。
特開２０１５－２７９７７号（特許文献３）には、炭素数１２～２４の内部オレフィンスルホン酸塩を含有する皮膚又は毛髪用洗浄剤組成物が開示されている。
特開２０１５－２７９７４号（特許文献４）には、炭素数１２～２４の内部オレフィンスルホン酸塩、及び油剤を含有する皮膚又は毛髪用洗浄剤組成物が開示されている。
例えば、特開２０１０－９０２７８号（特許文献１）には、特定の第１及び第２の非イオン性界面活性剤、ＳＯ３基又はＳＯ４基を有する陰イオン性界面活性剤、特定の第４級アンモニウム化合物、水不溶性シリコーン化合物を含有する衣類用液体洗浄剤組成物が開示されている。
特開２０１２－１０７１０４号（特許文献２）には、特定量のアニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、２５℃での動粘度が４００万ｍｍ２／ｓ以上のジメチルポリシロキサン、及びマルトオリゴ糖を含有する毛髪・皮膚洗浄分野の洗浄剤組成物が開示されている。
特開２０１５－２７９７７号（特許文献３）には、炭素数１２～２４の内部オレフィンスルホン酸塩を含有する皮膚又は毛髪用洗浄剤組成物が開示されている。
特開２０１５－２７９７４号（特許文献４）には、炭素数１２～２４の内部オレフィンスルホン酸塩、及び油剤を含有する皮膚又は毛髪用洗浄剤組成物が開示されている。
【発明の概要】
【0004】
本発明は、アニオン界面活性剤（Ａ）、カチオン界面活性剤（Ｂ）、及びジメチルポリシロキサン（Ｃ）を含有する界面活性剤組成物であって、
下記モル比ＲＡが０．１０以上０．９０以下であり、
下記モル比Ｒｂが０．４以上である、界面活性剤組成物に関する。
ＲＡ：アニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との合計量に対するアニオン界面活性剤（Ａ）の量、のモル比｛（Ａ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}
Ｒｂ：アニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との合計量に対する分岐型アニオン界面活性剤（ａ１）と分岐型カチオン界面活性剤（ｂ１）との合計量のモル比{〔（ａ１）＋（ｂ１）〕／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}
下記モル比ＲＡが０．１０以上０．９０以下であり、
下記モル比Ｒｂが０．４以上である、界面活性剤組成物に関する。
ＲＡ：アニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との合計量に対するアニオン界面活性剤（Ａ）の量、のモル比｛（Ａ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}
Ｒｂ：アニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との合計量に対する分岐型アニオン界面活性剤（ａ１）と分岐型カチオン界面活性剤（ｂ１）との合計量のモル比{〔（ａ１）＋（ｂ１）〕／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}
【発明を実施するための形態】
【0005】
固体表面の性質を大きく変えるためには、油剤を固体表面上に高残留させることが望ましい。しかしながら、特許文献１～４のような従来の界面活性剤組成物を含有する洗浄剤では、ジメチルポリシロキサンのような油剤を固体表面上に高残留させることが困難であった。
本発明は、固体表面上にジメチルポリシロキサンを高残留させることができる界面活性剤組成物に関する。
本発明は、固体表面上にジメチルポリシロキサンを高残留させることができる界面活性剤組成物に関する。
【0006】
本発明者らは、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、及びジメチルポリシロキサンを含有する界面活性剤組成物において、分岐型のアニオン界面活性剤とカチオン界面活性剤を特定割合で配合することにより、上記課題を解決し得ることを見出した。
【0007】
すなわち、本発明は、アニオン界面活性剤（Ａ）、カチオン界面活性剤（Ｂ）、及びジメチルポリシロキサン（Ｃ）を含有する界面活性剤組成物であって、
下記モル比ＲＡが０．１０以上０．９０以下であり、
下記モル比Ｒｂが０．４以上である、界面活性剤組成物に関する。
ＲＡ：アニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との合計量に対するアニオン界面活性剤（Ａ）の量、のモル比｛（Ａ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}
Ｒｂ：アニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との合計量に対する分岐型アニオン界面活性剤（ａ１）と分岐型カチオン界面活性剤（ｂ１）との合計量のモル比{〔（ａ１）＋（ｂ１）〕／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}
下記モル比ＲＡが０．１０以上０．９０以下であり、
下記モル比Ｒｂが０．４以上である、界面活性剤組成物に関する。
ＲＡ：アニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との合計量に対するアニオン界面活性剤（Ａ）の量、のモル比｛（Ａ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}
Ｒｂ：アニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との合計量に対する分岐型アニオン界面活性剤（ａ１）と分岐型カチオン界面活性剤（ｂ１）との合計量のモル比{〔（ａ１）＋（ｂ１）〕／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}
【0008】
本発明によれば、固体表面上にジメチルポリシロキサンを高残留させることができる界面活性剤組成物を提供することができる。
【0009】
［界面活性剤組成物］
本発明の界面活性剤組成物は、アニオン界面活性剤（Ａ）、カチオン界面活性剤（Ｂ）、及びジメチルポリシロキサン（Ｃ）を含有する界面活性剤組成物であって、
下記モル比ＲＡが０．１０以上０．９０以下であり、
下記モル比Ｒｂが０．４以上である。
ＲＡ：アニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との合計量に対するアニオン界面活性剤（Ａ）の量、のモル比｛（Ａ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}
Ｒｂ：アニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との合計量に対する分岐型アニオン界面活性剤（ａ１）と分岐型カチオン界面活性剤（ｂ１）との合計量のモル比{〔（ａ１）＋（ｂ１）〕／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}
本発明の界面活性剤組成物は、アニオン界面活性剤（Ａ）、カチオン界面活性剤（Ｂ）、及びジメチルポリシロキサン（Ｃ）を含有する界面活性剤組成物であって、
下記モル比ＲＡが０．１０以上０．９０以下であり、
下記モル比Ｒｂが０．４以上である。
ＲＡ：アニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との合計量に対するアニオン界面活性剤（Ａ）の量、のモル比｛（Ａ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}
Ｒｂ：アニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との合計量に対する分岐型アニオン界面活性剤（ａ１）と分岐型カチオン界面活性剤（ｂ１）との合計量のモル比{〔（ａ１）＋（ｂ１）〕／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}
【0010】
本発明の界面活性剤組成物は、アニオン界面活性剤（Ａ）（以下、「（Ａ）成分」ともいう）とカチオン界面活性剤（Ｂ）（以下、「（Ｂ）成分」ともいう）のいずれか一方又は両方が、分岐型の界面活性剤を含む。すなわち、本発明の界面活性剤組成物は、分岐型アニオン界面活性剤（ａ１）（以下、「（ａ１）成分」ともいう）と分岐型カチオン界面活性剤（ｂ１）（以下、「（ｂ１）成分」ともいう）のいずれか一方を含み、（ａ１）成分と（ｂ１）成分の両方を含むことが好ましい。
ここで、「分岐型」とは、疎水基と親水基を有する界面活性剤において、疎水基が少なくとも１つの分岐した構造を有するか、直鎖又は分岐鎖の疎水基を複数有することを意味する。分岐型界面活性剤の疎水基としては、直鎖又は分岐鎖構造を有する炭化水素基、より好ましくは置換基又は連結基を含んでいてもよい直鎖又は分岐鎖構造を有するアルキル基又はアリール基が挙げられる。
ここで、「分岐型」とは、疎水基と親水基を有する界面活性剤において、疎水基が少なくとも１つの分岐した構造を有するか、直鎖又は分岐鎖の疎水基を複数有することを意味する。分岐型界面活性剤の疎水基としては、直鎖又は分岐鎖構造を有する炭化水素基、より好ましくは置換基又は連結基を含んでいてもよい直鎖又は分岐鎖構造を有するアルキル基又はアリール基が挙げられる。
【0011】
本発明において、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量に対する（ａ１）成分と（ｂ１）成分との合計量のモル比Ｒｂ：{〔（ａ１）＋（ｂ１）〕／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}は、０．４以上である。
前記モル比Ｒｂは、組成物中でのジメチルポリシロキサン（Ｃ）（以下、「（Ｃ）成分」ともいう）の乳化安定性及び固体表面に（Ｃ）成分を高残留させる観点から、好ましくは０．５以上、より好ましくは０．７以上、更に好ましくは０．８以上、より更に好ましくは０．９以上であり、そして、好ましくは１．０以下である。
（ａ１）成分の量は、カチオン界面活性剤による滴定、ＮＭＲ、ＬＣ－ＭＳ等の分析法を組み合わせることにより、また、同一構造の標品と比較することにより求めることができる。また、（ｂ１）成分の量は、アニオン界面活性剤による滴定、ＮＭＲ、ＬＣ－ＭＳ等の分析法を組み合わせることにより、また、同一構造の標品と比較することにより求めることができる。
前記モル比Ｒｂは、組成物中でのジメチルポリシロキサン（Ｃ）（以下、「（Ｃ）成分」ともいう）の乳化安定性及び固体表面に（Ｃ）成分を高残留させる観点から、好ましくは０．５以上、より好ましくは０．７以上、更に好ましくは０．８以上、より更に好ましくは０．９以上であり、そして、好ましくは１．０以下である。
（ａ１）成分の量は、カチオン界面活性剤による滴定、ＮＭＲ、ＬＣ－ＭＳ等の分析法を組み合わせることにより、また、同一構造の標品と比較することにより求めることができる。また、（ｂ１）成分の量は、アニオン界面活性剤による滴定、ＮＭＲ、ＬＣ－ＭＳ等の分析法を組み合わせることにより、また、同一構造の標品と比較することにより求めることができる。
【0012】
本発明の界面活性剤組成物を固体表面上に適用することで、ジメチルポリシロキサン（Ｃ）を高残留させることができ、その結果、例えば、シャンプー洗髪後の毛髪に塗布し、すすぎ流して使用することにより、毛髪間に残留する水分を重力で可能な限り自然排水させることで毛髪の乾燥時間を短縮させることができる。換言すれば、本発明の界面活性剤組成物は、ジメチルポリシロキサン（Ｃ）を固体表面に高残留させるために用いられる。
ジメチルポリシロキサン（Ｃ）を高残留できる理由は定かではないが、本発明の界面活性剤組成物は、ジメチルポリシロキサンを水中に乳化でき、また、ジメチルポリシロキサンの乳化滴が、固体表面上に付着しやすいためであると考えられる。
また、（ａ１）成分と（ｂ１）成分を特定割合で含有することにより、ジメチルポリシロキサン（Ｃ）の固体表面への残留性を効果的に向上させることができると考えられる。
本発明の界面活性剤組成物の形態に特に制限はないが、取扱い性の観点から、水系であることが好ましく、本発明の界面活性剤組成物を含有し、水を連続相とする水溶液であることが好ましい。
ジメチルポリシロキサン（Ｃ）を高残留できる理由は定かではないが、本発明の界面活性剤組成物は、ジメチルポリシロキサンを水中に乳化でき、また、ジメチルポリシロキサンの乳化滴が、固体表面上に付着しやすいためであると考えられる。
また、（ａ１）成分と（ｂ１）成分を特定割合で含有することにより、ジメチルポリシロキサン（Ｃ）の固体表面への残留性を効果的に向上させることができると考えられる。
本発明の界面活性剤組成物の形態に特に制限はないが、取扱い性の観点から、水系であることが好ましく、本発明の界面活性剤組成物を含有し、水を連続相とする水溶液であることが好ましい。
【0013】
＜アニオン界面活性剤：（Ａ）成分＞
本発明の界面活性剤組成物に含まれる（Ａ）成分に特に制限はないが、スルホン酸塩型界面活性剤及び硫酸エステル塩型界面活性剤から選ばれる１種以上を含むことが好ましい。
本発明の界面活性剤組成物に含まれる（Ａ）成分に特に制限はないが、スルホン酸塩型界面活性剤及び硫酸エステル塩型界面活性剤から選ばれる１種以上を含むことが好ましい。
【0014】
〔スルホン酸塩型界面活性剤〕
スルホン酸塩型界面活性剤としては、炭素数６以上２２以下の脂肪族炭化水素基を有するスルホン酸塩型の界面活性剤が挙げられ、その好適例としては、炭素数６以上２２以下のアルキル基を有するアルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、アルキルスルホン酸塩等が挙げられる。炭素数６以上２２以下のアルキル基とは、アルキルベンゼンスルホン酸塩の場合、ベンゼン環に置換するアルキル基を意味し、ベンゼン骨格は含まない。アルキル基は、固体表面への（Ｃ）成分の高残留性の観点から、その炭素数は好ましくは８以上、より好ましくは１０以上、更に好ましくは１２以上であり、そして、好ましくは２０以下、より好ましくは１８以下である。
前記の塩としては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属塩、アルカノールアミン塩、マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属塩等が挙げられる。それらの中では、上記と同様の観点から、アルカリ金属塩が好ましく、ナトリウム塩がより好ましい。
スルホン酸塩型界面活性剤としては、炭素数６以上２２以下の脂肪族炭化水素基を有するスルホン酸塩型の界面活性剤が挙げられ、その好適例としては、炭素数６以上２２以下のアルキル基を有するアルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、アルキルスルホン酸塩等が挙げられる。炭素数６以上２２以下のアルキル基とは、アルキルベンゼンスルホン酸塩の場合、ベンゼン環に置換するアルキル基を意味し、ベンゼン骨格は含まない。アルキル基は、固体表面への（Ｃ）成分の高残留性の観点から、その炭素数は好ましくは８以上、より好ましくは１０以上、更に好ましくは１２以上であり、そして、好ましくは２０以下、より好ましくは１８以下である。
前記の塩としては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属塩、アルカノールアミン塩、マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属塩等が挙げられる。それらの中では、上記と同様の観点から、アルカリ金属塩が好ましく、ナトリウム塩がより好ましい。
【0015】
〔硫酸エステル塩型界面活性剤〕
硫酸エステル塩型界面活性剤としては、炭素数１０以上１８以下の脂肪族炭化水素基を有する硫酸エステル塩型の界面活性剤が挙げられる。前記硫酸エステル塩の好適例としては、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩が挙げられる。
その具体例としては、アルキレンオキシ基の平均付加モル数ｍが０以上、好ましくは０．５以上、より好ましくは１以上であり、そして、該ｍが５以下、好ましくは４以下、より好ましくは３以下であり、かつ、炭素数が１０以上、好ましくは１２以上であり、そして、炭素数が１８以下、好ましくは１６以下のアルキル基を有するものが挙げられる。
前記アルキレンオキシ基は、エチレンオキシ基（ＥＯ基）を含むことが好ましく、平均付加モル数０．２～２モルの範囲でＰＯ基を含んでいてもよい。
前記の塩としては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属塩、アルカノールアミン塩、マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属塩等が挙げられる。それらの中では、上記と同様の観点から、アルカリ金属塩が好ましく、ナトリウム塩がより好ましい。
硫酸エステル塩型界面活性剤としては、炭素数１０以上１８以下の脂肪族炭化水素基を有する硫酸エステル塩型の界面活性剤が挙げられる。前記硫酸エステル塩の好適例としては、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩が挙げられる。
その具体例としては、アルキレンオキシ基の平均付加モル数ｍが０以上、好ましくは０．５以上、より好ましくは１以上であり、そして、該ｍが５以下、好ましくは４以下、より好ましくは３以下であり、かつ、炭素数が１０以上、好ましくは１２以上であり、そして、炭素数が１８以下、好ましくは１６以下のアルキル基を有するものが挙げられる。
前記アルキレンオキシ基は、エチレンオキシ基（ＥＯ基）を含むことが好ましく、平均付加モル数０．２～２モルの範囲でＰＯ基を含んでいてもよい。
前記の塩としては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属塩、アルカノールアミン塩、マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属塩等が挙げられる。それらの中では、上記と同様の観点から、アルカリ金属塩が好ましく、ナトリウム塩がより好ましい。
【0016】
本発明の界面活性剤組成物は、分岐型アニオン界面活性剤（ａ１）を含む。
（ａ１）成分としては、下記一般式（１）で表されるものが好ましい。
（ａ１）成分としては、下記一般式（１）で表されるものが好ましい。
【0017】
【化1】
【0018】
式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、置換基又は連結基を含んでいてもよい炭化水素基を示し、Ｒ１とＲ２の合計炭素数は、５以上２９以下である。Ｙは、単結合又はフェニレン基を示し、Ｚは、－ＳＯ３基及び－ＯＳＯ３基から選ばれる基を示す。Ｍは、陽イオンを示す。
式（１）中、Ｒ１及びＲ２の炭素数は、上記と同様の観点から、それぞれ独立して、１以上、好ましくは２以上、より好ましくは３以上、更に好ましくは４以上であり、そして、好ましくは２８以下、より好ましくは２６以下、更に好ましくは２４以下である。
Ｒ１及びＲ２の炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基が好ましく、アルキル基、アルケニル基又はヒドロキシアルキル基がより好ましい。
Ｒ１とＲ２の合計炭素数は、上記と同様の観点から、好ましくは７以上、より好ましくは９以上、更に好ましくは１１以上であり、そして、好ましくは２３以下、より好ましくは１９以下、更に好ましくは１７以下である。
Ｒ１、Ｒ２の炭化水素基は、水酸基等の置換基又はＣＯＯ基等の連結基を含んでいてもよい。前記置換基又は連結基の炭素数は、Ｒ１、Ｒ２の炭化水素基の炭素数には算入しない。
式（１）中、Ｒ１及びＲ２の炭素数は、上記と同様の観点から、それぞれ独立して、１以上、好ましくは２以上、より好ましくは３以上、更に好ましくは４以上であり、そして、好ましくは２８以下、より好ましくは２６以下、更に好ましくは２４以下である。
Ｒ１及びＲ２の炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基が好ましく、アルキル基、アルケニル基又はヒドロキシアルキル基がより好ましい。
Ｒ１とＲ２の合計炭素数は、上記と同様の観点から、好ましくは７以上、より好ましくは９以上、更に好ましくは１１以上であり、そして、好ましくは２３以下、より好ましくは１９以下、更に好ましくは１７以下である。
Ｒ１、Ｒ２の炭化水素基は、水酸基等の置換基又はＣＯＯ基等の連結基を含んでいてもよい。前記置換基又は連結基の炭素数は、Ｒ１、Ｒ２の炭化水素基の炭素数には算入しない。
【0019】
Ｙは単結合又はフェニレン基であるが、単結合が好ましい。
式（１）中の陽イオンＭとしては、アルカリ金属イオン、炭素数１以上６以下のアルカノールアンモニウムイオン等が挙げられる。それらの中では、ナトリウムイオン、カリウムイオン、モノエタノールアンモニウムイオン、ジエタノールアンモニウムイオン、及びトリエタノールアンモニウムイオンから選ばれる1種以上が好ましい。
式（１）中の陽イオンＭとしては、アルカリ金属イオン、炭素数１以上６以下のアルカノールアンモニウムイオン等が挙げられる。それらの中では、ナトリウムイオン、カリウムイオン、モノエタノールアンモニウムイオン、ジエタノールアンモニウムイオン、及びトリエタノールアンモニウムイオンから選ばれる1種以上が好ましい。
【0020】
（ａ１）成分としては、（Ｃ）成分の乳化安定性及び固体表面への高残留性の観点から、内部オレフィンスルホン酸塩（ＩＯＳ）、アルキルベンゼンスルホン酸塩、第二級アルカンスルホン酸塩及びジアルキルスルホコハク酸塩から選ばれる１種以上が好ましく、ＩＯＳがより好ましい。
【0021】
（内部オレフィンスルホン酸塩：ＩＯＳ）
ＩＯＳは、二重結合がオレフィン鎖の内部（２位以上の位置）にある内部オレフィンをスルホン化、中和、及び加水分解すること等によって得ることができる。内部オレフィンをスルホン化すると、定量的にβ－サルトンが生成し、β－サルトンの一部は、γ－サルトン、オレフィンスルホン酸へと変化し、更にこれらは中和・加水分解工程においてヒドロキシアルカンスルホン酸塩（Ｈ体）と、オレフィンスルホン酸塩（Ｏ体）へと転換する（例えば、J. Am. Oil Chem. Soc. 69, 39(1992)）。ＩＯＳは、これらの混合物であり、主に、スルホン酸基が炭素鎖（Ｈ体におけるヒドロキシアルカン鎖、又はＯ体におけるオレフィン鎖）の内部（２位以上の位置）に存在するスルホン酸塩である。
ＩＯＳは、二重結合がオレフィン鎖の内部（２位以上の位置）にある内部オレフィンをスルホン化、中和、及び加水分解すること等によって得ることができる。内部オレフィンをスルホン化すると、定量的にβ－サルトンが生成し、β－サルトンの一部は、γ－サルトン、オレフィンスルホン酸へと変化し、更にこれらは中和・加水分解工程においてヒドロキシアルカンスルホン酸塩（Ｈ体）と、オレフィンスルホン酸塩（Ｏ体）へと転換する（例えば、J. Am. Oil Chem. Soc. 69, 39(1992)）。ＩＯＳは、これらの混合物であり、主に、スルホン酸基が炭素鎖（Ｈ体におけるヒドロキシアルカン鎖、又はＯ体におけるオレフィン鎖）の内部（２位以上の位置）に存在するスルホン酸塩である。
【0022】
ＩＯＳの炭素数は、上記と同様の観点から、好ましくは１４以上、より好ましくは１６以上であり、そして、好ましくは２０以下、より好ましくは１８以下である。前記炭素数は、酸型化合物換算の炭素数である。
ＩＯＳの塩としては、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属（１／２原子）塩、アンモニウム塩又は有機アンモニウム塩が挙げられる。アルカリ金属塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩が挙げられる。アルカリ土類金属塩としては、カルシウム塩、マグネシウム塩が挙げられる。有機アンモニウム塩としては、炭素数２以上６以下のアルカノールアンモニウム塩が挙げられる。
ＩＯＳの塩としては、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属（１／２原子）塩、アンモニウム塩又は有機アンモニウム塩が挙げられる。アルカリ金属塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩が挙げられる。アルカリ土類金属塩としては、カルシウム塩、マグネシウム塩が挙げられる。有機アンモニウム塩としては、炭素数２以上６以下のアルカノールアンモニウム塩が挙げられる。
【0023】
ＩＯＳ中における、炭素数１６の内部オレフィンスルホン酸塩（以下、「（１６Ｓ）成分」ともいう）の含有量と、炭素数１８の内部オレフィンスルホン酸塩（以下、「（１８Ｓ）成分」ともいう）の含有量との質量比〔（１６Ｓ）成分／（１８Ｓ）成分〕は、上記と同様の観点から、好ましくは５０／５０～９９／１、より好ましくは６０／４０～９５／５、更に好ましくは７０／３０～９０／１０、より更に好ましくは７５／２５～８５／１５である。
ＩＯＳ中における、（１６Ｓ）成分と（１８Ｓ）成分の合計含有量は、上記と同様の観点から、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは７０質量％以上、更に好ましくは９０質量％以上であり、より更に好ましくは１００質量％である。
ＩＯＳ中における、（１６Ｓ）成分と（１８Ｓ）成分の合計含有量は、上記と同様の観点から、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは７０質量％以上、更に好ましくは９０質量％以上であり、より更に好ましくは１００質量％である。
【0024】
ＩＯＳ中における、スルホン酸基が２位に存在する内部オレフィンスルホン酸塩の含有量は、上記と同様の観点から、好ましくは５質量％以上、より好ましくは７質量％以上、更に好ましくは１０質量％以上であり、そして、好ましくは３５質量％以下、より好ましくは３０質量％以下、更に好ましくは２８質量％以下である。
ＩＯＳにおける、Ｈ体／Ｏ体の質量比、スルホン酸基の置換位置分布等の測定は、高速液体クロマトグラフィー質量分析計（ＨＰＬＣ－ＭＳ）、ガスクロマトグラフィー、核磁気共鳴スペクトル等により測定でき、より具体的には、特開２０１５－２７９７７号公報や、特開２０１８－６６１０２号公報に記載の方法により測定できる。
内部オレフィンスルホン酸塩の詳細、及びその製法については、特開２０１５－２７９７７号公報、特許第１６３３１８４号公報、特許第２６２５１５０号公報、Tenside Surf.Det.３１（５）２９９（１９９４）等を参照することができる。
ＩＯＳにおける、Ｈ体／Ｏ体の質量比、スルホン酸基の置換位置分布等の測定は、高速液体クロマトグラフィー質量分析計（ＨＰＬＣ－ＭＳ）、ガスクロマトグラフィー、核磁気共鳴スペクトル等により測定でき、より具体的には、特開２０１５－２７９７７号公報や、特開２０１８－６６１０２号公報に記載の方法により測定できる。
内部オレフィンスルホン酸塩の詳細、及びその製法については、特開２０１５－２７９７７号公報、特許第１６３３１８４号公報、特許第２６２５１５０号公報、Tenside Surf.Det.３１（５）２９９（１９９４）等を参照することができる。
【0025】
＜カチオン界面活性剤：（Ｂ）成分＞
本発明の界面活性剤組成物は、（Ｃ）成分の乳化安定性及び固体表面への高残留性の観点から、カチオン界面活性剤（Ｂ）を含有する。
（Ｂ）成分は、分岐型カチオン界面活性剤（ｂ１）を含むことが好ましい。
（Ｂ）成分は、上記と同様の観点から、第４級アンモニウム塩型カチオン界面活性剤を含有することが好ましく、下記一般式（２）及び（３）のいずれかで表されるものから選ばれる１種以上を含有することがより好ましい。上記と同様の観点から、（ｂ１）成分は、下記一般式（２）及び（３）のいずれかで表されるものから選ばれる１種以上がより好ましい。
一般式（２）及び（３）のいずれかで表される第４級アンモニウム塩は、式（２）及び（３）のいずれかに含まれる具体的な化合物の1種又は２種以上を組み合わせて使用することができる。該成分は、通常、複数の化合物を含む混合物として用いられる。
本発明の界面活性剤組成物は、（Ｃ）成分の乳化安定性及び固体表面への高残留性の観点から、カチオン界面活性剤（Ｂ）を含有する。
（Ｂ）成分は、分岐型カチオン界面活性剤（ｂ１）を含むことが好ましい。
（Ｂ）成分は、上記と同様の観点から、第４級アンモニウム塩型カチオン界面活性剤を含有することが好ましく、下記一般式（２）及び（３）のいずれかで表されるものから選ばれる１種以上を含有することがより好ましい。上記と同様の観点から、（ｂ１）成分は、下記一般式（２）及び（３）のいずれかで表されるものから選ばれる１種以上がより好ましい。
一般式（２）及び（３）のいずれかで表される第４級アンモニウム塩は、式（２）及び（３）のいずれかに含まれる具体的な化合物の1種又は２種以上を組み合わせて使用することができる。該成分は、通常、複数の化合物を含む混合物として用いられる。
【0026】
〔一般式（２）で表される第４級アンモニウム塩〕
【化2】
【0027】
〔式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、炭素数６以上２６以下の炭化水素基を示し、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、炭素数１以上３以下のアルキル基を示し、Ｘ－は陰イオンを示す。〕
Ｒ３の炭化水素基としては、好ましくは脂肪族炭化水素基、より好ましくはアルキル基である。
Ｒ４の炭化水素基としては、好ましくは脂肪族炭化水素基又はアリール基、より好ましくはアルキル基又はベンジル基である。
Ｒ３の炭化水素基としては、好ましくは脂肪族炭化水素基、より好ましくはアルキル基である。
Ｒ４の炭化水素基としては、好ましくは脂肪族炭化水素基又はアリール基、より好ましくはアルキル基又はベンジル基である。
【0028】
Ｒ３及びＲ４の脂肪族炭化水素基の炭素数は、上記と同様の観点から、好ましくは８以上、より好ましくは１０以上、更に好ましくは１２以上であり、そして、好ましくは２２以下、より好ましくは２０以下である。脂肪族炭化水素基としては、上記と同様の観点から、好ましくはアルキル基である。その具体例としては、各種オクチル基、各種デシル基、各種ドデシル基、各種テトラデシル基、各種ヘキサデシル基、各種オクタデシル基、各種イコシル基等が挙げられる。
Ｒ４のアリール基としては、上記と同様の観点から、好ましくはベンジル基である。
Ｒ５及びＲ６である炭素数１以上３以下のアルキル基は、入手容易性、及び上記と同様の観点から、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基であり、好ましくはメチル基又はエチル基であり、より好ましくはメチル基である。
Ｒ４のアリール基としては、上記と同様の観点から、好ましくはベンジル基である。
Ｒ５及びＲ６である炭素数１以上３以下のアルキル基は、入手容易性、及び上記と同様の観点から、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基であり、好ましくはメチル基又はエチル基であり、より好ましくはメチル基である。
【0029】
式（２）中、陰イオンであるＸ－としては、有機又は無機の陰イオンが挙げられる。陰イオンＸ－の具体例としては、ハロゲンイオン、炭素数１以上３以下のアルキル硫酸エステルイオン、炭素数１以上３以下のアルキルリン酸エステルイオン、炭素数１２以上１８以下の脂肪酸イオン、又は炭素数１以上３以下のアルキル基が１個以上３個以下置換していてもよいベンゼンスルホン酸イオン等が挙げられる。これらの中では、好ましくはハロゲンイオン、又は炭素数１以上３以下のアルキル硫酸エステルイオンであり、より好ましくは塩素イオン、臭素イオン、メチル硫酸エステルイオン、又はエチル硫酸エステルイオン、更に好ましくは塩素イオン、又はメチル硫酸エステルイオンである。
【0030】
式（２）で表される第４級アンモニウム塩の好適例としては、ジデシル（Ｃ１０）ジメチルアンモニウム塩、ジラウリル（Ｃ１２）ジメチルアンモニウム塩、ジココジメチルアンモニウム塩（Ｃ８～１６）、ジミリスチル（Ｃ１４）ジメチルアンモニウム塩、ジセチル（Ｃ１６）ジメチルアンモニウム塩、ジステアリル（Ｃ１８）ジメチルアンモニウム塩、ジアラキル（Ｃ２０）ジメチルアンモニウム塩、ジベヘニル（Ｃ２２）ジメチルアンモニウム塩、ステアリルラウリルジメチルアンモニウム塩、ジアルキル（Ｃ１２～１５）ジメチルアンモニウム塩、ジアルキル（Ｃ１２～１８）ジメチルアンモニウム塩等が挙げられる。これらの中では、上記と同様の観点から、ジアルキル（Ｃ１２～１５）ジメチルアンモニウム塩、ジセチル（Ｃ１６）ジメチルアンモニウム塩、ジアルキル（Ｃ１２～１８）ジメチルアンモニウム塩が好ましく、これらの塩化物がより好ましい。
【0031】
式（２）で表される第４級アンモニウム塩の市販品例としては、花王株式会社製、「コータミン」シリーズ、EVONIK社製、VARISOFT 432PPG（ジセチルジモニウムクロリド）、AkzoNobel社製、rquad PC 2C-75（ジココジモニウムクロリド）、ライオン・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社製、リポカード 2C-75（塩化ジヤシアルキルジメチルアンモニウム）等が挙げられる。
【0032】
〔一般式（３）で表される第４級アンモニウム塩〕
【化3】
【0033】
〔式中、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、炭素数８以上２２以下のアシル基又は水素原子を示し、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は同時に水素原子であることはなく、Ｒ10は、炭素数１以上３以下のアルキル基を示し、Ｘ－は陰イオンを示す。〕
【0034】
一般式（３）で表される第４級アンモニウム塩は、式（３）中のＲ７、Ｒ８及びＲ９のうち２つがアシル基である化合物を含むことが好ましい。具体的には、式（３）中のＲ７がアシル基であり、Ｒ８及びＲ９が水素原子である化合物、Ｒ７及びＲ８がアシル基であり、Ｒ９が水素原子である化合物、並びに、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９がアシル基である化合物から選ばれる１種以上を含有することが好ましい。
【0035】
Ｒ７～Ｒ９であるアシル基の炭素数は、（Ｃ）成分の乳化安定性及び固体表面への高残留性の観点から、好ましくは１０以上、より好ましくは１４以上、更に好ましくは１６以上であり、そして好ましくは２０以下、より好ましくは１８以下である。
Ｒ７～Ｒ９の具体例としては、上記と同様の観点から、好ましくは脂肪族アシル基、より好ましくは直鎖の脂肪族アシル基、更に好ましくは直鎖のアルカノイル基又は直鎖のアルケノイル基である。直鎖のアルカノイル基としては、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基等が挙げられる。直鎖のアルケノイル基としては、オレオイル基等が挙げられる。
アシル基は、Ｒ11－ＣＯ－（式中、Ｒ11は炭化水素基を示す）で表わされ、脂肪族アシル基とは、Ｒ11が脂肪族炭化水素基であるものであり、直鎖の脂肪族アシル基とは、Ｒ11が直鎖の脂肪族炭化水素基であるものであり、直鎖のアルカノイル基とは、Ｒ11が直鎖のアルキル基であるものであり、直鎖のアルケノイル基とは、Ｒ11が直鎖のアルケニル基であるものである。アシル基の炭素数は、Ｒ11の炭素数に１を加えた数である。
Ｒ７～Ｒ９の具体例としては、上記と同様の観点から、好ましくは脂肪族アシル基、より好ましくは直鎖の脂肪族アシル基、更に好ましくは直鎖のアルカノイル基又は直鎖のアルケノイル基である。直鎖のアルカノイル基としては、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基等が挙げられる。直鎖のアルケノイル基としては、オレオイル基等が挙げられる。
アシル基は、Ｒ11－ＣＯ－（式中、Ｒ11は炭化水素基を示す）で表わされ、脂肪族アシル基とは、Ｒ11が脂肪族炭化水素基であるものであり、直鎖の脂肪族アシル基とは、Ｒ11が直鎖の脂肪族炭化水素基であるものであり、直鎖のアルカノイル基とは、Ｒ11が直鎖のアルキル基であるものであり、直鎖のアルケノイル基とは、Ｒ11が直鎖のアルケニル基であるものである。アシル基の炭素数は、Ｒ11の炭素数に１を加えた数である。
【0036】
式（３）におけるＲ10は、上記と同様の観点から、好ましくはメチル基又はエチル基であり、より好ましくはメチル基である。
式（３）中、陰イオンであるＸ－としては、有機又は無機の陰イオンが挙げられる。陰イオンＸ－の具体例としては、ハロゲンイオン、炭素数１以上３以下のアルキル硫酸エステルイオン、炭素数１以上３以下のアルキルリン酸エステルイオン、炭素数１２以上１８以下の脂肪酸イオン、又は炭素数１以上３以下のアルキル基が１個以上３個以下置換していてもよいベンゼンスルホン酸イオン等が挙げられる。これらの中では、好ましくはハロゲンイオン、又は炭素数１以上３以下のアルキル硫酸エステルイオンであり、より好ましくは塩素イオン、臭素イオン、メチル硫酸エステルイオン、又はエチル硫酸エステルイオン、更に好ましくは塩素イオン、メチル硫酸エステルイオンである。
式（３）中、陰イオンであるＸ－としては、有機又は無機の陰イオンが挙げられる。陰イオンＸ－の具体例としては、ハロゲンイオン、炭素数１以上３以下のアルキル硫酸エステルイオン、炭素数１以上３以下のアルキルリン酸エステルイオン、炭素数１２以上１８以下の脂肪酸イオン、又は炭素数１以上３以下のアルキル基が１個以上３個以下置換していてもよいベンゼンスルホン酸イオン等が挙げられる。これらの中では、好ましくはハロゲンイオン、又は炭素数１以上３以下のアルキル硫酸エステルイオンであり、より好ましくは塩素イオン、臭素イオン、メチル硫酸エステルイオン、又はエチル硫酸エステルイオン、更に好ましくは塩素イオン、メチル硫酸エステルイオンである。
【0037】
＜ジメチルポリシロキサン：（Ｃ）成分＞
本発明に用いられる（Ｃ）成分は、乳化安定性、及び固体表面への濡れ拡がり性の観点から、重量平均分子量が３００以上６０００以下の低分子量ジメチルポリシロキサンであることが好ましい。
（Ｃ）成分の重量平均分子量は、固体表面への高残留性の観点から、好ましくは３５０以上、より好ましくは１０００以上、更に好ましくは３０００以上であり、そして、好ましくは５０００以下、より好ましくは４５００以下、更に好ましくは４０００以下、より更に好ましくは３８００以下である。また、固体表面への濡れ拡がり性の観点から、好ましくは３２０以上、より好ましくは３３０以上、更に好ましくは３４０以上であり、そして、好ましくは５０００以下、より好ましくは３０００以下、更に好ましくは１０００以下、より更に好ましくは８００以下である。
重量平均分子量の異なる２種以上のジメチルポリシロキサンを用いる場合は、（Ｃ）成分の重量平均分子量は、相加平均分子量を意味する。より具体的には、毛髪に適用する場合は、（Ｃ）成分の重量平均分子量は、好ましくは３２０以上２８００以下であり、より好ましくは３４０以上２５００以下であり、更に好ましくは３６０以上２３００以下であり、より更に好ましくは３６０以上２０００以下である。
本発明に用いられる（Ｃ）成分は、乳化安定性、及び固体表面への濡れ拡がり性の観点から、重量平均分子量が３００以上６０００以下の低分子量ジメチルポリシロキサンであることが好ましい。
（Ｃ）成分の重量平均分子量は、固体表面への高残留性の観点から、好ましくは３５０以上、より好ましくは１０００以上、更に好ましくは３０００以上であり、そして、好ましくは５０００以下、より好ましくは４５００以下、更に好ましくは４０００以下、より更に好ましくは３８００以下である。また、固体表面への濡れ拡がり性の観点から、好ましくは３２０以上、より好ましくは３３０以上、更に好ましくは３４０以上であり、そして、好ましくは５０００以下、より好ましくは３０００以下、更に好ましくは１０００以下、より更に好ましくは８００以下である。
重量平均分子量の異なる２種以上のジメチルポリシロキサンを用いる場合は、（Ｃ）成分の重量平均分子量は、相加平均分子量を意味する。より具体的には、毛髪に適用する場合は、（Ｃ）成分の重量平均分子量は、好ましくは３２０以上２８００以下であり、より好ましくは３４０以上２５００以下であり、更に好ましくは３６０以上２３００以下であり、より更に好ましくは３６０以上２０００以下である。
【0038】
（Ｃ）成分中の分子量３００以上６０００以下のジメチルポリシロキサンの含有量は、上記と同様の観点から、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは５５質量％以上、更に好ましくは７５質量％以上、より更に好ましくは８５質量％以上であり、そして、好ましくは１００質量％以下である。
なお、（Ｃ）成分の重量平均分子量、及び（Ｃ）成分中の分子量３００以上６０００以下に相当する量は、実施例に記載の方法により測定される。
なお、（Ｃ）成分の重量平均分子量、及び（Ｃ）成分中の分子量３００以上６０００以下に相当する量は、実施例に記載の方法により測定される。
【0039】
（Ｃ）成分としては、直鎖状ジメチルポリシロキサン及び環状ジメチルポリシロキサンから選ばれる１種以上が挙げられ、直鎖状ジメチルポリシロキサンがより好ましい。
（Ｃ）成分の２５℃のおける動粘度は、高残留性の観点から、好ましくは２ｍｍ2／s以上、より好ましくは４ｍｍ2／s以上、更に好ましくは１０ｍｍ2／s以上であり、そして好ましくは１００ｍｍ2／s以下、より好ましくは８０ｍｍ2／s以下、更に好ましくは６０ｍｍ2／s以下である。また、固体表面への濡れ拡がり性の観点から、好ましくは１ｍｍ2／s以上、より好ましくは２ｍｍ2／s以上であり、そして好ましくは１００ｍｍ2／s以下、より好ましくは５０ｍｍ2／s以下、更に好ましくは１０ｍｍ2／s以下である。
動粘度は、実施例に記載の方法により測定される。
（Ｃ）成分の２５℃のおける動粘度は、高残留性の観点から、好ましくは２ｍｍ2／s以上、より好ましくは４ｍｍ2／s以上、更に好ましくは１０ｍｍ2／s以上であり、そして好ましくは１００ｍｍ2／s以下、より好ましくは８０ｍｍ2／s以下、更に好ましくは６０ｍｍ2／s以下である。また、固体表面への濡れ拡がり性の観点から、好ましくは１ｍｍ2／s以上、より好ましくは２ｍｍ2／s以上であり、そして好ましくは１００ｍｍ2／s以下、より好ましくは５０ｍｍ2／s以下、更に好ましくは１０ｍｍ2／s以下である。
動粘度は、実施例に記載の方法により測定される。
【0040】
直鎖状ジメチルポリシロキサンの市販品例としては、信越化学工業株式会社製のＫＦ－９６シリーズ、東レ・ダウコーニング株式会社製の SH200C シリーズ、2-1184 Fluid、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製の Silsoft DML、Element14 PDMS 5-JC、Element14 PDMS 10-JC、Element14 PDMS 20-JC 等が挙げられる。
環状ジメチルポリシロキサンとしては、シクロペンタシロキサン、シクロヘキサシロキサン等が挙げられる。環状ジメチルポリシロキサンの市販品例としては、信越化学工業株式会社製のＫＦ－９９５、東レ・ダウコーニング株式会社製の SH245 Fluid、DC345 Fluid、DC246 Fluid、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製の TSF405、SF1258、Silsoft1217 等が挙げられる。
環状ジメチルポリシロキサンとしては、シクロペンタシロキサン、シクロヘキサシロキサン等が挙げられる。環状ジメチルポリシロキサンの市販品例としては、信越化学工業株式会社製のＫＦ－９９５、東レ・ダウコーニング株式会社製の SH245 Fluid、DC345 Fluid、DC246 Fluid、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製の TSF405、SF1258、Silsoft1217 等が挙げられる。
【0041】
（界面活性剤組成物中の各成分の含有量）
本発明の界面活性剤組成物中の各成分の含有量は、（Ｃ）成分の乳化安定性及び高残留性の観点から、以下のとおりである。
アニオン界面活性剤（Ａ）の含有量は、界面活性剤組成物中、好ましくは０．２質量％以上、より好ましくは０．５質量％以上、更に好ましくは１質量％以上であり、そして、好ましくは２０質量％以下、より好ましくは１０質量％以下、より好ましくは５質量％以下、更に好ましくは３質量％以下である。
本発明の界面活性剤組成物中の各成分の含有量は、（Ｃ）成分の乳化安定性及び高残留性の観点から、以下のとおりである。
アニオン界面活性剤（Ａ）の含有量は、界面活性剤組成物中、好ましくは０．２質量％以上、より好ましくは０．５質量％以上、更に好ましくは１質量％以上であり、そして、好ましくは２０質量％以下、より好ましくは１０質量％以下、より好ましくは５質量％以下、更に好ましくは３質量％以下である。
【0042】
分岐型アニオン界面活性剤（ａ１）、好ましくは内部オレフィンスルホン酸塩（ＩＯＳ）の含有量は、界面活性剤組成物中、好ましくは０．２質量％以上、より好ましくは０．５質量％以上、更に好ましくは１質量％以上、より更に好ましくは１．５質量％以上であり、そして、好ましくは２０質量％以下、より好ましくは１０質量％以下、更に好ましくは５質量％以下、より更に好ましくは３質量％以下である。
【0043】
カチオン界面活性剤（Ｂ）、好ましくは分岐型カチオン界面活性剤（ｂ１）の含有量は、界面活性剤組成物中、好ましくは０．２質量％以上、より好ましくは１質量％以上、更に好ましくは２質量％以上であり、そして、好ましくは２０質量％以下、より好ましくは１０質量％以下、より好ましくは５質量％以下、更に好ましくは４質量％以下である。
【0044】
界面活性剤組成物中の（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量に対する（Ａ）成分の量、のモル比ＲＡ：｛（Ａ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}は、０．１０以上０．９０以下である。
前記モル比ＲＡは、（Ｃ）成分の乳化安定性及び高残留性の観点から、好ましくは０．２０以上、より好ましくは０．３０以上、更に好ましくは０．４０以上、より更に好ましくは０．４５以上であり、そして、好ましくは０．８０以下、より好ましくは０．７０以下、更に好ましくは０．６０以下、より更に好ましくは０．５５以下である。
前記モル比ＲＡは、（Ｃ）成分の乳化安定性及び高残留性の観点から、好ましくは０．２０以上、より好ましくは０．３０以上、更に好ましくは０．４０以上、より更に好ましくは０．４５以上であり、そして、好ましくは０．８０以下、より好ましくは０．７０以下、更に好ましくは０．６０以下、より更に好ましくは０．５５以下である。
【0045】
界面活性剤組成物中のモル比Ｒｂ：{〔（ａ１）＋（ｂ１）〕／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}は、０．４以上であり、前記のとおり、好ましくは０．５以上、より好ましくは０．７以上、更に好ましくは０．８以上、より更に好ましくは０．９以上であり、そして、好ましくは１．０以下である。
【0046】
ジメチルポリシロキサン（Ｃ）の含有量は、界面活性剤組成物中、０．５質量％以上であり、好ましくは１質量％以上、より好ましくは３質量％以上、更に好ましくは６質量％以上であり、そして、６０質量％以下であり、好ましくは４０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下、更に好ましくは１０質量％以下である。
【0047】
界面活性剤組成物中のアニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との総量に対するジメチルポリシロキサン（Ｃ）の量、の質量比｛（Ｃ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕は、好ましくは０．２以上、より好ましくは０．６以上、更に好ましくは１以上であり、そして、好ましくは１０以下、より好ましくは６以下、更に好ましくは４以下である。
【0048】
水の含有量は、界面活性剤組成物中、好ましくは３５質量％以上、より好ましくは４５質量％以上、更に好ましくは５５質量％以上、より更に好ましくは６５質量％以上、より更に好ましくは７５質量％以上であり、そして、好ましくは９５質量％以下、より好ましくは９０質量％以下である。
【0049】
（界面活性剤組成物中のその他の成分）
本発明の界面活性剤組成物には、その用途に併せて、前記以外の界面活性剤、（Ｃ）成分以外の油剤、無機ビルダー、可溶化剤、希釈剤、感触向上剤、キレート剤、酸化防止剤、保湿剤、紫外線吸収剤、ｐＨ調整剤、香料等の任意成分を適宜添加することができる。
前記以外の界面活性剤としては、両性界面活性剤、非イオン界面活性剤が挙げられる。
両性界面活性剤としては、イミダゾリン系ベタイン、アルキルジメチルアミノ酢酸ベタイン、脂肪酸アミドプロピルベタイン、スルホベタイン等のベタイン系界面活性剤、アルキルジメチルアミンオキサイド等のアミンオキサイド型界面活性剤等が挙げられる。
非イオン界面活性剤としては、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、及びヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド等から選ばれる１種以上の脂肪酸モノアルカノールアミド等が挙げられる。
本発明の界面活性剤組成物には、その用途に併せて、前記以外の界面活性剤、（Ｃ）成分以外の油剤、無機ビルダー、可溶化剤、希釈剤、感触向上剤、キレート剤、酸化防止剤、保湿剤、紫外線吸収剤、ｐＨ調整剤、香料等の任意成分を適宜添加することができる。
前記以外の界面活性剤としては、両性界面活性剤、非イオン界面活性剤が挙げられる。
両性界面活性剤としては、イミダゾリン系ベタイン、アルキルジメチルアミノ酢酸ベタイン、脂肪酸アミドプロピルベタイン、スルホベタイン等のベタイン系界面活性剤、アルキルジメチルアミンオキサイド等のアミンオキサイド型界面活性剤等が挙げられる。
非イオン界面活性剤としては、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、及びヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド等から選ばれる１種以上の脂肪酸モノアルカノールアミド等が挙げられる。
【0050】
（Ｃ）成分以外の油剤としては、室温で液状のものが好ましく、その具体例としては、エステル油、エーテル油、脂肪族高級アルコール、多価アルコール、α－オレフィンオリゴマー、流動イソパラフィン、流動パラフィン、スクワラン等の炭化水素油、グリセリド、脂肪酸、鎖状ポリシロキサン、ポリエーテル変性、ポリアミノ変性、アルコール変性、フッ素変性、脂肪酸変性等の変性シリコーン等が挙げられる。
エステル油としては、ミリスチン酸イソプロピル、ミリスチン酸オクチル、パルミチン酸イソプロピル、パルミチン酸オクチル、ステアリン酸イソプロピル、ステアリン酸オクチル、イソステアリン酸イソプロピル等が挙げられる。
エーテル油としては、ジヘキシルエーテル、ジオクチルエーテル、ジデシルエーテル、ジラウリルエーテル、等が挙げられる。
脂肪族高級アルコールとしては、好ましくは炭素数８以上２６以下、より好ましくは炭素数１２以上２２以下、更に好ましくは炭素数１６以上２０以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を有するアルコール等が挙げられる。
多価アルコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、ジグリセリン、ポリグリセリン、イソプレングリコール、１，３－ブチレングリコール、数平均分子量１０００未満のポリエチレングリコールやポリプロピレングリコール等が挙げられる。
（Ｃ）成分以外の油剤をあえて使用する必要はないが、使用する場合は、界面活性剤組成物中、０．１～２０質量％程度の範囲で適宜調整して含有させることができる。
エステル油としては、ミリスチン酸イソプロピル、ミリスチン酸オクチル、パルミチン酸イソプロピル、パルミチン酸オクチル、ステアリン酸イソプロピル、ステアリン酸オクチル、イソステアリン酸イソプロピル等が挙げられる。
エーテル油としては、ジヘキシルエーテル、ジオクチルエーテル、ジデシルエーテル、ジラウリルエーテル、等が挙げられる。
脂肪族高級アルコールとしては、好ましくは炭素数８以上２６以下、より好ましくは炭素数１２以上２２以下、更に好ましくは炭素数１６以上２０以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を有するアルコール等が挙げられる。
多価アルコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、ジグリセリン、ポリグリセリン、イソプレングリコール、１，３－ブチレングリコール、数平均分子量１０００未満のポリエチレングリコールやポリプロピレングリコール等が挙げられる。
（Ｃ）成分以外の油剤をあえて使用する必要はないが、使用する場合は、界面活性剤組成物中、０．１～２０質量％程度の範囲で適宜調整して含有させることができる。
【0051】
無機ビルダーとしては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム、結晶性層状珪酸ナトリウム、珪酸ナトリウム、ゼオライト等のアルミノ珪酸酸塩等のアルカリ性無機塩や、硫酸塩、亜流酸塩、硫酸水素塩、塩酸塩、リン酸塩等の水溶性無機塩類等が挙げられる。界面活性剤組成物中の無機ビルダーの含有量は、（Ｃ）成分を高残留させる観点から、好ましくは２０質量％未満、より好ましくは１０質量％未満、更に好ましくは５質量％未満、より更に好ましくは１質量％未満、より更に好ましくは０質量％（すなわち含まない）である。
【0052】
＜界面活性剤組成物の製造＞
本発明の界面活性剤組成物は、常法により製造することができる。例えば、イオン交換水等の精製水を好ましくは５０℃以上、より好ましくは６０℃以上、そして、好ましくは９０℃以下、より好ましくは７０℃以下に加熱し、各界面活性剤成分を均一に混合、放冷した後、（Ｃ）成分を添加する。必要に応じて、更に、任意成分を添加する。場合によっては、酸又は塩基を加え、ｐＨを調整して本発明の界面活性剤組成物を得ることができる。
本発明の界面活性剤組成物は、常法により製造することができる。例えば、イオン交換水等の精製水を好ましくは５０℃以上、より好ましくは６０℃以上、そして、好ましくは９０℃以下、より好ましくは７０℃以下に加熱し、各界面活性剤成分を均一に混合、放冷した後、（Ｃ）成分を添加する。必要に応じて、更に、任意成分を添加する。場合によっては、酸又は塩基を加え、ｐＨを調整して本発明の界面活性剤組成物を得ることができる。
【0053】
（界面活性剤組成物の形態等）
本発明の界面活性剤組成物の剤型に特に制限はないが、液体状とすることが好ましい。
本発明の界面活性剤組成物を含有する製品の形態としては、ヘアリンス、ヘアコンディショナー、ヘアトリートメント、ヘアパック等の浴室内でシャンプー洗髪後に使用されるもの、すなわち毛髪に塗布後、良くなじませて、洗い流して使用されるもの、繊維柔軟剤などの洗濯後のすすぎ時に使用されるもの、カーワックスなどの洗車後に使用されるもの等が好ましく挙げられる。これらの中では、ヘアコンディショナーとして使用することが本発明の界面活性剤組成物の効果を発揮させる観点からより好ましい。
本発明の界面活性剤組成物を含有する皮膚用洗浄剤、衣料用洗浄剤、食器用洗浄剤、住居用洗浄剤等の剤型についても特に制限はなく、常法により適宜調製することができる。
本発明の界面活性剤組成物の剤型に特に制限はないが、液体状とすることが好ましい。
本発明の界面活性剤組成物を含有する製品の形態としては、ヘアリンス、ヘアコンディショナー、ヘアトリートメント、ヘアパック等の浴室内でシャンプー洗髪後に使用されるもの、すなわち毛髪に塗布後、良くなじませて、洗い流して使用されるもの、繊維柔軟剤などの洗濯後のすすぎ時に使用されるもの、カーワックスなどの洗車後に使用されるもの等が好ましく挙げられる。これらの中では、ヘアコンディショナーとして使用することが本発明の界面活性剤組成物の効果を発揮させる観点からより好ましい。
本発明の界面活性剤組成物を含有する皮膚用洗浄剤、衣料用洗浄剤、食器用洗浄剤、住居用洗浄剤等の剤型についても特に制限はなく、常法により適宜調製することができる。
【0054】
［ジメチルポリシロキサン（Ｃ）の残留方法］
本発明のジメチルポリシロキサン（Ｃ）の残留方法は、本発明の界面活性剤組成物を固体表面に接触させる方法である。
ここで「固体表面」に特に制限はない。本発明方法を適用しうる好適な固体としては、毛髪が挙げられるが、天然繊維、合成繊維の他、ガラス、セラミックス、金属、合成樹脂等の疎水性固体にも適用できる。
接触方法も特に限定されず、例えば、本発明の界面活性剤組成物を含有する水溶液に固体を浸漬する方法、該水溶液を固体表面に噴霧又は塗布する方法、該水溶液で固体表面を洗浄する方法等が挙げられる。
本発明のジメチルポリシロキサン（Ｃ）の残留方法は、本発明の界面活性剤組成物を固体表面に接触させる方法である。
ここで「固体表面」に特に制限はない。本発明方法を適用しうる好適な固体としては、毛髪が挙げられるが、天然繊維、合成繊維の他、ガラス、セラミックス、金属、合成樹脂等の疎水性固体にも適用できる。
接触方法も特に限定されず、例えば、本発明の界面活性剤組成物を含有する水溶液に固体を浸漬する方法、該水溶液を固体表面に噴霧又は塗布する方法、該水溶液で固体表面を洗浄する方法等が挙げられる。
【0055】
上述した実施形態に関し、本発明はさらに以下の界面活性剤組成物、その使用、洗浄剤、及び界面活性剤組成物の製造方法を開示する。
＜１＞ アニオン界面活性剤（Ａ）、カチオン界面活性剤（Ｂ）、及びジメチルポリシロキサン（Ｃ）を含有する界面活性剤組成物であって、
下記モル比ＲＡが０．１０以上０．９０以下であり、
下記モル比Ｒｂが０．４以上である、界面活性剤組成物。
ＲＡ：アニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との合計量に対するアニオン界面活性剤（Ａ）の量、のモル比｛（Ａ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}
Ｒｂ：アニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との合計量に対する分岐型アニオン界面活性剤（ａ１）と分岐型カチオン界面活性剤（ｂ１）との合計量のモル比{〔（ａ１）＋（ｂ１）〕／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}
＜１＞ アニオン界面活性剤（Ａ）、カチオン界面活性剤（Ｂ）、及びジメチルポリシロキサン（Ｃ）を含有する界面活性剤組成物であって、
下記モル比ＲＡが０．１０以上０．９０以下であり、
下記モル比Ｒｂが０．４以上である、界面活性剤組成物。
ＲＡ：アニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との合計量に対するアニオン界面活性剤（Ａ）の量、のモル比｛（Ａ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}
Ｒｂ：アニオン界面活性剤（Ａ）とカチオン界面活性剤（Ｂ）との合計量に対する分岐型アニオン界面活性剤（ａ１）と分岐型カチオン界面活性剤（ｂ１）との合計量のモル比{〔（ａ１）＋（ｂ１）〕／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕}
【0056】
＜２＞ （ａ１）成分と（ｂ１）成分のいずれか一方を含む、＜１＞に記載の組成物。
＜３＞ （ａ１）成分と（ｂ１）成分の両方を含む、＜１＞又は＜２＞に記載の組成物。
＜４＞ （Ａ）成分が、スルホン酸塩型界面活性剤及び硫酸エステル塩型界面活性剤から選ばれる１種以上を含む、＜１＞～＜３＞のいずれかに記載の組成物。
＜５＞ （ａ１）成分が、下記式（１）で表される、＜１＞～＜４＞のいずれかに記載の組成物。
〔式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、置換基又は連結基を含んでいてもよい炭化水素基を示し、Ｒ１とＲ２の合計炭素数は、５以上２９以下である。Ｙは、単結合又はフェニレン基を示し、Ｚは、－ＳＯ３基及び－ＯＳＯ３基から選ばれる基を示す。Ｍは、陽イオンを示す。〕
＜６＞ Ｒ１及びＲ２が、脂肪族炭化水素基である、＜５＞に記載の組成物。
＜７＞ Ｒ１及びＲ２が、アルキル基、アルケニル基又はヒドロキシアルキル基である、＜５＞又は＜６＞に記載の組成物。
＜８＞ Ｒ１及びＲ２が、水酸基等の置換基又はＣＯＯ基等の連結基を含んでいてもよい、＜５＞～＜７＞のいずれかに記載の組成物。
＜９＞ Ｙが、単結合である、＜５＞～＜８＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０＞ Ｍが、ナトリウムイオン、カリウムイオン、モノエタノールアンモニウムイオン、ジエタノールアンモニウムイオン、及びトリエタノールアンモニウムイオンから選ばれる１種以上である、＜５＞～＜９＞のいずれかに記載の組成物。
＜３＞ （ａ１）成分と（ｂ１）成分の両方を含む、＜１＞又は＜２＞に記載の組成物。
＜４＞ （Ａ）成分が、スルホン酸塩型界面活性剤及び硫酸エステル塩型界面活性剤から選ばれる１種以上を含む、＜１＞～＜３＞のいずれかに記載の組成物。
＜５＞ （ａ１）成分が、下記式（１）で表される、＜１＞～＜４＞のいずれかに記載の組成物。
【化4】
〔式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、置換基又は連結基を含んでいてもよい炭化水素基を示し、Ｒ１とＲ２の合計炭素数は、５以上２９以下である。Ｙは、単結合又はフェニレン基を示し、Ｚは、－ＳＯ３基及び－ＯＳＯ３基から選ばれる基を示す。Ｍは、陽イオンを示す。〕
＜６＞ Ｒ１及びＲ２が、脂肪族炭化水素基である、＜５＞に記載の組成物。
＜７＞ Ｒ１及びＲ２が、アルキル基、アルケニル基又はヒドロキシアルキル基である、＜５＞又は＜６＞に記載の組成物。
＜８＞ Ｒ１及びＲ２が、水酸基等の置換基又はＣＯＯ基等の連結基を含んでいてもよい、＜５＞～＜７＞のいずれかに記載の組成物。
＜９＞ Ｙが、単結合である、＜５＞～＜８＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０＞ Ｍが、ナトリウムイオン、カリウムイオン、モノエタノールアンモニウムイオン、ジエタノールアンモニウムイオン、及びトリエタノールアンモニウムイオンから選ばれる１種以上である、＜５＞～＜９＞のいずれかに記載の組成物。
【0057】
＜１１＞ （ａ１）成分が、内部オレフィンスルホン酸塩（ＩＯＳ）、アルキルベンゼンスルホン酸塩、第二級アルカンスルホン酸塩及びジアルキルスルホコハク酸塩から選ばれる１種以上である、＜１＞～＜１０＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２＞ （ａ１）成分が、ＩＯＳである、＜１１＞に記載の組成物。
＜１３＞ ＩＯＳの炭素数が、１４以上である、＜１１＞又は＜１２＞に記載の組成物。
＜１４＞ ＩＯＳの炭素数が、１６以上である、＜１１＞～＜１３＞のいずれかに記載の組成物。
＜１５＞ ＩＯＳの炭素数が、２０以下である、＜１１＞～＜１４＞のいずれかに記載の組成物。
＜１６＞ ＩＯＳの炭素数が、１８以下である、＜１１＞～＜１５＞のいずれかに記載の組成物。
＜１７＞ ＩＯＳ中の炭素数１６のＩＯＳ（１６Ｓ）と、炭素数１８のＩＯＳ（１８Ｓ）の合計含有量（｛（１６Ｓ＋１８Ｓ）／ＩＯＳ｝）が、５０質量％以上である、＜１１＞～＜１６＞のいずれかに記載の組成物。
＜１８＞ 前記｛（１６Ｓ＋１８Ｓ）／ＩＯＳ｝が、７０質量％以上である、＜１７＞に記載の組成物。
＜１９＞ 前記｛（１６Ｓ＋１８Ｓ）／ＩＯＳ｝が、９０質量％以上である、＜１７＞に記載の組成物。
＜２０＞ 前記｛（１６Ｓ＋１８Ｓ）／ＩＯＳ｝が、１００質量％である、＜１７＞に記載の組成物。
＜２１＞ ＩＯＳ中における、スルホン酸基が２位に存在する内部オレフィンスルホン酸塩の含有量（２位スルホン酸率）が、５質量％以上である、＜１１＞～＜２０＞のいずれかに記載の組成物。
＜２２＞ 前記２位スルホン酸率が、７質量％以上である、＜２１＞に記載の組成物。
＜２３＞ 前記２位スルホン酸率が、１０質量％以上である、＜２１＞に記載の組成物。
＜２４＞ 前記２位スルホン酸率が、３５質量％以下である、＜２１＞～＜２３＞のいずれかに記載に記載の組成物。
＜２５＞ 前記２位スルホン酸率が、３０質量％以下である、＜２１＞～＜２３＞のいずれかに記載に記載の組成物。
＜２６＞ 前記２位スルホン酸率が、２８質量％以下である、＜２１＞～＜２３＞のいずれかに記載に記載の組成物。
＜１２＞ （ａ１）成分が、ＩＯＳである、＜１１＞に記載の組成物。
＜１３＞ ＩＯＳの炭素数が、１４以上である、＜１１＞又は＜１２＞に記載の組成物。
＜１４＞ ＩＯＳの炭素数が、１６以上である、＜１１＞～＜１３＞のいずれかに記載の組成物。
＜１５＞ ＩＯＳの炭素数が、２０以下である、＜１１＞～＜１４＞のいずれかに記載の組成物。
＜１６＞ ＩＯＳの炭素数が、１８以下である、＜１１＞～＜１５＞のいずれかに記載の組成物。
＜１７＞ ＩＯＳ中の炭素数１６のＩＯＳ（１６Ｓ）と、炭素数１８のＩＯＳ（１８Ｓ）の合計含有量（｛（１６Ｓ＋１８Ｓ）／ＩＯＳ｝）が、５０質量％以上である、＜１１＞～＜１６＞のいずれかに記載の組成物。
＜１８＞ 前記｛（１６Ｓ＋１８Ｓ）／ＩＯＳ｝が、７０質量％以上である、＜１７＞に記載の組成物。
＜１９＞ 前記｛（１６Ｓ＋１８Ｓ）／ＩＯＳ｝が、９０質量％以上である、＜１７＞に記載の組成物。
＜２０＞ 前記｛（１６Ｓ＋１８Ｓ）／ＩＯＳ｝が、１００質量％である、＜１７＞に記載の組成物。
＜２１＞ ＩＯＳ中における、スルホン酸基が２位に存在する内部オレフィンスルホン酸塩の含有量（２位スルホン酸率）が、５質量％以上である、＜１１＞～＜２０＞のいずれかに記載の組成物。
＜２２＞ 前記２位スルホン酸率が、７質量％以上である、＜２１＞に記載の組成物。
＜２３＞ 前記２位スルホン酸率が、１０質量％以上である、＜２１＞に記載の組成物。
＜２４＞ 前記２位スルホン酸率が、３５質量％以下である、＜２１＞～＜２３＞のいずれかに記載に記載の組成物。
＜２５＞ 前記２位スルホン酸率が、３０質量％以下である、＜２１＞～＜２３＞のいずれかに記載に記載の組成物。
＜２６＞ 前記２位スルホン酸率が、２８質量％以下である、＜２１＞～＜２３＞のいずれかに記載に記載の組成物。
【0058】
＜２７＞ （Ｂ）成分が、第４級アンモニウム塩型カチオン界面活性剤を含有する、＜１＞～＜２６＞のいずれかに記載の組成物。
＜２８＞ （Ｂ）成分が、分岐型カチオン界面活性剤（ｂ１）を含む、＜１＞～＜２７＞のいずれかに記載の組成物。
＜２９＞ （Ｂ）成分が、下記式（２）及び（３）のいずれかで表されるものから選ばれる１種以上を含有する、＜１＞～＜２８＞のいずれかに記載の組成物。
〔式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、炭素数６以上２６以下の炭化水素基を示し、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、炭素数１以上３以下のアルキル基を示し、Ｘ－は陰イオンを示す。〕
〔式中、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、炭素数８以上２２以下のアシル基又は水素原子を示し、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は同時に水素原子であることはなく、Ｒ10は、炭素数１以上３以下のアルキル基を示し、Ｘ－は陰イオンを示す。〕
＜２８＞ （Ｂ）成分が、分岐型カチオン界面活性剤（ｂ１）を含む、＜１＞～＜２７＞のいずれかに記載の組成物。
＜２９＞ （Ｂ）成分が、下記式（２）及び（３）のいずれかで表されるものから選ばれる１種以上を含有する、＜１＞～＜２８＞のいずれかに記載の組成物。
【化5】
〔式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、炭素数６以上２６以下の炭化水素基を示し、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、炭素数１以上３以下のアルキル基を示し、Ｘ－は陰イオンを示す。〕
【化6】
〔式中、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、炭素数８以上２２以下のアシル基又は水素原子を示し、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は同時に水素原子であることはなく、Ｒ10は、炭素数１以上３以下のアルキル基を示し、Ｘ－は陰イオンを示す。〕
【0059】
＜３０＞ （ｂ１）成分が、前記式（２）及び（３）のいずれかで表されるものから選ばれる１種以上を含有する、＜１＞～＜２９＞のいずれかに記載の組成物。
＜３１＞ Ｒ３が、脂肪族炭化水素基である、＜２９＞又は＜３０＞に記載の組成物。
＜３２＞ Ｒ３が、アルキル基である、＜２９＞～＜３１＞のいずれかに記載の組成物。
＜３３＞ Ｒ４が、脂肪族炭化水素基又はアリール基である、＜２９＞～＜３２＞のいずれかに記載の組成物。
＜３４＞ Ｒ４が、アルキル基又はベンジル基である、＜２９＞～＜３３＞のいずれかに記載の組成物。
＜３５＞ Ｒ３及びＲ４の脂肪族炭化水素基の炭素数が、８以上である、＜２９＞～＜３４＞のいずれかに記載の組成物。
＜３６＞ Ｒ３及びＲ４の前記炭素数が、１０以上である、＜３５＞に記載の組成物。
＜３７＞ Ｒ３及びＲ４の前記炭素数が、１２以上である、＜３５＞に記載の組成物。
＜３８＞ Ｒ３及びＲ４の前記炭素数が、２２以下である、＜３５＞～＜３７＞のいずれかに記載の組成物。
＜３９＞ Ｒ３及びＲ４の前記炭素数が、２０以下である、＜３５＞～＜３７＞のいずれかに記載の組成物。
＜４０＞ Ｒ４が、ベンジル基である、＜２９＞～＜３９＞のいずれかに記載の組成物。
＜４１＞ Ｒ５及びＲ６が、メチル基である、＜２９＞～＜４０＞のいずれかに記載の組成物。
＜３１＞ Ｒ３が、脂肪族炭化水素基である、＜２９＞又は＜３０＞に記載の組成物。
＜３２＞ Ｒ３が、アルキル基である、＜２９＞～＜３１＞のいずれかに記載の組成物。
＜３３＞ Ｒ４が、脂肪族炭化水素基又はアリール基である、＜２９＞～＜３２＞のいずれかに記載の組成物。
＜３４＞ Ｒ４が、アルキル基又はベンジル基である、＜２９＞～＜３３＞のいずれかに記載の組成物。
＜３５＞ Ｒ３及びＲ４の脂肪族炭化水素基の炭素数が、８以上である、＜２９＞～＜３４＞のいずれかに記載の組成物。
＜３６＞ Ｒ３及びＲ４の前記炭素数が、１０以上である、＜３５＞に記載の組成物。
＜３７＞ Ｒ３及びＲ４の前記炭素数が、１２以上である、＜３５＞に記載の組成物。
＜３８＞ Ｒ３及びＲ４の前記炭素数が、２２以下である、＜３５＞～＜３７＞のいずれかに記載の組成物。
＜３９＞ Ｒ３及びＲ４の前記炭素数が、２０以下である、＜３５＞～＜３７＞のいずれかに記載の組成物。
＜４０＞ Ｒ４が、ベンジル基である、＜２９＞～＜３９＞のいずれかに記載の組成物。
＜４１＞ Ｒ５及びＲ６が、メチル基である、＜２９＞～＜４０＞のいずれかに記載の組成物。
【0060】
＜４２＞ 式（２）中のＸ－が、塩素イオン、臭素イオン、メチル硫酸エステルイオン、又はエチル硫酸エステルイオンである、＜２９＞～＜４１＞のいずれかに記載の組成物。
＜４３＞ 前記Ｘ－が、塩素イオン又はメチル硫酸エステルイオンである、＜４２＞に記載の組成物。
＜４４＞ Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち２つが、アシル基である、＜２９＞～＜４３＞のいずれかに記載の組成物。
＜４５＞ 一般式（３）で表される第４級アンモニウム塩が、Ｒ７がアシル基であり、Ｒ８及びＲ９が水素原子である化合物、Ｒ７及びＲ８がアシル基であり、Ｒ９が水素原子である化合物、並びに、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９がアシル基である化合物から選ばれる１種以上を含有する、＜２９＞～＜４４＞のいずれかに記載の組成物。
＜４６＞ Ｒ７～Ｒ９であるアシル基の炭素数が、１０以上である、＜２９＞～＜４５＞のいずれかに記載の組成物。
＜４７＞ Ｒ７～Ｒ９の前記炭素数が、１４以上である、＜４６＞に記載の組成物。
＜４８＞ Ｒ７～Ｒ９の前記炭素数が、１６以上である、＜４６＞に記載の組成物。
＜４９＞ Ｒ７～Ｒ９の前記炭素数が、２０以下である、＜４６＞～＜４８＞のいずれかに記載の組成物。
＜５０＞ Ｒ７～Ｒ９の前記炭素数が、１８以下である、＜４６＞～＜４８＞のいずれかに記載の組成物。
＜５１＞ Ｒ７～Ｒ９が脂肪族アシル基である、＜２９＞～＜５０＞のいずれかに記載の組成物。
＜５２＞ Ｒ７～Ｒ９が直鎖の脂肪族アシル基である、＜２９＞～＜５１＞のいずれかに記載の組成物。
＜５３＞ Ｒ７～Ｒ９が直鎖のアルカノイル基又は直鎖のアルケノイル基である、＜２９＞～＜５２＞のいずれかに記載の組成物。
＜５４＞ 直鎖のアルカノイル基が、ヘキサデカノイル基又はオクタデカノイル基である、＜５３＞に記載の組成物。
＜５５＞ 直鎖のアルケノイル基がオレオイル基である、＜５３＞に記載の組成物。
＜４３＞ 前記Ｘ－が、塩素イオン又はメチル硫酸エステルイオンである、＜４２＞に記載の組成物。
＜４４＞ Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち２つが、アシル基である、＜２９＞～＜４３＞のいずれかに記載の組成物。
＜４５＞ 一般式（３）で表される第４級アンモニウム塩が、Ｒ７がアシル基であり、Ｒ８及びＲ９が水素原子である化合物、Ｒ７及びＲ８がアシル基であり、Ｒ９が水素原子である化合物、並びに、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９がアシル基である化合物から選ばれる１種以上を含有する、＜２９＞～＜４４＞のいずれかに記載の組成物。
＜４６＞ Ｒ７～Ｒ９であるアシル基の炭素数が、１０以上である、＜２９＞～＜４５＞のいずれかに記載の組成物。
＜４７＞ Ｒ７～Ｒ９の前記炭素数が、１４以上である、＜４６＞に記載の組成物。
＜４８＞ Ｒ７～Ｒ９の前記炭素数が、１６以上である、＜４６＞に記載の組成物。
＜４９＞ Ｒ７～Ｒ９の前記炭素数が、２０以下である、＜４６＞～＜４８＞のいずれかに記載の組成物。
＜５０＞ Ｒ７～Ｒ９の前記炭素数が、１８以下である、＜４６＞～＜４８＞のいずれかに記載の組成物。
＜５１＞ Ｒ７～Ｒ９が脂肪族アシル基である、＜２９＞～＜５０＞のいずれかに記載の組成物。
＜５２＞ Ｒ７～Ｒ９が直鎖の脂肪族アシル基である、＜２９＞～＜５１＞のいずれかに記載の組成物。
＜５３＞ Ｒ７～Ｒ９が直鎖のアルカノイル基又は直鎖のアルケノイル基である、＜２９＞～＜５２＞のいずれかに記載の組成物。
＜５４＞ 直鎖のアルカノイル基が、ヘキサデカノイル基又はオクタデカノイル基である、＜５３＞に記載の組成物。
＜５５＞ 直鎖のアルケノイル基がオレオイル基である、＜５３＞に記載の組成物。
【0061】
＜５６＞ Ｒ10がメチル基又はエチル基である、＜２９＞～＜５５＞のいずれかに記載の組成物。
＜５７＞ Ｒ10がメチル基である、＜２９＞～＜５６＞のいずれかに記載の組成物。
＜５８＞ 式（３）中のＸ－が、が塩素イオン、臭素イオン、メチル硫酸エステルイオン、又はエチル硫酸エステルイオンである、＜２９＞～＜５７＞のいずれかに記載の組成物。
＜５９＞ 前記Ｘ－が、塩素イオン又はメチル硫酸エステルイオンである、＜５８＞に記載の組成物。
＜６０＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、３００以上である、＜１＞～＜５９＞のいずれかに記載の組成物。
＜６１＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、３２０以上である、＜１＞～＜６０＞のいずれかに記載の組成物。
＜６２＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、３３０以上である、＜１＞～＜６１＞のいずれかに記載の組成物。
＜６３＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、３４０以上である、＜１＞～＜６２＞のいずれかに記載の組成物。
＜６４＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、３５０以上である、＜１＞～＜６３＞のいずれかに記載の組成物。
＜６５＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、１０００以上である、＜１＞～＜６４＞のいずれかに記載の組成物。
＜６６＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、６０００以下である、＜１＞～＜６５＞のいずれかに記載の組成物。
＜６７＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、５０００以下である、＜１＞～＜６６＞のいずれかに記載の組成物。
＜６８＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、４０００以下である、＜１＞～＜６７＞のいずれかに記載の組成物。
＜６９＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、３８００以下である、＜１＞～＜６８＞のいずれかに記載の組成物。
＜７０＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、３０００以下である、＜１＞～＜６９＞のいずれかに記載の組成物。
＜５７＞ Ｒ10がメチル基である、＜２９＞～＜５６＞のいずれかに記載の組成物。
＜５８＞ 式（３）中のＸ－が、が塩素イオン、臭素イオン、メチル硫酸エステルイオン、又はエチル硫酸エステルイオンである、＜２９＞～＜５７＞のいずれかに記載の組成物。
＜５９＞ 前記Ｘ－が、塩素イオン又はメチル硫酸エステルイオンである、＜５８＞に記載の組成物。
＜６０＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、３００以上である、＜１＞～＜５９＞のいずれかに記載の組成物。
＜６１＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、３２０以上である、＜１＞～＜６０＞のいずれかに記載の組成物。
＜６２＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、３３０以上である、＜１＞～＜６１＞のいずれかに記載の組成物。
＜６３＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、３４０以上である、＜１＞～＜６２＞のいずれかに記載の組成物。
＜６４＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、３５０以上である、＜１＞～＜６３＞のいずれかに記載の組成物。
＜６５＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、１０００以上である、＜１＞～＜６４＞のいずれかに記載の組成物。
＜６６＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、６０００以下である、＜１＞～＜６５＞のいずれかに記載の組成物。
＜６７＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、５０００以下である、＜１＞～＜６６＞のいずれかに記載の組成物。
＜６８＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、４０００以下である、＜１＞～＜６７＞のいずれかに記載の組成物。
＜６９＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、３８００以下である、＜１＞～＜６８＞のいずれかに記載の組成物。
＜７０＞ （Ｃ）成分の重量平均分子量が、３０００以下である、＜１＞～＜６９＞のいずれかに記載の組成物。
【0062】
＜７１＞ （Ｃ）成分中の３００以上６０００以下のジメチルポリシロキサンの含有量が、５０質量％以上である、＜１＞～＜７０＞のいずれかに記載の組成物。
＜７２＞ （Ｃ）成分中の３００以上６０００以下のジメチルポリシロキサンの含有量が、５５質量％以上である、＜１＞～＜７１＞のいずれかに記載の組成物。
＜７３＞ （Ｃ）成分中の３００以上６０００以下のジメチルポリシロキサンの含有量が、７５質量％以上である、＜１＞～＜７２＞のいずれかに記載の組成物。
＜７４＞ （Ｃ）成分中の３００以上６０００以下のジメチルポリシロキサンの含有量が、８５質量％以上である、＜１＞～＜７３＞のいずれかに記載の組成物。
＜７５＞ （Ｃ）成分中の３００以上６０００以下のジメチルポリシロキサンの含有量が、１００質量％である、＜１＞～＜７４＞のいずれかに記載の組成物。
＜７６＞ （Ｃ）成分が直鎖のジメチルポリシロキサンである、＜１＞～＜７５＞のいずれかに記載の組成物。
＜７７＞ （Ｃ）成分の２５℃のおける動粘度が、２ｍｍ2／s以上である、＜１＞～＜７６＞のいずれかに記載の組成物。
＜７８＞ （Ｃ）成分の前記動粘度が、４ｍｍ2／s以上である、＜７７＞に記載の組成物。
＜７９＞ （Ｃ）成分の前記動粘度が、１０ｍｍ2／s以上である、＜７７＞に記載の組成物。
＜８０＞ （Ｃ）成分の前記動粘度が、１００ｍｍ2／s以下である、＜７７＞～＜７９＞のいずれかに記載に記載の組成物。
＜８１＞ （Ｃ）成分の前記動粘度が、８０ｍｍ2／s以下である、＜７７＞～＜７９＞のいずれかに記載に記載の組成物。
＜８２＞ （Ｃ）成分の前記動粘度が、６０ｍｍ2／s以下である、＜７７＞～＜７９＞のいずれかに記載に記載の組成物。
＜７２＞ （Ｃ）成分中の３００以上６０００以下のジメチルポリシロキサンの含有量が、５５質量％以上である、＜１＞～＜７１＞のいずれかに記載の組成物。
＜７３＞ （Ｃ）成分中の３００以上６０００以下のジメチルポリシロキサンの含有量が、７５質量％以上である、＜１＞～＜７２＞のいずれかに記載の組成物。
＜７４＞ （Ｃ）成分中の３００以上６０００以下のジメチルポリシロキサンの含有量が、８５質量％以上である、＜１＞～＜７３＞のいずれかに記載の組成物。
＜７５＞ （Ｃ）成分中の３００以上６０００以下のジメチルポリシロキサンの含有量が、１００質量％である、＜１＞～＜７４＞のいずれかに記載の組成物。
＜７６＞ （Ｃ）成分が直鎖のジメチルポリシロキサンである、＜１＞～＜７５＞のいずれかに記載の組成物。
＜７７＞ （Ｃ）成分の２５℃のおける動粘度が、２ｍｍ2／s以上である、＜１＞～＜７６＞のいずれかに記載の組成物。
＜７８＞ （Ｃ）成分の前記動粘度が、４ｍｍ2／s以上である、＜７７＞に記載の組成物。
＜７９＞ （Ｃ）成分の前記動粘度が、１０ｍｍ2／s以上である、＜７７＞に記載の組成物。
＜８０＞ （Ｃ）成分の前記動粘度が、１００ｍｍ2／s以下である、＜７７＞～＜７９＞のいずれかに記載に記載の組成物。
＜８１＞ （Ｃ）成分の前記動粘度が、８０ｍｍ2／s以下である、＜７７＞～＜７９＞のいずれかに記載に記載の組成物。
＜８２＞ （Ｃ）成分の前記動粘度が、６０ｍｍ2／s以下である、＜７７＞～＜７９＞のいずれかに記載に記載の組成物。
【0063】
＜８３＞ （Ａ）成分の含有量が、０．２質量％以上である、＜１＞～＜８２＞のいずれかに記載の組成物。
＜８４＞ （Ａ）成分の含有量が、０．５質量％以上である、＜１＞～＜８３＞のいずれかに記載の組成物。
＜８５＞ （Ａ）成分の含有量が、１質量％以上である、＜１＞～＜８４＞のいずれかに記載の組成物。
＜８６＞ （Ａ）成分の含有量が、２０質量％以下である、＜１＞～＜８５＞のいずれかに記載の組成物。
＜８７＞ （Ａ）成分の含有量が、１０質量％以下である、＜１＞～＜８６＞のいずれかに記載の組成物。
＜８８＞ （Ａ）成分の含有量が、５質量％以下である、＜１＞～＜８７＞のいずれかに記載の組成物。
＜８９＞ （Ａ）成分の含有量が、３質量％以下である、＜１＞～＜８８＞のいずれかに記載の組成物。
＜８４＞ （Ａ）成分の含有量が、０．５質量％以上である、＜１＞～＜８３＞のいずれかに記載の組成物。
＜８５＞ （Ａ）成分の含有量が、１質量％以上である、＜１＞～＜８４＞のいずれかに記載の組成物。
＜８６＞ （Ａ）成分の含有量が、２０質量％以下である、＜１＞～＜８５＞のいずれかに記載の組成物。
＜８７＞ （Ａ）成分の含有量が、１０質量％以下である、＜１＞～＜８６＞のいずれかに記載の組成物。
＜８８＞ （Ａ）成分の含有量が、５質量％以下である、＜１＞～＜８７＞のいずれかに記載の組成物。
＜８９＞ （Ａ）成分の含有量が、３質量％以下である、＜１＞～＜８８＞のいずれかに記載の組成物。
【0064】
＜９０＞ （ａ１）の含有量が、０．２質量％以上である、＜１＞～＜８９＞のいずれかに記載の組成物。
＜９１＞ （ａ１）成分の含有量が、０．５質量％以上である、＜１＞～＜９０＞のいずれかに記載の組成物。
＜９２＞ （ａ１）成分の含有量が、１質量％以上である、＜１＞～＜９１＞のいずれかに記載の組成物。
＜９３＞ （ａ１）成分の含有量が、１．５質量％以上である、＜１＞～＜９２＞のいずれかに記載の組成物。
＜９４＞ （ａ１）成分の含有量が、２０質量％以下である、＜１＞～＜９３＞のいずれかに記載の組成物。
＜９５＞ （ａ１）成分の含有量が、１０質量％以下である、＜１＞～＜９４＞のいずれかに記載の組成物。
＜９６＞ （ａ１）成分の含有量が、５質量％以下である、＜１＞～＜９５＞のいずれかに記載の組成物。
＜９７＞ （ａ１）成分の含有量が、３質量％以下である、＜１＞～＜９６＞のいずれかに記載の組成物。
＜９８＞ ＩＯＳの含有量が、０．２質量％以上である、＜１＞～＜９７＞のいずれかに記載の組成物。
＜９９＞ ＩＯＳの含有量が、０．５質量％以上である、＜１＞～＜９８＞のいずれかに記載の組成物。
＜１００＞ ＩＯＳの含有量が、１質量％以上である、＜１＞～＜９９＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０１＞ ＩＯＳの含有量が、１．５質量％以上である、＜１＞～＜１００＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０２＞ ＩＯＳの含有量が、２０質量％以下である、＜１＞～＜１０１＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０３＞ ＩＯＳの含有量が、１０質量％以下である、＜１＞～＜１０２＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０４＞ ＩＯＳの含有量が、５質量％以下である、＜１＞～＜１０３＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０５＞ ＩＯＳの含有量が、３質量％以下である、＜１＞～＜１０４＞のいずれかに記載の組成物。
＜９１＞ （ａ１）成分の含有量が、０．５質量％以上である、＜１＞～＜９０＞のいずれかに記載の組成物。
＜９２＞ （ａ１）成分の含有量が、１質量％以上である、＜１＞～＜９１＞のいずれかに記載の組成物。
＜９３＞ （ａ１）成分の含有量が、１．５質量％以上である、＜１＞～＜９２＞のいずれかに記載の組成物。
＜９４＞ （ａ１）成分の含有量が、２０質量％以下である、＜１＞～＜９３＞のいずれかに記載の組成物。
＜９５＞ （ａ１）成分の含有量が、１０質量％以下である、＜１＞～＜９４＞のいずれかに記載の組成物。
＜９６＞ （ａ１）成分の含有量が、５質量％以下である、＜１＞～＜９５＞のいずれかに記載の組成物。
＜９７＞ （ａ１）成分の含有量が、３質量％以下である、＜１＞～＜９６＞のいずれかに記載の組成物。
＜９８＞ ＩＯＳの含有量が、０．２質量％以上である、＜１＞～＜９７＞のいずれかに記載の組成物。
＜９９＞ ＩＯＳの含有量が、０．５質量％以上である、＜１＞～＜９８＞のいずれかに記載の組成物。
＜１００＞ ＩＯＳの含有量が、１質量％以上である、＜１＞～＜９９＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０１＞ ＩＯＳの含有量が、１．５質量％以上である、＜１＞～＜１００＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０２＞ ＩＯＳの含有量が、２０質量％以下である、＜１＞～＜１０１＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０３＞ ＩＯＳの含有量が、１０質量％以下である、＜１＞～＜１０２＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０４＞ ＩＯＳの含有量が、５質量％以下である、＜１＞～＜１０３＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０５＞ ＩＯＳの含有量が、３質量％以下である、＜１＞～＜１０４＞のいずれかに記載の組成物。
【0065】
＜１０６＞ （Ｂ）成分の含有量が、０．２質量％以上である、＜１＞～＜１０５＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０７＞ （Ｂ）成分の含有量が、１質量％以上である、＜１＞～＜１０６＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０８＞ （Ｂ）成分の含有量が、２質量％以上である、＜１＞～＜１０７＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０９＞ （Ｂ）成分の含有量が、２０質量％以下である、＜１＞～＜１０８＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１０＞ （Ｂ）成分の含有量が、１０質量％以下である、＜１＞～＜１０９＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１１＞ （Ｂ）成分の含有量が、５質量％以下である、＜１＞～＜１１０＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１２＞ （Ｂ）成分の含有量が、４質量％以下である、＜１＞～＜１１１＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１３＞ （ｂ１）成分の含有量が、０．２質量％以上である、＜１＞～＜１１２＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１４＞ （ｂ１）成分の含有量が、１質量％以上である、＜１＞～＜１１３＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１５＞ （ｂ１）成分の含有量が、２質量％以上である、＜１＞～＜１１４＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１６＞ （ｂ１）成分の含有量が、２０質量％以下である、＜１＞～＜１１５＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１７＞ （ｂ１）成分の含有量が、１０質量％以下である、＜１＞～＜１１６＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１８＞ （ｂ１）成分の含有量が、５質量％以下である、＜１＞～＜１１７＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１９＞ （ｂ１）成分の含有量が、４質量％以下である、＜１＞～＜１１８＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０７＞ （Ｂ）成分の含有量が、１質量％以上である、＜１＞～＜１０６＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０８＞ （Ｂ）成分の含有量が、２質量％以上である、＜１＞～＜１０７＞のいずれかに記載の組成物。
＜１０９＞ （Ｂ）成分の含有量が、２０質量％以下である、＜１＞～＜１０８＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１０＞ （Ｂ）成分の含有量が、１０質量％以下である、＜１＞～＜１０９＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１１＞ （Ｂ）成分の含有量が、５質量％以下である、＜１＞～＜１１０＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１２＞ （Ｂ）成分の含有量が、４質量％以下である、＜１＞～＜１１１＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１３＞ （ｂ１）成分の含有量が、０．２質量％以上である、＜１＞～＜１１２＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１４＞ （ｂ１）成分の含有量が、１質量％以上である、＜１＞～＜１１３＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１５＞ （ｂ１）成分の含有量が、２質量％以上である、＜１＞～＜１１４＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１６＞ （ｂ１）成分の含有量が、２０質量％以下である、＜１＞～＜１１５＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１７＞ （ｂ１）成分の含有量が、１０質量％以下である、＜１＞～＜１１６＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１８＞ （ｂ１）成分の含有量が、５質量％以下である、＜１＞～＜１１７＞のいずれかに記載の組成物。
＜１１９＞ （ｂ１）成分の含有量が、４質量％以下である、＜１＞～＜１１８＞のいずれかに記載の組成物。
【0066】
＜１２０＞ ＲＡが、０．２０以上である、＜１＞～＜１１９＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２１＞ ＲＡが、０．３０以上である、＜１＞～＜１２０＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２２＞ ＲＡが、０．４０以上である、＜１＞～＜１２１＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２３＞ ＲＡが、０．４５以上である、＜１＞～＜１２２＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２４＞ ＲＡが、０．８０以下である、＜１＞～＜１２３＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２５＞ ＲＡが、０．７０以下である、＜１＞～＜１２４＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２６＞ ＲＡが、０．６０以下である、＜１＞～＜１２５＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２７＞ ＲＡが、０．５５以下である、＜１＞～＜１２６＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２８＞ Ｒｂが、０．５以上である、＜１＞～＜１２７＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２９＞ Ｒｂが、０．７以上である、＜１＞～＜１２８＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３０＞ Ｒｂが、０．８以上である、＜１＞～＜１２９＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３１＞ Ｒｂが、０．９以上である、＜１＞～＜１３０＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３２＞ Ｒｂが、１．０以下である、＜１＞～＜１３１＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２１＞ ＲＡが、０．３０以上である、＜１＞～＜１２０＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２２＞ ＲＡが、０．４０以上である、＜１＞～＜１２１＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２３＞ ＲＡが、０．４５以上である、＜１＞～＜１２２＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２４＞ ＲＡが、０．８０以下である、＜１＞～＜１２３＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２５＞ ＲＡが、０．７０以下である、＜１＞～＜１２４＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２６＞ ＲＡが、０．６０以下である、＜１＞～＜１２５＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２７＞ ＲＡが、０．５５以下である、＜１＞～＜１２６＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２８＞ Ｒｂが、０．５以上である、＜１＞～＜１２７＞のいずれかに記載の組成物。
＜１２９＞ Ｒｂが、０．７以上である、＜１＞～＜１２８＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３０＞ Ｒｂが、０．８以上である、＜１＞～＜１２９＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３１＞ Ｒｂが、０．９以上である、＜１＞～＜１３０＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３２＞ Ｒｂが、１．０以下である、＜１＞～＜１３１＞のいずれかに記載の組成物。
【0067】
＜１３３＞ （Ｃ）成分の含有量が、０．５質量％以上である、＜１＞～＜１３２＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３４＞ （Ｃ）成分の含有量が、１質量％以上である、＜１＞～＜１３３＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３５＞ （Ｃ）成分の含有量が、３質量％以上である、＜１＞～＜１３４＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３６＞ （Ｃ）成分の含有量が、６質量％以上である、＜１＞～＜１３５＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３７＞ （Ｃ）成分の含有量が、６０質量％以下である、＜１＞～＜１３６＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３８＞ （Ｃ）成分の含有量が、４０質量％以下である、＜１＞～＜１３７＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３９＞ （Ｃ）成分の含有量が、２０質量％以下である、＜１＞～＜１３８＞のいずれかに記載の組成物。
＜１４０＞ （Ｃ）成分の含有量が、１０質量％以下である、＜１＞～＜１３９＞のいずれかに記載の組成物。
＜１４１＞ 質量比｛（Ｃ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕が、０．２以上である、＜１＞～＜１４０＞のいずれかに記載の組成物。
＜１４２＞ 質量比｛（Ｃ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕が、０．６以上である、＜１＞～＜１４１＞のいずれかに記載の組成物。
＜１４３＞ 質量比｛（Ｃ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕が、１以上である、＜１＞～＜１４２＞のいずれかに記載の組成物。
＜１４４＞ 質量比｛（Ｃ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕が、１０以下である、＜１＞～＜１４３＞のいずれかに記載の組成物。
＜１４５＞ 質量比｛（Ｃ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕が、６以下である、＜１＞～＜１４４＞のいずれかに記載の組成物。
＜１４６＞ 質量比｛（Ｃ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕が、４以下である、＜１＞～＜１４５＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３４＞ （Ｃ）成分の含有量が、１質量％以上である、＜１＞～＜１３３＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３５＞ （Ｃ）成分の含有量が、３質量％以上である、＜１＞～＜１３４＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３６＞ （Ｃ）成分の含有量が、６質量％以上である、＜１＞～＜１３５＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３７＞ （Ｃ）成分の含有量が、６０質量％以下である、＜１＞～＜１３６＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３８＞ （Ｃ）成分の含有量が、４０質量％以下である、＜１＞～＜１３７＞のいずれかに記載の組成物。
＜１３９＞ （Ｃ）成分の含有量が、２０質量％以下である、＜１＞～＜１３８＞のいずれかに記載の組成物。
＜１４０＞ （Ｃ）成分の含有量が、１０質量％以下である、＜１＞～＜１３９＞のいずれかに記載の組成物。
＜１４１＞ 質量比｛（Ｃ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕が、０．２以上である、＜１＞～＜１４０＞のいずれかに記載の組成物。
＜１４２＞ 質量比｛（Ｃ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕が、０．６以上である、＜１＞～＜１４１＞のいずれかに記載の組成物。
＜１４３＞ 質量比｛（Ｃ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕が、１以上である、＜１＞～＜１４２＞のいずれかに記載の組成物。
＜１４４＞ 質量比｛（Ｃ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕が、１０以下である、＜１＞～＜１４３＞のいずれかに記載の組成物。
＜１４５＞ 質量比｛（Ｃ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕が、６以下である、＜１＞～＜１４４＞のいずれかに記載の組成物。
＜１４６＞ 質量比｛（Ｃ）／〔（Ａ）＋（Ｂ）〕が、４以下である、＜１＞～＜１４５＞のいずれかに記載の組成物。
【0068】
＜１４７＞ 水の含有量が３５質量％以上である、＜１＞～＜１４６＞のいずれかに記載の界面活性剤組成物。
＜１４８＞ 水の含有量が、４５質量％以上である、＜１＞～＜１４７＞のいずれかに記載の組成物。
＜１４９＞ 水の含有量が、５５質量％以上である、＜１＞～＜１４８＞のいずれかに記載の組成物。
＜１５０＞ 水の含有量が、６５質量％以上である、＜１＞～＜１４９＞のいずれかに記載の組成物。
＜１５１＞ 水の含有量が、７５質量％以上である、＜１＞～＜１５０＞のいずれかに記載の組成物。
＜１５２＞ 水の含有量が、９５質量％以下である、＜１＞～＜１５１＞のいずれかに記載の組成物。
＜１５３＞ 水の含有量が、９０質量％以下である、＜１＞～＜１５２＞のいずれかに記載の組成物。
＜１５４＞ 液体状である、＜１＞～＜１５３＞のいずれかに記載の組成物。
＜１５５＞ ジメチルポリシロキサン（Ｃ）を固体表面に残留させるために用いる、＜１＞～＜１５４＞のいずれかに記載の組成物。
＜１５６＞ ＜１＞～＜１５５＞のいずれかに記載の組成物の、ヘアリンス、ヘアコンディショナー、ヘアトリートメント、ヘアパック、繊維柔軟剤、又はカーワックスへの使用。
＜１５７＞ ＜１＞～＜１５５＞のいずれかに記載の組成物を含有する皮膚用洗浄剤、衣料用洗浄剤、食器用洗浄剤又は住居用洗浄剤。
＜１５８＞ 水と界面活性剤と（Ｃ）成分とを混合する、界面活性剤組成物の製造方法。
＜１５９＞ 前記＜１＞～＜１５５＞のいずれかに記載の組成物を固体表面に接触させる、ジメチルポリシロキサン（Ｃ）の残留方法。
＜１４８＞ 水の含有量が、４５質量％以上である、＜１＞～＜１４７＞のいずれかに記載の組成物。
＜１４９＞ 水の含有量が、５５質量％以上である、＜１＞～＜１４８＞のいずれかに記載の組成物。
＜１５０＞ 水の含有量が、６５質量％以上である、＜１＞～＜１４９＞のいずれかに記載の組成物。
＜１５１＞ 水の含有量が、７５質量％以上である、＜１＞～＜１５０＞のいずれかに記載の組成物。
＜１５２＞ 水の含有量が、９５質量％以下である、＜１＞～＜１５１＞のいずれかに記載の組成物。
＜１５３＞ 水の含有量が、９０質量％以下である、＜１＞～＜１５２＞のいずれかに記載の組成物。
＜１５４＞ 液体状である、＜１＞～＜１５３＞のいずれかに記載の組成物。
＜１５５＞ ジメチルポリシロキサン（Ｃ）を固体表面に残留させるために用いる、＜１＞～＜１５４＞のいずれかに記載の組成物。
＜１５６＞ ＜１＞～＜１５５＞のいずれかに記載の組成物の、ヘアリンス、ヘアコンディショナー、ヘアトリートメント、ヘアパック、繊維柔軟剤、又はカーワックスへの使用。
＜１５７＞ ＜１＞～＜１５５＞のいずれかに記載の組成物を含有する皮膚用洗浄剤、衣料用洗浄剤、食器用洗浄剤又は住居用洗浄剤。
＜１５８＞ 水と界面活性剤と（Ｃ）成分とを混合する、界面活性剤組成物の製造方法。
＜１５９＞ 前記＜１＞～＜１５５＞のいずれかに記載の組成物を固体表面に接触させる、ジメチルポリシロキサン（Ｃ）の残留方法。
【実施例】
【0069】
（１）ジメチルポリシロキサンの重量平均分子量（Ｍｗ）の測定
ジメチルポリシロキサンの重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定した。
カラムには、ミックスゲルカラム（昭和電工株式会社製、Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ－８０４Ｌ）を２本接続したものを用い、移動相及び希釈溶媒として、クロロホルム（関東化学株式会社製、高速液体クロマトグラフィー用）、検出器として、示差屈折率（ＲＩ）検出器を用いて、標準物質として分子量が既知の単分散ポリスチレンを用いてＭｗを算出した。
また、積分分子量分布曲線から、ジメチルポリシロキサン中の分子量３００～６０００に相当する量を求めた。
ジメチルポリシロキサンの重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定した。
カラムには、ミックスゲルカラム（昭和電工株式会社製、Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ－８０４Ｌ）を２本接続したものを用い、移動相及び希釈溶媒として、クロロホルム（関東化学株式会社製、高速液体クロマトグラフィー用）、検出器として、示差屈折率（ＲＩ）検出器を用いて、標準物質として分子量が既知の単分散ポリスチレンを用いてＭｗを算出した。
また、積分分子量分布曲線から、ジメチルポリシロキサン中の分子量３００～６０００に相当する量を求めた。
【0070】
（２）ジメチルポリシロキサンの動粘度の測定
ジメチルポリシロキサンの動粘度は、日本工業規格ＪＩＳ Ｚ８８０３「液体の粘度測定方法」に基づき、ウベローデ粘度計を用いて２５℃で測定した。
ジメチルポリシロキサンの動粘度は、日本工業規格ＪＩＳ Ｚ８８０３「液体の粘度測定方法」に基づき、ウベローデ粘度計を用いて２５℃で測定した。
【0071】
（３）分岐型アニオン界面活性剤（ａ１）、分岐型カチオン界面活性剤（ｂ１）の分岐率の測定
下記条件で１Ｈ－ＮＭＲ測定又は高速液体クロマトグラフ測定を行い、分岐型構造に由来するピーク、直鎖型構造に由来するピークを検出し、分岐率を算出した。
＜１Ｈ－ＮＭＲ測定条件＞
・Agilent Technologies社製、超伝導フーリエ変換核磁気共鳴装置「４００－ＭＲ」
・共鳴周波数：４００MHz
・積算回数：８回
・遅延時間：１０秒
・パルス照射角：４５°
＜高速液体クロマトグラフ（ＨＰＬＣ）測定条件＞
高速液体クロマトグラフ質量分析計（株式会社島津製作所製、ＬＣＭＳ－２０２０）
・カラム：インタクト株式会社製、ＵＫ－Ｃ１８ ＨＴ、２×５０ｍｍ、３μｍ
・溶離液：０．０５％トリフルオロ酢酸―ヘキサン：メタノール：テトラヒドロフラン＝８５：１０：５溶液
・流速：０．８ｍＬ／ｍｉｎ（０－１０ｍｉｎ）→１．２ｍＬ／ｍｉｎ（１１－５５ｍｉｎ）
・検出：Ｒａｎｇｅ ５００ｐＡ
下記条件で１Ｈ－ＮＭＲ測定又は高速液体クロマトグラフ測定を行い、分岐型構造に由来するピーク、直鎖型構造に由来するピークを検出し、分岐率を算出した。
＜１Ｈ－ＮＭＲ測定条件＞
・Agilent Technologies社製、超伝導フーリエ変換核磁気共鳴装置「４００－ＭＲ」
・共鳴周波数：４００MHz
・積算回数：８回
・遅延時間：１０秒
・パルス照射角：４５°
＜高速液体クロマトグラフ（ＨＰＬＣ）測定条件＞
高速液体クロマトグラフ質量分析計（株式会社島津製作所製、ＬＣＭＳ－２０２０）
・カラム：インタクト株式会社製、ＵＫ－Ｃ１８ ＨＴ、２×５０ｍｍ、３μｍ
・溶離液：０．０５％トリフルオロ酢酸―ヘキサン：メタノール：テトラヒドロフラン＝８５：１０：５溶液
・流速：０．８ｍＬ／ｍｉｎ（０－１０ｍｉｎ）→１．２ｍＬ／ｍｉｎ（１１－５５ｍｉｎ）
・検出：Ｒａｎｇｅ ５００ｐＡ
【0072】
実施例１－１～１－６、比較例１－１～１－３
以下に示す界面活性剤とジメチルポリシロキサン（Ｃ）を用意した。
広口規格びん（東京硝子器械株式会社製、ＰＳ－Ｎｏ．６）に表１に記載の各界面活性剤原料と水を加え、７０℃の温水浴中で１時間程度加温、混合、２５℃に放冷後にジメチルポリシロキサンを添加した。目視により均一に乳化、分散するまで撹拌、振盪して界面活性剤組成物を得た。
得られた界面活性剤組成物を用いて、以下の方法で、各基板又は基材へのジメチルポリシロキサン（Ｃ）の残留量を測定し、評価した。結果を表１に示す。
以下に示す界面活性剤とジメチルポリシロキサン（Ｃ）を用意した。
広口規格びん（東京硝子器械株式会社製、ＰＳ－Ｎｏ．６）に表１に記載の各界面活性剤原料と水を加え、７０℃の温水浴中で１時間程度加温、混合、２５℃に放冷後にジメチルポリシロキサンを添加した。目視により均一に乳化、分散するまで撹拌、振盪して界面活性剤組成物を得た。
得られた界面活性剤組成物を用いて、以下の方法で、各基板又は基材へのジメチルポリシロキサン（Ｃ）の残留量を測定し、評価した。結果を表１に示す。
【0073】
実施例２－１～２－６、実施例３－１、比較例１－４～１－５
実施例１－１において、表２～４に示す条件に変えた以外は、実施例１－１と同様に行った。結果を表２～４に示す。
実施例１－１において、表２～４に示す条件に変えた以外は、実施例１－１と同様に行った。結果を表２～４に示す。
【0074】
＜アニオン界面活性剤（Ａ）＞
（１）ａ１－１：内部オレフィンスルホン酸ナトリウム（分岐率：９８モル％）
（1-1）特開２０１５－２７９７７号公報の製造例５の方法で製造した。
炭素数１６の内部オレフィン１１．９ｋｇと、炭素数１８の内部オレフィン３．１ｋｇとを混合して炭素数１６／１８（質量比７９．４／２０．６）の内部オレフィン１５．０ｋｇを得た。得られた炭素数１６／１８の内部オレフィンを、薄膜式スルホン化反応器を使用してＳＯ3濃度２．８容量％の三酸化硫黄ガスを通してスルホン化反応を行った。
得られたスルホン化物を中和、加水分解して、炭素数１６／１８の内部オレフィンスルホン酸ナトリウムを得た。得られた内部オレフィンスルホン酸ナトリウム中の分子量は３４７．１、Ｈ体／Ｏ体の質量比は８７／１３、原料内部オレフィンの含有量は１００ｐｐｍ未満（ＧＣ検出下限未満）であった。
（1-2）分岐率の算出
特開２０１８－６６１０２公報の段落［０１７４］記載の方法〔高速液体クロマトグラフィー／質量分析（ＨＰＬＣ－ＭＳ）法〕で分岐スルホン酸の量を測定した。スルホン酸基が１位に存在するもの（直鎖型に相当）の含有量は２質量％、すなわち２モル％であった。
（１）ａ１－１：内部オレフィンスルホン酸ナトリウム（分岐率：９８モル％）
（1-1）特開２０１５－２７９７７号公報の製造例５の方法で製造した。
炭素数１６の内部オレフィン１１．９ｋｇと、炭素数１８の内部オレフィン３．１ｋｇとを混合して炭素数１６／１８（質量比７９．４／２０．６）の内部オレフィン１５．０ｋｇを得た。得られた炭素数１６／１８の内部オレフィンを、薄膜式スルホン化反応器を使用してＳＯ3濃度２．８容量％の三酸化硫黄ガスを通してスルホン化反応を行った。
得られたスルホン化物を中和、加水分解して、炭素数１６／１８の内部オレフィンスルホン酸ナトリウムを得た。得られた内部オレフィンスルホン酸ナトリウム中の分子量は３４７．１、Ｈ体／Ｏ体の質量比は８７／１３、原料内部オレフィンの含有量は１００ｐｐｍ未満（ＧＣ検出下限未満）であった。
（1-2）分岐率の算出
特開２０１８－６６１０２公報の段落［０１７４］記載の方法〔高速液体クロマトグラフィー／質量分析（ＨＰＬＣ－ＭＳ）法〕で分岐スルホン酸の量を測定した。スルホン酸基が１位に存在するもの（直鎖型に相当）の含有量は２質量％、すなわち２モル％であった。
【0075】
（２）ａ１－２：ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム（分岐率：１００モル％）
（2-1）花王株式会社製、商品名：ネオぺレックスＧ－１５、有効分：１６質量％、分子量：３４８．５
（2-2）分岐率の算出
１Ｈ－ＮＭＲ測定により式（１）のＲ１、Ｒ２の末端メチル基（６Ｈ）のプロトンに由来するピーク（０．８ｐｐｍ）と、Ｒ１、Ｒ２を連結するメチン基（１Ｈ）のプロトンに由来するピーク（２．６ｐｐｍ）の面積比を算出すると、６：１であった。よって、これらのピークは分岐型構造に由来する。また、直鎖型構造に由来するピーク（例えば、Ｒ２を水素原子とした場合に生じるＲ１に隣接するメチレン基に由来するピーク）は検出されなかった。よって、分岐率は１００モル％とした。
（2-1）花王株式会社製、商品名：ネオぺレックスＧ－１５、有効分：１６質量％、分子量：３４８．５
（2-2）分岐率の算出
１Ｈ－ＮＭＲ測定により式（１）のＲ１、Ｒ２の末端メチル基（６Ｈ）のプロトンに由来するピーク（０．８ｐｐｍ）と、Ｒ１、Ｒ２を連結するメチン基（１Ｈ）のプロトンに由来するピーク（２．６ｐｐｍ）の面積比を算出すると、６：１であった。よって、これらのピークは分岐型構造に由来する。また、直鎖型構造に由来するピーク（例えば、Ｒ２を水素原子とした場合に生じるＲ１に隣接するメチレン基に由来するピーク）は検出されなかった。よって、分岐率は１００モル％とした。
【0076】
（３）ａ１－３：ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム（分岐率：１００モル％）
（3-1）富士フイルム和光純薬式会社製、商品名：Aerosol OT、主成分：ジ－２－エチルヘキシルスルホコハク酸ナトリウム、有効分：７５質量％、分子量：４４４．６
（3-2）分岐率の算出
１Ｈ－ＮＭＲ測定により式（１）のＲ１、Ｒ２の末端メチル基（１２Ｈ）のプロトンに由来するピーク（０．８ｐｐｍ）と、Ｒ１、Ｒ２を連結するメチン基（１Ｈ）のプロトンに由来するピーク（４．３ｐｐｍ）の面積比を算出すると、１２：１であった。よって、これらのピークは分岐型構造に由来する。また、直鎖型構造に由来するピークは検出されなかった。よって、分岐率は１００モル％とした。
（3-1）富士フイルム和光純薬式会社製、商品名：Aerosol OT、主成分：ジ－２－エチルヘキシルスルホコハク酸ナトリウム、有効分：７５質量％、分子量：４４４．６
（3-2）分岐率の算出
１Ｈ－ＮＭＲ測定により式（１）のＲ１、Ｒ２の末端メチル基（１２Ｈ）のプロトンに由来するピーク（０．８ｐｐｍ）と、Ｒ１、Ｒ２を連結するメチン基（１Ｈ）のプロトンに由来するピーク（４．３ｐｐｍ）の面積比を算出すると、１２：１であった。よって、これらのピークは分岐型構造に由来する。また、直鎖型構造に由来するピークは検出されなかった。よって、分岐率は１００モル％とした。
【0077】
（４）ａ１－４：第２級アルカンスルホン酸ナトリウム（分岐率：８６モル％）
（4-1）花王株式会社製、商品名：ラテムルＰＳ、有効分：４０質量％、分子量：３１４．５
（4-2）分岐率の算出
１Ｈ－ＮＭＲ測定により式（１）のＲ１、Ｒ２の末端メチル基のプロトンに由来するピーク（０．９ｐｐｍ）と、Ｒ１、Ｒ２を連結するメチン基もしくはメチレン基のプロトンに由来するピーク（２．６～２．８ｐｐｍ）の面積比を算出すると、６：１とはならなかった。Ｒ１、Ｒ２を連結するメチン基（１Ｈ）のプロトンに由来するピーク（２．６ｐｐｍ）と直鎖型構造（Ｒ２＝Ｈ）のＲ１に隣接するメチレン基（２Ｈ）に由来するピーク（２．８ｐｐｍ）の面積比は７３：２７であった。したがって、モル比は分岐型：直鎖型＝８６：１４であり、分岐率は８６モル％とした。
（4-1）花王株式会社製、商品名：ラテムルＰＳ、有効分：４０質量％、分子量：３１４．５
（4-2）分岐率の算出
１Ｈ－ＮＭＲ測定により式（１）のＲ１、Ｒ２の末端メチル基のプロトンに由来するピーク（０．９ｐｐｍ）と、Ｒ１、Ｒ２を連結するメチン基もしくはメチレン基のプロトンに由来するピーク（２．６～２．８ｐｐｍ）の面積比を算出すると、６：１とはならなかった。Ｒ１、Ｒ２を連結するメチン基（１Ｈ）のプロトンに由来するピーク（２．６ｐｐｍ）と直鎖型構造（Ｒ２＝Ｈ）のＲ１に隣接するメチレン基（２Ｈ）に由来するピーク（２．８ｐｐｍ）の面積比は７３：２７であった。したがって、モル比は分岐型：直鎖型＝８６：１４であり、分岐率は８６モル％とした。
【0078】
（５）ａ５１：ドデシル硫酸ナトリウム（分岐率：０モル％）
花王株式会社製、商品名：エマール０、有効分：９９質量％、分子量：２８８．４
花王株式会社製、商品名：エマール０、有効分：９９質量％、分子量：２８８．４
【0079】
＜カチオン界面活性剤（Ｂ）＞
（１）ｂ１－１：ジアルキル（Ｃ１２－１８）ジメチルアンモニウムクロライド（分岐率：１００モル％）
（1-1）花王株式会社製、商品名：コータミンＤ－２３４５Ｐ、式（２）の化合物、有効分：７５質量％、分子量：４７４．３
（1-2）１Ｈ－ＮＭＲ測定により、式（２）のＲ３、Ｒ４中の窒素の２つ隣のメチレン基（４Ｈ）のプロトンに由来するピーク（１．７ｐｐｍ）と、Ｒ５、Ｒ６のメチル基（６Ｈ）のプロトンに由来するピーク（３．１ｐｐｍ）の面積比を算出すると、４：６であった。よって、これらのピークは分岐型構造に由来する。また、直鎖型構造に由来するピークは検出されなかった。よって、分岐率１００モル％とした。
（１）ｂ１－１：ジアルキル（Ｃ１２－１８）ジメチルアンモニウムクロライド（分岐率：１００モル％）
（1-1）花王株式会社製、商品名：コータミンＤ－２３４５Ｐ、式（２）の化合物、有効分：７５質量％、分子量：４７４．３
（1-2）１Ｈ－ＮＭＲ測定により、式（２）のＲ３、Ｒ４中の窒素の２つ隣のメチレン基（４Ｈ）のプロトンに由来するピーク（１．７ｐｐｍ）と、Ｒ５、Ｒ６のメチル基（６Ｈ）のプロトンに由来するピーク（３．１ｐｐｍ）の面積比を算出すると、４：６であった。よって、これらのピークは分岐型構造に由来する。また、直鎖型構造に由来するピークは検出されなかった。よって、分岐率１００モル％とした。
【0080】
（２）ｂ１－２：一般式（３）で表される第４級アンモニウム塩（分岐率：６３モル％）
（2-1）ｂ１－２は、以下の方法で製造した。
１Ｌ反応容器に、トリエタノールアミン（１．０モル、株式会社日本触媒製、トリエタノールアミン－Ｓ）と半硬化パーム油脂肪酸（１．６５モル、ACIDCHEM社製、Palmac605T）、ＢＨＴ０．２８ｇを仕込み、窒素置換を行った。次いで、窒素をバブリングしながら、１７０℃で常圧から１３．３ｋＰａに１時間かけて減圧して、７時間エステル化反応を行い、酸価２．０ｍｇＫＯＨ／ｇのトリエタノールアミンエステル５６９ｇを得た。
得られたトリエタノールアミンエステル５１２ｇ（０．９モル）とＢＨＴ０．７ｇを混合し、窒素雰囲気下、常圧、４５～６５℃でジメチル硫酸１０７．８ｇ（０．８５５モル）を２時間かけて滴下した。６０～６５℃で１．５時間熟成した後、最終の第４級アンモニウム塩中の溶媒量が１２質量％となるように、エタノール８４．９ｇを加えて５５～６５℃で０．５時間混合し、第４級アンモニウム塩を得た。
得られた第４級アンモニウム塩を高速液体クロマトグラフ（ＨＰＬＣ）法により分析し、臭化テトラオクチルアンモニウムを内部標準物質として使用し定量した結果、反応物は、一般式（３）で表される第４級アンモニウム塩を８８質量％、エタノールを１２質量％含んでいた。分子量は７１６．２であった。
（2-2）分岐率の算出
高速液体クロマトグラフによる分析を行ったところ、モノエステル体（５ｍｉｎ）とジエステル体（１０ｍｉｎ）とトリエステル体（２３ｍｉｎ）の混合物であった。これらのモル比は、３７：５２：１１であった。ジエステル体とトリエステル体が分岐型にあたるため、分岐率は６３モル％となる。
（2-1）ｂ１－２は、以下の方法で製造した。
１Ｌ反応容器に、トリエタノールアミン（１．０モル、株式会社日本触媒製、トリエタノールアミン－Ｓ）と半硬化パーム油脂肪酸（１．６５モル、ACIDCHEM社製、Palmac605T）、ＢＨＴ０．２８ｇを仕込み、窒素置換を行った。次いで、窒素をバブリングしながら、１７０℃で常圧から１３．３ｋＰａに１時間かけて減圧して、７時間エステル化反応を行い、酸価２．０ｍｇＫＯＨ／ｇのトリエタノールアミンエステル５６９ｇを得た。
得られたトリエタノールアミンエステル５１２ｇ（０．９モル）とＢＨＴ０．７ｇを混合し、窒素雰囲気下、常圧、４５～６５℃でジメチル硫酸１０７．８ｇ（０．８５５モル）を２時間かけて滴下した。６０～６５℃で１．５時間熟成した後、最終の第４級アンモニウム塩中の溶媒量が１２質量％となるように、エタノール８４．９ｇを加えて５５～６５℃で０．５時間混合し、第４級アンモニウム塩を得た。
得られた第４級アンモニウム塩を高速液体クロマトグラフ（ＨＰＬＣ）法により分析し、臭化テトラオクチルアンモニウムを内部標準物質として使用し定量した結果、反応物は、一般式（３）で表される第４級アンモニウム塩を８８質量％、エタノールを１２質量％含んでいた。分子量は７１６．２であった。
（2-2）分岐率の算出
高速液体クロマトグラフによる分析を行ったところ、モノエステル体（５ｍｉｎ）とジエステル体（１０ｍｉｎ）とトリエステル体（２３ｍｉｎ）の混合物であった。これらのモル比は、３７：５２：１１であった。ジエステル体とトリエステル体が分岐型にあたるため、分岐率は６３モル％となる。
【0081】
（３）ｂ１－３：ベンザルコニウム塩型第４級アンモニウム塩（分岐率：１００モル％）
（3-1）花王株式会社製、商品名：サニゾールＣ、有効分：５０質量％、分子量：３６８．１
（3-1）分岐率の算出
１Ｈ－ＮＭＲ測定により、式（２）のＲ３中の窒素の２つ隣のメチレン基（２Ｈ）のプロトンに由来するピーク（１．９ｐｐｍ）と、Ｒ４中の窒素の隣のベンジル位（２Ｈ）のプロトンに由来するピーク（４．５ｐｐｍ）と、Ｒ５、Ｒ６のメチル基（６Ｈ）のプロトンに由来するピーク（３．０ｐｐｍ）の面積比を算出すると、２：２：６であった。よって、これらのピークは分岐型構造に由来する。また、直鎖型構造に由来するピークは検出されなかった。よって、分岐率１００モル％とした。
（3-1）花王株式会社製、商品名：サニゾールＣ、有効分：５０質量％、分子量：３６８．１
（3-1）分岐率の算出
１Ｈ－ＮＭＲ測定により、式（２）のＲ３中の窒素の２つ隣のメチレン基（２Ｈ）のプロトンに由来するピーク（１．９ｐｐｍ）と、Ｒ４中の窒素の隣のベンジル位（２Ｈ）のプロトンに由来するピーク（４．５ｐｐｍ）と、Ｒ５、Ｒ６のメチル基（６Ｈ）のプロトンに由来するピーク（３．０ｐｐｍ）の面積比を算出すると、２：２：６であった。よって、これらのピークは分岐型構造に由来する。また、直鎖型構造に由来するピークは検出されなかった。よって、分岐率１００モル％とした。
【0082】
＜ジメチルポリシロキサン（Ｃ）＞
・ＫＦ－９６Ｌ－５０ｃｓ：信越化学工業株式会社製、分子量：３５００、動粘度：５０ｍｍ2／s（２５℃）、有効分：１００質量％
・ＫＦ－９６Ａ－６ｃｓ：信越化学工業株式会社製、分子量：７００、動粘度：６ｍｍ2／s（２５℃）、有効分：１００質量％
＜両性界面活性剤＞
・アンヒトール２０ＡＢ：花王株式会社製、ラウリン酸アミドプロピルベタイン、有効分：３０質量％
・ＫＦ－９６Ｌ－５０ｃｓ：信越化学工業株式会社製、分子量：３５００、動粘度：５０ｍｍ2／s（２５℃）、有効分：１００質量％
・ＫＦ－９６Ａ－６ｃｓ：信越化学工業株式会社製、分子量：７００、動粘度：６ｍｍ2／s（２５℃）、有効分：１００質量％
＜両性界面活性剤＞
・アンヒトール２０ＡＢ：花王株式会社製、ラウリン酸アミドプロピルベタイン、有効分：３０質量％
【0083】
＜界面活性剤組成物の各基板又は基材への残留量定量＞
各界面活性剤組成物１００ｍｇを下記基板又は基材の表面に均一に塗布し、１０ｍＬの水道水ですすいだ後、その基板又は基材が完全に浸るまで重水素化クロロホルム（ＣＤＣｌ３）を入れた（ガラス基板、ポリプロピレン基板の場合は２ｍＬ、ステンレス基板、木綿・毛髪基材の場合は１０ｍＬ）。
超音波を３０分間かけて基板又は基材に残留したジメチルポリシロキサン（Ｃ）を抽出し、その抽出液に内部標準としてピラジンを加え、Agilent Technologies社製の超伝導フーリエ変換核磁気共鳴装置「４００－ＭＲ」を用いて、１Ｈ－ＮＭＲ測定を行った。
ジメチルポリシロキサン（Ｃ）の残留量は、ピラジン（８．６ｐｐｍ）とシリコーン（０．０ｐｐｍ）のピーク面積の積分比から算出した。
（基板又は基材）
・ガラス基板：松浪硝子工業株式会社、１×１７×２５ｍｍ
・ポリプロピレン（ＰＰ）基板：日本テストパネル株式会社、１×１７×２５ｍｍ
・ステンレス基板：株式会社スタンダードテストピース、１×２０×５０ｍｍ
・木綿基材：１×６０×６０ｍｍ
・毛髪基材：株式会社ビューラックス、１ｇ
各界面活性剤組成物１００ｍｇを下記基板又は基材の表面に均一に塗布し、１０ｍＬの水道水ですすいだ後、その基板又は基材が完全に浸るまで重水素化クロロホルム（ＣＤＣｌ３）を入れた（ガラス基板、ポリプロピレン基板の場合は２ｍＬ、ステンレス基板、木綿・毛髪基材の場合は１０ｍＬ）。
超音波を３０分間かけて基板又は基材に残留したジメチルポリシロキサン（Ｃ）を抽出し、その抽出液に内部標準としてピラジンを加え、Agilent Technologies社製の超伝導フーリエ変換核磁気共鳴装置「４００－ＭＲ」を用いて、１Ｈ－ＮＭＲ測定を行った。
ジメチルポリシロキサン（Ｃ）の残留量は、ピラジン（８．６ｐｐｍ）とシリコーン（０．０ｐｐｍ）のピーク面積の積分比から算出した。
（基板又は基材）
・ガラス基板：松浪硝子工業株式会社、１×１７×２５ｍｍ
・ポリプロピレン（ＰＰ）基板：日本テストパネル株式会社、１×１７×２５ｍｍ
・ステンレス基板：株式会社スタンダードテストピース、１×２０×５０ｍｍ
・木綿基材：１×６０×６０ｍｍ
・毛髪基材：株式会社ビューラックス、１ｇ
【0084】
【表1】
【0085】
【表2】
【0086】
【表3】
【0087】
【表4】
【0088】
表１～４から、実施例の界面活性剤組成物は、比較例の界面活性剤組成物に比べて、固体表面上にジメチルポリシロキサンを高残留させることができることが分かる。
また、実施例３－１で得られた界面活性剤組成物を洗髪後の毛髪に塗布、すすぎ後の濡れた毛髪を静置すると、毛髪間に残留する水分が重力で迅速に自然排水され、毛髪中の水分量は、未処理のものよりも少なくなった。
また、実施例３－１で得られた界面活性剤組成物を洗髪後の毛髪に塗布、すすぎ後の濡れた毛髪を静置すると、毛髪間に残留する水分が重力で迅速に自然排水され、毛髪中の水分量は、未処理のものよりも少なくなった。
【産業上の利用可能性】
【0089】
本発明の界面活性剤組成物は、固体表面上にジメチルポリシロキサンを高残留させることができる界面活性剤組成物として有用である。