(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2024-05-21
(45)【発行日】2024-05-29
(54)【発明の名称】電子材料およびそれを用いた積層体
(51)【国際特許分類】
C08L 79/08 20060101AFI20240522BHJP
C08L 81/02 20060101ALI20240522BHJP
C08L 71/00 20060101ALI20240522BHJP
C08G 75/045 20160101ALI20240522BHJP
C08K 5/37 20060101ALI20240522BHJP
B32B 27/34 20060101ALI20240522BHJP
B32B 27/00 20060101ALI20240522BHJP
H05K 1/03 20060101ALI20240522BHJP
C08G 73/10 20060101ALN20240522BHJP
【FI】
C08L79/08 Z
C08L81/02
C08L71/00 A
C08G75/045
C08K5/37
B32B27/34
B32B27/00 103
H05K1/03 610N
C08G73/10
(21)【出願番号】P 2020191459
(22)【出願日】2020-11-18
【審査請求日】2023-07-05
(73)【特許権者】
【識別番号】000222118
【氏名又は名称】artience株式会社
(73)【特許権者】
【識別番号】711004506
【氏名又は名称】トーヨーケム株式会社
(72)【発明者】
【氏名】宇佐 勇貴
(72)【発明者】
【氏名】曽根田 裕士
(72)【発明者】
【氏名】石川 崇
【審査官】中川 裕文
(56)【参考文献】
【文献】特表2020-525575(JP,A)
【文献】特開2020-105247(JP,A)
【文献】特開2018-044137(JP,A)
【文献】特開平04-117423(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
C08G 65/00- 67/04
73/00- 73/26
75/00- 75/32
79/00- 79/14
C08K 3/00- 13/08
C08L 1/00-101/14
B32B 1/00- 43/00
H05K 1/03
CAplus/REGISTRY(STN)
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
チオール基を有するポリイミド(A)と、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)とを含んでな
り、
ポリフェニレンエーテル誘導体(B)が、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテルと3官能以上のポリチオールとの反応物を含んでなる電子材料用組成物。
【請求項2】
チオール基を有するポリイミド(A)の量が、ポリフェニレンエーテル誘導体(B)100質量部に対して、25~150質量部である請求項1に記載の電子材料用組成物。
【請求項3】
さらに、有機溶剤及び/または硬化促進剤を含む請求項1
または2に記載の電子材料用組成物。
【請求項4】
接着剤である請求項1~
3いずれか記載の電子材料用組成物。
【請求項5】
請求項1~
4いずれか記載の電子材料用組成物からなる層と、基材とを含んでなる積層体。
【請求項6】
基材が、銅箔及び/または絶縁シートである請求項
5記載の積層体。
【請求項7】
請求項
5または
6記載の積層体を加熱してなり、当該積層体中の電子材料からなる層を熱硬化してなる熱硬化積層体。
【請求項8】
プリント配線板である請求項
7記載の熱硬化積層体。
【請求項9】
チオール基を有するポリイミド(A)と、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)とを熱硬化してな
り、
ポリフェニレンエーテル誘導体(B)が、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテルと3官能以上のポリチオールとの反応物を含む、電子材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ポリイミドとポリフェニレンエーテルとを複合させた電子材料に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、エレクトロニクス分野の発展が目覚しく、特に電子機器の小型化、軽量化、高密度化が進み、プリント配線板をはじめとする電子材料には、薄型化、多層化、高精細化がますます要求されるようになっている。このような電子材料周辺に用いられる接着剤やコーティング剤として、例えば、具体的には次の(1)~(6)が挙げられる。
【0003】
(1)層間接着剤:回路基板同士を張り合わせるために用いられるもので、直接銅あるいは銀回路に接する。多層基板の層間に使用され、液状やシート状のものがある。
【0004】
(2)カバーレイフィルム用接着剤:カバーレイフィルム(回路の最表面を保護する目的で用いられるポリイミドフィルムなど)と、下地の回路基板と、を張り合わせるために用いられる。その使用形態として、あらかじめポリイミドフィルムと、接着層とが一体化されているものを下地と張り合わせる場合が多い。
【0005】
(3)銅張フィルム(CCL)用接着剤:ポリイミドフィルムと銅箔とを張り合わせるために用いられる。当該銅箔は、銅回路形成時にエッチング等の加工が施される場合が多い。
【0006】
(4)カバーレイ:回路の最表面を保護する目的で用いられ、その形態として、回路上に印刷した印刷インク層、張り合わせた接着シートなどがある。多くの場合、カバーレイを積層した後に、光や熱で硬化させる工程がある。
【0007】
(5)補強板用接着剤:配線板の機械的強度を補完する目的で、配線板の一部を、金属、ガラスエポキシ、ポリイミド等の補強板に固定するために用いられる。
【0008】
(6)電磁波シールド用接着剤:電子回路から発生する電磁ノイズを遮蔽する目的で、フレキシブルプリント配線板に貼着される。その形態として、接着剤そのものが電磁波シールド材を含む場合と、電磁波シールド性のカバーレイを電磁波シールド用接着剤で張り合わせる場合がある。
【0009】
これらの形態としては、液状(印刷用にインク化されたもの)やシート状(あらかじめフィルム化されたもの)等があり、用途に応じて適宜形態が選択される。
【0010】
こういった電子材料周辺部材への高い要求に応えるため、様々なポリイミド樹脂の検討が行われている。
【0011】
一方、ポリイミド樹脂は溶剤溶解性が低いことから、取扱いの困難さが課題として挙げられており、近年溶剤溶解性が良く誘電特性も良好なポリイミド樹脂の開発が行われてきた。
【0012】
例えば、特許文献1にはダイマージアミンをポリイミドに組み込むことで溶剤溶解性が良く、誘電特性が良好なポリイミドが合成できることが開示されている。
しかし、特許文献1に記載の発明では熱分解温度は高いものの、樹脂のTgが低くなるため高温使用時に樹脂の変形が起こりやすく電子基板用としては十分な性能とは言えない。
【0013】
また、特許文献2にはダイマージアミンとフェニレンジアミン骨格を併用することで軟化点が向上することが開示されている。
しかしながら、特許文献2記載の発明においてもTgの向上は不十分であり、加えてフェニレンジアミン骨格がポリイミド間の相互作用を強くするため誘電特性等の諸物性が低下するといった課題があった。
【0014】
また、特許文献3には末端アリル変性したポリフェニレンエーテルにフェノールを添加することで高Tgと低誘電を両立できることが例示されている。
しかし、特許文献3記載の発明では、ポリフェニレンエーテル由来の脆さを改善するため添加したフェノールが誘電特性を悪化させるため、高周波数領域での電子基板用としては十分な性能とは言えない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0015】
【文献】特開2018-168369公報
【文献】特開2020-117631号公報
【文献】特開2012-126844号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0016】
本発明の目的は、塗工後の成形性が良好であり、誘電特性が良好で且つTgが高い電子材料を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0017】
本発明は、チオール基を有するポリイミド(A)と、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)とを含んでなる電子材料用組成物に関する。
【0018】
また、本発明は、チオール基を有するポリイミド(A)の量が、ポリフェニレンエーテル誘導体(B)100質量部に対して、25~150質量部である上記電子材料用組成物に関する。
【0019】
また、本発明は、ポリフェニレンエーテル誘導体(B)が、ポリフェニレンエーテルと3官能以上のポリチオールとの反応物を含んでなる上記電子材料用組成物に関する。
【0020】
また、本発明は、さらに、有機溶剤及び/または硬化促進剤を含む上記電子材料用組成物に関する。
【0021】
また、本発明は、接着剤である上記電子材料用組成物に関する。
【0022】
また、本発明は、上記電子材料用組成物からなる層と、基材とを含んでなる積層体に関する。
【0023】
また、本発明は、基材が、銅箔及び/または絶縁シートである上記積層体に関する。
【0024】
また、本発明は、上記積層体を加熱してなり、当該積層体中の電子材料からなる層を熱硬化してなる熱硬化積層体に関する。
【0025】
また、本発明は、プリント配線板である上記熱硬化積層体に関する。
【0026】
また、本発明は、チオール基を有するポリイミド(A)と、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)とを熱硬化してなる電子材料に関する。
【発明の効果】
【0027】
本発明により、高いTgと誘電特性を両立した電子材料を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0028】
本発明は、チオール基を有するポリイミド(A)と、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)とを含んでなる電子材料用組成物に関する。なお、当該組成物は、塗膜などに成型後、熱硬化させることで電子材料となる。本発明の電子材料用組成物は、チオール基を有するポリイミド(A)を含んでなるA材と、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)とを含んでなるB材とを、セットで用意し、使用前にこれらを配合し電子材料用組成物とする、使用形態がある。
【0029】
<チオール基を有するポリイミド(A)>
本発明で用いるチオール基を有するポリイミド(A)は、ジアミン化合物とポリカルボン酸との反応物を含んでなる。本発明で用いるチオール基を有するポリイミド(A)は、具体的には、アミノチオール化合物中のアミノ基、ジアミン化合物のアミノ基、テトラカルボン酸二無水物中の2つの酸無水物基を反応させ分子内にチオール基を有する化合物が挙げられる。アミノ基を有するチオール化合物を用いることで、簡便な合成方法によりイミド結合またはアミド結合を含む強固な連結部を有するブロックポリマーを得ることができる。
【0030】
<アミノチオール化合物>
アミノチオール化合物は、アミノ基を有するチオール化合物であり、以下の例に限定されないが、例えば、2-アミノエタンチオール、3-アミノプロピル-1-チオール、1-アミノプロピル-2-チオール、4-アミノ-1-ブタンチオール等のアミノアルカンチオール;
2-アミノチオフェノール、3-アミノチオフェノール、4-アミノチオフェノール等のアミノベンゼンチオールの他、システイン等が挙げられる。
中でも、アミノアルカンチオールが好ましく、2-アミノエタンチオールがより好ましい。アミノチオール化合物は、2種以上用いてもよい。
<ジアミン化合物>
本発明で用いるジアミン化合物には、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン、脂環式ジアミン等が挙げられる。脂肪族ジアミンとしては、ダイマージアミン等が挙げられる。ジアミン化合物は、2種以上用いてもよい。
【0031】
<ダイマージアミン>
本発明においてダイマージアミンとは、不飽和脂肪酸の二量体として得られる環式又は非環式ダイマー酸の全てのカルボキシル基を一級アミノ基に置換したものである。
ダイマージアミンの市販品は、例えば、クローダジャパン社製の「プリアミン1071」、「プリアミン1073」、「プリアミン1074」、「プリアミン1075」や、BASFジャパン社製の「バーサミン551」等が挙げられる。
ダイマージアミンは、単独または2種類以上を併用して使用できる。
【0032】
ダイマージアミンの含有量は、柔軟性、接着性、相溶性に優れることから、ジアミン化合物100質量部中に対して、10~100質量部であることが好ましく、より好ましくは40質量%以上100質量%以下である。
【0033】
本発明で用いる芳香族ジアミン、脂環式ジアミンとして、好ましいものとしては以下の構造が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0034】
【0035】
【0036】
【0037】
【0038】
【0039】
また、芳香族ジアミンとして、下記構造で表されるものが例示される。
【0040】
【化6】
(式中、Xは単結合、-CH
2-、-SO
2-、-C(=O)-、-O-、-O-C
6H
4-C(CH
3)
2-C
6H
4-O-、-COO-(CH
2)l-OCO-、又は-COO-H
2C-HC(-O-C(=O)-CH
3)-CH
2-OCO-を表し、lは、1~20の整数を表す。)
【0041】
上記芳香族ジアミンとして、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジエチル-5,5’-ジメチルジフェニルメタン、4,4’-ジアミノ4,4’-ジエチル-5,5’-ジメチルジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジエチル-5,5’-3,3’-ジメチルジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジエチル-5,5’-ジメチルジフェニルケトン、2,2-BIS(4-アミノ-3-エチル-5-ジメチルフェノキシフェニル)プロパン等が挙げられる。
【0042】
上記ジアミン化合物として公知のものを単独、または2種類以上を組み合わせて使用することができる。
【0043】
<ポリカルボン酸>
本発明で用いるポリカルボン酸は、無水物の形態であってもよい。
ポリカルボン酸として、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、4,4’-[プロパン-2,2-ジイルビス(1,4-フェニレンオキシ)]ジフタル酸二無水物、2,2-ビス(3,3’,4,4’-テトラカルボキシフェニル)テトラフルオロプロパン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2’-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシフェニル)スルホン二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、ピロメリット酸二無水物、1,2,3,4-ベンゼンテトラカルボン酸無水物、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸無水物、9,9’-ビス[4-(3,4-ジカルボキシフェノキシ)フェニル]フルオレン酸二無水物、9,9’-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシ)フルオレン酸二無水物、1’,2’-二無水物;4,4’-[4,4’-(プロパン-2,2-ジイル)ジフェノキシ]ジフタル酸二無水物、等が例示される。
ポリカルボン酸は、単独で、又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。
【0044】
ポリカルボン酸は相溶性、接着性、及び耐熱性に優れることから、好ましくは2,2-ビス(3,3’,4,4’-テトラカルボキシフェニル)テトラフルオロプロパン二無水物、9,9’-ビス[4-(3,4-ジカルボキシフェノキシ)フェニル]フルオレン酸二無水物、1’,2’-二無水物;4,4’-[4,4’-(プロパン-2,2ジイル)ジフェノキシ]ジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物からなる群より選ばれる少なくとも一種である。
【0045】
ポリカルボン酸二無水物とジアミン化合物との反応は、非プロトン性極性溶媒中で公知の方法で行うことができる。非プロトン性極性溶媒としては、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)、N-メチル-2-ピロリドン(NMP)、テトラヒドロフラン(THF)、メチルジグライム、シクロヘキサノン、1,4-ジオキサンなどが例示できる。非プロトン性極性溶媒は、一種類のみ用いてもよいし、二種類以上を混合して用いてもよい。この時、上記非プロトン性極性溶媒と相溶性がある非極性溶媒を混合して使用しても問題なく、例えばトルエン、キシレン、メシチレン、ソルベントナフサなどの芳香族炭化水素が良く使用される。混合溶媒における非極性溶媒の割合は、30質量%以下であることが好ましい。これは非極性溶媒が30質量%以上では溶媒の溶解力が向上しポリアミック酸が析出しにくくなるためである。テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との反応は、良く乾燥したジアミン化合物を脱水精製した前述反応溶媒に溶解し、これに良く乾燥したポリカルボン酸二無水物を添加して反応を進める方法が好ましい。
【0046】
前記ポリカルボン酸二無水物とジアミン化合物との反応は、ランダム反応及びブロック反応のいずれでも構わない。例えば、ジアミン化合物毎別々に反応したホモ反応物を混合しても構わないし、場合により再結合反応を伴っても構わない。また、予めポリカルボン酸二無水物過剰で調製した酸末端オリゴマーとジアミン過剰で調整したアミン末端オリゴマーを混合して更に反応しても構わない。
【0047】
前記反応は、例えば10~80℃程度の比較的低温で反応させてポリアミック酸とし、ついで前記ポリアミック酸を熱イミド化又は化学イミド化して得ることができる。あるいは、ポリアミック酸とする工程を省略して、有機溶媒中例えば130℃~250℃程度の比較的高温で重合かつイミド化する一段反応によって得ることもできる。
【0048】
熱イミド化は例えば200℃~400℃程度の温度で行う事ができ、化学イミド化する方法は、例えば、ピリジンやトリエチルアミンなどの有機塩基と、無水酢酸などの存在下で行うことができる。このときの温度としては-20~200℃の任意の温度を選択することができる。
【0049】
前記ポリアミック酸を熱イミド又は化学イミド化して得られたポリイミド重合体(A)を重合溶液のまま使用することもできる。また、メタノール、エタノールなどの貧溶媒を加えて樹脂を沈殿させ、これを単離・回収し粉末として使用することもできる。
【0050】
アミノチオール化合物は、前記ポリカルボン酸二無水物とジアミン化合物との反応の最初から存在していてもよいし、後から添加してもよい。
アミノチオール化合物とテトラカルボン酸二無水物中との反応は、公知のアミノ基と酸無水物基とのアミド化反応を用いることができ、無溶剤もしくは溶剤下、好ましくは-50~50℃の任意の温度で反応させることで目的の生成物を得ることができる。
【0051】
<炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)>
炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)として、具体的にはポリフェニレンエーテル化合物と、炭素-炭素不飽和二重結合を有する置換基及びハロゲン原子を含有する化合物とを反応させたものである。
原料であるポリフェニレンエーテル化合物は、最終的に、所定の変性ポリフェニレンエーテル誘導体を合成することができるものであれば、特に限定されない。具体的には、2,6-ジメチルフェノールと、2官能フェノール及び3官能フェノールの少なくともいずれか一方とからなるポリフェニレンエーテルや、ポリ(2,6-ジメチル-1,4-フェニレンオキサイド)等のポリフェニレンエーテルを主成分とするもの等が挙げられる。また、2官能フェノールとは、フェノール性水酸基を分子中に2個有するフェノール化合物であり、例えば、テトラメチルビスフェノールA等が挙げられる。また、3官能フェノールとは、フェノール性水酸基を分子中に3個有するフェノール化合物である。
【0052】
また、炭素-炭素不飽和二重結合を有する置換基及びハロゲン原子を含有する化合物としては、例えば、1-クロロエチルビニルエーテル、2-クロロエチルビニルエーテル、p-クロロメチルスチレン、m-クロロメチルスチレン等が挙げられる。
【0053】
炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)となる変性反応の際はアルカリ金属水酸化物の存在下で行うことが好ましい。
アルカリ金属水酸化物は、脱ハロゲン化剤として働きうるものであれば、特に限定されないが、例えば、水酸化ナトリウム等が挙げられる。また、アルカリ金属水酸化物は、通常、水溶液の状態で用いられ、具体的には、水酸化ナトリウム水溶液として用いられる。
また、反応時間や反応温度等の反応条件は特に限定されない。具体的には反応温度は室温~100℃であることが好ましく、30℃~100℃であることがより好ましい。反応時間は好ましくは0.5~20時間、より好ましくは0.5~10時間である。
【0054】
また、反応時に用いる溶媒は、ポリフェニレンエーテルと、炭素-炭素不飽和二重結合を有する置換基及びハロゲン原子を含有する化合物とを溶解させることができ、反応を阻害しないものであれば、特に限定されない。具体的には、トルエン等が挙げられる。
【0055】
また、上記の反応は、アルカリ金属水酸化物だけではなく、相間移動触媒も存在した状態で反応させることが好ましい。相間移動触媒は、特に限定されないが、例えば、テトラ-n-ブチルアンモニウムブロマイド等の第4級アンモニウム塩等が挙げられる。
【0056】
また、チオール基を有するポリイミド(A)は炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)と硬化促進剤はアミン触媒及び/または、ラジカル発生する化合物の存在化、室温~100℃で1時間~20時間撹拌することで事前にプレポリマーとすることもできる。
【0057】
炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)の含有量は耐久性、接着性の観点から、チオール基を有するポリイミド(A)100質量部に対して、40~1000質量部含有することが好ましく、より好ましくは40~400質量部である。
【0058】
<2官能チオール>
本発明の電子材料は、成形性と耐熱性と接着性向上のために2官能以上のポリチオールを含有することができる。2官能以上のポリチオールは、2官能チオールと3官能以上のチオールがある。
2官能チオールは炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)と架橋されていてもよく、また配合されていても良い。好ましくは架橋されていることが望ましい。架橋の条件として、2官能チオールと炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテルをトルエン等の有機溶媒存在下でトリエチルアミン等の塩基触媒や、ラジカル発生開始剤等を添加し、室温~150℃で1時間~10時間反応を行う。
具体的な2官能チオールとして、1分子に2個のチオール基を有する化合物であればよい。例えば、1,2-エタンジチオール、1,3-プロピレンジチオール、1,2-プロピレンジチオール、1,4-ブタンジチオール、1,8-オクタンジチオール、1,10-デカンジチオール、エチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、ジエチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、テトラエチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、1,2-プロピレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、ジエチレングリコールビス(3-メルカプトブチレート)、1,4-ブタンジオールビス(3-メルカプトプロピオネート)、1,4-ブタンジオールビス(3-メルカプトブチレート)、1,8-オクタンジオールビス(3-メルカプトプロピオネート)、1,8-オクタンジオールビス(3-メルカプトブチレート)、ヘキサンジオールビスチオグリコレート、4,4'-チオビスベンゼンチオール、1、2ジメチル-4,5ビス(メルカプトメチル)ベンゼン等が挙げられる。
2官能チオールの種類は上記のものに限定されるわけではなく、公知のものであれば使用することができる。また、2官能チオールと炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテルの反応比は炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル/2官能チオールmol比で0.1~4.0であることが好ましく、より好ましくは0.5~2.5であることが好ましい。
【0059】
<3官能以上のチオール>
本発明の電子材料には、成形性と耐熱性と接着性向上のために更に3官能以上のチオールを含有することができる。3官能以上のチオールは炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)と架橋されていてもよく、また配合されていても良い。好ましくは架橋されていることが望ましい。3官能以上のチオールとしては、1分子中に3個以上のチオール基を有する化合物であればよく、1分子中に3個又は4個のチオール基を有する化合物であることが好ましい。
3官能以上のチオールの具体例としては、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトブチレート)、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトイソブチレート)、トリメチロールプロパントリス(2-メルカプトイソブチレート)、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリス-[(3-メルカプトプロピオニルオキシ)-エチル]-イソシアヌレート、トリメチロールエタントリス(3-メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトイソブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(2-メルカプトイソブチレート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトプロピオネート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(2-メルカプトプロピオネート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトブチレート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトイソブチレート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(2-メルカプトイソブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ジペンタエリスリトールヘキサキスチオグリコレート、1,4-ビス(3-メルカプトブチリルオキシ)ブタン、トリメルカプトトリメチロールプロパン、テトラメルカプトペンタエリスリトール、等が挙げられる。
この中でも誘電特性の観点から、トリメルカプトトリメチロールプロパン、テトラメルカプトペンタエリスリトールが好ましい。3官能以上のチオールの種類は上記のものに限定されるわけではなく、公知のものであれば使用することができる。
また、2官能チオールと3官能以上のチオール、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)の反応比は炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)/(2官能チオール+3官能以上のチオール)mol比で0.1~4.0であることが好ましく、より好ましくは0.5~2.5であることが好ましい。
【0060】
2官能以上のポリチオールの含有量は成形性、耐久性、接着性の観点から、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)100質量部に対して、1~30質量部含有することが好ましく、より好ましくは3~20質量部である。
【0061】
<架橋剤>
本発明の電子材料には、耐熱性と接着性向上のために更に架橋剤を含有することができる。架橋剤としてはエチレン性不飽和結合を含む化合物、エポキシ樹脂、イソシアネート含有基樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネートエステル樹脂等が挙げられる。
【0062】
<エチレン性不飽和結合を含む化合物>
本発明で用いられるエチレン性不飽和結合を含む化合物としては、エチレン性不飽和結合を分子内に有する化合物であればよく、特に限定されるものではないが、1分子中に平均2個以上のエチレン性不飽和結合を有するものを好ましく用いることができる。
例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ブチルアクリレート、イソアミルアクリレート、ヘキシルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、デシルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシ-3-クロロプロピルアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシ-3-アリルオキシプロピルアクリレート、2-アクリロイルオキシエチル-2-ヒドロキシプロピルフタレート、2,2,2-トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3-テトラフルオロプロピルアクリレート、1H-ヘキサフルオロイソプロピルアクリレート、1H,1H,5H-オクタフルオロペンチルアクリレート、1H,1H,2H,2H-ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、2,6-ジブロモ-4-ブチルフェニルアクリレート、2,4,6-トリブロモフェノキシエチルアクリレート、2,4,6-トリブロモフェノール3EO付加アクリレート、2-メチルオキシエチルアクリレート、1,3-ブチレングリコールメチルエーテルアクリレート、ブチルオキシエチルアクリレート、メチルオキシトリエチレングリコールアクリレート、メチルオキシポリエチレングリコール#400アクリレート、メチルオキシジプロピレングリコールアクリレート、メチルオキシトリプロピレングリコールアクリレート、メチルオキシポリプロピレングリコールアクリレート、エチルオキシジエチレングリコールアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、2-エチルヘキシルカルビトールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、クレジルポリエチレングリコールアクリレート、p-ノニルフェノキシエチルアクリレート、p-ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、グリシジルアクリレート、β-カルボキシエチルアクリレート、こはく酸モノアクリロイルオキシエチルエステル、ω-カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、2-アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、2-アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、2-アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、2-アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、N,N-ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N-ジメチルアミノプロピルアクリレート、モルホリノエチルアクリレート、トリメチルシロキシエチルアクリレート、ジフェニル-2-アクリロイルオキシエチルホスフェート、2-アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、カプロラクトン変性-2-アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソアミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、2-ヘキシルメタクリレート、2-エチルヘキシルメタクリレート、オクチルメタクリレート、デシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシ-3-クロロプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシ-3-アリルオキシプロピルメタクリレート、2-メタクリロイルオキシエチル-2-ヒドロキシプロピルフタレート、2,2,2-トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3-テトラフルオロプロピルメタクリレート、1H-ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート、1H,1H,5H-オクタフルオロペンチルメタクリレート、1H,1H,2H,2H-ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、2,6-ジブロモ-4-ブチルフェニルメタクリレート、2,4,6-トリブロモフェノキシエチルメタクリレート、2,4,6-トリブロモフェノール3EO付加メタクリレート、2-メチルオキシエチルメタクリレート、1,3-ブチレングリコールメチルエーテルメタクリレート、ブチルオキシエチルメタクリレート、メチルオキシトリエチレングリコールメタクリレート、メチルオキシポリエチレングリコール#400メタクリレート、メチルオキシジプロピレングリコールメタクリレート、メチルオキシトリプロピレングリコールメタクリレート、メチルオキシポリプロピレングリコールメタクリレート、エチルオキシジエチレングリコールメタクリレート、2-エチルヘキシルカルビトールメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェノキシジエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、クレジルポリエチレングリコールメタクリレート、p-ノニルフェノキシエチルメタクリレート、p-ノニルフェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、N,N-ジメチルアミノエチルメタクリレート、N,N-ジメチルアミノプロピルメタクリレート、モルホリノエチルメタクリレート、トリメチルシロキシエチルメタクリレート、ジフェニル-2-メタクリロイルオキシエチルホスフェート、2-メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、カプロラクトン変性-2-メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、アリルグリシジルエーテル、アクリルアミド、N-メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、N,N-ジエチルアクリルアミド、N-イソプロピルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、メタクリルアミド、N-メチロールメタクリルアミド、ジアセトンメタクリルアミド、N,N-ジメチルメタクリルアミド、N,N-ジエチルメタクリルアミド、N-イソプロピルメタクリルアミド、メタクリロイルモルホリン、スチレン、p-ヒドロキシスチレン、p-クロロスチレン、p-ブロモスチレン、p-メチルスチレン、p-メチルオキシスチレン、p-t-ブチルオキシスチレン、p-t-ブチルオキシカルボニルスチレン、p-t-ブチルオキシカルボニルオキシスチレン、2,4-ジフェニル-4-メチル-1-ペンテン、酢酸ビニル、モノクロロ酢酸ビニル、安息香酸ビニル、ピバル酸ビニル、酪酸ビニル、ラウリン酸ビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、2-エチルヘキサン酸ビニル、N-ビニルカルバゾール、N-ビニルピロリドン、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール#200ジアクリレート、ポリエチレングリコール#300ジアクリレート、ポリエチレングリコール#400ジアクリレート、ポリエチレングリコール#600ジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコール#400ジアクリレート、ポリプロピレングリコール#700ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールPO変性ジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのカプロラクトン付加物ジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールビス(2-ヒドロキシ-3-アクリロイルオキシプロピル)エーテル、ビス(4-アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、1,9-ノナンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノベンゾエート、ビスフェノールAジアクリレート、EO変性ビスフェノールAジアクリレート、PO変性ビスフェノールAジアクリレート、水素化ビスフェノールAジアクリレート、EO変性水素化ビスフェノールAジアクリレート、PO変性水素化ビスフェノールAジアクリレート、ビスフェノールFジアクリレート、EO変性ビスフェノールFジアクリレート、PO変性ビスフェノールFジアクリレート、EO変性テトラブロモビスフェノールAジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート、イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート、2-ヒドロキシ-1,3-ジアクリロキシプロパン、グリセリンPO変性トリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンPO変性トリアクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート、イソシアヌル酸EO変性ε-カプロラクトン変性トリアクリレート、1,3,5-トリアクリロイルヘキサヒドロ-s-トリアジン、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレートトリプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートモノプロピオネート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルテトラアクリレート、トリス(アクリロイルオキシ)ホスフェート、1,4-ブタンジオールジメタクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコール#200ジメタクリレート、ポリエチレングリコール#300ジメタクリレート、ポリエチレングリコール#400ジメタクリレート、ポリエチレングリコール#600ジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラプロピレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコール#400ジメタクリレート、ポリプロピレングリコール#700ジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールPO変性ジメタクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジメタクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのカプロラクトン
付加物ジメタクリレート、1,6-ヘキサンジオールビス(2-ヒドロキシ-3-メタクリロイルオキシプロピル)エーテル、1,9-ノナンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレートモノステアレート、ペンタエリスリトールジメタクリレートモノベンゾエート、2,2-ビス(4-メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、ビスフェノールAジメタクリレート、EO変性ビスフェノールAジメタクリレート、PO変性ビスフェノールAジメタクリレート、水素化ビスフェノールAジメタクリレート、EO変性水素化ビスフェノールAジメタクリレート、PO変性水素化ビスフェノールAジメタクリレート、ビスフェノールFジメタクリレート、EO変性ビスフェノールFジメタクリレート、PO変性ビスフェノールFジメタクリレート、EO変性テトラブロモビスフェノールAジメタクリレート、トリシクロデカンジメチロールジメタクリレート、イソシアヌル酸EO変性ジメタクリレート、2-ヒドロキシ-1,3-ジメタクリロキシプロパン、グリセリンPO変性トリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリメタクリレート、トリメチロールプロパンPO変性トリメタクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリメタクリレート、イソシアヌル酸EO変性ε-カプロラクトン変性トリメタクリレート、1,3,5-トリメタクリロイルヘキサヒドロ-s-トリアジン、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレートトリプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレートモノプロピオネート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、オリゴエステルテトラメタクリレート、トリス(メタクリロイルオキシ)ホスフェート、トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート、ジアリルマレエート、ジアリルフマレート、ジアリルアジペート、ジアリルフタレート、テトラアリルピロメリテート、グリセリンジアリルエーテル、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、ペンタエリスリトールジアリルエーテル、ペンタエリスリトールトリアリルエーテル、ペンタエリスリトールテトラアリルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタアリルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサアリルエーテル、ソルビトールジアリルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコールジビニルエーテル、1,4-ブタンジオールジビニルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジビニルエーテル、グリセリンジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、1,4-ジヒドロキシルシクロヘキサンジビニルエーテル、1,4-ジヒドロキシメチルシクロヘキサンジビニルエーテル、ハイドロキノンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ハイドロキノンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性レゾルシンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ビスフェノールSジビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル、ソルビトールテトラビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、ジペンタエリスリトールポリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンポリビニルエーテル等が挙げられる。
【0063】
<エポキシ基含有化合物>
本発明で用いられるエポキシ基含有化合物としては、エポキシ基を分子内に有する化合物であればよく、特に限定されるものではないが、1分子中に平均2個以上のエポキシ基を有するものを好ましく用いることができる。エポキシ基有化合物としては、例えば、グリジシルエーテル型エポキシ樹脂、グリジシルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、又は環状脂肪族(脂環型)エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂を用いることができる。
【0064】
グリシジルエーテル型エポキシ樹脂としては、例えば、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、又はテトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタン等が挙げられる。テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、テトラグリシジルメタキシリレンジアミン、1,2,4-ベンゼントリカルボン酸トリグリシジルエステル、1,3,5-ベンゼントリカルボン酸トリグリシジルエステル、1、1,2,4,5-ベンゼンテトラカルボン酸テトラグリシジルエステル、トリ(カルボキシエチル)イソシアヌレートトリグリシジルエステル、重合脂肪酸等のポリカルボン酸から誘導されるポリグリシジルエステル、シクロヘキサン-1,2,4-トリカルボン酸トリグリシジルエステル、1,2,4-シクロヘキサントリカルボン酸トリグリシジルエステル、1,3,5-シクロヘキサントリカルボン酸トリグリシジルエステル、2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸テトラグリシジルエステル、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂等が挙げられる、ジグリシジルフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、又はジグリシジルテトラヒドロフタレート、3’,4’-エポキシシクロへキシルメチル3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレートなどが挙げられる。
【0065】
<イソシアネート基含有化合物>
イソシアネート基含有化合物としては、イソシアネート基を分子内に有する化合物であればよく、特に限定されるものではない。
1分子中にイソシアネート基を1個有するイソシアネート基含有化合物としては、具体的には、n-ブチルイソシアネート、イソプロピルイソシアネート、フェニルイソシアネート、ベンジルイソシアネート、(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、1,1-ビス[(メタ)アクリロイルオキシメチル]エチルイソシアネート、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、(メタ)アクリロイルイソシアネート、イソプロペニル-α,α-ジメチルベンジルイソシアネート等が挙げられる。
また、1,6-ジイソシアナトヘキサン、ジイソシアン酸イソホロン、ジイソシアン酸4,4’-ジフェニルメタン、ポリメリックジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、2,4-ジイソシアン酸トリレン、ジイソシアン酸トルエン、2,4-ジイソシアン酸トルエン、ジイソシアン酸ヘキサメチレン、ジイソシアン酸4-メチル-m-フェニレン、ナフチレンジイソシアネート、パラフェニレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、シクロヘキシルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、m-テトラメチルキシリレンジイソシアネート、P-テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等のジイソシアン酸エステル化合物と水酸基、カルボキシル基、アミド基含有ビニルモノマーとを等モルで反応せしめた化合物もイソシアン酸エステル化合物として使用することができる。
【0066】
1分子中にイソシアネート基を2個有するイソシアネート基含有化合物としては、具体的には、1,3-フェニレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルジイソシアネート、1,4-フェニレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、4,4’-トルイジンジイソシアネート、2,4,6-トリイソシアネートトルエン、1,3,5-トリイソシアネートベンゼン、ジアニシジンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルエーテルジイソシアネート、4,4’,4”-トリフェニルメタントリイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、
トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、1,2-プロピレンジイソシアネー
ト、2,3-ブチレンジイソシアネート、1,3-ブチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、
ω,ω’-ジイソシアネート-1,3-ジメチルベンゼン、ω,ω’-ジイソシアネート-1,4-ジメチルベンゼン、ω,ω’-ジイソシアネート-1,4-ジエチルベンゼン、1,4-テトラメチルキシリレンジイソシアネート、1,3-テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香脂肪族ジイソシアネート、
3-イソシアネートメチル-3,5,5-トリメチルシクロヘキシルイソシアネート[別名:イソホロンジイソシアネート]、1,3-シクロペンタンジイソシアネート、1,3-シクロヘキサンジイソシアネート、1,4-シクロヘキサンジイソシアネート、メチル-2,4-シクロヘキサンジイソシアネート、メチル-2,6-シクロヘキサンジイソシアネート、4,4’-メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、1,3-ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、1,4-ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネートが挙げられる。
【0067】
また、1分子中にイソシアネート基を3個有するイソシアネート基含有化合物としては、具体的には、芳香族ポリイソシアネート、リジントリイソシアネートなどの脂肪族ポリイソシアネート、芳香脂肪族ポリイソシアネート、脂環族ポリイソシアネート等が挙げられ、前記で説明したジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、水と反応したビュウレット体、イソシアヌレート環を有する3量体が挙げられる。
【0068】
イソシアネート基含有化合物としては、さらに例示した種々のイソシアネート基含有化合物中のイソシアネート基がε-カプロラクタムやMEKオキシム等で保護されたブロック化イソシアネート基含有化合物も用いることができる。
具体的には、前記イソシアネート基含有化合物のイソシアネート基を、ε-カプロラクタム、メチルエチルケトン(以下、MEKという)オキシム、シクロヘキサノンオキシム、ピラゾール、フェノール等でブロックしたものなどが挙げられる。特に、イソシアヌレート環を有し、MEKオキシムやピラゾールでブロックされたヘキサメチレンジイソシアネート三量体は、本発明に使用した場合、ポリイミドや銅に対する接着強度や耐熱性に優れるため、非常に好ましい。
【0069】
前記ベンゾオキサジン樹脂としては、例えば、6,6-(1-メチルエチリデン)ビス(3,4-ジヒドロ-3-フェニル-2H-1,3-ベンゾオキサジン)、6,6-(1-メチルエチリデン)ビス(3,4-ジヒドロ-3-メチル-2H-1,3-ベンゾオキサジン)等が挙げられる。なお、オキサジン環の窒素にはフェニル基、メチル基、シクロヘキシル基等が結合していてもよい。また、市販品としては例えば、四国化成工業(株)社製の「ベンゾオキサジンF-a型」や「ベンゾオキサジンP-d型」、エア・ウォ-タ-社製の「RLV-100」等が挙げられ、これらは2種以上を組み合わせてもよい。
【0070】
前記ビスマレイミド樹脂としては、例えば、4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド、m-フェニレンビスマレイミド、ビスフェノールAジフェニルエーテルビスマレイミド、3,3’-ジメチル-5,5’-ジエチル-4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド、4-メチル-1,3-フェニレンビスマレイミド、1,6’-ビスマレイミド-(2,2,4-トリメチル)ヘキサン、4,4’-ジフェニルエーテルビスマレイミド、4,4’-ジフェニルスルフォンビスマレイミド等が挙げられる。また、市販品としては例えば、JFEケミカル(株)社製の「BAF-BMI」等が挙げられ、これらは2種以上を組み合わせてもよい。
【0071】
前記シアネートエステル樹脂としては、例えば、2-アリルフェノールシアネートエステル、4-メトキシフェノールシアネートエステル、2,2-ビス(4-シアナトフェノール)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、ビスフェノールAシアネートエステル、ジアリルビスフェノールAシアネートエステル、4-フェニルフェノールシアネートエステル、1,1,1-トリス(4-シアナトフェニル)エタン、4-クミルフェノールシアネートエステル、1,1-ビス(4-シアナトフェニル)エタン、4,4’-ビスフェノールシアネートエステル、および2,2-ビス(4-シアナトフェニル)プロパン等が挙げられる。これらは2種以上を組み合わせてもよい。
【0072】
架橋剤の含有量は成形性、耐久性、接着性の観点から、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)100質量部に対して、1~30質量部含有することが好ましく、より好ましくは3~10質量部である。
【0073】
<硬化促進剤>
本発明の電子材料は好ましくは硬化促進剤を更に含む。硬化促進剤はアミン触媒及び/または、ラジカル発生する化合物が好ましい。例えば、アミン触媒としてはジメチルシクロヘキシルアミン、N-メチルジシクロヘキシルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、N-メチルモルフォリン、N-エチルモルフォリン、N-ジメチルベンジルアミン等の非反応型モノアミン、トリエチレンジアミン、テトラメチルヘキサメチレンジアミン、ビスジメチルアミノエチルエーテル、テトラメチルプロパンジアミン、ジメチルアミノエチルモルフォリン、テトラメチルエチレンジアミン、ジアゾビシクロウンデセン、2-メチル-1,4-ジアゾ[2.2.2]ビシクロオクタン等の非反応型ジアミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、ペンタメチルジプロピレントリアミン等の非反応型トリアミン、ジメチルエタノールアミン、N-トリオキシエチレン-N,N-ジメチルアミン、N,N-ジメチル-N-ヘキサノールアミン等の反応型アミン、等が挙げられる。
ラジカル発生する化合物としてはベンゾイルパーオキサイド、tert-ブチルパーベンゾエート、クメンヒドロパーオキシドやジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ-n-プロピルパーオキシジカーボネート、ジ(2-エトキシエチル)パーオキシジカーボネート、tert-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、tert-ブチルパーオキシネオデカノエート、tert-ブチルパーオキシビバレート、(3,5,5-トリメチルヘキサノイル)パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、ジアセチルパーオキシド等の有機過酸化物や、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)、1,1’-アゾビス(シクロヘキサン1-カルボニトリル)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチル-4-メトキシバレロニトリル)、ジメチル2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオネート)、4,4’-アゾビス(4-シアノバレリック酸)、2,2’-アゾビス(2-ヒドロキシメチルプロピオニトリル)、2,2’-アゾビス[2-(2-イミダゾリン-2-イル)プロパン]等のアゾ系化合物が挙げられる。これらの化合物は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0074】
<有機溶剤>
本発明の電子材料は好ましくは有機溶剤を更に含む。有機溶剤は以下の例には限定されないが、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、トルエン、キシレン、アニソール、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、N-ビニルピロリドン、N-メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルスルホキシド、m-クレゾール、γ-ブチロラクトン、γ-バレロラクトン等が挙げられる。これらの溶剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0075】
<フィラー>
本発明の電子材料は、フィラーを更に含んでもよく、具体的に前記無機フィラーとしては、例えば、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、ほう酸アルミウイスカ、窒化ほう素、結晶性シリカ、非晶性シリカ、黒鉛粉、ベーマイト等が挙げられる。これら選ばれるいずれか1種又は少なくとも2種の組合せであってもよい。
【0076】
<難燃剤>
本発明において、前記電子材料は、難燃剤を更に含んでもよく、難燃剤であれば各種公知のものを特に限定なく使用できるが、難燃効果の点より特にリン系難燃剤および/または無機フィラーが好ましい。
【0077】
前記リン系難燃剤としては、例えば、ポリリン酸やリン酸エステル、フェノール性水酸基を含有しないホスファゼン誘導体等が挙げられ、特に当該ホスファゼン誘導体、中でも環状ホスファゼン誘導体が好ましい。
【0078】
<その他の添加剤>
本発明の電子材料は、さらに、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、加水分解防止剤、防黴剤、増粘剤、可塑剤、顔料、充填剤等の添加剤を必要に応じて含有してもよく、硬化反応を調節するため公知の触媒、添加剤等を含有してもよい。
【0079】
<接着剤、接着層>
本発明の電子材料は、接着剤の形態をとることができる。接着剤は、背景技術の欄で記載したような、同じまたは異なる2つの物体を張り合わせるためのものである。多くの場合、接着層形成時の利便性と、接着層形成後の強い接着力の両立のため、接着剤は、熱硬化性または光硬化性のものであることが好ましい。
本発明の接着剤はチオール基を有するポリイミド(A)と、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)との反応物単体、及び硬化剤、フィラー、添加剤等と任意の割合で混合してなる接着剤とすることができる。例えば、当該接着剤を適当な支持フィルムに塗工し、加熱して有機溶剤を揮発させることによって硬化させ、該支持フィルムから剥離することによって接着層が得られる。接着層の厚みは、3μm以上40μm以下程度が好ましい。
【0080】
接着層を製造する際、上記接着剤と上記接着剤以外の各種公知の接着剤とを併用してもよい。同様に上記接着剤と上記接着剤以外の各種公知の接着剤とを併用してもよい。
【0081】
また、接着剤は繊維基材に含浸し、加熱等により半硬化(Bステージ化)状態にした後、金属箔やプラスチックフィルムへと積層、硬化させ接着シートとして使用することもできる。繊維基材としては、各種の電気絶縁材料用積層板に用いられている周知のものが使用できる。その材質の例としては、Eガラス、Sガラス、低誘電ガラス、Qガラス等の無機物繊維;低誘電ガラスポリイミド、ポリエステル、テトラフルオロエチレン等の有機繊維;並びにそれらの混合物などが挙げられる。特に、誘電特性の観点から、無機物繊維が好ましく、低誘電ガラス、Qガラスがより好ましい。
本発明の電子材料は、接着剤を支持フィルムである繊維基材に含侵させた場合、接着剤は連続した接着層を形成するので、接着層内に基材を有する形態となるが、本発明の電子材料の使用形態のひとつである。もちろん、接着シートは、シート状基材と接着層とが独立した積層体であってもよい。
【0082】
<積層体>
本発明の積層体は、少なくとも、基材と、前記電子材料からなる層とからなる。例えば、ポリイミド樹脂接着剤、フィルム状接着剤、接着シートが少なくとも2つの基材の間に積層されたものである。また、銅箔とポリイミド等の支持フィルムを積層する際に用いることができる。例えば、本発明の接着剤である電子材料を用いて第1の基材に接着層を形成したもの、あるいは、さらに、前記接着層に第2の基材を重ね合わせたものである。
基材は、特に限定されず、例えば、シート状または板状であり、従来公知のプラスチックフィルム、金属箔等が挙げられ、2つの基材を用いたときは、同種のものでも異種のものでも良い。
<接着シート>
基材が支持フィルムであり、電子材料からなる層が接着層である場合、接着シートともいう。なお、前述した、接着剤が基材内部に含浸して積層構造がないもの、あるいは、接着剤が基材なしでもシート形状を維持できる場合も、接着性のあるシートであれば、接着シートということがある。
本発明の接着シートは、例えば、以下のようにして得ることができる。
溶液ないし分散液状態の熱硬化性接着剤を、支持フィルムの少なくとも片面に、塗布後、通常40~150℃で乾燥することにより、未硬化状態(いわゆるBステージ状態)の熱硬化性接着シートにシート状基材の付いたものを得ることができる。次いで熱硬化性接着シートの他方の面を他のシート状基材で覆うことにより、本発明の支持フィルム付き熱硬化性接着シートを得ることができる。
【0083】
接着剤が、熱硬化性である場合、これを用いた接着シートを熱硬化性接着シートともいう。また、当該接着剤からなる層を、熱硬化性接着層という。熱硬化は、40~200℃程度の温度で硬化することをいう。
熱硬化性接着シートの片面を剥離性基材が覆い、他方の面をシート状基材(例えば、ポリイミドフィルムやポリエステルフィルム)が覆っている剥離性基材付き熱硬化性接着シートを用いる場合について説明する。
剥離性基材付き熱硬化性接着シートから剥離性基材を剥がす。露出した熱硬化性接着層に被着体(例えば、導電性回路を有するプリント配線板の前記回路面側)を重ねる。次いで、加熱・加圧することによって、シート状基材と被着体に挟まれた熱硬化性接着層を熱硬化して、熱硬化性接着層は、シート状硬化物となる。
このようにすれば、シート状硬化物を介して、導電性回路を有するプリント配線板の前
記回路面が、シート状基材(保護シート)で保護されてなる、保護シート付きプリント配線板を得ることができる。
用いる支持フィルムの少なくとも一方は、剥離性の支持フィルムであることが好ましい。すなわち、剥離性の支持フィルムに、溶液ないし分散液状態の熱硬化性接着剤を塗布・乾燥し、熱硬化性接着シートを形成し、次いで熱硬化性接着シートの他方の面を他の剥離性の支持フィルムで覆うこともできるし、被着体となる剥離性のない支持フィルムで覆うこともできる。あるいは、被着体となる剥離性のない支持フィルムに、溶液ないし分散液状態の熱硬化性接着剤を塗布・乾燥し、熱硬化性接着シートを形成し、次いで熱硬化性接着シートの他方の面を他の剥離性のシート状基材で覆うこともできる。
【0084】
熱硬化性接着シートの乾燥膜厚は、充分な接着性、ハンダ耐熱性を発揮させる為、また取り扱い易さの点から、5~500μmであることが好ましく、更に好ましくは10~100μmである。
塗布方法としては、例えば、コンマコート、ナイフコート、ダイコート、リップコート、ロールコート、カーテンコート、バーコート、グラビア印刷、フレキソ印刷、ディップコート、スプレーコート、スピンコート等が挙げられる。
【0085】
<支持フィルム>
用いられる支持フィルムのうち剥離性のないものとしては、各種プラスチックフィルムが挙げられ、例えば、ポリイミドフィルム、ポリエステルフィルム、ポリフェニレンエーテルフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルムが挙げられる。
用いられる支持フィルムのうち剥離性のあるものとしては、各種プラスチックフィルムに剥離処理をしたものや、紙に剥離処理をしたもの等が挙げられる。剥離処理の対象とされる各種プラスチックフィルムとしては、ポリエステルフィルム、ポリオレフィンフィルムが挙げられる。
【0086】
次に、熱硬化性接着シートの両面を2つの剥離性基材がそれぞれ覆っている剥離性基材付き熱硬化性接着シートを用いる場合について説明する。
剥離性基材付き熱硬化性接着シートから一方の剥離性基材を剥がす。露出した熱硬化性接着層に被着体(例えば、ポリイミドフィルムやポリエステルフィルム)を重ねる。熱硬化性接着層の他方の面を覆っていた他の剥離性基材を剥がす。露出した熱硬化性接着層に他の被着体(例えば、導電性回路を有するプリント配線板の前記回路面側)を重ねる。次いで、加熱・加圧することによって、両被着体に挟まれた熱硬化性接着層を熱硬化する。剥離性基材を最初に剥がした面に、導電性回路を有するプリント配線板の前記回路面側を重ねた後、熱硬化性接着層の他方の面にポリイミドフィルムやポリエステルフィルムを重ねることもできる。
【0087】
導電性回路を有するプリント配線板積層体(以下配線板ともいう)としては、ポリエステルやポリイミド等の可とう性、絶縁性のあるプラスチックフィルム上に、導電性回路を形成したフレキシブルプリント配線板が挙げられる。
導電性回路を設ける方法としては、例えば、接着層を介して又は介さずにベースフィルム上に銅箔を設けてなるフレキシブル銅張板の銅箔上に感光性エッチングレジスト層を形成し、回路パターンを持つマスクフィルムを通して露光させて、露光部のみを硬化させ、次いで未露光部の銅箔をエッチングにより除去した後、残っているレジスト層を剥離するなどして、銅箔から導電性回路を形成することができる。
あるいは、ベースフィルム上にスパッタリングやめっき等の手段で必要な回路のみを設ける方法も挙げられる。
あるいは、銀や銅の粒子を含有する導電性インキを用い、プリント技術によってベースフィルム上に導電性回路を形成する方法も挙げられる。
【0088】
<複数のフレキシブルプリント配線の多層化>
本発明の熱硬化性接着シートは、保護シート付きプリント配線板の製造に好適に用いられる他、以下のように用いることもできる。
複数のフレキシブルプリント配線の間に、本発明の熱硬化性接着シートを挟み、加熱・加圧することによって、熱硬化性接着シートを硬化させ、多層フレキシブルプリント配線板を得ることもできる。
【0089】
<フレキシブルプリント配線板用のベースフィルムと銅箔との貼り合わせ>
例えば、ポリイミドフィルムと銅箔との間に、本発明の熱硬化性接着シートを挟み、加熱・加圧することによって、熱硬化性接着シートを硬化させることもできる。
【0090】
<導電接着シート>
本発明の熱硬化性接着シートは、ポリイミド樹脂、硬化剤、特定量のアルカリ金属化合物の他に、銅や銀などの導電性金属フィラー、カーボンなどの導電性フィラーを配合し、分散してなる熱硬化性組成物をシート状にした導電性の熱硬化性接着シートとして用いることができる。
【0091】
<電磁波シールド>
さらに本発明の熱硬化性接着シートは、上記で作製した導電性の熱硬化性接着シートを用いて絶縁層との多層構成とすることで、電磁波シールドとしても用いることができる。また、導電層部分だけでなく、本発明の熱硬化性接着シートは絶縁層としても用いることができる。
【0092】
<熱伝導接着シート>
さらに本発明の熱硬化性接着シートは、ポリイミド樹脂、硬化剤、特定量のアルカリ金属化合物の他に、熱伝導性のある無機フィラー、金属フィラーなどを分散して配合し、分散してなる熱硬化性組成物をシート状にした熱伝導性の熱硬化性接着シートとして用いることができる。
【実施例】
【0093】
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。実施例及び比較例中の部、%は、特に指定がない場合は質量部、質量%を意味する。
【0094】
<数平均分子量(Mn)、質量平均分子量(Mw)の測定方法>
Mn、Mwの測定は東ソー株式会社製GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)「HPC-8020」を用いた。GPCは溶媒(THF;テトラヒドロフラン)に溶解した物質をその分子サイズの差によって分離定量する液体クロマトグラフィーである。Mn、Mwの測定は、カラムに「LF-604」(昭和電工株式会社製:迅速分析用GPCカラム:6mmID×150mmサイズ)を直列に2本接続して用い、流量0.6ml/min、カラム温度40℃の条件で行い、数平均分子量(Mn)、質量平均分子量(Mw)の決定はポリスチレン換算で行った。
【0095】
実施例中で使用する化合物の略称は、次の通りである。
MED-J:4,4’-ジアミノ-4,4’-ジエチル-5,5’-ジメチルジフェニルメタン
製品名 キュアハードMED-J(クミアイ化学社製)
ダイマージアミン:製品名 プリアミン1075(クローダジャパン社製)
6FDA:2,2-ビス(3,3’,4,4’-テトラカルボキシフェニル)テトラフルオロプロパン二無水物 和歌山精化工業社製
BPAF:9,9’-ビス[4-(3,4-ジカルボキシフェノキシ)フェニル]フルオレン酸二無水物 JFEケミカル社製
BISDA:1’,2’-二無水物;4,4’-[4,4’-(プロパン-2,2-ジイル)ジフェノキシ]ジフタル酸二無水物 SABICジャパン社製
V-65:2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)
パークミルD:ジクミルパーオキサイド 日本油脂株式会社製
SA-90:変性ポリフェニレンエーテル 製品名:Noryl SA90樹脂 SABICジャパン社製
SA-9000:末端メタクリル変性ポリフェニレンエーテル 製品名:Noryl SA9000樹脂 SABICジャパン社製
ОPE-2ST 2200:末端スチリル変性ポリフェニレンエーテル 製品名:ОPE-2ST 2200 三菱ガス化学社製
【0096】
(合成例1)ポリイミド樹脂(SHP-1)の製造
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下槽及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、シクロヘキサノン990部、6FDA461部を仕込み、窒素気流下で攪拌しながら100℃まで昇温した。ダイマージアミン529部を1時間かけて滴下した後、2-アミノエタンチオールを9部滴下し、140℃に昇温して14時間脱水反応を行い、溶剤を抜きながら200℃まで昇温を行った後、トルエンを990部加えて樹脂固形分濃度を50%に調整した。数平均分子量約14,239、質量平均分子量約29,233のポリイミド樹脂(SHP-1)を得た。
【0097】
(合成例2~8)
表1の合成例2~8に従って各組成の種類、分量を変更した以外は合成例1と同様の方法でポリイミド樹脂を得た。
【0098】
【0099】
(合成例9)末端ビニルエーテル変性ポリフェニレンエーテルの合成(PPE-ET)
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下槽及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、ポリフェニレンエーテル(SA90)200部、クロロエチルビニルエーテルを15g、テトラ-n-ブチルアンモニウムブロマイド1.227g、及びトルエン400gを仕込み、攪拌し、75℃になるまで加熱した。そして、その溶液に、水酸化ナトリウム水溶液(水酸化ナトリウム20g/水20g)を滴下した。その後、さらに、75℃で4時間攪拌した。次に、10質量%の塩酸でフラスコの内容物を中和した後、多量のメタノールを投入した。沈殿物をろ過によって取り出し、メタノールと水との質量比が80:20の混合液で3回洗浄した後、減圧下、80℃で3時間乾燥させた。
【0100】
(配合例1)
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下槽及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、トルエン100部、末端メタクリル変性ポリフェニレンエーテル(SA-9000)100部、トリメルカプトトリメチロールプロパン3.3部を仕込み、窒素気流下で攪拌しながら100℃まで昇温し5時間反応を行い、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)含有樹脂(PE-1)を得た。反応後、トルエンで樹脂固形分濃度を50%に調整した。
【0101】
(配合例2)
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下槽及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、トルエン100部、末端メタクリル変性ポリフェニレンエーテル(SA-9000)100部、テトラメルカプトペンタエリスリトール3.3部を仕込み、窒素気流下で攪拌しながら100℃まで昇温し5時間反応を行い、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)含有樹脂(PE-2)を得た。反応後、トルエンで樹脂固形分濃度を50%に調整した。
【0102】
(配合例3)
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下槽及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、トルエン100部、末端メタクリル変性ポリフェニレンエーテル(SA-9000)100部、テトラメルカプトペンタエリスリトール4.4部を仕込み、窒素気流下で攪拌しながら100℃まで昇温し5時間反応を行い、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)含有樹脂(PE-3)を得た。反応後、トルエンで樹脂固形分濃度を50%に調整した。
【0103】
(配合例4)
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下槽及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、トルエン100部、末端メタクリル変性ポリフェニレンエーテル(SA-9000)100部、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)(昭和電工社製 カレンズMT-PE1)7.4部を仕込み、窒素気流下で攪拌しながら100℃まで昇温し5時間反応を行い、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)含有樹脂(PE-4)を得た。反応後、トルエンで樹脂固形分濃度を50%に調整した。
【0104】
(配合例5)
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下槽及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、トルエン100部、末端メタクリル変性ポリフェニレンエーテル(SA-9000)100部、ペンタエリスリトールテトラ(3-メルカプトプロピオナート)(三菱ケミカル社製 JER-QX40)6.6部、1,10デカンジチオール7.6部を仕込み、ジイソプロピルアミンを1g加えて窒素気流下で攪拌しながら100℃まで昇温し5時間反応を行い、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)含有樹脂(PE-5)を得た。反応後、トルエンで樹脂固形分濃度を50%に調整した。
【0105】
(配合例6)
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下槽及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、トルエン100部、末端ビニルエーテル変性ポリフェニレンエーテル(PPE-ET)100部、1,10デカンチオール11.7部を仕込み、トリエタノールアミンを1g加えて窒素気流下で攪拌しながら100℃まで昇温し5時間反応を行い、室温に戻した後ペンタエリスリトールテトラ(3-メルカプトプロピオナート)(三菱ケミカル社製 JER-QX40)1部を仕込み、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)含有樹脂(PE-6)を得た。反応後、トルエンで樹脂固形分濃度を50%に調整した。
【0106】
(配合例7)
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下槽及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、トルエン100部、末端スチリル変性ポリフェニレンエーテル(ОPE-2ST 2200)100部、トリメルカプトトリメチロールプロパン1.1部、1,10デカンチオール7.6部を仕込み、窒素気流下で攪拌しながら100℃まで昇温し5時間反応を行い、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)含有樹脂(PE-7)を得た。反応後、トルエンで樹脂固形分濃度を50%に調整した。
【0107】
(配合例8)
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下槽及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、トルエン100部、末端スチリル変性ポリフェニレンエーテル(ОPE-2ST 2200)100部、トリメルカプトトリメチロールプロパン3.3部を仕込み、窒素気流下で攪拌しながら100℃まで昇温し5時間反応を行い、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)含有樹脂(PE-8)を得た。反応後、トルエンで樹脂固形分濃度を50%に調整した。
【0108】
(配合例9)
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下槽及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、トルエン100部、末端スチリル変性ポリフェニレンエーテル(ОPE-2ST 2200)100部、テトラメルカプトペンタエリスリトール2.5部、4,4´チオビスベンゼンチオール3.3部を仕込み、窒素気流下で攪拌しながら100℃まで昇温し5時間反応を行い、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)含有樹脂(PE-9)を得た。反応後、トルエンで樹脂固形分濃度を50%に調整した。
【0109】
(配合例10)
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下槽及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、トルエン100部、末端メタクリル変性ポリフェニレンエーテル(PPE-ET)100部、トリメルカプトトリメチロールプロパン1.9部、1,10デカンジチオール8.5部を仕込み、トリエタノールアミンを1g加えて窒素気流下で攪拌しながら100℃まで昇温し5時間反応を行い、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)含有樹脂(PE-10)を得た。反応後、トルエンで樹脂固形分濃度を50%に調整した。
【0110】
(配合例11)
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下槽及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、トルエン100部、末端メタクリル変性ポリフェニレンエーテル(SA9000)100部を仕込み、窒素気流下で攪拌しながら50℃まで昇温し1時間撹拌を行い、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)含有樹脂(PE-11)を得た。樹脂固形分濃度は50%であった。
【0111】
(配合例12)
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下槽及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、トルエン100部、末端ビニルエーテル変性ポリフェニレンエーテル(PPE-ET)100部を仕込み、窒素気流下で攪拌しながら50℃まで昇温し1時間撹拌を行い、炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)含有樹脂(PE-12)を得た。樹脂固形分濃度は50%であった。
【0112】
(配合例13)
攪拌機、温度計、還流冷却管、滴下槽及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、末端スチリル変性ポリフェニレンエーテル(ОPE-2ST 2200)100部を仕込み、窒素気流下で室温で攪拌しながらトルエンを添加し、樹脂固形分を50%に調整した。炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)含有樹脂(PE-13)を得た。
【0113】
【0114】
[実施例1]
チオール基含有ポリイミド樹脂(SHP-1)150部と炭素-炭素二重結合を有するポリフェニレンエーテル誘導体(B)含有樹脂(PE-1)100部、硬化促進剤として、パークミルD2.5部をマヨネーズビンに配合し電子材料用組成物を得た。当該電子材料用組成物を、ブレードコーターを用いて剥離処理されたポリエステルフィルム上に、乾燥後の膜厚が50μmとなるように均一に塗工して100℃で20分プレ乾燥を行い、樹脂面に更に剥離処理されたポリエステルフィルムの剥離処理面を被せ、積層体を得た。当該積層体を、真空プレス成型機にて真空下、160℃で30分、200℃で2時間加熱行った、乾燥後ポリエステルフィルムからフィルム状の樹脂を剥離することで熱硬化積層体である接着シートを得た。
[実施例2~20、比較例1~2]
表3および表4記載の材料及び配合量を用いた以外は、実施例1と同様の操作により、接着シートを得た。
【0115】
【0116】
【0117】
(ガラス転移温度 Tgの測定)
チオール基を含有するポリイミドについて、株式会社島津製作所製「示差走査熱量計DSC-60 PLUS」を用いて、開始温度25℃、終了温度250℃、昇温速度10.0℃/minの条件にて、試料10mgを用いて、1回目の昇温後に開始温度まで急冷し、同条件で2サイクル目に測定した時のピーク値から測定行った。
【0118】
(機械特性の評価)
得られた接着シートについて、3mm幅で引張り試験機(株式会社島津製作所製、商品名:EZ-TEST)を用いて、垂直方向に引張り速度50mm/分、室温中で引き剥がしたときの荷重を測定した。以下の基準にて評価した。
◎:引張り強度3.0N/3mm以上(非常に良好)
○:引張り強度2.0N/3mm以上3.0N/3mm未満(良好)
△:引張り強度1.0N/3mm以上2.0N/3mm未満(使用可能)
×:引張り強度1.0N/3mm以下(使用不可)
【0119】
(比誘電率の評価)
エー・イー・ティー社製の比誘電率測定装置「ADMS01Oc」に、試験片を3つセットし、空洞共振器法により、測定温度23℃、測定周波数が10GHzにおける比誘電率を求め、以下の基準にて評価した。
◎:比誘電率2.7未満(非常に良好)
○:比誘電率2.7以上2.8未満(良好)
△:比誘電率2.8以上3.1未満(使用可能)
×:比誘電率3.1以上(使用不可)
【0120】
(誘電正接の評価)
エー・イー・ティー社製の比誘電率測定装置「ADMS01Oc」に、試験片を3つセットし、空洞共振器法により、測定温度23℃、測定周波数が10GHzにおける誘電正接を求め、以下の基準にて評価した。
◎:誘電正接0.002未満(非常に良好)
○:誘電正接0.002以上0.005未満(良好)
△:誘電正接0.005以上0.010未満(使用可能)
×:誘電正接0.010以上(使用不可)
【0121】
(銅箔基材付き接着シートの作製)
実施例1にてプレ乾燥直後の接着シートの接着面に、18μm厚の電解銅箔(商品名「F2-WS」、古河サーキットフォイル(株)製)の処理面を重ね合わせ、真空プレス成型機にて真空下、圧力10MPa、180℃及び1分間の条件で加熱プレスした後、更に200℃で2時間加熱することにより、基材付き接着シートを作製した。
【0122】
(ポリイミドフィルム基材付き接着シートの作成)
実施例1~23にてプレ乾燥直後の樹脂をそれぞれ、カプトン(R)Hタイプ(東レ・デュポン社製)に乾燥後の厚みが30μmとなるようブレードコーターにて塗布し、真空プレス成型機にて真空下、150℃で30分加熱することにより接着シートを得た。
【0123】
(積層体の作製)
ポリイミドフィルム基材付き接着シートの接着剤面に、前記電解銅箔(F2-WS)の処理面を重ね合わせた後、真空プレス成型機にて真空下、圧力10MPaおよび200℃の条件で2時間加熱プレスすることにより積層体を作製した。
【0124】
表3および表4に示すように、本発明の電子材料から得られた接着シートは、ポリフェニレンエーテル由来の高いガラス転移温度を有して作業性が良好であり、比誘電率、誘電正接等の誘電特性に優れ、且つ比較的高いガラス転移温度を有している。且つ、ポリフェニレンエーテルの弱点であった加工適性に関して、ポリイミド樹脂と複合的に架橋することによって改善がなされている。
ポリフェニレンエーテルのみを架橋した比較例2や、チオール基を有しないポリイミド樹脂(SHP-8)とポリフェニレンエーテルを架橋した比較例1と比べると実施例1~20は何れも誘電特性に優れ、且つ引張り適性も優れることから加工適性も優れていることが分かる。
特に、ポリフェニレンエーテルをスチリル変性ポリフェニレンエーテル(ОPE-2ST 2200)及びビニルエーテル変性ポリフェニレンエーテル(PPE-ET)を含む実施例12、13、14、15、16、17は特に優れた誘電特性を示した。
また、多官能のチオールとチオール基を有するポリイミドを含有する実施例1~4、6、8~11、13、14、15、16~18は優れた引張り強度を有し、加工適性に優れることが分かる。
その中でも特に、ポリフェニレンエーテルをスチリル変性ポリフェニレンエーテル(PPE-ST)及びビニルエーテル変性ポリフェニレンエーテル(ОPE-2ST 2200)と多官能チオールを含む実施例12~14、15、16、17は誘電特性と加工適性が特に優れていた。
【0125】
(プリント配線板の作製)
実施例1に係る接着剤組成物を、カプトン(R)Hタイプに乾燥後の厚みが30μmとなるようブレードコーターにて塗布し、100℃で3分間乾燥させることによって、接着シートを得た。次いで、該接着シートの接着剤面に前記電解銅箔(F2-WS)の処理面を重ね合わせ、100℃のラミネートロールで圧着した後、真空プレス成型機にて真空下、150℃,30分処理することによって積層体を得た。この積層体の銅表面をソフトエッチング処理し、銅回路を形成し、その上にさらに前記方法で得た基材つき接着シートの接着樹脂面を重ねあわせ、真空プレス成型機にて真空下、圧力10MPa、180℃及び1分間の条件で加熱プレスした後、更に200℃で2時間加熱することにより、フレキシブルプリント配線板を作製することができた。また、他の実施例の接着剤組成物についても同様にしてフレキシブルプリント配線板を作製できたことを確認した。